JP6450580B2 - カラーフィルタ基板及び表示装置 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、カラーフィルタ基板及び表示装置に関する。

例えば液晶表示装置のように、互いに対向する一対の基板を有する表示装置においては、一方の基板にスイッチング素子や画素電極を形成し、他方の基板にカラーフィルタを形成する構成が広く採用されている。

このような表示装置において、一方の基板と他方の基板との合わせずれが生じると、画素電極とカラーフィルタとの位置がずれて隣り合う画素同士の混色を生じたり、本来は平面視で重なる配線及び遮光層などの不透明な要素の位置がずれて開口率が低下したりし得る。

また、近年では、表示装置の一層の高精細化が求められている。高精細な表示装置を得るためには、画素幅を小さくする必要があるが、このような画素においては画素電極とカラーフィルタとの位置ずれによる影響が増大し得る。

特開平１１−２４０６１号公報

本実施形態の課題は、高精細化が可能なカラーフィルタ基板及び表示装置を得ることである。

本実施形態によれば、
絶縁基板と、第１スイッチング素子、第２スイッチング素子、及び、第３スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、前記第３スイッチング素子と電気的に接続された第３画素電極と、前記第１画素電極と前記絶縁基板との間に設けられた第１色の第１カラーフィルタと、前記第２画素電極と前記絶縁基板との間に設けられ、第１色とは異なる第２色の第２カラーフィルタと、前記第３画素電極と前記絶縁基板との間に設けられ、第１色及び第２色とは異なる第３色の第３カラーフィルタと、を備え、前記第１画素電極、前記第２画素電極、及び、前記第３画素電極は、互いに隣り合っており、前記第１カラーフィルタは第１端部を有し、前記第２カラーフィルタは第２端部を有し、前記第３カラーフィルタは第３端部を有し、前記第１端部、前記第２端部、及び、前記第３端部のうちの２つの端部は、第１重畳領域で重畳している、カラーフィルタ基板及びこのカラーフィルタ基板を備えた表示装置が提供される。

また、本実施形態によれば、
絶縁基板と、第１スイッチング素子、第２スイッチング素子、及び第４スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、前記第４スイッチング素子と電気的に接続された第４画素電極と、前記第１画素電極と前記絶縁基板との間に設けられた第１色の第１カラーフィルタと、前記第２画素電極と前記絶縁基板との間に設けられ、第１色とは異なる第２色の第２カラーフィルタと、前記第４画素電極と前記絶縁基板との間に設けられ、実質的に透明の第４カラーフィルタと、を備え、前記第１画素電極、前記第２画素電極、及び、前記第４画素電極は、互いに隣り合っており、前記第１画素電極と前記第４画素電極との間の第１境界領域、及び、前記第２画素電極と前記第４画素電極との間の第２境界領域において、可視光における透過率ピークが異なる少なくとも２つの色のカラーフィルタが重畳している、カラーフィルタ基板及びこのカラーフィルタ基板を備えた表示装置が提供される。

図１は、第１実施形態に係る液晶表示装置の外観の一例を模式的に示す図である。 図２は、上記液晶表示装置の表示パネルが備える第１基板を模式的に示す図である。 図３は、上記表示パネルの表示エリアにおける画素配列の一例を示す図である。 図４は、上記表示パネルの概略的な等価回路の一例を示す図である。 図５は、上記表示エリアに配列される画素に適用可能な構造の一例を示す平面図である。 図６は、図５における６Ａ−６Ｂ線に沿う上記表示パネルの断面を模式的に示す図である。 図７は、図５における７Ａ−７Ｂ線に沿う上記表示パネルの断面を模式的に示す図である。 図８は、図５に示した画素に配置されるカラーフィルタの形状の一例を模式的に示す平面図である。 図９Ａは、図８におけるカラーフィルタ及び接続孔を示す図である。 図９Ｂは、図９Ａにおける９Ａ−９Ｂ線に沿うカラーフィルタ層ＣＦＬの断面を模式的に示す図である。 図１０は、図７に示した遮光層と他の要素との位置関係を示す平面図である。 図１１は、第１実施形態との比較例を説明するための図である。 図１２は、図１１に示した画素に配置されるカラーフィルタを示す図である。 図１３は、画素電極とカラーフィルタとが異なる基板に設けられた表示パネルの断面を示す図である。 図１４は、図１３の例よりも画素幅が小さい高精細な画素を想定した図である。 図１５は、画素電極とカラーフィルタとが同じ基板に設けられたＣＯＡ方式の表示パネルの断面を示す図である。 図１６は、第２実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。 図１７は、第２実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。 図１８は、第２実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。 図１９は、第３実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。 図２０は、第３実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。 図２１は、第３実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。 図２２は、第３実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。

いくつかの実施形態について、図面を参照しながら説明する。
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有される。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各図において、連続して配置される同一又は類似の要素については符号を省略することがある。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。

各実施形態においては、表示装置の一例として、液晶表示装置を開示する。この液晶表示装置は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器等の種々の装置に用いることができる。なお、各実施形態にて開示する主要な構成は、有機エレクトロルミネッセンス表示素子等を有する自発光型の表示装置、電気泳動素子等を有する電子ペーパ型の表示装置、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）を応用した表示装置、或いはエレクトロクロミズムを応用した表示装置などにも適用可能である。

（第１実施形態）
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰの外観の一例を模式的に示す図である。液晶表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬと、バックライトユニットＢＬと、を備えている。

表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵ１と、第２基板ＳＵ２と、第１基板ＳＵ１及び第２基板ＳＵ２の間に保持された液晶層（後述する液晶層ＬＱ）と、を備えている。また、表示パネルＰＮＬは、画像を表示するための表示エリアＤＡを有している。図１の例において、この表示エリアＤＡは、第１方向Ｄ１に沿う長辺と、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２に沿う短辺とを有する長方形状である。但し、表示エリアＤＡの形状は、このような長方形状に限られず、他の多角形状や円形状などであっても良い。

第１基板ＳＵ１は、外部接続用の端子が配列された接続部ＣＮを備えている。この接続部ＣＮには、例えばフレキシブル配線基板やＩＣチップなどの信号供給源が接続される。フレキシブル配線基板は、表示パネルＰＮＬと電子機器側のコントロールボードなどの外部モジュールとを電気的に接続する。

バックライトユニットＢＬは、第１基板ＳＵ１の背面側（第２基板ＳＵ２との対向面の反対側）に配置され、表示エリアＤＡと対向している。このようなバックライトユニットＢＬとしては、種々の形態が適用可能である。一例として、バックライトユニットＢＬは、第１基板ＳＵ１と対向する導光板、この導光板の端部に沿って配置された複数の発光ダイオード（ＬＥＤ）などの光源、導光板の一方の主面側に配置された反射シート、導光板の他方の主面側に積層された各種光学シートなどを備えている。

図２は、第１基板ＳＵ１の第２基板ＳＵ２との対向面を模式的に示す図である。第１基板ＳＵ１は、表示エリアＤＡと重複しない周辺領域に上記の接続部ＣＮと、駆動回路ＰＣ１，ＰＣ２，ＰＣ３と、を備えている。図２の例においては、駆動回路ＰＣ１，ＰＣ２がそれぞれ表示エリアＤＡの長辺に沿って配置され、駆動回路ＰＣ３が表示エリアＤＡの短辺に沿って配置されている。

表示エリアＤＡには、多数の画素が形成されている。図３は、画素配列の一例を示す図である。なお、画素は、表示エリアＤＡにおけるカラー画像を表示するための最小単位である。この図においては、２種類の画素ＰＸ（ＰＸ１，ＰＸ２）を示している。画素ＰＸ１，ＰＸ２は、第１色に対応する副画素ＰＸＧ１と、第２色に対応する副画素ＰＸＲ１と、第３色に対応する副画素ＰＸＢと、第４色に対応する副画素ＰＸＧ２と、第５色に対応する副画素ＰＸＲ２と、第６色に対応する副画素ＰＸＷと、を含んでいる。第１実施形態では、一例として、第１色及び第４色が緑色であり、第２色及び第５色が赤色であり、第３色が青色であり、第６色が白色あるいは実質的に透明である場合を想定する。但し、画素ＰＸ１，ＰＸ２は、緑色、赤色、青色、白色以外の色に対応する副画素を含んでいても良いし、白色の副画素を省略して緑色、赤色、青色の３色に対応する副画素によって構成されていても良い。また、表示エリアＤＡには、１種類の画素ＰＸのみ（つまり、画素ＰＸ１のみ、又は、画素ＰＸ２のみ）が配列されても良いし、３種類以上の画素ＰＸ（つまり、画素ＰＸ１及び画素ＰＸ２に加えて、画素ＰＸ１及び画素ＰＸ２とは異なる構成の画素）が配列されていても良い。

本明細書では、一例として、３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍの波長範囲の光を「可視光」として定義する。「青色」は、３８０ｎｍ以上４９０ｎｍ未満の第１波長範囲内に透過率ピークを有する色と定義する。「緑色」は、４９０ｎｍ以上５９０ｎｍ未満の第２波長範囲内に透過率ピークを有する色と定義する。「赤色」は、５９０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の第３波長範囲内に透過率ピークを有する色と定義する。「実質的に透明」とは、無着色である場合に加えて、可視光におけるいずれかの色に薄く着色された場合も包含する。

画素ＰＸ１は、第１方向Ｄ１に沿って連続して配置されている。同様に、画素ＰＸ２は、第１方向Ｄ１に沿って連続して配置されている。第１方向Ｄ１に並ぶ画素ＰＸ１の列と、第１方向Ｄ１に並ぶ画素ＰＸ２の列は、第２方向Ｄ２に沿って交互に繰り返している。

画素ＰＸ１，ＰＸ２において、副画素ＰＸＧ１，ＰＸＲ１は第１方向Ｄ１に隣り合い、同様に、副画素ＰＸＧ２，ＰＸＲ２は第１方向Ｄ１に隣り合い、副画素ＰＸＲ１、ＰＸＧ２も第１方向Ｄ１に隣り合う。画素ＰＸ１において、副画素ＰＸＧ１，ＰＸＲ１は副画素ＰＸＢと第２方向Ｄ２に隣り合い、副画素ＰＸＧ２，ＰＸＲ２は副画素ＰＸＷと第２方向Ｄ２に隣り合う。一方、画素ＰＸ２において、副画素ＰＸＧ１，ＰＸＲ１は副画素ＰＸＷと第２方向Ｄ２に隣り合い、副画素ＰＸＧ２，ＰＸＲ２は副画素ＰＸＢと第２方向Ｄ２に隣り合う。また、画素ＰＸ１における副画素ＰＸＢは、画素ＰＸ２における副画素ＰＸＧ１，ＰＸＲ１と第２方向Ｄ２に隣り合う。また、画素ＰＸ１における副画素ＰＸＷは、画素ＰＸ２における副画素ＰＸＧ２，ＰＸＲ２と第２方向Ｄ２に隣り合う。

図３の例では、画素ＰＸ１，ＰＸ２のいずれにおいても、副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２が第１面積を有しており、副画素ＰＸＢ，ＰＸＷが第１面積よりも大きい第２面積を有している。例えば、第２面積は第１面積の約２倍である。

