JP6459751B2 - Manufacturing method of optical film - Google Patents
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Description
本発明は、光学フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to the production how the optical film.
光学フィルムとは、光を透過又は反射吸収しうるフィルムであり、屈折、複屈折、反射防止、視野角拡大、光拡散、及び輝度向上等の光学機能を発揮しうるフィルムをいう。
光学フィルムは、赤外線遮蔽フィルム、紫外線遮蔽フィルム、光反射防止フィルム、配向フィルム、偏光フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、輝度向上フィルム、及び電磁波シールドフィルム等として液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)、又は建物や車両の窓ガラス等に使用されている。
光学フィルムは、光学干渉層が少なくとも2層以上形成されて用いられることがあり、例えば、高屈折率層と低屈折率層との光学的膜厚をそれぞれ調整して基材の表面に積層させた多層積層膜構造を有するものが知られている。多層積層膜構造を有する光学フィルムは、特定の波長の光を選択的に反射することが知られており、光学反射フィルムとして用いられている。
The optical film is a film that can transmit or reflect and absorb light, and refers to a film that can exhibit optical functions such as refraction, birefringence, antireflection, wide viewing angle, light diffusion, and brightness enhancement.
The optical film is an infrared shielding film, an ultraviolet shielding film, an anti-reflection film, an alignment film, a polarizing film, a polarizing plate protective film, a retardation film, a viewing angle widening film, a brightness enhancement film, an electromagnetic shielding film, etc. It is used for flat panel displays (FPD) such as LCDs and plasma displays (PDP), or window glass of buildings and vehicles.
The optical film may be used with at least two optical interference layers formed. For example, the optical film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer may be adjusted and laminated on the surface of the substrate. Those having a multilayer laminated film structure are known. An optical film having a multilayer laminated film structure is known to selectively reflect light having a specific wavelength, and is used as an optical reflecting film.
光学反射フィルムは、各層の膜厚や屈折率を調整するだけで、光の反射波長をコントロールすることができる。これより、光学反射フィルムは、その使用目的に応じた設計によって、赤外線や紫外線や可視光について選択的に反射させることができる。
中でも、特に、近年の省エネルギー対策に対する関心の高まりにより、冷房設備にかかる負荷を減らす観点から、建物や車両の窓ガラスに装着させて、太陽光の熱線の透過を遮断する赤外線遮蔽フィルムの要望が高まってきている。
赤外線遮蔽フィルムの形成方法としては、主には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成からなる積層膜を、蒸着法、スパッタ法などのドライ製膜法を用いて形成する方法が提案されている。しかし、ドライ製膜法は、形成に用いる真空装置等が大型になり、製造コストが高く、大面積化が困難であり、しかも、基材が耐熱性素材に限定される。
The optical reflection film can control the reflection wavelength of light only by adjusting the film thickness and refractive index of each layer. Thus, the optical reflection film can selectively reflect infrared rays, ultraviolet rays, and visible light by a design according to the purpose of use.
In particular, due to the recent increase in interest in energy-saving measures, there is a demand for an infrared shielding film that can be attached to a window glass of a building or vehicle to block the transmission of solar heat rays from the viewpoint of reducing the load on cooling equipment. It is increasing.
As a method for forming an infrared shielding film, a laminated film having a structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated is mainly formed by using a dry film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method. A method of forming has been proposed. However, in the dry film forming method, a vacuum apparatus or the like used for forming becomes large, the manufacturing cost is high, and it is difficult to increase the area, and the base material is limited to a heat resistant material.
上記のような課題を有しているドライ製膜法に代えて、湿式塗布法を用いて赤外線遮蔽フィルムを形成する方法が知られている(例えば特許文献1参照)。
一般に、基材上に2層以上の積層膜を湿式塗布で作製する方法としては、1層ずつ塗布・乾燥して積層する逐次塗布と、同時に複数の層を塗布する同時重層塗布がある。
逐次塗布としては、スピンコート法、バーコート法、ブレード塗布、グラビア塗布などがあるが、特に光学反射フィルムなどの多層膜を作製する場合には塗布・乾燥回数が多くなるため生産性が低い。
一方、同時重層塗布としては、カーテン塗布やスライドビード塗布などを用いた方法があり、同時に複数の層が形成できるため生産性が高いため、同時重層塗布が好ましく採用されている。
A method of forming an infrared shielding film using a wet coating method instead of the dry film forming method having the above-described problems is known (for example, see Patent Document 1).
In general, as a method for producing a laminated film of two or more layers on a substrate by wet coating, there are sequential coating in which coating and drying are performed one layer at a time, and simultaneous multilayer coating in which a plurality of layers are coated simultaneously.
Sequential coating includes spin coating, bar coating, blade coating, gravure coating, and the like. However, when a multilayer film such as an optical reflection film is produced, productivity is low because the number of coating and drying increases.
On the other hand, as simultaneous multilayer coating, there is a method using curtain coating, slide bead coating, or the like, and since a plurality of layers can be formed at the same time, productivity is high, and therefore simultaneous multilayer coating is preferably employed.
特許文献2には、積層膜を湿式塗布で作製する方法として、光学干渉層を構成する各層が、無機酸化物微粒子及びポリビニルアルコールを含有し、各層を構成する各層が、前記無機酸化物微粒子及び互いにケン化度が異なるポリビニルアルコールを含有することで、生産性が高く、反射防止性能に優れた反射防止フィルムを提供できる技術が開示されている。
しかしながら、特許文献2の記載のとおり、無機酸化物微粒子及び隣接する層と互いにケン化度が異なるポリビニルアルコールを含有することで、層間混合が抑制され、膜厚を均一塗布できるものの、塗布開始時に水で液封された配管内に塗布液を送液すると、凝集物が形成され塗布開始時に凝集物が流出し膜面故障が発生し、改善が求められていた。
In Patent Document 2, as a method for producing a laminated film by wet coating, each layer constituting the optical interference layer contains inorganic oxide fine particles and polyvinyl alcohol, and each layer constituting each layer is composed of the inorganic oxide fine particles and There has been disclosed a technique capable of providing an antireflection film having high productivity and excellent antireflection performance by containing polyvinyl alcohol having different saponification degrees.
However, as described in Patent Document 2, by containing polyvinyl alcohol having a different saponification degree from the inorganic oxide fine particles and the adjacent layer, interlayer mixing is suppressed and the film thickness can be uniformly applied, but at the start of application When the coating solution is fed into a pipe sealed with water, aggregates are formed and the aggregates flow out at the start of coating, causing a film surface failure, and improvement has been demanded.
そこで、本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、光学フィルムの製造方法において、高い生産性を保ったまま、配管内での凝集物の発生を抑制し、膜面故障の低減し、かつヘイズを低くすることが可能な光学フィルムの製造方法を提供することである。 Therefore, the present invention has been made in view of the above problems and situations, and in the method of manufacturing an optical film, while maintaining high productivity, the generation of aggregates in the pipe is suppressed, and a film surface failure is caused. reduced, and to provide a manufacturing how an optical film capable of lowering the haze.
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、支持体の少なくとも一方の面に、無機酸化物微粒子及びポリビニルアルコールを含有する塗布液を用いて一層又は複数の層で構成される光学干渉層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法であって、前記工程における送液のための配管内に、予め、前記塗布液中に含有される前記ポリビニルアルコールより低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液を充填し、その後、前記塗布液を前記配管内に導入する時に、前記充填液を前記配管内から外部に排出するとともに、前記塗布液を前記配管内に送液し、前記支持体上に塗布し、前記光学干渉層を形成することによって、高い生産性を保ったまま、配管内での凝集物の発生を抑制し、膜面故障の低減し、かつヘイズが低くすることが可能であることを見いだし本発明に至った。 In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor, in the process of examining the cause of the above-mentioned problems, uses a coating liquid containing inorganic oxide fine particles and polyvinyl alcohol on at least one surface of the support. A method for producing an optical film having a step of forming an optical interference layer composed of layers of the above-mentioned polyvinyl alcohol contained in the coating solution in advance in a pipe for liquid feeding in the step When the filling liquid containing polyvinyl alcohol having a low saponification degree and a low polymerization degree is filled and then the coating liquid is introduced into the pipe, the filling liquid is discharged from the pipe to the outside, and the coating liquid The liquid is fed into the pipe, applied onto the support, and the optical interference layer is formed, thereby suppressing the generation of aggregates in the pipe while maintaining high productivity. And to reduce the film surface faults, and haze was completed the present invention found that it is possible to lower.
すなわち、本発明に係る上記課題は、下記の手段により解決される。
1.支持体の少なくとも一方の面に、無機酸化物微粒子及びポリビニルアルコールを含有する塗布液を用いて一層又は複数の層で構成される光学干渉層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法であって、
前記工程における送液のための配管内に、予め、前記塗布液中に含有される前記ポリビニルアルコールより低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液を充填し、その後、前記塗布液を前記配管内に導入する時に、前記充填液を前記配管内から外部に排出するとともに、前記塗布液を前記配管内に送液し、前記支持体上に塗布し、前記光学干渉層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.
1. An optical film manufacturing method comprising a step of forming an optical interference layer composed of one layer or a plurality of layers using a coating liquid containing inorganic oxide fine particles and polyvinyl alcohol on at least one surface of a support. ,
In the pipe for liquid feeding in the step, a filling liquid containing polyvinyl alcohol having a lower saponification degree and a lower polymerization degree than the polyvinyl alcohol contained in the coating liquid is filled in advance, and then the coating liquid When the liquid is introduced into the pipe, the filling liquid is discharged from the pipe to the outside, and the coating liquid is fed into the pipe and applied onto the support to form the optical interference layer. The manufacturing method of the optical film characterized by the above-mentioned.
2.前記光学干渉層が、互いに隣接し屈折率の異なる複数の層で構成され、
前記光学干渉層を構成する各層が、前記無機酸化物微粒子及び前記ポリビニルアルコールをそれぞれ含有し、かつ
互いに隣接する層に含有される前記ポリビニルアルコールは、ケン化度が互いに異なることを特徴とする第1項に記載の光学フィルムの製造方法。
2. The optical interference layer is composed of a plurality of layers adjacent to each other and having different refractive indexes,
Each of the layers constituting the optical interference layer contains the inorganic oxide fine particles and the polyvinyl alcohol, and the polyvinyl alcohol contained in the layers adjacent to each other has different saponification degrees. 2. A method for producing an optical film according to item 1.
3.前記充填液を前記配管外に排出すると同時に、前記光学干渉層を構成する各層を形成する塗布液を送液することを特徴とする第2項に記載の光学フィルムの製造方法。 3. 3. The method for producing an optical film according to claim 2, wherein the coating liquid for forming each layer constituting the optical interference layer is fed simultaneously with discharging the filling liquid to the outside of the pipe.
4.前記充填液に含有される前記ポリビニルアルコールのケン化度が、73〜85モル%の範囲内であることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 4). The saponification degree of the polyvinyl alcohol contained in the filling liquid is in the range of 73 to 85 mol%. The optical film according to any one of items 1 to 3, Production method.
5.前記充填液に含有される前記ポリビニルアルコールの重合度が、300〜2000の範囲内であることを特徴とする第1項から第4項までのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 5. Item 5. The method for producing an optical film according to any one of Items 1 to 4, wherein a degree of polymerization of the polyvinyl alcohol contained in the filling liquid is in a range of 300 to 2000.
6.前記光学フィルムが、光学反射フィルムであることを特徴とする第1項から第5項までのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 6). The said optical film is an optical reflection film, The manufacturing method of the optical film as described in any one of Claim 1-5 characterized by the above-mentioned.
7.前記光学反射フィルムが、赤外線遮蔽フィルムであることを特徴とする第6項に記載の光学フィルムの製造方法。 7). The method for producing an optical film according to item 6, wherein the optical reflection film is an infrared shielding film.
本発明の上記手段により、高い生産性を保ったまま、配管内での凝集物の発生を抑制し、膜面故障の低減し、かつヘイズが低くすることが可能な光学フィルムの製造方法を提供することができる。 By the means of the present invention, while maintaining high productivity, suppressing the occurrence of agglomerates in the pipe, to reduce the film surface faults and manufacturing how the optical film capable of haze to reduce the Can be provided.
