Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6414599B2 - Inductor component and manufacturing method thereof - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6414599B2 - Inductor component and manufacturing method thereof - Google Patents

Inductor component and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP6414599B2
JP6414599B2 JP2016550339A JP2016550339A JP6414599B2 JP 6414599 B2 JP6414599 B2 JP 6414599B2 JP 2016550339 A JP2016550339 A JP 2016550339A JP 2016550339 A JP2016550339 A JP 2016550339A JP 6414599 B2 JP6414599 B2 JP 6414599B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gap
metal
insulating layer
inductor
metal pins
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016550339A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2016047654A1 (en
Inventor
喜人 大坪
喜人 大坪
番場 真一郎
真一郎 番場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Publication of JPWO2016047654A1 publication Critical patent/JPWO2016047654A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6414599B2 publication Critical patent/JP6414599B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type
    • H01F17/04Fixed inductances of the signal type with magnetic core

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)

Description

本発明は、絶縁層にインダクタが設けられたインダクタ部品およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an inductor component in which an inductor is provided on an insulating layer and a method for manufacturing the same.

従来より、絶縁層の内部にインダクタが形成されたインダクタ部品が知られている。例えば、図10に示すように、特許文献1に記載のインダクタ部品100は、多層基板101にインダクタ102が内蔵されて成る。ここで、多層基板101は、複数の磁性体層101aの積層体で構成される。また、インダクタ102は、所定の磁性体層101aの一方主面に形成された面内導体103a〜103dと、層間の面内導体103a〜103dを接続する柱状導体104a〜104cとを備え、多層基板101の内部に1本の導体として形成される。そして、このような構成により、インダクタ102がインダクタ素子として機能している。   Conventionally, an inductor component in which an inductor is formed inside an insulating layer is known. For example, as shown in FIG. 10, the inductor component 100 described in Patent Document 1 includes a multilayer substrate 101 in which an inductor 102 is built. Here, the multilayer substrate 101 is configured by a laminated body of a plurality of magnetic layers 101a. The inductor 102 includes in-plane conductors 103a to 103d formed on one main surface of a predetermined magnetic layer 101a and columnar conductors 104a to 104c that connect the in-plane conductors 103a to 103d between the layers. 101 is formed as one conductor inside 101. With such a configuration, the inductor 102 functions as an inductor element.

特開2005−183890号公報(段落0051、図5等参照)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-183890 (see paragraph 0051, FIG. 5, etc.)

多層基板101にインダクタ102を内蔵する場合、各柱状導体104a〜104cは、磁性体層101a毎に、ビア導体またはスルーホール導体を形成し、これらの導体を、重ね合せて積み上げることで形成される。このような柱状導体104a〜104cの形成方法によると、磁性体層101aの積層ずれによって、隣接する導体(ビア導体またはスルーホール導体)間の接続面積が減少するため、柱状導体104a〜104c全体としての抵抗値が高くなり、ひいてはインダクタ102の抵抗値が高くなる。また、積層ずれのばらつきは、インダクタ102の抵抗値のばらつきの原因になる。また、図10に示すインダクタ部品100の構造では、各柱状導体104a〜104c間に発生する寄生容量により、コイル特性が低下(たとえば、Q値の低下)することも懸念される。   When the inductor 102 is built in the multilayer substrate 101, the columnar conductors 104a to 104c are formed by forming via conductors or through-hole conductors for each magnetic layer 101a and stacking these conductors on top of each other. . According to such a method of forming the columnar conductors 104a to 104c, the connection area between adjacent conductors (via conductors or through-hole conductors) is reduced due to the stacking deviation of the magnetic layer 101a, so that the columnar conductors 104a to 104c as a whole. , And the resistance value of the inductor 102 increases. In addition, variations in stacking deviation cause variations in the resistance value of the inductor 102. In addition, in the structure of the inductor component 100 shown in FIG. 10, there is a concern that the coil characteristics are reduced (for example, the Q value is reduced) due to the parasitic capacitance generated between the columnar conductors 104a to 104c.

本発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、絶縁層にインダクタが設けられたインダクタ部品において、インダクタのコイル特性を向上するとともに、その特性のばらつきを低減することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to improve the coil characteristics of an inductor and reduce variations in the characteristics of an inductor component in which an inductor is provided in an insulating layer.

上記した目的を達成するために、本発明のインダクタ部品は、内部に収まるように複数の空隙が形成された絶縁層と、前記絶縁層内に立設された2本の金属ピンと、前記両金属ピンの一端同士を接続する接続導体とを有するインダクタとを備え、前記複数の空隙が、平面視で前記両金属ピンの間であって、側面視で両金属ピンが重なる領域であるピン対向領域に配置されて、一方の前記金属ピン、一部の前記空隙、前記絶縁層、異なる一部の前記空隙、他方の前記金属ピンの順に並んでいることを特徴としている。 In order to achieve the above object, an inductor component according to the present invention includes an insulating layer in which a plurality of gaps are formed so as to be accommodated therein, two metal pins erected in the insulating layer, and the two metals. An inductor having a connecting conductor that connects one end of each pin, and the plurality of gaps are between the two metal pins in a plan view and are a region where the two metal pins overlap in a side view It is characterized by being arranged in order of one said metal pin, a part of said space | gap, the said insulating layer, a different part of said space | gap, and the other said metal pin .

金属ピンは、例えば、Cuなどの金属で形成された線材をせん断加工するなどしてそれぞれ形成されるため、ビアホールに導電性ペーストを充填して形成されたビア導体と比較して比抵抗が低く、そのばらつきも小さい。そのため、コイル特性に優れ(例えば、Q値が高い)、かつ、特性のばらつきが小さいインダクタを形成することができる。   The metal pins are formed by, for example, shearing a wire formed of a metal such as Cu, so that the specific resistance is lower than that of a via conductor formed by filling a via hole with a conductive paste. The variation is small. Therefore, it is possible to form an inductor having excellent coil characteristics (for example, high Q value) and small variations in characteristics.

また、高周波信号が使用されるインダクタ部品においては、インダクタの寄生容量がコイル特性の低下(例えば、Q値の低下)の原因になることが知られている。絶縁層に立設された2本の金属ピンと、両金属ピンの一端同士を接続する接続導体とを有するインダクタの場合は、特に電位差が大きくなる両金属ピン間の寄生容量を下げる必要がある。そこで、本発明では、平面視で前記両金属ピンの間であって、側面視で両金属ピンが重なる領域に空隙が設けられる。このように、金属ピン間に絶縁層を構成する絶縁材料のない領域を形成することにより、両金属ピン間に発生する寄生容量を低減することができるため、インダクタのコイル特性を向上することができる。また、空隙が、絶縁層の内部に収まるように形成されることにより、絶縁層の主面に空隙がない状態になるため、接続導体を絶縁層の主面に形成するのが容易になる。 In addition, in an inductor component using a high-frequency signal, it is known that the parasitic capacitance of the inductor causes a decrease in coil characteristics (for example, a decrease in Q value). In the case of an inductor having two metal pins erected on an insulating layer and a connection conductor that connects one end of both metal pins, it is necessary to reduce the parasitic capacitance between both metal pins, which increases the potential difference. Therefore, in the present invention, a gap is provided in a region between the metal pins in plan view and where the metal pins overlap in side view. In this way, by forming a region without an insulating material constituting the insulating layer between the metal pins, the parasitic capacitance generated between the two metal pins can be reduced, so that the coil characteristics of the inductor can be improved. it can. In addition, since the gap is formed so as to fit inside the insulating layer, the main surface of the insulating layer has no gap, so that the connection conductor can be easily formed on the main surface of the insulating layer.

