JP6421139B2 - Monolith type separation membrane structure - Google Patents
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Description
本発明は、モノリス型分離膜構造体に関する。 The present invention relates to a monolithic separation membrane structure.
従来、モノリス型基材に形成された複数の貫通孔の内表面に多孔質膜を形成する手法として濾過成膜法が広く用いられている(例えば、特許文献1参照)。濾過成膜法とは、多孔質材料を含むスラリーを貫通孔に循環させながらモノリス型基材の外周面側を低圧にすることによって、貫通孔の内表面に多孔質材料を堆積させる手法である。 Conventionally, a filtration film-forming method has been widely used as a method for forming a porous film on the inner surfaces of a plurality of through holes formed in a monolithic substrate (see, for example, Patent Document 1). The filtration film-forming method is a technique for depositing a porous material on the inner surface of a through-hole by lowering the outer peripheral surface side of the monolith substrate while circulating the slurry containing the porous material through the through-hole. .
しかしながら、濾過成膜法では、貫通孔の内表面に不均一な負圧が発生しやすいため、負圧の小さな領域における多孔質膜の厚みが薄くなってしまう場合がある。このような多孔質膜を混合流体(液体混合物や気体混合物)の分離に用いると、多孔質膜の薄い部分に負荷が集中するため、モノリス型分離膜構造体の耐久性が低下するという問題がある。 However, in the filtration film forming method, a non-uniform negative pressure is likely to be generated on the inner surface of the through hole, so that the thickness of the porous film in a region where the negative pressure is small may be reduced. When such a porous membrane is used for the separation of a mixed fluid (liquid mixture or gas mixture), the load is concentrated on a thin portion of the porous membrane, so that the durability of the monolith type separation membrane structure is lowered. is there.
本発明は、上述の状況に鑑みてなされたものであり、耐久性を向上可能なモノリス型分離膜構造体を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the above-mentioned situation, and aims at providing the monolith type separation membrane structure which can improve durability.
本発明に係るモノリス型分離膜構造体は、モノリス型基材と、多孔質膜とを備える。モノリス型基材は、透過成分が流出する流出面に隣接する第1貫通孔を含む複数の貫通孔を有する。多孔質膜は、第1貫通孔の内側に形成される第1多孔質膜を含む複数の多孔質膜を有する。第1多孔質膜のうち流出面の第1平均厚みに対する、第1多孔質膜のうち流出面と反対側の第2平均厚みの比は、0.6以上である。 The monolith type separation membrane structure according to the present invention includes a monolith type substrate and a porous membrane. The monolith substrate has a plurality of through holes including a first through hole adjacent to an outflow surface through which a permeation component flows out. The porous membrane has a plurality of porous membranes including the first porous membrane formed inside the first through hole. The ratio of the second average thickness of the first porous membrane opposite to the outflow surface to the first average thickness of the outflow surface of the first porous membrane is 0.6 or more.
本発明によれば、耐久性を向上可能なモノリス型分離膜構造体を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the monolith type separation membrane structure which can improve durability can be provided.
次に、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なっている場合がある。従って、具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, the drawings are schematic, and the ratio of each dimension may be different from the actual one. Accordingly, specific dimensions and the like should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and ratios are included between the drawings.
以下の説明において、「モノリス」とは、長手方向に形成された複数の貫通孔を有する形状を意味し、ハニカムを含む概念である。 In the following description, “monolith” means a shape having a plurality of through-holes formed in the longitudinal direction, and is a concept including a honeycomb.
1.第1実施形態
(モノリス型分離膜構造体100の構成)
図1は、第1実施形態に係るモノリス型分離膜構造体100の斜視図である。図2は、図1のA−A断面図である。図1では、モノリス型分離膜構造体100の内部構造が部分的に示されている。図1中の矢印は、透過成分(例えば、水蒸気)の流れを示している。
1. First Embodiment (Configuration of Monolith Separation Membrane Structure 100)
FIG. 1 is a perspective view of a monolithic
モノリス型分離膜構造体100は、モノリス型基材10、複数の多孔質膜20、第1シール部26及び第2シール部27を備える。
The monolith type
モノリス型基材10は、本体部11と、複数の第1目封止12と、複数の第2目封止13とを有する。
The
本体部11は、円柱状に形成される。長手方向における本体部11の長さは150〜2000mmとすることができる。本体部11の直径は30〜220mmとすることができる。本体部11は、楕円柱状や多角柱状に形成されていてもよい。
The
本体部11は、多孔質材料によって構成される。本体部11の多孔質材料としては、セラミックス材料、金属材料及び樹脂材料などを用いることができる。セラミックス材料の骨材としては、アルミナ(Al2O3)、チタニア(TiO2)、ムライト(Al2O3・SiO2)、セルベン及びコージェライト(Mg2Al4Si5O18)などを用いることができ、入手容易性と坏土安定性と耐食性を考慮するとアルミナが好適である。本体部11は、多孔質材料に加えて、無機結合材を含んでいてもよい。無機結合材としては、チタニア、ムライト、易焼結性アルミナ、シリカ、ガラスフリット、粘土鉱物、易焼結性コージェライトのうち少なくとも一つを用いることができる。本体部11の気孔率は特に制限されないが、25%〜50%とすることができる。
The
