JP6290666B2 - Multi-cavity wiring board, wiring board, and manufacturing method of multi-cavity wiring board - Google Patents
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Description
本発明は、複数の配線基板領域が母基板に縦横の並びに配列された多数個取り配線基板、その多数個取り配線基板から製作される配線基板、および多数個取り配線基板の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a multi-cavity wiring board in which a plurality of wiring board regions are arranged vertically and horizontally on a mother board, a wiring board manufactured from the multi-cavity wiring board, and a manufacturing method of the multi-cavity wiring board. is there.
従来、半導体素子や弾性表面波素子等の電子部品を搭載するために用いられる配線基板は、酸化アルミニウム質焼結体やガラスセラミック焼結体等のセラミック焼結体からなる絶縁基板に、電子部品を搭載するための搭載部を有している。絶縁基板は、一般に、四角平板状の基部と、搭載部を取り囲むように基部の上面に積層された四角枠状の枠部とからなる。枠部の上面には枠状メタライズ層が形成されており、この枠状メタライズ層にろう付けされた金属枠体を介して、または枠状メタライズ層に直接に金属蓋体が接合されて、搭載部(搭載部に搭載される電子部品)が気密封止される。 Conventionally, wiring boards used for mounting electronic components such as semiconductor elements and surface acoustic wave elements are electronic components on insulating substrates made of ceramic sintered bodies such as aluminum oxide sintered bodies and glass ceramic sintered bodies. It has a mounting part for mounting. The insulating substrate is generally composed of a square flat plate-like base portion and a square frame-like frame portion laminated on the upper surface of the base portion so as to surround the mounting portion. A frame-shaped metallized layer is formed on the upper surface of the frame part, and a metal lid is bonded to the frame-shaped metallized layer via a metal frame brazed to the frame-shaped metallized layer or mounted. The part (electronic component mounted on the mounting part) is hermetically sealed.
このような配線基板は、一般に、1枚の広面積の母基板から複数個の配線基板を同時集約的に得るようにした、いわゆる多数個取り配線基板の形態で製作されている。多数個取り配線基板は、例えば酸化アルミニウム質焼結体からなる母基板に複数の配線基板領域が縦横に配列されている。配線基板領域の境界に沿って、母基板の上面等の主面に分割溝が形成されている。この分割溝を挟んで母基板に曲げ応力が加えられて母基板が破断することによって、個片の配線基板に分割される。分割溝は、例えば、未焼成の母基板の主面の所定位置にカッター刃を押し込むことによって形成されている。 Such a wiring board is generally manufactured in the form of a so-called multi-cavity wiring board in which a plurality of wiring boards are obtained simultaneously from a single large-area mother board. In the multi-cavity wiring board, a plurality of wiring board regions are arranged vertically and horizontally on a mother board made of, for example, an aluminum oxide sintered body. A dividing groove is formed in the main surface such as the upper surface of the mother board along the boundary of the wiring board region. A bending stress is applied to the mother board across the dividing groove, and the mother board is broken, so that it is divided into individual wiring boards. The dividing groove is formed, for example, by pushing a cutter blade into a predetermined position on the main surface of the unfired mother substrate.
近年、配線基板は小さなものとなってきており、例えば平面視における縦横の寸法が1.6×1.2mmの大きさのものが製作されている。このような小型化が著しい配線基板領域が配列された多数個取り配線基板においては、隣り合う配線基板領域の境界にカッター刃等を用いて分割溝を設けることが難しい。そこで、焼成後の母基板において隣り合う配線基板領域の境界に、レーザー加工によって分割溝を成形する方法が提案されている(特許文献1を参照)。 In recent years, a wiring board has become small, and for example, a circuit board having a size of 1.6 × 1.2 mm in vertical and horizontal dimensions in plan view is manufactured. In such a multi-piece wiring board in which wiring board areas that are remarkably miniaturized are arranged, it is difficult to provide a dividing groove using a cutter blade or the like at the boundary between adjacent wiring board areas. In view of this, a method has been proposed in which dividing grooves are formed by laser processing at the boundary between adjacent wiring board regions in the fired mother board (see Patent Document 1).
しかしながら、上述した多数個取り配線基板においては、配線基板領域の小型化に伴い次のような不具合が生じる可能性があった。すなわち、このような小型化が著しい配線基板においては、枠部および枠状メタライズ層の幅が非常に狭いものとなってきており、枠部の上面と枠状メタライズ層との接合面積が小さくなってきている。そのため、例えば金属蓋体の接合時の熱応力により枠状メタライズ層が剥がれやすくなるという問題があった。 However, in the above-described multi-cavity wiring board, there is a possibility that the following problems occur with the downsizing of the wiring board region. That is, in such a wiring board that is remarkably miniaturized, the width of the frame portion and the frame-like metallized layer has become very narrow, and the bonding area between the upper surface of the frame portion and the frame-like metallized layer is reduced. It is coming. Therefore, for example, there has been a problem that the frame-like metallized layer is easily peeled off due to thermal stress at the time of joining the metal lid.
このような不具合は、特に、レーザー加工で分割溝が形成されている場合に発生しやすい。これは、以下のような理由によると考えられる。すなわち、仮に分割溝がカッター刃で形成されたとすると、カッター刃の押し込みに伴いメタライズ層が分割溝内面に回り込んだ形状になり、剥がれやすさが低減される可能性がある。これに対し、レーザー加工で分割溝が形成されている場合には、このような効果が得られる可能性は小さい。したがっ
て、枠状メタライズ層の剥がれが発生しやすくなる。
Such a defect is likely to occur particularly when the dividing grooves are formed by laser processing. This is considered due to the following reasons. That is, if the dividing groove is formed with a cutter blade, the metallized layer is formed around the inner surface of the dividing groove as the cutter blade is pushed in, and the ease of peeling may be reduced. On the other hand, when the division grooves are formed by laser processing, the possibility of obtaining such an effect is small. Therefore, peeling of the frame-shaped metallized layer is likely to occur.
本発明の一つの態様の多数個取り配線基板は、複数の配線基板領域が設けられており、該配線基板領域の外周に沿って設けられた分割溝を含む主面を有する母基板と、該母基板の前記主面に、前記分割溝に沿って設けられた枠状メタライズ層とを備えており、該枠状メタライズ層は、前記分割溝に接する外端部が前記母基板内に食い込んでおり、前記母基板内に食い込んだ領域において、前記分割溝に近いほど厚みが厚くなっている。
A multi-piece wiring board according to one aspect of the present invention is provided with a plurality of wiring board regions, and a mother board having a main surface including a dividing groove provided along an outer periphery of the wiring board region, The main surface of the mother board is provided with a frame-like metallization layer provided along the division grooves, and the frame-like metallization layer has an outer end portion that touches the division grooves bites into the mother board. cage, in the region bites into the mother substrate, the thickness closer to the dividing grooves that have thicker.
本発明の一つの態様の配線基板は、前記多数個取り配線基板が、前記配線基板領域毎に分割されてなる。
Wiring board of one embodiment of the present invention, the multi-cavity circuit board, ing is divided for each of the wiring substrate region.