副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２，ＰＸＢ，ＰＸＷの形状は特に限定されるものではないが、視覚特性及び画素の配列密度の観点から四角形又はこれに近似する形状（言い換えれば、実質的に四角形）であることが好ましく、平行四辺形或いはこれに近い形状（言い換えれば、実質的に平行四辺形）であればなお好ましい。また、副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２，ＰＸＢ，ＰＸＷの第２方向Ｄ２における幅は実質的に同一の関係（例えば、互いの長さ比が０．８倍から１．２倍の範囲に収まる）である。さらに、副画素ＰＸＢ，ＰＸＷの第１方向Ｄ１における幅は副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２の第１方向Ｄ１における幅よりも長い関係にあり、図３の例においては約２倍である。

人間の網膜上において、青色に対応する錐体細胞は緑色及び赤色に対応する錐体細胞よりも数が少ないため、人間の視覚は青色に対する解像度が緑色及び赤色に比べて低い。図３に示す画素ＰＸ１，ＰＸ２は、このような人間の視覚の特徴を利用している。すなわち、青色の副画素ＰＸＢ及び白色の副画素ＰＸＷのサイズを赤色の副画素ＰＸＲ１，ＰＸＲ２及び緑色の副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２よりも大きくし、且つその数を少なくしたことで、実効的な解像度を落とすことなく画素ＰＸ１，ＰＸ２の面積を向上させることが可能となる。

なお、上記の画素ＰＸ１、ＰＸ２において、副画素ＰＸＢは、副画素ＰＸＷとは異なる面積を有していても良い。また、副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２が互いに異なる面積を有していても良い。

図４は、表示パネルＰＮＬの概略的な等価回路の一例を示す図である。表示パネルＰＮＬは、第１方向Ｄ１に沿って並ぶ第１信号が供給される第１信号線と、第２方向Ｄ２に沿って並ぶ第２信号が供給される第２信号線とを備えている。第１信号及び第２信号は画素に映像を表示させるための信号であり、一般的には一方がゲート信号（走査信号）であり、他方がソース信号（画像信号）である。図４においては、第１信号線としての複数のゲート配線Ｇと、第２信号線としての複数のソース配線Ｓと、を備えている。例えば、第１方向Ｄ１におけるいずれかの端部から数えて偶数番目のゲート配線Ｇは駆動回路ＰＣ１に接続され、奇数番目のゲート配線Ｇは駆動回路ＰＣ２に接続されている。各ソース配線Ｓは、駆動回路ＰＣ３に接続されている。

複数のゲート配線Ｇは信号線群Ａを構成し、複数のソース配線Ｓは信号線群Ｂを構成する。上記の副画素が形成される画素領域は、信号線群Ａと信号線群Ｂとが互いに交わることによって形成される。

図４においては、画素ＰＸ１の等価回路を示している。この画素ＰＸ１において、副画素ＰＸＧ１は、ゲート配線Ｇ１及びソース配線Ｓ２と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＧ１と、このスイッチング素子ＳＷＧ１と電気的に接続された画素電極ＰＥＧ１と、を備えている。副画素ＰＸＲ１は、ゲート配線Ｇ２及びソース配線Ｓ１と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＲ１と、このスイッチング素子ＳＷＲ１と電気的に接続された画素電極ＰＥＲ１と、を備えている。副画素ＰＸＧ２は、ゲート配線Ｇ２及びソース配線Ｓ２と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＧ２と、このスイッチング素子ＳＷＧ２と電気的に接続された画素電極ＰＥＧ２と、を備えている。副画素ＰＸＲ２は、ゲート配線Ｇ３及びソース配線Ｓ１と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＲ２と、このスイッチング素子ＳＷＲ２と電気的に接続された画素電極ＰＥＲ２と、を備えている。副画素ＰＸＢは、ゲート配線Ｇ２及びソース配線Ｓ３と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＢと、このスイッチング素子ＳＷＢと電気的に接続された画素電極ＰＥＢと、を備えている。副画素ＰＸＷは、ゲート配線Ｇ３及びソース配線Ｓ３と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＷと、このスイッチング素子ＳＷＷと電気的に接続された画素電極ＰＥＷと、を備えている。但し、各副画素のスイッチング素子ＳＷ（ＳＷＧ１，ＳＷＧ２，ＳＷＲ１，ＳＷＲ２，ＳＷＢ，ＳＷＷ）とゲート配線Ｇ及びソース配線Ｓとの接続関係は、図４に示すものに限られない。なお、スイッチング素子とは抵抗等の電気的特性を切り替わる素子のことを示し、代表例は電界効果トランジスタに代表されるトランジスタである（図４においては電界効果トランジスタである）。

例えば、各画素電極ＰＥ（ＰＥＧ１，ＰＥＧ２，ＰＥＲ１，ＰＥＲ２，ＰＥＢ，ＰＥＷ）は、共通電極ＣＥと対向している。共通電極ＣＥは、例えば複数の画素ＰＸに亘って設けられ、コモン電圧を供給する給電部ＶＳと電気的に接続されている。

駆動回路ＰＣ１，ＰＣ２は、各ゲート配線Ｇに対して走査信号を順次供給する。駆動回路ＰＣ３は、各ソース配線Ｓに対して画像信号を選択的に供給する。スイッチング素子ＳＷに走査信号及び画像信号の双方が入力されると、このスイッチング素子ＳＷに接続された画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電界が生じ、この電界によって第１基板ＳＵ１及び第２基板ＳＵ２の間に保持された液晶層ＬＱの液晶分子の配向を変えることが出来る。

画素ＰＸ２の等価回路は、副画素ＰＸＢと副画素ＰＸＷの位置が入れ替わる点を除き、画素ＰＸ１と同様である。

以上のような構成の液晶表示装置ＤＳＰは、バックライトユニットＢＬから表示パネルＰＮＬに入射する光を画素ＰＸごとに選択的に透過させて画像を表示エリアＤＡに表示する、いわゆる透過型の液晶表示装置に相当する。但し、液晶表示装置ＤＳＰは、外部から第２基板ＳＵ２に向かって入射する光を画素ＰＸごとに選択的に反射させて画像を表示する反射型の液晶表示装置であっても良いし、透過型及び反射型の双方の機能を備えた半透過型の液晶表示装置であっても良い。

図５は、画素ＰＸ１，ＰＸ２に適用可能な構造の一例を示す平面図である。この図においては、画素ＰＸ１に含まれる副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２，ＰＸＢ，ＰＸＷと、この画素ＰＸ１に隣り合う画素ＰＸ２に含まれる副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２と、を示している。

図５の例においては、３本のゲート配線Ｇ（Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３）と、これらゲート配線Ｇと交差する６本のソース配線Ｓ（Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５，Ｓ６）と、を示している。ゲート配線Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３は、第２方向Ｄ２に沿って直線状に延び、第１方向Ｄ１に沿って等間隔で並んでいる。ソース配線Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５，Ｓ６は、ゲート配線Ｇ１とゲート配線Ｇ２との間においては第１方向Ｄ１に対して反時計回りに鋭角で傾いて互いに平行かつ直線状に延び、ゲート配線Ｇ２とゲート配線Ｇ３との間においては第１方向Ｄ１に対して時計回りに鈍角で傾いて互いに平行かつ直線状に延びている。これらのソース配線Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５，Ｓ６は、第２方向Ｄ２に沿って並んでいる。さらに、ソース配線Ｓ２とソース配線Ｓ３、ソース配線Ｓ５とソース配線Ｓ６は、第２方向Ｄ２において、副画素を介さずに隣り合って配置されている。一方で、ソース配線Ｓ１とソース配線Ｓ２、ソース配線Ｓ３とソース配線Ｓ４は、第２方向Ｄ２において、副画素を介して隣り合って配置されている。

画素ＰＸ１に含まれる副画素ＰＸＧ１の画素電極ＰＥＧ１及び副画素ＰＸＲ１の画素電極ＰＥＲ１は、ゲート配線Ｇ１，Ｇ２及びソース配線Ｓ１，Ｓ２に囲われた領域Ａ１に配置されている。画素ＰＸ１に含まれる副画素ＰＸＢの画素電極ＰＥＢは、ゲート配線Ｇ１，Ｇ２及びソース配線Ｓ３，Ｓ４に囲われた領域Ａ２に配置されている。画素ＰＸ１に含まれる副画素ＰＸＧ２の画素電極ＰＥＧ２及び副画素ＰＸＲ２の画素電極ＰＥＲ２は、ゲート配線Ｇ２，Ｇ３及びソース配線Ｓ１，Ｓ２に囲われた領域Ａ３に配置されている。画素ＰＸ１に含まれる副画素ＰＸＷの画素電極ＰＥＷは、ゲート配線Ｇ２，Ｇ３及びソース配線Ｓ３，Ｓ４に囲われた領域Ａ４に配置されている。領域Ａ１と領域Ａ２は第２方向Ｄ２に隣り合い、領域Ａ１と領域Ａ３は第１方向Ｄ１に隣り合い、領域Ａ２と領域Ａ４は第１方向Ｄ１に隣り合い、領域Ａ３と領域Ａ４は第２方向Ｄ２に隣り合う。

ゲート配線Ｇ（Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３）を含む信号線群Ａと、ソース配線Ｓ（Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）を含む信号線群Ｂとが互いに交わることによって形成される画素領域は、これらの領域Ａ１乃至Ａ４を含む。

画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１は第１方向Ｄ１に隣り合い、画素電極ＰＥＧ１及びＰＥＲ１と画素電極ＰＥＢとは第２方向Ｄ２に隣り合い、画素電極ＰＥＧ２，ＰＥＲ２は第１方向Ｄ１に隣り合い、画素電極ＰＥＧ２及びＰＥＲ２と画素電極ＰＥＷとは第２方向Ｄ２に隣り合う。画素電極ＰＥＲ１と画素電極ＰＥＧ２は第１方向Ｄ１に隣り合い、画素電極ＰＥＢと画素電極ＰＥＷは第１方向Ｄ１に隣り合う。

なお、領域Ａ１はゲート配線Ｇ１，Ｇ２及びソース配線Ｓ１，Ｓ３に囲われた領域と、領域Ａ２はゲート配線Ｇ１，Ｇ２及びソース配線Ｓ２，Ｓ４に囲われた領域と、領域Ａ３はゲート配線Ｇ２，Ｇ３及びソース配線Ｓ１，Ｓ３に囲われた領域と、領域Ａ４はゲート配線Ｇ２，Ｇ３及びソース配線Ｓ２，Ｓ４に囲われた領域と、それぞれ定義することもできる。

領域Ａ１において、画素電極ＰＥＧ１はゲート配線Ｇ１の側（ゲート配線Ｇ１の近傍）に位置し、画素電極ＰＥＲ１はゲート配線Ｇ２の側（ゲート配線Ｇ２の近傍）に位置している。領域Ａ３において、画素電極ＰＥＧ２はゲート配線Ｇ２の側（ゲート配線Ｇ２の近傍）に位置し、画素電極ＰＥＲ２はゲート配線Ｇ３の側（ゲート配線Ｇ３の近傍）に位置している。

画素ＰＸ２においても、画素ＰＸ１と同様に、画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＧ２，ＰＥＲ１，ＰＥＲ２，ＰＥＢ，ＰＥＷが領域Ａ１〜Ａ４に配置されている。詳細については、画素ＰＸ１と実質的に同様であるので省略する。