本体部11の平均細孔径は特に制限されないが、0.1μm〜50μmとすることができる。本体部11の平均細孔径は、1μm以上が好ましく、2.5μm以上が更に好ましい。これによって、本体部11の内部における圧力損失を低減することができる。本体部11の平均細孔径は、30μm以下が好ましく、20μm以下が更に好ましい。これによって、構成材料粒子どうしのネッキング箇所を増やすことができるため、本体部11の強度を向上させることができる。本体部11の平均細孔径は、水銀圧入法によって測定することができる。本体部11を構成する多孔質材料の平均粒径は、1μm〜100μmとすることができる。本実施形態において、「平均粒径」とは、SEM(Scanning Electron Microscope)を用いた断面微構造観察によって測定される30個の測定対象粒子の最大直径の算術平均値である。
The average pore diameter of the
本体部11は、第1端面21と、第2端面22と、側面23と、複数の貫通孔24と、複数の排出流路25とを有する。第1端面21は、第2端面22の反対側に設けられる。側面23は、第1端面21と第2端面22の外縁に連なる。複数の貫通孔24それぞれは、第1端面21から第2端面22まで本体部11を貫通する。複数の貫通孔24それぞれは、本体部11の長手方向に沿って形成される。複数の貫通孔24それぞれの内径は、1mm〜5mmとすることができる。
The
図2に示すように、複数の多孔質膜20は、複数の貫通孔24のうち一部の貫通孔24の内側に形成される。多孔質膜20は、筒状に形成される。多孔質膜20の内径は、例えば0.5mm〜5mmとすることができる。
As shown in FIG. 2, the plurality of
多孔質膜20は、濾過法による成膜工程を経て形成される膜である。濾過法は、膜材料を成膜する工程に用いられていてもよいし、種結晶含有材料を成膜する工程に用いられていてもよい。このような多孔質膜20としては、MF膜、UF膜、ガス分離膜、浸透気化膜、又は蒸気透過膜などが挙げられる。具体例としては、セラミック膜(例えば、特開平3−267129号公報、特開2008−246304号公報参照)、一酸化炭素分離膜(例えば、特許第4006107号公報参照)、ヘリウム分離膜(例えば、特許第3953833号公報参照)、水素分離膜(例えば、特許第3933907号公報参照)、炭素膜(例えば、特開2003−286018号公報参照)、ゼオライト膜(例えば、特開2004−66188号公報参照)、シリカ膜(例えば、国際公開第2008/050812号パンフレット参照)、有機無機ハイブリッドシリカ膜(特開2013−203618号公報)、p−トリル基含有シリカ膜(特開2013−226541号公報)が挙げられる。
The
図3は、図2の部分拡大図である。図3では、本体部11と多孔質膜20の断面が図示されている。多孔質膜20は濾過法による成膜工程を経て形成されるため、多孔質膜20の外周層20aは本体部11の内部に入り込んでいる。これによって、多孔質膜20の外周層20aは、本体部11との混層を形成している。多孔質膜20の平均厚みと外周層20aの平均厚みは、膜種に応じて適宜設定することができる。多孔質膜20の平均厚みと外周層20aの平均厚みの代表例を下表1に示すが、これに限られるものではない。なお、多孔質膜20の厚みには、外周層20aの厚みが含まれている。
FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. In FIG. 3, the cross section of the main-
また、図3に示すように、濾過法によって成膜される多孔質膜20は、貫通孔24の内面に沿って形成されている。これにより、貫通孔24の内面の凹部において多孔質膜20の膜厚が局所的に厚くなることが抑えられるためクラックの発生を抑制することができる。多孔質膜20の表面20Sにおける表面粗さRaは、0.1μm以上である。表面20Sにおける表面粗さRaは、3.0μm以下であることが好ましい。これによって、表面20Sに対する混合流体の流体抵抗を低減させることができる。表面20Sにおける表面粗さRaは、SEMによって取得される25μm長の断面曲線からJIS B 0601−2001に準拠した手法で測定することができる。
As shown in FIG. 3, the
なお、濾過法以外の成膜方法(例えば、流下法やディップ法)によって多孔質膜を成膜した場合には、多孔質膜の表面粗さRaは0.1μm未満にすることができるものの、貫通孔24の内面の凹部において多孔質膜の膜厚が局所的に厚くなるためクラックが発生しやすくなる。
In addition, when the porous film is formed by a film forming method other than the filtration method (for example, a flow-down method or a dip method), the surface roughness Ra of the porous film can be less than 0.1 μm, Since the thickness of the porous film locally increases in the concave portion on the inner surface of the through
ここで、図2に示すように、多孔質膜20の内側の空間は、分離対象である液体混合物や気体混合物(以下、「混合流体」という。)が流通する濾過セルCfとなっている。濾過セルCfの両端は、第1及び第2端面21,22に開口している。本実施形態では、図1に示すように、所定方向に沿って列をなす所定数の濾過セルCfが12列形成されている。
Here, as shown in FIG. 2, the space inside the
また、図2に示すように、複数の貫通孔24のうち多孔質膜20が形成されていない貫通孔24の内側の空間は、透過成分が集まる集水セルCwとなっている。集水セルCwの両端は、第1及び第2目封止12,13によって封止されている。集水セルCwの両端は、第1及び第2端面21,22に開口していない。本実施形態では、図1に示すように、所定方向に列をなす所定数の集水セルCwが3列形成されている。3列の集水セルCwは、12列の濾過セルCfを3列ごとに区切るように配置されている。第1及び第2目封止12,13は、本体部11と同様の多孔質材料によって構成することができる。第1及び第2目封止12,13の気孔率は特に制限されないが、25〜50%であることが好ましい。第1及び第2目封止12,13の充填深さは特に制限されないが、1〜20mm程度とすることができる。
Moreover, as shown in FIG. 2, the space inside the through-
ここで、集水セルCwの内表面11Sは、本実施形態に係る「流出面」の一例である。濾過セルCfを流通する混合流体に含まれる透過成分(例えば、水蒸気)は、多孔質膜20を透過した後、本体部11の細孔を通過して、内表面11Sから集水セルCw内に流出する流れと、本体部11の側面23から直接外部に流出する流れとに分かれる。この際、内表面11Sと側面23には同じ負圧が生じているため、内表面11Sと側面23は同等の圧力場であると言える。
Here, the
複数の排出流路25それぞれは、側面23の一方側から他方側まで本体部11を貫通する。1列の集水セルCwには、2本の排出流路25が形成される。2本の排出流路25それぞれは、1列の集水セルCwすべてに連通する。2本の排出流路25は、長手方向において離れている。集水セルCw内に流出した透過成分は、排出流路25を通って、側面23に形成された開口から外部に流出する。
Each of the plurality of
第1シール部26は、第1端面21の全面と側面23の一部を覆う。第1シール部26は、混合流体が第1端面21に浸潤することを抑制する。第1シール部26は、濾過セルCfの流入口を塞がないように形成される。第1シール部26は、第1目封止12を覆っている。第1シール部26を構成する材料としては、ガラスや金属、ゴム、樹脂などを用いることができ、本体部11の熱膨張係数との整合性を考慮するとガラスが好適である。
The
第2シール部27は、第2端面22の全面と側面23の一部を覆う。第2シール部27は、混合流体が第2端面22に浸潤することを抑制する。第2シール部27は、濾過セルCfの流出口を塞がないように形成される。第2シール部27は、第2目封止13を覆っている。第2シール部27は、第1シール部26と同様の材料によって構成することができる。
The
(多孔質膜20の厚み)
次に、多孔質膜20の厚みについて図面を参照しながら説明する。図4は、図2のB−B断面図である。
(Thickness of porous membrane 20)
Next, the thickness of the
以下の説明では、2つの集水セルCwの間に配置された3つの濾過セルCfを順に“第1濾過セルCf1”、“第2濾過セルCf2”及び“第3濾過セルCf3”と称する。また、2つの集水セルCwのうち第1濾過セルCf1に隣接するものを“第1集水セルCw1”と称し、第3濾過セルCf3に隣接するものを“第2集水セルCw2”と称する。 In the following description, the three filtration cells Cf disposed between the two water collection cells Cw are sequentially referred to as “first filtration cell Cf1”, “second filtration cell Cf2”, and “third filtration cell Cf3”. Of the two water collection cells Cw, those adjacent to the first filtration cell Cf1 are referred to as “first water collection cells Cw1”, and those adjacent to the third filtration cell Cf3 are referred to as “second water collection cells Cw2”. Called.
