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JP6476578B2 - Touch panel - Google Patents
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JP6476578B2 - Touch panel - Google Patents

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JP6476578B2 JP2014078834A JP2014078834A JP6476578B2 JP 6476578 B2 JP6476578 B2 JP 6476578B2 JP 2014078834 A JP2014078834 A JP 2014078834A JP 2014078834 A JP2014078834 A JP 2014078834A JP 6476578 B2 JP6476578 B2 JP 6476578B2
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Description

本発明は、透明基板上に形成された透明導電膜を備えたタッチパネルに関する。   The present invention relates to a touch panel provided with a transparent conductive film formed on a transparent substrate.

近年、様々な電子機器のディスプレイ上に入力デバイスとして、透明なタッチパネルが用いられている。タッチパネルの方式としては、抵抗膜式、静電容量式などが挙げられる。抵抗膜式では、上下の電極が接触することでタッチ位置を検出する。また、静電容量式では、指先などが触れた際の表面の静電容量の変化でタッチ位置を検出する。   In recent years, a transparent touch panel has been used as an input device on displays of various electronic devices. Examples of the touch panel method include a resistive film type and a capacitance type. In the resistance film type, the touch position is detected by the contact of the upper and lower electrodes. Further, in the electrostatic capacitance type, the touch position is detected by the change in the electrostatic capacitance of the surface when the finger touches or the like.

静電容量式タッチパネルのセンサー部を構成するドライブ電極及びセンス電極は、透明導電膜(透明電極)により構成され、通常は金属配線(配線部)と接続されている。この種のタッチパネルが、特許文献1に記載されている。特許文献1に記載のタッチパネルでは、引き出し配線の両端にダミー引き出し配線が設けられ、ダミー引き出し配線が、非選択の検出配線の所定電位になるように接続されている。   The drive electrode and the sense electrode constituting the sensor unit of the capacitive touch panel are formed of a transparent conductive film (transparent electrode), and are usually connected to a metal wiring (wiring unit). Patent Document 1 describes a touch panel of this type. In the touch panel described in Patent Document 1, dummy lead-out lines are provided at both ends of the lead-out line, and the dummy lead-out lines are connected so as to have a predetermined potential of the non-selected detection lines.

特開2010−257178号公報JP, 2010-257178, A

この種のタッチパネルでは、配線部やセンサー部が外部ノイズから受ける影響をシールドするため、上方あるいは下方から配線部を覆うか、配線部の外側にグランド電極を設けるのが一般的である。グランド電極は、ドライブ電極と同じ層に配置される場合は、センス電極の配線と重なるか、外周部に位置するように形成される。また、グランド電極は、センス電極と同じ層に配置される場合は、ドライブ電極の配線と重なるか、外周部に位置するように形成される。   In this type of touch panel, it is general to cover the wiring portion from above or below, or to provide a ground electrode outside the wiring portion, in order to shield the wiring portion and the sensor portion from being affected by external noise. When the ground electrode is disposed in the same layer as the drive electrode, the ground electrode is formed to overlap with the wiring of the sense electrode or to be located at the outer peripheral portion. In addition, when the ground electrode is disposed in the same layer as the sense electrode, the ground electrode is formed to overlap with the wiring of the drive electrode or to be located at the outer peripheral portion.

このような場合、グランド電極とドライブ電極又はセンス電極との間には一定方向の電界が生じるため、ドライブ電極またはセンス電極に用いる透明導電膜の材料によってはイオンマイグレーションによる透明導電膜の崩壊が生じたり、または透明導電膜とグランド電極との間がショートしたりするという問題が生じていた。イオンマイグレーションは、特に高温高湿下で発生するおそれがあった。
そこで、本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、ドライブ電極又はセンス電極とグランド電極との間に一定方向の電界を生じることを抑制できるタッチパネルを提供することを目的とする。
In such a case, since an electric field in a certain direction is generated between the ground electrode and the drive electrode or sense electrode, the transparent conductive film may be broken due to ion migration depending on the material of the transparent conductive film used for the drive electrode or sense electrode. Or there is a problem of shorting between the transparent conductive film and the ground electrode. Ion migration may occur particularly under high temperature and high humidity.
Then, this invention is made in view of such a subject, and it aims at providing the touch panel which can control generating an electric field of a fixed direction between a drive electrode or a sense electrode, and a grand electrode. .

第1の発明は、透明基板と、パターン形成された透明導電膜と、透明導電膜に接続された金属配線とを少なくとも含み、パターン形成された透明導電膜により構成され、所定方向に延びる複数のドライブ電極と、パターン形成された透明電導膜により構成され、ドライブ電極と交差する方向に延びる複数のセンス電極が互いに異なる層に配置されたタッチパネルであって、ドライブ電極またはセンス電極のうち一方の電極と同じ層に配置され、一方の電極が配列されたセンサエリアよりも外側において、一方の電極と同方向に延びるように形成されたグランド電極と、グランド電極と同じ層に配置されたドライブ電極またはセンス電極のうち、グランド電極に最も近い電極と、グランド電極との間に、グランド電極及びグランド電極に最も近い電極と同方向に延びるように導電材料で構成されグランド電極に最も近い電極と常に等電位にある補助電極とを備えていることを特徴とするタッチパネルである。 According to a first aspect of the present invention, there is provided a plurality of transparent conductive films each including a transparent substrate, a patterned transparent conductive film, and a metal wiring connected to the transparent conductive film, the plurality of patterned conductive conductive films extending in a predetermined direction. and drive electrodes, formed of a transparent conductive film is patterned, a touch panel and a plurality of sense electrodes are disposed in different layers extending in a direction intersecting with the drive electrode, the one of the drive electrodes or sense electrodes A ground electrode disposed in the same layer as the electrodes, and a ground electrode formed to extend in the same direction as one of the electrodes outside the sensor area where the one electrode is arranged, and a drive electrode disposed in the same layer as the ground electrode or out of the sense electrodes, and the electrode closest to the ground electrode, between the ground electrode, most ground electrode and the ground electrode It is a touch panel which is characterized in that comprises a gastric electrode and the electrode closest to the ground electrode formed of a conductive material so as to extend in the same direction and always an auxiliary electrode located in equipotential.

第2の発明は、補助電極が、補助電極と異なる層に設けられたドライブ電極またはセンス電極を構成する透明導電膜の最外部より外側に位置することを特徴とする、第1の発明のタッチパネルである。   The second invention is characterized in that the auxiliary electrode is located outside the outermost part of the transparent conductive film forming the drive electrode or sense electrode provided in a layer different from the auxiliary electrode. It is.

第3の発明は、補助電極が、補助電極と同じ層に配置されたセンサエリアと、該補助電極と異なる層に設けられたドライブ電極またはセンス電極が配列されたセンサエリアが重なるエリアにドライブ電極またはセンス電極の配列ピッチの半分を加えたエリアであるタッチセンサ有効エリアより外側に位置することを特徴とする、第1または2の発明のタッチパネルである。   According to a third aspect of the invention, a drive electrode is formed in an area where a sensor area in which the auxiliary electrode is disposed in the same layer as the auxiliary electrode and a sensor area in which a drive electrode or sense electrode arranged in a layer different from the auxiliary electrode is arranged The touch panel according to the first or second aspect of the invention is characterized in that the touch panel is located outside the touch sensor effective area which is an area obtained by adding half of the arrangement pitch of the sense electrodes.

第4の発明は、補助電極が、補助電極と異なる層に設けられたドライブ電極またはセンス電極が配列されたセンサエリアより外側で、補助電極と異なる層に設けられたドライブ電極またはセンス電極に接続された金属配線と交差することを特徴とする、第1から3のいずれか1つの発明のタッチパネルである。   According to a fourth aspect of the invention, the auxiliary electrode is connected to the drive electrode or sense electrode provided in a layer different from the auxiliary electrode outside the drive electrode provided in the layer different from the auxiliary electrode or the sensor area where the sense electrode is arranged. It is a touch panel according to any one of the first to third inventions characterized in that it intersects with the metal wiring.

第5の発明は、補助電極と異なる層の補助電極と重なる位置に設けられたドライブ電極、センス電極、または金属配線の幅が、500μmより小さいことを特徴とする、第1から4のいずれか1つの発明のタッチパネルである。   The fifth invention is any of the first to fourth, wherein a width of a drive electrode, a sense electrode, or a metal wiring provided at a position overlapping the auxiliary electrode and a layer different from the auxiliary electrode is smaller than 500 μm. It is a touch panel of one invention.

第6の発明は、補助電極の幅が1mmより小さいことを特徴とする、第1から5のいずれか1つの発明のタッチパネルである。   A sixth invention is the touch panel according to any one of the first to fifth inventions, wherein the width of the auxiliary electrode is smaller than 1 mm.

第7の発明は、補助電極が金属ナノワイヤーを少なくとも含むことを特徴とする、第1から6のいずれか1つの発明のタッチパネルである。   A seventh invention is the touch panel according to any one of the first to sixth inventions, wherein the auxiliary electrode includes at least metal nanowires.

第8の発明は、金属ナノワイヤーが樹脂層に覆われていることを特徴とする、第7の発明のタッチパネルである。   An eighth invention is the touch panel according to the seventh invention, characterized in that the metal nanowires are covered with a resin layer.

