JP6310765B2

JP6310765B2 - Exhaust gas combustion purification system

Info

Publication number: JP6310765B2
Application number: JP2014098561A
Authority: JP
Inventors: 荒川　秩; 秩荒川; 敏雄秋山; 祐司及川; 健太水野; 一貴長井
Original assignee: Japan Pionics Ltd
Current assignee: Japan Pionics Ltd
Priority date: 2014-05-12
Filing date: 2014-05-12
Publication date: 2018-04-11
Anticipated expiration: 2034-05-12
Also published as: JP2015215133A

Description

本発明は、半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を燃焼させて除去するための浄化装置に関する。さらに詳細には、半導体製造工程から排出される有害成分を、火炎及び酸素の存在下、高温で接触させ、燃焼することにより無害な物質あるいは容易に無害化できる物質に変えるための浄化装置に関するものである。 The present invention relates to a purification device for burning and removing harmful components contained in exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing process. More particularly, the present invention relates to a purification device for converting harmful components discharged from a semiconductor manufacturing process into harmless substances or substances that can be easily detoxified by contacting them at high temperatures in the presence of flame and oxygen and burning them. It is.

近年の半導体工業の発展とともに、半導体製造工程においては非常に多種のガスが使用されるようになってきている。しかし、これらのガスは人体及び環境にとって有害な物質が多く、工場外へ排出するに先立って浄化することが必須のこととなっている。これらのガス（有害成分）を燃焼させることにより分解処理する燃焼式浄化方法は、排ガスの組成や物性によらず適用することができる便利な方法であり、特に高濃度、大流量の場合は乾式浄化方法や湿式浄化方法と比較して効率的である。 With the development of the semiconductor industry in recent years, a great variety of gases have been used in the semiconductor manufacturing process. However, many of these gases are harmful to the human body and the environment, and it is essential to purify them before they are discharged outside the factory. The combustion purification method that decomposes these gases (hazardous components) by burning them is a convenient method that can be applied regardless of the composition and physical properties of the exhaust gas, especially in the case of high concentrations and large flow rates. It is more efficient than purification methods and wet purification methods.

燃焼式浄化方法においては、有害成分を含む排ガスと、プロパン、ＬＰＧ、ＬＮＧ等の燃料ガス、空気または酸素、必要に応じて不活性ガスを、燃焼室において混合し、燃焼させ、有害成分を無害な酸化物あるいは容易に無害化できる物質に変換する処理が行なわれる。従来から使用されている一般的な燃焼式浄化装置は、有害成分を燃焼するための燃焼室と、処理対象の有害成分を含む排ガス、燃料ガス、空気等の酸素含有ガスを燃焼室へ導入するための各配管、ノズルと、燃焼後のガスを燃焼室から排出するための配管等から構成されている。 In the combustion purification method, exhaust gas containing harmful components, fuel gas such as propane, LPG, LNG, etc., air or oxygen, and inert gas as necessary are mixed in the combustion chamber and burned to harm the harmful components. The conversion to a simple oxide or a material that can be easily detoxified is performed. Conventional combustion purification apparatuses that have been used in the past introduce a combustion chamber for burning harmful components, and an oxygen-containing gas such as exhaust gas, fuel gas, air containing harmful components to be treated into the combustion chamber. Each piping for this, a nozzle, and piping for discharging | emitting the gas after combustion from a combustion chamber etc. are comprised.

このような構成の燃焼式浄化装置で有害成分は燃焼され、燃焼処理後の排ガスは排出口より排気されて大気に放出されるか、あるいは次の処理装置へ送られる。しかし、処理対象の有害成分が、例えばシラン、ホスフィン、アルシン、ジボランのようなガスである場合は、燃焼により各々ケイ素、リン、ヒ素、ホウ素の固体粒子状酸化物（粉化物）が生成し、大部分は燃焼室内を通過し、後工程で処理されるが、一部は燃焼室内の側面壁に堆積し、燃焼時間の経過とともにその付着面積、厚みが増加する。その結果、有害成分と、燃料ガス、空気、酸素等との均一な混合が妨げられて完全燃焼が阻害され、燃焼温度の低下、処理対象の有害成分の分解率の低下を生じるだけでなく、粉化物の堆積量が多い場合は失火する虞があった。 In the combustion purification apparatus having such a configuration, harmful components are combusted, and the exhaust gas after the combustion treatment is exhausted from the discharge port and released to the atmosphere or sent to the next processing apparatus. However, when the harmful component to be treated is a gas such as silane, phosphine, arsine, and diborane, solid particulate oxides (powder) of silicon, phosphorus, arsenic, and boron are generated by combustion, Most of the gas passes through the combustion chamber and is processed in a later process, but a part of it is deposited on the side wall in the combustion chamber, and its adhesion area and thickness increase with the passage of combustion time. As a result, uniform mixing of harmful components with fuel gas, air, oxygen, etc. is hindered and complete combustion is inhibited, resulting in a decrease in combustion temperature and a decomposition rate of harmful components to be treated. If the amount of powdered material accumulated is large, there was a risk of misfire.

そのため、特許文献１〜５のように、燃焼室の側面をセラミックや焼結金属等からなる通気性の材料とし、その外周に空気や不活性ガス等の圧力ガス流路を設けて、側面壁を介して該圧力ガスを燃焼室に噴出させることにより、固体粒子状酸化物が燃焼室の側面壁に堆積することを防止する燃焼式浄化装置が開発されている。
特開平１０−５４５３４号公報特開平１０−６１９３４号公報特開２００５−９８６８０号公報特開２００６−１９４５４４号公報 Therefore, as in Patent Documents 1 to 5, the side surface of the combustion chamber is made of a breathable material made of ceramic, sintered metal, or the like, and a pressure gas flow path such as air or inert gas is provided on the outer periphery thereof, and the side wall A combustion type purifying apparatus has been developed that prevents the solid particulate oxide from accumulating on the side wall of the combustion chamber by ejecting the pressure gas into the combustion chamber via the gas.
JP 10-54534 A JP-A-10-61934 JP 2005-98680 A JP 2006-194544 A

