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JP6485134B2 - Image forming method, image forming apparatus, and process cartridge - Google Patents
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JP6485134B2 - Image forming method, image forming apparatus, and process cartridge - Google Patents

Image forming method, image forming apparatus, and process cartridge Download PDF

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Description

本発明は、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関するものである。   The present invention relates to an image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge.

電子写真方式の画像形成装置は、一般的には次のような構成、およびプロセスを有する。即ち、電子写真感光体表面を極性および電位に帯電させ、帯電後の電子写真感光体の表面を、像露光により選択的に除電することにより静電潜像を形成させた後、該静電潜像にトナーを付着させることにより、潜像をトナー像として現像し、トナー像を記録媒体に転写させることにより、画像形成物として排出する。   An electrophotographic image forming apparatus generally has the following configuration and process. That is, the surface of the electrophotographic photosensitive member is charged to polarity and potential, and the surface of the electrophotographic photosensitive member after charging is selectively discharged by image exposure to form an electrostatic latent image, and then the electrostatic latent image is formed. By attaching toner to the image, the latent image is developed as a toner image, and the toner image is transferred onto a recording medium to be discharged as an image-formed product.

近年、電子写真感光体は、高速かつ高印字品質が得られるという利点を有することから、複写機及びレーザービームプリンター等の分野においての利用が多くなってきている。   In recent years, electrophotographic photosensitive members have been used in many fields such as copying machines and laser beam printers because they have the advantage of high speed and high print quality.

これら画像形成装置において用いられる電子写真感光体としては、従来からのセレン、セレンーテルル合金、セレンーヒ素合金、硫化カドミウム等無機光導電材料を用いた電子写真感光体(無機感光体)が知られており、近年では、安価で製造性及び廃棄性の点で優れた利点を有する有機光導電材料を用いた有機感光体(有機感光体)が主流を占めるようになってきている。   As electrophotographic photosensitive members used in these image forming apparatuses, conventional electrophotographic photosensitive members (inorganic photosensitive members) using inorganic photoconductive materials such as selenium, selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, cadmium sulfide and the like are known. In recent years, organic photoreceptors (organic photoreceptors) using an organic photoconductive material, which is inexpensive and has excellent advantages in terms of manufacturability and discardability, have become mainstream.

電子写真感光体の長寿命化、高信頼性化のために、電子写真感光体の表面に保護層を設けて強度を向上させることが提案されている。   It has been proposed to provide a protective layer on the surface of the electrophotographic photosensitive member to improve the strength in order to prolong the life of the electrophotographic photosensitive member and to improve the reliability.

保護層を形成する材料系としては、以下のものが提案されている。
即ち、例えば、特許文献1には、導電粉をフェノール樹脂に分散したものが、特許文献2には、有機−無機ハイブリッド材料によるものが、特許文献3には、アルコール可溶性電荷輸送材料とフェノール樹脂によるものが、それぞれ開示されている。
また、特許文献4には、アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂と、電子受容性カルボン酸、或いは、電子受容性ポリカルボン酸無水物の硬化膜が、特許文献5には、ベンゾグアナミン樹脂に、ヨウ素、有機スルホン酸化合物、或いは、塩化第二鉄などをドーピングした硬化膜が、特許文献6には、特定の添加剤と、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シロキサン樹脂、又はウレタン樹脂との硬化膜が、保護層として開示されている。
The followings have been proposed as material systems for forming the protective layer.
That is, for example, in Patent Document 1, a conductive powder dispersed in a phenolic resin, in Patent Document 2, an organic-inorganic hybrid material, in Patent Document 3, an alcohol-soluble charge transport material and a phenolic resin Are each disclosed.
Further, in Patent Document 4, a cured film of an alkyletherified benzoguanamine / formaldehyde resin, an electron accepting carboxylic acid, or an electron accepting polycarboxylic acid anhydride is disclosed in Patent Document 5, iodine may be used as the benzoguanamine resin. In Patent Document 6, a cured film doped with an organic sulfonic acid compound or ferric chloride is a cured film of a specific additive and a phenol resin, a melamine resin, a benzoguanamine resin, a siloxane resin, or a urethane resin. Is disclosed as a protective layer.

また、近年ではアクリル系材料による保護層が注目されている。例えば、特許文献7には、光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を硬化した膜が、特許文献8には、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材、及びバインダー樹脂の混合物を、熱或いは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が、特許文献9、10には、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜が、それぞれ保護層として開示されている。また、特許文献11には、スチリル基変性した正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜を用いた電子写真感光体が開示されている。
これら連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物は、硬化条件、硬化雰囲気等の影響を強く受けることから、例えば、特許文献12には、真空中、或いは不活性ガス中で放射線照射後に加熱されることによって形成された膜が、特許文献13には、不活性ガス中で加熱硬化された膜が開示されている。
更に、例えば、特許文献8、14には、電荷輸送材料自身をアクリル変性し、架橋可能とすると共に、電荷輸送性を有さない反応性モノマーを添加する、膜強度を向上させることも開示されている。
Moreover, in recent years, a protective layer made of an acrylic material attracts attention. For example, in Patent Document 7, a film obtained by curing a liquid containing a photocurable acrylic monomer is disclosed in Patent Document 8. In Patent Document 8, a monomer having a carbon-carbon double bond and charge transfer having a carbon-carbon double bond are disclosed. A film formed by reacting a mixture of a material and a binder resin with the carbon-carbon double bond of the monomer and the carbon-carbon double bond of the charge transfer material by heat or light energy is disclosed in Patent Document In 9, 10, a film formed of a compound obtained by polymerizing a hole transporting compound having two or more chain polymerizable functional groups in the same molecule is disclosed as a protective layer. Further, Patent Document 11 discloses an electrophotographic photosensitive member using a film formed of a compound obtained by polymerizing a styryl group-modified hole transporting compound.
Since the hole transportable compound having such chain polymerizable functional groups is strongly influenced by the curing conditions, curing atmosphere, etc., for example, Patent Document 12 heats after irradiation in vacuum or in an inert gas. Patent Document 13 discloses a film formed by heat-curing in an inert gas.
Further, for example, Patent Documents 8 and 14 disclose that the film strength is improved by acrylic-modifying the charge transport material itself to make it crosslinkable and adding a reactive monomer having no charge transport property. ing.

更に、反応物、硬化膜による保護層としては以下のようなものも提案されている。
例えば、特許文献15には、電荷輸送材料自身を3官能以上の多官能に変性し、これを重合した化合物を含有する保護層が開示されている。また、特許文献16には、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質の重合物を保護層に使用する技術が開示されており、また、摩擦特性を向上させるために、潤滑剤としてフッ素原子含有化合物を保護層中に含有する技術が開示されている。加えて、特許文献17には、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質の濃度を最表面から内部に向かって傾斜を持たせることで、機械特性と電気特性を両立できることが開示されている。
Further, as a protective layer made of a reactant and a cured film, the followings have been proposed.
For example, Patent Document 15 discloses a protective layer containing a compound obtained by modifying a charge transport material itself to a trifunctional or higher polyfunctional and polymerizing the same. Further, Patent Document 16 discloses a technique of using a polymer of a charge transport material having a chain polymerizable functional group for a protective layer, and also contains a fluorine atom as a lubricant to improve friction characteristics. There is disclosed a technique of containing a compound in a protective layer. In addition, Patent Document 17 discloses that the mechanical property and the electrical property can be compatible by making the concentration of the charge transport material having a chain polymerizable functional group slope from the outermost surface toward the inside.

また、特許文献18には、連鎖重合性官能基を1つ以上有する第1の電荷輸送性化合物と、第1の電荷輸送性化合物に対し5.0〜45.0wt%の量の連鎖重合性官能基を有さない第2の電荷輸送性化合物とを含有させることが開示されている。特許文献19には、少なくともアクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を有する第一の電荷輸送性化合物と、水酸基を有する第二の電荷輸送性化合物とを含有させることが開示されている。特許文献20には、架橋型電荷輸送層中にさらに電荷輸送層と同じ低分子電荷輸送材料を含有させることが開示されている。   In addition, Patent Document 18 discloses a first charge transporting compound having one or more chain polymerizable functional groups, and a chain polymerizing amount of 5.0 to 45.0 wt% with respect to the first charge transporting compound. It is disclosed to contain a second charge transportable compound having no functional group. Patent Document 19 discloses that a first charge transporting compound having at least an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group and a second charge transporting compound having a hydroxyl group are contained. Patent Document 20 discloses that the crosslinked charge transport layer further contains the same low molecular charge transport material as the charge transport layer.

また、特許文献21、特許文献22および、非特許文献1には、表面に架橋構造を有する感光体にステアリン酸亜鉛を供給すること、さらに、窒化ホウ素のような固体潤滑剤、酸化アルミのような研磨剤をステアリン酸亜鉛中に含有させることで画像の維持性を高めることが開示されている。   Also, in Patent Document 21, Patent Document 22 and Non-patent Document 1, supplying zinc stearate to a photoreceptor having a cross-linked structure on the surface, a solid lubricant such as boron nitride, aluminum oxide, etc. It is disclosed that the retention of an image is enhanced by incorporating such an abrasive in zinc stearate.

また、特許文献23には、表面に架橋構造を有する感光体と、メジアン径が0.10μm以上1.00μm以下の脂肪酸金属塩を含有するトナーを用いた画像形成方法が開示されている。   Further, Patent Document 23 discloses an image forming method using a photosensitive member having a crosslinked structure on the surface and a toner containing a fatty acid metal salt having a median diameter of 0.10 μm to 1.00 μm.

また、特許文献24には、表面層がポリカーボネートからなる感光体の摩耗率とトナー中のステアリン酸亜鉛の含有量について開示されている。   Further, Patent Document 24 discloses the wear rate of a photosensitive member whose surface layer is made of polycarbonate and the content of zinc stearate in the toner.

また、特許文献25には、特定構造の架橋膜表面の感光体と、ステアリン酸亜鉛等の金属石鹸をトナー中に添加した例が、特許文献26には、特定構造の架橋膜表面の感光体を用い、プリント後の感光体表面のステアリン酸亜鉛被服率を制御する方法が開示されている。   Further, Patent Document 25 shows an example in which a photosensitive member on the surface of a crosslinked film having a specific structure and a metal soap such as zinc stearate are added to the toner. Patent Document 26 shows a photosensitive member on the surface of a crosslinked film having a specific structure Discloses a method of controlling the coverage of zinc stearate on the surface of a photoreceptor after printing.

特許第3287678号公報Patent No. 3287678 gazette 特開平12−019749号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 12-019749 特開2002−82469号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-82469 特開昭62−251757号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-251757 特開平7−146564号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-146564 特開2006−84711号公報JP, 2006-84711, A 特開平5−40360号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 5-40360 特開平5−216249号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 5-216249 特開2000−206715号公報JP 2000-206715 A 特開2001−166509号公報JP, 2001-166509, A 特許第2852464号公報Patent No. 2852464 特開2004−12986号公報JP 2004-12986 A 特開平7−72640号公報JP-A-7-72640 特開2004−302450号公報JP 2004-302450 A 特開2000−206717号公報JP 2000-206717 A 特開2001−175016号公報JP 2001-175016 A 特開2007−86522号公報Japanese Patent Application Publication No. 2007-86522 特開2005−62301号公報JP, 2005-62301, A 特開2005−62302号公報JP, 2005-62302, A 特開2006−138956号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-138956 特開2007−79244号公報JP 2007-79244 A 特開2012−123209号公報JP 2012-123209 A 特開2010−54884号公報JP, 2010-54884, A 特開2007−310181号公報JP 2007-301018 A 特開2013−44820号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-44820 特開2013−105046号公報JP, 2013-105046, A

Ricoh Technical Report No.38,P.37Ricoh Technical Report No. 38, P.I. 37

本発明の課題は、反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置される帯電手段により、電子写真感光体の表面を帯電する帯電工程と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤により、電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像工程と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、電子写真感光体の表面に接触したクリーニングブレードにより、電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング工程と、を経る画像形成方法において、式(A1)、式(B1)、式(B2)、式(C1)および式(C2)のいずれかを満たさない場合、又は最表面層が酸化防止剤を含まない場合に比べ、高温高湿環境又は低温低湿環境で、低画像濃度又は高画像濃度の画像を繰り返し形成したときでも、長期に亘って濃度ムラを抑制した画像が得られる画像形成方法を提供することである。   The subject of the present invention is a cured film of a composition containing a reactive charge transport material, which comprises an electrophotographic photosensitive member by charging means disposed in contact with or in proximity to the surface of the electrophotographic photosensitive member having the outermost surface layer. The developer includes a charging step of charging the surface of the toner, an electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member, and a toner including toner particles and fatty acid metal salt particles. The electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member is developed to form a toner image, the transfer step of transferring the toner image to the surface of the recording medium, and the surface of the electrophotographic photosensitive member is contacted In the image forming method, the cleaning step of cleaning the surface of the electrophotographic photosensitive member with a cleaning blade, any of Formula (A1), Formula (B1), Formula (B2), Formula (C1) and Formula (C2) Meet the Even when the low image density or high image density image is repeatedly formed in the high temperature and high humidity environment or the low temperature and low humidity environment as compared with the case where the outermost surface layer does not contain the antioxidant. Providing an image forming method capable of obtaining an image in which

上記課題は、以下の手段により解決される。   The above-mentioned subject is solved by the following means.

に係る発明は、
導電性基体および前記導電性基体上に設けられた感光層を有し、反応性電荷輸送材料および酸化防止剤を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置される帯電手段により、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電工程と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、
トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像工程と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、
前記電子写真感光体の表面に接触したクリーニングブレードにより、前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング工程と、
を有し、
前記トナーの全質量に対する前記脂肪酸金属塩粒子の含有量をRmf(質量%)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を高温高湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWh(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWhmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWhmin(nm/1000回転)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を低温低湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWl(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWlmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWlmin(nm/1000回転)とした場合、
下記式(A1)、下記式(B1)、下記式(B2)、下記式(C1)および下記式(C2)を満たす画像形成方法。
・式(A1): 0.01<Rmf<0.20
・式(B1): 0.005<Rmf/Wh<5.000
・式(B2): 0.002<Rmf/Wl<1.000
・式(C1): 1.0<Whmax/Whmin<2.5
・式(C2): 1.0<Wlmax/Wlmin<2.5
The invention pertaining to < 1 > is
The surface of an electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate, and a cured film of a composition containing a reactive charge transport material and an antioxidant, wherein the outermost surface layer is formed. Charging the surface of the electrophotographic photosensitive member by charging means disposed in contact with or in proximity to the
An electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the surface of the electrophotographic photosensitive member charged;
Developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer including toner having toner particles and fatty acid metal salt particles to form a toner image;
A transfer step of transferring the toner image to the surface of a recording medium;
A cleaning step of cleaning the surface of the electrophotographic photosensitive member with a cleaning blade in contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Have
The content of the fatty acid metal salt particles relative to the total mass of the toner is Rmf (mass%),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wh (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a high temperature and high humidity environment, and the maximum wear of the electrophotographic photosensitive member Rate is Whmax (nm / 1000 rotation), and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Whmin (nm / 1000 rotation),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wl (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a low temperature and low humidity environment, and the maximum wear rate of the electrophotographic photosensitive member Where Wlmax (nm / 1000 rotations) and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wlmin (nm / 1000 rotations),
An image forming method which satisfies the following formula (A1), the following formula (B1), the following formula (B2), the following formula (C1) and the following formula (C2).
-Formula (A1): 0.01 <Rmf <0.20
Formula (B1): 0.005 <Rmf / Wh <5.000
Formula (B2): 0.002 <Rmf / Wl <1.000
-Formula (C1): 1.0 <Whmax / Whmin <2.5
-Formula (C2): 1.0 <Wlmax / Wlmin <2.5

に係る発明は、
前記脂肪酸金属塩粒子が、体積基準によるメディアン径が0.1μm以上10.0μm以下のステアリン酸亜鉛の粒子であるに記載の画像形成方法。
The invention pertaining to < 2 > is
The image forming method according to < 1 > , wherein the fatty acid metal salt particles are particles of zinc stearate having a median diameter of 0.1 μm to 10.0 μm on a volume basis.

に係る発明は、
前記酸化防止剤が、ラジカル重合禁止剤である又はに記載の画像形成方法。
The invention relating to < 3 > is
The image forming method according to < 1 > or < 2 > , wherein the antioxidant is a radical polymerization inhibitor.

に係る発明は、
前記反応性電荷輸送材料が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び連鎖重合性官能基を少なくとも有する連鎖重合性化合物であるのいずれか1項に記載の画像形成方法。
The invention pertaining to < 4 > is
The image forming method according to any one of < 1 > to < 3 > , wherein the reactive charge transporting material is a chain polymerizable compound having at least a charge transporting skeleton and a chain polymerizable functional group in the same molecule.

に係る発明は、
前記反応性電荷輸送材料が、下記一般式(I)及び(II)で示される連鎖重合性化合物から選択される少なくとも1種であるのいずれか1項に記載の画像形成方法。
The invention pertaining to < 5 > is
The image according to any one of < 1 > to < 3 > , wherein the reactive charge transport material is at least one selected from chain polymerizable compounds represented by the following general formulas (I) and (II) Formation method.

