JP6291715B2 - 逆波長分散フィルム用樹脂組成物及びこれからなる逆波長分散フィルム - Google Patents
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Description
CAの用途の一つである逆波長分散フィルムとしては、正の複屈折性と逆波長分散性を同時に満足する樹脂が求められており、これらを満足する樹脂として、プロピオニル基及びブチリル基を有するアセチル基置換度2.5未満のCA(特許文献1)が開発されている。しかしながら、耐水性が不良であるという課題を有している。
一方、CAと比較して耐水性の優れるセルロース樹脂として、エチルセルロース等のエーテル化セルロースが知られているが、逆波長分散性を有するものはこれまで存在しなかった。
すなわち本発明は、ヒドロキシル基及び/又はアミノ基を有する多糖類(a)において、(a)中の少なくとも1つのヒドロキシル基及び/又は少なくとも1つのアミノ基がエポキシ基を有する下記芳香族化合物(B)で化学修飾されてなる修飾多糖類(A)を含有する逆波長分散フィルム用樹脂組成物;この逆波長分散フィルム用樹脂組成物から形成される逆波長分散フィルム又はシートである。
芳香族化合物(B):芳香環中の1つの水素原子が、エポキシ基で置換された芳香族化合物(b1)、アルキルの炭素数が3〜8のエポキシアルキル基で置換された芳香族化合物(b2)及びアルキルの炭素数が3〜8のエポキシアルキル基において、アルキルの少なくとも1つの炭素原子が酸素原子に置き換わった官能基で置換された芳香族化合物(b3)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物。
芳香族化合物(B):芳香環中の1つの水素原子が、エポキシ基で置換された芳香族化合物(b1)、アルキルの炭素数が3〜8のエポキシアルキル基で置換された芳香族化合物(b2)及びアルキルの炭素数が3〜8のエポキシアルキル基において、アルキルの少なくとも1つの炭素原子が酸素原子に置き換わった官能基で置換された芳香族化合物(b3)からなる群より選ばれる少なくとも1種であって、上記芳香族化合物(B)における芳香環がベンゼン環である化合物。
(a1)のうち、耐水性の観点から、アシル基の炭素数が2〜19のアシル化セルロースが好ましく、さらに好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基及びバレリル基等からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有するアシル化セルロースであり、次にさらに好ましくはジアセチルセルロース、アセチルブチリルセルロース及びアセチルプロピオニルセルロースであり、最も好ましくはアセチルブチリルセルロース及びアセチルプロピオニルセルロースである。
(a2)のうち、耐水性の観点から、アルキルの炭素数が1〜18のアルキルエーテル化セルロース及びアルキルの炭素数が1〜18のオキシアルキルエーテル化セルロースが好ましく、さらに好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメトキシル基及びヒドロキシエトキシル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有するエーテル化セルロースであり、次にさらに好ましくはエチルセルロース及びメチルセルロースであり、最も好ましくはエチルセルロースである。
芳香環のうち、複屈折性、逆波長分散性及び耐水性の観点から、環構造が炭素のみで構成された芳香環が好ましく、さらに好ましくはベンゼン環である。
その他の官能基(x)としては、ハロゲノ基(F、Cl、Br及びI等)、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキルの炭素数が1〜8のオキシアルキル基又はアルキルの炭素数が1〜8アルキルアミノ基等が挙げられる。
(A)は、ヒドロキシル基及び/又はアミノ基を有する化合物とエポキシ化合物とを反応させる際に用いられる公知の方法を用いて、多糖類(a)及び芳香族化合物(B)を化学反応させることにより得ることができる。
化学修飾された官能基の割合は、1H−NMRによって求めることができる。具体的には、下記測定法によって測定する。
<(B)で化学修飾された官能基の割合の測定方法>
修飾前の多糖類(a)及び修飾多糖類(A)の1H−NMRを測定する。それぞれの測定結果で得られた下記積分値を下記数式(1)に当てはめることにより、(B)で修飾された官能基の割合(%)を算出する。
(B)で修飾された官能基の割合(%)={(T−S)/T}×100 (1)
S=[(修飾多糖類(A)のヒドロキシル基の水素原子の積分値)+{(修飾多糖類(A)のアミノ基の水素原子の積分値)/2}]
T=[(多糖類(a)のヒドロキシル基の水素原子の積分値)+{(多糖類(a)のアミノ基の水素原子の積分値)/2}]
溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド
装置:AVANCE300(日本ブルカー株式会社製)
周波数:300MHz
芳香環濃度は、下記測定法によって測定する。
<芳香環濃度の測定>
修飾前の多糖類(a)及び修飾多糖類(A)の1H−NMRを測定する。それぞれの測定結果で得られた下記積分値を下記数式(2)に当てはめることにより、修飾多糖類(A)の芳香環濃度(重量%)を算出する。
芳香環濃度(重量%)={U×W/(U×W+V)}×100 (2)
U=(芳香族化合物(B)の構造中の1つの水素原子の積分値)×(芳香族化合物(B)中の芳香環の数)×5/(修飾多糖類(A)を構成する単糖において、1位〜5位の炭素に結合した水素原子の積分値の合計)