また、前記空隙が、前記接続導体に接しないように設けられていてもよい。このようにすると、絶縁層に接続導体を容易に配置することができる。   Further, the gap may be provided so as not to contact the connection conductor. If it does in this way, a connection conductor can be easily arranged in an insulating layer.

また、前記空隙と、前記絶縁層内の前記金属ピンの配置スペースとが連続していてもよい。この構成によると、金属ピンと絶縁層との間に前記空隙による隙間を形成することができるため、金属ピンに応力が作用した場合に、絶縁層が破損するのを低減することができる。また、例えば、絶縁層を金型で成形する場合に、容易に空隙を形成することができる。   Moreover, the said space | gap and the arrangement | positioning space of the said metal pin in the said insulating layer may be continuing. According to this configuration, since the gap due to the gap can be formed between the metal pin and the insulating layer, it is possible to reduce the damage to the insulating layer when stress is applied to the metal pin. Further, for example, when the insulating layer is molded with a mold, the void can be easily formed.

また、前記空隙が、前記ピン対向領域のみに設けられていてもよい。このようにすると、金属ピン間で発生する寄生容量を低減しつつ、金属ピンを所望の位置に容易に固定することができる。   Moreover, the said space | gap may be provided only in the said pin opposing area | region. In this way, the metal pin can be easily fixed at a desired position while reducing the parasitic capacitance generated between the metal pins.

また、本発明のインダクタ部品の製造方法は、その一方主面に金属ピンを立設状態で収容するための2つの収容孔が設けられるとともに、その内部に収まるように複数の空隙が形成された、第1の絶縁層を準備する準備工程と、前記両収容孔それぞれに金属ピンを収容する収容工程と、前記両金属ピンの前記第1の絶縁層の一方主面側に位置する一端同士を接続導体で接続する接続工程と、前記接続導体を被覆するように、前記第1の絶縁層の一方主面に第2の絶縁層を積層する積層工程とを備え、前記準備工程では、前記複数の空隙が、前記第1の絶縁層の平面視で前記両収容孔の間であって、側面視で前記両収容孔が重なる領域に一方の前記金属ピン、一部の前記空隙、前記第1の絶縁層、異なる一部の前記空隙、他方の前記金属ピンの順に並んで配置されるように、前記複数の空隙を形成することを特徴としている。 In addition, the inductor component manufacturing method of the present invention is provided with two accommodation holes for accommodating the metal pins in an upright state on one main surface, and a plurality of gaps are formed so as to be accommodated therein. In addition, a preparation step for preparing the first insulating layer, a housing step for housing the metal pin in each of the housing holes, and one ends of the two metal pins located on one main surface side of the first insulating layer A connecting step of connecting the connecting conductor with a connecting conductor, and a laminating step of laminating a second insulating layer on one main surface of the first insulating layer so as to cover the connecting conductor. A plurality of gaps are located between the two accommodation holes in a plan view of the first insulating layer, and one of the metal pins, a part of the gaps, and the first in a region where the accommodation holes overlap in a side view . One insulating layer, a part of the different gaps, the other metal pin As arranged in, it is characterized by forming a plurality of voids.

この場合、絶縁層の準備工程で、両金属ピンを収容するための収容孔と、空隙とを予め形成した上で、両金属ピンを収容孔に配置してインダクタ部品を製造するため、両金属ピン間に発生する寄生容量を低減できるインダクタ部品を容易に製造することができる。また、金属ピンの部分を従来のビア導体で形成する場合と比較して、積層ずれによる接続抵抗の増加がなく、コイル特性のばらつきも小さいインダクタ部品を製造することができる。   In this case, in the step of preparing the insulating layer, the housing hole for accommodating both metal pins and the gap are formed in advance, and both the metal pins are arranged in the housing hole to manufacture the inductor component. An inductor component that can reduce parasitic capacitance generated between pins can be easily manufactured. In addition, compared with the case where the metal pin portion is formed of a conventional via conductor, it is possible to manufacture an inductor component in which the connection resistance does not increase due to the stacking deviation and the variation in coil characteristics is small.

また、前記準備工程では、前記空隙を前記両収容孔のいずれかと連続するように形成するようにしてもよい。この場合、例えば、絶縁層を金型で成形する場合に、収容孔と空隙とを容易に形成することができる。   In the preparation step, the gap may be formed so as to be continuous with one of the two accommodation holes. In this case, for example, when the insulating layer is molded with a mold, the accommodation hole and the gap can be easily formed.

本発明によれば、インダクタの一部が、比抵抗が低く、そのばらつきも小さい金属ピンで形成される。そのため、コイル特性に優れ(例えば、Q値が高い)、かつ、特性のばらつきが小さいインダクタを形成することができる。また、平面視で前記両金属ピンの間であって、側面視で両金属ピンが重なる領域に空隙が設けられる。このようにすると、金属ピン間に絶縁層を構成する絶縁材料のない領域が形成されるため、両金属ピン間に発生する寄生容量を低減することができる。   According to the present invention, a part of the inductor is formed of a metal pin having a low specific resistance and a small variation. Therefore, it is possible to form an inductor having excellent coil characteristics (for example, high Q value) and small variations in characteristics. Further, a gap is provided in a region between the metal pins in a plan view and where the metal pins overlap in a side view. In this way, a region without an insulating material that constitutes an insulating layer is formed between the metal pins, so that the parasitic capacitance generated between the two metal pins can be reduced.

本発明の第1実施形態にかかるインダクタ部品を示す図である。It is a figure which shows the inductor components concerning 1st Embodiment of this invention. 図1のピン対向領域を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the pin opposing area | region of FIG. 樹脂層の形成方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the formation method of a resin layer. 図1のインダクタ部品の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the inductor components of FIG. 図1の空隙の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the space | gap of FIG. 本発明の第2実施形態にかかるインダクタ部品を示す図である。It is a figure which shows the inductor components concerning 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態にかかるインダクタ部品を示す図である。It is a figure which shows the inductor components concerning 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態にかかるインダクタ部品を示す図である。It is a figure which shows the inductor components concerning 4th Embodiment of this invention. 図8の空隙の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the space | gap of FIG. 従来のインダクタ部品の断面図である。It is sectional drawing of the conventional inductor components.

