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JP6413221B2 - Transparent conductive film - Google Patents
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JP6413221B2 - Transparent conductive film - Google Patents

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Description

本発明は、タッチパネルに好適な、導電性を有する銀繊維を用いた透明導電性フィルムに関する。   The present invention relates to a transparent conductive film using conductive silver fibers suitable for a touch panel.

現在、画像表示部に直接触れることにより、情報を入力できるデバイスとしてタッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは光を透過する入力装置を液晶表示装置等のディスプレイ画面上に配置したものであり、代表的な形式として、透明電極と指との間に生じる電流容量の変化を利用した静電容量式タッチパネルがある。   Currently, touch panels are widely used as devices capable of inputting information by directly touching an image display unit. A touch panel is an input device that transmits light on a display screen such as a liquid crystal display device. As a typical form, a capacitive type that utilizes the change in current capacity that occurs between a transparent electrode and a finger. There is a touch panel.

タッチパネル用の透明導電性フィルムとしては、透明基材フィルム上に、酸化錫を含有するインジウム酸化物(錫ドープ酸化インジウム、ITO)等の金属酸化物による透明導電層を積層したものが一般的に用いられている。しかしながら、金属酸化物による透明導電層では、高伝導度を達成するために、高蒸着温度および/または高アニール温度を必要とするため、透明基材には高い耐熱性を必要とされるという問題があった。   As a transparent conductive film for touch panels, a transparent conductive film made of a metal oxide such as indium oxide containing tin oxide (tin-doped indium oxide, ITO) is generally laminated on a transparent base film. It is used. However, since a transparent conductive layer made of a metal oxide requires a high deposition temperature and / or a high annealing temperature in order to achieve high conductivity, the transparent substrate needs to have high heat resistance. was there.

この問題に対し、近年では、銀繊維状導電性物質を含有する透明導電層を有した透明導電性フィルムが検討されている(特許文献1参照)。特許文献1では、PET基盤上に銀ナノワイヤー分散体、ポリウレタン樹脂を順に塗布し、50℃という低温の乾燥条件にて乾燥を行い透明導電層を設けている。 In recent years, a transparent conductive film having a transparent conductive layer containing a silver fibrous conductive substance has been studied for this problem (see Patent Document 1). In Patent Document 1, a silver nanowire dispersion and a polyurethane resin are sequentially applied on a PET substrate and dried under a low temperature drying condition of 50 ° C. to provide a transparent conductive layer.

特表2009−505358号公報Special table 2009-505358

しかし、このような銀繊維状導電性物質を用いた透明導電性フィルムは、銀繊維の反射及び吸収に由来した黄色の呈色が見られることが多い。そのため、タッチパネルの下に配置される表示装置の発色を正確に表現することが難しく、タッチパネルの視認性を低下させるという問題があった。   However, a transparent conductive film using such a silver fibrous conductive material often has a yellow color derived from the reflection and absorption of silver fibers. Therefore, it is difficult to accurately express the color of the display device arranged under the touch panel, and there is a problem that the visibility of the touch panel is lowered.

そこで、本発明の目的とするところは、全光線透過率を低下させること無く、黄色の着色を抑えることができる、銀繊維状導電性物質を用いた透明導電性フィルムを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a transparent conductive film using a silver fibrous conductive material that can suppress yellow coloring without reducing the total light transmittance.

本発明の透明導電性フィルムは、透明基材の一方の面に接着層を介して透明導電層が積層されており、前記接着層の膜厚が5〜30nmであり、前記透明導電層は、導電性を有する銀繊維と透明樹脂塗膜とからなり、膜厚が50〜200nmである。   In the transparent conductive film of the present invention, a transparent conductive layer is laminated on one surface of a transparent substrate via an adhesive layer, the thickness of the adhesive layer is 5 to 30 nm, and the transparent conductive layer is It consists of conductive silver fibers and a transparent resin coating film, and has a film thickness of 50 to 200 nm.

好ましくは、前記透明基材の他方の面に機能層が積層されている。   Preferably, a functional layer is laminated on the other surface of the transparent substrate.

また、好ましくは、前記機能層はハードコート層であり、前記透明基材と前記ハードコート層との間には、膜厚が5〜30nmの接着層が介在しており、前記ハードコート層は、前記透明基材との屈折率差が0.02以内であり、膜厚0.8〜3.0μmである。   Preferably, the functional layer is a hard coat layer, and an adhesive layer having a film thickness of 5 to 30 nm is interposed between the transparent substrate and the hard coat layer. The difference in refractive index from the transparent substrate is within 0.02, and the film thickness is 0.8 to 3.0 μm.

また、前記ハードコート層の上に、機能層として更に、前記ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層が積層されており、前記低屈折率層は、屈折率1.30〜1.45、膜厚80〜110nmであることが好ましい。   Further, a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer is further laminated as a functional layer on the hard coat layer, and the low refractive index layer has a refractive index of 1.30-1. 45, and preferably a film thickness of 80 to 110 nm.

なお、本発明における膜厚とは、物理膜厚のことであり、光学膜厚ではない。また、本発明において数値範囲を示す「○○〜××」とは、特に明記しない限り「○○以上××以下」を意味する。   In addition, the film thickness in this invention is a physical film thickness, and is not an optical film thickness. In the present invention, “OO to XX” indicating a numerical range means “XX or more and XX or less” unless otherwise specified.

本発明によれば、透明基材上に接着層を設け、接着層の膜厚を5〜30nmとし、且つ導電性を有する銀繊維と、銀繊維を保護する透明樹脂塗膜からなる透明導電層の膜厚を50〜200nmとすることで、全光線透過率を低下させること無く、且つヘイズ値を抑えつつ、着色を抑えることができる透明導電性フィルムを提供することができる。   According to the present invention, an adhesive layer is provided on a transparent substrate, the adhesive layer has a thickness of 5 to 30 nm, and has a conductive conductive silver fiber, and a transparent conductive layer comprising a transparent resin coating for protecting the silver fiber. By setting the film thickness to 50 to 200 nm, it is possible to provide a transparent conductive film capable of suppressing coloring without decreasing the total light transmittance and suppressing the haze value.

以下本発明を具体化した実施形態について詳細に説明する。
本発明の透明導電性フィルムは、透明基材フィルムの一方の面に接着層を介して透明導電層が積層されている。また、他方の面には接着層を介して機能層が積層されていることが好ましく、中でも好ましい機能層はハードコート層及び低屈折率層である。
Embodiments embodying the present invention will be described in detail below.
As for the transparent conductive film of this invention, the transparent conductive layer is laminated | stacked through the contact bonding layer on one surface of the transparent base film. Moreover, it is preferable that a functional layer is laminated on the other surface through an adhesive layer, and among them, a preferable functional layer is a hard coat layer and a low refractive index layer.

<透明基材フィルム>
透明基材フィルムは、透明性を有している限り特に制限されないが、屈折率が1.55〜1.70の範囲内のものが好ましい。このような透明基材フィルムを形成する材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET、屈折率:1.67)等のポリエステル、ポリカーボネート(PC、屈折率:1.59)、ポリアリレート(PAR、屈折率:1.60)及びポリエーテルスルフォン(PES、屈折率:1.65)等が挙げられる。これらのうち、ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが成形の容易性で好ましい。
<Transparent substrate film>
The transparent substrate film is not particularly limited as long as it has transparency, but preferably has a refractive index in the range of 1.55 to 1.70. Examples of the material for forming such a transparent substrate film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET, refractive index: 1.67), polycarbonate (PC, refractive index: 1.59), polyarylate (PAR, refractive index). : 1.60) and polyether sulfone (PES, refractive index: 1.65). Among these, a polyester film, particularly a polyethylene terephthalate film is preferable because of easy molding.

透明基材フィルムの厚みは、好ましくは25〜400μm、さらに好ましくは25〜188μmである。透明基材フィルムの厚みが25μmより薄い場合や400μmより厚い場合には、透明導電性フィルムの製造時及び使用時における取り扱い性が低下するため好ましくない。なお、透明基材フィルムには、各種の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤として例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、安定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤等が挙げられる。   The thickness of the transparent substrate film is preferably 25 to 400 μm, more preferably 25 to 188 μm. When the thickness of the transparent substrate film is less than 25 μm or thicker than 400 μm, the handleability during the production and use of the transparent conductive film is unfavorable. In addition, various additives may contain in the transparent base film. Examples of such additives include ultraviolet absorbers, antistatic agents, stabilizers, plasticizers, lubricants, flame retardants, and the like.

<接着層>
接着層は、透明基材フィルムと透明導電層、機能層との密着性を高めるための層である。接着層の屈折率は1.40〜1.80であることが好ましい。接着層の膜厚は5〜30nm、好ましくは10〜20nmであり、透明基材フィルムと透明導電層、機能層との密着性を高めることの出来る限り、接着剤として公知の樹脂が適用可能である。接着層の膜厚が5nm未満の場合には、透明基材フィルムと透明導電層、機能層との密着性が保てない。一方、接着層の膜厚が30nmを超える場合、透明導電層との間に光学的な悪影響を及ぼし、黄色の着色が強くなってしまい、また、機能層との間にも光学的な悪影響を及ぼし、干渉縞が多くなってしまう。
<Adhesive layer>
An adhesive layer is a layer for improving the adhesiveness of a transparent base film, a transparent conductive layer, and a functional layer. The refractive index of the adhesive layer is preferably 1.40 to 1.80. The thickness of the adhesive layer is 5 to 30 nm, preferably 10 to 20 nm. As long as the adhesion between the transparent base film, the transparent conductive layer, and the functional layer can be improved, a known resin can be used as an adhesive. is there. When the film thickness of the adhesive layer is less than 5 nm, the adhesion between the transparent base film, the transparent conductive layer, and the functional layer cannot be maintained. On the other hand, when the film thickness of the adhesive layer exceeds 30 nm, it has an adverse optical effect on the transparent conductive layer, the yellow coloration becomes strong, and there is an optical adverse effect on the functional layer. The interference fringes will increase.

