JP6434741B2 - System for reducing pump pulsation - Google Patents
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Description
本発明は、ポンプ脈動を低減するためのシステムに関し、ベローズポンプの伸縮によって生じる吐出流体の脈動を低減するためのシステムに関する。 The present invention relates to a system for reducing pump pulsation, and to a system for reducing pulsation of discharged fluid caused by expansion and contraction of a bellows pump.
従来、半導体や液晶表示デバイスの製造における高純度薬液の供給、医薬品の定量注入など、所望の流体の移送にあたり、不純物の混入が特に厳密に制限された分野において、ベローズポンプが汎用されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, bellows pumps have been widely used in fields where contamination of impurities is particularly strictly limited when transferring a desired fluid, such as supply of a high-purity chemical solution in the manufacture of semiconductors and liquid crystal display devices, and quantitative injection of pharmaceuticals.
ベローズポンプは、一般に、ベローズと、当該ベローズを伸縮させる駆動装置と、当該ベローズに接続された吸入用逆止弁および吐出用逆止弁によって構成されている。当該駆動装置を通じてベローズが伸長する際に流体が吸入口から吸入用逆止弁を通じてベローズ内に流入し、そしてベローズが収縮する際に流体が吐出用逆止弁を通じて吐出口から吐出されるように構成されている。 The bellows pump is generally composed of a bellows, a driving device for expanding and contracting the bellows, and a suction check valve and a discharge check valve connected to the bellows. When the bellows extends through the drive device, fluid flows into the bellows through the suction check valve, and when the bellows contracts, the fluid is discharged from the discharge port through the discharge check valve. It is configured.
図4は、ベローズポンプを用いた、従来のポンプシステムの概要を説明するための模式図である。 FIG. 4 is a schematic diagram for explaining an outline of a conventional pump system using a bellows pump.
従来のポンプシステム3は、ベローズポンプ150を中心に構成された液プロセスライン300と、当該ベローズポンプ150に対してエアを供給する機器配置エリア200とで構成されている。
The
機器配置エリア200は吸気口100とエアレギュレータ110と電磁弁130とを備え、吸気口100とエアレギュレータ110との間、ならびにエアレギュレータ110と電磁弁130との間は、それぞれ配管11,14で連通している。吸気口100から吸入された空気は配管11を介してエアレギュレータ110に入る。次いで、エアレギュレータ110内で所定の圧力調整が施され、配管14を介して電磁弁130に供給される。電磁弁130の切換えにより空気は配管17または19を介して液プロセスライン300に供給される
The
液プロセスライン300は、ベローズポンプ150と、2つの急速排気弁162,164とで構成されている。上記配管17は急速排気弁164と連通し、上記配管19は急速排気弁162と連通している。
The
配管17から供給された空気は、急速排気弁164および配管21を介して、ベローズポンプ150(図4の左側)に供給される。この空気の供給に伴って、ベローズポンプ150内の左側に設けられたベローズが空気で押圧され、これにより当該左側のベローズが収縮する。ベローズポンプ150は、左右のベローズが例えば、連結棒によって連結されているため、このような左側のベローズの収縮に伴って右側に位置するベローズが伸長する。これにより、当該薬液タンク中の薬液は、吸込口152を介してベローズポンプ150内(右側ベローズ内)に流入する。次いで、機器配置エリア200の電磁弁130が切替り、吸気口100から取り込まれた空気は、配管19から急速排気弁162および配管23を介して、ベローズポンプ150(図4の右側)に供給される。この空気の供給に伴って、ベローズポンプ150内の右側に設けられたベローズが空気で押圧され、これにより当該右側のベローズが収縮する。さらに、この右側のベローズの収縮に伴って左側に位置するベローズが伸長する。これにより、当該薬液タンク中の薬液は、吸込口152を介してベローズポンプ150内(左側ベローズ内)に流入するとともに、右側ベローズに流入した薬液が吐出口154を介して所定の液供給ライン(図示せず)に供給される。上記ポンプシステム3は、このような電磁弁130の切替えによるベローズポンプ150内のベローズの伸縮により薬液の連続供給を可能とする。
The air supplied from the