<第1実施形態>
本発明の第1実施形態にかかるインダクタ部品1aについて、図1および図2を参照して説明する。なお、図1(a)はインダクタ部品1aの断面図、図1(b)はインダクタ部品1aの平面図、図2はピン対向領域Rを説明するための図である。ここで、図1(a)は図1(b)のA−A矢視断面図であり、図1(b)は第2の樹脂層2bを図示省略している。また、図2はインダクタ部品1aを平面視したときの金属ピン4および第1の樹脂層2aを示している。
<First Embodiment>
An inductor component 1a according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1A is a cross-sectional view of the inductor component 1a, FIG. 1B is a plan view of the inductor component 1a, and FIG. 2 is a diagram for explaining the pin facing region R. Here, FIG. 1A is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1B, and FIG. 1B does not show the second resin layer 2b. FIG. 2 shows the metal pin 4 and the first resin layer 2a when the inductor component 1a is viewed in plan.

この実施形態にかかるインダクタ部品1aは、図1(a)および図1(b)に示すように、第1の樹脂層2a(本発明の「絶縁層」および「第1の絶縁層」に相当)と、インダクタ3と、第1の樹脂層2aの上面に積層された第2の樹脂層2b(本発明の「第2の絶縁層」に相当)とを備え、例えば、携帯電話等の電子機器に搭載される。   The inductor component 1a according to this embodiment corresponds to the first resin layer 2a ("insulating layer" and "first insulating layer" of the present invention), as shown in FIGS. ), An inductor 3, and a second resin layer 2 b (corresponding to the “second insulating layer” of the present invention) laminated on the upper surface of the first resin layer 2 a, for example, an electronic device such as a mobile phone Installed in equipment.

第1、第2の樹脂層2a,2bは、例えば、エポキシ樹脂などの絶縁性熱硬化樹脂とフェライト粉末などの磁性体フィラとを混合した磁性体含有樹脂でそれぞれ形成される。   The first and second resin layers 2a and 2b are each formed of, for example, a magnetic substance-containing resin obtained by mixing an insulating thermosetting resin such as an epoxy resin and a magnetic filler such as ferrite powder.

インダクタ3は、それぞれ第1の樹脂層2a内に立設された2本の金属ピン4と、両金属ピン4の上端(本発明の「一端」に相当)同士を接続する接続導体5とを有する。両金属ピン4それぞれは、上端面が第1の樹脂層2aの上面に露出し、下端面が第1の樹脂層2aの下面に露出して設けられる。また、この実施形態では、両金属ピン4が第1の樹脂層2a内で略平行に配置されている。そして、両金属ピン4の上端面それぞれが、接続導体5との接続面として使用され、下端面それぞれが外部接続用の外部電極として使用される。   The inductor 3 includes two metal pins 4 erected in the first resin layer 2a, respectively, and a connection conductor 5 that connects the upper ends of the metal pins 4 (corresponding to “one end” of the present invention). Have. Each of the metal pins 4 has an upper end surface exposed at the upper surface of the first resin layer 2a and a lower end surface exposed at the lower surface of the first resin layer 2a. Moreover, in this embodiment, both the metal pins 4 are arrange | positioned substantially parallel in the 1st resin layer 2a. And each upper end surface of both metal pins 4 is used as a connection surface with the connection conductor 5, and each lower end surface is used as an external electrode for external connection.

ここで、金属ピン4は、Cu、Cu−Ni合金などのCu合金またはFeなどの金属材料で形成される。なお、金属ピン4は、これらの金属材料のいずれかにより形成された線材をせん断加工するなどして柱状に形成される。   Here, the metal pin 4 is formed of a Cu alloy such as Cu or Cu—Ni alloy or a metal material such as Fe. Note that the metal pin 4 is formed in a columnar shape by shearing a wire formed of any of these metal materials.

接続導体5は、例えば、CuやAgなどの金属を含有する導電性ペーストを用い、スクリーン印刷などで所定のパターン形状に形成される。ここで、接続導体5については、導電性ペーストにより下地電極を形成し、該下地電極の表面に例えばCuめっきにより表面電極を形成して2層構造としてもよい。このようにすると、接続導体の一部が、下地電極よりも比抵抗が低いめっき膜(表面電極)で形成されるため、接続導体の抵抗値を下げることができる。なお、接続導体5は、金属板を所定のパターン形状に形成したものあってもかまわない。この場合、両金属ピン4とは、例えば、超音波接合により接合することができる。   For example, the connection conductor 5 is formed in a predetermined pattern shape by screen printing or the like using a conductive paste containing a metal such as Cu or Ag. Here, the connection conductor 5 may have a two-layer structure in which a base electrode is formed from a conductive paste and a surface electrode is formed on the surface of the base electrode by, for example, Cu plating. In this way, a part of the connection conductor is formed of a plating film (surface electrode) having a specific resistance lower than that of the base electrode, so that the resistance value of the connection conductor can be lowered. The connection conductor 5 may be a metal plate formed in a predetermined pattern shape. In this case, both the metal pins 4 can be bonded by, for example, ultrasonic bonding.

ところで、高周波が用いられる場合は、上記したように、インダクタ3が持つ寄生容量がコイル特性の劣化(例えばQ値の低下)の原因になることが知られている。この実施形態のインダクタ3のように、第1の樹脂層2a内で両金属ピン4が略平行に配置された構造の場合、特に、両金属ピン4間で電位差が大きくなるため、両金属ピン4間で発生する寄生容量を下げる必要がある。そこで、この実施形態では、両金属ピン4間に発生する寄生容量を下げることができるように、両金属ピン4間に空隙6aが設けられている。   By the way, when a high frequency is used, as described above, it is known that the parasitic capacitance of the inductor 3 causes deterioration of coil characteristics (for example, reduction in Q value). In the case of the structure in which both the metal pins 4 are arranged substantially in parallel in the first resin layer 2a as in the inductor 3 of this embodiment, the potential difference between both the metal pins 4 becomes large. It is necessary to reduce the parasitic capacitance generated between the four. Therefore, in this embodiment, the gap 6a is provided between the metal pins 4 so that the parasitic capacitance generated between the metal pins 4 can be reduced.

