JP6362364B2 - 回折格子、および回折格子の製造方法 - Google Patents
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Description
まず、本発明の第1実施形態に係る回折格子について説明する。本実施形態に係る回折格子は、反射層を有し、非対称三角形状が連続して配置される断面構造の反射型回折格子である。本回折格子は、例えばArFエキシマレーザ装置用(ArFエキシマレーザ光生成時の分光用)として用いられるものであり、狭帯域化と同時に、放電チャンバー内の出力鏡と合わせて共振器の一端としての役割も果たす。
mλ=2d・sinθ (1)
アルゴン−フッ素により励起、放出され、回折格子1に照射される光の波長λを193.00nmとし、次数mを105とすると、式(1)より、格子間隔dは、10.32953μmとなる。
φ+θ≦169.25 (2)
すなわち、この領域内で高効率解を導出すれば、高効率で、かつ製造に困難を伴わない回折格子が得られることになる。ここで、本実施形態でいう「高効率」とは、効率が図2に示される上記の計算条件下の最高効率に対して98.5%以上である場合と定義する。この程度の効率を有する回折素子であれば、ほぼ効率が最適に近く、効率的に良好な回折素子であると言える。そして、高効率条件を満たす条件を図2に示す領域において検討すると、頂角φおよびブレーズ角θは、以下の範囲に規定される。
θ=0.3663159φ+48.8441033 (3)
また、高効率条件の境界を表す曲線は、式(4)で表される。
θ=0.1127291φ2−19.6745343φ
+938.7421566 (4)
すなわち、3つの線に囲まれる領域は、既出の式(2)で表される第1直線の条件に加え、式(5)で表される。
0.1127291φ2−19.67453φ+938.74+θd≦θ≦0.36631φ+48.84+θd (5)
次に、本発明の第2実施形態に係る回折格子について説明する。第1実施形態では、光線入射角αを79.25度とした場合の回折格子を例示したが、本実施形態では、光線入射角αを変数と考える。なお、本実施形態の回折格子の各構成要素および部分には、第1実施形態に係る回折格子1の各構成要素および部分と同一の符号を付す。ここで、カウンタ面9に光線5が入射しない条件は、式(6)で表される。
φ+θ≦90+α (6)
0.1127291(φ−φd)2−19.67453(φ−φd)+938.74+θd≦θ≦0.36631(φ−φd)+48.84+θd (7)
6 ブレーズ面
9 カウンタ面
α 光線入射角
θ ブレーズ角
φ 頂角
Claims (4)
- 断面が非対称な三角形状の格子を有する反射型の回折格子であって、
前記三角形状の短辺と平面とのなす角をθ度とし、前記短辺と前記三角形状の長辺とのなす角をφ度とし、前記平面の法線に対する光の入射角をα度とすると、前記なす角θ、φは、
φ+θ≦90度+α、
(0.1127291(φ−φd)2−19.67453(φ−φd)+938.74+θd)度≦θ≦(0.36631(φ−φd)+48.84+θd)度
(ただし、φd=0.845σ度、θd=1.065σ度、σ=(α−79.25)度である)の式で表される条件を満たす
ことを特徴とする回折格子。 - 前記光の入射角は、79.1度から79.5度までの範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の回折格子。
- 前記光の波長は、150nmから300nmまでの範囲にあることを特徴とする請求項1または2に記載の回折格子。
- 断面が非対称な三角形状の格子を有する反射型の回折格子の製造方法であって、
前記三角形状の短辺と平面とのなす角をθ度とし、前記短辺と前記三角形状の長辺とのなす角をφ度とし、前記平面の法線に対する光の入射角をα度とすると、
前記なす角θ、φが下記の条件式を満たすように、下記の条件式を用いて前記なす角θ、φを設計するステップと、
φ+θ≦90度+α、
(0.1127291(φ−φd)2−19.67453(φ−φd)+938.74+θd)度≦θ≦(0.36631(φ−φd)+48.84+θd)度
(ただし、φd=0.845σ度、θd=1.065σ度、σ=(α−79.25)度である)
該設計された前記なす角θ、φとなるように前記格子を形成するステップと、
を有することを特徴とする製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014045908A JP6362364B2 (ja) | 2014-03-10 | 2014-03-10 | 回折格子、および回折格子の製造方法 |
| EP15000643.5A EP2919047B1 (en) | 2014-03-10 | 2015-03-05 | Diffraction grating of the reflective-type |
| US14/641,890 US9583910B2 (en) | 2014-03-10 | 2015-03-09 | Diffraction grating, laser apparatus, and manufacturing method for diffraction grating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014045908A JP6362364B2 (ja) | 2014-03-10 | 2014-03-10 | 回折格子、および回折格子の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018074848A Division JP2018139300A (ja) | 2018-04-09 | 2018-04-09 | レーザ装置、および分光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015169861A JP2015169861A (ja) | 2015-09-28 |
| JP6362364B2 true JP6362364B2 (ja) | 2018-07-25 |
Family
