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JP6341864B2 - Metal mesh manufacturing method, dehumidifying element, and dehumidifying element manufacturing method - Google Patents
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Metal mesh manufacturing method, dehumidifying element, and dehumidifying element manufacturing method Download PDF

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Description

この発明は、めっき膜が形成された金属メッシュ、この金属メッシュの製造方法、この金属メッシュを用いた除湿素子、及びこの除湿素子の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a metal mesh on which a plating film is formed, a method for producing the metal mesh, a dehumidifying element using the metal mesh, and a method for producing the dehumidifying element.

従来、素材の表面に液状のマスキング剤を部分的に塗布した後、素材の表面のうちマスキング剤の非塗布部分に金属めっきを施し、この後、マスキング剤を素材の表面から除去することにより、素材の表面に金属めっきを部分的に施す部分めっき方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, after partially applying a liquid masking agent to the surface of the material, metal plating is applied to the non-application portion of the masking agent in the surface of the material, and then the masking agent is removed from the surface of the material, A partial plating method in which metal plating is partially performed on the surface of a material is known (for example, see Patent Document 1).

特開2003−183877号公報JP 2003-183877 A

しかし、特許文献1に示されている従来の部分めっき方法では、素材の表面に液状のマスキング剤を塗布すると、マスキング剤の重量及び素材の濡れ性により、素材の表面のうち、マスキングを塗布してはいけない部分にまでマスキング剤が広がりやすくなってしまう。例えば、メッシュ材の上面にマスキング剤を塗布し、メッシュ材の下面に金属めっきを施す場合、マスキング剤をメッシュ材の上面に塗布すると、マスキング剤がメッシュ材の各孔を通ってメッシュ材の下面にまで及んでしまい、メッシュ材の下面全体に金属めっきを施すことができなくなってしまう。従って、金属めっきをメッシュ材の必要な部分に正確に施すことが難しくなってしまい、金属めっきの使用量が余分にかかってコストが増大してしまうという問題があった。   However, in the conventional partial plating method disclosed in Patent Document 1, when a liquid masking agent is applied to the surface of the material, masking is applied to the surface of the material due to the weight of the masking agent and the wettability of the material. The masking agent tends to spread to parts that should not be applied. For example, when a masking agent is applied to the upper surface of the mesh material and metal plating is applied to the lower surface of the mesh material, if the masking agent is applied to the upper surface of the mesh material, the masking agent passes through each hole of the mesh material and the lower surface of the mesh material. The metal plating cannot be applied to the entire lower surface of the mesh material. Therefore, it is difficult to accurately apply metal plating to a necessary portion of the mesh material, and there is a problem that the amount of metal plating used is excessive and the cost is increased.

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、めっき膜を構成する金属の使用量を減らしてコストの低減化を図ることができる金属メッシュ、金属メッシュの製造方法、除湿素子、及び除湿素子の製造方法を得ることを目的とする。   This invention was made in order to solve the problems as described above, a metal mesh capable of reducing the amount of metal constituting the plating film and reducing the cost, a method for producing the metal mesh, It aims at obtaining the dehumidification element and the manufacturing method of a dehumidification element.

この発明による金属メッシュは、金属で構成されたメッシュ材、メッシュ材を被覆し、メッシュ材を構成する金属が酸化してできた酸化膜、及び酸化膜を避けてメッシュ材を被覆し、メッシュ材を構成する金属と異なる金属で構成されためっき膜を備え、メッシュ材の厚さ方向について、メッシュ材の一方の側から見えるメッシュ材の面を第1面とし、メッシュ材の他方の側から見えるメッシュ材の面を第2面とすると、酸化膜は、第1面を被覆し、めっき膜は、第2面を被覆している。   The metal mesh according to the present invention comprises a mesh material composed of metal, an oxide film formed by oxidizing the metal constituting the mesh material, and the mesh material covered with the oxide film while avoiding the oxide film. And a plating film made of a metal different from the metal constituting the mesh material, and in the thickness direction of the mesh material, the surface of the mesh material visible from one side of the mesh material is the first surface, and is visible from the other side of the mesh material When the surface of the mesh material is the second surface, the oxide film covers the first surface, and the plating film covers the second surface.

この発明による金属メッシュによれば、複数の孔が形成されたメッシュ材であっても、酸化膜が外面全体に形成されたメッシュ材9に対するブラスト処理により、メッシュ材の外面に酸化膜を選択的に形成することができる。これにより、メッシュ材の必要な部分にめっき膜を容易にかつより正確に形成することができ、めっき膜を構成する金属の使用量を減らしてコストの低減化を図ることができる。   According to the metal mesh of the present invention, even in a mesh material in which a plurality of holes are formed, the oxide film is selectively applied to the outer surface of the mesh material by blasting the mesh material 9 in which the oxide film is formed on the entire outer surface. Can be formed. As a result, the plating film can be easily and more accurately formed on the necessary portion of the mesh material, and the amount of metal used to form the plating film can be reduced to reduce the cost.

この発明の実施の形態1による除湿素子を示す模式的な構成図である。It is a typical block diagram which shows the dehumidification element by Embodiment 1 of this invention. 図1の陽極電極を示す正面図である。It is a front view which shows the anode electrode of FIG. 図1の除湿素子の除湿動作を説明する模式的な構成図である。It is a typical block diagram explaining the dehumidification operation | movement of the dehumidification element of FIG. 図3の陽極電極側での電子eの挙動を示す模式的な構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing the behavior of electrons e on the anode electrode side in FIG. 3. 図1の除湿素子を製造するときの手順を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the procedure at the time of manufacturing the dehumidification element of FIG. 図1の陰極電極、陰極側触媒層、電解質膜及び陽極電極の積層順を示す模式的な構成図である。It is a typical block diagram which shows the lamination | stacking order of the cathode electrode of FIG. 1, a cathode side catalyst layer, an electrolyte membrane, and an anode electrode. この発明の実施の形態2による除湿素子を製造するときの手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure at the time of manufacturing the dehumidification element by Embodiment 2 of this invention. この発明の実施の形態3による金属メッシュからめっき膜をなくしたメッシュ材を示す正面図である。It is a front view which shows the mesh material which eliminated the plating film from the metal mesh by Embodiment 3 of this invention. この発明の実施の形態3による除湿素子を製造するときの手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure at the time of manufacturing the dehumidification element by Embodiment 3 of this invention. 図9のブラスト処理工程で用いられるマスキング板を示す正面図である。It is a front view which shows the masking board used at the blasting process of FIG. 酸化膜が形成されたメッシュ材に図10のマスキング板を重ねた状態で開口部を通して噴射流をメッシュ材に噴射している状態を示す模式的な拡大図である。FIG. 11 is a schematic enlarged view showing a state in which an injection flow is injected to the mesh material through the opening in a state where the masking plate of FIG. 10 is overlapped on the mesh material on which the oxide film is formed. この発明の実施の形態4による除湿素子を示す模式的な構成図である。It is a typical block diagram which shows the dehumidification element by Embodiment 4 of this invention. 図12の陽極電極を得るための金属メッシュからめっき膜をなくしたメッシュ材を示す正面図である。It is a front view which shows the mesh material which eliminated the plating film from the metal mesh for obtaining the anode electrode of FIG. 図13の接続用領域でのメッシュ材を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the mesh material in the area | region for a connection of FIG. 図13の非接続用領域でのメッシュ材を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the mesh material in the area | region for non-connection of FIG. 図12の除湿素子を製造するときの手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure at the time of manufacturing the dehumidification element of FIG. 図16の第1回〜第3回のマスキング処理工程でそれぞれ用いられる複数のマスキング板を並べて示す正面図である。FIG. 17 is a front view illustrating a plurality of masking plates that are used in the first to third masking process steps of FIG. 16 side by side. 実施例1でのブラスト処理工程で使用した湿式ブラスト装置を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a wet blasting apparatus used in a blasting process in Example 1. FIG. 実施例1〜4及び比較例1のそれぞれにおける平均膜厚及びめっき効率を示す表である。It is a table | surface which shows the average film thickness and plating efficiency in each of Examples 1-4 and Comparative Example 1.

以下、この発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1による除湿素子を示す模式的な構成図である。除湿素子1は、水の電気分解反応を利用して空気中の水分を除去する素子である。除湿素子1は、例えば筐体にレンズが組み込まれた光学機器等に適用される。光学機器の具体例としては、屋外設置用の監視カメラ等が挙げられる。除湿素子1が光学機器に適用されると、光学機器の筐体内の除湿が除湿素子1によって行われ、光学機器のレンズの曇りが防止される。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
Embodiment 1 FIG.
1 is a schematic configuration diagram showing a dehumidifying element according to Embodiment 1 of the present invention. The dehumidifying element 1 is an element that removes moisture in the air using an electrolysis reaction of water. The dehumidifying element 1 is applied to, for example, an optical device in which a lens is incorporated in a housing. As a specific example of the optical device, there is a surveillance camera for outdoor installation. When the dehumidifying element 1 is applied to an optical device, the dehumidifying element 1 performs dehumidification in the housing of the optical device, thereby preventing fogging of the lens of the optical device.

除湿素子1は、固体高分子電解質膜(以下、単に「電解質膜」という)2と、電解質膜2の一方の面に設けられた多孔質電極である陰極電極3と、電解質膜2と陰極電極3との間に介在する陰極側触媒層4と、電解質膜2の他方の面に設けられた多孔質電極である陽極電極5と、陽極電極5に接触して電解質膜2の他方の面に設けられた陽極側触媒層6とを有している。除湿素子1は、除湿対象である筐体内の空気(即ち、閉空間に存在する空気)に少なくとも陽極側触媒層6を露出させて設置される。   The dehumidifying element 1 includes a solid polymer electrolyte membrane (hereinafter simply referred to as “electrolyte membrane”) 2, a cathode electrode 3 that is a porous electrode provided on one surface of the electrolyte membrane 2, an electrolyte membrane 2, and a cathode electrode 3 on the other side of the electrolyte membrane 2 in contact with the anode electrode 5 and the anode electrode 5 which is a porous electrode provided on the other surface of the electrolyte membrane 2. The anode side catalyst layer 6 is provided. The dehumidifying element 1 is installed with at least the anode-side catalyst layer 6 exposed to air in a casing that is a dehumidifying target (that is, air existing in a closed space).

除湿素子1では、陰極電極3及び陽極電極5間に直流電源7が導線8を介して接続される。直流電源7が陰極電極3及び陽極電極5間に接続されると、式(1)で示される水の電気分解反応が陽極側触媒層6で起こり、式(2)で示される水の生成反応が陰極側触媒層4で起こる。   In the dehumidifying element 1, a DC power source 7 is connected between the cathode electrode 3 and the anode electrode 5 via a conducting wire 8. When the DC power source 7 is connected between the cathode electrode 3 and the anode electrode 5, the water electrolysis reaction represented by the formula (1) occurs in the anode side catalyst layer 6 and the water generation reaction represented by the formula (2). Occurs in the cathode-side catalyst layer 4.

2HO→O+4H+4e…(1)
+4H+4e→2HO…(2)
2H 2 O → O 2 + 4H + + 4e (1)
O 2 + 4H + + 4e → 2H 2 O (2)

除湿素子1は、式(1)の反応によって陽極電極5側で空気中の水を分解し、式(2)の反応によって陰極電極3側で水を生成することにより、例えば筐体内等に存在する空気中の水を除去して空気の除湿を行う。   The dehumidifying element 1 is present in, for example, a housing by decomposing water in the air on the anode electrode 5 side by the reaction of the formula (1) and generating water on the cathode electrode 3 side by the reaction of the formula (2). Remove the water in the air to dehumidify the air.

図2は、図1の陽極電極5を示す正面図である。陽極電極5には、金属メッシュが用いられている。金属メッシュは、複数本の素線51がメッシュ状に交差して組み合わさった形状を持つ多孔質体である。各素線51は、各素線51の交差部分で電気的に接続されている。金属メッシュには、各素線51で囲まれた複数の孔52が形成されている。各孔52は、金属メッシュの厚さ方向について金属メッシュを貫通している。   FIG. 2 is a front view showing the anode electrode 5 of FIG. A metal mesh is used for the anode electrode 5. The metal mesh is a porous body having a shape in which a plurality of strands 51 intersect and combine in a mesh shape. Each strand 51 is electrically connected at the intersection of each strand 51. A plurality of holes 52 surrounded by the respective strands 51 are formed in the metal mesh. Each hole 52 penetrates the metal mesh in the thickness direction of the metal mesh.

金属メッシュである陽極電極5は、図1に示すように、金属メッシュの一方の面を電解質膜2に接触させ、金属メッシュの他方の面を電解質膜2から露出させた状態で電解質膜2に設けられている。これにより、各素線51の断面では、各素線51の外周部の一部が電解質膜2に接触し、各素線51の外周部の残りの部分が電解質膜2から露出している。この例では、各素線51の一部が電解質膜2に埋まった状態で陽極電極5が電解質膜2に設けられている。   As shown in FIG. 1, the anode electrode 5 that is a metal mesh is formed on the electrolyte membrane 2 in a state where one surface of the metal mesh is in contact with the electrolyte membrane 2 and the other surface of the metal mesh is exposed from the electrolyte membrane 2. Is provided. Thereby, in the cross section of each strand 51, a part of the outer peripheral portion of each strand 51 is in contact with the electrolyte membrane 2, and the remaining portion of the outer peripheral portion of each strand 51 is exposed from the electrolyte membrane 2. In this example, the anode electrode 5 is provided on the electrolyte membrane 2 in a state where a part of each strand 51 is buried in the electrolyte membrane 2.

陽極側触媒層6は、陽極電極5側での式(1)の反応を促進する触媒層である。陰極側触媒層4は、陰極電極3側での式(2)の反応を促進する触媒層である。陽極側触媒層6は、電解質膜2からの陽極電極5(即ち、金属メッシュ)の露出面の少なくとも一部を覆っている。   The anode catalyst layer 6 is a catalyst layer that promotes the reaction of the formula (1) on the anode electrode 5 side. The cathode side catalyst layer 4 is a catalyst layer that promotes the reaction of the formula (2) on the cathode electrode 3 side. The anode side catalyst layer 6 covers at least a part of the exposed surface of the anode electrode 5 (ie, metal mesh) from the electrolyte membrane 2.

図3は、図1の除湿素子1の除湿動作を説明する模式的な構成図である。式(1)の電気分解反応により陽極側触媒層6で発生したe、H、Oのうち、電子eは、陽極側触媒層6を経由して陽極電極5へ移動する。陽極電極5に達した電子eは、金属メッシュの各素線51を通って導線8に達し、導線8及び直流電源7を通って陰極電極3へ移動する。 FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating a dehumidifying operation of the dehumidifying element 1 of FIG. Of e , H + and O 2 generated in the anode side catalyst layer 6 by the electrolysis reaction of the formula (1), electrons e move to the anode electrode 5 via the anode side catalyst layer 6. The electrons e − that have reached the anode electrode 5 reach the conductor 8 through the respective strands 51 of the metal mesh, and move to the cathode electrode 3 through the conductor 8 and the DC power source 7.

一方、陽極側触媒層6で発生したe、H、Oのうち、水素イオンHは、陽極側触媒層6を経由して陽極電極5の孔52を通過した後、電解質膜2を通って陰極側触媒層4に達する。陰極側触媒層4では、陽極電極5から導線8を通って陰極電極3に達した電子eと、電解質膜2を通って陰極側触媒層4に達した水素イオンHと、空気中の酸素Oとによって、式(2)の反応が起こり、水が生成される。このようにして、除湿素子1の除湿動作が継続される。 On the other hand, among e , H + , and O 2 generated in the anode side catalyst layer 6, hydrogen ions H + pass through the holes 52 of the anode electrode 5 through the anode side catalyst layer 6, and then the electrolyte membrane 2. It passes through and reaches the cathode side catalyst layer 4. In the cathode side catalyst layer 4, electrons e that have reached the cathode electrode 3 through the conductor 8 from the anode electrode 5, hydrogen ions H + that have reached the cathode side catalyst layer 4 through the electrolyte membrane 2, and in the air The reaction of formula (2) occurs with oxygen O 2 to produce water. In this way, the dehumidifying operation of the dehumidifying element 1 is continued.