図4に示すポンプシステム3では、ベローズポンプ150の吐出口154から吐出される薬液の圧力は、ベローズポンプ150内のベローズの伸縮に対応して一定の周期をもって変化する。
In the
図5は、図4に示すポンプシステムにおけるベローズポンプの吐出圧力(MPa)の変化の一例を表すグラフである。図5に示すように、ベローズポンプの吐出圧力は、ベローズポンプの右側ベローズまたは左側ベローズの1回の伸縮に伴って一周期をなす波形の形状に変化する。ここで、図5に示す波形では、一周期あたりに比較的大きな圧力変化を示す。この圧力変化の1つは、一周期あたりに1つの大きな谷(圧力降下)D0を有する点である。さらにこの圧力変化には、図5に示すような波形上部で現れる圧力の緩やかな降下であり、ΔY0/ΔX0の傾きとして表現される点である。一周期あたりの谷(D0)と、傾き(ΔY0/ΔX0)の絶対値とが大きいほど、薬液は、ベローズポンプの吐出口154から大きな「脈動」を伴って吐出される。
FIG. 5 is a graph showing an example of a change in the discharge pressure (MPa) of the bellows pump in the pump system shown in FIG. As shown in FIG. 5, the discharge pressure of the bellows pump changes to a waveform shape having one cycle with one expansion / contraction of the right bellows or the left bellows of the bellows pump. Here, the waveform shown in FIG. 5 shows a relatively large pressure change per cycle. One of these pressure changes is that it has one large valley (pressure drop) D 0 per cycle. Furthermore, this pressure change is a gradual drop in pressure appearing at the top of the waveform as shown in FIG. 5, which is expressed as a slope of ΔY 0 / ΔX 0 . The larger the trough (D 0 ) per cycle and the absolute value of the slope (ΔY 0 / ΔX 0 ), the more the chemical solution is discharged from the
近年、例えば半導体製造分野では、ますます微細化が進み、このような薬液供給の際に生じる「脈動」が半導体製造に影響を及ぼすことが指摘されている。例えば、脈動による配管振動で液配管中の機器が破損する、フィルタで採取したゴミがポンプ脈動のため流れ出てしまうなどの問題である。 In recent years, for example, in the field of semiconductor manufacturing, it has been pointed out that “pulsation” generated when such a chemical solution is supplied affects semiconductor manufacturing. For example, there are problems such as damage to equipment in the liquid piping due to piping vibration due to pulsation, and dust collected by the filter flowing out due to pump pulsation.
脈動を低減するためには、圧力の落ち込みと圧力の谷を改善する必要がある。落ち込みについて、ベローズが吐出移動している間、ベローズ周りのエア室は常に増加し続けており、その結果エア圧力は設定時より低い値を示している。ベローズ動き出し時(吐出)はベローズ移動よりエア充填の方がスピードが速いが、その後ますますエアが遅れ、結果として圧力が下がるように落ち込んでくる。一方、圧力の谷は左右のベローズ吐出切替時に発生しているため片側吐出側、もう片側の吐出開始をできる限り早くスタートさせなければ谷が深くなってしまう。 In order to reduce pulsation, it is necessary to improve pressure drop and pressure trough. As for the depression, the air chamber around the bellows is constantly increasing while the bellows is being discharged, and as a result, the air pressure is lower than that at the time of setting. When the bellows starts to move (discharge), the air filling speed is faster than the bellows movement, but then the air is gradually delayed, resulting in a drop in pressure. On the other hand, since the pressure trough occurs when the left and right bellows discharge is switched, the trough becomes deep unless the discharge start on one side and the other side is started as soon as possible.