接着層の形成方法としては、接着剤として水分散性又は水溶性のポリエステル樹脂を含む塗布液を透明基材フィルム上に塗布した後、乾燥させる方法が好ましい。特に、透明基材フィルムとして、ポリエステルフィルムを使用した場合、接着層を形成する接着剤としてポリエステル樹脂、特に共重合ポリエステル樹脂を用いることが好ましい。共重合ポリエステル樹脂とは、複数のジカルボン酸と複数のポリオールとの重縮合反応又は複数のエステルと複数のポリオールとのエステル交換反応によって得られるポリエステル樹脂を意味する。係る共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸とポリオールの重縮合反応によって形成される。   As a method for forming the adhesive layer, a method in which a coating liquid containing a water-dispersible or water-soluble polyester resin as an adhesive is applied on the transparent substrate film and then dried is preferable. In particular, when a polyester film is used as the transparent substrate film, it is preferable to use a polyester resin, particularly a copolymerized polyester resin, as an adhesive for forming the adhesive layer. The copolyester resin means a polyester resin obtained by a polycondensation reaction between a plurality of dicarboxylic acids and a plurality of polyols or a transesterification reaction between a plurality of esters and a plurality of polyols. Such a copolyester resin is formed by a polycondensation reaction of a dicarboxylic acid and a polyol.

ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸などが挙げられる。また、ジカルボン酸の他に水分散性を付与するために、スルホン酸金属塩基含有ジカルボン酸を添加しても良い。   Dicarboxylic acids include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, dimer acid Etc. In addition to the dicarboxylic acid, a sulfonic acid metal base-containing dicarboxylic acid may be added to impart water dispersibility.

ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、キシレングリコールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of polyols include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentyl glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, and xylene glycol. Although it is mentioned, it is not limited to these.

共重合ポリエステル樹脂を含む塗布液には、耐ブロッキング性、滑り性を付与する目的でフィラー、ワックスなどを添加しても良い。フィラーとしては、シリカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化錫等が挙げられる。これらのうち、塗布液中で沈降しないものを選ぶことが好ましい。これらフィラーの平均粒子径は通常20〜60nmである。平均粒子径が20nm未満では十分な耐ブロッキング性、滑り性が得られない場合があり、60nmを越える場合にはフィラーの脱落が発生しやすくなる傾向にある。   A filler, wax, or the like may be added to the coating solution containing the copolymerized polyester resin for the purpose of imparting blocking resistance and slipperiness. Examples of the filler include silica, titanium oxide, calcium carbonate, calcium silicate, barium sulfate, calcium phosphate, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, and tin oxide. Among these, it is preferable to select one that does not settle in the coating solution. These fillers usually have an average particle size of 20 to 60 nm. When the average particle size is less than 20 nm, sufficient blocking resistance and slipping properties may not be obtained, and when it exceeds 60 nm, the filler tends to fall off.

ワックスとしては、カルナバワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木ロウ、パームワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシンワックス、パラフィンワックス、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどの水分散性又は水溶性のワックス類が好ましい。   As the wax, water-dispersible or water-soluble waxes such as carnauba wax, candelilla wax, rice wax, wood wax, palm wax, montan wax, ozokerite, ceresin wax, paraffin wax, polyethylene glycol, and polypropylene glycol are preferable.

接着層にはさらに耐擦傷性を向上させるために、架橋剤を添加することが好ましい。架橋剤としては、オキサゾリン類、エポキシ化合物、メラミン化合物、イソシアネート化合物、カップリング剤などが使用でき、それらのうちオキサゾリン類が好ましい。オキサゾリン類としては、オキサゾリン基を含有する重合体が好ましい。これは、付加重合性オキサゾリン基含有単量体単独又は他の単量体との共重合によって得られる。付加重合性オキサゾリン基含有単量体としては、例えば、2−ビニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリンを挙げることができる。これらの中でも、2−イソプロペニル−2−オキサゾリンが工業的に入手しやすく好適である。   In order to further improve the scratch resistance, it is preferable to add a crosslinking agent to the adhesive layer. As the crosslinking agent, oxazolines, epoxy compounds, melamine compounds, isocyanate compounds, coupling agents and the like can be used, and among them, oxazolines are preferable. As the oxazolines, a polymer containing an oxazoline group is preferable. This is obtained by copolymerization with an addition polymerizable oxazoline group-containing monomer alone or with another monomer. Examples of the addition polymerizable oxazoline group-containing monomer include 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline, and 2-isopropenyl-2-oxazoline. Among these, 2-isopropenyl-2-oxazoline is preferred because it is easily available industrially.

他の単量体としては、付加重合性オキサゾリン基含有単量体と共重合可能な単量体であれば制限はなく、アクリル酸エステル類、不飽和カルボン酸類、不飽和ニトリル類、不飽和アミド類、ビニルエステル類、ビニルエーテル類、α―オレフィン類、含ハロゲンα、β−不飽和単量体類、α、β−不飽和芳香族単量体等を挙げることができる。   Other monomers are not limited as long as they are copolymerizable with addition-polymerizable oxazoline group-containing monomers, and are acrylic acid esters, unsaturated carboxylic acids, unsaturated nitriles, unsaturated amides. , Vinyl esters, vinyl ethers, α-olefins, halogen-containing α, β-unsaturated monomers, α, β-unsaturated aromatic monomers, and the like.

接着層は、接着剤塗布液を透明基材フィルムの片面、または両面に塗布することで形成される。塗布は、任意の段階で実施することが出来るが、透明基材フィルムの製造過程で実施することが好ましい。塗布方法としては特に制限されず、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、グラビアコート法等公知のいかなる方法も採用できる。   The adhesive layer is formed by applying an adhesive coating solution on one side or both sides of the transparent substrate film. The application can be carried out at an arbitrary stage, but is preferably carried out during the production process of the transparent substrate film. The coating method is not particularly limited, and any known method such as a roll coating method, a spin coating method, a dip coating method, a spray coating method, a bar coating method, a knife coating method, a die coating method, an ink jet method, or a gravure coating method is adopted. it can.

<透明導電層>
透明導電層は、導電性を有する銀繊維と、銀繊維を保護する透明樹脂塗膜から構成される。
<Transparent conductive layer>
A transparent conductive layer is comprised from the silver resin which has electroconductivity, and the transparent resin coating film which protects silver fiber.

(銀繊維)
銀繊維の形状は分岐がなく、ほぐれやすく、かつ繊維状物質の均一な分布密度を得やすく、その結果繊維と繊維のからまりの間に大きな開口部を形成し、良好な光透過率を実現することができるワイヤー状のものが好ましい。このような形状をした導電性物質の例としては、ワイヤー状の導電性金属である銀ナノワイヤーを挙げることができる。本発明で銀ナノワイヤーとは、形状が直線または曲線の細い棒状で、材質が銀であるナノメートルサイズの微細な導電性物質である。ナノワイヤー状であると、それらが互いに絡み合って網の目状となることで、少ない量の導電性物質であっても良好な電気伝導経路を形成することができ、透明導電層の抵抗値をより低下させることができ好ましい。さらにこのような網の目状を形成した場合、網の目の隙間部分の開口が大きいので、たとえ繊維状の導電性物質そのものが透明でなかったとしても、塗膜として良好な透明性を達成することが可能である。
(Silver fiber)
The shape of the silver fiber is not branched, it is easy to loosen, and it is easy to obtain a uniform distribution density of the fibrous material. As a result, a large opening is formed between the fibers and the fiber bundle, realizing good light transmittance The wire-like thing which can do is preferable. As an example of the conductive material having such a shape, a silver nanowire which is a wire-like conductive metal can be given. In the present invention, the silver nanowire is a fine conductive substance having a nanometer size and having a shape of a thin bar having a straight line or a curved line and made of silver. When they are nanowires, they are entangled with each other to form a network, so even with a small amount of conductive material, a good electrical conduction path can be formed, and the resistance value of the transparent conductive layer can be reduced. This can be further reduced. Furthermore, when such a mesh-like shape is formed, since the opening of the gap portion of the mesh is large, even if the fibrous conductive material itself is not transparent, it achieves good transparency as a coating film. Is possible.

銀繊維の繊維径は、500nm未満であることが好ましく、200nm未満であることがより好ましく、100nm未満であることがさらに好ましい。アスペクト比としては10を超えることが好ましい。アスペクト比としては50を超えることがより好ましく、100を超えるアスペクト比を有することがさらに好ましい。銀繊維の形状や大きさは走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡で確認することができる。   The fiber diameter of the silver fiber is preferably less than 500 nm, more preferably less than 200 nm, and even more preferably less than 100 nm. The aspect ratio is preferably more than 10. As an aspect ratio, it is more preferable to exceed 50, and it is more preferable to have an aspect ratio exceeding 100. The shape and size of the silver fiber can be confirmed with a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.

銀ナノワイヤーは、当技術分野で既知の方法で調製可能である。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法や、前駆体表面にプローブの先端部から印可電圧又は電流を作用させ、プローブ先端部で銀ナノワイヤーを引き出し、該銀ナノワイヤーを連続的に形成する方法等が挙げられる(特開2004−223693号公報)。溶液中で硝酸銀を還元する方法としては、より具体的には、銀繊維は、エチレングリコール等のポリオール、およびポリビニルピロリドンの存在下で、硝酸銀等の銀塩を液相還元することにより合成可能である。均一サイズの銀ナノワイヤーの大量生産は、例えば、Xia,Y.etal.,Chem.Mater.(2002)、14、4736−4745およびXia,Y.etal., Nano letters(2003)3(7)、955−960に記載される方法に準じて調製可能であるが、特にこれらに記載の方法に限定するものではない。   Silver nanowires can be prepared by methods known in the art. For example, a method of reducing silver nitrate in a solution, a method in which an applied voltage or current is applied to the precursor surface from the tip of the probe, a silver nanowire is drawn at the probe tip, and the silver nanowire is continuously formed (Japanese Patent Laid-Open No. 2004-223893). As a method for reducing silver nitrate in a solution, more specifically, silver fibers can be synthesized by liquid phase reduction of a silver salt such as silver nitrate in the presence of a polyol such as ethylene glycol and polyvinylpyrrolidone. is there. For example, Xia, Y. et al. etal. , Chem. Mater. (2002), 14, 4736-4745 and Xia, Y. et al. etal. , Nano letters (2003) 3 (7), 955-960, but is not particularly limited to the methods described therein.

