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JP6447314B2 - Inkjet head manufacturing method - Google Patents
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Description

本発明は、インクジェットヘッドの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an inkjet head.

従来、チャネル内のインクを吐出させることによって各種画像の記録を行うインクジェット記録装置のインクジェットヘッドが知られている。インクジェットヘッドとして、親水化された部分を有するものが知られている。   Conventionally, an inkjet head of an inkjet recording apparatus that records various images by ejecting ink in a channel is known. An inkjet head having a hydrophilic portion is known.

例えば、2種のインクを交換して吐出可能な吐出部を備えたインクジェットヘッドにおいて、吐出する各インク又は2種の混合インクに対する適正に応じて、吐出口形成面を撥水面とするか非撥水面するかを選択するインクジェット記録装置が知られている(特許文献1参照)。   For example, in an ink jet head having an ejection part that can eject by exchanging two types of ink, the ejection port forming surface is made to be a water repellent surface or non-repellent depending on the appropriateness for each ink to be ejected or two mixed inks. An ink jet recording apparatus that selects whether to surface is known (see Patent Document 1).

また、ノズルプレート(ノズル基板)のインク吐出面表面が撥インク処理されたインク射出ノズルの吐出口周縁を親水化処理したインクジェットヘッドが知られている(特許文献2参照)。このインクジェットヘッドにより、クリーニングに起因する傷によるインク吐出方向の曲りを抑制している。   There is also known an ink jet head in which the periphery of the ejection port of an ink ejection nozzle in which the surface of the ink ejection surface of a nozzle plate (nozzle substrate) has been subjected to ink repellent treatment has been hydrophilized (see Patent Document 2). This ink jet head suppresses bending in the ink ejection direction due to scratches caused by cleaning.

また、ノズルプレート(ノズル基板)のノズル吐出面のみにエネルギーを付与し撥水膜を選択的に形成し、撥水膜形成工程後の第2のエネルギーを付与しながら、ノズル吐出面以外(ノズル内壁面)に親水膜を形成する親水膜形成工程を含むノズルプレートの製造方法が知られている(特許文献3参照)。   Also, energy is applied only to the nozzle discharge surface of the nozzle plate (nozzle substrate) to selectively form a water repellent film, and the second energy after the water repellent film forming step is applied while other than the nozzle discharge surface (nozzle A manufacturing method of a nozzle plate including a hydrophilic film forming step of forming a hydrophilic film on an inner wall surface is known (see Patent Document 3).

特開2006−240164号公報JP 2006-240164 A 特開2001−121709号公報JP 2001-121709 A 特開2011−68095号公報JP 2011-68095 A

しかしながら、例えばノズル基板に形成されるノズルを保護するため、ノズル基板の周囲を取り囲むように天板を設ける場合、特許文献1〜3に記載のノズル基板を用いて製造したインクジェットヘッドは、製造工程においてノズル基板の撥水化されていない部分への流動使用する保護層の一部の残りによる不良が発生するおそれがあった。   However, for example, when a top plate is provided so as to surround the periphery of the nozzle substrate in order to protect the nozzle formed on the nozzle substrate, the inkjet head manufactured using the nozzle substrate described in Patent Documents 1 to 3 is a manufacturing process. In this case, there is a possibility that a defect may occur due to the remaining part of the protective layer used to flow to the portion of the nozzle substrate that is not water-repellent.

また、インクをノズルから連続吐出する際に特に高い周波数でインクを連続吐出すると、発生するミストの量は吐出周波数に応じて増えるため、ノズル吐出面にミストが付着することにより吐出特性が不安定化することがわかった。発明者が鋭意検討した結果、ノズル吐出面に付着するミストが大きく成長して形成された大きな液だまりがノズル穴に流れ込むと、インク吐出面からノズル穴に戻るインク量も不安定となり、ノズル吐出面の状態を変化させて著しい吐出不安定化を招くことがわかった。   Also, when ink is continuously ejected from the nozzle, if the ink is ejected continuously at a particularly high frequency, the amount of mist generated increases with the ejection frequency, so the ejection characteristics become unstable due to mist adhering to the nozzle ejection surface. I found out that As a result of intensive studies by the inventor, when a large liquid pool formed by large growth of mist adhering to the nozzle discharge surface flows into the nozzle hole, the amount of ink returning from the ink discharge surface to the nozzle hole becomes unstable, and the nozzle discharge It was found that the surface condition was changed, leading to significant discharge instability.

本発明の課題は、製造工程における保護層の一部の残りによる不良を防ぐとともに、インクの連続吐出中も安定化した吐出特性を得ることである。   An object of the present invention is to prevent a defect due to a remaining part of a protective layer in a manufacturing process and to obtain a stable ejection characteristic even during continuous ejection of ink.

上記課題を解決するため、請求項1に記載の発明は、
撥インク処理されたノズル基板に保護層を付与する保護層付与工程と、
前記保護層が付与されたノズル基板にノズルを形成するノズル形成工程と、
前記ノズルが形成されたノズル基板から保護層を剥がす保護層剥離工程と、
を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記保護層剥離工程の後、前記ノズル基板の前記ノズルからインクが吐出される側の面の全面を親インク処理する親インク工程を有することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention described in claim 1
A protective layer applying step for applying a protective layer to the ink-repellent nozzle substrate;
A nozzle forming step of forming a nozzle on the nozzle substrate provided with the protective layer;
A protective layer peeling step of peeling the protective layer from the nozzle substrate on which the nozzle is formed;
A method of manufacturing an inkjet head having
After the protective layer peeling step, there is a parent ink step in which the entire surface of the nozzle substrate on the side where ink is ejected is subjected to a parent ink treatment.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記ノズル基板を取り囲み、前記ノズルからインクが吐出される側の面が撥インク処理された天板を前記ノズル基板に取り付ける組み立て工程を有することを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the method of manufacturing an ink jet head according to claim 1,
The method includes an assembly step of attaching to the nozzle substrate a top plate that surrounds the nozzle substrate and has a surface on which ink is ejected from the nozzle.

請求項3に記載の発明は、請求項2に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記ノズル基板の撥インク処理された部分に前記保護層が付与された状態で前記組み立て工程を行うことを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the method for manufacturing an ink jet head according to the second aspect,
The assembling step is performed in a state where the protective layer is applied to the ink-repellent treated portion of the nozzle substrate.

請求項4に記載の発明は、請求項2又は3に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記親インク工程において、前記ノズル基板とともに、前記天板のうち、前記ノズルからインクが吐出される側の面の少なくとも一部を親インク処理することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the method of manufacturing an ink jet head according to the second or third aspect,
In the parent ink process, at least a part of a surface of the top plate on which ink is ejected from the nozzle is subjected to a parent ink treatment together with the nozzle substrate.

請求項5に記載の発明は、請求項2から4のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記天板の一部は、
前記天板の前記ノズルからインクを吐出させる方向側に位置する面のうち、前記ノズル基板に隣接する領域であることを特徴とする。
Invention of Claim 5 is a manufacturing method of the inkjet head as described in any one of Claim 2 to 4,
A part of the top plate is
It is an area adjacent to the nozzle substrate in a surface located on the side of the top plate in the direction of ejecting ink from the nozzles.

請求項6に記載の発明は、請求項2から5のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記親インク工程において、前記天板のインクの後退接触角が最前面の外周から前記ノズル基板を中に位置する開口部の側壁にかけて変化するように親インク処理の度合いを変化させる。
The invention according to claim 6 is the method of manufacturing an ink-jet head according to any one of claims 2 to 5,
In the parent ink step, the degree of parent ink processing is changed such that the receding contact angle of the ink on the top plate changes from the outermost front surface to the side wall of the opening located inside the nozzle substrate.

請求項7に記載の発明は、請求項2から6のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記天板は、リセス構造部を有し、
前記ノズル基板は、前記天板の最前面よりも低い位置に配置されていることを特徴とする。
The invention according to claim 7 is the method of manufacturing an inkjet head according to any one of claims 2 to 6,
The top plate has a recess structure,
The nozzle substrate is arranged at a position lower than the forefront surface of the top plate.

請求項8に記載の発明は、請求項7に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記リセス構造部は、最前面の外周から前記ノズル基板を中に位置する開口部の側壁にかけてなだらかに連続するテーパー部であることを特徴とする。
請求項9に記載の発明は、請求項2から8のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記親インク工程において、前記天板の少なくとも一部を保護材で保護した状態で、少なくとも前記ノズル基板の前記ノズルからインクが吐出される側の面を親インク処理する。
請求項10に記載の発明は、請求項1から9のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記親インク工程において、前記インクジェットヘッドの本体部を保護材で取り囲み保護する。
The invention according to claim 8 is the method of manufacturing an ink jet head according to claim 7,
The recess structure portion may be a tapered portion that is gently continuous from the outer periphery of the forefront surface to the side wall of the opening portion in which the nozzle substrate is located.
Invention of Claim 9 is the manufacturing method of the inkjet head as described in any one of Claim 2-8,
In the parent ink step, at least part of the top plate is protected by a protective material, and at least a surface of the nozzle substrate on the side where ink is ejected is subjected to parent ink treatment.
Invention of Claim 10 is the manufacturing method of the inkjet head as described in any one of Claim 1 to 9,
In the parent ink process, the main body of the inkjet head is surrounded and protected by a protective material.

請求項11に記載の発明は、請求項1から10のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記ノズル基板は、撥インク層を有し、
前記撥インク層は、バインダー成分を有する下層のバインダー層と、撥インク成分を有する上層の撥インク成分層と、を有し、前記上層及び前記下層間で撥インク成分とバインダー成分との濃度が連続的に変化している。
Invention of Claim 11 in the manufacturing method of the inkjet head as described in any one of Claim 1 to 10 WHEREIN:
The nozzle substrate has an ink repellent layer,
The ink repellent layer has a lower binder layer having a binder component and an upper ink repellent component layer having an ink repellent component, and the concentration of the ink repellent component and the binder component is between the upper layer and the lower layer. It is changing continuously.

請求項12に記載の発明は、請求項1から11のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記保護層は、保護フィルムであることを特徴とする。
The invention of claim 12 is the manufacturing method of the ink-jet head according to any one of claims 1 to 11,
The protective layer is a protective film.

請求項13に記載の発明は、請求項1から12のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記親インク処理は、真空プラズマ処理であることを特徴とする。
The invention of claim 13 is the manufacturing method of the ink-jet head according to any one of claims 1 to 12,
The parent ink process is a vacuum plasma process.

請求項14に記載の発明は、請求項13に記載のインクジェットヘッドの製造方法において、
前記真空プラズマ処理は、ドライエッチングであることを特徴とする。
The invention according to claim 14 is the method of manufacturing an ink jet head according to claim 13 ,
The vacuum plasma treatment is dry etching.

本発明によれば、製造工程における保護層の一部の残りによる不良を防ぐことができるとともに、連続吐出中も安定化した吐出特性を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to prevent a defect due to the remaining part of the protective layer in the manufacturing process and to obtain a stable discharge characteristic even during continuous discharge.

本発明の実施の形態のインクジェット記録装置を示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram illustrating an ink jet recording apparatus according to an embodiment of the present invention. インクジェットヘッドの概略斜視図である。It is a schematic perspective view of an inkjet head. 図2の切断面で切断したときのアクチュエーターの断面図である。It is sectional drawing of an actuator when cut | disconnecting by the cut surface of FIG. 実施例1のインクジェットヘッドの断面図である。1 is a cross-sectional view of an ink jet head of Example 1. FIG. 実施例1における製造方法の製造フローを示した図である。FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing flow of a manufacturing method in Example 1. 実施例2のインクジェットヘッドの断面図である。6 is a cross-sectional view of an ink jet head of Example 2. FIG. 実施例3のインクジェットヘッドの断面図である。6 is a cross-sectional view of an ink jet head of Example 3. FIG. 実施例4のインクジェットヘッドの断面図である。6 is a cross-sectional view of an inkjet head of Example 4. FIG. 実施例5のインクジェットヘッドの断面図である。6 is a cross-sectional view of an inkjet head of Example 5. FIG. 実施例6のインクジェットヘッドの断面図である。6 is a cross-sectional view of an inkjet head of Example 6. FIG. (a)〜(d)は、実施例7のインクジェットヘッドの親インク処理の各工程の断面図である。(A)-(d) is sectional drawing of each process of the parent ink process of the inkjet head of Example 7. FIG. 実施例8のインクジェットヘッドの断面図である。10 is a cross-sectional view of an ink jet head of Example 8. FIG. 実施例9のインクジェットヘッドの断面図である。10 is a cross-sectional view of an inkjet head of Example 9. FIG. 比較例3のインクジェットヘッドの断面図である。6 is a cross-sectional view of an inkjet head of Comparative Example 3. FIG. 2層構造の撥インク層を有するノズル基板の断面図である。It is sectional drawing of the nozzle substrate which has a 2 layer structure ink repellent layer.

添付図面を参照して本発明に係る実施の形態を詳細に説明する。なお、本発明は、図示例に限定されるものではない。なお、以下の説明において、同一の機能及び構成を有するものについては、同一の符号を付し、その説明を省略する。   Embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the illustrated example. In addition, in the following description, what has the same function and structure attaches | subjects the same code | symbol, and abbreviate | omits the description.

図1〜図3を参照して、本実施の形態の装置構成を説明する。先ず、図1を参照して、本実施の形態のインクジェット記録装置1000の概略構成について説明する。図1は、インクジェット記録装置1000を示す概略構成図である。なお、インクジェット記録装置について一例として、以下においてラインヘッドを用いる例を説明しているがこれに限定されない。例えば、記録媒体の搬送方向に対して直交する方向にインクジェットヘッドを走査することによって画像を形成するスキャン方式のインクジェット記録装置に適用することも可能である。また、Y(イエロー)、M(マゼンタ)、C(シアン)、K(ブラック)の各色を設ける例を記載したが、これに限定されず単色でも適用することができる。例えばK(ブラック)のみを使用する構成であってもよい。   The apparatus configuration of the present embodiment will be described with reference to FIGS. First, a schematic configuration of the ink jet recording apparatus 1000 of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an ink jet recording apparatus 1000. In addition, although the example which uses a line head is demonstrated below as an example about an inkjet recording device, it is not limited to this. For example, the present invention can also be applied to a scan-type inkjet recording apparatus that forms an image by scanning an inkjet head in a direction orthogonal to the conveyance direction of the recording medium. Moreover, although the example which provides each color of Y (yellow), M (magenta), C (cyan), and K (black) was described, it is not limited to this, A single color is applicable. For example, a configuration using only K (black) may be used.

インクジェット記録装置1000は、搬送部200と、画像形成部300と、インク供給部400と、制御部500と、を備えている。インクジェット記録装置1000では、制御部500の制御に基づいて、搬送部200により搬送される記録媒体Pに対して、インク供給部400から供給されたインクにより画像形成部300で画像を形成する。   The ink jet recording apparatus 1000 includes a transport unit 200, an image forming unit 300, an ink supply unit 400, and a control unit 500. In the inkjet recording apparatus 1000, the image forming unit 300 forms an image with the ink supplied from the ink supply unit 400 on the recording medium P transported by the transport unit 200 based on the control of the control unit 500.

搬送部200は、画像形成が行われる記録媒体Pを保持し、画像形成部300に供給する。搬送部200は、巻き出しロール210、ローラー220,230及び巻き取りロール240等を有する。ロール状に巻かれた長尺状の記録媒体Pは、巻き出しロール210から繰り出され、ローラー220,230に支持されながら搬送され、巻き取りロール240に巻き取られる。   The transport unit 200 holds the recording medium P on which image formation is performed and supplies the recording medium P to the image forming unit 300. The conveyance unit 200 includes an unwinding roll 210, rollers 220 and 230, a winding roll 240, and the like. The long recording medium P wound in a roll shape is unwound from the unwinding roll 210, conveyed while being supported by the rollers 220 and 230, and taken up by the winding roll 240.

画像形成部300は、記録媒体P上にインクを吐出して画像を形成する。画像形成部300は、複数のラインヘッド310、複数のラインヘッド310を保持するキャリッジ330等を有している。また、インクとしてエネルギー線で硬化するインクを使用する場合、さらに照射部320を備えることが好ましい。   The image forming unit 300 discharges ink onto the recording medium P to form an image. The image forming unit 300 includes a plurality of line heads 310, a carriage 330 that holds the plurality of line heads 310, and the like. Moreover, when using the ink hardened | cured with an energy ray as an ink, it is preferable to provide the irradiation part 320 further.

ラインヘッド310は、搬送部200に搬送される記録媒体Pに対してインクを吐出し、画像を形成する。ラインヘッド310は、Y(イエロー)、M(マゼンタ)、C(シアン)、K(ブラック)の各色について個別に設けられている。図1では、搬送部200による記録媒体Pの搬送方向に対して上流からY、M、C、Kの各色に対応したラインヘッド310が順番に設けられている。   The line head 310 ejects ink onto the recording medium P conveyed to the conveyance unit 200 to form an image. The line head 310 is individually provided for each color of Y (yellow), M (magenta), C (cyan), and K (black). In FIG. 1, line heads 310 corresponding to the colors Y, M, C, and K are provided in order from the upstream in the conveyance direction of the recording medium P by the conveyance unit 200.