前記のような燃焼式浄化装置において、燃焼室の側面壁を通気性のセラミックとした場合、火炎に対する耐熱性、有害成分に対する耐腐食性が、金属等他の材料よりも優れた側面壁とすることができる。しかしながら、セラミックは脆いという欠点があり、火炎の影響によりクラック（裂け目、割れ）が生じ、崩壊したり欠けたりすることにより、燃焼式浄化装置自体や後工程の装置に悪影響を及ぼすことがある。従って、本発明が解決しようとする課題は、燃焼室の側面壁が通気性のセラミックである燃焼式浄化装置において、セラミック壁のクラック、崩壊、欠け等を抑制または防止できる手段等を提供することである。 In the combustion type purifying apparatus as described above, when the side wall of the combustion chamber is made of a breathable ceramic, the side wall is superior to other materials such as metal in terms of heat resistance against flames and corrosion resistance against harmful components. be able to. However, ceramics have the disadvantage that they are brittle, and cracks (cracks, cracks) are generated due to the influence of the flame, which can cause adverse effects on the combustion purification apparatus itself and on the subsequent process apparatus by collapse or chipping. Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide means or the like that can suppress or prevent cracks, collapse, chipping, etc. of the ceramic wall in the combustion purification device in which the side wall of the combustion chamber is a breathable ceramic. It is.

本発明者らは、これらの課題を解決すべく鋭意検討した結果、前述のような燃焼式浄化装置において、セラミック壁を背後及び下方から支持するための金属支持体を設けることにより、熱伝導率が低いセラミックからなる燃焼室の側面全体の温度が、金属支持体を設けない場合より均一化され、装置の長期使用によるクラック、崩壊、欠け等の進行が遅くなるとともに、崩壊や欠けが発生した場合であっても、金属支持体によりセラミック壁の破片の流出が抑制または防止され、燃焼式浄化装置や後工程の装置への悪影響を少なくできることを見出し、本発明の排ガスの浄化装置に到達した。 As a result of intensive studies to solve these problems, the inventors of the present invention have provided a metal support for supporting the ceramic wall from behind and below in the combustion purification device as described above, thereby providing thermal conductivity. The temperature of the entire side surface of the combustion chamber made of low ceramic was made more uniform than when no metal support was provided, and the progress of cracks, collapse, chipping, etc. was slowed due to long-term use of the device, and collapse or chipping occurred. Even in this case, it was found that the outflow of the ceramic wall debris was suppressed or prevented by the metal support, and the adverse effect on the combustion type purification apparatus and the subsequent process apparatus could be reduced, and the exhaust gas purification apparatus of the present invention was reached. .

すなわち本発明は、半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を燃焼する燃焼室、火炎を該燃焼室へ導入するノズル、排ガスを該燃焼室へ導入するノズル、該燃焼室の側面を構成する通気性のセラミック壁、該セラミック壁の外周に設けられた酸素含有ガス流路、該流路に酸素含有ガスを導入する酸素含有ガス導入口、及び燃焼処理後のガスを外部へ排出する排出口を備えた燃焼式浄化装置であって、燃焼室の側面を構成する通気性のセラミック壁を、背後及び下方から支持する金属支持体を設けてなることを特徴とする排ガスの燃焼式浄化装置である。 That is, the present invention provides a combustion chamber for burning harmful components contained in exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing process, a nozzle for introducing flame into the combustion chamber, a nozzle for introducing exhaust gas into the combustion chamber, and a side surface of the combustion chamber. The air-permeable ceramic wall to be formed, the oxygen-containing gas channel provided on the outer periphery of the ceramic wall, the oxygen-containing gas inlet for introducing the oxygen-containing gas into the channel, and the gas after the combustion treatment are discharged to the outside. A combustion-type purification apparatus having an exhaust port, comprising a metal support that supports a breathable ceramic wall constituting a side surface of a combustion chamber from behind and below, and a combustion-type purification of exhaust gas Device.

本発明の排ガスの浄化装置においては、燃焼室の側面を構成する通気性のセラミック壁の背面に熱伝導率が高い金属支持体を設けるので、通気性のセラミック壁の温度が金属支持体を設けない場合より均一化され、火炎の影響によるセラミック壁の劣化を遅くすることが可能となる。その結果、セラミック壁のクラック、崩壊、欠け等の進行を抑制または防止することができる。また、セラミック壁の崩壊や欠けが発生した場合であっても、金属支持体によりセラミック壁の破片の流出が抑制または防止され、燃焼式浄化装置や後工程の装置への悪影響を抑制または防止することができる。 In the exhaust gas purifying apparatus of the present invention, a metal support having a high thermal conductivity is provided on the back side of the breathable ceramic wall constituting the side surface of the combustion chamber, so that the temperature of the breathable ceramic wall is provided with the metal support. It is possible to make the ceramic wall more uniform and to slow down the deterioration of the ceramic wall due to the influence of the flame. As a result, it is possible to suppress or prevent the progress of cracks, collapse, chipping and the like of the ceramic wall. Further, even when the ceramic wall is collapsed or chipped, the metal support suppresses or prevents the outflow of the ceramic wall debris, thereby suppressing or preventing the adverse effects on the combustion purification device and the subsequent device. be able to.

本発明は、半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を燃焼する燃焼室、火炎を該燃焼室へ導入するノズル、排ガスを該燃焼室へ導入するノズル、該燃焼室の側面を構成する通気性のセラミック壁、該セラミック壁の外周に設けられた酸素含有ガス流路、該流路に酸素含有ガスを導入する酸素含有ガス導入口、及び燃焼処理後のガスを外部へ排出する排出口を備えた燃焼式浄化装置に適用される。 The present invention comprises a combustion chamber for burning harmful components contained in exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing process, a nozzle for introducing flame into the combustion chamber, a nozzle for introducing exhaust gas into the combustion chamber, and a side surface of the combustion chamber A gas-permeable ceramic wall, an oxygen-containing gas channel provided on the outer periphery of the ceramic wall, an oxygen-containing gas inlet for introducing the oxygen-containing gas into the channel, and an exhaust for discharging the gas after the combustion treatment to the outside It is applied to a combustion type purification apparatus having an outlet.