銀繊維は、適宜分散媒に分散させて塗料とすることで、連続塗布法等にて使用可能となる。分散媒である液体としては、特に限定されることなく、既知の各種分散媒を使用することができる。例えば、ヘキサン等の飽和炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、エチレンクロライド、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げることができる。また、分散媒の種類により、分散剤を使用することもできる。これらの中でも、極性を有する分散媒が好ましく、特にメタノール、エタノール等のアルコール類、NMP等のアミド類のような水と親和性のあるものは、分散剤を使用しなくても分散性が良好であり好適である。これら液体は、単独でも2種類以上の混合したものでも使用することができる。   Silver fibers can be used in a continuous coating method or the like by appropriately dispersing in a dispersion medium to form a paint. The liquid that is the dispersion medium is not particularly limited, and various known dispersion media can be used. For example, saturated hydrocarbons such as hexane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, and diisobutyl ketone , Esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane and diethyl ether, amides such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone (NMP) and N, N-dimethylacetamide, ethylene chloride And halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene. Moreover, a dispersing agent can also be used according to the kind of dispersion medium. Among these, polar dispersion media are preferable, and those having an affinity for water such as alcohols such as methanol and ethanol, and amides such as NMP have good dispersibility without using a dispersant. It is preferable. These liquids can be used singly or as a mixture of two or more.

また、分散媒として水も使用可能である。水を用いる場合には、接着層表面が疎水性の場合は、水をはじきやすく、塗布する際に均一な膜が得られにくい。このような場合には、水にアルコールを混合するとか、あるいは疎水性の接着層表面への濡れ性を改善するような界面活性剤を選定し、添加することで均一な膜を得る。用いる分散媒としての液体の量は、特に制限されず、銀繊維の分散液が塗布に適した粘度を有するようにすればよい。例えば、銀繊維100重量部に対して、液体100〜100,000重量部程度と広範囲に設定可能であって、銀繊維と分散媒の種類、使用する撹拌、分散装置に応じて適宜選択することができる。   Water can also be used as a dispersion medium. When water is used, if the surface of the adhesive layer is hydrophobic, water is easily repelled, and a uniform film is difficult to obtain when applied. In such a case, a uniform film can be obtained by mixing and adding alcohol to water, or selecting and adding a surfactant that improves wettability to the surface of the hydrophobic adhesive layer. The amount of liquid as a dispersion medium to be used is not particularly limited, and the silver fiber dispersion may have a viscosity suitable for coating. For example, the liquid can be set in a wide range of about 100 to 100,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silver fiber, and appropriately selected according to the type of the silver fiber and the dispersion medium, the stirring used, and the dispersing device Can do.

銀繊維の分散媒中への分散は、銀繊維と分散媒である液体の混合物に対し必要に応じて公知の分散手法を適用することにより行うことができる。銀繊維の分散液は、導電性能の向上の点においてはバインダー樹脂を含まないことが好ましい。透明導電層においては、バインダー樹脂を用いなければ銀繊維の接触が阻害されることがない。従って、銀繊維相互間の導電性が確保され、得られる透明導電層の電気抵抗値をより低く抑えることができる。また、透明導電層の下記透明樹脂塗膜用塗料による透明基材フィルム上への固定化は、透明樹脂塗膜用塗料を透明導電層に含浸させ支持体フィルムに到達させることにより行われるため、銀繊維の分散液がバインダー樹脂を含まないことは、透明導電層がより間隙を多く含んでいることを意味しており、透明樹脂塗膜用塗料の含浸による固定化を阻害しない点で好ましい。   The dispersion of the silver fibers in the dispersion medium can be performed by applying a known dispersion method to the mixture of the silver fibers and the liquid that is the dispersion medium as necessary. The silver fiber dispersion preferably does not contain a binder resin in terms of improving the conductive performance. In the transparent conductive layer, the contact of silver fibers is not inhibited unless a binder resin is used. Therefore, the electrical conductivity between silver fibers is ensured, and the electrical resistance value of the obtained transparent conductive layer can be further reduced. In addition, the fixation of the transparent conductive layer on the transparent substrate film by the following transparent resin coating film is performed by impregnating the transparent conductive film coating material into the transparent conductive layer and reaching the support film, The fact that the silver fiber dispersion does not contain a binder resin means that the transparent conductive layer contains more gaps, which is preferable in that the fixation by impregnation with the transparent resin coating film is not hindered.

ただし、前記透明基材フィルム上の透明導電層の導電性や剥離性を低下させず、透明樹脂塗膜用塗料中の樹脂による透明導電層の固定化工程を損なわない程度の量であれば、樹脂を含むことも可能であり、その種類と量は、上記特性が得られる範囲で適宜選択可能である。上記の添加量範囲において前記銀繊維の分散液は、粘度調整、腐食防止、透明樹脂塗膜への接着性向上、および銀繊維の分散を制御するために、樹脂及びその他の添加剤を含んでもよい。適切な添加剤および結合剤の例として、カルボキシメチルセルロース(CMC)、2−ヒドロキシエチルセルロース(HEC)、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)、メチルセルロース(MC)、ポリビニルアルコール(PVA)、トリプロピレングリコール(TPG)、およびキサンタンゴム(XG)、およびエトキシレート、アルコキシレート、エチレンオキシド、および酸化プロピレンなどの界面活性剤、およびそれらの共重合体、スルホン酸塩、硫酸塩、ジスルホン酸塩、スルホコハク酸塩、リン酸エステル、およびフッ素系界面活性剤が挙げられるがそれだけに限定されない。   However, as long as the amount of the transparent conductive layer on the transparent substrate film does not decrease the conductivity and peelability, and does not impair the step of fixing the transparent conductive layer with the resin in the coating for transparent resin coating film, Resin can also be included, and the type and amount thereof can be appropriately selected within the range in which the above characteristics are obtained. In the above addition amount range, the silver fiber dispersion may contain resin and other additives in order to adjust viscosity, prevent corrosion, improve adhesion to the transparent resin coating, and control silver fiber dispersion. Good. Examples of suitable additives and binders include carboxymethylcellulose (CMC), 2-hydroxyethylcellulose (HEC), hydroxypropylmethylcellulose (HPMC), methylcellulose (MC), polyvinyl alcohol (PVA), tripropylene glycol (TPG), And xanthan gum (XG), and surfactants such as ethoxylates, alkoxylates, ethylene oxide, and propylene oxide, and copolymers thereof, sulfonates, sulfates, disulfonates, sulfosuccinates, phosphate esters , And fluorosurfactants, but are not limited thereto.

さらに2−アルコキシエタノール、β−ジケトン、アルキルアセテート、等を非ポリマ
ー系有機化合物を膜形成剤として使用することもできる。
Furthermore, 2-alkoxyethanol, β-diketone, alkyl acetate, and the like can also be used as non-polymeric organic compounds as film forming agents.

(透明樹脂塗膜)
透明樹脂塗膜は銀繊維をフィルム上に固定化するために設けられる。透明樹脂塗膜は活性エネルギー線硬化型樹脂と光重合開始剤を含有する材料から形成されることが好ましい。
(Transparent resin coating)
The transparent resin coating film is provided to fix the silver fibers on the film. The transparent resin coating film is preferably formed from a material containing an active energy ray-curable resin and a photopolymerization initiator.

活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば単官能(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレートなどが挙げられる。単官能(メタ)アクリレートとしては、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸(ポリ)エチレングリコール基含有(メタ)アクリル酸エステル等が好ましい。多官能(メタ)アクリレートとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン変性アクリレート等の(メタ)アクリロイル基を2個以上含む多官能重合性化合物等が好ましい。なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートを指す。また、同様に、後述の「(メタ)アクリル単量体」は、アクリル単量体及びメタクリル単量体を指し、「(メタ)アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基を指す。   Examples of the active energy ray-curable resin include monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate. As the monofunctional (meth) acrylate, (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid (poly) ethylene glycol group-containing (meth) acrylic acid ester and the like are preferable. The polyfunctional (meth) acrylate is preferably an ester compound of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, a polyfunctional polymerizable compound containing two or more (meth) acryloyl groups such as urethane-modified acrylate. In the present specification, “(meth) acrylate” refers to acrylate and methacrylate. Similarly, “(meth) acrylic monomer” described later refers to an acrylic monomer and a methacrylic monomer, and “(meth) acryloyl group” refers to an acryloyl group and a methacryloyl group.

光重合開始剤は、紫外線(UV)等の活性エネルギー線により透明樹脂塗膜用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。光重合開始剤としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフェリノプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、2,2−ジメトキシ1,2−ジフェニルエタン−1−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、[4−(メチルフェニルチオ)フェニル]フェニルメタノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、1種を単独使用してもよいし、2種以上を混合することもできる。   The photopolymerization initiator is used as a polymerization initiator for forming a coating film by curing the coating liquid for transparent resin coating film with an active energy ray such as ultraviolet (UV). The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it initiates polymerization upon irradiation with active energy rays, and known compounds can be used. For example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1 -One, acetophenone polymerization initiators such as 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, benzoin, 2,2-dimethoxy 1,2 -Benzoin polymerization initiators such as diphenylethane-1-one, benzophenone, [4- (methylphenylthio) phenyl] phenylmethanone, 4-hydroxybenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 3,3 ', 4,4' -Benzophenone polymerization initiators such as tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2-chlorothio Xanthone, such thioxanthone type polymerization initiators such as 2,4-diethyl thioxanthone, and the like. One of these photopolymerization initiators may be used alone, or two or more thereof may be mixed.

光重合開始剤は、透明樹脂塗膜中に0.1〜10質量部含まれることが好ましい。光重合開始剤の含有量が0.1質量部未満では、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤の含有量が10質量部を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。   It is preferable that 0.1-10 mass parts of photoinitiators are contained in a transparent resin coating film. When the content of the photopolymerization initiator is less than 0.1 part by mass, the active energy ray-curable resin is not sufficiently cured. On the other hand, when the content of the photopolymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the photopolymerization initiator is unnecessarily increased, which is not preferable.