なお、このような脈動の発生を低減するために、従来では、ベローズポンプの下流側(すなわち、吐出口側)にアキュームレータ(蓄圧器)180を連結したポンプシステム4も当該分野において汎用されている(図6)。図6に示すポンプシステム4では、薬液の吐出は、ベローズポンプ150の吐出口154からアキュームレータ180の流入口182を通じ、そして吐出口184を通じて所定の液供給ライン(図示せず)に薬液が供給される。
In order to reduce the occurrence of such pulsation, conventionally, a pump system 4 in which an accumulator (pressure accumulator) 180 is connected to the downstream side (that is, the discharge port side) of the bellows pump is also widely used in this field. (FIG. 6). In the pump system 4 shown in FIG. 6, the chemical liquid is discharged from the
ここで、図6に示すようなポンプシステム4では、アキュームレータ180の介在により、一周期あたりの谷(DA)を、例えば50%から12.5%程度の脈動幅にまで抑制させることはできる(DA<D0)(図7)。しかし、このようなシステム4であっても、一周期あたりの傾き(ΔYA/ΔXA)の絶対値が、上記傾き(ΔY0/ΔX0)の絶対値よりも小さくなっておらず、依然としてアキュームレータ180の吐出口184から吐出される薬液には僅かながら脈動が観察される。
Here, in the pump system 4 as shown in FIG. 6, the valley (D A ) per cycle can be suppressed to, for example, a pulsation width of about 50% to 12.5% by the interposition of the
本発明は、上記問題の解決を課題とするものであり、その目的とするところは、ベローズポンプを用いるポンプシステムにおいて、吐出される薬液の吐出圧力の変化にあたり、一周期あたりの谷および傾きの両方を改善し、脈動のより一層の低減を可能としたポンプシステムを提供することにある。 An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems. The purpose of the present invention is to change the discharge pressure of a chemical solution to be discharged in a pump system using a bellows pump. It is an object of the present invention to provide a pump system that improves both of them and enables further reduction of pulsation.
本発明は、機器配置エリアと液プロセスラインとを備えるポンプ脈動を低減するためのシステムであって、
該機器配置エリアが、吸気口、エアレギュレータおよび電磁弁を備え、かつ
該吸気口、該エアレギュレータおよび該電磁弁が該吸気口から吸込んだ空気を供給するように連通し、そして
該液プロセスラインが、ベローズポンプを備え、かつ
該電磁弁から供給される空気を該ベローズポンプのベローズ内に供給するように連通し、
ここで、該エアレギュレータの下流に該吸気口から吸込んだ該空気が通過するバッファタンクを備える、システムである。
The present invention is a system for reducing pump pulsation comprising an equipment placement area and a liquid process line,
The equipment placement area includes an air inlet, an air regulator and a solenoid valve; and the air inlet, the air regulator and the solenoid valve communicate with each other to supply air sucked from the air inlet, and the liquid process line Is provided with a bellows pump, and communicates to supply air supplied from the solenoid valve into the bellows of the bellows pump,
Here, the system is provided with a buffer tank through which the air sucked from the intake port passes downstream of the air regulator.
1つの実施形態では、上記バッファタンクは、上記機器配置エリア内に設けられている。 In one embodiment, the buffer tank is provided in the device arrangement area.
1つの実施形態では、上記バッファタンクは、上記エアレギュレータの下流かつ上記電磁弁の上流に設けられている。 In one embodiment, the buffer tank is provided downstream of the air regulator and upstream of the solenoid valve.
1つの実施形態では、上記電磁弁の下流かつ上記ベローズポンプの上記ベローズの上流に、該電磁弁から供給される上記空気を該ベローズポンプの該ベローズ内に供給するように連通する急速排気弁が設けられている。 In one embodiment, a quick exhaust valve communicating with the downstream of the solenoid valve and upstream of the bellows of the bellows pump so as to supply the air supplied from the solenoid valve into the bellows of the bellows pump. Is provided.
さらなる実施形態では、上記急速排気弁は、上記液プロセスシステム内に設けられている。 In a further embodiment, the quick exhaust valve is provided in the liquid process system.
1つの実施形態では、上記ベローズポンプの薬液吐出口はアキュームレータと連通する。 In one embodiment, the chemical solution outlet of the bellows pump communicates with the accumulator.
