JP6244804B2 - 静電チャック装置 - Google Patents
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Description
このプラズマエッチング技術は、ドライエッチング技術の1種であり、加工対象となる固体材料の上にレジストでマスクパターンを形成し、この固体材料を真空中に支持した状態で、この真空中に反応性ガスを導入し、この反応性ガスに高周波の電界を印加することにより、加速された電子がガス分子と衝突してプラズマ状態となり、このプラズマから発生するラジカル(フリーラジカル)とイオンを固体材料と反応させて反応生成物として取り除くことにより、固体材料に微細パターンを形成する技術である。
プラズマエッチング装置、プラズマCVD装置等のプラズマを用いた半導体製造装置においては、従来から、試料台に簡単にウエハを取付け、固定するとともに、このウエハを所望の温度に維持する装置として静電チャック装置が用いられている。
また、プラズマエッチング装置の構造や方式の違い等により、ウエハの面内温度分布に差が生じる。
このヒータ機能付き静電チャック装置は、ウエハ内に局所的に温度分布を作ることができるので、ウエハの面内温度分布を膜堆積速度やプラズマエッチング速度に合わせて設定することにより、ウエハ上へのパターン形成などの局所的な膜形成や局所的なプラズマエッチングを効率よく行なうことができる。
そして、このヒータ内蔵あるいはヒータを取り付けた静電チャック部と温度調整用ベース部とを有機系接着剤を用いて接着一体化することで、ヒータ機能付き静電チャック装置が得られる。
また、接着層の厚みにより絶縁性を確保する場合、この有機系接着剤層の厚みを薄くすることが難しく、しかも、この有機系接着剤層の厚みにばらつきが生じるために、静電チャック部のウエハを載置する面の面内温度を十分に均一にすることができないという問題があった。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
図1は、本実施形態の静電チャック装置の一例を示す概略断面図である。
本実施形態の静電チャック装置10は、円板状の静電チャック部11と、この静電チャック部11を所望の温度に調整する厚みのある円板状の冷却ベース部12と、冷却ベース部12の上面12aに第二の接着剤13を介して接着された第二の絶縁部材14と、静電チャック部11の下面(他の主面)側で、かつ、第二の絶縁部材14の上面14aに所定のパターンに設けられたヒータエレメント(加熱部材)15と、静電チャック部11と冷却ベース部12上のヒータエレメント15とを対向させた状態でこれらを接着一体化する有機系接着剤層16とから概略構成されている。
第一の絶縁部材20は、第一の接着剤19を介して、静電吸着用内部電極18の周囲(静電吸着用内部電極18における載置板17と接している面以外の面)を覆っている。これにより、載置板17と静電吸着用内部電極18が一体化されている。
載置板17の載置面(上面(一主面))17aには、突起部17cが所定の間隔を隔てて、複数個設けられている。これらの突起部17cが、半導体ウエハ等の板状試料を支える構成になっている。
載置板17の厚みが上記の範囲内であることが好ましい理由は、載置板17の厚みが0.2mmを下回ると、静電吸着用内部電極18に印加された電圧により放電する危険性が高まり、一方、載置板17の厚みが3.0mmを超えると、板状試料を十分に吸着固定することができず、したがって、板状試料を十分に加熱することが困難となるからである。
静電吸着用内部電極18は、酸化アルミニウム−炭化タンタル(Al2O3−Ta4C5)導電性複合焼結体、酸化アルミニウム−タングステン(Al2O3−W)導電性複合焼結体、酸化アルミニウム−炭化ケイ素(Al2O3−SiC)導電性複合焼結体、窒化アルミニウム−タングステン(AlN−W)導電性複合焼結体、窒化アルミニウム−タンタル(AlN−Ta)導電性複合焼結体、酸化イットリウム−モリブデン(Y2O3−Mo)導電性複合焼結体等の導電性セラミックス、あるいは、タングステン(W)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)等の高融点金属により形成されている。