V=多糖類(a)を構成する単糖の分子量
W=芳香族化合物(B)の分子量
溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド
装置:AVANCE300(日本ブルカー株式会社製)
周波数:300MHz
装置 :ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
溶媒 :N,N’−ジメチルホルムアミド
基準物質 :ポリスチレン
サンプル濃度:3mg/ml
カラム固定相:PLgel MIXED−B
カラム温度 :40℃
多糖類(a)としては、複屈折性、逆波長分散性及び耐水性の観点から、アシル化セルロース(a1)、エーテル化セルロース(a2)及びエーテル化アシル化セルロース(a3)が好ましく、さらに好ましくはエーテル化セルロースである。
逆波長分散フィルム用樹脂組成物中の(a)の含有量(重量%)は、逆波長分散フィルム用樹脂組成物の重量を基準として、複屈折性、逆波長分散性及び耐水性の観点から、0.05〜30が好ましく、さらに好ましくは0.05〜10である。
有機溶剤の添加量は、組成物の粘度の観点から、逆波長分散フィルム用樹脂組成物の重量に対して0〜400重量%であることが好ましく、更に好ましくは3〜350重量%、特に好ましくは5〜300重量%である。
顔料分散剤としては、ビックケミー社製顔料分散剤(Anti−Terra−U、Disperbyk−101、103、106、110、161、162、164、166、167、168、170、174、182、184及び2020等)、味の素ファインテクノ社製顔料分散剤(アジスパーPB711、PB821、PB814、PN411及びPA111等)、ルーブリゾール社製顔料分散剤(ソルスパーズ5000、12000、32000、33000及び39000等)が挙げられる。これらの顔料分散剤は1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。顔料分散剤の添加量は、逆波長分散フィルム用樹脂組成物の重量に対して、隠蔽性の観点から好ましくは0〜20重量%、更に好ましくは0〜10重量%である。
基材としては、離型PET等が挙げられる。
基材への塗布方法としては、スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等の公知のコーティング法並びに平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びグラビア印刷といった公知の印刷法を適用できる。また、微細液滴を連続して吐出するインクジェット方式の塗布も適用できる。
塗工膜厚は、乾燥後の膜厚として、乾燥性、耐摩耗性、耐溶剤性及び耐汚染性の観点から、0.5〜300μmが好ましく、さらに好ましくは1〜250μmである。
本発明の逆波長分散フィルム及び逆波長分散シートは、本発明の逆波長分散フィルム用樹脂組成物を基材に塗布したり、押出成形等することにより成形することができる。
[修飾多糖類(A)の合成]
多糖(a)及び芳香族化合物(B)を表1に記載の量、水150部に加え、80℃で2時間撹拌した。その後、水酸化ナトリウム15部を加え、温度を80±10℃に保ちながら8時間撹拌した。得られた反応溶液に酢酸20部を加えて中和した後、白色析出物を濾取(ろ紙:ADVANTEC社製;No.5)した上で、トルエン200部で3回洗浄を行なった。100℃で3時間、減圧乾燥することで表1に記載の多糖類(A−1)〜(A−10)を得た。
エチルセルロース−1:ダウケミカル(株)製、「エトセル」
エチルセルロース−2:関東化学(株)製、「エチルセルロース45CP」
メチルセルロース:信越化学(株)製、「METOLOSE SM−8000」
ヒドロキシプロピルメチルセルロース:信越化学(株)製、「METOLOSE 90SH−4000」
ヒドロキシエチルメチルセルロース:信越化学(株)製、「METOLOSE SNB60T」
セルロースアセテート:(株)ダイセル製、「酢酸セルロースL−20」
セルロースアセテートブチレート:イーストマンケミカル(株)製、「CAB551−0.2」
スチレンオキシド:東京化成工業(株)製
2,3−ジフェニルオキシラン:東京化成工業(株)製
ベンジルグリシジルエーテル:東京化成工業(株)製
装置 :ゲルパーミエイションクロマトグラフ
溶媒 :N,N−ジメチルホルムアミド
基準物質 :ポリスチレン
サンプル濃度:3mg/ml
カラム固定相:PLgel MIXED−B
カラム温度 :40℃
検出器:RI検出器
<(B)で化学修飾された官能基の割合の測定方法>
修飾前の多糖類(a)及び修飾多糖類(A)の1H−NMRを測定する。それぞれの測定結果で得られた下記積分値を下記数式(1)に当てはめることにより、(B)で修飾された官能基の割合(%)を算出した。
(B)で修飾された官能基の割合(%)={(T−S)/T}×100 (1)
S=[(修飾多糖類(A)のヒドロキシル基の水素原子の積分値)+{(修飾多糖類(A)のアミノ基の水素原子の積分値)/2}]
T=[(多糖類(a)のヒドロキシル基の水素原子の積分値)+{(多糖類(a)のアミノ基の水素原子の積分値)/2}]
溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド
装置:AVANCE300(日本ブルカー株式会社製)
周波数:300MHz
<芳香環濃度の測定>
修飾前の多糖類(a)及び修飾多糖類(A)の1H−NMRを測定する。それぞれの測定結果で得られた下記積分値を下記数式(2)に当てはめることにより、修飾多糖類(A)の芳香環濃度(重量%)を算出した。
