JP6455396B2

JP6455396B2 - Polarized light irradiation device for photo-alignment

Info

Publication number: JP6455396B2
Application number: JP2015214439A
Authority: JP
Inventors: 貴章田中; 沖　雅博; 雅博沖; 亮彦田内
Original assignee: Toshiba Lighting and Technology Corp
Current assignee: Toshiba Lighting and Technology Corp
Priority date: 2015-10-30
Filing date: 2015-10-30
Publication date: 2019-01-23
Anticipated expiration: 2035-10-30
Also published as: JP2017083762A

Description

本発明の実施形態は、光配向用偏光光照射装置に関する。 Embodiments described herein relate generally to a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment.

液晶パネル等の製造工程では、液晶パネルの配向膜や視野角補償フィルムの配向層等の対象物の配向処理が行われている。配向処理では、配向膜に所定の波長の偏光光を照射することによって配向を行う、いわゆる光配向を行うために用いる光配向用偏光光照射装置が知られている。 In a manufacturing process of a liquid crystal panel or the like, an alignment process of an object such as an alignment film of a liquid crystal panel or an alignment layer of a viewing angle compensation film is performed. In the alignment treatment, there is known a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment that is used to perform so-called photo-alignment, in which alignment is performed by irradiating polarized light with a predetermined wavelength to an alignment film.

この種の光配向用偏光光照射装置としては、例えば、偏光光を照射する照射ユニットと、配向膜が形成された基板が搭載されるステージと、ステージが照射ユニットの照射領域を通過するようにステージを搬送する搬送機構と、を備える構成がある。 As this type of polarized light irradiation device for photo-alignment, for example, an irradiation unit that irradiates polarized light, a stage on which a substrate on which an alignment film is formed, and a stage that passes through an irradiation area of the irradiation unit. And a transport mechanism that transports the stage.

特許第５３４４１０５号公報Japanese Patent No. 5344105

ところで、液晶パネル等の対象物が大型化する傾向にあり、それに伴って、光配向用偏光光照射装置での対象物に対する照射時間が増える。このため、１つの対象物あたりの処理時間（以下、タクトタイムと称する）が長くなり、生産性の低下を招く問題がある。また、対象物の大型化に伴って、光配向用偏光光照射装置が大型化する問題がある。 By the way, the object such as a liquid crystal panel tends to increase in size, and accordingly, the irradiation time for the object in the polarized light irradiation device for photo-alignment increases. For this reason, there is a problem that the processing time per one object (hereinafter referred to as tact time) becomes long and the productivity is lowered. Further, there is a problem that the polarized light irradiation device for photo-alignment is increased with the increase in size of the object.

本発明は、タクトタイムの長大化を抑制し、装置の大型化を抑制することができる光配向用偏光光照射装置を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a polarized light irradiation device for photo-alignment that can suppress an increase in tact time and suppress an increase in size of the device.

本実施形態の光配向用偏光光照射装置は、照射ユニットと、一組のステージと、搬送機構と、を具備する。照射ユニットは、対象物に偏光光を照射する照射領域を有する。一組のステージは、対象物を搭載する各搭載位置が照射領域の両側に配置され、各搭載位置の高さが異なる。搬送機構は、平面視において照射領域を通して各搭載位置を結ぶ搬送路を有し、搭載位置と、ステージが照射領域を通過した所定の通過位置との間で、一組のステージを交互に搬送路に沿って往復させる。 The polarized light irradiation apparatus for photo-alignment of this embodiment includes an irradiation unit, a set of stages, and a transport mechanism. The irradiation unit has an irradiation region for irradiating the object with polarized light. In the set of stages, the mounting positions for mounting the object are arranged on both sides of the irradiation region, and the heights of the mounting positions are different. The transport mechanism has a transport path that connects each mounting position through the irradiation area in plan view, and alternately transports a set of stages between the mounting position and a predetermined passing position where the stage has passed through the irradiation area. Reciprocate along.

本発明によれば、タクトタイムの長大化を抑制し、装置の大型化を抑制することができる。 According to the present invention, it is possible to suppress an increase in tact time and suppress an increase in size of the apparatus.

図１は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。FIG. 1 is a side view schematically showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. 図２は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。FIG. 2 is a plan view schematically showing the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. 図３は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置におけるステージの移動の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of movement of the stage in the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. 図４は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置のパネルアライナを示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a panel aligner of the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. 図５は、パネルアライナによるθ方向のアライメントを説明する平面図である。FIG. 5 is a plan view for explaining the alignment in the θ direction by the panel aligner. 図６は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。FIG. 6 is a side view schematically showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the second embodiment. 図７は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。FIG. 7 is a plan view schematically showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the second embodiment. 図８は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置におけるステージの移動の一例を示す図である。FIG. 8 is a diagram illustrating an example of movement of the stage in the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the second embodiment.

以下で説明する第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置１及び第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置２は、照射ユニット１０と、一組のステージ２０、５０と、搬送機構３０と、を具備する。照射ユニット１０は、対象物に偏光光を照射する照射領域ＡＲ１１を有する。一組のステージ２０、５０は、対象物を搭載する各搭載位置ＭＰ１〜ＭＰ４が照射領域ＡＲ１１の両側に配置され、搭載位置ＭＰ１〜ＭＰ４の高さＨ１１、Ｈ１２、Ｈ２１、Ｈ２２が異なる。搬送機構３０は、平面視において照射領域ＡＲ１１を通して各搭載位置ＭＰ１〜ＭＰ４を結ぶ搬送路ＰＴ１〜ＰＴ３を有し、搭載位置ＭＰ１〜ＭＰ４と、ステージ２０、５０が照射領域ＡＲ１１を通過した所定の通過位置ＦＰ１〜ＦＰ４との間で、一組のステージ２０、５０を交互に搬送路ＰＴ１〜ＰＴ３に沿って往復させる。 The polarized light irradiation apparatus 1 for photo-alignment according to the first embodiment and the polarized light irradiation apparatus 2 for photo-alignment according to the second embodiment, which will be described below, include an irradiation unit 10, a pair of stages 20, 50, And a transport mechanism 30. The irradiation unit 10 has an irradiation area AR11 that irradiates the object with polarized light. In the set of stages 20 and 50, the mounting positions MP1 to MP4 on which the object is mounted are arranged on both sides of the irradiation area AR11, and the heights H11, H12, H21, and H22 of the mounting positions MP1 to MP4 are different. The transport mechanism 30 has transport paths PT1 to PT3 that connect the mounting positions MP1 to MP4 through the irradiation area AR11 in plan view, and the mounting positions MP1 to MP4 and the stages 20 and 50 pass through the irradiation area AR11. Between the positions FP1 to FP4, the pair of stages 20 and 50 are alternately reciprocated along the transport paths PT1 to PT3.

また、以下で説明する第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置１において、一組のステージ２０は、各ステージ２０における搬送路ＰＴ１、ＰＴ２の高さＨ１１、Ｈ１２が異なる。 Moreover, in the polarized light irradiation apparatus 1 for photo-alignment according to the first embodiment described below, the set of stages 20 is different in the heights H11 and H12 of the conveyance paths PT1 and PT2 in each stage 20.

また、以下で説明する第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置２において、一組のステージ５０は、少なくとも一方のステージ５０の高さ方向の位置が可変であって、一方のステージ５０の搬送路ＰＴ３の高さＨ２３を他方のステージ５０Ｂの搬送路ＰＴ３の高さＨ２３とする。 In the polarized light irradiation apparatus 2 for photo-alignment according to the second embodiment described below, the set of stages 50 has at least one stage 50 whose position in the height direction is variable, and one stage 50 The height H23 of the 50 conveyance path PT3 is set as the height H23 of the conveyance path PT3 of the other stage 50B.

また、以下で説明する第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置１及び第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置２において、ステージ２０、５０は、対象物の偏光方向に対して対象物の向きを調整する調整機構（実施形態においては「パネルアライナ３」）を有する。 Further, in the polarized light irradiation device for photo-alignment 1 according to the first embodiment and the polarized light irradiation device for photo-alignment 2 according to the second embodiment described below, the stages 20 and 50 are polarization directions of the object. And an adjustment mechanism (in the embodiment, “panel aligner 3”) for adjusting the orientation of the object.

［第１の実施形態］
まず、本発明の第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置１（以下、単に「偏光光照射装置１」と記載する場合がある）について図面に基づいて説明する。図１は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。また、図２は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。本実施形態に係る偏光光照射装置１は、例えば、対象物である配向膜に直線偏光光等の偏光光を照射することで、光配向するために用いられる。本実施形態に係る偏光光照射装置１は、例えば液晶パネルの配向膜や、視野角補償フィルムの配向膜等の製造に用いられる。本実施形態においては、液晶パネルＰＮの配向膜の製造に用いる場合を例に説明する。 [First Embodiment]
First, a polarized light irradiating apparatus 1 for photo-alignment according to a first embodiment of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “polarized light irradiating apparatus 1”) will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a side view schematically showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. FIG. 2 is a plan view schematically showing the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. The polarized light irradiation apparatus 1 according to the present embodiment is used for photo-alignment by, for example, irradiating polarized light such as linearly polarized light onto an alignment film that is an object. The polarized light irradiation apparatus 1 according to the present embodiment is used for manufacturing, for example, an alignment film of a liquid crystal panel, an alignment film of a viewing angle compensation film, and the like. In this embodiment, the case where it uses for manufacture of the alignment film of liquid crystal panel PN is demonstrated to an example.