本実施の形態のラインヘッド310は、キャリッジ330に、記録媒体Pの搬送方向に略垂直な方向(幅方向)について記録媒体Pの全体をカバーする長さ(幅)で設けられている。すなわち、インクジェット記録装置1000は、ワンパス方式のラインヘッド型インクジェット記録装置である。ラインヘッド310は、複数のインクジェットヘッド100(図2参照)が配列されて構成されている。また、図示の通り、キャリッジ330にはキャリッジヒーター330aを設け、インクを加熱するようにしても良い。   The line head 310 of the present embodiment is provided on the carriage 330 with a length (width) that covers the entire recording medium P in a direction (width direction) substantially perpendicular to the conveyance direction of the recording medium P. That is, the ink jet recording apparatus 1000 is a one-pass line head type ink jet recording apparatus. The line head 310 is configured by arranging a plurality of inkjet heads 100 (see FIG. 2). Further, as shown, the carriage 330 may be provided with a carriage heater 330a to heat the ink.

照射部320は、インクジェット記録装置1000で用いられるインクが記録媒体P上に吐出された後に当該インクを硬化させるためのエネルギー線を照射する。照射部320は、例えば、低圧水銀ランプ等の蛍光管を有し、当該蛍光管を発光させて紫外線等のエネルギー線を照射する。照射部320は、ラインヘッド310よりも記録媒体Pの搬送方向下流側に設けられている。照射部320は、画像形成後の記録媒体Pに対してエネルギー線を照射することで、記録媒体P上に吐出されたインクを硬化させる。   The irradiation unit 320 irradiates energy rays for curing the ink used in the inkjet recording apparatus 1000 after the ink is ejected onto the recording medium P. The irradiation unit 320 includes, for example, a fluorescent tube such as a low-pressure mercury lamp, and emits energy rays such as ultraviolet rays by causing the fluorescent tube to emit light. The irradiation unit 320 is provided downstream of the line head 310 in the conveyance direction of the recording medium P. The irradiation unit 320 cures the ink ejected on the recording medium P by irradiating the recording medium P after image formation with energy rays.

紫外線を発する蛍光管としては、低圧水銀ランプの他、数百Pa〜1MPa程度の動作圧力を有する水銀ランプ、殺菌灯として利用可能な光源、冷陰極管、紫外線レーザー光源、メタルハライドランプ、発光ダイオード等が挙げられる。これらの中で、紫外線をより高照度で照射可能であって消費電力の少ない光源(例えば、発光ダイオード等)がより望ましい。また、エネルギー線は紫外線に限らず、インクの性質に応じてインクを硬化させる性質を有するエネルギー線であれば良く、光源もエネルギー線の波長などに応じて置換される。   As a fluorescent tube emitting ultraviolet rays, in addition to a low-pressure mercury lamp, a mercury lamp having an operating pressure of about several hundred Pa to 1 MPa, a light source usable as a germicidal lamp, a cold cathode tube, an ultraviolet laser light source, a metal halide lamp, a light emitting diode, etc. Is mentioned. Among these, a light source (for example, a light emitting diode) that can irradiate ultraviolet rays with higher illuminance and consumes less power is more desirable. The energy rays are not limited to ultraviolet rays, but may be any energy rays having a property of curing the ink according to the properties of the ink, and the light source is replaced according to the wavelength of the energy rays.

インク供給部400は、インクタンク410、ポンプ420、インクチューブ430、サブタンク440、インクチューブ450、ヒーター460等を有している。インク供給部400は、インクを貯留して、当該インクを画像形成部300のラインヘッド310に供給し、各色のインクをラインヘッド310の各ノズルから吐出可能とする。インクタンク410内のインクは、ポンプ420により、インクチューブ430を介してインクジェットヘッド100のインクの背圧を調整するサブタンク440に送られる。サブタンク440には、フロートセンサー440aが設けられ、フロートセンサー440aによる液面位置の検出データに基づいて制御部500がポンプ420を動作させることにより所定量のインクが貯留されるようになっている。サブタンク440内のインクは、インクチューブ450を介してインクジェットヘッド100に供給される。なお、本例では、インクタンク410、ポンプ420、インクチューブ430、サブタンク440、インクチューブ450、ヒーター460を備える構成を例示したが、これに限定されず、インクジェットヘッド100にインクが供給される構成であれば種々の構成を適用することができる。   The ink supply unit 400 includes an ink tank 410, a pump 420, an ink tube 430, a sub tank 440, an ink tube 450, a heater 460, and the like. The ink supply unit 400 stores ink, supplies the ink to the line head 310 of the image forming unit 300, and enables ink of each color to be ejected from each nozzle of the line head 310. The ink in the ink tank 410 is sent by the pump 420 to the sub tank 440 that adjusts the back pressure of the ink in the inkjet head 100 via the ink tube 430. The sub tank 440 is provided with a float sensor 440a, and a predetermined amount of ink is stored when the control unit 500 operates the pump 420 based on the liquid level position detection data by the float sensor 440a. The ink in the sub tank 440 is supplied to the inkjet head 100 through the ink tube 450. In this example, the configuration including the ink tank 410, the pump 420, the ink tube 430, the sub tank 440, the ink tube 450, and the heater 460 is illustrated, but the configuration is not limited thereto, and the configuration in which ink is supplied to the inkjet head 100. If so, various configurations can be applied.

また、図1に示す例では、ヒーター460は、インク供給部400の全てを覆うように設けられているが、インク供給部400を構成する部材のうちいずれかに個別に設けられているものとしても良い。これにより、インク供給部400内のインクが加熱及び保温されて、インクの温度が所定温度以上に保たれるように構成されている。ヒーター460としては、例えば、電熱線や伝熱部材によって構成され、インク供給部400を構成する各部材を覆ったり、インク供給部400を構成する部材の外面に貼り付けられたりして設けられている。   In the example shown in FIG. 1, the heater 460 is provided so as to cover all of the ink supply unit 400, but it is assumed that the heater 460 is provided individually on any of the members constituting the ink supply unit 400. Also good. Thus, the ink in the ink supply unit 400 is heated and kept warm, and the temperature of the ink is kept at a predetermined temperature or higher. The heater 460 is constituted by, for example, a heating wire or a heat transfer member, and is provided by covering each member constituting the ink supply unit 400 or being attached to the outer surface of the member constituting the ink supply unit 400. Yes.

本実施形態のインクジェット記録装置1000に用いられるインクは、特に限られないが、例えば、後述する実施例1〜9の評価のように、粒子を含みミストが舞いやすいインクを用いる場合に効果が高い。   The ink used in the ink jet recording apparatus 1000 of the present embodiment is not particularly limited. For example, as in the evaluation of Examples 1 to 9 described later, the effect is high when using ink that contains particles and is likely to mist. .

制御部500は、インクジェット記録装置1000の各部の動作を制御し、全体の動作を統括する。制御部500は、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only
Memory)、RAM(Random Access Memory)等を備える。制御部500では、ROMに
記憶されているシステムプログラム等の各種処理プログラムが読み出されてRAMに展開され、RAMに展開されたプログラムがCPUによって実行されることにより、例えば、画像形成処理や上記したインク供給処理等の種々の制御処理が実行される。
The control unit 500 controls the operation of each unit of the inkjet recording apparatus 1000 and controls the entire operation. The control unit 500 includes a CPU (Central Processing Unit) and a ROM (Read Only).
Memory), RAM (Random Access Memory), and the like. In the control unit 500, various processing programs such as a system program stored in the ROM are read out and expanded in the RAM, and the program expanded in the RAM is executed by the CPU. Various control processes such as the ink supply process are executed.

図2は、インクジェットヘッド100の概略斜視図である。インクジェットヘッド100は、アクチュエーター1と、筐体2と、天板3と、接着剤層4、5と、を備える。   FIG. 2 is a schematic perspective view of the inkjet head 100. The ink jet head 100 includes an actuator 1, a housing 2, a top plate 3, and adhesive layers 4 and 5.

アクチュエーター1の前面(インクの吐出側面(前面1a))には、インクを吐出するための多数のノズル11aを配列したノズル基板11が接着されている。   A nozzle substrate 11 on which a large number of nozzles 11 a for discharging ink are arranged is bonded to the front surface of the actuator 1 (ink discharge side surface (front surface 1 a)).

ノズル基板11としては、PET等のポリアルキレンテレフタレート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート等のプラスチックスを用いることができる。なお、ノズル基板にはインクを吐出する際に発生するミストが付着する。   As the nozzle substrate 11, plastics such as polyalkylene terephthalate such as PET, polyimide, polyetherimide, polyetherketone, polyethersulfone, and polycarbonate can be used. Mist generated when ink is ejected adheres to the nozzle substrate.

図3は、図2の切断面Sで切断したときのアクチュエーター1の断面図である。アクチュエーター1は、各ノズル11aに対応する多数のチャネルを並列した長尺状の圧電性セラミック基板からなり、インクに与える圧力変化を発生させる部材である。なお、以下においても説明される本実施態様におけるアクチュエーター1に限定されないことはもちろん、ベンドモードヘッドやインクを加熱して気泡を発生させることによってインクを吐出する方法等、吐出方法によって限定されず、種々の吐出方法において適用することができる。   FIG. 3 is a cross-sectional view of the actuator 1 taken along the cutting plane S of FIG. The actuator 1 is a long piezoelectric ceramic substrate in which a large number of channels corresponding to each nozzle 11a are arranged in parallel, and is a member that generates a pressure change applied to ink. In addition, it is not limited to the actuator 1 in this embodiment described below, and it is not limited by the ejection method, such as a bend mode head or a method of ejecting ink by heating the ink to generate bubbles, The present invention can be applied to various discharge methods.

各チャネル12は、ダイヤモンドブレード等により直線状の細長い溝形状に切削されて、削り残した圧電性セラミックが隣接するチャネル12、12との間の隔壁13を構成している。各チャネル12の深さは、図2において右にいくにつれて徐々に浅くなって、ついには消滅する。チャネル12の内面の一部には金属電極(図示せず)が形成されている。   Each channel 12 is cut into a straight and elongated groove shape by a diamond blade or the like, and the uncut piezoelectric ceramic constitutes a partition wall 13 between adjacent channels 12 and 12. The depth of each channel 12 gradually decreases as it goes to the right in FIG. 2, and finally disappears. A metal electrode (not shown) is formed on a part of the inner surface of the channel 12.

また、各チャネル12の上から非圧電性セラミック基板等からなるカバー基板14が接着されている。カバー基板14には、各チャネル12の浅溝部分に対応する位置に、全チャネル12に亘る開口14aが形成されており、この開口14aを覆うようにマニホールド15が設けられ、このマニホールド15の内側と各チャネル12の浅溝部分との間に、各チャネル12にインクを分配するための共通インク室16が形成されている。   Further, a cover substrate 14 made of a non-piezoelectric ceramic substrate or the like is bonded from above each channel 12. In the cover substrate 14, openings 14 a extending over all the channels 12 are formed at positions corresponding to the shallow groove portions of the respective channels 12, and a manifold 15 is provided so as to cover the openings 14 a. And a shallow groove portion of each channel 12, a common ink chamber 16 for distributing ink to each channel 12 is formed.

非圧電性セラミック基板としては、アルミナ、窒化アルミニウム、ジルコニア、シリコン、窒化シリコン、シリコンカーバイド、石英、非分極のPZTの少なくとも1つから選ばれることが好ましく、隔壁13をせん断変形させても分極した圧電性セラミックを確実に支持することができる。   The non-piezoelectric ceramic substrate is preferably selected from at least one of alumina, aluminum nitride, zirconia, silicon, silicon nitride, silicon carbide, quartz, and non-polarized PZT, and polarized even when the partition wall 13 is shear-deformed. The piezoelectric ceramic can be reliably supported.

圧電性セラミックとして、PZT、PLZT等のセラミックで、主にPbOx、ZrOx、TiOxの混合微結晶体に、ソフト化剤又はハード化剤として知られる微量の金属酸化物、例えばNb、Zn、Mg、Sn、Ni、La、Cr等の酸化物を含むものが好ましい。   As a piezoelectric ceramic, a ceramic such as PZT, PLZT, etc., mainly a mixed microcrystal of PbOx, ZrOx, TiOx, a trace amount of metal oxide known as a softening agent or a hardening agent, such as Nb, Zn, Mg, Those containing oxides such as Sn, Ni, La, and Cr are preferable.

PZTは、チタン酸ジルコン酸鉛であり、充填密度が大きく、圧電性定数が大きく、加工性が良いので好ましい。PZTは、焼成後、温度を下げると、急に結晶構造が変化して、原子がズレ、片側がプラス、反対側がマイナスという双極子の形の、細かい結晶の集まりになる。こうした自発分極は方向がランダムで、極性を互いに打ち消しあっているので、更に分極処理が必要となる。   PZT is lead zirconate titanate, which is preferable because it has a high packing density, a large piezoelectric constant, and good workability. When the temperature is lowered after firing, the crystal structure suddenly changes, and PZT becomes a collection of fine crystals in the form of dipoles in which atoms are displaced, one side is positive, and the other side is negative. These spontaneous polarizations are random in direction and cancel each other's polarity, so further polarization processing is required.

分極処理は、PZTの薄板を電極で挟み、シリコン油中に漬けて、10〜35kV/cm程度の高電界を掛けて、分極する。分極したPZTに分極方向に直角に電圧を掛けると、側壁が圧電滑り効果により、斜め方向に、くの字形に、せん断変形して、インク室の容積が膨張する。   In the polarization treatment, a thin plate of PZT is sandwiched between electrodes, immersed in silicon oil, and polarized by applying a high electric field of about 10 to 35 kV / cm. When a voltage is applied to the polarized PZT at a right angle to the polarization direction, the side wall is sheared and deformed in a diagonal shape in a diagonal direction by the piezoelectric sliding effect, and the volume of the ink chamber expands.

金属電極の材料としては、金、銀、アルミニウム、パラジウム、ニッケル、タンタル、チタンを用いることができ、特に、電気的特性、加工性の点から、金、アルミニウムが良く、メッキ、蒸着、スパッタで形成される。各金属電極は、各チャネル12の内部から、浅溝部分を通ってアクチュエーター1の後方(図3の右端)側の上面まで引き出され、図示しない信号線によって駆動回路と電気的に接続される。   Gold, silver, aluminum, palladium, nickel, tantalum, and titanium can be used as the material of the metal electrode, and gold and aluminum are particularly preferable from the viewpoint of electrical characteristics and workability. It is formed. Each metal electrode is drawn from the inside of each channel 12 to the upper surface on the rear side (right end in FIG. 3) of the actuator 1 through the shallow groove portion, and is electrically connected to the drive circuit by a signal line (not shown).

アクチュエーター1は、駆動回路から与えられる駆動電圧が各チャネル12内の金属電極に印加されると、隔壁13がせん断変形することでチャネル12の圧力変化が発生し、応力を受けたチャネル12内のインクがノズル11aから吐出する。ノズル11aから吐出したインクはチャネル12の長手方向に向かって飛翔して紙などの記録材に着弾する。   When the driving voltage applied from the driving circuit is applied to the metal electrode in each channel 12, the actuator 1 shears and deforms the partition wall 13, thereby causing a pressure change in the channel 12. Ink is ejected from the nozzle 11a. The ink ejected from the nozzles 11a flies in the longitudinal direction of the channel 12 and lands on a recording material such as paper.

天板3は、例えば、アクリル、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、変性PPE、アルミニウム、ステンレス等を用いることができるが、天板3には、インクがノズルから吐出される際に発生するミストが付着するので、耐インク性の観点からステンレス板(例えば、SUS316など)が用いられることがより好ましい。
天板3は、ノズル基板11を取り囲むように配置され、ノズル基板11の周囲を保護する。インクジェットヘッド100にはノズル基板11の周囲に天板3によって平板状のスペースが形成される。天板3の略中央部には、アクチュエーター1のノズル面とほぼ同形状の開口部bが設けられ、アクチュエーター1を開口部bにはめ込むことで、ノズル基板11を開口部bから臨ませるように配置されている。
天板3とアクチュエーター1との間は、接着剤層5により封止されている。
For example, acrylic, polycarbonate, polyetherimide, modified PPE, aluminum, stainless steel, or the like can be used for the top 3. However, mist generated when ink is ejected from the nozzles adheres to the top 3. Therefore, it is more preferable to use a stainless steel plate (for example, SUS316) from the viewpoint of ink resistance.
The top plate 3 is disposed so as to surround the nozzle substrate 11 and protects the periphery of the nozzle substrate 11. In the inkjet head 100, a flat space is formed around the nozzle substrate 11 by the top plate 3. An opening b having substantially the same shape as the nozzle surface of the actuator 1 is provided at a substantially central portion of the top plate 3, and the nozzle substrate 11 faces the opening b by fitting the actuator 1 into the opening b. Has been placed.
The top plate 3 and the actuator 1 are sealed with an adhesive layer 5.

接着剤層4は、天板3の側面より外側に盛り上がっていることが好ましい。これにより、インクが天板3の裏面まで浸透することを更に抑制することが出来る。接着剤層4,5の接着剤は、例えば、エポキシ化合物と硬化剤と組み合わせたものが用いられる。   The adhesive layer 4 is preferably raised outward from the side surface of the top plate 3. Thereby, it is possible to further prevent the ink from penetrating to the back surface of the top plate 3. As the adhesive for the adhesive layers 4 and 5, for example, a combination of an epoxy compound and a curing agent is used.

なお、吸引キャップを用いてアクチュエーター1のノズル11aから強制的にインクを吸引するノズルの回復動作時に、天板3が記録媒体と対抗する面(前面3a)をキャップ受け面とし、インクを吸引するための吸引キャップ(図示略)と密着させることによりノズル基板を損傷させることなく、インクを吸引することできる。また、吸引キャップ内部の負圧を保つ機能を有するようにすると、インク吸引をより効率的に行う観点で好ましい。   In the recovery operation of the nozzle that forcibly sucks ink from the nozzle 11 a of the actuator 1 using the suction cap, the surface (front surface 3 a) on which the top 3 opposes the recording medium is used as a cap receiving surface to suck ink. Ink can be sucked without damaging the nozzle substrate by closely contacting with a suction cap (not shown). In addition, it is preferable to have a function of maintaining the negative pressure inside the suction cap from the viewpoint of performing ink suction more efficiently.