また、第1濾過セルCf1が配置される貫通孔24を“第1貫通孔241”と称し、第2濾過セルCf2が配置される貫通孔24を“第2貫通孔242”と称し、第3濾過セルCf3が配置される貫通孔24を“第3貫通孔243”と称する。第2貫通孔242は、第1貫通孔241と第3貫通孔243の間に位置する。
Further, the through
また、第1貫通孔241の内表面に形成され、第1濾過セルCf1を形成する多孔質膜20を“第1多孔質膜201”と称し、第2貫通孔242の内表面に形成され、第2濾過セルCf2を形成する多孔質膜20を“第2多孔質膜202”と称し、第3貫通孔243の内表面に形成され、第3濾過セルCf3を形成する多孔質膜20を“第3多孔質膜203”と称する。
Further, the
以下の説明において、多孔質膜20の“平均厚み”とは、本体部11の長手方向(図1参照)において、多孔質膜20の一端から20mm内側で測定した厚みと、多孔質膜20の他端から20mm内側で測定した厚みと、多孔質膜20の長手方向中央で測定した厚みとの算術平均値を意味する。
In the following description, the “average thickness” of the
図4に示すように、第1多孔質膜201は、第1集水セルCw1側において第1平均厚みt1を有し、第1集水セルCw1と反対側において第2平均厚みt2を有する。第1多孔質膜201の第1平均厚みt1は、第1多孔質膜201のうち第1集水セルCw1の内表面11S(すなわち、流出面)に最も近い部分の厚みである。第1多孔質膜201の第2平均厚みt2は、第1多孔質膜201のうち第1集水セルCw1から最も離れた部分の厚みである。
As shown in FIG. 4, the first
第1多孔質膜201の第1平均厚みt1及び第2平均厚みt2それぞれは、第1多孔質膜201の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。本実施形態において、第1平均厚みt1に対する第2平均厚みt2の比(t2/t1)は、0.6以上である。すなわち、第2平均厚みt2は、第1平均厚みt1の0.6倍以上である。これによって、第1濾過セルCf1に混合流体を流通させたとき、第1多孔質膜201のうち第1集水セルCw1から最も離れた部分に負荷が集中して損傷が生じることを抑制できる。第1平均厚みt1に対する第2平均厚みt2の比(t2/t1)は、0.7以上であることが好ましく、0.9以上であることが更に好ましい。さらに、第2平均厚みt2は、第1平均厚みt1と等しくてもよく、第1平均厚みt1より大きくてもよい。
Each of the first average thickness t1 and the second average thickness t2 of the first
図4に示すように、第2多孔質膜202は、第1集水セルCw1側において第3平均厚みt3を有する。第2多孔質膜202の第3平均厚みt3は、第2多孔質膜202のうち第1集水セルCw1の内表面11Sに最も近い部分の厚みである。
As shown in FIG. 4, the second
第2多孔質膜202の第3平均厚みt3は、第2多孔質膜202の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。本実施形態において、第1多孔質膜201の第1平均厚みt1に対する第2多孔質膜202の第3平均厚みt3の比(t3/t1)は、0.6以上である。すなわち、第2多孔質膜202の第3平均厚みt3は、第1多孔質膜201の第1平均厚みt1の0.6倍以上である。これによって、第2濾過セルCf2に混合流体を流通させたとき、第2多孔質膜202のうち第1集水セルCw1に近い部分に負荷が集中して損傷が生じることを抑制できるため、第1多孔質膜201の耐久性と第2多孔質膜202の耐久性に差が生じることを抑制できる。第1多孔質膜201の第1平均厚みt1に対する第2多孔質膜202の第3平均厚みt3の比(t3/t1)は、0.7以上であることが好ましく、0.9以上であることが更に好ましい。さらに、第3平均厚みt3は、第1平均厚みt1と等しくてもよく、第1平均厚みt1より大きくてもよい。
The third average thickness t3 of the second
また、第2多孔質膜202は、第1集水セルCw1と反対側において第4平均厚みt4を有する。第2多孔質膜202の第4平均厚みt4は、第2多孔質膜202のうち第1集水セルCw1の内表面11Sから最も離れた部分の厚みである。
The second
第2多孔質膜202の第4平均厚みt4は、第2多孔質膜202の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。本実施形態において、第1多孔質膜201の第1平均厚みt1に対する第2多孔質膜202の第4平均厚みt4の比(t4/t1)は、0.6以上である。すなわち、第2多孔質膜202の第4平均厚みt4は、第1多孔質膜201の第1平均厚みt1の0.6倍以上である。これによって、第2濾過セルCf2に混合流体を流通させたとき、第2多孔質膜202のうち第1集水セルCw1から離れた部分に負荷が集中して損傷が生じることを抑制できるため、第1多孔質膜201の耐久性と第2多孔質膜202の耐久性に差が生じることをより抑制できる。第1多孔質膜201の第1平均厚みt1に対する第2多孔質膜202の第4平均厚みt4の比(t4/t1)は、0.7以上であることが好ましく、0.9以上であることが更に好ましい。さらに、第4平均厚みt4は、第1平均厚みt1と等しくてもよく、第1平均厚みt1より大きくてもよい。なお、第3平均厚みt3に対する第4平均厚みt4の比(t4/t3)は、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.9以上であることが特に好ましい。第4平均厚みt4は、第3平均厚みt3と等しくてもよく、第3平均厚みt3より大きくてもよい。
The fourth average thickness t4 of the second
図4に示すように、第1多孔質膜201は、第1集水セルCw1を基準とした場合の中央部において第5平均厚みt5を有する。第1多孔質膜201の第5平均厚みt5は、第1多孔質膜201のうち第1集水セルCw1の内表面11Sに近い部分と第1集水セルCw1から離れた部分の間の厚みである。
As shown in FIG. 4, the first
第1多孔質膜201の第5平均厚みt5は、第1多孔質膜201の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。第1多孔質膜201の第1平均厚みt1に対する第5平均厚みt5の比(t5/t1)は、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.9以上であることが特に好ましい。これによって、第1多孔質膜201の耐久性をより向上させることができる。
The fifth average thickness t5 of the first
図4に示すように、第2多孔質膜202は、第1集水セルCw1を基準とした場合の中央部において第6平均厚みt6を有する。第2多孔質膜202の第6平均厚みt6は、第2多孔質膜202のうち第1集水セルCw1の内表面11Sに近い部分と第1集水セルCw1から離れた部分の間の厚みである。
As shown in FIG. 4, the second
第2多孔質膜202の第6平均厚みt6は、第2多孔質膜202の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。第1多孔質膜201の第1平均厚みt1に対する第6平均厚みt6の比(t6/t1)は、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.9以上であることが特に好ましい。これによって、第2多孔質膜201の耐久性をより向上させることができる。また、第2多孔質膜202の第5平均厚みt5に対する第6平均厚みt6の比(t6/t5)は、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.9以上であることが特に好ましい。
The sixth average thickness t6 of the second
なお、図4に示すように、第1貫通孔241と集水セルCwの内表面11Sとの間隔L1は、5μm〜1500μmとすることができる。間隔L1は、50μm以上が好ましく、250μm以上がより好ましい。これによって、濾過成膜法で第1多孔質膜201を形成する際に、第1貫通孔241と集水セルCwの間に多孔質材料が詰まることを抑制できるため、第1多孔質膜201の膜厚の均一性を高めることができる。間隔L1は、本体部11のうち第1集水セルCw1と第1濾過セルCf1に挟まれた部分の厚みである。
In addition, as shown in FIG. 4, the space | interval L1 of the 1st through-
また、第1貫通孔241と第2貫通孔242の間隔L2は、5μm〜1500μmとすることができる。間隔L2は、50μm以上が好ましく、250μm以上がより好ましい。これによって、濾過成膜法で第2多孔質膜202を形成する際に、第1貫通孔241と第2貫通孔242の間に多孔質材料が詰まることを抑制できるため、第2多孔質膜202の膜厚の均一性を高めることができる。間隔L2は、本体部11のうち第1濾過セルCf1と第2濾過セルCf2に挟まれた部分の厚みである。
Further, the distance L2 between the first through
(モノリス型分離膜構造体100の製造方法)
次に、モノリス型分離膜構造体100の製造方法について説明する。以下においては、多孔質膜20としてMF膜又はUF膜を形成する場合を例に挙げて説明する。
(Manufacturing method of monolithic separation membrane structure 100)
Next, the manufacturing method of the monolith type
まず、多孔質材料を調製して、複数の貫通孔24を有する本体部11の成形体を形成する。成形体の形成方法としては、真空押出成形機を用いた押出成形法のほかプレス成型法や鋳込み成型法を用いることができる。
First, a porous material is prepared, and a molded body of the
次に、鋭利な治具を用いて排出流路25を本体部11の成形体に形成する。
Next, the
次に、多孔質材料に有機バインダ、焼結助剤、pH調整剤、界面活性剤などを添加して目封止用スラリーを作製する。 Next, an organic binder, a sintering aid, a pH adjuster, a surfactant, and the like are added to the porous material to prepare a plugging slurry.
