JP6400436B2 - 断層撮影システム - Google Patents

Description

本発明は、ガントリを有する断層撮影システムに関するものである。

測定空間を囲むガントリを有する断層撮影システムとして、ＰＥＴ（PositronEmission Tomography）、ＳＰＥＣＴ（SinglePhoton Emission Computed Tomography）、Ｘ線ＣＴ（ComputedTomography）およびＭＲＩ（Magnetic Resonance Imaging）の各システムが挙げられ、また、ＰＥＴまたはＳＰＥＣＴとＸ線ＣＴとを組み合わせたシステムや、ＰＥＴとＭＲＩとを組み合わせたシステムなど、２種以上のものを組み合わせたシステムも挙げられる。このような断層撮影システムは、ガントリの測定空間内に配置された被検体（生体）の全身または一部（例えば頭部）の断層画像を取得することができる。

このような断層撮影システムを用いて被検体の断層画像を再構成するための測定データを取得するのに数分〜数十分もの測定時間を要する。この測定時間に亘って被検体は動かないことが求められる。よって、被検体の測定部位の固定を行うのが一般的である。しかし、被検体の固定（特に測定部位としての頭部の固定）は、被検体の身体的および精神的な負担が大きい。それ故、被検体を固定することなく測定データの取得を行なうことが望まれる。このような要求に応えることを意図した発明が特許文献１，２に開示されている。

特許文献１に開示された発明は、ガントリの測定空間内に配置される被検体の頭部にマーカを装着し、ガントリの測定空間の外からマーカを撮像することで被検体の体動を検出し、この体動検出結果に基づいて測定データを補正して、この補正後の測定データに基づいて被検体の断層画像を再構成する。

特許文献２に開示された発明は、ガントリの測定空間内に被検体を挿入する開口部の周りに複数個の距離センサを対向配置し、この距離センサにより被検体の体動を検出し、この体動検出結果に基づいて測定データを補正して、この補正後の測定データに基づいて被検体の断層画像を再構成する。

特開平２−２０９１３３号公報 特開平４−１２８６７９号公報

特許文献１に開示された発明は、被検体の体動を或る程度は許容することができる。しかし、被検体にマーカを装着する必要があることから、被検体の身体的・精神的な拘束が依然としてあり、マーカの光学的連続撮像を適切に行なうことができない可能性がある。特に被検体が認知症などの重度の患者である場合にはマーカの装着が負担となり、測定が中断されることも考えられる。

特許文献２に開示された発明は、ガントリの設計・開発と同時に距離センサを取り付ける必要があることから、既存の断層撮影システムのガントリに追加で設けることができない。また、被検体は、ガントリの開口部の周りに配置された距離センサの存在を容易に確認することができることから、撮られているという精神的拘束を感じてしまう可能性がある。

本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、ガントリの測定空間内に配置された被検体の身体的・精神的な拘束を更に低減することができる断層撮影システムを提供することを目的とする。

本発明の断層撮影システムは、(1) 所定軸の周りの測定空間を囲むガントリを含み、測定空間内に配置された被検体から測定データを取得する測定部と、(2) 測定空間内に配置され、所定軸に対向する反射面を有し、その反射面が所定軸に垂直な断面において曲率を有する凹面鏡と、(3) 測定空間内に配置された被検体から発した光が凹面鏡で反射されて形成される像の歪みを補償する光学系と、(4) 測定空間外に配置され、光学系により歪みを補償された像を撮像する撮像部と、(5) 撮像部により撮像された像に基づいて被検体の体動を検出し、この体動検出結果に基づいて測定部により取得された測定データを補正し、この補正後の測定データに基づいて被検体の断層画像を再構成する処理部と、を備える。

本発明の断層撮影システムは、凹面鏡が、ガントリの内壁面に取り付けられているのが好適である。また、凹面鏡が、所定軸に平行な中心軸を有する円柱面の一部である反射面形状を有するのが好適である。

本発明の断層撮影システムは、光学系が、所定軸に平行な中心軸を有する円柱面の一部である反射面形状を有する曲面鏡を含むのが好適である。光学系が、所定軸に平行な中心軸を有する円柱面の一部である反射面形状を有する曲面鏡を含み、この曲面鏡の焦点が凹面鏡の焦点と一致するのが好適である。光学系が、凹面鏡から入射した光を曲面鏡へ反射させる平面鏡を更に含んでいてもよい。また、光学系の少なくとも一部が測定空間外に配置されていてもよい。