図4は、図3の陽極電極5側での電子eの挙動を示す模式的な構成図である。式(1)の反応により陽極側触媒層6で発生した電子eは、陽極側触媒層6と陽極電極5との境界を通って陽極側触媒層6から陽極電極5へ移動する。従って、電子eの移動経路として機能するのは、陽極電極5の外面のうち、陽極電極5の陽極側触媒層6と接触する部分のみである。 FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing the behavior of electrons e on the anode electrode 5 side in FIG. 3. Electrons e generated in the anode side catalyst layer 6 by the reaction of the formula (1) move from the anode side catalyst layer 6 to the anode electrode 5 through the boundary between the anode side catalyst layer 6 and the anode electrode 5. Accordingly, only the portion of the outer surface of the anode electrode 5 that contacts the anode-side catalyst layer 6 functions as the electron e movement path.

陽極電極5である金属メッシュは、図1に示すように、金属で構成されたメッシュ材9と、メッシュ材9を被覆する酸化膜10と、酸化膜10を避けてメッシュ材9を被覆するめっき膜11とを有している。陽極電極5では、めっき膜11がメッシュ材9を被覆することによって、陽極電極5の外面のうち、陽極側触媒層6と接触する部分の耐腐食性が他の部分よりも高められている。   As shown in FIG. 1, the metal mesh that is the anode electrode 5 includes a mesh material 9 made of metal, an oxide film 10 that covers the mesh material 9, and plating that covers the mesh material 9 while avoiding the oxide film 10. And a film 11. In the anode electrode 5, the plating film 11 covers the mesh material 9, so that the corrosion resistance of the portion of the outer surface of the anode electrode 5 that comes into contact with the anode-side catalyst layer 6 is higher than that of other portions.

メッシュ材9を構成する金属は、導電性を持つ金属である。メッシュ材9を構成する金属としては、例えばチタンTi、アルミニウムAl、鉄Fe等が挙げられるが、この例では、メッシュ材9を構成する金属としてチタンTiを用いている。メッシュ材9の形状は、複数本の金属細線をメッシュ状に交差して組み合わさった形状になっている。これにより、メッシュ材9には、メッシュ材9の厚さ方向についてメッシュ材9を貫通する複数の孔が形成されている。   The metal composing the mesh material 9 is a conductive metal. Examples of the metal constituting the mesh material 9 include titanium Ti, aluminum Al, and iron Fe. In this example, titanium Ti is used as the metal constituting the mesh material 9. The shape of the mesh material 9 is a shape in which a plurality of fine metal wires are combined in a mesh shape. Thereby, the mesh material 9 is formed with a plurality of holes penetrating the mesh material 9 in the thickness direction of the mesh material 9.

また、メッシュ材9の外面は、図1に示すように、酸化膜10で被覆された第1面91と、めっき膜11で被覆された第2面92とにより構成されている。第1面91と第2面92との位置関係は、メッシュ材9の厚さ方向について第2面92を正面から見たとき、第1面91がメッシュ材9自体に隠れて見えなくなる関係になっている。即ち、メッシュ材9の厚さ方向について、メッシュ材9の一方の側から見えるメッシュ材9の面が第1面91になり、メッシュ材9の他方の側から見えるメッシュ材9の面が第2面92になっている。メッシュ材9は、第1面91を電解質膜2に向けて配置されている。この例では、メッシュ材9の外面のうち、メッシュ材9の厚さ方向に垂直な電解質膜2側の面のみが第1面91になっており、各孔52の内面を含む他の面が第2面92になっている。   Further, as shown in FIG. 1, the outer surface of the mesh material 9 includes a first surface 91 covered with the oxide film 10 and a second surface 92 covered with the plating film 11. The positional relationship between the first surface 91 and the second surface 92 is such that when the second surface 92 is viewed from the front in the thickness direction of the mesh material 9, the first surface 91 is hidden behind the mesh material 9 itself and cannot be seen. It has become. That is, in the thickness direction of the mesh material 9, the surface of the mesh material 9 that can be seen from one side of the mesh material 9 is the first surface 91, and the surface of the mesh material 9 that is visible from the other side of the mesh material 9 is the second surface. A surface 92 is formed. The mesh material 9 is arranged with the first surface 91 facing the electrolyte membrane 2. In this example, of the outer surface of the mesh material 9, only the surface on the electrolyte membrane 2 side perpendicular to the thickness direction of the mesh material 9 is the first surface 91, and other surfaces including the inner surfaces of the holes 52 are A second surface 92 is formed.

第1面91を被覆している酸化膜10は、メッシュ材9を構成する金属が酸化してできた電気絶縁性能を持つ膜である。陽極電極5は、酸化膜10を電解質膜2に接触させた状態で電解質膜2に設けられている。   The oxide film 10 covering the first surface 91 is a film having an electrical insulation performance formed by oxidizing the metal constituting the mesh material 9. The anode electrode 5 is provided on the electrolyte membrane 2 in a state where the oxide film 10 is in contact with the electrolyte membrane 2.

第2面92を被覆しているめっき膜11は、メッシュ材9を構成する金属と異なる金属で構成された膜である。めっき膜11を構成する金属は、メッシュ材9を構成する金属よりも耐腐食性能の高い金属である。めっき膜11を構成する金属としては、貴金属、例えばプラチナPt、金Au、パラジウムPd等が挙げられるが、この例では、めっき膜11を構成する金属としてプラチナPtを用いている。陽極電極5の一部は、電解質膜2から露出している。陽極電極5の陽極側触媒層6と接触する面の耐腐食性能は、メッシュ材9の第2面92がめっき膜11で被覆されていることにより、陽極電極5の電解質膜2と接触する部分よりも高められている。   The plating film 11 covering the second surface 92 is a film made of a metal different from the metal constituting the mesh material 9. The metal constituting the plating film 11 is a metal having higher corrosion resistance than the metal constituting the mesh material 9. Examples of the metal constituting the plating film 11 include noble metals such as platinum Pt, gold Au, and palladium Pd. In this example, platinum Pt is used as the metal constituting the plating film 11. A part of the anode electrode 5 is exposed from the electrolyte membrane 2. The anticorrosion performance of the surface of the anode electrode 5 that contacts the anode catalyst layer 6 is that the second surface 92 of the mesh material 9 is covered with the plating film 11 so that the portion of the anode electrode 5 that contacts the electrolyte membrane 2 Is higher than.

次に、除湿素子1の製造方法について説明する。図5は、図1の除湿素子1を製造するときの手順を説明するフローチャートである。除湿素子1を製造するときには、陽極電極5として用いられる金属メッシュを予め製造しておくので、まず陽極電極5として用いられる金属メッシュの製造方法について説明した後、除湿素子1の製造方法について説明する。金属メッシュの製造方法は、図5に示すように、熱処理工程、脱脂工程、ブラスト処理工程、超音波洗浄工程、酸処理工程、めっき工程を含んでいる。   Next, a method for manufacturing the dehumidifying element 1 will be described. FIG. 5 is a flowchart for explaining the procedure for manufacturing the dehumidifying element 1 of FIG. Since the metal mesh used as the anode electrode 5 is manufactured in advance when the dehumidifying element 1 is manufactured, the manufacturing method of the metal mesh used as the anode electrode 5 is first described, and then the manufacturing method of the dehumidifying element 1 is described. . As shown in FIG. 5, the metal mesh manufacturing method includes a heat treatment step, a degreasing step, a blasting step, an ultrasonic cleaning step, an acid treatment step, and a plating step.

(熱処理工程)
金属メッシュを製造するときには、まず、複数本の金属細線がメッシュ状に交差して組み合わさった形状のメッシュ材9を大気雰囲気中で加熱する。これにより、メッシュ材9の外面全体を被覆する酸化膜10がメッシュ材9に形成される。例えば、メッシュ材9に対して700℃で2時間の加熱処理を行うことにより、酸化膜10の厚さを1μm程度にまで成長させることができる。
(Heat treatment process)
When manufacturing a metal mesh, first, a mesh material 9 having a shape in which a plurality of fine metal wires intersect and combine in a mesh shape is heated in an air atmosphere. As a result, an oxide film 10 covering the entire outer surface of the mesh material 9 is formed on the mesh material 9. For example, the thickness of the oxide film 10 can be grown to about 1 μm by performing heat treatment on the mesh material 9 at 700 ° C. for 2 hours.

(脱脂工程)
この後、メッシュ材9の外面全体を被覆する酸化膜10の表面に付着した汚れ(即ち、無機異物及び有機異物)を、脱脂液を用いて取り除く。このとき、メッシュ材9に酸化膜10が形成されていことから、電解脱脂法を用いず、浸漬脱脂法により酸化膜10から汚れを洗浄除去する。脱脂液としては、例えば0.5〜1wt%のオルトケイ酸ナトリウム、0.5wt%の炭酸ナトリウム、5wt%の水酸化ナトリウム等を含んだ公知の脱脂液を用いることができる。なお、「wt%」は、調整した混合液全体に対する重量割合である。脱脂の条件としての温度及び浸漬時間は、酸化膜10の表面の適正な清浄度を得るために適宜設定することができる。例えば、脱脂液の温度を80℃、浸漬時間を5分とした浸漬脱脂を行うことで、酸化膜10の表面の油分等の汚れを取り除くことができる。
(Degreasing process)
Thereafter, dirt (that is, inorganic foreign matter and organic foreign matter) adhering to the surface of the oxide film 10 covering the entire outer surface of the mesh material 9 is removed using a degreasing liquid. At this time, since the oxide film 10 is formed on the mesh material 9, the dirt is cleaned and removed from the oxide film 10 by the immersion degreasing method without using the electrolytic degreasing method. As the degreasing liquid, for example, a known degreasing liquid containing 0.5 to 1 wt% sodium orthosilicate, 0.5 wt% sodium carbonate, 5 wt% sodium hydroxide, or the like can be used. In addition, “wt%” is a weight ratio with respect to the adjusted mixed liquid as a whole. The temperature and the immersion time as the degreasing conditions can be set as appropriate in order to obtain an appropriate cleanliness of the surface of the oxide film 10. For example, dirt such as oil on the surface of the oxide film 10 can be removed by performing immersion degreasing with the temperature of the degreasing liquid being 80 ° C. and the immersion time being 5 minutes.

(ブラスト処理工程)
この後、メッシュ材9の外面全体を被覆する酸化膜10の一部を湿式ブラストによりメッシュ材9から除去する。湿式ブラストでは、酸化膜10で被覆されたメッシュ材9を固定具で固定し、砥粒(研磨剤)及び水を混合してできたスラリを噴射流としてノズルからメッシュ材9に噴射することにより、酸化膜10の一部を除去する。砥粒としては公知の砥粒が用いられる。例えば、粒径が20μmの多角形状のアルミナ粒子を砥粒として用い、砥粒を純水で10vol%に希釈した混合液をスラリとして用いる。
(Blasting process)
Thereafter, a part of the oxide film 10 covering the entire outer surface of the mesh material 9 is removed from the mesh material 9 by wet blasting. In wet blasting, the mesh material 9 covered with the oxide film 10 is fixed by a fixture, and a slurry formed by mixing abrasive grains (abrasive) and water is sprayed from the nozzle onto the mesh material 9 as a jet stream. Then, a part of the oxide film 10 is removed. Known abrasive grains are used as the abrasive grains. For example, polygonal alumina particles having a particle diameter of 20 μm are used as abrasive grains, and a mixed solution obtained by diluting abrasive grains to 10 vol% with pure water is used as a slurry.

この例では、メッシュ材9の厚さ方向についてメッシュ材9の一方の側からスラリをメッシュ材9に噴射することにより、メッシュ材9の一方の側から見えるすべての領域に形成されている酸化膜10を除去する。これにより、メッシュ材9の一方の側から見えないメッシュ材9の裏側の領域に形成されている酸化膜10がメッシュ材9の外面に残される。メッシュ材9の外面のうち、湿式ブラストにより酸化膜10が除去されて露出した面が第2面92になり、湿式ブラストで除去されずに残された酸化膜10で被覆された面が第1面91になる。メッシュ材9の第2面92は、湿式ブラストで酸化膜10が除去された効果で第1面91よりも粗面化されている。   In this example, an oxide film formed in all regions visible from one side of the mesh material 9 by injecting slurry onto the mesh material 9 from one side of the mesh material 9 in the thickness direction of the mesh material 9 10 is removed. As a result, the oxide film 10 formed in the region on the back side of the mesh material 9 that cannot be seen from one side of the mesh material 9 is left on the outer surface of the mesh material 9. Of the outer surface of the mesh material 9, the surface exposed by removing the oxide film 10 by wet blasting becomes the second surface 92, and the surface covered with the oxide film 10 remaining without being removed by wet blasting is the first surface. It becomes surface 91. The second surface 92 of the mesh material 9 is rougher than the first surface 91 due to the effect of removing the oxide film 10 by wet blasting.

(超音波洗浄工程)
メッシュ材9の表面には、ブラスト処理工程を行うと、ブラスト処理工程で生じた異物の一部(例えば、酸化膜10、メッシュ材9又は砥粒等の一部)が付着する。従って、ブラスト処理工程後には、ブラスト処理工程でメッシュ材9の表面に付着した異物をメッシュ材9の表面から超音波洗浄により取り除く。超音波を伝導する液体としては、例えばアセトン又はエタノール等の有機溶剤を用いることができる。例えば、超音波洗浄時の周波数を35kHzとし、25℃で5分間処理することにより、メッシュ材9の表面の付着物を取り除くことができる。
(Ultrasonic cleaning process)
When the blasting process is performed on the surface of the mesh material 9, a part of the foreign matter generated in the blasting process (for example, a part of the oxide film 10, the mesh material 9, or abrasive grains) adheres. Therefore, after the blasting process, the foreign matter adhering to the surface of the mesh material 9 in the blasting process is removed from the surface of the mesh material 9 by ultrasonic cleaning. As the liquid that conducts ultrasonic waves, for example, an organic solvent such as acetone or ethanol can be used. For example, by setting the frequency at the time of ultrasonic cleaning to 35 kHz and processing at 25 ° C. for 5 minutes, the deposits on the surface of the mesh material 9 can be removed.

(酸処理工程)
ブラスト処理工程後には、超音波洗浄工程の時間を含めて、酸化膜10を除去して露出したメッシュ材9の第2面92が大気に曝されるので、酸化膜10が除去された後のメッシュ材9の外面、即ち第2面92に酸化膜が再生成されてしまう。従って、超音波洗浄工程後には、メッシュ材9の外面の一部である第2面92から再生成酸化膜を酸洗浄液により取り除く。具体的には、再生成酸化膜が形成されたメッシュ材9を酸洗浄液に浸漬することにより生成性酸化膜をメッシュ材9の外面から取り除く。酸洗浄液としては、公知の酸洗浄液が用いられる。例えば、5wt%の酸性フッ化アンモニウム、1wt%の有機酸類、30wt%の塩酸等を含んだ酸洗浄液を用いることができる。本処理工程は、ブラスト処理工程後から本処理工程の開始までの間にメッシュ材9の外面に再生成した厚さ数nmの再生成酸化膜を取り除くために行う工程である。従って、めっき膜11による被覆を必要としないメッシュ材9の第1面91に形成されている酸化膜10を本処理工程で完全に除去してしまうことは回避されるべきである。このため、本処理工程での酸洗浄液に対するメッシュ材9の浸漬時間は、ごく短い時間(例えば、3秒〜10秒)にとどめる。
(Acid treatment process)
After the blasting process, the second surface 92 of the mesh material 9 exposed by removing the oxide film 10 including the time of the ultrasonic cleaning process is exposed to the atmosphere, so that after the oxide film 10 is removed An oxide film is regenerated on the outer surface of the mesh material 9, that is, the second surface 92. Therefore, after the ultrasonic cleaning process, the regenerated oxide film is removed from the second surface 92 which is a part of the outer surface of the mesh material 9 by the acid cleaning liquid. Specifically, the productive oxide film is removed from the outer surface of the mesh material 9 by immersing the mesh material 9 on which the regenerated oxide film is formed in an acid cleaning solution. A known acid cleaning liquid is used as the acid cleaning liquid. For example, an acid cleaning solution containing 5 wt% ammonium acid fluoride, 1 wt% organic acids, 30 wt% hydrochloric acid, or the like can be used. This treatment process is a process performed to remove the regenerated oxide film having a thickness of several nanometers regenerated on the outer surface of the mesh material 9 between the blast treatment process and the start of this treatment process. Therefore, it is to be avoided that the oxide film 10 formed on the first surface 91 of the mesh material 9 that does not require coating with the plating film 11 is completely removed in this processing step. For this reason, the immersion time of the mesh material 9 with respect to the acid cleaning liquid in this treatment step is limited to a very short time (for example, 3 seconds to 10 seconds).

