Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6238066B2 - 透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置及びその製造方法 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6238066B2 - 透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置及びその製造方法 - Google Patents

透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6238066B2
JP6238066B2 JP2014002407A JP2014002407A JP6238066B2 JP 6238066 B2 JP6238066 B2 JP 6238066B2 JP 2014002407 A JP2014002407 A JP 2014002407A JP 2014002407 A JP2014002407 A JP 2014002407A JP 6238066 B2 JP6238066 B2 JP 6238066B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
electron microscope
plasmon resonance
transmission electron
observation environment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2014002407A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015133174A (ja
Inventor
工 三宮
工 三宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TERABASE INC.
Tokyo Institute of Technology NUC
Original Assignee
TERABASE INC.
Tokyo Institute of Technology NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TERABASE INC., Tokyo Institute of Technology NUC filed Critical TERABASE INC.
Priority to JP2014002407A priority Critical patent/JP6238066B2/ja
Publication of JP2015133174A publication Critical patent/JP2015133174A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6238066B2 publication Critical patent/JP6238066B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は透過型電子顕微鏡(TEM)及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル(EC)装置及びその製造方法に関する。
生体材料・医薬品の開発、生物等における組織成長メカニズムの理解、これらの潤滑性能向上化等の分野においては、固体・液体界面の構造、界面に吸着した分子の形態、挙動の解明は重要である。
固体・液体の界面及び界面の吸着分子の観察は、最近、液体観察環境セル(EC)と呼ばれる容器を用いた透過型電子顕微鏡によって行われている。すなわち、液体観察環境セルにおいて試料である吸着分子の付近のみを液体に浸すことにより、試料を真空から遮断すると共に、電子線が通過する液体の距離を最小限として電子線の散乱吸収を抑制している。
第1の従来の液体観察環境セルは試料ホールダに組込んでいる。この液体観察環境セルは上下シーリング層間に試料と共に異なる液体を導入でき、また、電気化学測定等にも用いることができる(参照:特許文献1)。
第2の従来の液体観察環境セルは、試料自体に液体を内包させ、この試料を汎用ホールダに入れたものである。この液体観察環境セルは、汎用ホールダを用いるので、利便性に優れている。
特表2013−535795号公報
Seung-Man Yang et al., "Nanomachining by Colloidal Lithography", Colloidal Lithography, small 2006, 2, No.4, pp.458-475
しかしながら、上述の第1の従来の液体観察環境セルにおいては、液体観察環境セルは唯一であるので、液体観察環境セルが劣化もしくは破壊した場合には、試料ホールダと共に交換しなければならず、製造コストが高くなるという課題がある。また、試料の上下シーリング層の間隔をOリング等で機械的に維持しているので、その上下シーリング層の間隔が大きくなり、従って、液体観察環境セルの厚さが大きくなり、この結果、電子線の散乱吸収が大きくなり、高分解能観察が不可能であるという課題がある。さらに、液体観察環境セルには、壁面がほとんど存在しないので、試料(吸着分子)のほとんどは上下シーリング層に垂直に吸着され、固体(シーリング層)・液体界面の垂直方向及び吸着分子の長手方向から断面観察されるが、固体(シーリング層)・液体界面の断面観察及び吸着分子の短手方向断面観察が不可能であるという課題がある。
上述の第2の従来の液体観察環境セルは、試料(分子)の厚さ及びサイズが十分に制御できず、従って、やはり、固体・液体界面の断面観察及び吸着分子の短手方向断面観察が不可能であるという課題がある。
さらに、上述の第1、第2の従来の液体観察環境セルは、共に、金属層を有していないので、プラズモン共鳴検出による分子の吸着過程の観察が不可能であるという課題がある。すなわち、液体観察環境セルを透過型電子顕微鏡による観察と局在プラズモン共鳴による観察とに併用することは不可能であるという課題もある。