本発明の断層撮影システムは、撮像部が、測定空間外の複数の位置それぞれにおいて、光学系により歪みを補償された像を撮像するのが好適である。

本発明によれば、ガントリの測定空間内に配置された被検体の身体的・精神的な拘束を更に低減することができる。

本実施形態の断層撮影システム１の全体構成図である。 本実施形態の断層撮影システム１の第１構成例を示す図である。 本実施形態の断層撮影システム１の第１構成例と等価なレンズ系を示す図である。 本実施形態の断層撮影システム１の第１構成例のシミュレーション結果を示す図である。 本実施形態の断層撮影システム１の第２構成例を示す図である。 本実施形態の断層撮影システム１の第２構成例のシミュレーション結果を示す図である。 本実施形態の断層撮影システム１の第３構成例を示す図である。 本実施形態の断層撮影システム１の第４構成例を示す図である。 本実施形態の断層撮影システム１の第５構成例を示す図である。 本実施形態の断層撮影システム１の第５構成例において撮像部４０としてのカメラ４１，４２により撮像された画像を示す図である。

以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

図１は、本実施形態の断層撮影システム１の全体構成図である。断層撮影システム１は、測定部１０、凹面鏡２０、光学系３０、撮像部４０および処理部５０を備え、測定空間Ｓ内に配置された被検体９０の体動を補正して被検体９０の断層画像を再構成することができる。なお、同図では、測定部１０，凹面鏡２０および光学系３０については断面図が示され、撮像部４０および処理部５０についてはブロック図が示されている。

断層撮影システム１は、測定部１０がガントリ１１を含むものであれば何れのシステムであってもよい。断層撮影システム１は、ＰＥＴ，ＳＰＥＣＴ，Ｘ線ＣＴおよびＭＲＩの何れのシステムであってもよく、また、ＰＥＴまたはＳＰＥＣＴとＸ線ＣＴとを組み合わせたシステムや、ＰＥＴとＭＲＩとを組み合わせたシステムなど、２種以上のものを組み合わせたシステムであってもよい。以下では断層撮影システム１がＰＥＴシステムであるとして説明をする。

測定部１０は、所定軸Ａｘの周りの測定空間Ｓを囲むガントリ１１を含み、測定空間Ｓ内に配置された被検体９０から測定データを取得する。測定空間Ｓは、ガントリ１１の内壁面（円柱面）で囲まれた円柱領域に含まれる。ガントリ１１内には、多数の検出器１２、シールドコリメータ１３およびスライスコリメータ１４が設けられている。

各検出器１２は、例えばシンチレータおよび光電子増倍管を組み合わせた放射線検出器である。各検出器１２は、陽電子放出アイソトープ（ＲＩ）が投入された被検体９０内における電子・陽電子の対消滅に伴って発生したエネルギ５１１ｋｅＶの光子（γ線）を検出し、その検出した光子のエネルギに応じた値の信号を処理部５０へ出力する。複数の検出器１２が所定軸Ａｘの周りに配列されてリングが構成され、複数のリングが所定軸Ａｘの方向に積層されている。

シールドコリメータ１３は、外部へのγ線の漏洩を防止する。スライスコリメータ１４は、所定軸Ａｘに略垂直な方向に飛行する光子を選択的に検出器１２が検出てきるようにする。スライスコリメータ１４は設けられていなくてもよい。

凹面鏡２０は、測定空間Ｓ内に配置され、所定軸Ａｘに対向する反射面を有し、その反射面が所定軸Ａｘに垂直な断面において曲率を有する。凹面鏡２０は、ガントリ１１の内壁面に取り付けられているのが好適である。また、凹面鏡２０は、所定軸Ａｘに平行な中心軸を有する円柱面の一部である反射面形状を有するのが好適である。

凹面鏡２０は、測定部１０による測定データの取得に支障がない材料からなる。凹面鏡２０として、光（可視光または不可視光）を反射するフィルムを用いてもよく、赤外光を反射する熱線反射フィルムを用いてもよい。熱線反射フィルムは、例えば室内への赤外光入射を低減する為に窓ガラスに貼り付けられて用いられるものであり、波長８７０ｎｍの赤外光に対し約８５％の反射率を有するものが知られている。