〔一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。Lは、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは1以上8以下の整数を示す。〕 [In general formula (I), F shows a charge transportable skeleton. L represents a divalent linking group containing two or more selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)-, -S- and -O- Show. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group. m represents an integer of 1 or more and 8 or less. ]

〔一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。L’は、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 m’は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。〕 [In general formula (II), F shows a charge transportable skeleton. L 'is a trivalent or tetravalent group derived from alkane or alkene, and an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)-, -S-, and -O- The (n + 1) valent linking group containing 2 or more types selected from the group which consists of these is shown. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group. m 'represents an integer of 1 or more and 6 or less. n represents an integer of 2 or more and 3 or less. ]

に係る発明は、
導電性基体および前記導電性基体上に設けられた感光層を有し、反応性電荷輸送材料および酸化防止剤を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置され、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤を収容し、前記現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触し、前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、
を備え、
前記トナーの全質量に対する前記脂肪酸金属塩粒子の含有量をRmf(質量%)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を高温高湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWh(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWhmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWhmin(nm/1000回転)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を低温低湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWl(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWlmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWlmin(nm/1000回転)とした場合、
下記式(A1)、下記式(B1)、下記式(B2)、下記式(C1)および下記式(C2)を満たす画像形成装置。
・式(A1): 0.01<Rmf<0.20
・式(B1): 0.005<Rmf/Wh<5.000
・式(B2): 0.002<Rmf/Wl<1.000
・式(C1): 1.0<Whmax/Whmin<2.5
・式(C2): 1.0<Wlmax/Wlmin<2.5
The invention pertaining to < 6 > is
An electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate, and a cured film of a composition containing a reactive charge transport material and an antioxidant, wherein the outermost surface layer is formed;
A charging unit disposed in contact with or in close proximity to the surface of the electrophotographic photosensitive member to charge the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the electrophotographic photosensitive member charged;
Developing means for containing a developer containing toner having toner particles and fatty acid metal salt particles, and developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member by the developer to form a toner image When,
A transfer unit that transfers the toner image to the surface of a recording medium;
A cleaning unit having a cleaning blade that contacts the surface of the electrophotographic photosensitive member and cleans the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Equipped with
The content of the fatty acid metal salt particles relative to the total mass of the toner is Rmf (mass%),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wh (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a high temperature and high humidity environment, and the maximum wear of the electrophotographic photosensitive member Rate is Whmax (nm / 1000 rotation), and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Whmin (nm / 1000 rotation),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wl (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a low temperature and low humidity environment, and the maximum wear rate of the electrophotographic photosensitive member Where Wlmax (nm / 1000 rotations) and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wlmin (nm / 1000 rotations),
An image forming apparatus which satisfies the following formula (A1), the following formula (B1), the following formula (B2), the following formula (C1) and the following formula (C2).
-Formula (A1): 0.01 <Rmf <0.20
Formula (B1): 0.005 <Rmf / Wh <5.000
Formula (B2): 0.002 <Rmf / Wl <1.000
-Formula (C1): 1.0 <Whmax / Whmin <2.5
-Formula (C2): 1.0 <Wlmax / Wlmin <2.5

に係る発明は、
導電性基体および前記導電性基体上に設けられた感光層を有し、反応性電荷輸送材料および酸化防止剤を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置され、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤を収容し、前記現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触し、前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、
を備え、
前記トナーの全質量に対する前記脂肪酸金属塩粒子の含有量をRmf(質量%)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を高温高湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWh(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWhmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWhmin(nm/1000回転)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を低温低湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWl(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWlmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWlmin(nm/1000回転)とした場合、
下記式(A1)、下記式(B1)、下記式(B2)、下記式(C1)および下記式(C2)を満たし、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
・式(A1): 0.01<Rmf<0.20
・式(B1): 0.005<Rmf/Wh<5.000
・式(B2): 0.002<Rmf/Wl<1.000
・式(C1): 1.0<Whmax/Whmin<2.5
・式(C2): 1.0<Wlmax/Wlmin<2.5
The invention concerning < 7 > is
An electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate, and a cured film of a composition containing a reactive charge transport material and an antioxidant, wherein the outermost surface layer is formed;
A charging unit disposed in contact with or in close proximity to the surface of the electrophotographic photosensitive member to charge the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Developing means for containing a developer containing toner having toner particles and fatty acid metal salt particles, and developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member by the developer to form a toner image When,
A cleaning unit having a cleaning blade that contacts the surface of the electrophotographic photosensitive member and cleans the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Equipped with
The content of the fatty acid metal salt particles relative to the total mass of the toner is Rmf (mass%),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wh (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a high temperature and high humidity environment, and the maximum wear of the electrophotographic photosensitive member Rate is Whmax (nm / 1000 rotation), and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Whmin (nm / 1000 rotation),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wl (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a low temperature and low humidity environment, and the maximum wear rate of the electrophotographic photosensitive member Where Wlmax (nm / 1000 rotations) and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wlmin (nm / 1000 rotations),
Satisfy the following formula (A1), the following formula (B1), the following formula (B2), the following formula (C1) and the following formula (C2),
Process cartridge to be attached to and removed from the image forming apparatus.
-Formula (A1): 0.01 <Rmf <0.20
Formula (B1): 0.005 <Rmf / Wh <5.000
Formula (B2): 0.002 <Rmf / Wl <1.000
-Formula (C1): 1.0 <Whmax / Whmin <2.5
-Formula (C2): 1.0 <Wlmax / Wlmin <2.5

に係る発明によれば、反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置される帯電手段により、電子写真感光体の表面を帯電する帯電工程と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤により、電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像工程と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、電子写真感光体の表面に接触したクリーニングブレードにより、電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング工程と、を経る画像形成方法において、式(A1)、式(B1)、式(B2)、式(C1)および式(C2)のいずれかを満たさない場合、又は最表面層に酸化防止剤を含まない場合に比べ、高温高湿環境又は低温低湿環境で、低画像濃度又は高画像濃度の画像を繰り返し形成したときでも、長期に亘って濃度ムラを抑制した画像が得られる画像形成方法が提供される。 According to the invention relating to < 1 > , the cured film of the composition containing the reactive charge transport material, is provided by the charging means disposed in contact with or in proximity to the surface of the electrophotographic photosensitive member having the outermost surface layer. It includes a charging step of charging the surface of the electrophotographic photosensitive member, an electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member, and a toner having toner particles and fatty acid metal salt particles. A developing step of developing an electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer to form a toner image; a transferring step of transferring the toner image to the surface of a recording medium; In the image forming method, the cleaning step of cleaning the surface of the electrophotographic photosensitive member by the cleaning blade in contact with the surface, formula (A1), formula (B1), formula (B2), formula (C1) and formula (A) C2) Even when an image of low image density or high image density is repeatedly formed in a high temperature / high humidity environment or a low temperature / low humidity environment as compared with the case where the image is not satisfied or the outermost surface layer does not contain an antioxidant, There is provided an image forming method capable of obtaining an image in which density unevenness is suppressed.

に係る発明によれば、トナーに、脂肪酸金属塩粒子として、体積基準によるメディアン径が10.0μm超えのステアリン酸亜鉛の粒子のみを含む場合に比べ、高温高湿環境又は低温低湿環境で、低画像濃度又は高画像濃度の画像を繰り返し形成したときでも、長期に亘って濃度ムラを抑制した画像が得られる画像形成方法が提供される。 According to the invention relating to < 2 > , the high-temperature high-humidity environment or the low-temperature low-humidity environment is compared with the case where the toner contains only particles of zinc stearate having a median diameter of 10.0 μm or more on a volume basis as fatty acid metal salt particles. Thus, an image forming method is provided in which an image in which density unevenness is suppressed over a long period of time is obtained even when an image with low image density or high image density is repeatedly formed.

に係る発明によれば、酸化防止剤が、過酸化物分解剤である場合に比べ、高温高湿環境又は低温低湿環境で、低画像濃度又は高画像濃度の画像を繰り返し形成したときでも、長期に亘って濃度ムラを抑制した画像が得られる画像形成方法が提供される。 According to the invention concerning < 3 > , when the image of low image density or high image density is repeatedly formed in high temperature high humidity environment or low temperature low humidity environment compared with the case where antioxidant is a peroxide decomposition agent However, there is provided an image forming method capable of obtaining an image in which density unevenness is suppressed over a long period of time.

、又はに係る発明によれば、電荷輸送材料として非反応性電荷輸送材料のみを含む最表面層を有する電子写真感光体を採用した場合に比べ、高温高湿環境又は低温低湿環境で、低画像濃度又は高画像濃度の画像を繰り返し形成したときでも、長期に亘って濃度ムラを抑制した画像が得られる画像形成方法が提供される。 According to the invention relating to < 4 > or < 5 > , the high-temperature, high-humidity environment or the low-temperature environment as compared with the case where the electrophotographic photosensitive member having the outermost surface layer containing only the nonreactive charge transport material is employed as the charge transport material. There is provided an image forming method capable of obtaining an image in which density unevenness is suppressed over a long period even when an image of low image density or high image density is repeatedly formed in a low humidity environment.

に係る発明によれば、反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体と、電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置され、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤を収容し、現像剤により、電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、電子写真感光体の表面に接触し、電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、を備える画像形成装置において、式(A1)、式(B1)、式(B2)、式(C1)および式(C2)のいずれかを満たさない場合、又は電子写真感光体の最表面層に酸化防止剤を含まない場合に比べ、高温高湿環境又は低温低湿環境で、低画像濃度又は高画像濃度の画像を繰り返し形成したときでも、長期に亘って濃度ムラを抑制した画像が得られる画像形成装置が提供される。 According to the invention relating to < 6 > , the electrophotographic photosensitive member having the outermost surface layer and the surface of the electrophotographic photosensitive member in contact with or in proximity to the cured film of the composition containing the reactive charge transport material. And charging means for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member, electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member, and toner having toner particles and fatty acid metal salt particles Developer containing the developer, and developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member by the developer to form a toner image, and transferring the toner image to the surface of the recording medium (A1), formula (B1), and formula (B2) in an image forming apparatus comprising: a cleaning means having a cleaning blade having a cleaning blade that contacts the surface of the electrophotographic photosensitive member and cleans the surface of the electrophotographic photosensitive member. ), Formula (C1) In the high temperature / high humidity environment or the low temperature / low humidity environment, as compared with the case where either of the formula (C2) is not satisfied or the outermost surface layer of the electrophotographic photosensitive member does not contain an antioxidant, low image density or high image density The present invention provides an image forming apparatus capable of obtaining an image in which density unevenness is suppressed over a long period of time, even when the image of (1) is repeatedly formed.

に係る発明によれば、反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体と、電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置され、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤を収容し、現像剤により、電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、電子写真感光体の表面に接触し、電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、を備えるプロセスカートリッジにおいて、式(A1)、式(B1)、式(B2)、式(C1)および式(C2)のいずれかを満たさない場合、又は電子写真感光体の最表面層に酸化防止剤を含まない場合に比べ、高温高湿環境又は低温低湿環境で、低画像濃度又は高画像濃度の画像を繰り返し形成したときでも、長期に亘って濃度ムラを抑制した画像が得られるプロセスカートリッジが提供される。 According to the invention relating to < 7 > , the electrophotographic photosensitive member having the outermost surface layer formed of the cured film of the composition containing the reactive charge transporting material and the electrophotographic photosensitive member arranged in contact with or in proximity to the surface of the electrophotographic photosensitive member And a developer containing a toner having a toner particle and a fatty acid metal salt particle, and an electrostatic charge formed on the surface of the electrophotographic photoconductor by the developer. A process cartridge comprising: developing means for developing a latent image to form a toner image; and cleaning means having a cleaning blade in contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member to clean the surface of the electrophotographic photosensitive member. A1) In the case where one of Formula (B1), Formula (B2), Formula (C1) and Formula (C2) is not satisfied or the outermost surface layer of the electrophotographic photosensitive member does not contain an antioxidant, High In a high-humidity environment or low temperature and low humidity environment, even when repeatedly formed an image of low image density or high image density, a process cartridge in which the image with suppressed density unevenness over a long time can be obtained are provided.

本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す概略部分断面図である。FIG. 2 is a schematic partial cross-sectional view showing an example of the layer configuration of the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment. 本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。FIG. 6 is a schematic partial cross-sectional view showing another example of the layer configuration of the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment. 本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。FIG. 6 is a schematic partial cross-sectional view showing another example of the layer configuration of the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration view showing an example of an image forming apparatus according to the present embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration view showing another example of the image forming apparatus according to the present embodiment. 画像パターンを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an image pattern.

以下、本発明の一例である本実施形態について説明する。   Hereinafter, the present embodiment, which is an example of the present invention, will be described.

本実施形態に係る画像形成方法は、電子写真感光体(以下、「感光体」とも称する)の表面に接触又は近接して配置される帯電手段により、感光体の表面を帯電する帯電工程と、帯電した感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、トナーを含む現像剤により、感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像工程と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、感光体の表面に接触したクリーニングブレードにより、感光体の表面をクリーニングするクリーニング工程と、を有する。   The image forming method according to the present embodiment includes a charging step of charging the surface of a photosensitive member by a charging unit disposed in contact with or in proximity to the surface of an electrophotographic photosensitive member (hereinafter also referred to as “photosensitive member”); The electrostatic latent image formed on the surface of the photosensitive member is developed to form a toner image by an electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the surface of the charged photosensitive member, and a developer containing toner The image forming apparatus includes a developing step, a transfer step of transferring a toner image to the surface of the recording medium, and a cleaning step of cleaning the surface of the photosensitive member with a cleaning blade in contact with the surface of the photosensitive member.

また、本実施形態に係る画像形成方法を実施する画像形成装置(本実施形態に係る画像形成装置)は、感光体と、感光体の表面に接触又は近接して配置され、感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤を収容し、現像剤により、感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、感光体の表面に接触し、感光体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、を備える。   Further, an image forming apparatus (an image forming apparatus according to the present embodiment) for performing the image forming method according to the present embodiment is disposed in contact with or in proximity to the photosensitive member and the surface of the photosensitive member. A charging unit for charging, an electrostatic latent image forming unit for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged photosensitive member, a developer containing toner, and a static agent formed on the surface of the photosensitive member by the developer Cleaning means having a developing means for developing an electrostatic latent image to form a toner image, a transferring means for transferring a toner image to the surface of a recording medium, and a cleaning blade for contacting the surface of the photosensitive member to clean the surface of the photosensitive member Means.

感光体は、導電性基体および前記導電性基体上に設けられた感光層を有し、反応性電荷輸送材料および酸化防止剤を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された感光体(以下、「硬化型感光体」とも称する)である。また、現像剤は、トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む。   A photoreceptor comprising a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate, wherein the cured film of a composition containing a reactive charge transport material and an antioxidant is an outermost surface layer. (Hereafter, it is also referred to as "curable photosensitive member"). The developer also includes a toner having toner particles and fatty acid metal salt particles.

そして、本実施形態に係る画像形成方法は、トナーの全質量に対する前記脂肪酸金属塩粒子の含有量をRmf(質量%)とし、画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を高温高湿環境で繰り返し形成したときにおける、感光体の平均摩耗率をWh(nm/1000回転)、感光体の最大摩耗率をWhmax(nm/1000回転)、感光体の最小摩耗率をWhmin(nm/1000回転)とし、画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を低温低湿環境で繰り返し形成したときにおける、感光体の平均摩耗率をWl(nm/1000回転)、感光体の最大摩耗率をWlmax(nm/1000回転)、感光体の最小摩耗率をWlmin(nm/1000回転)とした場合、式(A1)、式(B1)、式(B2)、式(C1)および式(C2)を満たす。
・式(A1): 0.01<Rmf<0.20
・式(B1): 0.005<Rmf/Wh<5.000
・式(B2): 0.002<Rmf/Wl<1.000
・式(C1): 1.0<Whmax/Whmin<2.5
・式(C2): 1.0<Wlmax/Wlmin<2.5
Then, in the image forming method according to the present embodiment, the content of the fatty acid metal salt particles with respect to the total mass of the toner is Rmf (mass%), and an image including three image patterns different in image density has a high temperature and high humidity environment. When the film is repeatedly formed, the average wear rate of the photosensitive member is Wh (nm / 1000 rotation), the maximum wear rate of the photosensitive member is Whmax (nm / 1000 rotation), and the minimum wear rate of the photosensitive member is Whmin (nm / 1000 rotation) The average wear rate of the photosensitive member is Wl (nm / 1000 rotation), and the maximum wear rate of the photosensitive member is Wlmax (when the image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a low temperature and low humidity environment). nm / 1000 rotation), and the minimum wear rate of the photosensitive member is Wlmin (nm / 1000 rotation), formula (A1), formula (B1), formula (B2), formula (C1) And formulas to satisfy the (C2).
-Formula (A1): 0.01 <Rmf <0.20
Formula (B1): 0.005 <Rmf / Wh <5.000
Formula (B2): 0.002 <Rmf / Wl <1.000
-Formula (C1): 1.0 <Whmax / Whmin <2.5
-Formula (C2): 1.0 <Wlmax / Wlmin <2.5

ここで、「画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を高温高湿環境又は低温低湿環境で繰り返し形成したとき」とは、「高温高湿環境(温度29℃、湿度85%RHの環境)又は低温低湿環境(温度10℃、湿度15%RHの環境)において、図6に示すように、記録媒体としてのA4用紙に、用紙横送り方向(短手方向)に沿って配列した4ドットラインと4ドットスペースの繰り返し細線画像で、用紙長手方向に沿って引かれた幅2mmの細線画像(この部分のみの画像濃度は50%)100Aを3本と、18mm×9mm四方の画像濃度100%のベタ画像100Bを6つと、18mm×9mm四方で、用紙長手方向に沿って配列した4ドットラインと4ドットスペースの繰り返し細線画像(この部分のみの画像濃度は50%)100Cを6つと、からなる画像を形成する出力を、A4用紙の横送り方向(短手方向)搬送で7万枚行う」ことを示す。
ここで、用紙長手方向に沿って引かれた幅2mmの3本の細線画像100Aの各間には、各々、ベタ画像100Bを3つ、細線画像100Cを3つ、等間隔で交互に配列した画像を形成する。
つまり、記録媒体としてのA4用紙には、細線画像100Aのみを有する画像濃度1.4%の第1の画像パターン101Aと、細線画像100Aおよびベタ画像100Bを有する画像濃度10%の第2の画像パターン101Bと、細線画像100Aおよび細線画像100Cを有する画像濃度5.7%の第3の画像パターン101Cからなる画像を形成する。
なお、各画像パターンの画像濃度とは、用紙送り方向(本実施形態では横送り方向(短手方向))における画像密度の平均値で示し、4ドットラインと4ドットスペースの繰り返し細線画像で、幅2mmの細線画像100Aのみを有する第1の画像パターンの部分は、紙幅210mmに対し画像濃度50%の部分が2mm×3本で(2×3×50%)/210=1.4%であり、同様に、細線画像100Aおよびベタ画像100Bを有する第2の画像パターン101Bの部分は{(2×3×50%)+(9×2×100%)}/210=10%であり、細線画像100Aおよび細線画像100Cを有する画像濃度5.7%の第3の画像パターン101Cの部分は{(2×3×50%)+(9×2×50%)}/210=5.7%と定義される濃度である。
Here, “when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a high temperature and high humidity environment or a low temperature and low humidity environment” is “an environment of high temperature and high humidity (temperature 29 ° C., humidity 85% RH) Or in a low temperature and low humidity environment (temperature 10 ° C., humidity 15% RH environment), as shown in FIG. 6, four dots arranged along the paper lateral feed direction (short direction) on A4 paper as a recording medium It is a thin line image of width 2 mm drawn along the paper longitudinal direction (the image density of only this part is 50%) 100 three times the image density 100 of 18 mm × 9 mm square, with a line and 4-dot space repeated thin line image Repeated fine line images of 4 dot lines and 4 dot spaces arranged along the longitudinal direction of the paper, with 6% solid images 100B and 18 mm × 9 mm squares (image density of only this part is 50%) It is shown that “the output for forming an image consisting of six 100Cs is performed by 70,000 sheets of the A4 sheet in the cross feed direction (short side direction) conveyance.
Here, three solid images 100B and three thin line images 100C are alternately arranged at equal intervals between each of three thin line images 100A of width 2 mm drawn along the paper longitudinal direction. Form an image.
That is, on an A4 sheet as a recording medium, a first image pattern 101A having an image density of 1.4% having only the thin line image 100A, and a second image having an image density of 10% having the thin line image 100A and the solid image 100B. An image is formed of the pattern 101B, and the third image pattern 101C having an image density of 5.7% having the thin line image 100A and the thin line image 100C.
The image density of each image pattern is the average value of the image density in the paper feed direction (in the present embodiment, the cross feed direction (short direction)), and the width is a repetitive thin line image of 4 dot lines and 4 dot spaces. The portion of the first image pattern having only a 2 mm thin line image 100A is (2 × 3 × 50%) / 210 = 1.4% with 2 mm × 3 pieces at an image density of 50% for a paper width of 210 mm. Similarly, the portion of the second image pattern 101B having the thin line image 100A and the solid image 100B is {(2 × 3 × 50%) + (9 × 2 × 100%)} / 210 = 10%, and the thin line The portion of the third image pattern 101C having an image density of 5.7% having the image 100A and the thin line image 100C is {(2 × 3 × 50%) + (9 × 2 × 50%)} / 210 = 5.7% The concentration is defined as