この実施形態では、両金属ピン4それぞれの周縁に空隙6aが設けられるとともに、両空隙6aそれぞれの一部が、平面視で両金属ピン4の間であって、側面視で両金属ピン4が重なる領域であるピン対向領域Rに重なる領域に配置されている。このピン対向領域Rは、図2の点描写された領域と平面視で重なる第1の樹脂層2a内の領域である。より具体的には、側面視として、図2に示す矢印Fの方向を見たときに、両金属ピン4が重なる領域がピン対向領域Rとして設定されている。空隙6a内は第1の樹脂層2aの樹脂よりも誘電率が低い空気で占有されるため、空隙6aの一部をピン対向領域Rに配置することで、両金属ピン4間に生じる寄生容量を低減することができる。   In this embodiment, a gap 6a is provided at the periphery of each of the metal pins 4, and a part of each of the gaps 6a is between both the metal pins 4 in a plan view, and both the metal pins 4 are in a side view. It is arranged in a region that overlaps the pin facing region R that is an overlapping region. This pin opposing area | region R is an area | region in the 1st resin layer 2a which overlaps with the area | region by which the point drawing of FIG. 2 was described by planar view. More specifically, when the direction of the arrow F shown in FIG. 2 is viewed from the side, a region where both the metal pins 4 overlap is set as the pin facing region R. Since the gap 6a is occupied by air having a lower dielectric constant than the resin of the first resin layer 2a, the parasitic capacitance generated between the two metal pins 4 can be obtained by disposing a part of the gap 6a in the pin facing region R. Can be reduced.

空隙6aについて具体的に説明すると、図1(b)に示すように第1の樹脂層2aには、金属ピン4の配置スペースと空隙6aとが連続して設けられる。この金属ピン4の配置スペースと空隙6aとを合わせた時の横断面形状は、それぞれ横長矩形(空隙6aの形成部分)と円(金属ピン4の配置スペース)とを合成したような形状(図1(b)および図3(b)参照)になり、この合成したものから金属ピン4の配置スペースを除いた領域が空隙6aになる。   The gap 6a will be described in detail. As shown in FIG. 1B, the first resin layer 2a is continuously provided with the space for arranging the metal pins 4 and the gap 6a. The cross-sectional shape when the arrangement space of the metal pin 4 and the gap 6a are combined is a shape in which a horizontally long rectangle (a portion where the gap 6a is formed) and a circle (placement space of the metal pin 4) are combined (see FIG. 1 (b) and FIG. 3 (b)), and a region obtained by removing the arrangement space of the metal pin 4 from the synthesized one becomes the gap 6a.

ここで、横長矩形の短辺の長さよりも円の直径が大きく形成されて、この円が横長矩形の長手方向の略真ん中に配置される。さらに、空隙6aを形成する前記横長矩形の長手方向それぞれが、両金属ピン4を結ぶ直線に略平行になるように配置される。したがって、金属ピン4それぞれにおいて、空隙6aは、ピン対向領域R側と、該ピン対向領域Rの反対側の両方に配置される。そして、接続導体5が、金属ピン4から空隙6aが配置されていない方向(前記横長矩形の短手方向)に引き出されて、両金属ピン4の一端同士を接続する。換言すれば、両空隙6aそれぞれは、接続導体5に接しないように設けられている。なお、空隙6aは、一方の金属ピン4の周縁のみに設けられていてもよい。   Here, the diameter of the circle is formed to be larger than the length of the short side of the horizontally long rectangle, and this circle is arranged approximately in the middle in the longitudinal direction of the horizontally long rectangle. Further, the longitudinal directions of the horizontally long rectangles forming the gap 6 a are arranged so as to be substantially parallel to a straight line connecting both the metal pins 4. Accordingly, in each of the metal pins 4, the gap 6 a is arranged on both the pin facing region R side and the opposite side of the pin facing region R. Then, the connection conductor 5 is drawn from the metal pin 4 in a direction in which the gap 6a is not disposed (the lateral direction of the horizontally long rectangle), and connects one end of both the metal pins 4 to each other. In other words, each of the gaps 6 a is provided so as not to contact the connection conductor 5. Note that the gap 6 a may be provided only at the periphery of one metal pin 4.

(インダクタ部品1aの製造方法)
次に、図3および図4を参照してインダクタ部品1aの製造方法について説明する。なお、図3(a)は金属ピン4を配置する前の第1の樹脂層2aの断面図、図3(b)は図3(a)のB−B矢視断面図、図4(a)〜(c)それぞれは製造方法の各工程を示している。
(Manufacturing method of inductor component 1a)
Next, a method for manufacturing the inductor component 1a will be described with reference to FIGS. 3A is a cross-sectional view of the first resin layer 2a before the metal pin 4 is disposed, FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 3A, and FIG. ) To (c) respectively show the steps of the manufacturing method.

まず、図3に示すように、その上面(本発明の「一方主面」に相当)に金属ピン4を立設状態で収容するための2つの収容孔7が設けられるとともに、その内部に空隙6aが設けられた第1の樹脂層2aを準備する(準備工程)。このとき、両空隙6aそれぞれの少なくとも一部が、第1の樹脂層2aのピン対向領域Rに重なるように配置する。なお、この実施形態では、上記したように、金属ピン4の配置スペースとなる収容孔7と空隙6aとが連続するように形成される(収容孔7と空隙6aの一体形成)。ここで、収容孔7と空隙6aとを合わせた時の横断面形状は、横長矩形(空隙6a部分)と円(金属ピン4の配置部分)とを合成したような形状で形成される。   First, as shown in FIG. 3, two accommodation holes 7 for accommodating the metal pin 4 in an upright state are provided on the upper surface (corresponding to “one main surface” of the present invention), and a gap is formed in the inside. First resin layer 2a provided with 6a is prepared (preparation step). At this time, it arrange | positions so that at least one part of each space | gap 6a may overlap with the pin opposing area | region R of the 1st resin layer 2a. In this embodiment, as described above, the accommodation hole 7 serving as a space for arranging the metal pins 4 and the gap 6a are formed continuously (integrated formation of the accommodation hole 7 and the gap 6a). Here, the cross-sectional shape when the accommodation hole 7 and the gap 6a are combined is formed in a shape that combines a horizontally long rectangle (the gap 6a portion) and a circle (a portion where the metal pin 4 is disposed).

なお、収容孔7は、第1の樹脂層2aを厚み方向で貫通するように形成するが、空隙6a部分(横断面横長矩形)は、第1の樹脂層2aの下面側に底部を有する有底形状にする(図3(a)参照)。この第1の樹脂層2aは、例えば、金型を用いた成形技術により形成することができる。   The accommodation hole 7 is formed so as to penetrate the first resin layer 2a in the thickness direction, but the gap 6a portion (horizontal cross section horizontally long rectangle) has a bottom on the lower surface side of the first resin layer 2a. The bottom is formed (see FIG. 3A). The first resin layer 2a can be formed by a molding technique using a mold, for example.

次に、図4(a)に示すように、両収容孔7それぞれに、金属ピン4を収容(配置)する(収容工程)。   Next, as shown in FIG. 4A, the metal pin 4 is accommodated (arranged) in each of the accommodation holes 7 (accommodating step).