凹面鏡２０として反射フィルムを用いる場合、その反射フィルムを歪みや皺が生じないようにガントリ１１の内壁面に貼り付けてもよい。ガントリ１１の内壁面に直接に反射フィルムを貼り付けるのが困難である場合には、軟性ポリ塩化ビニルシート等の軟性シートに反射フィルムを張り付けたものを、ガントリ１１の内壁面に貼り付けてもよい。

凹面鏡２０は、反射フィルム以外に、通常のミラー、反射コーティングしたミラー、銀等の反射加工したミラーであってもよい。凹面鏡２０の反射面の曲率半径は、ガントリ１１の内半径と同じでなくてもよい。凹面鏡２０の反射面の形状は、放物面等の非球面であってもよい。凹面鏡２０は、ガントリ１１の内壁面に直接に取り付けられていてもよいし、他の保持治具により測定空間Ｓ内に設置されていてもよい。

光学系３０は、測定空間Ｓ内に配置された被検体９０から発した光が凹面鏡２０で反射されて形成される像の歪みを補償する。光学系３０は、所定軸Ａｘに平行な中心軸を有する円柱面の一部である反射面形状を有する曲面鏡（凹面鏡または凸面鏡）を含むのが好適である。また、この曲面鏡の焦点が凹面鏡２０の焦点と一致するのが好適である。

光学系３０は、曲面鏡に加えて平面鏡を含んでいてもよいし、曲面鏡に加えて又は替えてシリンドリカルレンズを含んでいてもよい。光学系３０は、全体が測定空間Ｓ内に配置されてもよいし、全体が測定空間Ｓ外に配置されてもよいし、一部が測定空間Ｓ内に配置され残部が測定空間Ｓ外に配置されてもよい。光学系３０は、凹面鏡２０と同様に反射フィルムを用いてもよい。

撮像部４０は、測定空間Ｓ外に配置され、光学系３０により歪みを補償された像を撮像する。撮像部４０は、１つのカメラを含んでいてもよいし、複数のカメラを含んでいてもよく、後者の場合には、測定空間Ｓ外の複数の位置それぞれにおいて、歪みを補償された像を撮像する。各カメラは、観察したい角度および大きさに応じて設置位置やカメラレンズが調節される。被検体９０，凹面鏡２０および光学系３０の位置関係等により、光学系３０により歪みを補償された像の結像位置が異なるので、想定される被検体９０の移動範囲を考慮して各カメラが設置される。

撮像部４０のカメラレンズは、魚眼レンズであってもよい。撮像部４０は、湾曲した画像の歪みを補正するための補正レンズ（高次非球面レンズ等）が取り付けられていてもよい。撮像部４０は、被検体９０から発した光が凹面鏡２０および光学系３０を複数回反射等して到達したものの像を撮像してもよい。

処理部５０は、撮像部４０により撮像された像に基づいて被検体９０の体動を検出し、この体動検出結果に基づいて測定部１０により取得された測定データを補正し、この補正後の測定データに基づいて被検体９０の断層画像を再構成する。より具体的には以下のとおりである。

処理部５０は、撮像部４０により撮像された像を入力して、この画像における特徴点の位置を検出する。特徴点は、被検体９０の位置の特定に用いることができる情報であって、例えば、被検体９０が有している部位（例えば、目、鼻、口など）であってもよいし、被検体９０の３次元形状（複数点で構成された点群）であってもよいし、また、計算によって算出された被検体９０の重心点であってもよい。また、特徴点は、被検体９０の顔や頭などに貼り付けられたマーカであってもよい。

撮像部４０が複数のカメラを含む場合、各カメラにより撮像された複数の画像に共通の特徴点が存在すれは、処理部５０は、エピポーラ幾何により、複数の画像における特徴点の対応関係に基づいて被検体９０の体動を検出することができる。また、処理部５０は、画像から推定された特徴点の３次元位置と実際の特徴点の３次元位置との間の関係を表す変換テーブル等を算出しておけば、得られた画像から実際の３次元位置情報を求めることができる。