本発明の排ガスの燃焼式浄化装置で処理できる有害成分としては、アルシン、ホスフィン、シラン、ジシラン、ジクロロシラン、ジボラン、セレン化水素、ゲルマン等の水素化物ガス、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、四フッ化珪素、四塩化珪素、四塩化チタン、塩化アルミニウム、四フッ化ゲルマニウム、六フッ化タングステン等の酸性ガス、アンモニア、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、ヒドラジン等の塩基性ガス、パーフルオロカーボン、ヒドロフルオロカーボン等のハロゲン化炭素等を例示することができる。また、燃料ガスとしては、プロパンガス、天然ガス等を使用することができる。これらのガスは、必要に応じ窒素等の不活性ガスと共に用いられる。 As harmful components that can be treated by the exhaust gas combustion purification device of the present invention, arsenic, phosphine, silane, disilane, dichlorosilane, diborane, hydrogen selenide, germane and other hydride gases, boron trifluoride, boron trichloride, Acid gases such as silicon tetrafluoride, silicon tetrachloride, titanium tetrachloride, aluminum chloride, germanium tetrafluoride, tungsten hexafluoride, basic gases such as ammonia, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, hydrazine, perfluorocarbon, Examples thereof include halogenated carbon such as hydrofluorocarbon. Moreover, propane gas, natural gas, etc. can be used as fuel gas. These gases are used together with an inert gas such as nitrogen as necessary.

以下、本発明の排ガスの燃焼式浄化装置を、図１〜図６に基づいて詳細に説明するが、本発明がこれらにより限定されるものではない。
尚、図１は、本発明の排ガスの燃焼式浄化装置の一例を示す縦断面の構成図である。図２は、図１におけるａ−ａ’断面図である。図３は、本発明の排ガスの燃焼式浄化装置の図１以外の一例を示す縦断面の構成図である。図４は、図３におけるｂ−ｂ’断面図である。図５は、本発明の排ガスの燃焼式浄化装置のセラミック壁の例を示す部分拡大断面図である。図６は、本発明の排ガスの燃焼式浄化装置に水槽及びスクラバーの設備を結合した浄化装置の例を示す縦断面の構成図である。 Hereinafter, the exhaust gas combustion purification apparatus of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 6, but the present invention is not limited thereto.
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an example of an exhaust gas combustion purification device of the present invention. 2 is a cross-sectional view taken along the line aa ′ in FIG. FIG. 3 is a longitudinal sectional configuration diagram showing an example other than FIG. 1 of the exhaust gas combustion purification apparatus of the present invention. 4 is a cross-sectional view taken along the line bb ′ in FIG. FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view showing an example of a ceramic wall of the exhaust gas combustion purification device of the present invention. FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing an example of a purification device in which a water tank and a scrubber facility are combined with the exhaust gas combustion purification device of the present invention.

本発明の排ガスの燃焼式浄化装置は、図１、図２に示すように、半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を燃焼する燃焼室１、火炎を燃焼室１へ導入するノズル２、排ガスを燃焼室１へ導入するノズル３、燃焼室１の側面を構成する通気性のセラミック壁４、セラミック壁４の外周に設けられた酸素含有ガス流路５、流路５に酸素含有ガスを導入する酸素含有ガス導入口６、及び燃焼処理後のガスを外部へ排出する排出口７を備えた燃焼式浄化装置であって、燃焼室１の側面を構成する通気性のセラミック壁４を、背後及び下方から支持する金属支持体８を設けてなる燃焼式浄化装置である。 As shown in FIGS. 1 and 2, the exhaust gas combustion purifying apparatus of the present invention includes a combustion chamber 1 for burning harmful components contained in the exhaust gas discharged from the semiconductor manufacturing process, and a nozzle for introducing a flame into the combustion chamber 1. 2, a nozzle 3 for introducing exhaust gas into the combustion chamber 1, a breathable ceramic wall 4 constituting the side surface of the combustion chamber 1, an oxygen-containing gas flow path 5 provided on the outer periphery of the ceramic wall 4, and the flow path 5 containing oxygen A combustion type purifying apparatus having an oxygen-containing gas introduction port 6 for introducing gas and an exhaust port 7 for discharging the gas after combustion treatment to the outside, and a breathable ceramic wall 4 constituting the side surface of the combustion chamber 1 Is a combustion type purification device provided with a metal support 8 that supports the rear from below and below.

本発明の排ガスの燃焼式浄化装置は、燃焼室１の側面に、円筒の通気性及び断熱性を有するセラミックからなる側面壁が設けられ、燃焼室１において排ガスが高温度の火炎に接触するとともに、セラミック壁４から供給される空気等の酸素含有ガスと接触して、排ガスに含まれる有害成分が燃焼（熱分解）される。その際、有害成分の種類によっては粉化物が生成するが、図１において矢印で示すような酸素含有ガスの流れにより、粉化物のセラミック壁４の表面への堆積を防止することができる。 In the exhaust gas combustion purifying apparatus of the present invention, a side wall made of a ceramic having air permeability and heat insulation is provided on the side surface of the combustion chamber 1, and the exhaust gas contacts a high temperature flame in the combustion chamber 1. In contact with oxygen-containing gas such as air supplied from the ceramic wall 4, harmful components contained in the exhaust gas are burned (thermally decomposed). At this time, although a pulverized product is generated depending on the kind of harmful components, the flow of the oxygen-containing gas as shown by an arrow in FIG. 1 can prevent the pulverized product from being deposited on the surface of the ceramic wall 4.

そして、本発明の排ガスの燃焼式浄化装置は、セラミック壁４が背後及び下方から金属支持体８により支持された構成を備えたものである。金属支持体８は、図１に示すように、セラミック壁４を背後から支持する金属支持体８’とセラミック壁４を下方から支持する金属支持体８”からなる。金属支持体８の材質としては、金属であれば特に制限されることはなく、炭素鋼、クロム鋼、モリブデン鋼、マンガン鋼、ニッケル鋼、ステンレス鋼等を使用することができるが、これらの中でもステンレス鋼を使用することが好ましい。 The exhaust gas combustion purification apparatus of the present invention has a configuration in which the ceramic wall 4 is supported by the metal support 8 from behind and below. As shown in FIG. 1, the metal support 8 includes a metal support 8 ′ that supports the ceramic wall 4 from behind and a metal support 8 ″ that supports the ceramic wall 4 from below. Is not particularly limited as long as it is a metal, and carbon steel, chrome steel, molybdenum steel, manganese steel, nickel steel, stainless steel, etc. can be used, and among these, stainless steel can be used. preferable.