次に、図4(b)に示すように、両金属ピン4の上端(上端面)同士、すなわち、両金属ピン4の第1の樹脂層2aの一方主面側に位置する一端同士を接続するように、第1の樹脂層2aの上面に接続導体5を形成する(接続工程)。接続導体5は、例えば、下地電極と表面電極との2層構造で形成することができる。この場合、下地電極は、CuやAgなどの金属を含有した導電性ペーストを用いたスクリーン印刷により形成し、表面電極は、下地電極の表面の金属成分をめっき核としてCuめっきなどにより形成することができる。   Next, as shown in FIG. 4B, the upper ends (upper end surfaces) of both metal pins 4, that is, one ends of the first resin layers 2 a of both metal pins 4 that are located on one main surface side are connected. Thus, the connection conductor 5 is formed on the upper surface of the first resin layer 2a (connection step). The connection conductor 5 can be formed with a two-layer structure of a base electrode and a surface electrode, for example. In this case, the base electrode is formed by screen printing using a conductive paste containing a metal such as Cu or Ag, and the surface electrode is formed by Cu plating or the like using the metal component on the surface of the base electrode as a plating nucleus. Can do.

次に、図4(c)に示すように、接続導体5を被覆するように、第1の樹脂層2aの上面に第2の樹脂層2bを積層してインダクタ部品1aが完成する(積層工程)。この場合、半硬化(Bステージ)状態の第2の樹脂層2bを準備した上で、この第2の樹脂層2bを第1の樹脂層2aに積層した後、第2の樹脂層2bを完全硬化するのが好ましい。このようにすると、第2の樹脂層2bの樹脂が空隙6aの内部に入り込むのを防止することができる。なお、空隙6aの他の形成方法としては、例えば、各金属ピン4の周面に予め離型剤やワックス状の物を塗布した上で、この状態の各金属ピン4を樹脂層に配置し、樹脂層を硬化させるときの熱で、離型剤またはワックス状の物を気化させるという方法もある。この方法は、後述する他の実施形態の空隙の形成方法にも適用することができる。   Next, as shown in FIG. 4C, the inductor component 1a is completed by laminating the second resin layer 2b on the upper surface of the first resin layer 2a so as to cover the connection conductor 5 (lamination process). ). In this case, after preparing the second resin layer 2b in a semi-cured (B stage) state, the second resin layer 2b is completely laminated after the second resin layer 2b is laminated on the first resin layer 2a. It is preferable to cure. In this way, it is possible to prevent the resin of the second resin layer 2b from entering the inside of the gap 6a. As another method for forming the gap 6a, for example, a mold release agent or a wax-like material is applied in advance to the peripheral surface of each metal pin 4, and then each metal pin 4 in this state is disposed on the resin layer. There is also a method in which the release agent or the wax-like material is vaporized by heat when the resin layer is cured. This method can also be applied to the void forming method of other embodiments described later.

したがって、上記した実施形態によれば、インダクタ3の一部が、金属ピン4により形成される。金属ピン4は、例えば、Cuなどの金属で形成された線材をせん断加工するなどしてそれぞれ形成されるため、ビアホールに導電性ペーストを充填して形成されたビア導体と比較して比抵抗を低く、そのばらつきも小さい。そのため、コイル特性に優れ(例えば、Q値が高い)、かつ、特性のばらつきが小さいインダクタ3を形成することができる。   Therefore, according to the above-described embodiment, a part of the inductor 3 is formed by the metal pin 4. The metal pins 4 are formed by, for example, shearing a wire formed of a metal such as Cu, and therefore have a specific resistance compared to a via conductor formed by filling a via hole with a conductive paste. Low and its variation is small. Therefore, it is possible to form the inductor 3 having excellent coil characteristics (for example, a high Q value) and small variations in characteristics.

また、第1の樹脂層2aの内部に設けられた空隙6aは、その一部がピン対向領域Rに重なるように配置されるため、金属ピン4間に、第1の樹脂層2aよりも誘電率の低い空気を配置することができる。このようにすると、両金属ピン4間に発生する寄生容量を低減することができるため、インダクタ3のコイル特性(例えば、Q値)を向上することができる。   In addition, since the gap 6a provided in the first resin layer 2a is disposed so that a part thereof overlaps the pin facing region R, the gap between the metal pins 4 is more dielectric than the first resin layer 2a. Low rate air can be placed. In this way, since the parasitic capacitance generated between the two metal pins 4 can be reduced, the coil characteristics (eg, Q value) of the inductor 3 can be improved.

また、両空隙6aが接続導体5に接しないように設けられるため、第1の樹脂層2aに接続導体5を容易に配置することができる。   Further, since both the gaps 6a are provided so as not to contact the connection conductor 5, the connection conductor 5 can be easily arranged on the first resin layer 2a.

また、空隙6aと、第1の樹脂層2a内の金属ピン4の配置スペース(収容孔7)とが連続するように形成される。このようにすると、金属ピン4と第1の樹脂層2aとの間に空隙6aによる隙間を形成することができるため、金属ピン4に応力が作用した場合に、第1の樹脂層2aが破損するのを低減することができる。この実施形態では、第1の樹脂層2aが磁性体含有樹脂であるため、磁性体フィラを含有しない熱硬化性樹脂よりも脆い。したがって、このように、金属ピン4と第1の樹脂層2aとの間に隙間を設けることが、第1の樹脂層2aの破損を防止する上で効果的である。   Moreover, it forms so that the space | gap 6a and the arrangement | positioning space (accommodation hole 7) of the metal pin 4 in the 1st resin layer 2a may continue. In this way, a gap due to the gap 6a can be formed between the metal pin 4 and the first resin layer 2a. Therefore, when stress is applied to the metal pin 4, the first resin layer 2a is damaged. Can be reduced. In this embodiment, since the 1st resin layer 2a is magnetic body containing resin, it is more brittle than the thermosetting resin which does not contain a magnetic body filler. Therefore, providing a gap between the metal pin 4 and the first resin layer 2a in this way is effective in preventing damage to the first resin layer 2a.

また、上記したインダクタ部品1aの製造方法によると、第1の樹脂層2aの準備工程で、両金属ピン4を収容するための収容孔7と、空隙6aとを予め形成した上で、両金属ピン4を収容孔7に配置してインダクタ部品1aを製造するため、両金属ピン4間に発生する寄生容量を低減できるインダクタ部品1aを容易に製造することができる。また、金属ピン4の部分を従来のビア導体で形成する場合と比較して、積層ずれによる接続抵抗の増加がなく、コイル特性のばらつきの小さいインダクタ部品1aを製造することができる。   Further, according to the above-described method for manufacturing the inductor component 1a, the first resin layer 2a is prepared in the preparation step, the housing hole 7 for housing both metal pins 4 and the gap 6a are formed in advance. Since the inductor component 1a is manufactured by arranging the pins 4 in the receiving holes 7, the inductor component 1a that can reduce the parasitic capacitance generated between the two metal pins 4 can be easily manufactured. Further, compared to the case where the metal pin 4 portion is formed of a conventional via conductor, the inductor component 1a can be manufactured with no increase in connection resistance due to misalignment and small variation in coil characteristics.

