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JP6463229B2 - Method for producing polyalkylene glycol derivative having amino group at terminal, polymerization initiator used therefor, and alcohol compound as raw material thereof - Google Patents
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Description

本発明は末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法、並びにこれに用いる重合開始剤及びその原料となるアルコール化合物に関する。   The present invention relates to a method for producing a polyalkylene glycol derivative having an amino group at a terminal, a polymerization initiator used therefor, and an alcohol compound as a raw material thereof.

近年、ドラッグデリバリーシステムの分野において、親水性セグメントと疎水性セグメントから形成されるブロック共重合体を用いて、高分子ミセルに薬物を封入する方法が提案されている(例えば、特許文献1〜3を参照)。この方法を用いることにより、高分子ミセルが薬剤のキャリアとして機能し、生体内での薬剤の除放化や病変部位への集中的投与を含む様々な効果が得られる。   In recent years, in the field of drug delivery systems, a method of encapsulating a drug in a polymer micelle using a block copolymer formed from a hydrophilic segment and a hydrophobic segment has been proposed (for example, Patent Documents 1 to 3). See). By using this method, the polymer micelle functions as a drug carrier, and various effects including release of the drug in vivo and intensive administration to a lesion site are obtained.

親水性セグメントとしては、ポリアルキレングリコール骨格を用いた例が多数提案されている(例えば、特許文献1〜3を参照)。ポリアルキレングリコール骨格を有する化合物は、生体内での毒性が低いうえ、腎臓での排泄を遅延させることが可能である。その結果、ポリアルキレングリコール骨格を有さない化合物と比較して、血中での滞留時間を延ばすことができる。そのため、ポリアルキレングリコール誘導体で薬剤をミセル化して使用する場合、その投与量や投与回数の低減を実現することができる。   Many examples using a polyalkylene glycol skeleton have been proposed as hydrophilic segments (see, for example, Patent Documents 1 to 3). A compound having a polyalkylene glycol skeleton has low toxicity in vivo and can delay excretion in the kidney. As a result, the residence time in blood can be extended as compared with a compound having no polyalkylene glycol skeleton. Therefore, when using a polyalkylene glycol derivative as a micelle, the dose and the number of administrations can be reduced.

ポリアルキレングリコール誘導体のうち、末端にアミノ基を有する化合物は、α−アミノ酸−N−カルボキシ無水物との開環重合反応によりポリアルキレングリコール骨格とアミノ酸骨格から構成されるブロック共重合体へ誘導することが可能である。そして、得られたブロック共重合体を用いて高分子ミセル内に薬剤を封入する例が多数提案されている(例えば、特許文献1〜3を参照)。   Among polyalkylene glycol derivatives, a compound having an amino group at the terminal is derived into a block copolymer composed of a polyalkylene glycol skeleton and an amino acid skeleton by a ring-opening polymerization reaction with α-amino acid-N-carboxyanhydride. It is possible. And many examples which enclose a chemical | medical agent in a polymer micelle using the obtained block copolymer are proposed (for example, refer patent documents 1-3).

このような、末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の合成方法も知られている(例えば、特許文献4、5を参照)。これらの方法では、一価アルコールの金属塩を重合開始剤に用いてアルキレンオキシドの重合を行った後、重合末端を水酸基、次いで2−シアノエトキシ基に変換し、シアノ基の水素還元を経て最終的にアミノ基含有置換基(3−アミノ−1−プロポキシ基)へと誘導する。   A method for synthesizing such a polyalkylene glycol derivative having an amino group at the terminal is also known (see, for example, Patent Documents 4 and 5). In these methods, after the polymerization of alkylene oxide using a metal salt of a monohydric alcohol as a polymerization initiator, the polymerization terminal is converted to a hydroxyl group and then to a 2-cyanoethoxy group, and the final reduction is achieved through hydrogen reduction of the cyano group. To an amino group-containing substituent (3-amino-1-propoxy group).

その他のアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の合成方法としては、例えばアミノ基がシリル保護された重合開始剤を用いてエチレンオキシドと重合させた後、脱保護によりアミノ基へと誘導する方法(非特許文献1、特許文献6を参照)があるが、この方法だと末端が2−アミノ−1−エトキシ基に限定されるという問題点がある。また、反応性は低く、分子量を6000まで上げるのに96時間という長時間を有することが課題とされている(非特許文献1を参照)。   As another method for synthesizing a polyalkylene glycol derivative having an amino group, for example, a method of polymerizing with ethylene oxide using a polymerization initiator in which the amino group is protected with silyl, and then deriving to an amino group by deprotection (non-patent) However, this method has a problem in that the terminal is limited to a 2-amino-1-ethoxy group. Moreover, the reactivity is low, and it has been a subject to have a long time of 96 hours to increase the molecular weight to 6000 (see Non-Patent Document 1).

特許第2690276号公報Japanese Patent No. 2690276 特許第2777530号公報Japanese Patent No. 2777530 特開平11−335267号公報JP 11-335267 A 特許第3050228号公報Japanese Patent No. 3050228 特許第3562000号公報Japanese Patent No. 3562000 特許第4581248号公報Japanese Patent No. 4581248

Bioconj. Chem. 1992,3,275−276.Bioconj. Chem. 1992, 3, 275-276.

特許文献4に開示されているように、重合開始剤として用いられる1価アルコールの金属塩は、重合溶媒(例えばテトラヒドロフラン(以下THFと略す)などの有機溶媒)中に完全に溶解させることが難しい場合が多く、そのような場合、金属塩を重合溶媒に溶解させるためには金属塩合成時、開始剤原料であるアルコールを過剰量残しておく必要がある(例えば特許文献4では重合開始剤であるナトリウムメトキシド2molに対してメタノール13mol)。ところが、これらのアルコールが反応系中に存在すると、重合速度の低下が避けられず、重合速度を上げるためには高温や高圧などの厳しい反応条件が必要となる。また、重合開始剤が重合溶媒に溶解しないと系内が均一にならないため、溶解した重合開始剤からのみ重合が進行し、得られるポリアルキレングリコール誘導体の分散度が広くなるという問題点がある。   As disclosed in Patent Document 4, it is difficult to completely dissolve a metal salt of a monohydric alcohol used as a polymerization initiator in a polymerization solvent (for example, an organic solvent such as tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF)). In many cases, in order to dissolve the metal salt in the polymerization solvent, it is necessary to leave an excessive amount of alcohol as an initiator raw material during the synthesis of the metal salt (for example, in Patent Document 4, a polymerization initiator is used). 13 mol of methanol for 2 mol of certain sodium methoxide). However, when these alcohols are present in the reaction system, a decrease in polymerization rate is unavoidable, and severe reaction conditions such as high temperature and high pressure are required to increase the polymerization rate. Further, since the inside of the system does not become uniform unless the polymerization initiator is dissolved in the polymerization solvent, there is a problem that the polymerization proceeds only from the dissolved polymerization initiator and the degree of dispersion of the resulting polyalkylene glycol derivative is widened.

また、1価アルコールは微量の水分を含む場合が多い。水分を含んだ状態で重合開始剤を調製してアルキレンオキシドとの重合を行うと両末端が水酸基の高分子化合物(以下、ジオールポリマーと略記)が副生する。1価アルコールの沸点が水より十分に高い場合は、減圧下で脱水することにより水分量を減らすことができるが、例えば末端がメチル基の場合に用いるメタノールは沸点が水よりも低いため、減圧下で脱水して水分を除去することは出来ない。そのため、メタノールを用いて金属塩を調製してアルキレンオキシドの重合を行うと、ジオールポリマーの生成が避けられない。ジオールポリマーは、構造や分子量などの諸物性が目的物と似ているため、分離精製することは極めて難しい。ジオールポリマーを不純物として含んだまま先の反応を進めた場合、適切な反応条件を選択しないと両末端にアミノ基を含むポリマーが生成する。このような不純物を含むポリマーをそのまま使用すると、ポリマーミセル化剤の設計上、目的の性能が得られなくなる可能性が生じるため、重合反応を行う際には水分を極力低く抑えなければならない。   Moreover, monohydric alcohol often contains a trace amount of water. When a polymerization initiator is prepared in a state containing water and polymerized with alkylene oxide, a polymer compound having hydroxyl groups at both ends (hereinafter abbreviated as diol polymer) is by-produced. When the boiling point of the monohydric alcohol is sufficiently higher than that of water, the amount of water can be reduced by dehydrating under reduced pressure. For example, methanol used when the terminal is a methyl group has a lower boiling point than that of water. The water cannot be removed by dehydration underneath. Therefore, when a metal salt is prepared using methanol and alkylene oxide is polymerized, formation of a diol polymer is inevitable. Diol polymers are very difficult to separate and purify because their physical properties such as structure and molecular weight are similar to the target. When the previous reaction is carried out with the diol polymer contained as an impurity, a polymer containing amino groups at both ends is formed unless appropriate reaction conditions are selected. If a polymer containing such impurities is used as it is, there is a possibility that the intended performance may not be obtained due to the design of the polymer micelle agent. Therefore, when performing the polymerization reaction, the moisture must be kept as low as possible.

特許文献4や特許文献5に記載の合成法では、ラネーニッケル触媒を用いた水素還元によりシアノ基をアミノメチル基へ変換している。この方法は、ポリアルキレングリコール誘導体の用途によっては、最終生成物中に微量の金属が混入する可能性が懸念される場合がある。さらに、この反応は一般に高温が必要とされ、それに伴いアクリロニトリルのβ脱離が進行し、目的物が収率よく得られないということや、ニトリル還元の中間体であるイミンへのアミン付加反応により生じる2級、3級アミンの生成、及びポリアクリロニトリルの副生などのリスクがあるといった問題も残っていた。   In the synthesis methods described in Patent Document 4 and Patent Document 5, a cyano group is converted to an aminomethyl group by hydrogen reduction using a Raney nickel catalyst. In this method, depending on the use of the polyalkylene glycol derivative, there is a possibility that a trace amount of metal may be mixed in the final product. Furthermore, this reaction generally requires a high temperature, and as a result, β-elimination of acrylonitrile proceeds and the target product cannot be obtained in good yield, or by an amine addition reaction to imine, which is an intermediate of nitrile reduction. There also remained problems such as the risk of secondary secondary and tertiary amine formation and polyacrylonitrile by-product.

重金属を使用せずに末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体を合成する方法としては、アミノ基を保護したアルコキシドを重合開始剤に用いてアルキレンオキシドと重合させる方法が考えられる。例えばアミノ基の保護基としてシリル基を用いる場合、ケイ素−窒素結合はケイ素−酸素結合よりも弱いため、アミノ基だけがシリル化されたアルコールを選択的に合成することは非常に難しく、その合成例は報告されていない。   As a method of synthesizing a polyalkylene glycol derivative having an amino group at the terminal without using a heavy metal, a method of polymerizing with an alkylene oxide using an alkoxide protected with an amino group as a polymerization initiator can be considered. For example, when a silyl group is used as a protecting group for an amino group, since a silicon-nitrogen bond is weaker than a silicon-oxygen bond, it is very difficult to selectively synthesize an alcohol in which only an amino group is silylated. No examples have been reported.

本発明では、上記従来技術における諸問題を解決し、狭分散かつ高純度な末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体を製造する方法、並びに該方法に使用する重合開始剤を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems in the prior art, and to provide a method for producing a polyalkylene glycol derivative having an amino group at a terminal with narrow dispersion and high purity, and a polymerization initiator used in the method. And

本発明者らは上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、アミノ基が保護基で保護された重合溶媒への十分な溶解性を有する化合物を重合開始剤として用いることにより、温和な条件下でのアルキレンオキシドの重合とジオールポリマー生成の抑制、さらにはジオールポリマーが生成した場合の除去も可能にするとともに、重金属の混入や副生成物の生成を防止することを実現し、最終的に末端にアミノ基を有する高純度かつ狭分散のポリアルキレングリコールへ誘導できることを見出し、本発明を完成させたものである。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have used a compound having sufficient solubility in a polymerization solvent in which an amino group is protected by a protective group as a polymerization initiator. It is possible to control the polymerization of alkylene oxide and diol polymer formation under the conditions, and to remove the diol polymer when it is formed, and to prevent heavy metal contamination and by-product formation. The present invention has been completed by finding that it can be derived into a highly pure and narrowly dispersed polyalkylene glycol having an amino group at the terminal.

すなわち、本発明は、下記一般式(I)で表される化合物を重合開始剤として使用し、前記重合開始剤とアルキレンオキシドとを反応させる工程を少なくとも含む、末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法に関する。

Figure 0006463229
(一般式(I)中、R 1a及びR 1bは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はR 1a及びR 1bは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、R は炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、R は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、又は炭素数3〜20の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、ここでR 及びR の炭素数の総数は4以上であり、又は、R がヘテロ原子を含む場合はR 及びR の炭素原子及びヘテロ原子の総数が4以上であり、Mはアルカリ金属を表す) That is, the present invention uses a compound represented by the following general formula (I) as a polymerization initiator, and includes at least a step of reacting the polymerization initiator with an alkylene oxide. The present invention relates to a method for producing a derivative.
Figure 0006463229
(In the general formula (I), R A 1a and R A 1b each independently represent an amino group protecting group, or one of them represents a hydrogen atom and the other represents an amino group protecting group, or R A 1a And R A 1b represents a cyclic protecting group which is bonded to each other to form a ring together with the nitrogen atom of the amino group, and R A 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or branched or cyclic having 3 to 6 carbon atoms And R A 3 is a single bond, a straight chain having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a branched or cyclic divalent group having 3 to 20 carbon atoms. Wherein the total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more, or when R A 3 contains a heteroatom, the carbon atoms of R A 2 and R A 3 and The total number of heteroatoms is 4 or more, and M represents an alkali metal)

本発明は、別の態様によれば、工程a)〜工程c)を含む、末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法に関する。

Figure 0006463229
(一般式(I)〜(III)中、
1a及びR 1bは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はR 1a及びR 1bは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、R は炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、R は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、又は炭素数3〜20の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、ここでR 及びR の炭素数の総数は4以上であり、又は、R がヘテロ原子を含む場合はR 及びR の炭素原子及びヘテロ原子の総数が4以上であり、R は水素原子、或いは置換されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜12の炭化水素基であり、かつ該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよく、R は炭素数2〜8のアルキレン基であり、Mはアルカリ金属を表し、nは1〜450の整数である)
工程a)前記一般式(I)で表される重合開始剤とアルキレンオキシドとを重合溶媒中で反応させることにより、下記一般式(I−1)で表される化合物を得る工程
Figure 0006463229
(一般式(I−1)中、R 1a、R 1b、R 、R 、及びR は前記一般式(II)及び(III)について定義したとおりであって、前記一般式(II)及び(III)のR 1a、R 1b、R 、R 、及びR と同一であり、Mはアルカリ金属を表し、前記一般式(I)のMと同一であり、rは1〜445の整数を表す);
工程b)前記一般式(I−1)で表される化合物と下記一般式(I−2)で表される化合物とを反応させることにより、前記一般式(II)で表される化合物を得る工程
Figure 0006463229
(一般式(I−2)中、R 及びR は前記一般式(II)及び(III)について定義したとおりであって、前記一般式(II)及び(III)のR 及びR と同一であり、kは0〜5の整数を表し、Lは脱離基を表す);及び
工程c)前記一般式(II)で表される化合物を脱保護し、前記一般式(III)で表される化合物を得る工程。 According to another aspect, the present invention relates to a method for producing a polyalkylene glycol derivative having an amino group at a terminal, including steps a) to c).
Figure 0006463229
(In the general formulas (I) to (III),
R A 1a and R A 1b each independently represent an amino protecting group, one represents a hydrogen atom, the other represents an amino protecting group, or R A 1a and R A 1b are bonded to each other. A cyclic protecting group which forms a ring together with the nitrogen atom of the amino group, and R A 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms. R A 3 is a single bond or a straight chain having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, And the total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more, or when R A 3 contains a hetero atom, the total number of carbon atoms and hetero atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more. There, R A 4 is a hydrogen atom, or optionally substituted linear, branched or A Jo hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrocarbon group may contain a hetero atom, R A 5 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, M represents an alkali metal , N is an integer from 1 to 450)
Step a) A step of obtaining a compound represented by the following general formula (I-1) by reacting a polymerization initiator represented by the general formula (I) with an alkylene oxide in a polymerization solvent.
Figure 0006463229
(In the general formula (I-1), R A 1a , R A 1b , R A 2 , R A 3 , and R A 5 are as defined for the general formulas (II) and (III), R A 1a , R A 1b , R A 2 , R A 3 , and R A 5 in the general formulas (II) and (III) are the same, M represents an alkali metal, and M in the general formula (I) And r represents an integer of 1 to 445);
Step b) A compound represented by the general formula (II) is obtained by reacting a compound represented by the general formula (I-1) with a compound represented by the following general formula (I-2). Process
Figure 0006463229
(In the general formula (I-2), R A 4 and R A 5 are as defined for the general formulas (II) and (III), and R A 4 in the general formulas (II) and (III)). And R A 5 , k represents an integer of 0 to 5, L represents a leaving group); and step c) the compound represented by the general formula (II) is deprotected, A step of obtaining a compound represented by the formula (III).

本発明は、また別の態様によれば、下記一般式(i)で表される、保護アミノ基含有アルコール化合物に関する。

Figure 0006463229
(一般式(i)中、R 1a及びR 1bは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はR 1a及びR 1bは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、R は炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、R は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、又は炭素数3〜20の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、ここでR 及びR の炭素数の総数は4以上であり、又は、R がヘテロ原子を含む場合はR 及びR の炭素原子及びヘテロ原子の総数が4以上である) According to another aspect, the present invention relates to a protected amino group-containing alcohol compound represented by the following general formula (i).
Figure 0006463229
(In General Formula (i), R A 1a and R A 1b each independently represent an amino group protecting group, one represents a hydrogen atom, the other represents an amino group protecting group, or R A 1a And R A 1b represents a cyclic protecting group which is bonded to each other to form a ring together with the nitrogen atom of the amino group, and R A 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or branched or cyclic having 3 to 6 carbon atoms And R A 3 is a single bond, a straight chain having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a branched or cyclic divalent group having 3 to 20 carbon atoms. Wherein the total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more, or when R A 3 contains a heteroatom, the carbon atoms of R A 2 and R A 3 and The total number of heteroatoms is 4 or more)

本発明は、さらに別の態様によれば、下記一般式(I)で表される、保護アミノ基含有アルコール化合物の金属塩に関する。

Figure 0006463229
(一般式(I)中、R 1a及びR 1bは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はR 1a及びR 1bは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、R は炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、R は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、又は炭素数3〜20の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、ここでR 及びR の炭素数の総数は4以上であり、又は、R がヘテロ原子を含む場合はR 及びR の炭素原子及びヘテロ原子の総数が4以上であり、Mはアルカリ金属を表す) According to still another aspect, the present invention relates to a metal salt of a protected amino group-containing alcohol compound represented by the following general formula (I).
Figure 0006463229
(In the general formula (I), R A 1a and R A 1b each independently represent an amino group protecting group, or one of them represents a hydrogen atom and the other represents an amino group protecting group, or R A 1a And R A 1b represents a cyclic protecting group which is bonded to each other to form a ring together with the nitrogen atom of the amino group, and R A 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or branched or cyclic having 3 to 6 carbon atoms And R A 3 is a single bond, a straight chain having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a branched or cyclic divalent group having 3 to 20 carbon atoms. Wherein the total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more, or when R A 3 contains a heteroatom, the carbon atoms of R A 2 and R A 3 and The total number of heteroatoms is 4 or more, and M represents an alkali metal)

本発明による、末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法を用いることにより、重合速度を低下させる原因である重合開始剤原料アルコールの実質的な存在なしに重合が可能となり、従来よりも温和な条件でアルキレンオキシドの重合を行うことができる。また、微量の水分に起因するジオールポリマー等の不純物の生成を抑制して、また仮に水分が混入してポリマー不純物が生成したとしても分離精製により除去することができ、狭分散かつ高純度のポリアルキレングリコール誘導体を製造することができる。また、この方法が精製工程も含む場合は、ポリアルキレングリコール誘導体の精製及び取り出しの際に凍結乾燥が不要のため、工業的な規模でポリアルキレングリコール誘導体を製造することができ、設備や工程の簡略化を実現することができるといったさらなる利点を有する。また、アミノ基が保護された重合開始剤を用いることにより、重金属を用いた還元法を使わなくてすみ、それに伴う副生成物の混入を防ぐことができるため、医薬品において避けるべき重金属不純物と副生成物の混入というリスクを低減することが可能となる。さらに、本発明に係る製造方法により製造されたポリアルキレングリコール誘導体は、重合開始剤が系内に均一に溶解しているため狭分散性であり、ドラッグデリバリーシステムの分野において有用な親水性セグメントと疎水性セグメントから形成されるブロック共重合体へと誘導する際に、非常に有利に用いることができる。さらにまた、本発明によるアミノ基が保護されたアルコール化合物及びそのアルカリ金属塩は、ポリアルキレングリコール誘導体の製造方法において、従来に替わる、より有用な重合開始剤及びその前駆体として用いることができるため非常に有用である。   By using the method for producing a polyalkylene glycol derivative having an amino group at the terminal according to the present invention, it becomes possible to perform polymerization without substantial presence of a polymerization initiator raw material alcohol that causes a decrease in the polymerization rate. The alkylene oxide can be polymerized under mild conditions. In addition, the generation of impurities such as diol polymer due to a small amount of moisture can be suppressed, and even if moisture is mixed and polymer impurities are generated, they can be removed by separation and purification. An alkylene glycol derivative can be produced. In addition, when this method also includes a purification step, the polyalkylene glycol derivative can be produced on an industrial scale because lyophilization is not required when the polyalkylene glycol derivative is purified and taken out. It has the further advantage that simplification can be realized. In addition, by using a polymerization initiator with a protected amino group, it is possible to avoid the use of a reduction method using heavy metals and to prevent contamination of by-products associated therewith. The risk of product contamination can be reduced. Further, the polyalkylene glycol derivative produced by the production method according to the present invention is narrowly dispersible because the polymerization initiator is uniformly dissolved in the system, and has a hydrophilic segment useful in the field of drug delivery systems. It can be used very advantageously in deriving into block copolymers formed from hydrophobic segments. Furthermore, since the amino group-protected alcohol compound and the alkali metal salt thereof according to the present invention can be used as a more useful alternative polymerization initiator and precursor in the production method of polyalkylene glycol derivatives. Very useful.

[実施形態1]
本発明は、下記一般式(I)で表される化合物を重合開始剤として使用し、前記重合開始剤とアルキレンオキシドとを反応させる工程を少なくとも含む、末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法である。一実施形態によれば、本発明は、下記に示す工程a)〜c)を順次経ることを特徴とする。(以下、この実施形態を「実施形態1」と称する場合がある。)
工程a)一般式(I)で表される重合開始剤とアルキレンオキシドとを重合溶媒中で反応させ、下記一般式(I−1)で表される化合物を得る工程、
工程b)一般式(I−1)で表される化合物を下記一般式(I−2)で表される化合物と反応させ、下記一般式(II)で表される化合物を得る工程、及び
工程c)一般式(II)で表される化合物を脱保護し、一般式(III)で表される化合物を得る工程。
[Embodiment 1]
The present invention uses a compound represented by the following general formula (I) as a polymerization initiator, and includes at least a step of reacting the polymerization initiator with an alkylene oxide. It is a manufacturing method. According to one embodiment, the present invention is characterized by sequentially performing the following steps a) to c). (Hereinafter, this embodiment may be referred to as “Embodiment 1”.)
Step a) A step of reacting a polymerization initiator represented by the general formula (I) with an alkylene oxide in a polymerization solvent to obtain a compound represented by the following general formula (I-1),
Step b) reacting a compound represented by the general formula (I-1) with a compound represented by the following general formula (I-2) to obtain a compound represented by the following general formula (II); c) A step of deprotecting the compound represented by the general formula (II) to obtain a compound represented by the general formula (III).

Figure 0006463229
Figure 0006463229

上記一般式(I)、(I−1)、及び(II)中、R 1a及びR 1bは、互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はR 1a及びR 1bは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示す。前記保護基は、好ましくは重金属触媒を使用することなく脱保護できる保護基である。R 1a及び/又はR 1bで表される保護基の種類は、例えば、以下の(ア)〜(エ)に分類して例示することができるが、これらに限定されるものではない。 In the general formulas (I), (I-1), and (II), R A 1a and R A 1b each independently represent an amino group protecting group, or one represents a hydrogen atom and the other represents an amino group. R A 1a and R A 1b represent a cyclic protecting group that is bonded to each other to form a ring with the nitrogen atom of the amino group. The protecting group is preferably a protecting group that can be deprotected without using a heavy metal catalyst. The types of protecting groups represented by R A 1a and / or R A 1b can be exemplified by, for example, the following (a) to (e), but are not limited thereto.

(ア)Si(Rで表される構造の保護基(トリアルキルシリル基)
上記一般式(I)、(I−1)、及び(II)中のR 1a及びR 1bが互いに独立にアミノ基の保護基を示す場合、及び、一方が水素原子、他方がアミノ基の保護基を示す場合、R 1a及び/又はR 1bは、Si(Rで表される構造の保護基(トリアルキルシリル基)であり得る。
上記のSi(Rで表される構造中、Rは独立して炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の1価の炭化水素基である。或いは、Rは互いに結合してこれらが結合するケイ素原子と共に3〜6員環を形成していてもよい。Rの具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。また、Rが互いに結合してケイ素原子と共に環を形成する場合はこれらの基から水素原子が一つ脱離した基などが挙げられる。
Si(Rで表される構造の保護基の好ましい具体例としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基等が挙げられるが、これらに限定はされない。
(A) Protecting group having a structure represented by Si (R 1 ) 3 (trialkylsilyl group)
When R A 1a and R A 1b in the general formulas (I), (I-1), and (II) each independently represent an amino group-protecting group, and one is a hydrogen atom and the other is an amino group R A 1a and / or R A 1b may be a protective group (trialkylsilyl group) having a structure represented by Si (R 1 ) 3 .
In the structure represented by the above Si (R 1 ) 3 , R 1 is independently a linear chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic monovalent hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms. is there. Alternatively, R 1 may be bonded to each other to form a 3- to 6-membered ring together with the silicon atom to which they are bonded. Specific examples of R 1 include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, and cyclopropyl group. , Cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like. In addition, when R 1 is bonded to each other to form a ring with a silicon atom, a group in which one hydrogen atom is eliminated from these groups can be mentioned.
Preferable specific examples of the protective group having a structure represented by Si (R 1 ) 3 include, but are not limited to, a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, and the like.

(イ)R OCOで表される構造の保護基
上記一般式(I)、(I−1)、及び(II)中のR 1a及びR 1bが互いに独立にアミノ基の保護基を示す場合、及び、一方が水素原子、他方がアミノ基の保護基を示す場合、R 1a及び/又はR 1bは、R OCOで表される構造の保護基であり得る。
上記のR OCOで表される構造中、R は炭素数1〜20の1価の炭化水素の残基であり、該残基はハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、ケイ素原子、リン原子又はホウ素原子を含んでいてもよい。
OCOの構造で示される保護基としては、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、tert−アミルオキシカルボニル基、2,2,2 − トリクロロエチルオキシカルボニル基、2−トリメチルシリルエチルオキシカルボニル基、フェニルエチルオキシカルボニル基、1−(1−アダマンチル)−1−メチルエチルオキシカルボニル基、1,1−ジメチル−2−ハロエチルオキシカルボニル基、1,1−ジメチル−2,2−ジブロモエチルオキシカルボニル基、1,1−ジメチル−2,2,2−トリクロロエチルオキシカルボニル基、1−メチル−1−(4−ビフェニルイル)エチルオキシカルボニル基、1−(3,5−ジ−t − ブチルフェニル)−1−メチルエチルオキシカルボニル基、2−(2'−ピリジル)エチルオキシカルボニル基、2−(4'−ピリジル)エチルオキシカルボニル基、2−(N,N−ジシクロヘキシルカルボキシアミド)エチルオキシカルボニル基、1 −アダマンチルオキシカルボニル基、ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、1 − イソプロピルアリルオキシカルボニル基、シンナミルオキシカルボニル基、4 − ニトロシンナミルオキシカルボニル基、8 − キノリルオキシカルボニル基、N − ヒドロキシピペリジニルオキシカルボニル基、アルキルジチオカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、p − メトキシベンジルオキシカルボニル基、p − ニトロベンジルオキシカルボニル基、p−ブロモベンジルオキシカルボニル基、p−クロロベンジルオキシカルボニル基、2,4−ジクロロベンジルオキシカルボニル基、4−メチルスルフィニルベンジルオキシカルボニル基、9−アントリルメチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、9−(2,7−ジブロモ)フルオレニルメチルオキシカルボニル基、2,7−ジ−t−ブチル−[9−(10,10−ジオキソ−チオキサンチル)]メチルオキシカルボニル基、4 − メトキシフェナシルオキシカルボニル基、2−メチルチオエチルオキシカルボニル基、2 − メチルスルホニルエチルオキシカルボニル基、2 − (p − トルエンスルホニル)エチルオキシカルボニル基、[2−(1,3−ジチアニル)]メチルオキシカルボニル基、4 − メチルチオフェニルオキシカルボニル基、2,4−ジメチルチオフェニルオキシカルボニル基、2 − ホスホニオエチルオキシカルボニル基、2−トリフェニルホスホニオイソプロピルオキシカルボニル基、1 ,1−ジメチル−2 − シアノエチルオキシカルボニル基、m−クロロ−p−アシロキシベンジルオキシカルボニル基、p−(ジヒドロキシボリル)ベンジルオキシカルボニル基、5−ベンゾイソオキサゾリルメチルオキシカルボニル基、2−(トリフルオロメチル)−6− クロモニルメチルオキシカルボニル基、フェニルオキシカルボニル基、m−ニトロフェニルオキシカルボニル基、3 ,5−ジメトキシベンジルオキシカルボニル基、o−ニトロベンジルオキシカルボニル基、3 ,4−ジメトキシ−6−ニトロベンジルオキシカルボニル基やフェニル(o−ニトロフェニル)メチルオキシカルボニル基等が例示できるが、これらに限定はされない。中でも、tert−ブチルオキシカルボニル基、2,2,2−トリクロロエチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基が好ましい。
( A ) Protecting group having a structure represented by R A 6 OCO In the above general formulas (I), (I-1), and (II), R A 1a and R A 1b are each independently an amino group protecting group. , And when one represents a hydrogen atom and the other represents an amino-protecting group, R A 1a and / or R A 1b may be a protecting group having a structure represented by R A 6 OCO.
In the structure represented by the above R A 6 OCO, R A 6 is a monovalent hydrocarbon residue having 1 to 20 carbon atoms, and the residue is a halogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, It may contain a silicon atom, a phosphorus atom or a boron atom.
Examples of the protecting group represented by the structure of R A 6 OCO include methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, tert-amyloxycarbonyl group, 2,2,2-trichloro Ethyloxycarbonyl group, 2-trimethylsilylethyloxycarbonyl group, phenylethyloxycarbonyl group, 1- (1-adamantyl) -1-methylethyloxycarbonyl group, 1,1-dimethyl-2-haloethyloxycarbonyl group, 1 , 1-dimethyl-2,2-dibromoethyloxycarbonyl group, 1,1-dimethyl-2,2,2-trichloroethyloxycarbonyl group, 1-methyl-1- (4-biphenylyl) ethyloxycarbonyl group, 1- (3,5-di-t-butylphenyl)- 1-methylethyloxycarbonyl group, 2- (2′-pyridyl) ethyloxycarbonyl group, 2- (4′-pyridyl) ethyloxycarbonyl group, 2- (N, N-dicyclohexylcarboxamido) ethyloxycarbonyl group, 1-adamantyloxycarbonyl group, vinyloxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, 1-isopropylallyloxycarbonyl group, cinnamyloxycarbonyl group, 4-nitrocinnamyloxycarbonyl group, 8-quinolyloxycarbonyl group, N- Hydroxypiperidinyloxycarbonyl group, alkyldithiocarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, p-methoxybenzyloxycarbonyl group, p-nitrobenzyloxycarbonyl group, p-bromobenzyloxycarbonyl group, p-chlorobenzene Jyloxycarbonyl group, 2,4-dichlorobenzyloxycarbonyl group, 4-methylsulfinylbenzyloxycarbonyl group, 9-anthrylmethyloxycarbonyl group, diphenylmethyloxycarbonyl group, 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group, 9 -(2,7-dibromo) fluorenylmethyloxycarbonyl group, 2,7-di-t-butyl- [9- (10,10-dioxo-thioxanthyl)] methyloxycarbonyl group, 4-methoxyphenacyloxy Carbonyl group, 2-methylthioethyloxycarbonyl group, 2-methylsulfonylethyloxycarbonyl group, 2- (p-toluenesulfonyl) ethyloxycarbonyl group, [2- (1,3-dithianyl)] methyloxycarbonyl group, 4 -Methylthiophenyloxycarbonyl 2,4-dimethylthiophenyloxycarbonyl group, 2-phosphonioethyloxycarbonyl group, 2-triphenylphosphonioisopropyloxycarbonyl group, 1,1-dimethyl-2-cyanoethyloxycarbonyl group, m-chloro-p -Acyloxybenzyloxycarbonyl group, p- (dihydroxyboryl) benzyloxycarbonyl group, 5-benzisoxazolylmethyloxycarbonyl group, 2- (trifluoromethyl) -6-chromonylmethyloxycarbonyl group, phenyloxy Carbonyl group, m-nitrophenyloxycarbonyl group, 3,5-dimethoxybenzyloxycarbonyl group, o-nitrobenzyloxycarbonyl group, 3,4-dimethoxy-6-nitrobenzyloxycarbonyl group and phenyl (o-nitrophenyl) Examples thereof include, but are not limited to, methyloxycarbonyl group. Of these, tert-butyloxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethyloxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, and 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group are preferable.

(ウ)環状保護基
1a及びR 1bが互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基である場合、このような環状保護基としては、N−フタロイル基、N−テトラクロロフタロイル基、N−4−ニトロフタロイル基、N−ジチアスクシロイル基、N−2,3−ジフェニルマレオイル基、N−2,5−ジメチルピロリル基、N−2,5−ビス( トリイソプロピルシロキシ)ピロリル基、N−1,1,3, 3−テトラメチル−1,3−ジシライソインドイル基、3,5−ジニトロ−4−ピリドニル基や1,3,5−ジオキサジニル基、2,2,5,5−テトラメチル−2,5−ジシラ−1−アザシクロペンタン等が例示できるが、これらに限定はされない。中でも、N−フタロイル基が好ましい。
(C) When the cyclic protecting groups R A 1a and R A 1b are bonded to each other to form a ring together with the nitrogen atom of the amino group, such cyclic protecting groups include an N-phthaloyl group, N -Tetrachlorophthaloyl group, N-4-nitrophthaloyl group, N-dithiasucciloyl group, N-2,3-diphenylmaleoyl group, N-2,5-dimethylpyrrolyl group, N-2, 5-bis (triisopropylsiloxy) pyrrolyl group, N-1,1,3,3-tetramethyl-1,3-disilaisoindoyl group, 3,5-dinitro-4-pyridonyl group, 1,3,5 -A dioxazinyl group, 2,2,5,5-tetramethyl-2,5-disila-1-azacyclopentane and the like can be exemplified, but are not limited thereto. Of these, an N-phthaloyl group is preferable.

(エ)その他の保護基
1a及び/又はR 1bが、上記(ア)〜(ウ)以外の保護基である場合、このような保護基としては、ベンジル基、p−メトキシベンジル基、p−トルエンスルホニル基、2−ニトロベンゼンスルホニル基、(2−トリメチルシリル)エタンスルホニル基、アリル基、ピバロイル基、メトキシメチル基、ジ(4−メトキシフェニル)メチル基、5−ジベンゾスベリル基、トリニルメチル基、(4−メトキシフェニル)ジフェニルメチル基、9−フェニルフルオレニル基、[2−(トリメチルシリル)エトキシ]メチル基やN−3−アセトキシプロピル基等が例示できるが、これらの保護基に限定はされない。好ましくは重金属触媒を使用することなく脱保護可能な保護基を、適宜選択して使用することができる。中でも、ベンジル基、p−トルエンスルホニル基、2−ニトロベンゼンスルホニル基、アリル基が好ましい。
(D) Other protecting groups When R A 1a and / or R A 1b is a protecting group other than (a) to (c) above, examples of such protecting groups include a benzyl group and a p-methoxybenzyl group. P-toluenesulfonyl group, 2-nitrobenzenesulfonyl group, (2-trimethylsilyl) ethanesulfonyl group, allyl group, pivaloyl group, methoxymethyl group, di (4-methoxyphenyl) methyl group, 5-dibenzosuberyl group, trinylmethyl Group, (4-methoxyphenyl) diphenylmethyl group, 9-phenylfluorenyl group, [2- (trimethylsilyl) ethoxy] methyl group, N-3-acetoxypropyl group and the like, but are limited to these protecting groups. Not done. Preferably, a protecting group that can be deprotected without using a heavy metal catalyst can be appropriately selected and used. Of these, a benzyl group, a p-toluenesulfonyl group, a 2-nitrobenzenesulfonyl group, and an allyl group are preferable.

上記一般式(I)、(I−1)、(II)、及び(III)中、R は、炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基である。R の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のそれぞれから、水素原子が一つ脱離した基などが挙げられる。 In the general formulas (I), (I-1), (II), and (III), R A 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic structure having 3 to 6 carbon atoms. It is a divalent hydrocarbon group. Specific examples of R A 2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopropyl group, Examples include a group in which one hydrogen atom is eliminated from each of a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.

上記一般式(I)、(I−1)、(II)、及び(III)中、R は、単結合、或いは窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、又は炭素数3〜20の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基である。R の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、フェニル基、0−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、メシチル基などのそれぞれから水素原子が一つ脱離した基などが挙げられる。これらの炭化水素基は、炭素原子の一部が窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子によって置換されていてもよい(ただし、一般式(I)においてはOを構成する酸素原子との結合部を、一般式(I−1)、(II)、及び(III)においては(OR )を構成する酸素原子との結合部を除く)。中でも、R は下記一般式(VII)で表される構造であることが好ましい。工程a)において、上記一般式(I)で表される重合開始剤と重合溶媒との相溶性が向上するためである。
−(OR − (VII)
上記一般式(VII)中、R は、上記一般式(I−1)、(I−2)、(II)、及び(III)中のR と同一であり、その具体例は後述する通りである。pは、1〜10の整数であり、重合開始剤の原料となるアルコール化合物を蒸留により精製する観点からは、好ましくは1〜5の整数、さらに好ましくは1〜2の整数である。
In the general formulas (I), (I-1), (II), and (III), R A 3 may contain a single bond or a hetero atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. It is a C1-C20 linear or C3-C20 branched or cyclic divalent hydrocarbon group. Specific examples of R A 3 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, cyclopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group. Decyl group, dodecyl group, phenyl group, 0-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,4-xylyl group, 2,5-xylyl group, 2,6- Examples include a group in which one hydrogen atom is eliminated from each of a xylyl group, a 3,4-xylyl group, a 3,5-xylyl group, a mesityl group, and the like. In these hydrocarbon groups, a part of carbon atoms may be substituted with a hetero atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom (however, in the general formula (I), oxygen constituting O M + In general formulas (I-1), (II), and (III), the bond with the atom is excluded from the bond with the oxygen atom constituting (OR A 5 ). Among them, it is preferred that R A 3 is a structure represented by the following general formula (VII). This is because in step a), the compatibility between the polymerization initiator represented by the above general formula (I) and the polymerization solvent is improved.
-(OR A 5 ) P- (VII)
In the general formula (VII), R A 5 is the general formula (I-1), (I -2), the same as R A 5 in (II), and (III), specific examples thereof As described later. p is an integer of 1 to 10, and is preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 2, from the viewpoint of purifying the alcohol compound that is a raw material of the polymerization initiator by distillation.