(めっき工程)
この後、メッシュ材9をめっき液に浸漬して通電することにより、メッシュ材9の外面のうち、酸化膜が取り除かれた第2面91にめっき膜11を形成する。本工程では、例えば、10wt%の硫酸にPtとして3%の水溶性プラチナ塩を含んだめっき液を用いることができる。また、めっき条件としては、めっき膜11の必要な厚さに応じて適宜設定することができる。本工程では、電気絶縁性能を持つ酸化膜10にはめっき膜11が形成されず、メッシュ材9が露出する第2面92を選択してめっき膜11が形成される。このようにして、陽極電極5として用いられる金属メッシュが完成する。
(Plating process)
Thereafter, the plating material 11 is formed on the second surface 91 of the outer surface of the mesh material 9 from which the oxide film has been removed by immersing the mesh material 9 in the plating solution and energizing it. In this step, for example, a plating solution containing 3% water-soluble platinum salt as Pt in 10 wt% sulfuric acid can be used. The plating conditions can be appropriately set according to the required thickness of the plating film 11. In this step, the plating film 11 is not formed on the oxide film 10 having electrical insulation performance, and the plating film 11 is formed by selecting the second surface 92 from which the mesh material 9 is exposed. In this way, a metal mesh used as the anode electrode 5 is completed.

なお、上記の熱処理工程、脱脂工程、ブラスト処理工程、超音波洗浄工程、酸処理工程、めっき工程のそれぞれの工程間には、メッシュ材9を純水中で搖動させながら、メッシュ材9の表面に付着した処理液を洗い流す水洗処理が存在する。水洗処理は、前工程で用いた処理液を次工程に持ち込むことを防止するために行われる。水洗処理の処理温度は特に調整を要せず、室温と同程度でよい。また、水洗処理の処理時間は、メッシュ材9の水洗いと同時に水中でメッシュ材9の外面に酸化膜が再生成されるため、1分以内にすることが望ましい。   In addition, between each process of said heat processing process, a degreasing process, a blasting process, an ultrasonic cleaning process, an acid treatment process, and a plating process, while meshing the mesh material 9 in a pure water, the surface of the mesh material 9 There is a water washing process in which the treatment liquid adhering to the water is washed away. The washing process is performed in order to prevent the processing liquid used in the previous process from being brought into the next process. The treatment temperature for the water washing treatment is not particularly required and may be about the same as room temperature. Further, the treatment time of the water washing treatment is preferably within one minute because the oxide film is regenerated on the outer surface of the mesh material 9 in water simultaneously with the water washing of the mesh material 9.

次に、除湿素子1の製造方法について説明する。除湿素子1の製造方法は、プレス工程及び陽極側触媒層形成工程を含んでいる。除湿素子1を製造するときには、上記の方法で製造した金属メッシュを陽極電極5として予め用意しておく。   Next, a method for manufacturing the dehumidifying element 1 will be described. The manufacturing method of the dehumidifying element 1 includes a pressing step and an anode side catalyst layer forming step. When the dehumidifying element 1 is manufactured, the metal mesh manufactured by the above method is prepared in advance as the anode electrode 5.

(プレス工程)
図6は、図1の陰極電極3、陰極側触媒層4、電解質膜2及び陽極電極5の積層順を示す模式的な構成図である。除湿素子1を製造するときには、陰極電極3、陰極側触媒層4、電解質膜2及び陽極電極5の順に下から上に積層し、この状態で上下にホットプレスして積層体を得る。このとき、陽極電極5である金属メッシュは、酸化膜10を電解質膜2に接触させめっき膜11の少なくとも一部を電解質膜2から露出させた状態で電解質膜2に積層する。電解質膜2としては、例えばデュポン社製のナフィオン(登録商標)等が用いられる。また、陰極側触媒層4としては例えばプラチナPtの微粉末等が用いられ、陰極電極3としては例えばカーボンペーパ等が用いられる。ホットプレスの条件としては、例えば、温度を190℃、プレス加重を150kgf/cm、プレス保持時間を5分とする。
(Pressing process)
FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing the stacking order of the cathode electrode 3, the cathode side catalyst layer 4, the electrolyte membrane 2 and the anode electrode 5 of FIG. When the dehumidifying element 1 is manufactured, the cathode electrode 3, the cathode side catalyst layer 4, the electrolyte membrane 2 and the anode electrode 5 are laminated in this order from the bottom to the top, and in this state, the laminate is obtained by hot pressing up and down. At this time, the metal mesh that is the anode electrode 5 is laminated on the electrolyte membrane 2 in a state where the oxide film 10 is in contact with the electrolyte membrane 2 and at least a part of the plating film 11 is exposed from the electrolyte membrane 2. For example, Nafion (registered trademark) manufactured by DuPont is used as the electrolyte membrane 2. The cathode side catalyst layer 4 is made of, for example, platinum Pt fine powder, and the cathode electrode 3 is made of, for example, carbon paper. As conditions for hot pressing, for example, the temperature is 190 ° C., the press load is 150 kgf / cm 2 , and the press holding time is 5 minutes.

(陽極側触媒層形成工程)
プレス工程後、金属メッシュである陽極電極5の表面に触媒を塗布することにより、電解質膜2からの陽極電極5の露出面の少なくとも一部を覆う陽極側触媒層6を電解質膜2に設ける。これにより、陽極側触媒層6は、陽極電極5の酸化膜10及びめっき膜11のうち、めっき膜11にのみ接触した状態で電解質膜2に保持される。陽極側触媒層6を構成する触媒としては、例えばプラチナPtを担持したカーボン粉末等を用いることができる。また、触媒を塗布する方法としては、例えば陽極電極5の露出面からの陽極側触媒層6の厚さが30μmとなるように塗布ロボットを用いて陽極電極5の露出面に触媒を塗布する。このようにして、除湿素子1を製造する。
(Anode-side catalyst layer forming step)
After the pressing step, a catalyst is applied to the surface of the anode electrode 5 that is a metal mesh, thereby providing the electrolyte membrane 2 with an anode-side catalyst layer 6 that covers at least a part of the exposed surface of the anode electrode 5 from the electrolyte membrane 2. Thereby, the anode side catalyst layer 6 is held by the electrolyte membrane 2 in a state in which only the plating film 11 is in contact with the oxide film 10 and the plating film 11 of the anode electrode 5. As the catalyst constituting the anode catalyst layer 6, for example, carbon powder carrying platinum Pt can be used. As a method for applying the catalyst, for example, the catalyst is applied to the exposed surface of the anode electrode 5 using an application robot so that the thickness of the anode-side catalyst layer 6 from the exposed surface of the anode electrode 5 is 30 μm. In this way, the dehumidifying element 1 is manufactured.

除湿素子1は、要求される除湿能力に応じて必要な大きさに加工して、陰極電極3及び陽極電極5間に直流電源7を接続することにより、除湿器として除湿動作を行う。   The dehumidifying element 1 performs a dehumidifying operation as a dehumidifier by processing it to a required size according to the required dehumidifying capacity and connecting the DC power source 7 between the cathode electrode 3 and the anode electrode 5.

このような金属メッシュでは、メッシュ材9の厚さ方向について、メッシュ材9の一方の側から見えるメッシュ材9の面が第1面91とされ、メッシュ材9の他方の側から見えるメッシュ材9の面が第2面92とされており、メッシュ材9を構成する金属が酸化してできた酸化膜10がメッシュ材9の第1面91を被覆し、メッシュ材9を構成する金属と異なる金属で構成されためっき膜11がメッシュ材9の第2面92を被覆しているので、複数の孔が形成されたメッシュ材9であっても、電気絶縁性能を持つ酸化膜10をメッシュ材9の外面に選択的に形成して電気めっきを行うことにより、酸化膜10を避けてめっき膜11を形成することができる。また、メッシュ材9の外面に対する酸化膜10の選択的な形成も、酸化膜が外面全体に形成されたメッシュ材9に対するブラスト処理により容易にかつより正確に行うことができる。従って、メッシュ材9の必要な部分にめっき膜11を容易にかつより正確に形成することができ、めっき膜11を構成する金属の使用量を減らしてコストの低減化を図ることができる。   In such a metal mesh, in the thickness direction of the mesh material 9, the surface of the mesh material 9 that can be seen from one side of the mesh material 9 is a first surface 91, and the mesh material 9 that can be seen from the other side of the mesh material 9. This surface is the second surface 92, and the oxide film 10 formed by oxidizing the metal constituting the mesh material 9 covers the first surface 91 of the mesh material 9 and is different from the metal constituting the mesh material 9. Since the plating film 11 made of metal covers the second surface 92 of the mesh material 9, even if the mesh material 9 is formed with a plurality of holes, the oxide film 10 having electrical insulation performance is used as the mesh material. By selectively forming on the outer surface 9 and performing electroplating, the plating film 11 can be formed while avoiding the oxide film 10. Further, the selective formation of the oxide film 10 on the outer surface of the mesh material 9 can be easily and more accurately performed by blasting the mesh material 9 having the oxide film formed on the entire outer surface. Therefore, the plating film 11 can be easily and more accurately formed on a necessary portion of the mesh material 9, and the amount of metal used to form the plating film 11 can be reduced to reduce the cost.

また、このような除湿素子1では、金属メッシュの酸化膜10を電解質膜2に接触させることにより、金属メッシュを陽極電極5として用いることができる。これにより、陽極電極5の耐腐食性能が不要な領域でのめっき膜11の形成を容易に抑制することができ、耐腐食性能の高い高価な金属で構成されためっき膜11の使用量を減らすことができる。従って、コストの低減化を図ることができる。   In such a dehumidifying element 1, the metal mesh can be used as the anode electrode 5 by bringing the metal mesh oxide film 10 into contact with the electrolyte film 2. Thereby, formation of the plating film 11 in the area | region where the corrosion resistance performance of the anode electrode 5 is unnecessary can be suppressed easily, and the usage-amount of the plating film 11 comprised with the expensive metal with high corrosion resistance performance is reduced. be able to. Therefore, the cost can be reduced.

また、金属メッシュ及び除湿素子1の製造方法では、メッシュ材9を熱処理してメッシュ材9の外面に酸化膜を形成した後、メッシュ材9の外面に形成された酸化膜の一部を湿式ブラストにより除去し、酸化膜の除去によって露出したメッシュ材9の露出面にめっき膜11を形成するので、複数の孔が形成されたメッシュ材9であっても、めっき膜11が不要な領域に酸化膜10を湿式ブラストにより容易に形成することができ、メッシュ材9の外面に酸化膜10を避けてめっき膜11を形成することができる。これにより、メッシュ材9の外面の必要な部分にめっき膜11を容易にかつより正確に設けることができ、めっき膜11を構成する金属の使用量を減らしてコストの低減化を図ることができる。   In the method of manufacturing the metal mesh and dehumidifying element 1, the mesh material 9 is heat-treated to form an oxide film on the outer surface of the mesh material 9, and then a part of the oxide film formed on the outer surface of the mesh material 9 is wet-blasted. Since the plating film 11 is formed on the exposed surface of the mesh material 9 exposed by the removal of the oxide film, even if the mesh material 9 has a plurality of holes, the plating film 11 is oxidized to an unnecessary region. The film 10 can be easily formed by wet blasting, and the plating film 11 can be formed on the outer surface of the mesh material 9 while avoiding the oxide film 10. As a result, the plating film 11 can be easily and more accurately provided on a necessary portion of the outer surface of the mesh material 9, and the amount of metal constituting the plating film 11 can be reduced to reduce the cost. .

また、メッシュ材9の外面に形成された酸化膜の一部を湿式ブラストにより除去した後、メッシュ材9の露出面にめっき膜11を形成する前に、メッシュ材9の外面に付着した付着物を超音波洗浄により洗い流すとともに、メッシュ材9の外面に再生成した再生成酸化膜を酸処理により除去するので、湿式ブラストで酸化膜が除去されて露出したメッシュ材9の露出面を、めっき膜11が形成しやすい状態にすることができ、めっき膜11をより確実に形成させることができる。   Further, after a part of the oxide film formed on the outer surface of the mesh material 9 is removed by wet blasting and before the plating film 11 is formed on the exposed surface of the mesh material 9, deposits adhered to the outer surface of the mesh material 9 Since the regenerated oxide film regenerated on the outer surface of the mesh material 9 is removed by acid treatment, the exposed surface of the mesh material 9 exposed by removing the oxide film by wet blasting is applied to the plating film. 11 can be easily formed, and the plating film 11 can be more reliably formed.

実施の形態2.
図7は、この発明の実施の形態2による除湿素子1を製造するときの手順を示すフローチャートである。本実施の形態での除湿素子1の製造方法の手順は、実施の形態1での除湿素子1の製造方法において超音波洗浄工程と酸処理工程とをなくした手順になっている。即ち、除湿素子1の製造方法では、図7に示すように、熱処理工程、脱脂工程、ブラスト処理工程、めっき工程を含む金属メッシュの製造方法を行った後、プレス工程、陽極側触媒層形成工程を行う。
Embodiment 2. FIG.
FIG. 7 is a flowchart showing a procedure for manufacturing the dehumidifying element 1 according to the second embodiment of the present invention. The procedure of the manufacturing method of the dehumidifying element 1 in the present embodiment is a procedure in which the ultrasonic cleaning process and the acid treatment process are eliminated in the manufacturing method of the dehumidifying element 1 in the first embodiment. That is, in the manufacturing method of the dehumidifying element 1, as shown in FIG. 7, after performing the metal mesh manufacturing method including the heat treatment step, the degreasing step, the blasting step, and the plating step, the pressing step, the anode side catalyst layer forming step I do.

金属メッシュの製造方法では、ブラスト処理工程を行った後、そのままめっき工程を行う。この方法では超音波洗浄工程及び酸処理工程を行わないため、めっき工程では、ブラスト処理工程でメッシュ材9の外面に付着した異物(例えば、酸化膜、メッシュ材9の除去物又は砥粒等)がメッシュ材9の外面に残ったまま、メッシュ材9の露出面にめっき膜11が形成される。   In the manufacturing method of a metal mesh, after performing a blasting process, a plating process is performed as it is. In this method, since the ultrasonic cleaning process and the acid treatment process are not performed, in the plating process, foreign matter (for example, oxide film, removed material of the mesh material 9 or abrasive grains) adhered to the outer surface of the mesh material 9 in the blasting process. Is left on the outer surface of the mesh material 9, and the plating film 11 is formed on the exposed surface of the mesh material 9.