なお、ノズル基板と天板の少なくとも一部には親インク領域を有する。親インク領域は、(拡張収縮法で測定した)当該領域に対する水の後退接触角を60°以下とした領域である。ここで、「後退接触角」というのは、水を基材に一度付着させた後、再度水で濡らされた該基材表面の上に作られる接触角である。上述した親インク領域は例えば、真空プラズマ処理等の親インク処理により形成することができ、より具体的にはドライエッチング等を用いることができる。真空プラズマ処理は、真空チャンバー中にインクジェットヘッドチップ、インクジェットヘッド等を置き、Ar、N及びOから選ばれる少なくとも1つまたはそれらの混合ガスを注入し、外部からの電磁界で、プラズマ状態にする処理であり、表面のエッチング性を高めるために、CF等のフッ素系炭化水素ガスを用いても良い。本実施の形態のインクジェットにおいては、ガスにOが含まれることが好ましい。 Note that at least a part of the nozzle substrate and the top plate has a parent ink region. The parent ink region is a region in which the receding contact angle of water with respect to the region (measured by the expansion / contraction method) is 60 ° or less. Here, the “retracted contact angle” is a contact angle created on the surface of the substrate that has been once wetted with water after the water has once adhered to the substrate. The above-described parent ink region can be formed by, for example, a parent ink process such as a vacuum plasma process, and more specifically, dry etching or the like can be used. In the vacuum plasma treatment, an inkjet head chip, an inkjet head, etc. are placed in a vacuum chamber, and at least one selected from Ar, N 2 and O 2 or a mixed gas thereof is injected, and an external electromagnetic field causes a plasma state. In order to improve the surface etching property, a fluorine-based hydrocarbon gas such as CF 4 may be used. In the ink jet of the present embodiment, it is preferable that O 2 is contained in the gas.

このインクジェットヘッド100を搭載したインクジェット記録装置1000では、高い周波数でインクを連続吐出しても、連続吐出中に発生したミストが、液だまりとなって付着せずに親インク処理されたノズル基板の全面及び天板の一部で薄い膜となり、吐出安定化を実現できる。また、連続吐出中に発生したミストによって形成された液だまりを薄い膜として天板からノズル基板に流れこませる観点から、天板のノズルからインクを吐出させる方向側に位置する面のうち、ノズル基板に隣接する領域を上述した天板の一部として親インク領域とすることがより好ましい。
本発明者は、上述した吐出安定化を実現できる理由を以下の通り考えている。
高い周波数でインクを連続吐出することにより発生するミストがノズル面に付着しても、親インク処理、すなわち後退接触角を60°以下としたノズル基板の全面及び天板の一部を親インク領域とすることにより、上述したミストが濡れ広がって大きな液だまりとなることなく、薄い膜を形成する。特に天板に付着したミストが成長して形成された大きな液だまりが、ノズル基板に達することによりノズルに戻るインク量が不安定化することがなく、大きな液だまりと比較して薄い膜となったインクが少量ずつ徐々にノズルに流れ込むため、ノズルを塞ぐことがなく、吐出安定化を実現できると考えている。なお、より薄い膜を形成し、インクを少量ずつノズルに流れ込むようにしてより吐出安定化させる観点から親インク領域の後退接触角を30°以下とすることがより好ましい。
In the ink jet recording apparatus 1000 equipped with the ink jet head 100, even if ink is continuously ejected at a high frequency, the mist generated during the continuous ejection is not collected as a liquid pool but attached to the ink-free nozzle substrate. A thin film is formed on the entire surface and a part of the top plate, and stable discharge can be realized. In addition, from the viewpoint of causing a liquid pool formed by mist generated during continuous ejection to flow from the top plate to the nozzle substrate as a thin film, among the surfaces located on the side of the top plate where the ink is ejected, the nozzle More preferably, the region adjacent to the substrate is used as a parent ink region as a part of the top plate.
The inventor considers the reason why the above-described ejection stabilization can be realized as follows.
Even if mist generated by continuously ejecting ink at a high frequency adheres to the nozzle surface, the parent ink treatment, that is, the entire surface of the nozzle substrate with a receding contact angle of 60 ° or less and a part of the top plate are treated as the parent ink region. Thus, a thin film is formed without the above-described mist getting wet and spreading to form a large liquid pool. In particular, the large liquid pool formed by the growth of mist attached to the top plate does not destabilize the amount of ink returning to the nozzle when it reaches the nozzle substrate, making it a thin film compared to the large liquid pool. Since the ink gradually flows into the nozzle little by little, it is considered that the ejection can be stabilized without blocking the nozzle. It is more preferable to set the receding contact angle of the parent ink region to 30 ° or less from the viewpoint of forming a thinner film and allowing the ink to flow into the nozzles little by little to stabilize the ejection.

インクは色材を含有する。色材は、染料又は顔料でありうるが、インクの構成成分に対して良好な分散性を有し、かつ耐候性に優れることから、顔料が好ましい。顔料は、特に限定されないが、例えばカラーインデックスに記載される下記番号の有機顔料又は無機顔料を用いることができる。
顔料としては、例えばカーボンブラック、酸化チタン、炭酸カルシウム等の無機顔料又は有機顔料を使用することができる。有機顔料としては、例えばトルイジンレッド、トルイジンマルーン、ハンザイエロー、ベンジジンイエロー、ピラゾロンレッドなどの不溶性アゾ顔料、リトールレッド、ヘリオボルドー、ピグメントスカーレット、パーマネントレッド2B等の溶性アゾ顔料;アリザリン、インダントロン、チオインジゴマルーン等の建染染料からの誘導体;フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン系有機顔料;キナクリドンレッド、キナクリドンマゼンタ等のキナクリドン系有機顔料;ペリレンレッド、ペリレンスカーレット等のペリレン系有機顔料;イソインドリノンイエロー、イソインドリノンオレンジ等のイソインドリノン系有機顔料;ピランスロンレッド、ピランスロンオレンジ等のピランスロン系有機顔料;チオインジゴ系有機顔料、縮合アゾ系有機顔料、ベンズイミダゾロン系有機顔料、キノフタロンイエロー等のキノフタロン系有機顔料;イソインドリンイエローなどのイソインドリン系有機顔料;その他の顔料として、フラバンスロンイエロー、アシルアミドイエロー、ニッケルアゾイエロー、銅アゾメチンイエロー、ペリノンオレンジ、アンスロンオレンジ、ジアンスラキノニルレッド、ジオキサジンバイオレット等が挙げられる。
The ink contains a color material. The coloring material can be a dye or a pigment, but is preferably a pigment because it has good dispersibility with respect to the components of the ink and is excellent in weather resistance. Although a pigment is not specifically limited, For example, the organic pigment or inorganic pigment of the following number described in a color index can be used.
As the pigment, for example, inorganic pigments or organic pigments such as carbon black, titanium oxide, and calcium carbonate can be used. Examples of the organic pigment include insoluble azo pigments such as toluidine red, toluidine maroon, Hansa yellow, benzidine yellow, and pyrazolone red, soluble azo pigments such as lithol red, heliobordeaux, pigment scarlet, and permanent red 2B; alizarin, indanthrone, Derivatives from vat dyes such as thioindigo maroon; Phthalocyanine organic pigments such as phthalocyanine blue and phthalocyanine green; Quinacridone organic pigments such as quinacridone red and quinacridone magenta; Perylene organic pigments such as perylene red and perylene scarlet; Isoindolinone-based organic pigments such as linone yellow and isoindolinone orange; Pyranthrone-based organic pigments such as pyranthrone red and pyranthrone orange; Organic organic pigments, condensed azo organic pigments, benzimidazolone organic pigments, quinophthalone organic pigments such as quinophthalone yellow; isoindoline organic pigments such as isoindoline yellow; other pigments such as flavanthron yellow and acylamide yellow Nickel azo yellow, copper azomethine yellow, perinone orange, anthrone orange, dianthraquinonyl red, dioxazine violet and the like.

有機顔料をカラーインデックス(C.I.)番号で以下に例示する。   Organic pigments are exemplified below by color index (CI) numbers.

C.I.ピグメントイエロー12、13、14、17、20、24、74、83、86、93、109、110、117、120、125、128、129、137、138、139、147、148、150、151、153、154、155、166、168、180、185、
C.I.ピグメントオレンジ16、36、43、51、55、59、61、
C.I.ピグメントレッド9、48、49、52、53、57、97、122、123、149、168、177、180、192、202、206、215、216、217、220、223、224、226、227、228、238、240、
C.I.ピグメントバイオレット19、23、29、30、37、40、50、
C.I.ピグメントブルー15、15:1、15:3、15:4、15:6、22、60、64、
C.I.ピグメントグリーン7、36、
C.I.ピグメントブラウン23、25、26、
C. I. Pigment Yellow 12, 13, 14, 17, 20, 24, 74, 83, 86, 93, 109, 110, 117, 120, 125, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 166, 168, 180, 185,
C. I. Pigment Orange 16, 36, 43, 51, 55, 59, 61,
C. I. Pigment Red 9, 48, 49, 52, 53, 57, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 202, 206, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 238, 240,
C. I. Pigment violet 19, 23, 29, 30, 37, 40, 50,
C. I. Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 22, 60, 64,
C. I. Pigment Green 7, 36,
C. I. Pigment brown 23, 25, 26,

上記顔料の中でも、キナクリドン系、フタロシアニン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、縮合アゾ系、キノフタロン系、イソインドリン系有機顔料等は耐光性が優れているため好ましい。   Among the above pigments, quinacridone-based, phthalocyanine-based, benzimidazolone-based, isoindolinone-based, condensed azo-based, quinophthalone-based, and isoindoline-based organic pigments are preferable because of their excellent light resistance.

有機顔料は、レーザー散乱による測定値でインク中の平均粒径が10nm以上150nm以下であることが好ましい。顔料の平均粒径が10nm未満の場合は、粒径が小さくなることによる耐光性の低下が生じることがある。150nmを超える場合はサテライトと言われる微小のミストが発生しやすく、ミストが付着することによって液だまりが生じ、該液だまりによる吐出不良が生じやすい。本発明では、上述したインクも好適に使用することができる。例えばインクに酸化チタンを含有させる場合は白色度と隠蔽性を持たせるために平均粒径を150nm以上300nm以下、好ましくは180nm以上250nm以下として画像形成を行うため、本発明を好適に使用することができる。   The organic pigment preferably has an average particle size in the ink of 10 nm or more and 150 nm or less as measured by laser scattering. When the average particle size of the pigment is less than 10 nm, a decrease in light resistance may occur due to a decrease in the particle size. When the thickness exceeds 150 nm, a minute mist called a satellite is likely to be generated, and due to the mist adhering, a liquid puddle is generated, and discharge failure due to the liquid puddle is likely to occur. In the present invention, the ink described above can also be used preferably. For example, when titanium oxide is contained in the ink, in order to provide whiteness and concealability, the image formation is performed with an average particle size of 150 nm to 300 nm, preferably 180 nm to 250 nm, and therefore the present invention is preferably used. Can do.

またインクジェットインク中の顔料の最大粒径は、3.0μmを越えないよう、十分に分散あるいは、ろ過により粗大粒子を除くことが好ましい。   Further, it is preferable to remove coarse particles by sufficiently dispersing or filtering so that the maximum particle diameter of the pigment in the inkjet ink does not exceed 3.0 μm.

(実施例1)
図4及び図5を参照して、本実施の形態のインクジェットヘッド100の一実施例としての実施例1のインクジェットヘッド100Aを説明する。図4は、インクジェットヘッド100Aの断面図である。
Example 1
With reference to FIG.4 and FIG.5, the inkjet head 100A of Example 1 as an Example of the inkjet head 100 of this Embodiment is demonstrated. FIG. 4 is a cross-sectional view of the inkjet head 100A.

図4に示すように、インクジェットヘッド100Aは、ノズル基板11Aと、天板3Aと、を有する。図4は、ノズル基板11Aのノズル11aを通るXY平面の断面図である。   As shown in FIG. 4, the ink jet head 100A includes a nozzle substrate 11A and a top plate 3A. FIG. 4 is a cross-sectional view of the XY plane passing through the nozzle 11a of the nozzle substrate 11A.

本実施例では、ノズル基板11Aのインク吐出方向側の面の全面及び天板の全面に親インク領域1cA,3cAを有し、ノズル基板11Aは、天板3AからX方向に少し突出している。ノズル基板11A及び天板3Aのインク吐出方向側(+X側)の面を、図4上の複数の矢印で表されるように、真空プラズマ処理として、ドライエッチングを行うことにより、親インク領域1cA,3cAが形成される。
なお、本実施例ではドライエッチングを行うこととしたが、これに限定されず親インク処理(後退接触角が60°以下)できる種々の方法を用いることができる。
ここで、前面とは、+X側から見た面であり、最前面とは、X軸の値が最も高い位置にある前面とし、以下の説明でも同様である。
In the present embodiment, the ink-jetting direction side surface of the nozzle substrate 11A and the entire top plate have the parent ink regions 1cA and 3cA, and the nozzle substrate 11A slightly protrudes from the top plate 3A in the X direction. By performing dry etching on the surfaces of the nozzle substrate 11A and the top plate 3A on the ink ejection direction side (+ X side) as a vacuum plasma treatment as indicated by a plurality of arrows in FIG. 4, the parent ink region 1cA is obtained. , 3cA is formed.
In this embodiment, dry etching is performed. However, the present invention is not limited to this, and various methods capable of performing ink-philic treatment (with a receding contact angle of 60 ° or less) can be used.
Here, the front surface is a surface viewed from the + X side, and the front surface is the front surface at the position where the value of the X axis is the highest, and the same applies to the following description.

ここで、インクジェットヘッド100Aの製造方法を説明する。図5は、実施例1における製造方法の製造フローを示した図である。なお、以下の実施例においては天板を含めた構成で説明を行っているが、天板を除いた構成でも良いことは言うまでもない。
図5の通り、実施例1では、撥インク層付与工程F1、保護層付与工程F2、ノズル形成工程F3、組み立て工程F4、保護層剥離工程F5、及び親インク工程F6を有する。以下、それぞれの工程について詳述する。
撥インク層付与工程F1は、先ず、インクジェットヘッド100Aの各部材の組み立て前に、ノズル基板11A及び天板3Aの表面に撥インク層が形成される工程である。撥インク層は、熱溶融性のフッ素樹脂を含有することが好ましい。フッ素樹脂を含有する撥インク層は、幅広いインク種に対し、優れた撥インク性を有するとともに、インクが浸透しにくく耐久性に優れる。
Here, a manufacturing method of the ink jet head 100A will be described. FIG. 5 is a diagram illustrating a manufacturing flow of the manufacturing method according to the first embodiment. In the following embodiments, the configuration including the top plate is described, but it goes without saying that the configuration excluding the top plate may be used.
As shown in FIG. 5, Example 1 includes an ink repellent layer application step F1, a protective layer application step F2, a nozzle formation step F3, an assembly step F4, a protective layer peeling step F5, and a parent ink step F6. Hereinafter, each process is explained in full detail.
The ink repellent layer application step F1 is a step in which an ink repellent layer is first formed on the surfaces of the nozzle substrate 11A and the top plate 3A before assembling each member of the inkjet head 100A. The ink repellent layer preferably contains a heat-meltable fluororesin. The ink repellent layer containing a fluororesin has excellent ink repellency with respect to a wide range of ink types, and is difficult to permeate ink and has excellent durability.

撥インク層の塗布は、フッ素樹脂を含有する塗布液を塗布し、乾燥後、熱処理してフッ素樹脂を溶融することにより、撥インク層の耐久性を向上できる。撥インク層の塗布液は、フッ素樹脂のほかに、水などの溶媒を含有し、界面活性剤等を含有してもよい。   Application of the ink repellent layer can improve the durability of the ink repellent layer by applying a coating liquid containing a fluororesin, drying, and then heat treating to melt the fluororesin. The coating liquid for the ink repellent layer contains a solvent such as water in addition to the fluororesin, and may contain a surfactant or the like.

フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)等を用いることが出来るが、FEPは臨界表面張力が低く、撥インク性に優れており、また、熱処理温度である300℃〜400℃における溶融粘度が低く、均一な膜形成が可能な点で好ましい。界面活性剤としては、特にポリオキシエチレンアルキルエーテルを用いると、撥インク層の耐久性をさらに向上することができる。   Examples of fluororesins include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), and tetrafluoroethylene-ethylene copolymer. (ETFE), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), and the like can be used, but FEP has a low critical surface tension, excellent ink repellency, and a heat treatment temperature of 300. C. to 400.degree. C. is preferable because the melt viscosity is low and a uniform film can be formed. When polyoxyethylene alkyl ether is used as the surfactant, it is possible to further improve the durability of the ink repellent layer.

撥インク層を形成する塗布方法としては、スプレーコーティング、スピンコーティング、はけコーティング、ディップコーティング、ワイヤーバーコーティング等を用いることができる。本実施例1においては、スプレーコーティングが1回の塗布工程で天板3Aの前面と側面を塗布することが出来、効率的な塗布が可能となることから好ましい。   As an application method for forming the ink repellent layer, spray coating, spin coating, brush coating, dip coating, wire bar coating, or the like can be used. In the first embodiment, spray coating is preferable because the front and side surfaces of the top plate 3A can be applied in a single application step, and efficient application is possible.