本発明の一つの態様の多数個取り配線基板の製造方法は、上面を有しているとともに複数の配線基板領域が配列されたセラミックグリーンシートを準備する工程と、前記セラミックグリーンシートの前記上面に、前記複数の配線基板領域の境界に沿って枠状にメタライズ用ペーストを塗布する工程と、前記複数の配線基板領域のそれぞれの境界に沿って分割溝を形成する工程とを備えており、前記メタライズ用ペーストを塗布する工程において、該メタライズ用ペーストを前記境界において前記セラミックグリーンシート内に食い込
ませる。
One method for producing a multi-piece wiring board aspect of the present invention includes the steps of preparing a ceramic green sheet having a plurality of wiring substrate areas with and has an upper surface is arranged, the upper surface of the ceramic green sheet And a step of applying a metallization paste in a frame shape along the boundaries of the plurality of wiring board regions, and a step of forming dividing grooves along the respective boundaries of the plurality of wiring board regions, in the step of applying the metallization paste, Ru said metallizing paste was bite into the ceramic greensheet in the boundary.
本発明の一つの態様の多数個取り配線基板によれば、複数の配線基板領域が配列されており、配線基板領域の外周に沿って設けられた分割溝を含む主面を有する母基板と、母基板の主面に、分割溝に沿って設けられた枠状メタライズ層とを備えており、枠状メタライズ層が、分割溝に接する外端部において母基板内に食い込んでおり、母基板内に食い込んだ領域において、分割溝に近いほど厚みが厚くなっていることから、枠状メタライズ層と母基板(枠部)との接合面積を大きくしてこれらの接合強度を大きくすることができるとともに、大きなアンカー効果が得られる。つまり、特に熱応力が大きく作用する傾向がある枠状メタライズ層の外端部が枠部に強固に接合されている。そのため、枠状メタライズ層が枠部から剥がれることが抑制される配線基板を製造可能な多数個取り配線基板を提供することができる。 According to the multi- cavity wiring board of one aspect of the present invention, a plurality of wiring board regions are arranged, and a mother board having a main surface including a dividing groove provided along the outer periphery of the wiring board region; The main surface of the mother board is provided with a frame-like metallized layer provided along the dividing groove, and the frame-like metallized layer bites into the mother board at the outer end in contact with the dividing groove . Since the thickness of the region that has penetrated into the groove increases as it is closer to the dividing groove, the bonding area between the frame-like metallized layer and the mother substrate (frame portion) can be increased to increase their bonding strength. A large anchor effect can be obtained. That is, the outer end portion of the frame-like metallized layer that is particularly prone to large thermal stress is firmly joined to the frame portion. Therefore, it is possible to provide a multi-piece wiring board capable of manufacturing a wiring board in which the frame-like metallized layer is prevented from peeling off from the frame part.
本発明の一つの態様の配線基板によれば、上記構成の多数個取り配線基板が、配線基板領域毎に分割されてなることから、枠状メタライズ層が枠部から剥がれることが抑制された配線基板を提供できる。 According to the wiring board of one aspect of the present invention, since the multi-piece wiring board having the above-described configuration is divided for each wiring board region, the wiring in which the frame-like metallized layer is prevented from being peeled off from the frame part. A substrate can be provided.
本発明の一つの態様の多数個取り配線基板の製造方法によれば、上記工程を含むことから、枠状メタライズ層と枠部との接合面積を大きくできるとともに、枠状メタライズ層の外端部を枠部の外周に強固に接合された構造を容易に形成することができる。したがって、枠状メタライズ層が枠部から剥がれることが抑制される配線基板を製造可能な多数個取り配線基板を容易に製作できる。 According to the method for manufacturing a multi-piece wiring board of one aspect of the present invention, since the above steps are included, the joint area between the frame-like metallized layer and the frame part can be increased, and the outer end part of the frame-like metallized layer It is possible to easily form a structure that is firmly joined to the outer periphery of the frame portion. Therefore, it is possible to easily manufacture a multi-piece wiring substrate capable of manufacturing a wiring substrate in which the frame-like metallized layer is prevented from being peeled from the frame portion.
本発明の多数個取り配線基板、および配線基板、ならびに多数個取り配線基板の製造方法について、添付の図面を参照しつつ説明する。 A multi-cavity wiring board, a wiring board, and a manufacturing method of the multi-cavity wiring board of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
図1(a)は、本発明の実施形態の多数個取り配線基板を示す上面図であり、図1(b)は、図1(a)のX−X’線における断面図である。また、図2は、図1に示す多数個取り配線基板から得られた配線基板を示す上面図である。 FIG. 1A is a top view illustrating a multi-piece wiring board according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line X-X ′ in FIG. 2 is a top view showing a wiring board obtained from the multi-cavity wiring board shown in FIG.
母基板100に複数の配線基板領域101が配列されて多数個取り配線基板が基本的に形成されている。実施形態の例において、母基板100は基部102と、基部102上に積層された枠部103とを有している。配線基板領域101には電子部品が収容される搭載部104が設けられている。また、この搭載部104を平面視で囲むように枠状メタライズ層105が設けられている。
A plurality of
母基板100の上面に、配線基板領域101の境界116に沿って分割溝110が形成されている。多数個取り配線基板は、さらに多数の配線基板領域101が縦横の並びに配列されたもので
あってもよい。
Divided
母基板100は、平板状の基部102と、基部上に設けられた枠部103とによって基本的に形