本発明によれば、吐出される薬液の脈動を一層低減して、所定の液供給ラインに薬液を供給することができる。本発明のポンプシステムでは、複雑かつ高価な装置を何ら必要とすることなく、エア供給ライン上の簡易な改良により、このような脈動の発生を低減することができる。 According to the present invention, it is possible to further reduce the pulsation of the discharged chemical liquid and supply the chemical liquid to a predetermined liquid supply line. The pump system of the present invention can reduce the occurrence of such pulsation by a simple improvement on the air supply line without requiring any complicated and expensive device.
以下、本発明を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明のポンプシステムの一例を説明するための模式図である。 FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an example of the pump system of the present invention.
本発明のポンプシステム1は、機器配置エリア200と液プロセスライン300とを備える。
The
本発明のポンプシステム1を構成する機器配置エリア200は、吸気口100とエアレギュレータ110と電磁弁130とを備える。吸気口100とエアレギュレータ110との間は、配管11で連通されており、吸気口100から吸込まれた空気を、当該配管11を介してエアレギュレータ110に供給することができる。エアレギュレータ110では、流入した空気に対し所定の圧力調整が行われ、後述する配管を通じて空気をさらに下流に供給することができる。
The
図1に示すポンプシステム1において、エアレギュレータ110の下流には、バッファタンク120が設けられている。本発明のポンプシステム1では、また、バッファタンク120が機器配置エリア200内に設けられている。さらに、図1に示すポンプシステム1において、バッファタンク120は、エアレギュレータ110の下流かつ電磁弁130との間に設けられており、エアレギュレータ110とバッファタンク120との間、バッファタンク120と電磁弁130との間は、それぞれ配管13,15で連通されている。このような構成を有することにより、吸気口100から吸込まれた空気を、エアレギュレータ110からバッファタンク120を介して電磁弁130まで供給することができる。
In the
ここで、バッファタンク120は、配管13,15と接続する部分を除き、外部に対し気密性が保たれた空間を備える。バッファタンク120は、例えば、金属製、プラスチック製などの材料で構成される箱体であり、配管13からの空気の流入および配管15への空気の流出によって、箱体の容積が変化することのない、すなわち伸縮性を有さない形態のものである。あるいは、バッファタンク120は、配管13からの空気の流入および配管15への空気の流出に関わらず、内容積が常に一定に保持されるような材料で構成されている。
Here, the
バッファタンク120を構成し得る金属としては、例えば、ステンレス、アルミニウムが挙げられる。バッファタンク120を構成し得るプラスチックとしては、例えば、(例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレート、アクリトニトリル、ブタジエン・スチレン共重合体(ABS)などの熱可塑性樹脂;ならびにPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、PFA(テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体)、FEP(テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体)、ETFE(テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体)、PVDF(ポリビニリデンフルオライド)、PCTFE(ポリクロロトリフルオロエチレン)、ECTFE(クロロトリフルオロエチレン・エチレン共重合体)などのフッ素樹脂;が挙げられる。バッファタンク120は、これらの材料を積層体から構成されるものであってもよい。
Examples of the metal that can constitute the