各環境での、感光体の平均摩耗率、感光体の最大摩耗率、感光体の最小摩耗率は、次に示す方法で測定される値である。
光学的膜厚測定装置(ライン干渉膜厚計)を用い、感光体の軸方向両端部を除く画像形成領域に該当する領域における感光体の長手方向に沿った最表面層の膜厚プロファイルを測定する。最表面層の膜厚プロファイルは、感光体の周方向に等間隔で4か所(感光体の断面から見て、0°、90°、180°、270°の4か所)で測定した平均値として作成する。そして、各環境下において、画像を形成する出力の前後で、最表面層の膜厚プロファイルの作成を行い、出力前後の最表面層の膜厚プロファイルの差分に基づいて、感光体の平均摩耗率、感光体の最大摩耗率、及び感光体の最小摩耗率を各々算出する。
なお、各摩耗率は、感光体1,000回転(サイクル)当たりの摩耗率に換算して算出する。つまり、各摩耗率は、感光体1,000回転(サイクル)当たりの摩耗率である。
The average wear rate of the photosensitive member, the maximum wear rate of the photosensitive member, and the minimum wear rate of the photosensitive member in each environment are values measured by the following method.
Using an optical film thickness measurement device (line interference film thickness meter), measure the film thickness profile of the outermost surface layer along the longitudinal direction of the photosensitive member in the region corresponding to the image forming region excluding both axial end portions of the photosensitive member Do. The film thickness profile of the outermost surface layer is an average measured at four locations at equal intervals in the circumferential direction of the photosensitive member (four locations of 0 °, 90 °, 180 °, 270 ° when viewed from the cross section of the photosensitive member) Create as a value. Then, under each environment, a film thickness profile of the outermost surface layer is created before and after the output for forming an image, and based on the difference between the film thickness profile of the outermost surface layer before and after the output, the average wear rate of the photosensitive member The maximum wear rate of the photosensitive member and the minimum wear rate of the photosensitive member are respectively calculated.
Each wear rate is calculated by converting it into a wear rate per 1,000 rotations (cycles) of the photosensitive member. That is, each wear rate is a wear rate per 1,000 rotations (cycles) of the photosensitive member.

そして、本実施形態に係る画像形成方法(装置)では、上記構成により、高温高湿環境(温度29℃、湿度85%RHの環境)又は低温低湿環境(温度10℃、湿度15%RHの環境)で、低画像濃度(画像濃度1.4%)又は高画像濃度(画像濃度10%)の画像を繰り返し形成したときでも、長期に亘って濃度ムラを抑制した画像が得られる。この理由は定かではないが、以下に示す理由によるものと推測される。   Further, in the image forming method (apparatus) according to the present embodiment, with the above configuration, the high temperature and high humidity environment (temperature 29 ° C., humidity 85% RH environment) or low temperature low humidity environment (temperature 10 ° C., humidity 15% RH) Even when an image of low image density (image density 1.4%) or high image density (image density 10%) is repeatedly formed, an image in which uneven density is suppressed over a long period of time can be obtained. The reason for this is not clear, but is presumed to be due to the following reasons.

従来、脂肪酸金属塩粒子を含むトナーを用いて、感光体の最表面層の摩耗を抑制する技術が知られている。しかし、反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された硬化型感光体を適用した場合、最表面層の機械的強度が高いため、高温高湿環境又は低温低湿環境のいずれの環境でも、最表面層の摩耗が過剰に抑制されることがある。最表面層の摩耗が過剰に抑制されると、脂肪酸金属塩が感光体の表面に過剰に堆積しやすくなる。特に、接触型又は近接型の帯電方式を採用した場合、放電の影響が強く、堆積した脂肪酸金属塩の劣化による潤滑性の低下、放電生成物の残留が生じやすくなる。   Heretofore, there has been known a technique for suppressing the wear of the outermost surface layer of a photosensitive member using a toner containing fatty acid metal salt particles. However, when a cured photoreceptor of a composition containing a reactive charge transport material is used and the curable photoreceptor having the outermost surface layer is applied, the mechanical strength of the outermost surface layer is high, so a high temperature high humidity environment or a low temperature low humidity In any of the environments, the wear of the outermost layer may be excessively suppressed. When the wear of the outermost surface layer is excessively suppressed, the fatty acid metal salt tends to be excessively deposited on the surface of the photoreceptor. In particular, when a contact type or proximity type charging method is employed, the influence of the discharge is strong, and the decrease in the lubricity due to the deterioration of the deposited fatty acid metal salt and the remaining of the discharge product tend to occur.

このため、繰り返し画像を形成した場合、クリーニングブレードに対して機械的負荷が掛かり、欠け又は摩耗が生じ、クリーニング不良を招き、画像の濃度ムラが生じ易くなる。この現象は、画像濃度が高いベタ画像を含む画像を繰り返し形成したときに生じやすい。これは、ベタ画像は、トナー量が多い画像のため、感光体の表面に供給される脂肪酸金属塩粒子の量も増えるため、部分的なクリーニング不良を招き、濃度ムラが生じ易くなると考えられる。つまり、画像濃度の高低によって、感光体の表面へのトナーの供給量(つまり脂肪酸金属塩粒子の供給量)が変化し、濃度ムラが生じ易さの差が生じると考えられる。   For this reason, when an image is repeatedly formed, a mechanical load is applied to the cleaning blade, chipping or abrasion occurs, cleaning failure is caused, and density unevenness of the image is easily generated. This phenomenon is likely to occur when an image including a solid image with high image density is repeatedly formed. It is considered that this is because a solid image is an image with a large amount of toner, and therefore the amount of fatty acid metal salt particles supplied to the surface of the photosensitive member is also increased, which causes partial cleaning failure and tends to cause uneven density. That is, it is considered that the amount of toner supplied to the surface of the photosensitive member (that is, the amount of fatty acid metal salt particles) changes due to the level of the image density, which causes a difference in the ease of occurrence of density unevenness.

このように、脂肪酸金属塩粒子を含むトナーと硬化型感光体を適用し、接触型又は近接型の帯電方式により帯電し、クリーニングブレード方式によりクリーニングする画像形成方法(装置)において、高温高湿環境又は低温低湿環境で、低画像濃度又は高画像濃度の画像を繰り返し形成したときでも、画像の濃度ムラを抑制するためには、トナー中の脂肪酸金属塩粒子の含有量(つまり、感光体の表面に供給される脂肪酸金属塩粒子の量)に応じて、感光体の最表面層を適度に摩耗させる必要があることがわかってきた。   As described above, in an image forming method (apparatus) in which toner containing fatty acid metal salt particles and a curing type photosensitive member are applied, charged by contact type or proximity type charging method and cleaned by a cleaning blade method, high temperature and high humidity environment Or, even when an image of low image density or high image density is repeatedly formed in a low temperature and low humidity environment, the content of fatty acid metal salt particles in the toner (that is, the surface of the photoreceptor) to suppress density unevenness of the image. It has been found that, depending on the amount of fatty acid metal salt particles supplied to (1), it is necessary to wear the outermost surface layer of the photoreceptor appropriately.

そこで、本実施形態に係る画像形成方法では、式(A1)、式(B1)、式(B2)、式(C1)および式(C2)を満たすようにする。つまり、式(A1)を満たすように脂肪酸金属塩粒子の含有量を制御し、硬化型感光体の表面に供給される脂肪酸金属塩の量を制限する。その上で、各環境において、画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を繰り返し形成したとき、式(B1)および式(B2)を満たすように、トナー中の脂肪酸金属塩粒子の含有量(つまり、感光体の表面に供給される脂肪酸金属塩粒子の量)と感光体の平均摩耗率との比を制御し、感光体の最表面層を適度に摩耗させる。これに加え、更に、式(C1)および式(C2)を満たすように、感光体の最大摩耗率と最小摩耗率との比を制御し、感光体の最大摩耗率と最小摩耗率との差分を抑える。   Therefore, in the image forming method according to the present embodiment, Formula (A1), Formula (B1), Formula (B2), Formula (C1) and Formula (C2) are satisfied. That is, the content of fatty acid metal salt particles is controlled to satisfy the formula (A1), and the amount of fatty acid metal salt supplied to the surface of the curing type photoreceptor is limited. Furthermore, when an image including three image patterns having different image densities is repeatedly formed in each environment, the content of fatty acid metal salt particles in the toner is satisfied so as to satisfy Formula (B1) and Formula (B2). The ratio between the amount of fatty acid metal salt particles supplied to the surface of the photosensitive member and the average wear rate of the photosensitive member is controlled to cause the outermost surface layer of the photosensitive member to be worn appropriately. In addition to this, the ratio between the maximum wear rate and the minimum wear rate of the photoreceptor is controlled to satisfy the formula (C1) and the formula (C2), and the difference between the maximum wear rate and the minimum wear rate of the photoreceptor Reduce

さらに、硬化型感光層の最表面層に酸化防止剤を含ませることにより、最表面層の摩耗により、最表面層から露出した酸化防止剤、又は最表面層から削れた酸化防止剤が脂肪酸金属塩に作用すると考えられる。この酸化防止剤の作用によって、最表面層に付着した脂肪酸金属塩の酸化による劣化を抑え、潤滑性の低下を抑制する。   Furthermore, by including an antioxidant in the outermost surface layer of the curable photosensitive layer, the antioxidant exposed from the outermost surface layer due to the abrasion of the outermost surface layer, or the antioxidant scraped from the outermost surface layer is a fatty acid metal It is thought to act on salt. By the action of the antioxidant, deterioration due to oxidation of the fatty acid metal salt attached to the outermost surface layer is suppressed, and the decrease in lubricity is suppressed.

このように、硬化型感光体の最表面層において、保護と摩耗(リフレッシュ)と潤滑性とを適正に制御する。これにより、硬化型感光体の表面への放電生成物の付着と共に、クリーニングブレードの摩耗又は欠けによるクリーニング不良が長期に亘り抑えられる。   Thus, protection, wear (refreshing) and lubricity are properly controlled in the outermost surface layer of the curing type photosensitive member. As a result, along with the adhesion of the discharge product to the surface of the curing type photosensitive member, cleaning failure due to wear or chipping of the cleaning blade can be suppressed for a long time.

このため、本実施形態に係る画像形成方法(装置)では、高温高湿環境又は低温低湿環境で、低画像濃度又は高画像濃度の画像を繰り返し形成したときでも、長期に亘って濃度ムラを抑制した画像が得られる。
また、本実施形態に係る画像形成方法(装置)では、感光体の表面への放電生成物の付着と共に、クリーニングブレードの摩耗又は欠けによるクリーニング不良が抑えられるため、長期に亘って、画像流れも抑制されやすくなる。
Therefore, in the image forming method (apparatus) according to the present embodiment, uneven density is suppressed for a long time even when an image of low image density or high image density is repeatedly formed in a high temperature high humidity environment or a low temperature low humidity environment The obtained image is obtained.
Further, in the image forming method (apparatus) according to the present embodiment, since the cleaning failure due to the abrasion or chipping of the cleaning blade is suppressed together with the adhesion of the discharge product to the surface of the photosensitive member, the image flow is also long. It becomes easy to be suppressed.

なお、一般的によく使用されるシアン画像、マゼンタ画像、イエロー画像、ブラック画像の画像形成工程(画像形成ユニット)を組み合わせたカラーの画像形成方法(装置)では、市場において出力される画像の約20%から30%がカラー画像である。つまり、市場において、シアン画像、マゼンタ画像、イエロー画像、ブラック画像の画像形成工程(画像形成ユニット)を利用する画像形成は、全出力の約20%から30%のみである。一方、市場において、ブラック画像の画像形成工程(画像形成ユニット)は、ほとんどの出力に利用されるため、画像の濃度ムラが発生しやすく、最も寿命が短い。これは、ブラック画像の画像形成工程(画像形成ユニット)のみを利用するモノクロの画像形成方法(装置)も、市場で最も利用されているため、同様である。   In addition, in a color image forming method (apparatus) combining an image forming process (image forming unit) of a cyan image, a magenta image, a yellow image, and a black image which are commonly used generally, about 20% to 30% are color images. That is, in the market, image formation using an image forming process (image forming unit) of a cyan image, a magenta image, a yellow image, and a black image is only about 20% to 30% of the total output. On the other hand, in the market, since the black image forming process (image forming unit) is used for most of the output, uneven density of the image is likely to occur and the life is the shortest. This is the same as the monochrome image forming method (apparatus) using only the black image forming process (image forming unit) is the most used in the market.

このように、本実施形態に係る画像形成方法(装置)は、市場で最も利用されるブラック画像の画像形成工程(画像形成ユニット)に適用することがよい。
具体的には、本実施形態に係る画像形成方法は、ブラック(黒)トナーを含む現像剤により、感光体の表面に形成された静電潜像を現像してブラック(黒)トナー像を形成する現像工程を有することがよい。また、本実施形態に係る画像形成装置は、ブラック(黒)トナーを含む現像剤を収容し、現像剤により、感光体の表面に形成された静電潜像を現像してブラック(黒)トナー像を形成する現像手段を備えることがよい。
As described above, the image forming method (apparatus) according to the present embodiment may be applied to an image forming process (image forming unit) of a black image most used on the market.
Specifically, in the image forming method according to the present embodiment, the electrostatic latent image formed on the surface of the photosensitive member is developed with a developer containing black (black) toner to form a black (black) toner image It is preferable to have a developing step. Further, the image forming apparatus according to the present embodiment contains a developer containing black (black) toner, and develops the electrostatic latent image formed on the surface of the photosensitive member with the developer to obtain black (black) toner It is preferable to include developing means for forming an image.

ここで、本実施形態に係る画像形成方法(装置)は、式(A1)を満たすが、画像の濃度ムラ抑制の点から、下記式(A1−2)を満たすことが好ましく、下記式(A1−3)を満たすことが更に好ましい。
また、式(B1)を満たすが、画像の濃度ムラ抑制の点から、下記式(B1−2)を満たすことが好ましく、下記式(B1−3)を満たすことが更に好ましい。
また、式(B2)を満たすが、画像の濃度ムラ抑制の点から、下記式(B2−2)を満たすことが好ましく、下記式(B2−3)を満たすことが更に好ましい。
また、式(C1)を満たすが、画像の濃度ムラ抑制の点から、下記式(C1−2)を満たすことが好ましく、下記式(C1−3)を満たすことが更に好ましい。
また、式(C2)を満たすが、画像の濃度ムラ抑制の点から、下記式(C2−2)を満たすことが好ましく、下記式(C2−3)を満たすことが更に好ましい。
Here, although the image forming method (apparatus) according to the present embodiment satisfies the formula (A1), it is preferable to satisfy the following formula (A1-2) from the viewpoint of suppression of uneven density of the image, and the following formula (A1) It is further preferable to satisfy -3).
Moreover, although Formula (B1) is satisfy | filled, it is preferable to satisfy a following formula (B1-2) from the point of density nonuniformity suppression of an image, and it is still more preferable to satisfy a following formula (B1-3).
Moreover, although Formula (B2) is satisfy | filled, it is preferable to satisfy a following formula (B2-2) from a point of density nonuniformity suppression of an image, and it is still more preferable to satisfy a following formula (B2-3).
Moreover, although Formula (C1) is satisfied, it is preferable to satisfy the following Formula (C1-2), and it is more preferable to satisfy the following Formula (C1-3), from the viewpoint of suppressing density unevenness of an image.
Moreover, although Formula (C2) is satisfy | filled, it is preferable to satisfy a following formula (C2-2) from the point of density nonuniformity suppression of an image, and it is still more preferable to satisfy a following formula (C2-3).

・式(A1): 0.01<Rmf<0.20
・式(A1−2): 0.015<Rmf<0.19
・式(A1−3): 0.02<Rmf<0.18
-Formula (A1): 0.01 <Rmf <0.20
-Formula (A1-2): 0.015 <Rmf <0.19
-Formula (A1-3): 0.02 <Rmf <0.18

・式(B1): 0.005<Rmf/Wh<5.000
・式(B1−2): 0.005<Rmf/Wh<4.950
・式(B1−3): 0.005<Rmf/Wh<4.900
Formula (B1): 0.005 <Rmf / Wh <5.000
Formula (B1-2): 0.005 <Rmf / Wh <4.950
Formula (B1-3): 0.005 <Rmf / Wh <4.900

・式(B2): 0.002<Rmf/Wl<1.000
・式(B2−2): 0.002<Rmf/Wl<0.950
・式(B2−3): 0.002<Rmf/Wl<0.900
Formula (B2): 0.002 <Rmf / Wl <1.000
Formula (B2-2): 0.002 <Rmf / Wl <0.950
Formula (B2-3): 0.002 <Rmf / Wl <0.900

・式(C1): 1.0<Whmax/Whmin<2.5
・式(C1−2): 1.050<Whmax/Whmin<2.450
・式(C1−3): 1.100<Whmax/Whmin<2.400
-Formula (C1): 1.0 <Whmax / Whmin <2.5
Formula (C1-2): 1.050 <Whmax / Whmin <2.450
Formula (C1-3): 1.100 <Whmax / Whmin <2.400

・式(C2): 1.0<Wlmax/Wlmin<2.5
・式(C2−2): 1.050<Wlmax/Wlmin<2.450
・式(C2−3): 1.100<Wlmax/Wlmin<2.400
-Formula (C2): 1.0 <Wlmax / Wlmin <2.5
Formula (C2-2): 1.050 <Wlmax / Wlmin <2.450
Formula (C2-3): 1.100 <Wlmax / Wlmin <2.400

本発明に係る画像形成方法(装置)において、式(B1)、式(B2)、式(C1)および式(C2)を満たし、画像の濃度ムラを抑制する点から、脂肪酸金属塩粒子は、体積基準によるメディアン径が0.1μm以上10.0μm以下のステアリン酸亜鉛の粒子であることがよい。脂肪酸金属塩粒子として、この粒子を適用すると、粒子の比表面積が大きく、感光体の表面との接触が効率が向上し、感光体の表面に対する脂肪酸金属塩の被覆率が過剰に低下することを抑える。このため、感光体が適度に摩耗し易くなり、また、感光体の表面に脂肪酸金属塩が残留し難くなる。その結果、上記各式を満たしやすく、画像の濃度ムラが抑制され易くなる。   In the image forming method (apparatus) according to the present invention, the fatty acid metal salt particles satisfy the formula (B1), the formula (B2), the formula (C1) and the formula (C2) to suppress uneven density of the image. The particles of zinc stearate preferably have a median diameter of 0.1 μm to 10.0 μm on a volume basis. When these particles are applied as fatty acid metal salt particles, the specific surface area of the particles is large, the contact efficiency with the surface of the photoreceptor is improved, and the coverage of fatty acid metal salt on the surface of the photoreceptor is excessively reduced. suppress. For this reason, the photoreceptor is apt to wear appropriately, and the fatty acid metal salt hardly remains on the surface of the photoreceptor. As a result, the above equations are easily satisfied, and density unevenness of the image is easily suppressed.