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
前述のとおり、無機酸化物微粒子を含み、隣接する層と互いにケン化度が異なるポリビニルアルコールを含有させた塗布液を重層塗布した際には、層間混合も起きにくく高い生産性を有するが、膜面故障が発生することがあった。解析の結果から、膜面故障は塗布液に含まれる凝集物が原因であった。発明者は、凝集物の発生源としては、塗布開始時に水で液封された配管内に塗布液を送液すると、凝集物が形成されることを突き止めた。
なお、重層塗布を行う際には、一層の膜厚が非常に薄いため、塗布開始時に前記凝集物が発生してしまうと、生産開始直後だけではなく、その後の膜厚調整においても多くの生産時間を費やし、時には塗布装置を分解して洗浄したのちに、再度生産立ち上げを行う場合もあり、非常に重要な問題である。
ここで、積層された光学フィルムは、水分散体である金属酸化物を水溶性樹脂の溶解液に添加及び混合し塗布液を調製したのち、塗布・乾燥を行って得られる。前記塗布液は、塗布液調製釜から配管を通り塗布装置(以下、塗布コーターともいう)まで送液され、塗布される。ところで、塗布コーターまで送液する際に、泡の混入などを抑制するため配管内は水で充填されている。
このように水で充填された配管に塗布液を送液すると、積層に限らず塗布液の希釈、又は液物性の変化(pH、粘度等)により金属酸化物の凝集のみならず、水溶性樹脂が析出して樹脂凝集物を生成することが確認できた。これらの凝集物が原因となり尾引きや筋などの膜面欠陥が発生することがわかった。
したがって、本発明者らは、このような現象を回避するために、配管に充填される水の代替検討を進めたが、充填される溶液は、生産終了後から生産開始まで充填されるものであり、場合によっては長期間配管内で停滞保存される。そのため、配管内での凝集、又は配管の腐食などを起こさないことが求められており、添加剤や樹脂などを添加した充填液を用いることは容易ではない。
一般的な水溶性樹脂は水素結合性が強く、長期停滞時に水素結合によるネットワーク形成が進み、水溶性樹脂同士の凝集が発生してしまい、本発明に係る塗布液の凝集抑制と配管内での長期安定性を両立することは非常に困難であった。
本発明者らは検討を進めた結果、低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液を配管内に充填することで、配管内での長期安定性を有し、凝集物を抑制することができ膜面欠陥が発生しないことを見いだした。
The expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.
As described above, when a coating liquid containing inorganic alcohol fine particles and containing polyvinyl alcohol having a different saponification degree from an adjacent layer is applied in multiple layers, interlayer mixing is unlikely to occur, and the film has high productivity. A surface failure sometimes occurred. From the results of the analysis, the film surface failure was caused by aggregates contained in the coating solution. The inventor has found that when the coating liquid is fed into a pipe sealed with water at the start of application, the aggregate is formed as a generation source of the aggregate.
In addition, when performing multilayer coating, the film thickness of one layer is very thin, so if the agglomerates are generated at the start of coating, not only immediately after the start of production, but also in the subsequent film thickness adjustment, many productions This is a very important problem because it takes time, sometimes the application apparatus is disassembled and cleaned, and then production is started again.
Here, the laminated optical film is obtained by adding and mixing a metal oxide, which is an aqueous dispersion, to a solution of a water-soluble resin and preparing a coating solution, followed by coating and drying. The coating solution is fed from a coating solution preparation kettle to a coating device (hereinafter also referred to as a coating coater) through a pipe and applied. By the way, when the liquid is supplied to the coating coater, the inside of the pipe is filled with water in order to suppress the mixing of bubbles and the like.
When the coating liquid is fed to the pipe filled with water in this way, not only the lamination but also the dilution of the coating liquid or the aggregation of metal oxides due to changes in liquid properties (pH, viscosity, etc.), water-soluble resin It was confirmed that the resin precipitates to form resin aggregates. It was found that these agglomerates cause film surface defects such as tailing and streaks.
Therefore, in order to avoid such a phenomenon, the inventors proceeded with an alternative study of water filled in the piping, but the filled solution is filled from the end of production until the start of production. Yes, depending on the case, it is stored stagnant in the piping for a long time. Therefore, it is required not to cause aggregation in the piping or corrosion of the piping, and it is not easy to use a filling liquid to which an additive or a resin is added.
General water-soluble resins have strong hydrogen bonding properties, network formation by hydrogen bonding proceeds at the time of long-term stagnation, and aggregation of water-soluble resins occurs. It has been very difficult to achieve both long-term stability.
As a result of investigations, the inventors have filled the pipe with a filling solution containing polyvinyl alcohol having a low saponification degree and a low degree of polymerization, thereby having long-term stability in the pipe and suppressing aggregates. It was found that no film surface defects occurred.
本発明の光学フィルムの製造方法は、支持体の少なくとも一方の面に、無機酸化物微粒子及びポリビニルアルコールを含有する塗布液を用いて一層又は複数の層で構成される光学干渉層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法であって、前記工程における送液のための配管内に、予め、前記塗布液中に含有される前記ポリビニルアルコールより低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液を充填し、その後、前記塗布液を前記配管内に導入する時に、前記充填液を前記配管内から外部に排出するとともに、前記塗布液を前記配管内に送液し、前記支持体上に塗布し、前記光学干渉層を形成することを特徴とする。
この特徴は、本実施形態に係る発明に共通する技術的特徴である。
The method for producing an optical film of the present invention includes a step of forming an optical interference layer composed of one layer or a plurality of layers using a coating liquid containing inorganic oxide fine particles and polyvinyl alcohol on at least one surface of a support. A method for producing an optical film comprising: a polyvinyl alcohol having a lower saponification degree and a lower polymerization degree than the polyvinyl alcohol contained in the coating liquid in advance in a pipe for liquid feeding in the step. When filling the filling liquid and then introducing the coating liquid into the pipe, the filling liquid is discharged from the pipe to the outside, and the coating liquid is fed into the pipe, And the optical interference layer is formed.
This feature is a technical feature common to the invention according to the present embodiment .
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記光学干渉層が、互いに隣接し屈折率の異なる複数の層で構成され、前記光学干渉層を構成する各層が、前記無機酸化物微粒子及び前記ポリビニルアルコールをそれぞれ含有し、かつ互いに隣接する層に含有される前記ポリビニルアルコールは、ケン化度が互いに異なることが好ましい。
又、前記充填液を前記配管外に排出すると同時に、前記光学干渉層を構成する各層を形成する塗布液を送液することで、塗布液送液時の泡巻き込みを防止でき、膜面故障低減の観点で好ましい。
又、前記充填液に含有される前記ポリビニルアルコールのケン化度が、73〜85モル%の範囲内であることが、凝集抑制の観点で好ましい。
又、前記充填液に含有される前記ポリビニルアルコールの重合度が、300〜2000の範囲内であることが、ヘイズの観点で好ましい。
又、前記光学フィルムが、光学反射フィルムであることが、実施形態として好ましい。
又、前記光学反射フィルムが、赤外線遮蔽フィルムであることが、効果発現の観点で好ましい。
又、上述のいずれか1項に記載の製造方法により製造された光学フィルムを用いることが好ましく、前記光学フィルムが基体の少なくとも一方の面に設けられた、光学フィルム積層体であることが、効果発現の観点で好ましい。
As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of manifestation of the effect of the present invention, the optical interference layer is composed of a plurality of layers adjacent to each other and having different refractive indexes, and each layer constituting the optical interference layer is the inorganic oxide. It is preferable that the polyvinyl alcohols containing the fine particles and the polyvinyl alcohol, and contained in the layers adjacent to each other, have different saponification degrees.
In addition, by discharging the filling liquid to the outside of the pipe and simultaneously feeding the coating liquid that forms each layer constituting the optical interference layer, it is possible to prevent bubble entrainment at the time of feeding the coating liquid and reduce the film surface failure. From the viewpoint of
Moreover, it is preferable from a viewpoint of aggregation suppression that the saponification degree of the said polyvinyl alcohol contained in the said filling liquid exists in the range of 73-85 mol%.
Moreover, it is preferable from a haze viewpoint that the polymerization degree of the said polyvinyl alcohol contained in the said filling liquid exists in the range of 300-2000.
Moreover, it is preferable as embodiment that the said optical film is an optical reflection film.
Moreover, it is preferable that the said optical reflection film is an infrared rays shielding film from a viewpoint of an effect expression.
In addition, it is preferable to use an optical film manufactured by the manufacturing method described in any one of the above items, and that the optical film is an optical film laminate provided on at least one surface of the substrate. Preferred from the viewpoint of expression.
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本発明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, "-" shown in this invention is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.
《光学フィルムの製造方法》
本発明の一形態である図1で説明するが、これに限定されるものではない。
図1のように、製造工程は、調製工程、循環工程、及び塗布工程からなり、前記製造工程における送液のための配管内に、予め、塗布液中に含有されるポリビニルアルコールより低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液を充填し、前記塗布液を配管内に導入する時に、前記充填液を配管内から外部に排出するとともに、前記塗布液を前記配管内に送液し、前記光学干渉層を形成する。
<< Optical film manufacturing method >>
Although it demonstrates in FIG. 1 which is one form of this invention, it is not limited to this.
As shown in FIG. 1, the manufacturing process consists of a preparation process, a circulation process, and a coating process. In the pipe for liquid feeding in the manufacturing process, the saponification is lower than that of polyvinyl alcohol contained in the coating liquid in advance. When filling the filling liquid containing polyvinyl alcohol having a degree of polymerization and a low polymerization degree and introducing the coating liquid into the pipe, the filling liquid is discharged from the pipe to the outside, and the coating liquid is fed into the pipe. Then, the optical interference layer is formed.
<配管内に充填される充填液の調製>
本発明において、配管内に充填される充填液は、下記に記述の低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを用いて調製されることが、配管内での長期保存性、及び塗布液の凝集抑制の観点で好ましい。
調製方法は、特に制限されず、低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。
前記充填液の低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールの含有量は、全質量(固形分)に対して、1〜15質量%の範囲内であることが充填液の長期安定性、排出性の観点から好ましい。調製された低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液は、配管内に充填される。
<Preparation of filling liquid filled in piping>
In the present invention, the filling liquid to be filled in the pipe is prepared using polyvinyl alcohol having a low saponification degree and a low polymerization degree as described below. This is preferable from the viewpoint of suppressing aggregation.
The preparation method is not particularly limited, and examples thereof include a method in which polyvinyl alcohol having a low saponification degree and a low polymerization degree is added and stirred.
The content of polyvinyl alcohol having a low saponification degree and a low polymerization degree in the filling liquid is within a range of 1 to 15% by mass with respect to the total mass (solid content), and the long-term stability and discharge of the filling liquid From the viewpoint of sex. The prepared filling liquid containing polyvinyl alcohol having a low saponification degree and a low polymerization degree is filled in the pipe.
(低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコール)
本発明で用いられる低ケン化度及び低重合度ポリビニルアルコールは、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。ポリビニルアルコールとして用いられる市販品の例としては、例えば、PVA−403、PVA−405、PVA−420、L−9−78、L−10、PVA−505(以上、株式会社クラレ製)、JL−05E、JL−18E(以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製)、W20N(電気化学工業株式会社製)、KH−20、KH−17、KL−05、KL−03(以上、日本合成化学工業株式会社製)等が挙げられる。
(Polyvinyl alcohol with low saponification degree and low polymerization degree)
As the low saponification degree and low polymerization degree polyvinyl alcohol used in the present invention, a synthetic product or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products used as polyvinyl alcohol include, for example, PVA-403, PVA-405, PVA-420, L-9-78, L-10, PVA-505 (all manufactured by Kuraray Co., Ltd.), JL- 05E, JL-18E (above, manufactured by Nippon Vinegar Poval Co., Ltd.), W20N (produced by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), KH-20, KH-17, KL-05, KL-03 (above, Nippon Synthetic Chemical Industry) Etc.).
ポリビニルアルコールのケン化度は、73〜85モル%の範囲内であることが好ましく、75〜83モル%の範囲内が更に好ましい。前記ケン化度が73モル%以上であれば、ポリビニルアルコールの水へ溶解性が低下することもなく、長期に配管内に充填されていても、樹脂同士の自己凝集は抑制される。前記ケン化度が85モル%以下であれば、送液される塗布液との混合による凝集発生が抑制できる。 The saponification degree of polyvinyl alcohol is preferably in the range of 73 to 85 mol%, and more preferably in the range of 75 to 83 mol%. If the saponification degree is 73 mol% or more, the solubility of polyvinyl alcohol in water does not decrease, and self-aggregation between resins is suppressed even if the pipe is filled in the pipe for a long time. When the saponification degree is 85 mol% or less, the occurrence of aggregation due to mixing with the coating liquid to be fed can be suppressed.
なお、本願でいう「ケン化度」とは、ポリビニルアルコールの原料であるポリ酢酸ビニル系樹脂に含まれるアセチルオキシ基(「酢酸基」ともいう。)がケン化工程によりヒドロキシ基に変化した割合をユニット比(モル%)で表したものであり、下記式で定義される数値である。
ケン化度(モル%)=(ヒドロキシ基の数)÷(ヒドロキシ基の数+アセチルオキシ基の数)×100
ケン化度は、JIS K 6726(1994)で規定されている方法で求めることができる。なお、ポリビニルアルコールのケン化度が一つの値に定まらずに幅(分布)を有する場合、「ケン化度」は、ポリビニルアルコールのケン化度の平均値を意味する。
As used herein, “degree of saponification” refers to the rate at which an acetyloxy group (also referred to as “acetic acid group”) contained in a polyvinyl acetate resin, which is a raw material for polyvinyl alcohol, has been changed to a hydroxy group by a saponification step. Is expressed as a unit ratio (mol%), which is a numerical value defined by the following formula.