本実施の形態では、ブラスト処理工程後、そのままめっき工程を行うので、ブラスト処理工程でのスラリに含まれる砥粒の形状は、メッシュ材9の外面に残りにくい球状にするのが好ましい。また、ブラスト処理工程で用いられるスラリにおける砥粒の濃度は低くするのが好ましい。例えば、粒径が20μmの球状のアルミナ粒子を砥粒として用い、砥粒を水で3vol%に希釈した混合液をスラリとして用いる。金属メッシュ及び除湿素子1の製造方法における他の工程は、実施の形態1と同様である。   In the present embodiment, since the plating process is performed as it is after the blasting process, the shape of the abrasive grains contained in the slurry in the blasting process is preferably a sphere that is unlikely to remain on the outer surface of the mesh material 9. Moreover, it is preferable to make the density | concentration of the abrasive grain in the slurry used at a blasting process low. For example, spherical alumina particles having a particle diameter of 20 μm are used as abrasive grains, and a mixed solution obtained by diluting the abrasive grains with water to 3 vol% is used as a slurry. Other steps in the method of manufacturing the metal mesh and the dehumidifying element 1 are the same as those in the first embodiment.

このような金属メッシュ及び除湿素子1の製造方法では、超音波洗浄工程及び酸処理工程が省略されて、ブラスト処理工程後、そのままめっき工程を行うので、工程数を減らすことができ、金属メッシュ及び除湿素子1の生産性の向上を図ることができる。   In such a manufacturing method of the metal mesh and the dehumidifying element 1, the ultrasonic cleaning step and the acid treatment step are omitted, and the plating step is performed as it is after the blast treatment step, so that the number of steps can be reduced, The productivity of the dehumidifying element 1 can be improved.

実施の形態3.
金属メッシュを特定の領域で打ち抜いて除湿素子の陽極電極を得る場合、特定の領域以外の金属メッシュの部分は、めっき膜の形成が不要な部分である。本実施の形態では、金属メッシュのうち、陽極電極になる特定の領域にのみめっき膜が形成されている。
Embodiment 3 FIG.
When the metal mesh is punched in a specific region to obtain the anode electrode of the dehumidifying element, the metal mesh portion other than the specific region is a portion that does not require formation of a plating film. In the present embodiment, the plating film is formed only in a specific region of the metal mesh that becomes the anode electrode.

図8は、この発明の実施の形態3による金属メッシュからめっき膜をなくしたメッシュ材9を示す正面図である。図8では、メッシュ材9の外側からメッシュ材9の厚さ方向に沿って第2面92を見たときのメッシュ材9が示されている。金属メッシュのうち、除湿素子1の陽極電極5として使用する部分は、図8での複数の領域21内の部分のみである。この例では、各領域21の形状が円形とされている。   FIG. 8 is a front view showing a mesh material 9 obtained by removing the plating film from the metal mesh according to the third embodiment of the present invention. FIG. 8 shows the mesh material 9 when the second surface 92 is viewed from the outside of the mesh material 9 along the thickness direction of the mesh material 9. Of the metal mesh, the portion used as the anode electrode 5 of the dehumidifying element 1 is only the portion in the plurality of regions 21 in FIG. In this example, the shape of each region 21 is circular.

メッシュ材9の第2面92は、陽極電極5に使用される各領域21であるめっき領域と、各領域21以外の領域22である非めっき領域とに分けられている。酸化膜10は、メッシュ材9の第1面91と非めっき領域22とを被覆している。めっき膜11は、メッシュ材9のめっき領域21を被覆している。他の構成は実施の形態1と同様である。   The second surface 92 of the mesh material 9 is divided into a plating region that is each region 21 used for the anode electrode 5 and a non-plating region that is a region 22 other than each region 21. The oxide film 10 covers the first surface 91 of the mesh material 9 and the non-plating region 22. The plating film 11 covers the plating region 21 of the mesh material 9. Other configurations are the same as those in the first embodiment.

次に、除湿素子1の製造方法について説明する。図9は、この発明の実施の形態3による除湿素子を製造するときの手順を示すフローチャートである。除湿素子1の製造方法では、熱処理工程、脱脂工程、ブラスト処理工程、超音波洗浄工程、酸処理工程、めっき工程を含む金属メッシュの製造方法を行った後、打ち抜き工程により陽極電極5を得て、プレス工程、陽極側触媒層形成工程を順次行う。   Next, a method for manufacturing the dehumidifying element 1 will be described. FIG. 9 is a flowchart showing a procedure for manufacturing a dehumidifying element according to Embodiment 3 of the present invention. In the manufacturing method of the dehumidifying element 1, after performing the manufacturing method of the metal mesh including a heat treatment process, a degreasing process, a blasting process, an ultrasonic cleaning process, an acid treatment process, and a plating process, an anode electrode 5 is obtained by a punching process. Then, the pressing step and the anode side catalyst layer forming step are sequentially performed.

金属メッシュを製造するときには、実施の形態1と同様の熱処理工程及び脱脂工程を行った後、ブラスト処理工程を行う。ブラスト処理工程は、複数の開口部が設けられたマスキング板を用いるマスキング処理工程を含んでいる。   When manufacturing a metal mesh, after performing the heat treatment process and the degreasing process similar to Embodiment 1, the blasting process is performed. The blasting process includes a masking process using a masking plate provided with a plurality of openings.

図10は、図9のブラスト処理工程で用いられるマスキング板を示す正面図である。マスキング板23には、めっき膜11の形成を必要とする各めっき領域21に合わせた複数の開口部24が設けられている。従って、この例では、開口部24の形状が円形になっている。   FIG. 10 is a front view showing a masking plate used in the blasting process of FIG. The masking plate 23 is provided with a plurality of openings 24 corresponding to the plating regions 21 where the plating film 11 needs to be formed. Therefore, in this example, the shape of the opening 24 is circular.

ブラスト処理工程では、マスキング板23をメッシュ材9に重ねた状態でメッシュ材9及びマスキング板23をブラスト装置内に固定する。マスキング板23としては、例えば、複数の円形の開口部24が設けられた縦120mm、横120mm、厚さ0.3mmの正方形状の銅Cu製の金属板が用いられる。厚さ以外のマスキング板23の寸法はメッシュ材9の寸法と同等となるようにし、マスキング板23の端部とメッシュ材9の端部とが揃うようにメッシュ材9にマスキング板23を重ねる。   In the blasting process, the mesh material 9 and the masking plate 23 are fixed in the blasting apparatus in a state where the masking plate 23 is superimposed on the mesh material 9. As the masking plate 23, for example, a square-shaped copper Cu metal plate having a plurality of circular openings 24 and having a length of 120 mm, a width of 120 mm, and a thickness of 0.3 mm is used. The dimensions of the masking plate 23 other than the thickness are made equal to the dimensions of the mesh material 9, and the masking plate 23 is overlaid on the mesh material 9 so that the end of the masking plate 23 and the end of the mesh material 9 are aligned.

ブラスト処理工程では、メッシュ材9の第2面92側にマスキング板23を重ねた状態で、実施の形態1と同様のスラリをノズルから噴射流として各開口部24を通してメッシュ材9に噴射することにより、酸化膜10の一部をメッシュ材9から除去する。これにより、各めっき領域21では酸化膜が除去されてメッシュ材9が露出し、非めっき領域22では酸化膜がメッシュ材9を被覆したまま残る。   In the blasting process, the same slurry as in the first embodiment is sprayed from the nozzles through the openings 24 to the mesh material 9 with the masking plate 23 superimposed on the second surface 92 side of the mesh material 9. Thus, part of the oxide film 10 is removed from the mesh material 9. As a result, the oxide film is removed in each plating region 21 to expose the mesh material 9, and the oxide film remains covered with the mesh material 9 in the non-plating region 22.

なお、ブラスト処理工程では、砥粒を含むスラリが噴射流としてマスキング板23にも噴射されるので、噴射流よってマスキング板23から生じた微小片がメッシュ材9の外面に付着するが、ブラスト処理工程後の超音波洗浄工程及び酸処理工程によって付着物が取り除かれるため問題とはならない。   In the blasting process, since the slurry containing the abrasive grains is also jetted as a jet flow onto the masking plate 23, the fine pieces generated from the masking plate 23 by the jet flow adhere to the outer surface of the mesh material 9. Since deposits are removed by the ultrasonic cleaning process and the acid treatment process after the process, there is no problem.

ここで、図11は、酸化膜10が形成されたメッシュ材9に図10のマスキング板23を重ねた状態で開口部24を通して噴射流をメッシュ材9に噴射している状態を示す模式的な拡大図である。噴射流25の方向がマスキング板23の厚さ方向と平行ではない場合、図11に示すように、開口部24の内周部に位置する酸化膜10の部分は除去されずにメッシュ材9の外面に残ってしまう。従って、めっき膜の形成が必要なめっき領域21をより確実に確保するためには、開口部24の大きさをめっき領域21よりも大きくすることが好ましい。   Here, FIG. 11 is a schematic diagram showing a state in which a jet flow is jetted to the mesh material 9 through the opening 24 in a state where the masking plate 23 of FIG. 10 is superimposed on the mesh material 9 on which the oxide film 10 is formed. It is an enlarged view. When the direction of the jet flow 25 is not parallel to the thickness direction of the masking plate 23, the portion of the oxide film 10 located on the inner peripheral portion of the opening 24 is not removed as shown in FIG. It will remain on the outside. Therefore, in order to more reliably secure the plating region 21 where the plating film needs to be formed, it is preferable to make the size of the opening 24 larger than the plating region 21.

この後、実施の形態1と同様の超音波洗浄工程、酸処理工程、めっき工程を行うことにより、メッシュ材9の外面のうち、第2面92の各めっき領域21にめっき膜11が形成され、第2面92の非めっき領域22と第1面91とに酸化膜10が形成された金属メッシュが得られる。   Thereafter, by performing the same ultrasonic cleaning process, acid treatment process and plating process as in the first embodiment, the plating film 11 is formed in each plating region 21 of the second surface 92 of the outer surface of the mesh material 9. Thus, a metal mesh in which the oxide film 10 is formed on the non-plated region 22 and the first surface 91 of the second surface 92 is obtained.

この後、金属メッシュの各めっき領域21を打ち抜くことにより、複数の陽極電極5が得られる(打ち抜き工程)。   Thereafter, a plurality of anode electrodes 5 are obtained by punching each plating region 21 of the metal mesh (punching step).

この後、実施の形態1と同様に、陰極電極3、陰極側触媒層4、電解質膜2、及び金属メッシュから得られた陽極電極5の順に積層し、この状態でホットプレスして積層体を得る。このとき、陽極電極5は、酸化膜10を電解質膜2に接触させめっき膜11の少なくとも一部を電解質膜2から露出させた状態で電解質膜2に重ねる(プレス工程)。   Thereafter, in the same manner as in the first embodiment, the cathode electrode 3, the cathode side catalyst layer 4, the electrolyte membrane 2, and the anode electrode 5 obtained from the metal mesh are laminated in this order, and hot pressing is performed in this state to form the laminated body. obtain. At this time, the anode electrode 5 is overlaid on the electrolyte membrane 2 in a state where the oxide film 10 is in contact with the electrolyte membrane 2 and at least a part of the plating film 11 is exposed from the electrolyte membrane 2 (pressing process).

この後、実施の形態1と同様の陽極側触媒層形成工程を行うことにより、除湿素子1を製造する。金属メッシュ及び除湿素子1の製造方法における他の工程は、実施の形態1と同様である。   Then, the dehumidification element 1 is manufactured by performing the anode side catalyst layer formation process similar to Embodiment 1. FIG. Other steps in the method of manufacturing the metal mesh and the dehumidifying element 1 are the same as those in the first embodiment.

このような金属メッシュでは、メッシュ材9の第2面92がめっき領域21と非めっき領域22とに分かれており、酸化膜10が第1面91と非めっき領域22とを被覆し、めっき膜11がめっき領域21を被覆しているので、必要な領域に合わせてめっき膜11を形成することができ、めっき膜11を構成する金属の使用量をさらに減らすことができる。これにより、コストの低減化をさらに図ることができる。   In such a metal mesh, the second surface 92 of the mesh material 9 is divided into the plating region 21 and the non-plating region 22, and the oxide film 10 covers the first surface 91 and the non-plating region 22. Since 11 covers the plating region 21, the plating film 11 can be formed in accordance with a necessary region, and the amount of the metal constituting the plating film 11 can be further reduced. Thereby, cost can be further reduced.

また、このような金属メッシュの製造方法では、開口部24が設けられたマスキング板23をメッシュ材9に重ねた状態でスラリを噴射流としてメッシュ材9に開口部24を通して噴射するマスキング処理工程がブラスト処理工程に含まれているので、第2面92におけるめっき領域21及び非めっき領域22のうちめっき領域21でのみ酸化膜10を除去することができる。これにより、メッシュ材9の第2面92のめっき領域21にのみめっき膜11をより確実に形成することができる。   Further, in such a metal mesh manufacturing method, there is a masking process step in which the masking plate 23 provided with the opening 24 is overlapped on the mesh material 9 and the slurry is jetted into the mesh material 9 through the opening 24 as an injection flow. Since it is included in the blasting process, the oxide film 10 can be removed only in the plating region 21 of the plating region 21 and the non-plating region 22 on the second surface 92. Thereby, the plating film 11 can be more reliably formed only in the plating region 21 of the second surface 92 of the mesh material 9.

このような除湿素子1の製造方法では、第2面92のめっき領域21及び非めっき領域22のうちめっき領域21をめっき膜11が被覆している金属メッシュを製造し、めっき領域21で金属メッシュを打ち抜くことにより陽極電極5を得ているので、例えば除湿素子1の形状等の必要な形状に合わせて陽極電極5の形状を選択することができる。また、1つの金属メッシュに複数のめっき領域21を設定することにより、1つの金属メッシュから複数の陽極電極5を得ることができる。これにより、陽極電極5の生産性の向上を図ることができる。   In such a method of manufacturing the dehumidifying element 1, a metal mesh in which the plating film 11 covers the plating region 21 of the plating region 21 and the non-plating region 22 on the second surface 92 is manufactured. Since the anode electrode 5 is obtained by punching out, the shape of the anode electrode 5 can be selected in accordance with a necessary shape such as the shape of the dehumidifying element 1. Further, by setting a plurality of plating regions 21 on one metal mesh, a plurality of anode electrodes 5 can be obtained from one metal mesh. Thereby, the productivity of the anode electrode 5 can be improved.

実施の形態4.
図12は、この発明の実施の形態4による除湿素子を示す模式的な構成図である。陽極電極5のめっき膜11には、導線8と陽極電極5とを電気的に接続するための電極81が取り付けられている。陽極電極5のめっき膜11は、電極81の取付部分を含む一定の接続用領域26でメッシュ材9と導線8との導電性を確保する役割を担い、接続用領域26以外の非接続用領域27で除湿反応に寄与する。従って、接続用領域26ではめっき膜11の表面積が小さいほど酸化の進行が抑制されて好ましく、非接続用領域27ではめっき膜11の表面積が大きいほど反応面積が増えて除湿量が増えるため好ましい。本実施の形態では、めっき膜11が接触するメッシュ材9の面の粗さが、接続用領域26よりも非接続用領域27で大きくなっている。これにより、本実施の形態では、めっき膜11の表面積が、接続用領域26よりも非接続用領域27で大きくなっている。
Embodiment 4 FIG.
FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing a dehumidifying element according to Embodiment 4 of the present invention. An electrode 81 for electrically connecting the conductive wire 8 and the anode electrode 5 is attached to the plating film 11 of the anode electrode 5. The plating film 11 of the anode electrode 5 plays a role of ensuring conductivity between the mesh material 9 and the conductive wire 8 in a certain connection region 26 including the attachment portion of the electrode 81, and a non-connection region other than the connection region 26. 27 contributes to the dehumidification reaction. Accordingly, the smaller the surface area of the plating film 11 in the connection region 26 is, the better the progress of oxidation is, and the larger the surface area of the plating film 11 in the non-connection region 27 is, the more the reaction area increases and the dehumidification amount increases. In the present embodiment, the roughness of the surface of the mesh material 9 with which the plating film 11 contacts is larger in the non-connection region 27 than in the connection region 26. Thereby, in the present embodiment, the surface area of the plating film 11 is larger in the non-connection region 27 than in the connection region 26.