また、金属支持体８’は通常は円筒形であり、金属支持体８”は通常は円環状である。金属支持体８’の表面の形態としては、充分な通気性を有しセラミック壁４を支持することができれば、特に制限されることはないが、例えば後述するセラミック壁４の表面の形態と同一あるいは類似の形態とすることができる。尚、金属支持体８は、セラミック壁４と接着剤等により固定して接触していてもよいが、セラミック壁４に固定されることなく全部または一部が接触する形態であってもよい。金属支持体８’及び金属支持体８”の厚みは、通常は０．５〜２０ｍｍである。 The metal support 8 ′ is usually cylindrical, and the metal support 8 ″ is usually annular. The surface of the metal support 8 ′ has sufficient air permeability and has a ceramic wall 4. However, for example, the shape of the metal support 8 can be the same as or similar to the shape of the surface of the ceramic wall 4 to be described later. It may be fixed and contacted with an adhesive or the like, but may be in a form in which all or part of the metal support 8 ′ and metal support 8 ″ are in contact with each other without being fixed to the ceramic wall 4. The thickness is usually 0.5 to 20 mm.

本発明の排ガスの燃焼式浄化装置においては、図３及び図４に示すように、さらにセラミック壁４の下部の燃焼室側表面に、セラミック壁４を燃焼室側から支持する金属支持体８’’’を設けることができる。これにより、セラミック壁４の崩壊や欠けが発生した場合に、セラミック壁４の破片の下流側への流出、燃焼式浄化装置や後工程の装置への悪影響を抑制または防止する効果が向上する。金属支持体８’’’は、通常は円筒状または円環状であり、材質、厚み、及びセラミック壁４との接触状態も金属支持体８’と同様であるが、通気性であっても非通気性であってもよい。 In the exhaust gas combustion purification apparatus of the present invention, as shown in FIGS. 3 and 4, a metal support 8 ′ further supporting the ceramic wall 4 from the combustion chamber side on the combustion chamber side surface below the ceramic wall 4. '' Can be provided. Thereby, when the collapse or chipping of the ceramic wall 4 occurs, the effect of suppressing or preventing the outflow of the fragments of the ceramic wall 4 to the downstream side, the adverse effect on the combustion type purification apparatus and the subsequent process apparatus is improved. The metal support 8 ′ ″ is usually cylindrical or annular, and the material, thickness, and contact state with the ceramic wall 4 are the same as those of the metal support 8 ′. It may be breathable.

本発明において、セラミック壁４の表面の形態としては、例えば図５に示すような構成を挙げることができる。図５（１）（２）は針孔を有する壁の部分拡大断面図であり、その孔径（直径）は、通常は０．０１〜３．０ｍｍ、好ましくは０．０２〜１．０ｍｍである。尚、孔９は円形に限られず、そのような場合の孔の大きさは、前記の孔径に相当する大きさである。孔の配列も縦横に規則的に配置したり、ランダムに配置したものを用いることができる。図５（３）は線状の間隙１０を有する壁の部分拡大断面図であり、その間隙は、通常は０．００５〜２．０ｍｍ、好ましくは０．０１〜１．０ｍｍである。図５（４）は格子窓状の間隙１１を有する壁の部分拡大断面図であり、その間隙は正方形に換算した場合の一辺の長さとして、通常は０．０１〜３．０ｍｍ、好ましくは０．０２〜１．０ｍｍである。また、セラミック壁４の表面の形態は、これらに限られるものではなく、例えばこれらのほかに、繊維状セラミックが積層された積層体、多数の粒子状セラミックが積層された積層体、細孔を有する多孔質セラミック等の形態を挙げることができる。 In the present invention, examples of the form of the surface of the ceramic wall 4 include a configuration as shown in FIG. 5 (1) and (2) are partially enlarged cross-sectional views of a wall having a needle hole, and the hole diameter (diameter) is usually 0.01 to 3.0 mm, preferably 0.02 to 1.0 mm. . The hole 9 is not limited to a circle, and the size of the hole in such a case is a size corresponding to the hole diameter. The holes can be arranged regularly and vertically or randomly. FIG. 5 (3) is a partially enlarged cross-sectional view of a wall having a linear gap 10. The gap is usually 0.005 to 2.0 mm, preferably 0.01 to 1.0 mm. FIG. 5 (4) is a partially enlarged cross-sectional view of a wall having a lattice window-like gap 11, and the gap is usually 0.01 to 3.0 mm as a side length when converted to a square, preferably 0.02 to 1.0 mm. Further, the form of the surface of the ceramic wall 4 is not limited to these. For example, in addition to these, a laminated body in which fibrous ceramics are laminated, a laminated body in which many particulate ceramics are laminated, and pores are formed. The form of the porous ceramic etc. which it has can be mentioned.

尚、セラミック壁４の孔、間隙が前記の範囲より大きい場合は、燃焼室１への酸素含有ガスの流れが偏り、ガスの流量が多い部分と少ない部分が生じる虞があり、ガスの流量が少ない部分では粉化物が堆積する虞がある。また、前記の範囲より小さい場合は、短時間で孔、間隙が粉化物等により閉塞する虞がある。さらに、セラミック壁４の通気性部分は、いずれの形態においても、好ましくは空隙率あるいは気孔率が５０〜９０％程度となるようにされる。空隙率あるいは気孔率が５０％未満の場合は、粉化物が壁面に堆積する虞があり、空隙率あるいは気孔率が９０％を越える場合は、側面壁の強度が低下する虞がある。
また、セラミック壁４の厚さは、燃焼室１の大きさ、有害成分の分解条件等により一概に特定することはできないが、通常は２〜５０ｍｍ、好ましくは５〜３０ｍｍである。 If the holes and gaps of the ceramic wall 4 are larger than the above ranges, the flow of the oxygen-containing gas to the combustion chamber 1 may be uneven, and there may be a portion where the gas flow rate is high and a portion where the gas flow rate is high. There is a possibility that powdered material accumulates in a small part. Moreover, when smaller than the said range, there exists a possibility that a hole and a gap | block may be obstruct | occluded by powdered material etc. in a short time. Further, the air-permeable portion of the ceramic wall 4 is preferably configured so that the porosity or porosity is about 50 to 90% in any form. When the porosity or porosity is less than 50%, there is a possibility that the powdered material is deposited on the wall surface, and when the porosity or porosity exceeds 90%, the strength of the side wall may be lowered.
Moreover, although the thickness of the ceramic wall 4 cannot be generally specified by the magnitude | size of the combustion chamber 1, the decomposition | disassembly conditions of a harmful component, etc., it is 2-50 mm normally, Preferably it is 5-30 mm.