Saponification degree (mol%) = (number of hydroxy groups) ÷ (number of hydroxy groups + number of acetyloxy groups) × 100
The degree of saponification can be determined by a method defined in JIS K 6726 (1994). When the degree of saponification of polyvinyl alcohol is not limited to one value but has a width (distribution), “degree of saponification” means an average value of the degree of saponification of polyvinyl alcohol.
ポリビニルアルコールの重合度は、好ましくは300〜2000の範囲内であり、より好ましくは500〜1500の範囲内である。重合度が300以上であれば、塗布液との混合による凝集物抑制され、重合度が2000以下であれば、樹脂同士の自己凝集は抑制される。
なお、本明細書において、ポリビニルアルコールの重合度は、JIS K6726:1994に準じて測定した重合度を意味する。
The polymerization degree of polyvinyl alcohol is preferably in the range of 300 to 2000, and more preferably in the range of 500 to 1500. If the degree of polymerization is 300 or more, aggregates due to mixing with the coating solution are suppressed, and if the degree of polymerization is 2000 or less, self-aggregation between resins is suppressed.
In the present specification, the degree of polymerization of polyvinyl alcohol means the degree of polymerization measured according to JIS K6726: 1994.
(溶媒)
溶媒としては、特に制限されないが、水、有機溶媒、又はその混合溶媒等が挙げられる。
前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類;ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類;アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも又は2種以上を混合して用いてもよい。
環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水、又は水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒を用いることが好ましく、水を用いることがより好ましい。
(solvent)
Although it does not restrict | limit especially as a solvent, Water, an organic solvent, or its mixed solvent etc. are mentioned.
Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, and 1-butanol; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate; diethyl ether; Examples thereof include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in admixture of two or more.
From the viewpoint of environment and simplicity of operation, the solvent of the coating solution is preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate, and more preferably water.
<塗布液の調製工程>
次に、光学干渉層を形成する塗布液の調製方法について説明する。
塗布液の調製方法は、特に制限されず、所望の機能を有する材料を添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、更に溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。
以下の説明では、主に、屈折率の異なる屈折率層が積層されてなる光学反射フィルム、特に赤外線遮蔽フィルムの製造方法について説明するが、本発明を限定するものではない。なお、光学反射フィルムは光学フィルムに該当し、屈折率層は光学干渉層に該当する。
<Preparation process of coating solution>
Next, a method for preparing a coating solution for forming the optical interference layer will be described.
The method for preparing the coating liquid is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a material having a desired function is added and stirred and mixed. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed at one time while stirring. If necessary, it is adjusted to an appropriate viscosity using a solvent.
In the following description, a method for producing an optical reflection film in which refractive index layers having different refractive indexes are laminated, particularly an infrared shielding film, will be described, but the present invention is not limited thereto. The optical reflection film corresponds to an optical film, and the refractive index layer corresponds to an optical interference layer.
同時重層塗布される塗布液としては、光学反射フィルムを構成する高屈折率層及び低屈折率層を形成する塗布液(以下、「高屈折率層用塗布液」及び「低屈折率層用塗布液」ともいう)が好ましく挙げられる。
塗布液としては、その他、高屈折率層と低屈折率層との中間の屈折率を有する中屈折率層用の塗布液;塗布を容易にする為の低粘度のスリップ層用の塗布液;スライド面での塗布液の縮流を抑制するために最上層に用いることができる低表面張力の塗布液、などが挙げられる。
各屈折率層に対する塗布液は、無機酸化物粒子、高分子、架橋成分、及び必要に応じて添加されるその他の添加剤、溶媒などを含むことが好ましい。なお、本明細書中、他方に対して屈折率の高い屈折率層を高屈折率層と、他方に対して屈折率の低い屈折率層を低屈折率層と称する。
以下、塗布液を構成する各成分について詳述する。
As the coating liquid applied simultaneously with the multilayer, the coating liquid for forming the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the optical reflection film (hereinafter referred to as “high refractive index layer coating liquid” and “low refractive index layer coating”). (Also referred to as “liquid”).
As the coating solution, in addition, a coating solution for a medium refractive index layer having an intermediate refractive index between a high refractive index layer and a low refractive index layer; a coating solution for a low viscosity slip layer for facilitating coating; Examples thereof include a low surface tension coating solution that can be used for the uppermost layer in order to suppress contraction of the coating solution on the slide surface.
The coating solution for each refractive index layer preferably contains inorganic oxide particles, a polymer, a crosslinking component, and other additives and solvents added as necessary. In the present specification, a refractive index layer having a higher refractive index than the other is referred to as a high refractive index layer, and a refractive index layer having a lower refractive index than the other is referred to as a low refractive index layer.
Hereinafter, each component which comprises a coating liquid is explained in full detail.
(ポリビニルアルコール)
本発明において、支持体の少なくとも一方の面に光学干渉層があり、前記光学干渉層に含まれる層を、無機酸化物微粒子、及びポリビニルアルコールを含有する塗布液を塗布することにより形成されることが好ましい。また、光学干渉層が、互いに隣接し屈折率の異なる複数の層で構成され、前記光学干渉層を構成する各層が、無機酸化物微粒子及びポリビニルアルコールをそれぞれ含有し、かつ、互いに隣接する層に含有される前記ポリビニルアルコールは、ケン化度が互いに異なることが、更に好ましく、特に重層塗布の場合には互いにケン化度が異なるポリビニルアルコールを含有することで、塗布・乾燥時の層間混合を抑制できる。
(Polyvinyl alcohol)
In the present invention, there is an optical interference layer on at least one surface of the support, and the layer included in the optical interference layer is formed by applying a coating solution containing inorganic oxide fine particles and polyvinyl alcohol. Is preferred. Further, the optical interference layer is composed of a plurality of layers adjacent to each other and having different refractive indexes, and each of the layers constituting the optical interference layer contains inorganic oxide fine particles and polyvinyl alcohol, and is adjacent to each other. It is more preferable that the contained polyvinyl alcohols have different saponification degrees. In particular, in the case of multilayer coating, the inclusion of polyvinyl alcohols having different saponification degrees suppresses interlayer mixing during coating and drying. it can.
本発明で用いられるポリビニルアルコールは、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。ポリビニルアルコールとして用いられる市販品の例としては、例えば、PVA−102、PVA−103、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−120、PVA−124、PVA−135、PVA−203、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−235、PVA−617(以上、株式会社クラレ製)、JC−25、JC−33、JF−03、JF−04、JF−05、JP−03、JP−04、JP−05、JP−45(以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製)等が挙げられる。
好ましく用いられるポリビニルアルコールには、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、変性ポリビニルアルコールも含まれる。変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。
As the polyvinyl alcohol used in the present invention, a synthetic product or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products used as polyvinyl alcohol include, for example, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-120, PVA-124, PVA-135, PVA-203, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-235, PVA-617 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), JC-25, JC-33, JF-03, JF- 04, JF-05, JP-03, JP-04, JP-05, JP-45 (manufactured by Nippon Vinegar Poval Co., Ltd.) and the like.
The polyvinyl alcohol preferably used includes modified polyvinyl alcohol in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate. Examples of the modified polyvinyl alcohol include cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonion-modified polyvinyl alcohol, and vinyl alcohol polymers.
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、重合度が1000以上のものが好ましく用いられ、特に重合度が1,500〜5,000の範囲内のものが好ましく用いられる。
又、ケン化度は、80〜100モル%の範囲内のものが好ましく、85〜99.5モル%の範囲内のものが特に好ましい。このような範囲であると水への溶解性が良く、塗布後の膜欠陥が少なくなる効果がある。
As the polyvinyl alcohol obtained by hydrolysis of vinyl acetate, those having a polymerization degree of 1000 or more are preferably used, and those having a polymerization degree in the range of 1,500 to 5,000 are particularly preferably used.
The degree of saponification is preferably in the range of 80 to 100 mol%, particularly preferably in the range of 85 to 99.5 mol%. Within such a range, the solubility in water is good and the film defects after coating are reduced.
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖又は側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%の範囲内、好ましくは0.2〜5モル%の範囲内である。
Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups in the main chain or side chain of the polyvinyl alcohol as described in JP-A-61-110483. It is obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.
Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxyethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer of the cation-modified polyvinyl alcohol is in the range of 0.1 to 10 mol%, preferably in the range of 0.2 to 5 mol%, relative to vinyl acetate.
アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号公報及び同63−307979号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体及び特開平7−285265号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。 Anion-modified polyvinyl alcohol is described in, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-206088, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples thereof include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.
又、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシ基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。又、ビニルアルコール系ポリマーとして、エクセバール(商品名:株式会社クラレ製)やニチゴーGポリマー(商品名:日本合成化学工業株式会社製)などが挙げられる。
ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違いなど2種類以上を併用することもできる。又、2種類以上する場合、別々に添加してもよい。
Nonionic modified polyvinyl alcohol includes, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group as described in JP-A-7-9758 is added to a part of vinyl alcohol, and JP-A-8-25795. Block copolymer of vinyl compound having hydrophobic group and vinyl alcohol, silanol-modified polyvinyl alcohol having silanol group, reactive group modification having reactive group such as acetoacetyl group, carbonyl group and carboxy group Polyvinyl alcohol etc. are mentioned. Examples of the vinyl alcohol-based polymer include EXEVAL (trade name: manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and Nichigo G polymer (trade name: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).
Polyvinyl alcohol can be used in combination of two or more, such as the degree of polymerization and the type of modification. When two or more types are used, they may be added separately.
ポリビニルアルコールの重量平均分子量は、1,000〜200,000以の範囲内が好ましい。更には、3,000〜40,000の範囲内がより好ましい。重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)を用いて下記測定条件下で測定することができる。 The weight average molecular weight of polyvinyl alcohol is preferably in the range of 1,000 to 200,000 or more. Furthermore, the range of 3,000 to 40,000 is more preferable. The weight average molecular weight can be measured, for example, using gel permeation chromatography (GPC) under the following measurement conditions.
本発明においては、各層が隣接する層と異なるケン化度を持つポリビニルアルコールを含有することが好ましい。一実施形態としては、ケン化度が高いポリビニルアルコールを含有する屈折率層とケン化度が低いポリビニルアルコールを含有する屈折率層とを含有するユニットが交互に積層されている形態が挙げられる。 In the present invention, each layer preferably contains polyvinyl alcohol having a saponification degree different from that of the adjacent layer. As one embodiment, a form in which units containing a refractive index layer containing polyvinyl alcohol having a high degree of saponification and a refractive index layer containing polyvinyl alcohol having a low degree of saponification are alternately laminated can be mentioned.
本発明においては、隣接する2層に含有されるポリビニルアルコールのケン化度の絶対値の差は、反射防止膜の反射防止性能の観点から、2モル%以上が望ましく、より望ましくは5モル%以上である。
光学干渉層を構成する少なくとも1層において、隣接する層に含まれるポリビニルアルコールとのケン化度の差が上記好適な範囲であれば、反射防止性能は向上するが、より好適には、反射防止膜を構成する全ての層が、隣接する層に含まれるポリビニルアルコールとのケン化度の差が上記好適な範囲であることが好ましい。隣接する2層に含まれるポリビニルアルコールのケン化度の差は離れていれば離れているほど好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の点からは20モル%以下であることが好ましい。
本発明においては、各層がケン化度の異なるポリビニルアルコールを複数含有していてもよいが、この場合、上記ケン化度の差は、得られた各屈折率層のポリビニルアルコール(PVA)のケン化度をジメチルスルホキシド−d6(DMSO−d6)に溶解してNMRにより測定し、両者の差分を求めることにより算出することができる。
各層に含まれるポリビニルアルコールの含有量は、各層の全質量(固形分)に対して、20〜80質量%の範囲内であることが好ましく、25〜75質量%の範囲内であることがより好ましい。
In the present invention, the difference in the absolute value of the saponification degree of polyvinyl alcohol contained in two adjacent layers is preferably 2 mol% or more, more preferably 5 mol% from the viewpoint of the antireflection performance of the antireflection film. That's it.
If at least one layer constituting the optical interference layer has a difference in the degree of saponification from the polyvinyl alcohol contained in the adjacent layer within the above preferable range, the antireflection performance is improved, but more preferably, the antireflection is achieved. It is preferable that the difference in the saponification degree of all the layers constituting the film with the polyvinyl alcohol contained in the adjacent layer is within the above-mentioned preferable range. The difference in the degree of saponification of the polyvinyl alcohol contained in the two adjacent layers is preferably as far as they are apart, but it is preferably 20 mol% or less from the viewpoint of the solubility of polyvinyl alcohol in water.