第9の発明は、補助電極が金属電極を含むことを特徴とする、第1から8のいずれか1つの発明のタッチパネルである。   A ninth invention is the touch panel according to any one of the first to eighth inventions, wherein the auxiliary electrode includes a metal electrode.

第10の発明は、ドライブ電極及び/またはセンス電極は、金属配線と接続されていない端部が金属材料で覆われていることを特徴とする、第1から9のいずれか1つの発明のタッチパネルである。   A tenth invention is the touch panel according to any one of the first to ninth inventions, wherein the drive electrode and / or the sense electrode is covered with a metal material at an end not connected to the metal wiring. It is.

本発明は、タッチパネルのセンサーを構成する透明導電膜の内、ドライブ電極(透明電極)及び/またはセンス電極(透明電極)とグランド電極の間に、最外部に位置するドライブ電極及び/またはセンス電極と常に等電位にある補助電極を形成し、透明電極のイオンマイグレーションによるタッチセンサ動作の不具合を解消する。   According to the present invention, among the transparent conductive films constituting the sensor of the touch panel, the drive electrode and / or sense electrode located at the outermost between the drive electrode (transparent electrode) and / or the sense electrode (transparent electrode) and the ground electrode The auxiliary electrode which is always at the same potential is formed, and the problem of the touch sensor operation due to the ion migration of the transparent electrode is eliminated.

本発明によれば、透明電極とグランド電極の間に一定方向の電界を生じさせないようにするタッチセンサの電極構造を採用することで、透明電極とグランド電極との間のイオンマイグレーションを抑制し、信頼性に優れたタッチパネルを提供することができる。   According to the present invention, ion migration between the transparent electrode and the ground electrode is suppressed by adopting an electrode structure of the touch sensor that prevents generation of an electric field in a certain direction between the transparent electrode and the ground electrode, A highly reliable touch panel can be provided.

本発明に係る実施形態及び実施例1のタッチパネルの構成の断面図Cross-sectional view of the configuration of the touch panel according to an embodiment of the present invention and Example 1 本発明に係る実施形態及び実施例1のタッチパネルの構成の平面図The top view of the structure of the touch panel of embodiment concerning this invention, and Example 1 本発明に係る実施形態及び実施例2のタッチパネルの構成の断面図Cross-sectional view of the configuration of the touch panel according to an embodiment of the present invention and Example 2 本発明に係る実施形態及び実施例2のタッチパネルの構成の平面図Top view of the configuration of the touch panel according to the embodiment of the present invention and Example 2 比較例1のタッチパネルの構成の断面図Cross-sectional view of the configuration of the touch panel of Comparative Example 1 比較例1のタッチパネルの構成の平面図Top view of the configuration of the touch panel of Comparative Example 1

以下、本発明を実施するための形態を、図面を用いながら説明する。なお、本発明は、以下に記載する実施の形態に限定されうるものではなく、当業者の知識に基づいて設計の変更などを加えることも可能であり、そのような変更が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれるものである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention can not be limited to the embodiments described below, and it is also possible to add a design change or the like based on the knowledge of those skilled in the art, and an embodiment in which such a change is added. Forms are also included within the scope of the present invention.

図1及び図3は、本発明のタッチパネルの断面の一例である。図1は、本発明のタッチパネルの平面図を示した図2の線Aの位置の断面を示している。図3は、本発明のタッチパネルの平面図を示した図4の線Bの位置の断面を示している。図1から図4は、タッチパネルの一部を示す図面である。   FIG.1 and FIG.3 is an example of the cross section of the touch panel of this invention. FIG. 1 shows a cross section of the position of line A of FIG. 2 showing a plan view of the touch panel of the present invention. FIG. 3 shows a cross section at the position of line B in FIG. 4 showing a plan view of the touch panel of the present invention. 1 to 4 are drawings showing a part of the touch panel.

タッチパネル100、200は、透明基板1と、パターン形成された透明導電膜により構成された複数のドライブ電極3と、パターン形成された透明導電膜により構成された複数のセンス電極4と、透明導電膜に接続された金属配線8、9と、透明粘着層10と、センサカバー11を少なくとも備えている。ドライブ電極3とセンス電極4は、透明基板1を挟んで、互いに異なる層に配置されて交差している。各ドライブ電極3は、線状に形成され、同じ層に設けられた各金属配線8に接続されている。各センス電極4は、線状に形成され、同じ層に設けられた各金属配線9に接続されている。
図1に示すタッチパネル100では、ドライブ電極3とセンス電極4が、異なる透明基板1の同じ側(図1において上側)に形成されている。図3に示すタッチパネル200では、ドライブ電極3とセンス電極4が、同じ透明基板1に対して、互いに異なる側に形成されている。
タッチパネル100、200では、全てのドライブ電極3が配列されたエリアが第1のセンサエリアとなり、全てのセンス電極4が配列されたエリアが第2のセンサエリアとなる。また、タッチパネル100、200の厚さ方向から見て、第1のセンサエリアと第2のセンサエリアとが重なるエリアにドライブ電極またはセンス電極の配列ピッチの半分を加えたエリアがタッチセンサ有効エリアとなる。
The touch panel 100, 200 includes a transparent substrate 1, a plurality of drive electrodes 3 formed of a patterned transparent conductive film, a plurality of sense electrodes 4 formed of a patterned transparent conductive film, and a transparent conductive film And a transparent adhesive layer 10 and a sensor cover 11 at least. The drive electrode 3 and the sense electrode 4 are disposed in different layers and intersect with each other with the transparent substrate 1 interposed therebetween. Each drive electrode 3 is formed in a linear shape, and is connected to each metal wire 8 provided in the same layer. Each sense electrode 4 is linearly formed, and connected to each metal wire 9 provided in the same layer.
In the touch panel 100 shown in FIG. 1, the drive electrode 3 and the sense electrode 4 are formed on the same side (upper side in FIG. 1) of different transparent substrates 1. In the touch panel 200 shown in FIG. 3, the drive electrode 3 and the sense electrode 4 are formed on different sides of the same transparent substrate 1.
In the touch panels 100 and 200, the area in which all the drive electrodes 3 are arranged is the first sensor area, and the area in which all the sense electrodes 4 are arranged is the second sensor area. In addition, an area obtained by adding half of the arrangement pitch of the drive electrodes or the sense electrodes to the area where the first sensor area and the second sensor area overlap when viewed from the thickness direction of the touch panel 100, 200 is the touch sensor effective area. Become.

タッチパネル100、200は、グランド電極6と補助電極5とをさらに備えている。
グランド電極6は、グランド電位を有する。グランド電極6は、ドライブ電極3またはセンス電極4のうち一方の電極と同じ層に配置され、一方の電極が配列されたセンサエリアよりも外側に形成されている。図2及び図4に示すように、グランド電極6は、透明基板1の片面にその外周に沿って配置されている。
補助電極5は、線状に形成されている。補助電極5は、グランド電極6と同じ層に配置されたドライブ電極3またはセンス電極4のうち、グランド電極6に最も近い電極(最外部に位置する透明導電膜)とグランド電極6との間に形成されている。補助電極5は、導電材料で構成され、上述のグランド電極6に最も近い電極3又は4と常に等電位にある。タッチパネル100、200では、補助電極5は、センス電極4の外側に設けられ、最外部のセンス電極4の選択時と非選択時に等電位になるように接続される。
The touch panel 100, 200 further includes a ground electrode 6 and an auxiliary electrode 5.
The ground electrode 6 has a ground potential. The ground electrode 6 is disposed in the same layer as one of the drive electrode 3 and the sense electrode 4 and is formed outside the sensor area in which one of the electrodes is arranged. As shown in FIGS. 2 and 4, the ground electrode 6 is disposed on one side of the transparent substrate 1 along the outer periphery thereof.
The auxiliary electrode 5 is formed in a linear shape. Auxiliary electrode 5 is disposed between ground electrode 6 and an electrode closest to ground electrode 6 (a transparent conductive film located at the outermost position) of drive electrode 3 or sense electrode 4 arranged in the same layer as ground electrode 6. It is formed. The auxiliary electrode 5 is made of a conductive material and is always at the same potential as the electrode 3 or 4 closest to the ground electrode 6 described above. In the touch panels 100 and 200, the auxiliary electrode 5 is provided outside the sense electrode 4 and connected so as to be equipotential when the outermost sense electrode 4 is selected and not selected.