ここで、上記したR の炭素数とR の炭素数との総数は4以上である。なお、R において炭素原子の一部がヘテロ原子によって置換されている場合は、ヘテロ原子の数も炭素原子の数として換算した総数が4以上であればよい。R 及びR の炭素数の総数は、好ましくは4〜15であり、より好ましくは4〜9である。上記一般式(I)で表される重合開始剤において、両末端の窒素原子と酸素原子(Oを構成している酸素原子)とを連結するR 及びR からなる鎖の鎖長を4以上と長くすることによって、重合溶媒への溶解性が向上するとともに、一般式(I)で表される化合物において、窒素上の保護基が酸素上へ転移する可能性がある基質においては転移を防ぐことができる。 Here, the total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more. In the case where some of the carbon atoms are replaced by a heteroatom in R A 3, the total number was also calculated as the number of carbon atoms of the hetero atom may be at least 4. The total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is preferably 4-15, more preferably 4-9. In the polymerization initiator represented by the general formula (I), nitrogen atoms and oxygen atoms at both ends - chain of R A 2 and R A 3 connecting the (O oxygen atoms constituting the M +) In the compound represented by the general formula (I), there is a possibility that a protecting group on nitrogen may be transferred onto oxygen by increasing the chain length of the polymer to 4 or more. Metastases can be prevented in the substrate.

上記一般式(I−2)、(II)、及び(III)中、R は、水素原子、或いは置換されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜12の炭化水素基であり、かつ該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。R の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、フェニル基、0−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、メシチル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。R が置換基を有する場合、その置換基としては、例えば、アセタール化ホルミル基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アミノ基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜7のアシルアミド基、同一又は異なるトリ(炭素数1〜6のアルキル)シロキシ基、シロキシ基、シリルアミノ基、マレイミド基、チオール基、水酸基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、活性エステル基、及びアジ基が挙げられる。置換基を有するR として具体的には下記構造式で表されるものが例示できるがこれらに限定はされない。なお、下記式は、置換された構造のR の末端部分を示し、式中の点線は、R の炭化水素部分が上記に例示したようなバリエーションをとり得ることを示す。置換基の数は特に限定されないが、1〜3が好ましい。このような置換基は、さらに任意の適切な保護基で保護されていてもよい。 In the general formulas (I-2), (II), and (III), R A 4 represents a hydrogen atom or a linear, branched, or cyclic carbon atom having 1 to 12 carbon atoms that may be substituted. It is a hydrogen group, and the hydrocarbon group may contain a hetero atom. Specific examples of R A 4 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a cyclopentyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, and an octyl group. Decyl group, dodecyl group, phenyl group, 0-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,4-xylyl group, 2,5-xylyl group, 2,6- Examples include xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, mesityl group, vinyl group, allyl group and the like. When R A 4 has a substituent, examples of the substituent include an acetalized formyl group, a cyano group, a formyl group, a carboxyl group, an amino group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 2 to 7 carbon atoms. An acylamide group, the same or different tri (C1-6 alkyl) siloxy group, siloxy group, silylamino group, maleimide group, thiol group, hydroxyl group, methacryloyloxy group, acryloyloxy group, active ester group, and azide group Can be mentioned. Specific examples of R A 4 having a substituent include, but are not limited to, those represented by the following structural formula. In addition, the following formula shows the terminal portion of R A 4 having a substituted structure, and the dotted line in the formula indicates that the hydrocarbon portion of R A 4 can take variations as exemplified above. The number of substituents is not particularly limited, but is preferably 1 to 3. Such substituents may be further protected with any appropriate protecting group.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

上記一般式(I−1)、(I−2)、(II)、及び(III)中、R は、炭素数2〜8のアルキレン基である。中でも、炭素数2〜3のアルキレン基であることが好ましい。即ち、R はエチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。なお、上記一般式(I−1)、(I−2)、(II)、及び(III)中、(OR )単位としては1種のオキシアルキレン基、例えばオキシエチレン基、又はオキシプロピレン基のみで構成されていてもよいし、二種以上のオキシアルキレン基が混在していてもよい。2種以上のオキシアルキレン基が混在している場合、(OR )は2種以上の異なるオキシアルキレン基がランダム重合したものであってもよいし、ブロック重合したものであってもよい。 In the general formulas (I-1), (I-2), (II), and (III), R A 5 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms. Among these, an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms is preferable. That is, R A 5 is preferably an ethylene group or a propylene group. In the above general formulas (I-1), (I-2), (II), and (III), as the (OR A 5 ) unit, one kind of oxyalkylene group such as an oxyethylene group or oxypropylene is used. It may be comprised only by group, and 2 or more types of oxyalkylene groups may be mixed. When two or more kinds of oxyalkylene groups are mixed, (OR A 5 ) may be one obtained by randomly polymerizing two or more different oxyalkylene groups, or may be one obtained by block polymerization.

上記一般式(I)及び(I−1)中、Mは、アルカリ金属を表す。Mの具体例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、ナトリウム−カリウム合金等を挙げることができる。   In the general formulas (I) and (I-1), M represents an alkali metal. Specific examples of M include lithium, sodium, potassium, cesium, sodium-potassium alloy and the like.

上記一般式(I−1)中、rは、例えば1〜445の整数を表し、好ましくは10〜395の整数、さらに好ましくは20〜345の整数である。   In said general formula (I-1), r represents the integer of 1-445, for example, Preferably it is an integer of 10-395, More preferably, it is an integer of 20-345.

上記一般式(I−2)中、kは、例えば0〜5の整数である。kが0である場合の一般式(I−2)で表される化合物は低沸点で取り扱いが難しい場合や、毒性の高い場合があるため、kは1〜5の整数であることが好ましく、さらに1〜3の整数であることがより好ましい。   In the general formula (I-2), k is an integer of 0 to 5, for example. When k is 0, the compound represented by the general formula (I-2) has a low boiling point and may be difficult to handle or may be highly toxic. Therefore, k is preferably an integer of 1 to 5, Furthermore, it is more preferable that it is an integer of 1-3.

上記一般式(I−2)中、Lは脱離基を表す。Lの具体例としては、Cl、Br、I、トリフルオロメタンスルホナート(以下TfOと記す)、p−トルエンスルホナート(以下TsOと記す)、メタンスルホナート(以下MsOと記す)などが挙げられるが、これらに限定はされない。   In the general formula (I-2), L represents a leaving group. Specific examples of L include Cl, Br, I, trifluoromethanesulfonate (hereinafter referred to as TfO), p-toluenesulfonate (hereinafter referred to as TsO), methanesulfonate (hereinafter referred to as MsO), and the like. However, it is not limited to these.

上記一般式(II)及び(III)中、nは、1〜450の整数を表し、好ましくは10〜400の整数、さらに好ましくは20〜350の整数である。nは、上記したrとkの和でも表される。   In the general formulas (II) and (III), n represents an integer of 1 to 450, preferably an integer of 10 to 400, and more preferably an integer of 20 to 350. n is also represented by the sum of r and k described above.

本実施形態1の製造方法の各工程において用いる一般式(I)、(I−1)、(I−2)、及び(II)で表される各化合物の選択においては、所望の最終生成物である一般式(III)で表される化合物を得ることができるように、一般式(I)、(I−1)、(I−2)、及び(II)中において、所望のR 1a、R 1b、R 、R 、R 、R 、M、r、k、L、及びnを選択することができる。 In selecting each compound represented by the general formulas (I), (I-1), (I-2), and (II) used in each step of the production method of Embodiment 1, a desired final product In general formulas (I), (I-1), (I-2), and (II), the desired R A 1a can be obtained so that a compound represented by general formula (III) can be obtained. , R A 1b , R A 2 , R A 3 , R A 4 , R A 5 , M, r, k, L, and n can be selected.

また、本実施形態1は、工程a)〜c)の前に、任意選択的な工程として、重合開始剤として用いられる一般式(I)で表される化合物を合成するための前工程を有していてもよい。この前工程は、重合開始剤の前駆体として用いられる下記一般式(i)で表される化合物を合成する工程(前工程1)、及び、一般式(i)で表される化合物を用いて重合開始剤として用いられる一般式(I)で表される化合物を合成する工程(前工程2)を含む。なお、本実施形態には、前工程として、前工程1に引き続き前工程2を行う態様も、前工程1を経ずに前工程2のみを行う態様も含まれるものとする。前工程2のスキームを以下に示す。   Moreover, this Embodiment 1 has the pre-process for synthesize | combining the compound represented by general formula (I) used as a polymerization initiator as an optional process before process a) -c). You may do it. This pre-process uses the process (pre-process 1) which synthesize | combines the compound represented by the following general formula (i) used as a precursor of a polymerization initiator, and the compound represented by general formula (i). It includes a step of synthesizing the compound represented by the general formula (I) used as a polymerization initiator (pre-step 2). In addition, this embodiment includes a mode in which the previous step 2 is continued from the previous step 1 and a mode in which only the previous step 2 is performed without going through the previous step 1 as the previous step. The scheme of the previous step 2 is shown below.

Figure 0006463229
(上記一般式(i)中、R 1a、R 1b、R 、R 、及びMは、上記一般式(I)中のR 1a、R 1b、R 、R 、及びMと同一である。)
Figure 0006463229
(In the general formula (i), R A 1a , R A 1b , R A 2 , R A 3 , and M are R A 1a , R A 1b , R A 2 , R in the general formula (I). It is the same as A 3 and M.)

また、本実施形態1は、工程a)〜c)の後に、任意選択的な工程として、工程c)で得られた一般式(III)で表される化合物を精製する後処理工程を有していてもよい。   Moreover, this Embodiment 1 has the post-processing process which refine | purifies the compound represented by general formula (III) obtained by process c) as an optional process after process a) -c). It may be.

以下の実施形態の説明においては、時系列に沿って、前工程1〜2、工程a)〜c)、及び後処理工程の順に説明する。   In the description of the following embodiment, the description will be given in the order of the pre-process 1-2, the steps a) -c), and the post-processing step in time series.

[前工程1]
前工程1は、重合開始剤の前駆体として用いられる上記一般式(i)で表されるアルコール化合物の合成を行う工程であり、その製造は例えば下記工程(i−1)にて行うことができるが、これに限定されるものではない。
[Pre-process 1]
The pre-process 1 is a process of synthesizing the alcohol compound represented by the general formula (i) used as a precursor of the polymerization initiator, and the production thereof can be performed, for example, in the following process (i-1). Yes, but not limited to this.

Figure 0006463229
(上記一般式(ia)及び(ib)中、R 1a、R 1b、R 、及びR は上記一般式(i)中のR 1a、R 1b、R 、及びR と同一である。すなわち、上記一般式(I)中のR 1a、R 1b、R 、及びR と同一である。Lは脱離基を表す。)
Figure 0006463229
(In the general formulas (ia) and (ib), R A 1a , R A 1b , R A 2 , and R A 3 represent R A 1a , R A 1b , R A 2 , And R A 3. That is, R 1 is the same as R A 1a , R A 1b , R A 2 and R A 3 in the general formula (I), and L 1 represents a leaving group.

上記一般式(ia)及び(ib)中、Lの脱離基の具体例としては、Cl、Br、I、TfO、TsO、MsOなどが挙げられるが、これらに限定はされない。 In the general formulas (ia) and (ib), specific examples of the leaving group for L 1 include, but are not limited to, Cl, Br, I, TfO, TsO, MsO and the like.

上記工程(i−1)を実施して上記一般式(i)で表される化合物を合成する際には、例えば、無溶媒で一般式(ia)で表される化合物に塩基性化合物を加え、続いて一般式(ib)で表される化合物を滴下し、混合することで反応させてもよいし、適切な溶媒に、一般式(ia)で表される化合物を溶解させた後に塩基性化合物を加え、その後一般式(ib)で表される化合物を滴下し、混合することで反応させてもよい。一般式(ib)で表される化合物の使用量は、一般式(ia)で表される化合物のモル数に対して、例えば1〜5倍量、好ましくは1.5〜3倍量であり、選択的にアミノ基だけに保護基を反応させる観点からは、1.5〜2倍量がより好ましい。   When synthesizing the compound represented by the general formula (i) by carrying out the step (i-1), for example, a basic compound is added to the compound represented by the general formula (ia) without a solvent. Then, the compound represented by the general formula (ib) may be dropped and mixed to react, or the compound represented by the general formula (ia) is dissolved in an appropriate solvent and then the basic is reacted. You may make it react by adding a compound and then dripping and mixing the compound represented by general formula (ib). The amount of the compound represented by the general formula (ib) is, for example, 1 to 5 times, preferably 1.5 to 3 times the number of moles of the compound represented by the general formula (ia). From the viewpoint of selectively reacting the protective group only with the amino group, the amount of 1.5 to 2 times is more preferable.

上記工程(i−1)において溶媒を使用する場合、溶媒の具体例としては、THFや1,4−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレンなどのハロゲン類、N,N−ジメチルホルムアミドやN−メチル−2−ピロリドン、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるがこれらに限定はされない。溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般式(ia)で表される化合物の質量に対して、例えば1〜20倍量、好ましくは2〜10倍量、さらに好ましくは2〜5倍量である。   When a solvent is used in the above step (i-1), specific examples of the solvent include ethers such as THF and 1,4-dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and methylene chloride. Examples include, but are not limited to, halogens, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, acetonitrile, acetone and the like. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It is 1-20 times amount with respect to the mass of the compound represented by general formula (ia), Preferably it is 2-10 times amount, More preferably, it is 2-5 times Amount.

上記工程(i−1)において使用する塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなどの金属アルコキシド類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物類、第一級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、アンモニア水等が挙げられるが、これらには限定されない。塩基性化合物の使用量は、上記一般式(ia)で表される化合物のモル数に対し、例えば1〜5倍量、好ましくは1.5〜3倍量、より好ましくは1.5〜2倍量である。   Specific examples of the basic compound used in the step (i-1) include hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and tetramethylammonium hydroxide, and carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate. Metal alkoxides such as salts, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, primary, secondary and tertiary aliphatic amines , Mixed amines, aromatic amines, heterocyclic amines, aqueous ammonia and the like, but are not limited thereto. The amount of the basic compound used is, for example, 1 to 5 times, preferably 1.5 to 3 times, more preferably 1.5 to 2 times the number of moles of the compound represented by the general formula (ia). Double the amount.

上記工程(i−1)における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行うことができるが、例えば−60℃〜150℃、好ましくは0℃〜80℃である。上記工程(i−1)の反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式(ia)で表される化合物が消失したとき、または一般式(i)が主生成物として得られる時点とすることができる。   Although the reaction temperature in the said process (i-1) can be performed within the range of melting | fusing point-boiling point of the solvent to be used, it is -60 degreeC-150 degreeC, for example, Preferably it is 0 degreeC-80 degreeC. The completion of the reaction in the step (i-1) can be performed when the compound represented by the general formula (ia) disappears by gas chromatography or when the general formula (i) is obtained as a main product. .

1aとR 1bとを別の保護基にしたい場合や、保護基の立体障害が高く、アミノ基のみならずヒドロキシ基にも同時に保護基がかかってしまう場合には、最初にアミノ基を1つ目の保護基で保護した後に、脱保護可能な別の保護基によりヒドロキシ基を保護し、続いてアミノ基を2つ目の保護基で保護し、最後にヒドロキシ基の脱保護をして合成することができる。また、反応条件によって、アミノ基とヒドロキシ基との選択性が得られず、ヒドロキシ基に保護がかかることや、アミノ基に1つしか保護基が導入されない等が起こり得るが、その場合は、精密蒸留により一般式(i)で表される化合物とその他の副生成物を分けることができる。また、一般式(i)で表される化合物は副生成物が生成しない場合でも蒸留により精製し、水分を除去することが好ましい。その場合の一般式(i)で表される化合物の含水率は例えば50ppm以下、好ましくは10ppm以下、さらに好ましくは5ppm以下である。 If R A 1a and R A 1b are desired to be different protecting groups, or if the protecting group has a high steric hindrance and the protecting group is simultaneously applied not only to the amino group but also to the hydroxy group, the amino group Is protected with a first protecting group, then the hydroxy group is protected with another deprotectable protecting group, the amino group is subsequently protected with a second protecting group, and finally the hydroxy group is deprotected. And can be synthesized. Depending on the reaction conditions, selectivity between the amino group and the hydroxy group may not be obtained, and the hydroxy group may be protected, or only one protective group may be introduced into the amino group. The compound represented by general formula (i) and other by-products can be separated by precision distillation. Moreover, it is preferable to refine | purify the compound represented by general formula (i) by distillation, and to remove a water | moisture content, even when a by-product does not produce | generate. In this case, the water content of the compound represented by the general formula (i) is, for example, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, and more preferably 5 ppm or less.

上記一般式(i)で表される化合物がR にヘテロ原子を含む場合には、上記一般式(i)で表される化合物製造の別法として、例えばR のヘテロ原子の隣に水素原子を有する一般式(if)で表される化合物を使用する下記工程(i−2)〜(i−3)のような方法が挙げられるが、これに限定されるものではない。 When the compound represented by the general formula (i) contains a hetero atom in R A 3 , as another method for producing the compound represented by the general formula (i), for example, next to the hetero atom of R A 3 Although the method like the following process (i-2)-(i-3) using the compound represented by general formula (if) which has a hydrogen atom is mentioned, it is not limited to this.

Figure 0006463229
(上記一般式(ic)、(id)、(ie)、及び(if)中、R 1a、R 1b、R 、R 、及びLは上記一般式(ia)及び(ib)中のR 1a、R 1b、R 、R 、及びLと同一である。Lは脱離基を表す。)
Figure 0006463229
(In the general formulas (ic), (id), (ie), and (if), R A 1a , R A 1b , R A 2 , R A 3 , and L 1 are represented by the general formulas (ia) and (It is the same as R A 1a , R A 1b , R A 2 , R A 3 , and L 1 in ib), and L 2 represents a leaving group.)

上記一般式(ic)及び(ie)中、Lの脱離基の具体例としてはCl、Br、I、TfO、TsO、MsOなどが挙げられるが、これらに限定はされない。 In the general formulas (ic) and (ie), specific examples of the leaving group for L 2 include, but are not limited to, Cl, Br, I, TfO, TsO, MsO and the like.

上記工程(i−2)を実施する際には、例えば、無溶媒で一般式(ic)で表される化合物に塩基性化合物を加え、続いて一般式(id)で表される化合物を滴下し、混合することで反応させてもよいし、適切な溶媒に、一般式(ic)で表される化合物を溶解させた後に塩基性化合物を加え、その後一般式(id)で表される化合物を滴下し、混合することで反応させてもよい。一般式(id)で表される化合物の使用量は、一般式(ic)で表される化合物のモル数に対して例えば2〜10倍量、好ましくは2〜5倍量であり、さらに好ましくは2〜3倍量である。   When carrying out the step (i-2), for example, a basic compound is added to the compound represented by the general formula (ic) without a solvent, and then the compound represented by the general formula (id) is dropped. In addition, the compound represented by the general formula (ic) may be dissolved in an appropriate solvent, and then the basic compound is added, and then the compound represented by the general formula (id). You may make it react by dripping and mixing. The amount of the compound represented by the general formula (id) is, for example, 2 to 10 times, preferably 2 to 5 times, more preferably, the number of moles of the compound represented by the general formula (ic). Is 2-3 times the amount.

上記工程(i−2)において溶媒を使用する場合、溶媒の具体例は、上記工程(i−1)で記載した溶媒の具体例と同様である。溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般式(ic)で表される化合物の質量に対して例えば1〜20倍量、好ましくは2〜10倍量、さらに好ましくは2〜5倍量である。   When a solvent is used in the step (i-2), specific examples of the solvent are the same as the specific examples of the solvent described in the step (i-1). Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It is 1-20 times amount with respect to the mass of the compound represented by general formula (ic), Preferably it is 2-10 times amount, More preferably, it is 2-5 times amount. It is.

上記工程(i−2)において使用する塩基性化合物の具体例は、上記工程(i−1)で記載した塩基性化合物の具体例と同様である。塩基性化合物の使用量は、上記一般式(ic)で表される化合物のモル数に対し、例えば2〜10倍量、好ましくは2〜5倍量、より好ましくは2〜3倍量である。   Specific examples of the basic compound used in the step (i-2) are the same as the specific examples of the basic compound described in the step (i-1). The amount of the basic compound used is, for example, 2 to 10 times, preferably 2 to 5 times, more preferably 2 to 3 times the number of moles of the compound represented by the general formula (ic). .

上記工程(i−2)における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行うことができるが、例えば−60℃〜150℃、好ましくは0℃〜80℃である。反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式(ic)で表される化合物が消失したとき、または一般式(ie)で表される化合物が主生成物として得られる時点とすることができる。   Although the reaction temperature in the said process (i-2) can be performed within the range of melting | fusing point-boiling point of the solvent to be used, it is -60 degreeC-150 degreeC, for example, Preferably it is 0 degreeC-80 degreeC. The reaction can be completed when the compound represented by the general formula (ic) disappears by gas chromatography or when the compound represented by the general formula (ie) is obtained as a main product.

次いで、上記工程(i−3)を実施して上記一般式(i)で表される化合物を合成する際には、工程(i−2)終了後の反応液中に、一般式(if)で表される化合物と塩基性化合物を直接添加してもよいし、一度、一般式(ie)で表される化合物を精製して取り出した後に、一般式(if)で表される化合物と塩基性化合物、及び溶媒の混合溶液に滴下してもよい。また、(i−3)の工程は無溶媒で行うこともできる。一般式(if)で表される化合物の使用量は、一般式(ie)で表される化合物のモル数に対して、1〜30倍量、好ましくは2〜20倍量、さらに好ましくは5〜10倍量である。例えばR が上記一般式(VII)で表される化合物であった場合、一般式(if)で表される化合物はジオールとなるが、一般式(if)で表される化合物を一般式(ie)で表される化合物のモル数に対して過剰量用いることで、一般式(if)で表される化合物の一方の末端ヒドロキシ基を反応させることができる。 Next, when the step (i-3) is carried out to synthesize the compound represented by the general formula (i), the general formula (if) is added to the reaction solution after the completion of the step (i-2). The compound represented by general formula (if) may be added directly, or once the compound represented by general formula (ie) is purified and taken out, then the compound represented by general formula (if) and the base It may be added dropwise to a mixed solution of an organic compound and a solvent. Moreover, the process of (i-3) can also be performed without a solvent. The amount of the compound represented by the general formula (if) is 1 to 30 times, preferably 2 to 20 times, more preferably 5 with respect to the number of moles of the compound represented by the general formula (ie). -10 times the amount. For example, when R A 3 is a compound represented by the above general formula (VII), the compound represented by the general formula (if) is a diol, but the compound represented by the general formula (if) is represented by the general formula By using an excess amount with respect to the number of moles of the compound represented by (ie), one terminal hydroxy group of the compound represented by the general formula (if) can be reacted.

上記工程(i−3)において溶媒を使用する場合、溶媒の具体例は上記工程(i―1)で記載した溶媒の具体例と同様である。溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般式(ie)で表される化合物の質量に対して例えば1〜20倍量、好ましくは2〜10倍量、さらに好ましくは2〜5倍量である。上記工程(i−3)において使用する塩基性化合物の具体例は、上記工程(i―1)で記載した塩基性化合物の具体例と同様である。塩基性化合物の使用量は、上記一般式(ie)で表される化合物のモル数に対し、例えば1〜2倍量、好ましくは1〜1.5倍量、より好ましくは1〜1.2倍量である。   When a solvent is used in the step (i-3), specific examples of the solvent are the same as the specific examples of the solvent described in the step (i-1). Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It is 1-20 times amount with respect to the mass of the compound represented by general formula (ie), Preferably it is 2-10 times amount, More preferably, it is 2-5 times amount. It is. Specific examples of the basic compound used in the step (i-3) are the same as the specific examples of the basic compound described in the step (i-1). The amount of the basic compound used is, for example, 1 to 2 times, preferably 1 to 1.5 times, and more preferably 1 to 1.2 times the number of moles of the compound represented by the general formula (ie). Double the amount.

上記工程(i−3)における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行うことができるが、例えば−60℃〜150℃、好ましくは0℃〜80℃である。反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式(ie)で表される化合物が消失した時点とすることができる。反応条件によって、R 上のヘテロ原子と末端ヒドロキシ基との両方が一般式(ie)で表される化合物と反応し副生成物を生じることがあるが、その場合は精密蒸留により一般式(i)で表される化合物と副生成物を分けることができる。また、一般式(i)で表される化合物は副生成物が生成しない場合でも蒸留により精製し、水分を除去することが好ましい。その場合の一般式(i)で表される化合物の含水率は例えば50ppm以下、好ましくは10ppm以下、さらに好ましくは5ppm以下である。 Although the reaction temperature in the said process (i-3) can be performed within the range of melting | fusing point-boiling point of the solvent to be used, it is -60 degreeC-150 degreeC, for example, Preferably it is 0 degreeC-80 degreeC. The reaction can be completed at the time when the compound represented by the general formula (ie) disappears by gas chromatography. Depending on the reaction conditions, both the heteroatom on R A 3 and the terminal hydroxy group may react with the compound represented by the general formula (ie) to produce a by-product. The compound represented by (i) and the by-product can be separated. Moreover, it is preferable to refine | purify the compound represented by general formula (i) by distillation, and to remove a water | moisture content, even when a by-product does not produce | generate. In this case, the water content of the compound represented by the general formula (i) is, for example, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, and more preferably 5 ppm or less.

[前工程2]
前工程2は、上記一般式(i)で表される化合物と、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物とを反応させることにより、上記一般式(I)で表される化合物を得る工程である。
[Pre-process 2]
The previous step 2 is a step of obtaining the compound represented by the general formula (I) by reacting the compound represented by the general formula (i) with an alkali metal or an alkali metal compound.

前工程2において、一般式(i)で表される化合物と反応させるアルカリ金属又はアルカリ金属化合物とは、Mで表されるアルカリ金属、Mで表されるアルカリ金属の水素化物、R 、[R]・−で表される有機アルカリ金属(Rは、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数7〜20のアリールアルキル基を表し、Rは置換基を有していてもよい芳香族化合物を表す)、及びRで表される1価アルコールのアルカリ金属塩(Rは、炭素数1〜6のアルキル基を表す)からなる群より選択される物質をいうものとする。 In the previous step 2, the alkali metal or alkali metal compound to be reacted with the compound represented by the general formula (i) is an alkali metal represented by M, an alkali metal hydride represented by M + H , R An organic alkali metal represented by X M + , [R Y ] · − M + (R X represents an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 carbon atom) represents an 20 alkyl group or an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms of, R Y represents an even aromatic compound has a substituent), and R Z O - M + monovalent represented A substance selected from the group consisting of alkali metal salts of alcohol (R Z represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) shall be used.

Mのアルカリ金属の具体例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、ナトリウム−カリウム合金等を挙げることができる。Mの具体例としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム等を挙げることができる。R の具体例としては、エチルリチウム、エチルナトリウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、1,1−ジフェニルヘキシルリチウム、1,1−ジフェニル−3−メチルペンチルリチウム、1,1−ジフェニルメチルカリウム、クミルナトリウム、クミルカリウム、クミルセシウム等を挙げることができる。[R]・−の具体例としては、リチウムナフタレニド、ナトリウムナフタレニド、カリウムナフタレニド、アントレセンリチウム、アントラセンナトリウム、アントラセンカリウム、ビフェニルナトリウム、ナトリウム2−フェニルナフタレニド、フェナントレンナトリウム、ナトリウムアセナフチレニド、ナトリウムベンゾフェノンケチル、ナトリウム1−メチルナフタレニド、カリウム1−メチルナフタレニド、ナトリウム1−メトキシナフタレニド、カリウム1−メトキシナフタレニド等を挙げることができ、これらの化合物は1種単独で、または2種以上を混合して用いることもできる。RにおけるRの具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられるが、これらに限定はされない。中でも、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物としては、副反応を抑制する観点から、ナトリウム、カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムが好ましく、また反応性の高さの観点から、ナトリウムナフタレニド、カリウムナフタレニド、アントラセンナトリウム、アントラセンカリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシドが好ましい。 Specific examples of the M alkali metal include lithium, sodium, potassium, cesium, sodium-potassium alloy and the like. Specific examples of M + H include sodium hydride and potassium hydride. R X - M Specific examples of +, ethyllithium, sodium ethyl, n- butyl lithium, sec- butyl lithium, tert- butyl lithium, 1,1-diphenyl hexyl lithium, 1,1-diphenyl-3-methylpentyl Examples include lithium, 1,1-diphenylmethyl potassium, cumyl sodium, cumyl potassium, cumyl cesium and the like. Specific examples of [R Y ] · − M + include lithium naphthalenide, sodium naphthalenide, potassium naphthalenide, anthracene lithium, anthracene sodium, anthracene potassium, biphenyl sodium, sodium 2-phenylnaphthalenide, Phenanthrene sodium, sodium acenaphthylene, sodium benzophenone ketyl, sodium 1-methylnaphthalenide, potassium 1-methylnaphthalenide, sodium 1-methoxynaphthalenide, potassium 1-methoxynaphthalenide These compounds can be used singly or in combination of two or more. R Z O - Examples of R Z in M +, methyl group, ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, sec- butyl group, tert- butyl group, n- pentyl group, isopentyl Group, n-hexyl group and the like, but are not limited thereto. Of these, sodium, potassium, sodium hydride and potassium hydride are preferable from the viewpoint of suppressing side reactions as the alkali metal or alkali metal compound, and sodium naphthalenide and potassium naphtha are preferable from the viewpoint of high reactivity. Renide, sodium anthracene, anthracene potassium, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide and potassium ethoxide are preferred.

前工程2の反応において使用されるアルカリ金属又はアルカリ金属化合物の使用量は、上記一般式(i)で表される化合物のモル数に対し、0.5〜3.0当量、好ましくは0.8〜2.0当量、さらに好ましくは0.9〜1.0当量である。特に工程a)において重合開始剤としても働きうるアルカリ金属化合物を使用する場合には、使用量を1.0当量以下とする必要がある。例えばカリウムメトキシドを使用する場合には、前工程2において生成するメタノールを重合開始剤の合成後に減圧留去することにより、工程a)においてカリウムメトキシドが重合開始剤として働かないようにする必要がある。   The amount of alkali metal or alkali metal compound used in the reaction of the preceding step 2 is 0.5 to 3.0 equivalents, preferably 0. 0 to the number of moles of the compound represented by the general formula (i). 8 to 2.0 equivalents, more preferably 0.9 to 1.0 equivalents. In particular, when an alkali metal compound that can also function as a polymerization initiator is used in step a), the amount used must be 1.0 equivalent or less. For example, when potassium methoxide is used, it is necessary to prevent the potassium methoxide from acting as a polymerization initiator in step a) by distilling off the methanol produced in the previous step 2 under reduced pressure after the synthesis of the polymerization initiator. There is.

前工程2において、上記一般式(I)で表される化合物を合成する際には、例えば前工程1で蒸留精製した一般式(i)で表される化合物を適切な溶媒に溶解させた後、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物を直接添加してもよいし、適切な溶媒にアルカリ金属又はアルカリ金属化合物を溶解させたところに一般式(i)で表される化合物を添加してもよい。前工程2において使用する溶媒の具体例としては、THFや1、4−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類を例示することができるが、これらには限定されない。溶媒を用いる場合、金属ナトリウム等の脱水剤を用いて蒸留したものを使用することが好ましい。溶媒の含水率は、例えば50ppm以下、好ましくは10ppm以下、さらに好ましくは5ppm以下である。溶媒の使用量は特に限定されないが、上記一般式(i)で表される化合物の質量に対して、例えば1〜50倍量、好ましくは2〜10倍量、さらに好ましくは2〜5倍量である。また、前工程2の反応は−78〜100℃の温度、好ましくは0℃〜用いた溶媒の還流温度(例えば、0℃〜THFの還流温度である66℃)で行い、必要に応じて反応系の冷却や加熱を行うことができる。   In the previous step 2, when the compound represented by the general formula (I) is synthesized, for example, the compound represented by the general formula (i) purified by distillation in the previous step 1 is dissolved in an appropriate solvent. The alkali metal or the alkali metal compound may be added directly, or the compound represented by the general formula (i) may be added when the alkali metal or the alkali metal compound is dissolved in an appropriate solvent. Specific examples of the solvent used in the preceding step 2 include ethers such as THF and 1,4-dioxane, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, but are not limited thereto. . When using a solvent, it is preferable to use what was distilled using dehydrating agents, such as metallic sodium. The water content of the solvent is, for example, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It is 1-50 times amount with respect to the mass of the compound represented by the said general formula (i), Preferably it is 2-10 times amount, More preferably, it is 2-5 times amount. It is. The reaction in the previous step 2 is carried out at a temperature of −78 to 100 ° C., preferably 0 ° C. to the reflux temperature of the solvent used (for example, 0 ° C. to 66 ° C. which is the reflux temperature of THF). The system can be cooled and heated.

中でも、前工程2において使用する溶媒としては、後述する工程a)で重合溶媒として用いる溶媒と同じものを使用することが好ましい。前工程2で合成された重合開始剤が工程a)で使用する重合溶媒に溶解するかどうかを、前工程2の重合開始剤合成時に予め確認することができるためである。具体的には、例えば、前工程2の反応溶媒としてTHFを、アルカリ金属化合物として水素化カリウム(例えば上記一般式(i)で表される化合物に対して1.0当量以下の水素化カリウム)を、工程a)の重合溶媒としてTHFを使用する場合、重合開始剤の重合溶媒への溶解性を以下のように確認することができる。前工程2における反応が進行し粉末状の水素化カリウムが減少するとともに水素が発生する。このとき生成する上記一般式(I)で表される重合開始剤が、前工程2の反応溶媒であるTHFに析出せずに、また、最終的に水素化カリウムが全て反応したときに反応溶液中に塩の析出及び白濁がないかどうかを確認することで、後の工程a)における重合開始剤の重合溶媒への溶解性を事前に確認することができる。   Among them, as the solvent used in the previous step 2, it is preferable to use the same solvent as the solvent used as the polymerization solvent in the step a) described later. This is because whether or not the polymerization initiator synthesized in the previous step 2 is dissolved in the polymerization solvent used in the step a) can be confirmed in advance during the synthesis of the polymerization initiator in the previous step 2. Specifically, for example, THF is used as the reaction solvent in the previous step 2, and potassium hydride is used as the alkali metal compound (for example, 1.0 equivalent or less of potassium hydride with respect to the compound represented by the general formula (i)). When THF is used as the polymerization solvent in step a), the solubility of the polymerization initiator in the polymerization solvent can be confirmed as follows. The reaction in the previous step 2 proceeds to reduce the powdered potassium hydride and generate hydrogen. When the polymerization initiator represented by the above general formula (I) produced at this time does not precipitate in THF, which is the reaction solvent of the previous step 2, and finally all of the potassium hydride has reacted, the reaction solution By confirming whether there is any salt precipitation or cloudiness, the solubility of the polymerization initiator in the polymerization solvent in the subsequent step a) can be confirmed in advance.

また、工程a)で使用する重合溶媒への一般式(I)で表される重合開始剤の溶解性を予め確認する別法としては、下記方法が例示できるが、これに限定はされない。上記のように一般式(i)で表される化合物とアルカリ金属又はアルカリ金属化合物とを反応させて一般式(I)で表される重合開始剤を合成し、その後一般式(I)で表される重合開始剤以外の溶媒や試薬を常法により除去して、一般式(I)で表される重合開始剤を取り出す。得られた一般式(I)で表される重合開始剤を、例えば20wt%の濃度で後の工程a)で使用する重合溶媒に溶解させ、目視により塩の析出や白濁が見られないかを確認することができる。   Moreover, although the following method can be illustrated as another method which confirms beforehand the solubility of the polymerization initiator represented by general formula (I) in the polymerization solvent used in step a), it is not limited thereto. As described above, the compound represented by the general formula (i) is reacted with an alkali metal or an alkali metal compound to synthesize a polymerization initiator represented by the general formula (I), and then represented by the general formula (I). Solvents and reagents other than the polymerization initiator are removed by a conventional method, and the polymerization initiator represented by the general formula (I) is taken out. The obtained polymerization initiator represented by the general formula (I) is dissolved in, for example, a polymerization solvent used in the subsequent step a) at a concentration of 20 wt%, and whether salt precipitation or white turbidity is visually observed. Can be confirmed.

上述の通り、重合開始剤の原料である一価アルコールが水分を含んだ状態で重合開始剤を調製して、その重合開始剤を用いてアルキレンオキシドとの重合を行うと、ジオールポリマーが副生する。ジオールポリマーは目的物から分離することが極めて難しく、ジオールポリマーやそれ由来の不純物を含むポリマーをそのまま使用すると、ポリマーミセル化剤の目的の性能が得られなくなる可能性が高い。そのため、後の工程a)において重合反応を行う際には、一般式(I)で表される化合物(重合開始剤)を含む反応系の水分を極力低く抑えることが好ましい。これに関して、一般式(I)で表される化合物の前駆体である上記一般式(i)で表される化合物は、例えば、R 1a=R 1b=トリエチルシリル基、R =CHCHCH、R =OCHCHの場合、沸点が120℃(10Pa)と高く、水との沸点差が十分にあるため、減圧乾燥を行うことにより水を分離することが可能である。そのため、前工程2における一般式(i)で表される化合物とアルカリ金属又はアルカリ金属化合物との反応前には、一般式(i)で表される化合物に対して、十分に減圧乾燥を行った後に蒸留を行うことが好ましい。蒸留後の一般式(i)で表される化合物の含水率は、例えば50ppm以下、好ましくは10ppm以下、さらに好ましくは5ppm以下となるようにする。このように重合開始剤の原料である一般式(i)で表される化合物を水分を極力含まない状態とすることにより、得られた重合開始剤を用いて重合反応を行う際に、ジオールポリマーの副生をより良く抑えることができる。 As described above, when a polymerization initiator is prepared in a state where the monohydric alcohol that is a raw material of the polymerization initiator contains moisture, and polymerization is performed with alkylene oxide using the polymerization initiator, a diol polymer is formed as a by-product. To do. The diol polymer is extremely difficult to separate from the target product, and if the diol polymer or a polymer containing impurities derived from the diol polymer is used as it is, there is a high possibility that the intended performance of the polymer micelle agent cannot be obtained. Therefore, when performing the polymerization reaction in the subsequent step a), it is preferable to keep the water content of the reaction system containing the compound (polymerization initiator) represented by the general formula (I) as low as possible. In this regard, the compound represented by the general formula (i), which is a precursor of the compound represented by the general formula (I), is, for example, R A 1a = R A 1b = triethylsilyl group, R A 2 = CH In the case of 2 CH 2 CH 2 , R A 3 = OCH 2 CH 2 , the boiling point is as high as 120 ° C. (10 Pa), and there is a sufficient difference in boiling point from water, so water can be separated by drying under reduced pressure. Is possible. Therefore, before the reaction of the compound represented by the general formula (i) and the alkali metal or the alkali metal compound in the previous step 2, the compound represented by the general formula (i) is sufficiently dried under reduced pressure. It is preferable to carry out the distillation after a short time. The water content of the compound represented by the general formula (i) after distillation is, for example, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, and more preferably 5 ppm or less. As described above, when the polymerization initiator is used to perform a polymerization reaction by making the compound represented by the general formula (i), which is a raw material of the polymerization initiator, into a state containing as little water as possible, a diol polymer is used. Can be better suppressed.

なお、前工程2で使用した一般式(i)で表される原料アルコールの物質量と前工程2終了後の反応溶液の全体の重さから、前工程2の終了後の反応溶液(重合開始剤合成後の反応溶液)中の、重合開始剤として働きうる物質の濃度(mmol/g)を求めることができる。すなわち、前工程2終了後の反応溶液中の、重合開始剤として働きうる物質の濃度は、「使用した原料アルコール(i)の物質量(mmol)/前工程2終了後の反応溶液全体の重さ(g)」で求めることができる。前工程2終了後の反応溶液中に一般式(i)で表される原料アルコールが残っている場合には、その原料アルコールも重合開始剤として働くためである。(次工程a)における反応は平衡反応であるため、一般式(I)で表される化合物が重合開始剤として反応し生成したポリマー末端アルコキシドが原料アルコール(i)のプロトンを引き抜き、アルコキシド(重合開始剤)として働かせる。)ただし後述のように、前工程2の終了後の反応溶液中の原料アルコール残量はできるだけ少ないことが望ましい。前工程2の終了後の反応溶液は、そのまま後の工程a)における重合開始剤溶液として用いることができる。   In addition, from the amount of the raw material alcohol represented by the general formula (i) used in the previous step 2 and the total weight of the reaction solution after the previous step 2, the reaction solution after the completion of the previous step 2 (polymerization start) The concentration (mmol / g) of a substance that can act as a polymerization initiator in the reaction solution after the synthesis of the agent can be determined. That is, the concentration of the substance that can act as a polymerization initiator in the reaction solution after the end of the previous step 2 is “the amount of the raw material alcohol (i) used (mmol) / the weight of the entire reaction solution after the end of the previous step 2”. (G) ". This is because when the raw material alcohol represented by the general formula (i) remains in the reaction solution after completion of the previous step 2, the raw material alcohol also functions as a polymerization initiator. Since the reaction in the (next step a) is an equilibrium reaction, the polymer terminal alkoxide produced by the reaction of the compound represented by the general formula (I) as a polymerization initiator draws the proton of the raw material alcohol (i), and the alkoxide (polymerization). Act as an initiator). However, as will be described later, it is desirable that the amount of raw material alcohol remaining in the reaction solution after completion of the previous step 2 is as small as possible. The reaction solution after completion of the previous step 2 can be used as it is as a polymerization initiator solution in the subsequent step a).