処理部５０は、測定部１０の何れか２つの検出器１２がエネルギ５１１ｋｅＶの光子を同時検出した事象（イベント）を表す同時計数情報を、測定データとして測定部１０から入力する。この同時計数情報は、エネルギ５１１ｋｅＶの光子を同時検出した２つの検出器１２の識別情報を含む。ＲＩが投入された被検体９０において電子・陽電子の対消滅が発生した位置は、これら２つの検出器１２の受光面を互いに結ぶ線分（同時計数ライン）上にある。

処理部５０は、同一タイミングで得られた測定データおよび体動検出結果に基づいて、測定データ（同時計数情報）から得られる同時計数ラインを体動検出結果に応じて補正することで、被検体９０内における電子・陽電子対消滅位置を通る同時計数ラインに変換する。そして、処理部５０は、このようにして補正した測定データを蓄積し、その蓄積した補正後の測定データに基づいて被検体９０の断層画像を再構成する。

本実施形態の断層撮影システム１は、被検体９０に照明光を照射する為の照明光源を備えていてもよいし、照明光源を備えていなくてもよい。被検体９０が自己発光体である場合や、被検体９０にマーカとして発光体が取り付けられる場合には、照明光源は不要である。発光体から出る光は、可視光および不可視光（赤外領域・紫外領域）など何れの波長域であってもよいが、被検体９０から凹面鏡２０および光学系３０を経て撮像部４０により撮像され得る波長域であることが必要である。

照明光源を設ける場合には、照明光は可視光および不可視光（赤外領域・紫外領域）など何れの波長域であってもよいが、照明光の照射に伴い被検体９０で生じる反射光は、被検体９０から凹面鏡２０および光学系３０を経て撮像部４０により撮像され得る波長域であることが必要である。照明光源の設置位置は任意である。被検体９０に直接に照明光を照射し得る位置に照明光源を設置してもよい。また、測定空間Ｓ外に照明光源を設置して、光学系３０および凹面鏡２０を介して照明光を被検体９０に照射してもよい。

照明光源は、発光ダイオード、蛍光灯、白熱灯、レーザ光源など任意のものであってよい。被検体９０に照射される照明光は、被検体９０の或る範囲に亘って照射されてもよいし、スリット光や格子状などのパターン光であってもよい。照明光は、広帯域であってもよいし、単一波長であってもよいし、複数波長であってもよい。照明光が広帯域光または複数波長である場合には、特定の波長の光を選択的に透過させる光フィルタを撮像部４０の前に設けてもよい。

次に、本実施形態の断層撮影システム１における凹面鏡２０，光学系３０および撮像部４０の具体的な構成例について説明する。

図２は、本実施形態の断層撮影システム１の第１構成例を示す図である。測定空間Ｓの中心である所定軸Ａｘをｚ軸とするｘｙｚ直交座標系を想定する。ガントリ１１が囲む測定空間Ｓの直径をｄとする。凹面鏡２０は、所定軸Ａｘに平行な中心軸を有する直径ｄの円柱面の一部を反射面とするものであり、ガントリ１１の内壁面に貼り付けられている。光学系３０としての凹面鏡３１は、所定軸Ａｘに平行な中心軸を有する直径ｄの円柱面の一部を反射面とするものであり、当該円柱面が所定軸Ａｘに接するように配置されている。凹面鏡２０および凹面鏡３１それぞれの焦点距離ｆはｄ／４である。凹面鏡２０および凹面鏡３１は、各々の焦点がｙｚ平面上で互いに一致するように配置されている。撮像部４０のカメラはｙｚ平面上に位置している。

図３は、本実施形態の断層撮影システム１の第１構成例と等価なレンズ系を示す図である。凹面鏡２０は焦点距離ｆのシリンドリカルレンズ２０Ａと等価であり、凹面鏡３１は焦点距離ｆのシリンドリカルレンズ３１Ａと等価である。第１構成例は、シリンドリカルレンズ２０Ａとシリンドリカルレンズ３１Ａとが互いに距離２ｆだけ離間している構成と等価である。

被検体９０とシリンドリカルレンズ２０Ａとの間の距離が焦点距離ｆより短いと、シリンドリカルレンズ２０Ａによって虚像９１が形成され、この虚像９１からシリンドリカルレンズ３１Ａによって実像９２が形成される。逆に被検体９０とシリンドリカルレンズ２０Ａとの間の距離が焦点距離ｆより長いと、シリンドリカルレンズ２０Ａによって実像が形成され、この実像からシリンドリカルレンズ３１Ａによって別の実像が形成される。このように、何れの場合にも、Ｘ軸方向についてはリレーレンズと同じ原理で等倍の逆像となり、Ｚ軸方向については通常の鏡面反射と同じである。すなわち、凹面鏡３１によって形成される実像は被検体９０のＸ軸方向に等倍の逆像となる。