透明樹脂塗膜用塗液の溶媒は、この種の透明導電性フィルム等において各層形成用の塗液に従来から使用されている公知のものであれば特に制限は無く、例えばアルコール系、ケトン系、エステル系の溶媒が適宜選択できる。   The solvent of the coating liquid for transparent resin coating is not particularly limited as long as it is a known one that has been conventionally used for coating liquid for forming each layer in this type of transparent conductive film, etc. For example, alcohol-based, ketone-based An ester solvent can be selected as appropriate.

透明樹脂塗膜用塗液によって銀繊維を含浸しつつ透明導電層を形成する際、前記透明導電層の膜厚は、用途により適宜調整することができるが、薄くなる程導電性が低下する傾向にあり、一方厚すぎるとヘイズ値の上昇、全光線透過率の低下等で透明性が低下する傾向にある。例えばタッチパネル用の透明導電層として使用する場合は、低へイズ値、高透明化が強く要求されるため、より薄い膜厚の透明導電層を形成することが多い。この場合きわめて開口部の多い透明導電層であるが、接触式の膜厚計で測定したときに平均膜厚として10nm〜500nmの膜厚範囲が好ましく、30nm〜300nmがより好ましく、50nm〜200nmが最も好ましい。   When forming a transparent conductive layer while impregnating silver fibers with a coating solution for a transparent resin coating film, the film thickness of the transparent conductive layer can be appropriately adjusted depending on the application, but the conductivity tends to decrease as the thickness decreases. On the other hand, if it is too thick, transparency tends to decrease due to an increase in haze value, a decrease in total light transmittance, and the like. For example, when used as a transparent conductive layer for a touch panel, since a low haze value and high transparency are strongly required, a transparent conductive layer having a thinner film thickness is often formed. In this case, the transparent conductive layer has a large number of openings, but when measured with a contact-type film thickness meter, the average film thickness is preferably 10 nm to 500 nm, more preferably 30 nm to 300 nm, and 50 nm to 200 nm. Most preferred.

また、透明樹脂塗膜の膜厚は、銀繊維に対して薄すぎると耐擦過性、耐摩耗性、耐候性等の保護層としての機能が低下し、厚すぎると導体としての接触抵抗が増加する。透明樹脂塗膜の膜厚は、透明導電層の膜厚が50〜200nmの範囲で形成されているときは、塗布、乾燥後の膜厚が30〜200nmであることが好ましく、透明導電層の膜厚を考慮して表面抵抗率、ヘイズ等が所定の値を実現出来るよう調整することができる。40〜200nmがより好ましく、50〜200nmが最も好ましい。透明樹脂塗膜の膜厚は、透明導電層の膜厚にもよるが、30nm以上の膜厚であると銀ナノワイヤーが保護層表面に露出し過ぎず透明性樹脂塗膜による保護機能がより良好に働く傾向にあり、200nm以下の膜厚であると表面に厚すぎる被膜が形成されずより良好な導電性能が確保できる傾向にある。   In addition, if the film thickness of the transparent resin coating is too thin for silver fibers, the protective layer functions such as scratch resistance, abrasion resistance, and weather resistance will decrease, and if it is too thick, the contact resistance as a conductor will increase. To do. The film thickness of the transparent resin coating film is preferably 30 to 200 nm after coating and drying when the film thickness of the transparent conductive layer is 50 to 200 nm. In consideration of the film thickness, the surface resistivity, haze, and the like can be adjusted to achieve predetermined values. 40 to 200 nm is more preferable, and 50 to 200 nm is most preferable. The film thickness of the transparent resin coating film depends on the film thickness of the transparent conductive layer, but if the film thickness is 30 nm or more, the silver nanowire is not exposed too much on the surface of the protective layer, and the protective function by the transparent resin coating film is more When the film thickness is 200 nm or less, an excessively thick film is not formed on the surface, and better conductive performance tends to be ensured.

<透明導電層の形成>
透明導電層は、接着層を形成した透明基材フィルム上に銀繊維の分散液を塗布後乾燥して導電性を有する銀繊維層を形成した後、更にその上から、透明樹脂塗膜用塗液を塗布、乾燥後、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。銀繊維の分散液、透明性樹脂塗液の塗布方法は特に制限されず、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、グラビアコート法等公知のいかなる方法も採用できる。また、活性エネルギー線の種類は特に制限されないが、利便性等の観点から紫外線を用いることが好ましい。
<Formation of transparent conductive layer>
The transparent conductive layer is formed by applying a silver fiber dispersion on a transparent base film on which an adhesive layer has been formed and then drying to form a conductive silver fiber layer. It is formed by applying and drying the liquid and then curing by irradiation with active energy rays. The method for applying the silver fiber dispersion and the transparent resin coating solution is not particularly limited. For example, a roll coating method, a spin coating method, a dip coating method, a spray coating method, a bar coating method, a knife coating method, a die coating method, and an inkjet method. Any known method such as a gravure coating method can be employed. The type of active energy ray is not particularly limited, but it is preferable to use ultraviolet rays from the viewpoint of convenience and the like.

<機能層>
透明基材フィルムの反対面には、接着層を介して機能層を設けることが出来る。この機能層は、透明導電性フィルムに所定の機能を付与できるいずれの機能層も適用することが出来る。機能層は、例えばハードコート層、低屈折率層、反射防止層、紫外線吸収層、帯電防止層、アンチブロッキング層などである。反射防止層はハードコート層上に該ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層を積層することで形成される。
<Functional layer>
A functional layer can be provided on the opposite surface of the transparent substrate film via an adhesive layer. As this functional layer, any functional layer that can impart a predetermined function to the transparent conductive film can be applied. Examples of the functional layer include a hard coat layer, a low refractive index layer, an antireflection layer, an ultraviolet absorption layer, an antistatic layer, and an antiblocking layer. The antireflection layer is formed by laminating a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer on the hard coat layer.

<ハードコート層>
ハードコート層は、設けることで、透明導電性フィルム表面の硬度及び耐擦傷性を向上する層である。前記ハードコート層は、その屈折率と透明基材フィルムの屈折率との屈折率の差が0.02以内であり、表面硬度や耐擦傷性を向上できる限り、この種のフィルムにおいてハードコート層に用いられる公知の全ての樹脂が使用可能であり、特に活性エネルギー線硬化型樹脂と金属酸化物微粒子とを含有する材料から形成されることが好ましい。ここで、金属酸化物微粒子とは、平均粒子径が好ましくは150nm以下、より好ましくは10〜150nmである金属酸化物を意味する。この平均粒子径が150nmを超えると、微粒子が大きくなり過ぎてハードコート層の透明性が損なわれる結果を招く。
<Hard coat layer>
The hard coat layer is a layer that improves the hardness and scratch resistance of the transparent conductive film surface by being provided. As long as the difference in refractive index between the refractive index of the hard coat layer and the refractive index of the transparent substrate film is within 0.02, and the surface hardness and scratch resistance can be improved, the hard coat layer is used in this type of film. All known resins used in the above can be used, and it is particularly preferable that the resin is formed from a material containing an active energy ray-curable resin and metal oxide fine particles. Here, the metal oxide fine particles mean metal oxides having an average particle diameter of preferably 150 nm or less, more preferably 10 to 150 nm. When this average particle diameter exceeds 150 nm, the fine particles become too large, resulting in a loss of transparency of the hard coat layer.

ハードコート層の屈折率を透明基材フィルムの屈折率に近づけて反射光を低減させることにより、反射光の干渉によって発生する干渉縞を低減させることができる。一方、透明基材フィルムとハードコート層との屈折率の差が0.02を超える場合には、透明基材フィルムとハードコート層との界面の反射光が強くなることにより、干渉縞が強くなって不適当である。   By reducing the reflected light by making the refractive index of the hard coat layer close to the refractive index of the transparent substrate film, interference fringes generated by interference of the reflected light can be reduced. On the other hand, when the difference in refractive index between the transparent base film and the hard coat layer exceeds 0.02, the reflected light at the interface between the transparent base film and the hard coat layer becomes strong, resulting in strong interference fringes. It is inappropriate.

ハードコート層に用いられる活性エネルギー線硬化型樹脂は、透明樹脂塗膜で使用する活性エネルギー線硬化型樹脂と同種のものを使用することができる。   As the active energy ray-curable resin used for the hard coat layer, the same type as the active energy ray-curable resin used in the transparent resin coating can be used.

活性エネルギー線硬化型樹脂に添加される金属酸化物微粒子は、活性エネルギー線硬化型樹脂に分散させ、塗膜を形成した際に、透明基材フィルムとハードコート層との屈折率の差が0.02以下になるように調整できるものが選択される。金属酸化物としては、例えばITO(インジウム−錫複合酸化物、屈折率2.0)、ATO(アンチモン−錫複合酸化物、屈折率2.1)、酸化アンチモン(屈折率2.1)、酸化亜鉛(屈折率2.1)、酸化ジルコニウム(屈折率2.1)、酸化チタン(屈折率2.4)からなる群から選択される少なくとも1種が好ましい。これらのうち特に、酸化ジルコニウム及び酸化アンチモンが粒子の分散性、平均粒子径、入手の容易性及び製造コストの点で好ましい。金属酸化物微粒子の活性エネルギー線硬化型樹脂への添加量は、活性エネルギー線硬化型樹脂100質量部に対して1〜500質量部程度である。   When the metal oxide fine particles added to the active energy ray-curable resin are dispersed in the active energy ray-curable resin and a coating film is formed, the difference in refractive index between the transparent base film and the hard coat layer is zero. Those that can be adjusted to be 0.02 or less are selected. Examples of the metal oxide include ITO (indium-tin composite oxide, refractive index 2.0), ATO (antimony-tin composite oxide, refractive index 2.1), antimony oxide (refractive index 2.1), and oxidation. At least one selected from the group consisting of zinc (refractive index 2.1), zirconium oxide (refractive index 2.1), and titanium oxide (refractive index 2.4) is preferable. Among these, zirconium oxide and antimony oxide are particularly preferable in terms of particle dispersibility, average particle diameter, availability, and production cost. The addition amount of the metal oxide fine particles to the active energy ray-curable resin is about 1 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin.