成されている。枠部103は、複数の開口部(符号なし)を有している。この開口部と開口
部の内側で露出している基部102の上面とによって凹状の搭載部104が形成されている。すなわち、枠部103は、搭載部104を形成する複数の枠状の部位を有している。
The
このような多数個取り配線基板(母基板100)が配線基板領域101の境界116に沿って分
割されて、例えば図2に示すような個片の配線基板101aが製作される。製作される配線
基板101aは、四角平板状の下側基板(母基板100の基部102)の上面に枠状の上側基板(
母基板100の枠部103)が積層されてなる絶縁基板(符号なし)に、上記枠状メタライズ層105および配線導体108等が設けられて、基本的に構成されている。
Such a multi-piece wiring board (mother board 100) is divided along the
The frame-like
母基板100は、酸化アルミニウム質焼結体,ガラスセラミック焼結体,窒化アルミニウ
ム質焼結体,炭化珪素質焼結体,窒化珪素質焼結体,ムライト質焼結体等のセラミック焼結体により形成されている。
The
また、母基板100の外周には、配列された複数の配線基板領域101を取り囲むように捨て代領域(図示せず)が設けられていてもよい。捨て代領域は、多数個取り配線基板の取り扱いを容易とすること等のために設けられている。
Further, a margin area (not shown) may be provided on the outer periphery of the
母基板100は、複数のセラミック絶縁層が一体焼成されて製作されている。すなわち、
酸化アルミニウムおよび酸化ケイ素等の、ガラス成分を含む原料粉末に適当な有機溶剤およびバインダーを添加してシート状に成形して複数のセラミックグリーンシートを製作する。次に、この複数のセラミックグリーンシートのうち一部のものについて打ち抜き加工を施して枠状に成形した後、平板状のセラミックグリーンシートの上に枠状のセラミックグリーンシートを積層する。その後、この積層体を一体焼成すれば、複数のセラミック絶縁層が積層されてなる母基板100を製作することができる。この場合、複数のセラミック
グリーンシートのうち一部のセラミックグリーンシートに打ち抜き加工を施して開口部を設けておき、開口部を設けたセラミックグリーンシート(枠部103になるもの)を上層に
積層すれば、上面に凹部を有する母基板100を製作することができる。
The
A plurality of ceramic green sheets are manufactured by adding a suitable organic solvent and a binder to a raw material powder containing a glass component such as aluminum oxide and silicon oxide and forming into a sheet shape. Next, a part of the plurality of ceramic green sheets is punched and formed into a frame shape, and then the frame-shaped ceramic green sheets are stacked on the flat ceramic green sheets. Thereafter, if this laminate is integrally fired, a
母基板100に配列された複数の配線基板領域101は、中央部等に電子部品(図示せず)の搭載部104を有しており、それぞれが個片の配線基板101aとなる領域である。それぞれの配線基板領域101は、上記のように平板状の基部102の上面に枠部103が積層された形態で
ある。枠部103は、搭載部104に収容される電子部品を保護するためのものである。
The plurality of
搭載部104に収容される電子部品としては、水晶振動素子等の圧電振動素子,弾性表面
波素子,半導体集積回路素子(IC)等の半導体素子,容量素子,インダクタ素子および抵抗器等の種々の電子部品を挙げることができる。
The electronic parts housed in the mounting
母基板100の内部および表面には、搭載部104から母基板100の下面にかけて配線導体108が形成されている。配線導体108のうち母基板100の下面に形成された部位は、例えばそれぞれの配線基板領域101における下面の外周部に位置している。配線導体108のうち母基板100の内部に形成されたものは貫通導体(いわゆるビア導体等)や内部配線層等の形態で
ある。搭載部104に搭載される電子部品を搭載部104内に形成された配線導体108に電気的
に接続させることにより、配線導体108を介して電子部品が外部の電気回路に電気的に接
続される。
A
配線導体108は、例えば銅や銀,パラジウム,金,白金,タングステン,モリブデン,
マンガン等の金属材料からなる。配線導体108は、例えば、モリブデンからなる場合であ
れば、モリブデンの粉末に有機溶剤およびバインダーを添加して製作した金属ペースト(メタライズ用ペースト)(図示せず)を母基板100となるセラミックグリーンシートに所
定パターンに塗布しておき、同時焼成することによって形成することができる。
The
Made of a metal material such as manganese. If the
このような形態の多数個取り配線基板が個片に分割されて製作される配線基板101aに
は上記のような各種の電子部品が収容される。配線基板101aに電子部品が収容されてな
る電子装置は、各種の電子機器に部品として実装される。例えば、電子部品が圧電振動素子等の発振素子の場合であれば、電子装置は、携帯電話や自動車電話等の通信機器、コンピュータ、ICカード等の情報機器等の電子機器において、周波数や時間の基準となる発振器として使用される。
Various electronic components as described above are accommodated in the
母基板100の分割のために、配線基板領域101の境界116に沿って、母基板100の上面および下面には分割溝110が形成されている。分割溝110が形成されている部分(配線基板領域101の境界116)で母基板100に応力を加えて母基板100を厚み方向に破断させることによって、母基板100が個片の配線基板101aに分割されることになる。
In order to divide the
分割溝110は、例えば枠部103となるセラミックグリーンシート(図示せず)の各配線基板領域101の上面の全面に枠状メタライズ層105となるメタライズ用ペーストを印刷塗布した後、基部102となるセラミックグリーンシート(図示せず)上に枠部103となるセラミックグリーンシートを積層して積層体を得た後、積層体の上面側の隣接した配線基板領域101の境界116にカッター刃またはレーザー光等により切れ込みを入れることによって製作される。
The dividing
母基板100は、例えば、平面視における一辺の長さが60〜120mm程度の平板状である。この母基板100の外周部に形成されている捨て代領域(図示せず)の幅は5〜10mm程度
である。多数個取り配線基板について、母基板100の各配線基板領域101を個片に分割する方法としては、例えば、ローラー等で母基板100を上下から挟んで加圧する方法が挙げら
れる。具体的には、移送用ローラーおよび押圧用ローラーで母基板100が上下方向から挟
まれ、移送用ローラーを支点、押圧用ローラーを作用点として、分割溝110に沿って母基
板100の厚み方向に圧力が加えられて、この圧力で母基板100が厚み方向に破断されて各配
線基板101aに分割される方法が採用される。
The
分割溝110に接するそれぞれの配線基板領域101の上面には枠状メタライズ層105が形成
されている。そして、後述するように金属蓋体113が直接枠状メタライズ層105に、または枠状メタライズ層105にろう付けされた金属枠体115を介して接合されて、搭載部104(搭
載部に搭載される電子部品)が気密封止される。図1および図2の例では、枠状メタライズ層105は、枠部103の上面の全面を覆っている。枠状メタライズ層105は、必ずしも枠部103の上面の全面を覆っているものである必要はないが、枠部103の上面の全面に枠状メタ
ライズ層105が設けられていれば、金属蓋体113の接合面積の確保等の点では有利である。
A frame-
枠状メタライズ層105は、例えばタングステンやモリブデン等の金属からなる。例えば
、枠状メタライズ層105がモリブデンのメタライズ層からなる場合であれば、モリブデン
の粉末、およびセラミック粉末に有機溶剤、バインダー等を添加して製作したメタライズ用ペーストを、枠部103となるセラミックグリーンシートの上面に所定パターンで印刷し
ておくことにより形成することができる。
The frame-
この実施形態の例においては、枠状メタライズ層105の上面にニッケルめっき層および
金めっき層等のめっき層112が被着されている。
In the example of this embodiment, a
このめっき層112は、例えば、枠状メタライズ層105の酸化腐食を防止するとともに、ろう付け等の際のろう材114の濡れ性向上や接合力強化のために形成されたものである。め
っき層112は、例えば下側にニッケルめっき層が形成され、上側に金めっき層が形成され
てなる二層構造(図示せず)となっているのが好ましい。ここで、コストの面では、めっき層112は薄く形成されるのが好ましく、ニッケルめっき層は2〜20μm程度、金めっき層は0.1〜1.0μm程度に形成される。めっき層112は、例えばめっき液中で被めっき部(枠
状メタライズ層105の表面)にめっき被着用の電流を供給し、電解めっきを施すことによ
り形成することができる。
The
枠状メタライズ層105は、例えば図1に示すように、分割溝110に接する外端部が母基板100内に食い込んでいる。このような構造としたことから、枠状メタライズ層105と枠部103との接合面積を大きくして枠状メタライズ層105と枠部103との接合強度を大きくするこ
とができる。つまり、特に熱応力が大きく作用する傾向がある枠状メタライズ層105の外