仮に、光学系３０としての凹面鏡３１が設けられることなく、凹面鏡２０により反射された後の像を撮像部４０が撮像する場合、その像は大きく歪んでいるだけでなく、被検体９０と凹面鏡２０との間の距離と焦点距離ｆとの大小関係によって、像が異なり、撮像部４０が撮像をすることができない場合がある。これに対して、本実施形態では、凹面鏡２０に加えて光学系３０を設けることにより、撮像部４０が適切な撮像をすることができる。

図４は、本実施形態の断層撮影システム１の第１構成例のシミュレーション結果を示す図である。ここでは、被検体９０として、チェス盤のようなチェッカー模様が描かれた平板を用いた。同図に示されるように、撮像部４０は、被検体９０のチェッカー模様と略一致しており曲面歪みが小さく平面反射画像に近い画像を取得できる。

図５は、本実施形態の断層撮影システム１の第２構成例を示す図である。第２構成例では、光学系３０として凹面鏡３１に替えて凸面鏡３２が設けられている。凸面鏡３２は、所定軸Ａｘに平行な中心軸を有する直径ｄ未満の円柱面の一部を反射面とするものである。凹面鏡２０の焦点距離fはｄ／４であり、凸面鏡３２の焦点距離ｆ2はｄ／４より短い。凹面鏡２０および凹面鏡３１は、各々の焦点がｙｚ平面上で互いに一致するように配置されている。撮像部４０のカメラはｙｚ平面上に位置している。

図６は、本実施形態の断層撮影システム１の第２構成例のシミュレーション結果を示す図である。ここでも、被検体９０として、チェス盤のようなチェッカー模様が描かれた平板を用いた。凸面鏡３２の焦点距離を、凹面鏡２０の焦点距離の２分の１とした。同図に示されるように、撮像部４０は、被検体９０のチェッカー模様と略一致しており曲面歪みが小さく平面反射画像に近い画像を取得できる。第１構成例と比べて、第２構成例では、撮像部４０が取得する画像のサイズがＸ軸方向について２分の１となる。

図７は、本実施形態の断層撮影システム１の第３構成例を示す図である。第３構成例では、光学系３０として、平面鏡３３が設けられ、また、凹面鏡２０の延長として凹面鏡３４が設けられている。凹面鏡３４は、凹面鏡２０と同様に、所定軸Ａｘに平行な中心軸を有する直径ｄの円柱面の一部を反射面とするものであり、ガントリ１１の内壁面に貼り付けられていて、焦点がｙｚ平面上にある。平面鏡３３は、凹面鏡２０および凹面鏡３４それぞれの焦点位置にあって、ｘｚ平面に平行に設けられている。この第３構成例では、被検体９０から発した光は、凹面鏡２０、平面鏡３３および凹面鏡３４により順次に反射されて、撮像部４０により受光される。この第３構成例は、平面鏡３３が設けられているものの、実質的には第１構成例と等価である。

図８は、本実施形態の断層撮影システム１の第４構成例を示す図である。第４構成例では、光学系３０としてシリンドリカルレンズ３５が設けられている。シリンドリカルレンズ３５の焦点は、凹面鏡２０の焦点と一致している。この第４構成例では、被検体９０から発した光は、凹面鏡２０により反射され、シリンドリカルレンズ３５を経て撮像部４０により受光される。前述したように第４構成例におけるシリンドリカルレンズ３５は第１構成例における凹面鏡３１と等価な機能を有するので、この第４構成例は実質的には第１構成例と等価である。なお、撮像部４０のカメラレンズとシリンドリカルレンズ３５とは、一体化されたレンズ系となっていてもよい。

図９は、本実施形態の断層撮影システム１の第５構成例を示す図である。第５構成例では、第１構成例において、撮像部４０として２つのカメラ４１，４２が設けられたものである。これら２つのカメラ４１，４２は、測定空間Ｓ外の２つの位置それぞれにおいて、凹面鏡３１により歪みを補償された像を撮像する。同図（ａ），（ｂ）は、異なる方向から見た図である。