さらに、ハードコート層用塗液は光重合開始剤も含む。当該光重合開始剤も透明樹脂塗膜で使用する光重合開始剤と同種のものが使用できる。光重合開始剤は、活性エネルギー線硬化型樹脂と金属酸化物微粒子との合計100質量部に対して、ハードコート層中に0.1〜10質量部含まれる。光重合開始剤の含有量が0.1質量部未満では、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤の含有量が10質量部を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。   Furthermore, the hard coat layer coating solution also contains a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator may be the same as the photopolymerization initiator used in the transparent resin coating film. 0.1-10 mass parts is contained in a hard-coat layer with respect to a total of 100 mass parts of active energy ray hardening-type resin and metal oxide fine particles. When the content of the photopolymerization initiator is less than 0.1 part by mass, the active energy ray-curable resin is not sufficiently cured. On the other hand, when the content of the photopolymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the photopolymerization initiator is unnecessarily increased, which is not preferable.

また、本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を活性エネルギー線硬化型樹脂中にさらに添加することができる。そのようなその他の成分としては、例えば重合体、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等の添加剤が挙げられる。また、ウェットコーティング法において成膜後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。   In addition, other components can be further added to the active energy ray-curable resin as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such other components include additives such as a polymer, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a dispersant, a surfactant, a light stabilizer, and a leveling agent. Further, any amount of solvent can be added as long as it is dried after film formation in the wet coating method.

また、ハードコート層の乾燥硬化後の膜厚は、0.8〜3.5μmとする。膜厚が0.8μmより薄い場合は、鉛筆硬度がH未満になるため好ましくない。膜厚が3.5μmより厚い場合は、硬化収縮によるカールが強くなるとともに、不必要に厚くなり、生産性や作業性が低下するため好ましくない。   Moreover, the film thickness after dry-hardening of a hard-coat layer shall be 0.8-3.5 micrometers. When the film thickness is less than 0.8 μm, the pencil hardness is less than H, which is not preferable. When the film thickness is thicker than 3.5 μm, curling due to curing shrinkage becomes strong and becomes unnecessarily thick, which is not preferable because productivity and workability are lowered.

ハードコート層は、透明基材フィルム上の透明導電層とは反対面に接着層を形成した後、ハードコート層用塗液を塗布、乾燥後、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。ハードコート層用塗液の塗布方法は特に制限されず、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、グラビアコート法等公知のいかなる方法も採用できる。また、活性エネルギー線の種類は特に制限されないが、利便性等の観点から紫外線を用いることが好ましい。   The hard coat layer is formed by forming an adhesive layer on the surface opposite to the transparent conductive layer on the transparent substrate film, applying a hard coat layer coating solution, drying, and curing by irradiation with active energy rays. . The coating method of the hard coat layer coating solution is not particularly limited, and examples thereof include a roll coating method, a spin coating method, a dip coating method, a spray coating method, a bar coating method, a knife coating method, a die coating method, an ink jet method, and a gravure coating method. Any known method can be employed. The type of active energy ray is not particularly limited, but it is preferable to use ultraviolet rays from the viewpoint of convenience and the like.

<低屈折率層>
低屈折率層は、ハードコート層又は透明基材フィルムなどの下地層との相対関係によって、反射を低減することで全光線透過率を向上する層である。低屈折率層は、その屈折率をハードコート層又は透明基材フィルムなどの下地層よりも低い1.30〜1.45の範囲で、当該下地層との密着性や耐擦傷性が保たれる限り、公知の全ての樹脂が使用可能であり、特に無機微粒子と、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する材料から形成されることが好ましい。
<Low refractive index layer>
A low refractive index layer is a layer which improves a total light transmittance by reducing reflection by relative relationship with base layers, such as a hard-coat layer or a transparent base film. The low refractive index layer has a refractive index in the range of 1.30 to 1.45, which is lower than that of the base layer such as a hard coat layer or a transparent base film, and maintains adhesion and scratch resistance with the base layer. As long as it is possible, all known resins can be used, and it is particularly preferable that the resin is formed from a material containing inorganic fine particles and an active energy ray-curable resin.

低屈折率層の屈折率が1.30未満の場合は、塗膜中の無機微粒子の割合が多くなり、塗膜強度が低下してしまう。また、低屈折率層の屈折率が1.45より大きい場合は、反射低減機能が落ちるため全光線透過率の上昇度が低くなってしまう。   When the refractive index of the low refractive index layer is less than 1.30, the proportion of inorganic fine particles in the coating film increases, and the coating film strength decreases. On the other hand, when the refractive index of the low refractive index layer is larger than 1.45, the reflection reduction function is lowered, and the degree of increase in the total light transmittance becomes low.

活性エネルギー線硬化型樹脂は透明樹脂塗膜で使用する活性エネルギー線硬化型樹脂と同種のものを使用することができる。ここで、屈折率を低く調整するという観点から、フッ素基を含有する活性エネルギー線硬化型樹脂も使用することができる。フッ素基を含有する活性エネルギー線硬化型樹脂としては、特に限定されず、単官能(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレートの部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類などが挙げられる。   The active energy ray curable resin may be the same type as the active energy ray curable resin used in the transparent resin coating film. Here, from the viewpoint of adjusting the refractive index to be low, an active energy ray-curable resin containing a fluorine group can also be used. The active energy ray-curable resin containing a fluorine group is not particularly limited, and a monofunctional (meth) acrylate, a polyfunctional (meth) acrylate moiety and a fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl ester, complete or partial fluorine And fluorinated vinyl ethers, fully or partially fluorinated vinyl esters, and fully or partially fluorinated vinyl ketones.

また、無機微粒子とは、屈折率を積極的に低くするために配合されるものであり、平均粒子径が80nm以下であることが好ましく、より好ましくは10〜80nmである。平均粒子径が80nmよりも大きくなると、光の散乱が生じる等、低屈折率層の光学性能が低下するため好ましくない。さらに、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。そのようなカップリング剤としては、例えば有機置換された珪素化合物が挙げられる。特に、表面を(メタ)アクリロイル基等の反応性基で修飾することにより、硬度の高い膜を形成することができる。   In addition, the inorganic fine particles are blended in order to actively lower the refractive index, and the average particle diameter is preferably 80 nm or less, more preferably 10 to 80 nm. When the average particle diameter is larger than 80 nm, it is not preferable because the optical performance of the low refractive index layer is deteriorated such as light scattering. Furthermore, the surface of the fine particles can be modified with various coupling agents as required. An example of such a coupling agent is an organically substituted silicon compound. In particular, a film having high hardness can be formed by modifying the surface with a reactive group such as a (meth) acryloyl group.

活性エネルギー線硬化型樹脂に添加される無機微粒子としては、例えば、中空酸化珪素、コロイダル酸化珪素、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムからなる群から選択される少なくとも1種が好ましい。これらのうち特に、中空酸化珪素、コロイダル酸化珪素が平均粒子径、入手の容易性及び製造コストの点で好ましい。   The inorganic fine particles added to the active energy ray-curable resin are preferably at least one selected from the group consisting of hollow silicon oxide, colloidal silicon oxide, lanthanum fluoride, and magnesium fluoride. Among these, hollow silicon oxide and colloidal silicon oxide are particularly preferable in terms of average particle diameter, availability, and production cost.

無機微粒子の活性エネルギー線硬化型樹脂への添加量は、活性エネルギー線硬化型樹脂100質量部に対して1〜1000質量部程度である。   The addition amount of the inorganic fine particles to the active energy ray curable resin is about 1 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray curable resin.

さらに、低屈折率層用塗液は光重合開始剤も含む。当該光重合開始剤も透明樹脂塗膜で使用する光重合開始剤と同種のものが使用できる。光重合開始剤は、活性エネルギー線硬化型樹脂と金属酸化物微粒子との合計100質量部に対して、低屈折率層中に0.1〜10質量部含まれる。光重合開始剤の含有量が0.1質量部未満では、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤の含有量が10質量部を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。 Further, the coating liquid for the low refractive index layer also contains a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator may be the same as the photopolymerization initiator used in the transparent resin coating film. The photopolymerization initiator is contained in an amount of 0.1 to 10 parts by mass in the low refractive index layer with respect to 100 parts by mass in total of the active energy ray-curable resin and the metal oxide fine particles. When the content of the photopolymerization initiator is less than 0.1 part by mass, the active energy ray-curable resin is not sufficiently cured. On the other hand, when the content of the photopolymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the photopolymerization initiator is unnecessarily increased, which is not preferable.

また、本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を活性エネルギー線硬化型樹脂中にさらに添加することができる。そのようなその他の成分としては、例えば重合体、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤及びレベリング剤等の添加剤が挙げられる。また、ウェットコーティング法において成膜後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することができる。 In addition, other components can be further added to the active energy ray-curable resin as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such other components include additives such as a polymer, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a dispersant, a surfactant, a light stabilizer, and a leveling agent. Further, any amount of solvent can be added as long as it is dried after film formation in the wet coating method.

また、低屈折率層の乾燥硬化後の膜厚は、80〜110nmとする。膜厚が80nmより薄い場合は、反射低減機能が落ちるため全光線透過率の上昇度が低くなってしまうため好ましくない。膜厚が110nmより厚い場合は、ハードコート層との干渉により着色が強くなってしまうため好ましくない。 The thickness of the low refractive index layer after drying and curing is 80 to 110 nm. When the film thickness is less than 80 nm, the reflection reduction function is lowered, and the degree of increase in the total light transmittance is lowered, which is not preferable. When the film thickness is greater than 110 nm, the coloring becomes strong due to interference with the hard coat layer, which is not preferable.

低屈折率層は、透明基材フィルム上の透明導電層とは反対面に、接着層を形成した後、または、接着層上にハードコート層を形成した後、低屈折率層用塗液を塗布、乾燥後、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。低屈折率層用塗液の塗布方法は特に制限されず、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、グラビアコート法等公知のいかなる方法も採用できる。また、活性エネルギー線の種類は特に制限されないが、利便性等の観点から紫外線を用いることが好ましい。 After forming the adhesive layer on the surface opposite to the transparent conductive layer on the transparent substrate film or forming the hard coat layer on the adhesive layer, the low refractive index layer is coated with the coating solution for the low refractive index layer. After coating and drying, it is formed by curing by irradiation with active energy rays. The coating method of the coating solution for the low refractive index layer is not particularly limited. For example, roll coating method, spin coating method, dip coating method, spray coating method, bar coating method, knife coating method, die coating method, ink jet method, gravure coating method. Any known method can be used. The type of active energy ray is not particularly limited, but it is preferable to use ultraviolet rays from the viewpoint of convenience and the like.