図５の例において、画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＧ２，ＰＥＲ１，ＰＥＲ２，ＰＥＢ，ＰＥＷは、いずれもスリットＳＬ１と、このスリットＳＬ１を介して屈曲しながら帯状に延びる２本の櫛歯電極ＰＥａと、を有している。櫛歯電極ＰＥａは、全体として、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２のそれぞれに対して傾いた方向に延びている。なお、画素電極は、一方向に延在した一本の電極であっても良い。

スイッチング素子ＳＷＧ１，ＳＷＧ２，ＳＷＲ１，ＳＷＲ２，ＳＷＢ，ＳＷＷは、いずれも半導体層ＳＣを備えている。

画素ＰＸ１において、スイッチング素子ＳＷＧ１の半導体層ＳＣは、一端が接続電極ＣＡＬ及び接続孔ＣＨＡ１を介して画素電極ＰＥＧ１と電気的に接続されるとともに他端が接続孔ＣＨＢ１を介してソース配線Ｓ２と電気的に接続されている。

スイッチング素子ＳＷＲ１の半導体層ＳＣも、上述のスイッチングＳＷＧ１の半導体層ＳＣと同様である。この場合、ＣＨＡ１はＣＨＡ２に、ＣＨＢ１はＣＨＢ２に、画素電極ＰＥＧ１は画素電極ＰＥＲ１に、ソース電極Ｓ２はソース電極Ｓ１に対応している。

スイッチング素子ＳＷＢの半導体層ＳＣも、上述のスイッチングＳＷＧ１の半導体層ＳＣと同様である。この場合、ＣＨＡ１はＣＨＡ３に、ＣＨＢ１はＣＨＢ３に、画素電極ＰＥＧ１は画素電極ＰＥＢに、ソース電極Ｓ２はソース電極Ｓ３に対応している。

スイッチング素子ＳＷＧ２の半導体層ＳＣも、上述のスイッチングＳＷＧ１の半導体層ＳＣと同様である。この場合、ＣＨＡ１はＣＨＡ４に、ＣＨＢ１はＣＨＢ４に、画素電極ＰＥＧ１は画素電極ＰＥＧ２に対応している。

スイッチング素子ＳＷＲ２の半導体層ＳＣも、上述のスイッチングＳＷＧ１の半導体層ＳＣと同様である。この場合、ＣＨＡ１はＣＨＡ５に、ＣＨＢ１はＣＨＢ５に、画素電極ＰＥＧ１は画素電極ＰＥＲ２に、ソース電極Ｓ２はソース電極Ｓ１に対応している。

スイッチング素子ＳＷＷの半導体層ＳＣも、上述のスイッチングＳＷＧ１の半導体層ＳＣと同様である。この場合、ＣＨＡ１はＣＨＡ６に、ＣＨＢ１はＣＨＢ６に、画素電極ＰＥＧ１は画素電極ＰＥＷに、ソース電極Ｓ２はソース電極Ｓ３に対応している。

また、それぞれの対応する領域内において、接続孔ＣＨＡ１はゲート配線Ｇ１の側（ゲート配線Ｇ１の近傍）に形成され、接続孔ＣＨＡ２、ＣＨＡ３及びＣＨＡ４はゲート配線Ｇ２の側（ゲート配線Ｇ２の近傍）に形成され、接続孔ＣＨＡ５及びＣＨＡ６はゲート配線Ｇ３の側（ゲート配線Ｇ３の近傍）に形成されている。

さらに、ゲート配線Ｇ１，Ｇ２の間において、接続孔ＣＨＢ１はソース配線Ｓ２と重なる位置に形成され、接続孔ＣＨＢ２はソース配線Ｓ１と重なる位置に形成され、接続孔ＣＨＢ３はソース配線Ｓ３と重なる位置に形成されている。一方、ゲート配線Ｇ２，Ｇ３の間において、接続孔ＣＨＢ４はソース配線Ｓ２と重なる位置に形成され、接続孔ＣＨＢ５はソース配線Ｓ１と重なる位置に形成され、接続孔ＣＨＢ６はソース配線Ｓ３と重なる位置に形成されている。

画素ＰＸ２の構成は、画素ＰＸ１と実質的に同様であるので省略する。

図６は、図５における６Ａ−６Ｂ線に沿う表示パネルＰＮＬの断面を模式的に示す図である。第１基板ＳＵ１は、ガラス基板や樹脂基板などの第１絶縁基板ＩＳＵ１を備えている。第２基板ＳＵ２と対向する第１絶縁基板ＩＳＵ１の第１面Ｆ１１は、第１アンダーコート層ＵＣ１によって覆われ、この第１アンダーコート層ＵＣ１は、第２アンダーコート層ＵＣ２によって覆われている。第１アンダーコート層ＵＣ１及び第２アンダーコート層ＵＣ２は、例えば、シリコン酸化物（ＳｉＯ）やシリコン酸窒化物（ＳｉＯＮ）などによって形成されている。

第２アンダーコート層ＵＣ２は、第１絶縁層ＩＬ１によって覆われ、この第１絶縁層ＩＬ１は、第２絶縁層ＩＬ２によって覆われている。第１絶縁層ＩＬ１及び第２絶縁層ＩＬ２は、例えば、シリコン酸化物（ＳｉＯ）やシリコン窒化物（ＳｉＮｘ）などによって形成されている。

第２絶縁層ＩＬ２の液晶層ＬＱ側の面にはソース配線Ｓ（Ｓ１，Ｓ２）が形成されている。ソース配線Ｓは、カラーフィルタ層ＣＦＬによって覆われている。カラーフィルタ層ＣＦＬは、第２絶縁層ＩＬ２も覆っている。カラーフィルタ層ＣＦＬは、第３絶縁層ＩＬ３によって覆われている。図６の例においてはカラーフィルタ層ＣＦＬを単一の層として表しているが、図８を用いて後述するように、カラーフィルタ層ＣＦＬは複数の島状のカラーフィルタを含んでいる。

第３絶縁層ＩＬ３の液晶層ＬＱ側の面には、共通電極ＣＥが形成されている。この共通電極ＣＥは、第４絶縁層ＩＬ４によって覆われている。第４絶縁層ＩＬ４は、例えば、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）などによって形成されている。第４絶縁層ＩＬ４の液晶層ＬＱ側の面には、画素電極ＰＥ（ＰＥＧ１）が形成されている。すなわち、図６の例において、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥは第４絶縁層ＩＬ４を介して対向している。画素電極ＰＥ及び第４絶縁層ＩＬ４は、液晶層ＬＱと接する第１配向膜ＡＬ１によって覆われている。

画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥは、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）などの透明な導電材料によって形成されている。

一方、第２基板ＳＵ２は、ガラス基板や樹脂基板などの第２絶縁基板ＩＳＵ２を備えている。第１基板ＳＵ１と対向する第２絶縁基板ＩＳＵ２の第１面Ｆ２１は、オーバーコート層ＯＣによって覆われている。図示した例では、ソース配線Ｓ（Ｓ１，Ｓ２）や画素電極ＰＥと対向する位置の第１面Ｆ２１は、オーバーコート層ＯＣによって覆われており、後述する遮光層ＢＭは、ソース配線Ｓと対向する位置には形成されていない。このオーバーコート層ＯＣは、液晶層ＬＱと接する第２配向膜ＡＬ２によって覆われている。

第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２は、液晶層ＬＱに含まれる液晶分子が配向させるものである。これらは、例えば、ポリイミド系の有機高分子で形成されている。これらの第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２には、ラビング法による配向処理、或いは、偏光紫外光の照射による光配向処理が施されている。光配向処理を適用した場合においては、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２表面の凹凸の配向処理への影響を防止或いは緩和することができる。

液晶層ＬＱは、例えば、配向方向の誘電率が当該配向方向の垂直方向よりも大きい正の誘電率異方性を有し、高抵抗で且つ室温を含む広い温度範囲においてネマチック相を示す。この場合、液晶層ＬＱに電圧が印加されていない状態において、液晶層ＬＱに含まれる液晶分子の配向状態（初期配向状態）が第１方向Ｄ１と一致するように、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２に配向処理を施す。液晶分子の初期配向状態は、液晶分子の初期配向状態は、例えばホモジニアス配向である。

画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの間に電圧が印加されると、基板主面（第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２と平行な平面）と平行な成分を含むフリンジ電界ＥＦが生じる。このフリンジ電界ＥＦにより、液晶層ＬＱの液晶分子は、基板主面と平行な面内で回転する。なお、本実施形態は横電界方式の一種であるフリンジ電界ＥＦが生じるような画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの配置をしているが、これに限定されるものではない。本発明には縦電界方式、斜め電界方式も適用可能であり、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの配置は求める電界に対応して適宜配置すればよい。

なお、図６においては副画素ＰＸＧ１に着目して表示パネルＰＮＬの断面構造を説明したが、他の副画素ＰＸＧ２，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２，ＰＸＢ，ＰＸＷにおける画素電極ＰＥＧ２，ＰＥＲ１，ＰＥＲ２，ＰＥＢ，ＰＥＷなどについても、副画素ＰＸＧ１と同様の構造及び作用を有する。

図７は、図５における７Ａ−７Ｂ線に沿う表示パネルＰＮＬの断面を模式的に示す図である。スイッチング素子ＳＷ（ＳＷＲ１）の半導体層ＳＣは、第２アンダーコート層ＵＣ２の液晶層ＬＱ側の面に形成されている。半導体層ＳＣは、例えばポリシリコンによって形成されている。例えば、第１絶縁基板ＩＳＵ１と第１アンダーコート層ＵＣ１との間、或いは第１アンダーコート層ＵＣ１と第２アンダーコート層ＵＣ２との間に半導体層ＳＣと対向する遮光層を設け、バックライトユニットＢＬから半導体層ＳＣへの光の入射を防いでも良い。

図７の例において、接続孔ＣＨＢ（ＣＨＢ２）は、第１絶縁層ＩＬ１及び第２絶縁層ＩＬ２を貫通している。ソース配線Ｓ（Ｓ１）は、接続孔ＣＨＢを通じて半導体層ＳＣに接触している。

接続孔ＣＨＣは、第１絶縁層ＩＬ１及び第２絶縁層ＩＬ２を貫通している。接続電極ＣＡＬは、接続孔ＣＨＣを通じて半導体層ＳＣに接触している。この接続電極ＣＡＬは、ソース配線Ｓと同層に形成されている。接続電極ＣＡＬ及びソース配線Ｓは、例えば、アルミニウム或いはアルミニウム合金を２層のチタン或いはチタン合金で挟んだ３層構造である。

ゲート配線Ｇ（Ｇ２）は、第１絶縁層ＩＬ１の液晶層ＬＱ側の面に形成され、第２絶縁層ＩＬ２によって覆われている。ゲート配線Ｇは、例えば、モリブデンタングステン（ＭｏＷ）合金によって形成されている。

図５及び図７などにおいては、スイッチング素子ＳＷの一例として、いわゆるトップゲート型かつダブルゲート型の薄膜トランジスタを示しているが、スイッチング素子ＳＷはこの種の薄膜トランジスタに限られない。例えば、スイッチング素子ＳＷは、シングルゲート型の薄膜トランジスタや、ボトムゲート型の薄膜トランジスタであっても良い。

図７の例において、接続孔ＣＨＡ（ＣＨＡ２）は、カラーフィルタ層ＣＦＬ、第３絶縁層ＩＬ３、第４絶縁層ＩＬ４、及び共通電極ＣＥを貫通している。画素電極ＰＥ（ＰＥＲ１）は、接続孔ＣＨＡを通じて接続電極ＣＡＬに接触している。