従来、一般的に用いられている重合開始剤であるナトリウム塩やカリウム塩は、THFなどの重合溶媒には単独では溶解しないことが多い。その場合、均一な重合を行うためには開始剤原料であるアルコールを過剰量残しておく必要がある(例えば特許文献4では重合開始剤であるナトリウムメトキシド2molに対してメタノール13mol)。しかし、これらのアルコールが反応系中に存在すると、重合速度の低下が避けられず、重合速度を上げるためには高温や高圧などの厳しい反応条件が必要となる。これに対し、本実施形態で重合開始剤として用いる一般式(I)で表されるアミノ基が保護基で保護されたアルコール誘導体は、分子内の構造に重合溶媒と類似の構造を有するため、重合溶媒に易溶である。例えば、R がオキシエチレン構造を有する場合、一般式(I)で表される化合物はTHFやジエチレングリコールジメチルエーテルなどを含むエーテル化合物に易溶である。そのため、重合開始剤の重合溶媒への溶解のために、開始剤原料アルコールを残しておく必要がない。そのため、重合速度が向上し、かつ温和な条件下での重合が可能である。 Conventionally, a sodium salt or potassium salt, which is a polymerization initiator that is generally used, often does not dissolve alone in a polymerization solvent such as THF. In that case, in order to perform uniform polymerization, it is necessary to leave an excessive amount of alcohol as an initiator raw material (for example, in Patent Document 4, 13 mol of methanol with respect to 2 mol of sodium methoxide as a polymerization initiator). However, when these alcohols are present in the reaction system, a decrease in polymerization rate is unavoidable, and severe reaction conditions such as high temperature and high pressure are required to increase the polymerization rate. In contrast, the alcohol derivative in which the amino group represented by the general formula (I) used as a polymerization initiator in the present embodiment is protected with a protecting group has a structure similar to the polymerization solvent in the structure of the molecule, It is easily soluble in the polymerization solvent. For example, when R A 3 has an oxyethylene structure, the compound represented by the general formula (I) is readily soluble in ether compounds including THF, diethylene glycol dimethyl ether and the like. Therefore, it is not necessary to leave the initiator raw material alcohol in order to dissolve the polymerization initiator in the polymerization solvent. Therefore, the polymerization rate is improved and the polymerization can be performed under mild conditions.

このように、次の工程a)において温和な条件で十分な反応速度を得るためには、前工程2において、開始剤原料アルコール残量が少ない重合開始剤を合成することが好ましい。具体的には、一般式(i)で表される開始剤原料アルコールから一般式(I)で表される重合開始剤を合成した後の、一般式(I)で表される重合開始剤と一般式(i)で表される開始剤原料アルコールの物質量比率が、100:0〜80:20(mol%)となることが好ましく、さらに好ましくは100:0〜90:10(mol%)となるように反応させる。そのためには、前工程2を、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物の使用モル数が一般式(i)で表される化合物の0.8〜1.5、好ましくは0.9〜1.0となるような条件で行うことが好ましい。   Thus, in order to obtain a sufficient reaction rate under the mild conditions in the next step a), it is preferable to synthesize a polymerization initiator with a small residual amount of initiator raw material alcohol in the previous step 2. Specifically, after synthesizing the polymerization initiator represented by the general formula (I) from the initiator raw material alcohol represented by the general formula (i), the polymerization initiator represented by the general formula (I) The mass ratio of the initiator raw material alcohol represented by the general formula (i) is preferably 100: 0 to 80:20 (mol%), more preferably 100: 0 to 90:10 (mol%). React so that For that purpose, in the previous step 2, the number of moles of alkali metal or alkali metal compound used is 0.8 to 1.5, preferably 0.9 to 1.0, of the compound represented by formula (i). It is preferable to carry out under such conditions.

また、上述の一般式(I)で表される重合開始剤を合成した後に、一般式(i)で表される開始剤原料アルコールを反応系から減圧留去することも可能である。その場合、前工程2の終了後の一般式(I)で表される重合開始剤と一般式(i)で表される開始剤原料アルコールの物質量比率が100:0〜98:2(mol%)となるまで原料アルコールを除去することが好ましく、さらに好ましくは100:0〜99:1(mol%)となるまで原料アルコールを除去することが好ましい。原料アルコール残量を少なくすることで、次の工程a)における重合速度をより高めることができる。   Moreover, after synthesizing the polymerization initiator represented by the above general formula (I), the initiator raw material alcohol represented by the general formula (i) can be distilled off from the reaction system under reduced pressure. In that case, the mass ratio of the polymerization initiator represented by the general formula (I) and the initiator raw material alcohol represented by the general formula (i) after the end of the previous step 2 is 100: 0 to 98: 2 (mol). %), It is preferable to remove the raw alcohol until it becomes 100% to 99: 1 (mol%), more preferably the raw alcohol is removed. By reducing the raw material alcohol remaining amount, the polymerization rate in the next step a) can be further increased.

本実施形態では、上述の通り、重合開始剤の重合溶媒への溶解度向上要因であり、一方重合速度低下要因でもある、一般式(i)で表される開始剤原料アルコール化合物が残っておらずとも、開始剤である一般式(I)で表される化合物を重合溶媒に溶解することができる。その役割を果たす構造が一般式(I)中のR であり、例えば重合溶媒がTHFの場合、好ましくはR を、上記した一般式(VII)で表される構造((OR )とすることで、重合開始剤と重合溶媒の相溶性が高まり、開始剤原料アルコールの実質的な存在なしに重合開始剤が重合溶媒へと溶解することができる。結果、均一な系での重合が可能となり、狭分散ポリアルキレングリコール誘導体を温和な条件で合成することが可能となる。 In this embodiment, as described above, the initiator raw material alcohol compound represented by the general formula (i), which is a factor for improving the solubility of the polymerization initiator in the polymerization solvent, and also a factor for decreasing the polymerization rate, is not left. In both cases, the compound represented by the general formula (I) as an initiator can be dissolved in a polymerization solvent. The structure that plays the role is R A 3 in the general formula (I). For example, when the polymerization solvent is THF, R A 3 is preferably represented by the structure represented by the general formula (VII) ((OR A 5 ) By setting p ), the compatibility between the polymerization initiator and the polymerization solvent is increased, and the polymerization initiator can be dissolved in the polymerization solvent without substantial presence of the initiator raw material alcohol. As a result, polymerization in a uniform system becomes possible, and a narrowly dispersed polyalkylene glycol derivative can be synthesized under mild conditions.

[工程a)]
工程a)は、上記一般式(I)で表される化合物(重合開始剤)とアルキレンオキシドとを重合溶媒中で反応させる工程である。工程a)によれば、下記一般式(I−1)で表される化合物を得ることができる。
[Step a)]
Step a) is a step of reacting the compound represented by the above general formula (I) (polymerization initiator) with an alkylene oxide in a polymerization solvent. According to step a), a compound represented by the following general formula (I-1) can be obtained.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

工程a)では、好ましくは一般式(I)で表される化合物を重合溶媒中に完全に溶解させた後、アルキレンオキシドと反応させる。上記のように、一般式(I)で表される化合物は、その原料アルコールである一般式(i)で表される化合物が実質的に存在しなくとも重合溶媒に易溶である。中でも、重合溶媒との高相溶性の観点からは、一般式(I)中のR は、上記した一般式(VII)で表されるアルキレンオキシド構造(−(OR −)を有することが好ましい。一般式(I)で表される化合物が重合溶媒中に完全に溶解できたことは、例えば目視により重合溶媒中に塩の析出や白濁が見られないことで確認することができる。この際、一般式(I)で表される化合物の質量に対する重合溶媒の質量が10倍量以下(かつ1倍量以上)の状態で、塩の析出や白濁が見られないことが望ましい。すなわち、一般式(I)で表される化合物を含む重合溶媒溶液中の一般式(I)で表される化合物の濃度としては、9.1重量%以上(かつ50重量%以下)の状態で、塩の析出や白濁が見られないことが望ましい。上記のように一般式(I)で表される化合物が重合溶媒中に完全に溶解できたことを確認した後は、確認時の濃度のまま一般式(I)で表される化合物を含む重合溶媒溶液を重合反応に使用してもよいし、更に重合溶媒を加えて希釈した状態で重合反応に使用してもよい。なお、重合溶媒の量は、重合反応開始時において、使用するアルキレンオキシドの質量に対して、例えば1〜50倍量、好ましくは2〜25倍量となるように調整されればよい。 In step a), the compound represented by general formula (I) is preferably completely dissolved in the polymerization solvent and then reacted with the alkylene oxide. As described above, the compound represented by the general formula (I) is easily soluble in the polymerization solvent even when the compound represented by the general formula (i), which is the starting alcohol, is substantially absent. Among these, from the viewpoint of high compatibility with the polymerization solvent, R A 3 in the general formula (I) is an alkylene oxide structure (— (OR A 5 ) P —) represented by the above general formula (VII). It is preferable to have. The fact that the compound represented by the general formula (I) can be completely dissolved in the polymerization solvent can be confirmed by, for example, visual observation of no salt precipitation or cloudiness in the polymerization solvent. At this time, it is desirable that salt precipitation or cloudiness is not observed in a state where the mass of the polymerization solvent relative to the mass of the compound represented by the general formula (I) is 10 times or less (and 1 time or more). That is, the concentration of the compound represented by the general formula (I) in the polymerization solvent solution containing the compound represented by the general formula (I) is 9.1% by weight or more (and 50% by weight or less). It is desirable that salt precipitation and cloudiness are not observed. After confirming that the compound represented by the general formula (I) can be completely dissolved in the polymerization solvent as described above, the polymerization including the compound represented by the general formula (I) with the concentration at the time of confirmation. A solvent solution may be used for the polymerization reaction, or may be further used for the polymerization reaction in a diluted state by adding a polymerization solvent. The amount of the polymerization solvent may be adjusted so as to be, for example, 1 to 50 times, preferably 2 to 25 times the mass of the alkylene oxide used at the start of the polymerization reaction.

また、上記のように、原料アルコールの存在は重合速度の低下要因となるため、工程a)では、原料アルコールが少ない状態で重合開始剤を用いることが好ましい。例えば、工程a)の前に上記の前工程2を実施した場合には、前工程2で得られた、好ましくは100:0〜80:20の物質量比率で一般式(I)で表される重合開始剤と一般式(i)で表される原料アルコールとを含む反応生成物(原料アルコールの少ない反応生成物)を、そのまま重合溶媒に溶解させて使用することが好ましい。   Further, as described above, since the presence of the raw material alcohol causes a decrease in the polymerization rate, it is preferable to use the polymerization initiator in a state where the raw material alcohol is small in step a). For example, when the preceding step 2 is carried out before the step a), it is represented by the general formula (I) at a substance amount ratio obtained in the preceding step 2, preferably 100: 0 to 80:20. It is preferable to use a reaction product (a reaction product with less raw material alcohol) containing a polymerization initiator and a raw material alcohol represented by the general formula (i) as it is dissolved in a polymerization solvent.

工程a)で使用する重合溶媒としては、重合開始剤との高相溶性の観点から、炭素数4〜10の環状エーテル化合物や直鎖状、もしくは分岐状のエーテル化合物が好ましく用いられる。環状エーテル化合物の具体例としては、フラン、2,3−ジヒドロフラン、2,5−ジヒドロフラン、2,3−ジメチルフラン、2,5−ジメチルフラン、テトラヒドロフラン(THF)、2−メチルテトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン、2,5−ジメチルテトラヒドロフラン、1,2−メチレンジオキシベンゼン、1,3−ジオキソラン、2−メチル−1,3−ジオキソラン、4−メチル−1,3−ジオキソラン、2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、2,4−ジメチル−1,3−ジオキサン、1,4−ベンゾジオキサン、1,3,5−トリオキサン、オキセパン等が例示できるが、これらに限定はされない。直鎖状、もしくは分岐状のエーテル化合物の具体例としてはモノエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等が例示できるが、これらに限定はされない。特にTHFが好ましく用いられる。また、エーテル化合物以外の重合溶媒を使用することも可能であり、その具体例としてはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が例示出来るが、これらに限定はされない。用いる重合溶媒は、単体溶剤でも良いし、二種以上を組み合わせて用いても良く、組み合わせる場合の、化合物の組み合わせ、並びにその混合比は限定されない。   As the polymerization solvent used in step a), a cyclic ether compound having 4 to 10 carbon atoms or a linear or branched ether compound is preferably used from the viewpoint of high compatibility with the polymerization initiator. Specific examples of the cyclic ether compound include furan, 2,3-dihydrofuran, 2,5-dihydrofuran, 2,3-dimethylfuran, 2,5-dimethylfuran, tetrahydrofuran (THF), 2-methyltetrahydrofuran, 3 -Methyltetrahydrofuran, 2,5-dimethyltetrahydrofuran, 1,2-methylenedioxybenzene, 1,3-dioxolane, 2-methyl-1,3-dioxolane, 4-methyl-1,3-dioxolane, 2,2- Dimethyl-1,3-dioxolane, 3,4-dihydro-2H-pyran, tetrahydropyran, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane, 2,4-dimethyl-1,3-dioxane, 1,4-benzo Although dioxane, 1,3,5-trioxane, oxepane, etc. can be illustrated, it is not limited to these. Specific examples of the linear or branched ether compound include monoethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol dimethyl ether, but are not limited thereto. In particular, THF is preferably used. Moreover, it is also possible to use polymerization solvents other than an ether compound, and specific examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, but are not limited thereto. The polymerization solvent to be used may be a single solvent or a combination of two or more. The combination of compounds and the mixing ratio in the case of combination are not limited.

重合反応に使用する重合溶媒の量は特に限定されないが、使用するアルキレンオキシドの質量に対して、例えば1〜50倍量、好ましくは2〜30倍量、さらに好ましくは3〜20倍量である。重合溶媒は、例えば、金属ナトリウム等の脱水剤を用いて蒸留したものを使用することが好ましい。重合溶媒の含水率は、例えば50ppm以下、好ましくは10ppm以下、さらに好ましくは5ppm以下である。   The amount of the polymerization solvent used for the polymerization reaction is not particularly limited, but is, for example, 1 to 50 times, preferably 2 to 30 times, and more preferably 3 to 20 times the mass of the alkylene oxide to be used. . As the polymerization solvent, for example, a solvent distilled using a dehydrating agent such as metallic sodium is preferably used. The water content of the polymerization solvent is, for example, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less.

使用するアルキレンオキシドの具体例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシドが挙げられる。中でも、重合性が高いという点でエチレンオキシドが好ましい。重合反応に使用する一般式(I)で表される化合物とアルキレンオキシドとの使用量比としては、特に限定されないが、一般式(I)で表される化合物:アルキレンオキシドの物質量比として、例えば1:1〜1:450、好ましくは1:10〜1:400である。   Specific examples of the alkylene oxide used include ethylene oxide and propylene oxide. Of these, ethylene oxide is preferable because of its high polymerizability. The amount ratio of the compound represented by the general formula (I) used in the polymerization reaction and the alkylene oxide is not particularly limited, but the substance amount ratio of the compound represented by the general formula (I): alkylene oxide is: For example, 1: 1 to 1: 450, preferably 1:10 to 1: 400.

工程a)では、例えば、一般式(I)で表される化合物を重合溶媒中に溶解させた反応系にアルキレンオキシドを一括添加しても良いし、逐次添加しても良い。あるいは上述の重合溶媒にアルキレンオキシドを溶解した溶液を、上記の反応系に滴下しても良い。重合は、例えば30〜80℃の温度で行うことができるが、好ましくは50〜80℃、さらに好ましくは60〜80℃の温度で実施する。重合反応時の圧力は、例えば1.0MPa以下、好ましくは0.5MPa以下である。重合反応の進行度はGPCで追跡することができ、アルキレンオキシドの転化率に変化がなくなった時点を終点とすることができる。本実施形態では上記のように、重合に際して高温や高圧などの厳しい反応条件を必要としない点で有利である。   In step a), for example, alkylene oxide may be added all at once or sequentially to a reaction system in which the compound represented by formula (I) is dissolved in a polymerization solvent. Alternatively, a solution obtained by dissolving alkylene oxide in the above-described polymerization solvent may be dropped into the above reaction system. The polymerization can be performed, for example, at a temperature of 30 to 80 ° C., preferably 50 to 80 ° C., more preferably 60 to 80 ° C. The pressure during the polymerization reaction is, for example, 1.0 MPa or less, preferably 0.5 MPa or less. The degree of progress of the polymerization reaction can be monitored by GPC, and the end point can be the point at which the change in the conversion rate of the alkylene oxide ceases. As described above, this embodiment is advantageous in that it does not require severe reaction conditions such as high temperature and high pressure during polymerization.

[工程b)]
工程b)は、工程a)で得られた上記一般式(I−1)で表される化合物と下記一般式(I−2)で表される化合物とを反応させる工程である。工程b)により、下記一般式(II)で表される化合物を得ることができる。
(OR L (I−2)
[Step b)]
Step b) is a step of reacting the compound represented by the general formula (I-1) obtained in step a) with the compound represented by the following general formula (I-2). By the step b), a compound represented by the following general formula (II) can be obtained.
R A 4 (OR A 5 ) k L (I-2)

Figure 0006463229
Figure 0006463229

工程b)において、上記一般式(II)で表される化合物を合成する際には、例えば、工程a)の反応終了後の反応液((I−1)を含む反応液)中に、一般式(I−2)で表される化合物を直接添加しても良いし、必要に応じて適切な溶媒に一般式(I−2)で表される化合物を溶解させて使用しても良い。使用する溶媒の具体例としては、THFや1、4−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類を例示することができる。溶媒の使用量は特に限定されないが、上記一般式(I−2)で表される化合物の質量に対して、例えば1〜50倍量、好ましくは2〜10倍量、さらに好ましくは2〜5倍量である。反応は0〜100℃の温度で、好ましくは、40〜70℃の温度で行うことができ、必要に応じて反応系の冷却や加熱を行う。使用する一般式(I−2)で表される化合物の量は、上記一般式(I−1)で表される化合物のモル数に対し、例えば1〜50当量、好ましくは1〜40当量、さらに好ましくは1〜30当量である。反応の進行度はH−NMRで追跡することができ、反応液を水でクエンチした際に生じる水酸基由来のピークが消失した時点を終点とすることができる。 In step b), when synthesizing the compound represented by the general formula (II), for example, in the reaction solution (reaction solution containing (I-1)) after completion of the reaction in step a) The compound represented by the formula (I-2) may be added directly, or the compound represented by the general formula (I-2) may be dissolved in an appropriate solvent as necessary. Specific examples of the solvent to be used include ethers such as THF and 1,4-dioxane, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It is 1-50 times amount with respect to the mass of the compound represented by the said general formula (I-2), Preferably it is 2-10 times amount, More preferably, it is 2-5. Double the amount. The reaction can be carried out at a temperature of 0 to 100 ° C., preferably 40 to 70 ° C. The reaction system is cooled or heated as necessary. The amount of the compound represented by the general formula (I-2) to be used is, for example, 1 to 50 equivalents, preferably 1 to 40 equivalents, relative to the number of moles of the compound represented by the general formula (I-1). More preferably, it is 1-30 equivalent. The degree of progress of the reaction can be monitored by 1 H-NMR, and the end point can be the time when the peak derived from the hydroxyl group generated when the reaction solution is quenched with water.

工程b)の反応は、触媒なしでも進行するが、塩基触媒を用いることにより加速することができる。塩基触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなどの金属アルコキシド類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物類、第一級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、アンモニア水等を使用することができるが、これらには限定されない。塩基触媒の使用量は、上記一般式(I−1)で表される化合物のモル数に対し、例えば0.1〜30倍量、好ましくは1〜20倍量である。   The reaction of step b) proceeds without a catalyst, but can be accelerated by using a base catalyst. Base catalysts include hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and tetramethylammonium hydroxide, carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate, sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. Metal alkoxides, metal hydrides such as sodium hydride, potassium hydride, primary, secondary, tertiary aliphatic amines, hybrid amines, aromatic amines, heterocyclic amines Ammonia water or the like can be used, but is not limited thereto. The amount of the base catalyst used is, for example, 0.1 to 30 times, preferably 1 to 20 times the number of moles of the compound represented by the above general formula (I-1).

工程b)においては、一般式(I−1)で表される化合物と、一般式(I−2)で表される化合物との反応により生成するアルカリ金属塩を分離するために、アルカリ吸着剤をさらに用いても良い。好適なアルカリ吸着剤としては水酸化アルミニウム(例えば、協和化学工業社製「キョーワード200」)、合成ハイドロタルサイド(例えば、協和化学工業社製「キョーワード500」)、合成珪酸マグネシウム(例えば、協和化学工業社製「キョーワード600」)、合成珪酸アルミニウム(例えば、協和化学工業社製「キョーワード700」、酸化アルミニウム・酸化マグネシウム固溶体(例えば、協和化学工業社製「KW−2000」)、富田製薬(株)製「トミタAD700NS」)が用いられるが、これらに限定はされない。中でもイオン捕捉能が高いことからKW−2000が好ましい。アルカリ吸着剤の使用量は一般式(II)で表される化合物の質量に対して0.01〜10倍量、好ましくは0.1〜8倍量、さらに好ましくは0.3〜6倍量であるが特に限定はされない。アルカリ吸着剤は、上記一般式(I−1)で表される化合物と、一般式(I−2)で表される化合物との反応が終了した時点で、反応液に直接投入することもできるし、反応が終了し生成したアルカリ金属塩をろ過した後に反応液に投入してもよい。投入後0.5〜6時間反応させた後、ろ過により除去を行うことができるが反応時間は特に限定されない。吸着材を用いる時の方法としてはバッチ式として反応溶液中に吸着材を添加、撹拌してもよいし、カラム式として吸着材を充填したカラム上に反応溶液を通過させてもよい。吸着処理を行う場合の溶媒の具体例としては、THF、1、4−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトニトリル等が例示できるが、これらに限定はされない。塩の吸着能を高めるためにはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が好ましい。これらの溶媒は、単独で用いることもできるし、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定されない。   In step b), an alkali adsorbent is used to separate the alkali metal salt produced by the reaction between the compound represented by general formula (I-1) and the compound represented by general formula (I-2). May be further used. Suitable alkali adsorbents include aluminum hydroxide (for example, “Kyoward 200” manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.), synthetic hydrotalside (for example, “Kyoward 500” manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.), synthetic magnesium silicate (for example, Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. “Kyoward 600”), synthetic aluminum silicate (for example, Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. “Kyoward 700”, aluminum oxide / magnesium oxide solid solution (eg, Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. “KW-2000”), "Tomita AD700NS" manufactured by Tomita Pharmaceutical Co., Ltd.) is used, but is not limited thereto. Of these, KW-2000 is preferred because of its high ion trapping ability. The amount of the alkali adsorbent used is 0.01 to 10 times, preferably 0.1 to 8 times, more preferably 0.3 to 6 times the amount of the compound represented by the general formula (II). However, there is no particular limitation. The alkali adsorbent can be directly added to the reaction solution when the reaction between the compound represented by the general formula (I-1) and the compound represented by the general formula (I-2) is completed. Then, after the reaction is completed and the produced alkali metal salt is filtered, it may be added to the reaction solution. Although it can be removed by filtration after reacting for 0.5 to 6 hours after the addition, the reaction time is not particularly limited. As a method for using the adsorbent, the adsorbent may be added and stirred in the reaction solution as a batch type, or the reaction solution may be passed over a column packed with the adsorbent as a column type. Specific examples of the solvent for the adsorption treatment include THF, ethers such as 1,4-dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethyl acetate, n-butyl acetate, γ-butyrolactone, etc. Examples of such esters, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, dimethyl sulfoxide (DMSO), N, N-dimethylformamide (DMF), acetonitrile, and the like are exemplified, but are not limited thereto. In order to increase the salt adsorption capacity, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene are preferred. These solvents can be used alone or in combination of two or more. In that case, the mixing ratio is not particularly limited.

一般式(II)で表される化合物が固体である場合は、次工程c)に移る前に固体として取り出して使用することができる。その場合、反応液をそのまま又は濃縮後、貧溶媒に滴下して晶析を行うことができる。濃縮する際は、一般式(II)で表される化合物の濃度が、例えば10〜50質量%、好ましくは15〜45質量%、さらに好ましくは20〜40質量%となるように調製する。   When the compound represented by the general formula (II) is a solid, it can be taken out and used as a solid before moving to the next step c). In that case, the reaction solution can be crystallized as it is or after being concentrated and dropped into a poor solvent. When concentrating, it prepares so that the density | concentration of the compound represented by general formula (II) may be 10-50 mass%, for example, Preferably it is 15-45 mass%, More preferably, it is 20-40 mass%.

濃縮を行う際、一般式(II)で表される化合物の良溶媒に溶媒置換して晶析を行っても良い。その場合の良溶媒としては、THF、1、4−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトニトリル等が例示できるが、これらに限定はされない。これらの溶媒は単独で用いることもできるし、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定されない。溶媒置換後の一般式(II)で表される化合物の濃度は、例えば5〜50質量%、好ましくは10〜40質量%、さらに好ましくは10〜30質量%である。   When concentrating, crystallization may be performed by replacing the solvent with a good solvent of the compound represented by the general formula (II). Good solvents in that case include ethers such as THF and 1,4-dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and γ-butyrolactone, acetone , Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, dimethyl sulfoxide (DMSO), N, N-dimethylformamide (DMF), acetonitrile and the like can be exemplified, but are not limited thereto. These solvents can be used alone or in combination of two or more. In that case, the mixing ratio is not particularly limited. The density | concentration of the compound represented by general formula (II) after solvent substitution is 5-50 mass%, for example, Preferably it is 10-40 mass%, More preferably, it is 10-30 mass%.

貧溶媒としては、一般式(II)で表される化合物の溶解性が低いものが用いられ、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の炭化水素類やジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル等のエーテル類が好適に用いられる。貧溶媒の使用量は特に限定されないが、一般式(II)で表される化合物の質量に対して、例えば5〜100倍量、好ましくは5〜50倍量、さらに好ましくは5〜20倍量の貧溶媒を使用する。貧溶媒は単独で用いることもできる他、他の溶媒と混合して使用することも可能である。混合する他の溶媒としては、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1、4−ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトニトリル等が例示できるがこれらに限定はされない。   As the poor solvent, those having low solubility of the compound represented by the general formula (II) are used. For example, carbonization such as hexane, heptane, octane, nonane, decane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane and the like. Hydrogen, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, and di-n-butyl ether are preferably used. Although the usage-amount of a poor solvent is not specifically limited, It is 5-100 times amount with respect to the mass of the compound represented by general formula (II), Preferably it is 5-50 times amount, More preferably, it is 5-20 times amount. Use a poor solvent. The poor solvent can be used alone or in combination with another solvent. Other solvents to be mixed include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and γ-butyrolactone, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and cumene, tetrahydrofuran And ethers such as diethyl ether, 1,4-dioxane, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, dimethyl sulfoxide (DMSO), N, N-dimethylformamide (DMF), acetonitrile, etc. Yes, but not limited to these.

工程b)では、晶析により固体を析出させた後、必要に応じて固体の洗浄を行い、精製を行っても良い。洗浄に用いる溶媒は上述と同じ貧溶媒であることが好ましいが、洗浄溶媒の使用量も含めて特に限定はされない。得られた固体を減圧下で乾燥させることにより、一般式(II)で表される化合物を固体として取り出すことができる。   In step b), after solids are precipitated by crystallization, the solids may be washed and purified as necessary. The solvent used for washing is preferably the same poor solvent as described above, but is not particularly limited including the amount of washing solvent used. By drying the obtained solid under reduced pressure, the compound represented by the general formula (II) can be taken out as a solid.

先の工程a)におけるアルキレンオキシドの重合時に水が混入した場合、先述のようにジオール誘導体が生成し、さらに工程b)を経ることにより、下記一般式(VIII)で表されるジオール誘導体が生成する。
(OR OR (VIII)
(上記一般式(VIII)中、R 及びR は一般式(II)について定義したとおりであって、一般式(II)のR 及びR と同一である。qは1〜890の整数である。)
When water is mixed during the polymerization of the alkylene oxide in the previous step a), a diol derivative is formed as described above, and a diol derivative represented by the following general formula (VIII) is formed through the step b). To do.
R A 4 (OR A 5 ) q OR A 4 (VIII)
(In the general formula (VIII), R A 4 and R A 5 are as defined for the general formula (II) and are the same as R A 4 and R A 5 in the general formula (II). (It is an integer from 1 to 890.)

上記一般式(VIII)で表されるジオール誘導体は、水が重合開始剤として働いた場合に生成するため、一般式(I)で表される重合開始剤が機能した場合とは違い、両末端から重合が進行する。そのためqとしては上述の一般式(I−1)中のrの2倍程度であり、例えば1〜890の整数を表し、好ましくは20〜790、さらに好ましくは40〜690である。本実施形態では、好ましくは上述のとおり反応系中の水分量を低く抑えた状態で重合反応を行うことにより、上記のようなジオール誘導体の生成を抑制することができる。   Since the diol derivative represented by the general formula (VIII) is generated when water acts as a polymerization initiator, unlike the case where the polymerization initiator represented by the general formula (I) functions, both ends Polymerization proceeds. Therefore, q is about twice as large as r in the general formula (I-1) described above, and represents an integer of, for example, 1 to 890, preferably 20 to 790, and more preferably 40 to 690. In the present embodiment, it is possible to suppress the formation of the diol derivative as described above, preferably by performing the polymerization reaction with the water content in the reaction system kept low as described above.

また、従来の特許文献4及び特許文献5に記載の合成法では、重合末端をシアノエチル基、次いでアミノ基へと変換するため、ジオール不純物は最終的に両末端がアミノ基の化合物へと誘導されるが、この化合物は目的化合物と類似の末端構造を有するため、後述するような陽イオン交換樹脂を用いた精製法では分離することが出来ない。これに対し、本実施形態では、上記一般式(VIII)で表されるジオール誘導体は一般式(III)で表される目的化合物と末端構造が異なる。このため、例えば後述するような陽イオン交換樹脂を用いた精製により分離することが可能であり、その結果、純度の高いアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体(III)を合成することが出来る。   In addition, in the conventional synthesis methods described in Patent Document 4 and Patent Document 5, since the polymerization terminal is converted to a cyanoethyl group and then to an amino group, the diol impurity is finally induced to a compound having both ends at the amino group. However, since this compound has a terminal structure similar to that of the target compound, it cannot be separated by a purification method using a cation exchange resin as described later. On the other hand, in this embodiment, the diol derivative represented by the general formula (VIII) is different in terminal structure from the target compound represented by the general formula (III). For this reason, it is possible to isolate | separate by refinement | purification using the cation exchange resin which is mentioned later, for example, As a result, the polyalkylene glycol derivative (III) which has a highly purified amino group is compoundable.

[工程c)]
工程c)では、工程b)で得られた上記一般式(II)で表される化合物における保護基の脱保護を行う。この脱保護は、重金属触媒を使用することなく行われることが好ましい。なお、ここでいう重金属触媒は、例えばCo、Ni、Pd、Pt、Rh、Ru、Cu、Cr等の重金属を原料とした触媒である。工程c)において、重金属触媒を用いずに脱保護を行う際の方法としては、例えば上記一般式(II)中のR 1a及び/又はR 1bがシリル基の場合(上記(ア)の場合)は、酸触媒下で、水又はアルコール(ROH:式中Rは炭素数1〜5の炭化水素基である)と上記一般式(II)で表される化合物とを反応させることにより一般式(III)で表される化合物へと変換することができる。使用する酸触媒の具体例や使用量は後述の実施形態2で記載するとおりである。
[Step c)]
In step c), the protecting group in the compound represented by the general formula (II) obtained in step b) is deprotected. This deprotection is preferably performed without using a heavy metal catalyst. The heavy metal catalyst referred to here is a catalyst using, as a raw material, a heavy metal such as Co, Ni, Pd, Pt, Rh, Ru, Cu, or Cr. In step c), the deprotection method without using a heavy metal catalyst is, for example, when R A 1a and / or R A 1b in the general formula (II) is a silyl group (in the above (a) In the case of), under an acid catalyst, water or alcohol (R 6 OH: where R 6 is a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms) is reacted with the compound represented by the above general formula (II). Thus, it can be converted into a compound represented by the general formula (III). Specific examples and amounts of the acid catalyst to be used are as described in the second embodiment described later.

また、例えばR 1a及び/又はR 1bがtert−ブチルオキシカルボニル基の場合(上記(イ)の場合)は、トリフルオロ酢酸や塩酸などの強酸を上記一般式(II)で表される化合物に作用させることで脱保護できる。これらの強酸の使用量としては、一般式(II)で表される化合物のモル数の、例えば0.01〜1000当量、好ましくは0.1〜100当量、さらに好ましくは1〜10当量である。 For example, when R A 1a and / or R A 1b is a tert-butyloxycarbonyl group (in the case of (A) above), a strong acid such as trifluoroacetic acid or hydrochloric acid is represented by the general formula (II). It can be deprotected by acting on the compound. The amount of these strong acids to be used is, for example, 0.01 to 1000 equivalents, preferably 0.1 to 100 equivalents, more preferably 1 to 10 equivalents, based on the number of moles of the compound represented by the general formula (II). .

例えばR 1a及びR 1bがN−フタロイル基の場合(上記(ウ)の場合)は、アルコール中でヒドラジン水和物を上記一般式(II)で表される化合物と反応させることで、フタロイル基が脱離できる。使用されるアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコールなどが例示できる。アルコールの使用量としては、一般式(II)で表される化合物の質量に対して、例えば1〜100倍量、好ましくは3〜50倍量、さらに好ましくは5〜10倍量である。使用されるヒドラジン水和物の使用量としては、一般式(II)で表される化合物のモル数の、例えば1〜50当量、好ましくは2〜20当量、さらに好ましくは3〜10当量である。 For example, when R A 1a and R A 1b are N-phthaloyl groups (in the case of (U) above), by reacting hydrazine hydrate with a compound represented by the above general formula (II) in alcohol, The phthaloyl group can be eliminated. Examples of the alcohol used include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, and tert-butyl alcohol. As usage-amount of alcohol, it is 1-100 times amount with respect to the mass of the compound represented by general formula (II), Preferably it is 3-50 times amount, More preferably, it is 5-10 times amount. The amount of hydrazine hydrate used is, for example, 1 to 50 equivalents, preferably 2 to 20 equivalents, more preferably 3 to 10 equivalents, in terms of the number of moles of the compound represented by the general formula (II). .

例えばR 1a及び/又はR 1bがベンジル基やアリル基の場合(上記(エ)の場合)は、液体アンモニウムと金属ナトリウムを使用するバーチ還元の条件で、上記一般式(II)で表される化合物の脱保護を行うことができる。使用される液体アンモニウムの使用量としては、一般式(II)で表される化合物の質量に対して、例えば1〜100倍量、好ましくは3〜50倍量、さらに好ましくは5〜10倍量である。使用される金属ナトリウムの使用量としては、一般式(II)で表される化合物のモル数の、例えば2〜50当量、好ましくは2〜10当量、さらに好ましくは2〜5当量である。以上の例のように重金属触媒を使用しない条件を適切に選択することにより脱保護を行うことができ、その条件は限定されない。 For example, when R A 1a and / or R A 1b is a benzyl group or an allyl group (in the case of (d) above), it is represented by the general formula (II) under the conditions of Birch reduction using liquid ammonium and metallic sodium. The resulting compound can be deprotected. As usage-amount of the liquid ammonium used, it is 1-100 times amount with respect to the mass of the compound represented by general formula (II), Preferably it is 3-50 times amount, More preferably, it is 5-10 times amount. It is. The amount of metallic sodium used is, for example, 2 to 50 equivalents, preferably 2 to 10 equivalents, more preferably 2 to 5 equivalents, based on the number of moles of the compound represented by the general formula (II). As in the above example, deprotection can be performed by appropriately selecting conditions that do not use a heavy metal catalyst, and the conditions are not limited.

なお、工程c)の脱保護は上記の通り重金属触媒を使用することなく行われることが好ましいが、重金属触媒を使用して行うことも可能である。例えば、本発明の製造方法により得られるポリアルキレングリコール誘導体を、重金属の混入が本質的な問題とならない用途(例えば化粧品、育毛剤、界面活性剤等)に使用する場合等には、工程c)においてこのような重金属触媒を使用することも考えられる。工程c)が重金属触媒を使用して行われる場合、上記したような一般的な重金属触媒を常法により使用すればよく、その方法は特に制限されない。   The deprotection in step c) is preferably performed without using a heavy metal catalyst as described above, but can also be performed using a heavy metal catalyst. For example, in the case where the polyalkylene glycol derivative obtained by the production method of the present invention is used for an application (for example, cosmetics, hair restorer, surfactant, etc.) in which heavy metal contamination does not become an essential problem, step c) It is also conceivable to use such a heavy metal catalyst. When step c) is performed using a heavy metal catalyst, a general heavy metal catalyst as described above may be used in a conventional manner, and the method is not particularly limited.

酸触媒により脱保護後した場合、生成した一般式(III)で表されるアミンと酸が塩を形成し酸を除去できないことがある。その際、生成した塩基性化合物を添加して酸と反応させると添加した塩基性化合物と酸の塩が形成し、一般式(III)で表されるアミンを取り出すことができる。このとき生成した塩はろ過により除去することができる。生じた塩がポリマー内に取り込まれてしまった場合、吸着材を用いて塩を除去することができる。そのときの吸着材としては上述の工程b)に記載したような吸着材を使うことができるが特に限定はされない。吸着剤の使用量は一般式(III)で表される化合物の質量に対して0.01〜10倍量、好ましくは0.1〜8倍量、さらに好ましくは0.3〜6倍量であるが特に限定はされない。用いる塩基性化合物としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、カリウムtert−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシドなどが挙げられるがこれらに限定はされない。塩基性化合物の添加量は、脱保護に使用した酸触媒のモル数に対して、例えば1〜10当量、好ましくは1〜5当量、さらに好ましくは1〜2当量である。ろ過を行う際の溶媒としては反応溶媒をそのまま用いてもよいし、塩が析出しやすい溶媒に置換してからろ過しても良い。塩が析出しやすい溶媒の具体例としては、THF、1、4−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトニトリル等が例示できるが、これらに限定はされない。ろ過性を高めるためにはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が好ましい。これらの溶媒は、単独で用いることもできるし、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定されない。   In the case of deprotection with an acid catalyst, the produced amine represented by the general formula (III) and an acid may form a salt and the acid may not be removed. At that time, when the produced basic compound is added and reacted with an acid, the added basic compound and an acid salt are formed, and the amine represented by the general formula (III) can be taken out. The salt produced at this time can be removed by filtration. If the resulting salt has been incorporated into the polymer, it can be removed using an adsorbent. As the adsorbent at that time, the adsorbent as described in the above step b) can be used, but is not particularly limited. The adsorbent is used in an amount of 0.01 to 10 times, preferably 0.1 to 8 times, more preferably 0.3 to 6 times the mass of the compound represented by formula (III). There is no particular limitation. Examples of basic compounds to be used include, but are not limited to, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium tert-butoxide, sodium methoxide, potassium methoxide and the like. The addition amount of the basic compound is, for example, 1 to 10 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents, and more preferably 1 to 2 equivalents with respect to the number of moles of the acid catalyst used for deprotection. As the solvent for the filtration, the reaction solvent may be used as it is, or may be filtered after being replaced with a solvent in which a salt is likely to precipitate. Specific examples of the solvent in which salt is likely to precipitate include ethers such as THF, 1,4-dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethyl acetate, n-butyl acetate, γ-butyrolactone, and the like. Examples include esters, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, dimethyl sulfoxide (DMSO), N, N-dimethylformamide (DMF), acetonitrile, and the like, but are not limited thereto. In order to improve filterability, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene are preferred. These solvents can be used alone or in combination of two or more. In that case, the mixing ratio is not particularly limited.