図13は、図12の陽極電極5を得るための金属メッシュからめっき膜11をなくしたメッシュ材を示す正面図である。図13では、メッシュ材9の外側からメッシュ材9の厚さ方向に沿って第2面92を見たときのメッシュ材9が示されている。メッシュ材9の第2面92は、実施の形態3と同様に、陽極電極5に使用される複数のめっき領域21と、各めっき領域21以外の非めっき領域22とに分けられている。酸化膜10は、メッシュ材9の第1面91と非めっき領域22とを被覆している。めっき膜11は、メッシュ材9のめっき領域21を被覆している。   FIG. 13 is a front view showing a mesh material obtained by removing the plating film 11 from the metal mesh for obtaining the anode electrode 5 of FIG. In FIG. 13, the mesh material 9 is shown when the second surface 92 is viewed from the outside of the mesh material 9 along the thickness direction of the mesh material 9. Similarly to the third embodiment, the second surface 92 of the mesh material 9 is divided into a plurality of plating regions 21 used for the anode electrode 5 and non-plating regions 22 other than the plating regions 21. The oxide film 10 covers the first surface 91 of the mesh material 9 and the non-plating region 22. The plating film 11 covers the plating region 21 of the mesh material 9.

各めっき領域21は、接続用領域26と非接続用領域27とに分けられている。この例では、円形のめっき領域21の外周領域が接続用領域26とされ、接続用領域26に囲まれた領域が非接続用領域27とされている。   Each plating region 21 is divided into a connection region 26 and a non-connection region 27. In this example, the outer peripheral region of the circular plating region 21 is a connection region 26, and the region surrounded by the connection region 26 is a non-connection region 27.

図14は図13の接続用領域26でのメッシュ材9を示す断面図、図15は図13の非接続用領域27でのメッシュ材9を示す断面図である。図14及び図15に示すように、メッシュ材9の第2面92の粗さは、接続用領域26よりも非接続用領域27で大きくなっている。これにより、非接続用領域27でメッシュ材9を被覆するめっき膜11の表面積は、接続用領域26でメッシュ材9を被覆するめっき膜11の表面積よりも大きくなっている。他の構成は実施の形態1と同様である。   14 is a cross-sectional view showing the mesh material 9 in the connection region 26 of FIG. 13, and FIG. 15 is a cross-sectional view showing the mesh material 9 in the non-connection region 27 of FIG. As shown in FIGS. 14 and 15, the roughness of the second surface 92 of the mesh material 9 is larger in the non-connection region 27 than in the connection region 26. As a result, the surface area of the plating film 11 covering the mesh material 9 in the non-connection region 27 is larger than the surface area of the plating film 11 covering the mesh material 9 in the connection region 26. Other configurations are the same as those in the first embodiment.

次に、除湿素子1の製造方法について説明する。図16は、図12の除湿素子を製造するときの手順を示すフローチャートである。除湿素子1の製造方法では、熱処理工程、脱脂工程、ブラスト処理工程、超音波洗浄工程、酸処理工程、めっき工程を含む金属メッシュの製造方法を行った後、打ち抜き工程により陽極電極5を得て、プレス工程、陽極側触媒層形成工程を順次行う。   Next, a method for manufacturing the dehumidifying element 1 will be described. FIG. 16 is a flowchart showing a procedure for manufacturing the dehumidifying element of FIG. In the manufacturing method of the dehumidifying element 1, after performing the manufacturing method of the metal mesh including a heat treatment process, a degreasing process, a blasting process, an ultrasonic cleaning process, an acid treatment process, and a plating process, an anode electrode 5 is obtained by a punching process. Then, the pressing step and the anode side catalyst layer forming step are sequentially performed.

金属メッシュを製造するときには、実施の形態1と同様の熱処理工程及び脱脂工程を行った後、ブラスト処理工程を行う。ブラスト処理工程は、複数の開口部が設けられたマスキング板を用いるマスキング処理工程を複数回含んでいる。この例では、ブラスト処理工程において第1回〜第3回のマスキング処理工程を順次行う。   When manufacturing a metal mesh, after performing the heat treatment process and the degreasing process similar to Embodiment 1, the blasting process is performed. The blasting process includes a masking process using a masking plate provided with a plurality of openings a plurality of times. In this example, the first to third masking processes are sequentially performed in the blasting process.

第1回〜第3回のマスキング処理工程では、メッシュ材9の第2面92側にマスキング板23を重ねた状態で、ノズルからスラリを噴射流としてマスキング板の各開口部を通してメッシュ材9に噴射することにより、酸化膜10の一部をメッシュ材9から除去する。これにより、各めっき領域21では酸化膜が除去されてメッシュ材9が露出し、非めっき領域22では酸化膜がメッシュ材9を被覆したまま残る。第1回〜第3回のマスキング処理工程では、マスキング板の種類及びスラリ(即ち、噴射流)の種類をそれぞれ変えて、マスキング板の各開口部を通してスラリを噴射流としてメッシュ材9に噴射する。   In the first to third masking processes, the masking plate 23 is overlapped on the second surface 92 side of the mesh material 9, and the mesh material 9 is passed through each opening of the masking plate as a jet flow from the nozzle. A part of the oxide film 10 is removed from the mesh material 9 by spraying. As a result, the oxide film is removed in each plating region 21 to expose the mesh material 9, and the oxide film remains covered with the mesh material 9 in the non-plating region 22. In the first to third masking process steps, the type of the masking plate and the type of the slurry (that is, the jet flow) are changed, and the slurry is jetted onto the mesh material 9 as the jet flow through each opening of the masking plate. .

図17は、図16の第1回〜第3回のマスキング処理工程でそれぞれ用いられる複数のマスキング板を並べて示す正面図であり、図17(a)は第1回のマスキング処理工程で用いられるマスキング板を示す図、図17(b)は第2回のマスキング処理工程で用いられるマスキング板を示す図、図17(c)は第3回のマスキング処理工程で用いられるマスキング板を示す図である。   FIG. 17 is a front view showing a plurality of masking plates used in the first to third masking processes in FIG. 16 side by side, and FIG. 17A is used in the first masking process. FIG. 17B is a diagram showing a masking plate, FIG. 17B is a diagram showing a masking plate used in the second masking process, and FIG. 17C is a diagram showing a masking plate used in the third masking process. is there.

第1回〜第3回のマスキング処理工程で用いられる各マスキング板23a〜23cを比べてみると、マスキング板23a〜23cの外形はそれぞれ同じであるが、各開口部24a〜24cの形状及び位置が異なっている。各開口部24a〜24cは、めっき領域21を3つに分けた分割領域のそれぞれに合わせて配置されている。この例では、円形のめっき領域21を、接続用領域26となる外周上領域及び外周下領域と、非接続用領域27となる中心領域との3つの領域に分け、第1回のマスキング処理工程で用いられるマスキング板23aの開口部24aの位置を中心領域に合わせて設定し、第2回のマスキング処理工程で用いられるマスキング板23bの開口部24bの位置を外周上領域に合わせて設定し、第3回のマスキング処理工程で用いられるマスキング板23cの開口部24cの位置を外周下領域に合わせて設定している。即ち、第1回〜第3回のマスキング処理工程で用いられる各マスキング板23a〜23cのそれぞれをメッシュ材9に重ねた状態でのメッシュ材9に対する開口部24a〜24cの位置は互いに異なっている。   When comparing the masking plates 23a to 23c used in the first to third masking processes, the outer shapes of the masking plates 23a to 23c are the same, but the shapes and positions of the openings 24a to 24c are the same. Is different. Each opening part 24a-24c is arrange | positioned according to each of the division area | region which divided the plating area | region 21 into three. In this example, the circular plating region 21 is divided into three regions: an outer periphery upper region and a lower outer periphery region to be the connection region 26, and a central region to be the non-connection region 27, and the first masking process step The position of the opening 24a of the masking plate 23a used in the above is set according to the central area, the position of the opening 24b of the masking plate 23b used in the second masking process step is set according to the upper peripheral area, The position of the opening 24c of the masking plate 23c used in the third masking process is set in accordance with the lower peripheral area. That is, the positions of the openings 24a to 24c with respect to the mesh material 9 in a state where the masking plates 23a to 23c used in the first to third masking process steps are overlapped with the mesh material 9 are different from each other. .

第1回〜第3回のマスキング処理工程では、マスキング板23a〜23cを各工程で変えながらメッシュ材9に重ねた状態でメッシュ材9及びマスキング板23a〜23cをブラスト装置内に固定する。マスキング板23a〜23cとしては、例えば、開口部24a〜24cの形状及び位置を変えた縦120mm、横120mm、厚さ0.3mmの正方形状の銅Cu製の金属板が用いられる。厚さ以外のマスキング板23a〜23cの寸法はメッシュ材9の寸法と同等となるようにし、マスキング板23a〜23cの端部とメッシュ材9の端部とが揃うようにメッシュ材9にマスキング板23を重ねる。   In the first to third masking processing steps, the mesh material 9 and the masking plates 23a to 23c are fixed in the blasting apparatus in a state where the masking plates 23a to 23c are superposed on the mesh material 9 while changing each step. As the masking plates 23a to 23c, for example, square-shaped copper Cu metal plates having a length of 120 mm, a width of 120 mm, and a thickness of 0.3 mm, in which the shapes and positions of the openings 24a to 24c are changed, are used. The dimensions of the masking plates 23a to 23c other than the thickness are made equal to the dimensions of the mesh material 9, and the masking plate is attached to the mesh material 9 so that the end portions of the masking plates 23a to 23c are aligned with the end portions of the mesh material 9. 23.

第1回〜第3回のマスキング処理工程で用いられる各スラリを比べてみると、スラリに含まれる砥粒及びスラリの組成が異なっている。この例では、第2回及び第3回のマスキング処理工程で用いられるスラリの種類が同じで、第1回のマスキング処理工程で用いられるスラリの種類が、第2回及び第3回のマスキング処理工程で用いられるスラリの種類と異なっている。   Comparing the slurries used in the first to third masking processes, the compositions of the abrasive grains and the slurries contained in the slurries are different. In this example, the type of slurry used in the second and third masking processes is the same, and the type of slurry used in the first masking process is the second and third masking processes. It differs from the type of slurry used in the process.

スラリを噴射して酸化膜10を除去した後のメッシュ材9の露出面の粗さ(表面積)は、スラリに含まれる砥粒の形状に強く影響を受ける。即ち、スラリに含まれる砥粒の形状を多角形状にした場合にはメッシュ材9の露出面の状態が鋭利な状態になって粗さが大きくなり、スラリに含まれる砥粒の形状を球状にした場合にはメッシュ材9の露出面の状態がディンプル状の状態になって多角形状の砥粒の場合よりも粗さが小さくなる。この例では、第1回のマスキング処理工程では多角形状の砥粒を含むスラリを用い、第2回及び第3回のマスキング処理工程では球状の砥粒を含むスラリを用いている。   The roughness (surface area) of the exposed surface of the mesh material 9 after removing the oxide film 10 by spraying the slurry is strongly influenced by the shape of the abrasive grains contained in the slurry. That is, when the shape of the abrasive grains contained in the slurry is a polygonal shape, the exposed surface of the mesh material 9 becomes sharp and the roughness increases, and the shape of the abrasive grains contained in the slurry becomes spherical. In this case, the state of the exposed surface of the mesh material 9 becomes a dimple state, and the roughness becomes smaller than that in the case of polygonal abrasive grains. In this example, a slurry containing polygonal abrasive grains is used in the first masking process, and a slurry containing spherical abrasive grains is used in the second and third masking processes.

この例では、ブラスト処理工程において、マスキング板23aをメッシュ材9に重ねた状態で、粒径が20μmの多角形状の砥粒であるアルミナ粒子を純水で10vol%に希釈したスラリをメッシュ材9に噴射してめっき領域21の中心領域で酸化膜10を除去し(第1回マスキング処理工程)、その後、マスキング板23aに代えてマスキング板23bをメッシュ材9に重ねた状態で、粒径が20μmの球状の砥粒であるアルミナ粒子を純水で10vol%に希釈したスラリをメッシュ材9に噴射してめっき領域21の外周上領域で酸化膜10を除去し(第2回マスキング処理工程)、その後、マスキング板23bに代えてマスキング板23cをメッシュ材9に重ねた状態で、前工程と同じスラリをメッシュ材9に噴射してめっき領域21の外周下領域で酸化膜10を除去する(第3回マスキング処理工程)。これにより、図14に示すように表面の凹凸に尖った部分がなくなって表面積が小さくなっている接続用領域26と、図15に示すように表面の凹凸が鋭利な状態になって表面積が接続用領域26よりも表面積が大きくなっている非接続用領域27とがメッシュ材9のめっき領域21に形成される。金属メッシュ及び除湿素子1の製造方法における他の工程は、実施の形態3と同様である。   In this example, a slurry obtained by diluting alumina particles, which are polygonal abrasive grains having a particle diameter of 20 μm, to 10 vol% with pure water in a state where the masking plate 23 a is overlapped on the mesh material 9 in the blasting process. The oxide film 10 is removed in the central region of the plating region 21 (first masking process step), and then the particle size is changed in a state where the masking plate 23b is superposed on the mesh material 9 instead of the masking plate 23a. A slurry obtained by diluting alumina particles, which are 20 μm spherical abrasive grains, to 10 vol% with pure water is sprayed onto the mesh material 9 to remove the oxide film 10 in the region on the outer periphery of the plating region 21 (second masking step). Then, in the state where the masking plate 23c is superposed on the mesh material 9 instead of the masking plate 23b, the same slurry as that in the previous step is sprayed onto the mesh material 9 to thereby produce the plating region 21. The oxide film 10 is removed in the region below the outer periphery (third masking process step). As a result, as shown in FIG. 14, the connection region 26 in which the surface unevenness is eliminated and the surface area is reduced as shown in FIG. 14, and the surface unevenness is sharpened as shown in FIG. A non-connection region 27 having a surface area larger than that of the use region 26 is formed in the plating region 21 of the mesh material 9. Other steps in the method of manufacturing the metal mesh and the dehumidifying element 1 are the same as those in the third embodiment.

このような金属メッシュの製造方法では、複数のマスキング処理工程がブラスト処理工程に含まれ、マスキング板23a〜23cをメッシュ材9に重ねた状態でのメッシュ材9に対する開口部24a〜24cの位置と、メッシュ材9に噴射される噴射流、即ちスラリの種類とが、各マスキング処理工程で異なっているので、めっき領域21内で分割した複数の領域でのメッシュ材9の表面状態を異ならせることができる。これにより、メッシュ材9のめっき領域21での表面状態を、めっき領域21内の部分的な用途に応じた表面状態にすることができる。例えば、めっき領域21で金属メッシュを打ち抜いて得られた陽極電極5を除湿素子に用いる場合、導線8を接続する部分と、除湿反応を主に行う部分とで、メッシュ材9及びめっき膜11の表面積を適切に設定することができる。   In such a metal mesh manufacturing method, a plurality of masking processes are included in the blasting process, and the positions of the openings 24a to 24c with respect to the mesh material 9 in a state where the masking plates 23a to 23c are superimposed on the mesh material 9 Since the jet flow injected into the mesh material 9, that is, the type of slurry is different in each masking process, the surface state of the mesh material 9 in a plurality of regions divided in the plating region 21 is made different. Can do. Thereby, the surface state in the plating area | region 21 of the mesh material 9 can be made into the surface state according to the partial use in the plating area | region 21. FIG. For example, when the anode electrode 5 obtained by punching a metal mesh in the plating region 21 is used as a dehumidifying element, the mesh material 9 and the plating film 11 are composed of a portion where the conductor 8 is connected and a portion which mainly performs a dehumidifying reaction. The surface area can be set appropriately.