周部が枠部103に強固に拘束されている。そのため、枠状メタライズ層105が枠部103から
剥がれることが抑制される配線基板101aを製造可能な多数個取り配線基板を提供するこ
とができる。
For example, as shown in FIG. 1, the frame-shaped
なお、上記の熱応力は、例えば金属蓋体(図1では図示せず)が枠部103上に接合され
る時に、枠部103と金属蓋体との熱膨張率の差に起因して生じる。実際には、金属蓋体の
枠部103に対する接合は個片の配線基板101aに対して行なわれる。また、金属蓋体は、実際には枠部103の上面に設けられた枠状メタライズ層105に、ろう材等の接合材(図1では図示せず)を介して接合される。そのため、熱応力は配線基板101aの枠状メタライズ層105と金属蓋体との間で生じる。
Note that the above-described thermal stress is generated due to a difference in coefficient of thermal expansion between the
また、分割溝110に接する外端部が母基板100内に食い込んでいる枠状メタライズ層105
の形状としては、例えば図1(b)に示したように外端部における下部が下方に円弧状に突出した例が挙げられる。この、枠状メタライズ層105の円弧状の突出部分が配線基板領
域101の外周において母基板100(枠部103)内に食い込んでいる。
In addition, a frame-
As the shape, for example, as shown in FIG. 1B, an example in which the lower part of the outer end protrudes downward in an arc shape can be given. The arc-shaped protruding portion of the frame-
なお、枠状メタライズ層105は、配線基板領域101の境界116に近い部分においてその厚
みが他の部分よりも厚くなっているものとみなすこともできる。この場合、枠状メタライ
ズ層105の外端部(配線基板領域101の境界部分)における比較的厚い部分の厚み(突出高さ)は、例えば約10〜30μm程度に設定される。また、枠状メタライズ層105の外端部に
おける厚みは、例えば約15〜40μm程度に設定される。分割溝110は、枠状メタライズ層105の外端部の厚みが厚くなっている部分を切り込んで二分割している。各配線基板領域101の上面の外端部において、分割溝110内の表面に枠状メタライズ層105の一部が露出して
いる。
Note that the frame-
外端部が母基板100内に食い込んでいる枠状メタライズ層105は、例えば上記のように、枠状メタライズ層105の厚みが外端部分(配線基板領域101の境界116に沿った部分)で他
の部分よりも厚くなるようにして、このより厚い部分が母基板100(枠部103)内に埋まるようにすればよい。具体的には、母基板100となるセラミックグリーンシートにメタライ
ズ用ペーストを塗布する際に、その厚みを配線基板領域101の境界116に沿った部分で他の部分よりも厚くなるようにして、このより厚い部分を加圧等の手段でセラミックグリーンシート内に食い込ませるようにすればよい。印刷厚みは、例えばスクリーン印刷用の版面(製版)とセラミックグリーンシートとの間の距離、メタライズ用ペーストの粘度または印刷回数等によって適宜調整することができる。
The frame-
枠部103に形成された枠状メタライズ層105の上面に金属蓋体113が接合された状態の配
線基板101aの要部を図3に示す。図3は実施形態の配線基板の要部を示す断面拡大図で
ある。図3において図1および図2と同様の部位には同様の符号を付している。
FIG. 3 shows the main part of the
図3の例のように、枠状メタライズ層105は、外端部において配線基板101aの絶縁基板内に位置している下部層106と、下部層106上に設けられた上部層107とを含んでいてもよ
い。なお、配線基板101aの絶縁基板は母基板100が個片に分割されたものであるため、多数個取り配線基板についても、枠状メタライズ層105が下部層106および上部層107を含む
ものとされ、下部層106が母基板100内に食い込んでいる。
As shown in the example of FIG. 3, the frame-
この場合には、上記のように外端部における厚みが他の部分よりも厚く、この厚みの差による突出部分が母基板100内に食い込んだ枠状メタライズ層105の形成がより容易である。また、食い込み量の調整等もより容易である。そのため、枠状メタライズ層105の外端
部となる下部層106を枠部103の外周に拘束するためのメタライズ層としてより効果的に形成できる。また、金属蓋体113を枠状メタライズ層105の上面に接合するための上部層107
を広面積の接合面として効果的に形成できる。
In this case, as described above, the thickness at the outer end portion is thicker than the other portions, and it is easier to form the frame-
Can be effectively formed as a bonding surface having a large area.
図4は、図3の変形例の配線基板を示す断面拡大図である。図4において図3と同様の部位には同様の符号を付している。図4の例では、枠状メタライズ層105の上面に金属枠
体115が接合され、この金属枠体115の上面に金属蓋体113が接合されている。金属枠体115を介して金属蓋体113が枠状メタライズ層105(配線基板101a)に接合されている点以外
は、図3の例と図4の例とは、互いに同様の構成である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a wiring board according to a modification of FIG. 4, parts similar to those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals. In the example of FIG. 4, a metal frame 115 is bonded to the upper surface of the frame-shaped
図3および図4の例において、枠状メタライズ層105の下部層106は、分割溝110に接す
る外端部(下部)が絶縁基板(母基板100)内に食い込んで形成されている。また、枠状
メタライズ層105の上部層107は、下部層106の上面の全面を覆うとともに、絶縁基板の枠
状の部分(枠部103)の上面の全面を覆って形成されている。
3 and 4, the
ここで、このように枠状メタライズ層105の下部層106が絶縁基板(配線基板領域101)
の外周に食い込んでいる形状とするためには、例えば上記のように多数個取り配線基板として枠状メタライズ層105が下部層106および上部層107を含むものとしておけばよい。す
なわち、まず、セラミックグリーンシート(母基板100)の配線基板領域101の境界116の
全周に沿って下部層106となる幅が狭い第1メタライズ用ペーストを印刷しておく。次に
、印刷した第1メタライズ用ペーストを覆うとともに、配線基板領域101の枠部103の全周に上部層107となる幅が広い第2メタライズ用ペーストを印刷する。その後、第1メタラ
イズ用ペーストおよび第2メタライズ用ペーストを同時に加圧し、同時焼成することにより、下部層106が枠部103内に埋設されて上部層107が枠部103の上面に平坦に形成された枠状メタライズ層105を形成することができる。
Here, the
For example, as described above, the frame-
なお、下部層106は、焼成後の厚みを10〜30μm程度とすることが好ましい。以下、多
数個取り配線基板の形態として説明する。下部層106の厚みが10μm未満の場合、枠状メ
タライズ層105の食い込んだ領域により枠状メタライズ層105の外端部を枠部103の外周に
拘束する効果が小さくなり、金属蓋体113の接合時等の熱応力による枠状メタライズ層105の剥がれを抑制する効果が低くなる可能性がある。また、下部層106の厚みが30μmを超
える場合、下部層106を枠部103内に食い込ませるメタライズ層としてのボリュームが大きくなり、下部層106を枠部103内に食い込ませる際の枠部103(セラミックグリーンシート
)の変形や割れが発生する可能性がある。よって、下部層106の厚みは10〜30μm程度で
あることが好ましい。そして、焼成後の枠状メタライズ層105における上部層107の厚みが5〜10μm程度となるように形成される。よって、この場合には、下部層106と上部層107が平面視で重なっている領域の枠状メタライズ層105の合計の厚みは、15〜40μm程度と
なる。
The
枠状メタライズ層105は、外端部において少なくとも下部層106にセラミック粒子が含有されていてもよい。この場合には、枠状メタライズ層105の下部層106と枠部103(セラミ
ック)との接合強度を大きくすることができる。つまり、母基板100となる積層体の焼成
時に、下部層106となるメタライズ用ペースト中に含まれるセラミック粒子と枠部103となるセラミックグリーンシート(積層体)とが反応することにより、接合強度を大きくすることができる。
The frame-
例えば、酸化アルミニウム質焼結体からなる母基板100(個片の配線基板101aの絶縁基板)となる積層体に印刷されるメタライズ用ペーストの場合であれば、タングステン(W)、モリブデン(Mo)等の高融点金属粉末、および酸化アルミニウム等のセラミック粉末に有機溶剤、溶媒を添加してペースト状とする。この際に添加するセラミック粉末は、例えば母基板100となるセラミックグリーンシートに含まれるセラミック粉末と同様のも
のを使用すればよい。そして、下部層106におけるセラミック粒子の含有量を例えば5〜20vol%程度とすることにより、下部層106と枠部103との接合強度を大きくすることが