酸触媒を除去する際、塩基性化合物を添加せずに直接吸着材を反応系に添加することもできるが、その場合ろ過性が低下する可能性があるため上述の塩基性化合物を添加した後に吸着材を使用することが好ましい。   When removing the acid catalyst, the adsorbent can also be added directly to the reaction system without adding the basic compound, but in that case the filterability may be reduced, so after adding the above basic compound It is preferable to use an adsorbent.

脱保護後は、例えばそのまま貧溶媒で一般式(III)で表される化合物の晶析を行ってもよいし、良溶媒に置換してから晶析をおこなってもよく、また上述の塩基性化合物との反応と吸着材処理をしてから晶析を行ってもよい。その場合の良溶媒の具体例としては、THF、1、4−ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトニトリル等が例示できるが、これらに限定はされない。これらの溶媒は、単独で用いることもできるし、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定されない。溶媒置換後の濃度は、例えば5〜50質量%、好ましくは10〜40質量%、さらに好ましくは10〜30質量%である。   After deprotection, for example, the compound represented by the general formula (III) may be crystallized as it is with a poor solvent, or may be crystallized after substituting with a good solvent. Crystallization may be performed after the reaction with the compound and the adsorbent treatment. Specific examples of good solvents in this case include ethers such as THF and 1,4-dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and γ-butyrolactone. , Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethyl sulfoxide (DMSO), N, N-dimethylformamide (DMF), acetonitrile and the like, but are not limited thereto. These solvents can be used alone or in combination of two or more. In that case, the mixing ratio is not particularly limited. The density | concentration after solvent substitution is 5-50 mass%, for example, Preferably it is 10-40 mass%, More preferably, it is 10-30 mass%.

一般式(III)で表される化合物の晶析に使用される貧溶媒としては、一般式(III)で表される化合物の溶解性が低いものが用いられる。貧溶媒の具体例としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタンなどの炭化水素やジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテルなどのエーテル類が好適に用いられる。貧溶媒の使用量は特に限定されないが、一般式(III)で表される化合物の質量に対して、例えば5〜100倍量、好ましくは5〜50倍量、さらに好ましくは5〜20倍量の溶媒を使用する。貧溶媒は単独で用いることもできる他、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。また、他の溶媒と混合して使用することも可能である。混合することができる、他の溶媒としては、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1、4−ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、アセトニトリル等が例示できるがこれらに限定はされない。貧溶媒として二種以上の溶媒を混合して用いる場合、混合比に関しては特に限定されない。   As the poor solvent used for crystallization of the compound represented by the general formula (III), a solvent having low solubility of the compound represented by the general formula (III) is used. Specific examples of the poor solvent include hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, nonane, decane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, and ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, and di-n-butyl ether. Used for. Although the usage-amount of a poor solvent is not specifically limited, It is 5-100 times amount with respect to the mass of the compound represented by general formula (III), Preferably it is 5-50 times amount, More preferably, it is 5-20 times amount. The solvent is used. The poor solvent can be used alone, or one or a mixture of two or more can be used. It can also be used by mixing with other solvents. Other solvents that can be mixed include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and γ-butyrolactone, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, carbonization such as benzene, toluene, xylene and cumene. Hydrogens, tetrahydrofuran, diethyl ether, ethers such as 1,4-dioxane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, alcohols such as ethylene glycol monomethyl ether, dimethyl sulfoxide (DMSO), N, N-dimethylformamide (DMF), Although acetonitrile etc. can be illustrated, it is not limited to these. When two or more solvents are mixed and used as the poor solvent, the mixing ratio is not particularly limited.

工程c)では、晶析により、一般式(III)で表される化合物の固体を析出させた後、必要に応じて固体の洗浄を行い、精製を行っても良い。洗浄に用いる溶媒は、上述と同じ貧溶媒であることが望ましいが、洗浄溶媒の使用量も含めて特に限定はされない。得られた固体を減圧下で乾燥させることにより、一般式(III)で表される化合物を固体として取り出すことができる。   In step c), a solid of the compound represented by the general formula (III) may be precipitated by crystallization, and then the solid may be washed and purified as necessary. The solvent used for cleaning is desirably the same poor solvent as described above, but is not particularly limited including the amount of the cleaning solvent used. By drying the obtained solid under reduced pressure, the compound represented by the general formula (III) can be taken out as a solid.

なお、本実施形態においては、一般式(III)で表される化合物のアミノ基は上記の工程c)における脱保護により得られるため、例えば特許文献5に記載の方法で生成しうる副生成物(下記(IV)〜(VI)で表される化合物)は実質的に生成せず、最終的に一般式(III)で表される末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度なポリアルキレングリコール誘導体を合成することができる。これに対し、例えば特許文献5に記載の方法でシアノエチル化物を水素還元してアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体へ導く場合、アクリロニトリルのβ脱離を伴うため下記一般式(VI)で示されるPEG誘導体の生成を防げない。また、上記水素還元工程ではニトリルの還元中間体であるイミンに生成物のアミンが付加することにより、下記一般式(IV)、(V)で表される2級、3級アミン化合物が副生する可能性がある。これらの副反応は反応系へのアンモニアや酢酸の添加により抑制することが出来るものの、従来の方法で完全に制御することは困難である。   In this embodiment, since the amino group of the compound represented by the general formula (III) is obtained by deprotection in the above step c), for example, a by-product that can be generated by the method described in Patent Document 5 (Compounds represented by the following (IV) to (VI)) are not substantially formed, and finally, a narrowly dispersed and high-purity polyalkylene glycol having an amino group at the terminal represented by the general formula (III) Derivatives can be synthesized. On the other hand, for example, when the cyanoethylated product is hydrogen-reduced by the method described in Patent Document 5 to lead to a polyalkylene glycol derivative having an amino group, PEG represented by the following general formula (VI) is included due to β elimination of acrylonitrile. Derivative formation cannot be prevented. In the hydrogen reduction step, the product amine is added to the imine, which is a reduction intermediate of nitrile, so that secondary and tertiary amine compounds represented by the following general formulas (IV) and (V) are by-produced. there's a possibility that. Although these side reactions can be suppressed by adding ammonia or acetic acid to the reaction system, it is difficult to completely control them by conventional methods.

Figure 0006463229
(上記一般式(IV)〜(VI)中、R 、R 、R 、R 、及びnは上記一般式(III)中のR 、R 、R 、R 、及びnと同一である。)
Figure 0006463229
(In the general formulas (IV) to (VI), R A 2 , R A 3 , R A 4 , R A 5 , and n are R A 2 , R A 3 , R A in the general formula (III). 4 , R A 5 , and n are the same.)

[後処理工程]
工程c)の後には、任意選択的に、強酸性陽イオン交換樹脂を用いて一般式(III)で表される化合物の精製を行う、後処理工程を実施することができる。また、工程b)で得られた一般式(II)で表される化合物における保護基が酸で脱保護できる保護基である場合には、工程b)の後に、この強酸性陽イオン交換樹脂による後処理工程を行うことにより、脱保護も同時に行うことができ、工程簡略化を行うことができる。すなわちこの場合は、工程c)(一般式(II)で表される化合物の脱保護により一般式(III)で表される化合物を得る工程)は、具体的には以下の後処理工程の操作により実施することができる。
[Post-processing process]
After step c), a post-treatment step can be optionally performed in which the compound represented by general formula (III) is purified using a strongly acidic cation exchange resin. In addition, when the protecting group in the compound represented by the general formula (II) obtained in step b) is a protecting group that can be deprotected with an acid, the strong acidic cation exchange resin is used after step b). By performing the post-treatment process, deprotection can be performed at the same time, and the process can be simplified. That is, in this case, the step c) (the step of obtaining the compound represented by the general formula (III) by deprotecting the compound represented by the general formula (II)) is specifically an operation of the following post-treatment step. Can be implemented.

後処理工程では、工程c)で得られた一般式(III)で表される化合物を含む反応生成物(粗生成物)又は工程b)で得られた一般式(II)で表される化合物を含む反応生成物(粗生成物)を、強酸性陽イオン交換樹脂と反応させる。工程c)又は工程b)で得られた粗生成物と強酸性陽イオン交換樹脂とを反応させる方法としては、イオン交換樹脂を充填したカラムに粗生成物溶液を流して吸着させる方法や、樹脂が充填されたカートリッジと工程c)又は工程b)を実施した反応槽の間で粗生成物溶液を循環させる方法等が挙げられるが、反応の方法については特に限定されない。また、工程b)の後に後処理工程を行う場合は、強酸性陽イオン交換樹脂の触媒下で、一般式(II)で表される化合物と水又は炭素数1〜5の一価アルコール溶媒とを反応させることで、脱保護の後に、一般式(III)で表される化合物を強酸性陽イオン交換樹脂に吸着させることができる。   In the post-treatment step, the reaction product (crude product) containing the compound represented by general formula (III) obtained in step c) or the compound represented by general formula (II) obtained in step b) The reaction product (crude product) containing is reacted with a strongly acidic cation exchange resin. As a method of reacting the crude product obtained in step c) or step b) with a strongly acidic cation exchange resin, a method of flowing and adsorbing the crude product solution on a column packed with an ion exchange resin, or a resin The method of circulating the crude product solution between the cartridge filled with and the reaction tank in which step c) or step b) has been performed is mentioned, but the reaction method is not particularly limited. In addition, when a post-treatment step is performed after step b), a compound represented by the general formula (II) and water or a monohydric alcohol solvent having 1 to 5 carbon atoms are used under the catalyst of a strongly acidic cation exchange resin. , The compound represented by the general formula (III) can be adsorbed on the strongly acidic cation exchange resin after deprotection.

強酸性陽イオン交換樹脂の具体例としては、オルガノ(株)製アンバーライトシリーズ(IR120B、IR124B、200CT、252)、オルガノ(株)製アンバージェットシリーズ(1020、1024、1060、1220)、三菱化学(株)製ダイヤイオンシリーズ(例えば、SK104、SK1B、SK110、SK112、PK208、PK212、PK216、PK218、PK220、PK228、UBK08、UBK10、UBK12、UBK510L、UBK530、UBK550)、ダウ・ケミカル(株)製DOWEXシリーズ(50W×2 50−100、50W×2 100−200、50W×4 100−200、50W×8 50−100、50W×8 100−200、50W×8 200−400、HCR−S、HCR−W2(H))などが好適に用いられるが、これらに限定はされない。強酸性陽イオン交換樹脂の使用量としては、一般式(III)で表される化合物の質量の、例えば1〜50倍量、好ましくは1〜30倍量、さらに好ましくは1〜20倍量である。   Specific examples of strongly acidic cation exchange resins include Amberlite series (IR120B, IR124B, 200CT, 252) manufactured by Organo Corporation, Amberjet series (1020, 1024, 1060, 1220) manufactured by Organo Corporation, Mitsubishi Chemical Diaion series (for example, SK104, SK1B, SK110, SK112, PK208, PK212, PK216, PK218, PK220, PK228, UBK08, UBK10, UBK12, UBK510L, UBK530, UBK550), Dow Chemical Co., Ltd. DOWEX series (50W × 2 50-100, 50W × 2 100-200, 50W × 4 100-200, 50W × 8 50-100, 50W × 8 100-200, 50W × 8 200-400, HCR-S, HCR -W (H)) and the like are preferably used, but are not limited to. The amount of the strongly acidic cation exchange resin used is, for example, 1 to 50 times, preferably 1 to 30 times, more preferably 1 to 20 times the mass of the compound represented by the general formula (III). is there.

強酸性陽イオン交換樹脂を用いる場合、事前に強酸性陽イオン交換樹脂を酸性化合物で処理してから使用しても良い。強酸性陽イオン交換樹脂はスルホン酸のアルカリ金属塩の状態で販売されていることも多く、酸性化合物で事前に処理して用いることでスルホ基が再生され、反応効率を上げることが可能であるためである。この場合、用いられる酸性化合物としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、過塩素酸などの無機酸類等が例示できるが、これらに限定はされない。これらの酸性化合物の使用量は、強酸性陽イオン交換樹脂の質量の、例えば1〜15倍量、好ましくは1〜10倍量、さらに好ましくは1〜8倍量である。強酸性陽イオン交換樹脂を酸性化合物で処理した後、水洗によって樹脂中から酸性化合物を分離し、必要に応じてメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶媒で水を分離する。   When using a strong acidic cation exchange resin, you may use it, after processing a strong acidic cation exchange resin with an acidic compound beforehand. Strong acidic cation exchange resins are often sold in the state of alkali metal salts of sulfonic acid, and by treating with an acidic compound in advance, the sulfo group is regenerated and the reaction efficiency can be increased. Because. In this case, examples of the acidic compound used include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, and perchloric acid, but are not limited thereto. The amount of these acidic compounds used is, for example, 1 to 15 times, preferably 1 to 10 times, more preferably 1 to 8 times the mass of the strongly acidic cation exchange resin. After treating the strongly acidic cation exchange resin with an acidic compound, the acidic compound is separated from the resin by washing with water, and water is separated with a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol as necessary.

この後処理工程では、一般式(III)で表される化合物以外の不純物(上記一般式(VIII)で表される化合物や塩など)を分離することもできる。すなわち、工程c)又は工程b)後の粗生成物を強酸性陽イオン交換樹脂と反応させて、強酸性陽イオン交換樹脂に一般式(III)で表される化合物を吸着させた後、水又は炭素数1〜5の一価アルコールで強酸性陽イオン交換樹脂を洗浄することにより、一般式(III)で表される目的化合物以外の物質を分離することができる。この洗浄の際に使用する炭素数1〜5の一価アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、n−ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコールなどが例示できるが、これらには限定されない。洗浄を行う際、水又は一価アルコールを単独で用いることもできるし、水と一種以上のアルコールの混合物、又は二種以上のアルコールの混合物を用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定されない。使用する水又は炭素数1〜5の一価アルコールの使用量は特に限定されないが、使用した強酸性陽イオン交換樹脂の質量に対して、例えば1〜30倍量、好ましくは1〜20倍量、さらに好ましくは1〜10倍量である。   In this post-treatment step, impurities other than the compound represented by the general formula (III) (such as a compound and a salt represented by the general formula (VIII)) can be separated. That is, the crude product after step c) or step b) is reacted with a strongly acidic cation exchange resin to adsorb the compound represented by the general formula (III) to the strongly acidic cation exchange resin, and then water. Alternatively, substances other than the target compound represented by the general formula (III) can be separated by washing the strongly acidic cation exchange resin with a monohydric alcohol having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the monohydric alcohol having 1 to 5 carbon atoms used in the washing include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, and n-pentyl alcohol. Examples thereof include isopentyl alcohol and neopentyl alcohol, but are not limited thereto. When performing washing, water or a monohydric alcohol can be used alone, or a mixture of water and one or more alcohols or a mixture of two or more alcohols can be used. In that case, the mixing ratio is not particularly limited. Although the usage-amount of the water or C1-C5 monohydric alcohol to use is not specifically limited, It is 1-30 times amount with respect to the mass of the strong acidic cation exchange resin used, Preferably it is 1-20 times amount. More preferably, the amount is 1 to 10 times.

一般式(III)で表される化合物を吸着させた強酸性陽イオン交換樹脂を、水又は炭素数1〜5の一価アルコール中で塩基性化合物と反応させることにより、一般式(III)で表される化合物を水又は一価アルコール中に抽出する。反応を行う際、水又は一価アルコールを単独で用いることもできるし、水と一種以上のアルコールの混合物、又は二種以上のアルコールの混合物を用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定されない。強酸性陽イオン交換樹脂を塩基性化合物と反応させる方法としては、充填したカラムに塩基性化合物の溶液を流して反応させる方法や、樹脂が充填されたカートリッジと工程c)を実施した反応槽の間で塩基性化合物の溶液を循環させる方法等を挙げることができるが、反応の方法については特に限定されない。   By reacting a strongly acidic cation exchange resin adsorbed with the compound represented by the general formula (III) with a basic compound in water or a monohydric alcohol having 1 to 5 carbon atoms, the general formula (III) The compound represented is extracted into water or monohydric alcohol. In carrying out the reaction, water or a monohydric alcohol can be used alone, or a mixture of water and one or more alcohols or a mixture of two or more alcohols can be used. In that case, the mixing ratio is not particularly limited. As a method of reacting a strongly acidic cation exchange resin with a basic compound, a method of causing a solution of a basic compound to flow through a packed column and reacting, or a cartridge filled with a resin and a reaction tank in which step c) is performed Examples thereof include a method of circulating a solution of a basic compound between them, but the method of reaction is not particularly limited.

抽出の際に用いる一価アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、n−ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコールなどが例示できる。水又は一価アルコールの使用量は特に限定されないが、使用した強酸性陽イオン交換樹脂の質量に対して、例えば1〜30倍量、好ましくは1〜20倍量、さらに好ましくは1〜10倍量である。   The monohydric alcohol used in the extraction is methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, n-pentyl alcohol, isopentyl alcohol, neopentyl alcohol. Etc. can be exemplified. Although the usage-amount of water or a monohydric alcohol is not specifically limited, It is 1-30 times amount with respect to the mass of the used strong acidic cation exchange resin, Preferably it is 1-20 times amount, More preferably, it is 1-10 times. Amount.

抽出の際に用いる塩基性化合物としては、水又は有機溶媒に溶解したアンモニア(例えば、アンモニア水やアンモニアのメタノール溶液など)が好適に用いられるが、第一級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類等も使用することができる。第一級の脂肪族アミン類としては、メチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、エチレンジアミン等、第二級の脂肪族アミン類としては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミン等、第三級の脂肪族アミン類としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ−sec−ブチルアミン等、混成アミン類としては、例えばジメチルエチルアミン、メチルエチルプロピルアミン、ベンジルアミン、フェネチルアミン、ベンジルジメチルアミン等、芳香族アミン類及び複素環アミン類の具体例としては、アニリン誘導体(例えばアニリン、N−メチルアニリン、N−エチルアニリン、N−プロピルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、2−メチルアニリン、3−メチルアニリン、4−メチルアニリン、エチルアニリン、プロピルアニリン、トリメチルアニリン、2−ニトロアニリン、3−ニトロアニリン、4−ニトロアニリン、2,4−ジニトロアニリン、2,6−ジニトロアニリン、3,5−ジニトロアニリン、N,N−ジメチルトルイジン等)、ジフェニル(p−トリル)アミン、メチルジフェニルアミン、トリフェニルアミン、フェニレンジアミン、ナフチルアミン、ジアミノナフタレンやピリジン誘導体(例えばピリジン、メチルピリジン、エチルピリジン、プロピルピリジン、ブチルピリジン、4−(1−ブチルペンチル)ピリジン、ジメチルピリジン、トリメチルピリジン、トリエチルピリジン、フェニルピリジン、3−メチル−2−フェニルピリジン、4−tert−ブチルピリジン、ジフェニルピリジン、ベンジルピリジン、メトキシピリジン、ブトキシピリジン、ジメトキシピリジン、4−ピロリジノピリジン、2−(1−エチルプロピル)ピリジン、アミノピリジン、ジメチルアミノピリジン等)等が例示できるが、これらに限定はされない。また、塩基性化合物として水酸化カリウムや水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を使用することもできる。塩基性化合物の使用量は、使用した強酸性陽イオン交換樹脂の質量に対して、例えば0.1〜100倍量、好ましくは0.1〜10倍量、さらに好ましくは0.1〜5倍量である。   As the basic compound used in the extraction, ammonia dissolved in water or an organic solvent (for example, aqueous ammonia or a methanol solution of ammonia) is preferably used. Aliphatic amines, hybrid amines, aromatic amines, heterocyclic amines and the like can also be used. Primary aliphatic amines include secondary amines such as methylamine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, and ethylenediamine. Examples of tertiary aliphatic amines such as dimethylamine, diethylamine, di-n-propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, diisobutylamine, and di-sec-butylamine include trimethylamine, triethylamine, and triethylamine. Examples of mixed amines such as -n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, triisobutylamine, tri-sec-butylamine include dimethylethylamine, methylethylpropylamine, benzylamino Specific examples of aromatic amines and heterocyclic amines such as phenethylamine and benzyldimethylamine include aniline derivatives (eg, aniline, N-methylaniline, N-ethylaniline, N-propylaniline, N, N-dimethylaniline). 2-methylaniline, 3-methylaniline, 4-methylaniline, ethylaniline, propylaniline, trimethylaniline, 2-nitroaniline, 3-nitroaniline, 4-nitroaniline, 2,4-dinitroaniline, 2,6 -Dinitroaniline, 3,5-dinitroaniline, N, N-dimethyltoluidine, etc.), diphenyl (p-tolyl) amine, methyldiphenylamine, triphenylamine, phenylenediamine, naphthylamine, diaminonaphthalene and pyridine derivatives (for example, pyridine, Tylpyridine, ethylpyridine, propylpyridine, butylpyridine, 4- (1-butylpentyl) pyridine, dimethylpyridine, trimethylpyridine, triethylpyridine, phenylpyridine, 3-methyl-2-phenylpyridine, 4-tert-butylpyridine, diphenyl Examples thereof include, but are not limited to, pyridine, benzylpyridine, methoxypyridine, butoxypyridine, dimethoxypyridine, 4-pyrrolidinopyridine, 2- (1-ethylpropyl) pyridine, aminopyridine, dimethylaminopyridine, and the like. Moreover, alkaline aqueous solutions, such as potassium hydroxide and sodium hydroxide, can also be used as a basic compound. The amount of the basic compound used is, for example, 0.1 to 100 times, preferably 0.1 to 10 times, more preferably 0.1 to 5 times the mass of the strongly acidic cation exchange resin used. Amount.

このように、工程a)〜c)を実施することで、或いは、任意選択的に、工程a)〜c)の前及び/又は後に、前工程1、2及び/又は後処理工程を更に実施することで、一般式(III)で表される化合物(末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度のポリアルキレングリコール誘導体)を製造することができる。   Thus, by carrying out steps a) to c), or optionally, further carrying out pre-steps 1, 2 and / or post-treatment steps before and / or after steps a) to c). By doing so, a compound represented by the general formula (III) (a narrowly dispersed and high-purity polyalkylene glycol derivative having an amino group at the terminal) can be produced.

すなわち本発明は、また別の局面によれば、上記製造方法により得られた一般式(III)で表される末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度のポリアルキレングリコール誘導体に関するものである。   That is, according to another aspect, the present invention relates to a narrowly dispersed and high-purity polyalkylene glycol derivative having an amino group at the terminal represented by the general formula (III) obtained by the above production method.

工程a)〜c)の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程a)〜c)の前及び/又は後に、前工程1、2及び/又は後処理工程を更に実施して得られる一般式(III)で表される化合物は、重合時、開始反応が成長反応より十分に早く、また停止反応の要因である水分の反応系への混入が少なく、さらに重合開始剤が重合溶媒中に均一に溶解しているため、狭分散ポリマーとして得ることができる。すなわち、本実施形態の製造方法により製造される上記一般式(III)で表される化合物は、狭分散性であり、その分散度(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は、例えば1.0〜1.20であり、好ましくは1.0〜1.10であり、さらに好ましくは1.0〜1.06である。また、本実施形態の製造方法により製造される上記一般式(III)で表される化合物の分子量は、重量平均分子量(Mw)として、5,000〜25,000が好ましく、8,000〜15,000がより好ましい。なお、本明細書において、ポリマーの分子量及び分散度は、ゲル浸透クロマトグラフィー(以下、GPCと略記)を用いて測定を行った場合の値をいうものとする。   General obtained after steps a) to c), or optionally obtained by further performing pre-steps 1, 2 and / or post-treatment steps before and / or after steps a) to c). In the compound represented by the formula (III), during the polymerization, the initiation reaction is sufficiently faster than the growth reaction, and there is little mixing of moisture into the reaction system, which is a cause of the termination reaction, and the polymerization initiator is contained in the polymerization solvent. Since it is uniformly dissolved, it can be obtained as a narrowly dispersed polymer. That is, the compound represented by the general formula (III) produced by the production method of the present embodiment is narrowly dispersible, and the dispersity (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) is For example, it is 1.0-1.20, Preferably it is 1.0-1.10, More preferably, it is 1.0-1.06. In addition, the molecular weight of the compound represented by the general formula (III) produced by the production method of the present embodiment is preferably 5,000 to 25,000, preferably 8,000 to 15 as the weight average molecular weight (Mw). 1,000 is more preferable. In the present specification, the molecular weight and the degree of dispersion of the polymer refer to values when measured using gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC).

工程a)〜c)の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程a)〜c)の前及び/又は後に、前工程1、2及び/又は後処理工程を更に実施して得られる生成物中の、一般式(IV)で表される化合物及び一般式(V)で表される化合物の混入量としては、面積含有率(%)で、一般式(III)、(IV)、及び(V)で表される化合物の総面積に対して、一般式(IV)及び(V)で表される化合物の面積が3%以下であることが好ましく、より好ましくは2%以下である。最も好ましくは、得られる生成物は、一般式(IV)で表される化合物及び一般式(V)で表される化合物をいずれも含まないものである。なお、実際には、本実施形態によると、一般式(IV) で表される化合物及び一般式(V)で表される化合物はいずれも生成しない。上記一般式(IV)で表される2級アミン、及び一般式(V)で表される3級アミンは、主生成物である一般式(III)で表されるポリアルキレングリコール誘導体に対して2倍、3倍の分子量を有するため、GPCによって生成量を確認することができる。   Production obtained after steps a) to c), or optionally, obtained by further performing pre-steps 1, 2 and / or post-treatment steps before and / or after steps a) to c). The amount of the compound represented by the general formula (IV) and the compound represented by the general formula (V) in the product is an area content (%), and the general formulas (III), (IV), and The area of the compounds represented by the general formulas (IV) and (V) is preferably 3% or less, more preferably 2% or less with respect to the total area of the compound represented by (V). Most preferably, the product obtained does not contain either the compound represented by the general formula (IV) or the compound represented by the general formula (V). In practice, according to this embodiment, neither the compound represented by the general formula (IV) nor the compound represented by the general formula (V) is generated. The secondary amine represented by the general formula (IV) and the tertiary amine represented by the general formula (V) are based on the polyalkylene glycol derivative represented by the general formula (III) which is the main product. Since it has a molecular weight of 2 times or 3 times, the production amount can be confirmed by GPC.

工程a)〜c)の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程a)〜c)の前及び/又は後に、前工程1、2及び/又は後処理工程を更に実施して得られる生成物中の、一般式(VI)で表される化合物の混入量としては、一般式(III)で表される化合物及び一般式(VI)で表される化合物の総物質量に対して、2mol%以下であることが好ましく、より好ましくは1mol%以下である。最も好ましくは、得られる生成物は一般式(VI)で表される化合物を含まないものである。なお、実際には、本実施形態によると、一般式(VI)で表される化合物は生成しない。上記一般式(VI)で表される化合物は、アルコールを官能基として有するため、プロトン核磁気共鳴(1H−NMR)により、主生成物である一般式(III)で表されるポリアルキレングリコール誘導体のアミンα位メチレンと比較して、組成比含有率(mol%)を求めることができる。   Production obtained after steps a) to c), or optionally, obtained by further performing pre-steps 1, 2 and / or post-treatment steps before and / or after steps a) to c). The amount of the compound represented by the general formula (VI) in the product is 2 mol with respect to the total amount of the compound represented by the general formula (III) and the compound represented by the general formula (VI). % Or less, more preferably 1 mol% or less. Most preferably, the product obtained does not contain a compound represented by general formula (VI). In practice, according to this embodiment, the compound represented by the general formula (VI) is not generated. Since the compound represented by the general formula (VI) has an alcohol as a functional group, the polyalkylene glycol derivative represented by the general formula (III) which is a main product by proton nuclear magnetic resonance (1H-NMR). In comparison with the amine α-position methylene, the composition ratio content (mol%) can be determined.

また、工程a)〜c)の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程a)〜c)の前及び/又は後に、前工程1、2及び/又は後処理工程を更に実施して得られる生成物は、上記したような、従来の方法で生成しうる副生成物(一般式(IV)〜(VI)で表される化合物)を実質的に含まないものである。具体的には、上記したGPC及び1H−NMRによる測定結果から換算した、主生成物である一般式(III)で表される化合物の総量をX、一般式(IV)、一般式(V)、及び一般式(VI)で表される化合物を含む副生成物の総量をXとしたとき、X/(X+X)は0.95以上であることが好ましく、より好ましくは0.97以上である。最も好ましくは、得られる生成物は上記のような副生成物を含まないものである。なお、実際には、本実施形態によるとこれらの副生成物は生成しない。 Also obtained after steps a) to c) or optionally obtained by further performing pre-steps 1, 2 and / or post-treatment steps before and / or after steps a) to c). The product to be obtained is substantially free of by-products (compounds represented by the general formulas (IV) to (VI)) that can be produced by the conventional method as described above. Specifically, the total amount of the compound represented by the general formula (III), which is the main product, converted from the measurement results by GPC and 1H-NMR described above is X A , the general formula (IV), the general formula (V ), And the total amount of by-products containing the compound represented by the general formula (VI) is X B , X A / (X A + X B ) is preferably 0.95 or more, more preferably 0.97 or more. Most preferably, the resulting product is free of such by-products. Actually, according to the present embodiment, these by-products are not generated.

また、工程a)〜c)の後に得られる、或いは、任意選択的に、工程a)〜c)の前及び/又は後に、前工程1、2及び/又は後処理工程を更に実施して得られる生成物中の、高周波誘導結合プラズマ質量分析計(ICP−MS)により測定された重金属不純物含有量としては、100ppb以下が好ましく、さらに好ましくは10ppb以下である。上記生成物中の重金属不純物量測定は、上記のICP−MSを用いて行うのが一般的だが、この測定方法に限定はされない。ICP−MSにより分析を行う際はポリマーサンプルを溶媒で希釈して測定を行う。用いる溶媒はポリマーが溶解し、かつ金属を含まないのものであることが必須である。超純水や電子工業用N−メチル−2−ピロリドンなどが特に好ましいが、これらに限定はされない。希釈率は特に限定されないが、好ましくは10〜100,000倍、さらに好ましくは50〜1,000倍である。   Also obtained after steps a) to c) or optionally obtained by further performing pre-steps 1, 2 and / or post-treatment steps before and / or after steps a) to c). The content of heavy metal impurities measured by a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer (ICP-MS) in the resulting product is preferably 100 ppb or less, and more preferably 10 ppb or less. The amount of heavy metal impurities in the product is generally measured using the ICP-MS, but the measurement method is not limited. When analyzing by ICP-MS, the measurement is performed by diluting the polymer sample with a solvent. It is essential that the solvent used is one that dissolves the polymer and does not contain metal. Ultrapure water and electronic industry N-methyl-2-pyrrolidone are particularly preferred, but are not limited thereto. Although a dilution rate is not specifically limited, Preferably it is 10-100,000 times, More preferably, it is 50-1,000 times.

上述の通り、例えば特許文献4や特許文献5に記載の従来の合成法ではラネーニッケル触媒を用いてシアノ基をアミノメチル基に変換しているため、例えばポリアルキレングリコール誘導体を医薬品用途に使用する場合等では、生成物中への重金属の混入が懸念される。日米EU医薬品規制調和国際会議(ICH)において報告された「ICH Q3D:医薬品の金属不純物ガイドライン(案)」によると、金属不純物のうちリスクアセスメントが必要な金属不純物としてクラス1にAs、Pb、Cd、Hg、クラス2AにV、Mo、Se、Co、クラス2BにAg、Au、Tl、Pd、Pt、Ir、Os、Rh、Ru、クラス3にSb、Ba、Li、Cr、Cu、Sn、Niが挙げられている。水素還元反応において使用される重金属としてはCo、Ni、Pd、Pt、Rh、Ru、Cu、Crなどが挙げられるが、これらはリスクアセスメントが必要な重金属として挙げられており、今後ますます混入低減が求められている。これに対し、本実施形態の方法では上記のように重金属触媒の使用を必要としないため、生成物中に重金属が混入しない。その結果、特に医薬品用途に使用する一般式(III)で表される化合物を得るのに適した製造方法と言える。   As described above, for example, in the conventional synthesis methods described in Patent Document 4 and Patent Document 5, since a cyano group is converted to an aminomethyl group using a Raney nickel catalyst, for example, when a polyalkylene glycol derivative is used for pharmaceutical use In such cases, there is a concern that heavy metals may be mixed into the product. According to the “ICH Q3D: Guidelines for Metal Impurities for Drugs (draft)” reported at the Japan-US EU Pharmaceutical Regulation Harmonization Conference (ICH), As, Pb, Cd, Hg, Class 2A with V, Mo, Se, Co, Class 2B with Ag, Au, Tl, Pd, Pt, Ir, Os, Rh, Ru, Class 3 with Sb, Ba, Li, Cr, Cu, Sn , Ni. Heavy metals used in hydrogen reduction reactions include Co, Ni, Pd, Pt, Rh, Ru, Cu, Cr, etc., but these are listed as heavy metals that require risk assessment. Is required. On the other hand, since the method of this embodiment does not require the use of a heavy metal catalyst as described above, no heavy metal is mixed into the product. As a result, it can be said that this is a production method suitable for obtaining a compound represented by the general formula (III) used particularly for pharmaceutical applications.

[実施形態2]
本発明は、上述した実施形態1の中でも、重合開始剤として、特にアミノ基をシリル基で保護した下記一般式(1)で表される化合物及び/又は下記一般式(2)で表される化合物(以下、省略して「一般式(1)及び/又は(2)で表される化合物」と示すことがある。他の化合物についても同様。)を用いることが好ましい。一般式(1)及び/又は(2)で表される化合物は、重合溶媒への溶解性が高く、また重合開始剤として安定性が高く、さらに重合後は酸触媒により容易に脱保護できるという利点がある。この重合開始剤として一般式(1)及び/又は(2)で表される化合物を使用する実施形態を、以下「実施形態2」と称する場合がある。なお、本実施形態2は上記実施形態1の好ましい態様であるため、以下、重複する部分については記載を省略する。
なお、下記一般式(1)で表される化合物は、上記実施形態1における一般式(I)で表される化合物において、R 1a及びR 1bが各々Si(Rで表される構造であり、R がRであり、かつR が(ORである化合物である。
また、下記一般式(2)で表される化合物は、上記実施形態1における一般式(I)で表される化合物において、R 1a及びR 1bが各々Si(Rで表される構造であり、R がRであり、かつR が単結合である化合物である。
[Embodiment 2]
The present invention is represented by the compound represented by the following general formula (1) in which the amino group is protected with a silyl group and / or the following general formula (2) as the polymerization initiator among the above-described first embodiment. It is preferable to use a compound (hereinafter abbreviated and may be referred to as “a compound represented by the general formula (1) and / or (2)”. The same applies to other compounds). The compound represented by the general formula (1) and / or (2) has high solubility in a polymerization solvent, is highly stable as a polymerization initiator, and can be easily deprotected with an acid catalyst after polymerization. There are advantages. An embodiment in which the compound represented by the general formula (1) and / or (2) is used as the polymerization initiator may be hereinafter referred to as “Embodiment 2”. In addition, since this Embodiment 2 is a preferable aspect of the said Embodiment 1, below, description is abbreviate | omitted about the overlapping part.
In addition, the compound represented by the following general formula (1) is a compound represented by the general formula (I) in the first embodiment, in which R A 1a and R A 1b are each represented by Si (R 1 ) 3. In which R A 2 is R 2 and R A 3 is (OR 5 ) m .
Moreover, the compound represented by the following general formula (2) is a compound represented by the general formula (I) in the first embodiment, in which R A 1a and R A 1b are each represented by Si (R 1 ) 3. In which R A 2 is R 3 and R A 3 is a single bond.

Figure 0006463229
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本実施形態2における、重合開始剤として一般式(1)及び/又は(2)で表される化合物を使用する場合のポリアルキレングリコール誘導体の製造方法を、工程a’)〜c’)として以下に記載する。下記に示す通り、重合開始剤として一般式(1)で表される化合物を使用した場合、得られるポリアルキレングリコール誘導体は一般式(3)で表される化合物となり、重合開始剤として一般式(2)で表される化合物を使用した場合、得られるポリアルキレングリコール誘導体は一般式(4)で表される化合物となる。   The production method of the polyalkylene glycol derivative in the case where the compound represented by the general formula (1) and / or (2) is used as the polymerization initiator in the second embodiment is described below as steps a ′) to c ′). It describes. As shown below, when the compound represented by the general formula (1) is used as a polymerization initiator, the resulting polyalkylene glycol derivative becomes a compound represented by the general formula (3), and the general formula ( When the compound represented by 2) is used, the resulting polyalkylene glycol derivative is a compound represented by the general formula (4).

工程a’)一般式(1)及び/又は(2)で表される重合開始剤とアルキレンオキシドとを重合溶媒中で反応させ、下記一般式(12)及び/又は(13)で表される化合物を得る工程、
工程b’)一般式(12)及び/又は(13)で表される化合物と下記一般式(5)で表される化合物とを反応させ、下記一般式(14)及び/又は(15)で表される化合物を得る工程、及び
工程c’)一般式(14)及び/又は(15)で表される化合物を脱保護し、一般式(3)及び/又は(4)で表される化合物を得る工程。
Step a ′) The polymerization initiator represented by the general formula (1) and / or (2) is reacted with an alkylene oxide in a polymerization solvent, and represented by the following general formula (12) and / or (13). Obtaining a compound;
Step b ′) The compound represented by the general formula (12) and / or (13) is reacted with the compound represented by the following general formula (5), and the following general formula (14) and / or (15): And a step c ′) a compound represented by the general formula (3) and / or (4), wherein the compound represented by the general formula (14) and / or (15) is deprotected. Obtaining.

Figure 0006463229
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上記一般式(1)〜(2)及び(12)〜(15)中、Rは、それぞれ独立して炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の1価の炭化水素基である。あるいは、Rは互いに結合してこれらが結合するケイ素原子と共に3〜6員環を形成していてもよい。Rの具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。また、Rが互いに結合してケイ素原子と共に環を形成する場合はこれらの基から水素原子が一つ脱離した基などが挙げられる。(なお、上記の通り、本実施形態2におけるRは、上記実施形態1におけるR 1a及び/又はR 1bとは定義が異なる別個の符号であり、上記実施形態1に記載した「(ア)Si(Rで表される構造の保護基」中のRと同一である。)なお、窒素上に二つの保護基を導入することが容易であり、後述する一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物の合成がし易いという観点からは、Rとしてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、及びイソプロピル基が好ましい。 In the general formulas (1) to (2) and (12) to (15), each R 1 is independently a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic structure having 3 to 6 carbon atoms. It is a monovalent hydrocarbon group. Alternatively, R 1 may be bonded to each other to form a 3- to 6-membered ring together with the silicon atom to which they are bonded. Specific examples of R 1 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl. Group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like. In addition, when R 1 is bonded to each other to form a ring with a silicon atom, a group in which one hydrogen atom is eliminated from these groups can be mentioned. (As described above, R 1 in the second embodiment is a separate code having a different definition from R A 1a and / or R A 1b in the first embodiment, and is described in the first embodiment. A) the same as R 1 in the “protecting group having a structure represented by Si (R 1 ) 3 ”.) It is easy to introduce two protecting groups on nitrogen, and the general formula (described later) From the viewpoint of easy synthesis of the compound represented by 6) and / or (7), R 1 is preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an isopropyl group.

上記一般式(1)、(3)、(12)、及び(14)中、Rは、炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基である。Rの具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のそれぞれから、水素原子が一つ脱離した基などが挙げられる。なお、本実施形態2におけるRは、上記実施形態1におけるR に対応しており、その定義は上記実施形態1におけるR の定義と同一である。 In the general formulas (1), (3), (12), and (14), R 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic divalent having 3 to 6 carbon atoms. It is a hydrocarbon group. Specific examples of R 2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl. And a group in which one hydrogen atom is eliminated from each of a group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Incidentally, R 2 in the present embodiment 2 corresponds to R A 2 in the above embodiment 1, its definition is the same as the definition of R A 2 in the first embodiment.