なお、上記の例では、3つのマスキング処理工程がブラスト処理工程に含まれているが、マスキング処理工程の回数はこれに限定されず、2つのマスキング処理工程がブラスト処理工程に含まれていてもよいし、4つ以上のマスキング処理工程がブラスト処理工程に含まれていてもよい。この場合、少なくともいずれかのマスキング処理工程では、マスキング板をメッシュ材9に重ねた状態でのメッシュ材9に対する開口部の位置と、メッシュ材9に噴射される噴射流の種類とが、他のマスキング処理工程と異なるようにする。   In the above example, three masking processes are included in the blasting process, but the number of masking processes is not limited to this, and two masking processes may be included in the blasting process. Alternatively, four or more masking processes may be included in the blasting process. In this case, in at least one of the masking processes, the position of the opening with respect to the mesh material 9 in a state where the masking plate is overlapped with the mesh material 9 and the type of the jet flow injected to the mesh material 9 are different from each other. Different from the masking process.

また、各上記実施の形態では、メッシュ材9を構成する金属がチタンTiになっているが、例えばアルミニウムAl、鉄Fe等であってもよい。   Moreover, in each said embodiment, although the metal which comprises the mesh material 9 is titanium Ti, aluminum Al, iron Fe, etc. may be sufficient, for example.

また、各上記実施の形態では、めっき膜11を構成する金属がプラチナPtになっているが、例えば金Au、パラジウムPd等であってもよい。   Moreover, in each said embodiment, although the metal which comprises the plating film 11 is platinum Pt, gold | metal | money Au, palladium Pd etc. may be sufficient, for example.

また、各上記実施の形態では、砥粒と水とを混合したスラリを噴射流としてメッシュ材9に噴射して酸化膜の一部をメッシュ材9から除去する湿式ブラストがブラスト処理工程に適用されているが、砥粒を空気とともに噴射流としてメッシュ材9に噴射して酸化膜の一部をメッシュ材9から除去する乾式ブラストをブラスト処理工程に適用してもよい。   In each of the above embodiments, wet blasting, in which a slurry in which abrasive grains and water are mixed is sprayed onto the mesh material 9 as an injection flow to remove a portion of the oxide film from the mesh material 9, is applied to the blasting process. However, dry blasting in which abrasive grains are jetted onto the mesh material 9 together with air as a jet flow to remove a part of the oxide film from the mesh material 9 may be applied to the blasting process.

また、メッシュ材9は、複数本の金属糸を編んで作製してもよいし、一枚の金属板に複数の孔を形成して作製してもよい。   Further, the mesh material 9 may be produced by knitting a plurality of metal yarns, or may be produced by forming a plurality of holes in a single metal plate.

次に、実施の形態1〜4に対応する実施例1〜4による除湿素子と、実施例1〜4と比較するための比較例とについて説明する。   Next, a dehumidifying element according to Examples 1 to 4 corresponding to Embodiments 1 to 4 and a comparative example for comparison with Examples 1 to 4 will be described.

実施例1.
線幅が100μm、厚さが50μmの金属細線で構成された縦120mm、横120mmの純チタンTi製のメッシュ材9を上記実施の形態1において説明した方法で処理して陽極電極5を製造し、この陽極電極5を用いて除湿素子を製造した。熱処理工程での熱処理には電気炉を使用し、純チタンTi製のメッシュ材9を炉内に入れ、700℃まで昇温した後、2時間だけ保持した。その後、温度保持を停止し25℃まで冷却して炉内の雰囲気は大気と同様とした。その後、メッシュ材9を炉内から取出し、純水で1分間洗浄した後、1wt%のオルトケイ酸ナトリウム、5wt%の炭酸ナトリウム、5wt%の水酸化ナトリウム、89wt%の純水から構成される脱脂液に5分間浸漬した。脱脂液の温度は80℃とした。その後、メッシュ材9を脱脂液から取出し、純水で1分間洗浄した後、湿式ブラスト装置内でメッシュ材9を把持した。湿式ブラストに使用するスラリは、粒径20μmの多角形状のアルミナ粒子を10vol%の濃度で純水に溶かしたものを用いた。
Example 1.
A mesh material 9 made of pure titanium Ti having a line width of 100 μm and a thickness of 50 μm and made of fine metal wires having a length of 120 mm and a width of 120 mm is processed by the method described in the first embodiment to manufacture the anode electrode 5. A dehumidifying element was manufactured using this anode electrode 5. An electric furnace was used for the heat treatment in the heat treatment step, and the mesh material 9 made of pure titanium Ti was put in the furnace, heated to 700 ° C., and held for 2 hours. Thereafter, the temperature holding was stopped and the temperature was cooled to 25 ° C., and the atmosphere in the furnace was the same as the atmosphere. Thereafter, the mesh material 9 is taken out from the furnace, washed with pure water for 1 minute, and then degreased composed of 1 wt% sodium orthosilicate, 5 wt% sodium carbonate, 5 wt% sodium hydroxide, 89 wt% pure water. It was immersed in the liquid for 5 minutes. The temperature of the degreasing solution was 80 ° C. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the degreasing liquid, washed with pure water for 1 minute, and then held in a wet blasting apparatus. The slurry used for wet blasting was prepared by dissolving polygonal alumina particles having a particle diameter of 20 μm in pure water at a concentration of 10 vol%.

図18は、実施例1でのブラスト処理工程で使用した湿式ブラスト装置を示す斜視図である。図18に示すように、スラリをメッシュ材9に噴射する湿式ブラストを行うときには、一対の固定具43によってメッシュ材9の幅方向両端部を把持してメッシュ材9を水平に保持し、メッシュ材9の上方に配置されたノズル41からスラリを噴射流42として下方へ噴射する。ノズル41とメッシュ材9との間の垂直距離は10mmとし、スラリを0.3MPa/cmの圧力でメッシュ材9に噴射しながら、A点から水平に移動を開始し、B点で折り返し、再びA点に戻る往復動作を5回繰り返した。この動作におけるノズル41の移動速度は10mm/secとした。 FIG. 18 is a perspective view showing the wet blasting apparatus used in the blasting process in the first embodiment. As shown in FIG. 18, when performing wet blasting in which slurry is sprayed onto the mesh material 9, both ends in the width direction of the mesh material 9 are held by the pair of fixtures 43, and the mesh material 9 is held horizontally. Slurry is jetted downward as a jet stream 42 from a nozzle 41 arranged above 9. The vertical distance between the nozzle 41 and the mesh material 9 is 10 mm, and while the slurry is sprayed onto the mesh material 9 at a pressure of 0.3 MPa / cm 2 , it starts to move horizontally from the point A, and turns back at the point B. The reciprocating operation for returning to point A was repeated 5 times. The moving speed of the nozzle 41 in this operation was 10 mm / sec.

その後、湿式ブラスト装置からメッシュ材9を取出し、純水で1分間洗浄した後、メッシュ材9を超音波洗浄した。超音波を伝導する液体はアセトンを用い、洗浄時の周波数は35kHzとし、25℃で5分間処理した。その後、アセトンからメッシュ材9を取り出し、純水で1分間洗浄した後、酸活性液に5秒間浸漬した。酸活性液にはMC−E((株)ワールドメタル製)を使用した。その後、酸活性液からメッシュ材9を取り出し、純水で1分間洗浄した後、めっき液にメッシュ材9を浸漬して5Aの電流で10分間の通電処理を行った。めっき液にはプラチナメッキS((株)旭油脂製)を使用した。その後、純水で1分間洗浄し、プラチナめっき膜がメッシュ材9に施された金属メッシュを製造した。   Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the wet blasting apparatus, washed with pure water for 1 minute, and then the mesh material 9 was subjected to ultrasonic cleaning. The liquid that conducts ultrasonic waves was acetone, the frequency at the time of washing was 35 kHz, and the treatment was performed at 25 ° C. for 5 minutes. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from acetone, washed with pure water for 1 minute, and then immersed in an acid active solution for 5 seconds. MC-E (manufactured by World Metal Co., Ltd.) was used as the acid active solution. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the acid-activated liquid and washed with pure water for 1 minute, and then the mesh material 9 was immersed in the plating solution and subjected to an energization treatment for 10 minutes at a current of 5A. Platinum plating S (made by Asahi Yushi Co., Ltd.) was used for the plating solution. Then, it washed with pure water for 1 minute, and manufactured the metal mesh in which the platinum plating film was given to the mesh material 9.

上記の方法で作製した金属メッシュを陽極電極5として用い、陰極電極3、陰極側触媒層4、電解質膜2、陽極電極5を積層し、190℃、50kgf/cmで5分間プレスした。このとき、陽極電極5のめっき膜を施した面は、電解質膜2の反対側に向けて外気と触れる面となるようにした。また、電解質膜2にはデュポン社製の固体高分子電解質膜(ナフィオン)を用い、陰極側触媒層4にはプラチナPtの微粉末を用い、陰極電極にはカーボンペーパを用いた。その後、陽極電極5の露出面にプラチナPtを担持したカーボン粉末を塗布ロボットを用いて厚さが約30μmとなるように塗布した。以上の方法で得た除湿素子を、プレス機を用いて打ち抜き、外部直流電源との接点となる電極を樹脂製の筐体で固定して取り付けた。 Using the metal mesh produced by the above method as the anode electrode 5, the cathode electrode 3, the cathode side catalyst layer 4, the electrolyte membrane 2 and the anode electrode 5 were laminated and pressed at 190 ° C. and 50 kgf / cm 2 for 5 minutes. At this time, the surface of the anode electrode 5 on which the plating film was applied was made to be a surface in contact with the outside air toward the opposite side of the electrolyte membrane 2. The electrolyte membrane 2 was a DuPont solid polymer electrolyte membrane (Nafion), the cathode catalyst layer 4 was platinum Pt fine powder, and the cathode electrode was carbon paper. Thereafter, carbon powder carrying platinum Pt on the exposed surface of the anode electrode 5 was applied to a thickness of about 30 μm using a coating robot. The dehumidifying element obtained by the above method was punched out using a press machine, and an electrode serving as a contact point with an external DC power source was fixed and attached with a resin casing.

実施例2.
線幅が100μm、厚さが50μmの金属細線で構成された縦120mm、横120mmの純チタンTi製のメッシュ材9を上記実施の形態2において説明した方法で処理して陽極電極5を製造し、この陽極電極5を用いて除湿素子を製造した。熱処理工程での熱処理には電気炉を使用し、純チタンTi製のメッシュ材9を炉内に入れ、700℃まで昇温した後、2時間だけ保持した。その後、温度保持を停止し25℃まで冷却して炉内の雰囲気は大気と同様とした。その後、メッシュ材9を炉内から取出し、純水で1分間洗浄した後、1wt%のオルトケイ酸ナトリウム、5wt%の炭酸ナトリウム、5wt%の水酸化ナトリウム、89wt%の純水から構成される脱脂液に5分間浸漬した。脱脂液の温度は80℃とした。その後、メッシュ材9を脱脂液から取出し、純水で1分間洗浄した後、湿式ブラスト装置内でメッシュ材9を把持した。湿式ブラストに使用するスラリは、粒径20μmの球状のアルミナ粒子を3vol%の濃度で水に溶かしたものを用いた。
Example 2
A mesh material 9 made of pure titanium Ti having a line width of 100 μm and a thickness of 50 μm and made of fine metal wires having a length of 120 mm and a width of 120 mm is processed by the method described in the second embodiment to manufacture the anode electrode 5. A dehumidifying element was manufactured using this anode electrode 5. An electric furnace was used for the heat treatment in the heat treatment step, and the mesh material 9 made of pure titanium Ti was put in the furnace, heated to 700 ° C., and held for 2 hours. Thereafter, the temperature holding was stopped and the temperature was cooled to 25 ° C., and the atmosphere in the furnace was the same as the atmosphere. Thereafter, the mesh material 9 is taken out from the furnace, washed with pure water for 1 minute, and then degreased composed of 1 wt% sodium orthosilicate, 5 wt% sodium carbonate, 5 wt% sodium hydroxide, 89 wt% pure water. It was immersed in the liquid for 5 minutes. The temperature of the degreasing solution was 80 ° C. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the degreasing liquid, washed with pure water for 1 minute, and then held in a wet blasting apparatus. The slurry used for wet blasting was prepared by dissolving spherical alumina particles having a particle diameter of 20 μm in water at a concentration of 3 vol%.

ブラスト処理工程では、実施例1と同様に、図18に示す位置にメッシュ材9を配置し、メッシュ材9の上方に配置されたノズル41からスラリを噴射流42として下方へ噴射した。ノズル41とメッシュ材9との間の垂直距離は10mmとし、スラリを0.3MPa/cmの圧力でメッシュ材9に噴射しながら、A点から水平に移動を開始し、B点で折り返し、再びA点に戻る往復動作を10回繰り返した。この動作におけるノズル41の移動速度は20mm/secとした。 In the blasting process, as in Example 1, the mesh material 9 was arranged at the position shown in FIG. 18, and the slurry was jetted downward as the jet flow 42 from the nozzle 41 arranged above the mesh material 9. The vertical distance between the nozzle 41 and the mesh material 9 is 10 mm, and while the slurry is sprayed onto the mesh material 9 at a pressure of 0.3 MPa / cm 2 , it starts to move horizontally from the point A, and turns back at the point B. The reciprocating motion returning to point A was repeated 10 times. The moving speed of the nozzle 41 in this operation was 20 mm / sec.

その後、湿式ブラスト装置からメッシュ材9を取出し、純水で1分間洗浄した後、酸活性液に5秒間浸漬した。酸活性液にはMC−E((株)ワールドメタル製)を使用した。その後、酸活性液からメッシュ材9を取り出し、純水で1分間洗浄した後、めっき液にメッシュ材9を浸漬して5Aの電流で10分間の通電処理を行った。めっき液にはプラチナメッキS((株)旭油脂製)を使用した。その後、純水で1分間洗浄し、プラチナめっき膜がメッシュ材9に施された金属メッシュを製造した。   Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the wet blasting apparatus, washed with pure water for 1 minute, and then immersed in an acid active solution for 5 seconds. MC-E (manufactured by World Metal Co., Ltd.) was used as the acid active solution. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the acid-activated liquid and washed with pure water for 1 minute, and then the mesh material 9 was immersed in the plating solution and subjected to an energization treatment for 10 minutes at a current of 5A. Platinum plating S (made by Asahi Yushi Co., Ltd.) was used for the plating solution. Then, it washed with pure water for 1 minute, and manufactured the metal mesh in which the platinum plating film was given to the mesh material 9.

上記の方法で作製した金属メッシュを陽極電極5として用い、陰極電極3、陰極側触媒層4、電解質膜2、陽極電極5を積層し、190℃、50kgf/cmで5分間プレスした。このとき、陽極電極5のめっき膜を施した面は、電解質膜2の反対側に向けて外気と触れる面となるようにした。また、電解質膜2にはデュポン社製の固体高分子電解質膜(ナフィオン)を用い、陰極側触媒層4にはプラチナPtの微粉末を用い、陰極電極にはカーボンペーパを用いた。その後、陽極電極5の露出面にプラチナPtを担持したカーボン粉末を塗布ロボットを用いて厚さが約30μmとなるように塗布した。以上の方法で得た除湿素子を、プレス機を用いて打ち抜き、外部直流電源との接点となる電極を樹脂製の筐体で固定して取り付けた。 Using the metal mesh produced by the above method as the anode electrode 5, the cathode electrode 3, the cathode side catalyst layer 4, the electrolyte membrane 2 and the anode electrode 5 were laminated and pressed at 190 ° C. and 50 kgf / cm 2 for 5 minutes. At this time, the surface of the anode electrode 5 on which the plating film was applied was made to be a surface in contact with the outside air toward the opposite side of the electrolyte membrane 2. The electrolyte membrane 2 was a DuPont solid polymer electrolyte membrane (Nafion), the cathode catalyst layer 4 was platinum Pt fine powder, and the cathode electrode was carbon paper. Thereafter, carbon powder carrying platinum Pt on the exposed surface of the anode electrode 5 was applied to a thickness of about 30 μm using a coating robot. The dehumidifying element obtained by the above method was punched out using a press machine, and an electrode serving as a contact point with an external DC power source was fixed and attached with a resin casing.