接続孔ＣＨＡ（図７においてはＣＨＡ２）の断面においては、第４絶縁層ＩＬ４に設けられた孔部の周縁が接続孔ＣＨＡの最も中心側に位置し、その外側に第３絶縁層ＩＬ３の孔部の周縁が位置し、さらにその外側に共通電極ＣＥの孔部の周縁と、カラーフィルタ層ＣＦＬにおける間隙の縁部が位置している。接続孔ＣＨＡにおいて、第４絶縁層ＩＬ４は画素電極ＰＥに覆われている。接続孔ＣＨＡの断面をこのように構成すると、カラーフィルタ層ＣＦＬが接続孔ＣＨＡにおいて画素電極ＰＥ、第４絶縁層ＩＬ４、及び第３絶縁層ＩＬ３で被覆されるため、カラーフィルタ層ＣＦＬに不純物が含有される場合であっても、この不純物の液晶層ＬＱへの移動を効果的に防ぐことができる。

第２絶縁基板ＩＳＵ２の第１面Ｆ２１には、接続孔ＣＨＡ及びゲート配線Ｇに対向する遮光層ＢＭが形成されている。この遮光層ＢＭは、オーバーコート層ＯＣによって覆われている。

なお、図７においては、副画素ＰＸＲ１に着目して表示パネルＰＮＬの断面構造を説明したが、他の副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＲ２，ＰＸＢ，ＰＸＷにおける画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＧ２，ＰＥＲ２，ＰＥＢ，ＰＥＷ、スイッチング素子ＳＷＧ１，ＳＷＧ２，ＳＷＲ２，ＳＷＢ，ＳＷＷ、接続孔ＣＨＡ１，ＣＨＡ３〜ＣＨＡ６、及び、接続孔ＣＨＢ１，ＣＨＢ３〜ＣＨＢ６などについても、副画素ＰＸＲ１と同様の構造及び作用を有する。

接続孔ＣＨＡ１，ＣＨＡ２，ＣＨＡ３，ＣＨＡ４，ＣＨＡ５，及びＣＨＡ６は、それぞれ、第３絶縁層ＩＬ３に形成された貫通孔である第１開口部、第２開口部、第３開口部、第４開口部、第５開口部、及び第６開口部の一例である。

図６及び図７に示したように、第１実施形態においては、カラーフィルタ層ＣＦＬが第１基板ＳＵ１に設けられている。すなわち、液晶表示装置ＤＳＰはＣＯＡ（Color filter On Array）方式であり、第１基板ＳＵ１はスイッチング素子ＳＷ及びカラーフィルタ層ＣＦＬの双方を備えたカラーフィルタ基板である。

カラーフィルタ層ＣＦＬは、異なる色に対応する複数のカラーフィルタを含んでいる。図８は、図５に示した画素ＰＸ１，ＰＸ２に配置されるカラーフィルタＣＦ（ＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷ）の形状の一例を模式的に示す平面図である。

カラーフィルタＣＦＧ１は画素電極ＰＥＧ１と対向し、カラーフィルタＣＦＧ２は画素電極ＰＥＧ２と対向し、カラーフィルタＣＦＲ１は画素電極ＰＥＲ１と対向し、カラーフィルタＣＦＲ２は画素電極ＰＥＲ２と対向し、カラーフィルタＣＦＢは画素電極ＰＥＢと対向し、カラーフィルタＣＦＷは画素電極ＰＥＷと対向している。

カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２は、例えば、緑色の顔料によって着色された有機樹脂材料によって形成されている。カラーフィルタＣＦＲ１，ＣＦＲ２は、例えば、赤色の顔料によって着色された有機樹脂材料によって形成されている。カラーフィルタＣＦＢは、例えば、青色の顔料によって着色された有機樹脂材料によって形成されている。カラーフィルタＣＦＷは、例えば、着色されていない実質的に無色の有機樹脂材料によって形成されている。例えば、カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷについて、それぞれ画素電極と対向する位置での膜厚はいずれもほぼ等しい。但し、カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷの端部領域において、それぞれの膜厚は徐々に薄くなっている。なお、副画素ＰＸＷにおいては、カラーフィルタＣＦＷを設けない構成を採用することもできる。但し、この場合においては、第３絶縁層ＩＬ３によってカラーフィルタ層ＣＦＬが十分に平坦化されずに、副画素ＰＸＷにおける液晶層ＬＱの厚さが増大し、副画素ＰＸＷの表示色が黄色味を帯びる場合がある。すなわち、副画素ＰＸＷにおいて島状のカラーフィルタＣＦＷを設けることで、副画素ＰＸＷの液晶層ＬＱの厚さを他の副画素と同等に保ち、表示色の着色を防ぐ効果が得られる。

カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＲ１は、領域Ａ１に配置されている。カラーフィルタＣＦＧ１は、画素電極ＰＥＧ１と画素電極ＰＥＢとの間の境界領域Ｂ１１に位置する端部ＧＥ１１と、画素電極ＰＥＧ１と画素電極ＰＥＲ１との間の境界領域Ｂ１３に位置する端部ＧＥ１２と、を有している。画素ＰＸ１において、端部ＧＥ１１は、ソース配線Ｓ２、Ｓ３と対向している。カラーフィルタＣＦＧ１の第２方向Ｄ２における端部ＧＥ１１とは反対側の端部は、ソース配線Ｓ１と対向している。端部ＧＥ１２は、領域Ａ１の中心付近（つまり、ゲート配線Ｇ１とゲート配線Ｇ２との中間位置付近）に位置している。カラーフィルタＣＦＧ１の第１方向Ｄ１における端部ＧＥ１２とは反対側の端部の一部は、接続孔ＣＨＡ１を避けるようにゲート配線Ｇ１と対向している。カラーフィルタＣＦＲ１は、画素電極ＰＥＲ１と画素電極ＰＥＢとの間の境界領域Ｂ１２に位置する端部ＲＥ１１と、画素電極ＰＥＧ１と画素電極ＰＥＲ１との間の境界領域Ｂ１３に位置する端部ＲＥ１２と、を有している。画素ＰＸ１において、端部ＲＥ１１は、ソース配線Ｓ２、Ｓ３と対向している。カラーフィルタＣＦＲ１の第２方向Ｄ２における端部ＲＥ１１とは反対側の端部は、ソース配線Ｓ１と対向している。端部ＲＥ１２は、領域Ａ１の中心付近に位置している。カラーフィルタＣＦＲ１の第１方向Ｄ１における端部ＲＥ１２とは反対側の端部の一部は、接続孔ＣＨＡ２を避けるようにゲート配線Ｇ２と対向している。

カラーフィルタＣＦＢは、領域Ａ２に配置されている。カラーフィルタＣＦＢは、境界領域Ｂ１１及び境界領域Ｂ１２に位置する端部ＢＥ１１を有している。画素ＰＸ１において、端部ＢＥ１１は、ソース配線Ｓ２、Ｓ３と対向している。カラーフィルタＣＦＢの第２方向Ｄ２における端部ＢＥ１１とは反対側の端部は、ソース配線Ｓ４と対向している。カラーフィルタＣＦＢの第１方向Ｄ１における一方の端部はゲート配線Ｇ１と対向し、他方の端部の一部は、接続孔ＣＨＡ３を避けるようにゲート配線Ｇ２と対向している。

カラーフィルタＣＦＧ２，ＣＦＲ２は、領域Ａ３に配置されている。カラーフィルタＣＦＧ２は、画素電極ＰＥＧ２と画素電極ＰＥＷとの間の境界領域Ｂ２１に位置する端部ＧＥ２１と、画素電極ＰＥＧ２と画素電極ＰＥＲ２との間の境界領域Ｂ２３に位置する端部ＧＥ２２と、を有している。画素ＰＸ１において、端部ＧＥ２１は、ソース配線Ｓ２、Ｓ３と対向している。カラーフィルタＣＦＧ２の第２方向Ｄ２における端部ＧＥ２１とは反対側の端部は、ソース配線Ｓ１と対向している。端部ＧＥ２２は、領域Ａ３の中心付近（つまり、ゲート配線Ｇ２とゲート配線Ｇ３との中間位置付近）に位置している。カラーフィルタＣＦＧ２の第１方向Ｄ１における端部ＧＥ２２とは反対側の端部の一部は、接続孔ＣＨＡ４を避けるようにゲート配線Ｇ２と対向している。カラーフィルタＣＦＲ２は、画素電極ＰＥＲ２と画素電極ＰＥＷとの間の境界領域Ｂ２２に位置する端部ＲＥ２１と、画素電極ＰＥＧ２と画素電極ＰＥＲ２との間の境界領域Ｂ２３に位置する端部ＲＥ２２と、を有している。画素ＰＸ１において、端部ＲＥ２１は、ソース配線Ｓ２、Ｓ３と対向している。カラーフィルタＣＦＲ２の第２方向Ｄ２における端部ＲＥ２１とは反対側の端部は、ソース配線Ｓ１と対向している。端部ＲＥ２２は、領域Ａ３の中心付近に位置している。カラーフィルタＣＦＲ２の第１方向Ｄ１における端部ＲＥ２２とは反対側の端部の一部は、接続孔ＣＨＡ５を避けるようにゲート配線Ｇ３と対向している。

カラーフィルタＣＦＷは、領域Ａ４に配置されている。カラーフィルタＣＦＷは、境界領域Ｂ２１及び境界領域Ｂ２２に位置する端部ＷＥ２１を有している。画素ＰＸ１において、端部ＷＥ２１は、ソース配線Ｓ２、Ｓ３と対向している。カラーフィルタＣＦＷの第２方向Ｄ２における端部ＷＥ２１とは反対側の端部は、ソース配線Ｓ４と対向している。カラーフィルタＣＦＷの第１方向Ｄ１における一方の端部はゲート配線Ｇ２と対向し、他方の端部の一部は、接続孔ＣＨＡ６を避けるようにゲート配線Ｇ３と対向している。

このような画素ＰＸ１において、ソース配線Ｓ２、Ｓ３と対向する位置では、端部ＧＥ１１、ＲＥ１１、ＢＥ１１が互いに重畳し、また、端部ＧＥ２１、ＲＥ２１、ＷＥ２１が互いに重畳している。領域Ａ１の中心付近では、端部ＧＥ１２、ＲＥ１２が互いに重畳している。領域Ａ３の中心付近では、端部ＧＥ２２、ＲＥ２２が互いに重畳している。

画素ＰＸ２のカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２も画素ＰＸ１と同様に配置され、各カラーフィルタの端部が互いに重畳している。

また、画素ＰＸ１と画素ＰＸ２との間において、ソース配線Ｓ４と対向する位置では、画素ＰＸ１のカラーフィルタＣＦＢの端部と画素ＰＸ２のカラーフィルタＣＦＧ１、ＣＦＲ１の端部とが互いに重畳し、画素ＰＸ１のカラーフィルタＣＦＷの端部と画素ＰＸ２のカラーフィルタＣＦＧ２、ＣＦＲ２の端部とが互いに重畳している。