補助電極5は、補助電極5と異なる層に設けられたドライブ電極3またはセンス電極4を構成する透明導電膜の最外部より外側に位置してもよい。また、補助電極5は、タッチセンサ有効エリアより外側に位置する。補助電極5は、補助電極5と異なる層に設けられたドライブ電極3またはセンス電極4が配列されたセンサエリアより外側で、補助電極5と異なる層に設けられたドライブ電極3またはセンス電極4に接続された金属配線8または9と交差している。補助電極5と異なる層の補助電極5と重なる位置に設けられたドライブ電極3、センス電極4、または金属配線8、9の幅(タッチセンサ有効エリアより外側に形成された透明導電膜)の幅は、500μmより小さくしてもよい。また、補助電極5の幅は、1mmより小さくしてもよい。また、補助電極5が金属ナノワイヤーを少なくとも含んでいてもよく、金属ナノワイヤーが樹脂層に覆われていてもよい。また、補助電極5が金属電極を含んでいてもよい。また、ドライブ電極3及び/またはセンス電極4は、金属配線と接続されていない端部が金属材料で覆われていてもよい。   The auxiliary electrode 5 may be located outside the outermost portion of the transparent conductive film constituting the drive electrode 3 or the sense electrode 4 provided in a layer different from the auxiliary electrode 5. In addition, the auxiliary electrode 5 is located outside the touch sensor effective area. Auxiliary electrode 5 is provided on drive electrode 3 or sense electrode 4 provided in a layer different from auxiliary electrode 5 outside the sensor area where drive electrode 3 or sense electrode 4 provided in a layer different from auxiliary electrode 5 is arranged. Crosses the connected metal wires 8 or 9. Width of drive electrode 3, sense electrode 4, or metal wiring 8, 9 provided at a position overlapping with auxiliary electrode 5 in a layer different from auxiliary electrode 5 (width of transparent conductive film formed outside touch sensor effective area) May be smaller than 500 μm. The width of the auxiliary electrode 5 may be smaller than 1 mm. In addition, the auxiliary electrode 5 may include at least metal nanowires, and the metal nanowires may be covered with a resin layer. In addition, the auxiliary electrode 5 may include a metal electrode. Further, the end of the drive electrode 3 and / or the sense electrode 4 not connected to the metal wiring may be covered with a metal material.

本発明で用いる透明基板1は、ガラス、プラスチック板、またはプラスチックフィルムが用いられる。透明基板1の材料は、成膜工程および後工程において十分な強度があり、表面の平滑性が良好であれば、特に限定されないが、例えば、ソーダライムガラス、PMMA、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリアリレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、ポリイミドフィルムなどを用いることができる。透明基板1の厚さは、ガラスであれば50μm以上1mm以下、プラスチックフィルムであれば、部材の薄型化と積層体の可撓性とを考慮し、10μm以上200μm以下程度のものが用いられる。また、本発明のタッチパネルをディスプレイの前面に配置して用いる場合に、透明基板1は高い透明性を有することが必要とされ、全光透過率が85%以上のものが好適に使用される。   Glass, a plastic plate, or a plastic film is used for the transparent substrate 1 used by this invention. The material of the transparent substrate 1 is not particularly limited as long as it has sufficient strength in the film forming step and the subsequent step and the surface smoothness is good, but for example, soda lime glass, PMMA, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate A film, a polyethylene naphthalate film, a polycarbonate film, a polyethersulfone film, a polysulfone film, a polyarylate film, a cyclic polyolefin film, a polyimide film or the like can be used. The thickness of the transparent substrate 1 is about 50 μm or more and 1 mm or less for glass, and about 10 μm or more and 200 μm or less for a plastic film in consideration of thinning of members and flexibility of a laminate. When the touch panel of the present invention is disposed on the front of a display, the transparent substrate 1 is required to have high transparency, and one having a total light transmittance of 85% or more is suitably used.

透明基板1に含有される材料としては、周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、可塑剤、滑剤、易接着剤などを使用してもよい。各層との密着性を改善するため、透明基板1の表面の前処理として、コロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、薬品処理などを施してもよい。   As materials contained in the transparent substrate 1, various well-known additives and stabilizers such as an antistatic agent, a plasticizer, a lubricant, an adhesive and the like may be used. In order to improve the adhesion to each layer, corona treatment, low temperature plasma treatment, ion bombardment treatment, chemical treatment or the like may be applied as pretreatment of the surface of the transparent substrate 1.

本発明の透明基板1には片面あるいは両面に、樹脂層2が形成されていてもよい。本発明で用いる樹脂層2は、特に透明基板1にプラスチック素材を用いる際に形成され、透明基板1や透明導電膜3に機械的強度を持たせるために設けられる。樹脂層2に用いられる樹脂としては、特に限定はしないが、透明性と適度な硬度と機械的強度を持つ樹脂が好ましい。具体的には、3次元架橋の期待できる3官能以上のアクリレートを主成分とするモノマー又は架橋性オリゴマーのような光硬化性樹脂が好ましい。   The resin layer 2 may be formed on one side or both sides of the transparent substrate 1 of the present invention. The resin layer 2 used in the present invention is formed particularly when a plastic material is used for the transparent substrate 1, and is provided in order to provide the transparent substrate 1 and the transparent conductive film 3 with mechanical strength. The resin used for the resin layer 2 is not particularly limited, but a resin having transparency, appropriate hardness and mechanical strength is preferable. Specifically, a photocurable resin such as a monomer or a crosslinkable oligomer containing a trifunctional or higher functional acrylate capable of three-dimensional crosslinking as a main component is preferable.

3官能以上のアクリレートモノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステルアクリレートなどを用いることが好ましい。特に好ましいのは、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレートおよびポリエステルアクリレートである。これらは単独で用いても良いし、2種以上併用しても構わない。また、これら3官能以上のアクリレートの他にエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリオールアクリレートなどのいわゆるアクリル系樹脂を併用することが可能である。   As trifunctional or higher acrylate monomers, trimethylolpropane triacrylate, isocyanuric acid EO modified triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate It is preferable to use ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, polyester acrylate and the like. Particularly preferred are isocyanuric acid EO modified triacrylates and polyester acrylates. These may be used alone or in combination of two or more. In addition to these trifunctional or higher functional acrylates, so-called acrylic resins such as epoxy acrylate, urethane acrylate and polyol acrylate can be used in combination.

架橋性オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレートなどのアクリルオリゴマーを用いることが好ましい。具体的にはポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシアクリレート、ポリウレタンのジアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレートなどを用いることができる。   As the crosslinkable oligomer, it is preferable to use an acrylic oligomer such as polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate and silicone (meth) acrylate. Specifically, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A epoxy acrylate, polyurethane diacrylate, cresol novolac epoxy (meth) acrylate, etc. can be used.

樹脂層2は、その他に粒子、光重合開始剤などの添加剤を含有してもよい。   The resin layer 2 may further contain additives such as particles and a photopolymerization initiator.

樹脂層2に添加する粒子としては、有機又は無機の粒子を用いることができるが、透明性を考慮すれば、有機粒子を用いることが好ましい。有機粒子としては、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂及びフッ素樹脂などからなる粒子を用いることができる。   As particles to be added to the resin layer 2, organic or inorganic particles can be used, but in consideration of transparency, it is preferable to use organic particles. As the organic particles, particles made of acrylic resin, polystyrene resin, polyester resin, polyolefin resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, silicone resin, fluorine resin and the like can be used.

粒子の平均粒径は、樹脂層2の厚みによって異なるが、ヘイズ等の外観上の理由により、下限として2μm以上、より好ましくは5μm以上、上限としては30μm以下、好ましくは15μm以下のものを使用する。また、粒子の含有量も、同様の理由で、樹脂に対し、0.5重量%以上5重量%以下であることが好ましい。   The average particle size of the particles varies depending on the thickness of the resin layer 2, but due to the appearance such as haze, the lower limit is 2 μm or more, more preferably 5 μm or more, and the upper limit 30 μm or less, preferably 15 μm or less Do. In addition, the content of the particles is also preferably 0.5% by weight or more and 5% by weight or less based on the resin for the same reason.

光重合開始剤を添加する場合、ラジカル発生型の光重合開始剤として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類、アセトフェノン、2、2、−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、などのアセトフェノン類、メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類、チオキサントン、2、4−ジエチルチオキサントン、2、4−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類、ベンゾフェノン、4、4−ビスメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類及びアゾ化合物などがある。これらは、単独または2種以上の混合物として使用でき、さらにはトリエタノールアミン、メチルジエタノールアミンなどの第3級アミン、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エチルなどの安息香酸誘導体などの光開始助剤などと組み合わせて使用することができる。   When a photopolymerization initiator is added, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin such as benzyl methyl ketal and its alkyl ethers, acetophenone, and the like as a radical generating photopolymerization initiator Acetophenones such as -dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, anthraquinones such as methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone and 2-amyl anthraquinone, thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2, 4 -Thioxanthones such as diisopropyl thioxanthone, Ketals such as acetophenone dimethyl ketal, benzyl dimethyl ketal, benzophenone, 4, 4-bisme Le benzophenones such aminobenzophenone and azo compounds, and the like. These can be used alone or as a mixture of two or more, and further, triethanolamine, tertiary amines such as methyldiethanolamine, 2-dimethylaminoethylbenzoic acid, benzoic acid derivatives such as ethyl 4-dimethylaminobenzoate, etc. It can be used in combination with a photo-starting aid etc.