天板3Aの裏面の一部に撥インク層を設ける方法としては、裏面の非塗布面をマスキングした後に、裏面に塗布する方法、及び側面に塗布された塗布液の流動性が失われる前に加熱して側面の塗布液が裏面の一部を濡らすことによる方法などが挙げられるが、塗布工程の効率の点から後者が好ましい。   As a method of providing the ink repellent layer on a part of the back surface of the top plate 3A, after masking the non-coated surface of the back surface, the method of coating the back surface, and before the fluidity of the coating liquid applied to the side surface is lost Although the method by which the side surface coating liquid wets a part of the back surface by heating is exemplified, the latter is preferable from the viewpoint of the efficiency of the coating process.

天板3Aの裏面の端部から撥インク層がぬれ広がる幅を、筐体2と天板3Aとの接着面の幅より狭くさせると、筐体2と天板3Aとが接着剤層4により撥インク層を介さず直接接着される面積が大きくなり、筐体2と天板3との接着力が高まり好ましい。塗布・乾燥後、塗布層は熱処理される。処理温度としては、撥インク層の融点以上が好ましく、特に300℃〜400℃が好ましい。   When the width at which the ink repellent layer spreads from the end of the back surface of the top plate 3A is made narrower than the width of the bonding surface between the housing 2 and the top plate 3A, the housing 2 and the top plate 3A are separated by the adhesive layer 4. It is preferable that the area directly bonded without using the ink repellent layer is increased, and the adhesive force between the housing 2 and the top plate 3 is increased. After coating and drying, the coating layer is heat treated. The treatment temperature is preferably equal to or higher than the melting point of the ink repellent layer, and particularly preferably from 300 ° C to 400 ° C.

次に保護層付与工程F2について詳述する。
撥インク層付与工程F1によりノズル基板11Aに付与された撥インク層に保護層を積層する工程である。例えば、ロール状のフィルムを離型材から剥離しつつノズル基板に貼付けた後、所望の大きさにフィルムが貼られたノズル基板をカットすることによって形成することができる。保護層としては後に詳述する保護層剥離工程F5においてノズル基板11Aから剥がすことができると共に、後のノズル形成工程F3においてノズル基板11Aのノズル11aの前面側の形状がいびつな不適切な形状にならないものであれば特に限定されないが、保護フィルムとして例えばポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、アクリル製樹脂、ポリイミド樹脂等を使用することができる。また上述した保護フィルムを基材として単独で用いても良いが、粘着剤として例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等を基材に塗布した粘着テープや、マスキングテープを使用しても良い。なお、基材としてポリエステルを用い、粘着層としてゴム系粘着剤を使用することが好ましい。
Next, the protective layer applying step F2 will be described in detail.
This is a step of laminating a protective layer on the ink repellent layer applied to the nozzle substrate 11A by the ink repellent layer applying step F1. For example, it can be formed by cutting a nozzle substrate on which a film is pasted to a desired size after the roll-like film is peeled off from the release material and pasted on the nozzle substrate. The protective layer can be peeled off from the nozzle substrate 11A in a protective layer peeling step F5, which will be described in detail later, and the shape of the front surface side of the nozzle 11a of the nozzle substrate 11A becomes an irregular and inappropriate shape in the subsequent nozzle forming step F3. Although it will not specifically limit if it does not become, For example, a polyethylene terephthalate resin, a polypropylene resin, a polyethylene resin, a vinyl chloride resin, an acrylic resin, a polyimide resin etc. can be used as a protective film. Moreover, although the protective film mentioned above may be used independently as a base material, you may use the adhesive tape and masking tape which apply | coated the acrylic adhesive, the rubber adhesive, etc. to the base material as an adhesive, for example. In addition, it is preferable to use polyester as a base material and to use a rubber-type adhesive as an adhesion layer.

次にノズル形成工程F3について以下で詳述する。
ノズル形成工程F3は、保護層付与工程F2によって前面に付与された保護フィルムが貼られたノズル基板11Aに対し、後面からレーザー光が照射することによって、ノズル11aを形成する工程である。この際、保護層(保護フィルム)は、レーザー光照射時に、ノズル基板11Aのノズル11aの前面側の形状がいびつな不適切な形状になることを防ぐためのものである。
Next, the nozzle forming step F3 will be described in detail below.
The nozzle forming step F3 is a step of forming the nozzle 11a by irradiating a laser beam from the rear surface to the nozzle substrate 11A to which the protective film applied to the front surface by the protective layer applying step F2 is attached. At this time, the protective layer (protective film) is for preventing the shape of the front surface side of the nozzle 11a of the nozzle substrate 11A from becoming an irregular and inappropriate shape during laser light irradiation.

次に組み立て工程F4について詳述する。
組み立て工程F4は、少なくとも天板3Aをノズル基板11Aに取り付ける工程である。
特に順番は限定されないが、ノズル基板11Aはとても薄いため、まずヘッドチップとノズル基板11Aとを接合することが好ましい。ノズル基板11Aとヘッドチップにはそれぞれ位置決め穴が形成されており、各々設けられた位置決め穴を合わせるように接合する。ヘッドチップが接合されたノズル基板11Aと天板3Aのそれぞれにも、ノズル基板11Aと天板3Aとを位置決めして接合するために位置決め穴がそれぞれ設けられている。ノズル基板11Aと天板3Aとを接合する際に各々設けられた位置決め穴が一致するように位置決めして接合する。またノズル基板11Aと天板3Aとを接合する際にはそれぞれを接合することができれば特に限定はされないが、例えば樹脂を含有させた接着剤等を介して接合する。なお、上述の通り、各々に位置決め穴を設ける構成を説明したが、例えば一方に位置決め穴を形成し、他方はアライメントマークを形成し、アライメントマークが位置決め穴から見えるように位置合わせをして位置決めを行う構成としても良い。また、ノズル基板11Aの位置決め穴は、ヘッドチップを接合する際に用いるものと天板3Aを接合する際に用いるものと共通としても良い。
なお、本工程では少なくともノズル基板11Aに天板3Aを取り付ける工程を含んでいれば良く、筐体2等を接合する工程を含んでも良い。例えば、天板3Aと筐体2を同時に組み立てることとしても良い。
Next, the assembly process F4 will be described in detail.
The assembly process F4 is a process of attaching at least the top plate 3A to the nozzle substrate 11A.
Although the order is not particularly limited, since the nozzle substrate 11A is very thin, it is preferable to first join the head chip and the nozzle substrate 11A. Positioning holes are respectively formed in the nozzle substrate 11A and the head chip, and the nozzle holes 11A and the head chip are joined so that the positioning holes provided are aligned. Positioning holes are provided in each of the nozzle substrate 11A and the top plate 3A to which the head chip is bonded in order to position and join the nozzle substrate 11A and the top plate 3A. When the nozzle substrate 11 </ b> A and the top plate 3 </ b> A are joined, they are positioned and joined so that the positioning holes provided respectively coincide. Further, when the nozzle substrate 11A and the top plate 3A are bonded, there is no particular limitation as long as they can be bonded, but for example, bonding is performed via an adhesive containing resin. As described above, the configuration in which the positioning hole is provided in each is described. For example, the positioning hole is formed on one side, the alignment mark is formed on the other side, and positioning is performed so that the alignment mark can be seen from the positioning hole. It is good also as composition which performs. Further, the positioning holes of the nozzle substrate 11A may be the same as those used when the head chip is bonded and those used when the top plate 3A is bonded.
In addition, this process should just include the process of attaching the top plate 3A to the nozzle substrate 11A at least, and may include the process of joining the housing | casing 2 grade | etc.,. For example, the top plate 3A and the housing 2 may be assembled at the same time.

次に保護層剥離工程F5について詳述する。
保護層剥離工程F5は、後述する親インク処理を行うため、保護層によって覆われたノズル基板の前面を露出させる工程である。例えば、ピンセット等で保護層の端部を掴み、剥がすことによって行う。また、保護層とノズル基板との接着力が強い場合は、粘着テープを保護層の上面に貼り、粘着テープを引き上げることによって剥がすようにしても良い。
なお、本実施例においては、組み立て工程F4の後に保護層剥離工程F5を行うこととしたが、組み立て工程F4の前に行うこととしても良い。すなわち、保護層(保護フィルム)は、親インク工程F6の前に剥がされれば良く、特に限定されない。なお、親インク工程F6の直前まで保護層(保護フィルム)を貼った状態でノズル基板11Aを工程流動させる(以下、ノズル基板に撥インク層を設ける工程から親インク工程までの工程を工程流動と記載する)ことにより、保護フィルムでノズル基板11Aを保護できる。さらにノズル11a形成後、例えば組み立て工程F4の際に保護フィルムには穴が開いているため、この穴から接着剤や埃等の異物が入るおそれがある。したがってノズル形成工程F3後、保護層剥離工程F5を行い、再度保護層付与工程を行って、穴のない保護フィルムを新たにノズル基板11Aに貼ることとしてもよい。
なお、保護層付与工程F2の前に撥インク層付与工程F1によりあらかじめ撥インク層が形成されているので保護層を剥がす際に、ノズル基板11Aに保護層の一部が残留することを抑制できる。例えば保護層として保護フィルムを用い、保護層とノズル基板11Aとの間を接着層を介して接着させて保護層を付与する場合、ノズル基板11Aの保護フィルムを剥がす際に生じる糊残りを低減できる。ノズル基板11Aの保護フィルムの糊残りを低減することによって製造後の液滴の着弾精度(真直度)向上や射出角度分布不良低減の観点で好ましい。
Next, the protective layer peeling step F5 will be described in detail.
The protective layer peeling step F5 is a step of exposing the front surface of the nozzle substrate covered with the protective layer in order to perform the ink-philic process described later. For example, the edge of the protective layer is grasped with tweezers and peeled off. Further, when the adhesive force between the protective layer and the nozzle substrate is strong, the adhesive tape may be attached to the upper surface of the protective layer and peeled off by pulling up the adhesive tape.
In this embodiment, the protective layer peeling step F5 is performed after the assembly step F4. However, it may be performed before the assembly step F4. That is, the protective layer (protective film) is not particularly limited as long as it is peeled off before the ink-philic process F6. The nozzle substrate 11A is flowed in a process with a protective layer (protective film) applied just before the parent ink process F6 (hereinafter, the process from the step of forming an ink repellent layer on the nozzle substrate to the parent ink process is referred to as process flow. 11), the nozzle substrate 11A can be protected by the protective film. Further, after the nozzle 11a is formed, for example, in the assembling step F4, since the protective film has a hole, there is a possibility that foreign substances such as adhesive and dust may enter from the hole. Therefore, after the nozzle forming step F3, the protective layer peeling step F5 may be performed, and the protective layer applying step may be performed again to newly apply a protective film without holes to the nozzle substrate 11A.
In addition, since the ink repellent layer is formed in advance by the ink repellent layer applying step F1 before the protective layer applying step F2, it is possible to prevent a part of the protective layer from remaining on the nozzle substrate 11A when the protective layer is peeled off. . For example, when a protective film is used as the protective layer and the protective layer is applied by bonding the protective layer and the nozzle substrate 11A through an adhesive layer, the adhesive residue generated when the protective film of the nozzle substrate 11A is peeled off can be reduced. . By reducing the adhesive residue of the protective film of the nozzle substrate 11A, it is preferable from the viewpoint of improving the landing accuracy (straightness) of the droplets after manufacture and reducing the ejection angle distribution defect.

次に親インク工程F6について以下で詳述する。
ノズル基板11A及び天板3Aの前面の撥インク層に、真空プラズマ処理として、ドライエッチングを用いることにより、親インク領域1cA,3cAを形成する。親インク領域1cA,3cAの後退接触角は、60°以下にされている。なお、本実施例では、天板3Aも親インク処理することとしているが、これに限定されない。例えば本工程で天板3Aには親インク処理を行わず、撥インク層を設ける構成としても良いことは言うまでもない。
ドライエッチングの際には、インクジェットヘッド100Aの筐体2、電装系等を含む本体部を覆う金属製の保護材をインクジェットヘッド100Aに取り付けて、ドライエッチングを行うのが好ましい。完成後のインクジェットヘッド100Aは、検査液等を使った検査が行われる。インクジェットヘッド100Aは、この検査により用いられた検査液がアクチュエーター1、ノズル基板11Aのノズル11aの流路やノズル穴全体に残るおそれがあるが、この検査液を乾かすことによりドライアップされる。なお、ドライアップされたインクジェットヘッド100Aをインクジェット記録装置1000に搭載して使用することもできるが、さらに吐出安定性を向上させる観点で、インクジェット記録装置1000に搭載して記録動作を行う前に、使用するインクでインクジェットヘッド100Aの流路及びノズル面を濡らしておくことが好ましい。また、前述した濡らすインクは使用するインクに限られず、例えば顔料や染料を除いたダミーインクを用いても良い。
なお、ドライエッチングによって親インク工程を行う例を記載したが、ドライエッチングに限定されず、例えばウェットエッチングを用いても良い。ウェットエッチングによれば、インクジェットヘッド100Aの電装系へのダメージのリスクを低減できる。
Next, the parent ink process F6 will be described in detail below.
The ink-repellent layers on the front surfaces of the nozzle substrate 11A and the top plate 3A are formed with the parent ink regions 1cA and 3cA by using dry etching as the vacuum plasma treatment. The receding contact angles of the parent ink regions 1cA and 3cA are set to 60 ° or less. In the present embodiment, the top plate 3A is also subjected to the parent ink processing, but the present invention is not limited to this. For example, in this step, it is needless to say that the top plate 3A may be provided with an ink repellent layer without performing the ink affinity treatment.
At the time of dry etching, it is preferable to perform dry etching by attaching a metal protective material covering the main body including the casing 2 of the ink jet head 100A, the electrical system, and the like to the ink jet head 100A. The completed inkjet head 100A is inspected using an inspection liquid or the like. The ink jet head 100A may be dried up by drying the test liquid, although the test liquid used in the test may remain in the actuator 1 and the nozzle 11a flow path and the entire nozzle hole of the nozzle substrate 11A. In addition, although the dried-up inkjet head 100A can be mounted and used in the inkjet recording apparatus 1000, from the viewpoint of further improving the discharge stability, before mounting on the inkjet recording apparatus 1000 and performing a recording operation, It is preferable to wet the flow path and nozzle surface of the ink jet head 100A with the ink to be used. Further, the ink to be wet as described above is not limited to the ink to be used, and for example, a dummy ink excluding a pigment or a dye may be used.
In addition, although the example which performs an ink-philic process by dry etching was described, it is not limited to dry etching, For example, you may use wet etching. According to wet etching, the risk of damage to the electrical system of the inkjet head 100A can be reduced.

(実施例2)
図6を参照して、本実施の形態のインクジェットヘッド100の一実施例としての実施例2のインクジェットヘッド100Bを説明する。図6は、インクジェットヘッド100Bの断面図である。なお、実施例1と同じ部材には、同じ符号を付してその説明を省略する。
(Example 2)
With reference to FIG. 6, the inkjet head 100B of Example 2 as an example of the inkjet head 100 of this Embodiment is demonstrated. FIG. 6 is a cross-sectional view of the inkjet head 100B. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as Example 1, and the description is abbreviate | omitted.

図6に示すように、インクジェットヘッド100Bは、ノズル基板11Aと、天板3Bと、を有する。図6は、ノズル基板11Aのノズル11aを通るXY平面の断面図である。   As shown in FIG. 6, the inkjet head 100B includes a nozzle substrate 11A and a top plate 3B. FIG. 6 is a cross-sectional view of the XY plane passing through the nozzle 11a of the nozzle substrate 11A.

インクジェットヘッド100Bは、実施例1と同様にノズル基板11Aのインク吐出側の面の全面及び天板3Bの全面に、撥インク層を親インク処理した親インク領域1cA,3cBを有しているが、実施例2では天板3Bが、ノズル基板11AからY方向、Z方向(XY平面に垂直な方向)に離れるにつれて2段階にX方向の高さが変化する凹構造のリセス構造部である凹部3B1を有する。凹部3B1のX方向の高さは、天板3Bの最前面の高さの半分の高さである。また、凹部3B1は、Y方向において、天板3Bの長さのうちノズル基板11A側の1/2の長さの領域に形成されている。また、凹部3B1は、Z方向において、天板3Bの長さのうちノズル基板11A側の1/2の長さの領域に形成されている。凹部3B1は、+X方向から見て、ノズル基板11Aの周囲に帯状に形成されている。凹部3B1の前面は、ノズル基板11Aの前面よりもX方向の高さが低い。天板3Bの最前面(凸部の前面)は、ノズル基板11Aの前面よりもX方向の高さが高い。なお、この凹部3B1の位置、形状は、一例であって、この例に限定されるものではない。例えば、天板3Bの最前面は、ノズル基板11Aの前面とX方向の高さが等しい構成としてもよい。また、凹部3B1の前面のX方向の高さが、ノズル基板11Aの前面の高さ以上である構成としてもよい。インクジェットヘッド100Bの製造方法は、実施例1のインクジェットヘッド100Aの製造方法と同様である。   The ink jet head 100B has the parent ink regions 1cA and 3cB in which the ink repellent layer is subjected to the parent ink treatment on the entire surface of the ink ejection side of the nozzle substrate 11A and the entire top plate 3B as in the first embodiment. In the second embodiment, the top plate 3B is a recess which is a recess structure having a concave structure in which the height in the X direction changes in two steps as it moves away from the nozzle substrate 11A in the Y direction and Z direction (direction perpendicular to the XY plane). 3B1. The height of the recess 3B1 in the X direction is half the height of the forefront of the top plate 3B. Further, the recess 3B1 is formed in a region having a length that is ½ of the length of the top plate 3B on the nozzle substrate 11A side in the Y direction. Further, the recess 3B1 is formed in a region having a length that is ½ of the length of the top plate 3B on the nozzle substrate 11A side in the Z direction. The recess 3B1 is formed in a band shape around the nozzle substrate 11A when viewed from the + X direction. The front surface of the recess 3B1 is lower in the X direction than the front surface of the nozzle substrate 11A. The top surface of the top plate 3B (the front surface of the convex portion) is higher in the X direction than the front surface of the nozzle substrate 11A. The position and shape of the recess 3B1 are merely examples, and the present invention is not limited to this example. For example, the top surface of the top plate 3B may be configured to have the same height in the X direction as the front surface of the nozzle substrate 11A. Further, the height of the front surface of the recess 3B1 in the X direction may be equal to or higher than the height of the front surface of the nozzle substrate 11A. The manufacturing method of the inkjet head 100B is the same as the manufacturing method of the inkjet head 100A of the first embodiment.