できる。
For example, in the case of a paste for metallization printed on a laminate that is a mother substrate 100 (an insulating substrate of a piece of
そして、作製した下部層106となるメタライズ用ペーストをセラミックグリーンシート
の表面にスクリーン印刷等により被着させ、しかる後、セラミックグリーンシートを適宜積層して還元雰囲気中で1450〜1700℃の温度で焼成する。以上の工程により、酸化アルミニウム質焼結体の酸化アルミニウム結晶粒子間に介在するガラス成分の一部が高融点金属の金属粒子間に移行し、酸化アルミニウム粒子(上記粉末の焼結体)と高融点金属とがガラス成分を介して接着され、酸化アルミニウム質焼結体からなる枠部103(母基板100)に固着される。この際に、下部層106にセラミック粒子が含有されていることにより、枠部103(酸化アルミニウム質焼結体)の酸化アルミニウム結晶粒子間に介在するガラス成分の一部だけでなく、下部層106となるメタライズ用ペースト中のセラミック粒子と、枠部103となるセラミックグリーンシートとが反応するため、枠部103と下部層106との接合に寄与するためである。
Then, the prepared metallizing paste for the
一方で、上部層107にはセラミック粒子が含有されていないことが好ましい。上部層107にセラミック粒子が含有されていない場合には、上部層107にニッケルや金等のめっき層112が被着される際に、その被着がより良好に(容易かつ強固に)行なわれる。上部層107
にセラミック粒子が含有されていない場合でも、上部層107と枠部103(セラミック)との接合強度は、枠部103に含まれるガラス成分の一部で補われる。ガラス成分の一部が上部
層107内に移行したとしても、セラミック粒子が含有されていない上部層107の上面にはガラス成分が這い上がりにくい。そのため、金属成分が多い状態で枠状メタライズ層105の
上面が形成される。
On the other hand, it is preferable that the
Even when the ceramic particles are not contained in the metal, the bonding strength between the
ただし、枠状メタライズ層105は、外端部において下部層106および上部層107の両方に
セラミック粒子が含有されていてもよい。この場合には、下部層106におけるセラミック
粒子の含有量が、上部層107におけるセラミック粒子の含有量よりも多いものとすること
が好ましい。この場合には、焼成時におけるセラミックグリーンシート(枠部103を含む
母基板100)とメタライズ用ペースト(枠状メタライズ層105)との収縮率の差がより低減される。そのため、この収縮率の違いにより配線基板領域101の封止面(枠状メタライズ
層105)が反ることをより効果的に抑制できる。つまり、封止面となる枠部103の上面の全面を覆う上部層107にもセラミック粒子が含有されていることから、枠部103となるセラミックグリーンシートと、上部層107となるメタライズ用ペーストとの焼成時の収縮率がよ
り近いものとなる。その結果、上部層107となるメタライズ用ペーストが枠部103となるセラミックグリーンシートを圧縮方向または収縮方向に拘束することが抑制されて配線基板領域101の封止面が反り難い。
However, the frame-
また、枠状メタライズ層105の下部層106と枠部103(セラミック)との接合強度をより
大きくすることができる。つまり、上部層107と枠部103との接合強度を、下部層106と同
様に、母基板100となる積層体の焼成時に、下部層106となるメタライズ用ペースト中に含まれるセラミック粒子と枠部103となるセラミックグリーンシート(積層体)とが反応す
ることにより大きくすることができる。そして、下部層106におけるセラミック粒子の含
有量を上述したように例えば5〜20vol%程度とした場合、上部層107におけるセラミ
ック粒子の含有量を2〜5vol%程度とすることにより、めっき層112の被着性を犠牲
にすることなく下部層106と枠部103、および上部層107と枠部103との接合強度を大きくすることができる。また同時に、上部層107については下部層106よりもセラミック粒子の含有量が少ないため、上部層107の表面に露出するセラミック粒子の表面積が小さくなると
ともに、上部層107の上面にガラス成分が這い上がることが抑制される。そのため、金属
成分が比較的多い状態で枠状メタライズ層105の上面が形成されて、良好にニッケルや金
などのめっき層112が被着される。
Further, the bonding strength between the
また、このような構成の場合、枠状メタライズ層105の外端部における下部層106と上部層107との接合においても、高融点金属粉末の焼結とともに下部層106となる第1メタライズ用ペースト中に含まれるセラミック粒子に含有するガラス成分の一部と上部層107とな
る第2メタライズ用ペースト中に含まれるセラミック粒子に含有するガラス成分の一部が、下部層106と上部層107との接合に寄与して、枠状メタライズ層105の下部層106と上部層107との接合強度も強固なものとすることができる。
In the case of such a configuration, the first metallization paste that becomes the
本実施形態において、下部層106は、枠状メタライズ層105の外端部に近いほど、その厚みが厚くなっている。この場合には、下部層106の厚みが厚い部分ほど下部層106が枠部103に対してより大きく食い込んで、より強固に接合される。そのため、熱応力がより大き
く作用する枠状メタライズ層105の外周部においても枠状メタライズ層105の剥がれがより効果的に抑制される。詳細には次の通りである。
In the present embodiment, the
すなわち、枠状メタライズ層105にろう付けされた金属枠体115を介して、または直接枠状メタライズ層105に金属蓋体113が、ろう材114を介して接合された際に、金属蓋体113の接合時の熱応力により、接合された金属蓋体113が枠状メタライズ層105を絶縁基板の中央側に引っ張るような熱応力が作用する。この際に、この枠状メタライズ層105の食い込ん
だ領域の最も応力が加わる外端部の枠状メタライズ層105の厚みが厚いことにより、枠状
メタライズ層105の外周部を枠部103の外周により強固に拘束することができる。
That is, when the
また、外端部における下部層106の厚み(つまり枠部103への食い込みの深さ)を確保しつつ、枠状メタライズ層105としてのボリュームをより小さくすることができる。そのた
め、外端部が枠部103内に食い込んだ枠状メタライズ層105を含む構成において、熱応力がより低減され、この熱応力に起因した枠部103(セラミックグリーンシート)の変形や割
れをより効果的に抑制できる。
Further, the volume as the frame-
そして、枠状メタライズ層105は、外端部においてより強固な接合強度を有しながら、
金属蓋体113や金属枠体115が接合される封止面が平坦性よく形成される構造を実現できる。封止面が平坦であることは、金属蓋体113や金属枠体115を枠状メタライズ層105と接合
する際のろう材114のボリュームを抑制できる、つまり、封止面の凸凹形状にろう材114のボリュームが無駄に取られないという効果を有する。よって、銀ろう等のろう材114によ
り金属蓋体113を枠状メタライズ層105に接合する際に、部材コストの上昇を抑えながら、気密信頼性に優れた封止構造を実現できる。
And the frame-
A structure in which the sealing surface to which the
母基板100に形成される分割溝110は、例えばレーザー加工によって形成されている。レーザー加工は、焼成後の母基板100に対して施されてもよく、焼成前のセラミックグリー
ンシートに対して行なわれてもよい。この場合には、分割溝110の加工の加工精度がよく
小型の配線基板101aに対応することができる。また、枠状メタライズ層105の枠部103(
母基板100および個片の絶縁基板)に対する接合強度に優れた枠状メタライズ層105を実現できる。
The dividing
A frame-
つまり、背景技術に関する説明で述べたように、レーザー加工は非接触加工であるために、枠状メタライズ層105の外端部にカッター刃等を押し入れて枠部103の外端部を変形させる(切り込みを入れる)ことで分割溝110を形成する場合に比べて、枠状メタライズ層105の外端部に剥離の起点ができやすい。そのため枠状メタライズ層105が剥離し易くなる
傾向がある。これに対して、本実施形態の多数個取り配線基板および配線基板は、上記構成の枠状メタライズ層105を有することから、枠状メタライズ層105の剥がれが効果的に抑制され得る。具体的には、カッター刃による分割溝110形成のときのような枠部103の変形を伴わない場合においても枠状メタライズ層105の外端部が母基板100(枠部103および個
片の絶縁基板)に食い込んでいるため、枠状メタライズ層105の剥がれが効果的に抑制で
きる。したがって、金属蓋体113や金属枠体115が上面に接合される枠状メタライズ層105
を、外端部に変形がなく接合強度に優れた広面積の接合面として効果的に形成できる。
That is, as described in the description of the background art, since laser processing is non-contact processing, a cutter blade or the like is pushed into the outer end portion of the frame-
Can be effectively formed as a large-area joint surface with no deformation at the outer end and excellent joint strength.