芳香環濃度(重量%)={U×W/(U×W+V)}×100 (2)
U=(芳香族化合物(B)の構造中の1つの水素原子の積分値)×(芳香族化合物(B)中の芳香環の数)×5/(修飾多糖類(A)を構成する単糖において、1位〜5位の炭素に結合した水素原子の積分値の合計)
V=多糖類(a)を構成する単糖の分子量
W=芳香族化合物(B)の分子量
溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド
装置:AVANCE300(日本ブルカー株式会社製)
周波数:300MHz
製造例1〜10で製造した(A−1)〜(A−10)それぞれ100部に、溶剤として1,3−ジオキソラン350部をそれぞれ配合し、ディスパーサーで均一に混合撹拌し、実施例1〜10の逆波長分散フィルム用樹脂組成物を作製した。
上述の「エチルセルロース−1」を(A’−1)として用いて、「セルロースアセテート」を(A’−2)として用いて、「セルロースアセテートブチレート」を(A’−3)として用いて、(A’−1)〜(A’−3)をそれぞれ100部に、溶剤として1,3−ジオキソラン350部をそれぞれ配合し、ディスパーサーで均一に混合撹拌し、比較例1〜3の逆波長分散フィルム用樹脂組成物を作製した。
実施例1〜10及び比較例1〜3で得た各逆波長分散フィルム用樹脂組成物を、表面処理を施した厚さ120μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム[東洋紡(株)製「コスモシャイン」]に、アプリケーターを用いて膜厚80μmとなるように塗布して、80℃で2時間乾燥した。乾燥後、PETフィルムから剥離することで、乾燥後フィルムを得た。
作成したフィルムを用いて、下記(1)〜(3)の評価を行った。結果を表2に示す。
(1)透過率及びヘイズ(透明性)
JIS−K7136に準拠し、全光線透過率測定装置[商品名「haze−garddual」BYK gardner(株)製]を用いて透過率及びヘイズを測定した。透過率は、いずれも単位は%である。
大塚電子製「RETS−100」にて波長450nm、590nm及び630nmの光に対する面内リタデーション(Re)を測定した。
正の複屈折性としては、波長590nmでのリタデーション値をフィルム膜厚で割った値を示す。なお、この値が大きいほど、正の複屈折性が高いことを示す。
逆波長分散性としては、Re(450)/Re(590)及びRe(630)/Re(590)の値を示す。なお、Re(450)、Re(590)及びRe(630)はそれぞれ波長450nm、550nm及び630nmでの面内リタデーションを指す。Re(450)/Re(590)=0.90±0.03かつRe(630)/Re(590)=1.06±0.03であるものが、逆波長分散性が良好であるものである。
逆波長分散フィルムを48時間、25℃に温調した水に浸漬した後、面内リタデーション(波長590nm)を測定し、浸漬前のリタデーション(波長590nm)からの変化率(%)を算出した。変化率が低いほど、耐水性が高いことを示す。
Claims (10)
- ヒドロキシル基及び/又はアミノ基を有する多糖類(a)において、前記多糖類(a)がセルロースであり、(a)中の少なくとも1つのヒドロキシル基及び/又は少なくとも1つのアミノ基がエポキシ基を有する下記芳香族化合物(B)で化学修飾されてなる修飾多糖類(A)(ただし、炭素数10〜24の長鎖アルキルアリール基を有する修飾多糖類を除く。)を含有する逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
芳香族化合物(B):芳香環中の1つの水素原子が、エポキシ基で置換された芳香族化合物(b1)、アルキルの炭素数が3〜8のエポキシアルキル基で置換された芳香族化合物(b2)及びアルキルの炭素数が3〜8のエポキシアルキル基において、アルキルの少なくとも1つの炭素原子が酸素原子に置き換わった官能基で置換された芳香族化合物(b3)からなる群より選ばれる少なくとも1種であって、前記芳香族化合物(B)における芳香環がベンゼン環である化合物。 - 芳香族化合物(B)がスチレンオキサイド、2,3−ジフェニルオキシラン及びベンジルグリシジルエーテルから選択される少なくとも一種である請求項1に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
- 修飾多糖類(A)において、芳香族化合物(B)で化学修飾された官能基の割合が、多糖類(a)中のヒドロキシル基及びアミノ基の合計数を基準として30〜100%である請求項1又は2に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
- 芳香族化合物(B)がスチレンオキサイドである請求項1〜3のいずれかに記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
- 多糖類(a)がアシル化セルロース(a1)及び/又はエーテル化セルロース(a2)である請求項1〜4のいずれかに記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
- アシル化セルロース(a1)が、アシル基の炭素数が2〜19のアシル化セルロースである請求項5に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