また、接続孔ＣＨの中心と、接続孔ＣＨを介して隣り合うカラーフィルタＣＦの端部との距離は可能な限り等しくすると好ましい。図８の例においては、接続孔ＣＨＡ２の中心とカラーフィルタＣＦＲ１の端部との距離と、接続孔ＣＨＡ２の中心とカラーフィルタＣＦＧ２の端部との距離は可能な限り等しくすると好ましい。これによって複数の基板を貼りあわせる際に生じるズレによる、画質の劣化を低減させることが出来る。

図９Ａは、図８におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷ及び接続孔ＣＨＡ１〜ＣＨＡ６を示す図である。カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷは、いずれも島状に形成されており、同一色のものが接していない。つまり、いずれのカラーフィルタも異なる色の複数のカラーフィルタに囲まれている。

図示した例では、カラーフィルタＣＦＢ，ＣＦＷのそれぞれ面積が、カラーフィルタＣＦＧ１の面積、カラーフィルタＣＦＧ２の面積、カラーフィルタＣＦＲ１の面積、及び、カラーフィルタＣＦＲ２の面積のいずれよりも大きい。但し、カラーフィルタＣＦＢの面積は、カラーフィルタＣＦＷの面積と必ずしも同一であるとは限らない。また、カラーフィルタＣＦＧ１の面積、カラーフィルタＣＦＧ２の面積、カラーフィルタＣＦＲ１の面積、及び、カラーフィルタＣＦＲ２の面積が互いに異なっていても良い。

カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷは、いずれも角が丸められた平行四辺形に類似した形状である。そして、接続孔ＣＨＡ１〜ＣＨＡ６は、カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷのいずれとも平面視で重複しない位置に設けられている。例えば図８においては、カラーフィルタＣＦＧ１は窪み部ＨＧ１を有し、カラーフィルタＣＦＧ２は窪み部ＨＧ２を有し、カラーフィルタＣＦＲ１は窪み部ＨＲ１を有し、カラーフィルタＣＦＲ２は窪み部ＨＲ２を有し、カラーフィルタＣＦＢは窪み部ＨＢを有し、カラーフィルタＣＦＷは窪み部ＨＷを有している。接続孔ＣＨＡ１は窪み部ＨＧ１に形成され、接続孔ＣＨＡ２は窪み部ＨＲ１に形成され、接続孔ＣＨＡ３は窪み部ＨＢに形成され、接続孔ＣＨＡ４は窪み部ＨＧ２に形成され、接続孔ＣＨＡ５は窪み部ＨＲ２に形成され、接続孔ＣＨＡ６は窪み部ＨＷに形成されている。

カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷのうち、互いに隣り合うカラーフィルタの端部は互いに重畳している。カラーフィルタが重畳する重畳領域には、２つのカラーフィルタの端部が重畳する重畳領域と、３つのカラーフィルタの端部が重畳する重畳領域とが含まれる。各重畳領域において、互いに重畳しているカラーフィルタは、可視光における透過率ピークが異なる少なくとも２つの色のカラーフィルタであることが望ましい。

例えば、画素ＰＸ１において、カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＲ１，ＣＦＢは、互いに隣り合っている。カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＲ１，ＣＦＢのそれぞれの端部のうち、２つの端部は、第１重畳領域ＯＬ１で重畳している。一例では、第１重畳領域ＯＬ１は、境界領域Ｂ１１、境界領域Ｂ１２、及び、境界領域Ｂ１３のうちの少なくとも１つに位置している。より具体的には、境界領域Ｂ１１では、端部ＧＥ１１と端部ＢＥ１１とが重畳している。境界領域Ｂ１２では、の端部ＲＥ１１と端部ＢＥ１１とが重畳している。境界領域Ｂ１３では、端部ＧＥ１２と端部ＲＥ１２とが重畳している。

また、カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＲ１，ＣＦＢのそれぞれの端部のうち、３つの端部は、第１重畳領域ＯＬ１とは異なる第２重畳領域ＯＬ２で重畳している。一例では、第２重畳領域ＯＬ２は、境界領域Ｂ１１、境界領域Ｂ１２、及び、境界領域Ｂ１３が互いに交差する交差部ＣＲ１に位置している。後に詳述するように、交差部ＣＲ１では、カラーフィルタＣＦＧ１の端部、カラーフィルタＣＦＲ１の端部、及び、カラーフィルタＣＦＢの端部が互いに重畳している。

カラーフィルタＣＦＧ２，ＣＦＲ２，ＣＦＷは、互いに隣り合っている。

カラーフィルタＣＦＧ２，ＣＦＲ２，ＣＦＷのそれぞれの端部のうち、２つの端部は、第１重畳領域ＯＬ１で重畳している。一例では、第１重畳領域ＯＬ１は、境界領域Ｂ２１、境界領域Ｂ２２、及び、境界領域Ｂ２３のうちの少なくとも１つに位置している。より具体的には、境界領域Ｂ２１では、端部ＧＥ２１と端部ＷＥ２１とが重畳している。境界領域Ｂ２２では、端部ＲＥ２１と端部ＷＥ２１とが重畳している。境界領域Ｂ２３では、端部ＧＥ２２と端部ＲＥ２２とが重畳している。

また、カラーフィルタＣＦＧ２，ＣＦＲ２，ＣＦＷのそれぞれの端部のうち、３つの端部は、第１重畳領域ＯＬ１とは異なる第２重畳領域ＯＬ２で重畳している。一例では、第２重畳領域ＯＬ２は、境界領域Ｂ２１、境界領域Ｂ２２、及び、境界領域Ｂ２３が互いに交差する交差部ＣＲ２に位置している。交差部ＣＲ２では、カラーフィルタＣＦＧ２の端部、カラーフィルタＣＦＲ２の端部、及び、カラーフィルタＣＦＷの端部が互いに重畳している。

図９Ｂは、図９Ａにおける９Ａ−９Ｂ線に沿うカラーフィルタ層ＣＦＬの断面を模式的に示す図である。

なお、本明細書において第１基板ＳＵ１に形成されたカラーフィルタ層ＣＦＬにおける「上」とは、図６などの断面図において第１絶縁基板ＩＳＵ１から離れた側、あるいは、第２基板ＳＵ２に近接する側を意味する。

カラーフィルタＣＦＧ１は、端部ＧＥ１１及び端部ＧＥ１３を有している。カラーフィルタＣＦＲ１は、端部ＲＥ１１及び端部ＲＥ１３を有している。カラーフィルタＣＦＢは、端部ＢＥ１１及び端部ＢＥ１３を有している。境界領域Ｂ１１においては、端部ＧＥ１１の上に端部ＢＥ１１が重畳している。境界領域Ｂ１２においては、端部ＲＥ１１の上に端部ＢＥ１１が重畳している。交差部ＣＲ１においては、端部ＧＥ１３の上に端部ＲＥ１３が重畳し、端部ＲＥ１３の上に端部ＢＥ１３が重畳している。つまり、端部ＢＥ１１は、端部ＧＥ１１及び端部ＲＥ１１よりも第１絶縁基板から離れた側に位置している。また、端部ＢＥ１３は、端部ＧＥ１３及び端部ＲＥ１３よりも第１絶縁基板から離れた側に位置している。また、端部ＲＥ１３は、端部ＧＥ１３よりも第１絶縁基板から離れた側に位置している。

上記のような重畳構造は、緑色のカラーフィルタＣＦＧ及び赤色のカラーフィルタＣＦＲを青色のカラーフィルタＣＦＢよりも先行して形成することで得られる。すなわち、各カラーフィルタは、フォトリソグラフィ工程を経てパターニングされた後に、加熱処理される。青色のカラーフィルタＣＦＢは、他の色のカラーフィルタよりも熱の影響によって退色あるいは変色しやすい場合がある。このため、カラーフィルタＣＦＢは他の色のカラーフィルタよりも後に形成することにより、熱の影響を受けにくく、退色あるいは変色を抑制できる。また、カラーフィルタＣＦＧ及びカラーフィルタＣＦＲについては、それぞれの加工性を考慮して形成順序を決定することが望ましい。一例では、カラーフィルタＣＦＧがカラーフィルタＣＦＲよりも加工性に劣る場合、カラーフィルタＣＦＧは、カラーフィルタＣＦＲより先に形成される。これにより、カラーフィルタＣＦＧは、下地の凹凸の影響を受けにくく、安定して所望の形状に形成できる。

２つの端部が重畳される境界領域Ｂ１１及びＢ１２と、３つの端部が重畳される交差部ＣＲ１とが混在する場合、カラーフィルタ層ＣＦＬの厚さにバラツキが生じやすい。特に、交差部ＣＲ１では、境界領域Ｂ１１及びＢ１２よりも厚くなりやすい。第１実施形態では、交差部ＣＲ１は、境界領域Ｂ１１及びＢ１２と略同等の厚さに形成されている。すなわち、端部ＧＥ１１は膜厚ＴＧ１を有し、端部ＧＥ１３は膜厚ＴＧ３を有している。また、端部ＲＥ１１は膜厚ＴＲ１を有し、端部ＲＥ１３は膜厚ＴＲ３を有している。また、端部ＢＥ１１は膜厚ＴＢ１を有し、端部ＢＥ１３は膜厚ＴＢ３を有している。これらの膜厚の大小関係については、Ａ）膜厚ＴＧ３は膜厚ＴＧ１よりも薄い、Ｂ）膜厚ＴＲ３は膜厚ＴＲ１よりも薄い、Ｃ）膜厚ＴＢ３は膜厚ＴＢ１よりも薄い、のうちの少なくとも１つの関係を満足していれば良い。図示した例では、Ａ）、Ｂ）、Ｃ）のいずれの関係も満足している。一例では、カラーフィルタＣＦＧ１においてその本体（画素電極ＰＥＧ１と対向する領域）の膜厚ＴＧ０は、カラーフィルタＣＦＢにおいてその本体（画素電極ＰＥＢと対向する領域）の膜厚ＴＢ０と実質的に同等である。境界領域Ｂ１１において、端部ＧＥ１１の膜厚ＴＧ１と端部ＢＥ１１の膜厚ＴＢ１との総和は、膜厚ＴＧ０と実質的に同等である。境界領域Ｂ１２において、端部ＲＥ１１の膜厚ＴＲ１と端部ＢＥ１１の膜厚ＴＢ１との総和は、膜厚ＴＢ０と実質的に同等である。交差部ＣＲ１において、端部ＧＥ１３の膜厚ＴＧ３、端部ＲＥ１３の膜厚ＴＲ３、及び、端部ＢＥ１３の膜厚ＴＢ３の総和は、膜厚ＴＧ０などと実質的に同等である。したがって、境界領域Ｂ１１及びＢ１２と交差部ＣＲ１とを含むカラーフィルタ層ＣＦＬにおいて、その厚さのバラツキが抑制される。これにより、境界領域Ｂ１１及びＢ１２や、交差部ＣＲ１と対向する領域の液晶層は、ほぼ均一な厚さとなり、局所的な変調率の低下に伴う透過率の低下を抑制することが可能となる。なお「実質的に同等」の例としては、膜厚比が０．７〜１．３の間にある場合がある。

図１０は、図７に示した遮光層ＢＭと、ゲート配線Ｇ（Ｇ１〜Ｇ３）、ソース配線Ｓ（Ｓ１〜Ｓ６）、接続孔ＣＨＡ１〜ＣＨＡ６、及び接続電極ＣＡＬなどとの位置関係を示す平面図である。

