Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6438586B2 - Electronic product metal shell with antenna groove, and electronic product metal shell manufacturing method - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6438586B2 - Electronic product metal shell with antenna groove, and electronic product metal shell manufacturing method - Google Patents

Electronic product metal shell with antenna groove, and electronic product metal shell manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP6438586B2
JP6438586B2 JP2017534547A JP2017534547A JP6438586B2 JP 6438586 B2 JP6438586 B2 JP 6438586B2 JP 2017534547 A JP2017534547 A JP 2017534547A JP 2017534547 A JP2017534547 A JP 2017534547A JP 6438586 B2 JP6438586 B2 JP 6438586B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
metal layer
antenna groove
electronic product
ink
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017534547A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018504037A (en
Inventor
ジャン、バオロン
リャオ、チョンチョン
リ、アイファ
チェン、リャン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BYD Co Ltd
Original Assignee
BYD Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BYD Co Ltd filed Critical BYD Co Ltd
Publication of JP2018504037A publication Critical patent/JP2018504037A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6438586B2 publication Critical patent/JP6438586B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K5/00Casings, cabinets or drawers for electric apparatus
    • H05K5/04Metal casings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10Etching compositions
    • C23F1/14Aqueous compositions
    • C23F1/16Acidic compositions
    • C23F1/28Acidic compositions for etching iron group metals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12Supports; Mounting means
    • H01Q1/22Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H01Q1/24Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set
    • H01Q1/241Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set used in mobile communications, e.g. GSM
    • H01Q1/242Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set used in mobile communications, e.g. GSM specially adapted for hand-held use
    • H01Q1/243Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with receiving set used in mobile communications, e.g. GSM specially adapted for hand-held use with built-in antennas
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04MTELEPHONIC COMMUNICATION
    • H04M1/00Substation equipment, e.g. for use by subscribers
    • H04M1/02Constructional features of telephone sets
    • H04M1/0202Portable telephone sets, e.g. cordless phones, mobile phones or bar type handsets
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04MTELEPHONIC COMMUNICATION
    • H04M1/00Substation equipment, e.g. for use by subscribers
    • H04M1/02Constructional features of telephone sets
    • H04M1/0202Portable telephone sets, e.g. cordless phones, mobile phones or bar type handsets
    • H04M1/026Details of the structure or mounting of specific components
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04MTELEPHONIC COMMUNICATION
    • H04M1/00Substation equipment, e.g. for use by subscribers
    • H04M1/02Constructional features of telephone sets
    • H04M1/0202Portable telephone sets, e.g. cordless phones, mobile phones or bar type handsets
    • H04M1/0279Improving the user comfort or ergonomics
    • H04M1/0283Improving the user comfort or ergonomics for providing a decorative aspect, e.g. customization of casings, exchangeable faceplate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/067Etchants

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Details Of Aerials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Telephone Set Structure (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)

Description

[関連出願の相互参照]
本出願は、2014年12月26日に中華人民共和国の国家知的所有権局(SIPO)に提出された中国特許出願第201410837112.2号の優先権および利益を主張するものであり、その全内容は参照により本明細書に組み込まれる。
[Cross-reference of related applications]
This application claims the priority and benefit of Chinese Patent Application No. 201410837112 filed December 26, 2014 to the National Intellectual Property Office (SIPO) of the People's Republic of China, The contents are incorporated herein by reference.

本発明は、電子製品製造技術、特に、アンテナ溝を有する電子製品金属シェルおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to an electronic product manufacturing technique, and more particularly to an electronic product metal shell having an antenna groove and a method for manufacturing the same.

現在、シェルにより引き起こされる信号遮蔽の問題を解決するため、金属製の携帯電話のような電子製品は上側および下側の二つのアンテナスロットを備えたHTC ONE、側部アンテナスロットを備えたiPhone(登録商標) 5/5s等のように、ほとんど、携帯電話の後部カバー上におけるスロット法および射出成形を採用している。しかし、上述した電子製品金属シェル(たとえば金属製携帯電話の後部カバー)におけるアンテナスロットの作成および射出成形の方法は電子製品金属シェルの全体構造に損傷を引き起こし、電子製品金属シェルの外観の清潔さおよび連続性に影響を与える。その一方、電子製品金属シェル(たとえば金属製携帯電話の後部カバー)の目に見えるプラスチックは電子製品金属シェル全体の金属質感も損なう。   Currently, to solve the signal shielding problem caused by the shell, electronic products such as metal mobile phones are HTC ONE with two upper and lower antenna slots, iPhone with side antenna slots ( In most cases, the slot method and the injection molding on the rear cover of the mobile phone are employed, such as (registered trademark) 5 / 5s. However, the method of creating and injection molding the antenna slot in the electronic product metal shell (for example, the rear cover of a metal mobile phone) described above causes damage to the entire structure of the electronic product metal shell, and the appearance of the electronic product metal shell is clean. And affect continuity. On the other hand, the visible plastic of the electronic product metal shell (eg, the rear cover of a metal mobile phone) also damages the metal texture of the entire electronic product metal shell.

本開示は、電子製品金属シェルにおいてアンテナスロットの作成および射出成形の従来技術の方法が電子製品金属シェルの外観の清潔さおよび連続性に影響を与え、電子製品金属シェル全体の金属質感を損なうという問題を解決し、アンテナ溝を有する電子製品金属シェルおよびその製造方法を提供する。本開示の電子製品金属シェル上に形成されるアンテナ溝は肉眼では外観上において見えず、電子製品金属シェルの外観面の表面層は損なわれず、アルミニウムシェルの外観面は平坦で綺麗であり、電子製品金属シェルの外観の清潔さおよび連続性を維持し、電子製品金属シェル全体の金属質感を損なわない。   The present disclosure states that prior art methods of antenna slot creation and injection molding in an electronic product metal shell affect the cleanliness and continuity of the appearance of the electronic product metal shell and impair the metal texture of the entire electronic product metal shell. To solve the problem, and provide an electronic product metal shell having an antenna groove and a method of manufacturing the same. The antenna groove formed on the electronic product metal shell of the present disclosure is not visible to the naked eye, the surface layer of the external surface of the electronic product metal shell is not damaged, and the external surface of the aluminum shell is flat and clean. Maintains the cleanliness and continuity of the appearance of the product metal shell and does not impair the metal texture of the entire electronic product metal shell.

前述した目的を達するために本開示の第1の態様は、アンテナ溝を有する電子製品金属シェルを提供する。前記電子製品金属シェルは、金属層および硬質陽極酸化層を有し、前記硬質陽極酸化層は、前記金属層の表面上で覆われ、ステップは、前記電子製品金属シェルの第1の面上に形成され、前記ステップは、前記電子製品金属シェルの厚さ方向において前記金属層の第1の面に覆われる前記硬質陽極酸化層、および、前記金属層の一部を貫通し、前記アンテナ溝は前記ステップ内に配置され、前記厚さ方向において前記金属層の残存部分を貫通して前記金属層の第2の面上に覆われる前記硬質陽極酸化層の内側を露出させ、非導電材が前記アンテナ溝内に充てんされる。   In order to achieve the aforementioned object, a first aspect of the present disclosure provides an electronic product metal shell having an antenna groove. The electronic product metal shell has a metal layer and a hard anodized layer, the hard anodized layer is covered on a surface of the metal layer, and a step is on the first surface of the electronic product metal shell. And forming the step, wherein the step passes through the hard anodized layer covered with the first surface of the metal layer in the thickness direction of the metal shell of the electronic product, and a part of the metal layer, and the antenna groove Disposed in the step, exposing the inside of the hard anodized layer covered on the second surface of the metal layer through the remaining portion of the metal layer in the thickness direction, and a non-conductive material Fills the antenna groove.

本開示の第2の態様は、アンテナ溝を有する電子製品金属シェルの製造方法を提供する。方法は、(1)金属層に硬質陽極化成処理およびインク吹き付け処理を順に施し、硬質陽極酸化層およびインク層をそれぞれ形成し、(2)ステップ(1)の後に得られた製品の第1の面上にステップを形成し、前記ステップ内にアンテナ溝を形成し、前記ステップはステップ(1)の後に得られた記製品の厚さ方向において前記金属層の第1の面に覆われる前記硬質陽極酸化層、および、前記金属層の一部を貫通し、前記アンテナ溝は前記厚さ方向において前記金属層の残存部分を貫通して前記金属層の第2の面の上に覆われる前記硬質陽極酸化層の内側を露出させ、(3)ステップ(2)の後に得られた製品の前記インク層を除去し、前記アンテナ溝内に非導電材を充てんするステップを有する。 A second aspect of the present disclosure provides a method for manufacturing an electronic product metal shell having an antenna groove. The method comprises (1) subjecting the metal layer to a hard anodizing treatment and an ink spraying treatment in order to form a hard anodized layer and an ink layer, respectively, and (2) a first product obtained after step (1). forming a step on the surface, the antenna groove formed in said step, said step is covered in the thickness direction before Symbol products obtained after step (1) to the first surface of the metal layer The hard anodic oxide layer and a part of the metal layer are penetrated, and the antenna groove is covered on the second surface of the metal layer through the remaining part of the metal layer in the thickness direction. wherein exposing the inside of the hard anodic oxide layer has a (3) step of step (2) the obtained products the ink layer is removed in the after, filling non-conductive material to the antenna groove.

本開示の第2の態様の実施例は、電子製品金属シェルを提供する。電子製品金属シェルは、上述した方法により得られる。   An embodiment of the second aspect of the present disclosure provides an electronic product metal shell. The electronic product metal shell is obtained by the method described above.

本開示の電子製品金属シェル上に形成されるアンテナ溝は肉眼では外観上において見えず、電子製品金属シェルの外観面の表面層は損なわれず、アルミニウムシェルの外観面は平坦で綺麗であり、電子製品金属シェルの外観の清潔さおよび連続性を維持し、電子製品金属シェル全体の金属質感を損なわない。   The antenna groove formed on the electronic product metal shell of the present disclosure is not visible to the naked eye, the surface layer of the external surface of the electronic product metal shell is not damaged, and the external surface of the aluminum shell is flat and clean. Maintains the cleanliness and continuity of the appearance of the product metal shell and does not impair the metal texture of the entire electronic product metal shell.

本開示の実施例のこれらの態様および利点を以下の詳細な説明を参照して詳細に説明する。   These aspects and advantages of the embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the following detailed description.

本開示の実施例1のステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図Schematic diagram of a cross-sectional structure of an aluminum shell after removing an ink layer and a hard anodized layer corresponding to the step pattern of Example 1 of the present disclosure 本開示の実施例1のステップを得るためにアルミニウム層の一部を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図Schematic cross-sectional structure of an aluminum shell after removing a portion of the aluminum layer to obtain the steps of Example 1 of the present disclosure 本開示の実施例1のアルミニウム溝スリットをラジウム彫刻し、アンテナ溝スリットに対応するインク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図Radial engraving of the aluminum groove slit of Example 1 of the present disclosure, and a schematic cross-sectional structure of the aluminum shell after removing the ink layer corresponding to the antenna groove slit 本開示の実施例1のインク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図Schematic cross-sectional structure of an aluminum shell after removing the ink layer of Example 1 of the present disclosure 本開示の実施例1のインク層を形成した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図Schematic cross-sectional structure of an aluminum shell after forming the ink layer of Example 1 of the present disclosure 本開示の実施例1のステップパターンをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図The figure of the aluminum shell after carrying out the radium engraving of the step pattern of Example 1 of this indication 本開示の実施例1のステップをエッチングした後のアルミニウムシェルの図Illustration of the aluminum shell after etching the steps of Example 1 of the present disclosure 本開示の実施例1のアンテナ溝スリットをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図The figure of the aluminum shell after carrying out the radium engraving of the antenna groove slit of Example 1 of this indication

本開示の実施例を詳細に説明する。記載する実施例は、本開示を全体として理解するための説明および事例である。実施例は本開示を制限しない。   Examples of the present disclosure will be described in detail. The described embodiments are illustrative and illustrative in order to provide an overall understanding of the present disclosure. The examples do not limit the present disclosure.