図１及び図２に示すように、第１の実施形態の偏光光照射装置１は、照射ユニット１０と、一組のステージ２０Ａ、２０Ｂと、搬送機構３０とを具備する。なお、ステージ２０Ａ、２０Ｂを区別しない場合は、ステージ２０とする場合がある。 As shown in FIGS. 1 and 2, the polarized light irradiation apparatus 1 according to the first embodiment includes an irradiation unit 10, a pair of stages 20 A and 20 B, and a transport mechanism 30. If the stages 20A and 20B are not distinguished, the stage 20 may be used.

照射ユニット１０は、対象物としての配向膜が形成された液晶パネルＰＮ（以下、単に「パネルＰＮ」と記載する場合がある）に偏光光を照射する照射領域ＡＲ１１を有する。また、照射ユニット１０は、紫外線を含む光を発する管状の光源１１と、光源１１が発した光の配向を制御する反射板１２と、光源１１及び反射板１２を収納する器具本体１３を有する。また、照射ユニット１０は、光源１１が発した光と、反射板１２で配向が制御された光とが入射して偏光光を出射する偏光素子（不図示）を有する。 The irradiation unit 10 includes an irradiation area AR11 that irradiates polarized light onto a liquid crystal panel PN (hereinafter, simply referred to as “panel PN”) on which an alignment film as an object is formed. The irradiation unit 10 includes a tubular light source 11 that emits light including ultraviolet rays, a reflector 12 that controls the orientation of light emitted from the light source 11, and an instrument body 13 that houses the light source 11 and the reflector 12. Further, the irradiation unit 10 includes a polarizing element (not shown) that emits polarized light when light emitted from the light source 11 and light whose orientation is controlled by the reflecting plate 12 are incident.

なお、ここでいう「照射領域ＡＲ１１」とは、照射ユニット１０の最下面の開口、すなわち、照射ユニット１０において、最も対象物に近い位置にある開口を指す。例えば、照射ユニット１０の最下面が偏光素子であれば、偏光素子の開口が照射領域ＡＲ１１に該当し、偏光素子よりも対象物側に遮光板（不図示）があれば遮光板の開口が照射領域ＡＲ１１に該当する。更に、遮光板に保護ガラス（不図示）があれば、保護ガラスの開口が照射領域ＡＲ１１に該当する。なお、本実施形態においては、説明の簡単化のため、器具本体１３の最下面の開口を照射領域ＡＲ１１とする。図１及び図２の左右方向における照射領域ＡＲ１１の幅は、幅Ｗ１０となる。 Here, the “irradiation area AR11” refers to an opening on the lowermost surface of the irradiation unit 10, that is, an opening at a position closest to the object in the irradiation unit 10. For example, if the lowermost surface of the irradiation unit 10 is a polarizing element, the opening of the polarizing element corresponds to the irradiation area AR11. If there is a light shielding plate (not shown) closer to the object than the polarizing element, the opening of the light shielding plate is irradiated. This corresponds to the area AR11. Further, if the light shielding plate has a protective glass (not shown), the opening of the protective glass corresponds to the irradiation area AR11. In the present embodiment, the opening on the lowermost surface of the instrument body 13 is defined as an irradiation area AR11 for the sake of simplicity of explanation. The width of the irradiation area AR11 in the left-right direction in FIGS. 1 and 2 is a width W10.

光源１１は、例えば、紫外線透過性のガラス管内に、水銀、アルゴン、キセノンなどの希ガスが封入された高圧水銀ランプや、高圧水銀ランプに鉄やヨウ素等のメタルハライドが更に封入されたメタルハライドランプ等の管型ランプが用いられており、直線状の発光部を有する。光源１１は、発光部の長手方向が、照射ユニット１０に対する各ステージ２０の搬送方向と直交しており、発光部の長さが、パネルＰＮの一辺の長さよりも長くされている。光源１１は、直線状の発光部から、例えば波長が２００ｎｍから４００ｎｍまでの紫外線を含む光を発することが可能とされている。光源１１が発する光は、さまざまな偏光軸成分を有する、いわゆる非偏光の光である。 The light source 11 is, for example, a high-pressure mercury lamp in which a rare gas such as mercury, argon, or xenon is sealed in an ultraviolet light transmissive glass tube, or a metal halide lamp in which a metal halide such as iron or iodine is further sealed in the high-pressure mercury lamp. Tube-type lamps are used and have a linear light-emitting portion. In the light source 11, the longitudinal direction of the light emitting part is orthogonal to the transport direction of each stage 20 with respect to the irradiation unit 10, and the length of the light emitting part is longer than the length of one side of the panel PN. The light source 11 can emit light including ultraviolet rays having a wavelength of 200 nm to 400 nm, for example, from a linear light emitting unit. The light emitted from the light source 11 is so-called non-polarized light having various polarization axis components.

反射板１２は、光源１１に対向する面に、光源１１が発した光を反射する反射面を有しており、反射面が楕円の一部をなす形状に形成されている。これにより、反射板１２は、光源１１が発した光を集光する、いわゆる集光型の反射板として構成されている。偏光素子は、光源１１が発し、一様にあらゆる方向に振動したさまざまな偏光軸成分を含む光から基準方向のみに振動した偏光軸の光を取り出すことが可能とされている。なお、基準方向のみに振動した偏光軸の光を、一般に直線偏光という。また、偏光軸とは、光の電場及び磁場の振動方向である。 The reflection plate 12 has a reflection surface that reflects light emitted from the light source 11 on the surface facing the light source 11, and the reflection surface is formed in a shape that forms part of an ellipse. Thereby, the reflecting plate 12 is configured as a so-called condensing type reflecting plate that condenses the light emitted from the light source 11. The polarizing element is capable of extracting light having a polarization axis oscillating only in the reference direction from light including various polarization axis components emitted from the light source 11 and oscillating uniformly in all directions. Note that light having a polarization axis that vibrates only in the reference direction is generally referred to as linearly polarized light. The polarization axis is the vibration direction of the electric field and magnetic field of light.

一組のステージ２０Ａ、２０Ｂは、矩形状の板状に形成された載置部２１と、載置部２１を支持する支持部２２とを有する。載置部２１には、配向膜が形成されたパネルＰＮが搭載される。また、載置部２１は、支持部２２を介して、搬送機構３０によって移動可能に支持されている。図１及び図２の左右方向における載置部２１の幅は、幅Ｗ１１となる。また、図１及び図２の左右方向における支持部２２の幅は、幅Ｗ１２（＜幅Ｗ１１）となる。 The set of stages 20 A and 20 B includes a placement portion 21 formed in a rectangular plate shape and a support portion 22 that supports the placement portion 21. A panel PN on which an alignment film is formed is mounted on the mounting portion 21. The placement unit 21 is movably supported by the transport mechanism 30 via the support unit 22. The width of the mounting portion 21 in the left-right direction in FIGS. 1 and 2 is a width W11. Moreover, the width | variety of the support part 22 in the left-right direction of FIG.1 and FIG.2 becomes the width W12 (<width W11).

ここで、図１及び図２に示すように、各ステージ２０Ａ、２０ＢにパネルＰＮを搭載する搭載位置ＭＰ１、ＭＰ２（図３参照）は、照射領域ＡＲ１１の両側に配置される。具体的には、ステージ２０Ａ、２０ＢにパネルＰＮを搭載する搭載位置ＭＰ１、ＭＰ２は、図１及び図２における照射領域ＡＲ１１の左右方向の両側に配置される。 Here, as shown in FIGS. 1 and 2, the mounting positions MP1 and MP2 (see FIG. 3) for mounting the panel PN on the stages 20A and 20B are arranged on both sides of the irradiation area AR11. Specifically, the mounting positions MP1 and MP2 for mounting the panel PN on the stages 20A and 20B are arranged on both sides in the left-right direction of the irradiation area AR11 in FIGS.

搬送機構３０は、平面視において照射領域ＡＲ１１を通して各搭載位置ＭＰ１、ＭＰ２を結ぶ搬送路ＰＴ１、ＰＴ２を有し、搭載位置ＭＰ１、ＭＰ２と、ステージ２０が照射領域ＡＲ１１を通過した所定の通過位置ＦＰ１、ＦＰ２（図３参照）との間で、一組のステージ２０Ａ、２０Ｂを交互に搬送路ＰＴ１、ＰＴ２に沿って往復させる。 The transport mechanism 30 has transport paths PT1 and PT2 that connect the mounting positions MP1 and MP2 through the irradiation area AR11 in plan view, and the mounting positions MP1 and MP2 and a predetermined passing position FP1 where the stage 20 has passed the irradiation area AR11. , FP2 (see FIG. 3), the pair of stages 20A and 20B are alternately reciprocated along the conveyance paths PT1 and PT2.