遮光層ＢＭは、ゲート配線Ｇのそれぞれに対して設けられ、ゲート配線Ｇとともに第２方向Ｄ２に沿って延びている。これらの遮光層ＢＭは、ゲート配線Ｇ、接続孔ＣＨＡ１〜ＣＨＡ６、及び接続電極ＣＡＬと平面視で重なっている。

これらの遮光層ＢＭにより、第２基板ＳＵ２の側からの光のゲート配線Ｇ及び接続電極ＣＡＬなどによる反射を防ぎ、表示画像の画質を向上させることができる。なお、図１０の例においては、ソース配線Ｓが遮光層ＢＭから露出している。つまり、遮光層ＢＭは、ソース配線Ｓと対向する位置には形成されていない。しかしながら、図８に示したように、ソース配線Ｓの近傍でカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢを互いに重畳させることにより、ソース配線Ｓによる光の反射を抑制することができる。また、ソース配線Ｓに反射を防止するための手段を講じても良い
図１０の例においては、ゲート配線Ｇ２と重なる位置にスペーサＳＯＡが設けられている。このスペーサＳＯＡは、液晶層ＬＱの層厚を維持する機能を有している。スペーサＳＯＡは、有機樹脂材料で形成され、第１基板ＳＵ１或いは第２基板ＳＵ２に設けられている。

スペーサＳＯＡの周囲において、遮光層ＢＭは、スペーサＳＯＡを中心として所定範囲に亘って拡大した拡大部ＥＴを有している。この拡大部ＥＴにより、スペーサＳＯＡの周辺における液晶分子の配向乱れに起因した光漏れを防止することができる。さらに、スペーサＳＯＡの周囲においては、第１基板ＳＵ１と第２基板ＳＵ２とが位置ずれし互いに擦れて配向乱れが生じることがあるが、このような配向乱れに起因した光漏れも拡大部ＥＴによって防ぐことができる。

続いて、第１実施形態から得られる効果の一例について説明する。
図１１は、第１実施形態との比較例を説明するための図であって、第１方向Ｄ１に配列された画素ＰＸａを示している。この画素ＰＸａは、赤色に対応する副画素ＰＸＲａ、緑色に対応する副画素ＰＸＧａ、及び、青色に対応する副画素ＰＸＢａを含んでおり、これら副画素ＰＸＲａ，ＰＸＧａ，ＰＸＢａは第２方向Ｄ２に沿って並んでいる。

図１２は、図１１に示した画素ＰＸａに配置されるカラーフィルタを示す図である。第１方向Ｄ１に沿って並ぶ副画素ＰＸＲａに対応して連続したカラーフィルタＣＦＲａが配置されている。第１方向Ｄ１に沿って並ぶ副画素ＰＸＧａに対応して連続したカラーフィルタＣＦＧａが配置されている。第１方向Ｄ１に沿って並ぶ副画素ＰＸＢａに対応して連続したカラーフィルタＣＦＢａが配置されている。

ここで、副画素ＰＸＲａ，ＰＸＧａ，ＰＸＢａ及び第１実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰの副画素ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２，ＰＸＢ，ＰＸＷが同一の精細度で形成される場合を想定する。この場合、図１１に示す画素ＰＸａは第２方向Ｄ２に３つの副画素を含むのに対し、図３などに示した画素ＰＸ１，ＰＸ２は第２方向Ｄ２に２つの副画素のみを含むため、画素ＰＸａの第２方向Ｄ２における幅は画素ＰＸ１，ＰＸ２の第２方向Ｄ２における幅の約１．５倍の長さとなる。

すなわち、第１実施形態によれば、画素を高精細化した場合であっても、比較的大きな画素幅を確保することができる。これにより、例えば、以下に説明するように隣り合う画素同士の混色防止が可能となる。

混色は、画素にある色を表示させた際に、その表示色の色相の極角依存性が左右非対称となる現象である。混色の程度が悪い場合には、例えば、赤色を表示させた画素を表示面の法線方向から見た際には赤色に見えるが、高極角の領域から見た際には赤色に緑色が混ざって見えることもあり得る。このような混色は、例えば、表示パネルの主面の法線方向に対して傾いて表示パネルに入射した光が、互いに整合しないカラーフィルタと画素領域とを通過することで生じる。

図１３は、画素電極とカラーフィルタとが異なる基板に設けられた表示パネルの断面を示す図である。第１基板ＳＵ１ａに画素電極ＰＥＲａ，ＰＥＧａ，ＰＥＢａが設けられ、この第１基板ＳＵ１ａと液晶層ＬＱａを介して対向する第２基板ＳＵ２ａに画素電極ＰＥＲａに対応するカラーフィルタＣＦＲａと、画素電極ＰＥＧａに対応するカラーフィルタＣＦＧａと、画素電極ＰＥＢａに対向するカラーフィルタＣＦＢａと、が設けられている。また、第２基板ＳＵ２ａには、副画素の境界に位置する遮光層ＢＭｂが設けられている。図１３の例においては、第１基板ＳＵ１ａと第２基板ＳＵ２ａとが本来の位置から僅かにずれて貼り合わされた状態を示している。

ここで、画素電極ＰＥＧａ及びカラーフィルタＣＦＧａに対応する緑色の副画素を点灯させる場合を想定する。バックライトユニットから第１基板ＳＵ１ａに斜めに入射する光の一部（実線矢印）は、カラーフィルタＣＦＧａを通って緑色を表示する。これに対し、バックライトユニットから第１基板ＳＵ１ａに斜めに入射する光の他の一部（破線矢印）は、隣の画素のカラーフィルタＣＦＢａを通って青色を表示する。これにより混色が生じる。

このような隣の画素のカラーフィルタを透過して混色を招く不整合光は、隣り合う画素の境界で発生する。画素サイズあるいは画素幅が大きい場合には、大部分の光が本来表示すべき色のカラーフィルタを透過して表示に寄与するため、不整合光が表示に寄与する割合が極めて小さくなる。したがって、画素サイズが大きい場合には、混色が視認されにくい。

図１４は、図１３の例よりも画素幅が小さい高精細な画素を想定した図である。この場合には、図１３の例と比較して、画素サイズが小さくなる。このため、カラーフィルタＣＦＢａを通る不整合光が表示に寄与する割合は相対的に大きくなる。したがって、画素サイズが小さい場合には、混色が視認されやすくなる。

図１５は、第１実施形態と同じく画素電極とカラーフィルタとが同じ基板に設けられたＣＯＡ方式の表示パネルの断面を示す図である。すなわち、第１基板ＳＵ１ａに画素電極ＰＥＲａ，ＰＥＧａ，ＰＥＢａと、カラーフィルタＣＦＲａ，ＣＦＧａ，ＣＦＢａとが設けられている。

一般に、異なる基板の位置合わせ精度は例えば２．５μｍ程度と大きく、これに対して同一基板に形成される２つの層の位置合わせ精度は例えば１．０μｍ程度と極めて小さい。したがって、図１５の例においては、第１基板ＳＵ１ａと第２基板ＳＵ２ａとがずれて貼り合わされた場合であっても、画素電極ＰＥＲａ，ＰＥＧａ，ＰＥＢａと、カラーフィルタＣＦＲａ，ＣＦＧａ，ＣＦＢａとの位置ずれが殆ど生じない。また、図１３及び図１４の例においては、画素電極ＰＥＲａ，ＰＥＧａ，ＰＥＢａと、カラーフィルタＣＦＲａ，ＣＦＧａ，ＣＦＢａとの間に液晶層ＬＱａが介在しているが、図１５の例においては画素電極とカラーフィルタとの間に液晶層ＬＱａが介在せず、画素電極とカラーフィルタとを接近させることができる。このため、これら画素電極とカラーフィルタに位置ずれが生じたとしても、図１３及び図１４において破線矢印で示したような不整合光の発生を抑制できる。したがって、図１５の例は、混色を防止するのに有利である。すなわち、ＣＯＡ方式を採用した第１実施形態によれば、高精細化したとしても混色を抑制することが可能となる。

また、ＣＯＡ方式を採用した第１実施形態における表示パネルＰＮＬは、開口率の面でも有利である。すなわち、ＣＯＡ方式を採用したことにより、第２基板ＳＵ２に配置される遮光層ＢＭの面積を小さく抑えることができる。より具体的には、遮光層ＢＭは、画素電極とカラーフィルタとをそれぞれ異なる基板上に配置する際に、配線等からの光反射の防止並びに混色低減のために必要であった。ここで配線等とは、ソース配線Ｓ、ゲート配線Ｇ、接続電極ＣＡＬのことである。概略長方形の形状をした画素の境界に遮光層ＢＭを配置する場合には、例えば、画素の長辺上つまりソース配線と対向する位置と、画素の短辺上つまりゲート配線と対向する位置とにそれぞれ遮光層が配置される。ＣＯＡ方式では、画素電極及びカラーフィルタを同一基板上に配置したことにより混色が生じにくいため、ソース配線Ｓと対向する位置の遮光層ＢＭを省略することができる。つまり、画素の長辺上に沿った遮光層を省略することができるため、第１基板ＳＵ１と第２基板ＳＵ２との合わせずれに伴う開口率の低減を抑制することができるとともに、高開口率化にも有利である。開口率の向上により、液晶表示装置ＤＳＰの輝度も向上させることができる。

また、画素を構成する副画素は、異なる色の副画素と隣り合っている。第１実施形態で説明した例では、画素を構成する何れの副画素も、異なる色の副画素によって囲まれている。つまり、ＣＯＡ方式の第１実施形態においては、何れのカラーフィルタも、異なる色のカラーフィルタと隣り合っている。これらの隣り合うカラーフィルタの端部は、互いに重畳している。異なる色のカラーフィルタが重畳した重畳領域では、カラーフィルタが単層の領域（画素電極と重なる領域を含む）と比較して、バックライトユニットからの光の透過率が極めて低く抑えられている。このため、隣り合う副画素の境界に沿った遮光層を配置する必要がない、若しくは小さくすることが出来る。したがって、第１基板ＳＵ１と第２基板ＳＵ２との合わせずれに伴う開口率の低減を抑制することができる。

また、ソース配線Ｓと対向する位置の遮光層を省略した代わりに、カラーフィルタの重畳領域がソース配線Ｓと対向することにより、ソース配線Ｓによる不所望な光反射を抑制することが可能となる。このため、周囲が明るい環境下で液晶表示装置ＤＳＰを使用した場合であっても、外光反射による視認性の低下を抑制することができるとともに、コントラスト比の低下を抑制することができる。

このように、第１実施形態によれば、混色を防止し且つ開口率を向上させた高精細な液晶表示装置ＤＳＰ及びこの液晶表示装置ＤＳＰに用いられるカラーフィルタ基板を得ることができる。

一般に、カラーフィルタは、その膜厚が例えば１．５μｍ程度と厚く、且つ光吸収性を有するために加工性に劣る。したがって、カラーフィルタ層ＣＦＬに含まれるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷに接続孔ＣＨＡ１〜ＣＨＡ６に対応する孔部を設ける場合、小さな径でこれらを形成することは困難な場合がある。孔部の形成過程において残渣が生じて、当該接続孔を通じた電気的な接続が阻害される恐れがある。

よって、第１実施形態のように、カラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷに接続孔ＣＨＡ１〜ＣＨＡ６に対応する孔部を設けない場合は、これらカラーフィルタの加工性による影響が少ないので好ましい。