本発明の排ガスの燃焼式浄化装置においては、通常は前記のようなセラミック壁４の外周全体にわたり、酸素含有ガス流路５が設けられる。酸素含有ガス流路５の幅は、通常は５〜２００ｍｍ、好ましくは１０〜１００ｍｍである。有害成分を処理する際には燃焼室１の温度は５００〜１２００℃の高温になり、このような構成とすることにより、燃焼室１の熱が外部に拡散することを防止できる。尚、酸素含有ガス流路５の外壁は、セラミック壁４の形状と合ったものであり、通常は円筒形である。 In the exhaust gas combustion purification apparatus of the present invention, the oxygen-containing gas flow path 5 is usually provided over the entire outer periphery of the ceramic wall 4 as described above. The width of the oxygen-containing gas channel 5 is usually 5 to 200 mm, preferably 10 to 100 mm. When processing harmful components, the temperature of the combustion chamber 1 becomes a high temperature of 500 to 1200 ° C. With such a configuration, the heat of the combustion chamber 1 can be prevented from diffusing to the outside. Note that the outer wall of the oxygen-containing gas channel 5 matches the shape of the ceramic wall 4 and is usually cylindrical.

また、本発明において、酸素含有ガスを流路５に導入するための酸素含有ガス導入口６は、導入口６から導入された酸素含有ガスが、環状の酸素含有ガス流路５を旋回するような方向に設定される。酸素含有ガス導入口６は、通常は環の接線方向に対して±３０度の角度の範囲内、好ましくは実質的に環の接線方向に酸素含有ガスが導入できるように設定される。このような構成とすることにより、流路５内のいずれの個所においても、酸素含有ガスが滞留、偏流することを防止でき、酸素含有ガスを均一な流量及び温度で燃焼室１へ導入することが可能となる。 In the present invention, the oxygen-containing gas introduction port 6 for introducing the oxygen-containing gas into the flow path 5 is configured so that the oxygen-containing gas introduced from the introduction port 6 swirls through the annular oxygen-containing gas flow path 5. Is set to the correct direction. The oxygen-containing gas inlet 6 is usually set so that the oxygen-containing gas can be introduced within an angle range of ± 30 degrees with respect to the tangential direction of the ring, preferably substantially in the tangential direction of the ring. By adopting such a configuration, the oxygen-containing gas can be prevented from staying and drifting at any location in the flow path 5, and the oxygen-containing gas can be introduced into the combustion chamber 1 at a uniform flow rate and temperature. Is possible.

また、酸素含有ガス流路５は、排ガスの導入方向（図１においては上下方向）に、複数個に区切り、各々の流路に導入する酸素含有ガスの流量等をコントロールすることも可能である。このような場合、酸素含有ガスの旋回方向は、互いに同じ方向となるように設定しても、互いに反対方向となるように設定してもよい。しかし、側面壁が酸素含有ガスを流路内の旋回方向を維持して燃焼室１へ導入できるような構成の場合は、隣接する流路内の酸素含有ガスの旋回方向を互いに反対方向となるように設定して、燃焼室内におけるガスの混合を容易にすることが好ましい。 Further, the oxygen-containing gas flow path 5 can be divided into a plurality of parts in the exhaust gas introduction direction (vertical direction in FIG. 1), and the flow rate of the oxygen-containing gas introduced into each flow path can be controlled. . In such a case, the swirling directions of the oxygen-containing gas may be set to be the same as each other or may be set to be opposite to each other. However, when the side wall is configured to be able to introduce the oxygen-containing gas into the combustion chamber 1 while maintaining the swirl direction in the flow path, the swirl directions of the oxygen-containing gas in the adjacent flow paths are opposite to each other. It is preferable to facilitate the mixing of the gas in the combustion chamber by setting as described above.

本発明の排ガスの浄化装置においては、燃焼室１の直前で燃料と酸素含有ガスが混合され、燃焼するように設定される。燃料の燃焼の際には、火炎の先端が燃焼室１に入ってもよいし入らなくてもよい。また、図１に示すように、排ガスを燃焼室１へ導入するノズル３は、通常は、火炎を燃焼室１へ導入するノズル２の外周側に設置される。尚、本発明においては、酸素含有ガス流路５のほか、火炎を燃焼室１へ導入するノズル２の周辺にも、酸素含有ガスを燃焼室１へ導入するノズルを設けることができる。 In the exhaust gas purifying apparatus of the present invention, the fuel and the oxygen-containing gas are mixed immediately before the combustion chamber 1 and burned. When the fuel is burned, the tip of the flame may or may not enter the combustion chamber 1. Further, as shown in FIG. 1, the nozzle 3 for introducing exhaust gas into the combustion chamber 1 is usually installed on the outer peripheral side of the nozzle 2 for introducing flame into the combustion chamber 1. In the present invention, in addition to the oxygen-containing gas flow path 5, a nozzle for introducing the oxygen-containing gas into the combustion chamber 1 can be provided around the nozzle 2 for introducing the flame into the combustion chamber 1.

本発明の排ガスの浄化装置において、燃焼処理後のガスは、図６に示すように、排出口７の下流側に設けられたスプレーノズル１３から噴出する冷却水により冷却された後、大気に放出されるか、あるいは次の処理工程に送られるが、次の処理工程に送られるような場合、本発明の排ガスの浄化装置においては、このような処理工程を実施するための設備を併せて装備することも可能である。
図６の水槽１７及びスクラバーの設備は、本発明の排ガスの浄化装置により処理した排ガスについて、処理後のガスに含まれる粉化物の除去、及び新たに生成した有害成分（容易に無害化できる成分）の除去を行なうためのものであり、本発明においては必須の設備ではないが、これらの設備を備えることが好ましい。すなわち、本発明においては、燃焼室１の排出側に、粉化物の除去部及び／または酸性ガスの除去部を設けた排ガスの浄化装置とすることが好ましい。 In the exhaust gas purifying apparatus of the present invention, the gas after the combustion treatment is cooled to the cooling water ejected from the spray nozzle 13 provided on the downstream side of the discharge port 7 as shown in FIG. However, in the case of being sent to the next processing step, the exhaust gas purifying apparatus of the present invention is also equipped with equipment for carrying out such a processing step. It is also possible to do.
The water tank 17 and scrubber equipment shown in FIG. 6 are provided for the exhaust gas treated by the exhaust gas purification apparatus of the present invention, for removing pulverized substances contained in the treated gas, and newly generated harmful components (components that can be easily detoxified). ) And is not an essential facility in the present invention, but it is preferable to provide these facilities. That is, in the present invention, it is preferable that the exhaust gas purifying apparatus is provided with a pulverized material removal unit and / or an acid gas removal unit on the discharge side of the combustion chamber 1.