静電吸着用内部電極18の厚みが上記の範囲内であることが好ましい理由は、静電吸着用内部電極18の厚みが0.1μmを下回ると、充分な導電性を確保することができず、一方、静電吸着用内部電極18の厚みが100μmを超えると、この静電吸着用内部電極18と載置板17との間の熱膨張率差に起因して、この静電吸着用内部電極18と載置板17との接合界面にクラックが入り易くなるからである。
このような厚みの静電吸着用内部電極18は、スパッタ法や蒸着法等の成膜法、あるいはスクリーン印刷法等の塗工法により容易に形成することができる。
第一の接着剤19としては、例えば、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の耐熱性および絶縁性を有するシート状またはフィルム状の接着性樹脂が用いられる。
第一の接着剤19の面内の厚みのバラツキは10μm以内が好ましい。
第一の接着剤19の面内の厚みのバラツキが上記の範囲内であることが好ましい理由は、第一の接着剤19の面内の厚みのバラツキが10μmを超えると、冷却ベース部12と第一の絶縁部材20との間隔に10μmを超えるバラツキが生じ、その結果、冷却ベース部12による静電チャック部11の温度制御の面内均一性が低下し、静電チャック部11の載置面における面内温度が不均一となるので、好ましくない。
第一の絶縁部材20としては、例えば、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の耐熱性および絶縁性を有するシート状またはフィルム状の絶縁性樹脂が用いられる。
第一の絶縁部材20の面内の厚みのバラツキは10μm以内が好ましい。
第一の絶縁部材20の面内の厚みのバラツキが上記の範囲内であることが好ましい理由は、第一の絶縁部材20の面内の厚みの大小により温度分布に高低の差が生じ、その結果、第一の絶縁部材20の厚み調整による温度制御に悪影響を及ぼすので、好ましくない。
ここで、第一の絶縁部材20の熱伝導率が0.1W/mk未満であると、ヒータエレメント15から載置板17aへの熱伝達が阻害され、昇温速度が低下するので好ましくない。
柱状の電極22の材料としては、耐熱性に優れた導電性材料であれば特に限定されるものではないが、熱膨張係数が静電吸着用内部電極18の熱膨張係数に近似したものが好ましく、例えば、静電吸着用内部電極18を構成している耐食性部材、あるいは、タングステン(W)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、ニオブ(Nb)、コバール合金等の金属材料が好適に用いられる。
また、柱状の電極22は、導電性接着剤23を介して、静電吸着用内部電極18に接続されている。
そして、給電用端子21は、絶縁部材20に接合一体化されて静電チャック部11を構成している。
冷却ベース部12としては、例えば、その内部に水を循環させる流路(図示略)が形成された水冷ベース等が好適である。
冷却ベース部12を構成する材料としては、熱伝導性、導電性、加工性に優れた金属、またはこれらの金属を含む複合材であれば特に制限はなく、例えば、アルミニウム(Al)、アルミニウム合金、銅(Cu)、銅合金、ステンレス鋼(SUS) 等が好適に用いられる。冷却ベース部12の表面は、アルマイト処理が施されているか、あるいはアルミナ等の絶縁膜が成膜されていることが好ましい。アルマイト処理や、絶縁膜が成膜されている場合、碍子23を用いなくてもよい。
電極25は、絶縁性を有する碍子26により冷却ベース部12に対して絶縁されている。電極25と碍子26との間は、シリコン樹脂のような低弾性接着剤で充填されていてもよく、さらに、その低弾性接着剤が、無機酸化物、無機窒化物、無機酸窒化物からなるフィラーを含有してもよい。該フィラーは、熱伝導性を改善できればよく、例えば、酸化アルミニウム(Al2O3)粒子や窒化アルミニウム(AlN)粒子の表面に酸化ケイ素(SiO2)からなる被覆層が形成された表面被覆窒化アルミニウム(AlN)粒子であることが好ましい。
第二の接着剤13としては、例えば、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の耐熱性および絶縁性を有するシート状またはフィルム状の接着性樹脂が用いられる。