(実施例3)
図7を参照して、本実施の形態のインクジェットヘッド100の一実施例としての実施例3のインクジェットヘッド100Cを説明する。図7は、インクジェットヘッド100Cの断面図である。なお、実施例1と同じ部材には、同じ符号を付してその説明を省略する。
Example 3
With reference to FIG. 7, an inkjet head 100C of Example 3 as an example of the inkjet head 100 of the present embodiment will be described. FIG. 7 is a cross-sectional view of the inkjet head 100C. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as Example 1, and the description is abbreviate | omitted.

図7に示すように、インクジェットヘッド100Cは、ノズル基板11Aと、天板3Cと、を有する。図7は、ノズル基板11Aのノズル11aを通るXY平面の断面図である。   As shown in FIG. 7, the ink jet head 100C includes a nozzle substrate 11A and a top plate 3C. FIG. 7 is a cross-sectional view of the XY plane passing through the nozzle 11a of the nozzle substrate 11A.

天板3Cは、実施例1の天板3Aと同様の形状を有しているが、前面の全面が親インク処理されておらず、天板3Cの前面の一部、より具体的には天板3Cの前面のうち、ノズル基板11Aに隣接する領域を親インク領域3cCとする。本実施例においては、親インク領域3cCは、Y方向において、天板3Cの長さのうちノズル基板11A側の1/3の長さの領域に形成されている。また、親インク領域3cCは、Z方向において、天板3Cの長さのうちノズル基板11A側の1/3の長さの領域に形成されている。なお、この親インク領域3cCの位置、形状は、一例であって、この例に限定されるものではない。   The top plate 3C has the same shape as the top plate 3A of the first embodiment. However, the entire front surface is not treated with ink, and a part of the front surface of the top plate 3C, more specifically, the top plate 3C. A region adjacent to the nozzle substrate 11A in the front surface of the plate 3C is referred to as a parent ink region 3cC. In the present embodiment, the parent ink region 3cC is formed in a region having a length of 1/3 on the nozzle substrate 11A side in the length of the top plate 3C in the Y direction. Further, the parent ink region 3cC is formed in a region of 1/3 of the length of the top plate 3C on the nozzle substrate 11A side in the Z direction. The position and shape of the parent ink region 3cC are merely examples, and are not limited to this example.

インクジェットヘッド100Cの製造方法は、インクジェットヘッド100Cの保護層剥離工程F5までは、実施例1のインクジェットヘッド100Aの製造方法と同様である。親インク工程F6において、組み立て工程F4又は保護層剥離工程F5後のインクジェットヘッド100Cには、ノズル基板11Aの前面の全面と天板3Cの前面の一部のノズル基板11A隣接領域とを露出させる矩形の穴部を有する金属等の保護材21が天板3C上に設けられ、真空プラズマ処理として、ドライエッチングを行うことにより、ノズル基板11A及び天板3Cの前面の撥インク層が親インク処理され、親インク領域1cA,3cCが形成される。親インク領域3cCは、+X側から見て、ノズル基板11Aの周囲に帯状に形成されている。保護材21は、除去される。天板3Cには、撥インク層としての撥インク領域3aCが残されている。   The manufacturing method of the inkjet head 100C is the same as the manufacturing method of the inkjet head 100A of Example 1 up to the protective layer peeling step F5 of the inkjet head 100C. In the parent ink step F6, the inkjet head 100C after the assembly step F4 or the protective layer peeling step F5 has a rectangular shape that exposes the entire front surface of the nozzle substrate 11A and a part of the front surface of the top plate 3C adjacent to the nozzle substrate 11A. A protective material 21 such as a metal having a hole is provided on the top plate 3C, and the ink repellent layer on the front surface of the nozzle substrate 11A and the top plate 3C is subjected to ink affinity treatment by performing dry etching as a vacuum plasma treatment. The parent ink areas 1cA and 3cC are formed. The parent ink region 3cC is formed in a band shape around the nozzle substrate 11A when viewed from the + X side. The protective material 21 is removed. An ink repellent area 3aC as an ink repellent layer is left on the top plate 3C.

(実施例4)
図8を参照して、本実施の形態のインクジェットヘッド100の一実施例としての実施例4のインクジェットヘッド100Dを説明する。図8は、インクジェットヘッド100Dの断面図である。なお、実施例1と同じ部材には、同じ符号を付してその説明を省略する。
(Example 4)
With reference to FIG. 8, the inkjet head 100D of Example 4 as an example of the inkjet head 100 of this Embodiment is demonstrated. FIG. 8 is a cross-sectional view of the inkjet head 100D. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as Example 1, and the description is abbreviate | omitted.

図8に示すように、インクジェットヘッド100Dは、ノズル基板11Aと、天板3Dと、を有する。図8は、ノズル基板11Aのノズル11aを通るXY平面の断面図である。   As shown in FIG. 8, the ink jet head 100D includes a nozzle substrate 11A and a top plate 3D. FIG. 8 is a cross-sectional view of the XY plane passing through the nozzle 11a of the nozzle substrate 11A.

天板3Dは、実施例2の凹部3B1と同様の位置、形状の凹部3D1を有する。但し、天板3Dは、前面の全面が親インク処理されておらず、一部のみが親インク処理されて、天板3Dの凹部3D1の前面の一部に、親インク領域3cDが形成されている。また、親インク領域3cDは、Y方向において、凹部3D1の長さのうちノズル基板11A側の1/3の長さの領域に形成されている。また、親インク領域3cDは、Z方向において、凹部3D1の長さのうちノズル基板11A側の1/3の長さの領域に形成されている。なお、この凹部3D1、親インク領域3cDの位置、形状は、一例であって、この例に限定されるものではない。   The top plate 3D has a recess 3D1 having the same position and shape as the recess 3B1 of the second embodiment. However, the top plate 3D is not subjected to the parent ink treatment on the entire front surface, but only a part thereof is subjected to the parent ink treatment, and the parent ink region 3cD is formed on a part of the front surface of the recess 3D1 of the top plate 3D. Yes. Further, the parent ink region 3cD is formed in a region having a length of 1/3 on the nozzle substrate 11A side in the length of the recess 3D1 in the Y direction. Further, the parent ink region 3cD is formed in a region having a length of 1/3 on the nozzle substrate 11A side in the length of the recess 3D1 in the Z direction. The positions and shapes of the concave portion 3D1 and the parent ink region 3cD are merely examples, and are not limited to this example.

インクジェットヘッド100Dの製造方法は、インクジェットヘッド100Dの保護層剥離工程F5までは、実施例1のインクジェットヘッド100Aの製造方法と同様である。親インク工程F6において、組み立て工程F4又は保護層剥離工程F5後のインクジェットヘッド100Dには、保護材21が天板3D上に設けられ、真空プラズマ処理として、ドライエッチングを行うことにより、ノズル基板11A及び天板3Dの前面の撥インク層が親インク処理され、親インク領域1cA,3cDが形成される。親インク領域3cDは、+X側から見て、ノズル基板11Aの周辺に帯状に形成されている。保護材21は、除去される。天板3Dには、撥インク層としての撥インク領域3aDが残されている。   The manufacturing method of the inkjet head 100D is the same as the manufacturing method of the inkjet head 100A of Example 1 up to the protective layer peeling step F5 of the inkjet head 100D. In the parent ink process F6, the protective material 21 is provided on the top plate 3D in the inkjet head 100D after the assembly process F4 or the protective layer peeling process F5, and the nozzle substrate 11A is obtained by performing dry etching as a vacuum plasma treatment. The ink repellent layer on the front surface of the top plate 3D is subjected to the ink-philic process, and the ink-parent regions 1cA and 3cD are formed. The parent ink region 3cD is formed in a band shape around the nozzle substrate 11A when viewed from the + X side. The protective material 21 is removed. An ink repellent area 3aD as an ink repellent layer is left on the top plate 3D.

(実施例5)
図9を参照して、本実施の形態のインクジェットヘッド100の一実施例としての実施例5のインクジェットヘッド100Eを説明する。図9は、インクジェットヘッド100Eの断面図である。なお、実施例1と同じ部材には、同じ符号を付してその説明を省略する。
(Example 5)
With reference to FIG. 9, an inkjet head 100E of Example 5 as an example of the inkjet head 100 of the present embodiment will be described. FIG. 9 is a cross-sectional view of the inkjet head 100E. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as Example 1, and the description is abbreviate | omitted.

図9に示すように、インクジェットヘッド100Eは、ノズル基板11Aと、天板3Eと、を有する。図9は、ノズル基板11Aのノズル11aを通るXY平面の断面図である。   As shown in FIG. 9, the ink jet head 100E includes a nozzle substrate 11A and a top plate 3E. FIG. 9 is a cross-sectional view of the XY plane passing through the nozzle 11a of the nozzle substrate 11A.

天板3Eは、実施例2の天板3Bとは異なるテーパー状のリセス構造であるテーパー部3E1を有する。本実施例では、ノズル基板11Aがテーパー部3E1の前面の一番低い部分と比較してX方向において高い位置に配置されているため、テーパー部3E1の前面の一番低い部分とアクチュエーター1の側壁が接している。テーパー部3E1は、最前面の外周(テーパー部3E1におけるノズル基板11Aと逆側の最前部分)からノズル基板11Aを中に位置する開口部bの側壁(アクチュエーター1、ノズル基板11Aの側壁)にかけてなだらかに連続している。なお、テーパー部3E1は、アクチュエーター1の側壁に接しているものとするが、これに限定されるものではなく、テーパー部3E1がノズル基板11Aの側壁に接しているものとしてもよい。また、親インク領域をノズル基板11A又はアクチュエーター1の側壁にも設けておくことにより、より付着したインクをノズル基板11Aに流れ込ませやすくする観点でより好ましい。テーパー部3E1は、前面から見て、ノズル基板11Aの周辺に帯状に形成されている。テーパー部3E1の前面の一番低い部分は、ノズル基板11Aの前面よりもX方向の高さが低い。天板3Eの高い部分の前面(テーパー部3E1の前面の一番高い部分に接する平面)は、ノズル基板11Aの前面よりもX方向の高さが高い。天板3Eは、前面の全面が親インク処理されておらず、前面の一部のみが親インク処理されて、天板3Eのテーパー部3E1の前面の一部、より具体的には、天板3Eのテーパー部3E1のうち、ノズル基板11Aに隣接する領域に親インク処理された親インク領域3cEが形成されている。テーパー部3E1は、Y方向において、天板3Eの長さのうちノズル基板11A側の1/2の長さの領域に形成されている。また、テーパー部3E1は、Z方向において、天板3Eの長さのうちノズル基板11A側の1/2の長さの領域に形成されている。親インク領域3cEは、Y方向において、テーパー部3E1の長さのうちノズル基板11A側の1/2の長さの領域に形成されている。また、親インク領域3cEは、Z方向において、テーパー部3E1の長さのうちノズル基板11A側の1/2の長さの領域に形成されている。なお、このテーパー部3E1、親インク領域3cEの位置、形状は、一例であって、この例に限定されるものではない。例えば、テーパー部3E1の前面の一番低い部分のX方向の高さは、ノズル基板11Aの前面の高さ以上とし、ノズル基板11A又はアクチュエーター1の側壁を介さずにノズル基板11Aの前面に付着したミストを直接流れ込ませる構成としても良い。   The top plate 3E has a tapered portion 3E1 which is a tapered recess structure different from the top plate 3B of the second embodiment. In the present embodiment, since the nozzle substrate 11A is disposed at a higher position in the X direction than the lowest portion of the front surface of the tapered portion 3E1, the lowest portion of the front surface of the tapered portion 3E1 and the side wall of the actuator 1 are disposed. Is touching. The taper portion 3E1 is gently extended from the outermost front surface (the frontmost portion on the opposite side to the nozzle substrate 11A in the taper portion 3E1) to the side wall of the opening b in which the nozzle substrate 11A is located (the side wall of the actuator 1 and the nozzle substrate 11A). It is continuous. In addition, although the taper part 3E1 shall be in contact with the side wall of the actuator 1, it is not limited to this, The taper part 3E1 is good also as what is in contact with the side wall of the nozzle substrate 11A. In addition, providing the parent ink region also on the side wall of the nozzle substrate 11A or the actuator 1 is more preferable from the viewpoint of facilitating the adhering ink to flow into the nozzle substrate 11A. The tapered portion 3E1 is formed in a band shape around the nozzle substrate 11A when viewed from the front. The lowest portion of the front surface of the tapered portion 3E1 has a lower height in the X direction than the front surface of the nozzle substrate 11A. The front surface of the high portion of the top plate 3E (the plane in contact with the highest portion of the front surface of the tapered portion 3E1) is higher in the X direction than the front surface of the nozzle substrate 11A. In the top plate 3E, the entire front surface is not subjected to the ink-philic treatment, and only a part of the front surface is subjected to the ink-philic treatment, and more specifically, a part of the front surface of the tapered portion 3E1 of the top plate 3E. Of the 3E tapered portion 3E1, a parent ink region 3cE that has been subjected to a parent ink process is formed in a region adjacent to the nozzle substrate 11A. The tapered portion 3E1 is formed in a region having a length that is ½ of the length of the top plate 3E on the nozzle substrate 11A side in the Y direction. Further, the taper portion 3E1 is formed in a region having a length of ½ of the length of the top plate 3E on the nozzle substrate 11A side in the Z direction. The parent ink region 3cE is formed in a region of ½ length on the nozzle substrate 11A side in the length of the tapered portion 3E1 in the Y direction. Further, the parent ink region 3cE is formed in a region having a half length on the nozzle substrate 11A side in the length of the tapered portion 3E1 in the Z direction. The positions and shapes of the tapered portion 3E1 and the parent ink region 3cE are merely examples, and are not limited to this example. For example, the height in the X direction of the lowest portion of the front surface of the tapered portion 3E1 is set to be equal to or higher than the height of the front surface of the nozzle substrate 11A, and adheres to the front surface of the nozzle substrate 11A without passing through the nozzle substrate 11A or the side wall of the actuator 1. It is good also as a structure in which the mist which flowed is directly flowed in.

インクジェットヘッド100Eの製造方法は、インクジェットヘッド100Eの保護層剥離工程F5までは、実施例1のインクジェットヘッド100Aの製造方法と同様である。親インク工程F6において、組み立て工程F4又は保護層剥離工程F5後のインクジェットヘッド100Eには、矩形の穴部を有する保護材21が天板3E上に設けられ、真空プラズマ処理として、ドライエッチングを行うことにより、ノズル基板11A及び天板3Eの前面の撥インク層が親インク化処理され、親インク領域1cA,3cEが形成される。親インク領域3cEは、+X側から見て、ノズル基板11Aの周囲に帯状に形成されている。保護材21は、除去される。天板3Eには、撥インク層としての撥インク領域3aEが残されている。   The manufacturing method of the inkjet head 100E is the same as the manufacturing method of the inkjet head 100A of Example 1 until the protective layer peeling process F5 of the inkjet head 100E. In the parent ink process F6, the inkjet head 100E after the assembly process F4 or the protective layer peeling process F5 is provided with a protective material 21 having a rectangular hole on the top plate 3E, and dry etching is performed as a vacuum plasma treatment. Thus, the ink repellent layer on the front surface of the nozzle substrate 11A and the top plate 3E is subjected to the ink affinity process, and the ink affinity regions 1cA and 3cE are formed. The parent ink region 3cE is formed in a band shape around the nozzle substrate 11A when viewed from the + X side. The protective material 21 is removed. An ink repellent area 3aE as an ink repellent layer is left on the top plate 3E.

(実施例6)
図10を参照して、本実施の形態のインクジェットヘッド100の一実施例としての実施例6のインクジェットヘッド100Fを説明する。図10は、インクジェットヘッド100Fの断面図である。なお、実施例1と同じ部材には、同じ符号を付してその説明を省略する。
(Example 6)
With reference to FIG. 10, an inkjet head 100F of Example 6 as an example of the inkjet head 100 of the present embodiment will be described. FIG. 10 is a cross-sectional view of the inkjet head 100F. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as Example 1, and the description is abbreviate | omitted.

図10に示すように、インクジェットヘッド100Fは、ノズル基板11Aと、天板3Fと、を有する。図10は、ノズル基板11Aのノズル11aを通るXY平面の断面図である。   As shown in FIG. 10, the inkjet head 100F includes a nozzle substrate 11A and a top plate 3F. FIG. 10 is a cross-sectional view of the XY plane passing through the nozzle 11a of the nozzle substrate 11A.

天板3Fは、実施例5のテーパー部3E1と同様の位置、形状のテーパー部3F1を有する。天板3Fは、前面の全面が親インク処理されておらず、テーパー部3F1の前面の全面のみが親インク処理されて、天板3Fのテーパー部3F1の前面の全面に、親インク処理された親インク領域3cFが形成されている。なお、このテーパー部3F1、親インク領域3cFの位置、形状は、一例であって、この例に限定されるものではない。   The top plate 3F has a tapered portion 3F1 having the same position and shape as the tapered portion 3E1 of the fifth embodiment. The top surface of the top plate 3F has not been subjected to the parent ink treatment on the entire front surface, only the entire front surface of the tapered portion 3F1 has been subjected to the parent ink treatment, and the entire front surface of the tapered portion 3F1 of the top plate 3F has been subjected to the parent ink processing. A parent ink region 3cF is formed. The positions and shapes of the tapered portion 3F1 and the parent ink region 3cF are merely examples, and are not limited to this example.