図１０は、本実施形態の断層撮影システム１の第５構成例において撮像部４０としてのカメラ４１，４２により撮像された画像を示す図である。ここでも、被検体９０として、チェス盤のようなチェッカー模様が描かれた平板を用いた。同図（ａ）はカメラ４１により得られた画像であり、同図（ｂ）はカメラ４２により得られた画像である。このように複数のカメラを用いることで、３次元計測に必要なステレオ画像を取得することができ、被検体９０の体動を容易に検出することができる。

本実施形態では、被検体９０にマーカ等を装着する必要はなく、非接触・非拘束で被検体９０の体動を検出し、この体動検出結果に基づいて測定データを補正して断層画像を再構成することができる。撮像部４０が測定空間Ｓ外に配置されているので、被検体９０は、撮像部４０の存在を意識することはなく、撮られているという精神的拘束を感じることがないので、この点でも精神的な拘束が小さい。本実施形態では、ガントリ１１の測定空間Ｓ内に配置された被検体９０の身体的・精神的な拘束を更に低減することができる。

本実施形態では、凹面鏡２０に加えて、凹面鏡２０で反射されて形成される像の歪みを補償する光学系３０（凸面鏡３２、平面鏡３３、凹面鏡３４、シリンドリカルレンズ３５）が設けられているので、歪みの小さい画像を撮像部４０が取得することができる。また、凹面鏡２０に加えて光学系３０が設けられていることにより、被検体９０と焦点位置との関係に影響されない画像を撮像部４０が取得することができる。

また、本実施形態では、ガントリ１１が頭部用である場合のように測定空間Ｓが狭くても、被検体９０の体動検出および測定データの補正が可能である。

１…断層撮影システム、１０…測定部、１１…ガントリ、１２…検出器、１３…シールドコリメータ、１４…スライスコリメータ、２０…凹面鏡、３０…光学系、３１…凹面鏡、３２…凸面鏡、３３…平面鏡、３４…凹面鏡、３５…シリンドリカルレンズ、４０…撮像部、４１，４２…カメラ、５０…処理部、９０…被検体。

Claims (8)

1. 所定軸の周りの測定空間を囲むガントリを含み、前記測定空間内に配置された被検体から測定データを取得する測定部と、
   前記測定空間内に配置され、前記所定軸に対向する反射面を有し、その反射面が前記所定軸に垂直な断面において曲率を有する凹面鏡と、
   前記測定空間内に配置された前記被検体から発した光が前記凹面鏡で反射されて形成される像の歪みを補償する光学系と、
   前記測定空間外に配置され、前記光学系により歪みを補償された像を撮像する撮像部と、
   前記撮像部により撮像された像に基づいて前記被検体の体動を検出し、この体動検出結果に基づいて前記測定部により取得された測定データを補正し、この補正後の測定データに基づいて前記被検体の断層画像を再構成する処理部と、
   を備える断層撮影システム。
2. 前記凹面鏡が、前記ガントリの内壁面に取り付けられている、
   請求項１に記載の断層撮影システム。
3. 前記凹面鏡が、前記所定軸に平行な中心軸を有する円柱面の一部である反射面形状を有する、
   請求項１または２に記載の断層撮影システム。
4. 前記光学系が、前記所定軸に平行な中心軸を有する円柱面の一部である反射面形状を有する曲面鏡を含む、
   請求項１〜３の何れか１項に記載の断層撮影システム。
5. 前記光学系が、前記所定軸に平行な中心軸を有する円柱面の一部である反射面形状を有する曲面鏡を含み、この曲面鏡の焦点が前記凹面鏡の焦点と一致する、
   請求項３に記載の断層撮影システム。
6. 前記光学系が、前記凹面鏡から入射した光を前記曲面鏡へ反射させる平面鏡を更に含む、
   請求項４または５に記載の断層撮影システム。
7. 前記光学系の少なくとも一部が前記測定空間外に配置されている、
   請求項１〜６の何れか１項に記載の断層撮影システム。
8. 前記撮像部が、前記測定空間外の複数の位置それぞれにおいて、前記光学系により歪みを補償された像を撮像する、
   請求項１〜７の何れか１項に記載の断層撮影システム。