母基板100にレーザー加工により分割溝110を形成するためには、例えば、固体レーザー(例えばYAGレーザー)により励起された基本波のレーザー光(以下、単にレーザーという)を枠状メタライズ層105の上から照射し、境界116の部位にV字状の分割溝110を形
成する方法が挙げられる。具体的には、複数のセラミックグリーンシートが積層されてなる積層体を製作しておき、この積層体に複数の配線基板領域101を縦横に配列するととも
に、配線基板領域101の境界116にレーザーを照射して分割溝110を形成すればよい。また
は、上記積層体に対する加工と同様の加工を母基板100に対して施してもよい。
In order to form the dividing
この場合には、図5で示したように、積層体の外周の捨て代領域に下部層106と同じ並
びの位置に位置決めパターン117を形成しておいてもよい。図5は、図1に示す多数個取
り配線基板の変形例における要部を示す上面図である。図5において図1と同様の部位には同様の符号を付している。位置決めパターン117は、レーザーが確実に下部層106を二分割できるように下部層106となるメタライズ用ペーストを枠部103となるセラミックグリーンシートにスクリーン印刷等で形成する際に、同時に印刷等で形成されたものである。こ
れにより、下部層106の全面が上部層107で覆われた枠状メタライズ層105であっても、下
部層106の位置を推定できることから、レーザーをより位置精度よく確実に下部層106に照射することが可能となり、下部層106を含む枠状メタライズ層105を二分割することができる。この際、位置決めパターン117は単層であり、枠状メタライズ層105よりも薄く形成されることから、加圧による母基板100への食い込みが抑制される。よって、位置決めパタ
ーン117の厚みの分だけレーザー加工による分割溝110の深さが浅く形成されるため、捨て代領域の強度を確保できるという効果もある。
In this case, as shown in FIG. 5, a positioning pattern 117 may be formed in the same marginal position as the
母基板100は、例えば上記のようにアルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム、炭化珪素
、ムライト、フェライト、ガラスセラミックスなどを主成分とするセラミック焼結体で形成されている。このような材料によって、例えば25〜150μm程度の厚みのセラミックグ
リーンシートが複数積層され、例えば150〜500μmの厚みに形成されている。そして、母基板100には、レーザーの吸収率を高くするための成分として、Mg、Mn、Co、Cr
、Cu、Ni、及びFeの群から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物が含まれていてもよい。
The
At least one metal oxide selected from the group consisting of Cu, Ni, and Fe may be included.
母基板100は、前述したように、枠状メタライズ層105の露出表面に設けられためっき層112をさらに有するものであってもよい。これにより、枠状メタライズ層105の酸化の抑制、およびろう材114の濡れ性等に対して有利になる。
As described above, the
また、分割溝110がレーザー加工によって形成されており、分割溝110の内面において枠状メタライズ層105の下部層106および上部層107の一部が露出しているとともに下部層106におけるセラミック粒子の含有量が比較的多い場合には、例えば図3および図4に示したように、めっき層112の厚みが、枠状メタライズ層105のうち下部層106において上部層107よりも薄い構造となっている。このような構造の場合には、配線基板101aの小型化が進
んで隣接する配線基板領域101の境界116に形成される分割溝110の幅が狭くなっても、隣
接する配線基板領域101の枠状メタライズ層105が分割溝110を挟んで隣り合った同士で、
めっき層112同士が互いに癒着するようなことが抑制される。したがって、母基板100を分割溝110に沿って個片に分割する際に配線基板101aにバリや欠けが発生することが抑制される。
Further, the dividing
It is suppressed that the plating layers 112 adhere to each other. Therefore, when the
つまり、分割溝110を形成する時に枠状メタライズ層105の上面からレーザー加工すると、非接触加工であり枠部103の変形がない状態でV字状の分割溝110が形成されるとともに、分割溝110側に下部層106が露出することになる。下部層106はセラミック粒子を比較的
多く含んでいるため、レーザー加工時の熱によりセラミック粒子中のガラス成分の一部が分割溝110側に露出した下部層106の表面に這い上がり、上部層107よりも多く形成される
。この状態で母基板100にめっき層112を被着すると、ガラス成分で一部が覆われた下部層106の表面にはめっき層112が形成され難くなる。
That is, when laser processing is performed from the upper surface of the frame-
その結果、図3や図4の断面図で示したように、めっき層112の厚みが枠状メタライズ
層105のうち下部層106において上部層107よりも薄い構造となることから、隣接する配線
基板領域101の枠状メタライズ層105が分割溝110を挟んで隣り合った同士で癒着するよう
なことが抑制される。分割溝110はV字状であり、隣接する配線基板領域101での上部層107の間隔(分割溝110の隙間)よりも下部層106の間隔が小さいため、このような構造は、
配線基板領域101同士の枠状メタライズ層105の癒着を抑制するうえで有効である。
As a result, as shown in the cross-sectional views of FIGS. 3 and 4, the
This is effective in suppressing the adhesion of the frame-
配線基板101aは、前述したように、上記いずれかの構成の多数個取り配線基板が、配
線基板領域101毎に分割されて製作されている。これにより、枠状メタライズ層105と枠部103との接合面積を大きくして枠状メタライズ層105と枠部103との接合強度を大きくした
配線基板101aを提供できる。つまり、枠状メタライズ層105に直接に、または金属枠体11
5を介して金属蓋体113が接合される際に、金属蓋体113が枠状メタライズ層105を絶縁基板の中央側に引っ張るような熱応力が作用しても、この枠状メタライズ層105の食い込んだ
部分により枠状メタライズ層105の外周部が枠部103の外周に拘束される。そのため、枠状メタライズ層105が枠部103から剥がれることが抑制された配線基板101aとすることがで
きる。
As described above, the
Even when the
枠状メタライズ層105は、例えば枠部103の全面に形成されており、母基板100内に食い
込んでいる下部層106と、下部層106および枠部103の上面を覆って形成される上部層107とから構成されている。なお、図2に示す配線基板101aの例において、下部層106の形成位置が破線で示されている。この破線の位置に下部層106の内周が位置している。下部層106は、破線の外側に、枠部103の外周に沿って形成されている。そして、例えば、焼成後の
個片の配線基板101aにおける下部層106の幅が、30〜80μm程度となるように形成されている。分割溝110の形成による位置ずれや、レーザー加工による枠状メタライズ層105(メタライズ用ペースト)の消失等を考慮すると、下部層106の幅は50〜80μm程度が好まし
い。
The frame-
また、下部層106は、必ずしも配線基板領域101の枠部103の外周に沿って連続的に形成
されている必要はなく、例えば図6に示すような形態でもよい。図6(a)および(b)は、それぞれ図2に示す配線基板の変形例を示す上面図である。図6(a)および(b)ともに、枠状メタライズ層105が下部層106と上部層107とからなる例を示している。図6
において図2と同様の部位には同様の符号を付している。
Further, the
In FIG. 2, the same parts as those in FIG.