次に、本体部11の成形体の両端面にポリエステル等のフィルムを貼付し、複数の貫通孔24のうち集水セルCwを形成する貫通孔24に対応する部分に孔を穿設する。
Next, a film of polyester or the like is attached to both end faces of the molded body of the
次に、本体部11の成形体の両端部を目封止用スラリーに押し付けることによって、第1及び第2目封止12,13の成形体を形成する。
Next, the molded body of the 1st and 2nd pluggings 12 and 13 is formed by pressing the both ends of the molded body of the
次に、本体部11の成形体と第1及び第2目封止12,13の成形体を焼成(例えば、500℃〜1500℃、0.5時間〜80時間)して、モノリス型基材10を形成する。第1及び第2目封止12,13の間には、集水セルCwが形成される。本体部11の平均細孔径は、0.1μm〜50μmとすることができ、1μm以上が好ましい。貫通孔24どうしの間隔L1,L2(図4参照)は、5μm〜1500μmとすることができ、50μm以上が好ましく、250μm以上がより好ましい。
Next, the molded body of the
次に、本体部11の平均細孔径の1/3以下の粒径を有する粒子(以下、「小粒子」という。)を40%以上60%以下の頻度で含む第1多孔質材料と、本体部11の平均細孔径以上の粒径を有する粒子(以下、「大粒子」という。)を40%以上70%以下の頻度で含む第2多孔質材料とを準備する。 Next, a first porous material containing particles having a particle size of 1/3 or less of the average pore diameter of the main body 11 (hereinafter referred to as “small particles”) at a frequency of 40% or more and 60% or less, and the main body A second porous material containing particles having a particle size equal to or larger than the average pore size of the portion 11 (hereinafter referred to as “large particles”) at a frequency of 40% to 70% is prepared.
次に、第1多孔質材料にろ過抵抗剤と水を添加して第1多孔質膜用スラリーを作製するとともに、第2多孔質材料にろ過抵抗剤と水を添加して第2多孔質膜用スラリーを作製する。そして、第1多孔質膜用スラリーと第2多孔質膜用スラリーを混合することによって、多孔質膜用スラリーを調製する。この際、多孔質膜用スラリーにおいて、大粒子の頻度を小粒子の頻度の2倍以上8倍以下の範囲に調整することが好ましい。 Next, a filtration resistance agent and water are added to the first porous material to produce a slurry for the first porous membrane, and a filtration resistance agent and water are added to the second porous material to obtain a second porous membrane. A slurry is prepared. And the slurry for porous membranes is prepared by mixing the slurry for 1st porous membranes, and the slurry for 2nd porous membranes. At this time, in the slurry for a porous membrane, it is preferable to adjust the frequency of large particles to a range of 2 to 8 times the frequency of small particles.
次に、多孔質膜用スラリーを用いた濾過成膜法によって、第1及び第2目封止12,13によって封止されていない貫通孔24の内表面上に多孔質膜20の成形体を形成する。具体的には、貫通孔24に多孔質膜用スラリーを流通させながら本体部11の外周を真空引きすることによって、貫通孔24の内表面上に多孔質材料を堆積させる。上述の通り、多孔質膜用スラリーには小粒子と大粒子がバランス良く混合されているため、貫通孔24の内表面に不均一な負圧が発生することが抑えられる。これによって、図4で説明したように、第1多孔質膜201の第1平均厚みt1に対する第2平均厚みt2の比(t2/t1)を0.6以上にすることができる。
Next, a molded body of the
また、第2多孔質膜202の第3平均厚みt3を独立して調整したい場合には、以下の手法を用いることができる。まず、第1濾過セルCf1と第3濾過セルCf3の両端開口をテープなどで塞ぐとともに、第2集水セルCw2を貫通する排出流路25の両端開口をテープなどで塞ぐ。次に、第2濾過セルCf2に多孔質膜用スラリーを流通させながら本体部11の外周を真空引きする。これによって、第2貫通孔242のうち第1集水セルCw1側だけに多孔質材料が堆積するため、第2多孔質膜202の第3平均厚みt3を厚くすることができる。
Further, when it is desired to independently adjust the third average thickness t3 of the second
同様に、第2多孔質膜202の第4平均厚みt4を独立して調整したい場合には、以下の手法を用いることができる。まず、第1濾過セルCf1と第3濾過セルCf3の両端開口をテープなどで塞ぐとともに、第1集水セルCw1を貫通する排出流路25の両端開口をテープなどで塞ぐ。次に、第2濾過セルCf2に多孔質膜用スラリーを流通させながら本体部11の外周を真空引きする。これによって、第2貫通孔242のうち第2集水セルCw2側だけに多孔質材料が堆積するため、第2多孔質膜202の第4平均厚みt4を厚くすることができる。
Similarly, when it is desired to independently adjust the fourth average thickness t4 of the second
次に、多孔質膜20の成形体を焼成(例えば、500℃〜1450℃、0.5時間〜80時間)することによって、多孔質膜20を形成する。
Next, the
次に、ガラスフリットに水と有機バインダを混合してガラスシール用スラリーを調製する。 Next, water and an organic binder are mixed in a glass frit to prepare a slurry for glass sealing.
次に、本体部11の第1端面21と第2端面22にガラスシール用スラリーを塗布して第1及び第2シール部26,27の成形体を形成する。続いて、第1及び第2シール部26,27の成形体を焼成(800〜1000℃、1時間〜100時間)して第1及び第2シール部26,27を形成する。
Next, slurry for glass sealing is applied to the
2.第2実施形態
(分離膜構造体101の構成)
図5は、分離膜構造体101の斜視図である。図6は、図5のF−F断面図である。
2. Second Embodiment (Configuration of Separation Membrane Structure 101)
FIG. 5 is a perspective view of the
分離膜構造体101は、モノリス型基材30、複数の多孔質膜40、第1シール部32及び第2シール部33を備える。
The
モノリス型基材30は、中心軸AXを中心として長手方向に延びる棒状部材である。
The
モノリス型基材30は、多孔質材料によって構成される。モノリス型基材30の多孔質材料としては、上記第1実施形態に係る本体部11と同様の材料を用いることができる。モノリス型基材30は、第1端面41と、第2端面42と、側面43と、複数の貫通孔44とを有する。側面43は、本実施形態に係る「流出面」の一例である。後述する濾過セルCfを流通する混合流体に含まれる透過成分(例えば、水蒸気)は、多孔質膜40を透過した後、モノリス型基材30の細孔を通過して側面23から直接外部に流出する。
The
第1シール部32及び第2シール部33の構成は、上記第1実施形態に係る第1シール部26及び第2シール部27と同様である。
The configurations of the
図6に示すように、複数の多孔質膜40は、すべての貫通孔44の内側に形成される。多孔質膜40は、筒状に形成される。多孔質膜40は、濾過法による成膜工程を経て形成される膜であればよい。多孔質膜40の具体例としては、上記第1実施形態に係る多孔質膜20と同様の膜を用いることができる。多孔質膜40の内側の空間は、分離対象である混合流体が流通する濾過セルCfとなっている。濾過セルCfの両端は、第1及び第2端面41,42に開口する。
As shown in FIG. 6, the plurality of
濾過法によって成膜される多孔質膜40は、貫通孔44の内面に沿って形成される。多孔質膜40の表面における表面粗さRaは特に制限されないが、0.1μm以上とすることができ、3.0μm以下であることが好ましい。表面粗さRaは、SEMによって取得される25μm長の断面曲線からJIS B 0601−2001に準拠した手法で測定することができる。
The
(多孔質膜40の厚み)
次に、多孔質膜40の厚みについて図面を参照しながら説明する。図7は、図6の部分拡大図である。
(Thickness of porous film 40)
Next, the thickness of the