ここで、図１に示すように、ステージ２０Ａの載置部２１の搬送機構３０からの高さは、高さＨ１１である。すなわち、ステージ２０Ａの搭載位置ＭＰ１の高さは、高さＨ１１となる。また、ステージ２０Ｂの載置部２１の搬送機構３０からの高さは、高さＨ１２である。すなわち、ステージ２０Ｂの搭載位置ＭＰ２の高さは、高さＨ１２となる。なお、ステージ２０は、所定の厚みを有するが、ステージ２０の厚みは無視できる程度の厚みとして以下説明する。ここに、ステージ２０Ａの搭載位置ＭＰ１の高さＨ１１とステージ２０Ｂの搭載位置ＭＰ２の高さＨ１２との間には、高さ方向にＨ１１−Ｈ１２だけ間隙ＭＧ１（＝Ｈ１１−Ｈ１２）が形成される。 Here, as shown in FIG. 1, the height of the placement unit 21 of the stage 20 A from the transport mechanism 30 is a height H 11. That is, the height of the mounting position MP1 of the stage 20A is the height H11. Moreover, the height from the conveyance mechanism 30 of the mounting part 21 of the stage 20B is the height H12. That is, the height of the mounting position MP2 of the stage 20B is the height H12. Although the stage 20 has a predetermined thickness, the thickness of the stage 20 will be described below as a thickness that can be ignored. Here, a gap MG1 (= H11−H12) is formed in the height direction by H11−H12 between the height H11 of the mounting position MP1 of the stage 20A and the height H12 of the mounting position MP2 of the stage 20B. .

上述したように、ステージ２０Ａ、２０Ｂの各搭載位置ＭＰ１、ＭＰ２の高さＨ１１、Ｈ１２が異なる。すなわち、各ステージ２０Ａ、２０Ｂにおける搬送路ＰＴ１、ＰＴ２の高さが異なる。具体的には、ステージ２０Ａにおける搬送路ＰＴ１の高さは、ステージ２０Ａの各搭載位置ＭＰ１の高さＨ１１となる。また、ステージ２０Ｂにおける搬送路ＰＴ２の高さは、ステージ２０Ｂの各搭載位置ＭＰ２の高さＨ１２となる。なお、図２に示すように、平面視においては搬送路ＰＴ１、ＰＴ２とは重なる。 As described above, the heights H11 and H12 of the mounting positions MP1 and MP2 of the stages 20A and 20B are different. That is, the heights of the conveyance paths PT1 and PT2 in the stages 20A and 20B are different. Specifically, the height of the conveyance path PT1 in the stage 20A is the height H11 of each mounting position MP1 of the stage 20A. Further, the height of the transport path PT2 in the stage 20B is the height H12 of each mounting position MP2 of the stage 20B. In addition, as shown in FIG. 2, it overlaps with the conveyance paths PT1 and PT2 in a plan view.

このように、ステージ２０Ａ、２０Ｂにおける搬送路ＰＴ１、ＰＴ２の高さＨ１１、Ｈ１２が異なるため、平面視においてステージ２０Ａとステージ２０Ｂとは、重なることが可能となる。例えば、平面視においてステージ２０Ａとステージ２０Ｂとは、載置部２１の幅Ｗ１１と支持部２２の幅Ｗ１２とに基づく幅だけ平面視において重なることができる。具体的には、平面視においてステージ２０Ａとステージ２０Ｂとは、幅Ｗ１（＝（Ｗ１１−Ｗ１２）／２）だけ平面視において重なることができる。 Thus, since the heights H11 and H12 of the transport paths PT1 and PT2 in the stages 20A and 20B are different, the stage 20A and the stage 20B can overlap in a plan view. For example, the stage 20 A and the stage 20 B in the plan view can overlap with each other in the plan view by a width based on the width W 11 of the placement portion 21 and the width W 12 of the support portion 22. Specifically, the stage 20A and the stage 20B can overlap each other in the plan view by a width W1 (= (W11−W12) / 2) in the plan view.

すなわち、図１及び図２に示す例において、搭載位置ＭＰ１におけるステージ２０Ａ（の載置部２１）の右端部と照射ユニット１０（の器具本体１３）の左端部との間の長さを載置部２１の幅Ｗ１１よりも短い長さＬ１１とすることができる。また、搭載位置ＭＰ２におけるステージ２０Ｂ（の載置部２１）の左端部と照射ユニット１０（の器具本体１３）の右端部との間の長さを載置部２１の幅Ｗ１１よりも短い長さＬ１１とすることができる。 That is, in the example shown in FIGS. 1 and 2, the length between the right end portion of the stage 20A (the placement portion 21) and the left end portion of the irradiation unit 10 (the instrument body 13) at the mounting position MP1 is placed. The length L11 can be shorter than the width W11 of the portion 21. Further, the length between the left end of the stage 20B (the mounting part 21) and the right end of the irradiation unit 10 (the instrument body 13) at the mounting position MP2 is shorter than the width W11 of the mounting part 21. L11.

例えば、従来のように一方のステージの搭載位置の高さと他方のステージの搬送路の高さとが同じである場合、ステージと照射ユニットとの間の長さは、少なくともステージの載置部の幅以上が必要となる。 For example, when the height of the mounting position of one stage and the height of the conveyance path of the other stage are the same as in the prior art, the length between the stage and the irradiation unit is at least the width of the stage mounting portion. The above is necessary.

一方、偏光光照射装置１においては、搭載位置ＭＰ１におけるステージ２０Ａの高さＨ１１とステージ２０Ｂの搬送路ＰＴ２の高さＨ１２とが異なるため、ステージ２０Ａと照射ユニット１０との間の長さを長さＬ１１（＜幅Ｗ１１）とすることができる。また、偏光光照射装置１においては、搭載位置ＭＰ２におけるステージ２０Ｂの高さＨ１２とステージ２０Ａの搬送路ＰＴ１の高さＨ１１とが異なるため、ステージ２０Ｂと照射ユニット１０との間の長さを長さＬ１１（＜幅Ｗ１１）とすることができる。これにより、偏光光照射装置１は、図１及び図２の左右方向における偏光光照射装置１の長さを短くできるため、装置の大型化を抑制することができる。また、偏光光照射装置１は、各ステージ２０の搬送路ＰＴ１、ＰＴ２における移動距離を短くすることができるため、タクトタイムの長大化を抑制することができる。 On the other hand, in the polarized light irradiation apparatus 1, since the height H11 of the stage 20A and the height H12 of the transport path PT2 of the stage 20B at the mounting position MP1 are different, the length between the stage 20A and the irradiation unit 10 is long. L11 (<width W11). Further, in the polarized light irradiation apparatus 1, since the height H12 of the stage 20B and the height H11 of the transport path PT1 of the stage 20A at the mounting position MP2 are different, the length between the stage 20B and the irradiation unit 10 is long. L11 (<width W11). Thereby, since the polarized light irradiation apparatus 1 can shorten the length of the polarized light irradiation apparatus 1 in the left-right direction of FIG.1 and FIG.2, it can suppress the enlargement of an apparatus. Moreover, since the polarized light irradiation apparatus 1 can shorten the moving distance of each stage 20 in the transport paths PT1 and PT2, it can suppress an increase in tact time.

ここから、図３を用いて、偏光光照射装置１における液晶パネルＰＮの配向膜の製造処理の流れについて説明する。図３は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置におけるステージの移動の一例を示す図である。具体的には、図３（ａ）〜（ｅ）は、（ａ）〜（ｅ）順にステージが移動する場合の一例を示す図である。 From here, the flow of the manufacturing process of the alignment film of the liquid crystal panel PN in the polarized light irradiation apparatus 1 is demonstrated using FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating an example of movement of the stage in the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. Specifically, FIGS. 3A to 3E are diagrams illustrating an example in which the stage moves in the order of (a) to (e).

まず、図３（ａ）に示す偏光光照射装置１は、ステージ２０Ａ、２０Ｂが各搭載位置ＭＰ１、ＭＰ２に位置し、ステージ２０Ａの載置部２１にパネルＰＮが搭載された状態を示す。例えば、装置の管理者やロボット（図示省略）がパネルＰＮをステージ２０Ａの載置部２１に搭載する。そして、ステージ２０Ａのセンサ（図示省略）がパネルＰＮの搭載を検出し、搬送機構３０によりステージ２０Ａが移動を開始する。図３では、ステージ２０Ａは、右方向へ移動を開始し、照射ユニット１０の照射領域ＡＲ１１を通過して通過位置ＦＰ１まで移動する。 First, the polarized light irradiation apparatus 1 shown in FIG. 3A shows a state in which the stages 20A and 20B are positioned at the mounting positions MP1 and MP2, and the panel PN is mounted on the mounting portion 21 of the stage 20A. For example, the administrator of the apparatus or a robot (not shown) mounts the panel PN on the mounting unit 21 of the stage 20A. Then, a sensor (not shown) of the stage 20A detects the mounting of the panel PN, and the stage 20A starts moving by the transport mechanism 30. In FIG. 3, the stage 20A starts moving in the right direction, passes through the irradiation area AR11 of the irradiation unit 10, and moves to the passing position FP1.

図３（ｂ）に示すように、通過位置ＦＰ１へ移動後のステージ２０Ａと搭載位置ＭＰ２のステージ２０Ｂとは、平面視（図３の上下方向）において一部が重なることができる。また、ステージ２０Ａの一部とステージ２０Ｂの一部とが重なった状態においても、ステージ２０Ａの載置部２１とステージ２０Ｂの載置部２１との間には、十分な余裕があるため、ステージ２０Ｂの載置部２１にパネルＰＮを搭載する等の作業を行うことが可能である。これにより、偏光光照射装置１は、さらにタクトタイムの長大化を抑制することができる。 As shown in FIG. 3B, the stage 20A after moving to the passing position FP1 and the stage 20B at the mounting position MP2 can partially overlap in plan view (up and down direction in FIG. 3). Even when a part of the stage 20A and a part of the stage 20B overlap each other, there is a sufficient margin between the placement part 21 of the stage 20A and the placement part 21 of the stage 20B. It is possible to perform operations such as mounting the panel PN on the mounting portion 21 of 20B. Thereby, the polarized light irradiation apparatus 1 can further suppress an increase in tact time.