本開示の実施例の第1の態様において、電子製品金属シェルが設けられ、電子製品金属シェルは金属層3および硬質陽極酸化層1を有する。硬質陽極酸化層1は金属層の面で覆われる。ステップ4は、電子製品金属シェルの第1の面上に形成される。ステップは、電子製品金属シェルの厚さ方向において金属層の第1の面に覆われる硬質陽極酸化層および金属層の一部を貫通する。アンテナ溝5は、ステップ内に配置され、厚さ方向において金属層の残存部分を貫通し、金属層の第2の面に覆われる硬質陽極酸化層の内側を露出させる。非導電材はアンテナ溝に充てんされる。   In a first aspect of an embodiment of the present disclosure, an electronic product metal shell is provided, the electronic product metal shell having a metal layer 3 and a hard anodized layer 1. The hard anodized layer 1 is covered with a metal layer surface. Step 4 is formed on the first surface of the electronic product metal shell. The step penetrates a part of the hard anodized layer and the metal layer covered with the first surface of the metal layer in the thickness direction of the electronic product metal shell. The antenna groove 5 is disposed in the step, penetrates the remaining portion of the metal layer in the thickness direction, and exposes the inside of the hard anodized layer covered with the second surface of the metal layer. The non-conductive material is filled in the antenna groove.

本開示の実施例において、ステップ4は幅が約1.0〜5.0cm、深さが約0.1〜0.8mmの凹部を有する。たとえば、一つの実施例において凹部の深さは約0.3〜0.5mmである。   In an embodiment of the present disclosure, Step 4 has a recess having a width of about 1.0 to 5.0 cm and a depth of about 0.1 to 0.8 mm. For example, in one embodiment, the depth of the recess is about 0.3 to 0.5 mm.

本開示の実施例において、電子製品金属シェルの第1の面と向かい合うアンテナ溝5の開口は上側開口として定義され、アンテナ溝5は上側開口がアンテナ溝の下側開口より大きい台形の断面構造を有する。上側開口は幅が約2〜5mm、たとえば約2mm〜5mmであり、下側開口の幅は約0.8〜1.4mm、たとえば約0.8〜1.2mmである。   In the embodiment of the present disclosure, the opening of the antenna groove 5 facing the first surface of the electronic product metal shell is defined as an upper opening, and the antenna groove 5 has a trapezoidal cross-sectional structure in which the upper opening is larger than the lower opening of the antenna groove. Have. The upper opening has a width of about 2 to 5 mm, for example about 2 mm to 5 mm, and the lower opening has a width of about 0.8 to 1.4 mm, for example about 0.8 to 1.2 mm.

本開示の実施例において、金属層3の厚さは約0.5〜1.5mm、たとえば約0.5〜0.6mmであり、硬質陽極酸化層1の厚さは約0.02〜0.06mm、たとえば約0.04〜0.06mmである。   In an embodiment of the present disclosure, the thickness of the metal layer 3 is about 0.5 to 1.5 mm, such as about 0.5 to 0.6 mm, and the thickness of the hard anodized layer 1 is about 0.02 to 0. 0.06 mm, for example, about 0.04 to 0.06 mm.

本開示の実施例において、金属層3はアルミニウム合金層を含む。   In the embodiment of the present disclosure, the metal layer 3 includes an aluminum alloy layer.

本開示の実施例において、電子製品金属シェルは携帯電話金属シェルまたはタブレットコンピュータ金属シェルを含む。   In embodiments of the present disclosure, the electronic product metal shell includes a mobile phone metal shell or a tablet computer metal shell.

本開示の実施例の第2の態様において、アンテナ溝を備えた電子製品金属シェルの製造方法を提供する。アンテナ溝を備えた電子製品金属シェルの製造方法は、以下のステップを有する。   In a second aspect of an embodiment of the present disclosure, a method for manufacturing an electronic product metal shell with an antenna groove is provided. The manufacturing method of the electronic product metal shell provided with the antenna groove includes the following steps.

ステップ(1)で、金属層に硬質陽極化成処理およびインク吹き付け処理を順に施し、硬質陽極酸化層およびインク層をそれぞれ形成する。   In step (1), a hard anodizing process and an ink spraying process are sequentially performed on the metal layer to form a hard anodized layer and an ink layer, respectively.

ステップ(2)で、ステップ(1)で得られた第1の製品の第1の面上にステップを形成し、ステップ内にアンテナ溝を形成する。ステップは、第1の製品の厚さ方向において金属層の第1の面上に覆われる硬質陽極酸化層および金属層の一部を貫通する。アンテナ溝は、厚さ方向において金属層の残存部分を貫通し、金属層の第2の面上に覆われる硬質陽極酸化層の内側を露出させる。   In step (2), a step is formed on the first surface of the first product obtained in step (1), and an antenna groove is formed in the step. The step passes through a portion of the hard anodized layer and the metal layer that is covered on the first surface of the metal layer in the thickness direction of the first product. The antenna groove penetrates the remaining portion of the metal layer in the thickness direction, and exposes the inside of the hard anodized layer covered on the second surface of the metal layer.

ステップ(3)で、ステップ(2)の後に第2の製品のインク層を除去し、アンテナ溝内に非導電材を充てんする。   In step (3), after step (2), the ink layer of the second product is removed, and the antenna groove is filled with a non-conductive material.

本開示の実施例において、硬質陽極化成処理の工程に特別な限定はなく、技術的に共通して使用される硬質陽極化成処理である。実施例において、ステップ(1)の硬質陽極化成処理は、金属層にアルカリ性エッチング処理、スマット除去処理、酸化処理および封止処理を順に施し、アルカリ性エッチング処理、スマット除去処理、酸化処理および封止処理それぞれの後に洗浄する。本開示の実施例において、洗浄の方法に特別な限定はなく、たとえば脱イオン水による2〜3回の洗浄のように、技術的に共通して使用される洗浄方法である。   In the embodiment of the present disclosure, there is no particular limitation on the process of the hard anodizing treatment, and the hard anodizing treatment is commonly used in the technical field. In the embodiment, the hard anodizing treatment in step (1) is performed by sequentially performing alkaline etching treatment, smut removal treatment, oxidation treatment and sealing treatment on the metal layer, and then performing alkaline etching treatment, smut removal treatment, oxidation treatment and sealing treatment. Wash after each. In the embodiment of the present disclosure, the cleaning method is not particularly limited, and is a cleaning method commonly used in the art, for example, two to three cleanings with deionized water.

本開示の実施例において、アルカリ性エッチング処理の条件に特別な限定はなく、技術的にアルカリ性エッチング処理で共通して使用される条件である。たとえば、実施例において、アルカリ性エッチング処理は、摂氏約50〜70℃の温度で約1〜2分、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウムから構成される群から選択される少なくとも一つを含む、約30〜60g/Lの濃度のエッチング液の条件で行われる。   In the embodiments of the present disclosure, the conditions for the alkaline etching treatment are not particularly limited, and are technically commonly used in the alkaline etching treatment. For example, in an embodiment, the alkaline etching process comprises at least one selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide at a temperature of about 50-70 ° C. for about 1-2 minutes. Including an etching solution having a concentration of about 30 to 60 g / L.

本開示の実施例において、スマット除去処理の条件に特別な限定はなく、技術的にスマット除去処理で共通して使用される条件である。実施例において、スマット除去処理は摂氏約20〜30℃の温度で約1〜3分、硝酸水溶液を有するスマット除去液で、スマット除去液1Lにつき、硝酸は約130〜270gの含有量(濃度約65〜68wt%の濃度の硝酸が約200〜400mLとほぼ等価である)の条件で行われる。   In the embodiments of the present disclosure, there are no particular limitations on the conditions for the smut removal process, and technically commonly used conditions for the smut removal process. In the examples, the smut removal treatment is a smut removal solution having a nitric acid aqueous solution at a temperature of about 20 to 30 ° C. for about 1 to 3 minutes, and nitric acid has a content (concentration of about 130 to 270 g per liter of the smut removal solution. 65-68 wt% nitric acid is approximately equivalent to about 200-400 mL).

本開示の実施例において、酸化処理の条件に特に限定はなく、技術的に酸化処理で共通して使用される条件である。実施例において、酸化処理の条件は摂氏約5〜12℃の温度で約30〜50分、正矩形波パルスのインパルス波形で約50〜90%のデューティ比率、約500〜1000Hzの周波数、約2〜7Admの電流密度、硫酸、シュウ酸/リンゴ酸の水溶液を有する酸化溶液で、酸化溶液1Lにつき、硫酸の含有量が約120〜220g、シュウ酸またはリンゴ酸の含有量が約8〜20gの条件で行われる。硫酸、シュウ酸/リンゴ酸の水溶液を有する酸化溶液は、硫酸およびシュウ酸を有する溶液、または硫酸およびリンゴ酸を有する溶液のことをいう。 In the embodiment of the present disclosure, the conditions for the oxidation treatment are not particularly limited, and are conditions commonly used in the oxidation treatment technically. In the embodiment, the conditions of the oxidation treatment are about 30 to 50 minutes at a temperature of about 5 to 12 degrees Celsius, a duty ratio of about 50 to 90% with an impulse waveform of a regular square wave pulse, a frequency of about 500 to 1000 Hz, about 2 An oxidation solution having a current density of ˜7 Adm 2 , an aqueous solution of sulfuric acid and oxalic acid / malic acid, and a sulfuric acid content of about 120 to 220 g and an oxalic acid or malic acid content of about 8 to 20 g per liter of the oxidation solution It is performed under the conditions of An oxidizing solution having an aqueous solution of sulfuric acid and oxalic acid / malic acid refers to a solution having sulfuric acid and oxalic acid, or a solution having sulfuric acid and malic acid.

本開示の実施例において、封止処理の条件は特に限定はなく、技術的に封止処理で共通して使用される条件である。実施例において、封止処理の条件は摂氏約20〜30℃で約2〜3分である。実施例において、シーリング材はニッケルフリーシーリング材、微量ニッケルシーリング材および重金属フリーシーリング材からなる群から選択される少なくとも一つを含む。当業者であれば想到し得るが、硬質陽極化成処理は封止処理後に洗浄処理を行い、洗浄処理後後の乾燥時に硬質陽極酸化層が形成される。乾燥の方法は特に限定はなく、技術的に共通して使用される方法である。たとえば、乾燥は摂氏約20〜30℃の温度で約5〜10分間、オイルフリー圧縮ガスで行われ、これは当業者には公知であるため、詳細な説明は省略する。   In the embodiments of the present disclosure, the conditions for the sealing process are not particularly limited, and are technically commonly used conditions for the sealing process. In the examples, the sealing process conditions are about 20-30 degrees Celsius for about 2-3 minutes. In an embodiment, the sealing material includes at least one selected from the group consisting of a nickel-free sealing material, a trace nickel sealing material, and a heavy metal-free sealing material. As can be conceived by those skilled in the art, the hard anodizing treatment is performed after the sealing treatment, and a hard anodized layer is formed upon drying after the washing treatment. The drying method is not particularly limited, and is a method commonly used in the art. For example, drying is performed with oil-free compressed gas at a temperature of about 20-30 degrees Celsius for about 5-10 minutes, which is well known to those skilled in the art and will not be described in detail.

本開示の実施例において、インク層2は硬質陽極化成処理後に得られる製品の第1のおよび第2の面上に形成される。   In the embodiment of the present disclosure, the ink layer 2 is formed on the first and second surfaces of the product obtained after the hard anodizing treatment.

本開示の実施例において、インク吹き付け処理の工程に特に限定はなく、技術的に共通して使用されるインク吹き付け処理である。実施例において、インク吹き付け処理はUVインクを吹き付けて厚さ約30〜60μmのインク層を形成し、摂氏約110〜120℃で約20〜30分間焼き、約1〜2分、紫外線に露光する。   In the embodiment of the present disclosure, the ink spraying process is not particularly limited, and is an ink spraying process commonly used in the technical field. In an embodiment, the ink spraying process sprays UV ink to form an ink layer having a thickness of about 30 to 60 μm, is baked at about 110 to 120 ° C. for about 20 to 30 minutes, and is exposed to ultraviolet rays for about 1 to 2 minutes. .