バッファタンク120の内容積は、使用するベローズポンプのポンプ容量等に応じて当業者に適切なサイズのものが選定され得る。例えば、ベローズポンプの吐出量が40リットル/分である場合、バッファタンク120の内容積は、例えば、0.7リットル〜12リットルであり、好ましくは5リットル以上である。すなわち、バッファタンク120の内容積は、概ねベローズポンプの吐出量に対して、好ましくは1/10以上である。
As the internal volume of the
次いで、配管15を介して電磁弁130にまで供給された空気は、電磁弁130の切換えにより配管17または19を介して下流に設けられている液プロセスライン300に供給される。
Next, the air supplied to the
本発明のポンプシステム1において、液プロセスライン300は、ベローズポンプ150と、2つの急速排気弁162,164とで構成されている。図1において、上記配管17は急速排気弁164と連通し、上記配管19は急速排気弁162と連通している。
In the
本発明のポンプシステム1を構成するベローズポンプ150は、例えば、吸込口152および吐出口154が中央に配置され、その両端に1対のベローズを備えるベローズポンプである。本発明のポンプシステムにおいて使用可能なベローズポンプの大きさは特に限定されない。本発明のポンプシステムにおいては、例えば、3リットル/分〜150リットル/分、好ましくは5リットル/分〜120リットル/分の吐出量を有するベローズポンプを使用することができる。
The bellows pump 150 constituting the
図1において、配管17から供給された空気は、急速排気弁164および配管21を介して、ベローズポンプ150(図1の左側)に供給される。この空気の供給に伴って、ベローズポンプ150内の左側に設けられたベローズが供給された空気で押圧され、これにより当該左側のベローズが収縮する。本発明において、ベローズポンプ150は、左右のベローズが例えば、連結棒によって連結されている。このため、左側のベローズの収縮に伴って右側に位置するベローズが伸長を開始する。これにより、右側に設けられたベローズ周りの空気が、配管23および急速排気弁162を介して排出されるとともに、当該薬液タンク中の薬液は、吸込口152を介してベローズポンプ150内(右側ベローズ内)に流入する。
In FIG. 1, the air supplied from the
次いで、機器配置エリア200の電磁弁130が切替り、吸気口100から取り込まれた空気は、配管19から急速排気弁162および配管23を介して、ベローズポンプ150(図1の右側)に供給される。この空気の供給に伴って、ベローズポンプ150内の右側に設けられたベローズが空気で押圧され、これにより当該右側のベローズが収縮する。さらに、この右側のベローズの収縮に伴って左側に位置するベローズが伸長を開始する。これにより、左側に設けられたベローズ周りの空気が、配管21および急速排気弁164を介して排出され、当該薬液タンク中の薬液は、吸込口152を介してベローズポンプ150内(左側ベローズ内)に流入するとともに、予め上記にて右側ベローズに流入していた薬液が吐出口154を介して所定の液供給ライン(図示せず)に供給される。
Next, the
またさらに、機器配置エリア200の電磁弁130が切替り、吸気口100から取り込まれた空気は、配管17から急速排気弁164および配管21を介して、ベローズポンプ150(図1の左側)に供給される。この空気の供給に伴って、ベローズポンプ150内の左側に設けられたベローズが空気で押圧され、これにより当該左側のベローズが収縮する。さらに、この左側のベローズの収縮に伴って右側に位置するベローズが伸長を開始する。これにより、右側に設けられたベローズ周りの空気が、配管23および急速排気弁162を介して排出され、当該薬液タンク中の薬液は、吸込口152を介してベローズポンプ150内(右側ベローズ内)に流入するとともに、予め上記にて左側ベローズに流入していた薬液が吐出口154を介して所定の液供給ラインに供給される。
Further, the
本発明のポンプシステム1は、このような電磁弁130の切替えによるベローズポンプ150内のベローズに伸縮により薬液の連続供給を可能とする。なお、上記ベローズポンプ150内のベローズの収縮に伴って左右のベローズを押圧していた空気は、配管25,27および急速排気弁162,164を介してそれぞれ外部に排出される。
The
本発明のポンプシステム1は、上記のようにエアレギュレータ110の下流に設けられたバッファタンク120によって、各配管中を通過する空気の圧力変化を緩和することができる。その結果、液プロセスライン300内に設けられたベローズポンプ150への空気がより圧力変化の低減された状態で供給され得、ベローズの伸縮に伴う、一周期あたりの薬液の圧力変化の谷および傾きの両方を改善し、脈動の低減が可能となる。
The
図2は、本発明のポンプシステムの他の例を説明するための模式図である。 FIG. 2 is a schematic diagram for explaining another example of the pump system of the present invention.