その後、図３（ｃ）に示すように、ステージ２０Ａは搭載位置ＭＰ１へ移動を開始する。図３では、ステージ２０Ａは、左方向へ移動を開始し、照射ユニット１０の照射領域ＡＲ１１を通過して搭載位置ＭＰ１まで移動する。また、この間に、ステージ２０Ｂの載置部２１にパネルＰＮが搭載され、ステージ２０Ｂが移動可能な状態になる。そして、ステージ２０Ｂのセンサ（図示省略）がパネルＰＮの搭載を検出し、搬送機構３０によりステージ２０Ｂが移動を開始する。図３では、ステージ２０Ｂは、左方向へ移動を開始し、照射ユニット１０の照射領域ＡＲ１１を通過して通過位置ＦＰ２まで移動する。なお、図３においては、説明のためステージ２０Ａが搭載位置ＭＰ１へ戻った後、ステージ２０Ｂが移動を開始する場合を示したが、ステージ２０Ａが搭載位置ＭＰ１まで移動する間に、ステージ２０Ｂが移動を開始してもよい。 Thereafter, as shown in FIG. 3C, the stage 20A starts to move to the mounting position MP1. In FIG. 3, the stage 20A starts to move in the left direction, passes through the irradiation area AR11 of the irradiation unit 10, and moves to the mounting position MP1. During this time, the panel PN is mounted on the mounting portion 21 of the stage 20B, and the stage 20B becomes movable. Then, a sensor (not shown) of the stage 20B detects the mounting of the panel PN, and the stage 20B starts moving by the transport mechanism 30. In FIG. 3, the stage 20B starts to move in the left direction, passes through the irradiation area AR11 of the irradiation unit 10, and moves to the passing position FP2. In FIG. 3, the stage 20B starts moving after the stage 20A returns to the mounting position MP1 for explanation, but the stage 20B moves while the stage 20A moves to the mounting position MP1. May start.

図３（ｄ）に示すように、通過位置ＦＰ２へ移動後のステージ２０Ｂと搭載位置ＭＰ１のステージ２０Ａとは、平面視（図３の上下方向）において一部が重なることができる。また、ステージ２０Ａの一部とステージ２０Ｂの一部とが重なった状態においても、ステージ２０Ａの載置部２１のほうがステージ２０Ｂの載置部２１よりも上方に位置するため、ステージ２０Ａの載置部２１からパネルＰＮを取り出したり、載置部２１に新たなパネルＰＮを搭載したりする等の作業を行うことが可能である。これにより、偏光光照射装置１は、さらにタクトタイムの長大化を抑制することができる。 As shown in FIG. 3D, the stage 20B after moving to the passing position FP2 and the stage 20A at the mounting position MP1 can partially overlap in plan view (up and down direction in FIG. 3). Further, even when a part of the stage 20A and a part of the stage 20B overlap each other, the placement part 21 of the stage 20A is located above the placement part 21 of the stage 20B. It is possible to perform operations such as taking out the panel PN from the unit 21 and mounting a new panel PN on the mounting unit 21. Thereby, the polarized light irradiation apparatus 1 can further suppress an increase in tact time.

このように、ステージ２０Ａは、搬送機構３０によって照射ユニット１０に向かって搬送され、照射領域ＡＲ１１を通過して通過位置ＦＰ１まで搬送される。そして、ステージ２０Ａは、通過位置ＦＰ１から搭載位置ＭＰ１に向かって搬送され、照射領域ＡＲ１１を通過し、搭載位置ＭＰ１に戻る。これにより、ステージ２０Ａの載置部２１上のパネルＰＮの配向膜は、照射領域ＡＲ１１を往復することで所定量の偏光光が照射され、所望の光配向が行われる。 As described above, the stage 20A is transported toward the irradiation unit 10 by the transport mechanism 30, and is transported to the passing position FP1 through the irradiation region AR11. Then, the stage 20A is transported from the passing position FP1 toward the mounting position MP1, passes through the irradiation area AR11, and returns to the mounting position MP1. Thereby, the alignment film of the panel PN on the mounting portion 21 of the stage 20A is irradiated with a predetermined amount of polarized light by reciprocating the irradiation area AR11, and desired optical alignment is performed.

その後、ステージ２０Ｂは搭載位置ＭＰ２へ移動を開始する。図３（ｅ）に示すように、ステージ２０Ｂは、右方向へ移動を開始し、照射ユニット１０の照射領域ＡＲ１１を通過して搭載位置ＭＰ２まで移動する。また、この間に、ステージ２０Ａの載置部２１からパネルＰＮが取り出された後、載置部２１に新たなパネルＰＮが搭載され、ステージ２０Ａが移動可能な状態になる。その後、ステージ２０Ｂの載置部２１からパネルＰＮを取り出したり、載置部２１に新たなパネルＰＮを搭載したりする。そして、偏光光照射装置１は、図３に示す処理を繰り返す。 Thereafter, the stage 20B starts moving to the mounting position MP2. As shown in FIG. 3E, the stage 20B starts to move in the right direction, passes through the irradiation area AR11 of the irradiation unit 10, and moves to the mounting position MP2. Further, during this time, after the panel PN is taken out from the placement unit 21 of the stage 20A, a new panel PN is mounted on the placement unit 21, and the stage 20A is movable. Thereafter, the panel PN is taken out from the placement unit 21 of the stage 20B, or a new panel PN is mounted on the placement unit 21. And the polarized light irradiation apparatus 1 repeats the process shown in FIG.

このように、ステージ２０Ｂは、搬送機構３０によって照射ユニット１０に向かって搬送され、照射領域ＡＲ１１を通過して通過位置ＦＰ２まで搬送される。そして、ステージ２０Ｂは、通過位置ＦＰ２から搭載位置ＭＰ２に向かって搬送され、照射領域ＡＲ１１を通過し、搭載位置ＭＰ２に戻る。これにより、ステージ２０Ｂの載置部２１上のパネルＰＮの配向膜は、照射領域ＡＲ１１を往復することで所定量の偏光光が照射され、所望の光配向が行われる。 As described above, the stage 20B is transported toward the irradiation unit 10 by the transport mechanism 30, and is transported to the passing position FP2 through the irradiation region AR11. Then, the stage 20B is transported from the passing position FP2 toward the mounting position MP2, passes through the irradiation area AR11, and returns to the mounting position MP2. As a result, the alignment film of the panel PN on the placement unit 21 of the stage 20B is irradiated with a predetermined amount of polarized light by reciprocating the irradiation area AR11, and desired optical alignment is performed.

なお、偏光光照射装置１において、照射ユニット１０は、光出力を変更可能であってもよい。例えば、照射ユニット１０は、ステージ２０Ａの照射領域ＡＲ１１通過時とステージ２０Ｂの照射領域ＡＲ１１通過時とで、光出力を変更してもよい。例えば、照射ユニット１０は、ステージ２０Ｂの照射領域ＡＲ１１通過時の光出力をステージ２０Ａの照射領域ＡＲ１１通過時の光出力よりも大きくしてもよい。 In the polarized light irradiation apparatus 1, the irradiation unit 10 may be capable of changing the light output. For example, the irradiation unit 10 may change the light output between when the irradiation area AR11 of the stage 20A passes and when the irradiation area AR11 of the stage 20B passes. For example, the irradiation unit 10 may make the light output when passing through the irradiation area AR11 of the stage 20B larger than the light output when passing through the irradiation area AR11 of the stage 20A.

また、偏光光照射装置１において、搬送機構３０は、ステージ２０の移動速度を変更可能であってもよい。例えば、搬送機構３０は、ステージ２０Ａの照射領域ＡＲ１１通過時とステージ２０Ｂの照射領域ＡＲ１１通過時とで、移動速度を変更してもよい。例えば、搬送機構３０は、ステージ２０Ａの照射領域ＡＲ１１通過時の移動速度をステージ２０Ｂの照射領域ＡＲ１１通過時の移動速度よりも速くしてもよい。 Further, in the polarized light irradiation device 1, the transport mechanism 30 may be capable of changing the moving speed of the stage 20. For example, the transport mechanism 30 may change the movement speed between when the irradiation area AR11 of the stage 20A passes and when the irradiation area AR11 of the stage 20B passes. For example, the transport mechanism 30 may make the movement speed of the stage 20A when passing through the irradiation area AR11 faster than the movement speed when the stage 20B passes through the irradiation area AR11.

また、偏光光照射装置１の搬送路ＰＴ１、ＰＴ２に交差する方向において、ステージ２０の支持部２２の幅は、搬送機構３０の幅より小さくてもよい。また、ステージ２０の支持部２２は、搬送路ＰＴ１、ＰＴ２に交差する方向における搬送機構３０の一方の側部において、搬送機構３０に接続されてもよい。すなわち、ステージ２０の支持部２２は、載置部２１の搬送路ＰＴ１、ＰＴ２に交差する方向における一方の側部に接続することにより、載置部２１を支持してもよい。 Further, the width of the support portion 22 of the stage 20 may be smaller than the width of the transport mechanism 30 in the direction intersecting the transport paths PT1 and PT2 of the polarized light irradiation device 1. Further, the support portion 22 of the stage 20 may be connected to the transport mechanism 30 on one side of the transport mechanism 30 in the direction intersecting the transport paths PT1 and PT2. That is, the support portion 22 of the stage 20 may support the placement portion 21 by connecting to one side portion of the placement portion 21 in the direction intersecting the transport paths PT1 and PT2.