上記光重合開始剤の添加量は、主成分の樹脂に対して0.1重量%以上5重量%以下であり、好ましくは0.5重量%以上3重量%以下である。下限値未満では樹脂層2(ハードコート層)の硬化が不十分となり好ましくない。また、上限値を超える場合は、樹脂層2(ハードコート層)に黄変を生じたり、耐候性が低下したりするため好ましくない。光硬化型樹脂を硬化させるのに用いる光は、紫外線、電子線、あるいはガンマ線などであり、電子線あるいはガンマ線の場合、必ずしも光重合開始剤や光開始助剤を含有する必要はない。これらの線源としては、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプや加速電子などを使用できる。   The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1% by weight or more and 5% by weight or less, preferably 0.5% by weight or more and 3% by weight or less based on the resin of the main component. If it is less than the lower limit value, curing of the resin layer 2 (hard coat layer) becomes insufficient, which is not preferable. Moreover, when exceeding an upper limit, since it causes yellowing in the resin layer 2 (hard coat layer), or a weather resistance falls, it is unpreferable. The light used to cure the photocurable resin is ultraviolet light, electron beam, gamma ray or the like, and in the case of electron beam or gamma ray, it is not always necessary to contain a photopolymerization initiator or a photoinitiation aid. As these radiation sources, high pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, accelerated electrons and the like can be used.

また、樹脂層2の厚みは、特に限定されないが、0.5μm以上15μm以下の範囲が好ましい。また、樹脂層2の屈折率は、透明基板1の屈折率と同じか、もしくは近似していることがより好ましく、1.45以上1.75以下程度が好ましい。   The thickness of the resin layer 2 is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.5 μm to 15 μm. Further, the refractive index of the resin layer 2 is more preferably the same as or similar to the refractive index of the transparent substrate 1, and about 1.45 to 1.75.

樹脂層2の形成方法には、主成分である樹脂等を溶剤に溶解させた塗液を塗布するために、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーターなどの塗工機を使った公知の塗布方法を用いることができる。   In the method for forming the resin layer 2, in order to apply a coating liquid in which a resin as a main component is dissolved in a solvent, a die coater, a curtain flow coater, a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a knife coater, a bar A known coating method using a coating machine such as a coater, a spin coater or a microgravure coater can be used.

溶剤については、上記の主成分の樹脂等を溶解するものであれば特に限定されない。具体的には、溶剤として、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、などが挙げられる。これらの溶剤は、1種を単独で用いても良いし、2種以上を混合しても良い。   The solvent is not particularly limited as long as it dissolves the above-mentioned main component resin and the like. Specifically, as a solvent, ethanol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, benzene, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, Butyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. may be mentioned. One of these solvents may be used alone, or two or more thereof may be mixed.

本発明のドライブ電極3、センス電極4、補助電極5、及びグランド電極6の各々には、透明導電膜を用いることができる。透明導電膜は、酸化物としては酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズのいずれか、または、それらの2種類もしくは3種類の混合酸化物、さらには、その他添加物が加えられた物などを用いることができるが、目的・用途により種々の材料を使用でき、特に限定されるものではない。現在のところ、最も信頼性が高く、多くの実績のある材料は酸化インジウムスズ(ITO)である。   A transparent conductive film can be used for each of the drive electrode 3, the sense electrode 4, the auxiliary electrode 5, and the ground electrode 6 of the present invention. For the transparent conductive film, use is made of indium oxide, zinc oxide or tin oxide as an oxide, or a mixed oxide of two or three of them, as well as those to which other additives are added, etc. However, various materials can be used depending on the purpose and application, and are not particularly limited. At present, the most reliable and most proven material is indium tin oxide (ITO).

最も一般的な透明導電膜である酸化インジウムスズ(ITO)を透明導電膜の材料に用いる場合、酸化インジウムにドープされる酸化スズの含有比は、デバイスに求められる仕様に応じて、任意の割合を選択する。例えば、透明基板1(透明な樹脂基板)がプラスチックフィルムの場合、機械強度を高める目的で薄膜を結晶化させるために用いるスパッタリングターゲット材料は、酸化スズの含有比が10重量%未満であることが好ましく、薄膜をアモルファス化しフレキシブル性を持たせるためには、酸化スズの含有比は10重量%以上が好ましい。また、薄膜に低抵抗が求められる場合は、酸化スズの含有比は2重量%から20重量%の範囲が好ましい。   When indium tin oxide (ITO), which is the most common transparent conductive film, is used as the material of the transparent conductive film, the content ratio of tin oxide doped in indium oxide is an arbitrary ratio according to the specifications required for the device. Choose For example, in the case where the transparent substrate 1 (transparent resin substrate) is a plastic film, the sputtering target material used to crystallize a thin film for the purpose of enhancing mechanical strength has a tin oxide content ratio of less than 10% by weight The content ratio of tin oxide is preferably 10% by weight or more in order to make the thin film amorphous and to have flexibility. When low resistance is required for the thin film, the content ratio of tin oxide is preferably in the range of 2% by weight to 20% by weight.

透明導電膜が酸化物の場合、その製造方法としては、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法でも良く、なかでも乾式法が優れている。これには、真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法や、CVD法のような化学的気相析出法を用いることができる。特に大面積に均一な膜質の薄膜を形成するために、プロセスが安定し、薄膜が緻密化するスパッタリング法が好ましい。   When the transparent conductive film is an oxide, any film forming method may be used as long as the film thickness can be controlled, and among them, the dry method is excellent. For this, a physical vapor deposition method such as vacuum deposition or sputtering, or a chemical vapor deposition method such as CVD can be used. In particular, in order to form a thin film of uniform film quality over a large area, a sputtering method in which the process is stable and the thin film is densified is preferable.

また、透明導電膜をエッチングなどの方法でパターニングした場合、パターンが目視で認識しにくいように、光学調整層を形成することができる。光学調整層は、所定の屈折率を有する無機酸化物や有機化合物を材料として、薄膜を単層または複層で形成する。光学調整層は、透明導電膜がある領域と無い領域の透過率や反射率、色味などを調整することでパターン不可視性を与えることができる。   Moreover, when the transparent conductive film is patterned by a method such as etching, the optical adjustment layer can be formed so that the pattern is difficult to visually recognize. The optical adjustment layer is formed of a thin film in a single layer or multiple layers using an inorganic oxide or an organic compound having a predetermined refractive index as a material. The optical adjustment layer can impart pattern invisibility by adjusting the transmittance, reflectance, color and the like of the region where the transparent conductive film is present and the region where the transparent conductive film is absent.

さらに透明導電膜や光学調整層の下層には、金属や金属酸化物、樹脂、シランカップリング剤などの密着層を設けることができる。   Further, an adhesion layer of metal, metal oxide, resin, silane coupling agent or the like can be provided under the transparent conductive film or the optical adjustment layer.

また、透明導電膜には、金属ナノ粒子や金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、グラフェン、導電性高分子などの材料を用いることができる。透明導電膜は、このような材料を有機溶剤やアルコール、水などに溶解あるいは分散させた塗液を塗工し、乾燥させることにより形成することができる。透明導電膜としてのシート抵抗や透明性を鑑みて、より好適には金属ナノワイヤーが用いられる。   For the transparent conductive film, materials such as metal nanoparticles, metal nanowires, carbon nanotubes, graphene, and conductive polymers can be used. The transparent conductive film can be formed by applying and drying a coating liquid in which such a material is dissolved or dispersed in an organic solvent, alcohol, water or the like. In view of sheet resistance and transparency as a transparent conductive film, metal nanowires are more preferably used.

塗液は、金属ナノワイヤーは樹脂等と混合し、水やアルコール、有機溶剤などに分散することで調液する。その塗液を塗工後に、乾燥させることで、金属ナノワイヤーが互いに絡み合って網の目状となった透明導電膜が形成され、少ない量の導電性物質であっても良好な電気伝導経路を形成することができ、透明導電膜(導電性層)の抵抗値をより低下させることができる。さらに、このような網の目状の透明導電膜を形成した場合、網の目の隙間部分の開口が大きいので、たとえ繊維状の導電性物質そのものが透明でなかったとしても、透明導電膜(塗膜)として良好な透明性を達成することが可能である。   The coating solution is prepared by mixing the metal nanowires with a resin or the like and dispersing the mixture in water, an alcohol, an organic solvent or the like. The coating solution is applied and then dried to form a transparent conductive film in which the metal nanowires are intertwined with each other to form a mesh, and a good electric conduction path is obtained even with a small amount of conductive material. It can form and the resistance value of a transparent conductive film (conductive layer) can be reduced more. Furthermore, when such a net-like transparent conductive film is formed, the opening of the interstices of the net is large, so even if the fibrous conductive substance itself is not transparent, the transparent conductive film ( It is possible to achieve good transparency as a coating).

金属ナノワイヤーの金属として、具体的には鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、アルミニウム、チタン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、オスミウム、イリジウム、白金、金を用いることができ、導電性の観点から金、銀、銅、白金が好ましい。   Specifically, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, aluminum, titanium, ruthenium, rhodium, palladium, silver, cadmium, osmium, iridium, platinum, gold can be used as the metal of the metal nanowire, and it is conductive. Gold, silver, copper and platinum are preferred from the viewpoint of

上記金属ナノワイヤー等を用いて透明基板1上に透明導電膜を形成する方法としては、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコートなど公知の塗布方法を用いることができる。   As a method of forming a transparent conductive film on the transparent substrate 1 using the metal nanowires and the like, it is possible to use known coating methods such as spray coating, bar coating, roll coating, die coating, ink jet coating, screen coating, dip coating Can.