上記一般式(2)、(4)、(13)、及び(15)中、Rは、炭素数4〜6の直鎖状の2価の炭化水素基である。Rの具体例としては、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基のそれぞれから水素原子が一つ脱離した基などが挙げられる。なお、上記の通り、本実施形態2におけるRは、上記実施形態1におけるR とは定義が異なる別個の符号である。 In the general formulas (2), (4), (13), and (15), R 3 is a linear divalent hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. Specific examples of R 3 include groups in which one hydrogen atom has been eliminated from each of an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group. As described above, R 3 in the second embodiment is a separate code having a definition different from that of R A 3 in the first embodiment.

上記一般式(3)〜(5)及び(14)〜(15)中、Rは、水素原子、或いは置換されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜12の炭化水素基であり、かつ該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。Rの具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、フェニル基、0−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、メシチル基、ビニル基、アリル基が挙げられる。置換された構造のRとしては、例えば、アセタール化ホルミル基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アミノ基、炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜7のアシルアミド基、同一又は異なるトリ(炭素数1〜6のアルキル)シロキシ基、シロキシ基、シリルアミノ基、マレイミド基、チオール基、水酸基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、活性エステル基、及びアジ基が挙げられる。置換基を有するR として具体的には、下記構造式で表されるものが例示できるがこれらに限定はされない。なお、下記式は、置換された構造のRの末端部分を示し、式中の点線は、Rの炭化水素部分が上記に例示したようなバリエーションをとり得ることを示す。このような置換基は、さらに任意の適切な保護基で保護されていてもよい。 In the general formulas (3) to (5) and (14) to (15), R 4 is a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic carbon atom having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted. It is a hydrogen group, and the hydrocarbon group may contain a hetero atom. Specific examples of R 4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, cyclopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, Decyl, dodecyl, phenyl, 0-tolyl, m-tolyl, p-tolyl, 2,3-xylyl, 2,4-xylyl, 2,5-xylyl, 2,6-xylyl Group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, mesityl group, vinyl group and allyl group. As R 4 of the substituted structure, for example, an acetalized formyl group, a cyano group, a formyl group, a carboxyl group, an amino group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, an acylamide group having 2 to 7 carbon atoms, the same or Different tri (C 1-6 alkyl) siloxy groups, siloxy groups, silylamino groups, maleimide groups, thiol groups, hydroxyl groups, methacryloyloxy groups, acryloyloxy groups, active ester groups, and azide groups. Specific examples of R A 4 having a substituent include, but are not limited to, those represented by the following structural formula. The following formula shows the terminal portion of R 4 of the substituted structure, and the dotted line in the formula indicates that the hydrocarbon portion of R 4 can take variations as exemplified above. Such substituents may be further protected with any appropriate protecting group.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

なお、本実施形態2におけるRは、上記実施形態1におけるR に対応しており、その定義は上記実施形態1におけるR の定義と同一である。 Incidentally, R 4 in the present embodiment 2 corresponds to R A 4 in the above embodiment 1, its definition is the same as the definition of R A 4 in the first embodiment.

上記一般式(1)、(3)〜(5)及び(12)〜(15)中、Rは、炭素数2〜8のアルキレン基である。中でも、炭素数2〜3のアルキレン基であることが好ましい。即ち、Rはエチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。なお、(OR)単位としては1種のオキシアルキレン基、例えばオキシエチレン基、又はオキシプロピレン基のみで構成されていてもよいし、二種以上のオキシアルキレン基が混在していてもよい。2種以上のオキシアルキレン基が混在している場合、(OR)は2種以上の異なるオキシアルキレン基がランダム重合したものであってもよいし、ブロック重合したものであってもよい。なお、本実施形態2におけるRは、上記実施形態1におけるR に対応しており、その定義は上記実施形態1におけるR の定義と同一である。 In the general formulas (1), (3) to (5) and (12) to (15), R 5 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms. Among these, an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms is preferable. That is, R 5 is preferably an ethylene group or a propylene group. The (OR 5 ) unit may be composed of only one kind of oxyalkylene group, for example, an oxyethylene group or an oxypropylene group, or two or more kinds of oxyalkylene groups may be mixed. When two or more kinds of oxyalkylene groups are mixed, (OR 5 ) may be one obtained by randomly polymerizing two or more different oxyalkylene groups, or one obtained by block polymerization. Incidentally, R 5 in the present embodiment 2 corresponds to R A 5 in the above embodiment 1, its definition is the same as the definition of R A 5 in the first embodiment.

上記一般式(1)〜(2)及び(12)〜(13)中、Mは、アルカリ金属を表し、Mの具体例は上記実施形態1に記載したとおりである。   In the general formulas (1) to (2) and (12) to (13), M represents an alkali metal, and specific examples of M are as described in the first embodiment.

上記一般式(1)、(3)、(12)及び(14)中、mは、1〜3の整数を表す。蒸留する際の化合物の沸点を考えると、好ましくはmは1〜2の整数である。   In the general formulas (1), (3), (12) and (14), m represents an integer of 1 to 3. Considering the boiling point of the compound during distillation, m is preferably an integer of 1 to 2.

また、上記一般式(1)〜(4)及び(12)〜(15)中、r、k、n、及びLは、上記実施形態1に記載したr、k、n、及びLと同一である。   In the general formulas (1) to (4) and (12) to (15), r, k, n, and L are the same as r, k, n, and L described in the first embodiment. is there.

本実施形態2の製造方法の各工程において用いる各化合物の選択においては、所望の最終生成物である一般式(3)及び/又は(4)の化合物を得ることができるように、一般式(1)、(2)、(5)、及び(12)〜(15)において、所望のR、R、R、R、R、m、r、k、n、及びLを選択することができる。 In the selection of each compound used in each step of the production method of Embodiment 2, the general formula (3) and / or (4), which is a desired final product, can be obtained. In 1), (2), (5), and (12) to (15), select desired R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , m, r, k, n, and L can do.

また、本実施形態2では、工程a’)〜c’)に先立って、任意選択的な工程として、[前工程1’]及び[前工程2’]を実施することができる。[前工程1’]及び[前工程2’]は、重合開始剤の原料(出発物質)である下記一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物を製造する工程([前工程1’])、並びに重合開始剤である上記一般式(1)及び/又は(2)で表される化合物を製造する工程([前工程2’])を含む。なお、前工程としては、[前工程1’]に引き続き[前工程2’]を行ってもよいし、[前工程1’]を経ずに[前工程2’]のみを行ってもよい。   In the second embodiment, prior to steps a ′) to c ′), [previous step 1 ′] and [previous step 2 ′] can be performed as optional steps. [Pre-Step 1 ′] and [Pre-Step 2 ′] are steps for producing a compound represented by the following general formula (6) and / or (7), which is a raw material (starting material) of the polymerization initiator ( Step 1 ′]) and a step of producing a compound represented by the above general formula (1) and / or (2) which is a polymerization initiator ([Pre-Step 2 ′]). As the previous step, [Previous step 2 ′] may be performed following [Previous step 1 ′], or only [Previous step 2 ′] may be performed without passing through [Previous step 1 ′]. .

また、本実施形態2では、工程a’)〜c’)の後には、任意選択的な工程として、得られた目的物(一般式(3)及び/又は(4)で表される化合物)を精製する後処理工程を行ってもよい。   In the second embodiment, after the steps a ′) to c ′), as an optional step, the obtained target product (compound represented by the general formula (3) and / or (4)) is used. You may perform the post-processing process which refine | purifies.

以下の好ましい実施形態2の説明においては、時系列に沿って、[前工程1’]及び[前工程2’]、工程a’)〜工程c’)、及び後処理工程の順に説明する。なお、上記した実施形態1と同様な内容の箇所については、記載を適宜省略する。   In the following description of the preferred embodiment 2, description will be made in the order of [Pre-process 1 '] and [Pre-process 2'], Process a ') to Process c'), and Post-processing process in time series. In addition, about the location of the content similar to above-mentioned Embodiment 1, description is abbreviate | omitted suitably.

[前工程1’]
[前工程1’]は、重合開始剤の前駆体として用いられる下記一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物の合成を行う工程である。
[Previous process 1 ']
[Pre-process 1 ′] is a process for synthesizing a compound represented by the following general formula (6) and / or (7) used as a precursor of the polymerization initiator.

Figure 0006463229
(上記一般式(6)及び(7)中、R、R、R、R、及びmは、上記一般式(1)及び(2)について定義したとおりであって、上記一般式(1)及び(2)中のR、R、R、R、及びmと同一である。)
Figure 0006463229
(In the above general formulas (6) and (7), R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , and m are as defined for the above general formulas (1) and (2). (It is the same as R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , and m in (1) and (2).)

[前工程1’]は、例えば下記工程(1−1)〜(1−2)、下記工程(2−1)〜(2−2)にて実施することができるが、これに限定されるものではない。   [Pre-process 1 ′] can be carried out, for example, in the following processes (1-1) to (1-2) and the following processes (2-1) to (2-2), but is not limited thereto. It is not a thing.

Figure 0006463229
(上記一般式(6a)、(6b)、(7a)、(8)、及び(9)中、R、R、R、R、及びmは、一般式(1)及び(2)について定義したとおりであって、一般式(1)及び(2)中のR、R、R、R、及びmと同一である。Lは脱離基を表し、その具体例は上記実施形態1に記載したとおりである。Rは炭素数1〜5の炭化水素基である。)
Figure 0006463229
(In the general formulas (6a), (6b), (7a), (8), and (9), R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , and m are represented by the general formulas (1) and (2 And is the same as R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , and m in the general formulas (1) and (2), L 1 represents a leaving group, Examples are as described in Embodiment 1. R 6 is a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.

の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基などが挙げられるが、これらに限定はされない。 Specific examples of R 6 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group and the like. However, it is not limited to these.

一般にケイ素−窒素結合はケイ素−酸素結合よりも弱いため、上記の式(1−2)や式(2−2)で表されるような脱保護反応では、本来はケイ素−窒素結合が優先して切断される。しかし、本実施形態2における本反応の場合、窒素上に嵩高い二つの保護基(トリアルキルシリル基)が存在するため、その立体障害によりケイ素−酸素結合を優先して切ることができる。このように、アミノ基を嵩高い二つの保護基で保護し、かつ、ヒドロキシ基も同じ構造の一つの保護基で保護した後に(すなわちアミノ基とヒドロキシ基において三つ全ての保護基をかけた後に)、アミノ基に二つの保護基があるという嵩高さを利用して、ヒドロキシ基だけを優先して脱保護することにより、従来法では困難であった、アミノ基だけがシリル化されたアルコールを合成することができる。   Since the silicon-nitrogen bond is generally weaker than the silicon-oxygen bond, in the deprotection reaction represented by the above formulas (1-2) and (2-2), the silicon-nitrogen bond is primarily preferred. Is cut off. However, in the case of this reaction in the present embodiment 2, since two bulky protective groups (trialkylsilyl groups) exist on nitrogen, the silicon-oxygen bond can be preferentially cut by the steric hindrance. Thus, after protecting the amino group with two bulky protecting groups and also protecting the hydroxy group with one protecting group of the same structure (ie, all three protecting groups were applied at the amino and hydroxy groups). Later, by utilizing the bulkiness of the amino group having two protective groups, deprotection preferentially only on the hydroxy group, which was difficult in the conventional method, an alcohol in which only the amino group was silylated Can be synthesized.

上記工程(1−1)及び/又は(2−1)の実施は、例えば以下のように行うことができる。無溶媒で一般式(6a)及び/又は(7a)で表される化合物に塩基性化合物を加え、続いて一般式(6b)で表される化合物を滴下し、混合することで反応させてもよいし、適切な溶媒に、一般式(6a)及び/又は(7a)で表される化合物を溶解させた後に塩基性化合物を加え、その後一般式(6b)で表される化合物を滴下し、混合することで反応させてもよい。一般式(6b)で表される化合物の使用量は、一般式(6a)及び/又は(7a)で表される化合物のモル数に対して例えば3〜15倍量、好ましくは3〜10倍量であり、さらに好ましくは3〜5倍量である。   The implementation of the step (1-1) and / or (2-1) can be performed, for example, as follows. A basic compound may be added to the compound represented by the general formula (6a) and / or (7a) without a solvent, and then the compound represented by the general formula (6b) may be dropped and mixed to be reacted. The basic compound is added after dissolving the compound represented by the general formula (6a) and / or (7a) in an appropriate solvent, and then the compound represented by the general formula (6b) is dropped. You may make it react by mixing. The amount of the compound represented by the general formula (6b) is, for example, 3 to 15 times, preferably 3 to 10 times the number of moles of the compound represented by the general formula (6a) and / or (7a). The amount is more preferably 3 to 5 times.

上記工程(1−1)及び/又は(2−1)で溶媒を使用する場合、溶媒の具体例としては、THFや1,4−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレンなどのハロゲン類、N,N−ジメチルホルムアミドやN−メチル−2−ピロリドン、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるがこれらに限定はされない。溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般式(6a)及び/又は(7a)で表される化合物の質量に対して例えば1〜20倍量、好ましくは2〜10倍量、さらに好ましくは2〜5倍量である。   When a solvent is used in the step (1-1) and / or (2-1), specific examples of the solvent include ethers such as THF and 1,4-dioxane, aromatics such as benzene, toluene, and xylene. Nonlimiting examples include hydrocarbons, halogens such as methylene chloride, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, acetonitrile, acetone, and the like. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It is 1-20 times amount with respect to the mass of the compound represented by General formula (6a) and / or (7a), Preferably it is 2-10 times amount, More preferably Is 2 to 5 times the amount.

上記工程(1−1)及び/又は(2−1)で使用する塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなどの金属アルコキシド類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物類、第一級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、アンモニア水等を使用することができるが、これらには限定されない。塩基性化合物の使用量は、上記一般式(6a)及び/又は(7a)で表される化合物のモル数に対し、例えば3〜15倍量、好ましくは3〜10倍量、より好ましくは3〜5倍量である。   Specific examples of the basic compound used in the step (1-1) and / or (2-1) include hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and tetramethylammonium hydroxide, sodium carbonate, Carbonates such as potassium carbonate and cesium carbonate, metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide, metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, primary, secondary, Tertiary aliphatic amines, hybrid amines, aromatic amines, heterocyclic amines, aqueous ammonia and the like can be used, but are not limited thereto. The amount of the basic compound used is, for example, 3 to 15 times, preferably 3 to 10 times, more preferably 3 with respect to the number of moles of the compound represented by the general formula (6a) and / or (7a). ~ 5 times the amount.

上記工程(1−1)及び/又は(2−1)における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行うことができるが、例えば−60℃〜150℃、好ましくは0℃〜80℃である。反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式(6a)及び/又は(7a)で表される化合物が消失したとき、または一般式(8)及び/又は(9)で表される化合物が主生成物として得られる時点とすることができる。   Although the reaction temperature in the said process (1-1) and / or (2-1) can be performed within the range of melting | fusing point-boiling point of the solvent to be used, for example, -60 degreeC-150 degreeC, Preferably it is 0 degreeC- 80 ° C. The end of the reaction is the main product when the compound represented by the general formula (6a) and / or (7a) disappears by gas chromatography or the compound represented by the general formula (8) and / or (9). Can be obtained as

また、上記工程(1−2)及び/又は(2−2)は、例えば一般式(8)及び/又は(9)で表される化合物を塩基処理することによって実施することができる。具体的には、例えば以下のように実施することができる。一度一般式(8)及び/又は(9)で表される化合物を精製して取り出した後に、一般式(8)及び/又は(9)で表される化合物をROHに溶解させ、触媒量のRONaを添加して選択的な脱保護を行う。生成する(RSiORをROHと共に減圧留去することで平衡を一般式(8)及び/又は(9)から一般式(6)及び/又は(7)に偏らせる。再びROHを追加してさらに反応させ、上述の減圧留去する操作を繰り返すことで反応を完結させることができる。ROHの使用量は、特に限定はされないが、一般式(8)及び/又は(9)で表される化合物の質量に対して例えば1〜20倍量、好ましくは2〜15倍量、さらに好ましくは3〜10倍量である。RONaの使用量は、特に限定はされないが、一般式(8)及び/又は(9)で表される化合物のモル数に対し、例えば0.01〜1倍量、好ましくは0.01〜0.5倍量、より好ましくは0.01〜0.1倍量である。 Moreover, the said process (1-2) and / or (2-2) can be implemented by base-treating the compound represented, for example by General formula (8) and / or (9). Specifically, for example, it can be carried out as follows. Once the compound represented by the general formula (8) and / or (9) is purified and taken out, the compound represented by the general formula (8) and / or (9) is dissolved in R 6 OH to obtain a catalyst. An amount of R 6 ONa is added to effect selective deprotection. The generated (R 1 ) 3 SiOR 6 is distilled off under reduced pressure together with R 6 OH, so that the equilibrium is biased from the general formula (8) and / or (9) to the general formula (6) and / or (7). The reaction can be completed by adding R 6 OH again for further reaction, and repeating the above-described operation of distilling off under reduced pressure. The amount of R 6 OH, especially but not limited to, the general formula (8) and / or (9) mass relative to example 1-20 times the amount of the compound represented by the, preferably 2 to 15 times, More preferably, the amount is 3 to 10 times. The amount of R 6 ONa is not particularly limited with respect to the number of moles of the compound represented by the general formula (8) and / or (9), for example 0.01 times, preferably 0.01 -0.5 times the amount, more preferably 0.01-0.1 times the amount.

上記工程(1−2)及び/又は(2−2)における反応温度は、例えば0℃〜100℃、好ましくは30℃〜80℃である。反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式(8)及び/又は(9)で表される化合物が消失した時点とすることができる。一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物は蒸留により精製し、水分を除去することが好ましい。その場合の一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物の含水率は例えば50ppm以下、好ましくは10ppm以下、さらに好ましくは5ppm以下である。   The reaction temperature in the said process (1-2) and / or (2-2) is 0 degreeC-100 degreeC, for example, Preferably it is 30 degreeC-80 degreeC. The reaction can be completed at the time when the compound represented by the general formula (8) and / or (9) disappears by gas chromatography. The compound represented by the general formula (6) and / or (7) is preferably purified by distillation to remove water. In this case, the water content of the compound represented by the general formula (6) and / or (7) is, for example, 50 ppm or less, preferably 10 ppm or less, and more preferably 5 ppm or less.

上記一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物の製造の別法としては、例えば下記工程(1−3)〜(1−4)、下記工程(1−5)〜(1−6)、下記工程(2−3)〜(2−4)等の方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   As another method for producing the compound represented by the general formula (6) and / or (7), for example, the following steps (1-3) to (1-4) and the following steps (1-5) to (1) -6), methods such as the following steps (2-3) to (2-4) may be mentioned, but are not limited thereto.

Figure 0006463229
(上記一般式(6b)、(6c)、(6d)、(6e)、(6f)、(7b)、及び(7c)中、R、R、R、R、及びmは、一般式(1)及び(2)について定義したとおりであって、一般式(1)及び(2)中のR、R、R、R、及びmと同一である。L、Lはそれぞれ脱離基を表し、その具体例は上記実施形態1に記載したとおりである。TsClは塩化p−トルエンスルホニルの略であり、MsClは塩化メタンスルホニルの略である。)
Figure 0006463229
(In the general formulas (6b), (6c), (6d), (6e), (6f), (7b), and (7c), R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , and m are be as defined for the general formula (1) and (2), the general formula (1) and (2) of R 1, R 2, R 3 , .L 1 R 5, and is identical to m, L 2 represents a leaving group, and specific examples thereof are as described in Embodiment 1. TsCl is an abbreviation for p-toluenesulfonyl chloride, and MsCl is an abbreviation for methanesulfonyl chloride.)

上記工程(1−3)、(2−3)の実施は上記実施形態1に記載の工程(i−2)と同様の手法で行うことができる。
上記工程(1−4)、(1−6)の実施は上記実施形態1に記載の工程(i−3)と同様の手法で行うことができる。上記(1−4)や(1−6)で表される反応の場合、上記実施形態1の工程(i−3)にて記載したとおり、ジオールを過剰量用いることで優先して一方の末端のアルコールをエーテル化することができる。
The steps (1-3) and (2-3) can be performed by the same method as the step (i-2) described in the first embodiment.
The above steps (1-4) and (1-6) can be carried out in the same manner as in step (i-3) described in the first embodiment. In the case of the reactions represented by the above (1-4) and (1-6), as described in the step (i-3) of Embodiment 1, the use of an excessive amount of diol gives priority to one terminal. The alcohol can be etherified.

上記工程(1−5)の実施は、例えば以下のように行うことができる。上記実施形態1に記載の工程(i−1)と同様の手法で合成した(6e)を出発原料として、無溶媒で一般式(6e)で表される化合物に塩基性化合物を加え、続いてTsCl、又はMsClを添加し、混合することで反応させてもよいし、適切な溶媒に、一般式(6e)で表される化合物を溶解させた後に塩基性化合物を加え、その後TsCl、又はMsClを添加し、混合することで反応させてもよい。TsCl、又はMsClの使用量は、一般式(6e)で表される化合物のモル数に対して例えば1〜5倍量、好ましくは1〜3倍量であり、さらに好ましくは1〜2倍量である。   The above step (1-5) can be performed, for example, as follows. Using (6e) synthesized by the same method as in step (i-1) described in Embodiment 1 above as a starting material, a basic compound is added to the compound represented by general formula (6e) without solvent, and then The reaction may be performed by adding and mixing TsCl or MsCl, or adding a basic compound after dissolving the compound represented by the general formula (6e) in an appropriate solvent, and then adding TsCl or MsCl. You may make it react by adding and mixing. The amount of TsCl or MsCl used is, for example, 1 to 5 times, preferably 1 to 3 times, more preferably 1 to 2 times the number of moles of the compound represented by the general formula (6e). It is.

上記工程(1−5)で溶媒を使用する場合、溶媒の具体例としては、THFや1,4−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレンなどのハロゲン類、N,N−ジメチルホルムアミドやN−メチル−2−ピロリドン、アセトニトリル等が挙げられるがこれらに限定はされない。溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般式(6e)で表される化合物の質量に対して例えば1〜20倍量、好ましくは2〜10倍量、さらに好ましくは2〜5倍量である。   When a solvent is used in the above step (1-5), specific examples of the solvent include ethers such as THF and 1,4-dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, and methylene chloride. Examples include, but are not limited to, halogens, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and acetonitrile. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It is 1-20 times amount with respect to the mass of the compound represented by General formula (6e), Preferably it is 2-10 times amount, More preferably, it is 2-5 times amount. It is.

上記工程(1−5)で使用する塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの水酸化物類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなどの金属アルコキシド類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物類、第一級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、アンモニア水等を使用することができるが、これらには限定されない。塩基性化合物の使用量は、上記一般式(6e)で表される化合物のモル数に対し、例えば3〜15倍量、好ましくは3〜10倍量、より好ましくは3〜5倍量である。   Specific examples of the basic compound used in the above step (1-5) include hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and tetramethylammonium hydroxide, and carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate. Metal alkoxides such as salts, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, primary, secondary and tertiary aliphatic amines Hybrid amines, aromatic amines, heterocyclic amines, aqueous ammonia and the like can be used, but are not limited thereto. The amount of the basic compound used is, for example, 3 to 15 times, preferably 3 to 10 times, more preferably 3 to 5 times the number of moles of the compound represented by the general formula (6e). .

上記工程(1−5)における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行うことができるが、例えば−60℃〜150℃、好ましくは0℃〜80℃である。反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式(6e)で表される化合物が消失した時点とすることができる。   Although the reaction temperature in the said process (1-5) can be performed within the range of melting | fusing point-boiling point of the solvent to be used, it is -60 degreeC-150 degreeC, for example, Preferably it is 0 degreeC-80 degreeC. The reaction can be completed at the time when the compound represented by the general formula (6e) disappears by gas chromatography.

上記工程(2−4)の実施は、例えば以下のように行うことができる。上記工程(2−3)で合成した一般式(7c)で表される化合物を出発原料として無溶媒で水酸化ナトリウム水溶液を加え、混合することで反応させてもよいし、適切な溶媒に、一般式(7c)で表される化合物を溶解させた後に水酸化ナトリウム水溶液を加え、混合することで反応させてもよい。水酸化ナトリウムの使用量は、一般式(7c)で表される化合物のモル数に対して例えば1〜5倍量、好ましくは1〜3倍量であり、さらに好ましくは1〜2倍量である。   The above step (2-4) can be performed, for example, as follows. The compound represented by the general formula (7c) synthesized in the above step (2-3) may be reacted by adding a sodium hydroxide aqueous solution without solvent using the compound represented by the general formula (7c) as a starting material, and mixing them. After dissolving the compound represented by the general formula (7c), an aqueous sodium hydroxide solution may be added and mixed to react. The amount of sodium hydroxide used is, for example, 1 to 5 times, preferably 1 to 3 times, more preferably 1 to 2 times the number of moles of the compound represented by the general formula (7c). is there.

上記工程(2−4)で溶媒を使用する場合、溶媒の具体例としては、H2O、THFや1,4−ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレンなどのハロゲン類、N,N−ジメチルホルムアミドやN−メチル−2−ピロリドン、アセトニトリル等が挙げられるがこれらに限定はされない。溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般式(7c)で表される化合物の質量に対して例えば1〜20倍量、好ましくは2〜10倍量、さらに好ましくは2〜5倍量である。   When a solvent is used in the above step (2-4), specific examples of the solvent include ethers such as H2O, THF and 1,4-dioxane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, methylene chloride. Halogens such as N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, acetonitrile and the like, but are not limited thereto. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, It is 1-20 times amount with respect to the mass of the compound represented by General formula (7c), Preferably it is 2-10 times amount, More preferably, it is 2-5 times amount. It is.

上記工程(2−4)における反応温度は、使用する溶媒の融点から沸点の範囲内で行うことができるが、例えば−60℃〜100℃、好ましくは−30℃〜20℃である。反応の終了はガスクロマトグラフィーにより一般式(7c)で表される化合物が消失した時点とすることができる。   Although the reaction temperature in the said process (2-4) can be performed within the range of melting | fusing point-boiling point of the solvent to be used, it is -60 degreeC-100 degreeC, for example, Preferably it is -30 degreeC-20 degreeC. The reaction can be completed at the time when the compound represented by the general formula (7c) disappears by gas chromatography.

[前工程2’]
[前工程2’]は、上記一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物と、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物とを反応させることにより、下記一般式(1)及び/又は(2)で表される化合物を得る工程である。
[Previous process 2 ']
[Previous Step 2 ′] is a reaction of the compound represented by the above general formula (6) and / or (7) with an alkali metal or an alkali metal compound, thereby allowing the following general formula (1) and / or ( In this step, the compound represented by 2) is obtained.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[前工程2’]の反応は、上記実施形態1の前工程2と同様に実施することができる。すなわち、使用するアルカリ金属又はアルカリ金属化合物の種類やその使用量、使用する溶媒の種類やその使用量、反応系への化合物の添加方法、反応温度等は、上記実施形態1の前工程2に記載した範囲内において、適宜選択することができる。また、[前工程2’]に使用する溶媒としては、重合時に使用する重合溶媒と同じ種類のものを使用することで、重合開始剤合成時に重合開始剤が重合溶媒に溶解するかどうかを、予め確認することができる。確認方法は、上記実施形態1の前工程2に記載したのと同様である。   The reaction of [Pre-process 2 '] can be carried out in the same manner as in Pre-process 2 of Embodiment 1. That is, the type and amount of alkali metal or alkali metal compound to be used, the type and amount of solvent to be used, the method of adding the compound to the reaction system, the reaction temperature, etc. are the same as those in the previous step 2 of Embodiment 1 above. It can select suitably in the described range. In addition, as the solvent used in [Previous Step 2 ′], whether or not the polymerization initiator is dissolved in the polymerization solvent at the time of synthesis of the polymerization initiator by using the same kind of the polymerization solvent used in the polymerization, This can be confirmed in advance. The confirmation method is the same as that described in the previous step 2 of the first embodiment.

上述したとおり、重合反応を行う際には、副生成物であるジオールポリマーの生成を抑えるため、一般式(1)及び/又は(2)で表される化合物(重合開始剤)を含む反応系中の水分を極力低く抑えることが好ましい。これに関して、例えば、一般式(6)で表される化合物はR=エチル基、R=CHCHCH、m=1の場合は沸点が120℃(10Pa)と高く、また、一般式(7)で表される化合物はR=エチル基、R=CHCHCHCHCHCHの場合は沸点が110℃(10Pa)と高く、水との沸点差が十分にあるため、減圧乾燥を行うことにより水を分離することが可能である。そのため、[前工程2’]では、アルカリ金属又はアルカリ金属化合物の添加前に、一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物に対して、十分に減圧乾燥を行った後に蒸留を行うことが好ましい。一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物の含水率の範囲は、上記実施形態1の前工程2に記載した一般式(i)で表される化合物の含水率の範囲と同様である。 As described above, when the polymerization reaction is performed, a reaction system including a compound (polymerization initiator) represented by the general formula (1) and / or (2) in order to suppress the formation of a diol polymer as a by-product. It is preferable to keep the moisture in the inside as low as possible. In this regard, for example, the compound represented by the general formula (6) has a boiling point as high as 120 ° C. (10 Pa) when R 1 = ethyl group, R 2 = CH 2 CH 2 CH 2 , m = 1, The compound represented by the general formula (7) has a boiling point as high as 110 ° C. (10 Pa) in the case of R 1 = ethyl group and R 3 = CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 , and the difference in boiling point from water Therefore, water can be separated by drying under reduced pressure. Therefore, in [Previous Step 2 ′], the compound represented by the general formula (6) and / or (7) is sufficiently dried under reduced pressure before the addition of the alkali metal or the alkali metal compound, and then distilled. It is preferable to carry out. The range of the moisture content of the compound represented by the general formula (6) and / or (7) is the range of the moisture content of the compound represented by the general formula (i) described in the previous step 2 of Embodiment 1 above. It is the same.

上述のように、重合速度向上のためには、開始剤原料アルコール残量が少ない重合開始剤を用いることが好ましい。具体的には、[前工程2’]における重合開始剤の合成終了後に、一般式(1)及び/又は(2)で表される重合開始剤と、一般式(6)及び/又は(7)で表される開始剤原料アルコールとの物質量比率は、上記実施形態1の前工程2に記載した、一般式(I)で表される重合開始剤と、一般式(i)で表される開始剤原料アルコールの物質量比率と同様の範囲であることが好ましい。また、上述の重合開始剤を合成した後に、一般式(6)及び/又は(7)で表される開始剤原料アルコールを減圧留去することも可能であり、その場合の一般式(1)及び/又は(2)で表される重合開始剤と、一般式(6)及び/又は(7)で表される開始剤原料アルコールとの物質量比率も、上記実施形態1の前工程2において記載した、一般式(I)で表される重合開始剤と、一般式(i)で表される開始剤原料アルコールとの物質量比率と同様の範囲であることが好ましい。   As described above, in order to improve the polymerization rate, it is preferable to use a polymerization initiator with a small amount of initiator raw material alcohol remaining. Specifically, after completion of the synthesis of the polymerization initiator in [Previous Step 2 ′], the polymerization initiator represented by the general formula (1) and / or (2) and the general formula (6) and / or (7 The substance amount ratio with the initiator raw material alcohol represented by () is represented by the polymerization initiator represented by the general formula (I) described in the preceding step 2 of the first embodiment and the general formula (i). It is preferable to be in the same range as the substance amount ratio of the starting raw material alcohol. Moreover, after synthesizing the above-described polymerization initiator, the initiator raw alcohol represented by the general formula (6) and / or (7) can be distilled off under reduced pressure. In that case, the general formula (1) And / or the mass ratio of the polymerization initiator represented by (2) and the initiator raw alcohol represented by the general formula (6) and / or (7) is also the same as that in the previous step 2 of the first embodiment. It is preferable that it is the same range as the substance amount ratio of the polymerization initiator represented by the general formula (I) and the initiator raw material alcohol represented by the general formula (i).

[工程a’)]
工程a’)は、上記一般式(1)及び/又は(2)で表される化合物を重合溶媒中でアルキレンオキシドと反応させる工程である。望ましくは一般式(1)及び/又は(2)で表される化合物を重合溶媒中に完全に溶解させた後、アルキレンオキシドと反応させる。工程a’)によれば、下記一般式(12)及び/又は(13)で表される化合物を得ることができる。なお、重合開始剤としては、上記一般式(1)で表される化合物、又は上記一般式(2)で表される化合物のいずれか一方のみを使用してもよいし、両者を併せて使用してもよい。
[Step a ′)]
Step a ′) is a step of reacting the compound represented by the general formula (1) and / or (2) with an alkylene oxide in a polymerization solvent. Desirably, the compound represented by the general formula (1) and / or (2) is completely dissolved in the polymerization solvent and then reacted with the alkylene oxide. According to step a ′), a compound represented by the following general formula (12) and / or (13) can be obtained. As the polymerization initiator, only one of the compound represented by the general formula (1) or the compound represented by the general formula (2) may be used, or both may be used in combination. May be.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

ここで、一般にケイ素−酸素結合はケイ素−窒素結合よりも強いため、ケイ素−酸素結合を含む5員環もしくは6員環構造が形成可能な場合、シリル保護アミノ基含有アルコキシドの合成中に分子内でケイ素−窒素結合とケイ素−酸素結合の交換反応が進行する可能性がある。そのため、例えば、下式(0a)で表される化合物を重合開始剤に用いて重合を試みても、アルコキシド側ではなく、アミノ基側から重合が進行してしまい、目的のポリアルキレングリコール誘導体は得られない。これに対して、本実施形態2で用いる一般式(1)及び/又は(2)で表される重合開始剤(例えば、下式(1a)、(2a))においては、窒素と、Oを構成している酸素とを連結する鎖の鎖長を4以上に伸ばすことにより、ケイ素−酸素結合を含む5員環もしくは6員環構造の生成が抑制されて、アルコキシドの状態で安定した構造を形成することができる。その結果、アルコキシド側から重合が進行し、目的のポリアルキレングリコール誘導体を得ることが出来る。 Here, since the silicon-oxygen bond is generally stronger than the silicon-nitrogen bond, when a 5-membered or 6-membered ring structure containing a silicon-oxygen bond can be formed, There is a possibility that the exchange reaction between the silicon-nitrogen bond and the silicon-oxygen bond proceeds. Therefore, for example, even when polymerization is attempted using the compound represented by the following formula (0a) as a polymerization initiator, the polymerization proceeds from the amino group side instead of the alkoxide side, and the target polyalkylene glycol derivative is I can't get it. On the other hand, in the polymerization initiator represented by the general formula (1) and / or (2) used in the second embodiment (for example, the following formulas (1a) and (2a)), nitrogen, O By extending the chain length of the chain connecting with oxygen constituting M + to 4 or more, generation of a 5-membered or 6-membered ring structure containing a silicon-oxygen bond is suppressed, and the state is stable in an alkoxide state. Can be formed. As a result, polymerization proceeds from the alkoxide side, and the desired polyalkylene glycol derivative can be obtained.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

重合開始剤として用いる一般式(1)及び/又は(2)で表されるシリル保護アミノ基含有アルコール誘導体は、それぞれ分子内の構造に重合溶媒と類似の構造を有するため、開始剤原料アルコールの存在なしに重合溶媒へと溶けることができる。特に、上記一般式(1)で表される重合開始剤については、アルキレンオキシド構造を分子内に有することで、例えば溶媒がTHFなどのエーテル系溶媒の場合、重合開始剤と重合溶媒との相溶性が高まり、重合開始剤が開始剤原料アルコールの存在なしに重合溶媒へと溶けることができる。また、特に、上記一般式(2)で表される重合開始剤については、Rで表される炭化水素構造を分子内に有することで、例えば溶媒がトルエンなどの炭化水素系溶媒の場合、重合開始剤と重合溶媒との相溶性が高まり、重合開始剤が開始剤原料アルコールの存在なしに重合溶媒へと溶けることができる。結果、均一な系で、かつ温和な条件で重合することが可能となり、狭分散なポリアルキレングリコール誘導体の製造が可能となる。 Since the silyl-protected amino group-containing alcohol derivative represented by the general formula (1) and / or (2) used as a polymerization initiator has a structure similar to that of the polymerization solvent in the structure of each molecule, It can be dissolved in the polymerization solvent without being present. In particular, the polymerization initiator represented by the general formula (1) has an alkylene oxide structure in the molecule so that, for example, when the solvent is an ether solvent such as THF, the phase of the polymerization initiator and the polymerization solvent. Solubility increases and the polymerization initiator can be dissolved in the polymerization solvent without the presence of the initiator raw alcohol. In particular, for the polymerization initiator represented by the general formula (2), by having the hydrocarbon structure represented by R 3 in the molecule, for example, when the solvent is a hydrocarbon solvent such as toluene, The compatibility between the polymerization initiator and the polymerization solvent is increased, and the polymerization initiator can be dissolved in the polymerization solvent without the presence of the initiator raw material alcohol. As a result, it is possible to carry out polymerization under a uniform system and mild conditions, and it becomes possible to produce a narrowly dispersed polyalkylene glycol derivative.

工程a’)の反応は、上記実施形態1の工程a)に記載したのと同様に実施することができる。すなわち、使用する重合溶媒の種類やその使用量、反応系へのアルキレンオキシドの添加方法、反応温度等は、上記実施形態の工程a)に記載した範囲内において、適宜選択することができる。   The reaction of step a ′) can be carried out in the same manner as described in step a) of Embodiment 1 above. That is, the type of polymerization solvent to be used, the amount thereof used, the method of adding alkylene oxide to the reaction system, the reaction temperature, and the like can be appropriately selected within the range described in step a) of the above embodiment.

中でも、一般式(1)で表される重合開始剤を使用する場合には、分子内にアルキレンオキシド構造を有するため、重合溶媒としては、炭素数4〜10の環状エーテル化合物、又は直鎖状もしくは分岐状のエーテル化合物が好ましく用いられる。環状エーテル化合物、直鎖状もしくは分岐状のエーテル化合物の具体例は、それぞれ上記実施形態1の工程a)に記載したとおりである。また、一般式(2)で表される重合開始剤を使用する場合には、分子内に炭化水素構造を有するため、重合溶媒としては、芳香族炭化水素類が好ましく用いられる。その具体例も、上記実施形態の工程a)に記載したとおりである。   Among these, when the polymerization initiator represented by the general formula (1) is used, since it has an alkylene oxide structure in the molecule, the polymerization solvent is a cyclic ether compound having 4 to 10 carbon atoms or a straight chain. Alternatively, a branched ether compound is preferably used. Specific examples of the cyclic ether compound and the linear or branched ether compound are as described in Step a) of Embodiment 1 above. Moreover, when using the polymerization initiator represented by General formula (2), since it has a hydrocarbon structure in a molecule | numerator, aromatic hydrocarbons are used preferably as a polymerization solvent. Specific examples thereof are also as described in step a) of the above embodiment.

[工程b’)]
工程b’)は、工程a’)で得られた上記一般式(12)及び/又は(13)で表される化合物を、下記一般式(5)で表される化合物と反応させる工程である。工程b’)により、下記一般式(14)、(15)で表される化合物を得ることができる。
(ORL (5)
[Step b ′)]
Step b ′) is a step of reacting the compound represented by the general formula (12) and / or (13) obtained in the step a ′) with a compound represented by the following general formula (5). . By step b ′), compounds represented by the following general formulas (14) and (15) can be obtained.
R 4 (OR 5 ) k L (5)

Figure 0006463229
Figure 0006463229

工程b’)の反応は、上記実施形態1の工程b)に記載したのと同様に実施することができる。すなわち、反応系への一般式(5)で表される化合物の添加方法や、使用する溶媒の種類及びその使用量、使用する塩基触媒の種類及びその使用量、使用するアルカリ吸着剤の種類及びその使用量、反応温度、得られた一般式(14)及び/又は(15)で表される化合物の晶析、洗浄、精製等は、上記実施形態の工程b)に記載した範囲内において、適宜選択することができる。   The reaction of step b ') can be carried out in the same manner as described in step b) of Embodiment 1 above. That is, the method of adding the compound represented by the general formula (5) to the reaction system, the type and amount of the solvent used, the type and amount of the base catalyst used, the type of the alkali adsorbent used and The amount used, reaction temperature, crystallization, washing, purification, etc. of the compound represented by the general formula (14) and / or (15) obtained are within the range described in step b) of the above embodiment. It can be selected appropriately.

[工程c’)]
工程c’)では、工程b’)で得られた一般式(14)及び/又は(15)で表される化合物を脱保護する。この脱保護は、重金属触媒を用いることなく行われることが好ましい。より好ましくは、一般式(14)及び/又は(15)で表される化合物を、酸性条件下で脱保護する。具体的には、一般式(14)及び/又は(15)で表される化合物を、酸触媒の存在下で、水又はアルコール(ROH:式中Rは炭素数1〜5の炭化水素基である。)と反応させて、下記一般式(3)及び/又は(4)で表される化合物へと変換することができる。反応は、酸触媒の存在下、無溶媒で、又は必要に応じて適切な溶媒中で、一般式(14)及び/又は(15)で表される化合物と水又はアルコールとを反応させることにより行うことができる。その際、平衡を生成物側に移動させることにより収率を向上させることができるため、生成する(RSiOH、又は(RSiORは、加熱下で、又は減圧下で留去することが好ましい。水又はアルコールの使用量は特に限定されないが、一般式(14)及び/又は(15)のモル数に対して、例えば2〜4000当量、好ましくは10〜3000当量、さらに好ましくは20〜2000当量である。
[Step c ′)]
In step c ′), the compound represented by the general formula (14) and / or (15) obtained in step b ′) is deprotected. This deprotection is preferably performed without using a heavy metal catalyst. More preferably, the compound represented by the general formula (14) and / or (15) is deprotected under acidic conditions. Specifically, the compound represented by the general formula (14) and / or (15) is subjected to water or alcohol (R 6 OH: where R 6 is a carbon atom having 1 to 5 carbon atoms) in the presence of an acid catalyst. And a compound represented by the following general formula (3) and / or (4). The reaction is carried out by reacting the compound represented by the general formula (14) and / or (15) with water or an alcohol in the presence of an acid catalyst in the absence of a solvent or in an appropriate solvent as necessary. It can be carried out. At that time, since the yield can be improved by moving the equilibrium to the product side, the (R 1 ) 3 SiOH or (R 1 ) 3 SiOR 6 to be produced is heated or under reduced pressure. It is preferable to distill off. Although the usage-amount of water or alcohol is not specifically limited, For example, 2-4000 equivalent with respect to the number-of-moles of General formula (14) and / or (15), Preferably it is 10-3000 equivalent, More preferably, it is 20-2000 equivalent It is.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

使用する酸触媒の具体例としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、コハク酸、クエン酸、酒石酸、フマル酸、リンゴ酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸類、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、過塩素酸等の無機酸類、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、オルガノ(株)製アンバーリストシリーズ等の固体酸等が例示できるがこれらに限定はされない。これらの酸触媒の使用量としては、一般式(14)及び/又は(15)で表される化合物のモル数の、例えば0.01〜500当量、好ましくは0.1〜300当量、さらに好ましくは0.1〜150当量である。これらの酸性化合物は単独で用いることもできるし、一種又は二種以上を混合して用いることもできる。その場合、混合比に関しては特に限定されない。   Specific examples of the acid catalyst to be used include formic acid, acetic acid, propionic acid, succinic acid, citric acid, tartaric acid, fumaric acid, malic acid, trifluoroacetic acid and other carboxylic acids, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, perchlorine Examples thereof include inorganic acids such as acids, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid, and solid acids such as Amberlyst series manufactured by Organo Corporation, but are not limited thereto. The amount of these acid catalysts used is, for example, 0.01 to 500 equivalents, preferably 0.1 to 300 equivalents, more preferably the number of moles of the compound represented by the general formula (14) and / or (15). Is 0.1 to 150 equivalents. These acidic compounds can be used alone or in combination of one or more. In that case, the mixing ratio is not particularly limited.

脱保護後に得られた一般式(3)及び/又は(4)で表される化合物の晶析、洗浄、精製等は、上記実施形態1の工程c)に記載した範囲内において、適宜選択して実施することができる。   Crystallization, washing, purification, etc. of the compound represented by the general formula (3) and / or (4) obtained after deprotection are appropriately selected within the range described in the step c) of the first embodiment. Can be implemented.

一般式(3)及び/又は(4)で表される化合物のアミノ基は、工程c’)における脱保護により得られるため、例えば特許文献5に記載の方法で生成しうる副生成物(下記(A)〜(C−2)で表される化合物)は生成せず、最終的に一般式(3)及び/又は(4)で表される末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度なポリアルキレングリコール誘導体を合成することができる。これに対し、例えば特許文献5に記載の方法を使用する場合は、上記したように下記一般式(A)で示されるPEG誘導体の生成を防げない。また、上記水素還元工程では下記一般式(B−1)、(B−2)、(C−1)、(C−2)で表される2級、3級アミン化合物が副生する可能性がある。これらの副反応は上記のとおり従来の方法で完全に制御することは困難である。   Since the amino group of the compound represented by the general formula (3) and / or (4) is obtained by deprotection in the step c ′), for example, a by-product (described below) that can be generated by the method described in Patent Document 5 (A compound represented by (A) to (C-2)) is not produced, and finally has a narrow dispersion and high purity having an amino group at the terminal represented by the general formula (3) and / or (4) Polyalkylene glycol derivatives can be synthesized. On the other hand, when using the method of patent document 5, for example, as mentioned above, the production | generation of the PEG derivative shown by the following general formula (A) cannot be prevented. In the hydrogen reduction step, secondary and tertiary amine compounds represented by the following general formulas (B-1), (B-2), (C-1), and (C-2) may be by-produced. There is. These side reactions are difficult to completely control by conventional methods as described above.

Figure 0006463229
(上記一般式(A)、(B−1)、(B−2)、(C−1)、(C−2)中、R、R、R、R、m、及びnは、一般式(3)及び(4)について定義したとおりであって、一般式(3)及び(4)のR、R、R、m、及びnと同一である。)
Figure 0006463229
(In the above general formulas (A), (B-1), (B-2), (C-1), (C-2), R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , m, and n are As defined for general formulas (3) and (4), which are the same as R 2 , R 3 , R 4 , m, and n in general formulas (3) and (4).

[後処理工程]
工程c’)の後には、強酸性陽イオン交換樹脂を用いて一般式(3)及び/又は(4)で表される化合物の精製を行う後処理工程を実施することができる。この場合の後処理工程も、上記実施形態1の後処理工程において記載したのと同様な操作により実施することができる。
[Post-processing process]
After step c ′), a post-treatment step for purifying the compound represented by the general formula (3) and / or (4) using a strongly acidic cation exchange resin can be performed. In this case, the post-processing step can also be performed by the same operation as described in the post-processing step of the first embodiment.

このように、工程a’)〜c’)を実施することで(或いは、任意選択的に、工程a’)〜c’)の前及び/又は後に、前工程1’、2’及び/又は後処理工程を更に実施することで)、一般式(3)及び/又は(4)で表される化合物(末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度のポリアルキレングリコール誘導体)を製造することができる。   Thus, by performing steps a ′) to c ′) (or optionally before and / or after steps a ′) to c ′), the previous steps 1 ′, 2 ′ and / or By further performing a post-treatment step), a compound represented by the general formula (3) and / or (4) (a narrowly dispersed and high-purity polyalkylene glycol derivative having an amino group at the terminal) can be produced. it can.

すなわち本発明は、また別の局面によれば、上記製造方法により得られた一般式(3)及び/又は(4)で表される末端にアミノ基を有する狭分散かつ高純度のポリアルキレングリコール誘導体に関するものである。   That is, according to another aspect of the present invention, a narrowly dispersed and high-purity polyalkylene glycol having an amino group at the terminal represented by the general formula (3) and / or (4) obtained by the above production method. It relates to derivatives.

工程a’)〜c’)の後に得られる(或いは、任意選択的に、工程a’)〜c’)の前及び/又は後に、前工程1’、2’ 及び/又は後処理工程を更に実施して得られる)一般式(3)及び/又は(4)で表される化合物の特性、すなわち、分散度及び重量平均分子量、副生成物(PEG誘導体、及び、2級、3級アミン)の混入量、重金属不純物含有量等については、上記実施形態1において一般式(III)で表される化合物について記載したのと同様である。   Further after the steps a ′) to c ′) (or optionally before and / or after steps a ′) to c ′) Properties of the compound represented by the general formula (3) and / or (4) obtained by the implementation, that is, dispersity and weight average molecular weight, by-products (PEG derivatives and secondary and tertiary amines) The mixing amount, heavy metal impurity content, and the like are the same as those described for the compound represented by the general formula (III) in the first embodiment.

本発明は、また別の側面によれば、上記に開示した末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法に使用するための重合開始剤として用いられる、上記一般式(I)で表される保護アミノ基含有アルコール化合物の金属塩に関する。中でも、上記一般式(1)又は(2)で表される新規なシリル保護アミノ基含有アルコール化合物の金属塩であることが好ましい。本発明は更に、上記重合開始剤の原料(出発物質)として用いられる、上記一般式(i)で表される新規な保護アミノ基含有アルコール化合物にも関する。中でも、上記一般式(6)又は(7)で表される新規なシリル保護アミノ基含有アルコール化合物であることが好ましい。これらの化合物の定義並びに製造方法、使用方法は、上記実施形態1及び実施形態2においてポリアルキレングリコール誘導体の製造方法において詳述したため、説明を省略する。   According to still another aspect, the present invention is represented by the above general formula (I) used as a polymerization initiator for use in the method for producing a polyalkylene glycol derivative having an amino group at the terminal end disclosed above. The present invention relates to a metal salt of a protected amino group-containing alcohol compound. Especially, it is preferable that it is a metal salt of the novel silyl protection amino group containing alcohol compound represented by the said General formula (1) or (2). The present invention further relates to a novel protected amino group-containing alcohol compound represented by the above general formula (i), which is used as a raw material (starting material) of the polymerization initiator. Especially, it is preferable that it is a novel silyl protection amino group containing alcohol compound represented by the said General formula (6) or (7). Since the definition, production method, and use method of these compounds have been described in detail in the production method of the polyalkylene glycol derivative in Embodiment 1 and Embodiment 2, the description thereof is omitted.

以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。なお、実施例中における分子量の表記において、重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)の数値はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によりポリエチレングリコール換算値として測定したものである。なお、GPCは下記条件で測定を行った。
カラム:TSKgel SuperAWM−H、SuperAW−3000
展開溶媒:DMF(臭化リチウム0.01mol/L溶液)
カラムオーブン温度:60℃
サンプル濃度:0.20wt%
サンプル注入量:25μl
流量:0.3ml/min
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example. In addition, in the description of the molecular weight in an Example, the numerical value of a weight average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) is measured as a polyethylene glycol conversion value by gel permeation chromatography (GPC). GPC was measured under the following conditions.
Column: TSKgel SuperAWM-H, SuperAW-3000
Developing solvent: DMF (Liquid bromide 0.01 mol / L solution)
Column oven temperature: 60 ° C
Sample concentration: 0.20 wt%
Sample injection volume: 25 μl
Flow rate: 0.3 ml / min

[合成例1]式(iA)で表される化合物の合成
[合成例1−1]式(iA−1)で表される化合物の合成
50ml三口フラスコに2−(3−アミノプロポキシ)−エタノール0.75g、トリエチルアミン2.35g、トルエン2.92gを仕込み、その後窒素雰囲気化でトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシリル(以下TESOTfと記す)5.98gを滴下した。その後80℃で25時間撹拌した。反応液を分液ロートに移し、下層を分離し、上層を減圧蒸留してシリル保護体(iA−1)を2.71g(収率93.3%)得た。
シリル保護体(iA−1)
無色液体
沸点 190℃/10Pa
1H−NMR(500MHz,CDCL3):δ=0.63(18H,q),0.96(27H,t),1.69(2H,m),2.83(2H,m),3.40(2H,t),3.49(2H,t),3.76(2H,t)
[Synthesis Example 1] Synthesis of compound represented by formula (iA)
Synthesis Example 1-1 Synthesis of Compound Represented by Formula (iA-1) A 50 ml three-necked flask was charged with 0.75 g of 2- (3-aminopropoxy) -ethanol, 2.35 g of triethylamine, and 2.92 g of toluene. Thereafter, 5.98 g of triethylsilyl trifluoromethanesulfonate (hereinafter referred to as TESOTf) was added dropwise in a nitrogen atmosphere. Thereafter, the mixture was stirred at 80 ° C. for 25 hours. The reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower layer was separated, and the upper layer was distilled under reduced pressure to obtain 2.71 g (yield: 93.3%) of the silyl protector (iA-1).
Cyril protector (iA-1)
Colorless liquid Boiling point 190 ° C / 10Pa
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): δ = 0.63 (18H, q), 0.96 (27H, t), 1.69 (2H, m), 2.83 (2H, m), 3. 40 (2H, t), 3.49 (2H, t), 3.76 (2H, t)

Figure 0006463229
式中TESはトリエチルシリル基のことである。
Figure 0006463229
In the formula, TES is a triethylsilyl group.

[合成例1−2]式(iA)で表される化合物の合成
10mlナスフラスコにシリル保護体(iA−1)2.21g、メタノール2.70g、ナトリウムメトキシド13mgを仕込み、60℃で18時間撹拌した。その後、トリエチルメトキシシランを減圧留去し、再びメタノール2.70gを入れて60℃で撹拌した。同様の操作を繰り返し、反応が完結した後炭酸水素ナトリウムでクエンチし、トルエンに溶媒置換した後、塩をろ過で取り除いた。その後減圧蒸留してシリル保護アミノ基含有アルコール体(iA)を1.50g(収率90.0%)得た。蒸留後の含水率を測定した結果、水分は1ppm以下であった。
シリル保護アミノ基含有アルコール体(iA)
無色液体
沸点 118−122℃/10Pa
1H−NMR(500MHz,CDCL3):δ=0.60(12H,q),0.93(18H,t),1.68(2H,m),1.96(1H,bs),2.82(2H,m),3.40(2H,t),3.50(2H,m),3.73(2H,m)
Synthesis Example 1-2 Synthesis of Compound Represented by Formula (iA) A 10 ml eggplant flask was charged with 2.21 g of silyl protector (iA-1), 2.70 g of methanol, 13 mg of sodium methoxide, and 18 at 60 ° C. Stir for hours. Thereafter, triethylmethoxysilane was distilled off under reduced pressure, and 2.70 g of methanol was added again, followed by stirring at 60 ° C. The same operation was repeated. After the reaction was completed, the reaction was quenched with sodium hydrogen carbonate, and the solvent was replaced with toluene, and then the salt was removed by filtration. Thereafter, distillation was performed under reduced pressure to obtain 1.50 g (yield 90.0%) of a silyl-protected amino group-containing alcohol (iA). As a result of measuring the water content after distillation, the water content was 1 ppm or less.
Silyl-protected amino group-containing alcohol (iA)
Colorless liquid Boiling point 118-122 ° C / 10Pa
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): δ = 0.60 (12H, q), 0.93 (18H, t), 1.68 (2H, m), 1.96 (1H, bs), 2. 82 (2H, m), 3.40 (2H, t), 3.50 (2H, m), 3.73 (2H, m)

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例2]別法による式(iA)の合成
[合成例2−1]求電子剤(iiA)の合成
(2−1−1)シリル保護体(iiA−1)の合成
300ml三口フラスコに3−アミノ−1−プロパノール6.0g、トリエチルアミン28.74g、トルエン18.0gを仕込み、その後窒素雰囲気下でTESOTf75.0gを滴下した。その後80℃で25時間撹拌した。反応液を分液ロートに移し、下層を分離し、上層を減圧蒸留してシリル保護体(iiA−1)を31.47g(収率93.3%)得た。
シリル保護体(iiA−1)
無色液体
沸点 133−138℃/10Pa
1H−NMR(500MHz,CDCL3):δ=0.60(18H,q),0.94(27H,t),1.62(2H,m),2.83(2H,m),3.54(2H,t)
[Synthesis Example 2] Synthesis of Formula (iA) by Alternative Method [Synthesis Example 2-1] Synthesis of Electrophile (iiA) (2-1-1) Synthesis of Silyl Protector (iiA-1) In a 300 ml three-necked flask 6.0 g of 3-amino-1-propanol, 28.74 g of triethylamine, and 18.0 g of toluene were charged, and then 75.0 g of TESOTf was added dropwise under a nitrogen atmosphere. Thereafter, the mixture was stirred at 80 ° C. for 25 hours. The reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower layer was separated, and the upper layer was distilled under reduced pressure to obtain 31.47 g (yield: 93.3%) of a silyl protector (iiA-1).
Cyril protected body (iiA-1)
Colorless liquid Boiling point 133-138 ° C / 10Pa
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): δ = 0.60 (18H, q), 0.94 (27H, t), 1.62 (2H, m), 2.83 (2H, m), 3. 54 (2H, t)

Figure 0006463229
Figure 0006463229

(2−1−2)シリル保護アミノ基含有アルコール体(iiA−2)の合成
200mlナスフラスコにシリル保護体(iiA−1)30.98g、メタノール30.98g、ナトリウムメトキシド0.2gを仕込み、60℃で18時間撹拌した。その後、トリエチルメトキシシランを減圧留去し、再びメタノール30.98gを入れて60℃で撹拌した。同様の操作を繰り返し、反応が完結した後炭酸水素ナトリウムでクエンチし、トルエンに溶媒置換した後、塩をろ過で取り除いた。その後トルエンを減圧留去してシリル保護アミノ基含有アルコール体(iiA−2)を22.66g(粗収率96.4%)得た。1H−NMRスペクトルにより、この粗生成物は中間体として十分な純度を有していることが確認できたため、(iiA−2)はそのまま次の工程に用いた。
シリル保護アミノ基含有アルコール体(iiA−2)
無色液体
1H−NMR(500MHz,CDCL3):δ=0.60(12H,q),0.93(18H,t),1.67(2H,m),2.85(2H,m),3.59(2H,m)
(2-1-2) Synthesis of silyl protected amino group-containing alcohol (iiA-2) A 200 ml eggplant flask was charged with 30.98 g of silyl protected (iiA-1), 30.98 g of methanol, and 0.2 g of sodium methoxide. And stirred at 60 ° C. for 18 hours. Thereafter, triethylmethoxysilane was distilled off under reduced pressure, and 30.98 g of methanol was added again, followed by stirring at 60 ° C. The same operation was repeated. After the reaction was completed, the reaction was quenched with sodium hydrogen carbonate, and the solvent was replaced with toluene, and then the salt was removed by filtration. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure to obtain 22.66 g (crude yield 96.4%) of a silyl-protected amino group-containing alcohol (iiA-2). Since it was confirmed by 1 H-NMR spectrum that this crude product had sufficient purity as an intermediate, (iiA-2) was directly used in the next step.
Silyl-protected amino group-containing alcohol (iiA-2)
Colorless liquid
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): δ = 0.60 (12H, q), 0.93 (18H, t), 1.67 (2H, m), 2.85 (2H, m), 3. 59 (2H, m)

Figure 0006463229
Figure 0006463229

(2−1−3)求電子剤(iiA)の合成
50ml三口フラスコにTsCl4.7g、塩化メチレン5g、トリエチルアミン5.0gを仕込み、シリル保護アミノ基含有アルコール体(iiA−2)5.0gを塩化メチレン10.0gに溶解させた溶液を氷冷しながら滴下した。常温に戻して13時間撹拌後、水でクエンチしてトルエンで抽出した。その後トルエン溶液を濃縮して求電子剤(iiA)を7.6g(粗収率100%)得た。1H−NMRスペクトルにより、この粗生成物は中間体として十分な純度を有していることが確認できたため、(iiA)はそのまま次の工程に用いた。
求電子剤(iiA)
褐色液体
1H−NMR(500MHz,CDCL3):δ=0.54(12H,q),0.89(18H,t),1.68(2H,m),2.45(3H,s),2.71(2H,m),3.98(2H,t)
(2-1-3) Synthesis of electrophile (iiA) A 50 ml three-necked flask was charged with 4.7 g of TsCl, 5 g of methylene chloride, and 5.0 g of triethylamine, and 5.0 g of a silyl-protected amino group-containing alcohol (iiA-2) was added. A solution dissolved in 10.0 g of methylene chloride was added dropwise while cooling with ice. After returning to normal temperature and stirring for 13 hours, it was quenched with water and extracted with toluene. Thereafter, the toluene solution was concentrated to obtain 7.6 g of electrophile (iiA) (crude yield: 100%). Since it was confirmed by 1 H-NMR spectrum that this crude product had sufficient purity as an intermediate, (iiA) was directly used in the next step.
Electrophile (iiA)
Brown liquid
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): δ = 0.54 (12H, q), 0.89 (18H, t), 1.68 (2H, m), 2.45 (3H, s), 2. 71 (2H, m), 3.98 (2H, t)

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例2−2]求電子剤(iiB)の合成
200ml三口フラスコに3−ブロモプロピルアミン臭化水素酸塩15.93g、トリエチルアミン27.26g、トルエン47.79gを仕込み、その後窒素雰囲気化でTESOTf50.00gを滴下した。その後80℃で63時間撹拌した。反応液を分液ロートに移し、下層を分離し、上層を減圧蒸留して求電子剤(iiB)を8.00g(収率30.0%)得た。
求電子剤(iiB)
無色液体
沸点 108℃/30Pa
1H−NMR(500MHz,CDCL3):δ=0.61(12H,q),0.94(18H,t),1.92(2H,m),2.90(2H,m),3.31(2H,t)
[Synthesis Example 2-2] Synthesis of electrophile (iiB) In a 200 ml three-necked flask, 15.93 g of 3-bromopropylamine hydrobromide, 27.26 g of triethylamine, and 47.79 g of toluene were charged, and then the atmosphere was changed to a nitrogen atmosphere. TESOTf50.00g was dripped. Thereafter, the mixture was stirred at 80 ° C. for 63 hours. The reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower layer was separated, and the upper layer was distilled under reduced pressure to obtain 8.00 g of electrophile (iiB) (yield 30.0%).
Electrophile (iiB)
Colorless liquid Boiling point 108 ° C / 30Pa
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): δ = 0.61 (12H, q), 0.94 (18H, t), 1.92 (2H, m), 2.90 (2H, m), 3. 31 (2H, t)

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例2−3]求電子剤(iiA)を使用した式(iA)で表される化合物の合成
100ml三口フラスコにエチレングリコール6.78g、N−メチルピロリドン10g、カリウムtert−ブトキシド1.35gを仕込み、30分撹拌後、求電子剤(iiA)5.0gをN−メチルピロリドン15gに溶かした溶液を常温にて滴下した。60℃まで昇温し、5時間撹拌した後、炭酸水素ナトリウム0.18gを用いて反応停止した。続いてジフェニルエーテルに溶媒置換した後、析出した塩をろ過で取り除いた。その後減圧蒸留してシリル保護アミノ基含有アルコール体(iA)を3.16g(収率65.7%)得た。蒸留後の含水率を測定した結果、水分は1ppm以下であった(含水率測定はカールフィッシャー水分計による、以下同様)。
シリル保護アミノ基含有アルコール体(iA)
無色液体
沸点:上記[合成例1−2]で得られた結果と同じ。
1H−NMR(500MHz,CDCL3):上記[合成例1−2]で得られた結果と同じ。
Synthesis Example 2-3 Synthesis of Compound Represented by Formula (iA) Using Electrophile (iiA) Ethylene glycol 6.78 g, N-methylpyrrolidone 10 g, potassium tert-butoxide 1.35 g in a 100 ml three-necked flask After stirring for 30 minutes, a solution of 5.0 g of electrophile (iiA) dissolved in 15 g of N-methylpyrrolidone was added dropwise at room temperature. After raising the temperature to 60 ° C. and stirring for 5 hours, the reaction was stopped with 0.18 g of sodium hydrogen carbonate. Subsequently, the solvent was replaced with diphenyl ether, and the precipitated salt was removed by filtration. Thereafter, the residue was distilled under reduced pressure to obtain 3.16 g (yield 65.7%) of a silyl-protected amino group-containing alcohol (iA). As a result of measuring the water content after distillation, the water content was 1 ppm or less (the water content was measured with a Karl Fischer moisture meter).
Silyl-protected amino group-containing alcohol (iA)
Colorless liquid Boiling point: The same result as obtained in [Synthesis Example 1-2] above.
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): same result as obtained in [Synthesis Example 1-2] above.

Figure 0006463229
式中Tsはパラトルエンスルホニル基、t−BuOKはカリウムtert−ブトキシド、NMPはN−メチルピロリドンのことである。
Figure 0006463229
In the formula, Ts is a paratoluenesulfonyl group, t-BuOK is potassium tert-butoxide, and NMP is N-methylpyrrolidone.

[合成例2−4]求電子剤(iiB)を使用した式(iA)で表される化合物の合成
200ml三口フラスコにエチレングリコール2.98g、N−メチルピロリドン5.0g、カリウムtert−ブトキシド0.54gを仕込み、30分撹拌後、求電子剤(iiB)2.00gをN−メチルピロリドン10.0gに溶かした溶液を常温にて滴下した。60℃まで昇温し、5時間撹拌した後、炭酸水素ナトリウム0.08gを用いて反応停止した。続いてジフェニルエーテルに溶媒置換した後、析出した塩をろ過で取り除いた。その後減圧蒸留してシリル保護アミノ基含有アルコール体(iA)を1.07g(収率64.0%)得た。蒸留後の含水率を測定した結果、水分は1ppm以下であった。
シリル保護アミノ基含有アルコール体(iA)
無色液体
沸点:上記[合成例1−2]で得られた結果と同じ。
1H−NMR(500MHz,CDCL3):上記[合成例1−2]で得られた結果と同じ。
[Synthesis Example 2-4] Synthesis of Compound Represented by Formula (iA) Using Electrophile (iiB) 2.98 g of ethylene glycol, 5.0 g of N-methylpyrrolidone, potassium tert-butoxide 0 in a 200 ml three-necked flask .54 g was charged, and after stirring for 30 minutes, a solution prepared by dissolving 2.00 g of electrophile (iiB) in 10.0 g of N-methylpyrrolidone was added dropwise at room temperature. After heating up to 60 degreeC and stirring for 5 hours, the reaction was stopped using 0.08 g of sodium hydrogencarbonate. Subsequently, the solvent was replaced with diphenyl ether, and the precipitated salt was removed by filtration. Thereafter, the residue was distilled under reduced pressure to obtain 1.07 g (yield 64.0%) of a silyl-protected amino group-containing alcohol (iA). As a result of measuring the water content after distillation, the water content was 1 ppm or less.
Silyl-protected amino group-containing alcohol (iA)
Colorless liquid Boiling point: The same result as obtained in [Synthesis Example 1-2] above.
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): same result as obtained in [Synthesis Example 1-2] above.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例3]式(iB)で表される化合物の合成
[合成例3−1]式(iB−1)で表される化合物の合成
200ml三口フラスコに6−アミノ−1−ヘキサノール5.00g、トリエチルアミン15.68g、トルエン15.00gを仕込み、その後窒素雰囲気化でTESOTf40.91gを滴下した。その後80℃で25時間撹拌した。反応液を分液ロートに移し、下層を分離し、上層を減圧蒸留してシリル保護体(iB−1)を18.39g(収率93.0%)得た。
シリル保護体(iB−1)
無色液体
沸点 180℃/10Pa
1H−NMR(500MHz,CDCL3):δ=0.63(18H,q),0.96(27H,t),1.69(8H,m),2.83(2H,m),3.40(2H,t)
[Synthesis Example 3] Synthesis of Compound Represented by Formula (iB) [Synthesis Example 3-1] Synthesis of Compound Represented by Formula (iB-1) 5.00 g of 6-amino-1-hexanol in a 200 ml three-necked flask Then, 15.68 g of triethylamine and 15.00 g of toluene were charged, and then 40.91 g of TESOTf was dropped in a nitrogen atmosphere. Thereafter, the mixture was stirred at 80 ° C. for 25 hours. The reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower layer was separated, and the upper layer was distilled under reduced pressure to obtain 18.39 g (yield 93.0%) of the silyl protected product (iB-1).
Cyril protector (iB-1)
Colorless liquid Boiling point 180 ° C / 10Pa
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): δ = 0.63 (18H, q), 0.96 (27H, t), 1.69 (8H, m), 2.83 (2H, m), 3. 40 (2H, t)

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例3−2]式(iB)で表される化合物の合成
50ml一口フラスコにシリル保護体(iB−1)5.00g、メタノール5.00g、ナトリウムメトキシド29mgを仕込み、60℃で18時間撹拌した。その後、トリエチルメトキシシランを減圧留去し、再びメタノール5.00gを入れて60℃で撹拌した。同様の操作を繰り返し、反応が完結した後炭酸水素ナトリウムでクエンチし、トルエンに溶媒置換した後、塩をろ過で取り除いた。その後減圧蒸留してシリル保護アミノ基含有アルコール体(iB)を3.35g(収率89.0%)得た。蒸留後の含水率を測定した結果、水分は1ppm以下であった。
シリル保護アミノ基含有アルコール体(iB)
無色液体
沸点 108−112℃/10Pa
1H−NMR(500MHz,CDCL3):δ=0.60(12H,q),0.93(18H,t),1.68(8H,m),2.82(2H,m),3.40(2H,t)
[Synthesis Example 3-2] Synthesis of Compound Represented by Formula (iB) Into a 50 ml one-necked flask was charged 5.00 g of silyl protector (iB-1), 5.00 g of methanol, and 29 mg of sodium methoxide, and 18 at 60 ° C. Stir for hours. Thereafter, triethylmethoxysilane was distilled off under reduced pressure, and 5.00 g of methanol was added again and stirred at 60 ° C. The same operation was repeated. After the reaction was completed, the reaction was quenched with sodium hydrogen carbonate, and the solvent was replaced with toluene, and then the salt was removed by filtration. Thereafter, distillation was performed under reduced pressure to obtain 3.35 g (yield: 89.0%) of a silyl-protected amino group-containing alcohol (iB). As a result of measuring the water content after distillation, the water content was 1 ppm or less.
Silyl-protected amino group-containing alcohol (iB)
Colorless liquid Boiling point 108-112 ° C / 10Pa
1 H-NMR (500 MHz, CDCL3): δ = 0.60 (12H, q), 0.93 (18H, t), 1.68 (8H, m), 2.82 (2H, m), 3. 40 (2H, t)

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例4]式(IA)で表される化合物の合成
[合成例4−1]式(IA)で表される化合物の合成
窒素雰囲気下のグローブボックス内で、50mL三口フラスコ中に水素化カリウム(関東化学(株)製、ミネラルオイル状)を投入し、ヘキサン洗浄によりミネラルオイルを分離後、約2時間真空乾燥し0.50g(12.5mmol)の水素化カリウムを得た。フラスコ内にシリンジで蒸留THFを7.71g添加し、式(iA)で表される化合物4.44g(12.8mmol)を常温で滴下した。常温で1時間撹拌した後、50℃で2時間撹拌を行い、式(IA)で表される化合物のTHF溶液12.40g(1.02mmol/g)を得た。このとき塩の析出及び白濁は観測されなかった((IA)質量/THF溶液質量=39.8重量%)。上記反応により合成された重合開始剤(IA)と開始剤原料アルコール(iA)の物質量比率は98:2(mol%)である。以下に反応スキームを示す。
[Synthesis Example 4] Synthesis of Compound Represented by Formula (IA) [Synthesis Example 4-1] Synthesis of Compound Represented by Formula (IA) Hydrogenation in a 50 mL three-necked flask in a glove box under a nitrogen atmosphere Potassium (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., mineral oil form) was added, and the mineral oil was separated by hexane washing, followed by vacuum drying for about 2 hours to obtain 0.50 g (12.5 mmol) of potassium hydride. 7.71 g of distilled THF was added to the flask with a syringe, and 4.44 g (12.8 mmol) of the compound represented by the formula (iA) was added dropwise at room temperature. After stirring at room temperature for 1 hour, the mixture was stirred at 50 ° C. for 2 hours to obtain 12.40 g (1.02 mmol / g) of a THF solution of the compound represented by the formula (IA). At this time, precipitation of salt and cloudiness were not observed ((IA) mass / THF solution mass = 39.8 wt%). The mass ratio of the polymerization initiator (IA) synthesized by the above reaction and the initiator raw alcohol (iA) is 98: 2 (mol%). The reaction scheme is shown below.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例4−2]式(IA)で表される化合物の別法合成
窒素雰囲気下のグローブボックス内で100mL三口フラスコ内にナフタレン2.02g、カリウム0.68gを秤量し、1時間真空乾燥した。その後窒素雰囲気下に戻し、フラスコ内にシリンジで蒸留THF19.65gを添加した。1時間撹拌し、カリウムナフタレンのTHF溶液を調整した(0.71mmol/g)。一方、窒素雰囲気下、50mL三口フラスコ内に式(iA)で表される化合物1.96g(5.64mmol)をシリンジで秤量した。そこに上記調整したカリウムナフタレンのTHF溶液を常温で7.85g滴下した。熟成を1時間実施し、重合開始剤(IA)のTHF溶液9.77g(0.58mmol/g)を得た。このとき塩の析出及び白濁は観測されなかった((IA)質量/THF溶液質量=22.3重量%)。上記反応により合成された重合開始剤(IA)と開始剤原料アルコール(iA)の物質量比率は98:2(mol%)である。反応スキームを以下に示す。
[Synthesis Example 4-2] Alternative Synthesis of Compound Represented by Formula (IA) 2.02 g of naphthalene and 0.68 g of potassium were weighed in a 100 mL three-necked flask in a glove box under a nitrogen atmosphere and vacuum-dried for 1 hour. did. Thereafter, the atmosphere was returned to a nitrogen atmosphere, and 19.65 g of distilled THF was added into the flask with a syringe. Stir for 1 hour to prepare a THF solution of potassium naphthalene (0.71 mmol / g). On the other hand, 1.96 g (5.64 mmol) of the compound represented by the formula (iA) was weighed with a syringe in a 50 mL three-necked flask under a nitrogen atmosphere. 7.85 g of the THF solution of potassium naphthalene prepared above was added dropwise thereto at room temperature. Aging was carried out for 1 hour to obtain 9.77 g (0.58 mmol / g) of a THF solution of a polymerization initiator (IA). At this time, precipitation of salt and white turbidity were not observed ((IA) mass / THF solution mass = 22.3 wt%). The mass ratio of the polymerization initiator (IA) synthesized by the above reaction and the initiator raw alcohol (iA) is 98: 2 (mol%). The reaction scheme is shown below.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例5]式(I−1A)で表される化合物の合成
温度計、滴下漏斗、ジムロート冷却器を接続した500mL四口フラスコ中に撹拌子を投入した。装置内の真空度を10Pa以下に保った後、オイルバス及びヒートガンを使って装置内を加温し、系内の水分を除去した。その後、窒素気流下で2L四口フラスコ内に[合成例4−1]より調整した式(IA)で表される化合物のTHF溶液1.69gと蒸留THF140gを添加した。滴下漏斗にエチレンオキシド20gと蒸留THF40gを投入し、500mL四口フラスコ内に少しずつ滴下した。500mL四口フラスコ内の温度が安定したことを確認後、45〜50℃で8時間熟成を行った。以下に反応スキームを示す。
Synthesis Example 5 Synthesis of Compound Represented by Formula (I-1A) A stirrer was put into a 500 mL four-necked flask connected with a thermometer, a dropping funnel, and a Dimroth condenser. After keeping the degree of vacuum in the apparatus at 10 Pa or less, the inside of the apparatus was heated using an oil bath and a heat gun to remove moisture in the system. Thereafter, 1.69 g of a THF solution of a compound represented by the formula (IA) prepared from [Synthesis Example 4-1] and 140 g of distilled THF were added into a 2 L four-necked flask under a nitrogen stream. Into the dropping funnel, 20 g of ethylene oxide and 40 g of distilled THF were added, and the resulting solution was dropped little by little into a 500 mL four-necked flask. After confirming that the temperature in the 500 mL four-necked flask was stable, aging was performed at 45 to 50 ° C. for 8 hours. The reaction scheme is shown below.

反応終了後、オイルバスを外し、反応系を室温まで冷却した。得られた反応液を少量サンプリングし、酢酸で反応停止してGPC測定を行った結果、Mw=8,000、Mw/Mn=1.04であった。   After completion of the reaction, the oil bath was removed and the reaction system was cooled to room temperature. A small amount of the obtained reaction solution was sampled, the reaction was stopped with acetic acid, and GPC measurement was performed. As a result, Mw = 8,000 and Mw / Mn = 1.04.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例6]式(IIA)で表される化合物の合成
[合成例6−1]式(IIA)で表される化合物の合成
式(I−1A)で表される化合物の反応液中に、2−ブロモエチルメチルエーテルを2.41g、カリウムtert−ブトキシドのTHF溶液(1mol/L)10.5mLを添加し、5時間還流させながら撹拌した。反応液中の塩をろ過により取り除いた後、25wt%まで濃縮し、濃縮液を滴下漏斗に移した。撹拌子の入った500mLビーカー中ヘキサンを201g投入し、その中に濃縮液を10分かけて滴下後、20分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン99gで20分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を1回実施した。以下に反応スキームを示す。
[Synthesis Example 6] Synthesis of Compound Represented by Formula (IIA) [Synthesis Example 6-1] Synthesis of Compound Represented by Formula (IIA) In a reaction solution of the compound represented by Formula (I-1A) Then, 2.41 g of 2-bromoethyl methyl ether and 10.5 mL of a THF solution (1 mol / L) of potassium tert-butoxide were added and stirred while refluxing for 5 hours. After removing the salt in the reaction solution by filtration, the solution was concentrated to 25 wt%, and the concentrated solution was transferred to a dropping funnel. In a 500 mL beaker containing a stirrer, 201 g of hexane was added, and the concentrated solution was dropped therein over 10 minutes, followed by aging for 20 minutes. After filtering the produced white powder, the powder was returned to the original beaker, washed with 99 g of hexane for 20 minutes, and the same washing operation was performed once. The reaction scheme is shown below.

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、18.6gのポリマー(IIA)を得た。GPC測定を行った結果、Mw=8,000、Mw/Mn=1.05であった。   As a result of vacuum-drying the obtained white powder, 18.6 g of polymer (IIA) was obtained. As a result of GPC measurement, it was Mw = 8,000 and Mw / Mn = 1.05.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例6−2]式(IIA)で表される化合物の別法合成
式(I−1A)で表される化合物の反応液中に、2−メトキシエチルp−トルエンスルホネートを2.05g、カリウムtert−ブトキシド0.50gを添加し、40℃で5時間撹拌した。反応液中の塩をろ過により取り除いた後、25wt%まで濃縮し、濃縮液を滴下漏斗に移した。撹拌子の入った500mLビーカー中ヘキサンを200g投入し、その中に濃縮液を10分かけて滴下後、10分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン100gで10分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を1回実施した。以下に反応スキームを示す。
[Synthesis Example 6-2] Alternative Synthesis of Compound Represented by Formula (IIA) In a reaction solution of the compound represented by Formula (I-1A), 2.05 g of 2-methoxyethyl p-toluenesulfonate, 0.50 g of potassium tert-butoxide was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours. After removing the salt in the reaction solution by filtration, the solution was concentrated to 25 wt%, and the concentrated solution was transferred to a dropping funnel. In a 500 mL beaker containing a stirrer, 200 g of hexane was added, and the concentrated solution was dropped therein over 10 minutes, followed by aging for 10 minutes. After filtering the produced white powder, the powder was returned to the original beaker, washed with 100 g of hexane for 10 minutes, and the same washing operation was performed once. The reaction scheme is shown below.

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、18.6gのポリマー(IIA)を得た。GPC測定を行った結果、Mw=8,000、Mw/Mn=1.05であった。   As a result of vacuum-drying the obtained white powder, 18.6 g of polymer (IIA) was obtained. As a result of GPC measurement, it was Mw = 8,000 and Mw / Mn = 1.05.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例6−3]式(IIA)で表される化合物の別法合成
2Lの高圧ガス反応容器を窒素パージにより乾燥し、窒素雰囲気下上述の[合成例4−1]の方法で合成した重合開始剤(IA)のTHF溶液8.29g(1.02mmol/g、8.46mmol)と蒸留THF885gを添加した。反応容器を45℃まで昇温した後、エチレンオキシド100gを連続的に圧入した後、系内の圧力を窒素加圧により0.15MPaに調節した。45℃で撹拌すると系内の圧力は徐々に低下していき、6時間経過したところで0.11MPaで安定し反応の終点とした。40℃まで冷却した後、求電子剤として2−メトキシエチル−p−トルエンスルホネート9.75gをTHF97.5gに溶解させ系内に圧入し、さらにカリウムtert−ブトキシドのTHF溶液(1mol/L)21mlをTHF21gで希釈し系内に圧入した。続いて40℃に保ちながら5時間熟成を行った。析出した塩をろ過により分別し、ろ液に吸着材KW−2000を17g添加して2時間撹拌した後ろ過により吸着材を取り除いた。反応液を濃縮し400gとした後、撹拌子の入った3Lビーカー中にヘキサン750g、酢酸エチル750gを入れ、得られた反応液を滴下後、10分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン375g、酢酸エチル375gで10分間洗浄を行ない、さらにもう一度同様の洗浄を繰り返した後、得られた白色粉末を真空乾燥した。結果、96gのポリマー(IIA)を得た。GPC測定を行った結果、Mw=11,400、Mw/Mn=1.03であった。反応スキームを以下に示す。
[Synthesis Example 6-3] Alternative Synthesis of Compound Represented by Formula (IIA) A 2 L high-pressure gas reaction vessel was dried by nitrogen purge and synthesized by the method of [Synthesis Example 4-1] in a nitrogen atmosphere. 8.29 g (1.02 mmol / g, 8.46 mmol) of a THF solution of a polymerization initiator (IA) and 885 g of distilled THF were added. After raising the temperature of the reaction vessel to 45 ° C., 100 g of ethylene oxide was continuously injected, and the pressure in the system was adjusted to 0.15 MPa by nitrogen pressurization. When the mixture was stirred at 45 ° C., the pressure in the system gradually decreased, and after 6 hours, the pressure was stabilized at 0.11 MPa and the reaction was terminated. After cooling to 40 ° C., 9.75 g of 2-methoxyethyl-p-toluenesulfonate as an electrophile was dissolved in 97.5 g of THF and pressed into the system, and further 21 ml of a solution of potassium tert-butoxide in THF (1 mol / L). Was diluted with 21 g of THF and pressed into the system. Subsequently, aging was performed for 5 hours while maintaining the temperature at 40 ° C. The precipitated salt was separated by filtration, 17 g of adsorbent KW-2000 was added to the filtrate and stirred for 2 hours, and then the adsorbent was removed by filtration. After concentrating the reaction solution to 400 g, 750 g of hexane and 750 g of ethyl acetate were placed in a 3 L beaker containing a stir bar, and the obtained reaction solution was added dropwise, followed by aging for 10 minutes. After the produced white powder was filtered, the powder was returned to the original beaker, washed with 375 g of hexane and 375 g of ethyl acetate for 10 minutes, and the same washing was repeated once more, and then the obtained white powder was vacuum-dried. As a result, 96 g of polymer (IIA) was obtained. As a result of GPC measurement, it was Mw = 11,400 and Mw / Mn = 1.03. The reaction scheme is shown below.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

下記表1に示したように合成例6−3では化学量論的にエチレンオキシドとの重合が進行していることがわかる。   As shown in Table 1 below, it can be seen that in Synthesis Example 6-3, polymerization with ethylene oxide proceeds stoichiometrically.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例7]式(IIIA−a)で表される化合物の合成
[合成例7−1]式(IIIA−a)で表される化合物の合成
50mL三口フラスコに、[合成例6−1]で得られた式(IIA)で表される化合物1.0g、THF9.0g、1N HClaq.0.4mlを投入し40℃で4時間撹拌した。その後25wt%NaOH水溶液0.2mlで反応を停止した。反応溶液を濃縮して水を留去した後、THF5.7gを添加してポリマー溶液の濃度を調整し、析出した塩をろ過した。撹拌子の入った100mLビーカー中にヘキサン10gを入れ、得られた反応液を滴下後、10分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン5gで10分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を1回実施した。
Synthesis Example 7 Synthesis of Compound Represented by Formula (IIIA-a) Synthesis Example 7-1 Synthesis of Compound Represented by Formula (IIIA-a) In a 50 mL three-necked flask, Synthesis Example 6-1 1.0 g of the compound represented by the formula (IIA) obtained in the above, 9.0 g of THF, 1N HClaq. 0.4 ml was added and stirred at 40 ° C. for 4 hours. Thereafter, the reaction was stopped with 0.2 ml of 25 wt% NaOH aqueous solution. After concentrating the reaction solution and distilling off water, 5.7 g of THF was added to adjust the concentration of the polymer solution, and the deposited salt was filtered. 10 g of hexane was placed in a 100 mL beaker containing a stir bar, and the resulting reaction solution was added dropwise, followed by aging for 10 minutes. After filtering the produced white powder, the powder was returned to the original beaker, washed with 5 g of hexane for 10 minutes, and the same washing operation was performed once.

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、0.7gの式(IIIA−a)で表される化合物を得た。GPC測定を行った結果、Mw=7,900、Mw/Mn=1.05であった。反応スキームを以下に示す。   As a result of vacuum-drying the obtained white powder, 0.7 g of a compound represented by the formula (IIIA-a) was obtained. As a result of GPC measurement, it was Mw = 7,900 and Mw / Mn = 1.05. The reaction scheme is shown below.

なお、式(IIA)で表される化合物を、反応後精製することなく続いて塩酸を加えて脱保護しても良く、その場合さらに工程を簡略化することができる。   Note that the compound represented by the formula (IIA) may be further deprotected by adding hydrochloric acid without purification after the reaction, in which case the process can be further simplified.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例7−2]式(IIIA−a)で表される化合物の別法合成
1L三口フラスコに[合成例6−3]で得られたポリマー(IIA)100g、MeOH400g、酢酸5.00gを投入し35℃で3時間撹拌した。その後ナトリウムメチラート28%メタノール溶液を24.12gで反応を停止した。反応溶液を濃縮してトルエンへと溶媒置換し450gのポリマー溶液を調整し、析出した塩をろ過した。得られたポリマー溶液に吸着材KW−2000を100g加え35℃で1時間処理をして微量の塩を除去した。撹拌子の入った3Lビーカー中にヘキサン1000g、酢酸エチル500gを入れ、得られた反応液を滴下後、10分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン600g、酢酸エチル300gで10分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を1回実施した。
[Synthesis Example 7-2] Alternative Synthesis of Compound Represented by Formula (IIIA-a) In a 1 L three-necked flask, 100 g of the polymer (IIA) obtained in [Synthesis Example 6-3], 400 g of MeOH, and 5.00 g of acetic acid were added. The mixture was added and stirred at 35 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction was stopped with 24.12 g of a sodium methylate 28% methanol solution. The reaction solution was concentrated and the solvent was replaced with toluene to prepare 450 g of a polymer solution, and the deposited salt was filtered. 100 g of adsorbent KW-2000 was added to the obtained polymer solution and treated at 35 ° C. for 1 hour to remove a trace amount of salt. 1000 g of hexane and 500 g of ethyl acetate were placed in a 3 L beaker containing a stir bar, and the resulting reaction solution was added dropwise, followed by aging for 10 minutes. After filtering the produced white powder, the powder was returned to the original beaker, washed with 600 g of hexane and 300 g of ethyl acetate for 10 minutes, and the same washing operation was performed once.

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、90gのポリマー(IIIA−a)を得た。GPC測定を行った結果、Mw=11,000、Mw/Mn=1.03であった。反応スキームを以下に示す。   As a result of vacuum-drying the obtained white powder, 90 g of polymer (IIIA-a) was obtained. As a result of GPC measurement, it was Mw = 11,000 and Mw / Mn = 1.03. The reaction scheme is shown below.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[合成例8]式(IIIB−a)で表される化合物の合成
合成例4〜7で、式(iA)で表される化合物を式(iB)で表される化合物に変えた以外は同様の操作により式(IIIB−a)で表される化合物を得た。すなわち、式(iB)で表される化合物を用いて、合成例4−1と同様の操作により重合開始剤(IB)を合成し、その重合開始剤を用いて、合成例5〜7と同様の操作により式(IIIB−a)で表される化合物を得た。なお、合成例6については合成例6−1と、合成例7については合成例7−1と同様の操作を行った。式(IIIB−a)で表される化合物についてGPC測定を行った結果、Mw=7,900、Mw/Mn=1.05であった。反応スキームを以下に示す。
[Synthesis Example 8] Synthesis of Compound Represented by Formula (IIIB-a) Same as in Synthesis Examples 4 to 7 except that the compound represented by formula (iA) was changed to the compound represented by formula (iB). The compound represented by Formula (IIIB-a) was obtained by the operation of That is, using the compound represented by formula (iB), a polymerization initiator (IB) was synthesized by the same operation as in Synthesis Example 4-1, and using the polymerization initiator, the same as in Synthesis Examples 5-7. The compound represented by Formula (IIIB-a) was obtained by the operation of The same operation as in Synthesis Example 6-1 was performed for Synthesis Example 6 and Synthesis Example 7-1 was performed for Synthesis Example 7. As a result of GPC measurement of the compound represented by the formula (IIIB-a), Mw = 7,900 and Mw / Mn = 1.05. The reaction scheme is shown below.

Figure 0006463229
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[合成例9]式(IIIA―b)〜(IIIA―f)で表される化合物の合成
式(iA)で表される化合物とエチレンオキシドの比を変える以外は合成例4〜7とほぼ同様の操作を行うことにより、ポリマー(IIIA―b)〜(IIIA―f)を合成した。なお、合成例4については合成例4−1と、合成例6については合成例6−1と、合成例7については合成例7−1と同様の操作を行った。分析結果を表2に示す。
[Synthesis Example 9] Synthesis of compounds represented by formulas (IIIA-b) to (IIIA-f) Almost the same as Synthesis Examples 4 to 7 except that the ratio of the compound represented by formula (iA) and ethylene oxide was changed. By performing the operation, polymers (IIIA-b) to (IIIA-f) were synthesized. The same operation as in Synthesis Example 4-1 was performed for Synthesis Example 4, Synthesis Example 6-1 for Synthesis Example 6, and Synthesis Example 7-1 for Synthesis Example 7. The analysis results are shown in Table 2.

Figure 0006463229
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[合成例10]式(IIIB−b)〜(IIIB−f)で表される化合物の合成
式(iB)で表される化合物とエチレンオキシドの比を変える以外は合成例8とほぼ同様の操作を行うことにより、ポリマー(IIIB−b)〜(IIIB−f)を合成した。分析結果を表3に示す。
[Synthesis Example 10] Synthesis of Compounds Represented by Formulas (IIIB-b) to (IIIB-f) Except for changing the ratio of the compound represented by Formula (iB) and ethylene oxide, the same procedure as in Synthesis Example 8 was performed. By performing, the polymers (IIIB-b) to (IIIB-f) were synthesized. The analysis results are shown in Table 3.

Figure 0006463229
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[合成例11]式(IIIA−g)〜(IIIA−l)、(IIIB−g)〜(IIIB−l)の合成
[合成例6−1]における基質2−ブロモエチルメチルエーテルを、下表に示す(置換基の付いた)アルキル基(R)を末端に有する2−ブロモエチル(置換)アルキルエーテルに変える以外は、合成例4〜7とほぼ同様の操作を行うことにより式(IIIA−g)〜(IIIA−l)で表される化合物を、合成例8とほぼ同様の操作を行うことにより式(IIIB−g)〜(IIIB−l)で表される化合物を合成した。なお、合成例4については合成例4−1と、合成例6については合成例6−1と、合成例7については合成例7−1と同様の操作を行った。分析結果を表4、5に示す。
[Synthesis Example 11] Synthesis of Formulas (IIIA-g) to (IIIA-l) and (IIIB-g) to (IIIB-l) The substrate 2-bromoethyl methyl ether in [Synthesis Example 6-1] In the same manner as in Synthesis Examples 4 to 7 except that the alkyl group (with a substituent) (R 4 ) shown in FIG. The compounds represented by the formulas (IIIB-g) to (IIIB-l) were synthesized by carrying out operations similar to those of Synthesis Example 8 for the compounds represented by g) to (IIIA-l). The same operation as in Synthesis Example 4-1 was performed for Synthesis Example 4, Synthesis Example 6-1 for Synthesis Example 6, and Synthesis Example 7-1 for Synthesis Example 7. The analysis results are shown in Tables 4 and 5.

Figure 0006463229
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[合成例12]式(IIIA−a)で表される化合物の精製
陽イオン交換樹脂DIAION PK−208(三菱化学(株)製)50gを充填したカートリッジ内を1N塩酸300gで洗浄後、イオン交換水300gで3回、次いでメタノール300gで1回、カートリッジの洗浄を行った。500mL二口フラスコにポリマー(IIIA−a)のメタノール5wt%溶液(ポリマー含有量10g)を投入し、ポリマー溶液を上述のカートリッジ内にポンプを使って移送した。カートリッジの排液口から出てきたメタノール溶液を元の500mLナスフラスコに合せ、この操作を2時間継続してポリマー(IIIA−a)を陽イオン交換樹脂に吸着させた。その後、カートリッジ内の樹脂をメタノール300gで1回洗浄した後、7Nアンモニア溶液(メタノール溶液、関東化学(株)製)を50g使ってポリマー(IIIA−a−2)を陽イオン交換樹脂から溶離させた。なお、陽イオン交換樹脂からの溶離工程以降の精製ポリマーを(IIIA−a−2)と示す。
[Synthesis Example 12] Purification of compound represented by formula (IIIA-a) The inside of a cartridge filled with 50 g of cation exchange resin DIAION PK-208 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was washed with 300 g of 1N hydrochloric acid, followed by ion exchange. The cartridge was washed three times with 300 g of water and then once with 300 g of methanol. A 500 mL two-necked flask was charged with a 5 wt% solution of polymer (IIIA-a) in methanol (polymer content 10 g), and the polymer solution was transferred into the above cartridge using a pump. The methanol solution coming out from the drain port of the cartridge was put into the original 500 mL eggplant flask, and this operation was continued for 2 hours to adsorb the polymer (IIIA-a) to the cation exchange resin. Thereafter, the resin in the cartridge is washed once with 300 g of methanol, and then the polymer (IIIA-a-2) is eluted from the cation exchange resin using 50 g of 7N ammonia solution (methanol solution, manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.). It was. The purified polymer after the elution step from the cation exchange resin is shown as (IIIA-a-2).

なお式(IIIA−a)で表される化合物の代わりに式(IIA)で表される化合物を使用しても、陽イオン交換樹脂触媒下、メタノール溶液で脱保護が進行するので、脱保護と精製を同時に行うことができ、工程をさらに簡略化することができた。   Even when the compound represented by the formula (IIA) is used instead of the compound represented by the formula (IIIA-a), the deprotection proceeds with a methanol solution under a cation exchange resin catalyst. Purification could be performed simultaneously and the process could be further simplified.

得られた溶離液を500mLナス形フラスコに移し、ロータリーエバポレーターを使ってアンモニアとメタノールを留去した。ほぼ乾固するまで減圧濃縮を実施後、トルエンに溶媒置換し、ポリマー(IIIA−a−2)の固形分濃度が25wt%になるように調製した。   The obtained eluent was transferred to a 500 mL eggplant-shaped flask, and ammonia and methanol were distilled off using a rotary evaporator. After concentration under reduced pressure until almost solidified, the solvent was replaced with toluene, and the solid content concentration of the polymer (IIIA-a-2) was adjusted to 25 wt%.

撹拌子の入った500mLビーカー中にヘキサン100gと酢酸エチル50gを混合し、滴下漏斗を使って得られたポリマー(IIIA−a−2)の25wt%溶液を10分かけて滴下後、20分間撹拌を行い、熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン50gと酢酸エチル25gの混合溶媒で20分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を1回実施した。   In a 500 mL beaker containing a stir bar, 100 g of hexane and 50 g of ethyl acetate are mixed, and a 25 wt% solution of the polymer (IIIA-a-2) obtained using a dropping funnel is added dropwise over 10 minutes, followed by stirring for 20 minutes. And matured. After filtering the produced white powder, the powder was returned to the original beaker, washed with a mixed solvent of 50 g of hexane and 25 g of ethyl acetate for 20 minutes, and the same washing operation was performed once.

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、8.51gのポリマー(IIIA−a−2)を得た。GPC測定を行った結果、Mw=8,000、Mw/Mn=1.05であった。なお、重合時あえて水分を少量混入させて反応を行った以外は上記実施例と同様にして反応を行った場合、上記陽イオン交換樹脂精製で得られたろ液を濃縮乾燥して得られた化合物中に、下記式(VIIIa)で表される重合時混入した水による副生成物が極少量H−NMRにより確認できた。以上のことより、仮に重合時、水が混入したとしても陽イオン交換樹脂により副生成物を除去することができ、製造マージンを広げることができた。   As a result of vacuum-drying the obtained white powder, 8.51 g of polymer (IIIA-a-2) was obtained. As a result of GPC measurement, it was Mw = 8,000 and Mw / Mn = 1.05. A compound obtained by concentrating and drying the filtrate obtained by purifying the cation exchange resin when the reaction was carried out in the same manner as in the above example except that the reaction was carried out by mixing a small amount of water during the polymerization. Inside, a by-product due to water mixed during polymerization represented by the following formula (VIIIa) could be confirmed by a very small amount of H-NMR. From the above, even if water is mixed during polymerization, by-products can be removed by the cation exchange resin, and the manufacturing margin can be expanded.

Figure 0006463229
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[比較合成例1]ポリマー(VIa)の合成
温度計、滴下漏斗、ジムロート冷却器を接続した500mLの四口ナスフラスコ中に撹拌子と重合開始剤として、カリウムメトキシド(関東化学(株)製)71mg(1.01mmol)を投入し、装置内の真空度を10Pa以下に保った後、オイルバス及びヒートガンを使って装置内を加温し、系内の水分を除去した。
[Comparative Synthesis Example 1] Synthesis of polymer (VIa) Potassium methoxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was used as a stirring bar and a polymerization initiator in a 500 mL four-necked eggplant flask connected with a thermometer, a dropping funnel and a Dimroth condenser. ) 71 mg (1.01 mmol) was added and the degree of vacuum in the apparatus was kept at 10 Pa or less, and then the inside of the apparatus was heated using an oil bath and a heat gun to remove moisture in the system.

その後、窒素気流下で四口フラスコ内にメタノール(東京化成工業(株)製)40μL(1.00mmol)及び蒸留THF140gを投入し、カリウムメトキシドが完全に溶解するまで室温で撹拌を行った。上記方法により合成された重合開始剤カリウムメトキシドと開始剤原料アルコールであるメタノールの物質量比率は50:50(mol%)である。   Thereafter, 40 μL (1.00 mmol) of methanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 140 g of distilled THF were added into a four-necked flask under a nitrogen stream, and the mixture was stirred at room temperature until potassium methoxide was completely dissolved. The substance amount ratio of the polymerization initiator potassium methoxide synthesized by the above method and methanol which is the starting material alcohol is 50:50 (mol%).

滴下漏斗内にエチレンオキシド35gと蒸留THF60gの混合溶液を投入し、内温を35℃以下に保ちながら四口フラスコ内に少量ずつ滴下した。全量滴下後、内温を50℃以下に保ちながら80時間撹拌を行った。   A mixed solution of ethylene oxide (35 g) and distilled THF (60 g) was charged into the dropping funnel, and the mixture was dropped little by little into the four-necked flask while maintaining the internal temperature at 35 ° C. or lower. After dropping the whole amount, stirring was performed for 80 hours while keeping the internal temperature at 50 ° C. or lower.

エチレンオキシドの転化率に変化がなくなったことを確認後、フラスコ内に酢酸0.06gを添加した。窒素バブリングによりエチレンオキシドを除去後、反応液を500mLナス型フラスコに移し、ロータリーエバポレーターを使って固体が析出するまで反応液を濃縮した。ポリマーの粗生成物23gをトルエン46gに再溶解後、滴下漏斗に移送した。   After confirming that there was no change in the conversion rate of ethylene oxide, 0.06 g of acetic acid was added to the flask. After removing ethylene oxide by nitrogen bubbling, the reaction solution was transferred to a 500 mL eggplant-shaped flask and concentrated using a rotary evaporator until a solid was precipitated. 23 g of the polymer crude product was redissolved in 46 g of toluene and transferred to a dropping funnel.

撹拌子の入った500mLビーカー中にイソプロピルエーテル138gを投入し、滴下漏斗を使ってポリマー溶液を10分かけて滴下後、20分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、イソプロピルエーテル69gの混合溶媒で20分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を2回実施した。反応スキームを以下に示す。   Into a 500 mL beaker containing a stir bar, 138 g of isopropyl ether was added, and the polymer solution was dropped over 10 minutes using a dropping funnel, followed by aging for 20 minutes. After the produced white powder was filtered, the powder was returned to the original beaker, washed with a mixed solvent of 69 g of isopropyl ether for 20 minutes, and the same washing operation was further performed twice. The reaction scheme is shown below.

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、18.54gの比較ポリマー(VIa)を得た。GPC測定を行った結果、Mw=7,200、Mw/Mn=1.16であった。   As a result of vacuum-drying the obtained white powder, 18.54 g of a comparative polymer (VIa) was obtained. As a result of GPC measurement, it was Mw = 7,200 and Mw / Mn = 1.16.

Figure 0006463229
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[比較合成例2]ポリマー(IXa)の合成
300ml四口フラスコにポリマー(VIa)10.00g、THF29.5g、10wt%水酸化カリウム水溶液0.56g、HO 0.5g、アクリロニトリル1.06gを仕込み、常温にて6時間撹拌した。反応終了後、アルカリ吸着剤「トミタAD700NS」(商品名、合成ケイ酸アルミニウム、富田製薬(株)製)を1.45g添加し、2時間反応を行った。アルカリ吸着剤をろ過後、ろ液を300mLナスフラスコに移し、トルエンに溶媒置換して比較ポリマー(IXa)の固形分濃度が25wt%になるまで濃縮した。
[Comparative Synthesis Example 2] Synthesis of polymer (IXa) In a 300 ml four-necked flask, 10.00 g of polymer (VIa), 29.5 g of THF, 0.56 g of 10 wt% potassium hydroxide aqueous solution, 0.5 g of H 2 O, 1.06 g of acrylonitrile. And stirred at room temperature for 6 hours. After completion of the reaction, 1.45 g of an alkali adsorbent “Tomita AD700NS” (trade name, synthetic aluminum silicate, manufactured by Tomita Pharmaceutical Co., Ltd.) was added, and the reaction was performed for 2 hours. After filtering the alkali adsorbent, the filtrate was transferred to a 300 mL eggplant flask, and the solvent was replaced with toluene, and the solution was concentrated until the solid content concentration of the comparative polymer (IXa) was 25 wt%.

撹拌子の入った500mLビーカー中にヘキサン100gと酢酸エチル50gを混合し、滴下漏斗を使って得られた濃縮液を10分かけて滴下後、20分間熟成を行った。生成した白色粉末をろ過後、粉末を元のビーカーに戻し、ヘキサン50gと酢酸エチル25gの混合溶媒で20分間洗浄を行ない、さらに同様の洗浄操作を1回実施した。反応スキームを以下に示す。   In a 500 mL beaker containing a stir bar, 100 g of hexane and 50 g of ethyl acetate were mixed, and the concentrated solution obtained using a dropping funnel was added dropwise over 10 minutes, followed by aging for 20 minutes. After filtering the produced white powder, the powder was returned to the original beaker, washed with a mixed solvent of 50 g of hexane and 25 g of ethyl acetate for 20 minutes, and the same washing operation was performed once. The reaction scheme is shown below.

得られた白色粉末を真空乾燥した結果、9.12gの比較ポリマー(IXa)を得た。GPC測定を行った結果、Mw=7,300、Mw/Mn=1.15であった。   As a result of vacuum-drying the obtained white powder, 9.12 g of a comparative polymer (IXa) was obtained. As a result of GPC measurement, it was Mw = 7,300 and Mw / Mn = 1.15.

Figure 0006463229
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[比較合成例3]ポリマー(IIIc)の合成
500mLの水素還元用オートクレーブの中に5.0gのポリマー(IXa)、5.0gのラネーコバルト触媒R−400(日興リカ(株)製)、45.0gのメタノール、3.0mLのアンモニアの1Nメタノール溶液(アルドリッチ製)を室温で投入した。その後、水素ガス(圧力=10kg/cm)を封入し、内温が120℃になるまで加温し、そのまま6時間反応を行った。室温まで冷却後、圧力を大気圧に戻した後、窒素を吹き込みながら系内のアンモニアを除去した。ろ過によりラネーコバルト触媒を除去後、ろ液を100mLナス形フラスコに移し、ロータリーエバポレーターを使ってアンモニアとメタノールを留去した。乾固するまで減圧濃縮を実施後、ポリマー(IIIc)と下記一般式(IVc)〜(VIc)の混合物を4.5g得た。GPC測定を行った結果、Mw=7,300、Mw/Mn=1.25であった。反応スキームと副生成物を以下に記す。
[Comparative Synthesis Example 3] Synthesis of polymer (IIIc) 5.0 g of polymer (IXa), 5.0 g of Raney cobalt catalyst R-400 (manufactured by Nikko Rica Co., Ltd.), 45 in a 500 mL hydrogen reduction autoclave, 45 0.0 g of methanol and 3.0 mL of a 1N methanol solution of ammonia (manufactured by Aldrich) were added at room temperature. Thereafter, hydrogen gas (pressure = 10 kg / cm 2 ) was sealed, heated until the internal temperature reached 120 ° C., and reacted for 6 hours as it was. After cooling to room temperature, the pressure was returned to atmospheric pressure, and then ammonia in the system was removed while blowing nitrogen. After removing the Raney cobalt catalyst by filtration, the filtrate was transferred to a 100 mL eggplant-shaped flask, and ammonia and methanol were distilled off using a rotary evaporator. After concentration under reduced pressure until dryness, 4.5 g of a mixture of polymer (IIIc) and the following general formulas (IVc) to (VIc) was obtained. As a result of GPC measurement, it was Mw = 7,300 and Mw / Mn = 1.25. The reaction scheme and by-products are described below.

Figure 0006463229
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[合成例7−1、8、12と比較合成例3で得られた生成物の不純物含有量分析]
[合成例7−1]、[合成例8]及び[合成例12]において得られた生成物と[比較合成例3]で得られた生成物中の不純物含有量分析を行った。結果を下記表6に示す。
表6中mPEGと表した化合物とは[比較合成例3]中、一般式(VIc)に相当する化合物であり、末端にシアノエチル基を有するポリマーからアクリロニトリルがβ脱離した化合物である。mPEGの組成比はH−NMR測定により算出した。まず、[合成例7−1]、[合成例8]、[合成例12]、[比較合成例3]で得られた生成物をそれぞれ10mg測り取り、0.75mlのCDCl3に溶解させた後、トリフルオロ酢酸無水物を50mg添加し、1日放置した。この処理によって生成する下記一般式(VI−1)で表される化合物のエステルα位メチレン由来のプロトンと下記一般式(III−1)で表される化合物のアミドα位メチレン由来のプロトンとの比によりmPEGの組成比を算出した。
表中2、3級アミンと表した化合物とは[比較ポリマー合成例3]中、一般式(IVc)、(Vc)に相当する化合物である。その混入量はGPCにより測定し、2倍、3倍分子量に相当するポリマーの面積パーセントより算出した。
これらの結果より、比較ポリマー(IIIc)では水素還元によるアクリロニトリルのβ脱離と2、3級アミンの生成が観測されたが、実施例ポリマー(IIIA−a)、(IIIB−a)、(IIIA−a−2)ではそれらの副生物が観測されなかった。
[Analysis of Impurity Content of Products Obtained in Synthesis Examples 7-1, 8, 12 and Comparative Synthesis Example 3]
Impurity content analysis was performed on the product obtained in [Synthesis Example 7-1], [Synthesis Example 8] and [Synthesis Example 12] and the product obtained in [Comparative Synthesis Example 3]. The results are shown in Table 6 below.
The compound represented by mPEG in Table 6 is a compound corresponding to the general formula (VIc) in [Comparative Synthesis Example 3], and is a compound in which acrylonitrile is β-eliminated from a polymer having a cyanoethyl group at the terminal. The composition ratio of mPEG was calculated by H-NMR measurement. First, 10 mg of each of the products obtained in [Synthesis Example 7-1], [Synthesis Example 8], [Synthesis Example 12], and [Comparative Synthesis Example 3] was weighed and dissolved in 0.75 ml of CDCl3. , 50 mg of trifluoroacetic anhydride was added and left for 1 day. A proton derived from an ester α-position methylene of a compound represented by the following general formula (VI-1) produced by this treatment and a proton derived from an amide α-position methylene of a compound represented by the following general formula (III-1) The composition ratio of mPEG was calculated from the ratio.
In the table, the compound expressed as secondary amine or tertiary amine is a compound corresponding to the general formulas (IVc) and (Vc) in [Comparative Polymer Synthesis Example 3]. The amount of contamination was measured by GPC, and calculated from the area percentage of the polymer corresponding to 2 times or 3 times the molecular weight.
From these results, in the comparative polymer (IIIc), β-elimination of acrylonitrile by hydrogen reduction and formation of secondary and tertiary amines were observed. However, the polymers of Examples (IIIA-a), (IIIB-a), (IIIA) In -a-2), these by-products were not observed.

Figure 0006463229
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Figure 0006463229
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[合成例7−1、8、12と比較合成例3で得られた生成物の金属分析]
[合成例7−1]、[合成例8]及び[合成例12]において得られた生成物と[比較合成例3]で得られた生成物の高周波誘導結合プラズマ質量分析計(ICP−MS、Agilent Technologies 7500cs)による金属不純物分析を行った。測定は各生成物を超純水で100倍希釈したサンプルを用い、標準添加法により分析を行った。分析結果(固形分換算値)を表7に示す(単位はppb)。
金属分析の結果、比較ポリマー(IIIc)では還元時に使用した重金属が混入するのに対し、[合成例7−1]、[合成例8]、[合成例12]では重金属触媒を使用していないため、実施例ポリマー(IIIA−a)、(IIIB−a)、(IIIA−a−2)では重金属が含まれていないことがわかる。
[Metal analysis of products obtained in Synthesis Examples 7-1, 8, and 12 and Comparative Synthesis Example 3]
High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer (ICP-MS) of the product obtained in [Synthesis Example 7-1], [Synthesis Example 8] and [Synthesis Example 12] and the product obtained in [Comparative Synthesis Example 3] , Agilent Technologies 7500cs). The measurement was performed by a standard addition method using a sample obtained by diluting each product 100 times with ultrapure water. The analysis results (in terms of solid content) are shown in Table 7 (unit: ppb).
As a result of metal analysis, the comparative polymer (IIIc) contains heavy metal used during the reduction, whereas [Synthesis Example 7-1], [Synthesis Example 8], and [Synthesis Example 12] do not use a heavy metal catalyst. Therefore, it can be seen that the example polymers (IIIA-a), (IIIB-a), and (IIIA-a-2) do not contain heavy metals.

Figure 0006463229
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[重合開始剤及び比較重合開始剤の合成、並びに重合溶媒に対する溶解性比較]
上記で使用した以外の重合開始剤(開始剤2〜9、11、12、比較開始剤1〜8)を合成した結果を以下に示す。なお、以下において、「開始剤1」は[合成例4−1]において式(iA)で表される化合物を用いて合成された式(IA)で表される重合開始剤であり、「開始剤10」は[合成例8]において式(iB)で表される化合物を用いて合成された重合開始剤(IB)である。
[Synthesis of polymerization initiator and comparative polymerization initiator, and comparison of solubility in polymerization solvent]
The results of synthesizing polymerization initiators other than those used above (initiators 2-9, 11, 12, and comparative initiators 1-8) are shown below. In the following, “initiator 1” is a polymerization initiator represented by formula (IA) synthesized using a compound represented by formula (iA) in [Synthesis Example 4-1]. Agent 10 ”is a polymerization initiator (IB) synthesized using the compound represented by formula (iB) in [Synthesis Example 8].

[開始剤2の合成]
[合成例2−3]において使用したエチレングリコールをジエチレングリコールに変えた以外は、[合成例2−3]及び[合成例4−1]に記載の方法と同様にして、開始剤2を合成した。
[Synthesis of Initiator 2]
Initiator 2 was synthesized in the same manner as described in [Synthesis Example 2-3] and [Synthesis Example 4-1] except that the ethylene glycol used in [Synthesis Example 2-3] was changed to diethylene glycol. .

Figure 0006463229
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[開始剤3の合成]
[合成例2−4]において使用した求電子剤(iiB)を下記求電子剤(iiC)に変えた以外は、[合成例2−4]及び[合成例4−1]に記載の方法と同様にして、開始剤3を合成した。
[Synthesis of Initiator 3]
The method described in [Synthesis Example 2-4] and [Synthesis Example 4-1] except that the electrophile (iiB) used in [Synthesis Example 2-4] was changed to the following electrophile (iiC): In the same manner, initiator 3 was synthesized.

Figure 0006463229
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[開始剤4の合成]
[合成例2−4]において使用したエチレングリコールをジエチレングリコールに変えた以外は、[開始剤3の合成]に記載の方法と同様にして、開始剤4を合成した。
[Synthesis of Initiator 4]
Initiator 4 was synthesized in the same manner as described in [Synthesis of Initiator 3] except that ethylene glycol used in [Synthesis Example 2-4] was changed to diethylene glycol.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[開始剤5の合成]
[合成例2−4]において使用した求電子剤(iiB)を下記求電子剤(iiD)に変え、エチレングリコールをトリエチレングリコールに変えた以外は、[合成例2−4]及び[合成例4−1]に記載の方法と同様にして開始剤5を合成した。
[Synthesis of Initiator 5]
[Synthesis Example 2-4] and [Synthesis Example] except that the electrophile (iiB) used in [Synthesis Example 2-4] was changed to the following electrophile (iiD) and ethylene glycol was changed to triethylene glycol. Initiator 5 was synthesized in the same manner as described in [4-1].

Figure 0006463229
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[開始剤6の合成]
[合成例2−4]において使用した求電子剤(iiB)を下記求電子剤(iiE)に変えた以外は、[合成例2−4]及び[合成例4−1]に記載の方法と同様にして開始剤6を合成した。
[Synthesis of Initiator 6]
The method described in [Synthesis Example 2-4] and [Synthesis Example 4-1] except that the electrophile (iiB) used in [Synthesis Example 2-4] was changed to the following electrophile (iiE). Initiator 6 was synthesized in the same manner.

Figure 0006463229
上記求電子剤(iiE)及び開始剤6中、TBSはtert−ブチルジメチルシリルのことである。
Figure 0006463229
In the electrophile (iiE) and initiator 6, TBS is tert-butyldimethylsilyl.

[開始剤7の合成]
[合成例2−4]において使用した求電子剤(iiB)を下記求電子剤(iiF)に変えた以外は、[合成例2−4]及び[合成例4−1]に記載の方法と同様にして、開始剤7を合成した。
[Synthesis of initiator 7]
The method described in [Synthesis Example 2-4] and [Synthesis Example 4-1] except that the electrophile (iiB) used in [Synthesis Example 2-4] was changed to the following electrophile (iiF): In the same manner, initiator 7 was synthesized.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[開始剤8の合成]
[合成例2−4]において使用した求電子剤(iiB)を下記求電子剤(iiG)に変えた以外は、[合成例2−4]及び[合成例4−1]に記載の方法と同様にして、開始剤8を合成した。
[Synthesis of Initiator 8]
The method described in [Synthesis Example 2-4] and [Synthesis Example 4-1] except that the electrophile (iiB) used in [Synthesis Example 2-4] was changed to the following electrophile (iiG): In the same manner, initiator 8 was synthesized.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[開始剤9の合成]
[合成例2−4]において使用した求電子剤(iiB)を下記求電子剤(iiH)に変えた以外は、[合成例2−4]及び[合成例4−1]に記載の方法と同様にして開始剤9を合成した。
[Synthesis of Initiator 9]
The method described in [Synthesis Example 2-4] and [Synthesis Example 4-1] except that the electrophile (iiB) used in [Synthesis Example 2-4] was changed to the following electrophile (iiH). Initiator 9 was synthesized in the same manner.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[開始剤11の合成]
300ml三口フラスコに6−アミノ−1−ヘキサノール15.7g、THF91.0g、炭酸カリウム46.3gを仕込み、その後窒素雰囲気下、氷冷しながらアリルブロマイド28.4mlを滴下した。その後常温で1時間撹拌した。反応液をろ過し、減圧蒸留して開始剤11の原料アルコール(iC)を13.2g(収率50.0%)得た。続いて[合成例4−1]に記載の方法と同様にして開始剤11を合成した。
[Synthesis of Initiator 11]
To a 300 ml three-necked flask, 15.7 g of 6-amino-1-hexanol, 91.0 g of THF, and 46.3 g of potassium carbonate were charged, and then 28.4 ml of allyl bromide was added dropwise while cooling with ice in a nitrogen atmosphere. Then, it stirred at normal temperature for 1 hour. The reaction solution was filtered and distilled under reduced pressure to obtain 13.2 g (yield 50.0%) of the starting alcohol 11 (iC). Subsequently, an initiator 11 was synthesized in the same manner as described in [Synthesis Example 4-1].

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[開始剤12の合成]
アリルブロマイドを1,2−ビス(クロロジメチルシリル)エタンに変えた以外は[開始剤11の合成]と同様にして開始剤12を合成した。
[Synthesis of Initiator 12]
Initiator 12 was synthesized in the same manner as [Synthesis of Initiator 11] except that allyl bromide was changed to 1,2-bis (chlorodimethylsilyl) ethane.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[比較開始剤1の合成]
[合成例2−1]において使用したシリル保護アミノ基含有アルコール体(iiA−2)を原料として、続いて[合成例4−1]に記載の方法と同様にして比較開始剤1を合成した。
[Synthesis of Comparative Initiator 1]
Using the silyl-protected amino group-containing alcohol (iiA-2) used in [Synthesis Example 2-1] as a raw material, Comparative Initiator 1 was synthesized in the same manner as described in [Synthesis Example 4-1]. .

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[比較開始剤2の合成]
保護基のトリエチルシリルをトリメチルシリル(TMS)に変えた以外は[比較開始剤1の合成]に記載の方法と同様にして比較開始剤2を合成した。
[Synthesis of Comparative Initiator 2]
Comparative initiator 2 was synthesized in the same manner as described in [Synthesis of Comparative Initiator 1] except that the protecting group triethylsilyl was changed to trimethylsilyl (TMS).

Figure 0006463229
上記比較開始剤2中のTMSはトリメチルシリルのことである。
Figure 0006463229
TMS in the comparative initiator 2 is trimethylsilyl.

[比較開始剤3の合成]
[開始剤11の合成]において使用した6−アミノ−1−ヘキサノールを3−アミノ−1−プロパノールに変えた以外は[開始剤11の合成]に記載の方法と同様にして、比較開始剤3を合成した。
[Synthesis of Comparative Initiator 3]
Comparative Initiator 3 in the same manner as described in [Synthesis of Initiator 11] except that 6-amino-1-hexanol used in [Synthesis of Initiator 11] was changed to 3-amino-1-propanol. Was synthesized.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[比較開始剤4の合成]
式(iA)で表される化合物に代えて、原料アルコールとして下記(iD)を使用した以外は[合成例4−1]に記載の方法と同様にして比較開始剤4を合成した。
[Synthesis of Comparative Initiator 4]
A comparative initiator 4 was synthesized in the same manner as described in [Synthesis Example 4-1] except that the following (iD) was used as a raw material alcohol instead of the compound represented by the formula (iA).

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[比較開始剤5の合成]
式(iA)で表される化合物に代えて、原料アルコールとして下記(iE)を使用した以外は[合成例4−1]に記載の方法と同様にして比較開始剤5を合成した。
[Synthesis of Comparative Initiator 5]
Comparative initiator 5 was synthesized in the same manner as described in [Synthesis Example 4-1] except that the following (iE) was used as the raw material alcohol instead of the compound represented by formula (iA).

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[比較開始剤6の合成]
[開始剤12の合成]において使用した6−アミノ−1−ヘキサノールを3−アミノ−1−プロパノールに変えた以外は[開始剤12の合成]に記載の方法と同様にして比較開始剤6を合成した。
[Synthesis of Comparative Initiator 6]
Comparative initiator 6 was prepared in the same manner as described in [Synthesis of initiator 12] except that 6-amino-1-hexanol used in [Synthesis of initiator 12] was changed to 3-amino-1-propanol. Synthesized.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[比較開始剤7の合成]
[比較開始剤3の合成]において使用したアリルブロマイドをベンジルブロマイドに変えた以外は[比較開始剤3の合成]に記載の方法と同様にして比較開始剤7を合成した。
[Synthesis of Comparative Initiator 7]
Comparative initiator 7 was synthesized in the same manner as described in [Synthesis of comparative initiator 3] except that allyl bromide used in [Synthesis of comparative initiator 3] was changed to benzyl bromide.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

[比較開始剤8の合成]
以下のスキーム1に示す反応により下記式(iF)で表される化合物を合成した。この式(iF)で表される化合物を、式(iA)で表される化合物に代えて使用した以外は、[合成例4−1]に記載の方法と同様にして、比較開始剤8を合成した。
[Synthesis of Comparative Initiator 8]
A compound represented by the following formula (iF) was synthesized by the reaction shown in Scheme 1 below. Comparative initiator 8 was prepared in the same manner as described in [Synthesis Example 4-1] except that the compound represented by formula (iF) was used instead of the compound represented by formula (iA). Synthesized.

1)Boc保護(iF−1)の合成
200ml三口フラスコに3−アミノ−1−プロパノール5.11g、トリエチルアミン7.21g、メタノール55.43g、二炭酸ジーtert−ブチル(以下Boc2Oと記す)15.61gを仕込み、窒素雰囲気下、常温にて14時間撹拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液で反応停止し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を減圧で濃縮してBoc保護(iF−1)10.73g(粗収率90%)を得た。
1) Synthesis of Boc Protection (iF-1) 5.11 g of 3-amino-1-propanol, 7.21 g of triethylamine, 55.43 g of methanol, di-tert-butyl dicarbonate (hereinafter referred to as Boc2O) in a 200 ml three-neck flask 61 g was charged and stirred at room temperature for 14 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction was quenched with saturated aqueous ammonium chloride and extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was concentrated under reduced pressure to obtain 10.73 g (crude yield 90%) of Boc protection (iF-1).

2)TBS保護(iF−2)の合成
500ml三口フラスコにBoc保護(iF−1)10.61g、THF241.80gを加え、窒素雰囲気下で氷冷しながら、イミダゾール9.26g、TBSCl15.38gを添加した。常温に戻して22時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応停止し、イソプロピルエーテルで抽出した。得られたイソプロピルエーテル溶液を減圧で濃縮してTBS保護(iF−2)18.24g(粗収率93%)を得た。
2) Synthesis of TBS protection (iF-2) 10.61 g of Boc protection (iF-1) and 241.80 g of THF were added to a 500 ml three-necked flask, and 9.26 g of imidazole and 15.38 g of TBSCl were added while cooling with ice in a nitrogen atmosphere. Added. After returning to room temperature and stirring for 22 hours, the reaction was quenched with saturated aqueous ammonium chloride and extracted with isopropyl ether. The resulting isopropyl ether solution was concentrated under reduced pressure to obtain 18.24 g (crude yield 93%) of TBS protection (iF-2).

3)Boc保護(iF−3)の合成
500ml二口フラスコにTBS保護(iF−2)10.01g、脱水THF155.58gを加え、窒素雰囲気下で氷冷しながら、n−ブチルリチウム/ヘキサン溶液(2.69M)16.68mLを滴下した。同温度で30分撹拌後、Boc2O/THF溶液(26wt%)40.87gを滴下し、常温に戻して2.5時間撹拌した。反応液をイソプロピルエーテルで希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した後、得られた溶液を減圧で濃縮してTBS保護(iF−3)14.77g(粗収率100%)を得た。
3) Synthesis of Boc protection (iF-3) 10.01 g of TBS protection (iF-2) and 155.58 g of dehydrated THF were added to a 500 ml two-necked flask, and n-butyllithium / hexane solution was cooled with ice in a nitrogen atmosphere. (2.69M) 16.68 mL was added dropwise. After stirring at the same temperature for 30 minutes, 40.87 g of Boc 2 O / THF solution (26 wt%) was added dropwise, and the mixture was returned to room temperature and stirred for 2.5 hours. The reaction solution was diluted with isopropyl ether and washed with a saturated aqueous ammonium chloride solution, and then the resulting solution was concentrated under reduced pressure to obtain 14.77 g (crude yield 100%) of TBS protection (iF-3).

4)アルコール(iF)の合成
500ml三口フラスコにTBS保護(iF−3)14.77g、THF110.59gを仕込み、窒素雰囲気下、常温で撹拌しながらTBAF(フッ化テトラn−ブチルアンモニウム)/THF溶液(1M)39.5mLを添加した。同温度で5時間撹拌後、イソプロピルエーテルで希釈し超純水で洗浄した。得られたイソプロピルエーテル溶液を減圧で濃縮してアルコール(iF)10.22g(粗収率98%)を得た。
4) Synthesis of alcohol (iF) In a 500 ml three-necked flask, 14.77 g of TBS protection (iF-3) and 110.59 g of THF were charged, and TBAF (tetra-n-butylammonium fluoride) / THF was stirred at room temperature in a nitrogen atmosphere. 39.5 mL of solution (1M) was added. After stirring at the same temperature for 5 hours, the mixture was diluted with isopropyl ether and washed with ultrapure water. The obtained isopropyl ether solution was concentrated under reduced pressure to obtain 10.22 g of alcohol (iF) (crude yield: 98%).

Figure 0006463229
上記スキーム中Bocはtert−ブトキシカルボニルのことである。
Figure 0006463229
In the above scheme, Boc is tert-butoxycarbonyl.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

上記で合成した各種重合開始剤(開始剤1〜12、及び比較開始剤1〜8)の構造を下記にまとめて示す。   The structures of the various polymerization initiators synthesized above (initiators 1 to 12 and comparative initiators 1 to 8) are summarized below.

Figure 0006463229
Figure 0006463229

Figure 0006463229
Figure 0006463229

次に開始剤1〜12と比較開始剤1〜8の重合溶媒への溶解性の結果を示す。上記で合成した開始剤1〜12と比較開始剤1〜8のTHFを減圧留去し、重合開始剤を取り出した後、それぞれ重合溶媒に20wt%の濃度で溶解させた結果を表に示す。目視による濁りが全く見られないものは「○」、濁りが見られたり全く溶けない、またはアルコキシドにした段階で分解してしまうものは「×」、未検討のものは「−」を記した。 Next, the solubility results of the initiators 1 to 12 and the comparative initiators 1 to 8 in the polymerization solvent are shown. The table below shows the results of dissolving the initiators 1 to 12 synthesized above and the THFs of the comparative initiators 1 to 8 under reduced pressure, taking out the polymerization initiator, and dissolving each in a polymerization solvent at a concentration of 20 wt%. “O” indicates that no turbidity is observed by visual inspection, “X” indicates that turbidity is observed or does not dissolve at all, or decomposes at the stage of alkoxide formation, and “−” indicates that the undetermined one is not. .

Figure 0006463229
Figure 0006463229

比較開始剤1、2、5、6の合成を検討した際は分子内での保護基のかけ変わりが進行したが、鎖長を伸長した開始剤1、2、6、7、10、12では開始剤が安定に存在し、かつ溶媒へ溶解した。一方、比較開始剤3、4、7、8で溶媒へ溶解しなかった化合物も鎖長を伸長した開始剤3、4、5、8、9、11では溶媒へ溶解した。   When the synthesis of comparative initiators 1, 2, 5, and 6 was examined, the change of the protecting group in the molecule progressed, but in initiators 1, 2, 6, 7, 10, and 12 that extended the chain length, The initiator was present stably and dissolved in the solvent. On the other hand, the compounds that were not dissolved in the solvent by the comparative initiators 3, 4, 7, and 8 were also dissolved in the solvent by the initiators 3, 4, 5, 8, 9, and 11 whose chain length was extended.

上記の実施例及び比較例の結果、合成例5及び比較合成例1において、後者が開始剤原料アルコールの存在のため80時間もの重合時間を要しているのに対し、前者は開始剤原料アルコールの残量が少ない状態でもTHFに可溶である重合開始剤を用いることで8時間以内に重合反応が完結していることがわかる。すなわち、本発明の手法によって温和な条件下でのアルキレンオキシドの重合が実現した。また、合成例6では合成例5の反応液を後処理することなく、直接次工程の反応に用いることにより、工程が大幅に簡略化出来た。さらに合成例12ではイオン交換樹脂を用いた樹脂の精製に有機溶媒を用いることにより、最終工程で凍結乾燥を使用せずに、簡便な方法でポリマーの精製を行うことが可能となった。   As a result of the above Examples and Comparative Examples, in Synthesis Example 5 and Comparative Synthesis Example 1, the latter requires polymerization time of 80 hours due to the presence of the initiator raw alcohol, whereas the former is the initiator raw alcohol. It can be seen that the polymerization reaction is completed within 8 hours by using a polymerization initiator that is soluble in THF even in a state in which the remaining amount of is low. That is, the polymerization of alkylene oxide under mild conditions was realized by the method of the present invention. Further, in Synthesis Example 6, the reaction solution of Synthesis Example 5 was used directly in the next step reaction without post-treatment, thereby greatly simplifying the process. Furthermore, in Synthesis Example 12, it became possible to purify the polymer by a simple method without using lyophilization in the final step by using an organic solvent for the purification of the resin using the ion exchange resin.

合成例5〜8及び比較合成例1〜3において、後者ではシアノ基の還元に重金属を触媒とした水素添加反応を要するのに対し、前者では保護アミノ基を脱保護するだけで目的のポリマーを合成できる。比較ポリマー(IIIc)では水素還元によりアクリロニトリルのβ脱離と2、3級アミンの生成が起こっているが、実施例ポリマー(IIIA−a)、(IIIB−a)、(IIIA−a−2)ではいずれの生成も観測できなかった(表6)。また、合成例7−1、8、12及び比較合成例3において、金属分析の結果、比較ポリマーでは還元時に使用した重金属が混入するのに対し、合成例7−1、8、12では重金属触媒を使用していないため、本質的に重金属が混入しないことがわかる。また強酸性陽イオン交換樹脂による精製によりカリウム金属混入量を低減することができた(表7)。結果、本発明により、医薬品において悪影響を及ぼす可能性のある重金属の混入がないアミノ基含有狭分散ポリアルキレングリコール誘導体の合成を達成した。また、新規な保護アミノ基含有アルコールを合成し、さらにそれを原料として重合開始剤とすることで、さまざまなポリマー合成へ応用することが可能となった。上記新規重合開始剤を使用して、さらに必要に応じて陽イオン交換樹脂により精製することで、水の混入により生成する分離困難であったジオールポリマーを除去することができ、純度よくアミノ基含有狭分散ポリアルキレングリコール誘導体を得ることが可能になり、製造マージンを広げることができた。   In Synthesis Examples 5 to 8 and Comparative Synthesis Examples 1 to 3, the latter requires a hydrogenation reaction using a heavy metal as a catalyst for the reduction of the cyano group, whereas in the former, the target polymer is obtained simply by deprotecting the protected amino group. Can be synthesized. In comparative polymer (IIIc), β-elimination of acrylonitrile and formation of secondary and tertiary amines occurred by hydrogen reduction. Examples (IIIA-a), (IIIB-a), (IIIA-a-2) Then, no generation was observed (Table 6). Further, in Synthesis Examples 7-1, 8, and 12 and Comparative Synthesis Example 3, as a result of metal analysis, heavy metals used during the reduction were mixed in the comparative polymer, whereas in Synthesis Examples 7-1, 8, and 12, heavy metal catalysts were used. Since no is used, it can be seen that heavy metals are essentially not mixed. Moreover, the amount of potassium metal contamination could be reduced by purification with a strongly acidic cation exchange resin (Table 7). As a result, according to the present invention, the synthesis of an amino group-containing narrowly dispersed polyalkylene glycol derivative free from heavy metal contamination that may adversely affect pharmaceuticals was achieved. In addition, by synthesizing a novel protected amino group-containing alcohol and using it as a raw material, it can be applied to various polymer syntheses. By using the above-mentioned novel polymerization initiator and further purifying with a cation exchange resin as necessary, it is possible to remove the diol polymer that has been difficult to separate due to water contamination, and contains amino groups with high purity. A narrowly dispersed polyalkylene glycol derivative can be obtained, and the manufacturing margin can be expanded.

本発明の方法を用いて製造した高分子化合物は、ドラッグデリバリーシステムの分野をはじめとした医薬品や化粧品等の用途で用いられるブロック共重合体を合成する際に出発原料として広く使用することができる。また、新規な保護アミノ基含有アルコールの金属塩は様々なポリマー合成へと応用することができる。   The polymer compound produced by using the method of the present invention can be widely used as a starting material when synthesizing a block copolymer used in applications such as pharmaceuticals and cosmetics including the field of drug delivery systems. . In addition, novel metal salts of protected amino group-containing alcohols can be applied to various polymer synthesis.

Claims (26)

下記一般式(I)で表される重合開始剤とアルキレンオキシドとを反応させる工程を少なくとも含む、末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法。
Figure 0006463229
(一般式(I)中、R 1a及びR 1bは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はR 1a及びR 1bは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、R は炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、R は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、又は炭素数3〜20の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、ここでR 及びR の炭素数の総数は4以上であり、又は、R がヘテロ原子を含む場合はR 及びR の炭素原子及びヘテロ原子の総数が4以上であり、Mはアルカリ金属を表す)
The manufacturing method of the polyalkylene glycol derivative which has an amino group at the terminal at least including the process of making the polymerization initiator represented by the following general formula (I) and alkylene oxide react.
Figure 0006463229
(In the general formula (I), R A 1a and R A 1b each independently represent an amino group protecting group, or one of them represents a hydrogen atom and the other represents an amino group protecting group, or R A 1a And R A 1b represents a cyclic protecting group which is bonded to each other to form a ring together with the nitrogen atom of the amino group, and R A 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or branched or cyclic having 3 to 6 carbon atoms And R A 3 is a single bond, a straight chain having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a branched or cyclic divalent group having 3 to 20 carbon atoms. Wherein the total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more, or when R A 3 contains a heteroatom, the carbon atoms of R A 2 and R A 3 and The total number of heteroatoms is 4 or more, and M represents an alkali metal)
工程a)〜工程c)を含む、末端にアミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法:
Figure 0006463229
(一般式(I)〜(III)中、
1a及びR 1bは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はR 1a及びR 1bは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、
は炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、
は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、又は炭素数3〜20の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、
ここでR 及びR の炭素数の総数は4以上であり、又は、R がヘテロ原子を含む場合はR 及びR の炭素原子及びヘテロ原子の総数が4以上であり、
は水素原子、或いは置換されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜12の炭化水素基であり、かつ該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよく、
は炭素数2〜8のアルキレン基であり、
Mはアルカリ金属を表し、
nは1〜450の整数である)
工程a)前記一般式(I)で表される重合開始剤とアルキレンオキシドとを重合溶媒中で反応させることにより、下記一般式(I−1)で表される化合物を得る工程
Figure 0006463229
(一般式(I−1)中、R 1a、R 1b、R 、R 、及びR は前記一般式(II)について定義したとおりであって、前記一般式(II)のR 1a、R 1b、R 、R 、及びR と同一であり、Mはアルカリ金属を表し、前記一般式(I)のMと同一であり、rは1〜445の整数を表す);
工程b)前記一般式(I−1)で表される化合物と下記一般式(I−2)で表される化合物とを反応させることにより、前記一般式(II)で表される化合物を得る工程
Figure 0006463229
(一般式(I−2)中、R 及びR は前記一般式(II)及び(III)について定義したとおりであって、前記一般式(II)及び(III)のR 及びR と同一であり、kは0〜5の整数を表し、Lは脱離基を表す);及び
工程c)前記一般式(II)で表される化合物を脱保護し、前記一般式(III)で表される化合物を得る工程。
A process for producing a polyalkylene glycol derivative having an amino group at the terminal, comprising steps a) to c):
Figure 0006463229
(In the general formulas (I) to (III),
R A 1a and R A 1b each independently represent an amino protecting group, one represents a hydrogen atom, the other represents an amino protecting group, or R A 1a and R A 1b are bonded to each other. A cyclic protecting group that forms a ring with the nitrogen atom of the amino group,
R A 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms,
R A 3 is a single bond or a straight chain having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms,
Here, the total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more, or when R A 3 contains a hetero atom, the total number of carbon atoms and hetero atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more. And
R A 4 is a hydrogen atom or an optionally substituted linear, branched or cyclic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrocarbon group may contain a hetero atom,
R A 5 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms,
M represents an alkali metal,
n is an integer of 1 to 450)
Step a) A step of obtaining a compound represented by the following general formula (I-1) by reacting a polymerization initiator represented by the general formula (I) with an alkylene oxide in a polymerization solvent.
Figure 0006463229
(In the general formula (I-1), R A 1a , R A 1b , R A 2 , R A 3 , and R A 5 are as defined for the general formula (II), and the general formula (II ) R A 1a , R A 1b , R A 2 , R A 3 , and R A 5 , M represents an alkali metal, is the same as M in the general formula (I), and r is 1 Represents an integer of ~ 445);
Step b) A compound represented by the general formula (II) is obtained by reacting a compound represented by the general formula (I-1) with a compound represented by the following general formula (I-2). Process
Figure 0006463229
(In the general formula (I-2), R A 4 and R A 5 are as defined for the general formulas (II) and (III), and R A 4 in the general formulas (II) and (III)). And R A 5 , k represents an integer of 0 to 5, L represents a leaving group); and step c) the compound represented by the general formula (II) is deprotected, A step of obtaining a compound represented by the formula (III).
前記一般式(I)〜(III)中、R 1a及びR 1bが、重金属触媒を使用することなく脱保護できる保護基であり、かつ、前記工程c)において、前記一般式(II)で表される化合物を重金属触媒を用いることなく脱保護する、請求項2に記載の方法。 In the general formulas (I) to (III), R A 1a and R A 1b are protective groups that can be deprotected without using a heavy metal catalyst, and in the step c), the general formula (II) The method of Claim 2 which deprotects the compound represented by these, without using a heavy metal catalyst. 前記工程a)の前に、前記一般式(I)で表される重合開始剤を合成するための前工程をさらに含み、前記前工程が、下記一般式(i)で表される化合物と、M、M、R 、[R]・−、及びRから選択されるアルカリ金属又はアルカリ金属化合物(式中、Mはアルカリ金属を表し、Rは置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基を表し、Rは置換基を有していてもよい芳香族化合物を表し、Rは炭素数1〜6のアルキル基を表す)とを反応させることにより、前記一般式(I)で表される重合開始剤を得る工程を少なくとも含む、請求項2又は3に記載の方法。
Figure 0006463229
(一般式(i)中、R 1a、R 1b、R 、及びR は、前記一般式(I)について定義したとおりであって、前記一般式(I)中のR 1a、R 1b、R 、及びR と同一である)
Before the step a), the method further includes a pre-process for synthesizing the polymerization initiator represented by the general formula (I), and the pre-process includes a compound represented by the following general formula (i); M, M + H -, R X - M +, [R Y] · - represents an alkali metal or an alkali metal compound selected from M + (wherein, M is an alkali metal, - M +, and R Z O R X represents an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R Y represents an optionally substituted aromatic compound, and R Z represents 1 to 6 carbon atoms. The method according to claim 2, comprising at least a step of obtaining a polymerization initiator represented by the general formula (I) by reacting with an alkyl group.
Figure 0006463229
(In the general formula (i), R A 1a , R A 1b , R A 2 and R A 3 are as defined for the general formula (I), and R A in the general formula (I) 1a , R A 1b , R A 2 and R A 3 are the same)
前記工程a)において使用する前記一般式(I)で表される重合開始剤が、下記一般式(1)及び/又は(2)で表される重合開始剤であり、かつ前記工程c)で得られる前記一般式(III)で表される化合物が、下記一般式(3)及び/又は(4)で表される化合物である、請求項2〜4のいずれか1項に記載の方法。
Figure 0006463229
(一般式(1)及び(2)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の1価の炭化水素基であり、或いはRは互いに結合してこれらが結合するケイ素原子と共に3〜6員環を形成することもでき、Rは炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、Rは炭素数4〜6の直鎖状の2価の炭化水素基であり、Rは炭素数2〜8のアルキレン基であり、Mはアルカリ金属を表し、mは1〜3の整数を表す)
Figure 0006463229
(一般式(3)及び(4)中、R、R、R、及びmは、前記一般式(1)及び(2)について定義したとおりであって、前記一般式(1)及び(2)中のR、R、R、及びmと同一であり、Rは、水素原子、或いは置換されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜12の炭化水素基であり、かつ該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよく、nは1〜450の整数である)
The polymerization initiator represented by the general formula (I) used in the step a) is a polymerization initiator represented by the following general formula (1) and / or (2), and in the step c) The method according to any one of claims 2 to 4, wherein the obtained compound represented by the general formula (III) is a compound represented by the following general formula (3) and / or (4).
Figure 0006463229
(In the general formulas (1) and (2), each R 1 is independently a linear chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic monovalent hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms, Alternatively, R 1 may be bonded to each other to form a 3- to 6-membered ring together with the silicon atoms to which these are bonded, and R 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched structure having 3 to 6 carbon atoms or A cyclic divalent hydrocarbon group, R 3 is a linear divalent hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms, R 5 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, and M is an alkali Represents a metal, m represents an integer of 1 to 3)
Figure 0006463229
(In the general formulas (3) and (4), R 2 , R 3 , R 5 , and m are as defined for the general formulas (1) and (2), and the general formula (1) and (2) is the same as R 2 , R 3 , R 5 and m in (2), and R 4 is a hydrogen atom or an optionally substituted linear, branched or cyclic carbon having 1 to 12 carbon atoms. A hydrocarbon group, and the hydrocarbon group may contain a hetero atom, and n is an integer of 1 to 450)
前記前工程において使用する前記一般式(i)で表される化合物が、下記一般式(6)及び/又は(7)で表される化合物である、請求項5に記載の方法。
Figure 0006463229
(上記一般式(6)及び(7)中、R、R、R、R、及びmは、前記一般式(1)及び(2)について定義したとおりであって、前記一般式(1)及び(2)のR、R、R、R、及びmと同一である)
The method according to claim 5, wherein the compound represented by the general formula (i) used in the previous step is a compound represented by the following general formula (6) and / or (7).
Figure 0006463229
(In the above general formulas (6) and (7), R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , and m are as defined for the general formulas (1) and (2), (Same as R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , and m in (1) and (2))
前記前工程において、一般式(i)で表される化合物から一般式(I)で表される重合開始剤を合成した後の、一般式(I)で表される重合開始剤と一般式(i)で表される化合物との物質量比率が100:0〜80:20となるように、一般式(i)で表される化合物とアルカリ金属又はアルカリ金属化合物とを反応させる、請求項4〜6のいずれか1項に記載の方法。   In the preceding step, after synthesizing the polymerization initiator represented by the general formula (I) from the compound represented by the general formula (i), the polymerization initiator represented by the general formula (I) and the general formula ( The compound represented by the general formula (i) and an alkali metal or an alkali metal compound are reacted so that a substance amount ratio with the compound represented by i) is 100: 0 to 80:20. The method of any one of -6. 前記前工程において、一般式(i)で表される化合物から一般式(I)で表される重合開始剤を合成した後、一般式(i)で表される化合物を減圧留去することにより、一般式(I)で表される重合開始剤と一般式(i)で表される化合物との物質量比率を100:0〜98:2とする、請求項4〜7のいずれか1項に記載の方法。   In the preceding step, by synthesizing the polymerization initiator represented by the general formula (I) from the compound represented by the general formula (i), the compound represented by the general formula (i) is distilled off under reduced pressure. The substance amount ratio between the polymerization initiator represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (i) is set to 100: 0 to 98: 2, 8. The method described in 1. 前記前工程が、前記一般式(i)で表される化合物を合成する工程をさらに含む、請求項4〜8のいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 4 to 8, wherein the previous step further comprises a step of synthesizing the compound represented by the general formula (i). 前記工程a)が、前記前工程において得られた反応生成物を重合溶媒に溶解させることを含む、請求項4〜9のいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 4 to 9, wherein the step a) comprises dissolving the reaction product obtained in the previous step in a polymerization solvent. 前記工程a)において、前記一般式(I)で表される重合開始剤が白濁、又は塩の析出なしに前記重合溶媒に溶解する、請求項2〜10のいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 2 to 10, wherein in the step a), the polymerization initiator represented by the general formula (I) is dissolved in the polymerization solvent without cloudiness or salt precipitation. 前記工程a)において使用する前記重合溶媒が、炭素数4〜10の環状エーテル化合物からなる群より選択される単体溶媒もしくは混合溶媒である、請求項2〜11のいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 2 to 11, wherein the polymerization solvent used in the step a) is a simple solvent or a mixed solvent selected from the group consisting of cyclic ether compounds having 4 to 10 carbon atoms. . 前記一般式(I)〜(III)中、R が下記一般式(VII)で表される、請求項2〜12のいずれか1項に記載の方法。
−(OR − (VII)
(一般式(VII)中、R は前記一般式(II)及び(III)について定義したとおりであって、前記一般式(II)及び(III)中のR と同一であり、pは1〜10の整数である)
The method according to any one of claims 2 to 12, wherein, in the general formulas (I) to (III), R A 3 is represented by the following general formula (VII).
-(OR A 5 ) P- (VII)
(In General Formula (VII), R A 5 is as defined for General Formulas (II) and (III), and is the same as R A 5 in General Formulas (II) and (III); p is an integer of 1 to 10)
前記工程a)の反応が、30〜80℃の反応温度で行われる、請求項2〜13のいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 2 to 13, wherein the reaction in the step a) is carried out at a reaction temperature of 30 to 80C. 前記工程c)で得られた前記一般式(III)で表される化合物を含む反応生成物中の、下記一般式(IV)で表される化合物及び下記一般式(V)で表される化合物のゲル浸透クロマトグラフィーにより測定された面積含有率が3%以下であり、かつ、前記反応生成物中の、下記一般式(VI)で表される化合物のプロトン核磁気共鳴により測定された組成比含有率が2mol%以下である、請求項2〜14のいずれか1項に記載の方法。
Figure 0006463229
(一般式(IV)〜(VI)中、R 、R 、R 、R 、及びnは前記一般式(II)及び(III)について定義したとおりであって、前記一般式(II)及び(III)中のR 、R 、R 、R 、及びnと同一である)
The compound represented by the following general formula (IV) and the compound represented by the following general formula (V) in the reaction product containing the compound represented by the above general formula (III) obtained in the step c) The area ratio measured by gel permeation chromatography was 3% or less, and the composition ratio measured by proton nuclear magnetic resonance of the compound represented by the following general formula (VI) in the reaction product The method according to any one of claims 2 to 14, wherein the content is 2 mol% or less.
Figure 0006463229
(In the general formulas (IV) to (VI), R A 2 , R A 3 , R A 4 , R A 5 , and n are as defined for the general formulas (II) and (III), (It is the same as R A 2 , R A 3 , R A 4 , R A 5 and n in the general formulas (II) and (III))
前記工程c)で得られた前記一般式(III)で表される化合物を含む反応生成物中の重金属不純物含有量が100ppb以下であり、前記重金属不純物がCo、Ni、Pd、Pt、Rh、Ru、Cu、及びCrからなる群から選択される1種以上である、請求項2〜15のいずれか1項に記載の方法。   The heavy metal impurity content in the reaction product containing the compound represented by the general formula (III) obtained in the step c) is 100 ppb or less, and the heavy metal impurity is Co, Ni, Pd, Pt, Rh, The method according to any one of claims 2 to 15, which is at least one selected from the group consisting of Ru, Cu, and Cr. 前記工程c)が、前記一般式(III)で表される化合物を得た後に、前記一般式(III)で表される化合物を含む反応生成物と塩基性化合物とを反応させて塩を生成させ、次いで生成した塩をろ過によって除去することを更に含む、請求項2〜16のいずれか1項に記載の方法。   After the step c) obtains the compound represented by the general formula (III), the reaction product containing the compound represented by the general formula (III) is reacted with a basic compound to form a salt. 17. The method of any one of claims 2-16, further comprising allowing the resulting salt to then be removed by filtration. 前記工程c)が、前記一般式(III)で表される化合物を得た後に、前記一般式(III)で表される化合物を含む反応生成物と塩基性化合物とを反応させて塩を生成させ、次いで生成した塩を吸着材を用いて除去することを更に含む、請求項2〜16のいずれか1項に記載の方法。   After the step c) obtains the compound represented by the general formula (III), the reaction product containing the compound represented by the general formula (III) is reacted with a basic compound to form a salt. 17. The method of any one of claims 2 to 16, further comprising allowing the resulting salt to then be removed using an adsorbent. 前記工程c)で得られた前記一般式(III)で表される化合物を含む反応生成物を強酸性陽イオン交換樹脂と反応させ、前記強酸性陽イオン交換樹脂を水又は炭素数1〜5の一価アルコールを用いて洗浄した後、前記強酸性陽イオン交換樹脂を塩基性化合物と反応させることにより、前記一般式(III)で表される化合物を分離精製する後処理工程をさらに含む、請求項2〜18のいずれか1項に記載の方法。   The reaction product containing the compound represented by the general formula (III) obtained in the step c) is reacted with a strongly acidic cation exchange resin, and the strongly acidic cation exchange resin is reacted with water or a carbon number of 1 to 5. And a post-treatment step of separating and purifying the compound represented by the general formula (III) by reacting the strongly acidic cation exchange resin with a basic compound after washing with a monohydric alcohol. The method according to any one of claims 2 to 18. 前記後処理工程の洗浄において、下記一般式(VIII)で表される化合物が前記強酸性陽イオン交換樹脂から除去される、請求項19に記載の方法。
O(R O) (VIII)
(一般式(VIII)中、R 及びR は前記一般式(II)及び(III)について定義したとおりであって、前記一般式(II)及び(III)のR 及びR と同一であり、pは1〜890の整数である)
The method according to claim 19, wherein the compound represented by the following general formula (VIII) is removed from the strongly acidic cation exchange resin in the washing in the post-treatment step.
R A 4 O (R A 5 O) p R A 4 (VIII)
(In the general formula (VIII), R A 4 and R A 5 are as defined for the general formulas (II) and (III), and R A 4 and R in the general formulas (II) and (III)). is identical to a 5, p is an integer of 1 to 890)
下記一般式(I)で表される、保護アミノ基含有アルコール化合物の金属塩。
Figure 0006463229
(一般式(I)中、R 1a及びR 1bは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はR 1a及びR 1bは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、R は炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、R は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、又は炭素数3〜20の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、ここでR 及びR の炭素数の総数は4以上であり、又は、R がヘテロ原子を含む場合はR 及びR の炭素原子及びヘテロ原子の総数が4以上であり、Mはアルカリ金属を表す)
A metal salt of a protected amino group-containing alcohol compound represented by the following general formula (I).
Figure 0006463229
(In the general formula (I), R A 1a and R A 1b each independently represent an amino group protecting group, or one of them represents a hydrogen atom and the other represents an amino group protecting group, or R A 1a And R A 1b represents a cyclic protecting group which is bonded to each other to form a ring together with the nitrogen atom of the amino group, and R A 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or branched or cyclic having 3 to 6 carbon atoms And R A 3 is a single bond, a straight chain having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a branched or cyclic divalent group having 3 to 20 carbon atoms. Wherein the total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more, or when R A 3 contains a heteroatom, the carbon atoms of R A 2 and R A 3 and The total number of heteroatoms is 4 or more, and M represents an alkali metal)
下記一般式(6)又は(7)で表されるシリル保護アミノ基含有アルコール化合
Figure 0006463229
(一般式(6)及び(7)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の1価の炭化水素基であり、或いはRは互いに結合してこれらが結合するケイ素原子と共に3〜6員環を形成することもでき、Rメチル基、n−プロピル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基から、水素原子が一つ脱離した基、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、Rは炭素数4〜6の直鎖状の2価の炭化水素基であり、Rは炭素数2〜8のアルキレン基であり、mは1〜3の整数を表す)
Following general formula (6) or (7) a silyl-protected amino group-containing alcohol compound represented by the.
Figure 0006463229
(In the general formulas (6) and (7), each R 1 is independently a linear chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic monovalent hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms, Alternatively, R 1 may be bonded to each other to form a 3- to 6-membered ring together with the silicon atom to which these are bonded, and R 2 may be formed from a methyl group, an n-propyl group, an n-pentyl group, or an n-hexyl group, A group in which one atom is eliminated , or a branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms, and R 3 is a linear divalent hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. And R 5 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 3).
下記一般式(1)又は(2)で表されるシリル保護アミノ基含有アルコール化合物の金属塩である、請求項21に記載の保護アミノ基含有アルコール化合物の金属塩。
Figure 0006463229
(一般式(1)及び(2)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の1価の炭化水素基であり、或いはRは互いに結合してこれらが結合するケイ素原子と共に3〜6員環を形成することもでき、Rは炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、Rは炭素数4〜6の直鎖状の2価の炭化水素基であり、Rは炭素数2〜8のアルキレン基であり、Mはアルカリ金属を表し、mは1〜3の整数を表す)
The metal salt of a protected amino group-containing alcohol compound according to claim 21 , which is a metal salt of a silyl-protected amino group-containing alcohol compound represented by the following general formula (1) or (2).
Figure 0006463229
(In the general formulas (1) and (2), each R 1 is independently a linear chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic monovalent hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms, Alternatively, R 1 may be bonded to each other to form a 3- to 6-membered ring together with the silicon atoms to which these are bonded, and R 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched structure having 3 to 6 carbon atoms or A cyclic divalent hydrocarbon group, R 3 is a linear divalent hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms, R 5 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, and M is an alkali Represents a metal, m represents an integer of 1 to 3)
請求項22に記載の一般式(6)又は(7)で表されるシリル保護アミノ基含有アルコール化合物の製造方法であって、下記一般式(8)又は(9)で表されるトリシリル保護化合物を塩基処理する工程を含む、シリル保護アミノ基含有アルコール化合物の製造方法。
Figure 0006463229
(一般式(8)及び(9)中、R、R、R、R、及びmは、前記一般式(6)及び(7)について定義したとおりであって、前記一般式(6)及び(7)のR、R、R、R、及びmと同一である)
A method for producing a silyl-protected amino group-containing alcohol compound represented by the general formula (6) or (7) according to claim 22 , wherein the trisilyl-protected compound is represented by the following general formula (8) or (9) A method for producing a silyl-protected amino group-containing alcohol compound, which comprises a step of treating with a base.
Figure 0006463229
(In the general formulas (8) and (9), R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , and m are as defined for the general formulas (6) and (7)). 6) and (7) are the same as R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , and m)
工程a)及び工程b)を含む、下記一般式(II)で表される末端に保護アミノ基を有するポリアルキレングリコール誘導体の製造方法:
Figure 0006463229
(一般式(I)及び(II)中、
1a及びR 1bは互いに独立にアミノ基の保護基を示すか、一方が水素原子を示し、他方がアミノ基の保護基を示すか、又はR 1a及びR 1bは互いに結合してアミノ基の窒素原子と共に環を形成する環状保護基を示し、
は炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、
は単結合、或いはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の直鎖状、又は炭素数3〜20の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、
ここでR 及びR の炭素数の総数は4以上であり、又は、R がヘテロ原子を含む場合はR 及びR の炭素原子及びヘテロ原子の総数が4以上であり、
は水素原子、或いは置換されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜12の炭化水素基であり、かつ該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよく、
は炭素数2〜8のアルキレン基であり、
Mはアルカリ金属を表し、
nは1〜450の整数である)
工程a)前記一般式(I)で表される重合開始剤とアルキレンオキシドとを重合溶媒中で反応させることにより、下記一般式(I−1)で表される化合物を得る工程
Figure 0006463229
(一般式(I−1)中、R 1a、R 1b、R 、R 、及びR は前記一般式(II)について定義したとおりであって、前記一般式(II)のR 1a、R 1b、R 、R 、及びR と同一であり、Mはアルカリ金属を表し、前記一般式(I)のMと同一であり、rは1〜445の整数を表す);及び
工程b)前記一般式(I−1)で表される化合物と下記一般式(I−2)で表される化合物とを反応させることにより、前記一般式(II)で表される化合物を得る工程
Figure 0006463229
(一般式(I−2)中、R 及びR は前記一般式(II)について定義したとおりであって、前記一般式(II)のR 及びR と同一であり、kは0〜5の整数を表し、Lは脱離基を表す)。
A process for producing a polyalkylene glycol derivative having a protected amino group at the terminal represented by the following general formula (II), comprising the steps a) and b):
Figure 0006463229
(In the general formulas (I) and (II),
R A 1a and R A 1b each independently represent an amino protecting group, one represents a hydrogen atom, the other represents an amino protecting group, or R A 1a and R A 1b are bonded to each other. A cyclic protecting group that forms a ring with the nitrogen atom of the amino group,
R A 2 is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms,
R A 3 is a single bond or a straight chain having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms,
Here, the total number of carbon atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more, or when R A 3 contains a hetero atom, the total number of carbon atoms and hetero atoms of R A 2 and R A 3 is 4 or more. And
R A 4 is a hydrogen atom or an optionally substituted linear, branched or cyclic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrocarbon group may contain a hetero atom,
R A 5 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms,
M represents an alkali metal,
n is an integer of 1 to 450)
Step a) A step of obtaining a compound represented by the following general formula (I-1) by reacting a polymerization initiator represented by the general formula (I) with an alkylene oxide in a polymerization solvent.
Figure 0006463229
(In the general formula (I-1), R A 1a , R A 1b , R A 2 , R A 3 , and R A 5 are as defined for the general formula (II), and the general formula (II ) R A 1a , R A 1b , R A 2 , R A 3 , and R A 5 , M represents an alkali metal, is the same as M in the general formula (I), and r is 1 And step b) by reacting the compound represented by the general formula (I-1) with the compound represented by the following general formula (I-2), Step of obtaining a compound represented by II)
Figure 0006463229
(In General Formula (I-2), R A 4 and R A 5 are as defined for General Formula (II) and are the same as R A 4 and R A 5 in General Formula (II). , K represents an integer of 0 to 5, and L represents a leaving group).
下記一般式(II−1)又は(II−2)で表される、シリル保護アミノ基含有ポリアルキレングリコール化合物誘導体。
Figure 0006463229
(一般式(II−1)及び(II−2)中、Rはそれぞれ独立して炭素数1〜6の直鎖状、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の1価の炭化水素基であり、或いはRは互いに結合してこれらが結合するケイ素原子と共に3〜6員環を形成することもでき、Rメチル基、n−プロピル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基から、水素原子が一つ脱離した基、又は炭素数3〜6の分岐状もしくは環状の2価の炭化水素基であり、Rは炭素数4〜6の直鎖状の2価の炭化水素基であり、Rは、水素原子、或いは置換されていてもよい直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜12の炭化水素基であり、かつ該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよく、Rは炭素数2〜8のアルキレン基であり、mは1〜3の整数を表し、nは1〜450の整数である)
A silyl-protected amino group-containing polyalkylene glycol compound derivative represented by the following general formula (II-1) or (II-2).
Figure 0006463229
(In the general formulas (II-1) and (II-2), each R 1 is independently a linear chain having 1 to 6 carbon atoms, or a branched or cyclic monovalent hydrocarbon having 3 to 6 carbon atoms. R 1 may be bonded to each other to form a 3- to 6-membered ring together with the silicon atoms to which they are bonded, and R 2 may be a methyl group, an n-propyl group, an n-pentyl group, or an n-hexyl group. A group in which one hydrogen atom is removed from the group , or a branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms, and R 3 is a linear divalent hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. A hydrocarbon group, R 4 is a hydrogen atom or an optionally substituted linear, branched or cyclic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrocarbon group is a hetero atom; may also comprise, R 5 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, m represents an integer of 1 to 3, n is 450 of an integer)
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