また、偏光光照射装置１は、ステージ２０にパネルＰＮの位置や向きを調節する調整機構としてパネルアライナ３を具備してもよい。ここで、パネルアライナ３について、図４を用いて説明する。図４は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置のパネルアライナを示す斜視図である。具体的には、図４には、パネルアライナ３の説明に必要な構成のみを示し、パネルアライナ３およびステージ２０の載置部２１を示す。図４に示すように、載置部２１は、可動部２１−１と、可動部２１−１上の平板２１−２等から構成されている。 Further, the polarized light irradiation device 1 may include a panel aligner 3 as an adjustment mechanism for adjusting the position and orientation of the panel PN on the stage 20. Here, the panel aligner 3 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a perspective view showing a panel aligner of the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the first embodiment. Specifically, FIG. 4 shows only the configuration necessary for the description of the panel aligner 3, and shows the panel aligner 3 and the mounting portion 21 of the stage 20. As shown in FIG. 4, the placement unit 21 includes a movable unit 21-1, a flat plate 21-2 on the movable unit 21-1, and the like.

平板２１−２は、可動部２１−１上においてＸＹθの方向に移動可能に設けられている。即ち、可動部２１−１にはＸＹθ可動機構３２が設けられており、ＸＹθ可動機構３２は平板２１−２をＸＹθ方向に移動させて平板２１−２の位置や姿勢を微調節するものとなっている。例えば、ＸＹ方向とは水平な面内の直交方向であり、例えばＸ方向が長さ方向（移動方向）、Ｙ方向が幅方向とされる。θは、ＸＹ方向に対して垂直な軸の回りの円周方向であり、例えば、鉛直な軸の回りの円周方向である。より具体的に説明すると、θは、図５で示すように、鉛直な軸（Ｚ軸）に反時計回りに回転させる状態である。なお、ＸＹθ可動機構３２については、ＸＹ方向のうちのいずれか一方向について搬送機構３０の移動と兼用し、Ｘθ可動機構またはＹθ可動機構としてもよい。 The flat plate 21-2 is provided so as to be movable in the direction of XYθ on the movable portion 21-1. That is, the movable portion 21-1 is provided with an XYθ movable mechanism 32, and the XYθ movable mechanism 32 finely adjusts the position and posture of the flat plate 21-2 by moving the flat plate 21-2 in the XYθ direction. ing. For example, the XY direction is an orthogonal direction in a horizontal plane. For example, the X direction is a length direction (movement direction) and the Y direction is a width direction. θ is a circumferential direction around an axis perpendicular to the XY direction, for example, a circumferential direction around a vertical axis. More specifically, as shown in FIG. 5, θ is a state of rotating counterclockwise about a vertical axis (Z axis). Note that the XYθ movable mechanism 32 may be used as the Xθ movable mechanism or the Yθ movable mechanism in combination with the movement of the transport mechanism 30 in any one of the XY directions.

一方、載置部２１に載置されるパネルＰＮは、アライメントマークＭ１を有する。パネルアライナ３は、アライメントマークＭ１を撮像するセンサ部３１と、上記ＸＹθ可動機構３２と、センサ部３１からの出力に従ってＸＹθ可動機構３２を制御する制御部３３とを具備する。アライメントマークＭ１は、通常、パネルＰＮ上の所定位置に２カ所設けられている。センサ部３１は、アライメントマークＭ１の位置及びアライメントすべき基準位置や基準方向に従って所定の位置でアライメントマークＭ１の撮像をするよう二つ設けられている。 On the other hand, the panel PN placed on the placement unit 21 has an alignment mark M1. The panel aligner 3 includes a sensor unit 31 that images the alignment mark M1, the XYθ movable mechanism 32, and a control unit 33 that controls the XYθ movable mechanism 32 in accordance with an output from the sensor unit 31. Two alignment marks M1 are usually provided at predetermined positions on the panel PN. Two sensor units 31 are provided so as to image the alignment mark M1 at a predetermined position in accordance with the position of the alignment mark M1, the reference position to be aligned, and the reference direction.

図４に示す例においては、アライメントマークＭ１は、矩形のパネルＰＮの対角方向の角部に設けられる。センサ部３１は、載置部２１に対してパネルＰＮの搭載動作を行う位置（以下、搭載位置）の上方に配置されている。二つのセンサ部３１の位置は、パネルＰＮ上のアライメントマークＭ１の離間距離に一致し、二つのセンサ部３１を結ぶ線は、搬送機構３０における幅方向に一致している。すなわち、載置部２１にパネルＰＮが搭載されると、各アライメントマークＭ１を各センサ部３１が撮像する状態となる。各センサ部３１の撮像エリア内には基準位置が設定されており、この基準位置には、アライメントマークＭ１の中心が位置すべき位置である。 In the example shown in FIG. 4, the alignment mark M 1 is provided at the corner in the diagonal direction of the rectangular panel PN. The sensor unit 31 is disposed above a position where the panel PN is mounted on the mounting unit 21 (hereinafter referred to as a mounting position). The positions of the two sensor portions 31 coincide with the separation distance of the alignment mark M1 on the panel PN, and the line connecting the two sensor portions 31 coincides with the width direction of the transport mechanism 30. That is, when the panel PN is mounted on the placement unit 21, each sensor unit 31 is in a state of imaging each alignment mark M 1. A reference position is set in the imaging area of each sensor unit 31, and this reference position is a position where the center of the alignment mark M1 should be located.

制御部３３は、各センサ部３１からの出力データ（イメージデータ）を処理し、ＸＹθ可動機構３２を制御してアライメントを行う。具体的には、２個のセンサ部３１が検出したそれぞれのアライメントマークＭ１の位置情報と、あらかじめ制御部３３に入力されている２個のアライメントマークＭ１の距離情報とに基づき、制御部３３は、センサ部３１が撮像するアライメントマークＭ１の重心が基準位置に位置するようステージ２０の載置部２１のＸＹθ方向の移動距離のデータを演算し、ＸＹθ可動機構３２を制御して平板２１−２をＸＹθ方向に移動させる。これにより、偏光光照射装置１は、パネルＰＮのアライメントを行うことができる。また、アライメントマークＭ１がパネルＰＮの対角方向の角部に設けられることで、アライメントマークＭ１が例えば矩形パネルの一方向に沿った二つの角部に設けられるときに比べて、２個のアライメントマークＭ１同士の距離が大きくなるため、基準位置へのアライメントマークの合わせこみ、つまり、アライメントの精度が向上する。なお、上述したパネルアライナ３は、一例であり、パネルＰＮのアライメントが可能であれば、どのような構成であってもよい。 The control unit 33 processes output data (image data) from each sensor unit 31 and controls the XYθ movable mechanism 32 to perform alignment. Specifically, based on the positional information of the alignment marks M1 detected by the two sensor units 31 and the distance information of the two alignment marks M1 input in advance to the control unit 33, the control unit 33 The data of the movement distance in the XYθ direction of the mounting unit 21 of the stage 20 is calculated so that the center of gravity of the alignment mark M1 imaged by the sensor unit 31 is located at the reference position, and the XYθ movable mechanism 32 is controlled to control the flat plate 21-2. Is moved in the XYθ direction. Thereby, the polarized light irradiation apparatus 1 can align the panel PN. Further, since the alignment mark M1 is provided at the corner in the diagonal direction of the panel PN, the alignment mark M1 has two alignments compared to when the alignment mark M1 is provided at two corners along one direction of the rectangular panel, for example. Since the distance between the marks M1 increases, alignment of the alignment mark to the reference position, that is, alignment accuracy is improved. The panel aligner 3 described above is an example, and any configuration may be used as long as the panel PN can be aligned.

前述した構成の第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置１は、各ステージ２０Ａ、２０Ｂの搭載位置ＭＰ１、ＭＰ２の高さＨ１１、Ｈ１２が異なることにより、偏光光照射装置１の長さを短くできるため、装置の大型化を抑制することができる。また、偏光光照射装置１は、各ステージ２０の搬送路ＰＴ１、ＰＴ２における移動距離を短くすることができるため、タクトタイムの長大化を抑制することができる。 The polarized light irradiation apparatus 1 for photo-alignment according to the first embodiment having the above-described configuration is different from the heights H11 and H12 of the mounting positions MP1 and MP2 of the stages 20A and 20B. Since the length can be shortened, enlargement of the apparatus can be suppressed. Moreover, since the polarized light irradiation apparatus 1 can shorten the moving distance of each stage 20 in the transport paths PT1 and PT2, it can suppress an increase in tact time.

前述した構成の第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置１において、一組のステージ２０は、各ステージ２０における搬送路ＰＴ１、ＰＴ２の高さＨ１１、Ｈ１２が異なる。これにより、偏光光照射装置１の長さを短くできるため、装置の大型化を抑制することができる。また、偏光光照射装置１は、各ステージ２０の搬送路ＰＴ１、ＰＴ２における移動距離を短くすることができるため、タクトタイムの長大化を抑制することができる。 In the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment 1 according to the first embodiment having the above-described configuration, the set of stages 20 differs in the heights H11 and H12 of the transport paths PT1 and PT2 in each stage 20. Thereby, since the length of the polarized light irradiation apparatus 1 can be shortened, the enlargement of the apparatus can be suppressed. Moreover, since the polarized light irradiation apparatus 1 can shorten the moving distance of each stage 20 in the transport paths PT1 and PT2, it can suppress an increase in tact time.