本開示の実施例において、当業者であれば想到し得るが、電子製品金属シェルの第2の面は電子製品金属シェルを完成電子製品で組み立て時に空気に露出される電子製品金属シェルの面のことであり、第1の面は第2の面と反対側の電子製品金属シェルの面である。   In embodiments of the present disclosure, those skilled in the art will appreciate that the second surface of the electronic product metal shell is the surface of the electronic product metal shell that is exposed to air when the electronic product metal shell is assembled with the finished electronic product. That is, the first surface is the surface of the metal shell of the electronic product opposite to the second surface.

また、本開示の実施例において、ステップ(2)のステップの形成は、ステップ(1)の後に得られる第1の製品の第1の面上にステップパターンを形成し、ステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去し、ステップを得るために金属層の厚さ方向において金属層の一部を除去する。   In the embodiment of the present disclosure, the step (2) is formed by forming a step pattern on the first surface of the first product obtained after step (1), and ink corresponding to the step pattern. The layer and the hard anodized layer are removed and part of the metal layer is removed in the thickness direction of the metal layer to obtain a step.

本開示の実施例において、電子製品金属シェルの面上の破壊を低減するため、電子製品金属シェルの第2の面上に凸状マークが形成されないことを保証し、堅牢性および硬度をさらに向上させ、また、金属層の一部を除去後の金属層の残存部分は金属層の全体厚さの約20〜80%、好ましくは約20〜40%の厚さを有する。   In an embodiment of the present disclosure, in order to reduce breakage on the surface of the electronic product metal shell, it is ensured that no convex mark is formed on the second surface of the electronic product metal shell, further improving the robustness and hardness. In addition, the remaining part of the metal layer after removing a part of the metal layer has a thickness of about 20 to 80%, preferably about 20 to 40% of the total thickness of the metal layer.

本開示の実施例において、形成されるステップは幅が約1.0〜5.0cm、深さが約0.1〜0.8mmの凹部を有する。たとえば、凹部は深さ約0.3〜0.5mmを有する。   In an embodiment of the present disclosure, the formed step has a recess having a width of about 1.0-5.0 cm and a depth of about 0.1-0.8 mm. For example, the recess has a depth of about 0.3 to 0.5 mm.

本開示の実施例において、ステップパターンはラジウム彫刻によりステップ(1)の後に得られる第1の製品の第1の面上に形成される。ラジウム彫刻の工程に特に限定はなく、技術的に共通して使用されるラジウム彫刻である。たとえば、ラジウム彫刻は当業者には公知であるラジウム彫刻機により行われるため、詳細な説明は省略する。   In an embodiment of the present disclosure, the step pattern is formed on the first surface of the first product obtained after step (1) by radium engraving. The radium engraving process is not particularly limited, and is a radium engraving commonly used technically. For example, since radium engraving is performed by a radium engraving machine known to those skilled in the art, detailed description is omitted.

本開示の実施例において、金属層の一部はエッチングにより金属層の厚さ方向において除去される。エッチングの条件は特に限定はなく、技術的に共通して使用されるエッチングの条件である。あるいは、エッチングは酸エッチング液で行われる。酸エッチング液に特に限定はなく、技術的に共通して使用される酸エッチング液である。たとえば、本開示の実施例において、酸エッチング液は三塩化鉄型酸エッチング液、塩化銅型酸エッチング液または塩酸型酸エッチング液である。また、エッチングの条件は摂氏約20〜30℃の温度で約40〜50分間、三塩化鉄および塩酸を含む水溶液を有するエッチング液で、エッチング液は1Lにつき、三塩化鉄の含有量が約800〜1000g、塩酸の含有量が約35〜75g(約36〜38wt%の濃度の約100〜200mLの塩酸とほぼ等価である)である。当業者であれば想到し得るが、エッチングの時間は除去する必要がある金属層の厚さに関係し、除去する必要がある金属層の厚さが大きくなるとエッチングに必要な時間も長くなり、逆に、除去する必要がある金属層の厚さが小さくなるとエッチングに必要な時間も短くなる。   In the embodiment of the present disclosure, a part of the metal layer is removed in the thickness direction of the metal layer by etching. Etching conditions are not particularly limited, and are etching conditions commonly used in the art. Alternatively, the etching is performed with an acid etchant. The acid etching solution is not particularly limited, and is an acid etching solution commonly used in the art. For example, in the embodiments of the present disclosure, the acid etchant is an iron trichloride type acid etchant, a copper chloride type acid etchant, or a hydrochloric acid type acid etchant. The etching condition is an etching solution having an aqueous solution containing iron trichloride and hydrochloric acid at a temperature of about 20 to 30 ° C. for about 40 to 50 minutes. The etching solution has an iron trichloride content of about 800 per liter. ˜1000 g, and the content of hydrochloric acid is about 35 to 75 g (approximately equivalent to about 100 to 200 mL of hydrochloric acid having a concentration of about 36 to 38 wt%). As those skilled in the art can conceive, the etching time is related to the thickness of the metal layer that needs to be removed, and as the metal layer thickness that needs to be removed increases, the time required for etching also increases. Conversely, when the thickness of the metal layer that needs to be removed decreases, the time required for etching also decreases.

本開示の実施例において、ステップ(2)のステップ内のアンテナ溝の形成は、ステップ状にインクを吹き付け、ステップ内にアンテナ溝スリットを形成してアンテナ溝スリットに対応するインクを除去し、アンテナ溝スリットに対応する金属層を除去して金属層の第2の面上に覆われる硬質陽極酸化層の内側を露出させる。   In the embodiment of the present disclosure, the antenna groove in the step (2) is formed by spraying ink in a step shape, forming an antenna groove slit in the step, and removing the ink corresponding to the antenna groove slit. The metal layer corresponding to the groove slit is removed to expose the inside of the hard anodized layer covered on the second surface of the metal layer.

本開示の実施例において、ステップ(2)ではインクの吹き付け方法に特に限定はなく、技術的に共通して使用されるインク吹き付け方法である。また、ステップ(2)においてインクの吹き付けは、UVインクを吹き付けて厚さ約30〜60μmのインク層を形成し、摂氏約110〜120℃の温度で約20〜30分焼き、約1〜2分、紫外線に露光する。   In the embodiment of the present disclosure, in step (2), the ink spraying method is not particularly limited, and is an ink spraying method commonly used in the technical field. Further, in step (2), the ink is sprayed by spraying UV ink to form an ink layer having a thickness of about 30 to 60 μm, and baking at a temperature of about 110 to 120 ° C. for about 20 to 30 minutes. Expose to UV light for minutes.

また、本開示の実施例において、ステップ(2)で形成されるアンテナ溝スリットは幅が約0.02〜0.1mmである。   In the embodiment of the present disclosure, the antenna groove slit formed in step (2) has a width of about 0.02 to 0.1 mm.

また、本開示の実施例において、ステップ(2)でアンテナ溝スリットに対応する金属層はエッチングにより除去され、エッチングの条件は摂氏約20〜30℃の温度で約40〜50分、エッチング液は三塩化鉄および塩酸を含む水溶液を有し、エッチング液1Lにつき、三塩化鉄の含有量は約800〜1000g、塩酸の含有量は約35〜75gである。   In the embodiment of the present disclosure, in step (2), the metal layer corresponding to the antenna groove slit is removed by etching, and the etching condition is about 20 to 50 ° C. for about 40 to 50 minutes. It has an aqueous solution containing iron trichloride and hydrochloric acid, and the content of iron trichloride is about 800 to 1000 g and the content of hydrochloric acid is about 35 to 75 g per liter of the etching solution.

本開示の実施例において、金属層は銅、マンガンのような他の金属不純物を有する。よって、本開示の実施例において、アンテナ溝を備えた電子製品金属シェルの製造方法はさらにエッチング後に洗浄し、洗浄後に黒膜を剥がして露出された黒不純物を除去し、再び洗浄する。洗浄の方法に特に限定はなく、技術的に共通して使用される洗浄方法であり、たとえば脱イオン水による2〜3回の洗浄である。   In embodiments of the present disclosure, the metal layer has other metal impurities such as copper and manganese. Therefore, in the embodiment of the present disclosure, the manufacturing method of the electronic product metal shell provided with the antenna groove further cleans after etching, peels off the black film after cleaning, removes the exposed black impurities, and cleans again. There is no particular limitation on the washing method, and it is a washing method commonly used in the art, for example, two to three washings with deionized water.

本開示の実施例において、電子製品金属シェルの第1の面に対応するアンテナ溝の開口は上側開口として定義され、アンテナ溝は上側開口がアンテナ溝の下側開口より大きい台形の断面構造を有する。金属層の一部を除去した後、金属層の残存部分が金属層の全体厚さの約20〜80%の厚さの場合、開口の幅は約2〜5mmであり、下側開口の幅は約0.8〜1.4mmである。金属層の残存部分が金属層の全体厚さの約20〜40%の厚さの場合、上側開口の厚さは約2〜3mmであり、下側開口の厚さは約0.8〜1.2mmである。   In an embodiment of the present disclosure, an opening of the antenna groove corresponding to the first surface of the electronic product metal shell is defined as an upper opening, and the antenna groove has a trapezoidal cross-sectional structure in which the upper opening is larger than the lower opening of the antenna groove. . After removing a part of the metal layer, when the remaining part of the metal layer is about 20 to 80% of the total thickness of the metal layer, the width of the opening is about 2 to 5 mm, and the width of the lower opening Is about 0.8 to 1.4 mm. When the remaining portion of the metal layer is about 20-40% of the total thickness of the metal layer, the upper opening has a thickness of about 2-3 mm and the lower opening has a thickness of about 0.8-1 .2 mm.

本開示の実施例において、当業者であれば想到し得るが、除去したインク層は電子製品金属シェルの面上に覆われる全体インク層を有する。インク層の除去方法に特に限定はなく、インク層が除去できる限り、技術的に共通して使用される方法である。また、インク層は中性ペンキ除去剤により除去してもよい。中性ペンキ除去剤に特に限定はなく、技術的に共通して使用される中性ペンキ除去剤であり、たとえば、中性ペンキ除去剤は溶剤型ペンキ除去剤、塩素化炭化水素型ペンキ除去剤および水溶性ペンキ除去剤からなる群から選択される少なくとも一つである。   In the embodiments of the present disclosure, those skilled in the art will appreciate that the removed ink layer has an entire ink layer that is covered on the surface of the electronic product metal shell. The method for removing the ink layer is not particularly limited, and is a method commonly used technically as long as the ink layer can be removed. The ink layer may be removed with a neutral paint remover. The neutral paint remover is not particularly limited, and is a neutral paint remover commonly used in the art. For example, the neutral paint remover is a solvent type paint remover or a chlorinated hydrocarbon type paint remover. And at least one selected from the group consisting of water-soluble paint removers.

当業者であれば想到し得るが、本開示の実施例において、アンテナ溝を備えた電子製品金属シェルの製造方法はさらに、インク層除去後で非導電材を充てんする前に第2の製品を洗浄、乾燥する。乾燥の方法に特に限定はなく、技術的に共通して使用される乾燥方法である。たとえば、乾燥は摂氏約80〜120℃の温度、約5〜10分の時間を有する条件で行われる。また、非導電材の充てんの方法に特に限定はなく、非導電材に特に限定はない。また、非導電材はUV接着剤、加熱硬化接着剤および低温硬化性接着剤からなる群から選択される少なくとも一つである。   As will be appreciated by those skilled in the art, in an embodiment of the present disclosure, the method for manufacturing an electronic product metal shell with an antenna groove further includes applying a second product after removing the ink layer and before filling with a non-conductive material. Wash and dry. The drying method is not particularly limited, and is a drying method commonly used in the art. For example, drying is performed under conditions having a temperature of about 80 to 120 degrees Celsius and a time of about 5 to 10 minutes. Moreover, there is no limitation in particular in the filling method of a nonelectroconductive material, and there is no limitation in particular in a nonelectroconductive material. The non-conductive material is at least one selected from the group consisting of a UV adhesive, a heat-curing adhesive, and a low-temperature curable adhesive.