図2に示すポンプシステム2では、ベローズポンプ150から吐出される薬液の脈動の発生を低減するために、ベローズポンプ150の下流側(すなわち、吐出口154側)に配管31を介してアキュームレータ(蓄圧器)180が設けられている点を除き、他の構成は、図1に示す本発明のポンプシステム1と同様である。
In the
本発明のポンプシステム2において、アキュームレータ180はベローズポンプ150の吐出口154から吐出される薬液の圧力を利用して薬液を一旦内部に溜め込み、吐出圧力が低下するポンプ切替え時に薬液を流出することにより、吐出される薬液の圧力低下を一層抑制することができる装置である。図2においてポンプシステム2では、薬液の吐出は、ベローズポンプ150の吐出口154からアキュームレータ180の流入口182を通じ、そして吐出口184を通じて所定の液供給ライン(図示せず)に薬液が供給される。
In the
本発明のポンプシステム2は、上記のようにエアレギュレータ110の下流に設けられたバッファタンク120と、ベローズポンプ150の下流側に設けられたアキュームレータ180によって、各配管中を通過する空気の圧力変化を緩和するとともに、ベローズポンプ150から吐出される薬液の圧力変化自体をも直接緩和することができる。その結果、液プロセスライン300内に設けられたベローズポンプ150のベローズの伸縮に伴う、一周期あたりの薬液の圧力変化の谷および傾きの両方を一層改善して、脈動をさらに低減させることができる。
As described above, the
本発明のポンプシステムは、従来のベローズポンプが有し得る薬液供給の際の脈動を低減することができる。これにより、例えば、半導体や液晶表示デバイスの製造のような高度な流体移送が求められる状況においても適切に用いられ得る。さらに、例えば、化学工学分野において、流体の脈動が敬遠されるCSTR(Continuous stirred tank reactor:連続撹拌タンクリアクター)を用いた連続化学反応への流体供給にも適用可能である。 The pump system of the present invention can reduce the pulsation at the time of chemical solution supply that a conventional bellows pump can have. Thereby, for example, it can be used appropriately even in a situation where a high level of fluid transfer is required, such as the manufacture of semiconductors and liquid crystal display devices. Furthermore, for example, in the chemical engineering field, the present invention can be applied to fluid supply to a continuous chemical reaction using a CSTR (Continuous Stirred Tank Reactor) in which fluid pulsation is avoided.
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, this invention is not limited by these Examples.
(実施例1)ベローズポンプシステム(1)の脈動の測定
以下に記載の装置を用いて、図2に示すベローズポンプシステムを構成した。なお、バッファタンクの内部容量は0.78リットルに設定した。
・ベローズポンプ(日本ピラー工業株式会社製PE−40MA)
・アキュームレータ(日本ピラー工業株式会社製(品番)PA−40HB)
(Example 1) Measurement of pulsation of bellows pump system (1) A bellows pump system shown in Fig. 2 was constructed using the apparatus described below. The internal capacity of the buffer tank was set to 0.78 liter.
・ Bellows pump (PE-40MA manufactured by Nippon Pillar Industries Co., Ltd.)
・ Accumulator (Nippon Pillar Industries Co., Ltd. (Part No.) PA-40HB)
上記にて構成されたポンプシステム(1)に、薬液に代わる流体として水を配管を繋いでタンクから吸い上げて取り込み、アキュームレータの吐出口における流体の圧力変化を圧力トランスミッタ方式の圧力計にて測定した。得られた結果を図3の(a)に示す。 The pump system (1) configured as described above sucks water from a tank by connecting a pipe as a fluid instead of a chemical solution, and measures the pressure change of the fluid at the discharge port of the accumulator with a pressure transmitter type pressure gauge. . The obtained result is shown in FIG.
(実施例2〜5)ベローズポンプシステム(2)〜(5)の脈動の測定
バッファタンクの内部容量を、1.45リットル、3.5リットル、5.8リットルまたは11.3リットルに変更したこと以外は、実施例1と同様にしてベローズポンプシステム(2)〜(5)を構成し、アキュームレータの吐出口における流体の圧力変化を測定した。得られた結果を図3の(b)〜(e)にそれぞれ示す。
(Examples 2 to 5) Measurement of pulsation of bellows pump systems (2) to (5) The internal capacity of the buffer tank was changed to 1.45 liters, 3.5 liters, 5.8 liters or 11.3 liters. Except for this, bellows pump systems (2) to (5) were constructed in the same manner as in Example 1, and the change in pressure of the fluid at the discharge port of the accumulator was measured. The obtained results are shown in (b) to (e) of FIG.