このような透明導電性フィルムの透過光の着色は、JISZ 8729に規定されるL*a*b*表色系のb*で評価でき、−1.0≦b*≦1.0である。b*>1.0の場合、透明導電性フィルムが黄色に着色して見えてしまう問題がある。一方、b*<−1.0の場合、透明導電性フィルムが青色に着色して見えてしまう問題がある。   The color of transmitted light of such a transparent conductive film can be evaluated by b * of the L * a * b * color system defined in JISZ 8729, and −1.0 ≦ b * ≦ 1.0. When b *> 1.0, there is a problem that the transparent conductive film appears colored yellow. On the other hand, when b * <− 1.0, there is a problem that the transparent conductive film appears to be colored blue.

同時に、透明導電性フィルムの全光線透過率は、90.0%以上である。全光線透過率が90.0%未満の場合、タッチパネルなどの部材に使用した時に輝度が悪化するため好ましくない。また、透明導電性フィルムのヘイズ値は、2.0%未満である。ヘイズ値が2.0%以上の場合透明性が低下し、タッチパネルなどの部材に使用した時に表示画像の視認性が悪化するため好ましくない。   At the same time, the total light transmittance of the transparent conductive film is 90.0% or more. A total light transmittance of less than 90.0% is not preferable because the luminance deteriorates when used for a member such as a touch panel. The haze value of the transparent conductive film is less than 2.0%. When the haze value is 2.0% or more, the transparency is lowered, and the visibility of the display image is deteriorated when used for a member such as a touch panel.

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はそれら実施例の範囲に限定されるものではない。
まず、接着剤塗布液、透明性樹脂塗液、ハードコート層用塗液、低屈折率層用塗液を調製し、ハードコート層用塗液、低屈折率層用塗液を用いて形成される層の屈折率については次の方法にて測定した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the scope of these examples.
First, an adhesive coating solution, a transparent resin coating solution, a hard coating layer coating solution, and a low refractive index layer coating solution are prepared and formed using a hard coating layer coating solution and a low refractive index layer coating solution. The refractive index of the layer to be measured was measured by the following method.

<屈折率>
(1)屈折率が1.67のPETフィルム(商品名「A4100」、東洋紡績株式会社製)上に、ディップコーター(杉山元理化学機器株式会社製)により、各層用塗液をそれぞれ乾燥硬化後の膜厚で100〜1000nm程度になるように層の厚さを調整して塗布した。
(2)乾燥後、紫外線照射装置(岩崎電気株式会社製)により窒素雰囲気下で120W高圧水銀灯を用いて、400mJの紫外線を照射して硬化した。硬化後のPETフィルム裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを反射分光膜厚計(「FE-3000」、大塚電子株式会社製)により、反射スペクトルを測定した。
(3)反射スペクトルより読み取った反射率から、下記に示すn-Cauchyの波長分散式(式1)の定数を求め、光の波長589nmにおける屈折率を求めた。
N(λ)=a/λ4+b/λ2+c(式1)
(N:屈折率、λ:波長、a、b、c:波長分散定数)
<Refractive index>
(1) The coating liquid for each layer is dried and cured on a PET film having a refractive index of 1.67 (trade name “A4100”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) using a dip coater (produced by Motori Sugiyama). The thickness of the layer was adjusted so as to be about 100 to 1000 nm.
(2) After drying, it was cured by irradiating with 400 mJ ultraviolet rays using a 120 W high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere by an ultraviolet irradiation device (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.). The back surface of the cured PET film was roughened with sandpaper, and the reflection spectrum was measured with a reflection spectral film thickness meter (“FE-3000”, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).
(3) From the reflectance read from the reflection spectrum, the constant of the wavelength dispersion formula (Formula 1) of n-Cauchy shown below was obtained, and the refractive index at the wavelength of 589 nm was obtained.
N (λ) = a / λ4 + b / λ2 + c (Formula 1)
(N: refractive index, λ: wavelength, a, b, c: chromatic dispersion constant)

〔接着剤塗布液の調製〕
(1)共重合ポリエステル樹脂の合成(a)
ジメチルテレフタレート100質量部、ジメチルイソフタレート100質量部、エチレングリコール30.3質量部、ネオペンチルグリコール150質量部、酢酸亜鉛0.1質量部及び三酸化アンチモン0.1質量部をエステル交換反応容器に仕込み、180℃に加熱して4時間反応させ、エステル交換反応を行った。その後、5−ナトリウムスルホイソフタル酸5質量部を添加し、240℃で1時間エステル化反応を行った。次に、250℃まで温度を上げ、系内を1mmHg(133Pa)の減圧にして2時間重縮合反応を行い、共重合ポリエステル樹脂(a)を得た。
(Preparation of adhesive coating solution)
(1) Synthesis of copolyester resin (a)
100 parts by mass of dimethyl terephthalate, 100 parts by mass of dimethyl isophthalate, 30.3 parts by mass of ethylene glycol, 150 parts by mass of neopentyl glycol, 0.1 part by mass of zinc acetate and 0.1 part by mass of antimony trioxide are used in a transesterification reaction vessel. Then, the mixture was heated to 180 ° C. and reacted for 4 hours to conduct a transesterification reaction. Thereafter, 5 parts by mass of 5-sodium sulfoisophthalic acid was added, and an esterification reaction was performed at 240 ° C. for 1 hour. Next, the temperature was raised to 250 ° C., the inside of the system was reduced in pressure to 1 mmHg (133 Pa), and a polycondensation reaction was performed for 2 hours to obtain a copolyester resin (a).

(2)架橋剤(b)の合成
フラスコにイオン交換水300質量部を仕込み、窒素気流下で60℃に加温し、過硫酸アンモニウム0.3質量部及び亜硝酸水素ナトリウム0.3質量部を添加した。その後、メタクリル酸メチル20.2質量部、2−イソプロペニルー2−オキサゾリン21.2質量部、ポリエチレンオキシドメタクリル酸45.5質量部及びアクリルアミド10.2質量部の混合物を4時間かけて、滴下した。滴下終了後1時間撹拌を継続し、架橋剤(B)の25質量%の水分散体を得た。
(2) Synthesis of cross-linking agent (b) Charge 300 parts by mass of ion-exchanged water into a flask and heat to 60 ° C. under a nitrogen stream, and add 0.3 part by mass of ammonium persulfate and 0.3 part by mass of sodium hydrogen nitrite. Added. Thereafter, a mixture of 20.2 parts by mass of methyl methacrylate, 21.2 parts by mass of 2-isopropenyl-2-oxazoline, 45.5 parts by mass of polyethylene oxide methacrylic acid and 10.2 parts by mass of acrylamide was added dropwise over 4 hours. Stirring was continued for 1 hour after completion of the dropwise addition to obtain a 25% by mass aqueous dispersion of the crosslinking agent (B).

(3)接着剤塗布液A−1の調製
前記共重合ポリエステル樹脂(a)の30質量%水分散体を65質量部、前記架橋剤(b)の25質量%水分散体を40質量部及びイオン交換水450質量部を混合して接着剤塗布液A−1とした。
(3) Preparation of Adhesive Coating Solution A-1 65 parts by mass of a 30% by mass aqueous dispersion of the copolyester resin (a), 40 parts by mass of a 25% by mass aqueous dispersion of the crosslinking agent (b) and 450 parts by mass of ion-exchanged water was mixed to obtain an adhesive coating solution A-1.

〔透明性樹脂塗液の調製〕
活性エネルギー線硬化型樹脂(日本化薬(株)製 DPHA)100質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製IRGACURE184)5質量部及びイソブチルアルコール2625質量部を混合して透明性樹脂塗液(B−1)を調製した。
(Preparation of transparent resin coating solution)
Transparent by mixing 100 parts by mass of active energy ray-curable resin (DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 5 parts by mass of photopolymerization initiator (IRGACURE 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and 2625 parts by mass of isobutyl alcohol. Resin coating liquid (B-1) was prepared.

〔ハードコート層用塗液の調製〕
ハードコート層用塗液として次の原料を使用し、各原料を下記表1に記載した組成にて、微粒子成分(シリカ微粒子又は金属酸化物微粒子)及び活性エネルギー線硬化型樹脂と、光重合開始剤と、溶媒とを、質量比で100:5:100の割合で混合し、ハードコート層用塗液HC−1〜HC−2を調製した。各原料としては、金属酸化物微粒子として、酸化ジルコニウム微粒子分散液(シーアイ化成(株)製 ZRMEK25%−F47)を使用した。活性エネルギー線硬化型樹脂として、6官能ウレタンアクリレート(日本合成化学工業(株)製紫光UV−7600B)を使用した。光重合開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製IRGACURE184(I−184)を使用した。また溶媒としてメチルイソブチルケトンを使用した。
[Preparation of coating liquid for hard coat layer]
The following raw materials were used as the coating liquid for the hard coat layer, and each raw material had the composition described in Table 1 below, and the fine particle component (silica fine particles or metal oxide fine particles) and the active energy ray-curable resin were started. The agent and the solvent were mixed at a mass ratio of 100: 5: 100 to prepare hard coat layer coating liquids HC-1 to HC-2. As each raw material, a zirconium oxide fine particle dispersion (ZRMEK 25% -F47 manufactured by CI Kasei Co., Ltd.) was used as metal oxide fine particles. A hexafunctional urethane acrylate (purple light UV-7600B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) was used as the active energy ray-curable resin. IRGACURE184 (I-184) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. was used as a photopolymerization initiator. Further, methyl isobutyl ketone was used as a solvent.