本発明に係る画像形成方法(装置)において、式(B1)、式(B2)、式(C1)および式(C2)を満たし、画像の濃度ムラを抑制する点から、反応性電荷輸送材料が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び連鎖重合性官能基を少なくとも有する連鎖重合性化合物であることがよい。
特に、同観点と共に、電気特性と機械的強度の観点から、連鎖重合性化合物が、一般式(I)及び(II)で示される連鎖重合性化合物(以下、「特定の連鎖重合性電荷輸送材料」とも称する)から選択される少なくとも1種であることがよい。この理由は定かではないが、以下に示す理由によると考えられる。
In the image forming method (apparatus) according to the present invention, from the viewpoint of satisfying the formula (B1), the formula (B2), the formula (C1) and the formula (C2) and suppressing density unevenness of the image, the reactive charge transport material is And a chain polymerizable compound having at least a charge transporting skeleton and a chain polymerizable functional group in the same molecule.
In particular, the chain polymerizable compound is represented by general formulas (I) and (II) from the viewpoint of electrical properties and mechanical strength, together with the same viewpoint (hereinafter referred to as “specific chain polymerizable charge transporting material Or at least one selected from The reason for this is not clear, but is considered to be due to the following reasons.

特定の連鎖重合性電荷輸送材料から選択される少なくとも1種を含む組成物の硬化膜(特定の連鎖重合性電荷輸送材料の重合体又は架橋体(特に架橋体)を含む膜)を最表面層として有すると、最表面層が優れた電気特性と機械的強度を兼ね備える。また、最表面層の厚膜化(例えば10μm以上)も実現される。これは、特定の連鎖重合性電荷輸送材料自身が電荷輸送性能に優れる上、−OH、−NH−などのキャリア輸送を妨げる極性基が少なく、また、キャリア輸送に有効なπ電子を有するビニルフェニル基(スチリル基)で、重合により当該材料が連結されることから、残留歪が抑制され、電荷を捕獲する構造的なトラップの形成が抑制されるためと考えられる。
また、特定の連鎖重合性電荷輸送材料は、アクリル系材料よりも疎水的で水分がつきにくい性質があることから、長期にわたって電気特性が維持され易くなると考えられる。
更に、特定の連鎖重合性電荷輸送材料は、アクリル系材料よりも疎水性が高く、脂肪酸金属塩(特にステアリン酸亜鉛)との親和性が高い。このため、保護層(最表面層)の表面に、少量の脂肪酸金属塩(特にステアリン酸亜鉛)が被覆され易くなると考えられる。
このため、特定の連鎖重合性電荷輸送材料から選択される少なくとも1種を含む組成物の硬化膜(特定の連鎖重合性電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む膜)を最表面層として有すると、最表面層の電気特性と機械的強度が高まり易くなる。
The outermost surface layer of a cured film of a composition containing at least one selected from a specific chain polymerizable charge transporting material (a film containing a polymer or a crosslinked product of a specific chain polymerizable charge transporting material (in particular, a crosslinked product)) The outermost surface layer has excellent electrical properties and mechanical strength. In addition, thickening of the outermost surface layer (for example, 10 μm or more) is also realized. This is because a specific chain polymerizable charge transport material itself is excellent in charge transport performance, there are few polar groups such as -OH and -NH- that hinder carrier transport, and vinylphenyl having π electrons effective for carrier transport Since the said material is connected by superposition | polymerization by group (styryl group), it is thought that a residual distortion is suppressed and formation of the structural trap which capture | acquires an electric charge is suppressed.
Further, it is considered that the specific chain polymerizable charge transport material is more hydrophobic and less susceptible to moisture than the acrylic material, so that the electrical properties are likely to be maintained over a long period of time.
Furthermore, certain chain-polymerizable charge transport materials are more hydrophobic than acrylic materials and have high affinity with fatty acid metal salts (especially zinc stearate). For this reason, it is considered that the surface of the protective layer (uppermost surface layer) is likely to be coated with a small amount of a fatty acid metal salt (in particular, zinc stearate).
Therefore, a cured film of a composition containing at least one selected from a specific chain-polymerizable charge transport material (a film containing a polymer or a cross-linked product of a specific chain-polymerizable charge transport material) is used as the outermost layer. Then, the electrical properties and mechanical strength of the outermost surface layer tend to be enhanced.

一方で、特定の連鎖重合性電荷輸送材料は、スチリル基を有し、このスチリル基が反応性基を持たない一般的な非反応性電荷輸送材料との親和性が高い。つまり、最表面層中に含ませる非反応性電荷輸送材料の量を増加させ易い。このため、含ませる非反応性電荷輸送材料の量によって、最表面層の機械的強度の調整(例えば機械的強度の低下)が実現し易い。
特に、特定の連鎖重合性電荷輸送材料のうち、電荷輸送性骨格と連鎖重合性官能基との連結基にエーテル結合(−O−)を有する材料(例えば、一般式(I)中のLで示される基がエーテル結合(−O−)を有する材料、一般式(II)のL’で示される基がエーテル結合(−O−)を有する材料、一般式(IIA−a3)又は(IIA−a4)を有する材料等)は、極性が小さくなるため、電荷輸送性が高く、かつ、非反応性電荷輸送材料との親和性が高く、最表面層の機械的強度の調整(例えば機械的強度の意図的な低減)が実現し易い。
On the other hand, a specific chain polymerizable charge transport material has a styryl group, and this styryl group has high affinity with a general non-reactive charge transport material having no reactive group. That is, it is easy to increase the amount of non-reactive charge transport material contained in the outermost layer. For this reason, adjustment of mechanical strength (for example, reduction in mechanical strength) of the outermost surface layer is easy to be realized by the amount of non-reactive charge transport material to be contained.
In particular, among the specific chain polymerizable charge transporting materials, a material having an ether bond (—O—) as a linking group between the charge transporting skeleton and the chain polymerizable functional group (for example, L in General Formula (I) Materials in which the group shown has an ether bond (-O-), materials in which the group shown in L 'of the general formula (II) has an ether bond (-O-), a compound of the general formula (IIA-a3) or (IIA-) The material having a4) has a low polarity, so it has high charge transportability and high affinity with a non-reactive charge transport material, and adjustment of mechanical strength of the outermost surface layer (eg mechanical strength) Intentional reduction) is easy to realize.

したがって、反応性電荷輸送材料として、特定の連鎖重合性電荷輸送材料を適用すると、上記各式を満たすように、感光体の摩耗率を制御し、画像の濃度ムラを抑制する上で有効である。   Therefore, when a specific chain polymerizable charge transport material is applied as the reactive charge transport material, it is effective in controlling the wear rate of the photoreceptor and suppressing the density unevenness of the image so as to satisfy the above formulas. .

なお、本実施形態に係る画像形成方法(装置)において、感光体の平均摩耗率、最大摩耗率、および最小摩耗率を調整する方法としては、例えば、硬化型感光体の最表面層の機械的強度、2)トナー中の脂肪酸金属塩粒子の種類、粒径又は含有量等を制御する方法が挙げられる。   In the image forming method (apparatus) according to the present embodiment, as a method of adjusting the average wear rate, the maximum wear rate, and the minimum wear rate of the photosensitive member, for example, mechanical of the outermost surface layer of the curing type photosensitive member And 2) a method of controlling the type, particle size or content of fatty acid metal salt particles in the toner.

本実施形態に係る画像形成方法は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着工程を有する方法;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の方法;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の方法;トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電工程を有する方法;電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させる工程を有する方法等の周知の画像形成方法が適用される。
中間転写方式の方法の場合、転写方法は、例えば、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写方法と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写方法と、を有する工程が適用される。
The image forming method according to the present embodiment includes a fixing step of fixing a toner image transferred on the surface of a recording medium; direct transfer in which a toner image formed on the surface of an electrophotographic photosensitive member is directly transferred to a recording medium Method of the method; intermediate transfer in which the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member is primarily transferred onto the surface of the intermediate transfer member, and the toner image transferred onto the surface of the intermediate transfer member is transferred secondarily onto the surface of the recording medium Method of method; method of removing electricity by discharging the light of the surface of the image carrier before charging after transferring the toner image; raising temperature of the electrophotographic photosensitive member to reduce relative temperature Well-known image formation methods, such as the method to have are applied.
In the case of the intermediate transfer method, for example, a primary transfer method of primarily transferring a toner image formed on the surface of the image carrier to the surface of the intermediate transfer member, and a toner transferred to the surface of the intermediate transfer member And D. a secondary transfer method of secondary transfer of the image to the surface of the recording medium.

一方、本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置;トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置;電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
On the other hand, the image forming apparatus according to the present embodiment includes a fixing unit that fixes the toner image transferred to the surface of the recording medium; and directly transfers the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to the recording medium Direct transfer type apparatus: Primary transfer of toner image formed on the surface of electrophotographic photosensitive member to the surface of intermediate transfer body, and secondary transfer of toner image transferred on the surface of intermediate transfer body to the surface of recording medium Device of intermediate transfer type; device equipped with charge removing means for removing the charge by irradiating the surface of the image carrier with charge light before charge after transfer of the toner image; raise the temperature of the electrophotographic photosensitive member and reduce the relative temperature A known image forming apparatus such as an apparatus provided with an electrophotographic photosensitive member heating member is applied.
In the case of an intermediate transfer type apparatus, for example, an intermediate transfer member to which a toner image is transferred on the surface, and a primary transfer on which the toner image formed on the surface of the image carrier is primarily transferred to the surface of the intermediate transfer member. A configuration is applied that includes a unit and a secondary transfer unit that secondarily transfers the toner image transferred to the surface of the intermediate transfer member to the surface of the recording medium.

本実施形態に係る画像形成方法(装置)は、乾式現像方式の画像形成方法(装置)、湿式現像方式(液体現像剤を利用した現像方式)の画像形成方法(装置)のいずれであってもよい。   The image forming method (apparatus) according to the present embodiment may be either an image forming method (apparatus) of a dry developing system or an image forming method (apparatus) of a wet developing system (developing system using a liquid developer). Good.

なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造(プロセスカートリッジ)であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、電子写真感光体、現像手段、及びクリーニング手段を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。   In the image forming apparatus according to the present embodiment, for example, the part including the electrophotographic photosensitive member may have a cartridge structure (process cartridge) which is detached from the image forming apparatus. As the process cartridge, for example, a process cartridge including an electrophotographic photosensitive member, a developing unit, and a cleaning unit is preferably used. The process cartridge may include, in addition to the electrophotographic photosensitive member, at least one selected from the group consisting of a charging unit, an electrostatic latent image forming unit, and a transfer unit.

以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。   Hereinafter, although an example of the image forming apparatus according to the present embodiment is shown, the present invention is not limited to this. The main parts shown in the figure will be described, and the description of the other parts will be omitted.

図4は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置100は、図4に示すように、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9(静電潜像形成手段の一例)と、転写装置40(一次転写装置)と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体50に転写されたトナー像を記録媒体(例えば用紙)に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体50、転写装置40(一次転写装置)、及び二次転写装置(不図示)が転写手段の一例に相当する。
FIG. 4 is a schematic configuration view showing an example of the image forming apparatus according to the present embodiment.
The image forming apparatus 100 according to the present embodiment, as shown in FIG. 4, includes a process cartridge 300 including an electrophotographic photosensitive member 7, an exposure device 9 (an example of an electrostatic latent image forming unit), and a transfer device 40 (primary). A transfer device) and an intermediate transfer member 50 are provided. In the image forming apparatus 100, the exposure device 9 is disposed from the opening of the process cartridge 300 at a position where exposure to the electrophotographic photosensitive member 7 is possible, and the transfer device 40 is the electrophotographic photosensitive member via the intermediate transfer member 50. The intermediate transfer member 50 is disposed so as to be in contact with the electrophotographic photosensitive member 7. Although not shown, it also has a secondary transfer device for transferring the toner image transferred to the intermediate transfer member 50 to a recording medium (for example, a sheet). The intermediate transfer member 50, the transfer device 40 (primary transfer device), and the secondary transfer device (not shown) correspond to an example of the transfer unit.

図4におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8(帯電手段の一例)、現像装置11(現像手段の一例)、及びクリーニング装置13(クリーニング手段の一例)を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材の一例)131を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。   In the process cartridge 300 shown in FIG. 4, the electrophotographic photosensitive member 7, the charging device 8 (an example of the charging means), the developing device 11 (an example of the developing means), and the cleaning device 13 (an example of the cleaning means) In favor of The cleaning device 13 has a cleaning blade (an example of a cleaning member) 131, and the cleaning blade 131 is disposed in contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member 7.

なお、図4には、画像形成装置として、潤滑材14を電子写真感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、及び、クリーニングを補助する繊維状部材133(平ブラシ状)を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。   In FIG. 4, as an image forming apparatus, a fibrous member 132 (roll-shaped) for supplying the lubricant 14 to the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 and a fibrous member 133 for assisting cleaning (flat brush-shaped) An example is shown, but these are arranged as needed.

以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。   Hereinafter, each configuration of the image forming apparatus according to the present embodiment will be described.

(電子写真感光体)
電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた感光層と、を有している。感光体の最表面層は、反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成されている。
(Electrophotographic photosensitive member)
The electrophotographic photosensitive member has a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate. The outermost surface layer of the photoreceptor is composed of a cured film of a composition containing a reactive charge transport material.

なお、電子写真感光体において、最表面層は、電子写真感光体自体の最上面を形成していればよく、保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けられる。最表面層が保護層として機能する層である場合、この保護層の下層には、電荷輸送層及び電荷発生層からなる感光層、又は単層型感光層を有することとなる。
具体的には、最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層(電荷発生層及び電荷輸送層、又は単層型感光層)、及び最表面層として保護層が順次形成された態様が挙げられる。一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層が順次形成された態様が挙げられる。
In the electrophotographic photosensitive member, the outermost surface layer only needs to form the uppermost surface of the electrophotographic photosensitive member itself, and is provided as a layer functioning as a protective layer or a layer functioning as a charge transport layer. When the outermost surface layer is a layer that functions as a protective layer, a photosensitive layer consisting of a charge transport layer and a charge generation layer, or a single-layer type photosensitive layer is provided below the protective layer.
Specifically, in the case where the outermost surface layer is a layer that functions as a protective layer, the photosensitive layer (charge generation layer and charge transport layer, or single-layered photosensitive layer) on the conductive substrate, and the protective layer as the outermost surface layer The aspect in which is formed sequentially is mentioned. On the other hand, in the case where the outermost surface layer is a layer functioning as a charge transport layer, an embodiment in which a charge generation layer and a charge transport layer as the outermost surface layer are sequentially formed on a conductive substrate is mentioned.

以下、最表面層が保護層として機能する層の場合の、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, the electrophotographic photosensitive member according to the embodiment in the case where the outermost surface layer is a layer functioning as a protective layer will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts will be denoted by the same reference numerals, and overlapping descriptions will be omitted.

図1は、本実施形態に係る電子写真感光体の一例を示す概略断面図である。図2乃至図3はそれぞれ本実施形態に係る電子写真感光体の他の一例を示す概略断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment. 2 to 3 are each a schematic cross-sectional view showing another example of the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment.

図1に示す電子写真感光体7Aは、いわゆる機能分離型感光体(又は積層型感光体)であり、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に電荷発生層2、電荷輸送層3、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Aにおいては、電荷発生層2及び電荷輸送層3により感光層が構成される。   The electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1 is a so-called function separation type photoreceptor (or laminated type photoreceptor), the undercoat layer 1 is provided on the conductive substrate 4, and the charge generation layer 2, charge is formed thereon. It has a structure in which the transport layer 3 and the protective layer 5 are sequentially formed. In the electrophotographic photoreceptor 7A, the charge generation layer 2 and the charge transport layer 3 constitute a photosensitive layer.

図2に示す電子写真感光体7Bは、図1に示す電子写真感光体7Aのごとく、電荷発生層2と電荷輸送層3とに機能が分離された機能分離型感光体である。
図2に示す電子写真感光体7Bにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に、電荷輸送層3、電荷発生層2、及び保護層5が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体7Bにおいては、電荷輸送層3及び電荷発生層2により感光層が構成される。
Like the electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1, the electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2 is a functionally separated photoreceptor in which the functions are separated into the charge generation layer 2 and the charge transport layer 3.
In the electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2, the undercoat layer 1 is provided on the conductive substrate 4, and the charge transport layer 3, the charge generation layer 2, and the protective layer 5 are sequentially formed thereon. The In the electrophotographic photoreceptor 7B, the charge transport layer 3 and the charge generation layer 2 constitute a photosensitive layer.

図3に示す電子写真感光体7Cは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層(単層型感光層6)に含有するものである。図3に示す電子写真感光体7Cにおいては、導電性基体4上に下引層1が設けられ、その上に単層型感光層6、保護層5が順次形成された構造を有するものである。   The electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3 contains the charge generation material and the charge transport material in the same layer (single-layer type photosensitive layer 6). In the electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3, the undercoat layer 1 is provided on the conductive substrate 4, and the single-layer type photosensitive layer 6 and the protective layer 5 are sequentially formed thereon. .

そして、図1、図2及び図3に示す電子写真感光体7A、7B及び7Cにおいて、保護層5が、導電性基体4から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記の構成となっている。
なお、図1、図2及び図3に示す電子写真感光体において、下引層1は設けてもよいし、設けなくてもよい。
In the electrophotographic photosensitive members 7A, 7B and 7C shown in FIGS. 1, 2 and 3, the protective layer 5 is the outermost layer disposed on the side farthest from the conductive substrate 4, and The surface layer is configured as described above.
In the electrophotographic photosensitive members shown in FIGS. 1, 2 and 3, the undercoat layer 1 may or may not be provided.