以下の説明では、側面43側から順に配置された2つの濾過セルCfを“第1濾過セルCf1”及び“第2濾過セルCf2”と称する。また、第1濾過セルCf1が配置される貫通孔44を“第1貫通孔441”と称し、第2濾過セルCf2が配置される貫通孔44を“第2貫通孔442”と称する。
In the following description, the two filtration cells Cf arranged in this order from the
また、第1貫通孔441の内表面に形成され、第1濾過セルCf1を形成する多孔質膜40を“第1多孔質膜401”と称し、第2貫通孔442の内表面に形成され第2濾過セルCf2を形成する多孔質膜40を“第2多孔質膜402”と称する。
The
以下の説明において、多孔質膜40の“平均厚み”とは、モノリス型基材30の長手方向(図5参照)において、多孔質膜40の一端から20mm内側で測定した厚みと、多孔質膜40の他端から20mm内側で測定した厚みと、多孔質膜40の長手方向中央で測定した厚みとの算術平均値を意味する。
In the following description, the “average thickness” of the
図7に示すように、第1多孔質膜401は、側面43側において第1平均厚みs1を有し、側面43と反対側において第2平均厚みs2を有する。第1多孔質膜401の第1平均厚みs1は、第1多孔質膜401のうち側面43(すなわち、流出面)に最も近い部分の厚みである。第1多孔質膜401の第2平均厚みs2は、第1多孔質膜401のうち側面43から最も離れた部分の厚みである。
As shown in FIG. 7, the first
第1多孔質膜401の第1平均厚みs1及び第2平均厚みs2それぞれは、第1多孔質膜401の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。本実施形態において、第1平均厚みs1に対する第2平均厚みs2の比(s2/s1)は、0.6以上である。すなわち、第2平均厚みs2は、第1平均厚みs1の0.6倍以上である。これによって、第1濾過セルCf1に混合流体を流通させたとき、第1多孔質膜401のうち側面43から最も離れた部分に負荷が集中して損傷が生じることを抑制できる。第1平均厚みs1に対する第2平均厚みs2の比(s2/s1)は、0.7以上であることが好ましく、0.9以上であることが更に好ましい。さらに、第2平均厚みs2は、第1平均厚みs1と等しくてもよく、第1平均厚みs1より大きくてもよい。
Each of the first average thickness s1 and the second average thickness s2 of the first
図7に示すように、第2多孔質膜402は、側面43側において第3平均厚みs3を有する。第2多孔質膜402の第3平均厚みs3は、第2多孔質膜402のうち側面43に最も近い部分の厚みである。
As shown in FIG. 7, the second
第2多孔質膜402の第3平均厚みs3は、第2多孔質膜402の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。本実施形態において、第1多孔質膜401の第1平均厚みs1に対する第2多孔質膜402の第3平均厚みs3の比(s3/s1)は、0.6以上である。すなわち、第2多孔質膜402の第3平均厚みs3は、第1多孔質膜401の第1平均厚みs1の0.6倍以上である。これによって、第2濾過セルCf2に混合流体を流通させたとき、第2多孔質膜402のうち側面43に近い部分に負荷が集中して損傷が生じることを抑制できるため、第1多孔質膜401の耐久性と第2多孔質膜402の耐久性に差が生じることを抑制できる。第1多孔質膜401の第1平均厚みs1に対する第2多孔質膜402の第3平均厚みs3の比(s3/s1)は、0.7以上であることが好ましく、0.9以上であることが更に好ましい。さらに、第3平均厚みs3は、第1平均厚みs1と等しくてもよく、第1平均厚みs1より大きくてもよい。
The third average thickness s3 of the second
また、第2多孔質膜402は、側面43と反対側において第4平均厚みs4を有する。第2多孔質膜402の第4平均厚みs4は、第2多孔質膜402のうち側面43から最も離れた部分の厚みである。
The second
第2多孔質膜402の第4平均厚みs4は、第2多孔質膜402の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。本実施形態において、第1多孔質膜401の第1平均厚みs1に対する第2多孔質膜402の第4平均厚みs4の比(s4/s1)は、0.6以上である。すなわち、第2多孔質膜402の第4平均厚みs4は、第1多孔質膜401の第1平均厚みs1の0.6倍以上である。これによって、第2濾過セルCf2に混合流体を流通させたとき、第2多孔質膜402のうち側面43から離れた部分に負荷が集中して損傷が生じることを抑制できるため、第1多孔質膜401の耐久性と第2多孔質膜402の耐久性に差が生じることをより抑制できる。第1多孔質膜401の第1平均厚みs1に対する第2多孔質膜402の第4平均厚みs4の比(s4/s1)は、0.7以上であることが好ましく、0.9以上であることが更に好ましい。さらに、第4平均厚みs4は、第1平均厚みs1と等しくてもよく、第1平均厚みs1より大きくてもよい。なお、第3平均厚みs3に対する第4平均厚みs4の比(s4/s3)は、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.9以上であることが特に好ましい。第4平均厚みs4は、第3平均厚みs3と等しくてもよく、第3平均厚みs3より大きくてもよい。
The fourth average thickness s4 of the second
図7に示すように、第1多孔質膜401は、側面43を基準とした場合の中央部において第5平均厚みs5を有する。第1多孔質膜401の第5平均厚みs5は、第1多孔質膜401のうち側面43に近い部分と側面43から離れた部分の間の厚みである。
As shown in FIG. 7, the first
第1多孔質膜401の第5平均厚みs5は、第1多孔質膜401の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。第1多孔質膜401の第1平均厚みs1に対する第5平均厚みs5の比(s5/s1)は、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.9以上であることが特に好ましい。これによって、第1多孔質膜401の耐久性をより向上させることができる。
The fifth average thickness s5 of the first
図7に示すように、第2多孔質膜402は、側面43を基準とした場合の中央部において第6平均厚みs6を有する。第2多孔質膜402の第6平均厚みs6は、第2多孔質膜402のうち側面43に近い部分と側面43から離れた部分の間の厚みである。
As shown in FIG. 7, the second
第2多孔質膜402の第6平均厚みs6は、第2多孔質膜402の膜種によって適宜設定することができる(表1参照)。第1多孔質膜401の第1平均厚みs1に対する第6平均厚みs6の比(s6/s1)は、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.9以上であることが特に好ましい。これによって、第2多孔質膜401の耐久性をより向上させることができる。また、第2多孔質膜402の第5平均厚みs5に対する第6平均厚みs6の比(s6/s5)は、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがより好ましく、0.9以上であることが特に好ましい。
The sixth average thickness s6 of the second
なお、図7に示すように、第1貫通孔441と側面43との間隔M1は、5μm〜1500μmとすることができる。間隔L1は、50μm以上が好ましく、250μm以上がより好ましい。間隔L1は、モノリス型基材30のうち第1濾過セルCf1の外側の部分の厚みである。
In addition, as shown in FIG. 7, the space | interval M1 of the 1st through-
また、第1貫通孔441と第2貫通孔442の間隔M2は、5μm〜1500μmとすることができる。間隔M2は、50μm以上が好ましく、250μm以上がより好ましい。間隔M2は、モノリス型基材30のうち第1濾過セルCf1と第2濾過セルCf2に挟まれた部分の厚みである。
Further, the interval M2 between the first through
(分離膜構造体101の製造方法)
分離膜構造体101の製造方法は、集水セルを形成することなく全ての貫通孔44の内側に多孔質膜40を形成すること以外は、上記第1実施形態に係る分離膜構造体100の製造方法と同様である。
(Manufacturing method of the separation membrane structure 101)
The manufacturing method of the
なお、第2多孔質膜402の第3平均厚みs3は、第1濾過セルCf1の両端開口を塞いだ状態で濾過成膜法を実施することによって独立して制御可能である。
Note that the third average thickness s3 of the second
また、第2多孔質膜402の第4平均厚みs4は、第2濾過セルCf2が第1濾過セルCf1の鉛直下方に位置するようにモノリス型基材30を横置きした状態で、第2濾過セルCf2の半分程度の高さまで多孔質膜用スラリーを供給しながら濾過成膜法を実施することによって独立して制御可能である。
In addition, the fourth average thickness s4 of the second
(その他の実施形態)
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
(Other embodiments)
As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible in the range which does not deviate from the summary of invention.