上述の課題を解決するために、本発明に係る透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置液体観察環境セル装置は、厚さがナノメートルオーダの炭素よりなる下シーリング層と、下シーリング層上に配置された厚さがナノメートルオーダの金属層とを具備し、金属層にサイズがナノメートルオーダの複数の開口が少なくとも部分的に規則的に形成されたものである。これにより、厚さが小さいかつ壁面が広い液体観察環境セルが多数設けられる。また、開口に液体を収容して分子を開口の壁面である金属層に吸着させることにより、固体(特に、壁面)・液体界面の断面観察及び吸着分子の短手方向断面観察が可能となる。さらに、少なくとも部分的に規則的な開口によって部分的分離された薄い金属層は局在表面プラズモン共鳴を発現する。
また、本発明に係る透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の製造方法は、基板上に犠牲層を形成する工程と、犠牲層上に厚さがナノメートルオーダの炭素よりなる下シーリング層を形成する工程と、下シーリング層上にサイズがナノメートルオーダの複数のコロイドを少なくとも部分的に規則的に堆積する工程と、コロイド及び犠牲層上に厚さがナノメートルオーダの金属層を形成する工程と、金属層の形成後に、コロイドを除去する工程と、コロイドの除去後に、犠牲層を除去することにより基板を剥離する工程とを具備するものである。
本発明によれば、液体観察環境セルの一部が劣化もしくは破壊しても、交換する必要はなく、従って、製造コストを低減できる。また、液体観察環境セルの厚さが小さくなるので、電子線の散乱吸収は小さくなり、高分解能観察が可能となる。さらに、壁面が広くなるので、固体(壁面)・液体界面の断面観察及び吸着分子の短手方向断面観察も可能となる。さらにまた、局在プラズモン共鳴の発現により吸着分子の屈折率(あるいは誘電率)を観察でき、従って、吸着過程を観察できる。
本発明に係る透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の実施の形態を示す上面図である。 図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置を示す電子顕微鏡写真であり、(A)は走査型電子顕微鏡(SEM)写真、(B)は(A)より高倍率のSEM写真、(C)は(B)より高倍率の透過型電子顕微鏡(TEM)写真である。 図1の液体観察環境セルの断面図であり、(A)は液体及び分子の封入前の状態、(B)は液体及び分子の封入後の状態、(C)は透過型電子顕微鏡内に載置された状態を示す。 図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の製造方法を説明するための断面図である。 図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置を用いて透過型電子顕微鏡で得られたその場(in situ)TEM像である。 図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の吸光スペクトル特性を示すグラフである。 図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置のその場(in situ)局在プラズモン共鳴ピーク値シフト量を示すタイミング図である。
図1は本発明に係る透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の実施の形態を示す上面図、図2は図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置を示す電子顕微鏡写真であり、(A)は走査型電子顕微鏡(SEM)写真、(B)は(A)より高倍率のSEM写真、(C)は(B)より高倍率の透過型電子顕微鏡(TEM)写真である。尚、図1、図2においては、後述の上シーリング層は形成されておらず、また、液体も吸着分子も存在しない。
図1に示すように、透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置には、複数の液体観察環境セルCが少なくとも規則的範囲Rにおいてつまり部分的に規則的に配置されている。たとえば、図2の(A)に示すように、50μm×50μmのサイズの透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置に、図2の(B)、(C)に示す数100から数1000個の100nm×100nmのサイズの液体観察環境セルCが配置されている。
図3は図1の液体観察環境セルCの断面図であり、(A)は液体及び分子の封入前の状態、(B)は液体及び分子の封入後の状態、(C)は透過型電子顕微鏡内に載置された状態を示す。
図3の(A)に示すように、液体及び分子の封入前の液体観察環境セルCは、炭素よりなる厚さ約5〜500nmたとえば10nmの下シーリング層1、セラミックスたとえばAlNよりなる厚さ約5〜500nmたとえば10nmの接着層2、分子を吸着するための厚さ約5〜500nmたとえば10nmの金属層3、及びセラミックスたとえばAlNよりなる厚さ約5〜500nmたとえば10nmの接着層4よりなる。この場合、接着層2は下シーリング層1と金属層3との接着作用をなし、また、接着層4は後述の上シーリング層5と金属層3との接着作用をなす。従って、下シーリング層1と金属層3との接着作用が強い場合には、接着層2は省略でき、また、上シーリング層5と金属層3との接着作用が強い場合には、接着層4は省略できる。尚、接着層2、4は金属層3を安定化する作用も有する。
また、図3の(A)においては、後述の局在プラズモン共鳴を発現するために、金属層3はたとえば金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)あるいはアルミニウム(Al)よりなり、接着層2、金属層3及び接着層4の開口OPの直径Dは5〜500nmとする。この場合、さらに、金属層3は上述の金属のうち後述の分子Mとの吸着性がよいものを選択する。