インクジェットヘッド100Fの製造方法は、インクジェットヘッド100Fの保護層剥離工程F5までは、実施例1のインクジェットヘッド100Aの製造方法と同様である。親インク工程F6において、組み立て工程F4又は保護層剥離工程F5後のインクジェットヘッド100Fには、保護材21よりも大きな矩形の穴部を有する保護材22が天板3F上に設けられ、真空プラズマ処理として、ドライエッチングにより、ノズル基板11Aの前面の全面の撥インク層と天板3Fの前面の一部の撥インク層とが親インク化されて、親インク領域1cA,3cFが形成される。親インク領域3cFは、+X側から見て、ノズル基板11Aの周囲に帯状に形成されている。保護材22は、除去される。天板3Fには、撥インク層としての撥インク領域3aFが残されている。   The manufacturing method of the inkjet head 100F is the same as the manufacturing method of the inkjet head 100A of Example 1 up to the protective layer peeling step F5 of the inkjet head 100F. In the parent ink process F6, the inkjet head 100F after the assembly process F4 or the protective layer peeling process F5 is provided with a protective material 22 having a rectangular hole larger than the protective material 21 on the top plate 3F, and is subjected to vacuum plasma treatment. As a result, by dry etching, the ink repellent layer on the entire front surface of the nozzle substrate 11A and the ink repellent layer on the front surface of the top plate 3F are converted into the parent ink, and the parent ink regions 1cA and 3cF are formed. The parent ink region 3cF is formed in a band shape around the nozzle substrate 11A when viewed from the + X side. The protective material 22 is removed. An ink repellent area 3aF as an ink repellent layer is left on the top plate 3F.

(実施例7)
図11を参照して、本実施の形態のインクジェットヘッド100の一実施例としての実施例7のインクジェットヘッド100Gを説明する。図11(a)〜図11(d)は、インクジェットヘッド100Fの親インク処理の各工程の断面図である。なお、実施例1と同じ部材には、同じ符号を付してその説明を省略する。
(Example 7)
With reference to FIG. 11, an inkjet head 100G of Example 7 as an example of the inkjet head 100 of the present embodiment will be described. FIG. 11A to FIG. 11D are cross-sectional views of respective steps of the ink-philic process of the inkjet head 100F. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as Example 1, and the description is abbreviate | omitted.

図11(a)に示すように、インクジェットヘッド100Gは、ノズル基板11Aと、天板3Gと、を有する。図11(a)〜図11(d)は、ノズル基板11Aのノズル11aを通るXY平面の断面図である。   As shown in FIG. 11A, the ink jet head 100G includes a nozzle substrate 11A and a top plate 3G. 11A to 11D are cross-sectional views of the XY plane passing through the nozzle 11a of the nozzle substrate 11A.

天板3Gは、実施例5のテーパー部3E1と同様の位置、形状のテーパー部3G1を有する。なお、このテーパー部3G1の位置、形状は、一例であって、この例に限定されるものではない。   The top plate 3G has a tapered portion 3G1 having the same position and shape as the tapered portion 3E1 of the fifth embodiment. In addition, the position and shape of this taper part 3G1 are examples, Comprising: It is not limited to this example.

インクジェットヘッド100Gの製造方法は、インクジェットヘッド100Gの保護層剥離工程F5までは、実施例1のインクジェットヘッド100Aの製造方法と同様である。親インク工程F6において、図11(a)に示すように、組み立て工程F4又は保護層剥離工程F5後のインクジェットヘッド100Gには、矩形の穴部を有する保護材31が天板3G上に設けられ、真空プラズマ処理として、所定時間のドライエッチングを行うことにより、ノズル基板11Aの前面の全面の撥インク層が親インク処理され、親インク領域1cAを有する。保護材31は、除去される。   The manufacturing method of the inkjet head 100G is the same as the manufacturing method of the inkjet head 100A of Example 1 up to the protective layer peeling step F5 of the inkjet head 100G. In the parent ink process F6, as shown in FIG. 11A, the inkjet head 100G after the assembly process F4 or the protective layer peeling process F5 is provided with a protective material 31 having a rectangular hole on the top plate 3G. As the vacuum plasma treatment, by performing dry etching for a predetermined time, the ink repellent layer on the entire front surface of the nozzle substrate 11A is subjected to the parent ink treatment, and has the parent ink region 1cA. The protective material 31 is removed.

次いで、図11(b)に示すように、インクジェットヘッド100Gには、保護材31よりも大きな矩形の穴部を有する保護材32が天板3G上に設けられ、真空プラズマ処理として、所定時間のドライエッチングを行うことにより、親インク領域1cAの全面と天板3Gの前面の一部の撥インク層とが親インク処理され、さらに親インク化された親インク領域1cAと、親インク処理された親インク領域3cGとが形成される。親インク領域3cGは、親インク領域3cG1を含む。親インク領域3cG1は、Y方向において、テーパー部3G1の長さのうちノズル基板11A側の1/2の長さの領域に形成されている。また、親インク領域3cG1は、Z方向において、テーパー部3G1の長さのうちノズル基板11A側の1/2の長さの領域に形成されている。保護材32は、除去される。   Next, as shown in FIG. 11 (b), the inkjet head 100G is provided with a protective material 32 having a rectangular hole larger than the protective material 31 on the top plate 3G. By performing dry etching, the entire surface of the parent ink region 1cA and a part of the ink repellent layer on the front surface of the top plate 3G are subjected to the parent ink treatment, and the parent ink region 1cA that has been changed to the parent ink is subjected to the parent ink treatment. A parent ink region 3cG is formed. The parent ink area 3cG includes a parent ink area 3cG1. The parent ink region 3cG1 is formed in a region of ½ length on the nozzle substrate 11A side in the length of the tapered portion 3G1 in the Y direction. In addition, the parent ink region 3cG1 is formed in a region having a length that is ½ of the length of the tapered portion 3G1 on the nozzle substrate 11A side in the Z direction. The protective material 32 is removed.

次いで、図11(c)に示すように、インクジェットヘッド100Gには、保護材32よりも大きな矩形の穴部を有する保護材33が天板3G上に設けられ、真空プラズマ処理として、所定時間のドライエッチングを行うことにより、親インク領域1cAの全面と、親インク領域3cG1の全面及び天板3Gの前面の一部の撥インク層と、が親インク処理され、さらに親インク化された親インク領域1cA,3cG1と、親インク領域3cG2とが形成される。親インク領域3cGは、親インク領域3cG1,3cG2を含む。親インク領域3cG2は、Y方向において、テーパー部3G1の長さのうちノズル基板11Aと逆側の1/2の長さの領域に形成されている。また、親インク領域3cG2は、Z方向において、テーパー部3G1の長さのうちノズル基板11Aと逆側の1/2の長さの領域に形成されている。保護材33は、除去される。   Next, as shown in FIG. 11 (c), the inkjet head 100G is provided with a protective material 33 having a rectangular hole larger than the protective material 32 on the top plate 3G. By performing dry etching, the entire surface of the parent ink region 1cA, the entire surface of the parent ink region 3cG1, and a part of the ink repellent layer on the front surface of the top plate 3G are subjected to the parent ink treatment, and the parent ink that has been changed to the parent ink. Regions 1cA and 3cG1 and a parent ink region 3cG2 are formed. The parent ink region 3cG includes parent ink regions 3cG1 and 3cG2. The parent ink region 3cG2 is formed in a region having a length that is ½ of the length of the tapered portion 3G1 on the side opposite to the nozzle substrate 11A in the Y direction. Further, the parent ink region 3cG2 is formed in a region having a half length on the opposite side to the nozzle substrate 11A in the length of the tapered portion 3G1 in the Z direction. The protective material 33 is removed.

次いで、図11(d)に示すように、インクジェットヘッド100Gには、保護材33よりも大きな矩形の穴部を有する保護材34が天板3G上に設けられ、真空プラズマ処理として、所定時間のドライエッチングを行うことにより、親インク領域1cAの全面と、親インク領域3cG1,3cG2の全面及び天板3Gの前面の一部の撥インク層とが親インク処理され、さらに親インク化された親インク領域1cA,3cG1,3cG2と、親インク領域3cG3とが形成される。親インク領域3cGは、親インク領域3cG1,3cG2,3cG3を含む。親インク領域3cG3は、Y方向において、天板3Gの表面の長さのうちテーパー部3G1側の親インク領域3cG1と同じ長さの領域に形成されている。また、親インク領域3cG3は、Z方向において、天板3Gの表面の長さのうちテーパー部3G1側の親インク領域3cG1と同じ長さの領域に形成されている。このように、天板3Gの最前面の一部とテーパー部3G1の前面の全面とが親インク処理されている。親インク領域3cGは、+X側から見て、ノズル基板11Aの周囲に帯状に形成されている。天板3Gは、ノズル基板11AからY方向、Z方向に離れるにつれて親インク化の度合いがより低くなる(後退接触角がより大きくなる)親インク処理の4段階のグラデーション構造を有する。つまり、インクジェットヘッド100Gにおいて、天板3Gは、インクの後退接触角が最前面の外周からノズル基板11Aを中に位置する開口部bの側壁にかけて小さくなるよう変化している。保護材34は、除去される。天板3Gには、撥インク層としての撥インク領域3aGが残されている。   Next, as shown in FIG. 11 (d), the inkjet head 100G is provided with a protective material 34 having a rectangular hole larger than the protective material 33 on the top plate 3G. By performing dry etching, the entire surface of the parent ink region 1cA, the entire surface of the parent ink regions 3cG1 and 3cG2, and a part of the ink repellent layer on the front surface of the top plate 3G are subjected to the parent ink treatment, and the parent ink that has been changed to the parent ink region. Ink regions 1cA, 3cG1, 3cG2 and a parent ink region 3cG3 are formed. The parent ink region 3cG includes parent ink regions 3cG1, 3cG2, and 3cG3. The parent ink region 3cG3 is formed in a region having the same length as the parent ink region 3cG1 on the tapered portion 3G1 side in the length of the surface of the top plate 3G in the Y direction. Further, the parent ink region 3cG3 is formed in a region having the same length as the parent ink region 3cG1 on the tapered portion 3G1 side in the length of the surface of the top plate 3G in the Z direction. In this way, a part of the front surface of the top plate 3G and the entire front surface of the tapered portion 3G1 are subjected to ink-philic processing. The parent ink region 3cG is formed in a band shape around the nozzle substrate 11A when viewed from the + X side. The top plate 3G has a four-step gradation structure of the parent ink processing in which the degree of ink affinity becomes lower (the receding contact angle becomes larger) as it moves away from the nozzle substrate 11A in the Y direction and the Z direction. That is, in the inkjet head 100G, the top plate 3G is changed so that the receding contact angle of the ink becomes smaller from the outermost surface of the front surface to the side wall of the opening b where the nozzle substrate 11A is located inside. The protective material 34 is removed. An ink repellent area 3aG as an ink repellent layer is left on the top 3G.

なお、親インク領域3cG,3cG1,3cG2,3cG3の位置、形状は、一例であって、この例に限定されるものではない。また、親インク領域1cA,3cGの親インク処理の段階数は、4段階に限定されるものではない。   The positions and shapes of the parent ink regions 3cG, 3cG1, 3cG2, and 3cG3 are merely examples, and the present invention is not limited to this example. Further, the number of stages of parent ink processing in the parent ink areas 1cA and 3cG is not limited to four.

(実施例8)
図12を参照して、本実施の形態のインクジェットヘッド100の一実施例としての実施例8のインクジェットヘッド100Jを説明する。図12は、インクジェットヘッド100Jの断面図である。なお、実施例1と同じ部材には、同じ符号を付してその説明を省略する。
(Example 8)
With reference to FIG. 12, the inkjet head 100J of Example 8 as an example of the inkjet head 100 of this Embodiment is demonstrated. FIG. 12 is a cross-sectional view of the inkjet head 100J. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as Example 1, and the description is abbreviate | omitted.

図12に示すように、インクジェットヘッド100Jは、ノズル基板11Aと、天板3Jと、を有する。インクジェットヘッド100Jは、ノズル基板11Aの前面の全面のみに親インク領域1cAを有する。   As shown in FIG. 12, the inkjet head 100J includes a nozzle substrate 11A and a top plate 3J. The inkjet head 100J has a parent ink region 1cA only on the entire front surface of the nozzle substrate 11A.

インクジェットヘッド100Jの製造方法は、実施例3のインクジェットヘッド100Cの製造方法と同様である。但し、親インク工程F6において、保護材21に代えて保護材23を用いる。保護材23は、ノズル基板11Aの前面の全面のみを露出させる矩形の穴部を有する。組み立て工程F4又は保護層剥離工程F5後のインクジェットヘッド100Jにおいて、保護材23が天板3J上に設けられ、真空プラズマ処理として、ドライエッチングを行うことにより、ノズル基板11Aの前面の撥インク層が親インク処理され、親インク領域1cAが形成される。保護材23は、除去される。天板3Jの前面の全面には、撥インク層としての撥インク領域3aJが残されている。   The manufacturing method of the inkjet head 100J is the same as the manufacturing method of the inkjet head 100C of the third embodiment. However, the protective material 23 is used in place of the protective material 21 in the parent ink process F6. The protective material 23 has a rectangular hole that exposes only the entire front surface of the nozzle substrate 11A. In the inkjet head 100J after the assembly process F4 or the protective layer peeling process F5, the protective material 23 is provided on the top plate 3J, and dry etching is performed as a vacuum plasma treatment, whereby the ink repellent layer on the front surface of the nozzle substrate 11A is formed. The parent ink process is performed to form a parent ink area 1cA. The protective material 23 is removed. An ink repellent area 3aJ as an ink repellent layer is left on the entire front surface of the top plate 3J.

(実施例9)
図13を参照して、本実施の形態のインクジェットヘッド100の一実施例としての実施例9のインクジェットヘッドを説明する。図13は、インクジェットヘッド100Kの断面図である。なお、実施例1と同じ部材には、同じ符号を付してその説明を省略する。
Example 9
With reference to FIG. 13, an ink jet head of Example 9 as an example of the ink jet head 100 of the present embodiment will be described. FIG. 13 is a cross-sectional view of the inkjet head 100K. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same member as Example 1, and the description is abbreviate | omitted.

図13に示すように、インクジェットヘッド100Kは、ノズル基板11Aと、天板3Kと、を有する。インクジェットヘッド100Kは、ノズル基板11Aの前面の全面のみに親インク領域1cAを有する。   As shown in FIG. 13, the inkjet head 100K includes a nozzle substrate 11A and a top plate 3K. The ink jet head 100K has a parent ink region 1cA only on the entire front surface of the nozzle substrate 11A.

インクジェットヘッド100Kの製造方法は、実施例4のインクジェットヘッド100Dの製造方法と同様である。但し、親インク工程F6において、保護材21に代えて保護材23を用いる。組み立て工程F4又は保護層剥離工程F5後のインクジェットヘッド100Kにおいて、保護材23が天板3K上に設けられ、真空プラズマ処理として、ドライエッチングを行うことにより、ノズル基板11Aの前面の撥インク層が親インク処理され、親インク領域1cAが形成される。保護材23は、除去される。天板3Jの前面の全面には、撥インク層としての撥インク領域3aJが残されている。   The manufacturing method of the inkjet head 100K is the same as the manufacturing method of the inkjet head 100D of the fourth embodiment. However, the protective material 23 is used in place of the protective material 21 in the parent ink process F6. In the inkjet head 100K after the assembly process F4 or the protective layer peeling process F5, the protective material 23 is provided on the top plate 3K, and dry etching is performed as a vacuum plasma treatment, whereby the ink repellent layer on the front surface of the nozzle substrate 11A is formed. The parent ink process is performed to form a parent ink area 1cA. The protective material 23 is removed. An ink repellent area 3aJ as an ink repellent layer is left on the entire front surface of the top plate 3J.

ここで、図14を参照して、実施例1〜9及び比較例1〜3の評価を説明する。図14は、比較例3のインクジェットヘッド100Hの断面図である。   Here, with reference to FIG. 14, evaluation of Examples 1-9 and Comparative Examples 1-3 is demonstrated. FIG. 14 is a cross-sectional view of the inkjet head 100H of Comparative Example 3.

実施例1〜9及び比較例1〜3のインクジェットヘッドの構成及び評価を次表1にまとめた。

Figure 0006447314
The configurations and evaluations of the inkjet heads of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 are summarized in Table 1 below.
Figure 0006447314

比較例1のインクジェットヘッドは、実施例1のインクジェットヘッド100Aと同様の構成であるが、工程流動時にノズル基板(及び天板)に撥インク層が形成されず、ノズル基板及び天板に、親インク処理が施されていない。   The ink jet head of Comparative Example 1 has the same configuration as that of the ink jet head 100A of Example 1, but an ink repellent layer is not formed on the nozzle substrate (and the top plate) during the process flow, and the nozzle substrate and the top plate have a parent structure. Ink treatment is not performed.

比較例2のインクジェットヘッドは、実施例1のインクジェットヘッド100Aと同様の構成であるが、工程流動時にノズル基板(及び天板)に撥インク層が形成されるものの、ノズル基板及び天板に、親インク処理が施されていない。   The inkjet head of Comparative Example 2 has the same configuration as the inkjet head 100A of Example 1, but an ink repellent layer is formed on the nozzle substrate (and the top plate) during the process flow. No parent ink treatment has been performed.