実施例3.
線幅が100μm、厚さが50μmの金属細線で構成された縦120mm、横120mmの純チタンTi製のメッシュ材9を上記実施の形態2において説明した方法で処理して陽極電極5を製造し、この陽極電極5を用いて除湿素子を製造した。熱処理工程での熱処理には電気炉を使用し、純チタンTi製のメッシュ材9を炉内に入れ、700℃まで昇温した後、2時間だけ保持した。その後、温度保持を停止し25℃まで冷却して炉内の雰囲気は大気と同様とした。その後、メッシュ材9を炉内から取出し、純水で1分間洗浄した後、1wt%のオルトケイ酸ナトリウム、5wt%の炭酸ナトリウム、5wt%の水酸化ナトリウム、89wt%の純水から構成される脱脂液に5分間浸漬した。脱脂液の温度は80℃とした。その後、メッシュ材9を脱脂液から取出し、純水で1分間洗浄した後、図10に示す構成のマスキング板23をメッシュ材9の上に重ねた状態でマスキング板23及びメッシュ材9を湿式ブラスト装置内で把持した。マスキング板23には、内径φが20mmの開口部24が27個設けられている厚さ0.3mmの銅Cu製の金属板を用いた。また、湿式ブラストに使用するスラリは、粒径20μmの多角形状のアルミナ粒子を10vol%の濃度で水に溶かしたものを用いた。
Example 3
A mesh material 9 made of pure titanium Ti having a line width of 100 μm and a thickness of 50 μm and made of fine metal wires having a length of 120 mm and a width of 120 mm is processed by the method described in the second embodiment to manufacture the anode electrode 5. A dehumidifying element was manufactured using this anode electrode 5. An electric furnace was used for the heat treatment in the heat treatment step, and the mesh material 9 made of pure titanium Ti was put in the furnace, heated to 700 ° C., and held for 2 hours. Thereafter, the temperature holding was stopped and the temperature was cooled to 25 ° C., and the atmosphere in the furnace was the same as the atmosphere. Thereafter, the mesh material 9 is taken out from the furnace, washed with pure water for 1 minute, and then degreased composed of 1 wt% sodium orthosilicate, 5 wt% sodium carbonate, 5 wt% sodium hydroxide, 89 wt% pure water. It was immersed in the liquid for 5 minutes. The temperature of the degreasing solution was 80 ° C. Thereafter, the mesh material 9 is taken out from the degreasing solution, washed with pure water for 1 minute, and then the masking plate 23 and the mesh material 9 having the structure shown in FIG. Grasped in the apparatus. As the masking plate 23, a copper Cu metal plate having a thickness of 0.3 mm provided with 27 openings 24 having an inner diameter φ of 20 mm was used. The slurry used for wet blasting was prepared by dissolving polygonal alumina particles having a particle diameter of 20 μm in water at a concentration of 10 vol%.

ブラスト処理工程では、実施例1と同様に、図18に示す位置にメッシュ材9を配置し、メッシュ材9の上方に配置されたノズル41からスラリを噴射流42として下方へ噴射した。ノズル41とメッシュ材9との間の垂直距離は10mmとし、スラリを0.3MPa/cmの圧力でメッシュ材9に噴射しながら、A点から水平に移動を開始し、B点で折り返し、再びA点に戻る往復動作を5回繰り返した。この動作におけるノズル41の移動速度は10mm/secとした。 In the blasting process, as in Example 1, the mesh material 9 was arranged at the position shown in FIG. 18, and the slurry was jetted downward as the jet flow 42 from the nozzle 41 arranged above the mesh material 9. The vertical distance between the nozzle 41 and the mesh material 9 is 10 mm, and while the slurry is sprayed onto the mesh material 9 at a pressure of 0.3 MPa / cm 2 , it starts to move horizontally from the point A, and turns back at the point B. The reciprocating operation for returning to point A was repeated 5 times. The moving speed of the nozzle 41 in this operation was 10 mm / sec.

その後、湿式ブラスト装置からメッシュ材9を取出し、純水で1分間洗浄した後、メッシュ材9を超音波洗浄した。超音波を伝導する液体はアセトンを用い、洗浄時の周波数は35kHzとし、25℃で5分間処理した。その後、アセトンからメッシュ材9を取り出し、純水で1分間洗浄した後、酸活性液に5秒間浸漬した。酸活性液にはMC−E((株)ワールドメタル製)を使用した。その後、酸活性液からメッシュ材9を取り出し、純水で1分間洗浄した後、めっき液にメッシュ材9を浸漬して5Aの電流で10分間の通電処理を行った。めっき液にはプラチナメッキS((株)旭油脂製)を使用した。その後、純水で1分間洗浄し、プラチナめっき膜がメッシュ材9に施された金属メッシュを製造した。   Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the wet blasting apparatus, washed with pure water for 1 minute, and then the mesh material 9 was subjected to ultrasonic cleaning. The liquid that conducts ultrasonic waves was acetone, the frequency at the time of washing was 35 kHz, and the treatment was performed at 25 ° C. for 5 minutes. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from acetone, washed with pure water for 1 minute, and then immersed in an acid active solution for 5 seconds. MC-E (manufactured by World Metal Co., Ltd.) was used as the acid active solution. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the acid-activated liquid and washed with pure water for 1 minute, and then the mesh material 9 was immersed in the plating solution and subjected to an energization treatment for 10 minutes at a current of 5A. Platinum plating S (made by Asahi Yushi Co., Ltd.) was used for the plating solution. Then, it washed with pure water for 1 minute, and manufactured the metal mesh in which the platinum plating film was given to the mesh material 9.

上記の方法で作製した金属メッシュを陽極電極5として用い、陰極電極3、陰極側触媒層4、電解質膜2、陽極電極5を積層し、190℃、50kgf/cmで5分間プレスした。このとき、陽極電極5のめっき膜を施した面は、電解質膜2の反対側に向けて外気と触れる面となるようにした。また、電解質膜2にはデュポン社製の固体高分子電解質膜(ナフィオン)を用い、陰極側触媒層4にはプラチナPtの微粉末を用い、陰極電極にはカーボンペーパを用いた。その後、陽極電極5の露出面にプラチナPtを担持したカーボン粉末を塗布ロボットを用いて厚さが約30μmとなるように塗布した。以上の方法で得た除湿素子を、プレス機を用いて打ち抜き、外部直流電源との接点となる電極を樹脂製の筐体で固定して取り付けた。 Using the metal mesh produced by the above method as the anode electrode 5, the cathode electrode 3, the cathode side catalyst layer 4, the electrolyte membrane 2 and the anode electrode 5 were laminated and pressed at 190 ° C. and 50 kgf / cm 2 for 5 minutes. At this time, the surface of the anode electrode 5 on which the plating film was applied was made to be a surface in contact with the outside air toward the opposite side of the electrolyte membrane 2. The electrolyte membrane 2 was a DuPont solid polymer electrolyte membrane (Nafion), the cathode catalyst layer 4 was platinum Pt fine powder, and the cathode electrode was carbon paper. Thereafter, carbon powder carrying platinum Pt on the exposed surface of the anode electrode 5 was applied to a thickness of about 30 μm using a coating robot. The dehumidifying element obtained by the above method was punched out using a press machine, and an electrode serving as a contact point with an external DC power source was fixed and attached with a resin casing.

実施例4.
線幅が100μm、厚さが50μmの金属細線で構成された縦120mm、横120mmの純チタンTi製のメッシュ材9を上記実施の形態2において説明した方法で処理して陽極電極5を製造し、この陽極電極5を用いて除湿素子を製造した。熱処理工程での熱処理には電気炉を使用し、純チタンTi製のメッシュ材9を炉内に入れ、700℃まで昇温した後、2時間だけ保持した。その後、温度保持を停止し25℃まで冷却して炉内の雰囲気は大気と同様とした。その後、メッシュ材9を炉内から取出し、純水で1分間洗浄した後、1wt%のオルトケイ酸ナトリウム、5wt%の炭酸ナトリウム、5wt%の水酸化ナトリウム、89wt%の純水から構成される脱脂液に5分間浸漬した。脱脂液の温度は80℃とした。その後、メッシュ材9を脱脂液から取出し、純水で1分間洗浄した後、図17に示す構成の3つのマスキング板23a〜23cを用いて、3回のマスキング処理工程を行った。
Example 4
A mesh material 9 made of pure titanium Ti having a line width of 100 μm and a thickness of 50 μm and made of fine metal wires having a length of 120 mm and a width of 120 mm is processed by the method described in the second embodiment to manufacture the anode electrode 5. A dehumidifying element was manufactured using this anode electrode 5. An electric furnace was used for the heat treatment in the heat treatment step, and the mesh material 9 made of pure titanium Ti was put in the furnace, heated to 700 ° C., and held for 2 hours. Thereafter, the temperature holding was stopped and the temperature was cooled to 25 ° C., and the atmosphere in the furnace was the same as the atmosphere. Thereafter, the mesh material 9 is taken out from the furnace, washed with pure water for 1 minute, and then degreased composed of 1 wt% sodium orthosilicate, 5 wt% sodium carbonate, 5 wt% sodium hydroxide, 89 wt% pure water. It was immersed in the liquid for 5 minutes. The temperature of the degreasing solution was 80 ° C. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the degreasing solution, washed with pure water for 1 minute, and then subjected to three masking processes using the three masking plates 23a to 23c having the configuration shown in FIG.

マスキング板23a〜23cはいずれも銅Cu製の厚さ0.3mmのものを用い、湿式ブラスト装置内でマスキング板をメッシュ材9の上に重ねた状態でマスキング板及びメッシュ材9を把持した。第1回のマスキング処理工程で使用するスラリ、即ち図17(a)のマスキング板23aを用いる場合に使用するスラリは、粒径20μmの多角形状のアルミナ粒子を10vol%の濃度で水に溶かしたものを用い、第2回及び第3回のマスキング処理工程で使用するスラリ、即ち図17(b)及び図17(c)のマスキング板23b及び23cを用いる場合に使用するスラリは、粒径20μmの球状のアルミナ粒子を3vol%の濃度で水に溶かしたものを用いた。   Each of the masking plates 23a to 23c was made of copper Cu and had a thickness of 0.3 mm, and the masking plate and the mesh material 9 were held in a state where the masking plate was stacked on the mesh material 9 in a wet blasting apparatus. The slurry used in the first masking process, that is, the slurry used when using the masking plate 23a of FIG. 17A, was prepared by dissolving polygonal alumina particles having a particle diameter of 20 μm in water at a concentration of 10 vol%. The slurry used in the second and third masking treatment steps, that is, the slurry used when using the masking plates 23b and 23c in FIGS. 17B and 17C, has a particle size of 20 μm. The spherical alumina particles were dissolved in water at a concentration of 3 vol%.

3回のマスキング処理工程のいずれも、スラリを噴射するノズル41とメッシュ材9との間の垂直距離は10mmとし、スラリを0.3MPa/cmの圧力でメッシュ材9に噴射しながら、A点から水平に移動を開始し、B点で折り返し、再びA点に戻る往復動作を5回繰り返した。この動作におけるノズル41の移動速度は10mm/secとした。この3回のマスキング処理工程により、図13に示すように、めっき領域21内の表面状態が部分的に異なるメッシュ材9が得られる。 In any of the three masking processes, the vertical distance between the nozzle 41 for injecting the slurry and the mesh material 9 is 10 mm, and the slurry is injected to the mesh material 9 at a pressure of 0.3 MPa / cm 2. The reciprocating motion which started moving horizontally from the point, turned back at the point B, and returned to the point A was repeated five times. The moving speed of the nozzle 41 in this operation was 10 mm / sec. As shown in FIG. 13, the mesh material 9 having a partially different surface state in the plating region 21 is obtained by the three masking processes.

その後、湿式ブラスト装置からメッシュ材9を取出し、純水で1分間洗浄した後、メッシュ材9を超音波洗浄した。超音波を伝導する液体はアセトンを用い、洗浄時の周波数は35kHzとし、25℃で5分間処理した。その後、アセトンからメッシュ材9を取り出し、純水で1分間洗浄した後、酸活性液に5秒間浸漬した。酸活性液にはMC−E((株)ワールドメタル製)を使用した。その後、酸活性液からメッシュ材9を取り出し、純水で1分間洗浄した後、めっき液にメッシュ材9を浸漬して5Aの電流で10分間の通電処理を行った。めっき液にはプラチナメッキS((株)旭油脂製)を使用した。その後、純水で1分間洗浄し、プラチナめっき膜がメッシュ材9に施された金属メッシュを製造した。   Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the wet blasting apparatus, washed with pure water for 1 minute, and then the mesh material 9 was subjected to ultrasonic cleaning. The liquid that conducts ultrasonic waves was acetone, the frequency at the time of washing was 35 kHz, and the treatment was performed at 25 ° C. for 5 minutes. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from acetone, washed with pure water for 1 minute, and then immersed in an acid active solution for 5 seconds. MC-E (manufactured by World Metal Co., Ltd.) was used as the acid active solution. Thereafter, the mesh material 9 was taken out from the acid-activated liquid and washed with pure water for 1 minute, and then the mesh material 9 was immersed in the plating solution and subjected to an energization treatment for 10 minutes at a current of 5A. Platinum plating S (made by Asahi Yushi Co., Ltd.) was used for the plating solution. Then, it washed with pure water for 1 minute, and manufactured the metal mesh in which the platinum plating film was given to the mesh material 9.

上記の方法で作製した金属メッシュを陽極電極5として用い、陰極電極3、陰極側触媒層4、電解質膜2、陽極電極5を積層し、190℃、50kgf/cmで5分間プレスした。このとき、陽極電極5のめっき膜を施した面は、電解質膜2の反対側に向けて外気と触れる面となるようにした。また、電解質膜2にはデュポン社製の固体高分子電解質膜(ナフィオン)を用い、陰極側触媒層4にはプラチナPtの微粉末を用い、陰極電極にはカーボンペーパを用いた。その後、陽極電極5の露出面にプラチナPtを担持したカーボン粉末を塗布ロボットを用いて厚さが約30μmとなるように塗布した。以上の方法で得た除湿素子を、プレス機を用いて打ち抜き、外部直流電源との接点となる電極を樹脂製の筐体で固定して取り付けた。 Using the metal mesh produced by the above method as the anode electrode 5, the cathode electrode 3, the cathode side catalyst layer 4, the electrolyte membrane 2 and the anode electrode 5 were laminated and pressed at 190 ° C. and 50 kgf / cm 2 for 5 minutes. At this time, the surface of the anode electrode 5 on which the plating film was applied was made to be a surface in contact with the outside air toward the opposite side of the electrolyte membrane 2. The electrolyte membrane 2 was a DuPont solid polymer electrolyte membrane (Nafion), the cathode catalyst layer 4 was platinum Pt fine powder, and the cathode electrode was carbon paper. Thereafter, carbon powder carrying platinum Pt on the exposed surface of the anode electrode 5 was applied to a thickness of about 30 μm using a coating robot. The dehumidifying element obtained by the above method was punched out using a press machine, and an electrode serving as a contact point with an external DC power source was fixed and attached with a resin casing.