In the present invention, each layer may contain a plurality of polyvinyl alcohols having different saponification degrees. In this case, the difference in the saponification degree is determined by the saponification of polyvinyl alcohol (PVA) of each obtained refractive index layer. The degree of conversion can be calculated by dissolving in dimethyl sulfoxide-d6 (DMSO-d6), measuring by NMR, and determining the difference between the two.
The content of polyvinyl alcohol contained in each layer is preferably in the range of 20 to 80% by mass and more preferably in the range of 25 to 75% by mass with respect to the total mass (solid content) of each layer. preferable.
(無機酸化物粒子)
無機酸化物粒子としては、Li、Na、Mg、Al、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Rb、Sr、Y、Nb、Zr、Mo、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、La、Ta、Hf、W、Ir、Tl、Pb、Bi及び希土類金属、ならびにケイ素(Si)からなる群より選ばれる1種又は2種以上の無機酸化物を用いることができる。
(Inorganic oxide particles)
Inorganic oxide particles include Li, Na, Mg, Al, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Rb, Sr, Y, Nb, Zr, and Mo. 1 or 2 selected from the group consisting of Ag, Cd, In, Sn, Sb, Cs, Ba, La, Ta, Hf, W, Ir, Tl, Pb, Bi and rare earth metals, and silicon (Si) The above inorganic oxides can be used.
無機酸化物粒子は、平均粒径が好ましい順に100nm以下、4〜50nmの範囲内であることがより好ましく、更に好ましくは4〜30nmの範囲内である。
ここで、平均粒径は、一次平均粒径を指す。無機酸化物粒子の平均粒径は、無機酸化物粒子が被覆処理されている場合(例えば、シリカ付着酸化チタン等)、無機酸化物粒子の平均粒径とは母体(シリカ付着酸化チタンの場合は、処理前の酸化チタン)の平均粒径を指すものとする。
The inorganic oxide particles preferably have an average particle size in the order of 100 nm or less, preferably in the range of 4 to 50 nm, and more preferably in the range of 4 to 30 nm.
Here, the average particle diameter refers to the primary average particle diameter. The average particle diameter of the inorganic oxide particles is when the inorganic oxide particles are coated (for example, silica-attached titanium oxide), and the average particle diameter of the inorganic oxide particles is the base (in the case of silica-attached titanium oxide) , Titanium oxide before treatment).
低屈折率層用塗布液においては、無機酸化物粒子として酸化ケイ素(シリカ、SiO2)を用いることが好ましい。
ここで、酸化ケイ素としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。なお、コロイダルシリカは、ケイ酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られうる。かようなコロイダルシリカは、例えば、特開昭57−14091号公報、特開昭60−219083号公報、特開昭60−219084号公報、特開昭61−20792号公報、特開昭61−188183号公報、特開昭63−17807号公報、特開平4−93284号公報、特開平5−278324号公報、特開平6−92011号公報、特開平6−183134号公報、特開平6−297830号公報、特開平7−81214号公報、特開平7−101142号公報、特開平7−179029号公報、特開平7−137431号公報、及び国際公開第94/26530号パンフレット等に記載されている。又、このような酸化ケイ素(SiO2)は市販もされている。市販のコロイダルシリカとしては、例えば、スノーテックス(登録商標)OXS(日産化学工業株式会社製)等が挙げられる。
In the coating solution for the low refractive index layer, it is preferable to use silicon oxide (silica, SiO 2 ) as the inorganic oxide particles.
Here, examples of the silicon oxide include synthetic amorphous silica and colloidal silica. Colloidal silica can be obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis using an acid of sodium silicate or the like and passing through an ion exchange resin layer. Such colloidal silicas are disclosed in, for example, JP-A-57-14091, JP-A-60-219083, JP-A-60-219084, JP-A-61-20792, JP-A-61- No. 188183, JP-A-63-17807, JP-A-4-93284, JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830 No. 7, JP-A-7-81214, JP-A-7-101142, JP-A-7-179029, JP-A-7-137431, and International Publication No. 94/26530. . Such silicon oxide (SiO 2 ) is also commercially available. Examples of commercially available colloidal silica include Snowtex (registered trademark) OXS (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).
高屈折率層用塗布液に含有される無機酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛、これら酸化物より構成される複酸化物であるニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、タンタル酸リチウム、アルミニウム・マグネシウム酸化物(MgAl2O4)等の粒子及び複合粒子が挙げられる。透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、チタン、ジルコニア等の高屈折率無機酸化物微粒子、すなわち、酸化チタン微粒子、酸化ジルコニア微粒子であることが好ましく、ルチル型(正方晶形)二酸化チタン粒子であることがより好ましい。
又、酸化チタン粒子としては、水系の酸化チタンゾルの表面を変性して分散状態を安定にしたもの、国際公開第2013−054912号に記載のように、酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆したもの、公知の方法で製造されたコアシェル粒子を用いてもよい。酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆したものとしては、例えば、ルチル型二酸化チタン粒子の表面にSiO2を付着させたシリカ付着二酸化チタンゾル等が挙げられる。
Examples of the inorganic oxide contained in the coating solution for the high refractive index layer include titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide (alumina), zirconium oxide, hafnium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, magnesium oxide, barium oxide, and oxide. Particles and composite particles of indium, tin oxide, lead oxide, lithium niobate, potassium niobate, lithium tantalate, aluminum / magnesium oxide (MgAl 2 O 4 ), etc., which are complex oxides composed of these oxides Can be mentioned. In order to form a transparent and higher refractive index layer having a higher refractive index, it is preferably a high refractive index inorganic oxide fine particle such as titanium or zirconia, that is, a titanium oxide fine particle or a zirconia oxide fine particle. ) Titanium dioxide particles are more preferred.
Further, as the titanium oxide particles, those obtained by modifying the surface of an aqueous titanium oxide sol to stabilize the dispersion state, as described in International Publication No. 2013-054912, the titanium oxide particles are hydrated oxides containing silicon. The core-shell particles manufactured by a known method may be used. Examples of the titanium oxide particles coated with a silicon-containing hydrated oxide include silica-attached titanium dioxide sol in which SiO 2 is attached to the surface of rutile-type titanium dioxide particles.
なお、塗布液における無機酸化物粒子の濃度にも制限はないが、固形分換算で、1〜15質量%の範囲内であることが好ましく、2〜10質量%の範囲内であることがより好ましい。
無機酸化物粒子の含有量が1質量%以上であると、所望の屈折率が得られることから好ましい。又、無機酸化物粒子の含有量が15質量%以下であると、膜の柔軟性を得ることができ、製膜が容易となることから好ましい。
又、光学干渉層中の無機酸化物粒子の含有量は、光学干渉層全体に対して、20〜90質量%の範囲内であることが好ましく、35〜80質量%の範囲内であることがより好ましい。無機酸化物粒子の含有量が上記範囲にあると、光学フィルムの光反射効率が向上することから好ましい。
The concentration of the inorganic oxide particles in the coating solution is not limited, but is preferably in the range of 1 to 15% by mass, more preferably in the range of 2 to 10% by mass in terms of solid content. preferable.
A content of inorganic oxide particles of 1% by mass or more is preferable because a desired refractive index can be obtained. Moreover, it is preferable that the content of the inorganic oxide particles is 15% by mass or less because flexibility of the film can be obtained and film formation becomes easy.
The content of the inorganic oxide particles in the optical interference layer is preferably in the range of 20 to 90% by mass and preferably in the range of 35 to 80% by mass with respect to the entire optical interference layer. More preferred. When the content of the inorganic oxide particles is in the above range, it is preferable because the light reflection efficiency of the optical film is improved.
(その他の添加剤)
その他の添加剤としては、例えば、特開昭57−74193号公報、特開昭57−87988号公報、及び特開昭62−261476号公報等に記載の紫外線吸収剤、アニオン、カチオン、又はノニオンの各種界面活性剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、酸化防止剤、難燃剤、赤外線吸収剤、色素、顔料、エマルジョン樹脂、粘度調整剤、チキソトロピー性付与剤等の公知の各種添加剤などが挙げられる。又、これらの添加量も当業者であれば適宜決定でき、混合も従来公知の知見を参照し、あるいは組み合せることによって行うことができる。
ここで、クエン酸はpH調整剤として機能する。なお、塗布液中のクエン酸の濃度は、固形分換算で、0.01〜2質量%の範囲内であることが好ましい。クエン酸が上記範囲にあると、高分子と金属酸化物の液中での安定性が確保され凝集が抑制される観点から好ましい。
(Other additives)
Examples of other additives include ultraviolet absorbers, anions, cations, and nonions described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, JP-A-62-261476, and the like. Various surfactants, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate and other pH adjusters, antifoaming agents, diethylene glycol and other lubricants, antiseptics, antifungal agents, electrification Examples include various known additives such as an inhibitor, a matting agent, an antioxidant, a flame retardant, an infrared absorber, a dye, a pigment, an emulsion resin, a viscosity modifier, and a thixotropic agent. Further, those addition amounts can be appropriately determined by those skilled in the art, and mixing can also be performed by referring to or combining conventionally known knowledge.
Here, citric acid functions as a pH adjuster. In addition, it is preferable that the density | concentration of the citric acid in a coating liquid exists in the range of 0.01-2 mass% in conversion of solid content. When the citric acid is within the above range, it is preferable from the viewpoint of ensuring stability in the liquid of the polymer and the metal oxide and suppressing aggregation.
(溶媒)
溶媒としては、特に制限されないが、水、有機溶媒、又はその混合溶媒等が挙げられる。
前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類;ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類;アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でも又は2種以上を混合して用いてもよい。
環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水、又は水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒を用いることが好ましく、水を用いることがより好ましい。
(solvent)
Although it does not restrict | limit especially as a solvent, Water, an organic solvent, or its mixed solvent etc. are mentioned.
Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, and 1-butanol; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate; diethyl ether; Examples thereof include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in admixture of two or more.
From the viewpoint of environment and simplicity of operation, the solvent of the coating solution is preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate, and more preferably water.
<塗布方法>
光学干渉層を形成する塗布液の塗布方法は、特に制限されず、同時重層塗布方式であれば、例えば、米国特許第2,761,419号明細書、同第2,761,791号明細書等に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。
同時重層塗布を行う場合の塗布及び乾燥方法は、各光学干渉層を形成する塗布液を30〜60℃に加温して、基材上に各光学干渉層を形成する塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは1〜15℃にいったん冷却し(セット)、その後10℃以上で乾燥する方法であることが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度5〜50℃、膜面温度10〜50℃の範囲の条件である。例えば、80℃の温風を1〜5秒吹き付けて乾燥する。又、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
<Application method>
The coating method of the coating solution for forming the optical interference layer is not particularly limited, and, for example, US Pat. Nos. 2,761,419 and 2,761,791 as long as the simultaneous multilayer coating method is used. The slide bead coating method using the hopper described in the above, the extrusion coating method and the like are preferably used.
The coating and drying methods for simultaneous multilayer coating are as follows. The coating liquid for forming each optical interference layer is heated to 30 to 60 ° C., and the simultaneous multilayer coating of the coating liquid for forming each optical interference layer on the substrate is performed. The temperature of the formed coating film is preferably once cooled (set) to 1 to 15 ° C. and then dried at 10 ° C. or higher. More preferable drying conditions are a wet bulb temperature of 5 to 50 ° C. and a film surface temperature of 10 to 50 ° C. For example, it is dried by blowing warm air of 80 ° C. for 1 to 5 seconds. Further, as a cooling method immediately after coating, it is preferable to carry out a horizontal setting method from the viewpoint of improving the uniformity of the formed coating film.
本形態の一実施態様の製造方法において、塗布速度は10m/min以上であり、好ましくは30m/min以上である。本発明の製造方法によれば、このような速い速度であっても、膜厚の均一性が向上し、干渉ムラが低減された多層積層膜を得ることができる。
各光学干渉層は、好ましい乾燥時の厚さとなるように塗布すればよい。
乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。又、単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥が好ましく、恒率乾燥部の温度<減率乾燥部の温度にすることがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は30〜60℃の範囲内にすることが好ましく、減率乾燥部の温度範囲は50〜100℃の範囲内にすることが好ましい。
In the manufacturing method according to an embodiment of the present embodiment, the coating speed is 10 m / min or more, preferably 30 m / min or more. According to the manufacturing method of the present invention, even at such a high speed, it is possible to obtain a multilayer laminated film with improved uniformity of film thickness and reduced interference unevenness.
Each optical interference layer may be applied so as to have a preferable dry thickness.