本開示の実施例において、得られる電子製品金属シェルの外観を美しくするため、非導電材はステップ内に充てんされる。   In an embodiment of the present disclosure, a non-conductive material is filled in the steps to beautify the appearance of the resulting electronic product metal shell.

本開示の例において、金属層はアルミニウム合金層を含む。   In the example of the present disclosure, the metal layer includes an aluminum alloy layer.

本開示の実施例において、電子製品金属シェルは携帯電話金属シェルまたはタブレットコンピュータ金属シェルを含む。   In embodiments of the present disclosure, the electronic product metal shell includes a mobile phone metal shell or a tablet computer metal shell.

本開示の第3の態様により、上述した方法から得られる電子製品金属シェルを提供する。   According to a third aspect of the present disclosure, an electronic product metal shell obtained from the method described above is provided.

後述する実施例は、さらに本開示を説明する。実施例は本開示を限定しない。   Examples described below further illustrate the present disclosure. The examples do not limit the present disclosure.

以下の実施例において、厚さ0.5mmのseries5のアルミニウム合金はFUJIAN NANPING ALUMINUM CO.,LTDから購入した。ニッケルフリー封止材、微量ニッケルシーリング材および重金属フリー封止材はSHENZHEN ODM TECHNOLOGY CO.,LTDから購入した。塩素化炭化水素ペンキ除去剤はDONGGUAN SIHUISURFACE PROCESSING TECHNOLOGY CO.,LTDから購入した。UV接着剤は日本ASEC会社から購入し、UV接着剤はAS−210604Cである。ラジウム彫刻機はSHENZHEN GDLASER TECHNOLOGY CO.,LTDから購入し、ラジウム彫刻機はFM20Dである。   In the following examples, a 0.5 mm thick series 5 aluminum alloy is FUJIAN NANPING ALUMINUM CO. , Purchased from LTD. Nickel-free sealing material, trace nickel sealing material and heavy metal-free sealing material are available from SHENZHEN ODM TECHNOLOGY CO. , Purchased from LTD. The chlorinated hydrocarbon paint remover is DONGGUAN SIHUISURFACE PROCESSING TECHNOLOGY CO. , Purchased from LTD. The UV adhesive is purchased from Japan ASEC Company, and the UV adhesive is AS-210604C. Radium engraving machine is SHENZHEN GDLASER TECHNOLOGY CO. , LTD, the radium engraving machine is FM20D.

本実施例は、電話のアンテナ溝を有するアルミニウムシェルおよび本開示のアルミニウムシェルの製造方法を説明する。   This example describes an aluminum shell having a telephone antenna groove and a method of manufacturing the aluminum shell of the present disclosure.

ステップ(1)のアルカリ性エッチング処理は、厚さ0.5mmのseries5アルミニウム層3を切断し、5×3.5cmの大きさのアルミニウム板を形成する。そして、アルミニウム板を摂氏60℃で1.5分、40g/Lの濃度の水酸化ナトリウム溶液でアルカリ性エッチング処理を施し、アルミニウム板を脱イオン水により2回洗浄する。   In the alkaline etching treatment in step (1), the series 5 aluminum layer 3 having a thickness of 0.5 mm is cut to form an aluminum plate having a size of 5 × 3.5 cm. Then, the aluminum plate is subjected to an alkaline etching treatment with a sodium hydroxide solution having a concentration of 40 g / L at 60 ° C. for 1.5 minutes, and the aluminum plate is washed twice with deionized water.

ステップ(2)のスマット除去処理は、ステップ(1)で得られたアルミニウム板に摂氏25℃で2分、スマット除去溶液(スマット除去液1Lにつき濃度65wt%の濃縮硝酸を300mL)でスマット除去処理を施し、アルミニウム板を脱イオン水で2回洗浄する。   In step (2), the smut removal treatment is performed on the aluminum plate obtained in step (1) at 25 ° C. for 2 minutes and with a smut removal solution (300 mL of concentrated nitric acid having a concentration of 65 wt% per liter of the smut removal solution). The aluminum plate is washed twice with deionized water.

ステップ(3)の酸化処理は、ステップ(2)で得られたアルミニウム板を酸化槽に置き、硬質酸化処理を行う。硬質酸化処理は正矩形波パルスで摂氏10℃、デューティ比率50%、周波数800Hzおよび電流密度2A/dmで40分行い(酸化溶液1Lにつき、98wt%の硫酸の含有量が200g、シュウ酸の含有量が15g、その他は水)、アルミニウム板を脱イオン水で2回洗浄する。 In the oxidation treatment in step (3), the aluminum plate obtained in step (2) is placed in an oxidation tank and hard oxidation treatment is performed. The hard oxidation treatment was carried out for 40 minutes with a square wave pulse at 10 ° C., a duty ratio of 50%, a frequency of 800 Hz and a current density of 2 A / dm 2 (the content of 98 wt% sulfuric acid per liter of the oxidation solution was 200 g, The aluminum plate is washed twice with deionized water.

ステップ(4)の封止処理は、ステップ(3)で得られたアルミニウム板を摂氏25℃で2.5分、ニッケルフリーシーリング材で封止し、アルミニウム板は脱イオン水で2回洗浄し、アルミニウム板を摂氏25℃でオイルフリー圧縮ガスにより乾燥させ、厚さ35μmの硬質陽極酸化層1を得る。   In step (4), the aluminum plate obtained in step (3) was sealed with a nickel-free sealant at 25 ° C. for 2.5 minutes, and the aluminum plate was washed twice with deionized water. Then, the aluminum plate is dried with an oil-free compressed gas at 25 ° C. to obtain a hard anodized layer 1 having a thickness of 35 μm.

ステップ(5)のインク吹き付け処理は、UVインクをステップ(4)で得られたアルミニウム板の面上に吹き付けて厚さ50μmのインク層2を形成し、アルミニウム板を摂氏115℃で25分焼き、1.5分、紫外線に露光する。   In the ink spraying process in step (5), UV ink is sprayed on the surface of the aluminum plate obtained in step (4) to form an ink layer 2 having a thickness of 50 μm, and the aluminum plate is baked at 115 ° C. for 25 minutes. , Exposed to UV light for 1.5 minutes.

ステップ(6)は、ラジウム彫刻機によりステップ(5)で得られたアルミニウム板の第1の面上にラジウム彫刻してステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去する。そして、アルミニウム板を摂氏25℃で45分、エッチング液(1Lのエッチング液につき、三塩化鉄六水和物の含有量が900g、37wt%塩酸の含有量が150mL、その他は水)でエッチングしてアルミニウム板の厚さ方向においてアルミニウム層の部分(0.3mm)を除去して幅2.5cm、深さ0.3mmのステップ4を得る。そして、アルミ板を脱イオン水で2回洗浄し、露出された黒不純物層を剥がし、アルミニウム板を脱イオン水で再び2回洗浄する。   In step (6), the radium engraving is performed on the first surface of the aluminum plate obtained in step (5) by a radium engraving machine to remove the ink layer and the hard anodized layer corresponding to the step pattern. Then, the aluminum plate was etched with an etching solution (the content of iron trichloride hexahydrate was 900 g, the content of 37 wt% hydrochloric acid was 150 mL, and the others were water) at 25 degrees Celsius for 45 minutes. Step 4 having a width of 2.5 cm and a depth of 0.3 mm is obtained by removing a portion (0.3 mm) of the aluminum layer in the thickness direction of the aluminum plate. Then, the aluminum plate is washed twice with deionized water, the exposed black impurity layer is peeled off, and the aluminum plate is washed twice again with deionized water.

ステップ(7)は、UVインクをステップ上に吹き付けて厚さ40μmのインク層を形成し、アルミ板を摂氏115℃で25分焼き、紫外線に1.5分露出させる。そして、幅0.06mmのアンテナ溝スリットをステップ内でラジウム彫刻してアンテナ溝スリットに対応するインク層を除去し、アルミニウム溝スリットに対応するアルミニウム層を摂氏25℃で35分、エッチング液(エッチング1Lにつき、三塩化鉄六水和物の含有量が900g、37wt%の塩酸の含有量が150mL、残りが水)でエッチングする。観察により、アルミニウム板の第2の面上に覆われる硬質陽極酸化層の内側が露出される。そして、アルミニウム板を脱イオン水により2回洗浄し、露出された黒不純物層を剥がし、アルミニウム板を脱イオン水により再び2回洗浄する。そして、上側開口がアンテナ溝の下側開口より大きい台形の断面構造を有するアンテナ溝が得られ、上側開口の幅は3mm、下側開口の幅は1.2mmである。   In step (7), UV ink is sprayed onto the step to form an ink layer having a thickness of 40 μm, and the aluminum plate is baked at 115 ° C. for 25 minutes and exposed to ultraviolet rays for 1.5 minutes. Then, the antenna groove slit having a width of 0.06 mm is engraved with radium in the step to remove the ink layer corresponding to the antenna groove slit, and the aluminum layer corresponding to the aluminum groove slit is etched at 25 ° C. for 35 minutes with an etching solution (etching). Etching is performed with 1 liter of iron trichloride hexahydrate content of 900 g, 37 wt% hydrochloric acid content of 150 mL, and the remainder water. By observation, the inside of the hard anodized layer covered on the second surface of the aluminum plate is exposed. Then, the aluminum plate is washed twice with deionized water, the exposed black impurity layer is peeled off, and the aluminum plate is washed twice again with deionized water. An antenna groove having a trapezoidal cross-sectional structure in which the upper opening is larger than the lower opening of the antenna groove is obtained. The width of the upper opening is 3 mm and the width of the lower opening is 1.2 mm.

ステップ(8)は、アルミニウム板の後部面上のインク層を塩素化炭化水素溶剤ペンキ除去剤により除去し、アルミ板を脱イオン水により2回洗浄し、摂氏100℃で7分焼く。   In step (8), the ink layer on the rear surface of the aluminum plate is removed with a chlorinated hydrocarbon solvent paint remover, the aluminum plate is washed twice with deionized water, and baked at 100 ° C. for 7 minutes.

ステップ(9)は、UV接着剤をアンテナ溝内に充てんする。   Step (9) fills the antenna groove with UV adhesive.

本実施例において、ステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図を図1に示し、ステップを得るためにアルミニウム層の一部を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図を図2に示し、アルミニウム溝スリットをラジウム彫刻し、アンテナ溝スリットに対応するインク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図を図3に示し、インク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図を図4に示し、インク層を形成した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図を図5に示し、ステップパターンをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図を図6に示し、ステップをエッチングした後のアルミニウムシェルの図を図7に示し、アンテナ溝スリットをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図を図8に示す。   In this example, the cross-sectional structure schematic diagram of the aluminum shell after removing the ink layer and the hard anodized layer corresponding to the step pattern is shown in FIG. 1, and after removing a part of the aluminum layer to obtain the step FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the aluminum shell. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the aluminum shell after the aluminum groove slit is engraved with radium and the ink layer corresponding to the antenna groove slit is removed. FIG. 4 shows a schematic cross-sectional structure of the aluminum shell after the removal, FIG. 5 shows a schematic cross-sectional structure of the aluminum shell after the ink layer is formed, and a diagram of the aluminum shell after the radium engraving of the step pattern. FIG. 7 shows a view of the aluminum shell after etching the step shown in FIG. Figure aluminum shell after the door has been radium engraved shown in Fig.

本実施例によりアルミニウムシェル上に形成されたアンテナ溝は肉眼では外観上で見えず、アルミニウムシェルの外観面の表面層を損なわず、アルミニウムシェルの外観面は平坦で綺麗であり、これは電話本体の外観の清潔さおよび連続性を維持し、電話本体全体の金属質感を損なわない。   The antenna groove formed on the aluminum shell according to this embodiment is not visible to the naked eye, does not impair the surface layer of the outer surface of the aluminum shell, and the outer surface of the aluminum shell is flat and beautiful. Maintains the cleanliness and continuity of the appearance of the phone and does not impair the metal texture of the entire phone body.