透明導電膜は、膜厚が薄すぎると導体としての十分な導電性を達成出来なくなる傾向にあり、膜厚が厚すぎるとヘイズ値の上昇、全光線透過率の低下等で透明性が損なわれる傾向にある。透明導電膜の膜厚は、10nm〜10μmの間で適宜調整を行うが、金属ナノワイヤーのように導電性物質そのものが透明でない場合には、膜厚の増加によって透明性が失われやすいため、より薄い膜厚の透明導電膜を形成してもよい。この場合、きわめて開口部の多い透明導電膜となるが、接触式の膜厚計で測定したときに平均膜厚として10nm〜500nmの膜厚範囲が好ましく、30nm〜300nmがより好ましく、50nm〜150nmが最も好ましい。   When the film thickness is too thin, the transparent conductive film tends to be unable to achieve sufficient conductivity as a conductor, and when the film thickness is too thick, the transparency is impaired due to an increase in haze value and a decrease in total light transmittance. There is a tendency. The film thickness of the transparent conductive film is appropriately adjusted between 10 nm and 10 μm, but when the conductive substance itself is not transparent like metal nanowires, the transparency tends to be lost due to the increase in film thickness, A thinner transparent conductive film may be formed. In this case, the transparent conductive film has an extremely large number of openings, but when measured with a contact-type film thickness meter, a film thickness range of 10 nm to 500 nm is preferable as an average film thickness, 30 nm to 300 nm is more preferable, and 50 nm to 150 nm. Is most preferred.

透明導電膜を保護し、また機械的強度を持たせるために、硬化膜を設けることができる。特に透明導電膜として金属ナノ粒子や金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、グラフェン、導電性高分子などを用いる場合には、環境試験耐性を得るために硬化膜を形成することが好ましい。硬化膜に用いられる樹脂としては、特に限定されないが、透明性と適度な硬度と機械的強度を持つ樹脂が好ましい。具体的には、3次元架橋の期待できる3官能以上のアクリレートを主成分とするモノマー又は架橋性オリゴマーのような光硬化性樹脂が好ましく、樹脂層2と同様の材料を用いて形成することができる。硬化膜の形成方法も、樹脂層2と同様の方法を用いることができる。   A cured film can be provided to protect the transparent conductive film and to provide mechanical strength. In particular, when metal nanoparticles, metal nanowires, carbon nanotubes, graphene, conductive polymers, etc. are used as the transparent conductive film, it is preferable to form a cured film in order to obtain environmental test resistance. The resin used for the cured film is not particularly limited, but a resin having transparency, appropriate hardness and mechanical strength is preferable. Specifically, a photocurable resin such as a monomer or a crosslinkable oligomer mainly composed of a trifunctional or higher functional acrylate capable of three-dimensional crosslinking is preferable, and it is possible to form it using the same material as the resin layer 2 it can. As a method of forming a cured film, the same method as the resin layer 2 can be used.

図3のように一つの透明基板1の片面上にドライブ電極3を形成し、もう片面上にセンス電極4を形成する場合、透明基板1のうちセンサカバー11側とは反対側に保護層13を設けても良い。保護層13は、ドライブ電極3またはセンス電極4、及び、ドライブ電極3に接続する金属配線8またはセンス電極4に接続する金属配線9を保護するために、機械的強度を持たせたり、環境耐性を得ることを目的に形成する。保護層13に用いられる樹脂としては、特に限定されないが、透明性を有する樹脂が好ましい。具体的には、3次元架橋の期待できる3官能以上のアクリレートを主成分とするモノマー又は架橋性オリゴマーのような光硬化性樹脂が好ましく、樹脂層2と同様の材料を用いて形成することができる。保護層13の形成方法も、樹脂層2と同様の方法を用いることができる。   When the drive electrode 3 is formed on one side of one transparent substrate 1 as shown in FIG. 3 and the sense electrode 4 is formed on the other side, the protective layer 13 on the opposite side of the transparent substrate 1 to the sensor cover 11 side. May be provided. Protective layer 13 has mechanical strength to protect drive electrode 3 or sense electrode 4 and metal interconnection 8 connected to drive electrode 3 or metal interconnection 9 connected to sense electrode 4 or is environmentally resistant. Form for the purpose of obtaining The resin used for the protective layer 13 is not particularly limited, but a resin having transparency is preferable. Specifically, a photocurable resin such as a monomer or a crosslinkable oligomer mainly composed of a trifunctional or higher functional acrylate capable of three-dimensional crosslinking is preferable, and it is possible to form it using the same material as the resin layer 2 it can. The method of forming the protective layer 13 can also be the same as that of the resin layer 2.

ドライブ電極3及びセンス電極4を構成する透明導電膜は、タッチパネルセンサとして用いる際、矩形状あるいはダイヤモンド型などのパターン状にして用いる。導電性パターン領域は、金属配線8又は9に接続されており、その金属配線8又は9を介して、電圧変化を検知できる電圧変化検知回路に接続されている。人の指等がセンサカバー11越しに、検出電極であるセンス電極4に接近すると、全体の静電容量が変化することから、回路の電圧が変動して、接触位置の判定を行うことができる。透明導電膜のパターンは、一連のドライブ電極3の列、センス電極4の列からなる。各ドライブ電極3の列及び各センス電極4の列のそれぞれを電圧変化検知回路と電気的に接続することにより、2次元の位置情報が得られる。   The transparent conductive film constituting the drive electrode 3 and the sense electrode 4 is used as a rectangular or diamond pattern when used as a touch panel sensor. The conductive pattern area is connected to the metal wire 8 or 9, and is connected via the metal wire 8 or 9 to a voltage change detection circuit capable of detecting a voltage change. When a human finger or the like approaches the sense electrode 4 which is a detection electrode through the sensor cover 11, the entire electrostatic capacitance changes, so the voltage of the circuit fluctuates, and the contact position can be determined. . The pattern of the transparent conductive film is composed of a series of drive electrode 3 rows and a sense electrode 4 row. Two-dimensional position information can be obtained by electrically connecting each row of drive electrodes 3 and each row of sense electrodes 4 with the voltage change detection circuit.

ドライブ電極3及びセンス電極4を構成する透明導電膜のパターン形成方法としては、透明導電膜上にレジストを塗布または貼り合わせ、パターンを露光・現像により形成した後に透明導電膜を化学的に溶解させるフォトリソグラフィによる方法、真空中で化学反応により気化させる方法、レーザーにより透明導電膜を昇華させる方法、などを用いることができる。パターン形成方法は、パターンの形状、精度等により適宜選択できるが、パターン精度、細線化を考慮し、フォトリソグラフィによる方法が好ましい。電極と電極の間には、センス電極としての機能を有しないダミー電極を形成しても良い。   As a method of forming a pattern of the transparent conductive film constituting the drive electrode 3 and the sense electrode 4, a resist is applied or bonded on the transparent conductive film, and the pattern is formed by exposure and development to dissolve the transparent conductive film chemically. A method by photolithography, a method of vaporizing by a chemical reaction in vacuum, a method of sublimating a transparent conductive film by a laser, or the like can be used. The pattern formation method can be appropriately selected depending on the shape of the pattern, accuracy, etc., but in consideration of pattern accuracy and thinning, a method by photolithography is preferable. Between the electrode and the electrode, a dummy electrode having no function as a sense electrode may be formed.

本発明のドライブ電極配線8、センス電極配線9、補助電極5、及びグランド電極6の各々には、金属を用いることができる。金属としては、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、モリブデン、アルミニウム、チタン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、金を用いることができるが、導電性の観点から銅、銀、モリブデン、アルミニウム、チタン、あるいはそれらの積層体が好適に用いられる。   A metal can be used for each of the drive electrode wiring 8, the sense electrode wiring 9, the auxiliary electrode 5, and the ground electrode 6 of the present invention. As the metal, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, molybdenum, aluminum, titanium, ruthenium, rhodium, palladium, silver, osmium, iridium, platinum, gold can be used, but from the viewpoint of conductivity, copper, silver Molybdenum, aluminum, titanium or laminates thereof are suitably used.

この金属の電極5、6又は配線8、9の形成方法及びパターニング方法には、酸化物の透明導電膜と同様の方法を用いることができる。乾式法として真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法や、CVD法のような化学的気相析出法を用いることができる他、金属のナノ粒子を塗布、焼成することにより形成することもできる。パターニングには、エッチングやリフトオフ、あるいは金属ペーストや金属インキをダイレクトに印刷するスクリーン印刷、インクジェット、グラビアオフセット印刷、凸版印刷、グラビア印刷、インプリントなどの方法を用いることができる。
いずれの方法においても、透明基板1の耐熱性や薬品耐性などのプロセス適性に合わせた条件を適宜選択する。
The same method as the transparent conductive film of oxide can be used for the method of forming the metal electrodes 5 and 6 or the wirings 8 and 9 and the patterning method. As a dry method, physical vapor deposition such as vacuum deposition or sputtering, or chemical vapor deposition such as CVD can be used, and metal nanoparticles can be formed by coating and firing. You can also. For patterning, methods such as etching and lift-off, screen printing in which metal paste or metal ink is directly printed, inkjet, gravure offset printing, letterpress printing, gravure printing, imprinting, or the like can be used.
In any method, conditions suitable for process suitability such as heat resistance and chemical resistance of the transparent substrate 1 are appropriately selected.