また、空隙6aと収容孔7とが連続するように形成されるため、例えば、第1の樹脂層2aを金型で成形する場合に、収容孔7および空隙6aを容易に形成することができる。   Moreover, since the space | gap 6a and the accommodation hole 7 are formed so that it may continue, when shape | molding the 1st resin layer 2a with a metal mold | die, the accommodation hole 7 and the space | gap 6a can be formed easily, for example. .

(空隙の変形例)
次に、空隙6aの変形例について、図5を参照して説明する。上記した実施形態では、両空隙6aそれぞれが、第1の樹脂層2aの上面に達するように形成されている場合について説明したが、例えば、図5に示すように、両空隙6bそれぞれが、第1の樹脂層2aの内部に収まるように形成されていてもよい。このようにすると、第1の樹脂層2aの上面全てが樹脂で構成されるため、第2の樹脂層2bの積層時に、両空隙6bに樹脂が入り込むのを防止することができる。この場合、第2の樹脂層2bの形成時に液状樹脂を用いることができる。また、第1の樹脂層2aの上面全てが樹脂となることで、接続導体5の形成が容易になる。
(Void deformation example)
Next, a modified example of the gap 6a will be described with reference to FIG. In the above-described embodiment, the case where both the gaps 6a are formed so as to reach the upper surface of the first resin layer 2a has been described. For example, as shown in FIG. It may be formed so as to fit inside one resin layer 2a. In this case, since the entire upper surface of the first resin layer 2a is made of resin, it is possible to prevent the resin from entering the gaps 6b when the second resin layer 2b is laminated. In this case, a liquid resin can be used when forming the second resin layer 2b. Further, since the entire upper surface of the first resin layer 2a is made of resin, the connection conductor 5 can be easily formed.

<第2実施形態>
本発明の第2実施形態にかかるインダクタ部品1bについて、図6を参照して説明する。なお、図6(a)はインダクタ部品1bの断面図、図6(b)は図6(a)のC−C矢視断面図である。
Second Embodiment
An inductor component 1b according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 6A is a cross-sectional view of the inductor component 1b, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 6A.

この実施形態にかかるインダクタ部品1bが、図1および図2を参照して説明した第1実施形態のインダクタ部品1aと異なるところは、図6に示すように、空隙6cの形状が異なることである。その他の構成は、第1実施形態のインダクタ部品1aと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。   The inductor component 1b according to this embodiment is different from the inductor component 1a of the first embodiment described with reference to FIGS. 1 and 2 in that the shape of the gap 6c is different as shown in FIG. . Since other configurations are the same as those of the inductor component 1a of the first embodiment, the description thereof is omitted by giving the same reference numerals.

この場合、金属ピン4の配置スペース(収容孔7)と空隙6cとを合わせた時の合成形状が、円錐台形状に形成される。換言すれば、前記合成形状は、第1の樹脂層2aの下面から上面に向かうにつれて先細りするテーパ状に形成される。このようにしても、第1実施形態のインダクタ部品1aと同様の効果を得ることができる。   In this case, the combined shape when the arrangement space (accommodating hole 7) of the metal pin 4 and the gap 6c are combined is formed into a truncated cone shape. In other words, the composite shape is formed in a tapered shape that tapers from the lower surface of the first resin layer 2a toward the upper surface. Even if it does in this way, the effect similar to the inductor component 1a of 1st Embodiment can be acquired.

<第3実施形態>
本発明の第3実施形態にかかるインダクタ部品1cについて、図7を参照して説明する。なお、図7(a)はインダクタ部品1cの断面図、図7(b)はインダクタ部品1cの平面図である。ここで、図7(a)は図7(b)のD−D矢視断面図であり、図7(b)は第2の樹脂層2bを図示省略している。
<Third Embodiment>
An inductor component 1c according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 7A is a cross-sectional view of the inductor component 1c, and FIG. 7B is a plan view of the inductor component 1c. Here, FIG. 7A is a cross-sectional view taken along the line DD in FIG. 7B, and FIG. 7B does not show the second resin layer 2b.

この実施形態にかかるインダクタ部品1cが、図1および図2を参照して説明した第1実施形態のインダクタ部品1aと異なるところは、図7に示すように、空隙6dの形状が異なることである。その他の構成は、第1実施形態のインダクタ部品1aと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。   The inductor component 1c according to this embodiment is different from the inductor component 1a of the first embodiment described with reference to FIGS. 1 and 2 in that the shape of the gap 6d is different as shown in FIG. . Since other configurations are the same as those of the inductor component 1a of the first embodiment, the description thereof is omitted by giving the same reference numerals.

この場合、両空隙6dそれぞれは、ピン対向領域R側のみに形成されて、第1実施形態において、ピン対向領域Rの反対側に形成されていた空隙6aの一部が第1の樹脂層2aの樹脂で埋められている。このように、空隙6dをピン対向領域R側のみに設けることで、金属ピン4の周側面と第1の樹脂層2aの樹脂との接触領域を増やすことができるため、両金属ピン4間で発生する寄生容量を低減しつつ、両金属ピン4の所望の位置への固定を容易に行うことができる。   In this case, each of the gaps 6d is formed only on the pin facing region R side, and in the first embodiment, a part of the gap 6a formed on the opposite side of the pin facing region R is the first resin layer 2a. Filled with resin. Thus, by providing the gap 6d only on the pin facing region R side, the contact area between the peripheral side surface of the metal pin 4 and the resin of the first resin layer 2a can be increased. It is possible to easily fix both metal pins 4 to desired positions while reducing the generated parasitic capacitance.

<第4実施形態>
本発明の第4実施形態にかかるインダクタ部品1dについて、図8を参照して説明する。なお、図8(a)はインダクタ部品1dの断面図、図8(b)はインダクタ部品1の平面図、図8(c)は図8(a)のE−E矢視断面図、図8(d)はピン対向領域Rを説明するための図である。ここで、図8(b)は第2の樹脂層2bを図示省略している。また、図8(d)は図2に対応する図である。
<Fourth embodiment>
An inductor component 1d according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 8 (a) is a cross-sectional view of the inductor component 1d, FIG. 8 (b) plan view of the inductor component 1 d, FIG. 8 (c) Figure 8 E-E cross-sectional view along a line (a), FIG. 8 (d) is a diagram for explaining the pin facing region R. FIG. Here, in FIG. 8B, the second resin layer 2b is not shown. FIG. 8D is a diagram corresponding to FIG.