As a drying method, warm air drying, infrared drying, and microwave drying are used. Also, drying in a multi-stage process is preferable to drying in a single process, and it is more preferable to set the temperature of the constant rate drying section <the temperature of the decreasing rate drying section. In this case, the temperature range of the constant rate drying section is preferably in the range of 30 to 60 ° C., and the temperature range of the decreasing rate drying section is preferably in the range of 50 to 100 ° C.
ここで、前記セットとは、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗膜組成物の粘度を高め、各層間及び各層内の物質の流動性を低下させたり、又は、ゲル化させたりする工程のことを意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。
塗布した時点から、冷風を当ててセットが完了するまでの時間(セット時間)は、5分以内であることが好ましく、2分以内であることがより好ましい。又、下限の時間は特に制限されないが、10秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間が短すぎると、層中の成分の混合が不十分となる虞がある。一方、セット時間が長すぎると、層形成成分の層間拡散が進み、各光学干渉性層の機能発現性が不十分となる虞がある。例えば、光学干渉層が高屈折率層と低屈折率層で交互に積層されている構造を有する場合は、その屈折率差が不十分となる虞がある。
Here, the set is to increase the viscosity of the coating composition by means of lowering the temperature by applying cold air or the like to the coating film, or reducing the fluidity of the substances in each layer and in each layer, or It means the process of gelling. A state in which the cold air is applied to the coating film from the surface and the finger is pressed against the surface of the coating film is defined as a set completion state.
The time (setting time) from the time of application to the completion of setting by applying cold air is preferably within 5 minutes, and more preferably within 2 minutes. The lower limit time is not particularly limited, but it is preferable to take a time of 10 seconds or more. If the set time is too short, mixing of the components in the layer may be insufficient. On the other hand, if the set time is too long, the interlayer diffusion of the layer forming component proceeds, and there is a possibility that the function manifestation of each optical interference layer becomes insufficient. For example, when the optical interference layer has a structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately stacked, the refractive index difference may be insufficient.
<基材>
光学フィルムに適用する基材としては、透明であれば特に制限されることはなく、公知の樹脂フィルムを用いることができる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート(以下、PETともいう)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(以下、PENともいう)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリエーテルイミド等の樹脂フィルムが挙げられる。これらのうち、コストや入手の容易性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルムを用いることが好ましい。
又、上記樹脂フィルムを用いた基材は、未延伸フィルムであっても、延伸フィルムであってもよいが、PETやPENのような結晶性を有する樹脂フィルムの場合には、強度の向上、熱膨張抑制の観点から延伸後、熱固定化されるフィルムであることが好ましい。
基材の厚さは、5〜300μmの範囲内であることが好ましく、15〜150μmの範囲内であることがより好ましい。又、基材は、2枚以上を重ねたものであってもよく、この際、基材の種類は同じであっても、異なっていてもよい。
<Base material>
The base material applied to the optical film is not particularly limited as long as it is transparent, and a known resin film can be used. Specifically, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyarylate, polymethyl methacrylate, polyamide, polycarbonate, polyethylene terephthalate (hereinafter also referred to as PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate (hereinafter also referred to as PEN), polysulfone, Examples of the resin film include polyethersulfone, polyetheretherketone, polyimide, aromatic polyamide, and polyetherimide. Among these, it is preferable to use resin films such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polycarbonate from the viewpoint of cost and availability.
Further, the substrate using the resin film may be an unstretched film or a stretched film, but in the case of a resin film having crystallinity such as PET or PEN, the strength is improved. From the viewpoint of suppressing thermal expansion, a film that is heat-set after stretching is preferred.
The thickness of the substrate is preferably in the range of 5 to 300 μm, and more preferably in the range of 15 to 150 μm. In addition, the base material may be a laminate of two or more, and in this case, the type of the base material may be the same or different.
前記基材は、製膜過程で片面又は両面に、下引層を設けてもよい。
当該下引層は、インラインで又は製膜後に形成されうる。下引層の形成方法としては、例えば、下引層塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥する方法が挙げられる。下引層は、公知のものを用いることができ、単層構造であっても、積層構造であってもよい。
The base material may be provided with an undercoat layer on one side or both sides in the film forming process.
The undercoat layer can be formed in-line or after film formation. Examples of the method for forming the undercoat layer include a method of applying an undercoat layer coating solution and drying the obtained coating film. As the undercoat layer, a known layer can be used, and it may have a single layer structure or a laminated structure.
基材は、更に導電性層、帯電防止層、ガスバリアー層、易接着層(接着層)、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、粘着層、中間膜層等の公知の干渉層を有していてもよい。これらが両面に形成されていてもよい。
基材が、上述の下引層や干渉層等の中間層を有する場合には、基材及び中間層の総膜厚は、5〜500μmの範囲内であることが好ましく、25〜250μmの範囲内であることがより好ましい。
Substrate is further conductive layer, antistatic layer, gas barrier layer, easy adhesion layer (adhesion layer), antifouling layer, deodorant layer, flow drop layer, easy slip layer, hard coat layer, wear resistant layer, You may have well-known interference layers, such as an adhesion layer and an intermediate film layer. These may be formed on both sides.
When the base material has an intermediate layer such as the undercoat layer or the interference layer, the total film thickness of the base material and the intermediate layer is preferably in the range of 5 to 500 μm, and in the range of 25 to 250 μm. More preferably, it is within.
<光学フィルム製造システム>
次いで、本発明の一実施態様である製造方法に用いられる好適な製造システムの例について説明する。
図1は、本発明の一実施態様である光学フィルム製造システムの例を示す概略構成図である。
図1に示す光学フィルム製造システム100は、複数の装置を接続して構成されており、各装置により実現する複数の工程を通じて光学フィルムを製造する。図1に示す例では、光学フィルム製造システム100は、大きく分けて、調製工程、循環工程及び塗布工程を有する。
<Optical film manufacturing system>
Next, an example of a suitable manufacturing system used in the manufacturing method according to an embodiment of the present invention will be described.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating an example of an optical film manufacturing system according to an embodiment of the present invention.
An optical
(低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液の調製及び配管充填)
調製釜101は、低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液、及び塗布液を調製するための容器である。低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液の調製方法は、特に制限されず、低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを溶媒に添加し、撹拌混合する方法である。
調製釜101で調製された充填液を、図1の調製釜から送液装置102、105、及び109を用いて、循環経路R1及び供給経路L1を含め、塗布装置110までの配管に充填液を充填するのが好ましい。ここで、本件において充填液は、装置間の配管だけではなく、装置内に充填されてもよい。
(Preparation of filling liquid containing polyvinyl alcohol with low saponification degree and low polymerization degree and filling of pipes)
The
The filling liquid prepared in the
(低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液の排出と塗布液の送液)
前述の配管に充填された充填液は、以下で述べる調製釜101で調製された塗布液を配管内に導入する時に、充填液が配管内から外部に排出されるとともに、塗布液が次工程へ送液される。
本願において、「充填液を配管内から外部に排出するとともに、塗布液を配管内に送液する」とは、充填液の排出完了後に塗布液を送液する(順次)場合と、充填液を排出すると同時に塗布液を送液する場合の両方を含むものとする。特に、充填液を排出すると同時に塗布液を送液することが、泡巻き込みを防止する点からも好ましい。
(Discharge of filling liquid containing polyvinyl alcohol with low saponification degree and low polymerization degree and feeding of coating liquid)
The filling liquid filled in the pipe is discharged from the pipe to the outside when the coating liquid prepared in the
In the present application, “to discharge the filling liquid from the inside of the pipe and send the coating liquid into the pipe” means that the coating liquid is sent (sequentially) after the filling liquid is completely discharged; Both the case where the coating liquid is fed simultaneously with the discharge are included. In particular, it is preferable to discharge the filling liquid and simultaneously feed the coating liquid from the viewpoint of preventing entrainment of bubbles.
(塗布液の調製工程)
塗布液の調製方法は、特に制限されず、光学干渉層を形成する成分、例えば、ポリビニルアルコール、金属酸化物粒子等を溶媒に添加し、撹拌混合する方法である。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。これらの塗布液の調製方法は、塗布液ごとに適宜決められる。
調製釜101は、循環工程に含まれる貯蔵釜104に塗布液を供給するために、貯蔵釜
104に接続されている。
送液装置102は、調製釜101から塗布液を送液する経路に設けられている。送液装置102は、例えば、ポンプであり、調製された塗布液の送液、送液の停止を制御可能である。送液装置102は、塗布液を送液させる際には、塗布液の流量や速度を適宜設定可能である。送液装置102は、例えば充填液の排出と同時に塗布液を送液する。
濾過装置103は、調製釜101から塗布液を送液する経路に設けられている。濾過装置103は、塗布液に混ざった異物や、塗布液中に発生した気泡や凝集による異物を除去する。異物が除去された塗布液は、循環工程に送られる。
(Preparation process of coating solution)
The method for preparing the coating solution is not particularly limited, and is a method in which a component that forms an optical interference layer, for example, polyvinyl alcohol, metal oxide particles, and the like are added to a solvent and mixed by stirring. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed at one time while stirring. The method for preparing these coating solutions is appropriately determined for each coating solution.
The
The
The
(循環工程)
光学フィルム製造システム100は、循環工程(塗布液循環システム)において、調製された塗布液の凝集防止のため循環させる。循環工程は、貯蔵釜104、送液装置105、分散装置106、脱泡装置107、濾過装置108及び循環経路R1を含む。
貯蔵釜104は、連続的に塗布液を供給できるように、塗布液を貯蔵する。貯蔵釜104は、貯蔵釜104の内部においても塗布液を循環させるための撹拌装置を備えていることが好ましい。これにより、貯蔵釜104内の塗布液の物性を均一にできる。貯蔵釜104には、充填液を排出すると同時に塗布液を貯蔵釜104から送液させ、塗布液を再び貯蔵釜104に戻すための循環経路R1が接続されている。又、貯蔵釜104には、塗布液を供給工程及び塗布工程に送るための供給経路も接続されている。
(Circulation process)
The optical
The
送液装置105は、循環経路R1上に設けられている。送液装置105は、例えば、ポンプであり、貯蔵釜104に貯蔵されている塗布液の送液、送液の停止を制御可能である。送液装置105は、塗布液を送液させる際には、塗布液の流量や速度を適宜設定可能である。
分散装置106は、循環経路R1上に設けられている。分散装置106は、塗布液に分散処理、好適にはせん断力による分散処理を施す。分散装置106としては、乳化分散機、圧力式ホモジナイザー、高速回転せん断型ホモジナイザー等が用いることができる。乳化分散機としては、例えば、エバラマイルダー(株式会社荏原製作所製)、マイルダー(大平洋機工株式会社製)等を用いることができる。圧力式ホモジナイザーとしては、例えば、圧力式ホモジナイザーLAB1000(株式会社エスエムテー製)等を用いることができる。
脱泡装置107は、塗布液中に含まれる気泡や塗布液内に溶け込んでいる溶存空気を除去する。脱泡の原理は例えば、遠心力により気泡と液体を分離して、気泡を真空引きにより排出するものや、超音波を利用するものが考えられる。ただし、脱泡できれば、脱泡装置107は、他のいかなる原理を利用する装置であってもよい。
濾過装置108は、塗布液に混ざった異物や、塗布液中に発生した気泡や凝集による異物を除去する。異物が除去された塗布液は、循環経路R1を通じて貯蔵釜104に戻る。
The
The
The
The
以上のように、循環工程において、塗布液は、貯蔵釜104から循環経路R1に送液し、分散装置106、脱泡装置107及び濾過装置108による処理を施された後、貯蔵釜104に戻る。貯蔵釜104に戻った塗布液は、貯蔵釜104内で撹拌されつつ移動した後、再び循環経路R1に送液し、上記の処理が繰り返し行われてもよい。
循環工程における分散装置106、脱泡装置107及び濾過装置108の処理強度は、光学フィルムの用途や使用する塗布液の性質等の条件に応じて、塗布液の物性が適正な範囲内に保たれるように適宜設定できる。
貯蔵釜104に収容されている塗布液は、貯蔵釜104に接続された供給経路L1の充填液を排出させるとともに、塗布液を送液させ塗布工程に送液される。
As described above, in the circulation step, the coating liquid is sent from the
The processing strength of the
The coating liquid stored in the
なお、図1では、循環経路R1上に、分散装置106、脱泡装置107及び濾過装置108の順に装置が並んでいる。しかし、これらの装置の順序は、適宜変更可能である。又、複数の上記装置の機能を統合した1つの装置が循環工程に提供されてもよい。例えば、分散装置106及び脱泡装置107の機能が統合した分散脱泡装置が循環工程に提供されてもよい。又、循環工程には、上記以外の装置が設けられていてもよく、又、上記装置のいずれかが設けられていなくてもよい。
循環工程の繰り返しは、繰り返し数の上限は特に限定されるものではないが、効果の飽和と生産性を考慮すると、4回以下であることが好ましい。循環工程における塗布液の流速は、液貯蔵量の観点から、5L/min以上であることが好ましい。
In FIG. 1, the devices are arranged in the order of the dispersing
The upper limit of the number of repetitions of the circulation process is not particularly limited, but it is preferably 4 times or less in consideration of saturation of the effect and productivity. The flow rate of the coating liquid in the circulation step is preferably 5 L / min or more from the viewpoint of the liquid storage amount.