以下、代表例として図1に示す電子写真感光体7Aに基づいて、各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。   Hereinafter, each element will be described based on the electrophotographic photosensitive member 7A shown in FIG. 1 as a representative example. In addition, the code | symbol is abbreviate | omitted and demonstrated.

(導電性基体)
導電性基体としては、例えば、金属(アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等)又は合金(ステンレス鋼等)を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物(例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等)、金属(例えばアルミニウム、パラジウム、金等)又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
(Conductive substrate)
As the conductive substrate, for example, a metal plate containing metal (aluminum, copper, zinc, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, platinum etc.) or alloy (stainless steel etc.), metal drum, metal belt etc. Can be mentioned. In addition, as the conductive substrate, for example, paper coated with a conductive compound (eg, conductive polymer, indium oxide etc.), metal (eg, aluminum, palladium, gold etc.) or alloy, vapor deposition or lamination, resin film, belt etc. Can also be mentioned. Here, “conductive” means that the volume resistivity is less than 10 13 Ωcm.

導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。   When the electrophotographic photosensitive member is used for a laser printer, the surface of the conductive substrate has a center line average roughness Ra of not less than 0.04 μm and not more than 0.5 μm for the purpose of suppressing interference fringes generated when irradiating a laser beam. It is preferable to be roughened below. In the case where non-interference light is used as a light source, roughening for preventing interference fringes is not particularly required, but it is more suitable for prolonging the life to suppress generation of defects due to unevenness on the surface of the conductive substrate.

粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。   As a method of surface roughening, for example, wet honing performed by suspending an abrasive in water and spraying it onto a conductive substrate, centerless grinding in which a conductive substrate is pressed against a rotating grindstone and grinding is continuously performed , Anodizing treatment, and the like.

粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。   As a method of roughening, conductive or semiconductive powder is dispersed in a resin without roughening the surface of the conductive substrate to form a layer on the surface of the conductive substrate, and A method of roughening with particles dispersed in a layer may also be mentioned.

陽極酸化による粗面化処理は、金属製(例えばアルミニウム製)の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。   In the surface roughening treatment by anodizing, an oxide film is formed on the surface of a conductive substrate by anodizing in a electrolytic solution using a metal (for example, aluminum) conductive substrate as an anode. Examples of the electrolyte solution include a sulfuric acid solution and an oxalic acid solution. However, the porous anodic oxide film formed by anodic oxidation is chemically active as it is, easily polluted, and has a large resistance fluctuation due to the environment. Therefore, for the porous anodic oxide film, the fine pores of the oxide film are blocked by volume expansion due to hydration reaction with pressurized steam or boiling water (a metal salt such as nickel may be added), and more stable hydrated oxidation It is preferable to carry out the sealing process which changes into a thing.

陽極酸化膜の膜厚は、例えば、0.3μm以上15μm以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。   The thickness of the anodic oxide film is preferably, for example, 0.3 μm or more and 15 μm or less. When the film thickness is in the above range, the barrier property against injection tends to be exhibited, and the increase in residual potential due to repeated use tends to be suppressed.

導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲がよい。処理温度は例えば42℃以上48℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が好ましい。
The conductive substrate may be treated with an acid treatment liquid or boehmite treatment.
The treatment with the acid treatment solution is carried out, for example, as follows. First, an acidic treatment solution containing phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid is prepared. The blending ratio of phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid in the acid treatment solution is, for example, 10% by mass to 11% by mass of phosphoric acid, 3% by mass to 5% by mass of chromic acid, and hydrofluoric acid The total concentration of these acids is preferably in the range of 13.5 mass% to 18 mass% in the range of 0.5 mass% to 2 mass%. The processing temperature is preferably, for example, 42 ° C. or more and 48 ° C. or less. The film thickness of the film is preferably 0.3 μm or more and 15 μm or less.

ベーマイト処理は、例えば90℃以上100℃以下の純水中に5分から60分間浸漬すること、又は90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分から60分間接触させて行う。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。   The boehmite treatment is performed, for example, by immersing in pure water of 90 ° C. to 100 ° C. for 5 minutes to 60 minutes, or by bringing the substrate into contact with heated steam of 90 ° C. to 120 ° C. for 5 minutes to 60 minutes. The film thickness of the film is preferably 0.1 μm to 5 μm. This is further anodized using an electrolyte solution with low film solubility such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, citrate and the like. Good.

(下引層)
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
(Sublayer)
The undercoat layer is, for example, a layer containing inorganic particles and a binder resin.

無機粒子としては、例えば、粉体抵抗(体積抵抗率)10Ωcm以上1011Ωcm以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
Examples of the inorganic particles include inorganic particles having a powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ωcm or more and 10 11 Ωcm or less.
Among these, as the inorganic particles having the above-mentioned resistance value, metal oxide particles such as tin oxide particles, titanium oxide particles, zinc oxide particles, and zirconium oxide particles are preferable, and zinc oxide particles are particularly preferable.

無機粒子のBET法による比表面積は、例えば、10m/g以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、50nm以上2000nm以下(好ましくは60nm以上1000nm以下)がよい。
The specific surface area of the inorganic particles according to the BET method is, for example, 10 m 2 / g or more.
The volume average particle diameter of the inorganic particles is, for example, 50 nm or more and 2000 nm or less (preferably 60 nm or more and 1000 nm or less).

無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが好ましく、より好ましくは40質量%以上80質量%以下である。   The content of the inorganic particles is, for example, preferably 10% by mass to 80% by mass, and more preferably 40% by mass to 80% by mass, with respect to the binder resin.

無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを2種以上混合して用いてもよい。   The inorganic particles may be subjected to surface treatment. The inorganic particles may be used as a mixture of two or more kinds of particles different in surface treatment or different in particle diameter.

表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。   As a surface treating agent, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, surfactant etc. are mentioned, for example. In particular, a silane coupling agent is preferable, and a silane coupling agent having an amino group is more preferable.

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   As a silane coupling agent having an amino group, for example, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-amino Examples include, but are not limited to, propylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, and the like.

シランカップリング剤は、2種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   You may use a silane coupling agent in mixture of 2 or more types. For example, a silane coupling agent having an amino group may be used in combination with another silane coupling agent. Other silane coupling agents include, for example, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glylic Cidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- ( Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, etc., but is limited thereto It is not a thing.

表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。   The surface treatment method using the surface treatment agent may be any known method, and may be either a dry method or a wet method.

表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が好ましい。   The processing amount of the surface treatment agent is preferably, for example, 0.5% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the inorganic particles.

ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物(アクセプター化合物)を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。   Here, the undercoat layer preferably contains the electron accepting compound (acceptor compound) together with the inorganic particles, from the viewpoint of enhancing the long-term stability of the electrical characteristics and the carrier blocking property.

電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物;2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物;キサントン系化合物;チオフェン化合物;3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物;等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
Examples of the electron accepting compound include quinone compounds such as chloranil and bromoanil; tetracyanoquinodimethane compounds; 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone and the like 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (4-naphthyl) -1,3,4- Oxadiazole compounds such as oxadiazole and 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) -1,3,4 oxadiazole; xanthone compounds; thiophene compounds; 3,3 ', 5,5'tetra- Examples include diphenoquinone compounds such as t-butyl diphenoquinone; electron transporting substances such as, and the like.
In particular, as the electron accepting compound, a compound having an anthraquinone structure is preferable. As the compound having an anthraquinone structure, for example, a hydroxyanthraquinone compound, an aminoanthraquinone compound, an aminohydroxyanthraquinone compound and the like are preferable. Specifically, for example, anthraquinone, alizarin, quinizarin, anthralphine, and purpurin are preferable.

電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。   The electron accepting compound may be contained in the undercoat layer in a dispersed state with the inorganic particles, or may be contained in a state of being attached to the surface of the inorganic particles.

電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着せる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。   Examples of the method for attaching the electron accepting compound to the surface of the inorganic particles include a dry method and a wet method.

乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。   In the dry method, for example, while stirring the inorganic particles with a mixer with large shear force, the electron accepting compound in which the electron accepting compound is dissolved directly or in an organic solvent is dropped, and is sprayed together with dry air or nitrogen gas to make the electron accepting compound It is a method of adhering to the surface of inorganic particles. When dropping or spraying the electron accepting compound, it is preferable to carry out at a temperature equal to or lower than the boiling point of the solvent. After dropping or spraying the electron accepting compound, baking may be further performed at 100 ° C. or higher. Baking is not particularly limited as long as the temperature and time at which electrophotographic characteristics can be obtained.

湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。   In the wet method, for example, while dispersing inorganic particles in a solvent by stirring, ultrasonic waves, sand mill, attritor, ball mill etc., an electron accepting compound is added, stirred or dispersed, and then the solvent is removed to obtain an electron. It is a method of attaching a receptive compound to the surface of an inorganic particle. The solvent removal method is distilled off, for example, by filtration or distillation. After solvent removal, baking may be further performed at 100 ° C. or higher. Baking is not particularly limited as long as the temperature and time at which electrophotographic characteristics can be obtained. In the wet method, the water content of the inorganic particles may be removed before adding the electron accepting compound, and examples thereof include a method of removing while stirring and heating in a solvent, and a method of removing azeotropically with a solvent It can be mentioned.

なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。   The adhesion of the electron accepting compound may be performed before or after the inorganic particles are subjected to surface treatment with a surface treatment agent, and may be performed simultaneously with the adhesion of the electron accepting compound and the surface treatment with the surface treatment agent.

電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下がよく、好ましくは0.01質量%以上10質量%以下である。   The content of the electron accepting compound is, for example, preferably 0.01% by mass to 20% by mass, and preferably 0.01% by mass to 10% by mass, with respect to the inorganic particles.

下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物;ジルコニウムキレート化合物;チタニウムキレート化合物;アルミニウムキレート化合物;チタニウムアルコキシド化合物;有機チタニウム化合物;シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂(例えばポリアニリン等)等も挙げられる。
Examples of the binder resin used for the undercoat layer include acetal resin (for example, polyvinyl butyral etc.), polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, casein resin, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, unsaturated polyester Resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, urea resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, Known polymer compounds such as urethane resin, alkyd resin, epoxy resin, etc .; zirconium chelate compound; titanium chelate compound; aluminum chelate compound; titanium alkoxide compound ; Organic titanium compounds; known materials silane coupling agent, and the like.
Examples of the binder resin used for the undercoat layer also include a charge transporting resin having a charge transporting group, a conductive resin (for example, polyaniline and the like), and the like.

これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
Among these, as the binder resin used in the undercoat layer, resins insoluble in the coating solvent of the upper layer are preferable, and in particular, urea resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, urethane resin, unsaturated polyester Thermosetting resin such as resin, alkyd resin, epoxy resin; and at least one resin selected from the group consisting of polyamide resin, polyester resin, polyether resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl alcohol resin and polyvinyl acetal resin Resins obtained by reaction with curing agents are preferred.
When two or more of these binder resins are used in combination, the mixing ratio thereof is set as necessary.

下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
The undercoat layer may contain various additives to improve the electrical properties, the environmental stability, and the image quality.
Examples of the additive include known materials such as polycyclic condensation type and electron transporting pigments such as azo type, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, and silane coupling agents. Be The silane coupling agent is used for surface treatment of the inorganic particles as described above, but may be further added to the undercoat layer as an additive.

添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   As a silane coupling agent as an additive, for example, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- Examples include (aminoethyl) -3-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane and the like.

ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。   As a zirconium chelate compound, for example, zirconium butoxide, ethyl zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate zirconium butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octanoate, Examples thereof include zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。   Examples of titanium chelate compounds include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate ammonium salt And titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolaminate, polyhydroxy titanium stearate and the like.

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。   Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxyaluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethylacetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethylacetoacetate) and the like.

これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。   These additives may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

下引層は、ビッカース硬度が35以上であることがよい。
下引層の表面粗さ(十点平均粗さ)は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの1/4n(nは上層の屈折率)から1/2λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
The undercoat layer preferably has a Vickers hardness of 35 or more.
The surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer is adjusted from 1 / 4n (n is the refractive index of the upper layer) to 1 / 2λ of the exposure laser wavelength λ used for moire image suppression It is good to be done.
Resin particles and the like may be added to the undercoat layer to adjust the surface roughness. Examples of the resin particles include silicone resin particles and crosslinked polymethyl methacrylate resin particles. In addition, the surface of the undercoat layer may be polished to adjust the surface roughness. The polishing method may, for example, be buffing, sand blasting, wet honing or grinding.

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。   The formation of the undercoat layer is not particularly limited, and a known formation method is used. For example, a coating film of the undercoat layer forming solution obtained by adding the above components to a solvent is formed, and the coating film is dried. And by heating if necessary.

下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
As a solvent for preparing the coating liquid for undercoat layer formation, known organic solvents such as alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone solvents, ketone alcohol solvents, ether solvents Solvents, ester solvents and the like can be mentioned.
Specific examples of these solvents include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, Common organic solvents such as n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, toluene and the like can be mentioned.

下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。   Examples of the method of dispersing the inorganic particles when preparing the coating liquid for forming the undercoat layer include known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill and a paint shaker.

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。   As a method of applying the coating liquid for undercoat layer formation on a conductive substrate, for example, blade coating method, wire bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating method, curtain coating method Etc. can be mentioned.

下引層の膜厚は、例えば、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上50μm以下の範囲内に設定される。   The thickness of the undercoat layer is, for example, preferably in the range of 15 μm or more, more preferably 20 μm to 50 μm.

(中間層)
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
(Intermediate layer)
Although not shown, an intermediate layer may be further provided between the undercoat layer and the photosensitive layer.
The intermediate layer is, for example, a layer containing a resin. Examples of the resin used for the intermediate layer include acetal resin (eg, polyvinyl butyral etc.), polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, casein resin, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, Polymer compounds such as polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin and the like can be mentioned.
The intermediate layer may be a layer containing an organometallic compound. Examples of the organic metal compound used for the intermediate layer include organic metal compounds containing metal atoms such as zirconium, titanium, aluminum, manganese and silicon.
The compounds used in these intermediate layers may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。   Among these, the intermediate layer is preferably a layer containing an organic metal compound containing a zirconium atom or a silicon atom.

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
The formation of the intermediate layer is not particularly limited, and a known formation method is used. For example, a coating film of the coating liquid for forming an intermediate layer in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried. It does by heating according to.
As a coating method for forming the intermediate layer, a usual method such as a dip coating method, a push-up coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a blade coating method, a knife coating method or a curtain coating method is used.

中間層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上3μm以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。   The film thickness of the intermediate layer is preferably set, for example, in the range of 0.1 μm to 3 μm. The intermediate layer may be used as a subbing layer.

(電荷発生層)
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、LED(Light Emitting Diode)、有機EL(Electro−Luminescence)イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
(Charge generation layer)
The charge generation layer is, for example, a layer containing a charge generation material and a binder resin. The charge generation layer may be a vapor deposition layer of a charge generation material. The deposition layer of the charge generation material is suitable when using an incoherent light source such as an LED (Light Emitting Diode) or an organic EL (Electro-Luminescence) image array.

電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料;ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;ペリレン顔料;ピロロピロール顔料;フタロシアニン顔料;酸化亜鉛;三方晶系セレン等が挙げられる。   Examples of the charge generating material include azo pigments such as bisazo and trisazo; condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; perylene pigments; pyrrolopyrrole pigments; phthalocyanine pigments; zinc oxide; trigonal selenium and the like.

これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平5−263007号公報、特開平5−279591号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン;特開平5−98181号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン;特開平5−140472号公報、特開平5−140473号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン;特開平4−189873号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。   Among these, in order to cope with laser exposure in the near infrared region, it is preferable to use a metal phthalocyanine pigment or a metal free phthalocyanine pigment as the charge generation material. Specifically, for example, hydroxygallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-263007, JP-A-5-279591 and the like; chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181 and the like; JP-A-5 Dichlorotin phthalocyanine disclosed in -140472, JP-A-5-140473 and the like; and titanyl phthalocyanine disclosed in JP-A-4-189873 and the like are more preferable.

一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;チオインジゴ系顔料;ポルフィラジン化合物;酸化亜鉛;三方晶系セレン;特開2004−78147号公報、特開2005−181992号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。   On the other hand, in order to cope with laser exposure in the near ultraviolet region, as charge generating materials, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; thioindigo pigments; porphyrazine compounds; zinc oxide; trigonal selenium; The bisazo pigment etc. which were disclosed by 2004-78147 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-181992 are preferable.

450nm以上780nm以下に発光の中心波長があるLED,有機ELイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を20μm以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基材からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のp−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。   Even when using an incoherent light source such as an LED or an organic EL image array having a central wavelength of light emission at 450 nm or more and 780 nm or less, the above charge generation material may be used, but from the viewpoint of resolution When the thin film is used as a thin film, the electric field strength in the photosensitive layer becomes high, and the charge reduction due to the charge injection from the base material tends to cause an image defect called a so-called black point. This becomes remarkable when using a charge generating material which is a p-type semiconductor such as trigonal selenium, phthalocyanine pigment and the like and tends to cause dark current.

これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のn−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。n−型の電荷発生材料としては、例えば、特開2012−155282号公報の段落[0288]〜[0291]に記載された化合物(CG−1)〜(CG−27)が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、n−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをn−型とする。
On the other hand, when an n-type semiconductor such as a fused aromatic pigment, a perylene pigment, or an azo pigment is used as a charge generation material, it is difficult to generate a dark current, and an image defect called black point can be suppressed even in a thin film. . Examples of the n-type charge generation material include compounds (CG-1) to (CG-27) described in paragraphs [0288] to [0291] of JP 2012-155282 A, and examples thereof It is not limited.
In addition, determination of n-type is determined by the polarity of the photocurrent which flows using the time of flight method normally used, and makes what is easy to flow an electron as a carrier rather than a hole be n-type.

電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。
これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。
The binder resin used for the charge generation layer is selected from a wide range of insulating resins, and the binder resin is selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinyl anthracene, polyvinyl pyrene, polysilane and the like. You may choose.
As the binder resin, for example, polyvinyl butyral resin, polyarylate resin (polycondensate of bisphenol and aromatic divalent carboxylic acid, etc.), polycarbonate resin, polyester resin, phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Polyamide resin, acrylic resin, polyacrylamide resin, polyvinyl pyridine resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, casein, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, etc. may be mentioned. Here, "insulating" means that the volume resistivity is 10 13 Ωcm or more.
These binder resins may be used alone or in combination of two or more.

なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが好ましい。   The compounding ratio of the charge generating material to the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10 by mass ratio.

電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。   The charge generation layer may further contain known additives.

電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。   The formation of the charge generation layer is not particularly limited, and a known formation method is used. For example, a coating film of the charge generation layer forming coating solution obtained by adding the above components to a solvent is formed, and the coating film is dried. And by heating if necessary. Note that the charge generation layer may be formed by vapor deposition of a charge generation material. The formation of the charge generation layer by vapor deposition is particularly suitable when a fused aromatic pigment or perylene pigment is used as the charge generation material.