比較例1.
本発明を従来例と比較するため、以下に示すように、チタンTiメッシュ材に対する一般的な化学エッチングプロセスでめっきをした。脱脂工程においては、メッシュ材に対して熱処理を行わずにメッシュ材を脱脂液に浸漬し、5A/mの電流密度で1分間通電処理を行った。脱脂液にはELC−400((株)ワールドメタル製)を使用した。その後、メッシュ材を脱脂液から取出し、純水で1分間洗浄した後、メッシュ材を酸活性液に1分間浸漬した。酸活性液にはMC−E((株)ワールドメタル製)を使用した。その後、酸活性液からメッシュ材を取り出し、純水で1分間洗浄した後、エッチング液にメッシュ材を5分間浸漬処理した。エッチング液にはT−44((株)ワールドメタル製)を使用した。その後、エッチング液からメッシュ材を取り出し、純水で1分間洗浄した後、メッシュ材を酸活性液に5秒間浸漬した。酸活性液にはMC−E((株)ワールドメタル製)を使用した。その後、酸活性液からメッシュ材を取り出し、純水で1分間洗浄した後、めっき液にメッシュ材を浸漬して5Aの電流で10分間の通電処理を行った。めっき液にはプラチナメッキS((株)旭油脂製)を使用した。その後、純水で1分間洗浄し、プラチナめっき膜がメッシュ材に施された金属メッシュを製造した。
Comparative Example 1
In order to compare the present invention with a conventional example, plating was performed by a general chemical etching process on a titanium Ti mesh material as shown below. In the degreasing step, the mesh material was immersed in the degreasing solution without performing heat treatment on the mesh material, and subjected to an energization treatment at a current density of 5 A / m 2 for 1 minute. ELC-400 (manufactured by World Metal Co., Ltd.) was used as the degreasing solution. Thereafter, the mesh material was taken out from the degreasing solution, washed with pure water for 1 minute, and then immersed in the acid active solution for 1 minute. MC-E (manufactured by World Metal Co., Ltd.) was used as the acid active solution. Thereafter, the mesh material was taken out from the acid active solution, washed with pure water for 1 minute, and then immersed in an etching solution for 5 minutes. T-44 (manufactured by World Metal Co., Ltd.) was used as the etching solution. Thereafter, the mesh material was taken out from the etching solution, washed with pure water for 1 minute, and then immersed in the acid active solution for 5 seconds. MC-E (manufactured by World Metal Co., Ltd.) was used as the acid active solution. Thereafter, the mesh material was taken out from the acid active solution, washed with pure water for 1 minute, then immersed in the plating solution, and subjected to a current treatment for 10 minutes at a current of 5 A. Platinum plating S (made by Asahi Yushi Co., Ltd.) was used for the plating solution. Then, it washed with pure water for 1 minute, and manufactured the metal mesh by which the platinum plating film was given to the mesh material.

上記の方法で作製した金属メッシュを陽極電極5として用い、陰極電極3、陰極側触媒層4、電解質膜2、陽極電極5を積層し、190℃、50kgf/cmで5分間プレスした。このとき、陽極電極5のめっき膜を施した面は、電解質膜2の反対側に向けて外気と触れる面となるようにした。また、電解質膜2にはデュポン社製の固体高分子電解質膜(ナフィオン)を用い、陰極側触媒層4にはプラチナPtの微粉末を用い、陰極電極にはカーボンペーパを用いた。その後、陽極電極5の露出面にプラチナPtを担持したカーボン粉末を塗布ロボットを用いて厚さが約30μmとなるように塗布した。以上の方法で得た除湿素子を、プレス機を用いて打ち抜き、外部直流電源との接点となる電極を樹脂製の筐体で固定して取り付けた。 Using the metal mesh produced by the above method as the anode electrode 5, the cathode electrode 3, the cathode side catalyst layer 4, the electrolyte membrane 2 and the anode electrode 5 were laminated and pressed at 190 ° C. and 50 kgf / cm 2 for 5 minutes. At this time, the surface of the anode electrode 5 on which the plating film was applied was made to be a surface in contact with the outside air toward the opposite side of the electrolyte membrane 2. The electrolyte membrane 2 was a DuPont solid polymer electrolyte membrane (Nafion), the cathode catalyst layer 4 was platinum Pt fine powder, and the cathode electrode was carbon paper. Thereafter, carbon powder carrying platinum Pt on the exposed surface of the anode electrode 5 was applied to a thickness of about 30 μm using a coating robot. The dehumidifying element obtained by the above method was punched out using a press machine, and an electrode serving as a contact point with an external DC power source was fixed and attached with a resin casing.

上記の実施例1〜4と比較例1において製造した金属メッシュに対し、めっき領域におけるプラチナめっき膜の膜厚を測定した。膜厚はめっき膜で被覆されている領域を5点測定し、その平均値を求めた。ここで、実施例の平均膜厚を比較例の平均膜厚で割った値を、めっき効率として定義する。   For the metal mesh produced in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 above, the thickness of the platinum plating film in the plating region was measured. The film thickness was measured at five points in the area covered with the plating film, and the average value was obtained. Here, the value obtained by dividing the average film thickness of the example by the average film thickness of the comparative example is defined as the plating efficiency.

図19は、実施例1〜4及び比較例1のそれぞれにおける平均膜厚及びめっき効率を示す表である。図19からわかるように、実施例1〜4の全てで、めっき効率は1より高い値が得られている。これは、従来の方法と同等の膜厚を得るために必要なプラチナPtの量を削減できることを示している。例えば、実施例1のめっき効率は1.85であり、この方法を用いた場合に比較例1と同等の膜厚を得るために必要な電気量は、1/1.85=0.54で、比較例1の0.54倍となる。このため、例えばめっき時間を0.54倍の324秒とすることで、従来の方法と同様の膜厚が得られ、かつ金属の使用量を0.54倍に削減することができる。   FIG. 19 is a table showing the average film thickness and plating efficiency in each of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1. As can be seen from FIG. 19, in all of Examples 1 to 4, the plating efficiency is higher than 1. This indicates that the amount of platinum Pt required to obtain a film thickness equivalent to that of the conventional method can be reduced. For example, the plating efficiency of Example 1 is 1.85, and the amount of electricity required to obtain a film thickness equivalent to that of Comparative Example 1 when this method is used is 1 / 1.85 = 0.54. This is 0.54 times that of Comparative Example 1. For this reason, for example, by setting the plating time to 0.54 times 324 seconds, the same film thickness as in the conventional method can be obtained, and the amount of metal used can be reduced to 0.54 times.

1 除湿素子、2 電解質膜、3 陰極電極、4 陰極側触媒層、5 陽極電極、6 陽極側触媒層、9 メッシュ材、10 酸化膜、11 めっき膜、91 第1面、92 第2面、21 めっき領域、22 非めっき領域、23 マスキング板、23a〜23c マスキング板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dehumidification element, 2 Electrolyte membrane, 3 Cathode electrode, 4 Cathode side catalyst layer, 5 Anode electrode, 6 Anode side catalyst layer, 9 Mesh material, 10 Oxide film, 11 Plating film, 91 1st surface, 92 2nd surface, 21 plating area | region, 22 non-plating area | region, 23 masking board, 23a-23c masking board.

Claims (7)

金属で構成されたメッシュ材を熱処理して前記メッシュ材の外面を被覆する酸化膜を形成する熱処理工程、
前記熱処理工程後、湿式ブラスト又は乾式ブラストにより前記メッシュ材から前記酸化膜の一部を除去するブラスト処理工程、及び
前記ブラスト処理工程後、前記メッシュ材の外面のうち、前記酸化皮膜が除去されて露出している部分に、前記メッシュ材を構成する金属と異なる金属で構成されためっき膜を形成するめっき工程
を備えている金属メッシュの製造方法。
A heat treatment step for forming an oxide film covering the outer surface of the mesh material by heat-treating the mesh material composed of metal;
After the heat treatment step, a blast treatment step of removing a part of the oxide film from the mesh material by wet blasting or dry blasting; and after the blast treatment step, the oxide film is removed from the outer surface of the mesh material. A method for producing a metal mesh, comprising: a plating step of forming a plating film made of a metal different from the metal constituting the mesh material on the exposed portion.
前記ブラスト処理工程は、開口部が設けられたマスキング板を前記メッシュ材に重ねた状態で、研磨剤を含む噴射流を前記メッシュ材に前記開口部を通して噴射するマスキング処理工程を含んでいる請求項に記載の金属メッシュの製造方法。 The blast treatment step includes a masking treatment step of jetting a jet flow containing an abrasive to the mesh material through the opening in a state where a masking plate provided with an opening is overlapped on the mesh material. 2. A method for producing a metal mesh according to 1 . 前記ブラスト処理工程は、複数の前記マスキング処理工程を含み、
前記マスキング板を前記メッシュ材に重ねた状態での前記メッシュ材に対する前記開口部の位置と、前記メッシュ材に噴射される前記噴射流の種類とは、各前記マスキング工程で異なっている請求項に記載の金属メッシュの製造方法。
The blasting process includes a plurality of the masking processes,
The position of said opening with respect to the mesh material of the masking plate in a state superimposed on the mesh material, the type of the jet injected into the mesh material, according to claim 2 which is different in each of said masking step The manufacturing method of the metal mesh as described in 1 ..
前記ブラスト処理工程後、前記めっき工程前に、前記メッシュ材の外面に付着した付着物を前記メッシュ材の外面から洗い流す超音波洗浄工程、及び
前記超音波洗浄工程後、前記めっき工程前に、前記メッシュ材の外面に再生成した再生成酸化膜を前記メッシュ材の外面から除去する酸処理工程
を備えている請求項〜請求項のいずれか一項に記載の金属メッシュの製造方法。
After the blasting process, before the plating process, an ultrasonic cleaning process for washing out deposits adhering to the outer surface of the mesh material from the outer surface of the mesh material, and after the ultrasonic cleaning process, before the plating process, metal mesh method according to any one of claims 1 to 3 in which the regeneration oxide film regenerated to the outer surface of the mesh material comprises an acid treatment step of removing from an outer surface of said mesh material.
電解質膜、
前記電解質膜の一方の面に設けられた陰極電極、
前記電解質膜と前記陰極電極との間に介在する陰極側触媒層、
前記電解質膜の他方の面に設けられた陽極電極、及び
前記陽極電極の少なくとも一部を覆う陽極側触媒層
を備え、
前記陽極電極は、金属で構成されたメッシュ材と、前記メッシュ材を被覆し、前記メッシュ材を構成する金属が酸化してできた酸化膜と、前記酸化膜を避けて前記メッシュ材を被覆し、前記メッシュ材を構成する金属と異なる金属で構成されためっき膜とを有する金属メッシュであり、
前記メッシュ材の厚さ方向について、前記メッシュ材の一方の側から見える前記メッシュ材の面を第1面とし、前記メッシュ材の他方の側から見える前記メッシュ材の面を第2面とすると、
前記酸化膜は、前記第1面を被覆するとともに前記電解質膜に接触しており、
前記めっき膜は、前記第2面を被覆している除湿素子。
Electrolyte membrane,
A cathode electrode provided on one surface of the electrolyte membrane;
A cathode-side catalyst layer interposed between the electrolyte membrane and the cathode electrode;
An anode electrode provided on the other surface of the electrolyte membrane, and an anode side catalyst layer covering at least a part of the anode electrode,
The anode electrode includes a mesh material made of metal, an oxide film formed by oxidizing the metal constituting the mesh material, and covering the mesh material while avoiding the oxide film. , A metal mesh having a plating film composed of a metal different from the metal constituting the mesh material,
With respect to the thickness direction of the mesh material, the surface of the mesh material visible from one side of the mesh material is the first surface, and the surface of the mesh material visible from the other side of the mesh material is the second surface,
The oxide film covers the first surface and is in contact with the electrolyte membrane,
The plating film is a dehumidifying element that covers the second surface.
陰極電極と、陰極側触媒層と、電解質膜と、金属メッシュである陽極電極とを順次積層した状態でプレスして積層体を得るプレス工程、及び
前記プレス工程後、前記電解質膜からの前記陽極電極の露出面の少なくとも一部を覆う陽極側触媒層を前記電解質膜に設ける陽極側触媒層形成工程
を備え、
前記金属メッシュは、
金属で構成されたメッシュ材と、
前記メッシュ材を被覆し、前記メッシュ材を構成する金属が酸化してできた酸化膜と、
前記酸化膜を避けて前記メッシュ材を被覆し、前記メッシュ材を構成する金属と異なる金属で構成されためっき膜と
を有し、
前記メッシュ材の厚さ方向について、前記メッシュ材の一方の側から見える前記メッシュ材の面を第1面とし、前記メッシュ材の他方の側から見える前記メッシュ材の面を第2面とすると、
前記酸化膜は、前記第1面を被覆し、
前記めっき膜は、前記第2面を被覆しており、
前記プレス工程では、前記酸化膜を前記電解質膜に接触させた状態で前記積層体を得る除湿素子の製造方法。
A cathode electrode, and the cathode-side catalyst layer, an electrolyte membrane, pressing process to obtain a press to laminate in a state of sequentially laminating an anode electrode is metallic mesh, and after the pressing step, the from the electrolyte membrane An anode side catalyst layer forming step of providing an anode side catalyst layer covering at least a part of the exposed surface of the anode electrode on the electrolyte membrane,
The metal mesh is
Mesh material made of metal,
An oxide film formed by coating the mesh material and oxidizing the metal constituting the mesh material;
A plating film made of a metal different from the metal constituting the mesh material, covering the mesh material while avoiding the oxide film;
Have
With respect to the thickness direction of the mesh material, the surface of the mesh material visible from one side of the mesh material is the first surface, and the surface of the mesh material visible from the other side of the mesh material is the second surface,
The oxide film covers the first surface,
The plating film covers the second surface,
In the pressing step, a dehumidifying element manufacturing method for obtaining the laminate in a state where the oxide film is in contact with the electrolyte membrane.
陰極電極と、陰極側触媒層と、電解質膜と、金属メッシュから得られた陽極電極とを順次積層した状態でプレスして積層体を得るプレス工程、及び
前記プレス工程後、前記電解質膜からの前記陽極電極の露出面の少なくとも一部を覆う陽極側触媒層を前記電解質膜に設ける陽極側触媒層形成工程
を備え、
前記金属メッシュは、
金属で構成されたメッシュ材と、
前記メッシュ材を被覆し、前記メッシュ材を構成する金属が酸化してできた酸化膜と、
前記酸化膜を避けて前記メッシュ材を被覆し、前記メッシュ材を構成する金属と異なる金属で構成されためっき膜と
を有し、
前記メッシュ材の厚さ方向について、前記メッシュ材の一方の側から見える前記メッシュ材の面を第1面とし、前記メッシュ材の他方の側から見える前記メッシュ材の面を第2面とすると、
前記第2面は、めっき領域と非めっき領域とに分けられており、
前記酸化膜は、前記第1面と前記非めっき領域とを被覆し、
前記めっき膜は、前記めっき領域を被覆しており、
前記陽極電極は、前記めっき領域で前記金属メッシュを打ち抜くことにより得られ、
前記プレス工程では、前記酸化膜を前記電解質膜に接触させた状態で前記積層体を得る除湿素子の製造方法。
A cathode electrode, and the cathode-side catalyst layer, an electrolyte membrane, the pressing step is pressed to obtain a laminate in a state obtained by sequentially stacking the anode electrode from the metallic mesh, and after the pressing step, from the electrolyte membrane An anode side catalyst layer forming step in which an anode side catalyst layer covering at least a part of the exposed surface of the anode electrode is provided on the electrolyte membrane,
The metal mesh is
Mesh material made of metal,
An oxide film formed by coating the mesh material and oxidizing the metal constituting the mesh material;
A plating film made of a metal different from the metal constituting the mesh material, covering the mesh material while avoiding the oxide film;
Have
With respect to the thickness direction of the mesh material, the surface of the mesh material visible from one side of the mesh material is the first surface, and the surface of the mesh material visible from the other side of the mesh material is the second surface,
The second surface is divided into a plating region and a non-plating region,
The oxide film covers the first surface and the non-plated region,
The plating film covers the plating region,
The anode electrode is obtained by punching the metal mesh in the plating region,
In the pressing step, a dehumidifying element manufacturing method for obtaining the laminate in a state where the oxide film is in contact with the electrolyte membrane.
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