ID=52683984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014045908A Expired - Fee Related JP6362364B2 (ja) | 2014-03-10 | 2014-03-10 | 回折格子、および回折格子の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9583910B2 (ja) |
| EP (1) | EP2919047B1 (ja) |
| JP (1) | JP6362364B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11988854B2 (en) | 2015-08-24 | 2024-05-21 | Akonia Holographics Llc | Wide field-of-view holographic skew mirrors |
| US10180520B2 (en) | 2015-08-24 | 2019-01-15 | Akonia Holographics, Llc | Skew mirrors, methods of use, and methods of manufacture |
| US10317679B2 (en) | 2016-04-04 | 2019-06-11 | Akonia Holographics, Llc | Light homogenization |
| JP7001613B2 (ja) * | 2016-04-06 | 2022-01-19 | アコニア ホログラフィックス、エルエルシー | 広視野のホログラフィックスキューミラー |
| US10649143B2 (en) | 2016-06-20 | 2020-05-12 | Akonia Holographics Llc | Polarization management |
| CN108802879B (zh) * | 2017-04-27 | 2020-08-11 | 清华大学 | 松树状金属纳米光栅的制备方法 |
| KR101923821B1 (ko) * | 2017-06-05 | 2018-11-29 | 국방과학연구소 | 유전체 다층박막 회절격자의 설계방법 |
| EP3692400B1 (en) | 2017-10-04 | 2023-10-11 | Akonia Holographics, LLC | Comb-shifted skew mirrors |
| JP7489115B2 (ja) | 2019-01-15 | 2024-05-23 | ルムス エルティーディー. | 対称導光光学素子を製造する方法 |
| CN111399202B (zh) * | 2020-05-12 | 2020-12-15 | 西安交通大学 | 无零级衍射光的空间光调制器耦合装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6511703B2 (en) | 1997-09-29 | 2003-01-28 | Cymer, Inc. | Protective overcoat for replicated diffraction gratings |
| US6067197A (en) * | 1998-12-23 | 2000-05-23 | Spectronic Instruments, Inc. | Difraction grating having enhanced blaze performance at two wavelengths |
| DE10158638A1 (de) * | 2001-11-29 | 2003-06-26 | Zeiss Carl Laser Optics Gmbh | Optische Anordnung, Littrow-Gitter zur Verwendung in einer optischen Anordnung sowie Verwendung eines Littrow-Gitters |
| US6958859B2 (en) * | 2002-08-02 | 2005-10-25 | Chromaplex, Inc. | Grating device with high diffraction efficiency |
| DE102009031688B4 (de) * | 2009-06-26 | 2013-12-24 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Verfahren zum Bestimmen eines Beugungsgitters |
| JP6066634B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2017-01-25 | キヤノン株式会社 | エシェル型回折格子の製造方法およびエキシマレーザの製造方法 |
| JP6153305B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2017-06-28 | キヤノン株式会社 | エシェル型回折格子の製造方法 |
-
2014
- 2014-03-10 JP JP2014045908A patent/JP6362364B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-03-05 EP EP15000643.5A patent/EP2919047B1/en not_active Not-in-force
- 2015-03-09 US US14/641,890 patent/US9583910B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2919047A1 (en) | 2015-09-16 |
| US9583910B2 (en) | 2017-02-28 |
| JP2015169861A (ja) | 2015-09-28 |
| US20150255946A1 (en) | 2015-09-10 |
| EP2919047B1 (en) | 2018-05-30 |
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