電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いる。   As a solvent for preparing a coating solution for forming a charge generation layer, methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, acetic acid n And -butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, toluene and the like. These solvents are used singly or in combination of two or more.

電荷発生層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下、更に好ましくは0.15μm以下にすることが有効である。
As a method of dispersing particles (for example, charge generation material) in the coating liquid for charge generation layer formation, for example, media dispersion machines such as ball mill, vibration ball mill, attritor, sand mill, horizontal sand mill, stirring, ultrasonic dispersion machine Medialess dispersing machines such as roll mills and high pressure homogenizers are used. Examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which the dispersion is dispersed by causing liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high pressure state to disperse it, and a penetration method in which a fine flow path is dispersed by being dispersed in a high pressure state.
At the time of this dispersion, it is effective to set the average particle diameter of the charge generation material in the coating solution for forming a charge generation layer to 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.15 μm or less. .

電荷発生層形成用塗布液を下引層上(又は中間層上)に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。   As a method of applying the coating liquid for charge generation layer formation on the undercoat layer (or on the intermediate layer), for example, blade coating method, wire bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating And ordinary methods such as curtain coating method.

電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上5.0μm以下、より好ましくは0.2μm以上2.0μm以下の範囲内に設定される。   The film thickness of the charge generation layer is, for example, preferably in the range of 0.1 μm to 5.0 μm, more preferably 0.2 μm to 2.0 μm.

(電荷輸送層)
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
(Charge transport layer)
The charge transport layer is, for example, a layer containing a charge transport material and a binder resin. The charge transport layer may be a layer containing a polymeric charge transport material.

電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物;キサントン系化合物;ベンゾフェノン系化合物;シアノビニル系化合物;エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は1種を単独で又は2種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。   As charge transport materials, quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanyl, anthraquinone and the like; tetracyanoquinodimethane compounds; fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone; xanthone compounds; benzophenone compounds Cyanovinyl compounds; electron transporting compounds such as ethylene compounds. Examples of the charge transporting material also include hole transporting compounds such as triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds and the like. Although these charge transport materials are used individually by 1 type or in 2 or more types, it is not limited to these.

電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体が好ましい。   From the viewpoint of charge mobility, a triarylamine derivative represented by the following structural formula (a-1) and a benzidine derivative represented by the following structural formula (a-2) are preferable as the charge transport material.

構造式(a−1)中、ArT1、ArT2、及びArT3は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−C−C(RT4)=C(RT5)(RT6)、又は−C−CH=CH−CH=C(RT7)(RT8)を示す。RT4、RT5、RT6、RT7、及びRT8は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In structural formula (a-1), Ar T1 , Ar T2 and Ar T3 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, -C 6 H 4 -C (R T4 ) = C (R T5 ) (R T 5 ) T6), or -C 6 H 4 -CH = CH- CH = C (R T7) shows the (R T8). R T4 , R T5 , R T6 , R T7 and R T8 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
As a substituent of each said group, a halogen atom, a C1-C5 alkyl group, and a C1-C5 alkoxy group are mentioned. Moreover, as a substituent of said each group, the substituted amino group substituted by the C1-C3 alkyl group is also mentioned.

構造式(a−2)中、RT91及びRT92は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、又は炭素数1以上5以下のアルコキシ基を示す。RT101、RT102、RT111及びRT112は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−C(RT12)=C(RT13)(RT14)、又は−CH=CH−CH=C(RT15)(RT16)を示し、RT12、RT13、RT14、RT15及びRT16は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Tm1、Tm2、Tn1及びTn2は各々独立に0以上2以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In Structural Formula (a-2), RT91 and RT92 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. R T101 , R T102 , R T111 and R T112 are each independently substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms A substituted amino group, a substituted or unsubstituted aryl group, -C ( RT12 ) = C ( RT13 ) ( RT14 ), or -CH = CH-CH = C ( RT15 ) ( RT16 ); R T12 , R T13 , R T14 , R T15 and R T16 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Tm1, Tm2, Tn1 and Tn2 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less.
As a substituent of each said group, a halogen atom, a C1-C5 alkyl group, and a C1-C5 alkoxy group are mentioned. Moreover, as a substituent of said each group, the substituted amino group substituted by the C1-C3 alkyl group is also mentioned.

ここで、構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−C−CH=CH−CH=C(RT7)(RT8)」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−CH=CH−CH=C(RT15)(RT16)」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。 Here, among the triarylamine derivative represented by the structural formula (a-1) and the benzidine derivative represented by the structural formula (a-2), in particular, “—C 6 H 4 —CH = CH—CH = Triarylamine derivatives having C (R T7 ) (R T8 ), and benzidine derivatives having “—CH = CH—CH = C (R T15 ) (R T16 )” are preferred in view of charge mobility.

高分子電荷輸送材料としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平8−176293号公報、特開平8−208820号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。   As the polymer charge transport material, known materials having charge transportability such as poly-N-vinylcarbazole and polysilane are used. In particular, polyester-based polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293, JP-A-8-208820 and the like are particularly preferable. The polymer charge transport material may be used alone or in combination with a binder resin.

電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で10:1から1:5までが好ましい。
The binder resin used for the charge transport layer is polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene copolymer, Vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly-N -Vinylcarbazole, polysilane and the like can be mentioned. Among these, polycarbonate resin or polyarylate resin is suitable as the binder resin. These binder resins may be used alone or in combination of two or more.
The compounding ratio of the charge transport material to the binder resin is preferably 10: 1 to 1: 5 in mass ratio.

電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。   The charge transport layer may further contain known additives.

電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。   The formation of the charge transport layer is not particularly limited, and a known formation method is used. For example, a coating film of a charge transport layer forming solution obtained by adding the above components to a solvent is formed, and the coating film is dried. Perform by heating if necessary.

電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;アセトン、2−ブタノン等のケトン類;塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は2種以上混合して用いる。   As a solvent for preparing a coating liquid for charge transport layer formation, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; ketones such as acetone and 2-butanone; methylene chloride, chloroform, ethylene chloride and the like Commonly used organic solvents such as halogenated aliphatic hydrocarbons; cyclic or linear ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether. These solvents are used alone or in combination of two or more.

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。   As a coating method at the time of coating the coating liquid for charge transport layer formation on the charge generation layer, blade coating method, wire bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating method, curtain A usual method such as a coating method may be mentioned.

電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは5μm以上50μm以下、より好ましくは10μm以上30μm以下の範囲内に設定される。
The thickness of the charge transport layer is, for example, preferably in the range of 5 μm to 50 μm, and more preferably in the range of 10 μm to 30 μm.
.

(保護層)
保護層(最表面層)は、電子写真感光体における最表面層であり、反応性電荷輸送材料および酸化防止剤を含む組成物の硬化膜で構成されている。つまり、保護層は、反応性電荷輸送材料の重合体又は架橋体(好ましくは架橋体)を含む。
保護層には、非反応性電荷輸送材料、不飽和結合(不飽和二重結合)を有する化合物等のその他の添加剤を更に含む組成物で構成されていてもよい。つまり、保護層は、反応性電荷輸送材料と不飽和結合を有する化合物との重合体又は架橋体(好ましくは架橋体)、非反応性電荷輸送材料等のその他の添加剤を更に含んでいてもよい。
(Protective layer)
The protective layer (uppermost surface layer) is the outermost layer of the electrophotographic photosensitive member, and is formed of a cured film of a composition containing a reactive charge transport material and an antioxidant. That is, the protective layer contains the polymer or crosslinked body (preferably crosslinked body) of the reactive charge transporting material.
The protective layer may be composed of a composition further including other additives such as a nonreactive charge transport material and a compound having an unsaturated bond (unsaturated double bond). That is, the protective layer may further contain other additives such as a polymer or a crosslinked product (preferably a crosslinked product) of a reactive charge transport material and a compound having an unsaturated bond, and a nonreactive charge transport material. Good.

なお、硬化膜の硬化方法としては、熱、光、又は放射線などによるラジカル重合が行なわれる。反応が早く進行しすぎないよう調整すると、保護層(最表面層)の機械的強度及び電気特性が向上し、また膜のムラやシワの発生も抑制されるため、ラジカル発生が比較的ゆっくりと起こる条件下で重合させることが好ましい。この点からは、重合速度を調整しやすい熱重合が好適である。つまり、保護層(最表面層)を構成する硬化膜を形成するための組成物には、熱ラジカル発生剤又はその誘導体を含むことがよい。   In addition, as a curing method of a cured film, radical polymerization by heat, light, radiation or the like is performed. If the reaction is adjusted so as not to proceed too fast, the mechanical strength and electrical properties of the protective layer (uppermost surface layer) will be improved, and the occurrence of film unevenness and wrinkles will be suppressed, so radical generation will be relatively slow. It is preferred to polymerize under the conditions which occur. From this point of view, thermal polymerization which is easy to control the polymerization rate is preferable. That is, the composition for forming a cured film constituting the protective layer (uppermost surface layer) may contain a thermal radical generator or a derivative thereof.

以下、硬化膜で構成された保護層(最表面層)の各要素の詳細について説明する。   Hereinafter, details of each element of the protective layer (uppermost surface layer) formed of the cured film will be described.

−反応性電荷輸送材料−
反応性電荷輸送材料としては、同一分子内に電荷輸送性骨格及び反応性基を有する化合物であれば、周知の材料から選択される。ここで、反応性基としては、連鎖重合性基が挙げられ、例えば、ラジカル重合し得る官能基であることよく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基が挙げられる。具体的には、連鎖重合性基としては、例えば、ラジカル重合し得る官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性官能基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを含有する基であることが好ましい。その他、反応性基としては、エポキシ基、−OH、−OR[但し、Rはアルキル基を示す]、−NH、−SH、−COOH、−SiRQ1 3−Qn(ORQ2Qn[但し、RQ1は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、RQ2は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Qnは1〜3の整数を表す]等の周知の反応性基も挙げられる。
また、電荷輸送性骨格としては電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
-Reactive charge transport material-
The reactive charge transporting material is selected from known materials as long as it is a compound having a charge transporting backbone and a reactive group in the same molecule. Here, as the reactive group, a chain polymerizable group may be mentioned, and for example, it may be a functional group capable of radical polymerization, for example, a functional group having a group containing at least a carbon double bond. Specifically, the chain polymerizable group is not particularly limited as long as it is a functional group capable of radical polymerization, for example, a functional group having a group containing at least a carbon double bond. Specific examples thereof include a group containing at least one selected from a vinyl group, a vinyl ether group, a vinyl thioether group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and derivatives thereof. Among them, the chain polymerizable functional group is preferably a group containing at least one selected from a vinyl group, a styryl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and derivatives thereof because they are excellent in the reactivity. Is preferred. In addition, as a reactive group, an epoxy group, -OH, -OR (wherein R represents an alkyl group), -NH 2 , -SH, -COOH, -SiR Q 1 3- Q n (OR Q 2 ) Q n [wherein And R Q1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, and R Q2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a trialkylsilyl group. Qn represents an integer of 1 to 3] and the like, as well as known reactive groups.
The charge transporting skeleton is not particularly limited as long as it has a known structure in an electrophotographic photosensitive member, and, for example, nitrogen-containing hole transport such as triarylamine compounds, benzidine compounds, and hydrazone compounds. It is a skeleton derived from a sex compound and has a structure conjugated to a nitrogen atom. Among these, a triarylamine skeleton is preferable.

反応性電荷輸送材料としては、画像の濃度ムラ抑制の観点から、同一分子内に電荷輸送性骨格及び連鎖重合性官能基を少なくとも有する連鎖重合性化合物が好ましい。特に、連鎖重合性化合物の中でも、同観点と共に、電気特性と機械的強度の観点から、特定の連鎖重合性電荷輸送材料(一般式(I)及び(II)で示される連鎖重合性化合物)から選択される少なくとも1種が好ましい。   As the reactive charge transporting material, a chain polymerizable compound having at least a charge transporting skeleton and a chain polymerizable functional group in the same molecule is preferable from the viewpoint of suppressing unevenness in density of an image. In particular, among the chain polymerizable compounds, from the same viewpoint as well as from the viewpoint of electrical properties and mechanical strength, from a specific chain polymerizable charge transporting material (chain polymerizable compounds represented by general formulas (I) and (II)) At least one selected is preferred.

−特定の反応性電荷輸送材料−
特定の反応性電荷輸送材料は、一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物からなる群より選択される少なくとも1種である。
-Specific Reactive Charge Transport Material-
The specific reactive charge transporting material is at least one selected from the group consisting of the reactive compounds represented by the general formulas (I) and (II).

一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。
Lは、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。
mは1以上8以下の整数を示す。
In the general formula (I), F represents a charge transporting skeleton.
L represents a divalent linking group containing two or more selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)-, -S- and -O- Show. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
m represents an integer of 1 or more and 8 or less.

一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。
L’は、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−の基からなる群より選択される2種以上を含む(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。なお、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基とは、アルカン又はアルケンから水素原子を3つ又は4つ取り除いた基を意味する。以下、同様である。
m’は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。
In the general formula (II), F represents a charge transporting skeleton.
L 'is a trivalent or tetravalent group derived from alkane or alkene, and an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)-, -S-, and -O- And (n + 1) -valent linking group containing two or more selected from the group consisting of R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group. The term "trivalent or tetravalent group derived from alkane or alkene" means a group obtained by removing three or four hydrogen atoms from alkane or alkene. The same applies below.
m 'represents an integer of 1 or more and 6 or less. n represents an integer of 2 or more and 3 or less.

一般式(I)及び(II)中、Fは、電荷輸送性骨格、つまり電荷輸送性を有する構造を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物、などの電荷輸送性を有する構造が挙げられる。   In the general formulas (I) and (II), F represents a charge transportable skeleton, that is, a structure having charge transportability, specifically, phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, azobenzene compounds, triarylamine compounds Examples include structures having charge transportability such as compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, quinone compounds, fluorenone compounds, and the like.

一般式(I)中、Lで示される連結基としては、例えば、
アルキレン基中に−C(=O)−O−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−C(=O)−N(R)−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−C(=O)−S−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−O−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−N(R)−が介在した2価の連結基、
アルキレン基中に−S−が介在した2価の連結基、
が挙げられる。
なお、Lで示される連結基は、アルキレン基中に、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−、又は−S−の基が2つ介在してもよい。
As the linking group represented by L in the general formula (I), for example,
A bivalent linking group in which —C (= O) —O— intervenes in an alkylene group,
A divalent linking group in which —C (= O) —N (R) — intervenes in an alkylene group,
A divalent linking group in which —C (= O) —S— is present in an alkylene group,
A divalent linking group in which -O- is interposed in an alkylene group,
A divalent linking group in which -N (R)-is interposed in an alkylene group,
A divalent linking group in which -S- is interposed in an alkylene group,
Can be mentioned.
The linking group represented by L is, in the alkylene group, —C (= O) —O—, —C (= O) —N (R) —, —C (= O) —S—, —O Two — or —S— groups may be present.

一般式(I)中、Lで示される連結基として具体的には、例えば、
*−(CH−C(=O)−O−(CH−、
*−(CH−O−C(=O)−(CH−C(=O)−O−(CH−、
*−(CH−C(=O)−N(R)−(CH−、
*−(CH−C(=O)−S−(CH−、
*−(CH−O−(CH−、
*−(CH−N(R)−(CH−、
*−(CH−S−(CH−、
*−(CH−O−(CH−O−(CH
等が挙げられる。
ここで、Lで示される連結基中、pは、0、又は1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。qは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。rは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、Lで示される連結基中、「*」は、Fと連結する部位を示している。
Specific examples of the linking group represented by L in the general formula (I) include
*-(CH 2 ) p -C (= O) -O- (CH 2 ) q- ,
* - (CH 2) p -O -C (= O) - (CH 2) r -C (= O) -O- (CH 2) q -,
* - (CH 2) p -C (= O) -N (R) - (CH 2) q -,
*-(CH 2 ) p -C (= O) -S- (CH 2 ) q- ,
*-(CH 2 ) p -O- (CH 2 ) q- ,
*-(CH 2 ) p -N (R)-(CH 2 ) q- ,
*-(CH 2 ) p -S- (CH 2 ) q- ,
*-(CH 2 ) p -O- (CH 2 ) r -O- (CH 2 ) q-
Etc.
Here, in the linking group represented by L, p represents an integer of 0 or 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less). q represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less). r represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less).
In the linking group represented by L, "*" indicates a site linked to F.

一方、一般式(II)中、L’で示される連結基としては、例えば、
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−O−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−N(R)−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−C(=O)−S−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−O−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−N(R)−が介在した(n+1)価の連結基、
分枝状に連結したアルキレン基中に−S−が介在した(n+1)価の連結基、
が挙げられる。
なお、L’で示される連結基は、分枝状に連結したアルキレン基中に、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−、又は−S−の基が2つ介在してもよい。
On the other hand, as the linking group represented by L ′ in the general formula (II), for example,
(N + 1) -valent linking group in which —C (= O) —O— intervenes in a branched alkylene group;
(N + 1) -valent linking group in which —C (= O) —N (R) — intervenes in a branched alkylene group;
(N + 1) -valent linking group in which —C (= O) —S— intervenes in a branched alkylene group;
(N + 1) -valent linking group in which —O— is interposed in a branched alkylene group,
(N + 1) -valent linking group in which —N (R) — intervenes in a branched alkylene group;
(N + 1) -valent linking group in which —S— is interposed in a branched alkylene group,
Can be mentioned.
Note that the linking group represented by L ′ is a branched alkylene group in which —C (= O) —O—, —C (= O) —N (R) —, —C (= O) Two groups of -S-, -O- or -S- may be present.

一般式(II)中、L’で示される連結基として具体的には、例えば、
*−(CH−CH[C(=O)−O−(CH−]
*−(CH−CH=C[C(=O)−O−(CH−]
*−(CH−CH[C(=O)−N(R)−(CH−]
*−(CH−CH[C(=O)−S−(CH−]
*−(CH−CH[(CH−O−(CH−]
*−(CH−CH=C[(CH−O−(CH−]
*−(CH−CH[(CH−N(R)−(CH−]
*−(CH−CH[(CH−S−(CH−]


*−(CH−O−C[(CH−O−(CH−]
*−(CH−C(=O)−O−C[(CH−O−(CH−]
等が挙げられる。
ここで、L’で示される連結基中、pは、0、又は1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。qは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。rは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。sは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、L’で示される連結基中、「*」は、Fと連結する部位を示している。
Specific examples of the linking group represented by L ′ in the general formula (II) include
*-(CH 2 ) p -CH [C (= O) -O- (CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH = C [C (= O) -O- (CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH [C (= O) -N (R)-(CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH [C (= O) -S- (CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH [(CH 2 ) r -O- (CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH = C [(CH 2 ) r -O- (CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH [(CH 2 ) r -N (R)-(CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH [(CH 2 ) r -S- (CH 2 ) q- ] 2 ,


*-(CH 2 ) p -O-C [(CH 2 ) r -O- (CH 2 ) q- ] 3
*-(CH 2 ) p -C (= O) -O-C [(CH 2 ) r -O- (CH 2 ) q- ] 3
Etc.
Here, in the linking group represented by L ′, p represents an integer of 0 or 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less). q represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less). r represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less). s represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less).
In the linking group represented by L ′, “*” indicates a site linked to F.