第二の接着剤13の面内の厚みのバラツキは10μm以内が好ましい。
第二の接着剤13の面内の厚みのバラツキが上記の範囲内であることが好ましい理由は、第二の接着剤13の面内の厚みのバラツキが10μmを超えると、冷却ベース部12と第二の絶縁部材14との間隔に10μmを超えるバラツキが生じ、その結果、冷却ベース部12による静電チャック部11の温度制御の面内均一性が低下し、静電チャック部11の載置面における面内温度が不均一となるので、好ましくない。
第二の絶縁部材14は、絶縁性および耐電圧性を有し、かつ、腐食性ガスおよびそのプラズマに対する耐久性に優れるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ポリイミドシートからなるものが用いられる。
第二の絶縁部材14の面内の厚みのバラツキは10μm以内が好ましい。
第二の絶縁部材14の面内の厚みのバラツキが上記の範囲内であることが好ましい理由は、第二の絶縁部材14の面内の厚みの大小により温度分布に高低の差が生じ、その結果、第二の絶縁部材14の厚み調整による温度制御に悪影響を及ぼすので、好ましくない。
ここで、熱伝導率が0.1W/mk未満であると、静電チャック部11から冷却ベース部12への第二の絶縁部材14を介しての熱伝達が難くなり、冷却速度が低下するので好ましくなく、一方、熱伝導率が1W/mkを超えると、ヒータ部から冷却ベース部12への第二の絶縁部材14を介しての熱伝達が増加し、昇温速度が低下するので好ましくない。
ヒータエレメント15は、例えば、相互に独立した2つのヒータ、すなわち、中心部に形成された内ヒータと、この内ヒータの周縁部外方に環状に形成された外ヒータとにより構成され、これら内ヒータおよび外ヒータ各々の両端部の給電用端子との接続位置それぞれには、上記の電極25が接続されている。
このヒータエレメント15では、これら内ヒータおよび外ヒータをそれぞれ独立に制御することにより、載置板17の載置面(上面(一主面))17aに静電吸着により固定されている板状試料の面内温度分布を精度良く制御するようになっている。
ヒータエレメント15の厚みが上記の範囲内であることが好ましい理由は、ヒータエレメント15の厚みが0.2mmを超えると、ヒータエレメント15のパターン形状が板状試料の温度分布として反映され、板状試料の面内温度を所望の温度パターンに維持することが困難になるからである。
また、一定の厚みの非磁性金属薄膜を用いてヒータエレメント15を形成すると、ヒータエレメント15の厚みが加熱面全域で一定となり、さらに発熱量も加熱面全域で一定となるので、静電チャック部11の載置面(載置板17の上面17a)における温度分布を均一化することができる。
シリコーン系樹脂組成物は、耐熱性、弾性に優れた樹脂であり、シロキサン結合(Si−O−Si)を有するケイ素化合物である。このシリコーン系樹脂組成物は、例えば、下記の式(1)または式(2)の化学式で表すことができる。
ここで、熱硬化温度が70℃を下回ると、静電チャック部11と冷却ベース部12上のヒータエレメント15とを対向させた状態でこれらを接合する際に、接合過程で硬化が始まってしまい、作業性に劣ることとなるので好ましくない。一方、熱硬化温度が140℃を超えると、静電チャック部11の絶縁部材20と、冷却ベース部12および絶縁部材14との熱膨張差が大きく、静電チャック部11の第一の絶縁部材20と、冷却ベース部12および第二の絶縁部材14との間の応力が増加し、これらの間で剥離が生じるおそれがあるので好ましくない。
この酸化アルミニウム(Al2O3)粒子は、シリコーン樹脂の熱伝導性を改善するために混入されたもので、その混入率を調整することにより、有機系接着剤層16の熱伝達率を制御することができる。
ここで、この酸化アルミニウム(Al2O3)粒子の平均粒径が1μmを下回ると、粒子同士の接触が不十分となり、結果的に熱伝達率が低下する虞があり、また、粒径が細か過ぎると、取扱等の作業性の低下を招くこととなり、好ましくない。一方、平均粒径が10μmを超えると、接着層の厚みにばらつきが生じ易くなるので好ましくない。