また、前述した構成の第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置１において、ステージ２０は、対象物の偏光方向に対して対象物の向きを調整する調整機構としてパネルアライナ３を有する。これにより、偏光光照射装置１の対象物であるパネルＰＮのアライメントを行うことができる。 Moreover, in the polarized light irradiation apparatus 1 for photo-alignment according to the first embodiment having the above-described configuration, the stage 20 includes a panel aligner 3 as an adjustment mechanism that adjusts the orientation of the object with respect to the polarization direction of the object. . Thereby, alignment of panel PN which is the target object of polarized light irradiation apparatus 1 can be performed.

［第２の実施形態］
まず、本発明の第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置２（以下、単に「偏光光照射装置２」と記載する場合がある）について図面に基づいて説明する。図６は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。また、図７は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。本実施形態に係る偏光光照射装置２も、第１の実施形態と同様に、例えば、対象物である配向膜に直線偏光光等の偏光光を照射することで、光配向するために用いられる。なお、第１の実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。 [Second Embodiment]
First, a polarized light irradiation apparatus 2 for photo-alignment according to a second embodiment of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “polarized light irradiation apparatus 2”) will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a side view schematically showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the second embodiment. FIG. 7 is a plan view schematically showing a polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the second embodiment. Similarly to the first embodiment, the polarized light irradiation apparatus 2 according to the present embodiment is also used for photoalignment by irradiating polarized light such as linearly polarized light onto an alignment film that is an object. . In addition, about the structure similar to 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted.

図６及び図７に示すように、第２の実施形態の偏光光照射装置２は、照射ユニット１０と、一組のステージ５０Ａ、５０Ｂと、搬送機構３０とを具備する。なお、ステージ５０Ａ、５０Ｂを区別しない場合は、ステージ５０とする場合がある。 As shown in FIGS. 6 and 7, the polarized light irradiation apparatus 2 according to the second embodiment includes an irradiation unit 10, a pair of stages 50 A and 50 B, and a transport mechanism 30. If the stages 50A and 50B are not distinguished, the stage 50 may be used.

一組のステージ５０Ａ、５０Ｂは、第１の実施形態と同様に、矩形状の板状に形成された載置部５１と、載置部５１を支持する支持部５２とを有する。載置部５１には、配向膜が形成されたパネルＰＮが搭載される。また、載置部５１は、支持部５２を介して、搬送機構３０によって移動可能に支持されている。図６及び図７の左右方向における載置部５１の幅は、幅Ｗ２１となる。また、図６及び図７の左右方向における支持部５２の幅は、幅Ｗ２２（＜幅Ｗ２１）となる。また、少なくとも一方のステージ５０は、高さ方向の位置が可変であって、搬送路ＰＴ３の高さを他方のステージ５０の搬送路ＰＴ３の高さとすることができる。図６及び図７に示す例においては、ステージ５０Ａ、５０Ｂは、高さ方向の位置を変更可能である。例えば、ステージ５０Ａ、５０Ｂは、支持部５２の機能により高さ方向の位置を変更可能である。例えば、ステージ５０Ａ、５０Ｂは、搬送機構３０からの指示に応じて支持部５２の機能により高さを調整することにより、高さ方向の位置を変更可能である。 As in the first embodiment, the set of stages 50 A and 50 B includes a placement portion 51 formed in a rectangular plate shape and a support portion 52 that supports the placement portion 51. A panel PN on which an alignment film is formed is mounted on the mounting portion 51. The placement unit 51 is movably supported by the transport mechanism 30 via the support unit 52. The width of the mounting portion 51 in the left-right direction in FIGS. 6 and 7 is a width W21. Moreover, the width | variety of the support part 52 in the left-right direction of FIG.6 and FIG.7 becomes the width W22 (<width W21). Further, at least one stage 50 has a variable position in the height direction, and the height of the transport path PT3 can be set to the height of the transport path PT3 of the other stage 50. In the example shown in FIGS. 6 and 7, the positions of the stages 50A and 50B can be changed in the height direction. For example, the positions in the height direction of the stages 50 A and 50 B can be changed by the function of the support portion 52. For example, the stages 50 A and 50 B can change the position in the height direction by adjusting the height by the function of the support portion 52 in accordance with an instruction from the transport mechanism 30.

ここで、図６及び図７に示すように、各ステージ５０Ａ、５０ＢにパネルＰＮを搭載する搭載位置ＭＰ３、ＭＰ４（図８参照）は、照射領域ＡＲ１１の両側に配置される。具体的には、ステージ５０Ａ、５０ＢにパネルＰＮを搭載する搭載位置ＭＰ３、ＭＰ４は、図６及び図７における照射領域ＡＲ１１の左右方向の両側に配置される。 Here, as shown in FIGS. 6 and 7, mounting positions MP3 and MP4 (see FIG. 8) for mounting the panel PN on the respective stages 50A and 50B are arranged on both sides of the irradiation area AR11. Specifically, the mounting positions MP3 and MP4 for mounting the panel PN on the stages 50A and 50B are arranged on both sides in the left-right direction of the irradiation area AR11 in FIGS.

搬送機構３０は、平面視において照射領域ＡＲ１１を通して各搭載位置ＭＰ３、ＭＰ４を結ぶ搬送路ＰＴ３を有し、搭載位置ＭＰ３、ＭＰ４と、ステージ５０が照射領域ＡＲ１１を通過した所定の通過位置ＦＰ３、ＦＰ４（図８参照）との間で、一組のステージ５０Ａ、５０Ｂを交互に搬送路ＰＴ３に沿って往復させる。具体的には、搬送機構３０は、高さＨ２３の搬送路ＰＴ３に沿ってステージ５０Ａ、５０Ｂを交互に往復させる。すなわち、搬送機構３０は、ステージ５０を移動させる際は、ステージ５０の高さを高さＨ２３に変更させる。その後、搬送機構３０は、高さＨ２３の搬送路ＰＴ３に沿ってステージ５０を往復させる。このように、偏光光照射装置２においては、ステージ５０Ａ、５０Ｂは、高さ方向の位置を変更することにより、共通の搬送路ＰＴ３に沿って往復する。 The transport mechanism 30 has a transport path PT3 that connects the mounting positions MP3 and MP4 through the irradiation area AR11 in plan view, and the mounting positions MP3 and MP4 and predetermined passing positions FP3 and FP4 where the stage 50 has passed the irradiation area AR11. (See FIG. 8), the pair of stages 50A and 50B are alternately reciprocated along the transport path PT3. Specifically, the transport mechanism 30 reciprocates the stages 50A and 50B alternately along the transport path PT3 having a height H23. That is, when moving the stage 50, the transport mechanism 30 changes the height of the stage 50 to the height H23. Thereafter, the transport mechanism 30 reciprocates the stage 50 along the transport path PT3 having a height H23. Thus, in the polarized light irradiation device 2, the stages 50A and 50B reciprocate along the common transport path PT3 by changing the position in the height direction.

ここで、図６に示すように、ステージ５０Ａの載置部５１の搬送機構３０からの高さは、高さＨ２１である。すなわち、ステージ５０Ａの搭載位置ＭＰ３の高さは、高さＨ２１となる。また、ステージ５０Ｂの載置部５１の搬送機構３０からの高さは、高さＨ２２である。すなわち、ステージ５０Ｂの搭載位置ＭＰ４の高さは、高さＨ２２となる。なお、ステージ５０は、所定の厚みを有するが、ステージ５０の厚みは無視できる程度の厚みとして以下説明する。ここに、ステージ５０Ａの搭載位置ＭＰ３の高さＨ２１と搬送路ＰＴ３の高さＨ２３との間には、高さ方向にＨ２１−Ｈ２３だけ間隙ＭＧ２（＝Ｈ２１−Ｈ２３）が形成される。また、ステージ５０Ｂの搭載位置ＭＰ４の高さＨ２２と搬送路ＰＴ３の高さＨ２３との間には、高さ方向にＨ２３−Ｈ２２だけ間隙ＭＧ３（＝Ｈ２３−Ｈ２２）が形成される。 Here, as shown in FIG. 6, the height of the placement unit 51 of the stage 50 A from the transport mechanism 30 is a height H 21. That is, the height of the mounting position MP3 of the stage 50A is the height H21. Moreover, the height from the conveyance mechanism 30 of the mounting part 51 of the stage 50B is the height H22. That is, the height of the mounting position MP4 of the stage 50B is the height H22. Although the stage 50 has a predetermined thickness, the thickness of the stage 50 will be described below as a thickness that can be ignored. Here, a gap MG2 (= H21−H23) is formed in the height direction by H21−H23 between the height H21 of the mounting position MP3 of the stage 50A and the height H23 of the transport path PT3. Further, a gap MG3 (= H23−H22) is formed in the height direction by H23−H22 between the height H22 of the mounting position MP4 of the stage 50B and the height H23 of the transport path PT3.