本実施例は、電話のアンテナ溝を有するアルミニウムシェルおよび本開示のアルミニウムシェルの製造方法を説明する。   This example describes an aluminum shell having a telephone antenna groove and a method of manufacturing the aluminum shell of the present disclosure.

ステップ(1)のアルカリ性エッチング処理は、厚さ0.5mmのseries5アルミニウム層3を切断し、5×3.5cmの大きさのアルミニウム板を形成する。そして、アルミニウム板を摂氏50℃で2分、30g/Lの濃度の水酸化カリウム溶液でアルカリ性エッチング処理を施し、アルミニウム板を脱イオン水により2回洗浄する。   In the alkaline etching treatment in step (1), the series 5 aluminum layer 3 having a thickness of 0.5 mm is cut to form an aluminum plate having a size of 5 × 3.5 cm. Then, the aluminum plate is subjected to an alkaline etching treatment with a potassium hydroxide solution having a concentration of 30 g / L at 50 ° C. for 2 minutes, and the aluminum plate is washed twice with deionized water.

ステップ(2)のスマット除去処理は、ステップ(1)で得られたアルミニウム板に摂氏20℃で1分、スマット除去溶液(スマット除去液1Lにつき濃度65wt%の濃縮硝酸を400mL)でスマット除去処理を施し、アルミニウム板を脱イオン水で2回洗浄する。   In step (2), the smut removal treatment is performed on the aluminum plate obtained in step (1) at 20 ° C. for 1 minute, and with the smut removal solution (400 mL of concentrated nitric acid having a concentration of 65 wt% per liter of the smut removal solution). The aluminum plate is washed twice with deionized water.

ステップ(3)の酸化処理は、ステップ(2)で得られたアルミニウム板を酸化槽に置き、硬質酸化処理を行う。硬質酸化処理は正矩形波パルスで摂氏5℃、デューティ比率50%、周波数500Hzおよび電流密度2A/dmで50分行い(酸化溶液1Lにつき、98wt%の硫酸の含有量が220g、シュウ酸の含有量が20g、その他は水)、アルミニウム板を脱イオン水で2回洗浄する。 In the oxidation treatment in step (3), the aluminum plate obtained in step (2) is placed in an oxidation tank and hard oxidation treatment is performed. The hard oxidation treatment was performed with a regular square wave pulse at a temperature of 5 ° C., a duty ratio of 50%, a frequency of 500 Hz, and a current density of 2 A / dm 2 for 50 minutes (the content of 98 wt% sulfuric acid per liter of the oxidation solution was 220 g, The aluminum plate is washed twice with deionized water.

ステップ(4)の封止処理は、ステップ(3)で得られたアルミニウム板を摂氏20℃で3分、微量ニッケルシーリング材で封止し、アルミニウム板は脱イオン水で2回洗浄し、アルミニウム板を摂氏25℃でオイルフリー圧縮ガスにより乾燥させ、厚さ40μmの硬質陽極酸化層1を得る。   In the sealing treatment of step (4), the aluminum plate obtained in step (3) is sealed with a trace amount of nickel sealing material at 20 ° C. for 3 minutes, and the aluminum plate is washed twice with deionized water. The plate is dried with an oil-free compressed gas at 25 ° C. to obtain a hard anodized layer 1 having a thickness of 40 μm.

ステップ(5)のインク吹き付け処理は、UVインクをステップ(4)で得られたアルミニウム板の面上に吹き付けて厚さ40μmのインク層2を形成し、アルミニウム板を摂氏110℃で30分焼き、1分、紫外線に露光する。   In the ink spraying process of step (5), UV ink is sprayed onto the surface of the aluminum plate obtained in step (4) to form an ink layer 2 having a thickness of 40 μm, and the aluminum plate is baked at 110 ° C. for 30 minutes. Expose to ultraviolet light for 1 minute.

ステップ(6)は、ラジウム彫刻機によりステップ(5)で得られたアルミニウム板の第1の面上にラジウム彫刻してステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去する。そして、アルミニウム板を摂氏20℃で50分、エッチング液(1Lのエッチング液につき、三塩化鉄六水和物の含有量が800g、37wt%塩酸の含有量が100mL、その他は水)でエッチングしてアルミニウム板の厚さ方向においてアルミニウム層の部分(0.4mm)を除去して幅2.5cm、深さ0.4mmのステップ4を得る。そして、アルミ板を脱イオン水で2回洗浄し、露出された黒不純物層を剥がし、アルミニウム板を脱イオン水で再び2回洗浄する。   In step (6), the radium engraving is performed on the first surface of the aluminum plate obtained in step (5) by a radium engraving machine to remove the ink layer and the hard anodized layer corresponding to the step pattern. Then, the aluminum plate was etched at 20 ° C. for 50 minutes with an etching solution (for 1 L of etching solution, the content of iron trichloride hexahydrate is 800 g, the content of 37 wt% hydrochloric acid is 100 mL, and the other is water). Step 4 having a width of 2.5 cm and a depth of 0.4 mm is obtained by removing a portion (0.4 mm) of the aluminum layer in the thickness direction of the aluminum plate. Then, the aluminum plate is washed twice with deionized water, the exposed black impurity layer is peeled off, and the aluminum plate is washed twice again with deionized water.

ステップ(7)は、UVインクをステップ上に吹き付けて厚さ30μmのインク層を形成し、アルミ板を摂氏110℃で30分焼き、紫外線に1分露出させる。そして、幅0.02mmのアンテナ溝スリットをステップ内でラジウム彫刻してアンテナ溝スリットに対応するインク層を除去し、アルミニウム溝スリットに対応するアルミニウム層を摂氏20℃で35分、エッチング液(エッチング1Lにつき、三塩化鉄六水和物の含有量が800g、37wt%の塩酸の含有量が100mL、残りが水)でエッチングする。観察により、アルミニウム板の第2の面上に覆われる硬質陽極酸化層の内側が露出される。そして、アルミニウム板を脱イオン水により2回洗浄し、露出された黒不純物層を剥がし、アルミニウム板を脱イオン水により再び2回洗浄する。そして、上側開口がアンテナ溝の下側開口より大きい台形の断面構造を有するアンテナ溝が得られ、上側開口の幅は2mm、下側開口の幅は0.8mmである。   In step (7), UV ink is sprayed onto the step to form an ink layer having a thickness of 30 μm, and the aluminum plate is baked at 110 ° C. for 30 minutes and exposed to ultraviolet rays for 1 minute. Then, the antenna groove slit having a width of 0.02 mm is engraved with radium in the step to remove the ink layer corresponding to the antenna groove slit, and the aluminum layer corresponding to the aluminum groove slit is etched at 20 ° C. for 35 minutes with an etching solution (etching). Etching is performed with 1 liter of iron trichloride hexahydrate content of 800 g, 37 wt% hydrochloric acid content of 100 mL, and the remainder water. By observation, the inside of the hard anodized layer covered on the second surface of the aluminum plate is exposed. Then, the aluminum plate is washed twice with deionized water, the exposed black impurity layer is peeled off, and the aluminum plate is washed twice again with deionized water. An antenna groove having a trapezoidal cross-sectional structure in which the upper opening is larger than the lower opening of the antenna groove is obtained. The width of the upper opening is 2 mm, and the width of the lower opening is 0.8 mm.

ステップ(8)は、アルミニウム板の後部面上のインク層を塩素化炭化水素溶剤ペンキ除去剤により除去し、アルミ板を脱イオン水により2回洗浄し、摂氏80℃で10分焼く。   In step (8), the ink layer on the rear surface of the aluminum plate is removed with a chlorinated hydrocarbon solvent paint remover, the aluminum plate is washed twice with deionized water, and baked at 80 ° C. for 10 minutes.

ステップ(9)は、UV接着剤をアンテナ溝内に充てんする。   Step (9) fills the antenna groove with UV adhesive.

本実施例において、ステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、ステップを得るためにアルミニウム層の一部を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、アルミニウム溝スリットをラジウム彫刻し、アンテナ溝スリットに対応するインク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、インク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、インク層を形成した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、ステップパターンをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図、ステップをエッチングした後のアルミニウムシェルの図、アンテナ溝スリットをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図は実施例1で示した図と同じである。   In this example, the schematic cross-sectional structure of the aluminum shell after removing the ink layer and the hard anodized layer corresponding to the step pattern, the cross-sectional structure of the aluminum shell after removing a part of the aluminum layer to obtain a step Schematic drawing, aluminum groove slit radium engraved, schematic sectional view of the aluminum shell after removing the ink layer corresponding to the antenna groove slit, sectional schematic diagram of the aluminum shell after removing the ink layer, ink layer The schematic diagram of the cross-sectional structure of the aluminum shell after it is formed, the figure of the aluminum shell after the step pattern is radium engraved, the figure of the aluminum shell after the step is etched, the figure of the aluminum shell after the radium engraving of the antenna groove slit This is the same as the diagram shown in the first embodiment.

本実施例によりアルミニウムシェル上に形成されたアンテナ溝は肉眼では外観上で見えず、アルミニウムシェルの外観面の表面層を損なわず、アルミニウムシェルの外観面は平坦で綺麗であり、これは電話本体の外観の清潔さおよび連続性を維持し、電話本体全体の金属質感を損なわない。   The antenna groove formed on the aluminum shell according to this embodiment is not visible to the naked eye, does not impair the surface layer of the outer surface of the aluminum shell, and the outer surface of the aluminum shell is flat and beautiful. Maintains the cleanliness and continuity of the appearance of the phone and does not impair the metal texture of the entire phone body.

本実施例は、タブレットコンピュータのアンテナ溝を有するアルミニウムシェルおよび本開示のアルミニウムシェルの製造方法を説明する。   The present embodiment describes an aluminum shell having an antenna groove of a tablet computer and a method for manufacturing the aluminum shell of the present disclosure.

ステップ(1)のアルカリ性エッチング処理は、厚さ0.5mmのseries5アルミニウム層3を切断し、5×3.5cmの大きさのアルミニウム板を形成する。そして、アルミニウム板を摂氏70℃で1分、60g/Lの濃度の水酸化カリウム溶液でアルカリ性エッチング処理を施し、アルミニウム板を脱イオン水により2回洗浄する。   In the alkaline etching treatment in step (1), the series 5 aluminum layer 3 having a thickness of 0.5 mm is cut to form an aluminum plate having a size of 5 × 3.5 cm. Then, the aluminum plate is subjected to an alkaline etching treatment with a potassium hydroxide solution having a concentration of 60 g / L at 70 ° C. for 1 minute, and the aluminum plate is washed twice with deionized water.

ステップ(2)のスマット除去処理は、ステップ(1)で得られたアルミニウム板に摂氏30℃で3分、スマット除去溶液(スマット除去液1Lにつき濃度65wt%の濃縮硝酸を200mL)でスマット除去処理を施し、アルミニウム板を脱イオン水で2回洗浄する。   The smut removal treatment in step (2) is performed on the aluminum plate obtained in step (1) at 30 ° C. for 3 minutes and with a smut removal solution (200 mL of concentrated nitric acid with a concentration of 65 wt% per liter of the smut removal solution). The aluminum plate is washed twice with deionized water.

ステップ(3)の酸化処理は、ステップ(2)で得られたアルミニウム板を酸化槽に置き、硬質酸化処理を行う。硬質酸化処理は正矩形波パルスで摂氏12℃、デューティ比率90%、周波数1000Hzおよび電流密度7A/dmで30分行い(酸化溶液1Lにつき、98wt%の硫酸の含有量が120g、シュウ酸の含有量が8g、その他は水)、アルミニウム板を脱イオン水で2回洗浄する。 In the oxidation treatment in step (3), the aluminum plate obtained in step (2) is placed in an oxidation tank and hard oxidation treatment is performed. The hard oxidation treatment was performed for 30 minutes with a regular square wave pulse at 12 ° C., a duty ratio of 90%, a frequency of 1000 Hz, and a current density of 7 A / dm 2 (120 g of sulfuric acid at 98 wt% per liter of oxidation solution, The aluminum plate is washed twice with deionized water.