得られたハードコート層用塗液HC−1〜HC−2を用いて形成されるハードコート層の屈折率を測定した。その結果を表1に示す。

Figure 0006413221
The refractive index of the hard coat layer formed using the obtained coating liquids HC-1 to HC-2 for hard coat layer was measured. The results are shown in Table 1.
Figure 0006413221

〔低屈折率層用塗液の調製〕
低屈折率層用塗液として次の原料を使用し、各原料を下記表2に記載した組成にて、微粒子成分(中空シリカ微粒子又は金属酸化物微粒子)成分及び活性エネルギー線硬化型樹脂と、光重合開始剤と、溶媒とを、質量比で100:5:2000の割合で混合して、低屈折率層用塗液L−1〜L−3を調製した。各原料としては、中空シリカ微粒子として、日揮触媒化成(株)製アクリル修飾中空シリカ微粒子スルーリアNAUを使用した。また、活性エネルギー線硬化型樹脂:日本化薬(株)製 DPHAを使用した。光重合開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製IRGACURE907(I−907)を使用した。そして溶媒として、イソプロピルアルコールを使用した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer)
The following raw materials are used as the coating solution for the low refractive index layer, and each raw material has the composition described in Table 2 below, and the fine particle component (hollow silica fine particles or metal oxide fine particles) component and the active energy ray-curable resin The photopolymerization initiator and the solvent were mixed at a mass ratio of 100: 5: 2000 to prepare coating solutions L-1 to L-3 for the low refractive index layer. As each raw material, acrylic modified hollow silica fine particle through rear NAU manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd. was used as hollow silica fine particles. Moreover, active energy ray-curable resin: Nippon Kayaku Co., Ltd. DPHA was used. IRGACURE907 (I-907) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. was used as a photopolymerization initiator. And isopropyl alcohol was used as a solvent.

得られた低屈折率層用塗液L−1〜L−3を用いて形成される低屈折率層の屈折率を測定した。その結果を表2に示す。

Figure 0006413221
The refractive index of the low refractive index layer formed using the obtained coating liquids L-1 to L-3 for the low refractive index layer was measured. The results are shown in Table 2.
Figure 0006413221

参考例1−1)
厚さ125μmのPETフィルムの一方の面に、接着剤塗布液(A−1)をバーコーターにて塗布し、加熱乾燥を行い、接着層を形成した。
( Reference Example 1-1)
An adhesive coating solution (A-1) was applied to one surface of a 125 μm thick PET film with a bar coater, followed by drying by heating to form an adhesive layer.

上記接着層上に、0.1%w/v銀銀極繊維水分散媒(Cambrious Technology Corporation製 ClearOhm ink)をバーコーターにて塗布し、加熱乾燥を行い、導電性を有する銀繊維層を形成した。更にその上へ、透明性樹脂塗液(B−1)をバーコーターにて塗布、乾燥後、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることにより透明導電性フィルムを作製した(各層の膜厚は下記表3を参照)。得られた透明導電性フィルムについて、全光線透過率、ヘイズ値、透過色b*、密着性を次の方法で測定した(測定結果は下記表3を参照)。   On the adhesive layer, 0.1% w / v silver silver electrode fiber aqueous dispersion medium (Clear Ohmink manufactured by Cambridge Technology Corporation) is applied with a bar coater and dried by heating to form a conductive silver fiber layer. did. Further thereon, a transparent resin coating liquid (B-1) was applied with a bar coater, dried, and then cured by irradiating with a 120 W high-pressure mercury lamp by irradiating 400 mJ ultraviolet rays (each layer). (See Table 3 below). About the obtained transparent conductive film, the total light transmittance, the haze value, the transmitted color b *, and the adhesiveness were measured by the following methods (see Table 3 below for measurement results).

<全光線透過率・ヘイズ値>
ヘイズメーター(「NDH2000」、日本電色工業株式会社製)により透明導電性フィルムの全光線透過率(%)及びヘイズ値を測定した。
<Total light transmittance / haze value>
The total light transmittance (%) and haze value of the transparent conductive film were measured with a haze meter (“NDH2000”, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

<透過色>
色差計(「SQ−2000」、日本電色工業株式会社製)を用いて透明導電性フィルムの透過色、b*を測定した。このb*は、JISZ 8729に規定されているL*a*b*表色系における値である。
<Transparent color>
Using a color difference meter (“SQ-2000”, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), the transmitted color and b * of the transparent conductive film were measured. This b * is a value in the L * a * b * color system defined in JISZ 8729.

<密着性>
透明導電層をJIS D0202−1998に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。セロハンテープ(ニチバン(株)製、CT24)を用い、フィルムに密着させた後剥離した。判定は100マスの内、100マス全て剥離しない場合○、1マスでも剥離する場合を×として表した。
<Adhesion>
The transparent conductive layer was subjected to a cross-cut peeling tape test according to JIS D0202-1998. Using cellophane tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., CT24), the film was adhered to the film and then peeled off. Judgment was expressed as “C” when 100 cells were not peeled out of 100 squares, and “×” when one cell was peeled off.

参考例1−2〜参考例1−3)
接着層、透明導電層を下記表3に記載した膜厚とした以外は、参考例1−1と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。得られた参考例1−2〜参考例1−3の透明導電性フィルムについて、参考例1−1と同様に全光線透過率、ヘイズ値、透過色b*、密着性を測定した(測定結果は下記表3を参照)。

Figure 0006413221
( Reference Example 1-2 to Reference Example 1-3)
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Reference Example 1-1 except that the adhesive layer and the transparent conductive layer were formed as shown in Table 3 below. About the transparent conductive film of the obtained Reference Example 1-2 to Reference Example 1-3, the total light transmittance, the haze value, the transmission color b *, and the adhesion were measured in the same manner as in Reference Example 1-1 (measurement results). (See Table 3 below).
Figure 0006413221

(比較例1−1〜比較例1−3)
接着層、透明導電層を下記表4に記載した膜厚とした以外は、参考例1−1と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
(Comparative Example 1-1 to Comparative Example 1-3)
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Reference Example 1-1 except that the thickness of the adhesive layer and the transparent conductive layer were set as shown in Table 4 below.

(比較例1−4)
接着層を形成していない以外は、参考例1−1と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
(Comparative Example 1-4)
A transparent conductive film was produced in the same manner as Reference Example 1-1 except that no adhesive layer was formed.

得られた比較参考例1−1〜比較参考例1−4の透明導電性フィルムについて、参考例1−1と同様に全光線透過率、ヘイズ値、透過色b*、密着性を測定した(測定結果は下記表4を参照)。

Figure 0006413221
About the transparent conductive film of the obtained Comparative Reference Example 1-1 to Comparative Reference Example 1-4, the total light transmittance, the haze value, the transmission color b *, and the adhesion were measured in the same manner as in Reference Example 1-1. See Table 4 below for measurement results).
Figure 0006413221

参考例2−1)
厚さ125μmのPETフィルムの両面に、接着剤塗布液(A−1)をバーコーターにて塗布し、加熱乾燥を行い、接着層を形成した。
( Reference Example 2-1)
An adhesive coating liquid (A-1) was applied to both surfaces of a 125 μm-thick PET film with a bar coater and heat-dried to form an adhesive layer.

上記接着層の一方の面に、ハードコート層用塗液(HC−1)をバーコーターにて塗布し、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることによりハードコート層を形成した。続いて、PETフィルムの他面の接着層上に0.1%w/v銀銀極繊維水分散媒(Cambrious Technology Corporation製 ClearOhm ink)をバーコーターにて塗布し、加熱乾燥を行い、導電性を有する銀繊維層を形成した。更にその上へ、透明性樹脂塗液(B−1)をバーコーターにて塗布、乾燥後、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることにより透明導電性フィルムを作製した(各層の膜厚は下記表5を参照)。   The hard coat layer coating solution (HC-1) was applied to one surface of the adhesive layer with a bar coater, and hardened by irradiating with 400 mJ ultraviolet rays with a 120 W high pressure mercury lamp. . Subsequently, a 0.1% w / v silver / silver electrode fiber aqueous dispersion medium (Clear Ohm ink manufactured by Cambridge Technology Corporation) was applied on the adhesive layer on the other surface of the PET film with a bar coater, dried by heating, and conductive. A silver fiber layer having was formed. Further thereon, a transparent resin coating liquid (B-1) was applied with a bar coater, dried, and then cured by irradiating with a 120 W high-pressure mercury lamp by irradiating 400 mJ ultraviolet rays (each layer). For the film thickness, see Table 5 below).

参考例2−2)
接着層、透明導電層を下記表5に記載した膜厚とした以外は、参考例2−1と同様にし
て、透明導電性フィルムを作製した。得られた参考例2−2の透明導電性フィルムについ
て、参考例2−1と同様に全光線透過率、ヘイズ値、透過色b*、密着性を測定した(測
定結果は下記表5を参照)。

Figure 0006413221
( Reference Example 2-2)
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Reference Example 2-1, except that the thickness of the adhesive layer and the transparent conductive layer were set as shown in Table 5 below. For the obtained transparent conductive film of Reference Example 2-2, the total light transmittance, haze value, transmission color b *, and adhesion were measured in the same manner as in Reference Example 2-1. ).
Figure 0006413221

(実施例3−1)
厚さ125μmのPETフィルムの両面に、接着剤塗布液(A−1)をバーコーターにて塗布し、加熱乾燥を行い、接着層を形成した。
(Example 3-1)
An adhesive coating liquid (A-1) was applied to both surfaces of a 125 μm-thick PET film with a bar coater and heat-dried to form an adhesive layer.

上記接着層の一方の面に、ハードコート層用塗液(HC−1)をバーコーターにて塗布し、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることによりハードコート層を形成した。更に、ハードコート層上に低屈折率層用塗液(L−1)をバーコーターにて塗布し、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることにより低屈折率層を形成した。続いて、PETフィルムの他面の接着層上に0.1%w/v銀銀極繊維水分散媒(Cambrious Technology Corporation製 ClearOhm ink)をバーコーターにて塗布し、加熱乾燥を行い、導電性を有する銀繊維層を形成した。更にその上へ、透明性樹脂塗液(B−1)をバーコーターにて塗布、乾燥後、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることにより透明導電性フィルムを作製した(各層の膜厚は下記表6を参照)。   The hard coat layer coating solution (HC-1) was applied to one surface of the adhesive layer with a bar coater, and hardened by irradiating with 400 mJ ultraviolet rays with a 120 W high pressure mercury lamp. . Further, the low refractive index layer coating liquid (L-1) was applied onto the hard coat layer with a bar coater, and cured by irradiating with 400 mJ ultraviolet rays with a 120 W high pressure mercury lamp. . Subsequently, a 0.1% w / v silver / silver electrode fiber aqueous dispersion medium (Clear Ohm ink manufactured by Cambridge Technology Corporation) was applied on the adhesive layer on the other surface of the PET film with a bar coater, dried by heating, and conductive. A silver fiber layer having was formed. Further thereon, a transparent resin coating liquid (B-1) was applied with a bar coater, dried, and then cured by irradiating with a 120 W high-pressure mercury lamp by irradiating 400 mJ ultraviolet rays (each layer). (See Table 6 below).