例えば、本発明の排ガスの浄化装置により、アルシン、ホスフィン、シラン、ジボラン等の水素化物を処理した場合は、燃焼により各々ヒ素、リン、ケイ素、ホウ素等の固体粒子状酸化物が生成する。また、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、四フッ化珪素、四塩化珪素、Ｃ_２Ｆ_６等のハロゲン化物を処理した場合は、新たに塩化水素、フッ化水素等の酸性ガス（容易に無害化できる成分）が生成する。図６の浄化装置においては、粉化物は主にスプレーノズル１３からの散水、及び多孔板１９における捕捉により除去することが可能である。また、本発明の排ガスの浄化装置とスクラバー設備間の配管１６は、粉化物が容易に水槽１７へ洗い流されるようにスクラバー設備側に傾斜させることが好ましい。 For example, when hydrides such as arsine, phosphine, silane, and diborane are treated with the exhaust gas purifying apparatus of the present invention, solid particulate oxides such as arsenic, phosphorus, silicon, and boron are generated by combustion. In addition, when a halide such as boron trifluoride, boron trichloride, silicon tetrafluoride, silicon tetrachloride, or C ₂ F ₆ is treated, a new acidic gas such as hydrogen chloride or hydrogen fluoride (which is easily harmless) Component that can be converted into In the purification device of FIG. 6, the pulverized material can be removed mainly by watering from the spray nozzle 13 and trapping in the perforated plate 19. Moreover, it is preferable to incline the piping 16 between the exhaust gas purifying apparatus of the present invention and the scrubber equipment toward the scrubber equipment so that the powdered material can be easily washed away into the water tank 17.

本発明の排ガスの浄化装置に、水槽１７及びスクラバーの設備を結合した図６に示すような浄化装置を用いた場合、塩化水素、フッ化水素等の酸性ガスは、主に充填材２０により除去することが可能である。また、デミスター２１により水分も併せて除去することができる。尚、図６において、１２は冷却配管、１４はフローメーター、１５はポンプ、１８は排水管、２２は処理後のガスを外部へ排出する排出口を表わす。 When the purification apparatus as shown in FIG. 6 in which the water tank 17 and the scrubber equipment are combined is used for the exhaust gas purification apparatus of the present invention, acidic gases such as hydrogen chloride and hydrogen fluoride are mainly removed by the filler 20. Is possible. Further, the demister 21 can also remove moisture. In FIG. 6, 12 is a cooling pipe, 14 is a flow meter, 15 is a pump, 18 is a drain pipe, and 22 is a discharge port for discharging processed gas to the outside.

次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明がこれらにより限定されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited by these.

［実施例１］
（浄化装置の製作）
円筒形の燃焼室１（高さ５００ｍｍ、直径２００ｍｍ）、火炎を該燃焼室１へ導入するノズル２、排ガスを燃焼室１へ導入するノズル３、燃焼室１の側面を構成するアルミナ製の円筒形のセラミック壁４（厚さ１５ｍｍ）、セラミック壁４を背後及び下方から支持するステンレス鋼（ＳＵＳ３１６）製の金属支持体８（厚さ５ｍｍ）、環状の酸素含有ガス流路５（幅２０ｍｍ）、酸素含有ガス導入口６、及び燃焼後のガスを外部へ排出する排出口７を有する図１、図２に示すような構成の浄化装置を製作した。尚、セラミック壁４は、直径１０〜１００μｍに相当する微多孔を有し、セラミック壁４を背後から支持する金属支持体８’は、直径２ｍｍの孔を有しセラミック壁４よりも通気性が高い金属支持体であった。また、セラミック壁４の内部（厚み方向の中央部）に、５０ｍｍ間隔で上下方向に９個の温度センサーを設置した。 [Example 1]
(Production of purification equipment)
A cylindrical combustion chamber 1 (height 500 mm, diameter 200 mm), a nozzle 2 for introducing a flame into the combustion chamber 1, a nozzle 3 for introducing exhaust gas into the combustion chamber 1, and an alumina cylinder constituting the side of the combustion chamber 1 Shaped ceramic wall 4 (thickness 15 mm), metal support 8 (thickness 5 mm) made of stainless steel (SUS316) for supporting the ceramic wall 4 from behind and below, an annular oxygen-containing gas flow path 5 (width 20 mm) A purification apparatus having the structure shown in FIGS. 1 and 2 having an oxygen-containing gas introduction port 6 and an exhaust port 7 for discharging the burned gas to the outside was manufactured. The ceramic wall 4 has a micropore corresponding to a diameter of 10 to 100 μm, and the metal support 8 ′ supporting the ceramic wall 4 from the back has a hole with a diameter of 2 mm and is more breathable than the ceramic wall 4. It was a high metal support. In addition, nine temperature sensors were installed in the vertical direction at intervals of 50 mm inside the ceramic wall 4 (center portion in the thickness direction).

前述のように製作した浄化装置の燃焼室１の下部に、スプレーノズル１３、浄化装置の右下部には、縦３００ｍｍ、横３００ｍｍ、高さ３００ｍｍの水槽１７を設置し、さらに水槽１７の上部には、多孔板１９、ポリプロピレン樹脂を主材とする充填材２０、及びデミスター２１を有するスクラバーを設置した。また、浄化装置の下部と水槽を、傾斜した配管で接続し、フローメーター１４、ポンプ１５等を接続して、図６に示すような装置を完成した。尚、スプレーノズル１３は、噴出する冷却水がセラミック壁４に接触しないように、セラミック壁と充分な距離を設けて設置した。 At the lower part of the combustion chamber 1 of the purification apparatus manufactured as described above, a water nozzle 17 having a length of 300 mm, a width of 300 mm and a height of 300 mm is installed at the lower right part of the spray nozzle 13 and the purification apparatus. Installed a scrubber having a perforated plate 19, a filler 20 mainly composed of polypropylene resin, and a demister 21. Further, the lower part of the purification device and the water tank were connected by an inclined pipe, and the flow meter 14 and the pump 15 were connected to complete the apparatus as shown in FIG. The spray nozzle 13 was installed with a sufficient distance from the ceramic wall so that the sprayed cooling water did not contact the ceramic wall 4.