比較例3のインクジェットヘッド100Hは、実施例1のインクジェットヘッド100Aと同様の構成であるが、ノズル基板のノズル穴近傍のみに親インク処理が施され、天板に、親インク処理が施されていない。   The inkjet head 100H of Comparative Example 3 has the same configuration as that of the inkjet head 100A of Example 1, but the parent ink process is performed only in the vicinity of the nozzle holes of the nozzle substrate, and the top plate is subjected to the parent ink process. Absent.

図14に示すように、比較例3のインクジェットヘッド100Hは、ノズル基板11Hと、天板3Hと、を有する。ノズル基板11Hは、実施例1のノズル基板11Aと同様の形状を有し、ノズル11aのノズル穴近傍の領域の親インク処理された親インク領域1cHを有する。天板3Hは、実施例1の天板3Aと同様の形状を有する。但し、インクジェットヘッド100Hの製造時には、インクジェットヘッド100Hの組み立て後、保護材41が、ノズル基板11H及び天板3H上に設けられる。   As shown in FIG. 14, the inkjet head 100H of Comparative Example 3 includes a nozzle substrate 11H and a top plate 3H. The nozzle substrate 11H has the same shape as the nozzle substrate 11A of the first embodiment, and has a parent ink region 1cH that has been subjected to parent ink processing in a region near the nozzle hole of the nozzle 11a. The top plate 3H has the same shape as the top plate 3A of the first embodiment. However, when the inkjet head 100H is manufactured, the protective material 41 is provided on the nozzle substrate 11H and the top plate 3H after the assembly of the inkjet head 100H.

保護材41は、全てのノズル11aの前面のノズル穴の位置に直径100μmの穴部を有する金属製のマスクである。保護材41は、その穴部が各ノズル11aのノズル穴の中心にくるようにアライメントされた後、ノズル基板11Hに接触させて固定される。そして、X方向の前面から真空プラズマ処理として、ドライエッチングがノズル基板11Aの撥インク層に施される。保護材41は、除去される。このようにして、インクジェットヘッド100Hは、ノズル基板11Hのインク吐出側の面のうちノズル11aのノズル穴近傍の領域のみ撥インク層が親インク処理される。   The protective material 41 is a metal mask having a hole portion with a diameter of 100 μm at the position of the nozzle holes on the front surface of all the nozzles 11a. After the protective material 41 is aligned so that the hole portion is at the center of the nozzle hole of each nozzle 11a, the protective material 41 is fixed in contact with the nozzle substrate 11H. Then, dry etching is performed on the ink repellent layer of the nozzle substrate 11A as a vacuum plasma treatment from the front surface in the X direction. The protective material 41 is removed. In this manner, in the ink jet head 100H, the ink repellent layer is subjected to ink affinity treatment only in the area near the nozzle hole of the nozzle 11a on the ink discharge side surface of the nozzle substrate 11H.

表1の評価における射出角度分布とは、インクジェットヘッド完成後におけるインクの射出分布角度の評価である。この評価において、吐出液滴量が平均14[pL]の液滴を吐出可能な512ノズル穴を有する実施例1〜9及び比較例1〜3のインクジェットヘッドを作製し使用した。顔料を含まないn−テトラデカンからなるインクを使用し、描画装置に取り付け、ヘッドに駆動回路よりパルス信号送ることによりインクを出射しながら、紙を一度搬送させノズル検査パターンを描画した。全ノズルについて印画したドットの着弾ズレを計測し、液滴の真直度を示すパラメータとして、射出角度を算出した。   The ejection angle distribution in the evaluation of Table 1 is an evaluation of the ink ejection distribution angle after completion of the inkjet head. In this evaluation, the inkjet heads of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 having 512 nozzle holes capable of discharging droplets having an average discharge droplet amount of 14 [pL] were prepared and used. An ink made of n-tetradecane containing no pigment was used, and it was attached to a drawing apparatus. The ink was ejected by sending a pulse signal from a drive circuit to the head, and the paper was transported once to draw a nozzle test pattern. The landing deviation of the dots printed for all the nozzles was measured, and the ejection angle was calculated as a parameter indicating the straightness of the droplet.

表1の射出角度分布の評価において、
○:全吐出ノズルが、−1°〜+1°の範囲におさまる、
×:全吐出ノズルが、−1°〜+1°の範囲におさまらない、
とした。
In the evaluation of the injection angle distribution in Table 1,
○: All discharge nozzles fall within the range of −1 ° to + 1 °.
X: All discharge nozzles do not fall within the range of -1 ° to + 1 °.
It was.

表1の射出角度分布の評価では、比較例1、3のインクジェットヘッドは、いずれも×となり、良好でない評価となった。比較例2、実施例1〜9のインクジェットヘッドは、いずれも○となり、良好な評価が得られた。   In the evaluation of the ejection angle distribution in Table 1, the ink jet heads of Comparative Examples 1 and 3 were all evaluated as x, which was not good. The ink jet heads of Comparative Example 2 and Examples 1 to 9 were all good and good evaluation was obtained.

表1の評価における連続射出安定性とは、連続吐出30分後の射出異常(インクの欠、曲り、速度低下)の有無の確認による評価である。連続射出安定性の評価において、吐出安定性の効果は、吐出周波数が5[kHz]以上で兆候が出始め、10[kHz]以上において、顕著となった。また、吐出安定性に関し、射出液滴1滴の液量は、42[pL]以下が適切であり、30[pL]以下が好ましく、15[pL]以下で、より高い効果を確認できた。   The continuous ejection stability in the evaluation of Table 1 is an evaluation by confirming the presence or absence of ejection abnormality (ink missing, bending, speed reduction) after 30 minutes of continuous ejection. In the evaluation of continuous injection stability, the effect of the discharge stability began to appear when the discharge frequency was 5 [kHz] or higher, and became noticeable when the frequency was 10 [kHz] or higher. Regarding the ejection stability, the amount of one ejected droplet is appropriately 42 [pL] or less, preferably 30 [pL] or less, and 15 [pL] or less, and a higher effect was confirmed.

また、連続射出安定性の評価において使用したインクには、ミストが舞いやすい粒子を含むインクを用いる。インクジェットヘッドに使用されるインクの粒子径の領域は、平均粒径で1[nm]〜10[μm]程度である。本実施の形態のインクジェットにおいて好ましい粒子径の範囲としては、10[nm]〜3[μm]であり、50[nm]〜600[nm]がより好ましい。この範囲には、通常の有機系顔料インクと通常の無機系顔料インクとも含まれる。   In addition, as the ink used in the evaluation of the continuous ejection stability, an ink containing particles that are susceptible to mist is used. The region of the particle diameter of the ink used in the inkjet head is about 1 [nm] to 10 [μm] in terms of average particle diameter. In the inkjet of the present embodiment, a preferable particle diameter range is 10 [nm] to 3 [μm], and 50 [nm] to 600 [nm] is more preferable. This range includes ordinary organic pigment inks and ordinary inorganic pigment inks.

インクの密度としては、0.75〜2.2[g/cm]を好ましく用いることができ、より好ましい密度としては、0.75〜1.8[g/cm]である。この範囲には、通常の有機系顔料インク、通常の無機系顔料インク、銀インクが含まれる。 The density of the ink, can be preferably used 0.75~2.2 [g / cm 3], a more preferred density is 0.75~1.8 [g / cm 3]. This range includes ordinary organic pigment ink, ordinary inorganic pigment ink, and silver ink.

表1の連続射出安定性の評価において、吐出液滴量が平均14[pL]の液滴を吐出可能な512のノズル穴を有する実施例1〜9及び比較例1〜3のインクジェットヘッドを作製し使用した。使用するインクの有機溶剤としてn−テトラデカン用いると共に平均粒子径250[nm]の顔料を5[wt%]を含有させたインクを使用した。
駆動回路からインクジェットヘッドにパルス信号を送ることにより吐出周波数10[kHz]で上述したインクを出射しながら、搬送速度24[m/min]で紙を搬送させ連続吐出印画試験を行った。このとき、30分経過後連続吐出印画を止め、一度ノズル検査パターンを描画した。全ノズルについて、着弾したドッドの有無、射出角度を測定した。
In the evaluation of continuous ejection stability in Table 1, inkjet heads of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 having 512 nozzle holes capable of ejecting droplets having an average droplet volume of 14 [pL] were produced. Used. As the organic solvent for the ink used, n-tetradecane was used, and an ink containing 5 wt% of a pigment having an average particle size of 250 nm was used.
A continuous discharge printing test was performed by transporting paper at a transport speed of 24 [m / min] while emitting the ink described above at a discharge frequency of 10 [kHz] by sending a pulse signal from the drive circuit to the inkjet head. At this time, continuous discharge printing was stopped after 30 minutes, and a nozzle test pattern was drawn once. With respect to all nozzles, the presence or absence of landed dods and the injection angle were measured.

表1の連続射出安定性の評価において、
◎:着弾ドットが観測されなかったノズルはなく、全吐出ノズルも−1°〜+1°の範囲におさまる、
○:着弾ドットが観測されなかったノズルはないが、全吐出ノズルが、−1°〜+1°の範囲におさまらない、
△:着弾ドットが観測されなかったノズルが、1〜20個存在する、
×:着弾ドットが観測されなかったノズルが、20個以上存在する、
とした。
In the evaluation of continuous injection stability in Table 1,
A: There are no nozzles in which no landing dots are observed, and all the discharge nozzles fall within the range of -1 ° to + 1 °.
○: There are no nozzles where no landing dot was observed, but all the discharge nozzles do not fall within the range of -1 ° to + 1 °.
Δ: 1 to 20 nozzles in which no landing dots were observed,
X: There are 20 or more nozzles where no landing dots were observed,
It was.

表1の連続射出安定性の評価では、比較例1〜3のインクジェットヘッドは、いずれも×となり、良好でない評価となった。実施例1〜9のインクジェットヘッドは、いずれも△以上となり、比較例1〜3のインクジェットヘッドに比べて良好な評価が得られた。特に、実施例1〜7のインクジェットヘッドは、いずれも○以上となり、より良好な評価が得られた。さらに、実施例7のインクジェットヘッドは、◎となり、最も良好な評価が得られた。   In the evaluation of the continuous injection stability in Table 1, all of the inkjet heads of Comparative Examples 1 to 3 were evaluated as x, which was not good. All of the inkjet heads of Examples 1 to 9 were Δ or more, and favorable evaluation was obtained as compared with the inkjet heads of Comparative Examples 1 to 3. In particular, the ink jet heads of Examples 1 to 7 were all good or better, and better evaluation was obtained. Further, the ink jet head of Example 7 was evaluated as ◎, and the best evaluation was obtained.

以上、本実施の形態によれば、実施例1〜9のインクジェットヘッドの製造方法は、撥インク処理されたノズル基板に保護層を付与する工程と、保護層が付与されたノズル基板にノズルを形成する工程と、ノズルが形成されたノズル基板から保護層を剥がす保護層剥離工程と、保護層剥離工程の後、ノズル基板のノズルからインクが吐出される側の面の全面を親インク処理する親インク工程と、を有する。保護層は、保護フィルムである。   As mentioned above, according to this Embodiment, the manufacturing method of the inkjet head of Examples 1-9 is a process which provides a protective layer to the nozzle substrate by which the ink-repellent process was carried out, and a nozzle to the nozzle substrate to which the protective layer was provided. After the forming step, the protective layer peeling step for peeling the protective layer from the nozzle substrate on which the nozzles are formed, and the protective layer peeling step, the entire surface of the nozzle substrate on the side where ink is ejected is subjected to the parent ink treatment. And a parent ink process. The protective layer is a protective film.

このため、撥インク処理されたノズル基板全面を、撥インク処理後に、親インク処理する製造プロセスを実施することで、工程で流動使用する保護層の一部の残り(保護フィルムの糊残り)による不良を低減して収率安定化を実現できるとともに、天板により、インクジェットヘッドの連続使用環境で生じる傷に対しても劣化がない上に、たとえ発生したインクのミストが多い環境下でミストが親インク処理された部分に付着しても、ごく薄い液膜を形成した状態を維持するため、ノズル面の状態に変化が生じず、インクの連続吐出中も安定化した吐出特性を得ることができる。   For this reason, by carrying out a manufacturing process in which the ink repellent treatment is performed on the entire surface of the nozzle substrate that has been subjected to the ink repellent treatment, the remaining ink (the adhesive residue of the protective film) is used. It is possible to reduce the defects and stabilize the yield, and the top plate does not deteriorate against scratches caused by the continuous use environment of the inkjet head, and the mist is generated even in an environment where there is a lot of generated ink mist. Even if it adheres to the part that has been treated with the parent ink, it maintains the state of forming a very thin liquid film, so there is no change in the state of the nozzle surface, and stable ejection characteristics can be obtained even during continuous ink ejection. it can.

また、実施例1〜7のインクジェットヘッドの製造方法は、ノズル基板を取り囲み、ノズルからインクが吐出される側の面が撥インク処理された天板をノズル基板に取り付ける組み立て工程F4を有する。また、親インク工程において、ノズル基板とともに、天板のうち、ノズルからインクが吐出される側の面の少なくとも一部を親インク処理する。このため、天板の親インク処理された部分にインクが付着しても、ごく薄い液膜を形成した状態を維持し、液だまりの発生を防止できる。   In addition, the manufacturing method of the inkjet head of Examples 1 to 7 includes an assembly process F4 that surrounds the nozzle substrate and attaches to the nozzle substrate a top plate on which ink is discharged from the nozzle. Further, in the parent ink process, at least part of the surface of the top plate where ink is ejected from the nozzles is subjected to the parent ink treatment together with the nozzle substrate. For this reason, even if ink adheres to the portion of the top plate that has been treated with the ink-friendly ink, the state in which a very thin liquid film is formed can be maintained and the occurrence of a liquid pool can be prevented.

また、実施例1〜9のインクジェットヘッドの製造方法は、ノズル基板の撥インク処理された部分(撥インク層)に保護フィルムが付与された状態で組み立て工程F4を行う。このため、保護フィルムでノズルを保護できるとともに、撥インク層により保護フィルムの糊残りを防止でき、インクジェットヘッドの射出角度分布のばらつきを低減することができる。   Moreover, the manufacturing method of the inkjet head of Examples 1-9 performs the assembly process F4 in the state in which the protective film was provided to the ink-repellent-treated part (ink-repellent layer) of the nozzle substrate. Therefore, the nozzle can be protected by the protective film, and the adhesive film can prevent the adhesive film from being left behind, thereby reducing the variation in the ejection angle distribution of the inkjet head.

また、実施例1〜7のインクジェットヘッドの製造方法において、天板の一部は、天板のノズルからインクを吐出させる方向(前面方向)側に位置する面のうち、ノズル基板に隣接する領域である。このため、ノズル基板に隣接する天板の親インク処理された部分にインクが付着しても、ごく薄い液膜を形成した状態を維持し、液だまりの発生をより防止できる。   Moreover, in the manufacturing method of the inkjet head of Examples 1-7, a part of the top plate is an area adjacent to the nozzle substrate among the surfaces located on the side (front direction) of ejecting ink from the nozzles of the top plate. It is. For this reason, even if ink adheres to a portion of the top plate adjacent to the nozzle substrate that has been subjected to the ink-philic treatment, it is possible to maintain a very thin liquid film and prevent the occurrence of liquid pool.

また、実施例7のインクジェットヘッドの製造方法において、天板のインクの後退接触角が最前面の外周からノズル基板を中に位置する開口部の側壁にかけて変化するように親インク処理の度合いを変化させる。このため、天板の最前面の外周からノズル基板の開口部の側壁にかけてインクへの濡れ性(親和性)を変化させ、濡れ性のグラデーションをつくることで、インクが親インク処理された部分に付着しても、付着したインクは濡れ性の低い領域から高い領域と引っ張られやすいため、インクをノズル基板のノズル穴により回収できる。   Further, in the ink jet head manufacturing method of Example 7, the degree of parent ink treatment is changed so that the receding contact angle of the ink on the top plate changes from the outer periphery of the front surface to the side wall of the opening located inside the nozzle substrate. Let For this reason, ink wettability (affinity) is changed from the outer periphery of the front surface of the top plate to the side wall of the opening of the nozzle substrate, and a gradation of wettability is created, so that the ink has been treated with the parent ink. Even if it adheres, the attached ink is easily pulled from the low wettability region to the high region, so that the ink can be collected by the nozzle holes of the nozzle substrate.

また、実施例2、4〜7、9のインクジェットヘッドの製造方法において、天板は、リセス構造部を有し、ノズル基板は、天板の最前面よりも低い位置に配置されている。例えば、図6、図8、図13のインクジェットヘッド100B,100D,100Kにおいて、ノズル基板11Aは、天板3B,3D,3Kの最前面(凸部の前面)よりも低い位置に配置されている。また、図9〜図11のインクジェットヘッド100E,100F,100Gにおいて、ノズル基板11Aは、天板3E,3F,3Gのテーパー部3E1,3F1,3G1の最も高い部分に接する最前の平面よりも低い位置に配置されている。このため、リセス構造部により、記録媒体等とノズル基板とが接触しにくいため、ノズル基板の表面を保護できるとともに、リセス構造部なしに比べてメンテナンス耐久性を高めることができる。メンテナンス耐久性とは、ワイプメンテによる耐久性である。なお、ノズル基板は、天板の最前面と等しい高さ、又は天板の最前面より高い高さの位置に配置されている構成としてもよい。   Moreover, in the manufacturing method of the inkjet head of Example 2, 4-7, 9, the top plate has a recess structure part, and the nozzle substrate is arrange | positioned in the position lower than the forefront surface of a top plate. For example, in the inkjet heads 100B, 100D, and 100K shown in FIGS. 6, 8, and 13, the nozzle substrate 11A is disposed at a position lower than the forefront surface (front surface of the convex portion) of the top plates 3B, 3D, and 3K. . Further, in the inkjet heads 100E, 100F, and 100G of FIGS. 9 to 11, the nozzle substrate 11A is positioned lower than the foremost plane that is in contact with the highest portion of the tapered portions 3E1, 3F1, and 3G1 of the top plates 3E, 3F, and 3G. Is arranged. For this reason, since the recording medium or the like and the nozzle substrate are hardly brought into contact with each other by the recess structure portion, the surface of the nozzle substrate can be protected and maintenance durability can be improved as compared with the case without the recess structure portion. Maintenance durability is durability by wipe maintenance. The nozzle substrate may be arranged at a height equal to the top surface of the top plate or at a height higher than the top surface of the top plate.