(実施例3−2〜3−3)
接着層、透明導電層を下記表6に記載した膜厚とした以外は、実施例3−1と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。得られた実施例3−2、3−3の透明導電性フィルムについて、実施例3−1と同様に全光線透過率、ヘイズ値、透過色b*、密着性を測定した(測定結果は下記表6を参照)。

Figure 0006413221
(Examples 3-2 to 3-3)
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 3-1, except that the thickness of the adhesive layer and the transparent conductive layer were set as shown in Table 6 below. For the obtained transparent conductive films of Examples 3-2 and 3-3, the total light transmittance, haze value, transmitted color b *, and adhesion were measured in the same manner as in Example 3-1. (See Table 6).
Figure 0006413221

(実施例4−1)
厚さ125μmのPETフィルムの両面に、接着剤塗布液(A−1)をバーコーターにて塗布し、加熱乾燥を行い、接着層を形成した。接着層の一方に、低屈折率層用塗液(L−1)をバーコーターにて塗布し、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることにより低屈折率層を形成した。続いて、他方の接着層上に0.1%w/v銀銀極繊維水分散媒(Cambrious Technology Corporation製 ClearOhm ink)をバーコーターにて塗布し、加熱乾燥を行い、導電性を有する銀繊維層を形成した。更にその上へ、透明性樹脂塗液(B−1)をバーコーターにて塗布、乾燥後、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させることにより透明導電性フィルムを作製した(各層の膜厚は下記表7を参照)。
(Example 4-1)
An adhesive coating liquid (A-1) was applied to both surfaces of a 125 μm-thick PET film with a bar coater and heat-dried to form an adhesive layer. The low refractive index layer was formed by applying the low refractive index layer coating liquid (L-1) to one of the adhesive layers with a bar coater and irradiating it with ultraviolet light of 400 mJ with a 120 W high pressure mercury lamp. Subsequently, a 0.1% w / v silver / silver polar fiber aqueous dispersion medium (Clear Ohmink manufactured by Cambrius Technology Corporation) is applied on the other adhesive layer with a bar coater, heat-dried, and conductive silver fibers. A layer was formed. Further thereon, a transparent resin coating liquid (B-1) was applied with a bar coater, dried, and then cured by irradiating with a 120 W high-pressure mercury lamp by irradiating 400 mJ ultraviolet rays (each layer). For the film thickness, see Table 7 below).

(実施例4−2〜4−3)
接着層、透明導電層を下記表7に記載した膜厚とした以外は、実施例4−1と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。得られた実施例4−2、4−3の透明導電性フィルムについて、実施例4−1と同様に全光線透過率、ヘイズ値、透過色b*、密着性を測定した(測定結果は下記表7を参照)。

Figure 0006413221
(Examples 4-2 to 4-3)
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 4-1, except that the thickness of the adhesive layer and the transparent conductive layer were set as shown in Table 7 below. For the obtained transparent conductive films of Examples 4-2 and 4-3, the total light transmittance, haze value, transmitted color b *, and adhesion were measured in the same manner as in Example 4-1. (See Table 7).
Figure 0006413221

(結果および考察)
参考例1−1〜参考例1−3(表3)の結果から明らかなように、接着層の膜厚を5〜30nmとし、導電性を有する銀繊維と透明樹脂塗膜からなる透明導電層の膜厚を50〜200nmとすると、透過色b*の値が小さく、透明導電性フィルムの着色を十分に抑え、更に、優れた全光線透過率を実現することが出来た。
(Results and Discussion)
As is clear from the results of Reference Example 1-1 to Reference Example 1-3 (Table 3), the transparent conductive layer is made of a silver fiber having conductivity and a transparent resin coating film, with the adhesive layer having a thickness of 5 to 30 nm. When the film thickness was 50 to 200 nm, the value of the transmitted color b * was small, coloring of the transparent conductive film was sufficiently suppressed, and an excellent total light transmittance could be realized.

その一方、比較参考例1−1〜1−3(表4)では、接着層の膜厚、又は透明導電層の膜厚のいずれかが上記範囲を外れており、透過色b*の値が大きく透明導電性フィルムが着色する、若しくは、全光線透過率が低くなる、または、ヘイズ値が高くなった。 On the other hand, in Comparative Reference Examples 1-1 to 1-3 (Table 4), either the film thickness of the adhesive layer or the film thickness of the transparent conductive layer is out of the above range, and the value of the transmission color b * is The transparent conductive film was greatly colored, the total light transmittance was lowered, or the haze value was increased.

比較参考例1−4(表4)では、接着層が設けられていないため、透明導電層の密着性が悪くなった。 In Comparative Reference Example 1-4 (Table 4), since the adhesive layer was not provided, the adhesiveness of the transparent conductive layer was deteriorated.

参考例2−1、2−2(表5)では、参考例1−1の透明導電性フィルムに、透明基材との屈折率差が0.02以内であり、膜厚0.8〜3.0μmであるハードコート層を設けることで、透明基材フィルムとハードコート層との界面の干渉縞が無く、また、硬化収縮によるカールの影響なく、透明導電性フィルムの硬度、耐擦傷性を向上することが出来た。 In Reference Examples 2-1 and 2-2 (Table 5), the transparent conductive film of Reference Example 1-1 has a refractive index difference of 0.02 or less with respect to the transparent substrate, and a film thickness of 0.8 to 3 By providing a hard coat layer of .mu.m, there is no interference fringes at the interface between the transparent base film and the hard coat layer, and there is no influence of curling due to curing shrinkage, and the hardness and scratch resistance of the transparent conductive film can be increased. I was able to improve.

実施例3−1〜3−3(表6)では実施例2−1の透明導電性フィルムに、屈折率1.30〜1.45、膜厚80〜110nmの低屈折率層を設けることで、透明導電性フィルムの着色を更に抑え、且つより優れた全光線透過率を実現することが出来た。 In Examples 3-1 to 3-3 (Table 6), the transparent conductive film of Example 2-1 was provided with a low refractive index layer having a refractive index of 1.30 to 1.45 and a film thickness of 80 to 110 nm. Further, coloring of the transparent conductive film was further suppressed, and a more excellent total light transmittance could be realized.

実施例4−1〜4−3(表7)では実施例1−1の透明導電性フィルムに、屈折率1.30〜1.45、膜厚80〜110nmの低屈折率層を設けることで、透明導電性フィルムの着色を更に抑え、且つより優れた全光線透過率を実現することが出来た。 In Examples 4-1 to 4-3 (Table 7), the transparent conductive film of Example 1-1 was provided with a low refractive index layer having a refractive index of 1.30 to 1.45 and a thickness of 80 to 110 nm. Further, coloring of the transparent conductive film was further suppressed, and a more excellent total light transmittance could be realized.

Claims (2)

透明基材の一方の面に、接着層を介して透明導電層が積層されており、
前記接着層の膜厚が5〜30nmであり、
前記透明導電層は、導電性を有する銀繊維と透明樹脂塗膜とからなり、膜厚が50〜200nmであり、
前記透明基材の他方の面に機能層が積層されており、
前記機能層はハードコート層であり、
前記透明基材と前記ハードコート層との間には、膜厚が5〜30nmの接着層が介在しており、
前記ハードコート層は、前記透明基材との屈折率差が0.02以内であり、膜厚0.8〜3.0μmであり、
前記ハードコート層の上に、機能層として更に、前記ハードコート層より屈折率の低い
低屈折率層が積層されており、
前記低屈折率層は、屈折率1.30〜1.45、膜厚80〜110nmである、透明導電性フィルム。
A transparent conductive layer is laminated on one surface of the transparent substrate via an adhesive layer,
The adhesive layer has a thickness of 5 to 30 nm,
The transparent conductive layer is composed of a silver fiber and the transparent resin film having conductivity, Ri thickness 50~200nm der,
A functional layer is laminated on the other surface of the transparent substrate;
The functional layer is a hard coat layer,
Between the transparent substrate and the hard coat layer, an adhesive layer having a thickness of 5 to 30 nm is interposed,
The hard coat layer has a refractive index difference with the transparent substrate of 0.02 or less and a film thickness of 0.8 to 3.0 μm.
On the hard coat layer, as a functional layer, the refractive index is lower than that of the hard coat layer.
Low refractive index layer is laminated,
The low refractive index layer is a transparent conductive film having a refractive index of 1.30 to 1.45 and a film thickness of 80 to 110 nm .
透明基材の一方の面に、接着層を介して透明導電層が積層されており、
前記接着層の膜厚が5〜30nmであり、
前記透明導電層は、導電性を有する銀繊維と透明樹脂塗膜とからなり、膜厚が50〜200nmであり、
前記透明基材の他方の面に機能層が積層されており、
前記機能層は、前記透明基材より屈折率の低い低屈折率層であり、
前記透明基材と前記低屈折率層との間には、膜厚が5〜30nmの接着層が介在してお
り、
前記低屈折率層は、屈折率1.30〜1.45、膜厚80〜110nmである、透明導電性フィルム。
A transparent conductive layer is laminated on one surface of the transparent substrate via an adhesive layer,
The adhesive layer has a thickness of 5 to 30 nm,
The transparent conductive layer comprises a conductive silver fiber and a transparent resin coating film, and the film thickness is 50 to 200 nm.
A functional layer is laminated on the other surface of the transparent substrate;
The functional layer is a low refractive index layer having a lower refractive index than the transparent substrate,
Between the transparent substrate and the low refractive index layer, an adhesive layer having a thickness of 5 to 30 nm is interposed,
The low refractive index layer is a transparent conductive film having a refractive index of 1.30 to 1.45 and a film thickness of 80 to 110 nm.
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