(塗布工程)
次いで、調製及び循環された塗布液を、貯蔵釜104に接続された供給経路L1へ、例えば、充填液を排出すると同時に塗布液を送液し、塗布装置110へと供給する。
送液装置109は、循環工程の貯蔵釜104から送液させた塗布液を、供給経路L1に設けられる各装置に送る。送液装置109は、例えば、ポンプであり、調製された塗布液の送液、送液の停止を制御可能である。送液装置109は、塗布液を送液させる際には、塗布液の流量や速度を適宜設定可能である。
光学フィルム製造システム100は、塗布工程において、基材に、塗布液を塗布し、高分子膜を生成する。塗布工程は、塗布装置110、セット装置111及び乾燥装置112を含む。
塗布装置110は、基材に、塗布液を塗布する。塗布液を複数層に重ねて基材に塗布(いわゆる重層塗布)する場合、少なくとも隣り合って重ねられる塗布液は、異なる配分や材料によって調製されている。したがって、図1では、1つの調製釜101を示しているが、実際は、複数の調製釜が用意され、別個の調製工程及び供給工程を経て、複数種類の塗布液が塗布装置110に供給される。
塗布工程においては、連続的に搬送される基材上に塗布液を塗布することが好ましい。
(Coating process)
Next, the prepared and circulated coating liquid is supplied to the supply path L <b> 1 connected to the
The
In the coating process, the optical
The
In the coating step, it is preferable to apply the coating liquid onto the substrate that is continuously conveyed.
又、本発明の一実施態様において、循環工程は、光学フィルム製造システム100の中に一つ設けられるものとして説明したが、これに限定されない。循環工程は、光学フィルム製造システム100の中に複数設けられてもよい。
なお、光学フィルム製造システム100においては、循環経路R1と供給経路L1とは、循環工程の貯蔵釜104にそれぞれ別々の経路として接続され、それぞれの経路に送液装置、分散装置等が設けられている。しかし、循環経路R1と供給経路L1とは、経路や装置の一部を共用し、片方の経路における設備が省略されてもよい。すなわち、供給経路L1が循環経路R1の途中に接続されており、供給経路L1上の経路や装置の一部が省略されたものであってもよい。
In the embodiment of the present invention, the circulation process is described as being provided in the optical
In the optical
<光学フィルム>
本発明で製造することができる光学フィルムの構造は、基材上に光学干渉層が少なくとも1層以上形成された構造であれば、特に限定されない。
本発明の好ましい一形態は、光学フィルムの各光学機能層が、高屈折率層及び低屈折率層を含み、高屈折率層及び低屈折率層が交互に積層されてなる構造を有する、光学フィルムの製造方法である。なお、本明細書中、他方に対して屈折率の高い屈折率層を高屈折率層と、他方に対して屈折率の低い屈折率層を低屈折率層と称する。
上記構成を有する光学フィルムとしては、例えば光学反射フィルムが挙げられる。
本発明の好ましい一形態は、光学フィルムが、光学反射フィルムである光学反射フィルムの製造方法である。
<Optical film>
The structure of the optical film that can be produced in the present invention is not particularly limited as long as at least one optical interference layer is formed on the substrate.
In a preferred embodiment of the present invention, each optical functional layer of the optical film includes a high refractive index layer and a low refractive index layer, and has an optical structure in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are alternately laminated. It is a manufacturing method of a film. In the present specification, a refractive index layer having a higher refractive index than the other is referred to as a high refractive index layer, and a refractive index layer having a lower refractive index than the other is referred to as a low refractive index layer.
As an optical film which has the said structure, an optical reflection film is mentioned, for example.
One preferable embodiment of the present invention is a method for producing an optical reflective film, wherein the optical film is an optical reflective film.
又、本発明の好ましい一形態は、光学反射フィルムが、赤外線遮蔽フィルムである光学反射フィルムの製造方法である。
光学反射フィルムは、このような構成を有し、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚(膜厚×屈折率)を適宜制御することで、特定波長の光線を反射することができる。これにより、光学反射フィルムは、例えば、波長200〜400nmの範囲内の光線(紫外線)を反射する場合には紫外線遮蔽フィルムとなり、波長400〜700nmの範囲内の光線(可視光)を反射する場合には可視光着色フィルムとなり、波長700〜1200nmの範囲内の光線(赤外線)を反射する場合には赤外線遮蔽フィルムとなりうる。その他、積層体の光学膜厚等を適宜設計することで、反射する光線の波長及び反射率を制御し、金属光沢調フィルムとすることもできる。これらのうち、光学反射フィルムが遮蔽しうる光線は、波長200nm〜1000μmの範囲内の紫外線〜赤外線領域の光線であることが好ましく、250〜2500nmの範囲内の波長を有する光線であることがより好ましく、波長700〜1200nmの範囲内の近赤外線領域の光線であることがより好ましい。
一般に、光学反射フィルムにおいては、低屈折率層と高屈折率層との屈折率の差を大きくする設計にすることが、少ない層数で所望の波長領域の反射率を高くすることができるという観点から好ましい。
Moreover, the preferable one form of this invention is a manufacturing method of the optical reflection film whose optical reflection film is an infrared shielding film.
The optical reflection film has such a configuration, and can appropriately reflect light having a specific wavelength by appropriately controlling the optical film thickness (film thickness × refractive index) of the high refractive index layer and the low refractive index layer. . Thereby, for example, when the optical reflection film reflects light rays (ultraviolet rays) within a wavelength range of 200 to 400 nm, the optical reflection film becomes an ultraviolet shielding film and reflects light rays (visible light) within a wavelength range of 400 to 700 nm. It becomes a visible light colored film, and when it reflects light rays (infrared rays) within a wavelength range of 700 to 1200 nm, it can be an infrared shielding film. In addition, by appropriately designing the optical film thickness and the like of the laminate, the wavelength and reflectance of the reflected light beam can be controlled to obtain a metallic glossy film. Among these, the light ray that can be shielded by the optical reflection film is preferably a light ray in the ultraviolet to infrared region within the wavelength range of 200 nm to 1000 μm, and more preferably a light ray having a wavelength in the range of 250 to 2500 nm. Preferably, it is a light ray in the near infrared region within a wavelength range of 700 to 1200 nm.
In general, in an optical reflection film, a design that increases the difference in refractive index between a low refractive index layer and a high refractive index layer can increase the reflectance in a desired wavelength region with a small number of layers. It is preferable from the viewpoint.
本発明に係る光学反射フィルムでは、低屈折率層及び高屈折率層から構成されるユニットの少なくとも1つにおいて、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が0.1以上であることが好ましく、より好ましくは0.3以上であり、更に好ましくは0.35以上であり、特に好ましくは0.4以上である。光学反射フィルムが高屈折率層及び低屈折率層のユニットを複数有する場合には、全てのユニットにおける高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。
上述のように、高屈折率層であるか低屈折率層であるかは隣接する屈折率層との関係で定まる相対的なものであるが、高屈折率層の屈折率(nH)は1.60〜2.50であることが好ましく、1.70〜2.50であることがより好ましく、1.80〜2.20であることが更に好ましく、1.90〜2.20であることが特に好ましい。一方、低屈折率層の屈折率(nL)は、1.10〜1.60であることが好ましく、1.30〜1.55であることがより好ましく、1.30〜1.50であることが更に好ましい。
In the optical reflective film according to the present invention, in at least one of the units composed of the low refractive index layer and the high refractive index layer, the refractive index difference between the adjacent low refractive index layer and the high refractive index layer is 0.1 or more. More preferably, it is 0.3 or more, More preferably, it is 0.35 or more, Especially preferably, it is 0.4 or more. When the optical reflective film has a plurality of units of the high refractive index layer and the low refractive index layer, the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer in all the units may be within the preferred range. preferable. However, regarding the outermost layer and the lowermost layer, a configuration outside the above preferred range may be used.
As described above, whether the layer is a high refractive index layer or a low refractive index layer is a relative one determined by the relationship with the adjacent refractive index layer, but the refractive index (nH) of the high refractive index layer is 1. It is preferably .60 to 2.50, more preferably 1.70 to 2.50, further preferably 1.80 to 2.20, and 1.90 to 2.20. Is particularly preferred. On the other hand, the refractive index (nL) of the low refractive index layer is preferably 1.10 to 1.60, more preferably 1.30 to 1.55, and 1.30 to 1.50. More preferably.
本発明において、高屈折率層及び低屈折率層の屈折率は、例えば、下記の方法に従って求めることができる。
基材上に屈折率を測定する各屈折率層を単層で塗設したサンプルを作製し、このサンプルを10cm×10cmに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、U−4000型(株式会社日立製作所製)を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400〜700nmの範囲内)の反射率を25点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。
特定波長領域の反射率は、隣接する2層の屈折率差と積層数で決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、光学反射フィルムが赤外線遮蔽フィルムである場合は、赤外反射率90%以上を得るためには、屈折率差が0.1より小さいと、100層を超える積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、又、故障なく製造することも非常に困難になる。反射率の向上と層数を少なくするという観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には1.4程度が限界である。
In the present invention, the refractive indexes of the high refractive index layer and the low refractive index layer can be determined, for example, according to the following method.
A sample in which each refractive index layer for measuring a refractive index is coated as a single layer on a substrate is prepared, and the sample is cut into 10 cm × 10 cm, and then the refractive index is obtained according to the following method. Using a U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.) as a spectrophotometer, after roughening the back side on the measurement side of each sample, light absorption treatment is performed with a black spray to reduce the light on the back side. The reflection is prevented, the reflectance in the visible light region (in the range of 400 to 700 nm) is measured at 25 points under the condition of regular reflection at 5 degrees, the average value is obtained, and the average refractive index is obtained from the measurement result.
The reflectance in the specific wavelength region is determined by the difference in refractive index between two adjacent layers and the number of stacked layers, and the larger the difference in refractive index, the same reflectance can be obtained with a smaller number of layers. The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. For example, when the optical reflection film is an infrared shielding film, in order to obtain an infrared reflectance of 90% or more, if the refractive index difference is smaller than 0.1, it is necessary to laminate more than 100 layers, resulting in productivity. Not only decreases, but also scattering at the laminated interface increases, transparency decreases, and it becomes very difficult to manufacture without failure. From the standpoint of improving reflectivity and reducing the number of layers, there is no upper limit to the difference in refractive index, but practically about 1.4 is the limit.
本発明に係る光学反射フィルムの好ましい高屈折率層及び低屈折率層の層数としては、上記の観点から、総層数の範囲としては、100層以下、すなわち50ユニット以下であり、より好ましくは40層(20ユニット)以下であり、更に好ましくは30層(15ユニット)以下である。又、本発明の光学反射フィルムは、上記ユニットを少なくとも1つ積層した構成であればよく、例えば、積層膜の最表層や最下層のどちらも高屈折率層又は低屈折率層となる積層膜であってもよい。本発明に係る光学反射フィルムとしては、基材に隣接する最下層が低屈折率層で、最表層も低屈折率層である層構成が好ましい。 From the above viewpoint, the number of layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer of the optical reflective film according to the present invention is preferably 100 or less, that is, 50 units or less, more preferably. Is 40 layers (20 units) or less, more preferably 30 layers (15 units) or less. In addition, the optical reflective film of the present invention may have a configuration in which at least one of the above units is laminated, for example, a laminated film in which both the outermost layer and the lowermost layer of the laminated film are high refractive index layers or low refractive index layers. It may be. The optical reflective film according to the present invention preferably has a layer structure in which the lowermost layer adjacent to the substrate is a low refractive index layer and the outermost layer is also a low refractive index layer.
本発明に係る光学反射フィルムの全体の厚さは、好ましくは12〜315μmの範囲内、より好ましくは15〜200μmの範囲内、更に好ましくは20〜100μmの範囲内である。又、低屈折率層の1層あたりの厚さは、20〜800nmの範囲内であることが好ましく、50〜350nmの範囲内であることがより好ましい。一方、高屈折率層の1層あたりの厚さは、20〜800nmの範囲内であることが好ましく、50〜350nmの範囲内であることがより好ましい。
更には、本発明に係る光反射フィルムの光学特性として、JIS R3106:1998で示される可視光領域の透過率は好ましくは50%以上、より好ましくは75%以上、更に好ましくは85%以上であり、又、光波長900〜1400nmの範囲内の領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。
The total thickness of the optical reflective film according to the present invention is preferably in the range of 12 to 315 μm, more preferably in the range of 15 to 200 μm, and still more preferably in the range of 20 to 100 μm. Further, the thickness per layer of the low refractive index layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, and more preferably in the range of 50 to 350 nm. On the other hand, the thickness per layer of the high refractive index layer is preferably in the range of 20 to 800 nm, and more preferably in the range of 50 to 350 nm.