上記実施形態において、複数の貫通孔24それぞれの内径は全て等しいこととしたが、これに限られるものではない。例えば、濾過セルCfが形成される貫通孔24と集水セルCwが形成される貫通孔24とで内径は異なっていてもよい。
In the above embodiment, the inner diameters of the plurality of through
上記第1実施形態において、モノリス型分離膜構造体100は、12列の濾過セルCfと3列の集水セルCwを備え、2列の集水セルCwの間に3列の濾過セルCfが配列されることとしたが、これに限られるものではない。2列の集水セルCwの間に配列される濾過セルCfの列数は特に制限されるものではなく1列以上であればよいが、多孔質膜20を濾過成膜する際の貫通孔24内及び貫通孔24間での負圧差を抑制するには、10列以下であることが好ましく、6列以下であることがより好ましい。濾過セルCf及び集水セルCwそれぞれの配列及び本数は適宜変更可能である。例えば、モノリス型分離膜構造体100は、28列の濾過セルCfと5列の集水セルCwを備え、2列の集水セルCw間に4列の濾過セルCfが配列されていることが好ましい。1列に並ぶ濾過セルCfの本数は1〜31本が好ましく、1列に並ぶ集水セルCwの本数は2〜16本が好ましい。
In the first embodiment, the monolithic
上記第1実施形態において、1つの集水セルCwに2本の排出流路25が設けられることとしたが、排出流路25の本数及び位置は適宜変更可能である。
In the first embodiment, two
上記第1実施形態において、第1及び第2シール部26,27それぞれは、側面23の一部を覆っていることとしたが、側面23を覆っていなくてもよい。
In the first embodiment, each of the first and
上記第1実施形態では、図4〜図7を参照しながら、集水セルCwの位置を基準とした多孔質膜20の厚みの関係について説明したが、この厚みの関係は全ての多孔質膜20のうち60%以上の多孔質膜20において成立していることが好ましく、80%以上の多孔質膜20において成立していることがより好ましい。
In the first embodiment, the thickness relationship of the
上記第1実施形態において、多孔質膜20は、貫通孔24の内表面に直接形成されることとしたが、これに限られるものではない。第1実施形態に係るモノリス型基材10は、本体部11と多孔質膜20の間に配置される中間層を有していてもよい。このような中間層は、本体部11と同様の多孔質材料によって構成することができる。中間層の平均細孔径は、本体部11の平均細孔径よりも小さくてもよいが、2.5μm以上であることが好ましい。また、中間層を濾過法によって成膜する場合には、上記第1実施形態に係る多孔質膜20と同様の厚み比の関係が成立していることが好ましい。同様に、第2実施形態において、モノリス型基材30と多孔質膜40の間には中間層が配置されていてもよい。
In the first embodiment, the
以下において本発明に係るモノリス型基材の実施例について説明する。ただし、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, examples of the monolith type substrate according to the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the examples described below.
(サンプルNo.1〜No.15の作製)
以下のようにして、サンプルNo.1〜No.15に係るモノリス型分離膜構造体を作製した。
(Production of sample No. 1 to No. 15)
Sample no. 1-No. A monolithic separation membrane structure according to No. 15 was produced.
まず、アルミナ100質量部に対して無機結合材20質量部を添加し、さらに、水、分散剤及び増粘剤を加えて混練することによって多孔質材料を調整した。 First, 20 parts by mass of an inorganic binder was added to 100 parts by mass of alumina, and further, water, a dispersant and a thickener were added and kneaded to prepare a porous material.
次に、調整した多孔質材料を押出成形することによって、複数の貫通孔を有する本体部の成形体を形成した。押出成型機の口金を換えて複数の貫通孔の距離(L1、L2)を表2に示すように変更した。 Next, the molded body of the main body having a plurality of through holes was formed by extruding the adjusted porous material. By changing the die of the extrusion molding machine, the distances (L1, L2) of the plurality of through holes were changed as shown in Table 2.
次に、鋭利な治具を用いて排出流路を支持体の成形体に形成した。 Next, a discharge channel was formed in the molded body of the support using a sharp jig.
次に、目封止用の多孔質材料に有機バインダ、焼結助剤、pH調整剤、界面活性剤などを添加して目封止用スラリーを作製した。 Next, an organic binder, a sintering aid, a pH adjuster, a surfactant and the like were added to the plugging porous material to prepare a plugging slurry.
次に、本体部の成形体の両端面にポリエステルフィルムを貼付し、複数の貫通孔のうち集水セルを形成する貫通孔に対応する部分に孔を穿設した。 Next, a polyester film was affixed to both end faces of the molded body of the main body portion, and holes were formed in portions corresponding to the through holes forming the water collection cell among the plurality of through holes.
次に、本体部の成形体の両端部を目封止用スラリーに押し付けることによって、一対の目封止の成形体を形成した。 Next, a pair of plugged molded bodies were formed by pressing both ends of the molded body of the main body against the plugging slurry.
次に、本体部の成形体と目封止の成形体を焼成(1250℃、1時間)して、モノリス型基材を作製した。モノリス型基材の基本構成は、図1〜図4で説明したとおりであった。集水セルと当該集水セルに隣接する濾過セルとの間隔は、表2に示すとおりであった。表2に示された「集水セルと濾過セルとの間隔」は、図4に示した「第1貫通孔241と集水セルCwの内表面11S(すなわち、流出面)の間隔L1」と同じである。水銀圧入法によって測定した本体部の平均細孔径は表2に示す通りであった。
Next, the molded body of the main body part and the molded body of the plugging were fired (1250 ° C., 1 hour) to produce a monolith type substrate. The basic configuration of the monolith type substrate was as described with reference to FIGS. The distance between the water collection cell and the filtration cell adjacent to the water collection cell was as shown in Table 2. The “interval between the water collection cell and the filtration cell” shown in Table 2 is the “interval L1 between the first through
次に、本体部の平均細孔径の1/3以下の粒径を有する小粒子を50%の頻度で含む第1多孔質材料と、本体部の平均細孔径以上の粒径を有する大粒子を60%の頻度で含む第2多孔質材料とを準備した。第1多孔質材料のD10は0.5μmであり、D50は1.1μmであり、D90は2.1μmであった。第2多孔質材料のD10は1.2μmであり、D50は4.1μmであり、D90は11.8μmであった。 Next, a first porous material containing small particles having a particle size of 1/3 or less of the average pore diameter of the main body part at a frequency of 50%, and large particles having a particle diameter equal to or larger than the average pore diameter of the main body part A second porous material containing at a frequency of 60% was prepared. D10 of the first porous material was 0.5 μm, D50 was 1.1 μm, and D90 was 2.1 μm. D10 of the second porous material was 1.2 μm, D50 was 4.1 μm, and D90 was 11.8 μm.
次に、小粒子を50%の頻度で含む第1多孔質材料、ろ過抵抗剤(有機高分子)及び水を混合することによって第1多孔質膜用スラリーを作製した。同様に、大粒子を60%の頻度で含む第2多孔質材料、ろ過抵抗剤(有機高分子)及び水を混合することによって第2多孔質膜用スラリーを作製した。 Next, a first porous membrane slurry was prepared by mixing a first porous material containing small particles at a frequency of 50%, a filtration resistance agent (organic polymer), and water. Similarly, a second porous membrane slurry was prepared by mixing a second porous material containing large particles at a frequency of 60%, a filtration resistance agent (organic polymer), and water.