ステップ(4)の封止処理は、ステップ(3)で得られたアルミニウム板を摂氏30℃で2分、微量ニッケルシーリング材で封止し、アルミニウム板は脱イオン水で2回洗浄し、アルミニウム板を摂氏25℃でオイルフリー圧縮ガスにより乾燥させ、厚さ50μmの硬質陽極酸化層1を得る。   In the sealing treatment of step (4), the aluminum plate obtained in step (3) was sealed with a slight amount of nickel sealing material at 30 ° C. for 2 minutes, the aluminum plate was washed twice with deionized water, and aluminum The plate is dried with an oil-free compressed gas at 25 ° C. to obtain a hard anodized layer 1 having a thickness of 50 μm.

ステップ(5)のインク吹き付け処理は、UVインクをステップ(4)で得られたアルミニウム板の面上に吹き付けて厚さ60μmのインク層2を形成し、アルミニウム板を摂氏120℃で20分焼き、2分、紫外線に露光する。   In the ink spraying process of step (5), UV ink is sprayed onto the surface of the aluminum plate obtained in step (4) to form an ink layer 2 having a thickness of 60 μm, and the aluminum plate is baked at 120 ° C. for 20 minutes. Expose to ultraviolet light for 2 minutes.

ステップ(6)は、ラジウム彫刻機によりステップ(5)で得られたアルミニウム板の第1の面上にラジウム彫刻してステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去する。そして、アルミニウム板を摂氏30℃で40分、エッチング液(1Lのエッチング液につき、三塩化鉄六水和物の含有量が1000g、37wt%塩酸の含有量が200mL、その他は水)でエッチングしてアルミニウム板の厚さ方向においてアルミニウム層の部分(0.35mm)を除去して幅2.5cm、深さ0.35mmのステップ4を得る。そして、アルミ板を脱イオン水で2回洗浄し、露出された黒不純物層を剥がし、アルミニウム板を脱イオン水で再び2回洗浄する。   In step (6), the radium engraving is performed on the first surface of the aluminum plate obtained in step (5) by a radium engraving machine to remove the ink layer and the hard anodized layer corresponding to the step pattern. Then, the aluminum plate is etched at 30 ° C. for 40 minutes with an etching solution (the content of iron trichloride hexahydrate is 1000 g, the content of 37 wt% hydrochloric acid is 200 mL, and the other is water per 1 L of etching solution). Step 4 having a width of 2.5 cm and a depth of 0.35 mm is obtained by removing a portion (0.35 mm) of the aluminum layer in the thickness direction of the aluminum plate. Then, the aluminum plate is washed twice with deionized water, the exposed black impurity layer is peeled off, and the aluminum plate is washed twice again with deionized water.

ステップ(7)は、UVインクをステップ上に吹き付けて厚さ60μmのインク層を形成し、アルミ板を摂氏120℃で20分焼き、紫外線に2分露出させる。そして、幅0.1mmのアンテナ溝スリットをステップ内でラジウム彫刻してアンテナ溝スリットに対応するインク層を除去し、アルミニウム溝スリットに対応するアルミニウム層を摂氏30℃で30分、エッチング液(エッチング1Lにつき、三塩化鉄六水和物の含有量が1000g、37wt%の塩酸の含有量が200mL、残りが水)でエッチングする。観察により、アルミニウム板の第2の面上に覆われる硬質陽極酸化層の内側が露出される。そして、アルミニウム板を脱イオン水により2回洗浄し、露出された黒不純物層を剥がし、アルミニウム板を脱イオン水により再び2回洗浄する。そして、上側開口がアンテナ溝の下側開口より大きい台形の断面構造を有するアンテナ溝が得られ、上側開口の幅は2.5mm、下側開口の幅は1.0mmである。   In step (7), UV ink is sprayed onto the step to form an ink layer having a thickness of 60 μm, and the aluminum plate is baked at 120 ° C. for 20 minutes and exposed to ultraviolet rays for 2 minutes. Then, the antenna groove slit having a width of 0.1 mm is engraved with radium in the step to remove the ink layer corresponding to the antenna groove slit, and the aluminum layer corresponding to the aluminum groove slit is removed by etching solution (etching) at 30 ° C. for 30 minutes. Etching is performed with 1 liter of iron trichloride hexahydrate content of 1000 g, 37 wt% hydrochloric acid content of 200 mL, and the remainder water. By observation, the inside of the hard anodized layer covered on the second surface of the aluminum plate is exposed. Then, the aluminum plate is washed twice with deionized water, the exposed black impurity layer is peeled off, and the aluminum plate is washed twice again with deionized water. An antenna groove having a trapezoidal cross-sectional structure in which the upper opening is larger than the lower opening of the antenna groove is obtained. The width of the upper opening is 2.5 mm, and the width of the lower opening is 1.0 mm.

ステップ(8)は、アルミニウム板の後部面上のインク層を塩素化炭化水素溶剤ペンキ除去剤により除去し、アルミ板を脱イオン水により2回洗浄し、摂氏120℃で5分焼く。   In step (8), the ink layer on the rear surface of the aluminum plate is removed with a chlorinated hydrocarbon solvent paint remover, the aluminum plate is washed twice with deionized water, and baked at 120 ° C. for 5 minutes.

ステップ(9)は、UV接着剤をアンテナ溝内に充てんする。   Step (9) fills the antenna groove with UV adhesive.

本実施例において、ステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、ステップを得るためにアルミニウム層の一部を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、アルミニウム溝スリットをラジウム彫刻し、アンテナ溝スリットに対応するインク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、インク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、インク層を形成した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、ステップパターンをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図、ステップをエッチングした後のアルミニウムシェルの図、アンテナ溝スリットをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図は実施例1で示した図と同じである。   In this example, the schematic cross-sectional structure of the aluminum shell after removing the ink layer and the hard anodized layer corresponding to the step pattern, the cross-sectional structure of the aluminum shell after removing a part of the aluminum layer to obtain a step Schematic drawing, aluminum groove slit radium engraved, schematic sectional view of the aluminum shell after removing the ink layer corresponding to the antenna groove slit, sectional schematic diagram of the aluminum shell after removing the ink layer, ink layer The schematic diagram of the cross-sectional structure of the aluminum shell after it is formed, the figure of the aluminum shell after the step pattern is radium engraved, the figure of the aluminum shell after the step is etched, the figure of the aluminum shell after the radium engraving of the antenna groove slit This is the same as the diagram shown in the first embodiment.

本実施例によりアルミニウムシェル上に形成されたアンテナ溝は肉眼では外観上で見えず、アルミニウムシェルの外観面の表面層を損なわず、アルミニウムシェルの外観面は平坦で綺麗であり、これは電話本体の外観の清潔さおよび連続性を維持し、電話本体全体の金属質感を損なわない。   The antenna groove formed on the aluminum shell according to this embodiment is not visible to the naked eye, does not impair the surface layer of the outer surface of the aluminum shell, and the outer surface of the aluminum shell is flat and beautiful. Maintains the cleanliness and continuity of the appearance of the phone and does not impair the metal texture of the entire phone body.

実施例の方法は、ステップ(6)を除いて実施例1に類似しており、アルミニウム板を摂氏25℃で20分、エッチング液(1Lのエッチング液につき、三塩化鉄六水和物の含有量が900g、37wt%塩酸の含有量が150mL、その他は水)でエッチングしてアルミニウム板の厚さ方向においてアルミニウム層の部分(0.1mm)を除去してステップ4を得る。   The method of the example is similar to example 1 except for step (6), in which an aluminum plate is treated at 25 ° C. for 20 minutes and an etchant (containing iron trichloride hexahydrate per liter of etchant). Etching is performed with 900 g, the content of 37 wt% hydrochloric acid is 150 mL, and the other is water) to remove the aluminum layer portion (0.1 mm) in the thickness direction of the aluminum plate, thereby obtaining Step 4.

本実施例において、ステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、ステップを得るためにアルミニウム層の一部を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、アルミニウム溝スリットをラジウム彫刻し、アンテナ溝スリットに対応するインク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、インク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、インク層を形成した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、ステップパターンをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図、ステップをエッチングした後のアルミニウムシェルの図、アンテナ溝スリットをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図は実施例1で示した図と同じである。形成されるステップは幅が2.5cm、深さが0.1mmであり、アルミニウム溝の上側開口は幅5mm、アンテナ溝の下側開口は幅1.4mmである。   In this example, the schematic cross-sectional structure of the aluminum shell after removing the ink layer and the hard anodized layer corresponding to the step pattern, the cross-sectional structure of the aluminum shell after removing a part of the aluminum layer to obtain a step Schematic drawing, aluminum groove slit radium engraved, schematic sectional view of the aluminum shell after removing the ink layer corresponding to the antenna groove slit, sectional schematic diagram of the aluminum shell after removing the ink layer, ink layer The schematic diagram of the cross-sectional structure of the aluminum shell after it is formed, the figure of the aluminum shell after the step pattern is radium engraved, the figure of the aluminum shell after the step is etched, the figure of the aluminum shell after the radium engraving of the antenna groove slit This is the same as the diagram shown in the first embodiment. The formed step is 2.5 cm wide and 0.1 mm deep, the upper opening of the aluminum groove is 5 mm wide, and the lower opening of the antenna groove is 1.4 mm wide.

本実施例によりアルミニウムシェル上に形成されたアンテナ溝は肉眼では外観上で見えず、アルミニウムシェルの外観面の表面層を損なわず、アルミニウムシェルの外観面は平坦で綺麗であり、これは電話本体の外観の清潔さおよび連続性を維持し、電話本体全体の金属質感を損なわない。   The antenna groove formed on the aluminum shell according to this embodiment is not visible to the naked eye, does not impair the surface layer of the outer surface of the aluminum shell, and the outer surface of the aluminum shell is flat and beautiful. Maintains the cleanliness and continuity of the appearance of the phone and does not impair the metal texture of the entire phone body.

実施例の方法は、ステップ(6)を除いて実施例1に類似しており、アルミニウム板を摂氏25℃で15分、エッチング液(1Lのエッチング液につき、三塩化鉄六水和物の含有量が900g、37wt%塩酸の含有量が150mL、その他は水)でエッチングしてアルミニウム板の厚さ方向においてアルミニウム層の部分(0.05mm)を除去してステップ4を得る。   The method of the example is similar to example 1 except for step (6), in which the aluminum plate is treated at 25 ° C. for 15 minutes and the etchant (containing iron trichloride hexahydrate per liter of etchant). Etching is performed with 900 g, the content of 37 wt% hydrochloric acid is 150 mL, and the other is water, and the aluminum layer portion (0.05 mm) is removed in the thickness direction of the aluminum plate to obtain step 4.

本実施例において、ステップパターンに対応するインク層および硬質陽極酸化層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、ステップを得るためにアルミニウム層の一部を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、アルミニウム溝スリットをラジウム彫刻し、アンテナ溝スリットに対応するインク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、インク層を除去した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、インク層を形成した後のアルミニウムシェルの断面構造概略図、ステップパターンをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図、ステップをエッチングした後のアルミニウムシェルの図、アンテナ溝スリットをラジウム彫刻した後のアルミニウムシェルの図は実施例1で示した図と同じである。形成されるステップは幅が2.5cm、深さが0.05mmであり、アルミニウム溝の上側開口は幅6mm、アンテナ溝の下側開口は幅1.6mmである。   In this example, the schematic cross-sectional structure of the aluminum shell after removing the ink layer and the hard anodized layer corresponding to the step pattern, the cross-sectional structure of the aluminum shell after removing a part of the aluminum layer to obtain a step Schematic drawing, aluminum groove slit radium engraved, schematic sectional view of the aluminum shell after removing the ink layer corresponding to the antenna groove slit, sectional schematic diagram of the aluminum shell after removing the ink layer, ink layer The schematic diagram of the cross-sectional structure of the aluminum shell after it is formed, the figure of the aluminum shell after the step pattern is radium engraved, the figure of the aluminum shell after the step is etched, the figure of the aluminum shell after the radium engraving of the antenna groove slit This is the same as the diagram shown in the first embodiment. The formed step is 2.5 cm wide and 0.05 mm deep, the upper opening of the aluminum groove is 6 mm wide, and the lower opening of the antenna groove is 1.6 mm wide.