上述したように、ステージ５０Ａ、５０Ｂの各搭載位置ＭＰ３、ＭＰ４の高さＨ２１、Ｈ２２及び搬送路ＰＴ３の高さＨ２３が異なるため、平面視においてステージ５０Ａとステージ５０Ｂとは、重なることが可能となる。例えば、平面視においてステージ５０Ａとステージ５０Ｂとは、載置部５１の幅Ｗ２１と支持部５２の幅Ｗ２２とに基づく幅だけ平面視において重なることができる。具体的には、平面視においてステージ５０Ａとステージ５０Ｂとは、幅Ｗ２（＝（Ｗ２１−Ｗ２２）／２）だけ平面視において重なることができる。 As described above, since the heights H21 and H22 of the mounting positions MP3 and MP4 of the stages 50A and 50B and the height H23 of the transport path PT3 are different, the stage 50A and the stage 50B can overlap in plan view. Become. For example, the stage 50 A and the stage 50 B in the plan view can overlap with each other in the plan view by a width based on the width W 21 of the placement unit 51 and the width W 22 of the support unit 52. Specifically, the stage 50A and the stage 50B can overlap each other in the plan view by a width W2 (= (W21−W22) / 2) in the plan view.

すなわち、図６及び図７に示す例において、搭載位置ＭＰ３におけるステージ５０Ａ（の載置部５１）の右端部と照射ユニット１０（の器具本体１３）の左端部との間の長さを載置部５１の幅Ｗ２１よりも短い長さＬ２１とすることができる。また、搭載位置ＭＰ４におけるステージ５０Ｂ（の載置部５１）の左端部と照射ユニット１０（の器具本体１３）の右端部との間の長さを載置部５１の幅Ｗ２１よりも短い長さＬ２１とすることができる。 That is, in the example shown in FIGS. 6 and 7, the length between the right end portion of the stage 50A (the placement portion 51) and the left end portion of the irradiation unit 10 (the instrument body 13) at the mounting position MP3 is placed. The length L21 may be shorter than the width W21 of the portion 51. Further, the length between the left end of the stage 50B (the mounting part 51) and the right end of the irradiation unit 10 (the instrument body 13) at the mounting position MP4 is shorter than the width W21 of the mounting part 51. L21.

一方、偏光光照射装置２においては、搭載位置ＭＰ３におけるステージ５０Ａの高さＨ２１とステージ５０Ｂの搬送路ＰＴ３の高さＨ２３とが異なるため、ステージ５０Ａと照射ユニット１０との間の長さを長さＬ２１（＜幅Ｗ２１）とすることができる。また、偏光光照射装置２においては、搭載位置ＭＰ４におけるステージ５０Ｂの高さＨ２２とステージ５０Ａの搬送路ＰＴ３の高さＨ２３とが異なるため、ステージ５０Ｂと照射ユニット１０との間の長さを長さＬ２１（＜幅Ｗ２１）とすることができる。これにより、偏光光照射装置２は、図６及び図７の左右方向における偏光光照射装置２の長さを短くできるため、装置の大型化を抑制することができる。また、偏光光照射装置２は、各ステージ５０の搬送路ＰＴ３における移動距離を短くすることができるため、タクトタイムの長大化を抑制することができる。 On the other hand, in the polarized light irradiation device 2, since the height H21 of the stage 50A and the height H23 of the transport path PT3 of the stage 50B at the mounting position MP3 are different, the length between the stage 50A and the irradiation unit 10 is long. L21 (<width W21). Further, in the polarized light irradiation device 2, the height H22 of the stage 50B and the height H23 of the transport path PT3 of the stage 50A at the mounting position MP4 are different, so the length between the stage 50B and the irradiation unit 10 is long. L21 (<width W21). Thereby, since the polarized light irradiation apparatus 2 can shorten the length of the polarized light irradiation apparatus 2 in the left-right direction of FIG.6 and FIG.7, the enlargement of an apparatus can be suppressed. Moreover, since the polarized light irradiation apparatus 2 can shorten the moving distance in the conveyance path PT3 of each stage 50, it can suppress an increase in tact time.

ここから、図８を用いて、偏光光照射装置２における液晶パネルＰＮの配向膜の製造処理の流れについて説明する。図８は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置におけるステージの移動の一例を示す図である。具体的には、図８（ａ）〜（ｅ）は、（ａ）〜（ｅ）順にステージが移動する場合の一例を示す図である。 From here, the flow of the manufacturing process of the alignment film of the liquid crystal panel PN in the polarized light irradiation apparatus 2 is demonstrated using FIG. FIG. 8 is a diagram illustrating an example of movement of the stage in the polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to the second embodiment. Specifically, FIGS. 8A to 8E are diagrams illustrating an example where the stage moves in the order of (a) to (e).

まず、図８（ａ）に示す偏光光照射装置２は、ステージ５０Ａ、５０Ｂが各搭載位置ＭＰ３、ＭＰ４に位置し、ステージ５０Ａの載置部５１にパネルＰＮが搭載された状態を示す。例えば、装置の管理者やロボット（図示省略）がパネルＰＮをステージ５０Ａの載置部５１に搭載する。そして、図８（ｂ）に示すように、ステージ５０Ａのセンサ（図示省略）がパネルＰＮの搭載を検出し、ステージ５０Ａの高さ方向の位置が搬送路ＰＴ３の高さＨ２３に変更される。その後、搬送機構３０によりステージ５０Ａが移動を開始する。図８（ｃ）に示すように、ステージ５０Ａは、右方向へ移動を開始し、照射ユニット１０の照射領域ＡＲ１１を通過して通過位置ＦＰ３まで移動する。 First, the polarized light irradiation device 2 shown in FIG. 8A shows a state in which the stages 50A and 50B are positioned at the mounting positions MP3 and MP4, and the panel PN is mounted on the mounting portion 51 of the stage 50A. For example, the administrator of the apparatus or a robot (not shown) mounts the panel PN on the mounting unit 51 of the stage 50A. Then, as shown in FIG. 8B, a sensor (not shown) of the stage 50A detects the mounting of the panel PN, and the position of the stage 50A in the height direction is changed to the height H23 of the transport path PT3. Thereafter, the stage 50 A starts to move by the transport mechanism 30. As shown in FIG. 8C, the stage 50A starts moving to the right, passes through the irradiation area AR11 of the irradiation unit 10, and moves to the passing position FP3.

図８（ｃ）に示すように、通過位置ＦＰ３へ移動後のステージ５０Ａと搭載位置ＭＰ４のステージ５０Ｂとは、平面視（図８の上下方向）において一部が重なることができる。また、ステージ５０Ａの一部とステージ５０Ｂの一部とが重なった状態においても、ステージ５０Ａの載置部５１とステージ５０Ｂの載置部５１との間には、十分な余裕があるため、ステージ５０Ｂの載置部５１にパネルＰＮを搭載する等の作業を行うことが可能である。これにより、偏光光照射装置２は、さらにタクトタイムの長大化を抑制することができる。 As shown in FIG. 8C, the stage 50A after moving to the passing position FP3 and the stage 50B at the mounting position MP4 can partially overlap in plan view (up and down direction in FIG. 8). Even when a part of the stage 50A and a part of the stage 50B overlap each other, there is a sufficient margin between the placement part 51 of the stage 50A and the placement part 51 of the stage 50B. It is possible to perform operations such as mounting the panel PN on the mounting portion 51 of 50B. Thereby, the polarized light irradiation apparatus 2 can further suppress an increase in tact time.

その後、ステージ５０Ａは搭載位置ＭＰ３へ移動を開始する。図８（ｄ）に示すように、ステージ５０Ａは、左方向へ移動を開始し、照射ユニット１０の照射領域ＡＲ１１を通過して搭載位置ＭＰ３まで移動する。また、この間に、ステージ５０Ｂの載置部５１にパネルＰＮが搭載され、ステージ５０Ｂが移動可能な状態になる。そして、ステージ５０Ｂのセンサ（図示省略）がパネルＰＮの搭載を検出し、ステージ５０Ｂの高さ方向の位置が搬送路ＰＴ３の高さＨ２３に変更される。その後、搬送機構３０によりステージ５０Ｂが移動を開始する。図８（ｅ）に示すように、ステージ５０Ｂは、左方向へ移動を開始し、照射ユニット１０の照射領域ＡＲ１１を通過して通過位置ＦＰ４まで移動する。なお、図８においては、説明のためステージ５０Ａが搭載位置ＭＰ３へ戻った後、ステージ５０Ｂが移動を開始する場合を示したが、ステージ５０Ａが搭載位置ＭＰ３まで移動する間に、ステージ５０Ｂが移動を開始してもよい。 Thereafter, the stage 50A starts moving to the mounting position MP3. As shown in FIG. 8D, the stage 50A starts moving to the left, passes through the irradiation area AR11 of the irradiation unit 10, and moves to the mounting position MP3. During this time, the panel PN is mounted on the mounting portion 51 of the stage 50B, and the stage 50B is movable. Then, a sensor (not shown) of the stage 50B detects the mounting of the panel PN, and the position of the stage 50B in the height direction is changed to the height H23 of the transport path PT3. Thereafter, the stage 50 B starts moving by the transport mechanism 30. As shown in FIG. 8E, the stage 50B starts to move leftward, passes through the irradiation area AR11 of the irradiation unit 10, and moves to the passing position FP4. In FIG. 8, the stage 50B starts moving after the stage 50A returns to the mounting position MP3 for explanation, but the stage 50B moves while the stage 50A moves to the mounting position MP3. May start.