次に、第1多孔質膜用スラリーと第2多孔質膜用スラリーを混合することによって、多孔質膜用スラリーを調製した。この際、第1多孔質膜用スラリーと第2多孔質膜用スラリーの重量比をサンプル毎に変更することによって、多孔質膜用スラリーにおける小粒子と大粒子の頻度を表1に示すとおりに調整した。サンプルNo.1では、小粒子を50%の頻度で含む第1多孔質膜用スラリーと大粒子を60%の頻度で含む第2多孔質膜用スラリーを1:7の重量比で混合した。そのため、多孔質膜用スラリーにおける小粒子の頻度は、50%×(1/(1+7))=6.3%であり、多孔質膜用スラリーにおける大粒子の頻度は、60%×(7/(1+7))=52.5%であった。従って、サンプルNo.1に用いた多孔質膜用スラリーにおいて、小粒子の頻度に対する大粒子の頻度は、8.3倍であった。サンプルNo.2に用いた多孔質膜用スラリーにおいて、小粒子の頻度に対する大粒子の頻度は、1.2倍であった。サンプルNo.3〜8,10〜15に用いた多孔質膜用スラリーにおいて、小粒子の頻度に対する大粒子の頻度は、3.6倍であった。サンプルNo.9に用いた多孔質膜用スラリーにおいて、小粒子の頻度に対する大粒子の頻度は、0.4倍であった。 Next, the slurry for porous membranes was prepared by mixing the slurry for 1st porous membranes and the slurry for 2nd porous membranes. At this time, by changing the weight ratio of the first porous membrane slurry and the second porous membrane slurry for each sample, the frequency of small particles and large particles in the porous membrane slurry is as shown in Table 1. It was adjusted. Sample No. In No. 1, the first porous membrane slurry containing 50% of small particles and the second porous membrane slurry containing 60% of large particles were mixed at a weight ratio of 1: 7. Therefore, the frequency of small particles in the slurry for porous membrane is 50% × (1 / (1 + 7)) = 6.3%, and the frequency of large particles in the slurry for porous membrane is 60% × (7 / (1 + 7)) = 52.5%. Therefore, sample no. In the porous membrane slurry used in No. 1, the frequency of large particles was 8.3 times that of small particles. Sample No. In the slurry for a porous membrane used in No. 2, the frequency of large particles was 1.2 times that of small particles. Sample No. In the porous membrane slurry used in 3-8 and 10-15, the frequency of large particles was 3.6 times that of small particles. Sample No. In the slurry for a porous membrane used in No. 9, the frequency of large particles was 0.4 times that of small particles.
次に、多孔質膜用スラリーを用いた濾過成膜法によって、第1及び第2目封止によって封止されていない貫通孔の内表面上に多孔質膜の成形体を形成した。具体的には、貫通孔に多孔質膜用スラリーを流通させながら本体部の外周を真空引きすることによって、貫通孔の内表面上に多孔質材料を堆積させた。この際、図4に示したように、集水セルに隣接する第1濾過セルCf1に形成される第1多孔質膜201において、第1平均厚みt1に対する第2平均厚みt2の比(t2/t1)を多孔質膜用スラリーに含まれる小粒子と大粒子の頻度に応じて調整した。
Next, a molded body of the porous film was formed on the inner surface of the through hole not sealed by the first and second pluggings by a filtration film forming method using the slurry for the porous film. Specifically, the porous material was deposited on the inner surface of the through hole by evacuating the outer periphery of the main body while circulating the slurry for the porous membrane through the through hole. At this time, as shown in FIG. 4, in the first
次に、サンプルNo.2,5,7,8において、図4に示したように、第1及び第2集水セルCw1,Cw2の中央に位置する第2濾過セルCf2に形成された第2多孔質膜202の第3平均厚みt3を独立して調整した。具体的には、第1濾過セルCf1と第3濾過セルCf3の両端開口をテープで塞ぐとともに、第2集水セルCw2を貫通する排出流路25の両端開口をテープで塞いだ状態で、第2濾過セルCf2に多孔質膜用スラリーを流通させながら本体部11の外周を真空引きした。これにより、第2貫通孔242のうち第1集水セルCw1側だけに多孔質材料を堆積させることによって、2多孔質膜202の第3平均厚みt3を厚くした。
Next, sample no. 2, 5, 7, 8, as shown in FIG. 4, the second
次に、サンプルNo.2,6〜8において、図4に示したように、第2多孔質膜202の第4平均厚みt4を独立して調整した。具体的には、第1濾過セルCf1と第3濾過セルCf3の両端開口をテープなどで塞ぐとともに、第1集水セルCw1を貫通する排出流路25の両端開口をテープで塞いだ状態で、第2濾過セルCf2に多孔質膜用スラリーを流通させながら本体部11の外周を真空引きした。これにより、第2貫通孔242のうち第2集水セルCw2側だけに多孔質材料を堆積させることによって、第2多孔質膜202の第4平均厚みt4を厚くした。
Next, sample no. In 2 and 6 to 8, as shown in FIG. 4, the fourth average thickness t4 of the second
次に、多孔質膜の成形体を焼成(950℃、3時間)して多孔質膜を形成した。 Next, the molded body of the porous film was fired (950 ° C., 3 hours) to form a porous film.
(多孔質膜の厚み測定)
サンプルNo.1〜No.15について、モノリス型分離膜構造体の長手方向における両端から20mm内側の2箇所と中央1箇所の計3箇所の横断面において、多孔質膜の第1乃至第6厚みt1〜t4(図4参照)を測定した。測定結果を表2に纏めて示す。
(Measurement of porous membrane thickness)
Sample No. 1-No. 15, the first to sixth thicknesses t1 to t4 of the porous membrane (see FIG. 4) in three cross-sections in total, ie, two
(内圧破壊強度の測定)
モノリス型分離膜構造体を、流体入口及び流体出口を有する筒状のハウジング内に収納し、流体入口から流入させる水で加圧することによってモノリス型分離膜構造体が破壊される内圧破壊強度を調べた。水が透過して圧力が上がらない場合は、濾過セルの内面に天然ラテックスゴムをコーティング及び乾燥することで、水の透過を防止した。測定結果を、表2に示す。
(Measurement of internal pressure fracture strength)
The monolithic separation membrane structure is housed in a cylindrical housing having a fluid inlet and a fluid outlet, and the internal pressure fracture strength at which the monolithic separation membrane structure is destroyed by being pressurized with water flowing from the fluid inlet is investigated. It was. When water permeated and the pressure did not increase, natural latex rubber was coated on the inner surface of the filtration cell and dried to prevent water permeation. The measurement results are shown in Table 2.
表2に示すように、集水セルに隣接する第1濾過セルを形成する多孔質膜における第1平均厚みt1に対する第2平均厚みt2の比(t2/t1)を0.6以上としたサンプルでは、10MPa以上の内圧破壊強度を得ることができた。これは、濾過成膜法を用いた場合に最も薄くなりやすい第2平均厚みt2を厚くすることによって、多孔質膜の一部に負荷が集中することを抑制できたためである。 As shown in Table 2, a sample in which the ratio (t2 / t1) of the second average thickness t2 to the first average thickness t1 in the porous membrane forming the first filtration cell adjacent to the water collection cell was 0.6 or more Then, an internal pressure fracture strength of 10 MPa or more could be obtained. This is because the concentration of the load on a part of the porous membrane can be suppressed by increasing the second average thickness t2 that tends to be the thinnest when the filtration film forming method is used.