図3の(B)においては、図3の(A)の接着層2、金属層3及び接着層4の開口OPに液体L及び分子Mを封入し、この結果、分子Mは金属層3の壁面に吸着する。その後、接着層4上に炭素よりなる厚さ約5〜500nmたとえば10nmの上シーリング層5を形成する。
図3の(C)においては、電子線EBが上シーリング層5から下シーリング層1へ向かって進む。この結果、TEM像が得られる。この場合、電子ビームEBは固体特に金属層3の壁面と液体Lとの界面の断面及び分子Mの断面を通過するので、TEM像にて固体(金属層3の壁面)・液体界面の断面観察及び分子Mの短手方向断面観察ができる。
次に、図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の製造方法を図4を参照して説明する。
始めに、図4の(A)を参照すると、シリコンあるいはガラスよりなる基板101上にたとえばアルミニウムよりなる犠牲層102をスパッタリング法、蒸着法等によって形成する。ここで、基板101は後述の下シーリング層1の平坦性を担保するためであり、また、基板101と下シーリング層1とが直接接着すると下シーリング層1が剥離しにくいために、犠牲層102を基板101と下シーリング層1との間に介在させる。
次に、図4の(B)を参照すると、犠牲層102上に下シーリング層1としての炭素層をスパッタリング法、蒸着法、化学的気相成長(CVD)法、分子線ビームエピタキシャル(MBE)法、スプレー法等によって堆積する。
次に、図4の(C)を参照すると、大きさが同一のコロイド103を部分的に規則的に堆積する。コロイド103は5〜500nmの金属、有機物、無機物、生体物質であり、たとえば、有機物としてポリスチレンよりなる。コロイド103の大きさ及び分布は、溶液濃度、堆積時間、イオン強度等によって調整可能であるが(参照:非特許文献2)、コロイド103は、通常、帯電されているので、分布を図1の規則的範囲Rにおいて規則的にできる。尚、コロイド103は全範囲に規則的に配置されてもよい。
次いで、図示しないが、必要に応じてエッチング法によってコロイド103の大きさを上述の開口OPの直径Dに合わせて縮小させる。エッチング法は、たとえば、反応性イオンエッチング(RIE)法、プラズマエッチング法、紫外線照射法、化学的エッチング法、オゾン照射法である。
次に、図4の(D)を参照すると、セラミックスたとえばAlNよりなる厚さ10nmの接着層2、たとえばAuよりなる厚さ10nmの金属層3及びセラミックスたとえばAlNよりなる厚さ10nmの接着層4をスパッタリング法、蒸着法等を用いて順次形成する。
次に、図4の(E)を参照すると、コロイド103をたとえば物理的リフトオフ法により除去する。これにより、直径Dの開口OPが接着層2、金属層3及び接着層4によって形成される。
次に、図4の(F)を参照すると、犠牲層102をエッチング法によって除去することにより、ガラス基板101を物理的に剥離する。
この段階で、図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置はユーザに出荷され、以下の図4の(G)、(H)の工程はそのユーザによって実行されることになる。
図4の(G)を参照すると、図4の(F)に示す透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置をグリットに載せて移動し、液体Lに浸して分子Mを金属層3の壁面に吸着させる。
最後に、図4の(H)を参照すると、さらにグリッドを移動させて液体Lに浮かんだ炭素よりなる厚さ10nmの上シーリング層5を接着させながら液体Lから引き上げることにより透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置が完成する。
図5は図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置を用いて透過型電子顕微鏡で得られたその場(in situ)TEM像である。図5における液体Lは金コロイド溶液であり、金属層3はAuよりなる。図5の(A)、(B)、(C)、(D)に示すごとく、Auの変化が観察される。
図6は図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の吸光スペクトル特性を示すグラフである。すなわち、接着層2、金属層3及び接着層4よりなる3層構造の可視光及び赤外光の吸光スペクトルによれば、局在プラズモン共鳴の発現を示すピーク値P1、P2、P3が発生している。尚、Iは3層構造が空気中に存在する場合、IIは3層構造が水に浸されている場合、IIIは3層構造の上部も水に浸されている場合である。このように、厚さがナノメートルオーダの金属層3が少なくとも部分的に規則的に形成された開口OPによって部分的に分離されているので、局在プラズモン共鳴の発現によりピーク値P1、P2、P3が発生する。
図7は図1の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置のその場(in situ)局在プラズモン共鳴ピーク値シフト量を示すタイミング図である。図7においては、透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置に蛋白質アビジンを水と共に投入し、その後、水を除去した場合、局在プラズモン共鳴ピーク値シフト量が変化することが認められた。このシフト量は透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置に吸着して蛋白質アビジンの吸着量に応じた屈折率(あるいは誘電率)を示す。従って、蛋白質アビジンの吸着過程を観察できる。
尚、本発明におけるナノメートルオーダは、5〜500nmを意味する。
また、本発明は上述の実施の形態の自明の範囲内のいかなる変更も適用し得る。
1...下シーリング層
2...接着層
3...金属層
4...接着層
5...上シーリング層
101...基板
102...犠牲層
C...液体観察環境セル
R...規則的範囲
OP...開口
L...液体
M...分子