- アシル化セルロース(a1)が、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基及びバレリル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有するアシル化セルロースである請求項5又は6に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
- エーテル化セルロース(a2)が、アルキルの炭素数が1〜18のアルキルエーテル化セルロース又はオキシアルキルエーテル化セルロースである請求項5に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
- エーテル化セルロース(a2)が、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメトキシル基及びヒドロキシエトキシル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有するエーテル化セルロースである請求項5又は8に記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の逆波長分散フィルム用樹脂組成物から形成される逆波長分散フィルム又はシート。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013063584A JP6291715B2 (ja) | 2013-03-26 | 2013-03-26 | 逆波長分散フィルム用樹脂組成物及びこれからなる逆波長分散フィルム |
| CN201380038428.9A CN104471450B (zh) | 2012-07-26 | 2013-07-01 | 逆波长分散膜用树脂组合物以及由其形成的逆波长分散膜和逆波长分散片 |
| KR1020157000920A KR101650751B1 (ko) | 2012-07-26 | 2013-07-01 | 역파장 분산 필름용 수지 조성물 및 이것을 포함하는 역파장 분산 필름 및 역파장 분산 시트 |
| PCT/JP2013/068011 WO2014017257A1 (ja) | 2012-07-26 | 2013-07-01 | 逆波長分散フィルム用樹脂組成物並びにこれからなる逆波長分散フィルム及び逆波長分散シート |
| TW102123912A TWI576380B (zh) | 2012-07-26 | 2013-07-04 | A resin composition for a reverse wavelength dispersion film, and a reverse wavelength dispersion film comprising the reverse wavelength dispersion film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013063584A JP6291715B2 (ja) | 2013-03-26 | 2013-03-26 | 逆波長分散フィルム用樹脂組成物及びこれからなる逆波長分散フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014189560A JP2014189560A (ja) | 2014-10-06 |
| JP6291715B2 true JP6291715B2 (ja) | 2018-03-14 |
Family
ID=51836179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013063584A Active JP6291715B2 (ja) | 2012-07-26 | 2013-03-26 | 逆波長分散フィルム用樹脂組成物及びこれからなる逆波長分散フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6291715B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5915922B2 (ja) * | 1975-08-14 | 1984-04-12 | 旭化成株式会社 | 熱可塑性セルロ−スエステルの製法 |
| US5120838A (en) * | 1989-10-30 | 1992-06-09 | Aqualon Company | Alkylaryl hydrophobically modified cellulose ethers |
| CN100405093C (zh) * | 2001-05-10 | 2008-07-23 | 日本化药株式会社 | 液晶化合物及使用其的相位差膜 |
| JP2009139526A (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-25 | Nitto Denko Corp | 偏光板、及び液晶表示装置 |
| JP5055312B2 (ja) * | 2009-02-23 | 2012-10-24 | 富士フイルム株式会社 | セルロースアシレートフィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
-
2013
- 2013-03-26 JP JP2013063584A patent/JP6291715B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014189560A (ja) | 2014-10-06 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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