（浄化装置の燃焼処理試験）
水槽に深さが１５０ｍｍになるまで水を注入した後、ポンプ等を稼動してスプレーノズル１３から水を噴出させた。また、プロパン（流量１５Ｌ／ｍｉｎ）と空気（流量４４０Ｌ／ｍｉｎ）を混合し燃焼させて、ノズルから燃焼室１に導入するとともに、空気を４個の酸素含有ガス導入口から３７．５Ｌ／ｍｉｎずつ、合計１５０Ｌ／ｍｉｎの流量で側面壁を介して燃焼室１に導入した。次に、排ガスとしてのシラン（流量１０Ｌ／ｍｉｎ）を含む窒素ガス（流量４９０Ｌ／ｍｉｎ）を、４個の各ノズルから１２５Ｌ／ｍｉｎ、合計５００Ｌ／ｍｉｎで燃焼室１に導入して燃焼処理を行なった。 (Purification treatment combustion treatment test)
After water was poured into the water tank until the depth reached 150 mm, a pump or the like was operated to eject water from the spray nozzle 13. Further, propane (flow rate 15 L / min) and air (flow rate 440 L / min) are mixed and combusted and introduced from the nozzle into the combustion chamber 1, and air is introduced from the four oxygen-containing gas inlets to 37.5 L / min. Each was introduced into the combustion chamber 1 through the side wall at a flow rate of 150 L / min in total. Next, nitrogen gas (flow rate: 490 L / min) containing silane (flow rate: 10 L / min) as exhaust gas is introduced into the combustion chamber 1 from each of the four nozzles at a rate of 125 L / min for a total of 500 L / min. I did it.

シランの燃焼処理は燃焼状態が安定した後１時間行ない、この間セラミック壁４の温度分布を確認するために、温度センサーによりセラミック壁４の各測定場所の温度を測定した。その結果、上から３番目に設置された測定場所で最高温度約７８０℃が測定され、最下部の測定場所で測定された最低温度との差の平均は、約２００℃であることがわかった。 The combustion treatment of silane was performed for 1 hour after the combustion state was stabilized. During this time, in order to confirm the temperature distribution of the ceramic wall 4, the temperature at each measurement location of the ceramic wall 4 was measured by a temperature sensor. As a result, it was found that the maximum temperature of about 780 ° C. was measured at the measurement place installed third from the top, and the average difference from the minimum temperature measured at the bottom measurement place was about 200 ° C. .

［実施例２］
（浄化装置の製作）
実施例１の浄化装置の製作において、セラミック壁４の厚さを１７ｍｍ、セラミック壁４を背後から支持する金属支持体８’の厚さを３ｍｍに変更し、新たにセラミック壁４を燃焼室側から支持する金属支持体８’’’（厚さ３ｍｍ、高さ２０ｍｍ）を設けたほかは、実施例１と同様にして浄化装置を製作した。さらに、実施例１と同様にして、燃焼室１の下部にスプレーノズル１３、浄化装置の右側にスクラバーを設置して、図６に示すような装置を完成した。 [Example 2]
(Production of purification equipment)
In the manufacture of the purification device of Example 1, the thickness of the ceramic wall 4 was changed to 17 mm, the thickness of the metal support 8 ′ supporting the ceramic wall 4 from the back was changed to 3 mm, and the ceramic wall 4 was newly placed on the combustion chamber side. A purification device was produced in the same manner as in Example 1 except that a metal support 8 ″ ′ (thickness 3 mm, height 20 mm) was provided. Further, in the same manner as in Example 1, a spray nozzle 13 was installed in the lower part of the combustion chamber 1, and a scrubber was installed on the right side of the purification device, thereby completing an apparatus as shown in FIG.

（浄化装置の燃焼処理試験）
実施例１の浄化装置の燃焼処理試験において、前述の浄化装置を用いたほかは、実施例１と同様にして、燃焼処理試験を行なった。その結果、上から３番目に設置された測定場所で最高温度約７９０℃が測定され、最下部の測定場所で測定された最低温度との差の平均は、約２３０℃であることがわかった。実施例１と比較して、セラミック壁４の最高温度と最低温度との差が大きくなったが、この原因はセラミック壁４を燃焼室側から支持する金属支持体８’’’の厚さを、実施例１の場合より２ｍｍ薄くしたため、熱伝導が悪化したことによると考えられる。 (Purification treatment combustion treatment test)
In the combustion treatment test of the purification device of Example 1, a combustion treatment test was conducted in the same manner as in Example 1 except that the purification device described above was used. As a result, it was found that the maximum temperature of about 790 ° C. was measured at the third measurement place installed from the top, and the average difference from the minimum temperature measured at the bottom measurement place was about 230 ° C. . Compared with Example 1, the difference between the maximum temperature and the minimum temperature of the ceramic wall 4 became larger. This is caused by the thickness of the metal support 8 ′ ″ supporting the ceramic wall 4 from the combustion chamber side. Since it was 2 mm thinner than in the case of Example 1, it is considered that the heat conduction deteriorated.

［比較例１］
（浄化装置の製作）
実施例１の浄化装置の製作において、セラミック壁４の厚さを２０ｍｍとし、金属支持体８を設けなかったほかは、実施例１と同様にして浄化装置を製作した。さらに、実施例１と同様にして、燃焼室１の下部にスプレーノズル１３、浄化装置の右側にスクラバーを設置して、図６に示すような装置を完成した。 [Comparative Example 1]
(Production of purification equipment)
In the production of the purification device of Example 1, the purification device was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the ceramic wall 4 was 20 mm and the metal support 8 was not provided. Further, in the same manner as in Example 1, a spray nozzle 13 was installed in the lower part of the combustion chamber 1, and a scrubber was installed on the right side of the purification device, thereby completing an apparatus as shown in FIG.