また、サンプルNo.3,4を比較すると分かるように、集水セルに隣接する第1濾過セルを形成する多孔質膜において、第1平均厚みt1に対する第2平均厚みt2の比(t2/t1)を0.7以上としたサンプルでは、内圧破壊強度を向上させることができた。 Sample No. As can be seen by comparing 3 and 4, in the porous membrane forming the first filtration cell adjacent to the water collection cell, the ratio of the second average thickness t2 to the first average thickness t1 (t2 / t1) is 0.7. In the sample described above, the internal pressure fracture strength could be improved.
また、サンプルNo.3,5を比較すると分かるように、第1濾過セルに隣接する第2濾過セルを形成する多孔質膜において、第1平均厚みt1に対する第3平均厚みt3の比(t3/t1)を0.6以上としたサンプルでは内圧破壊強度を向上させることができた。 Sample No. 3 and 5, in the porous membrane forming the second filtration cell adjacent to the first filtration cell, the ratio (t3 / t1) of the third average thickness t3 to the first average thickness t1 is 0. The internal pressure breaking strength could be improved in the samples of 6 or more.
また、サンプルNo.3,6を比較すると分かるように、第1濾過セルに隣接する第2濾過セルを形成する多孔質膜において、第1平均厚みt1に対する第4平均厚みt4の比(t4/t1)を0.6以上としたサンプルでは内圧破壊強度を向上させることができた。 Sample No. 3 and 6, in the porous membrane forming the second filtration cell adjacent to the first filtration cell, the ratio of the fourth average thickness t4 to the first average thickness t1 (t4 / t1) is set to 0. The internal pressure breaking strength could be improved in the samples of 6 or more.
また、t2/t1、t3/t1、及びt4/t1のそれぞれを0.6以上とすることによって内圧破壊強度をより向上させられることが確認された。さらに、t2/t1、t3/t1、及びt4/t1のそれぞれを0.7以上とすることによって内圧破壊強度を特に向上させられることが確認された。 Further, it was confirmed that the internal pressure fracture strength can be further improved by setting each of t2 / t1, t3 / t1, and t4 / t1 to be 0.6 or more. Furthermore, it was confirmed that the internal pressure fracture strength can be particularly improved by setting each of t2 / t1, t3 / t1, and t4 / t1 to 0.7 or more.
また、サンプルNo.10〜12を比較すると分かるように、濾過セルと集水セルとの間隔を250μm以上とすることによって、内圧破壊強度をより向上させられることが分かった。 Sample No. As can be seen by comparing 10 to 12, it was found that the internal pressure breaking strength can be further improved by setting the distance between the filtration cell and the water collection cell to 250 μm or more.
また、サンプルNo.13〜15を比較すると分かるように、基材の平均細孔径を2.5μm以上とすることによって、内圧破壊強度をより向上させられることが分かった。 Sample No. As can be seen by comparing 13 to 15, it was found that the internal pressure fracture strength can be further improved by setting the average pore diameter of the substrate to 2.5 μm or more.
100,101 モノリス型分離膜構造体
10,30 モノリス型基材
11 本体部
12 第1目封止
13 第2目封止
15,33 第2シール部
20,40 多孔質膜
21,41 第1端面
22,42 第2端面
23,43 側面
24.44 貫通孔
25 排出流路
Cf 濾過セル
Cw 集水セル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100,101 Monolith type
Claims (8)
前記透過成分が流出する流出面に隣接する第1貫通孔を含む複数の貫通孔を有するモノリス型基材と、
前記第1貫通孔の内側に形成される第1多孔質膜を含む複数の多孔質膜と、
を備え、
前記第1多孔質膜のうち前記流出面側の第1平均厚みに対する、前記第1多孔質膜のうち前記流出面と反対側の第2平均厚みの比は、0.6以上であり、
前記第1平均厚みは、前記第2平均厚みより大きい、
モノリス型分離膜構造体。 A monolithic separation membrane structure for separating a permeate component from a mixed fluid,
A monolith type substrate having a plurality of through holes including a first through hole adjacent to an outflow surface from which the permeation component flows out;
A plurality of porous membranes including a first porous membrane formed inside the first through hole;
With
Wherein for the first average thickness of the outflow side of the first porous membrane, the ratio of the opposite side of the second average thickness and the outflow surface of the first porous film state, and are 0.6 or more,
The first average thickness is greater than the second average thickness;
Monolith type separation membrane structure.
前記複数の多孔質膜は、前記第2貫通孔の内側に形成される第2多孔質膜を含み、
前記第1平均厚みに対する、前記第2多孔質膜のうち前記流出面側の第3平均厚みの比は、0.6以上である、
請求項1に記載のモノリス型分離膜構造体。 The plurality of through holes include a second through hole that is further away from the outflow surface than the first through hole,
The plurality of porous membranes include a second porous membrane formed inside the second through hole,
The ratio of the third average thickness on the outflow surface side of the second porous membrane to the first average thickness is 0.6 or more.
The monolith type separation membrane structure according to claim 1.
請求項2に記載のモノリス型分離膜構造体。 The ratio of the fourth average thickness on the opposite side of the outflow surface of the second porous membrane to the first average thickness is 0.6 or more.
The monolith type separation membrane structure according to claim 2.
請求項1乃至3のいずれかに記載のモノリス型分離膜構造体。 The ratio of the second average thickness to the first average thickness is 0.7 or more.
The monolith type separation membrane structure according to any one of claims 1 to 3.
請求項1乃至4のいずれかに記載のモノリス型分離膜構造体。 The distance between the first through hole and the outflow surface is 250 μm or more.
The monolith type separation membrane structure according to any one of claims 1 to 4.
請求項1乃至5のいずれかに記載のモノリス型分離膜構造体。 The monolithic substrate has an average pore diameter of 2.5 μm or more.
The monolith type separation membrane structure according to any one of claims 1 to 5.
前記透過成分が流出する流出面に隣接する貫通孔を有するモノリス型基材を形成する工程と、
前記モノリス型基材の平均細孔径の1/3以下の粒径を有する小粒子と前記平均細孔径以上の粒径を有する大粒子とを含む多孔質膜用スラリーを用いた濾過成膜法によって、前記貫通孔の内側に多孔質膜を形成する工程と、
を備え、
前記多孔質膜用スラリーにおいて、前記大粒子の頻度は、前記小粒子の頻度の2倍以上8倍以下であり、
前記小粒子及び前記大粒子のそれぞれは、前記モノリス型基材を構成する多孔質材料である、
モノリス型分離膜構造体の製造方法。 A method for producing a monolithic separation membrane structure for separating a permeate component from a mixed fluid, comprising:
Forming a monolithic substrate having a through hole adjacent to an outflow surface from which the permeating component flows out;
By a filtration film forming method using a slurry for a porous membrane containing small particles having a particle size of 1/3 or less of the average pore size of the monolithic substrate and large particles having a particle size of the average pore size or more Forming a porous film inside the through hole;
With
In the slurry for the porous membrane, the frequency of the large particles, Ri 8 times der less than twice the frequency of the small particles,
Each of the small particles and the large particles is a porous material constituting the monolith substrate.
Manufacturing method of monolith type separation membrane structure.
請求項7に記載のモノリス型分離膜構造体の製造方法。 In the step of forming the porous membrane, a first slurry for a porous membrane prepared using a first porous material containing the small particles at a frequency of 40% or more and 60% or less, and 40% of the large particles Preparing the porous membrane slurry by mixing with the second porous membrane slurry prepared using the second porous material containing at a frequency of 70% or less,
The manufacturing method of the monolith type separation membrane structure of Claim 7.
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