図6(a)の例においては、キャスタレーション109に接する領域(コーナー部分)を
除く4辺に、下部層106が形成されている。これにより、キャスタレーション109を構成する小径の孔部の変形をより効果的に抑制することができる。
In the example of FIG. 6A, the
また、図6(b)の例においては、枠部103の外周に沿って不連続に下部層106が形成されている。この場合には、母基板100内に食い込む枠状メタライズ層105の量を抑制しながら、枠状メタライズ層105の外端部におけるアンカー効果を効果的に得ることができる。
つまり、比較的幅が狭い枠部103内に埋まる枠状メタライズ層105の体積が抑制されるため、例えば枠部103に変形が生じる可能性がより低減され得る。この場合には、枠状メタラ
イズ層105のうち剥がれが発生しやすい傾向がある角部分またはその近くに下部層106が位置していることが好ましい。
In the example of FIG. 6B, the
That is, since the volume of the frame-
また、個片の配基板101aについても、上記多数個取り配線基板の場合と同様の構成が
含まれている場合には同様の効果が得られる。例えば、下部層106にセラミック粒子が含
有されている場合には、上述したように枠状メタライズ層105の下部層106と枠部103(セ
ラミック)との接合強度を大きくすることができる。さらに、下部層106および上部層107の両方にセラミック粒子が含有されている場合には、焼成時の枠部103上面部分の変形が
抑制され、配線基板領域101の封止面の反りが抑制された、気密封止性に優れた配線基板101aを実現できる。
Further, the same effect can be obtained for the
また、下部層106が、枠状メタライズ層105の外周に近いほど、その厚みが厚くなっている場合には、枠状メタライズ層105にろう付けされた金属枠体115を介して、または直接枠状メタライズ層105に金属蓋体113を、ろう材114を介して接合した際に、金属蓋体113の接合時の熱応力により接合された金属蓋体113が枠状メタライズ層105を絶縁基板の中央側に引っ張るような熱応力が作用しても、この枠状メタライズ層105の食い込んだ領域の最も
応力が加わる外端部の枠状メタライズ層105の厚みが厚いことにより、枠状メタライズ層105の外周部を枠部103の外周により強固に拘束することができる配線基板101aを実現できる。さらに、配線基板101aの外周面(多数個取り配線基板の分割溝内に位置していた表
面)がレーザー加工によって形成されている場合には、製品としての外形の寸法精度に優れ、上記外周面にバリや欠けが発生することが抑制された配線基板101aを実現できる。
When the
本発明の実施形態の多数個取り配線基板の製造方法について説明する。実施形態の多数個取り配線基板の製造方法は、以下の各工程を含んでいる。すなわち、上面を有しているとともに複数の配線基板領域101が配列されたセラミックグリーンシートを準備する工程
。セラミックグリーンシート(枠部103となるもの)の上面に、配線基板領域101の境界116に沿って枠状にメタライズ用ペーストを塗布する工程。および複数の配線基板領域101のそれぞれの境界116に沿って分割溝110を形成する工程である。また、メタライズ用ペーストを塗布する工程において、メタライズ用ペーストを境界116において積層体内に食い込
ませる。
A method for manufacturing a multi-piece wiring board according to an embodiment of the present invention will be described. The method for manufacturing a multi-piece wiring board according to the embodiment includes the following steps. That is, a step of preparing a ceramic green sheet having an upper surface and in which a plurality of
メタライズ用ペーストを塗布するセラミックグリーンシートは、1層でもよく、複数の層が積層されたものでもよい。このような本発明の多数個取り配線基板の製造方法の工程順における要部を、図7(a)〜(c)および図8(a)、(b)に示した。図7(a)〜(c)および図8(a)、(b)は、本発明の実施形態の多数個取り配線基板の製造方法における要部を工程順に示す断面図である。図7および図8において図1と同様の部位には同様の符号を付している。なお、図7および図8ならびに以下の説明においては、セラミックグリーンシートおよびメタライズ用ペーストとして別途符号を設けず、実施形態の多数個取り配線基板に関する説明で用いたのと同様の符号を用いている。 The ceramic green sheet to which the metallizing paste is applied may be a single layer or a laminate of a plurality of layers. 7 (a) to 7 (c) and FIGS. 8 (a) and 8 (b) show the main parts in the process order of the method for manufacturing a multi-cavity wiring board of the present invention. FIGS. 7A to 7C and FIGS. 8A and 8B are cross-sectional views showing the main parts in the manufacturing method of the multi-cavity wiring board according to the embodiment of the present invention in the order of steps. 7 and 8, the same reference numerals are given to the same parts as those in FIG. 1. In FIGS. 7 and 8 and the following description, reference numerals similar to those used in the description of the multi-cavity wiring board of the embodiment are used without providing separate reference numerals for the ceramic green sheet and the metallizing paste. .