（浄化装置の燃焼処理試験）
実施例１の浄化装置の燃焼処理試験において、前述の浄化装置を用いたほかは、実施例１と同様にして、燃焼処理試験を行なった。その結果、上から３番目に設置された測定場所で最高温度約８１０℃が測定され、最下部の測定場所で測定された最低温度との差の平均は、約３００℃であることがわかった。実施例１及び実施例２と比較して、セラミック壁４の最高温度と最低温度との差が大きくなったが、この原因はセラミック壁４を燃焼室側から支持する金属支持体８’’’がないため、熱伝導が大幅に悪化したことによると考えられる。 (Purification treatment combustion treatment test)
In the combustion treatment test of the purification device of Example 1, a combustion treatment test was conducted in the same manner as in Example 1 except that the purification device described above was used. As a result, it was found that the maximum temperature of about 810 ° C. was measured at the third measurement place installed from the top, and the average difference from the minimum temperature measured at the bottom measurement place was about 300 ° C. . Compared with Example 1 and Example 2, the difference between the maximum temperature and the minimum temperature of the ceramic wall 4 became larger. This is because the metal support 8 ′ ″ supporting the ceramic wall 4 from the combustion chamber side. This is probably because the heat conduction was greatly deteriorated.

以上のように、本発明の排ガスの燃焼式浄化装置は、実施例に示すように、燃焼室の側面を構成する通気性のセラミック壁の背面に熱伝導率が高い金属支持体を設けるので、通気性のセラミック壁の最高温度と最低温度の差が小さくなり、金属支持体を設けない場合より温度が均一化される。その結果、火炎の影響によるセラミック壁の劣化を遅くさせることが可能となる。 As described above, as shown in the embodiment, the exhaust gas combustion purification device of the present invention is provided with the metal support having high thermal conductivity on the back surface of the breathable ceramic wall constituting the side surface of the combustion chamber. The difference between the maximum temperature and the minimum temperature of the breathable ceramic wall is reduced, and the temperature is made more uniform than when no metal support is provided. As a result, deterioration of the ceramic wall due to the influence of the flame can be delayed.

本発明の排ガスの燃焼式浄化装置の一例を示す縦断面の構成図Configuration diagram of a longitudinal section showing an example of an exhaust gas combustion purification device of the present invention 図１におけるａ−ａ’断面図A-a 'sectional view in FIG. 本発明の排ガスの燃焼式浄化装置の図１以外の一例を示す縦断面の構成図Configuration diagram of a longitudinal section showing an example other than FIG. 1 of the exhaust gas combustion purification device of the present invention 図３におけるｂ−ｂ’断面図B-b 'sectional view in FIG. 本発明の排ガスの燃焼式浄化装置のセラミック壁の例を示す部分拡大断面図The partial expanded sectional view which shows the example of the ceramic wall of the combustion type purification apparatus of the exhaust gas of this invention 本発明の排ガスの燃焼式浄化装置に水槽及びスクラバーの設備を結合した浄化装置の例を示す縦断面の構成図Configuration diagram of a longitudinal section showing an example of a purification device in which a water tank and a scrubber facility are combined with the exhaust gas combustion purification device of the present invention

１燃焼室
２火炎を燃焼室へ導入するノズル
３排ガスを燃焼室へ導入するノズル
４セラミック壁
５酸素含有ガス流路
６酸素含有ガスの導入口
７排出口
８金属支持体
８’セラミック壁を背後から支持する金属支持体
８”セラミック壁を下方から支持する金属支持体
８’’’ セラミック壁を燃焼室側から支持する金属支持体
９孔
１０線状の間隙
１１格子窓状の間隙
１２冷却配管
１３スプレーノズル
１４フローメーター
１５ポンプ
１６排ガスの浄化装置とスクラバー設備間の配管
１７水槽
１８排水管
１９多孔板
２０充填材
２１デミスター
２２処理後のガスを外部へ排出する排出口 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Combustion chamber 2 Nozzle which introduces flame into combustion chamber 3 Nozzle which introduces exhaust gas into combustion chamber 4 Ceramic wall 5 Oxygen-containing gas flow path 6 Oxygen-containing gas inlet 7 Discharge port 8 Metal support 8 'Behind ceramic wall 8 "metal support for supporting the ceramic wall from below 8 '" metal support for supporting the ceramic wall from the combustion chamber side 9 hole 10 linear gap 11 lattice window-like gap 12 cooling pipe 13 Spray nozzle 14 Flow meter 15 Pump 16 Pipe between exhaust gas purification device and scrubber equipment 17 Water tank 18 Drain pipe 19 Perforated plate 20 Filler 21 Demister 22 Exhaust port for discharging treated gas to the outside

Claims

Combustion chamber that burns harmful components contained in exhaust gas discharged from the semiconductor manufacturing process, nozzle that introduces flame into the combustion chamber, nozzle that introduces exhaust gas into the combustion chamber, and air permeability that constitutes the side surface of the combustion chamber A ceramic wall, an oxygen-containing gas channel provided on the outer periphery of the ceramic wall, an oxygen-containing gas inlet for introducing an oxygen-containing gas into the channel, and an outlet for discharging the gas after the combustion treatment to the outside A combustion purification device,
The breathable ceramic wall constituting a side face of the combustion chamber, Ri Na provided a metal support supporting from behind and below,
The form of the surface of the metal support is the same or similar to the form of the surface of the ceramic wall,
The exhaust gas combustion purification apparatus , wherein the metal support is in contact with all or part of the metal support without being fixed to the ceramic wall .

The exhaust gas combustion purification device according to claim 1, wherein the ceramic wall has a cylindrical shape.

The exhaust gas combustion purification device according to claim 1, wherein the oxygen-containing gas flow path is annular.

The exhaust gas combustion purification apparatus according to claim 1, wherein the metal support supported from behind the ceramic wall is made of a breathable metal plate.

2. The exhaust gas combustion purification apparatus according to claim 1, further comprising a metal support that supports the ceramic wall from the combustion chamber side on a combustion chamber side surface below the ceramic wall.

The ceramic wall is a ceramic with needle holes, a ceramic with a linear gap, a ceramic with a lattice window gap, a porous ceramic, a laminate of a number of fibrous ceramics, or a stack of a number of particulate ceramics The exhaust gas combustion purifying device according to claim 1 configured.

The exhaust gas combustion purification apparatus according to claim 1, wherein a dust removal unit and / or an acid gas removal unit is provided on the discharge side of the combustion chamber.