まず、酸化アルミニウム−炭化ケイ素(Al2O3−SiC)複合焼結体、酸化イットリウム(Y2O3)焼結体または希土類金属−アルミニウム複合酸化物焼結体により、板状の載置板17を作製する。
この場合、炭化ケイ素粉末および酸化アルミニウム粉末を含む混合粉末または酸化イットリウム粉末を所望の形状に成形し、その後、例えば、1400℃〜2000℃の温度、非酸化性雰囲気、好ましくは不活性雰囲気下にて所定時間、焼成することにより、載置板17を得る。
静電吸着用内部電極形成用塗布液の塗布法としては、均一な厚さに塗布する必要があることから、スクリーン印刷法等を用いることが望ましい。また、他の方法としては、蒸着法あるいはスパッタリング法により上記の高融点金属の薄膜を成膜する方法、上記の導電性セラミックスあるいは高融点金属からなる薄板を配設して静電吸着用内部電極形成層18を形成する方法等が挙げられる。
これにより、載置板17と、静電吸着用内部電極18と、第一の接着剤19と、第一の絶縁部材20とがこの順に積層された静電チャック部11を得る。
この有機系接着剤の塗布方法としては、ヘラ等を用いて手動で塗布する他、バーコート法、スクリーン印刷法等が挙げられるが、冷却ベース部12上の所定領域に精度良く形成する必要があることから、スクリーン印刷法等を用いることが好ましい。
次いで、静電チャック部11と冷却ベース部12との間隔がスペーサの厚みになるまで落し込み、押し出された余分な接着剤を除去する。
次いで、静電吸着用内部電極18における柱状の電極22と接する面(静電吸着用内部電極18における細孔に露出している面)に導電性接着剤24を塗布する。
次いで、碍子23内に、柱状の電極22を作製する。柱状の電極22の作製方法としては、例えば、柱状の電極22を導電性複合焼結体とする方法や、柱状の電極22を金属とする方法が挙げられる。
柱状の電極22を金属とする方法としては、例えば、高融点金属を用い、研削法、粉末治金等の金属加工法等により形成する方法等が挙げられる。
次いで、碍子26内に、金属箔状の電極を挿入し、電極25を作製する。
金属箔状の電極としては、ヒータエレメント15を構成している非磁性金属材料からなる金属箔状のものが好ましい。
Claims (4)
- 一主面が試料を載置する載置面であるセラミックス板状体、および、該セラミックス板状体の他の主面に設けられた静電吸着用内部電極を有する静電チャック部と、前記静電吸着用内部電極の温度を調整する冷却ベース部と、を備え、
前記セラミックス板状体の他の主面に、前記静電吸着用内部電極の周囲を覆うように、シート状またはフィルム状の第一の接着剤を介して、シート状またはフィルム状の絶縁性樹脂が接着され、
前記冷却ベース部の上面に、シート状またはフィルム状の第二の接着剤を介して、シート状またはフィルム状の第二の絶縁部材が接着され、該第二の絶縁部材の上面に加熱部材が設けられ、
前記静電チャック部と、前記加熱部材が設けられた冷却ベース部とが、有機系接着剤層を介して接着一体化され、
前記第一の接着剤、前記絶縁性樹脂、前記有機系接着剤層、前記第二の接着剤、前記第二の絶縁部材および前記冷却ベース部を厚み方向に貫通し、前記冷却ベース部の下面から前記静電吸着用内部電極に至る細孔内に、前記細孔の全長にわたって、前記静電吸着用内部電極に直流電圧を印加するための給電用端子が設けられ、
前記給電用端子は、前記細孔内に、前記細孔の全長にわたって設けられた筒状の碍子と、前記碍子内に、前記碍子の全長にわたって設けられた柱状の電極とからなり、
前記柱状の電極は、柱状の導電性材料からなることを特徴とする静電チャック装置。 - 前記柱状の電極は、導電性接着剤を介して、前記静電吸着用内部電極に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック装置。
- 前記第二の接着剤、前記第二の絶縁部材および前記冷却ベース部を貫通するように、前記加熱部材に直流電圧を印加するための電極が設けられたことを特徴とする請求項1または2に記載の静電チャック装置。
- 前記電極は、金属箔からなることを特徴とする請求項3に記載の静電チャック装置。
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