この実施形態にかかるインダクタ部品1dが、図7を参照して説明した第3実施形態のインダクタ部品1と異なるところは、図8に示すように、金属ピン4の配置が異なることと、接続導体5が平面視でL字状に形成されていることと、空隙6eの形状が異なることとである。その他の構成は、第3実施形態のインダクタ部品1cと同じであるため、同一符号を付すことにより説明を省略する。 Inductor component 1d according to this embodiment is different from the inductor component 1 c of the third embodiment described with reference to FIG. 7, as shown in FIG. 8, the arrangement of the metal pin 4 may differ, connected That is, the conductor 5 is formed in an L shape in plan view and the shape of the gap 6e is different. Since other configurations are the same as those of the inductor component 1c of the third embodiment, the description thereof is omitted by giving the same reference numerals.

第3実施形態の両金属ピン4は、平面視横長矩形状の第1の樹脂層2aの長手方向に沿って配列されていたが、この実施形態の金属ピン4は、一方が平面視横長矩形状の第1の樹脂層2aの四隅部のうちの1つに配置され、他方の金属ピン4が、一方の金属ピン4と点対称の位置(中心が平面視で第1の樹脂層2aの中心点)に配置される。そして、両金属ピン4の上端同士が、平面視L字状の接続導体5により接続される。   The two metal pins 4 of the third embodiment are arranged along the longitudinal direction of the first resin layer 2a having a horizontally long rectangular shape in plan view. However, one of the metal pins 4 of this embodiment is a horizontally long rectangular shape in plan view. The first metal layer 4a is disposed at one of the four corners of the first resin layer 2a, and the other metal pin 4 is point-symmetric with the one metal pin 4 (the center of the first resin layer 2a is in plan view). (Center point). The upper ends of both metal pins 4 are connected by a connection conductor 5 having an L shape in plan view.

また、金属ピン4の配置スペース(収容孔7)と空隙6eとを合わせた時の横断面形状それぞれは、図8(c)に示すように、円(収容孔7)と、該円の直径よりも大きい直径を有する円の半円とを合成したような形状を成している。これらの円は、同心円となるように配置されるとともに、空隙6eを形成する大径側の半円がピン対向領域R(図8(d)参照)側に配置される。   Moreover, as shown in FIG. 8C, each of the cross-sectional shapes when the arrangement space of the metal pin 4 (accommodating hole 7) and the gap 6e are combined has a circle (accommodating hole 7) and a diameter of the circle. The shape is such that a semicircle of a circle having a larger diameter is synthesized. These circles are arranged so as to be concentric circles, and the large-diameter semicircle that forms the gap 6e is arranged on the pin facing region R (see FIG. 8D) side.

このように空隙6eを構成しても、第3実施形態のインダクタ部品1cの効果と同様の効果を得ることができる。   Even if the gap 6e is configured in this manner, the same effect as that of the inductor component 1c of the third embodiment can be obtained.

(空隙の変形例)
空隙6eの変形例について、図9を参照して説明する。なお、図9(a)〜(c)それぞれは、空隙6eの変形例を示す図であり、それぞれ図8(c)に対応する図である。空隙6eの形状は適宜変更することができる。例えば、図9(a)に示すように、両金属ピン4それぞれにおいて、横断面矩形状の複数の空隙6fを金属ピン4の周方向に沿って複数箇所に配置するようにしてもよい。この場合、第4実施形態のインダクタ部品1dと比較して、金属ピン4の周側面と第1の樹脂層2aの樹脂との接触領域が増えるため、金属ピン4を容易に所望の位置に固定することができる。
(Void deformation example)
A modification of the gap 6e will be described with reference to FIG. Each of FIGS. 9A to 9C is a diagram illustrating a modification of the gap 6e, and corresponds to FIG. 8C. The shape of the gap 6e can be changed as appropriate. For example, as shown in FIG. 9A, in each of the metal pins 4, a plurality of gaps 6 f having a rectangular cross section may be arranged at a plurality of locations along the circumferential direction of the metal pins 4. In this case, since the contact area between the peripheral side surface of the metal pin 4 and the resin of the first resin layer 2a is increased as compared with the inductor component 1d of the fourth embodiment, the metal pin 4 is easily fixed at a desired position. can do.

また、図9(b)に示すように、空隙6gの横断面を碇状に形成してもかまわない。この場合、金属ピン4の周側面と第1の樹脂層2aの樹脂との接触領域がさらに増えるため、金属ピン4の位置固定をより確実に行うことができる。また、図9(c)に示すように、金属ピン4の配置スペース(収容孔7)と空隙6hとを合わせた時の横断面を、円(金属ピン4の配置スペース)と楕円(空隙6hの形成部分)とを合成したような形状にしてもよい。   Further, as shown in FIG. 9B, the cross section of the gap 6g may be formed in a bowl shape. In this case, since the contact area between the peripheral side surface of the metal pin 4 and the resin of the first resin layer 2a further increases, the position of the metal pin 4 can be more reliably fixed. Further, as shown in FIG. 9 (c), the cross-section when the arrangement space (accommodating hole 7) of the metal pin 4 and the gap 6h are combined is a circle (placement space of the metal pin 4) and an ellipse (gap 6h) It may be formed into a shape that is synthesized with the above-mentioned formation portion.

なお、本発明は上記した各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上記したもの以外に種々の変更を行なうことが可能である。例えば、上記した各実施形態では、金属ピン4の配置スペース(収容孔7)と空隙6a〜6hとが連続するように構成したが、不連続であってもかまわない。このようにすると、両金属ピン間の寄生容量を低減しつつ、両金属ピン4の位置固定を容易に行うことができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the invention. For example, in each of the above-described embodiments, the arrangement space of the metal pin 4 (accommodating hole 7) and the gaps 6a to 6h are configured to be continuous, but may be discontinuous. If it does in this way, the position fixation of both metal pins 4 can be performed easily, reducing the parasitic capacitance between both metal pins.

また、上記した各実施形態では、インダクタ部品1a〜1dが1つのインダクタ3を備える場合について説明したが、複数のインダクタ3を備えるように構成してもよい。   Moreover, although each above-described embodiment demonstrated the case where the inductor components 1a-1d were provided with the one inductor 3, you may comprise so that the several inductor 3 may be provided.

また、上記した各実施形態では、接続導体5の平面視形状が、コの字状、L字状の場合について説明したが、例えば、渦巻き状(スパイラル形状)等、種々の形状を採用することができる。   Further, in each of the above-described embodiments, the case where the planar shape of the connection conductor 5 is a U-shape or an L-shape has been described, but various shapes such as a spiral shape (spiral shape) may be employed. Can do.

また、本発明は、樹脂層および該樹脂層に設けられたインダクタを備える種々のインダクタ部品に広く適用することができる。   Further, the present invention can be widely applied to various inductor components including a resin layer and an inductor provided in the resin layer.