本実施例によりアルミニウムシェル上に形成されたアンテナ溝は肉眼では外観上で見えず、アルミニウムシェルの外観面の表面層を損なわず、アルミニウムシェルの外観面は平坦で綺麗であり、これは電話本体の外観の清潔さおよび連続性を維持し、電話本体全体の金属質感を損なわない。   The antenna groove formed on the aluminum shell according to this embodiment is not visible to the naked eye, does not impair the surface layer of the outer surface of the aluminum shell, and the outer surface of the aluminum shell is flat and beautiful. Maintains the cleanliness and continuity of the appearance of the phone and does not impair the metal texture of the entire phone body.

アンテナ溝の上側開口およびアンテナ溝の下側開口の幅がより小さいと、アルミニウムシェルの堅固性および硬度がより良好であることは当業者であれば想到し得る。実施例1を実施例4および5と比較することにより、ステップ(6)においてアルミニウム層の一部を除去した後、残りのアルミニウム層の厚さがアルミニウム層の全体厚さの約20〜40%の場合、エッチング後に形成されるアンテナ溝の上側開口および下側開口の幅は明らかに低減され、アルミニウムシェルの堅固性および硬度を効果的に向上することができる。   One skilled in the art can appreciate that the tightness and hardness of the aluminum shell is better when the width of the upper opening of the antenna groove and the lower opening of the antenna groove is smaller. By comparing Example 1 with Examples 4 and 5, after removing a portion of the aluminum layer in step (6), the thickness of the remaining aluminum layer is about 20-40% of the total thickness of the aluminum layer. In this case, the widths of the upper and lower openings of the antenna groove formed after the etching are obviously reduced, and the rigidity and hardness of the aluminum shell can be effectively improved.

(試験例)
実施例1〜5から得られたアルミニウムシェルに信号遮蔽試験を受けた。試験方法は、二つの導電位置を見えないアンテナ溝によりそれぞれ分離されるアルミニウムシェルの二つの部分でラジウム彫刻し、二つの導電位置の間の導電率を試験した。実施例1〜5の全ての試験結果は、二つの導電位置の間の非導電性を示した。したがって、電子製品金属セルの外観の清潔さおよび連続性を維持し、電子製品金属シェル本体の金属質感を損なわないだけではなく、電子製品金属シェル本体の信号遮蔽問題も解決する。
(Test example)
The aluminum shells obtained from Examples 1-5 were subjected to a signal shielding test. The test method was a radium engraving with two parts of an aluminum shell, each separated by an invisible antenna groove, to test the conductivity between the two conductive positions. All test results of Examples 1-5 showed non-conductivity between two conductive positions. Therefore, the cleanliness and continuity of the appearance of the electronic product metal cell are maintained, and the metal texture of the electronic product metal shell body is not impaired, and the signal shielding problem of the electronic product metal shell body is also solved.

以上、実施例を詳細に説明したが、当業者であれば、上記実施例は本開示に限定されず、各種の簡単な変形例は技術的思想および本開示の原理の範疇内において行われ、これらの全ての簡単な変形例は本開示の範疇であることは想到し得る。   As described above, the embodiments have been described in detail. However, those skilled in the art will not be limited to the present disclosure, and various simple modifications may be made within the scope of the technical idea and the principle of the present disclosure. It can be envisaged that all these simple variations are within the scope of the present disclosure.

また、上述した実施例において説明した技術的特徴は、矛盾することなく、適切な方法で組み合わせ、不要な繰り返しを回避するため、さまざまな可能な組み合わせの方法は本開示において説明しない。   In addition, the technical features described in the above-described embodiments are combined in an appropriate manner without contradiction, and various possible combinations are not described in this disclosure in order to avoid unnecessary repetition.

また、本開示のさまざまな各実施形態も本開示の思想および原理から逸脱することなく組み合わせることも可能であり、これも本開示の内容であると了解される。   Various embodiments of the present disclosure can also be combined without departing from the spirit and principle of the present disclosure, and it is understood that this is also the content of the present disclosure.

1………硬質陽極酸化層
2………インク層
3………金属層、アルミニウム層
4………ステップ
5………アンテナ溝
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ......... Hard anodic oxidation layer 2 ......... Ink layer 3 ......... Metal layer, aluminum layer 4 ......... Step 5 ......... Antenna groove

Claims (14)

アンテナ溝を有する電子製品金属シェルであって、
前記電子製品金属シェルは、金属層および硬質陽極酸化層を有し、
前記硬質陽極酸化層は、前記金属層の表面上で覆われ、
ステップは、前記電子製品金属シェルの第1の面上に形成され、
前記ステップは、前記電子製品金属シェルの厚さ方向において前記金属層の第1の面に覆われる前記硬質陽極酸化層、および、前記金属層の一部を貫通し、
前記アンテナ溝は前記ステップ内に配置され、前記厚さ方向において前記金属層の残存部分を貫通して前記金属層の第2の面上に覆われる前記硬質陽極酸化層の内側を露出させ、
非導電材が前記アンテナ溝内に充てんされることを特徴とする電子製品金属シェル。
An electronic product metal shell having an antenna groove,
The electronic product metal shell has a metal layer and a hard anodized layer,
The hard anodized layer is covered on the surface of the metal layer;
A step is formed on the first surface of the electronic product metal shell;
The step passes through the hard anodized layer covered with the first surface of the metal layer in the thickness direction of the electronic product metal shell, and a part of the metal layer;
The antenna groove is disposed in the step and exposes the inside of the hard anodized layer that is covered on the second surface of the metal layer through the remaining portion of the metal layer in the thickness direction,
An electronic product metal shell, wherein a non-conductive material is filled in the antenna groove.
前記ステップは、幅が1.0〜5.0cmおよび深さが0.1〜0.8mmの凹部を有することを特徴とする請求項1に記載の電子製品金属シェル。 The step has a width of 1 . 0-5.0 cm and depth 0 . The electronic product metal shell according to claim 1, further comprising a recess of 1 to 0.8 mm. 前記電子製品金属シェルの第1の面と向かい合う前記アンテナ溝の開口は上側開口として定義され、前記アンテナ溝は前記上側開口が前記アンテナ溝の下側開口より大きい台形の断面構造を有し、前記上側開口は幅が2〜5mmであり、前記下側開口の幅は0.8〜1.4mmであることを特徴とする請求項1または2に記載の電子製品金属シェル。 The opening of the antenna groove facing the first surface of the metal shell of the electronic product is defined as an upper opening, and the antenna groove has a trapezoidal cross-sectional structure in which the upper opening is larger than the lower opening of the antenna groove, The upper opening has a width of 2 to 5 mm, and the lower opening has a width of 0 . The electronic product metal shell according to claim 1, wherein the metal shell is 8 to 1.4 mm. 前記金属層の厚さは0.5〜1.5mmであり、前記硬質陽極酸化層の厚さは0.02〜0.06mmであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電子製品金属シェル。 The metal layer has a thickness of 0 . 5 to 1.5 mm, and the thickness of the hard anodized layer is 0 . The electronic product metal shell according to any one of claims 1 to 3, wherein the metal shell has a thickness of 02 to 0.06 mm. (1)金属層に硬質陽極化成処理およびインク吹き付け処理を順に施し、硬質陽極酸化層およびインク層をそれぞれ形成し、
(2)ステップ(1)の後に得られた製品の第1の面上にステップを形成し、前記ステップ内にアンテナ溝を形成し、前記ステップはステップ(1)の後に得られた記製品の厚さ方向において前記金属層の第1の面に覆われる前記硬質陽極酸化層、および、前記金属層の一部を貫通し、前記アンテナ溝は前記厚さ方向において前記金属層の残存部分を貫通して前記金属層の第2の面の上に覆われる前記硬質陽極酸化層の内側を露出させ、
(3)ステップ(2)の後に得られた製品の前記インク層を除去し、前記アンテナ溝内に非導電材を充てんするステップを有することを特徴とするアンテナ溝を有する電子製品金属シェルの製造方法。
(1) The metal layer is subjected to a hard anodizing treatment and an ink spraying treatment in order to form a hard anodized layer and an ink layer,
(2) Step (1) Step is formed on the first surface of the resulting product after the antenna groove formed in said step, said step is step (1) manufactured before Symbol obtained after The hard anodized layer covered by the first surface of the metal layer in the thickness direction of the product and a part of the metal layer, and the antenna groove is the remaining portion of the metal layer in the thickness direction. Exposing the inside of the hard anodized layer that passes through and is covered on the second surface of the metal layer;
(3) Step (2) the ink layer is removed in the resulting products after, electronic products metal shell having an antenna groove, characterized by the step of filling the non-conductive material to the antenna groove Production method.
ステップ(2)において、前記ステップの形成は、ステップ(1)の後に得られた前記製品の前記第1の面上にステップパターンを形成し、前記ステップパターンに対応する前記インク層および前記硬質陽極酸化層を除去し、前記金属層の厚さ方向において前記金属層の一部を除去して前記ステップを得ることを特徴とする請求項5に記載の方法。 In step (2), forming the step, the step pattern is formed on the first face of the front Symbol products obtained after step (1), the ink layer corresponding to the step pattern and the The method according to claim 5, wherein the step is obtained by removing a hard anodized layer and removing a part of the metal layer in a thickness direction of the metal layer. 前記金属層の一部を除去した後、前記金属層の前記残存部分の厚さは前記金属層の全体厚さの20〜80%であることを特徴とする請求項6に記載の方法。 After removing a portion of the metal layer, The method of claim 6 in which the thickness of the remaining portions of said metallic layer is characterized by a 2 0 to 80% of the total thickness of the metal layer. 前記金属層の前記一部は、エッチングにより前記金属層の前記厚さ方向において除去され、前記エッチングは20〜30℃の温度で40〜50分、1Lにつき、三塩化鉄の含有量が800〜1000g、および、塩酸の含有量が35〜75gである、三塩化鉄および塩酸を有する水溶液を有するエッチング液で行われることを特徴とする請求項6に記載の方法。 The portion of the metal layer, the said metal layer by etching is removed in the thickness direction, the etching is 4 0-50 minutes at a temperature of 2 0 to 30 ° C., per 1L, the content of ferric chloride 8 00~1000G, and the content of hydrochloric acid is 3 5~75G, the method according to claim 6, characterized in that it is carried out with an etching solution having an aqueous solution having a ferric chloride and hydrochloric acid. ステップ(2)において、前記ステップ内の前記アンテナ溝の形成は、前記ステップ上にインクを吹き付け、前記ステップ内にアンテナ溝スリットを形成して前記アンテナ溝スリットに対応する前記インクを除去し、前記アンテナ溝スリットに対応する前記金属層を除去して前記金属層の前記第2の面上に覆われる前記硬質陽極酸化層の前記内側を露出させることを特徴とする請求項5乃至8のいずれかに記載の方法。   In step (2), the formation of the antenna groove in the step is performed by spraying ink on the step, forming an antenna groove slit in the step to remove the ink corresponding to the antenna groove slit, The metal layer corresponding to an antenna groove slit is removed to expose the inner side of the hard anodized layer covered on the second surface of the metal layer. The method described in 1. インクの吹き付けは、UVインクを吹き付けて厚さ30〜60μmのインク層を形成し、110〜120℃で20〜30分焼き、1〜2分、紫外線に露光することを特徴とする請求項9に記載の方法。 Spraying of ink by blowing UV ink to form an ink layer having a thickness of 3 0~60μm, 2 0~30 minutes baked at 1 10 to 120 ° C., 1 to 2 minutes, and wherein the exposure to ultraviolet The method of claim 9. 形成された前記アンテナ溝スリットは、幅が0.02〜0.1mmであることを特徴とする請求項9に記載の方法。 The formed antenna groove slit has a width of 0 . The method according to claim 9, wherein the method is 02 to 0.1 mm. 前記アンテナ溝スリットに対応する前記金属層はエッチングにより除去され、前記エッチングは20〜30℃の温度で40〜50分、1Lにつき、三塩化鉄の含有量が800〜1000g、および、塩酸の含有量が35〜75gである、三塩化鉄および塩酸を有する水溶液を有するエッチング液で行われることを特徴とする請求項9に記載の方法。 The metal layer corresponding to the antenna groove slit is removed by etching, the etching is performed at a temperature of 20-30 ° C. for 40-50 minutes, and the content of iron trichloride is 800-1000 g per liter, and the content of hydrochloric acid is 3 5~75g, the method according to claim 9, characterized in that it is carried out with an etching solution having an aqueous solution having a ferric chloride and hydrochloric acid. ステップ(1)において、前記硬質陽極化成処理は、前記金属層にアルカリ性エッチング処理、スマット除去処理、酸化処理および封止処理を順に施し、前記アルカリ性エッチング処理、前記スマット除去処理、前記酸化処理および前記封止処理それぞれの後に洗浄することを特徴とする請求項5乃至12のいずれかに記載の方法。   In step (1), the hard anodizing treatment is performed by sequentially performing an alkaline etching treatment, a smut removal treatment, an oxidation treatment and a sealing treatment on the metal layer, and the alkaline etching treatment, the smut removal treatment, the oxidation treatment, and the The method according to claim 5, wherein cleaning is performed after each sealing treatment. ステップ(1)において、前記インク吹き付け処理は、UVインクを吹き付けて厚さ40〜60μmのインク層を形成し、110〜120℃で20〜30分焼き、1〜2分、紫外線に露光することを特徴とする請求項5乃至13のいずれかに記載の方法。 In step (1), said ink spraying process, by spraying UV ink to form an ink layer having a thickness of 4 0~60μm, 2 0~30 minutes baked at 1 10 to 120 ° C., 1 to 2 minutes, UV The method according to claim 5, wherein exposure is performed.
JP2017534547A 2014-12-26 2015-10-23 Electronic product metal shell with antenna groove, and electronic product metal shell manufacturing method Active JP6438586B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410837112.2 2014-12-26
CN201410837112.2A CN105530791B (en) 2014-12-26 2014-12-26 A kind of electronic product metal shell being formed with antenna slot and preparation method thereof
PCT/CN2015/092723 WO2016101693A1 (en) 2014-12-26 2015-10-23 Electronic product metal housing formed with antenna groove and manufacturing method therefor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018504037A JP2018504037A (en) 2018-02-08
JP6438586B2 true JP6438586B2 (en) 2018-12-19