Claims (8)

  1. 厚さがナノメートルオーダの炭素よりなる下シーリング層と、
    前記下シーリング層上に配置された厚さがナノメートルオーダの金属層と
    を具備し、
    前記金属層にサイズがナノメートルオーダの複数の開口が少なくとも部分的に規則的に形成された透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置。
  2. さらに、
    前記下シーリング層と前記金属層との間に配置された厚さがナノメートルオーダの第1の接着層と、
    前記金属層上に配置された厚さがナノメートルオーダの第2の接着層と
    を具備し、
    前記第1、第2の接着層に前記金属層の開口に通じる開口が形成された請求項1に記載の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置。
  3. 前記金属層は、金、銀、銅及びアルミニウムのいずれか1つよりなる請求項1に記載の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置。
  4. 前記第1、第2の接着層はセラミックスよりなる請求項2に記載の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置。
  5. 基板上に犠牲層を形成する工程と、
    前記犠牲層上に厚さがナノメートルオーダの炭素よりなる下シーリング層を形成する工程と、
    前記下シーリング層上にサイズがナノメートルオーダの複数のコロイドを少なくとも部分的に規則的に堆積する工程と、
    前記コロイド及び前記犠牲層上に厚さがナノメートルオーダの金属層を形成する工程と、
    前記金属層の形成後に、前記コロイドを除去する工程と、
    前記コロイドの除去後に、前記犠牲層を除去することにより前記基板を剥離する工程と
    を具備する透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の製造方法。
  6. さらに、
    前記金属層の形成前に、前記コロイド及び前記犠牲層上に厚さがナノメートルオーダの第1の接着層を形成する工程と、
    前記金属層の形成後かつ前記コロイドの除去前に、厚さがナノメートルオーダの第2の接着層を形成する工程と
    を具備する請求項5に記載の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の製造方法。
  7. 前記金属層は、金、銀、銅及びアルミニウムのいずれか1つよりなる請求項5に記載の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の製造方法。
  8. 前記第1、第2の接着層はセラミックスよりなる請求項6に記載の透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置の製造方法。
JP2014002407A 2014-01-09 2014-01-09 透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置及びその製造方法 Expired - Fee Related JP6238066B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014002407A JP6238066B2 (ja) 2014-01-09 2014-01-09 透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014002407A JP6238066B2 (ja) 2014-01-09 2014-01-09 透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015133174A JP2015133174A (ja) 2015-07-23
JP6238066B2 true JP6238066B2 (ja) 2017-11-29