これらの中でも、一般式(II)中、L’で示される連結基としては、
*−(CH−CH[C(=O)−O−(CH−]
*−(CH−CH=C[C(=O)−O−(CH−]
*−(CH−CH[(CH−O−(CH−]
*−(CH−CH=C[(CH−O−(CH−]
がよい。
具体的には、一般式(II)で示される反応性化合物のFで示される電荷輸送性骨格に連結する基(一般式(IIA−a)で示される基が該当)は、下記一般式(IIA−a1)、下記一般式(IIA−a2)、下記一般式(IIA−a3)、又は下記一般式(IIA−a4)で示される基であることがよい。
Among these, as the linking group represented by L ′ in the general formula (II),
*-(CH 2 ) p -CH [C (= O) -O- (CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH = C [C (= O) -O- (CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH [(CH 2 ) r -O- (CH 2 ) q- ] 2 ,
*-(CH 2 ) p -CH = C [(CH 2 ) r -O- (CH 2 ) q- ] 2 ,
Is good.
Specifically, a group linked to the charge transporting skeleton represented by F of the reactive compound represented by the general formula (II) (a group represented by the general formula (IIA-a) corresponds) is a compound represented by the following general formula ( A group represented by IIA-a1), the following formula (IIA-a2), the following formula (IIA-a3), or the following formula (IIA-a4) is preferable.

一般式(IIA−a1)又は(IIA−a2)中、Xk1は2価の連結基を示す。kq1は0又は1の整数を示す。Xk2は2価の連結基を示す。kq2は0又は1の整数を示す。
ここで、Xk1及びXk2で示される2価の連結基は、例えば、−(CH−(但しpは1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す))が挙げられる。当該2価の連結基としては、アルキレンオキシ基も挙げられる。
In the general formulas (IIA-a1) or (IIA-a2), X k1 represents a divalent linking group. kq1 represents an integer of 0 or 1. X k2 represents a divalent linking group. kq2 represents an integer of 0 or 1.
Here, the divalent linking group represented by X k1 and X k2 is, for example, — (CH 2 ) p — (wherein p represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less)) It can be mentioned. The bivalent linking group also includes an alkyleneoxy group.

一般式(IIA−a3)又は(IIA−a4)中、Xk3は2価の連結基を示す。kq3は0又は1の整数を示す。Xk4は2価の連結基を示す。kq4は0又は1の整数を示す。
ここで、Xk3及びXk4で示される2価の連結基は、例えば、−(CH−(但しpは1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す))が挙げられる。当該2価の連結基としては、アルキレンオキシ基も挙げられる。
In the general formulas (IIA-a3) or (IIA-a4), X k3 represents a divalent linking group. kq3 represents an integer of 0 or 1; X k4 represents a divalent linking group. kq4 represents an integer of 0 or 1;
Here, the divalent linking group represented by X k3 and X k4 is, for example, — (CH 2 ) p — (wherein p represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less)) It can be mentioned. The bivalent linking group also includes an alkyleneoxy group.

一般式(I)及び(II)中、L、L’で示される連結基において、「−N(R)−」のRで示されるアルキル基としては、炭素数1以上5以下(好ましくは1以上4以下)の直鎖状、分枝状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
「−N(R)−」のRで示されるアリール基としては、炭素数6以上15以下(好ましくは6以上12以下)のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数7以上15以下(好ましくは7以上14以下)のアラルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ビフェニルメチレン基等が挙げられる。
In the linking groups represented by L and L ′ in the general formulas (I) and (II), the alkyl group represented by R in “—N (R) —” has 1 to 5 carbon atoms (preferably 1 to 5). 4 or less) of the linear or branched alkyl group, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group.
Examples of the aryl group represented by R in "-N (R)-" include aryl groups having 6 to 15 carbon atoms (preferably 6 to 12 carbon atoms), and specific examples thereof include phenyl and toluyl Groups, xylyl groups, naphthyl groups and the like.
Examples of the aralkyl group include aralkyl groups having 7 to 15 carbon atoms (preferably 7 to 14 carbon atoms), and specific examples include a benzyl group, a phenethyl group, and a biphenyl methylene group.

一般式(I)及び(II)中、mは、1以上6以下の整数を示すことが好ましい。
m’は、1以上6以下の整数を示すことが好ましい。
nは、2以上3以下の整数を示すことが好ましい。
In the general formulas (I) and (II), m preferably represents an integer of 1 or more and 6 or less.
m ′ preferably represents an integer of 1 or more and 6 or less.
n preferably represents an integer of 2 or more and 3 or less.

次に、一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物の好適な化合物について説明する。
一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物としては、Fとしてトリアリールアミン系化合物に由来する電荷輸送性骨格(電荷輸送性を有する構造)を有する反応性化合物がよい。
具体的には、一般式(I)で示される反応性化合物としては、一般式(I−a)、一般式(I−b)、一般式(I−c)、及び一般式(I−d)で示される反応性化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物が好適である。
一方、一般式(II)で示される反応性化合物としては、一般式(II−a)で示される反応性化合物が好適である。
Next, preferred compounds of the reactive compounds represented by formulas (I) and (II) will be described.
As the reactive compound represented by the general formulas (I) and (II), a reactive compound having a charge transporting skeleton (structure having charge transporting property) derived from a triarylamine compound as F is preferable.
Specifically, as the reactive compound represented by the general formula (I), a compound represented by the general formula (I-a), a general formula (I-b), a general formula (I-c), and a general formula (I-d) At least one compound selected from the group consisting of the reactive compounds shown in) is preferred.
On the other hand, as the reactive compound represented by the general formula (II), the reactive compound represented by the general formula (II-a) is preferable.

・一般式(I−a)で示される反応性化合物
一般式(I−a)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性電荷輸送材料として一般式(I−a)で示される反応性化合物を適用すると、環境変化に起因する電気特性の劣化が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、以下の通りと考えられる。
まず、従来用いられていた、(メタ)アクリル基を有する反応性化合物は、重合の際に電荷輸送性能を発現する骨格の部位に対して、(メタ)アクリル基の親水性が強いことから、ある種の層分離状態を形成してしまい、ホッピング伝導の妨げとなっていることが考えられる。このため、(メタ)アクリル基を有する反応性化合物の重合体又は架橋体を含む電荷輸送性膜は、電荷輸送の効率が落ち、更に、部分的な水分の吸着などにより環境安定性が低下するものと考えられる。
これ対して、一般式(I−a)で示される反応性化合物は、親水性の強くないビニル系の連鎖重合性基を有しており、更に、電荷輸送性能を発現する骨格を一分子内に複数有し、その骨格同士を芳香環や共役二重結合などの共役結合を有しない、柔軟性のある連結基で連結している。このような構造を有することから、効率的な電荷輸送性能と高強度化が図れると共に、重合の際の層分離状態の形成が抑制されるものと考えられる。その結果として、一般式(I−a)で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)は、電荷輸送性能と機械的強度との両方に優れ、更に、電荷輸送性能の環境依存(温湿度依存)を低減しうるものと考えられる。
以上から、一般式(I−a)で示される反応性化合物を適用すると、環境変化に起因する電気特性の劣化が抑制され易くなると考えられる。
Reactive Compound Represented by General Formula (I-a) The reactive compound represented by General Formula (I-a) will be described.
When the reactive compound represented by the general formula (I-a) is applied as the specific reactive charge transport material, the deterioration of the electrical characteristics due to the environmental change is easily suppressed. Although the reason is not clear, it is considered as follows.
First, since the reactive compound having a (meth) acrylic group, which has been conventionally used, has high hydrophilicity of the (meth) acrylic group with respect to the portion of the skeleton that exhibits charge transport performance during polymerization, It is considered that some kind of layer separation state is formed, which is an obstacle to hopping conduction. For this reason, the charge transportable film containing a polymer or a cross-linked product of a reactive compound having a (meth) acrylic group is reduced in charge transport efficiency, and further, environmental stability is reduced due to partial adsorption of water and the like. It is considered to be a thing.
On the other hand, the reactive compound represented by the general formula (I-a) has a vinyl-based chain polymerizable group which is not strongly hydrophilic, and further, has a skeleton which exhibits charge transport performance in one molecule. Are connected to one another by a flexible linking group which does not have a conjugated bond such as an aromatic ring or a conjugated double bond. Such a structure is considered to achieve efficient charge transport performance and high strength, and to suppress the formation of a layer separation state during polymerization. As a result, the protective layer (uppermost surface layer) containing the polymer or cross-linked product of the reactive compound represented by the general formula (I-a) is excellent in both charge transport performance and mechanical strength, and further, charge It is thought that environmental dependence (temperature and humidity dependence) of transport performance can be reduced.
From the above, it is considered that when the reactive compound represented by the general formula (I-a) is applied, the deterioration of the electrical characteristics caused by the environmental change is easily suppressed.

一般式(I−a)中、Ara1〜Ara4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ara5及びAra6は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Xaは、アルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の連結基を示す。Daは、下記一般式(IA−a)で示される基を示す。ac1〜ac4は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。但し、Daの総数は1又は2である。 In the general formula (I-a), Ar a1 to Ar a4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar a5 and Ar a6 each independently represent a substituted or unsubstituted arylene group. Xa represents a divalent linking group formed by combining a group selected from an alkylene group, -O-, -S- and an ester. Da represents a group represented by the following general formula (IA-a). Each of ac1 to ac4 independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. However, the total number of Da is 1 or 2.

一般式(IA−a)中、Lは、*−(CHan−O−CH−で示され、*にてAra1〜Ara4で示される基に連結する2価の連結基を示す。anは、1又は2の整数を示す。 In the general formula (IA-a), L a is a *-(CH 2 ) an -O-CH 2- , and is a divalent linking group which is linked to a group represented by Ar a1 to Ar a4 by * Indicates an represents an integer of 1 or 2.

以下、一般式(I−a)の詳細を説明する。
一般式(I−a)中、Ara1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、「Da」以外のものとして、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子等が挙げられる。
Hereinafter, the details of the general formula (I-a) will be described.
In General Formula (I-a), the substituted or unsubstituted aryl groups represented by Ar a1 to Ar a4 may be identical to or different from each other.
Here, as a substituent in the substituted aryl group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, as other than "Da" Examples thereof include a substituted phenyl group, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom.

一般式(I−a)中、Ara1〜Ara4としては、下記構造式(1)〜(7)のうちのいずれかであることが好ましい。
なお、下記構造式(1)〜(7)は、Ara1〜Ara4の各々に連結され得る「−(Da)ac1」〜「−(Da)ac1」を総括的に示した「−(D)」と共に示す。
In the general formula (I-a), Ar a1 to Ar a4 are preferably any of the following structural formulas (1) to (7).
The following structural formulas (1) to (7) collectively represent “-(Da) ac1 ” to “-(Da) ac1 ” that can be linked to each of Ar a1 to Ar a4. C ) It shows it with ".


構造式(1)〜(7)中、R11は、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルキル基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数7以上10以下のアラルキル基からなる群より選ばれる1種を示す。R12、及びR13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を示す。R14は、それぞれ独立に、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を示す。Arは、置換又は未置換のアリーレン基を示す。sは、0又は1を示す。tは、0以上3以下の整数を示す。Z’は、2価の有機連結基を示す。 In structural formulas (1) to (7), R 11 is substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms 1 type selected from the group which consists of a phenyl group, an unsubstituted phenyl group, and a C7 or more and 10 or less carbon aralkyl group is shown. R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms And 1 type selected from the group consisting of an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom. R 14 each independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an unsubstituted phenyl group, This represents one selected from the group consisting of an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms and a halogen atom. Ar represents a substituted or unsubstituted arylene group. s represents 0 or 1. t represents an integer of 0 or more and 3 or less. Z ′ represents a divalent organic linking group.

ここで、式(7)中、Arとしては、下記構造式(8)又は(9)で示されるものが好ましい。   Here, in the formula (7), as Ar, one represented by the following structural formula (8) or (9) is preferable.


構造式(8)及び(9)中、R15及びR16は、それぞれ独立に、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を表し、t1及びt2はそれぞれ0以上3以下の整数を示す。 In Structural Formulas (8) and (9), R 15 and R 16 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms. Represents one selected from the group consisting of a phenyl group substituted by a group, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom, and t1 and t2 each represent an integer of 0 to 3; Show.

また、式(7)中、Z’は、下記構造式(10)〜(17)のうちのいずれかで示されるものが好ましい。   Moreover, in Formula (7), what is shown by either of following Structural formula (10)-(17) is preferable.


構造式(10)〜(17)中、R17及びR18は、それぞれ独立に、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシ基若しくは炭素数1以上4以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数7以上10以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種を示す。Wは、2価の基を示す。q1及びr1は、それぞれ独立に1以上10以下の整数を示す。t3及びt4は、それぞれ0以上3以下の整数を示す。 In Structural Formulas (10) to (17), R 17 and R 18 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms. 1 group selected from the group consisting of a phenyl group substituted by a group, an unsubstituted phenyl group, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and a halogen atom. W represents a divalent group. Each of q1 and r1 independently represents an integer of 1 or more and 10 or less. t3 and t4 each represent an integer of 0 or more and 3 or less.

構造式(16)〜(17)中、Wとしては、下記構造式(18)〜(26)で示される2価の基のうちのいずれかであることが好ましい。但し、式(25)中、uは、0以上3以下の整数を示す。   In Structural Formulas (16) to (17), W is preferably any one of divalent groups represented by the following Structural Formulas (18) to (26). However, u shows an integer of 0 or more and 3 or less in Formula (25).


一般式(I−a)中、Ara5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基において、このアリーレン基としては、Ara1〜Ara4の説明で例示されたアリール基から目的とする位置の水素原子を1つ除いたアリーレン基が挙げられる。
また、置換アリーレン基における置換基としては、Ara1〜Ara4の説明で、置換アリール基における「Da」以外の置換基として挙げられているものと同様である。
In the substituted or unsubstituted arylene group represented by Ar a5 and Ar a6 in the general formula (I-a), as the arylene group, the target position from the aryl group exemplified in the description of Ar a1 to Ar a4 And an arylene group from which one hydrogen atom has been removed.
Further, examples of the substituent in the substituted arylene group, in the description of Ar a1 to Ar a4, is the same as those listed as the substituent other than "Da" in the substituted aryl group.

一般式(I−a)中、Xaで示される2価の連結基は、アルキレン基、又はアルキレン基、−O−、−S−、及びエステルから選ばれる基を組み合わせてなる2価の基であって、芳香環や共役二重結合などの共役結合を含まない連結基である。
具体的には、Xaで示す2価の連結基として、炭素数1以上10以下のアルキレン基が挙げられ、その他、炭素数1以上10以下のアルキレン基と−O−、−S−、−O−C(=O)−、及び−C(=O)−O−から選ばれる基とを組み合わせてなる2価の基も挙げられる。
なお、Xaで示される2価の連結基がアルキレン基である場合、このアルキレン基はアルキル、アルコキシ、ハロゲン等の置換基を有していてもよく、この置換基の2つが互いに結合して、構造式(16)〜(17)中のWの具体例として記載した構造式(26)で示される2価の連結基のような構造となってもよい。
In General Formula (I-a), the divalent linking group represented by Xa is a divalent group formed by combining an alkylene group, or a group selected from an alkylene group, -O-, -S-, and an ester. It is a linking group which does not contain a conjugated bond such as an aromatic ring or a conjugated double bond.
Specifically, examples of the divalent linking group represented by Xa include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and in addition, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms and -O-, -S-, -O The bivalent group which combines the group chosen from -C (= O)-and -C (= O) -O- is also mentioned.
When the divalent linking group represented by Xa is an alkylene group, this alkylene group may have a substituent such as alkyl, alkoxy or halogen, and two of these substituents are bonded to each other, It may have a structure like a divalent linking group represented by Structural Formula (26) described as a specific example of W in Structural Formulas (16) to (17).

・一般式(I−b)で示される反応性化合物
一般式(I−b)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性電荷輸送材料として一般式(I−b)で示される反応性化合物を適用すると、保護層(最表面層)の摩耗が抑制される共に、画像の濃度ムラの発生が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、以下の通りと考えられる。
まず、かさ高い電荷輸送骨格と重合部位(スチリル基)が構造的に近く、剛直(リジッド)であると重合部位同士が動きずらくなり、硬化反応による残留歪が残りやすく、電荷輸送骨格が歪むことによりキャリア輸送をになうHOMO(最高被占軌道)のレベルの変化が起こり、結果としてエネルギー分布が広がった状態(エネルギー的ディスオーダー:σが大きい)となりやすいと考えられる。
これに対し、メチレン基、エーテル基を介すると、分子構造に柔軟性が得られ、σが小さいものが得られやすく、さらに、メチレン基、エーテル基は、エステル基、アミド基などに比較し、双極子モーメント(ダイポールモーメント)が小さく、この効果もσを小さくすることに寄与し、電気特性が向上すると考えられる。また、分子構造に柔軟性が加わることで、反応部位(反応サイト)の動きの自由度が増し、反応率も向上することで強度の高い膜となると考えられる
これらのことから、電荷輸送骨格と重合部位との間に柔軟性に富む連結鎖を介在させる構造がよい。
このため、一般式(I−b)で示される反応性化合物は、硬化反応により分子自身の分子量が増大し、重心は移動し難くなると共に、スチリル基の自由度が高いと考えられる。の結果、一般式(I−b)で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)は、電気特性に優れ、且つ、高い強度を有すると考えられる。
以上から、一般式(I−b)で示される反応性化合物を適用すると、保護層(最表面層)の摩耗が抑制される共に、画像の濃度ムラの発生が抑制され易くなると考えられる。
Reactive Compound Represented by General Formula (I-b) The reactive compound represented by General Formula (I-b) will be described.
When the reactive compound represented by the general formula (I-b) is applied as a specific reactive charge transport material, abrasion of the protective layer (uppermost surface layer) is suppressed and generation of density unevenness of the image is easily suppressed. Become. Although the reason is not clear, it is considered as follows.
First, if the bulky charge transport skeleton and the polymerization site (styryl group) are structurally close and rigid (rigid), the polymerization sites are less likely to move with each other, residual strain due to curing reaction tends to remain, and the charge transport skeleton is distorted. It is thought that the change of the level of HOMO (highest occupied molecular orbital) that leads to carrier transport occurs, and as a result, the energy distribution is likely to be spread (energy disorder: large σ).
On the other hand, when a methylene group or an ether group is used, flexibility can be obtained in the molecular structure and a small σ can be easily obtained. Furthermore, the methylene group and the ether group are compared to an ester group, an amide group, etc. It is considered that the dipole moment (dipole moment) is small, this effect also contributes to the reduction of σ, and the electrical characteristics are improved. In addition, flexibility is added to the molecular structure to increase the freedom of movement of the reaction site (reaction site), and the reaction rate is also considered to be a high strength film by improving the reaction rate. The structure which interposes a flexible connection chain between the polymerization site is preferred.
Therefore, the reactive compound represented by the general formula (I-b) is considered to increase the molecular weight of the molecule itself by the curing reaction, to make it difficult to move the center of gravity and to have a high degree of freedom of styryl group. As a result, the protective layer (uppermost surface layer) containing the polymer or crosslinked product of the reactive compound represented by the general formula (I-b) is considered to be excellent in electrical properties and to have high strength.
From the above, it is considered that when the reactive compound represented by the general formula (I-b) is applied, the wear of the protective layer (the outermost surface layer) is suppressed and the generation of the density unevenness of the image is easily suppressed.