本発明は、ドライブ電極3またはセンス電極4を構成する透明導電膜と、その透明導電膜と同じ層に形成されたグランド電極6との間に、導電材料で構成された補助電極5を設けることを特徴とする。補助電極5は、ドライブ電極3またはセンス電極4より外側に位置するため、タッチセンサ有効エリアより外側に配置される。つまり、通常の使用方法では、補助電極5は、センサカバー11の額縁の下に配置される。補助電極5は、透明導電材料あるいは金属材料からなり、同じ層のドライブ電極3またはセンス電極4の内、センサパネルの最外部に位置する電極と電気的に短絡されており、その最外部のドライブ電極またはセンス電極と常に等電位である。配線設計としては、図2及び図4に示したように、金属配線9と補助電極5を接続する方法が最も好適に使用されるが、この限りではなく、等電位としたい金属配線8又は9と補助電極5をそれぞれLSIチップに接続し、LSIチップより、等電位となるように信号を送信してもよい。   According to the present invention, the auxiliary electrode 5 made of a conductive material is provided between the transparent conductive film forming the drive electrode 3 or the sense electrode 4 and the ground electrode 6 formed in the same layer as the transparent conductive film. It is characterized by Since the auxiliary electrode 5 is located outside the drive electrode 3 or the sense electrode 4, the auxiliary electrode 5 is placed outside the touch sensor effective area. That is, in the normal use method, the auxiliary electrode 5 is disposed under the frame of the sensor cover 11. The auxiliary electrode 5 is made of a transparent conductive material or a metal material, and is electrically short-circuited with the outermost electrode of the sensor panel among the drive electrode 3 or sense electrode 4 in the same layer, and the outermost drive It is always equipotential with the electrode or sense electrode. As the wiring design, as shown in FIG. 2 and FIG. 4, the method of connecting the metal wiring 9 and the auxiliary electrode 5 is most suitably used, but the method is not limited to this. And the auxiliary electrode 5 may be connected to the LSI chip, and a signal may be transmitted from the LSI chip so as to be equipotential.

図1及び図3では、グランド電極6と補助電極5は、センス電極4と同じ層に形成されている。補助電極5は、複数のセンス電極4のうちグランド電極6に最も近いセンス電極4と、グランド電極6との間において、これらの電極4、6と同じ方向に沿って、これらの電極4、6とは間隔を隔てて配置されている。
なお、グランド電極6と補助電極5をドライブ電極3と同じ層に形成する場合、補助電極5は、複数のドライブ電極3のうちグランド電極6に最も近いドライブ電極3と、グランド電極6との間において、これらの電極3、6と同じ方向に沿って、これらの電極3、6とは間隔を隔てて配置される。
In FIGS. 1 and 3, the ground electrode 6 and the auxiliary electrode 5 are formed in the same layer as the sense electrode 4. The auxiliary electrode 5 is disposed between the sense electrode 4 closest to the ground electrode 6 among the plurality of sense electrodes 4 and the ground electrode 6 along the same direction as the electrodes 4 and 6. And are spaced apart.
When ground electrode 6 and auxiliary electrode 5 are formed in the same layer as drive electrode 3, auxiliary electrode 5 is located between drive electrode 3 closest to ground electrode 6 among ground electrodes 6 and ground electrode 6. The electrodes 3 and 6 are spaced apart from each other along the same direction as the electrodes 3 and 6.

本発明は、補助電極5がセンサパネルの最外部に位置するドライブ電極3またはセンス電極4と常に等電位となることにより、グランド電極6とドライブ電極3またはセンス電極4との間に一定方向の電界が生じることを抑えることができる。その結果、ドライブ電極3またはセンス電極4からグランド電極6へ向かって生じていたイオンマイグレーションの発生が抑えられ、より環境耐性に優れたタッチパネル100、200を提供することができる。特に、イオンマイグレーションを起こしやすい銀や銅を材料とした透明導電膜を用いた場合に効果が大きい。   According to the present invention, the auxiliary electrode 5 is always at the same potential with the drive electrode 3 or sense electrode 4 located at the outermost part of the sensor panel, whereby a certain direction between the ground electrode 6 and the drive electrode 3 or sense electrode 4 is obtained. It can suppress that an electric field arises. As a result, the occurrence of ion migration that has occurred from the drive electrode 3 or the sense electrode 4 toward the ground electrode 6 can be suppressed, and the touch panels 100 and 200 can be provided with better environmental resistance. In particular, the effect is large when using a transparent conductive film made of silver or copper which easily causes ion migration.

補助電極5は、図1及び図3に示したように、補助電極5と異なる層に位置する金属配線8または9と重なって配置しても良いし、補助電極5と異なる層に位置するドライブ電極3またはセンス電極4と重なって配置しても良い。但し、補助電極5は異なる層に位置する電極3、4又は配線8、9と容量を形成するので、その影響を最小に抑えるために、できるだけ重なり面積を小さくする必要がある。そこで、補助電極5の幅は1mmより小さいことが好ましく、補助電極5と重なって配置されて補助電極5と異なる層に位置する金属配線8、9、ドライブ電極3、又はセンス電極4の幅は、500μmより小さいことが好ましい。   The auxiliary electrode 5 may be disposed overlapping with the metal wiring 8 or 9 located in a layer different from the auxiliary electrode 5 as shown in FIGS. 1 and 3 or a drive located in a layer different from the auxiliary electrode 5 It may be disposed overlapping with the electrode 3 or the sense electrode 4. However, since the auxiliary electrode 5 forms a capacitance with the electrodes 3 and 4 or the wirings 8 and 9 located in different layers, it is necessary to reduce the overlapping area as much as possible in order to minimize the influence. Therefore, the width of the auxiliary electrode 5 is preferably smaller than 1 mm, and the widths of the metal wires 8 and 9, the drive electrode 3, and the sense electrode 4 which are disposed overlapping with the auxiliary electrode 5 and located in different layers from the auxiliary electrode 5 are And preferably less than 500 μm.

本発明のタッチパネルは、ドライブ電極3とセンス電極4の端部の内、金属配線8、9と接続されていない側の端部を金属で被覆した端部被覆電極12を形成してもよい。図4では、センス電極4のうち金属配線9と接続されていない端部が、端部被覆電極12で覆われている。端部被覆電極12には、銅、銀、モリブデン、アルミニウム、チタン、あるいはそれらの積層体などの金属材料を用いることができ、またITOなどの透明導電材料を用いることもできる。   The touch panel of the present invention may form an end covering electrode 12 in which the end not connected to the metal wires 8 and 9 among the ends of the drive electrode 3 and the sense electrode 4 is coated with metal. In FIG. 4, the end of the sense electrode 4 not connected to the metal wire 9 is covered with the end covering electrode 12. For the end covering electrode 12, a metal material such as copper, silver, molybdenum, aluminum, titanium or a laminate thereof can be used, and a transparent conductive material such as ITO can also be used.

本発明のタッチパネルのドライブ電極3とセンス電極4は、容量検知センサーとして機能する。図3に示したように、ドライブ電極3及びセンス電極4は、一枚の透明基板1の両面に配置しても良いし、図1に示したように別々の透明基板1に設けて、透明粘着層10を介して貼り合わせて上下に配置しても良い。透明導電膜により構成されたドライブ電極3及びセンス電極4は、それぞれ金属配線8、9と接続され、透明導電膜による上部電極と下部電極の間の容量変化を検出する回路に接続されることで、静電容量式のタッチセンサーとして動作する。タッチセンサーを最終的に透明粘着層10を介してセンサカバー11と貼り合わされることで、タッチパネルを作製することができる。センサカバー11は、ガラスでも良いし、表面をハードコート加工した樹脂やプラスチック素材のシートでも良い。ガラスを用いる場合は、ソーダガラス中のナトリウムイオンをイオン交換することで化学強化した、強化ガラスを用いることが好ましい。   The drive electrode 3 and the sense electrode 4 of the touch panel of the present invention function as a capacitance detection sensor. As shown in FIG. 3, the drive electrode 3 and the sense electrode 4 may be disposed on both sides of one transparent substrate 1 or may be provided on separate transparent substrates 1 as shown in FIG. You may bond together through the adhesive layer 10, and may arrange | position up and down. The drive electrode 3 and the sense electrode 4 formed of a transparent conductive film are connected to the metal wires 8 and 9, respectively, and are connected to a circuit for detecting a capacitance change between the upper electrode and the lower electrode by the transparent conductive film. Operates as a capacitive touch sensor. By finally bonding the touch sensor to the sensor cover 11 via the transparent adhesive layer 10, a touch panel can be manufactured. The sensor cover 11 may be made of glass or a sheet of resin or plastic material whose surface is hard-coated. When glass is used, it is preferable to use a tempered glass which is chemically strengthened by ion exchange of sodium ions in soda glass.

以下、具体的な実施例によって本発明を詳細に説明するが、これらの実施例は説明を目的としたもので、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of specific examples, but these examples are for the purpose of illustration and the present invention is not limited thereto.