Furthermore, as an optical characteristic of the light reflecting film according to the present invention, the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106: 1998 is preferably 50% or more, more preferably 75% or more, and still more preferably 85% or more. Moreover, it is preferable to have a region having a reflectance exceeding 50% in a region within the light wavelength range of 900 to 1400 nm.
本発明に係る光学フィルムは、基材の下、又は基材と反対側の最表面層の上に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリアー層、易接着層(接着層)、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層及び低屈折率層以外の赤外線カット層(金属層、液晶層)、着色層(可視光線吸収層)、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の1つ以上を有していてもよい。
本発明の好ましい一形態は、光学フィルムの製造方法により製造された、光学フィルムである。
The optical film according to the present invention is a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an easy adhesion layer for the purpose of adding further functions under the base material or on the outermost surface layer opposite to the base material. (Adhesive layer), antifouling layer, deodorant layer, droplet layer, slippery layer, hard coat layer, wear-resistant layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, ultraviolet absorption layer, infrared absorption layer, printing layer, fluorescence Light emitting layer, hologram layer, release layer, adhesive layer, adhesive layer, infrared cut layer (metal layer, liquid crystal layer), colored layer (visible light absorbing layer) other than the high refractive index layer and low refractive index layer of the present invention, combined One or more functional layers such as an intermediate film layer used for glass may be included.
One preferable embodiment of the present invention is an optical film manufactured by the method for manufacturing an optical film.
<用途>
本発明の好ましい一形態は、光学フィルムが基体の少なくとも一方の面に設けられた、光学フィルム積層体である。特に、光学フィルムが光学反射フィルムである光学反射体、特に赤外線遮蔽フィルムである赤外線遮蔽体であることが好ましい。
前記基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでもよく、これらを2種以上組み合わせて用いてもよい。
本発明の一実施態様で使用されうる基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚さは特に制限されないが、通常0.1mm〜5cmの範囲内である。
<Application>
One preferable embodiment of the present invention is an optical film laminate in which an optical film is provided on at least one surface of a substrate. In particular, the optical film is preferably an optical reflector that is an optical reflecting film, particularly an infrared shielding body that is an infrared shielding film.
Specific examples of the substrate include, for example, glass, polycarbonate resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, polysulfide resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, melamine resin, Examples thereof include phenol resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, styrene resin, vinyl chloride resin, metal plate, ceramic and the like. The type of the resin may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ionizing radiation curable resin, and two or more of these may be used in combination.
The substrate that can be used in one embodiment of the present invention can be produced by a known method such as extrusion molding, calender molding, injection molding, hollow molding, compression molding or the like. The thickness of the substrate is not particularly limited, but is usually in the range of 0.1 mm to 5 cm.
光学フィルムが光学反射フィルムである場合、光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層又は粘着層は、光学反射フィルムを光線(例えば日光、熱線など)入射面側に設置することが好ましい。
又、本発明の一実施態様に係る光学フィルムの1種である赤外線遮蔽フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明の一実施態様に係る光学反射フィルムの1種である赤外線遮蔽フィルムを屋外や車の外側(外貼り用)に設置しても環境耐久性があって好ましい。
本発明の一実施態様に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。
接着剤は、紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤又はシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。
When the optical film is an optical reflection film, it is preferable that the adhesive layer or the adhesive layer that bonds the optical reflection film and the substrate is disposed on the incident surface side of the optical reflection film (for example, sunlight, heat rays, etc.).
Further, it is preferable to sandwich an infrared shielding film, which is a kind of optical film according to an embodiment of the present invention, between a window glass and a substrate because it can be sealed from surrounding gas such as moisture and has excellent durability. Even if an infrared shielding film, which is a kind of optical reflecting film according to an embodiment of the present invention, is installed outdoors or on the outside of a vehicle (for external application), it is preferable because of environmental durability.
As an adhesive applicable to one embodiment of the present invention, an adhesive mainly composed of a photocurable or thermosetting resin can be used.
The adhesive preferably has durability against ultraviolet rays, and is preferably an acrylic pressure-sensitive adhesive or a silicone pressure-sensitive adhesive. Furthermore, an acrylic adhesive is preferable from the viewpoint of adhesive properties and cost. In particular, a solvent system is preferable in the acrylic pressure-sensitive adhesive because the peel strength can be easily controlled. When a solution polymerization polymer is used as the acrylic solvent-based pressure-sensitive adhesive, known monomers can be used as the monomer.
又、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール(積水化学工業株式会社製、三菱モンサント化成株式会社製等)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(デュポン株式会社製、武田薬品工業株式会社製(デュラミン))、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体(東ソー株式会社製(メルセン(登録商標)G))等である。
なお、接着層には、紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。
Moreover, you may use the polyvinyl butyral resin used as an intermediate | middle layer of a laminated glass, or ethylene-vinyl acetate copolymer type resin. Specifically, plastic polyvinyl butyral (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Mitsubishi Monsanto Kasei Co., Ltd.), ethylene-vinyl acetate copolymer (manufactured by DuPont Co., Ltd., Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. (duramin)), modified ethylene -Vinyl acetate copolymer (manufactured by Tosoh Corporation (Mersen (registered trademark) G)).
In addition, you may add and mix | blend an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a heat stabilizer, a lubricant, a filler, coloring, an adhesion adjusting agent, etc. suitably in an adhesive layer.
光学フィルムの1種である赤外線遮蔽フィルム又は光学フィルム積層体の1種である光学反射体(赤外線遮蔽体)の断熱性能、日射熱遮蔽性能は、一般的にJIS R3209(複層ガラス)、JIS R3106(板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法)、JIS R3107(板ガラス類の熱抵抗及び建築における熱貫流率の算定方法)に準拠した方法により求めることができる。
日射透過率、日射反射率、放射率、及び可視光透過率の測定は、(1)波長(300〜2500nmの範囲内)の分光測光器を用い、各種単板ガラスの分光透過率、分光反射率を測定する。又、波長5.5〜50μmの範囲内の分光測定器を用いて放射率を測定する。なお、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、熱線吸収板ガラスの放射率は既定値を用いる。(2)日射透過率、日射反射率、日射吸収率、修正放射率の算出は、JIS R3106に従い、日射透過率、日射反射率、日射吸収率、垂直放射率を算出する。修正放射率に関しては、JIS R3107に示されている係数を、垂直放射率に乗ずることにより求める。断熱性、日射熱遮蔽性の算出は、(1)厚さの測定値、修正放射率を用いJIS R3209に従って複層ガラスの熱抵抗を算出する。ただし、中空層が2mmを超える場合はJIS R3107に従って中空層の気体熱コンダクタンスを求める。(2)断熱性、複層ガラスの熱抵抗に熱伝達抵抗を加えて熱貫流抵抗で求める。(3)日射熱遮蔽性はJIS R3106により日射熱取得率を求め、1から差し引いて算出する。
Insulation performance and solar heat shielding performance of an optical reflecting body (infrared shielding body) which is one type of optical film or an optical film laminate is generally JIS R3209 (multi-layer glass), JIS. R3106 (Test method for transmittance, reflectance, emissivity, and solar heat gain of sheet glass) and JIS R3107 (Calculation method for thermal resistance of sheet glass and thermal conductivity in buildings) .
Measurements of solar transmittance, solar reflectance, emissivity, and visible light transmittance are as follows: (1) Spectral photometer with wavelength (within 300 to 2500 nm), spectral transmittance and spectral reflectance of various single plate glasses Measure. Further, the emissivity is measured using a spectrophotometer within a wavelength range of 5.5 to 50 μm. In addition, a predetermined value is used for the emissivity of float plate glass, polished plate glass, mold plate glass, and heat ray absorbing plate glass. (2) The solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, and modified emissivity are calculated in accordance with JIS R3106 by calculating the solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, and vertical emissivity. The corrected emissivity is obtained by multiplying the coefficient shown in JIS R3107 by the vertical emissivity. The heat insulation and solar heat shielding properties are calculated by (1) calculating the thermal resistance of the multilayer glass according to JIS R3209 using the measured thickness value and the corrected emissivity. However, when the hollow layer exceeds 2 mm, the gas thermal conductance of the hollow layer is obtained according to JIS R3107. (2) Heat insulation, heat transfer resistance is added to the thermal resistance of the multi-layer glass, and the heat flow resistance is obtained. (3) The solar heat shielding property is calculated by obtaining the solar heat acquisition rate according to JIS R3106 and subtracting it from 1.
又、上記で得られた赤外線遮蔽フィルムは薄膜化されたものであることから、ディスプレイパネルの表面に適用してもよい。例えば、プラズマディスプレイパネルでは、赤外遮特蔽フィルムを高透明PETフィルムに貼り合わせて、ディスプレイ画面に導入することができる。これによって、プラズマディスプレイパネルから放射される赤外線を遮蔽し、人体の保護、電子機器相互の誤動作防止、及びリモコンの誤動作防止等に寄与しうる。 Moreover, since the infrared shielding film obtained above is a thin film, it may be applied to the surface of a display panel. For example, in a plasma display panel, an infrared shielding film can be bonded to a highly transparent PET film and introduced into a display screen. As a result, infrared rays radiated from the plasma display panel can be shielded, contributing to protection of the human body, prevention of malfunction between electronic devices, prevention of malfunction of the remote control, and the like.
以下、本発明について実施例及び比較例を用いて具体的に説明する。実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
又、特記しない限り、操作及び物性等の測定は室温(23℃)/相対湿度55%の条件で測定し、「%」及び「部」は、それぞれ、「質量%」及び「質量部」を意味する。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples and comparative examples. EXAMPLES The present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these.
Unless otherwise specified, measurements such as operation and physical properties are performed under conditions of room temperature (23 ° C.) / 55% relative humidity, and “%” and “part” are “mass%” and “part by mass”, respectively. means.
(充填液101の作製)
純水92質量%にポリビニルアルコール(PVA−403、ケン化度79モル%、重合度300、株式会社クラレ製)8質量部を添加し撹拌した。次いで90℃に昇温し、3時間放置後、40℃まで冷却し、低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液101を調製した。
塗布液調製釜から塗布液貯蔵釜までの配管、循環工程における循環経路R1を含む配管、及び塗布液貯蔵釜から塗布装置までの供給経路L1に、充填液101を送液して配管に充填した。
(充填液102〜107の作製)
上記充填液101の調製において、ポリビニルアルコールを下記表1に変更した以外は、同様の方法で充填液102〜107を作製し、上記同様に配管に充填した。
なお、充填液105及び107で用いたポリビニルアルコール(L−8及びPVA−424H)はいずれも株式会社クラレ社の製品を使用し、充填液106で用いたポリビニルアルコール(JP−05)は日本酢ビ・ポバール株式会社の製品を使用した。
(Preparation of filling liquid 101)
8 parts by mass of polyvinyl alcohol (PVA-403, saponification degree 79 mol%, polymerization degree 300, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was added to 92% by mass of pure water and stirred. Next, the temperature was raised to 90 ° C., allowed to stand for 3 hours, and then cooled to 40 ° C. to prepare a filling liquid 101 containing polyvinyl alcohol having a low saponification degree and a low polymerization degree.
Filling liquid 101 is fed to the piping from the coating liquid preparation kettle to the coating liquid storage kettle, the piping including the circulation path R1 in the circulation process, and the supply path L1 from the coating liquid storage kettle to the coating device to fill the piping. .
(Preparation of filling
In the preparation of the filling
The polyvinyl alcohol (L-8 and PVA-424H) used in the filling
(充填液108の作製)
充填液108は、純水を使用した。
(Preparation of filling liquid 108)
As the filling
<塗布液の作製>
(低屈折率層塗布液の作製)
撹拌装置を備えた塗布液調製釜でコロイダルシリカ(スノーテックス(登録商標)OXS、固形分10質量%、日産化学工業株式会社製)38質量部を45℃に加熱し、3質量%ホウ酸水溶液3質量部を加えた撹拌した。更に水溶性高分子であるポリビニルアルコール(JP−45、重合度4500、ケン化度87モル%、日本酢ビ・ポバール株式会社製)6質量%水溶液39質量部と、界面活性剤の5質量%水溶液(ソフタゾリンLSB−R、川研ファインケミカル株式会社製)1質量部とを45℃の状態でこの順に添加・撹拌して低屈折率層塗布液を調製した。
<Preparation of coating solution>
(Preparation of coating solution for low refractive index layer)
In a coating solution preparation kettle equipped with a stirrer, 38 parts by mass of colloidal silica (Snowtex (registered trademark) OXS, solid content 10% by mass, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) is heated to 45 ° C., and 3% by mass boric acid aqueous solution 3 parts by mass was added and stirred. Furthermore, polyvinyl alcohol (JP-45, degree of polymerization 4500, degree of saponification 87 mol%, manufactured by Nihon Acetate / Poval Co., Ltd.) 39 mass parts of water-soluble polymer and 39 mass parts of surfactant and 5 mass% of surfactant 1 part by mass of an aqueous solution (SOFTAZOLINE LSB-R, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) was added and stirred in this order at 45 ° C. to prepare a low refractive index layer coating solution.