1a〜1d インダクタ部品
2a 第1の樹脂層(絶縁層、第1の絶縁層)
2b 第2の樹脂層(第2の絶縁層)
3 インダクタ
4 金属ピン
5 接続導体
6a〜6h 空隙
7 収容孔(金属ピンの配置スペース)
1a to 1d Inductor component 2a First resin layer (insulating layer, first insulating layer)
2b Second resin layer (second insulating layer)
3 Inductor 4 Metal pin 5 Connection conductor 6a-6h Air gap 7 Housing hole (space for arranging metal pin)

Claims (6)

内部に収まるように複数の空隙が形成された絶縁層と、
前記絶縁層内に立設された2本の金属ピンと、前記両金属ピンの一端同士を接続する接続導体とを有するインダクタとを備え、
前記複数の空隙が、平面視で前記両金属ピンの間であって、側面視で両金属ピンが重なる領域であるピン対向領域に配置されて、一方の前記金属ピン、一部の前記空隙、前記絶縁層、異なる一部の前記空隙、他方の前記金属ピンの順に並んでいることを特徴とするインダクタ部品。
An insulating layer in which a plurality of voids are formed so as to fit inside,
An inductor having two metal pins erected in the insulating layer, and a connection conductor connecting one end of both metal pins;
The plurality of gaps are disposed between the two metal pins in a plan view and are arranged in a pin facing region where both the metal pins overlap in a side view, and the one metal pin, a part of the gaps, The inductor component , wherein the insulating layer, the different part of the gap, and the other metal pin are arranged in this order .
前記空隙が、前記接続導体に接しないように設けられていることを特徴とする請求項1に記載のインダクタ部品。   The inductor component according to claim 1, wherein the gap is provided so as not to contact the connection conductor. 前記空隙と、前記絶縁層内の前記金属ピンの配置スペースとが連続していることを特徴とする請求項1または2に記載のインダクタ部品。 The gap and inductor component according to claim 1 or 2, and an arrangement space of the metal pins of the insulating layer is characterized in that continuous. 前記空隙が、前記ピン対向領域のみに設けられていることを特徴とする請求項1ないしのいずれかに記載のインダクタ部品。 The gap is, the inductor component according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it is provided only on the pin facing region. その一方主面に金属ピンを立設状態で収容するための2つの収容孔が設けられるとともに、その内部に収まるように複数の空隙が形成された、第1の絶縁層を準備する準備工程と、
前記両収容孔それぞれに金属ピンを収容する収容工程と、
前記両金属ピンの前記第1の絶縁層の一方主面側に位置する一端同士を接続導体で接続する接続工程と、
前記接続導体を被覆するように、前記第1の絶縁層の一方主面に第2の絶縁層を積層する積層工程とを備え、
前記準備工程では、前記複数の空隙が、前記第1の絶縁層の平面視で前記両収容孔の間であって、側面視で前記両収容孔が重なる領域に一方の前記金属ピン、一部の前記空隙、前記第1の絶縁層、異なる一部の前記空隙、他方の前記金属ピンの順に並んで配置されるように、前記複数の空隙を形成することを特徴とするインダクタ部品の製造方法。
A preparatory step for preparing a first insulating layer in which two housing holes for housing the metal pin in an upright state are provided on one of the main surfaces, and a plurality of voids are formed so as to be accommodated therein When,
A housing step of housing a metal pin in each of the housing holes;
A connecting step of connecting one ends of the metal pins located on the one main surface side of the first insulating layer with a connecting conductor;
A laminating step of laminating a second insulating layer on one main surface of the first insulating layer so as to cover the connection conductor;
In the preparation step, the plurality of gaps are between the two accommodation holes in a plan view of the first insulating layer, and one of the metal pins is partly disposed in a region where the both accommodation holes overlap in a side view. The plurality of gaps are formed so as to be arranged in the order of the gap, the first insulating layer, the different part of the gap, and the other metal pin. .
前記準備工程では、前記空隙を前記両収容孔のいずれかと連続するように形成することを特徴とする請求項に記載のインダクタ部品の製造方法。 6. The method of manufacturing an inductor component according to claim 5 , wherein in the preparation step, the gap is formed so as to be continuous with one of the two accommodation holes.
JP2016550339A 2014-09-26 2015-09-24 Inductor component and manufacturing method thereof Active JP6414599B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014196575 2014-09-26
JP2014196575 2014-09-26
PCT/JP2015/076852 WO2016047654A1 (en) 2014-09-26 2015-09-24 Inductor component and production method therefor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2016047654A1 JPWO2016047654A1 (en) 2017-06-29
JP6414599B2 true JP6414599B2 (en) 2018-10-31

Family

ID=55581178

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016550339A Active JP6414599B2 (en) 2014-09-26 2015-09-24 Inductor component and manufacturing method thereof

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6414599B2 (en)
WO (1) WO2016047654A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102148831B1 (en) 2018-10-02 2020-08-27 삼성전기주식회사 Coil component

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3930918B2 (en) * 1995-01-30 2007-06-13 沖電気工業株式会社 Dielectric multilayer substrate coil
JP2004200227A (en) * 2002-12-16 2004-07-15 Alps Electric Co Ltd Printed inductor
JP2006324489A (en) * 2005-05-19 2006-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Chip coil and manufacturing method thereof
JP2008166593A (en) * 2006-12-28 2008-07-17 Toshiba Corp MEMS inductor, MEMS resonant circuit, and method of manufacturing MEMS inductor
JP6256820B2 (en) * 2012-03-26 2018-01-10 住友電工プリントサーキット株式会社 Flexible printed wiring board and method for manufacturing the flexible printed wiring board
JP2014038884A (en) * 2012-08-10 2014-02-27 Murata Mfg Co Ltd Electronic component and method for manufacturing electronic component

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2016047654A1 (en) 2017-06-29
WO2016047654A1 (en) 2016-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10403431B2 (en) Coil component, coil module, and method for manufacturing coil component
CN106463237B (en) Coil component
CN105225806B (en) Coil module
JP6540808B2 (en) Flexible inductor
JP6365692B2 (en) Coil parts
CN108811319A (en) Electronic unit and its manufacturing method
CN106063388A (en) Electronic device
JPWO2017199461A1 (en) Electronic components
JP2019029372A (en) Coil component and manufacturing method thereof
US11769623B2 (en) Coil component
JP2017130552A (en) Coil component
JP6443451B2 (en) High frequency components
JP2016171211A (en) Coil module
JP6414599B2 (en) Inductor component and manufacturing method thereof
US20180090263A1 (en) Inductor component
JP2019021863A (en) Multilayer substrate
JP6984220B2 (en) Coil parts
JP6607312B2 (en) Inductor parts
TW201438172A (en) Semiconductor device and method of manufacturing same
JP6520130B2 (en) Coil parts
JPWO2017188076A1 (en) Inductor parts

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170317

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170317

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180522

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180720

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180905

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180918

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6414599

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150