Family

ID=55772675

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017534547A Active JP6438586B2 (en) 2014-12-26 2015-10-23 Electronic product metal shell with antenna groove, and electronic product metal shell manufacturing method

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10194547B2 (en)
EP (1) EP3240377B1 (en)
JP (1) JP6438586B2 (en)
KR (1) KR102032344B1 (en)
CN (1) CN105530791B (en)
WO (1) WO2016101693A1 (en)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105530785B (en) * 2014-12-26 2016-11-23 比亚迪股份有限公司 A kind of electronic product metal shell being formed with antenna slot and preparation method thereof
CN105979740A (en) * 2016-06-20 2016-09-28 东莞劲胜精密组件股份有限公司 3C electronic product shell and preparation method thereof
CN105960131A (en) * 2016-06-23 2016-09-21 东莞劲胜精密组件股份有限公司 3C electronic product shell and preparation method thereof
CN105979741A (en) * 2016-06-30 2016-09-28 东莞劲胜精密组件股份有限公司 A kind of 3C electronic product casing and preparation method thereof
CN107872936B (en) 2016-09-28 2020-10-23 华为机器有限公司 Metal shell of mobile device, preparation method of metal shell and mobile device
WO2018076389A1 (en) * 2016-10-31 2018-05-03 华为技术有限公司 Metal shell of mobile terminal and manufacturing method therefor, and mobile terminal
KR101808605B1 (en) * 2016-12-22 2018-01-18 김재범 Non-conductive frame coated with conductive layer transmitting the electormagnetic wave or having the function of heat radiation
CN108265322B (en) * 2016-12-30 2019-10-08 比亚迪股份有限公司 Al-alloy casing and preparation method thereof and personal electronic equipments
CN108265321B (en) * 2016-12-30 2019-11-08 比亚迪股份有限公司 Aluminum alloy casing, method of making the same, and personal electronic device
CN108265323B (en) * 2016-12-30 2019-11-05 比亚迪股份有限公司 Al-alloy casing and preparation method thereof and personal electronic equipments
KR102269525B1 (en) 2017-03-13 2021-06-28 삼성전자주식회사 electronic device of slim type and manufacturing method thereof
CN107087362A (en) * 2017-05-09 2017-08-22 广东欧珀移动通信有限公司 Metal casing processing technology, metal casing and electronic device
CN107087361A (en) * 2017-05-09 2017-08-22 广东欧珀移动通信有限公司 Metal casing processing technology, metal casing and electronic device
CN107148188B (en) * 2017-06-16 2020-08-07 Oppo广东移动通信有限公司 Preparation method of casing assembly, casing assembly and mobile terminal
CN107517551A (en) 2017-07-21 2017-12-26 广东欧珀移动通信有限公司 Manufacturing method of back cover, back cover and electronic device
CN107653476B (en) * 2017-10-26 2018-09-25 珠海市魅族科技有限公司 The processing method and shell of shell
WO2019108958A1 (en) * 2017-12-01 2019-06-06 Avery Dennison Retail Information Services, Llc Flexible fabric tags using apertures in a substrate
CN109040352B (en) * 2018-06-12 2020-06-23 Oppo广东移动通信有限公司 Antenna position adjustment method, device, mobile terminal and storage medium
CN111129707B (en) * 2018-10-30 2021-11-23 北京小米移动软件有限公司 Mobile terminal, antenna assembly of mobile terminal and manufacturing method thereof
CN111587005A (en) * 2019-02-15 2020-08-25 致伸科技股份有限公司 Housing structure and manufacturing method thereof
CN110519950A (en) * 2019-08-30 2019-11-29 Oppo广东移动通信有限公司 Sheet metal and method of making, housing and electronic device
CN110650605A (en) * 2019-09-18 2020-01-03 Oppo广东移动通信有限公司 Shell assembly, preparation method thereof and electronic equipment
CN113497834B (en) * 2020-03-20 2025-03-04 Oppo广东移动通信有限公司 Metal housing assembly, manufacturing method thereof and electronic device
CN112911916A (en) * 2021-01-18 2021-06-04 中铝材料应用研究院有限公司 Aluminum alloy composite board with low electromagnetic shielding effectiveness
CN113106517A (en) * 2021-04-09 2021-07-13 维沃移动通信(重庆)有限公司 Preparation method of decorative ring, decorative ring and electronic equipment
TWI884002B (en) * 2024-06-18 2025-05-11 英業達股份有限公司 Slot antenna device

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1490431A (en) * 2002-10-16 2004-04-21 纬创资通股份有限公司 Method for forming surface pattern of article metal shell
JP4498292B2 (en) * 2006-03-07 2010-07-07 株式会社東芝 Semiconductor module and method for manufacturing semiconductor module
EP2165385A4 (en) 2007-04-10 2013-01-23 Nokia Corp ANTENNA DEVICE AND ANTENNA HOUSING
US20100255274A1 (en) * 2007-05-24 2010-10-07 Uri Mirsky Deep anodization
CN101466214B (en) * 2007-12-20 2012-01-25 神基科技股份有限公司 Housing structure of electronic device
KR20110040094A (en) * 2009-10-13 2011-04-20 삼성전자주식회사 Metal foil laminated film and its manufacturing method
US8269685B2 (en) * 2010-05-07 2012-09-18 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. Tapered slot antenna
CN102958311A (en) * 2011-08-25 2013-03-06 深圳富泰宏精密工业有限公司 Decorative shell and manufacturing method thereof
CN103297565B (en) * 2012-02-24 2015-07-22 比亚迪股份有限公司 Mobile phone shell and preparation method thereof
TWI557987B (en) * 2012-09-17 2016-11-11 宏碁股份有限公司 Mobile device
US9484621B2 (en) * 2012-11-02 2016-11-01 Nokia Technologies Oy Portable electronic device body having laser perforation apertures and associated fabrication method
CN103813670A (en) * 2012-11-13 2014-05-21 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Metal casing and pattern fabrication method
KR102044505B1 (en) * 2013-02-08 2019-11-13 삼성전자주식회사 Housing, manufacturing method thereof and electronic device using same
CN106879206B (en) * 2013-03-21 2020-07-17 宏达国际电子股份有限公司 Electronic device case
KR101399835B1 (en) 2013-07-09 2014-05-27 박상인 Method of manufacturing case for mobile device and case for mobile device manufactured by the same method
KR101659138B1 (en) * 2013-08-14 2016-09-22 삼성전기주식회사 Cover for electronic device, antenna assembly, electronic device and method for manufacturing the same
GB2521813A (en) * 2013-11-15 2015-07-08 Cambridge Nanotherm Ltd Flexible electronic substrate
DE112014003587B4 (en) * 2013-12-06 2024-05-29 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Aluminum substrate with an aluminum oxide coating, metal-resin composite material comprising an aluminum substrate with an aluminum oxide coating and method for producing the metal-resin composite material
CN105226371B (en) * 2014-05-26 2019-02-26 比亚迪股份有限公司 Antenna system for electronic equipment and electronic equipment with the same
CN104540342B (en) * 2014-10-23 2018-12-21 深圳富泰宏精密工业有限公司 Shell, using electronic device of the shell and preparation method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018504037A (en) 2018-02-08
EP3240377B1 (en) 2019-07-24
US20170288720A1 (en) 2017-10-05
US10194547B2 (en) 2019-01-29
CN105530791A (en) 2016-04-27
EP3240377A4 (en) 2018-07-25
CN105530791B (en) 2016-10-12
KR20170082601A (en) 2017-07-14
WO2016101693A1 (en) 2016-06-30
KR102032344B1 (en) 2019-11-08
EP3240377A1 (en) 2017-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6438586B2 (en) Electronic product metal shell with antenna groove, and electronic product metal shell manufacturing method
JP6375065B2 (en) Electronic product metal shell with antenna groove, and electronic product metal shell manufacturing method
CN105530783B (en) A kind of communication apparatus metal shell and preparation method thereof
CN105522280B (en) A kind of preparation method of metal case of communication equipment
CN105018992A (en) Method for making a logo and electronic device using the logo
TWI655085B (en) Aluminum alloy casing, preparation method thereof and personal electronic device
CN106358409B (en) A kind of communication equipment metal shell and preparation method thereof
CN105283013A (en) Surface treatment method of terminal housing
TWI608782B (en) Communication device metal housing, manufacturing method and application thereof
CN205657722U (en) Mobile phone cover plate with space pattern
CN105637120A (en) Method of treating metal surfaces
CN105530787A (en) Metal shell of communication equipment and preparation method thereof
WO2017016154A1 (en) Metal shell for communication equipment and manufacturing method therefor
CN105862037B (en) Stainless steel plate, preparation method and electronic equipment
CN106358408B (en) A kind of communication equipment metal shell and preparation method thereof
CN106132137A (en) Processing method of clearance area of housing, housing and mobile terminal
CN105530784A (en) Metal case for communication equipment
WO2016101873A1 (en) Communication device metal housing
CN103409784A (en) Manufacturing method for anode film of part of integrated circuit manufacturing equipment
TW201345344A (en) Manufacturing method of circuit pattern
CN101358347A (en) Surface treatment method for electronic device shell

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170626

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170626

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180807

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181023

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181106

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181116

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6438586

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250