図3の(a)〜(e)に示すように、図5に示すような従来のポンプシステム(アキュームレータを備えていないシステム)で得られたグラフや図7に示すような従来のポンプシステム(アキュームレータを備えるシステム)で得られたグラフに示される谷(D0およびDA)と比較して、一周期あたりの波形における谷が著しく短くなっていることがわかる。また、一周期あたりの波形上部で現れる圧力の降下も緩やかであり、図5や図7に示される傾き(ΔY0/ΔX0およびΔYA/ΔXA)の絶対値と比較して、傾きの絶対値が一層小さくなっていることがわかる。これにより、本発明のポンプシステム(1)〜(5)においてベローズポンプ150の吐出口154から吐出される薬液は、脈動が著しく低減されていることがわかる。
As shown in FIGS. 3 (a) to 3 (e), a graph obtained by a conventional pump system as shown in FIG. 5 (a system without an accumulator) or a conventional pump system as shown in FIG. It can be seen that the valleys in the waveform per period are significantly shorter than the valleys (D 0 and D A ) shown in the graph obtained with the system with the accumulator. In addition, the pressure drop that appears at the top of the waveform per cycle is also gradual. Compared to the absolute values of the slopes (ΔY 0 / ΔX 0 and ΔY A / ΔX A ) shown in FIG. 5 and FIG. It can be seen that the absolute value is even smaller. Thereby, it turns out that the pulsation is remarkably reduced in the chemical liquid discharged from the
本発明のポンプシステムは、例えば、半導体や液晶表示デバイスの製造における高純度薬液の供給、医薬品の定量注入など、所望の流体の移送において有用である。 The pump system of the present invention is useful for transferring a desired fluid, for example, supplying a high-purity chemical solution in manufacturing a semiconductor or a liquid crystal display device, or metering injecting a pharmaceutical product.
1,2 ポンプシステム
100 吸気口
110 エアレギュレータ
120 バッファタンク
130 電磁弁
150 ベローズポンプ
152 吸込口
154 吐出口
162,164 急速排気弁
180 アキュームレータ
200 機器配置エリア
300 液プロセスライン
DESCRIPTION OF
Claims (6)
該機器配置エリアが、吸気口、エアレギュレータおよび電磁弁を備え、かつ
該吸気口、該エアレギュレータおよび該電磁弁が該吸気口から吸込んだ空気を供給するように連通し、そして
該液プロセスラインが、両端に1対のベローズを備えるベローズポンプを備え、かつ
該電磁弁の切替えを通じて、該吸気口から吸い込んだ空気を該ベローズポンプの該1対のベローズ周りに交互に供給することにより該1対のベローズを交互に押圧可能とするように連通し、
ここで、該エアレギュレータの下流に該吸気口から吸込んだ該空気が通過するバッファタンクを備え、かつ該バッファタンクが該ベローズポンプの上流に設けられている、システム。 A system for reducing pump pulsation comprising an equipment placement area and a liquid process line for supplying a chemical liquid to a liquid supply line ,
The equipment placement area includes an air inlet, an air regulator and a solenoid valve; and the air inlet, the air regulator and the solenoid valve communicate with each other to supply air sucked from the air inlet, and the liquid process line the 1 but with the bellows pump comprising a pair of bellows at both ends, and through switching of the solenoid valve, by supplying air sucked from the intake port to alternately around the bellows of said pair of said bellows pump Communicating so that the pair of bellows can be pressed alternately ,
Here, a buffer tank air sucked from the intake port downstream of the air regulator to pass, and the buffer tank that provided upstream of the bellows pump, system.
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