第３絶縁層ＩＬ３は、透明な有機膜であり、この第３絶縁層ＩＬ３の元となるポジレジストは溶剤を含んでいるため塗布直後にある程度の流動性を有する。そのため、第３絶縁層ＩＬ３は、カラーフィルタが直下に存在する位置において薄くなり、存在しない位置において厚くなる。但し、十分にこのような平坦化作用を発揮できずに、カラーフィルタが直下に無い部分において凹部を生じることがある。このような凹部の近傍においては、接続電極ＣＡＬと、第３絶縁層ＩＬ３の液晶層ＬＱ側の面に形成される共通電極ＣＥとの間の距離が減少して、寄生容量が増大する可能性がある。この点、第１実施形態においては、図９Ａに示したようにカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷに窪み部ＨＧ１，ＨＧ２，ＨＲ１，ＨＲ２，ＨＢ，ＨＷを設け、これら窪み部の位置に接続孔ＣＨＡ１〜ＣＨＡ６を形成している。したがって、上記凹部の面積が小さくなり、寄生容量の増大を防ぐことができる。

また、接続孔ＣＨＡ１がゲート配線Ｇ１の側に形成されるとともに接続孔ＣＨＡ２がゲート配線Ｇ２の側に形成されているので、領域Ａ１において画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１の配置スペースを大きく確保することができる。同様に、接続孔ＣＨＡ４がゲート配線Ｇ２の側に形成されるとともに接続孔ＣＨＡ５がゲート配線Ｇ３の側に形成されているので、領域Ａ３において画素電極ＰＥＧ２，ＰＥＲ２の配置スペースを大きく確保することができる。したがって、高精細化した場合であっても、各領域において表示に寄与する面積を広く確保することができ、表示品位の低下を抑制できる。

（第２実施形態）
第２実施形態について説明する。第１実施形態と同一の構成及び作用については説明を省略する。第２実施形態は、第１実施形態と比較して、カラーフィルタ層の交差部において、２つのカラーフィルタの端部が重畳しており、３つのカラーフィルタの端部が重畳していない点で相違している。

図１６は、第２実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。図中の（ａ）はカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷのレイアウトを示す図であり、図中の（ｂ）はカラーフィルタＣＦＢを示す図であり、図中の（ｃ）はカラーフィルタＣＦＷを示す図である。

第１実施形態と同様に、境界領域Ｂ１１では端部ＧＥ１１と端部ＢＥ１１とが重畳し、境界領域Ｂ１２では端部ＲＥ１１と端部ＢＥ１１とが重畳し、境界領域Ｂ１３では端部ＧＥ１２と端部ＲＥ１２とが重畳している。また、境界領域Ｂ２１では端部ＧＥ２１と端部ＷＥ２１とが重畳し、境界領域Ｂ２２では端部ＲＥ２１と端部ＷＥ２１とが重畳し、境界領域Ｂ２３では端部ＧＥ２２と端部ＲＥ２２とが重畳している。これらの境界領域Ｂ１１乃至Ｂ１３、及び、境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２３は、第１重畳領域ＯＬ１に相当する。

交差部ＣＲ１では、カラーフィルタＣＦＧ１の端部ＧＥ１３とカラーフィルタＣＦＲ１の端部ＲＥ１３とが重畳しており、カラーフィルタＣＦＢは重畳していない。つまり、図１６の（ｂ）で示したように、カラーフィルタＣＦＢは、交差部ＣＲ１と重なる領域に凹部ＣＣを有している。

また、交差部ＣＲ２では、カラーフィルタＣＦＧ２の端部ＧＥ２３とカラーフィルタＣＦＲ２の端部ＲＥ２３とが重畳しており、カラーフィルタＣＦＷは重畳していない。つまり、図１６の（ｃ）で示したように、カラーフィルタＣＦＷは、交差部ＣＲ２と重なる領域に凹部ＷＣを有している。これらの交差部ＣＲ１及び交差部ＣＲ２は、第２重畳領域ＯＬ２に相当する。カラーフィルタＣＦＷは全可視光を実質的に透過させる性質があり、遮光性を上げる材料には適していないので、交差部ＣＲ２において重畳させない方が良い。

したがって、交差部ＣＲ１において、境界領域Ｂ１１乃至Ｂ１３との段差を低減することが可能となる。また、交差部ＣＲ２においても、境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２３との段差を低減することが可能となる。このため、図９Ｂを参照して説明したのと同様に、境界領域及び交差部と対向する領域の液晶層は、ほぼ均一な厚さとなり、局所的な変調率の低下に伴う透過率の低下を抑制することが可能となる。

図１７は、第２実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。図中の（ａ）はカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷのレイアウトを示す図であり、図中の（ｂ）はカラーフィルタＣＦＲ１を示す図であり、図中の（ｃ）はカラーフィルタＣＦＲ２を示す図である。

図１７に示した例は、図１６に示した例と比較して、交差部ＣＲ１及び交差部ＣＲ２において異なる重畳構造を有する点で相違している。その他、境界領域Ｂ１１乃至Ｂ１３、及び、境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２３の重畳構造については同一であり、説明を省略する。

交差部ＣＲ１では、カラーフィルタＣＦＧ１の端部ＧＥ１３とカラーフィルタＣＦＢの端部ＢＥ１３とが重畳しており、カラーフィルタＣＦＲ１は重畳していない。つまり、図１７の（ｂ）で示したように、カラーフィルタＣＦＲ１は、交差部ＣＲ１と重なる領域に凹部ＲＣ１を有している。凹部ＲＣ１は、端部ＲＥ１１と端部ＲＥ１２とが交差する領域に形成されている。また、交差部ＣＲ２では、カラーフィルタＣＦＧ２の端部ＧＥ２３とカラーフィルタＣＦＷの端部ＷＥ２３とが重畳しており、カラーフィルタＣＦＲ２は重畳していない。つまり、図１７の（ｃ）で示したように、カラーフィルタＣＦＲ２は、交差部ＣＲ２と重なる領域に凹部ＲＣ２を有している。凹部ＲＣ２は、端部ＲＥ２１と端部ＲＥ２２とが交差する領域に形成されている。これらの交差部ＣＲ１及び交差部ＣＲ２は、第２重畳領域ＯＬ２に相当する。

このような例においても、図１６に示した例と同様の効果が得られる。

図１８は、第２実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。図中の（ａ）はカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷのレイアウトを示す図であり、図中の（ｂ）はカラーフィルタＣＦＧ１を示す図であり、図中の（ｃ）はカラーフィルタＣＦＧ２を示す図である。

図１８に示した例は、図１６に示した例と比較して、交差部ＣＲ１及び交差部ＣＲ２において異なる重畳構造を有する点で相違している。その他、境界領域Ｂ１１乃至Ｂ１３、及び、境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２３の重畳構造とその利点については実質的に同様であり、説明を省略する。

（第３実施形態）
第３実施形態について説明する。第１実施形態と同一の構成及び作用については説明を省略する。この第３実施形態では、緑色のカラーフィルタＣＦＧ２、赤色のカラーフィルタＣＦＲ２、及び、白色あるいは実質的に透明のカラーフィルタＣＦＷが隣り合う領域に着目している。第３実施形態は、第２実施形態と比較して、境界領域Ｂ２１及びＢ２２、及び、交差部ＣＲ２において、可視光における透過率ピークが異なる少なくとも２つの色のカラーフィルタが重畳している点で相違している。なお、境界領域Ｂ１１及びＢ１２、及び、交差部ＣＲ１については、第１実施形態と同一構成であっても良いし、第２実施形態と同一構成であっても良い。

図１９は、第３実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。図中の（ａ）はカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷのレイアウトを示す図であり、図中の（ｂ）はカラーフィルタＣＦＧ２を示す図であり、図中の（ｃ）はカラーフィルタＣＦＲ２を示す図である。

境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２３、及び、交差部ＣＲ２においては、カラーフィルタＣＦＧ２の端部とカラーフィルタＣＦＲ２の端部とが重畳している一方で、カラーフィルタＣＦＷが重畳していない。すなわち、図１９の（ｂ）で示したように、カラーフィルタＣＦＧ２は、端部ＧＥ２１乃至ＧＥ２３に加えて、端部ＧＥ２３から突出した凸部ＧＰを有している。また、図１９の（ｃ）で示したように、カラーフィルタＣＦＲ２は、端部ＲＥ２１乃至ＲＥ２３に加えて、端部ＲＥ２３から突出した凸部ＲＰを有している。境界領域Ｂ２１では、端部ＧＥ２１と凸部ＲＰとが重畳している。境界領域Ｂ２２では、端部ＲＥ２１と凸部ＧＰとが重畳している。境界領域Ｂ２３では、端部ＧＥ２２と端部ＲＥ２２とが重畳している。交差部ＣＲ２では、端部ＧＥ２３と端部ＲＥ２３とが重畳している。

したがって、交差部ＣＲ２において、境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２３との段差を低減することが可能となる。このため、図９Ｂを参照して説明したのと同様に、境界領域及び交差部と対向する領域の液晶層は、ほぼ均一な厚さとなり、局所的な変調率の低下に伴う透過率の低下を抑制することが可能となる。

また、境界領域Ｂ２１及びＢ２２、及び、交差部ＣＲ２は、図８を参照して説明した通り、ソース配線Ｓ２及びＳ３と対向する領域である。これらの境界領域及び交差部では、可視光における透過率ピークが異なる少なくとも２つの色のカラーフィルタが重畳しているため、ソース配線Ｓ２及びＳ３による不所望な光反射を抑制することが可能となる。したがって、コントラスト比の低下を抑制することが可能となる。また、本実施形態において全可視光を実質的に透過させる白色又は無色のカラーフィルタＣＦＷを、境界領域及び交差部に形成していないのでカラーフィルタＣＦの全体の薄膜化を実現している。

図２０は、第３実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。図中の（ａ）はカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷのレイアウトを示す図であり、図中の（ｂ）はカラーフィルタＣＦＧ２を示す図であり、図中の（ｃ）はカラーフィルタＣＦＲ２を示す図である。

図２０に示した例は、図１９に示した例と比較して、境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２３、及び、交差部ＣＲ２のみならず、境界領域Ｂ２４乃至Ｂ２５、及び、交差部ＣＲ３においても２つのカラーフィルタの端部が重畳している点で相違している。なお、境界領域Ｂ２４乃至Ｂ２５、及び、交差部ＣＲ３は、ソース配線Ｓ１と対向する領域である。

境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２３、及び、交差部ＣＲ２においては、カラーフィルタＣＦＧ２の端部とカラーフィルタＣＦＲ２の端部とが重畳している一方で、カラーフィルタＣＦＷが重畳していない。また、境界領域Ｂ２４乃至Ｂ２５、及び、交差部ＣＲ３においても、カラーフィルタＣＦＧ２の端部とカラーフィルタＣＦＲ２の端部とが重畳している。