(高屈折率層塗布液の作製)
((シリカ付着二酸化チタンゾルの調製))
15.0質量%酸化チタンゾル(SRD−W、平均粒径5nm、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学工業株式会社製)0.5質量部に純水2質量部を加えた後、90℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液(ケイ酸ソーダ4号(日本化学工業株式会社製)をSiO2濃度が0.5質量%となるように純水で希釈したもの)0.5質量部を徐々に添加した。次いで、オートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が、6質量%のSiO2を表面に付着させた二酸化チタンゾル(以下、単に「シリカ付着二酸化チタンゾル」とも称する)を得た。
(Preparation of high refractive index layer coating solution)
((Preparation of silica-attached titanium dioxide sol))
After adding 2 parts by mass of pure water to 0.5 parts by mass of 15.0% by mass titanium oxide sol (SRD-W, average particle size 5 nm, rutile titanium dioxide particles, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), heating to 90 ° C. did. Next, 0.5 part by mass of an aqueous silicic acid solution (sodium silicate 4 (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) diluted with pure water so that the SiO 2 concentration becomes 0.5 mass%) was gradually added. . Next, a heat treatment at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave was performed, and after cooling, the resultant was concentrated with an ultrafiltration membrane, whereby a titanium dioxide sol (hereinafter referred to as SiO 2) having a solid content concentration of 6% by mass adhered to the surface. Simply referred to as “silica-attached titanium dioxide sol”).
((高屈折率層用塗布液の作製))
撹拌装置を備えた塗布液調製釜に上記で得られたシリカ付着二酸化チタンゾル(固形分20.0質量%)140質量部に対して、1.92質量%クエン酸水溶液48質量部を加え、更に8質量%のポリビニルアルコール水溶液(PVA−135、重合度3500、ケン化度98モル%、クラレ株式会社製)113質量部を加えて撹拌した。その後、界面活性剤の5質量%水溶液(ソフタゾリンLSB−R、川研ファインケミカル株式会社製)0.4質量部を加えて撹拌し、高屈折率層塗布液を調製した。
((Preparation of coating solution for high refractive index layer))
48 parts by mass of a 1.92% by mass aqueous citric acid solution is added to 140 parts by mass of the silica-attached titanium dioxide sol (solid content: 20.0% by mass) obtained above in a coating liquid preparation kettle equipped with a stirrer. 113 mass parts of 8 mass% polyvinyl alcohol aqueous solution (PVA-135, polymerization degree 3500, saponification degree 98 mol%, Kuraray Co., Ltd. product) was added and stirred. Thereafter, 0.4 parts by mass of a 5% by weight aqueous solution of a surfactant (SOFTAZOLINE LSB-R, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) was added and stirred to prepare a high refractive index layer coating solution.
<赤外線遮蔽フィルムの作製>
(赤外線遮蔽フィルム201の作製)
塗布液調製釜に貯蔵された前述の低屈折率層塗布液は、前記充填液101を排出すると同時に送液装置であるロータリーポンプを用いて20L/minの流量で、濾過装置に送液され、低屈折率層用塗布液の濾過を行い、塗布液貯蔵釜に送液した。濾過は、フィルタ250L−SLP−200(株式会社ロキテクノ製)、ロータリーポンプを用いて20L/minの流量でフィルタに低屈折率層用塗布液を送液させて濾過を行った。
塗布液貯蔵釜に貯蔵された前述の低屈折率層用塗布液は、前記充填液101を排出すると同時に送液装置ロータリーポンプを用いて20L/minの流量で、分散装置マイルダーMDN306Vに送液されせん断処理を行った。かかる分散装置は、標準タイプのローター及びステーターを備えたせん断処理装置である。かかるマイルダーを用いて、5000rpmの回転速度でローターを回転させて、塗布液のせん断処理を行った。
続いて、前記充填液101を排出すると同時に濾過装置により低屈折率層用塗布液の濾過を行った。濾過は、フィルタ250L−SLP−200(株式会社ロキテクノ製)、ロータリーポンプを用いて20L/minの流量でフィルタに低屈折率層用塗布液を通液させて濾過を行った。
濾過処理が施された低屈折率層用塗布液を、循環経路により再び塗布液貯蔵釜に戻した。
ここで、低屈折率層用塗布液を塗布液貯蔵釜に戻す時に、前述と同様に配管内に充填させた前記充填液101を排出すると同時に、塗布液を送液して塗布液貯蔵釜に戻した。循環工程を30分実施し、循環工程が施された低屈折率層用塗布液1を得た。別系列において、同様の処理を、前述の高屈折率用塗布液に施すことで高屈折率層用塗布液1を得た。
最後に、濾過装置から、供給経路を通じて、配管内に充填させた前記充填液101を排出すると同時に循環工程が施された低屈折率用及び高屈折率用塗布液を送液して、塗布装置としての同時重層用スライドコーターに供給し、かかるスライドコーターを用いて、300mm幅の厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡株式会社製、コスモシャイン(登録商標)A4300、両面易接着層)上に、最下層を低屈折率層にして低屈折率層/高屈折率層を交互に同時10層を速度50m/分で塗布して、乾燥装置を用いて、50℃で乾燥させて、赤外線遮蔽フィルム201を作製した。
<Production of infrared shielding film>
(Preparation of infrared shielding film 201)
The low refractive index layer coating liquid stored in the coating liquid preparation kettle is discharged to the filtration device at a flow rate of 20 L / min using a rotary pump that is a liquid feeding device at the same time as the filling
The coating liquid for the low refractive index layer stored in the coating liquid storage tank is discharged to the dispersion device Milder MDN306V at a flow rate of 20 L / min using the liquid feeding device rotary pump at the same time as the filling
Subsequently, the filling
The coating solution for the low refractive index layer that had been subjected to the filtration treatment was returned again to the coating solution storage tank through the circulation path.
Here, when the coating liquid for the low refractive index layer is returned to the coating liquid storage tank, the filling liquid 101 filled in the pipe is discharged at the same time as described above, and at the same time, the coating liquid is fed to the coating liquid storage tank. Returned. The circulation process was performed for 30 minutes to obtain a coating solution 1 for a low refractive index layer subjected to the circulation process. In another series, the same treatment was performed on the above-described coating solution for high refractive index to obtain coating solution 1 for high refractive index layer.
Finally, the filling liquid 101 filled in the pipe is discharged from the filtration device through the supply path, and at the same time, the low refractive index coating solution and the high refractive index coating solution subjected to the circulation process are fed to the coating device. To a simultaneous multi-layer slide coater, and using this slide coater, a polyethylene terephthalate (PET) film having a width of 300 mm and a thickness of 50 μm (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Cosmo Shine (registered trademark) A4300, double-sided adhesive layer) On top, the lowermost layer is the low refractive index layer, the low refractive index layer / the high refractive index layer are alternately applied at the same time at 10 layers at a speed of 50 m / min, and dried at 50 ° C. using a drying apparatus, An infrared shielding film 201 was produced.
(赤外線遮蔽フィルム202の作製)
上記赤外線遮蔽フィルム201の作製において、充填液の排出完了後に塗布液を送液した以外は同様にして赤外線遮蔽フィルム202を作製した。
(Preparation of infrared shielding film 202)
In the production of the infrared shielding film 201, an infrared shielding film 202 was produced in the same manner except that the coating liquid was fed after the filling liquid was completely discharged.
(赤外線遮蔽フィルム203〜209の作製)
上記赤外線遮蔽フィルム201の作製において、充填液を下記表2に示すように変更した以外は、同様の方法で充填液102〜108を上記同様に配管に充填し、赤外線遮蔽フィルム203〜209を作製した。
(赤外線遮蔽フィルム210の作製)
上記赤外線遮蔽フィルム201の作製において、同時重層用スライドコーターを単層用スライドコーターに変更し、配管内に充填させた前記充填液101を排出すると同時に循環工程が施された高屈折率用塗布液のみを送液した以外は、同様の方法で本発明の赤外線遮蔽フィルム210を作製した。
<赤外線遮蔽フィルムの評価>
(目視による塗布故障の確認)
上記で製造した初期(塗布開始から400mの位置)の各赤外線遮蔽フィルムについて、長さ10m×幅0.25mの範囲を目視で確認して、尾引き、筋の個数を目視で確認し、その値を2.5で除することによって、1m×1mあたりの平均の塗布故障の数を算出した。
◎ :0個/m2
○ :0超〜0.1個/m2
△ :0.1超〜1.0個/m2
× :1.0超〜10個/m2
××:10個超/m2
(Preparation of infrared shielding films 203-209)
In the production of the infrared shielding film 201, except that the filling liquid was changed as shown in Table 2 below, the filling
(Preparation of infrared shielding film 210)
In the production of the infrared shielding film 201, the simultaneous multi-layer slide coater is changed to a single-layer slide coater, and the filling liquid 101 filled in the pipe is discharged and at the same time a circulation process is performed. The infrared shielding film 210 of this invention was produced by the same method except having sent only liquid.
<Evaluation of infrared shielding film>
(Verification of coating failure by visual inspection)
About each infrared shielding film of the initial stage (position 400m from the start of application) manufactured above, visually confirm the range of length 10m x width 0.25m, visually confirm the number of tails and streaks, By dividing the value by 2.5, the average number of coating failures per 1 m × 1 m was calculated.
: 0 / m 2
○: More than 0 to 0.1 / m 2
Δ: More than 0.1 to 1.0 piece / m 2
×: More than 1.0 to 10 pieces / m 2
XX: Over 10 / m 2
(ヘイズ値の測定)
ヘイズ値は、初期(塗布開始から500mの位置)の赤外線遮蔽フィルムに断裁し、日本電色工業社製、NDH2000)により測定し、下記のように評価した。
◎:1.2%以下
○:1.2%超〜1.5%以下
△:1.5%超〜2%以下
×:2%超
得られた結果を下記表2に示す。
(Measurement of haze value)
The haze value was cut on an initial infrared shielding film (at a position 500 m from the start of application), measured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. (NDH2000), and evaluated as follows.
A: 1.2% or less B: Over 1.2% to 1.5% or less Δ: Over 1.5% to 2% or less X: Over 2% The results obtained are shown in Table 2 below.
上記の結果より、本発明の赤外線遮蔽フィルム201〜208は塗布故障もなく、ヘイズも低いことがわかる。 From the above results, it can be seen that the infrared shielding films 201 to 208 of the present invention have no coating failure and low haze.
100 光学フィルム製造システム
101 塗布液調製釜
102、105、109 送液装置
103、108 濾過装置
104 塗布液貯蔵釜
106 分散装置
107 脱泡装置
110 塗布装置
111 セット装置
112 乾燥装置
R1 循環経路
L1 供給経路
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記工程における送液のための配管内に、予め、前記塗布液中に含有される前記ポリビニルアルコールより低ケン化度及び低重合度のポリビニルアルコールを含む充填液を充填し、その後、前記塗布液を前記配管内に導入する時に、前記充填液を前記配管内から外部に排出するとともに、前記塗布液を前記配管内に送液し、前記支持体上に塗布し、前記光学干渉層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。 An optical film manufacturing method comprising a step of forming an optical interference layer composed of one layer or a plurality of layers using a coating liquid containing inorganic oxide fine particles and polyvinyl alcohol on at least one surface of a support. ,
In the pipe for liquid feeding in the step, a filling liquid containing polyvinyl alcohol having a lower saponification degree and a lower polymerization degree than the polyvinyl alcohol contained in the coating liquid is filled in advance, and then the coating liquid When the liquid is introduced into the pipe, the filling liquid is discharged from the pipe to the outside, and the coating liquid is fed into the pipe and applied onto the support to form the optical interference layer. The manufacturing method of the optical film characterized by the above-mentioned.
前記光学干渉層を構成する各層が、前記無機酸化物微粒子及び前記ポリビニルアルコールをそれぞれ含有し、かつ
互いに隣接する層に含有される前記ポリビニルアルコールは、ケン化度が互いに異なることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。 The optical interference layer is composed of a plurality of layers adjacent to each other and having different refractive indexes,
The respective layers constituting the optical interference layer contain the inorganic oxide fine particles and the polyvinyl alcohol, respectively, and the polyvinyl alcohols contained in layers adjacent to each other have different saponification degrees. Item 2. A method for producing an optical film according to Item 1.
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