<実施例1>
図1と同様の層構成を持つタッチパネル100を作製した。図2は、タッチパネル100の電極部を示した平面図であり、Aの線に沿って断面を見た模式図が図1である。各透明基板1としてPET(125μm)を用い、各透明基板1の片面にUV硬化性透明アクリル樹脂をマイクログラビアコーティングした後、乾燥、UV硬化することで、樹脂層2を3μmの厚さで形成した。各透明基板1の樹脂層2とは反対面に、光学調整層として、ジルコニア粒子入りのUV硬化性アクリル樹脂を90nmの厚さで形成した。この時、光学調整層の屈折率は1.70であった。得られた光学調整層上に、透明導電膜の材料としてITO(錫含有率5wt%)を真空中でDCマグネトロンスパッタリングすることにより、薄膜を22nmの厚さで形成し、これを150℃、60分でアニールすることにより、シート抵抗が150Ω/□の透明導電膜を得た。得られた透明導電膜付き基材の各々を、フォトリソグラフィにより、ドライフィルムフォトレジストで露光・現像した後、エッチング及びレジスト剥離することで、透明導電膜をパターン形成した。透明導電膜のパターンは2種類作製し、一方はドライブ電極3に相当する矩形電極、もう一方はセンス電極4に相当する矩形電極を形成した。ドライブ電極3及びセンス電極4の電極間ピッチは5mmとした。センス電極4と同じ層には、透明導電膜で形成された補助電極5とグランド電極6を同時に形成した。補助電極5の幅は500μmとした。
Example 1
A touch panel 100 having the same layer configuration as that of FIG. 1 was produced. FIG. 2 is a plan view showing an electrode portion of the touch panel 100, and a schematic view of a cross section taken along a line A is FIG. After forming a UV curable transparent acrylic resin by microgravure coating on one side of each transparent substrate 1 using PET (125 μm) as each transparent substrate 1, the resin layer 2 is formed to a thickness of 3 μm by drying and UV curing did. On the surface of each transparent substrate 1 opposite to the resin layer 2, a UV curable acrylic resin containing zirconia particles was formed with a thickness of 90 nm as an optical adjustment layer. At this time, the refractive index of the optical adjustment layer was 1.70. A thin film is formed with a thickness of 22 nm by DC magnetron sputtering of ITO (tin content 5 wt%) as a material of a transparent conductive film on the obtained optical adjustment layer in vacuum at 150 ° C., 60 ° C. By annealing in minutes, a transparent conductive film having a sheet resistance of 150 Ω / □ was obtained. After exposing and developing each of the obtained substrates with a transparent conductive film with a dry film photoresist by photolithography, the transparent conductive film was patterned by etching and resist peeling. Two types of transparent conductive film patterns were prepared, one having a rectangular electrode corresponding to the drive electrode 3 and the other having a rectangular electrode corresponding to the sense electrode 4. The inter-electrode pitch of the drive electrode 3 and the sense electrode 4 was 5 mm. In the same layer as the sense electrode 4, the auxiliary electrode 5 formed of a transparent conductive film and the ground electrode 6 were simultaneously formed. The width of the auxiliary electrode 5 was 500 μm.

フォトリソグラフィに際し、フォトレジストの現像は炭酸ナトリウム水溶液で行い、塩硝酸水溶液でITOをエッチングし、水酸化ナトリウム水溶液でレジストを剥離した。   During photolithography, development of the photoresist was carried out with an aqueous solution of sodium carbonate, the ITO was etched with an aqueous solution of salted nitric acid, and the resist was peeled off with an aqueous solution of sodium hydroxide.

以上より得られたドライブ電極3及びセンス電極4の透明導電膜に対して、それぞれドライブ電極配線8、及びセンス電極配線9としてスクリーン印刷で銀ペーストパターンを形成し、90℃、30分で加熱することにより配線付きパターンとした。センス電極4の最外部電極に接続されたセンス電極配線9は、図2のように補助電極5にも接続した。センス電極4の最外部電極は、補助電極5と電気的に接続された。これらのドライブ電極付きPET基材とセンス電極付きPET基材とを、図1の構成になるように、75μm厚の透明粘着層10を用いて貼り合わせ、最表面に0.55mm厚の化学強化したカバーガラス11を、同様に透明粘着層10を用いて貼り合わせることで、タッチパネル100を得た。   A silver paste pattern is formed by screen printing as drive electrode wiring 8 and sense electrode wiring 9 on the transparent conductive films of drive electrode 3 and sense electrode 4 obtained above, and heated at 90 ° C. for 30 minutes. Therefore, it was made a pattern with wiring. The sense electrode wiring 9 connected to the outermost electrode of the sense electrode 4 was also connected to the auxiliary electrode 5 as shown in FIG. The outermost electrode of the sense electrode 4 was electrically connected to the auxiliary electrode 5. These drive electrode-attached PET substrates and sense electrode-attached PET substrates are pasted together using the 75 μm-thick transparent adhesive layer 10 as shown in FIG. 1, and the outermost surface is chemically strengthened by 0.55 mm. Similarly, the touch panel 100 was obtained by bonding the cover glass 11 using the transparent adhesive layer 10.

タッチパネル100の動作確認は、銀配線8、9をフレキシブルプリント基板経由で駆動LSIに接続して行った。その結果、良好に指の接触の検知と座標位置の検出ができた。得られたタッチパネル100を60℃90%Rhの環境で1500時間動作させた後、環境試験機より取り出し、上記と同様に動作確認を行った結果、同様に良好に指の接触の検知と座標位置の検出ができた。   The operation check of the touch panel 100 was performed by connecting the silver wires 8 and 9 to the drive LSI via the flexible printed circuit. As a result, it was possible to detect finger contact and coordinate position well. The obtained touch panel 100 is operated in an environment of 60 ° C. and 90% Rh for 1,500 hours, and then taken out from the environmental testing machine, and the operation check is performed similarly to the above. Was detected.

<実施例2>
図3と同様の層構成を持つタッチパネル200を作製した。図4は、タッチパネル200の電極部を示した平面図であり、Bの線に沿って断面を見た模式図が図3である。透明基板1としてPET(125μm)を用い、両面にUV吸収剤を20wt%添加したUV硬化性透明アクリル樹脂をマイクログラビアコーティングした後、乾燥、UV硬化することで樹脂層2を5μmの厚さでそれぞれ形成した。得られた基材の両面に、透明導電膜の材料として銀ナノワイヤーをシート抵抗100Ω/□となるようにスロットダイコートで塗工して透明導電膜を形成し、同様にUV硬化性透明アクリル樹脂を130nmの厚さで塗工して硬化膜を形成した。
Example 2
A touch panel 200 having the same layer configuration as that of FIG. 3 was produced. FIG. 4 is a plan view showing the electrode part of the touch panel 200, and FIG. 3 is a schematic view of a cross section taken along the line B. As shown in FIG. After microgravure coating of a UV curable transparent acrylic resin using PET (125 μm) as the transparent substrate 1 and adding 20 wt% of a UV absorber on both sides, the resin layer 2 is made 5 μm thick by drying and UV curing Each formed. A transparent conductive film is formed by coating a silver nanowire as a material of the transparent conductive film on both sides of the obtained substrate by slot die coating so as to have a sheet resistance of 100 Ω / □, and similarly a UV curable transparent acrylic resin To a thickness of 130 nm to form a cured film.

得られた両面透明導電膜付き基材を、実施例1と同様にフォトリソグラフィにより、ドライフィルムフォトレジストで露光・現像した後、エッチング及びレジスト剥離することで、片面の透明導電膜をドライブ電極3、もう一方の面の透明導電膜をセンス電極4としてパターン形成した。フォトリソグラフィに際し、フォトレジストの現像は炭酸ナトリウム水溶液で行い、塩化第二鉄溶液で銀ナノワイヤーをエッチングし、水酸化ナトリウム水溶液でレジストを剥離した。また、銀配線8、9も実施例1と同様の方法で両面に形成した。この時、センス電極4と同じ層には、銀ペーストで図4と同様に補助電極5を形成した。補助電極5の幅は100μmとした。また、センス電極4と同じ層にはグランド電極6も形成した。またセンス電極4の端部を覆うように端部被覆電極12を図4と同様に形成した。
以上で得られた両面透明導電膜付き基材を75μm厚の透明粘着層10を用いて、最表面に0.55mm厚の化学強化したカバーガラス11を貼り合わせることで、タッチパネル200を得た。
The obtained double-sided transparent conductive film-attached substrate is exposed and developed with a dry film photoresist by photolithography in the same manner as in Example 1, and then the etching and the resist are peeled off to form the drive electrode 3 of the transparent conductive film on one side. The transparent conductive film on the other side was patterned as the sense electrode 4. During photolithography, development of the photoresist was carried out with an aqueous solution of sodium carbonate, the silver nanowires were etched with a ferric chloride solution, and the resist was peeled off with an aqueous solution of sodium hydroxide. In addition, silver wires 8 and 9 were also formed on both sides in the same manner as in Example 1. At this time, the auxiliary electrode 5 was formed of silver paste in the same layer as the sense electrode 4 as in FIG. The width of the auxiliary electrode 5 is 100 μm. Further, the ground electrode 6 was also formed in the same layer as the sense electrode 4. Further, the end covering electrode 12 was formed in the same manner as in FIG. 4 so as to cover the end of the sense electrode 4.
The touch panel 200 was obtained by bonding the chemically strengthened cover glass 11 having a thickness of 0.55 mm to the outermost surface using the transparent adhesive layer 10 having a thickness of 75 μm and the base material with a double-sided transparent conductive film obtained above.

タッチパネルの動作確認は、銀配線8、9をフレキシブルプリント基板経由で駆動LSIに接続して行った。その結果、良好に指の接触の検知と座標位置の検出ができた。得られたタッチパネルを60℃90%Rhの環境で240時間動作させた後、環境試験機より取り出し、上記と同様に動作確認を行った結果、同様に良好に指の接触の検知と座標位置の検出ができた。   The operation check of the touch panel was performed by connecting the silver wires 8 and 9 to the driving LSI via the flexible printed circuit. As a result, it was possible to detect finger contact and coordinate position well. The obtained touch panel is operated in an environment of 60 ° C. and 90% Rh for 240 hours, and then taken out of the environmental testing machine, and the operation check is performed similarly to the above. It could be detected.

<比較例1>
図5と同様の層構成を持つタッチパネル300を作製した。図6は、タッチパネル300の電極部を示した平面図であり、Cの線に沿って断面を見た模式図が図5である。
センス電極4と同じ層に補助電極5を設けない事以外は、実施例2と同様にタッチパネル300を作製した。
Comparative Example 1
A touch panel 300 having the same layer configuration as that of FIG. 5 was produced. FIG. 6 is a plan view showing the electrode part of the touch panel 300, and FIG. 5 is a schematic view of a cross section taken along the line C. As shown in FIG.
A touch panel 300 was produced in the same manner as in Example 2 except that the auxiliary electrode 5 was not provided in the same layer as the sense electrode 4.

作製直後のタッチパネル300は良好に動作し、指の接触の検知と座標位置の検出ができた。しかし、得られたタッチパネル300を60℃90%Rhの環境で240時間動作させた後、環境試験機より取り出し、上記と同様に動作確認を行った結果、タッチセンサ外周部のタッチ検知性能が著しく低下していた。センス電極4とグランド電極6の間でセンス電極4を構成する透明導電膜の銀ナノワイヤーがイオンマイグレーションを起こしていた。   The touch panel 300 immediately after the preparation worked well, and was able to detect a finger touch and a coordinate position. However, after operating the obtained touch panel 300 in an environment of 60 ° C. and 90% Rh for 240 hours, it is taken out from the environmental testing machine and the operation check is performed in the same manner as described above. It was down. The silver nanowires of the transparent conductive film constituting the sense electrode 4 between the sense electrode 4 and the ground electrode 6 had undergone ion migration.

以上、本発明の実施例及び比較例は、ドライブ電極3及びセンス電極4の形状が矩形のタッチパネルで代表して説明したが、電極形状についてはこの限りではなく、ダイヤモンド型やその他の形状であっても構わない。   As mentioned above, although the example of this invention and the comparative example were represented representatively with the touch panel in which the shape of the drive electrode 3 and the sense electrode 4 is a rectangle, it is not this limitation about an electrode shape, It is diamond type or other shapes. It does not matter.

本発明のタッチパネルは、静電容量式タッチパネルとして用いられ、スマートフォンやタブレット、ノートPCなどの前面に配置されるユーザーインターフェースなどとして利用可能である。   The touch panel of the present invention is used as a capacitive touch panel, and can be used as a user interface or the like disposed on the front surface of a smartphone, a tablet, a notebook PC or the like.

1…透明基板
2…樹脂層
3…ドライブ電極(透明導電膜)
4…センス電極(透明導電膜)
5…補助電極
6…グランド電極(センス電極と同じ層)
8…ドライブ電極配線
9…センス電極配線
10…透明粘着層
11…センサカバー
12…端部被覆電極
13…保護層
100…タッチパネル
200…タッチパネル
300…比較例のタッチパネル
1 ... transparent substrate 2 ... resin layer 3 ... drive electrode (transparent conductive film)
4 ... sense electrode (transparent conductive film)
5 ... auxiliary electrode 6 ... ground electrode (same layer as sense electrode)
8 ... drive electrode wiring 9 ... sense electrode wiring 10 ... transparent adhesive layer 11 ... sensor cover 12 ... end covering electrode 13 ... protective layer 100 ... touch panel 200 ... touch panel 300 ... touch panel of comparative example

Claims (10)

透明基板と、パターン形成された透明導電膜と、前記透明導電膜に接続された金属配線とを少なくとも含み、前記パターン形成された透明導電膜により構成され、所定方向に延びる複数のドライブ電極と、前記パターン形成された透明電導膜により構成され、前記ドライブ電極と交差する方向に延びる複数のセンス電極が互いに異なる層に配置されたタッチパネルであって、
前記ドライブ電極または前記センス電極のうち一方の電極と同じ層に配置され、前記一方の電極が配列されたセンサエリアよりも外側において、前記一方の電極と同方向に延びるように形成されたグランド電極と、
前記グランド電極と同じ層に配置されたドライブ電極またはセンス電極のうち、前記グランド電極に最も近い電極と、前記グランド電極との間に、前記グランド電極及び前記グランド電極に最も近い電極と同方向に延びるように導電材料で構成され前記グランド電極に最も近い電極と常に等電位にある補助電極とを備えていることを特徴とするタッチパネル。
A plurality of drive electrodes including at least a transparent substrate, a patterned transparent conductive film, and a metal wiring connected to the transparent conductive film, wherein the plurality of drive electrodes are formed of the patterned transparent conductive film and extend in a predetermined direction ; wherein it is constituted by patterned transparent conductive film, a plurality of sense electrodes extending in a direction intersecting with the drive electrode is a touch panel disposed on different layers,
A ground electrode disposed in the same layer as one of the drive electrode or the sense electrode and extending in the same direction as the one electrode outside the sensor area in which the one electrode is arranged. When,
Of the drive electrode or sense electrode disposed in the same layer as the ground electrode, the electrode closest to the ground electrode and the ground electrode in the same direction as the ground electrode and the electrode closest to the ground electrode is composed of a conductive material so as to extend, a touch panel, characterized in that an auxiliary electrode is always equal potential closest electrode to the ground electrode.
前記補助電極が、該補助電極と異なる層に設けられたドライブ電極またはセンス電極を構成する透明導電膜の最外部より外側に位置することを特徴とする、請求項1に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 1, wherein the auxiliary electrode is positioned outside the outermost portion of a transparent conductive film forming a drive electrode or a sense electrode provided in a layer different from the auxiliary electrode. 前記補助電極が、該補助電極と同じ層に配置された前記センサエリアと、該補助電極と異なる層に設けられたドライブ電極またはセンス電極が配列されたセンサエリアとが重なるエリアにドライブ電極またはセンス電極の配列ピッチの半分を加えたエリアであるタッチセンサ有効エリアより外側に位置することを特徴とする、請求項1または2に記載のタッチパネル。   The drive electrode or the sense electrode is located in an area where the auxiliary electrode overlaps the sensor area in the same layer as the auxiliary electrode and the sensor area in which the drive electrode or sense electrode arranged in a layer different from the auxiliary electrode is arranged. The touch panel according to claim 1, wherein the touch panel is located outside the touch sensor effective area which is an area obtained by adding half of the arrangement pitch of the electrodes. 前記補助電極が、該補助電極と異なる層に設けられたドライブ電極またはセンス電極が配列されたセンサエリアより外側で、該補助電極と異なる層に設けられたドライブ電極またはセンス電極に接続された金属配線と交差することを特徴とする、請求項1から3のいずれか1つに記載のタッチパネル。   A metal connected to a drive electrode or sense electrode provided in a layer different from the auxiliary electrode, outside the sensor area where the auxiliary electrode is provided in a layer different from the auxiliary electrode or the drive electrode or sense electrode is arranged The touch panel according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it intersects with a wiring. 前記補助電極と異なる層において該補助電極と重なる位置に設けられたドライブ電極、センス電極、または金属配線の幅が、500μmより小さいことを特徴とする、請求項1から4のいずれか1つに記載のタッチパネル。   The width of a drive electrode, a sense electrode, or a metal wiring provided at a position overlapping with the auxiliary electrode in a layer different from the auxiliary electrode is smaller than 500 μm. Touch panel described. 前記補助電極の幅が1mmより小さいことを特徴とする、請求項1から5のいずれか1つに記載のタッチパネル。   The touch panel according to any one of claims 1 to 5, wherein the width of the auxiliary electrode is smaller than 1 mm. 前記補助電極が金属ナノワイヤーを少なくとも含むことを特徴とする、請求項1から6のいずれか1つに記載のタッチパネル。   The touch panel according to any one of claims 1 to 6, wherein the auxiliary electrode includes at least metal nanowires. 前記金属ナノワイヤーが樹脂層に覆われていることを特徴とする、請求項7に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 7, wherein the metal nanowires are covered with a resin layer. 前記補助電極が金属電極を含むことを特徴とする、請求項1から8のいずれか1つに記載のタッチパネル。   The touch panel according to any one of claims 1 to 8, wherein the auxiliary electrode comprises a metal electrode. 前記ドライブ電極及び/または前記センス電極は、前記金属配線と接続されていない端部が金属材料で覆われていることを特徴とする、請求項1から9のいずれか1つに記載のタッチパネル。   The touch panel according to any one of claims 1 to 9, wherein an end of the drive electrode and / or the sense electrode not connected to the metal wiring is covered with a metal material.
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