すなわち、図２０の（ｂ）で示したように、カラーフィルタＣＦＧ２は、端部ＧＥ２１乃至ＧＥ２３に加えて、端部ＧＥ２３から突出した凸部ＧＰ１と、端部ＧＥ２１とは反対側に位置する端部ＧＥ２４と、端部ＧＥ２２を挟んで端部ＧＥ２３とは反対側に位置する端部ＧＥ２５と、端部ＧＥ２５から突出した凸部ＧＰ２と、を有している。凸部ＧＰ１は凸部ＧＰ２よりも幅広に形成されている。図２０の（ｃ）で示したように、カラーフィルタＣＦＲ２は、端部ＲＥ２１乃至ＲＥ２３に加えて、端部ＲＥ２３から突出した凸部ＲＰ１と、端部ＲＥ２１とは反対側に位置する端部ＲＥ２４と、端部ＲＥ２２を挟んで端部ＲＥ２３とは反対側に位置する端部ＲＥ２５と、端部ＲＥ２５から突出した凸部ＲＰ２と、を有している。凸部ＲＰ１は凸部ＲＰ２よりも幅広に形成されている。

境界領域Ｂ２１では、端部ＧＥ２１と凸部ＲＰ１とが重畳している。境界領域Ｂ２２では、端部ＲＥ２１と凸部ＧＰ１とが重畳している。境界領域Ｂ２３では、端部ＧＥ２２と端部ＲＥ２２とが重畳している。交差部ＣＲ２では、端部ＧＥ２３と端部ＲＥ２３とが重畳している。境界領域Ｂ２４では、端部ＧＥ２４と凸部ＲＰ２とが重畳している。境界領域Ｂ２５では、端部ＲＥ２４と凸部ＧＰ２とが重畳している。交差部ＣＲ３では、端部ＧＥ２５と端部ＲＥ２５とが重畳している。

得られる効果については、図１９に示した例と実質的同様であるので省略する。

図２１は、第３実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。

図２１に示した例は、図１９に示した例と比較して、境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２２、及び、交差部ＣＲ２において異なる重畳構造を有する点で相違している。すなわち、境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２２、及び、交差部ＣＲ２においては、青色のカラーフィルタＣＦＢとは別に、島状に形成された青色のカラーフィルタＣＦＢＡが配置されている。なお、カラーフィルタＣＦＢＡは、カラーフィルタＣＦＢと一体的に形成されていても良い。

境界領域Ｂ２１では、端部ＧＥ２１とカラーフィルタＣＦＢＡとが重畳している。境界領域Ｂ２２では、端部ＲＥ２１とカラーフィルタＣＦＢＡとが重畳している。境界領域Ｂ２３では、端部ＧＥ２２と端部ＲＥ２２とが重畳している。交差部ＣＲ２では、端部ＧＥ２３と端部ＲＥ２３とカラーフィルタＣＦＢＡとが重畳している。これらの境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２２、及び、交差部ＣＲ２では、カラーフィルタＣＦＷは重畳していない。なお、各カラーフィルタの重畳順序は、図９Ｂを参照して説明したのと同様であり、カラーフィルタＣＦＢＡがカラーフィルタＣＦＧ２及びＣＦＲ２よりも上側に位置していることが望ましい。

このような例によれば、境界領域Ｂ２１及びＢ２２、及び、交差部ＣＲ２において、赤色のカラーフィルタＣＦＲ２と緑色のカラーフィルタＣＦＧ２とを重畳した場合と比較して、さらにソース配線Ｓ１乃至Ｓ３による不所望な光反射を抑制することが可能となる。したがって、コントラスト比の低下を抑制することが可能となる。

図２２は、第３実施形態におけるカラーフィルタＣＦＧ１，ＣＦＧ２，ＣＦＲ１，ＣＦＲ２，ＣＦＢ，ＣＦＷを示す図である。

図２２に示した例は、図２１に示した例と比較して、交差部ＣＲ２において異なる重畳構造を有する点で相違している。すなわち、境界領域Ｂ２１においては、島状に形成された青色のカラーフィルタＣＦＢＡが配置され、境界領域Ｂ２２においては、島状に形成された青色のカラーフィルタＣＦＢＢが配置されている。交差部ＣＲ２には、カラーフィルタＣＦＢＡ及びＣＦＢＢのいずれも配置されていない。

境界領域Ｂ２１では、端部ＧＥ２１とカラーフィルタＣＦＢＡとが重畳している。境界領域Ｂ２２では、端部ＲＥ２１とカラーフィルタＣＦＢＢとが重畳している。境界領域Ｂ２３では、端部ＧＥ２２と端部ＲＥ２２とが重畳している。交差部ＣＲ２では、端部ＧＥ２３と端部ＲＥ２３とが重畳している。これらの境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２２、及び、交差部ＣＲ２では、カラーフィルタＣＦＷは重畳していない。

このような例によれば、境界領域Ｂ２１及びＢ２２、及び、交差部ＣＲ２において、赤色のカラーフィルタＣＦＲ２と緑色のカラーフィルタＣＦＧ２とを重畳した場合と比較して、さらにソース配線Ｓ１乃至Ｓ３による不所望な光反射を抑制することが可能となる。したがって、コントラスト比の低下を抑制することが可能となる。

また、交差部ＣＲ２において境界領域Ｂ２１乃至Ｂ２３との段差を低減することが可能となる。このため、図９Ｂを参照して説明したのと同様に、境界領域及び交差部と対向する領域の液晶層は、ほぼ均一な厚さとなり、局所的な変調率の低下に伴う透過率の低下を抑制することが可能となる。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

ＤＳＰ…液晶表示装置、ＰＮＬ…表示パネル、ＢＬ…バックライトユニット、ＤＡ…表示エリア、Ｄ１…第１方向、Ｄ２…第２方向、Ｇ…ゲート配線、Ｓ…ソース配線、ＳＷ…スイッチング素子、ＰＥ…画素電極、ＣＥ…共通電極、Ａ１〜Ａ４…領域、ＳＣ…半導体層、ＣＡＬ…接続電極、ＣＦＬ…カラーフィルタ層、ＣＦ…カラーフィルタ、ＣＨＡ…接続孔、ＢＭ…遮光層、ＳＯＡ…スペーサ、ＳＵ１…第１基板、ＳＵ２…第２基板。

Claims (14)

1. 絶縁基板と、
   前記絶縁基板に形成され、複数の画素を有する画素領域と、
   前記画素領域に形成された、第１スイッチング素子、第２スイッチング素子、及び、第３スイッチング素子と、
   前記画素領域において、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、
   前記画素領域において、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、
   前記画素領域に形成され、前記第３スイッチング素子と電気的に接続された第３画素電極と、
   前記第１画素電極と前記絶縁基板との間に設けられた第１色の第１カラーフィルタと、
   前記第２画素電極と前記絶縁基板との間に設けられ、第１色とは異なる第２色の第２カラーフィルタと、
   前記第３画素電極と前記絶縁基板との間に設けられ、第１色及び第２色とは異なる第３色の第３カラーフィルタと、を備え、
   前記第１画素電極、前記第２画素電極、及び、前記第３画素電極は、互いに隣り合っており、
   前記第３カラーフィルタの面積は、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタのそれぞれの面積よりも大きく、
   前記第１カラーフィルタは第１端部を有し、前記第２カラーフィルタは第２端部を有し、前記第３カラーフィルタは第３端部を有し、
   前記第１端部、前記第２端部、及び、前記第３端部のうちの２つの端部は、第１重畳領域で重畳している、カラーフィルタ基板。
2. 前記第１重畳領域は、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間の第１境界領域、前記第２画素電極と前記第３画素電極との間の第２境界領域、及び、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間の第３境界領域のうちの少なくとも１つに位置している、請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
3. 前記第１端部、前記第２端部、及び、前記第３端部のうちの２つの端部は、前記第１重畳領域とは異なる第２重畳領域で重畳しており、
   前記第２重畳領域において、前記第１端部、前記第２端部、及び、前記第３端部の３つは重畳していない、請求項１又は２に記載のカラーフィルタ基板。
4. 前記第１カラーフィルタは第４端部を有し、前記第２カラーフィルタは第５端部を有し、前記第３カラーフィルタは第６端部を有し、
   前記第４端部、前記第５端部、及び、前記第６端部は、前記第１重畳領域とは異なる第２重畳領域で重畳しており、
   前記第４端部の膜厚は前記第１端部の膜厚よりも薄い、前記第５端部の膜厚は前記第２端部の膜厚よりも薄い、又は、前記第６端部の膜厚は前記第３端部の膜厚よりも薄い、請求項１又は２に記載のカラーフィルタ基板。
5. 前記第２重畳領域は、前記第１画素電極と前記第３画素電極との間の第１境界領域、前記第２画素電極と前記第３画素電極との間の第２境界領域、及び、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間の第３境界領域が互いに交差する交差部に位置している、請求項３又は４に記載のカラーフィルタ基板。
6. 前記第１色及び前記第２色は赤色又は緑色であり、前記第３色は青色である、請求項１乃至５のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。
7. 前記第１重畳領域において、前記第３カラーフィルタは前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタよりも前記絶縁基板から離れた側に位置している、請求項１乃至６のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。
8. 絶縁基板と、
   前記絶縁基板に形成され、複数の画素を有する画素領域と、
   前記画素領域に形成された第１スイッチング素子、第２スイッチング素子、及び第４スイッチング素子と、
   前記画素領域において、前記第１スイッチング素子と電気的に接続された第１画素電極と、
   前記画素領域において、前記第２スイッチング素子と電気的に接続された第２画素電極と、
   前記画素領域に形成され、前記第４スイッチング素子と電気的に接続された第４画素電極と、
   前記第１画素電極と前記絶縁基板との間に設けられた第１色の第１カラーフィルタと、
   前記第２画素電極と前記絶縁基板との間に設けられ、第１色とは異なる第２色の第２カラーフィルタと、
   前記第４画素電極と前記絶縁基板との間に設けられ、実質的に透明の第４カラーフィルタと、を備え、
   前記第１画素電極、前記第２画素電極、及び、前記第４画素電極は、互いに隣り合っており、
   前記第１画素電極と前記第４画素電極との間の第１境界領域、及び、前記第２画素電極と前記第４画素電極との間の第２境界領域において、可視光における透過率ピークが異なる少なくとも２つの色のカラーフィルタが重畳している、カラーフィルタ基板。
9. 前記第１カラーフィルタは第１端部を有し、前記第２カラーフィルタは第２端部を有し、
   前記第１境界領域及び前記第２境界領域において、前記第１端部及び前記第２端部が重畳している、請求項８に記載のカラーフィルタ基板。
10. さらに、前記第１境界領域及び前記第２境界領域に配置され、第１色及び第２色とは異なる第３色の第３カラーフィルタを備え、
    前記第１カラーフィルタは第１端部を有し、前記第２カラーフィルタは第２端部を有し、
    前記第１境界領域において、前記第１端部及び前記第３カラーフィルタが重畳し、
    前記第２境界領域において、前記第２端部及び前記第３カラーフィルタが重畳している、請求項８に記載のカラーフィルタ基板。
11. 前記第１境界領域において、前記第３カラーフィルタは前記第１カラーフィルタよりも前記絶縁基板から離れた側に位置し、
    前記第２境界領域において、前記第３カラーフィルタは前記第２カラーフィルタよりも前記絶縁基板から離れた側に位置している、請求項１０に記載のカラーフィルタ基板。
12. 前記第１色及び前記第２色のそれぞれは、赤色、緑色、及び、青色のいずれかである、請求項８乃至１１のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。
13. 前記第４カラーフィルタの面積は、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタのそれぞれの面積よりも大きい、請求項８乃至１２のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板。
14. 請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のカラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板に対向する第２基板と、を備えた表示装置。

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