図８（ｅ）に示すように、通過位置ＦＰ４へ移動後のステージ５０Ｂと搭載位置ＭＰ３のステージ５０Ａとは、平面視（図８の上下方向）において一部が重なることができる。また、ステージ５０Ａの一部とステージ５０Ｂの一部とが重なった状態においても、ステージ５０Ａの載置部５１のほうがステージ５０Ｂの載置部５１よりも上方に位置するため、ステージ５０Ａの載置部５１からパネルＰＮを取り出したり、載置部５１に新たなパネルＰＮを搭載したりする等の作業を行うことが可能である。これにより、偏光光照射装置２は、さらにタクトタイムの長大化を抑制することができる。 As shown in FIG. 8E, the stage 50B after moving to the passing position FP4 and the stage 50A at the mounting position MP3 can partially overlap in plan view (up and down direction in FIG. 8). Even when a part of the stage 50A and a part of the stage 50B overlap each other, the placement part 51 of the stage 50A is positioned higher than the placement part 51 of the stage 50B. It is possible to perform operations such as taking out the panel PN from the unit 51 and mounting a new panel PN on the mounting unit 51. Thereby, the polarized light irradiation apparatus 2 can further suppress an increase in tact time.

このように、ステージ５０Ａは、搬送機構３０によって照射ユニット１０に向かって搬送され、照射領域ＡＲ１１を通過して通過位置ＦＰ３まで搬送される。そして、ステージ５０Ａは、通過位置ＦＰ３から搭載位置ＭＰ３に向かって搬送され、照射領域ＡＲ１１を通過し、搭載位置ＭＰ３に戻る。これにより、ステージ５０Ａの載置部５１上のパネルＰＮの配向膜は、照射領域ＡＲ１１を往復することで所定量の偏光光が照射され、所望の光配向が行われる。 As described above, the stage 50A is transported toward the irradiation unit 10 by the transport mechanism 30, and is transported to the passing position FP3 through the irradiation region AR11. Then, the stage 50A is transported from the passage position FP3 toward the mounting position MP3, passes through the irradiation area AR11, and returns to the mounting position MP3. Accordingly, the alignment film of the panel PN on the placement unit 51 of the stage 50A is irradiated with a predetermined amount of polarized light by reciprocating the irradiation area AR11, and desired optical alignment is performed.

その後、ステージ５０Ｂは搭載位置ＭＰ４へ移動を開始する。例えば、ステージ５０Ｂは、右方向へ移動を開始し、照射ユニット１０の照射領域ＡＲ１１を通過して搭載位置ＭＰ４まで移動する。また、この間に、ステージ５０Ａの載置部５１からパネルＰＮが取り出された後、載置部５１に新たなパネルＰＮが搭載され、ステージ５０Ａが移動可能な状態になる。その後、ステージ５０Ｂの載置部５１からパネルＰＮを取り出したり、載置部５１に新たなパネルＰＮを搭載したりする。そして、偏光光照射装置２は、図８に示す処理を繰り返す。 Thereafter, the stage 50B starts moving to the mounting position MP4. For example, the stage 50B starts moving to the right, passes through the irradiation area AR11 of the irradiation unit 10, and moves to the mounting position MP4. Further, during this period, after the panel PN is taken out from the placement unit 51 of the stage 50A, a new panel PN is mounted on the placement unit 51, and the stage 50A is movable. Thereafter, the panel PN is taken out from the placement unit 51 of the stage 50 B, or a new panel PN is mounted on the placement unit 51. And the polarized light irradiation apparatus 2 repeats the process shown in FIG.

このように、ステージ５０Ｂは、搬送機構３０によって照射ユニット１０に向かって搬送され、照射領域ＡＲ１１を通過して通過位置ＦＰ４まで搬送される。そして、ステージ５０Ｂは、通過位置ＦＰ４から搭載位置ＭＰ４に向かって搬送され、照射領域ＡＲ１１を通過し、搭載位置ＭＰ４に戻る。これにより、ステージ５０Ｂの載置部５１上のパネルＰＮの配向膜は、照射領域ＡＲ１１を往復することで所定量の偏光光が照射され、所望の光配向が行われる。 As described above, the stage 50B is transported toward the irradiation unit 10 by the transport mechanism 30, and is transported to the passing position FP4 through the irradiation region AR11. Then, the stage 50B is transported from the passing position FP4 toward the mounting position MP4, passes through the irradiation area AR11, and returns to the mounting position MP4. Accordingly, the alignment film of the panel PN on the placement unit 51 of the stage 50B is irradiated with a predetermined amount of polarized light by reciprocating the irradiation area AR11, and desired optical alignment is performed.

なお、前述のステージ５０Ａとステージ５０Ｂとで、両方のステージ５０の高さが可変である実勢形態を示したが、少なくとも一方のステージの高さのみが可変であればよい。例えば、ステージ５０Ａのみが可変で、ステージ５０Ａの搭載位置ＭＰ３での高さがＨ２１、ステージ５０Ａの搬送時の高さ、ステージ５０Ｂの搭載位置ＭＰ４での高さおよび搬送路ＰＴ３の高さがＨ２３と同じであってもよい。 In addition, although the above-mentioned stage 50A and the stage 50B showed the actual form that the height of both the stages 50 is variable, only the height of at least one stage should just be variable. For example, only the stage 50A is variable, the height of the stage 50A at the mounting position MP3 is H21, the height of the stage 50A when it is transported, the height of the stage 50B at the mounting position MP4, and the height of the transport path PT3 is H23. It may be the same.

前述した構成の第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置２は、各ステージ５０Ａ、５０Ｂの搭載位置ＭＰ３、ＭＰ４の高さＨ２１、Ｈ２２が異なることにより、偏光光照射装置２の長さを短くできるため、装置の大型化を抑制することができる。また、偏光光照射装置２は、各ステージ５０の搬送路ＰＴ３における移動距離を短くすることができるため、タクトタイムの長大化を抑制することができる。 The polarized light irradiating device 2 for photo-alignment according to the second embodiment having the above-described configuration is different from the heights H21 and H22 of the mounting positions MP3 and MP4 of the stages 50A and 50B. Since the length can be shortened, enlargement of the apparatus can be suppressed. Moreover, since the polarized light irradiation apparatus 2 can shorten the moving distance in the conveyance path PT3 of each stage 50, it can suppress an increase in tact time.

前述した構成の第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置２において、一組のステージ５０は、少なくとも一方のステージ５０の高さ方向の位置が可変であって、搬送路ＰＴ３の高さＨ２３を他方のステージ５０の搬送路ＰＴ３の高さＨ２３とする。これにより、偏光光照射装置２の長さを短くできるため、装置の大型化を抑制することができる。また、偏光光照射装置２は、各ステージ５０の搬送路ＰＴ３における移動距離を短くすることができるため、タクトタイムの長大化を抑制することができる。 In the polarized light irradiation apparatus 2 for photo-alignment according to the second embodiment having the above-described configuration, the set of stages 50 has at least one stage 50 whose position in the height direction is variable and the height of the conveyance path PT3. Let H23 be the height H23 of the transport path PT3 of the other stage 50. Thereby, since the length of the polarized light irradiation apparatus 2 can be shortened, the enlargement of the apparatus can be suppressed. Moreover, since the polarized light irradiation apparatus 2 can shorten the moving distance in the conveyance path PT3 of each stage 50, it can suppress an increase in tact time.

また、前述した構成の第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置２において、ステージ５０は、対象物の偏光方向に対して対象物の向きを調整する調整機構としてパネルアライナ３を有する。これにより、偏光光照射装置２の対象物であるパネルＰＮのアライメントを行うことができる。 Moreover, in the polarized light irradiation apparatus 2 for photo-alignment according to the second embodiment having the above-described configuration, the stage 50 includes the panel aligner 3 as an adjustment mechanism that adjusts the direction of the object with respect to the polarization direction of the object. . Thereby, alignment of panel PN which is the target object of polarized light irradiation apparatus 2 can be performed.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。 Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the invention described in the claims and equivalents thereof as well as included in the scope and gist of the invention.

１、２光配向用偏光光照射装置
１０照射ユニット
２０、５０ステージ
３０搬送機構
ＡＲ１１照射領域
ＭＰ１〜ＭＰ４搭載位置
ＰＴ１〜ＰＴ３搬送路
ＦＰ１〜ＦＰ４通過位置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Polarizing light irradiation apparatus for photo-alignment 10 Irradiation unit 20, 50 Stage 30 Conveyance mechanism AR11 Irradiation area MP1-MP4 mounting position PT1-PT3 Conveyance path FP1-FP4 Passing position

Claims

An irradiation unit having an irradiation region for irradiating the object with polarized light;
A set of stages in which each mounting position for mounting the object is disposed on both sides of the irradiation region, and the heights of the mounting positions are different;
In a plan view, it has a conveyance path that connects the mounting positions through the irradiation area, and the pair of stages are alternately arranged between the mounting position and a predetermined passing position where the stage has passed the irradiation area. A transport mechanism that reciprocates along the transport path;
A polarized light irradiation device for photo-alignment.

The polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to claim 1, wherein the set of stages has different conveyance path heights in each stage.

2. The set of stages according to claim 1, wherein at least one stage has a variable position in a height direction, and the height of the conveyance path of the one stage is the height of the conveyance path of the other stage. Polarized light irradiation device for photo-alignment.

The polarized light irradiation apparatus for photo-alignment according to claim 1, wherein the stage has an adjustment mechanism that adjusts the direction of the object with respect to the polarization direction of the object.