図7(a)は、セラミックグリーンシート(枠部103となるもの)を準備する工程と、
その上面に、配線基板領域101の境界116に沿って枠状にメタライズ用ペーストを塗布する工程の一部(第1補助工程)とを示している。セラミックグリーンシートおよびメタライズ用ペーストは実施形態の多数個取り配線基板に関する説明で挙げた例と同様の材料を用い、同様の方法で作製および塗布が可能である。塗布するメタライズ用ペーストは下部層106となるものである。この場合の塗布のパターンの幅は、下部層106と同様に比較的狭い幅(第1の幅)に設定する。
FIG. 7A shows a step of preparing a ceramic green sheet (which becomes the frame portion 103);
On the upper surface, a part of the process of applying the metallizing paste in a frame shape along the
図7(b)は、配線基板領域101の境界116に沿って枠状にメタライズ用ペーストを塗布する工程の一部(第2補助工程)とを示している。塗布するメタライズ用ペーストは上部層107となるものである。このメタライズ用ペーストも、実施形態の多数個取り配線基板
に関する説明で挙げた例と同様の材料を用い、同様の方法で作製および塗布することができる。この場合の塗布のパターンの幅は、下部層106を覆う上部層107と同様に比較的広い幅(第2の幅)に設定する。
FIG. 7B shows a part of the step of applying the metallizing paste in a frame shape along the
図7(c)は、メタライズ用ペースト(下部層106となるもの)を境界116において枠部103となる積層体内に食い込ませる工程を示している。この工程も、例えば前述したよう
にメタライズ用ペーストを加圧することにより行なわれる。
FIG. 7C shows a process in which the metallizing paste (which becomes the lower layer 106) is bitten into the laminated body which becomes the
図8(a)は、枠部103となるセラミックグリーンシートの下に基部102となるセラミックグリーンシートを積層する工程を示している。基部102となるセラミックグリーンシー
トも、実施形態の多数個取り配線基板に関する説明で挙げた例と同様の材料を用い、同様の方法で作製することができる。
FIG. 8A shows a process of laminating the ceramic green sheet that becomes the base 102 under the ceramic green sheet that becomes the
図8(b)は、分割溝110を形成する工程を示している。分割溝110は、例えば上記と同様のレーザー加工で行なうことができる。分割溝110の形成に伴い、配線基板領域101の境界116に沿って、塗布したメタライズ用ペースト(下部層106および上部層107となるもの
)が長さ方向に二つに分割される。
FIG. 8B shows a process of forming the dividing
このような製造方法としたことから、枠状メタライズ層105の外端部となる下部層106が枠部103の外周に食い込んだ形態の多数個取り配線基板を容易に制作することができる。
With this manufacturing method, it is possible to easily produce a multi-piece wiring board in a form in which the
つまり、分割溝110が形成される前の枠状メタライズ層105となるメタライズ用ペーストの外端部となる領域(境界116)の厚みを最も厚くしておくことにより、加圧する方向に
枠状メタライズ層105(メタライズ用ペースト)がセラミックグリーンシート内に食い込
む。この食い込みの形状は、丸みを帯びた形状となる。よって、下部層106となるメタラ
イズ用ペーストを境界116上において加圧により容易に食い込ませることができる。また
、配線基板領域101が小さくなり枠部103の幅が狭くなっても、見かけ上2つの枠部103が
接した幅広い状態で、下部層106となるメタライズ用ペーストを隣接する配線基板領域101の外端部に同時に形成できる。なお、セラミックグリーンシートへのメタライズ用ペーストの加圧は、搭載部104を形成するための枠部103を打ち抜く工程の前であってもよい。これにより、メタライズ用ペーストの加圧によるセラミックグリーンシートの変形が抑制される。
In other words, by making the thickness of the region (boundary 116) that becomes the outer end portion of the metallizing paste that becomes the frame-shaped
そして、境界116に沿って分割溝110を形成した際に、配線基板領域101の枠部103の外端部に下部層106が食い込んで形成されることから、枠状メタライズ層105と枠部103との接
合面積を大きくして枠状メタライズ層105と枠部103との接合強度を大きくすることができる配線基板101aを効率よく製作することが可能な製造方法を提供できる。
When the dividing
なお、本発明の多数個取り配線基板、配線基板および多数個取り配線基板の製造方法は、以上の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えても何ら差し支えない。例えば、上記実施形態において、枠状メタライズ層105に、ろう付けされた金属枠体115を介して、または直接枠状メタライズ層105に平板
状の金属蓋体113をろう材114を介して接合した配線基板101aを示したが、金属蓋体113の代わりにキャップ状の金属蓋体(図示せず)が接合される平板状等の配線基板101aとし
てもよい。また、2層のセラミックグリーンシートから構成される配線基板101aを示し
たが、3層以上のセラミックグリーンシートから構成される配線基板101aとしてもよい
。
Note that the multi-cavity wiring board, the wiring board, and the manufacturing method of the multi-cavity wiring board of the present invention are not limited to the examples of the embodiments described above, and various methods are possible without departing from the gist of the present invention. You can make any changes. For example, in the above embodiment, a
また、枠状メタライズ層105が下部層106および上部層107とからなるときに、例えば図
9に示すように、下部層106が枠部103の上面のほぼ全面を覆う程度に幅が広いものであり、上部層107の幅が下部層106の幅よりも小さいものであってもよい。図9は、図3の他の変形例における要部を示す断面拡大図である。図9において図3と同様の部位には同様の符号を付している。図9の例では、下部層106が配線基板領域101の境界部分(外端部)で下方に曲がって母基板100内に食い込んでいる。上部層107は、下部層106が母基板100内に食い込んでいる外端部において下部層106上に設けられている。この場合も、アンカー効
果等によって枠状メタライズ層105の外端部における剥がれが効果的に抑制され得る。た
だし、前述したように下部層106に比較的多くのセラミック粒子が含有される場合に、枠
状メタライズ層105にめっき層112が被着されるときには、図3または図4の例のように、上部層107が下部層106を覆っている形態の方が好ましい。
Further, when the frame-shaped
100・・・母基板
101・・・配線基板領域
101a・・・配線基板
102・・・基部
103・・・枠部
104・・・搭載部
105・・・枠状メタライズ層
106・・・下部層
107・・・上部層
108・・・配線導体
109・・・キャスタレーション
110・・・分割溝
111・・・外部接続導体
112・・・めっき層
113・・・金属蓋体
114・・・ろう材
115・・・金属枠体
116・・・境界
117・・・位置決めパターン
100 ... Mother board
101 ・ ・ ・ Wiring board area
101a ... Wiring board
102 ... Base
103 ・ ・ ・ Frame part
104 ・ ・ ・ Mounting part
105 ... Frame metallization layer
106 ... Lower layer
107 ... upper layer
108 ・ ・ ・ Wiring conductor
109 ・ ・ ・ Castellation
110 ・ ・ ・ Dividing groove
111 ・ ・ ・ External connection conductor
112 ・ ・ ・ Plating layer
113 ・ ・ ・ Metal lid
114 ... brazing material
115 ・ ・ ・ Metal frame
116 ... Boundary
117 ... Positioning pattern
Claims (10)
該母基板の前記主面に、前記分割溝に沿って設けられた枠状メタライズ層とを備えており、
該枠状メタライズ層は、前記分割溝に接する外端部が前記母基板内に食い込んでおり、前記母基板内に食い込んだ領域において、前記分割溝に近いほど厚みが厚くなっていることを特徴とする多数個取り配線基板。 A plurality of wiring board regions are arranged, and a mother board having a main surface including a dividing groove provided along the outer periphery of the wiring board region;
A frame-like metallization layer provided along the dividing grooves on the main surface of the mother substrate;
The frame-shaped metallized layer has an outer end portion in contact with the dividing groove that has bitten into the mother substrate, and a region that has bitten into the mother substrate has a thickness that is closer to the dividing groove. Multi-cavity wiring board.
前記セラミックグリーンシートの前記上面に、前記複数の配線基板領域の境界に沿って枠状にメタライズ用ペーストを塗布する工程と、
前記複数の配線基板領域のそれぞれの前記境界に沿って分割溝を形成する工程とを備えており、
前記メタライズ用ペーストを塗布する工程において、該メタライズ用ペーストを前記境界において前記セラミックグリーンシート内に食い込ませることを特徴とする多数個取り配線基板の製造方法。 Preparing a ceramic green sheet having an upper surface and a plurality of wiring board regions arranged;
Applying a metallizing paste in a frame shape along the boundaries of the plurality of wiring board regions on the upper surface of the ceramic green sheet;
Forming a dividing groove along each of the boundaries of the plurality of wiring board regions,
In the step of applying the metallization paste, the metallization paste is bitten into the ceramic green sheet at the boundary.
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