Family

ID=53900240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014002407A Expired - Fee Related JP6238066B2 (ja) 2014-01-09 2014-01-09 透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6238066B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106324000B (zh) * 2016-08-16 2018-11-16 中国科学院化学研究所 液体封装芯片

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9196457B2 (en) * 2011-05-24 2015-11-24 The Trustees Of The University Of Pennsylvania Flow cells for electron microscope imaging with multiple flow streams

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015133174A (ja) 2015-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Ziegler et al. Deterministic quantum emitter formation in hexagonal boron nitride via controlled edge creation
Schranghamer et al. Review and comparison of layer transfer methods for two-dimensional materials for emerging applications
Ashraf et al. Spectroscopic investigation of the wettability of multilayer graphene using highly ordered pyrolytic graphite as a model material
Zhang et al. Intrinsic wettability in pristine graphene
CN105658574B (zh) 石墨烯改性
Zan et al. Metal− graphene interaction studied via atomic resolution scanning transmission electron microscopy
Ghodsi et al. Advances in graphene‐based liquid cell electron microscopy: working principles, opportunities, and challenges
Meyer et al. Direct imaging of lattice atoms and topological defects in graphene membranes
US8623227B2 (en) Transmission electron microscope grid and method for making same
Wang et al. Atomic structure and formation mechanism of sub-nanometer pores in 2D monolayer MoS 2
Kang et al. Graphene‐Assisted Antioxidation of Tungsten Disulfide Monolayers: Substrate and Electric‐Field Effect
Yu et al. Simultaneous visualization of graphene grain boundaries and wrinkles with structural information by gold deposition
Komurasaki et al. Layered structures of interfacial water and their effects on Raman spectra in graphene-on-sapphire systems
Wang et al. Catalyst interface engineering for improved 2D film lift-off and transfer
Krasovska et al. ZnO-nanostructure-based electrochemical sensor: Effect of nanostructure morphology on the sensing of heavy metal ions
US11885011B2 (en) Infiltrating carbon nanotubes with carbon to prevent delamination from a substrate
Bandarenka et al. Comparative study of initial stages of copper immersion deposition on bulk and porous silicon
Oh et al. Surface energy change of atomic-scale metal oxide thin films by phase transformation
Yang et al. Transfer-free growth of multilayer graphene using self-assembled monolayers
Daggumati et al. Microfabrication of nanoporous gold patterns for cell-material interaction studies
Wadell et al. Nanocuvette: a functional ultrathin liquid container for transmission electron microscopy
Liu et al. Photoemission from bialkali photocathodes through an atomically thin protection layer
Fox et al. Sub-5 nm graphene nanopore fabrication by nitrogen ion etching induced by a low-energy electron beam
JP6238066B2 (ja) 透過型電子顕微鏡及び局在プラズモン共鳴発現用液体観察環境セル装置及びその製造方法
Delle et al. Reduced graphene oxide micropatterns as an interface for adherent cells

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170412

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170929

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171005

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171018

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6238066

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees