Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6467490B2 - ヘッドジンバルアセンブリの製造方法 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6467490B2 - ヘッドジンバルアセンブリの製造方法 - Google Patents

ヘッドジンバルアセンブリの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6467490B2
JP6467490B2 JP2017241920A JP2017241920A JP6467490B2 JP 6467490 B2 JP6467490 B2 JP 6467490B2 JP 2017241920 A JP2017241920 A JP 2017241920A JP 2017241920 A JP2017241920 A JP 2017241920A JP 6467490 B2 JP6467490 B2 JP 6467490B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gimbal
dimples
dimple
wear
tongue
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017241920A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018041527A (ja
Inventor
ジョン・ホーガン
ロス・カイラー
エドモンド・ファンスロー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NHK Spring Co Ltd
Original Assignee
NHK Spring Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NHK Spring Co Ltd filed Critical NHK Spring Co Ltd
Publication of JP2018041527A publication Critical patent/JP2018041527A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6467490B2 publication Critical patent/JP6467490B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/48Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
    • G11B5/4806Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives
    • G11B5/4826Mounting, aligning or attachment of the transducer head relative to the arm assembly, e.g. slider holding members, gimbals, adhesive
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/4902Electromagnet, transformer or inductor
    • Y10T29/49021Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]

Landscapes

  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Moving Of The Head To Find And Align With The Track (AREA)

Description

本発明の実施形態は、シングルもしくはデュアルステージアクチュエータのヘッドジンバルアセンブリに関する。より詳細には、本発明は、タングディンプル境界部において、中間層として、ジンバルのディンプルもしくはタングのいずれかにダイヤモンド状炭素の層を備えたタングディンプル境界部に関する。このダイヤモンド状炭素の層からなる中間層は、摩擦および擦過損耗を低減するのに役立つ。
ハードディスクドライブ(HDD)において、磁気記録ヘッドジンバルアセンブリ(HGA)は、記録ヘッドがディスク表面に沿って移動することおよびディスクドライブアセンブリの公差を調整するためにも役立っている。この記録ヘッドのためのヘッドジンバルアセンブリは、データが記憶されたディスクの記録面(プラッタ)上を、ヘッドがトラックからトラックへと移動することを許容する。シリコン製のこの記録ヘッドは、記録ヘッドがディスクの記録面から浮上し、またディスクの記録面から適切な距離(浮上高さ)を保つことを助けるためのエッチングされたエアベアリング面を有する。エアベアリングは、HGAのサスペンション部品に形成されたディンプル上を旋回(ピボット)する。ディスクドライブの連続する動きおよび変動により、ディンプルとタングとが接触するディンプルタング境界部は、常に相対運動を生じている。
このディンプルタング境界部の動きをさらに複雑化する要因として、例えば特許文献1あるいは特許文献2に記載されているようなデュアルステージアクチュエータを備えたヘッドジンバルアセンブリにおいて、第2のアクチュエータの動作が加わることもある。デュアルステージアクチュエータは記録ヘッドの付加的で精細な動作を引き起こす。より繊細なレベルの動きは、通常、PZT等の圧電変換器を備えた第2のアクチュエータにより、記録ヘッドの先端もしくはスライダの動きによってもたらされる。PZT等の圧電変換器の動作は、スライダの動きに変換され、これによってより精細な動き、すなわちディスクの記録面上のトラックを横断する動きが可能になる。このことによりトラック間の間隔を小さくすることが可能となり、ディスクの記録面により多くのデータを記憶することができるようになる。
特開2011−60361号公報 特開2014−22013号公報
ハードディスクドライブのヘッドジンバルアセンブリは、スライダ用ジンバルを含むサスペンションによってディスクの記録面上に保持された磁気記録ヘッドとしてのスライダを具備する。従来のジンバルでは、ロードビームに形成されたディンプルの先端に接する平坦なステンレス鋼の薄板からなるタングが使用されている。スライダのボディは、タングのスライダ取付面に固定され、タングとディンプルとの間の境界部(タングディンプル境界部)において、ディンプルのまわりを回転したり揺動したりする「ジンバル運動」をなすことができる。一般にタングとディンプルとはステンレス鋼で形成されており、これらはハードディスクドライブのサスペンションアセンブリ、ヘッドジンバルアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ディスクドライブアセンブリ等の可動部が動く際に摩耗することがある。ディンプルおよびタングの少なくとも一方が摩耗すると、ディスクドライブにとって有害となり得る摩耗粒子が生成される。摩耗粒子は、擦過もしくは摩擦化学腐食(tribocorrosion)、すなわち摩耗と腐食の複合作用として知られている作用により生成される可能性がある。タングとディンプルとが接触する場合、摩擦化学腐食は、鉄が酸素に晒されることによって生じ、擦過摩耗と共に、典型的には固い、フレーク状の物質である酸化鉄摩耗粒子を生じる。このような摩耗粒子はハードディスクドライブの機能を妨げる原因となる。例えば、摩耗粒子は、記録ヘッドとディスクの記録面との間に入り込んだり、ディスクの記録面を傷付けるおそれがある。ディンプルジンバル境界部もまた、長期にわたって使用されると摩耗する恐れがあり、これによりディンプルジンバル境界部の機能が変化する。極端な場合、摩耗の増加は、記録ヘッドをディスク上に浮上させるエアベアリングの制御に影響を及ぼすことになる。また大量の摩耗粒子は、ハードディスクの機能を低下させる原因になると考えられており、極端な場合にはハードディスクの故障を引き起こすこともある。
従って、本発明の目的は、摩耗粒子の量を最小限にすることなどによって、ハードディスクの機能の低下を防ぎかつ長期にわたる信頼性を確保することを可能にするヘッドジンバルアセンブリ(HGA)の製造方法を提供することである。
本発明の典型的な実施形態によると、シングルもしくはデュアルステージアクチュエータのヘッドジンバルアセンブリは、ロードビームのディンプルがヘッドジンバルアセンブリ上でタングと当接するタングディンプル境界部において、ダイヤモンド状炭素の層(DLC層)が設けられている。このダイヤモンド状炭素の層は、タングディンプル境界部において摩擦や摩耗を軽減するための中間層としての役割を果たし、長期信頼性を保証する手助けとなる。本発明の1つの代表例において、ヘッドジンバルアセンブリは、第1の面と第2の面とを有するタングと、該タングに対してロードビームのディンプルが相対移動可能に対向する前記第2の面と前記ディンプルとの間に形成されるタングディンプル境界部と、このタングディンプル境界部において摩擦および擦過損耗(fretting wear:フレッティング摩耗)を軽減するためにディンプルとタングとの間の少なくとも一方に形成されたダイヤモンド状炭素の薄い層とを具備する。つまり1つの実施形態は、摩擦および擦過損耗を減少するためにタングディンプル境界部にダイヤモンド状炭素の層(dlc層)を備えたヘッドジンバルアセンブリである。ダイヤモンド状炭素の層の厚さは8〜500nmであり、特に10nm付近(8〜12nm)の薄いDLC層の場合に大きな効果を発揮する。
本発明に関連するさらなる態様は、部分的には、この後に説明されており、また部分的には、挙げられた説明から明らかもしくは発明の実施により習得されるものである。本発明の様々な態様は、以下の詳細な説明と添付の特許請求の範囲とによって特に示される、構成要素および各種構成要素とそれぞれの様相との組み合わせによって実現され、また達成され得る。
上に挙げられた説明並びに以下の説明は共にあくまでも例として示したに過ぎず、いずれの方法でも、特許請求の範囲に記載されている発明もしくはこの適用を限定することは一切ないということが理解されるべきである。
本発明の典型的な実施形態のヘッドジンバルアセンブリによれば、タングディンプル境界部における摩耗粒子の量を最小限にすることなどによって、ハードディスクの機能の低下を防ぎかつ長期にわたる信頼性を確保することが可能となる。
ここに盛り込まれ、本明細書の一部を構成する添付の図面は、本発明の実施形態を例示しており、明細書の説明と共に本発明の原理を説明し図示している。特に、図面を以下のように説明する。
本発明の一実施形態に係るシングルステージアクチュエータ構造のタングとロードビームとタングディンプル境界部を含むヘッドジンバルアセンブ(HGA)を上から見た平面図。 図1に示されたヘッドジンバルアセンブリを図1とは反対側から見た底面図であり、ロードビームに形成されたディンプルが示されている。 本発明の他の実施形態に係るデュアルステージアクチュエータ構造のスライダおよび圧電変換器(PZT)を表したヘッドジンバルアセンブリの側面図。 同デュアルステージアクチュエータ構造のタングディンプル境界部が表されたロードビームとヘッドジンバルアセンブリの側面図。 同デュアルステージアクチュエータ構造のヘッドジンバルアセンブリを一方側から見た斜視図。 同デュアルステージアクチュエータ構造のヘッドジンバルアセンブリを他方側から見た斜視図。 同デュアルステージアクチュエータ構造のヘッドジンバルアセンブリにおいてスライダがディンプルのまわりを回転する際に生じる応力の大きさを濃淡で表わした図。 図1に示されたシングルステージアクチュエータ構造のタングを構成する複数の層、特にタングディンプル境界部に設けられたダイヤモンド状炭素の層が示されているヘッドジンバルアセンブリの分解斜視図。 本発明の一実施形態に係る、ヘッドジンバルアセンブリの製造工程の一例を工程順に示すブロック図。 コイニング加工ではないディンプルのための金型を模式的に示す断面図。 コイニング加工されるディンプルのための金型を模式的に示す断面図。 異なる種類のディンプルごとにDLC層の厚みと摩擦係数との関係を示すグラフ。
以下の詳細な説明では添付の図面を参照する。前述の添付の図面は、限定する目的ではなく、例証として本発明の原理と一致する特定の実施形態およびそれらの実施を示している。上述の実施形態およびそれらの実施は、当業者が本発明を実施可能に十分詳細に説明されており、他の形態の実施を利用し得ること、および、発明の要旨と範囲を逸脱しない範囲で構成変更および/または様々な構成要素の置き換えを行うことができることが理解されるべきである。従って、以下の詳細の説明は、限定された意味で解釈されるべきではない。
例えば、デュアルステージマイクロアクチュエータ構造のサスペンション、より具体的には、ヘッドジンバルアセンブリ(HGA)のような遠隔駆動されるロータリ・ヘッド・デュアルステージアクチュエータ構造のサスペンションについて説明する。前記HGAは、ディンプルとタングとが互いに接する両者間の境界部(タングディンプル境界部と称す)においてロードビームのディンプルと相互作用するタングを含む。タングディンプル境界部の摩擦および擦過損耗と摩擦化学腐食との量を減らし、その結果としてハードディスクドライブの劣化や故障の原因となる摩耗粒子の量を減らすために、タングディンプル境界部のタング上に、中間層としてダイヤモンド状炭素の層が設けられている。
ダイヤモンド状炭素(Diamond-Like Carbon、略してDLC)は、概してダイヤモンドと黒鉛の中間に位置してダイヤモンドと黒鉛の性質を合わせもった硬いアモルファス炭素であり、ダイヤモンドに近い高い硬度と熱伝導率および電気絶縁性を有し、かつ、優れた密着性を有するとともに低摩擦性(摩擦係数0.1以下)も有している。
図1は、シングルステージアクチュエータ構造のヘッドジンバルアセンブリ(これ以降、HGAと称す)100の第1の面を上から見た図である。このHGA100は、タングディンプル境界部106においてロードビーム104に形成されたディンプル114(図2参照)と相互作用するタング102を含んでいる。HGA100の外輪108(図1参照)は、スライダ(図3B参照)に設けられた記録ヘッドの先端からHGA100のベース部112の後ろまで延びる複数の導体110を覆っている。
図2は、図1に示されたHGA100を図1とは反対側から見た図であり、HGA100の第2の面の一部が表われている。ロードビーム104はHGA100の下側に配置されている。ロードビーム104にディンプル114が形成されている。ディンプル114はタング102の真下に位置し、図1に示されたタングディンプル境界部106においてタング102と相互作用する。
図3Aは、HGA100の側面図であり、スライダ116と、HGA100の動きに関与する圧電変換器(PZT)118が示されている。図3Bに、HGA100とロードビーム104との間のタングディンプル境界部106が示され、特にタングディンプル境界部106においてタング102とディンプル114とが互いに接触する箇所が示されている。タング102は、第1の面102aと、第2の面102bとを有している。タングディンプル境界部106は、ディンプル114が移動可能に接続されるタング102の第2の面102bとディンプル114との間に形成されている。HGA100はロードビーム104の真下に位置し、HGA100とロードビーム104とは相互作用をなす。
図4Aは、ヘッドジンバルアセンブリ100を一方(上面側)から見た斜視図であり、タング102、外輪108、およびベース部112が示されている。図4Bは、ヘッドジンバルアセンブリ100を他方(下面側)から見た斜視図であり、HGA100に搭載されたスライダ116とPZT118などが示されている。スライダ116と複数の導体110を電気的に接続するために半田(図示せず)が設けられている。
図5は、HGA100が動いているときのHGA100の各部の動きの大きさに対応する応力の度合いを、異なる濃淡で示したHGA100の応力図である。図5中に白抜きの半円で示す矢印Aは、HGA100が動く方向を表している。すなわち矢印Aは、タング102がどのようにタングの中心部分のまわりを回転するかを示している。中心部分に描かれた黒い円120は、タングディンプル境界部106に対応しており、マイクロアクチュエータが動作する間にタング102とディンプル114が受ける動きを表している。
図6は、HGA100とロードビーム104の分解斜視図であり、HGA100の多層構造が示され、かつ、HGA100に対するロードビーム104およびディンプル114の位置も示されている。図6の分解斜視図は、HGA100の構成が理解しやすいように、上下を逆にして描かれている。タング102は、フレキシャとして知られているHGA100の大きな部品の一部である。フレキシャは、例えば、腐食を防止するために金めっきによって覆われた銅製の導体を含んでいる。図6に示された実施形態のHGA100は、ステンレス鋼からなる層122と、例えばポリイミドからなる絶縁層124と、回路形状にエッチングされた銅の回路層126と、ポリイミド製のカバープレート層128を含んでいる。銅の回路層126を腐食から防ぐために、金の層130が回路層126の上に設けられている。
本実施形態では、タングディンプル境界部106において、円形のダイヤモンド状炭素の層132がタング102上に中間層として配置されている。本実施形態の円形のダイヤモンド状炭素の層132は、銅の回路層126に形成された延出部200に設けられ、ステンレス鋼の層122に形成された孔201と、ポリイミド製の絶縁層124に形成された孔202とに収容され、タング102の略中央に配置されている。他の実施形態として、「島部」のダイヤモンド状炭素の層132がステンレス鋼の層122の上に形成されても良い。
ステンレス鋼の層122の厚さは、例えば10〜25μm(マイクロメートル)程度であり、一般的には約18μmである。ポリイミド製の絶縁層124の厚さの一例は約10μmである。銅の回路層126の厚さは例えば5〜12μm程度である。ポリイミド製のカバープレート層128の厚さは約4μmである。
ダイヤモンド状炭素の層132の厚さは8〜500nm(ナノメートル)であり、好ましくは10nmである。米国出願番号61/787,388に記載されているように、炭素膜で被覆されたジンバルは、炭素膜の無いジンバルと比較して、より低い摩擦係数と、改善された摩耗特性とを有することが見出されている。しかし本発明者達が鋭意研究したところによれば、ステンレス製のジンバル上のタングディンプル境界部の中間層として、厚さが10nm前後(8−12nm)のダイヤモンド状炭素の層132を設けた場合にタングディンプル境界部の摩擦係数が最も低くなり、また、ダイヤモンド状炭素の層の厚みがより大きい他のタイプのジンバルと比較して、生じる摩耗の傷が小さいということが判明した。
タングディンプル境界部において、中間層としてのダイヤモンド状炭素の層を有するヘッドジンバルアセンブリを製造する方法が図7のブロック図に示されている。最初のステップS102において、ステンレス鋼(SST)と、ポリイミド(PI)と、銅(Cu)との3種類の材料を重ねることにより3層の積層構造を得る。次いで、ステップS104において、SSTの層122と銅の回路層126をエッチングするために、レジストが塗布される。ステップS106において銅エッチングが行われ、ステップS108においてレジストが除去される。ステップS110において化学的なポリイミドエッチングのためのレジストが塗布され、ポリイミドのエッチングが行なわれた後、ステップS112においてレジストが除去される。ステップS114において、当業者にとって公知のスパッタリングによるコーティング機を使用してダイヤモンド状炭素の層132が設けられる。
一実施形態において、ダイヤモンド状炭素の層を設ける前に、ニッケルのサブプレートがステンレス鋼の層122に適用されてもよい。最終的に、ステップS116において、ポリイミドからなるカバープレート層128が形成される。この代表的な方法によれば、ステップS106で銅エッチングを行っている間に生成されたタングディンプル境界部において、ダイヤモンド状炭素の層132の下に直径略0.5ミリメートルの銅パッドが形成される。
上述の実施形態において、ダイヤモンド状炭素の層132は、当業者にはよく知られた慣例的なスパッタリング法を利用してタング102に形成される。このダイヤモンド状炭素の層132は、製造面から最も容易な方法を採用してタング102の全領域に設けることもできるし、マスクを使用してタング102の一部すなわちタングディンプル境界部106のみに設けることもできる。
代替の実施形態では、タング102ではなくディンプル114に、前記と同様のスパッタリング法を利用してダイヤモンド状炭素の層132を形成してもよい。タングディンプル境界部106に設けられたダイヤモンド状炭素の層132を利用することにより、擦過損耗および摩擦化学腐食が防止される。もしもダイヤモンド状炭素の層が設けられていないとすると、硬いフレーク状の酸化鉄摩耗粒子が生じ、ディスクドライブ汚染を引き起こすことになる。
既に述べたように、摩擦係数および擦過損耗評価に関連して実験が行われた。擦過損耗(fretting wear:フレッティング摩耗)についてディンプルジンバル境界部を検査するための実験用設備では、圧電アクチュエータに接続されたリニア形スライダの上にジンバルが配置された。そして圧電アクチュエータに電圧が印加されることにより、ディンプルに対してジンバルを水平運動させた。約20ミリニュートンの予荷重がジンバルに加えられた。摩擦力を計測するために、サスペンションにフューテック社製ロードセルが取り付けられた。また1-Dポリテックレーザドップラー振動計(LDV)がジンバルの速度と変位とを計測するために使用された。さらに、ディンプルの変位と同じと見なされるサスペンションの変位を計測するために、ポリテックファイバーLDVが使用された。これら二つのLDVによる計測値の差に基いて、ディンプルとジンバルとの相対的変位を判断することができる。データ収集ボードとナショナルインスツルメンツ社のLabVIEWソフトウェアとにより、データがリアルタイムで収集され分析された。
金属材料の塑性加工の分野で知られているコイニング加工(圧印加工)は、凹凸のついた一対の金型間に材料(例えば金属の板)を強く圧縮し、金型の凹凸を材料に転写するプレス加工法の一種である。
以下3つの異なるデザインのディンプル、すなわち、(i)コイニング加工されていないディンプル、(ii)コイニング加工されたディンプル、(iii)レーザ磨きされたディンプル、について試験が行なわれた。図8Aと図8Bとは、それぞれ、コイニング加工されないディンプルのための金型250,251と、コイニング加工されるディンプルのための金型252,253とを示している。図8Aに示すように、コイニング加工されないディンプルを製造するには、金型250上に配置された被加工物(ワークピース)Wが、金型251(パンチ)により金型250の空隙に押し込まれることにより、ディンプルが形成される。これに対し、コイニング加工されるディンプルを製造する際には、図8Bに示すようにコイニング加工のための金型252,253が使用される。また、ディンプルの表面粗さを低減するために、コイニング加工後にレーザを使用することにより、レーザ磨きが行なわれる。これにより、レーザ磨きされたディンプル(Laser-polished dimple)が製造される。レーザ磨きは、材料表面にレーザ光を照射することによって生じる再溶融により、高光沢磨き仕上げをする加工である。レーザ磨きされたディンプルの典型的な粗さのデータの要約は米国出願番号61/787,388に記載されている。
試験を行った全てのジンバルはステンレス鋼(SST)で作られた。以下の表1に示すように、それぞれ厚さが10、50、150、500nmのダイヤモンド状炭素の層(DLC層)がジンバルA、B、C、Dに設けられた。さらに、DLC層を有しないステンレス製ジンバルが、潤滑剤(ペルフッ素化ポリエーテル)がある状態とない状態とで調査された。
Figure 0006467490
[実験手順]
各実験では、52,000回の往復擦過損耗サイクルが行われた。各試験に必要な時間を削減するために、総サイクル数は3つの部分に分割された。第1の部分では、2Hzの低周波で6,500サイクルが行われた。第2の部分では、20Hzで42,300サイクルが行われ、第3の部分では、2Hzで3,200サイクルが行われ、全体で合計52,000サイクルが行われた。2ボルトの振幅の三角波が、圧電アクチュエータへの入力信号として使用された。この結果、10マイクロメートルの水平変位(ストローク)が生じた。20mNの予荷重が全ての試験で使用された。試験の詳細については米国出願番号61/787,388を参照できるが、以下に試験の概要を説明する。
[コイニング加工されていないディンプルを有するジンバルへの摩擦試験]
10nmの最も薄いDLC層が設けられたコイニング加工されていないディンプルを有するジンバルAの摩擦係数は、ジンバルBもしくはジンバルCの摩擦係数よりも低いことが分かった。ジンバルDの摩擦係数はジンバルBおよびジンバルCの摩擦係数よりは低いがジンバルAの摩擦係数よりは高い。DLC層を有さずかつ潤滑剤が塗布されてないステンレス製ジンバルの摩擦係数が最も高い。潤滑剤が塗布されたSSTジンバルの摩擦係数は、ジンバルAの摩擦係数と潤滑剤が塗布されてないジンバルの摩擦係数との間の範囲にある。かくして、コイニング加工されていないディンプルを有するジンバルA(DLC層の厚さ10nm)が、全ての試験されたジンバルのうち最も摩擦係数が低かった。
[コイニング加工されていないディンプルの摩耗傷試験]
コイニング加工されていないディンプルに関し、ジンバルA、ジンバルB、ジンバルC、およびジンバルDに52,000回の擦過損耗サイクルを実施した後に、摩耗傷を調べる試験が行われた。さらに、潤滑剤が塗布されてないステンレス鋼(SST)ジンバルと、潤滑剤が塗布されたSSTジンバルに対しても、ディンプルの摩耗傷の試験が行われた。これらの試験により、コイニング加工されていないディンプルがジンバルA(最も薄いDLC層を有するジンバル)に接する場合の摩耗傷は、ジンバルBおよびジンバルCに接する場合の摩耗傷よりも小さいことが判明した。また、コイニング加工されていないディンプルがジンバルDに接する場合の摩耗傷は、ジンバルAと同程度であった。潤滑剤が塗布されていないSSTディンプルでは摩耗傷が最も大きく、最も摩耗傷が小さかったのは潤滑剤が塗布されたSSTジンバルであった。
[コイニング加工されたディンプルを有するジンバルへの摩擦試験]
ジンバルA(DLC層の厚さ10nm)と、ジンバルB(DLC層の厚さ50nm)と、ジンバルC(DLC層の厚さ250nm)と、ジンバルD(DLC層の厚さ500nm)と、潤滑剤が塗布されたステンレス製ジンバルと、潤滑剤が塗布されていないステンレス製ジンバルとのそれぞれに対し、コイニング加工されたディンプルが接する場合の摩耗サイクルに関連する摩擦係数試験が行われた。この試験により、最も薄いDLC層が設けられたジンバルAの摩擦係数は、ジンバルBもしくはジンバルCの摩擦係数よりも低いことが分かった。ジンバルDの摩擦係数はジンバルBおよびジンバルCの摩擦係数より低いが、ジンバルAの摩擦係数よりは高かった。潤滑剤が塗布されてないステンレス製ジンバルの摩擦係数が最も高く、潤滑剤が塗布されたSSTジンバルの摩擦係数は他の試験結果の値の範囲内にある。この作用は、コイニング加工されていないディンプルで観察された作用と非常に類似していることが分かった。
[コイニング加工されたディンプルの摩耗傷試験]
ジンバルA、ジンバルB、ジンバルC、およびジンバルDに対する52,000回の擦過損耗サイクル後に、コイニング加工されたディンプルに関して摩耗傷の試験が行われた。さらに、典型的な非潤滑のステンレス鋼(SST)のジンバルと、潤滑されたSSTジンバルに対する摩耗傷の試験が行われた。この試験により、最も薄いDLC層を有するジンバルAに対するコイニング加工されたディンプルの摩耗傷は、先の場合と同様に、ジンバルBおよびジンバルCの摩耗傷より小さいことが判明した。コイニング加工されたディンプルに対するジンバルDの摩耗傷は、ジンバルAのそれと同様であった。潤滑剤が塗布されていないSSTディンプルでは摩耗傷が最も大きく、最も摩耗傷が小さかったのは潤滑剤が塗布されたSSTジンバルであった。様々なタイプのジンバルに対するコイニング加工されたディンプルの摩耗傷の傾向は、コイニング加工されていないディンプルで観察された傾向と同様である。
[レーザ磨きされたディンプルと異なるジンバルのタイプの摩擦係数]
ジンバルA(DLC層の厚さ10nm)、ジンバルB(DLC層の厚さ50nm)、ジンバルC(DLC層の厚さ250nm)、およびジンバルD(DLC層の厚さ500nm)に対する摩耗サイクルとの関連で、レーザ磨きされたディンプルに関しても摩擦係数試験が行われた。さらに、潤滑剤が塗布されたステンレス製ジンバルと、潤滑剤が塗布されていないステンレス製ジンバルのそれぞれに対しても摩擦係数試験が行われた。コイニング加工されたディンプルとコイニング加工されていないディンプルとの試験結果から判明したのと同様に、この試験により、10nmの最も薄いDLC層を有するジンバルAの摩擦係数は、50nmもしくは150nmの厚さのDLC層を有するジンバルBおよびジンバルCの摩擦係数よりも低いことが明らかとなった。ジンバルDの摩擦係数はジンバルBおよびジンバルCの摩擦係数よりは低いが、ジンバルAの摩擦係数よりは高い。潤滑剤が塗布されてないステンレス製ジンバルの摩擦係数が最も高く、潤滑剤が塗布されたSSTジンバルの摩擦係数は、ジンバルCの摩擦係数とジンバルDの摩擦係数との間の範囲にある。この作用は、コイニング加工されていないディンプルおよびコイニング加工されたディンプルで観察された作用と非常に類似している。
[異なるジンバルタイプの52,000回の擦過損耗サイクル後の典型的なレーザ磨きされたディンプルの摩耗傷]
異なるジンバルタイプに対する典型的なレーザ磨きされたディンプルへの摩耗傷の試験もまた行われた。コイニング加工されたディンプルおよびコイニング加工されていないディンプルの試験と同様に、ここで行われた試験により、レーザ磨きされたディンプルに対して摩耗傷が最も小さかったのは、ジンバルAと、潤滑剤が塗布されたステンレス鋼(SST)のジンバルであることが判った。ジンバルCとジンバルDとに対するレーザ磨きされたディンプルの摩耗傷は、ジンバルAもしくは潤滑剤が塗られたSSTジンバルの摩耗傷より大きかった。レーザ磨きされたディンプルに対して潤滑剤が塗布されていないステンレス鋼のジンバルの摩耗傷は、他の全ての摩耗傷よりも大きかった。
図9は、ダイヤモンド状炭素の層(DLC層)の厚みと平均摩擦係数との関係をグラフ化したものである。図9において、コイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルとは、DLC層の厚みとの関連でグラフ上にプロットされている。図9に示されるように、摩擦係数はDLC層の厚みがゼロから増えるに従って一旦増加して最高値に達し、そののちDLC層が500nmまで増加するに従って減少している。明らかに、最も薄いDLC層を有するジンバルが、使用されたディンプルのタイプにかかわらず、最も低い摩擦係数を示している。
DLC層の厚みに応じた摩耗傷に関しても同様の反応が見られた。すなわち、厚み10nmのDLC層では摩耗傷が最小であり、DLC層の厚みが増えるに従い摩耗傷は一旦増えるが、500nmという厚みの値まで増加するに従い摩耗傷は減少する。
上述の試験に基づき、最も薄いDLC層を有するジンバル(ジンバルA)が減摩性能において最も優れているといえる。この結果は意外であり、いくぶん直観に反したものである。というのも、大方のひとはDLC層の厚みが増えるに従いタングディンプル境界部の摩擦と摩耗特性とは着実に改善するであろうと予想すると思われるからである。この結果は、DLC層の厚み増加を伴う炭素堆積プロセスでの変動に関連しているかもしれない。しかしその他の点では、厚さ50、150、250、および500nmのDLC層の試験結果は驚くべきものであり、いくぶん予想外である。
検査された3つのディンプルのタイプ全てにおいてDLC層の厚みを一定に保ちつつ、ディンプルジンバル境界部の摩擦および摩耗特性についても調査された。
ジンバルA、すなわち、厚さが10nmのダイヤモンド状炭素の層(DLC層)が設けられたジンバルに対する擦過損耗サイクルとの関連で、コイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルのそれぞれの摩擦係数を調べるために試験が行われた。この試験は、最初の6,500サイクルでは、コイニング加工されたディンプルが最も摩擦係数が低く、次いでコイニング加工されていないディンプル、レーザ磨きされたディンプルの順番になったことを示した。しかしながら、3つのディンプルのタイプの差は小さかった。コイニング加工されていないディンプルとコイニング加工されたディンプルとは、レーザ磨きされたディンプルより低い値を有することが観察された。しかしながら、それぞれの差は小さかった。摩耗傷試験もまた行われ、この試験は、コイニング加工されたディンプルとレーザ磨きされたディンプルとの摩耗傷は、コイニング加工されていないディンプルに比べ小さかったことを示した。コイニング加工されたディンプルとレーザ磨きされたディンプルとの摩耗傷は同等のサイズであった。
同様の摩擦係数試験は、ジンバルB(DLC層の厚さ50nm)に対する52,000サイクルの間、コイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルとに対して行われた。ここでの試験は、コイニング加工されていないディンプルの最初の6,500サイクルでの摩擦係数は、コイニング加工されたディンプルもしくはレーザ磨きされたディンプルの摩擦係数よりも低いことを示した。しかしながら、実験の最後の3,200サイクルの間は、コイニング加工されていないディンプルの摩擦係数は、レーザ磨きされたディンプルおよびコイニング加工されたディンプルの摩擦係数よりも高かった。コイニング加工されたディンプルは、最終的な3,200サイクルにおいて、最も低い摩擦係数を示した。ジンバルBの擦過損耗を示すために、コイニング加工されていないディンプル、コイニング加工されたディンプル、およびレーザ磨きされたディンプルに対する摩耗傷の試験もまた行われた。ジンバルB(DLC層の厚さ50nm)で3つのディンプルのタイプを試験したところ、3つのディンプルのタイプ全てにおいて、52,000サイクル後に大きな摩耗傷が生じることが示された。この試験結果は、ジンバルBの摩擦および摩耗性能はジンバルAのそれと比べて良くはない、という先の結論と一致している。
ジンバルC(DLC層の厚さ150nm)を使って、コイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルとに対する摩擦係数試験が行われた。この試験においては、コイニング加工されたディンプルが最も低い摩擦係数の値を示し、次いでレーザ磨きされたディンプル、コイニング加工されていないディンプルの順番になったことを示した。しかしながら、それぞれの差は小さかった。コイニング加工されたディンプルがやはり一番低い摩擦係数を有することがわかった。レーザ磨きされたディンプルとコイニング加工されていないディンプルとは、コイニング加工されたディンプルよりも高い摩擦係数を有する。ジンバルC(DLC層の厚さ150nm)に対するコイニング加工されていないディンプル、コイニング加工されたディンプル、およびレーザ磨きされたディンプルの摩耗傷の試験もまた行われた。ここでの試験は、52,000回の擦過損耗サイクル後、コイニング加工されたディンプルとレーザ磨きされたディンプルの摩耗傷は、コイニング加工されていないディンプルの摩耗傷に比べて小さかったことを示した。コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルは摩耗が少なく、従って、コイニング加工されていないディンプルと比較して摩耗粒子の発生が少ない。
ジンバルD(DLC層の厚さ500nm)を使って、コイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルとに対する摩擦係数試験が行われた。その結果は最初の6,500サイクルと、最後の3,200サイクルとから得られた。3つのディンプル全てを観察したところ、これらは非常に類似した摩擦係数の値を示した。この傾向は、最後の3,200サイクルでも変化しなかった。かくして、3つの異なるディンプルのタイプの減摩性能は、ジンバルDでは非常に類似していることが判明した。また、ジンバルD(DLC層の厚さ500nm)に対し、コイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルとの摩耗傷の試験も行われた。擦過運動を52,000サイクル行った後、コイニング加工されたディンプルが、他の2つのディンプルと比較して最も小さい摩耗傷を有することが観察された。また、コイニング加工されていないディンプルの摩耗傷がコイニング加工されたディンプルの摩耗傷より大きいことが判明した。一方、レーザ磨きされたディンプルは、コイニング加工されたディンプル上の摩耗傷よりも大きく濃い摩耗傷を呈した。
潤滑剤が塗布されていないステンレス鋼(SST)ジンバルの擦過損耗サイクルに対するコイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルとの摩擦係数の試験もまた行われた。この試験は、3つのディンプルのデザイン全ての摩擦係数値はほぼ同じである、ということを示した。他のジンバルのタイプの結果と比較したところ、摩擦係数の値は非常に高かった。そして、この高い摩擦係数の値は、擦過損耗実験の全体を通して維持された。また、潤滑剤が塗布されていないステンレス製ジンバルに対し52,000回の擦過損耗サイクルが行われた後、コイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルとの摩耗傷の試験が行われた。3つのタイプのディンプルへの摩耗傷は、同じような大きさであることが分かった。しかしながら、試験された他のタイプのジンバルのディンプルと比較すると、生じた摩耗傷はずっと大きく、DLC層を有するジンバルは、DLC層を有しないジンバルよりも摩耗傷が小さいことが明らかであった。ここでの試験は、擦過損耗の52,000サイクルの間、DLC層のコーティングを有するジンバルはコーティングを有しないジンバルよりも摩耗が少なく、摩耗粒子の生成が少ない、ということを明らかにしている。
潤滑剤が塗布されたステンレス鋼(SST)ジンバルに対するコイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルとの摩擦係数の試験も行われた。この試験により、3つのタイプのディンプルの摩擦係数は、最初の6,500サイクルの間ほぼ同じである、ということが示された。この試験は、潤滑剤が塗布されたジンバルに関して、異なるディンプルのデザインの摩擦係数もまたほぼ同じであったことを示した。また、潤滑剤が塗布されたステンレス製ジンバルに関して調査された3つのディンプルのデザインと関連して摩耗傷の試験が行われた。試験は、摩耗傷の大きさは全て同じぐらいであるということを示した。しかし潤滑剤が塗布されていないジンバルでの摩耗傷と比較すると、ここで生じた摩耗傷の大きさはずっと小さく、このことは、潤滑剤を使用するとディンプルジンバル境界部の減摩性能が改善されることを示している。
コイニング加工されていないディンプルと、コイニング加工されたディンプルと、レーザ磨きされたディンプルとを比較すると、この試験は、コイニング加工されたディンプルは、コイニング加工されていないディンプルおよびレーザ磨きされたディンプルよりも低い摩擦係数と小さい摩耗傷とを有していることを示した。さらに、ジンバルA(DLC層の厚さ10nm)およびジンバルD(DLCの厚さ500nm)の摩擦係数は、試験された他のジンバルのタイプの摩擦係数よりも小さかった。
DLC層を有するディンプルジンバル境界部の摩擦および摩耗特性に対する潤滑剤の影響を調べるために、コイニング加工されていないディンプルに対してジンバルAとジンバルBとが試験された。
両タイプのジンバルに関して、二つの試験が行われた。第1の試験は潤滑剤を用いない擦過損耗試験であり、第2の試験は潤滑剤を用いた擦過損耗試験である。
この試験は、潤滑剤が塗布されていないジンバルAと、潤滑剤が塗布されたジンバルAとの双方の摩擦係数は、最初の6,500サイクルの間はほぼ同じであることを示した。最後の3,200サイクルの間、潤滑剤が塗布されていないジンバルAは、潤滑剤が塗布されたジンバルAよりも若干低い摩擦係数を示した。しかしながら、この試験はまた、潤滑剤が塗布されたジンバルAの摩耗傷は、潤滑剤が塗布されていないジンバルAの摩耗傷よりもずっと小さいことも示した。このことは、明らかにディンプルジンバル境界部の減摩性能を説明するうえで、摩擦係数は一つのパラメータに過ぎないということを示している。すなわち、ディンプルジンバル境界部を検討する上で、摩耗は摩擦と同じかそれより重要な要素である。
擦過損耗の試験はまた、潤滑剤が塗布されていないジンバルBの摩擦係数は、潤滑剤が塗布されたジンバルBの摩擦係数よりも高いことを示した。潤滑剤が塗布されたジンバルBについて言えば、コイニング加工されていないディンプルの摩耗傷は、潤滑剤が塗布されていないジンバルBでの摩耗傷よりもずっと小さいということが判明した。明らかに、ディンプルジンバル境界部を潤滑にすることは、ディンプルジンバル境界部の摩擦および摩耗特性を改善するのに効果的となり得る。
ディンプルジンバル境界部での摩擦係数は、重要なパラメータであるので、平均摩擦係数は52,000回の擦過損耗サイクル(fretting wear cycles)の後に計算され、そしてこの値は試験されたそれぞれの異なるケースと比較された。表2Aと表2Bにおいて、平均摩擦係数および平均摩擦係数の標準偏差の値がまとめられている。
Figure 0006467490
Figure 0006467490
表2A,表2Bより、ジンバルA(DLC層の厚さ10nm)で用いられるコイニング加工されたディンプルが0.09という最も低い平均摩擦係数を示し、次いでジンバルAで用いられるコイニング加工されていないディンプルが0.11という摩擦係数を示す、ということがわかる。またジンバルD(DLC層の厚さ500nm)で用いられるレーザ磨きされたディンプルと、ジンバルDで用いられるコイニング加工されていないディンプルとが、計測された摩擦係数の2つの最も小さい標準偏差を示している。ジンバルA(DLC層の厚さ10nm)で用いられるコイニング加工されたディンプルが、全ての摩擦係数のうち3番目に小さい標準偏差を示している。ジンバルD(DLC層の厚さ500nm)で用いられるレーザ磨きされたディンプルと、ジンバルDで用いられるコイニング加工されていないディンプルとの平均摩擦係数は、ジンバルAで用いられるコイニング加工されたディンプルよりも高い。従って、表2A,表2Bは、ジンバルAで用いられるコイニング加工されたディンプルが、調査されたディンプルとジンバルの全組み合わせのうち最良の摩擦性能を有する、ということを示している。
上述の試験は、厚さ10nmのDLC層を有するジンバルAが、最も少ない量の摩耗傷を示した、ということを示唆している。しかしながら追加試験においては、ジンバルD、すなわち厚さ500nmのDLC層を有するジンバルが、最も少ない量の摩耗粒子を生じた、ということが示された。摩耗粒子の量はジンバルの硬さによって決まるようであり、最も軟らかいジンバルが最も少ない量の摩耗粒子を生じた。試験は、DLC層が厚ければ厚いほど、ジンバルは軟らかくなり摩耗粒子の量は減少する。硬度試験は、試験したジンバルのうち最も厚いDLC層を有するジンバルDが最も軟らかかったことを示した。また、次に軟らかいのが厚さ150nmのDLC層を有するジンバルCであり、次が厚さ50nmのDLC層を有するジンバルBであり、厚さ10nmのDLC層を有するジンバルAが試験されたジンバルのうち最も硬かった、ということが判明した。なお、摩擦係数と優れた摩耗特性とに関し、厚さ8nm〜12nmのDLC層を有するジンバルは、厚さ10nmのDLC層を有するジンバルと同等の性能を有していた。
これらの実験結果と、実施された試験とから、以下のような結論が得られた。
1)DLC層を有するジンバルは、DLC層を有さないジンバルよりも低い摩擦係数とより優れた摩耗特性とを示すことが判明した。
2)ステンレス製ジンバル上に厚さ10nmのDLC層を設けると摩擦係数が最も低くなるということが判明した。
3)いくつかの試験は、厚さ10nmのDLC層を有するジンバルについてはDLC層の厚さが10nmより大きいジンバルのタイプよりも摩耗傷が小さいということを示したが、他の試験は、厚さ500nmのDLC層を有するジンバルが最も少ない量の摩耗粒子を呈することを示した。
4)ダイヤモンド状炭素の層が設けられたジンバルA(DLC層の厚さ10nm)と、コイニング加工されたディンプルとが、摩擦および摩耗に関して最適なディンプルとジンバルの材料組み合わせであるということが判明した。
5)ジンバルAとジンバルBの双方にとって、潤滑剤の利用は摩耗傷および摩耗粒子の生成を減少させることが判明した。
6)少なくとも摩擦特性については、10nmを超えるDLC層の厚みの増加とともに改善されないことは意外な結果であり、一般的な直観の考えとは相入れないものである。
100…ヘッドジンバルアセンブリ(HGA)、102…タング、102a…第1の面、102b…第2の面、104…ロードビーム、106…タングディンプル境界部、114…ディンプル、132…ダイヤモンド状炭素の層(DLC層)。

Claims (4)

  1. 第1の面と第2の面とを有するタングを形成すること、
    ロードビームにディンプルを設け、該ディンプルが移動可能に接続される前記タングの第2の面と前記ディンプルとの間にタングディンプル境界部を形成すること、
    凹凸を有する一対の金型間で前記ディンプルを圧縮し、前記金型の前記凹凸を前記ディンプルに転写することにより前記ディンプルをコイニング加工すること、
    前記タングディンプル境界部における前記タングと前記ディンプルの少なくとも一方に厚さが8〜12nmのダイヤモンド状炭素の層を形成すること、
    を具備したことを特徴とするヘッドジンバルアセンブリの製造方法。
  2. 前記ダイヤモンド状炭素の層は、前記タングディンプル境界部において前記タングの少なくとも一部に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のヘッドジンバルアセンブリの製造方法。
  3. 前記ダイヤモンド状炭素の層は、マスクを使用してスパッタリングにより前記タングディンプル境界部において前記タングの一部のみに形成されることを特徴とする請求項に記載のヘッドジンバルアセンブリの製造方法。
  4. 前記ダイヤモンド状炭素の層を前記ディンプルに形成することを特徴とする請求項1に記載のヘッドジンバルアセンブリの製造方法。
JP2017241920A 2013-03-15 2017-12-18 ヘッドジンバルアセンブリの製造方法 Active JP6467490B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361787388P 2013-03-15 2013-03-15
US61/787,388 2013-03-15
US14/185,464 2014-02-20
US14/185,464 US20140268427A1 (en) 2013-03-15 2014-02-20 Head gimbal assembly with diamond-like coating (dlc) at tongue/dimple interface to reduce friction and fretting wear

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014052218A Division JP2014182869A (ja) 2013-03-15 2014-03-14 ヘッドジンバルアセンブリ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018041527A JP2018041527A (ja) 2018-03-15
JP6467490B2 true JP6467490B2 (ja) 2019-02-13

Family

ID=51526077

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014052218A Pending JP2014182869A (ja) 2013-03-15 2014-03-14 ヘッドジンバルアセンブリ
JP2017241920A Active JP6467490B2 (ja) 2013-03-15 2017-12-18 ヘッドジンバルアセンブリの製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014052218A Pending JP2014182869A (ja) 2013-03-15 2014-03-14 ヘッドジンバルアセンブリ

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20140268427A1 (ja)
JP (2) JP2014182869A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6173983B2 (ja) * 2014-08-06 2017-08-02 株式会社東芝 サスペンションアッセンブリ、ヘッドサスペンションアッセンブリ、およびこれを備えたディスク装置
US9236070B1 (en) * 2014-08-18 2016-01-12 Nitto Denko Corporation Dual opposing cantilever pads of suspension flexure
JP7516116B2 (ja) 2020-06-03 2024-07-16 日本発條株式会社 ロードビームを有するディスク装置用サスペンション
JP7757214B2 (ja) 2022-03-10 2025-10-21 日本発條株式会社 ディスク装置用サスペンション

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5490027A (en) * 1991-10-28 1996-02-06 Censtor Corp. Gimbaled micro-head/flexure/conductor assembly and system
JPH05225735A (ja) * 1992-02-13 1993-09-03 Hitachi Ltd 磁気ヘッド支持機構
JPH08153379A (ja) * 1994-09-30 1996-06-11 Sony Corp 浮上型磁気ヘッド装置及びその製造方法
JPH10326406A (ja) * 1997-03-28 1998-12-08 Citizen Watch Co Ltd 磁気ヘッドスライダおよびその製造方法
JP2001084723A (ja) * 1998-11-13 2001-03-30 Tdk Corp 記録/再生ヘッド支持機構および記録/再生装置
US6441999B1 (en) * 1999-08-27 2002-08-27 Seagate Technology Llc Wear durability using high wear-resistant slip pads
US6376964B1 (en) * 2001-05-16 2002-04-23 Read-Rite Corporation Collocated rotating flexure microactuator for dual-stage servo in disk drives
JP2003123206A (ja) * 2001-10-03 2003-04-25 Tdk Corp 磁気ヘッド及びその製造方法、並びにヘッドサスペンションアセンブリ
US6621022B1 (en) * 2002-08-29 2003-09-16 Intel Corporation Reliable opposing contact structure
US7304824B2 (en) * 2002-09-10 2007-12-04 Intri-Plex Technologies, Inc. Plated base plate for suspension assembly in disk drive
JP4044885B2 (ja) * 2003-09-09 2008-02-06 Tdk株式会社 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
JP3878935B2 (ja) * 2003-10-29 2007-02-07 Tdk株式会社 磁気ヘッドにおけるスライダ搭載位置測定方法、測定装置及び当該装置を用いた磁気ヘッドの製造装置
US7652847B2 (en) * 2003-12-12 2010-01-26 Seagate Technology Llc Minimized skew angle slider
JP2005353188A (ja) * 2004-06-11 2005-12-22 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ディスク装置
JP4170323B2 (ja) * 2005-07-20 2008-10-22 富士通株式会社 ヘッドスライダ用サスペンション
US20080074794A1 (en) * 2006-09-22 2008-03-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Method and apparatus for pitch angle actuation of slider based upon pressure and humidity conditions in a contact start-stop CSS
US7688552B2 (en) * 2006-08-09 2010-03-30 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Head gimbal assembly having dimple-shaft limiter and manufacturing method thereof and disk drive unit with the same
JP4954013B2 (ja) * 2007-10-11 2012-06-13 日本発條株式会社 ヘッドサスペンション、ロードビーム、及びロードビームの製造方法
US20090195919A1 (en) * 2008-02-01 2009-08-06 Sae Magnetics (H.K.) Ltd. Method of fabricating a suspension
US8085508B2 (en) * 2008-03-28 2011-12-27 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. System, method and apparatus for flexure-integrated microactuator
JP5360129B2 (ja) * 2011-05-11 2013-12-04 Tdk株式会社 ヘッド支持機構
US9786307B2 (en) * 2012-04-04 2017-10-10 Nhk Spring Co., Ltd Gimbal assembly with a gold tongue/dimple interface and methods of making the same

Also Published As

Publication number Publication date
US20140268427A1 (en) 2014-09-18
JP2018041527A (ja) 2018-03-15
JP2014182869A (ja) 2014-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6467490B2 (ja) ヘッドジンバルアセンブリの製造方法
US8570688B1 (en) Electrical connections to a microactuator in a hard disk drive suspension
US7342750B2 (en) Method for providing electrical crossover in a laminated structure
US9786307B2 (en) Gimbal assembly with a gold tongue/dimple interface and methods of making the same
US6927942B2 (en) Magnetic head slider and magnetic head slider assembly having a leading slope angle smaller than a trailing slope angle
US8142638B2 (en) Method for making a base plate for suspension assembly in hard disk drive
CN103797660B (zh) 一种滑环组件以及与电刷滑动接触的导轨的制造方法
CN1288569A (zh) 记录/重放头支撑机构和记录/重放装置
JP2008293552A (ja) 基板、磁気記録媒体及びその製造方法、並びに磁気記憶装置
JP2006228282A (ja) 磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び磁気記録媒体の製造方法
CN1148725C (zh) 软磁盘的磁头滑动器
US7304824B2 (en) Plated base plate for suspension assembly in disk drive
JP5196495B2 (ja) 摺動用構造部材及びその製造方法
CN1122038A (zh) 磁存储装置
US6491798B2 (en) Magnetic recording medium and magnetic storage apparatus
US8824105B2 (en) Pivot bearing and magnetic recording apparatus using the same
US6396661B1 (en) Magnetic disk drive capable of preventing stiction of magnetic head
US20120026625A1 (en) Laminated contact pad
JP2005353126A (ja) 磁気記録媒体および磁気記録装置
CN114974317B (zh) 硬盘磁头及其制备方法和硬盘
JP3033670B2 (ja) 接触型磁気ディスク装置
Van Groenou Tribology of magnetic storage systems, a short review
JP2812212B2 (ja) 磁気ヘッド
US20110128651A1 (en) Electrically conductive spacer and disk drive including the electrically conductive spacer
WO2019088163A1 (ja) 斜板

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20171218

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180724

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180821

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181009

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181218

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190111

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6467490

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250