また、実施例5〜7のインクジェットヘッドの製造方法において、天板のリセス構造部は、最前面の外周からノズル基板を中に位置する開口部の側壁にかけてなだらかに連続するテーパー部である。このため、天板に付着したインクをノズル基板のノズル穴になだらかに流れ込ませることができる。   Moreover, in the manufacturing method of the inkjet head of Examples 5-7, the recess structure part of a top plate is a taper part which continues gently from the outer periphery of the forefront surface to the side wall of the opening part which positions a nozzle substrate in the inside. For this reason, the ink adhering to the top plate can smoothly flow into the nozzle holes of the nozzle substrate.

また、実施例1〜9のインクジェットヘッドの製造方法において、親インク処理は、真空プラズマ処理である。このため、ムラなく全面を親インク処理することができる。   In the ink jet head manufacturing methods of Examples 1 to 9, the parent ink process is a vacuum plasma process. For this reason, it is possible to perform the parent ink process on the entire surface without unevenness.

また、実施例1〜9のインクジェットヘッドの製造方法において、真空プラズマ処理は、ドライエッチングである。このため、短時間で親インク処理を行うことができる。   In the ink jet head manufacturing methods of Examples 1 to 9, the vacuum plasma treatment is dry etching. Therefore, the parent ink process can be performed in a short time.

また、実施例3〜7のインクジェットヘッドの製造方法において、親インク工程において、天板の少なくとも一部を保護材で保護した状態で、少なくともノズル基板のノズルからインクが吐出される側の面(前面)を親インク処理する。このため、より簡便且つ選択的に親インク処理を行うことができる。   In the ink jet head manufacturing methods of Examples 3 to 7, in the parent ink process, at least a part of the top plate is protected by a protective material, and at least the surface on the side where ink is ejected from the nozzles of the nozzle substrate ( The front ink is treated with the parent ink. For this reason, the parent ink process can be performed more easily and selectively.

また、実施例1〜9のインクジェットヘッドの製造方法において、親インク工程において、インクジェットヘッドの本体部を保護材で取り囲み保護する。このため、ドライエッチング時に発生する過電流の影響によるインクジェットヘッドの電装系のダメージを防止できる。   Moreover, in the manufacturing method of the inkjet head of Examples 1-9, the main-body part of an inkjet head is surrounded and protected in a parent ink process by a protective material. For this reason, it is possible to prevent damage to the electrical system of the inkjet head due to the influence of overcurrent generated during dry etching.

また、実施例7のインクジェットヘッドの製造方法は、天板からノズル基板に向けて表面の濡れ性が撥インク性→親インク性へ断続的に変化されており、実施例1〜6,8,9のインクジェットヘッドの製造方法の、天板からノズル基板に向けて表面の濡れ性の変化する箇所が少ない構成に比べて、連続射出安定性が高い。   Further, in the manufacturing method of the ink jet head of Example 7, the surface wettability is intermittently changed from the top plate toward the nozzle substrate from ink repellency to ink affinity, and Examples 1 to 6, 8, The continuous ejection stability is higher than the configuration of the inkjet head manufacturing method of No. 9 in which there are few places where the surface wettability changes from the top plate to the nozzle substrate.

なお、上記実施の形態における記述は、本発明に係る好適なインクジェットヘッドの製造方法の一例であり、これに限定されるものではない。   The description in the above embodiment is an example of a preferable method for manufacturing an inkjet head according to the present invention, and the present invention is not limited to this.

例えば、上記実施の形態(実施例)の構成、下記の構成のうち、少なくとも2つを適宜組み合わせる構成としてもよい。   For example, at least two of the configurations of the above embodiments (examples) and the following configurations may be appropriately combined.

また、上記実施の形態における撥インク層は、1層構造のものとして説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図15に示すように、撥インク層は、2層構造としてもよい。図15は、2層構造の撥インク層1aIを有するノズル基板11Aの断面図である。   The ink repellent layer in the above embodiment has been described as having a single layer structure, but is not limited thereto. For example, as shown in FIG. 15, the ink repellent layer may have a two-layer structure. FIG. 15 is a cross-sectional view of a nozzle substrate 11A having a two-layer ink repellent layer 1aI.

ノズル基板11Aの前面には、2層構造の撥インク層1aIが形成されている。撥インク層1aIは、バインダー成分を有する下層のバインダー層I1と、撥インク成分を有する上層の撥インク成分層I2と、を有する。   An ink repellent layer 1aI having a two-layer structure is formed on the front surface of the nozzle substrate 11A. The ink repellent layer 1aI has a lower binder layer I1 having a binder component and an upper ink repellent component layer I2 having an ink repellent component.

撥インク成分の物質として、フッ素樹脂が用いられる。フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)等を用いることが出来るが、FEPは臨界表面張力が低く、撥インク性に優れており、また、熱処理温度である300℃〜400℃における溶融粘度が低く、均一な膜形成が可能な点で好ましい。   A fluororesin is used as the substance of the ink repellent component. Examples of fluororesins include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), and tetrafluoroethylene-ethylene copolymer. (ETFE), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), and the like can be used, but FEP has a low critical surface tension, excellent ink repellency, and a heat treatment temperature of 300. C. to 400.degree. C. is preferable because the melt viscosity is low and a uniform film can be formed.

バインダー成分の物質として、撥インク層1aIのノズル基板11Aへの密着性を上げる物質が用いられる。この物質として、水溶性ポリアミドイミド(PAI)が用いられる。通常PAIは水に溶解しない。このために、PAIを塩基性極性溶液中で、アミン化合物等の塩基性化合物と混合・攪拌し、水を徐々に加えることにより、水溶性のPAIを得た。   As the material of the binder component, a material that improves the adhesion of the ink repellent layer 1aI to the nozzle substrate 11A is used. As this substance, water-soluble polyamideimide (PAI) is used. Normally PAI does not dissolve in water. For this purpose, PAI was mixed and stirred with a basic compound such as an amine compound in a basic polar solution, and water was gradually added to obtain water-soluble PAI.

また、塗布液に界面活性剤を加えると、撥インク層の撥インク性を低下させることなく皮膜の密着性を向上することができ、撥インク層の耐久性を更に向上させることができる。界面活性剤としては、特にポリオキシエチレンアルキルエーテルを用いると、撥インク層の耐久性をさらに向上することができる。   In addition, when a surfactant is added to the coating solution, the adhesion of the film can be improved without lowering the ink repellency of the ink repellent layer, and the durability of the ink repellent layer can be further improved. When polyoxyethylene alkyl ether is used as the surfactant, it is possible to further improve the durability of the ink repellent layer.

撥インク層1aIを形成する塗布方法としては、スプレーコーティング、スピンコーティング、はけコーティング、ディップコーティング、ワイヤーバーコーティング等を用いることができるが、ワンコート、即ち、1回の塗布工程で、密着性のよい皮膜を形成することが可能であり、効率的な塗布が可能となる。塗布・乾燥後、塗布層は熱処理される。処理温度としては、300℃〜400℃が好ましい。   As a coating method for forming the ink repellent layer 1aI, spray coating, spin coating, brush coating, dip coating, wire bar coating, and the like can be used. A good film can be formed, and efficient application is possible. After coating and drying, the coating layer is heat treated. As processing temperature, 300 to 400 degreeC is preferable.

例えば、FEPの水性分散液と水溶性PAIを水中に添加し、ワンコート用の塗布液を調整する。また、当該塗布液にポリエチレングリコールモノドデシルエーテルを添加して塗布液を調整してもよい。このようにして、形成される撥インク層1aIは、上層の撥インク成分層I2と下層のバインダー層I1との間で、撥インク成分とバインダー成分との濃度が連続的に変化している。   For example, an aqueous dispersion of FEP and a water-soluble PAI are added to water to prepare a coating solution for one coat. Moreover, you may adjust a coating liquid by adding polyethyleneglycol monododecyl ether to the said coating liquid. In the ink repellent layer 1aI thus formed, the concentrations of the ink repellent component and the binder component continuously change between the upper ink repellent component layer I2 and the lower binder layer I1.

撥インク層1aIの構成によれば、ノズル基板11Aへの撥インク層の密着性を向上でき、バインダー層I1を形成することでノズル基板へ傷がつくことを防止できる。なお、天板上に形成する撥インク層も、撥インク層1aIと同様に形成することとしてもよい。   According to the configuration of the ink repellent layer 1aI, the adhesion of the ink repellent layer to the nozzle substrate 11A can be improved, and the formation of the binder layer I1 can prevent the nozzle substrate from being damaged. The ink repellent layer formed on the top board may be formed in the same manner as the ink repellent layer 1aI.

また、以上の実施の形態におけるインクジェット記録装置1000を構成する各部の細部構成及び細部動作に関して本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能である。   Further, the detailed configuration and detailed operation of each part constituting the ink jet recording apparatus 1000 in the above embodiment can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention.

1000 インクジェット記録装置
200 搬送部
210 巻き出しロール
220,230 ローラー
240 巻き取りロール
300 画像形成部
310 ラインヘッド
320 照射部
330 キャリッジ
330a キャリッジヒーター
400 インク供給部
410 インクタンク
420 ポンプ
430 インクチューブ
440 サブタンク
440a フロートセンサー
450 インクチューブ
460 ヒーター
500 制御部
100,100A,100B,100C,100D,100E,100F,100G,100H,100J,100K インクジェットヘッド
1 アクチュエーター
11,11A,11H ノズル基板
11a ノズル
2 筐体
3,3A,3B,3C,3D,3E,3F,3G,3H,3J,3K 天板
1a,3a 前面
1cA,3cA,3cB,3cC,3cD,3cE,3cF,3cG,3cG1,3cG2,3cG3,1cH 親インク領域
3aC,3aD,3aE,3aF,3aG,3aJ,3aK 撥インク領域
3B1,3D1 凹部
3E1,3F1,3G1 テーパー部
4,5 接着剤層
b 開口部
21,22,23,31,32,33,34,41 保護材
1aI 撥インク層
I1 バインダー層
I2 撥インク成分層
1000 Inkjet recording apparatus 200 Conveying section 210 Unwinding roll 220, 230 Roller 240 Winding roll 300 Image forming section 310 Line head 320 Irradiation section 330 Carriage 330a Carriage heater 400 Ink supply section 410 Ink tank 420 Pump 430 Ink tube 440 Sub tank 440a Float Sensor 450 Ink tube 460 Heater 500 Control unit 100, 100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F, 100G, 100H, 100J, 100K Inkjet head 1 Actuator 11, 11A, 11H Nozzle substrate 11a Nozzle 2 Housing 3, 3A, 3B, 3C, 3D, 3E, 3F, 3G, 3H, 3J, 3K Top plate 1a, 3a Front surface 1cA, 3cA, 3cB, 3cC 3cD, 3cE, 3cF, 3cG, 3cG1, 3cG2, 3cG3, 1cH Parent ink regions 3aC, 3aD, 3aE, 3aF, 3aG, 3aJ, 3aK Ink repellent regions 3B1, 3D1 Recessed portions 3E1, 3F1, 3G1 Tapered portions 4, 5 Adhesive Layer b Openings 21, 22, 23, 31, 32, 33, 34, 41 Protective material 1aI Ink-repellent layer I1 Binder layer I2 Ink-repellent component layer

Claims (14)

撥インク処理されたノズル基板に保護層を付与する保護層付与工程と、
前記保護層が付与されたノズル基板にノズルを形成するノズル形成工程と、
前記ノズルが形成されたノズル基板から保護層を剥がす保護層剥離工程と、
を有するインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記保護層剥離工程の後、前記ノズル基板の前記ノズルからインクが吐出される側の面の全面を親インク処理する親インク工程を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
A protective layer applying step for applying a protective layer to the ink-repellent nozzle substrate;
A nozzle forming step of forming a nozzle on the nozzle substrate provided with the protective layer;
A protective layer peeling step of peeling the protective layer from the nozzle substrate on which the nozzle is formed;
A method of manufacturing an inkjet head having
A method for manufacturing an ink jet head, comprising: after the protective layer peeling step, a parent ink step of treating the entire surface of the nozzle substrate on a side where ink is ejected from the nozzle, with a parent ink treatment.
前記ノズル基板を取り囲み、前記ノズルからインクが吐出される側の面が撥インク処理された天板を前記ノズル基板に取り付ける組み立て工程を有することを特徴とする請求項1に記載のインクジェットヘッドの製造方法。   The inkjet head manufacturing method according to claim 1, further comprising an assembling step of attaching to the nozzle substrate a top plate that surrounds the nozzle substrate and has an ink repellent treatment on a surface on which ink is ejected from the nozzle. Method. 前記ノズル基板の撥インク処理された部分に前記保護層が付与された状態で前記組み立て工程を行うことを特徴とする請求項2に記載のインクジェットヘッドの製造方法。   3. The method of manufacturing an ink jet head according to claim 2, wherein the assembling step is performed in a state where the protective layer is applied to a portion of the nozzle substrate that has been subjected to ink repellent treatment. 前記親インク工程において、前記ノズル基板とともに、前記天板のうち、前記ノズルからインクが吐出される側の面の少なくとも一部を親インク処理することを特徴とする請求項2又は3に記載のインクジェットヘッドの製造方法。   4. The ink-philic process according to claim 2, wherein at least a part of a surface of the top plate on which ink is ejected from the nozzle is subjected to ink-philic treatment together with the nozzle substrate in the ink-philic step. 5. A method for manufacturing an inkjet head. 前記天板の一部は、
前記天板の前記ノズルからインクを吐出させる方向側に位置する面のうち、前記ノズル基板に隣接する領域であることを特徴とする請求項2から4のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
A part of the top plate is
5. The inkjet head according to claim 2, wherein the surface of the top plate is a region adjacent to the nozzle substrate in a surface located on a direction side in which ink is ejected from the nozzles. 6. Production method.
前記親インク工程において、前記天板のインクの後退接触角が最前面の外周から前記ノズル基板を中に位置する開口部の側壁にかけて変化するように親インク処理の度合いを変化させる請求項2から5のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。   3. In the parent ink step, the degree of parent ink processing is changed so that the receding contact angle of ink on the top plate changes from the outer periphery of the forefront to the side wall of the opening in which the nozzle substrate is located. The method for producing an ink jet head according to claim 5. 前記天板は、リセス構造部を有し、
前記ノズル基板は、前記天板の最前面よりも低い位置に配置されていることを特徴とする請求項2から6のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
The top plate has a recess structure,
The method for manufacturing an ink jet head according to claim 2, wherein the nozzle substrate is disposed at a position lower than a forefront surface of the top plate.
前記リセス構造部は、最前面の外周から前記ノズル基板を中に位置する開口部の側壁にかけてなだらかに連続するテーパー部であることを特徴とする請求項7に記載のインクジェットヘッドの製造方法。   8. The method of manufacturing an ink jet head according to claim 7, wherein the recess structure portion is a tapered portion that is gently continuous from the outer periphery of the forefront surface to the side wall of the opening portion in which the nozzle substrate is located. 前記親インク工程において、天板の少なくとも一部を保護材で保護した状態で、少なくとも前記ノズル基板の前記ノズルからインクが吐出される側の面を親インク処理する請求項から8のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 In the lyophilic process, while protecting at least a portion of the top plate with a protective material, any one of claims 2 to 8 in which the ink from the nozzle of at least the nozzle substrate is ink affinity handle surface on the side to be discharged The manufacturing method of the inkjet head of one term. 前記親インク工程において、前記インクジェットヘッドの本体部を保護材で取り囲み保護する請求項1から9のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 The method for manufacturing an inkjet head according to any one of claims 1 to 9, wherein in the parent ink step, the main body of the inkjet head is surrounded and protected by a protective material . 前記ノズル基板は、撥インク層を有し、
前記撥インク層は、バインダー成分を有する下層のバインダー層と、撥インク成分を有する上層の撥インク成分層と、を有し、前記上層及び前記下層間で撥インク成分とバインダー成分との濃度が連続的に変化している請求項1から10のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
The nozzle substrate has an ink repellent layer,
The ink repellent layer has a lower binder layer having a binder component and an upper ink repellent component layer having an ink repellent component, and the concentration of the ink repellent component and the binder component is between the upper layer and the lower layer. The method for manufacturing an inkjet head according to claim 1, wherein the inkjet head is continuously changed .
前記保護層は、保護フィルムであることを特徴とする請求項1から11のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 The protective layer, ink jet head manufacturing method according to any one of claims 1 to 11, characterized in that a protective film. 前記親インク処理は、真空プラズマ処理であることを特徴とする請求項1から12のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 The ink affinity process, ink jet head manufacturing method claimed in any one of 12, which is a vacuum plasma treatment. 前記真空プラズマ処理は、ドライエッチングであることを特徴とする請求項13に記載のインクジェットヘッドの製造方法。 The method of manufacturing an inkjet head according to claim 13 , wherein the vacuum plasma treatment is dry etching .
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