一般式(I−b)中、Arb1〜Arb4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Arb5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dbは、下記一般式(IA−b)で示される基を示す。bc1〜bc5は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。bkは、0又は1を示す。但し、Dbの総数は、1又は2である。 In the general formula (I-b), Ar b1 to Ar b4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar b5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Db represents a group represented by the following general formula (IA-b). bc1 to bc5 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less. bk represents 0 or 1; However, the total number of Db is 1 or 2.

一般式(IA−b)中、Lは、*−(CHbn−O−で示される基を含み、*にてArb1〜Arb5で示される基に連結する2価の連結基を示す。bnは、3以上6以下の整数を示す。 In the general formula (IA-b), L b contains a group represented by *-(CH 2 ) bn -O- and is a divalent linking group which is linked to the group represented by Ar b1 to Ar b5 by * Indicates bn represents an integer of 3 or more and 6 or less.

以下、一般式(I−b)の詳細を説明する。
一般式(I−b)中、Arb1〜Arb4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Arb5は、bkが0のとき、置換若しくは未置換のアリール基を示し、この置換若しくは未置換のアリール基としては、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Arb5は、bkが1のとき、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、この置換若しくは未置換のアリーレン基としては、一般式(I−a)中のAra5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基と同様である。
Hereinafter, the details of the general formula (I-b) will be described.
In the general formula (I-b), the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar b1 to Ar b4 is a substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in the general formula (I-a) Is the same as
Ar b5 represents a substituted or unsubstituted aryl group when bk is 0, and as the substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in the general formula (I-a) or It is the same as an unsubstituted aryl group.
Ar b5 represents a substituted or unsubstituted arylene group when bk is 1, and examples of the substituted or unsubstituted arylene group include the substituents represented by Ar a5 and Ar a6 in the general formula (I-a) or It is the same as an unsubstituted arylene group.

次に、一般式(IA−b)の詳細を説明する。
一般式(IA−b)中、Lで示される2価の連結基としては、例えば、
*−(CHbp−O−、
*−(CHbp−O−(CHbq−O−
等が挙げられる。
ここで、Lで示される連結基中、bpは、3以上6以下(好ましくは3以上5以下)の整数を示す。bqは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、Lで示される連結基中、「*」は、Arb1〜Arb5で示される基と連結する部位を示している。
Next, the details of the general formula (IA-b) will be described.
Examples of the divalent linking group represented by L b in general formula (IA-b) include
*-(CH 2 ) bp -O-,
*-(CH 2 ) bp -O- (CH 2 ) bq -O-
Etc.
Here, in the linking group represented by L b , bp represents an integer of 3 or more and 6 or less (preferably 3 or more and 5 or less). bq represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less).
In the linking group represented by L b , “*” indicates a site linked to the group represented by Ar b1 to Ar b5 .

・一般式(I−c)で示される反応性化合物
一般式(I−c)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性電荷輸送材料として一般式(I−c)で示される反応性化合物を適用すると、繰り返し使用しても表面にキズが発生しにくく、かつ画質劣化が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、以下の通りと考えられる。
まず、特定の反応性電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む最表面層を形成する際には、その重合反応又は架橋反応に伴う膜収縮や、電荷輸送構造と連鎖重合性基周辺の構造の凝集が起きると考えられる。よって、繰り返し使用で電子写真感光体表面が機械的負荷を受けると、膜自体が摩耗したり、分子中の化学構造が切断されたりして、膜収縮や凝集状態が変化し、電子写真感光体としての電気特性が変化し、画質劣化を引き起こしてしまうと考えられる。
一方、一般式(I−c)で示される反応性化合物は、連鎖重合性基としてスチレン骨格を有していることから、電荷輸送材料の主骨格であるアリール基と相溶性が良く、膜収縮や重合反応又は架橋反応による電荷輸送構造、連鎖重合性基周辺構造の凝集が抑制されると考えられる。その結果、一般式(I−c)で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)を持つ電子写真感光体は、繰り返し使用による画質劣化が抑制されると考えられる。
加えて、一般式(I−c)で示される反応性化合物は、電荷輸送性骨格とスチレン骨格を、−C(=O)−、−N(R)−、−S−など特定の基を含む連結基を介して連結することにより、特定の基と電荷輸送性骨格中の窒素原子との間や、特定の基同士の相互作用等が生じると考えられる、その結果、一般式(I−c)で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)は、強度がさらに向上すると考えられる。
以上から、一般式(I−c)で示される反応性化合物を適用すると、繰り返し使用しても表面にキズが発生しにくく、かつ画質劣化が抑制され易くなると考えられる。
なお、−C(=O)−、−N(R)−、−S−など特定の基は、その極性や親水性に起因し、電荷輸送性や高湿条件下における画質劣化を引き起こす要因となるが、一般式(I−c)で示される反応性化合物は、連鎖重合性基として(メタ)アクリルなどよりも疎水性の高いスチレン骨格を有してるため、電荷輸送性悪化や前サイクルの履歴による残像現象(ゴースト)等の画質劣化が生じ難いと考えられる。
Reactive Compound Represented by General Formula (I-c) The reactive compound represented by General Formula (I-c) will be described.
When the reactive compound represented by the general formula (Ic) is applied as the specific reactive charge transport material, the surface is less likely to be scratched even when used repeatedly, and image quality deterioration is easily suppressed. Although the reason is not clear, it is considered as follows.
First, when forming the outermost surface layer containing a polymer or a crosslinked product of a specific reactive charge transport material, the film shrinkage associated with the polymerization reaction or the crosslinking reaction, the charge transport structure and the structure around the chain polymerizable group It is believed that cohesion of Therefore, when the electrophotographic photosensitive member surface is subjected to mechanical load in repeated use, the film itself is abraded or the chemical structure in the molecule is cut, and the film contraction and aggregation state change, and the electrophotographic photosensitive member It is considered that the electrical characteristics of the image quality change and image quality deterioration occurs.
On the other hand, since the reactive compound represented by the general formula (Ic) has a styrene skeleton as a chain polymerizable group, it has good compatibility with the aryl group which is the main skeleton of the charge transport material, and the film shrinks. It is considered that the aggregation of the charge transport structure and the chain polymerizable group peripheral structure due to polymerization reaction or crosslinking reaction is suppressed. As a result, it is considered that an electrophotographic photosensitive member having a protective layer (uppermost surface layer) containing a polymer or a crosslinked product of a reactive compound represented by the general formula (I-c) suppresses image quality deterioration due to repeated use. Be
In addition, the reactive compound represented by the general formula (I-c) has a charge transporting skeleton and a styrene skeleton, and a specific group such as -C (= O)-, -N (R)-or -S- By linking through a linking group, it is considered that interaction between a specific group and a nitrogen atom in the charge transportable backbone, or between specific groups, etc. will occur. As a result, The protective layer (uppermost surface layer) containing the polymer or crosslinked product of the reactive compound shown in c) is considered to further improve the strength.
From the above, it is considered that when the reactive compound represented by the general formula (I-c) is applied, scratches are not easily generated on the surface even when used repeatedly, and image quality deterioration is easily suppressed.
In addition, specific groups such as -C (= O)-, -N (R)-and -S- are caused by their polarity and hydrophilicity, and are factors that cause degradation of image quality under charge transportability and high humidity conditions. However, since the reactive compound represented by the general formula (I-c) has a styrene skeleton which is more hydrophobic than (meth) acrylic or the like as a chain polymerizable group, the charge transportability is deteriorated or the previous cycle is It is considered that image quality deterioration such as afterimage phenomenon (ghost) due to history is unlikely to occur.

一般式(I−c)中、Arc1〜Arc4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Arc5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dcは、下記一般式(IA−c)で示される基を示す。cc1〜cc5は、それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。ckは、0又は1を示す。但し、Dcの総数は、1以上8以下である。 In the general formula (I-c), Ar c1 to Ar c4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar c5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dc represents a group represented by the following general formula (IA-c). cc1 to cc5 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less. ck shows 0 or 1. However, the total number of Dc is 1 or more and 8 or less.

一般式(IA−c)中、Lは、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び、−C(=O)−と−O−、−N(R)−又は−S−とを組み合わせた基からなる群より選択される1つ以上の基を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 In the general formula (IA-c), L C is —C (= O) —, —N (R) —, —S—, and —C (= O) —, —O—, —N (R And b) a divalent linking group containing one or more groups selected from the group consisting of a group in combination with-or -S-. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group.

以下、一般式(I−c)の詳細を説明する。
一般式(I−c)中、Arc1〜Arc4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Arc5は、ckが0のとき、置換若しくは未置換のアリール基を示し、この置換若しくは未置換のアリール基としては、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Arc5は、ckが1のとき、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、この置換若しくは未置換のアリーレン基としては、一般式(I−a)中のAra5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基と同様である。
Dcの総数は、より強度の高い保護層(最表面層)を得る観点から、好ましくは2以上であり、更に好ましくは4以上である。一般に、一分子中の連鎖重合性基の数が多すぎると、重合(架橋)反応が進むにつれ、分子が動きにくくなり連鎖重合反応性が低下し、未反応の連鎖重合性基の割合が増えてしまうことから、Dcの総数は、好ましくは7以下、さらに好ましくは6以下である。
Hereinafter, the details of the general formula (I-c) will be described.
In the general formula (I-c), the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar c1 to Ar c4 is a substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in the general formula (I-a) Is the same as
Ar c5 represents a substituted or unsubstituted aryl group when ck is 0, and examples of the substituted or unsubstituted aryl group include a substituent represented by Ar a1 to Ar a4 in the general formula (I-a) or It is the same as an unsubstituted aryl group.
Ar c5 represents a substituted or unsubstituted arylene group when ck is 1, and examples of the substituted or unsubstituted arylene group include the substituents represented by Ar a5 and Ar a6 in the general formula (I-a) or It is the same as an unsubstituted arylene group.
The total number of Dc is preferably 2 or more, more preferably 4 or more from the viewpoint of obtaining a protective layer (uppermost surface layer) having higher strength. In general, when the number of chain polymerizable groups in one molecule is too large, as the polymerization (crosslinking) reaction proceeds, the molecules become difficult to move, the chain polymerization reactivity decreases, and the proportion of unreacted chain polymerizable groups increases. In view of the above, the total number of Dc is preferably 7 or less, more preferably 6 or less.

次に、一般式(IA−c)の詳細を説明する。
一般式(IA−c)中、Lで示される2価の連結基としては、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び、−C(=O)−と−O−、−N(R)−又は−S−とを組み合わせた基(以下、「特定連結基」と称する)を含む2価の連結基である。
ここで、特定連結基としては、保護層(最表面層)の強度と極性(親疎水性)のバランスの観点から、例えば、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(R)−、−C(=O)−S−、−O−C(=O)−O−、−O−C(=O)−N(R)−がよく、好ましくは−N(R)−、−S−、−C(=O)−O−、−C(=O)−N(H)−、−C(=O)−O−、より好ましくは−C(=O)−O−である。
そして、Lで示される2価の連結基としては、例えば、特定連結基と、飽和炭化水素(直鎖状、分枝状、環状いずれも含む)または芳香族炭化水素の残基と、酸素原子と、を組み合わせて形成される2価の連結基が挙げられ、これらの中でも、特定連結基と、直鎖状の飽和炭化水素の残基と、酸素原子と、を組み合わせて形成される2価の連結基がよい。
で示される2価の連結基に含まれる炭素原子の総数としては、分子中のスチレン骨格の密度と連鎖重合反応性の観点から、例えば、1以上20以下がよく、好ましくは2以上10以下である。
Next, the details of the general formula (IA-c) will be described.
In the general formula (IA-c), examples of the divalent linking group represented by L c include —C (= O) —, —N (R) —, —S— and —C (= O) — It is a bivalent coupling group containing the group (Hereafter, "specific coupling group" is called) which combined and -O-, -N (R)-, or -S-.
Here, the specific linking group is, for example, -C (= O)-, -N (R)-or -S- from the viewpoint of the balance between the strength and polarity (hydrophilicity and hydrophobicity) of the protective layer (uppermost surface layer). , -C (= O) -O-, -C (= O) -N (R)-, -C (= O) -S-, -O-C (= O) -O-, -O-C (= O) -N (R)-is preferable, preferably -N (R)-, -S-, -C (= O) -O-, -C (= O) -N (H)-,- C (= O) -O-, more preferably -C (= O) -O-.
And, as the divalent linking group represented by L c , for example, a specific linking group, a residue of a saturated hydrocarbon (including any of linear, branched and cyclic) or an aromatic hydrocarbon, and oxygen And a divalent linking group formed by combining atoms, and among these, it is formed by combining a specific linking group, a residue of a linear saturated hydrocarbon, and an oxygen atom. The linking group is preferred.
The total number of carbon atoms contained in the divalent linking group represented by L c is, for example, 1 or more and 20 or less, preferably 2 or more, from the viewpoint of the density of the styrene skeleton in the molecule and the chain polymerization reactivity. It is below.

一般式(IA−c)中、Lで示される2価の連結基として具体的には、例えば、
*−(CHcp−C(=O)−O−(CHcq−、
*−(CHcp−O−C(=O)−(CHcr−C(=O)−O−(CHcq−、
*−(CHcp−C(=O)−N(R)−(CHcq−、
*−(CHcp−C(=O)−S−(CHcq−、
*−(CHcp−N(R)−(CHcq−、
*−(CHcp−S−(CHcq−、
等が挙げられる。
ここで、Lで示される連結基中、cpは、0、又は1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。cqは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。crは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、Lで示される連結基中、「*」は、Arc1〜Arc5で示される基と連結する部位を示している。
Specific examples of the divalent linking group represented by L c in general formula (IA-c) include
*-(CH 2 ) cp -C (= O) -O- (CH 2 ) cq- ,
*-(CH 2 ) cp -O-C (= O)-(CH 2 ) cr -C (= O) -O- (CH 2 ) cq- ,
*-(CH 2 ) cp -C (= O) -N (R)-(CH 2 ) cq- ,
*-(CH 2 ) cp -C (= O) -S- (CH 2 ) cq- ,
*-(CH 2 ) cp -N (R)-(CH 2 ) cq- ,
*-(CH 2 ) cp -S- (CH 2 ) cq- ,
Etc.
Here, in the linking group represented by L c , cp represents an integer of 0 or 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less). cq represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less). cr represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less).
In the linking group represented by L c , “*” indicates a site linked to a group represented by Ar c1 to Ar c5 .

これらの中でも、一般式(IA−c)中、Lで示される2価の連結基としては、*−(CHcp−C(=O)−O−CH−が好ましい。つまり、一般式(IA−c)で示される基は、下記一般式(IA−c1)で示される基であることが好ましい。但し、一般式(IA−c1)中、cp1は0以上4以下の整数を示す。 Among these, in the general formula (IA-c), as the divalent linking group represented by L c , *-(CH 2 ) cp -C (= O) -O-CH 2 -is preferable. That is, the group represented by the general formula (IA-c) is preferably a group represented by the following general formula (IA-c1). However, in the general formula (IA-c1), cp1 represents an integer of 0 or more and 4 or less.

・一般式(I−d)で示される反応性化合物
一般式(I−d)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性電荷輸送材料として一般式(I−d)で示される反応性化合物を適用すると、保護層(最表面層)の摩耗が抑制される共に、画像の濃度ムラの発生が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、一般式(I−b)で示される反応性化合物と同様の理由によるものと考えられる。
特に、一般式(I−d)で示される反応性化合物は、一般式(I−b)に比べ、Ddの総数が3以上8以下と多いため、形成される架橋体がより高い架橋構造(架橋ネットワーク)が形成され易く、より保護層(最表面層)の摩耗が抑制され易くなると考えられる。
Reactive Compound Represented by General Formula (Id) The reactive compound represented by General Formula (Id) will be described.
When the reactive compound represented by the general formula (I-d) is applied as a specific reactive charge transport material, abrasion of the protective layer (uppermost surface layer) is suppressed and generation of density unevenness of the image is easily suppressed. Become. Although the reason is not clear, it is thought that it is based on the same reason as the reactive compound represented by the general formula (I-b).
In particular, since the reactive compound represented by the general formula (I-d) has a total number of Dd as large as 3 or more and 8 or less as compared with the general formula (I-b) It is considered that the crosslinked network is easily formed, and the wear of the protective layer (the outermost surface layer) is more easily suppressed.

一般式(I−d)中、Ard1〜Ard4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ard5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Ddは、下記一般式(IA−d)で示される基を示す。dc1〜dc5は,それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。dkは、0又は1を示す。但し、Ddの総数は、3以上8以下である。 In the general formula (Id), Ar d1 to Ar d4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ar d5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dd represents a group represented by the following general formula (IA-d). dc1 to dc5 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less. dk shows 0 or 1. However, the total number of Dd is 3 or more and 8 or less.

一般式(IA−d)中、Lは、*−(CHdn−O−で示される基を含み、*にてArd1〜Ard5で示されるに連結する2価の連結基を示す。dnは、1以上6以下の整数を示す。 In the general formula (IA-d), L d includes a group represented by *-(CH 2 ) dn -O-, and a divalent linking group linked to a group represented by Ar d1 to Ar d5 by * is represented by Show. dn represents an integer of 1 or more and 6 or less.

以下、一般式(I−d)の詳細を説明する。
一般式(I−d)中、Ard1〜Ard4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Ard5は、dkが0のとき、置換若しくは未置換のアリール基を示し、この置換若しくは未置換のアリール基としては、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Ard5は、dkが1のとき、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、この置換若しくは未置換のアリーレン基としては、一般式(I−a)中のAra5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基と同様である。
Ddの総数は、より強度の高い保護層(最表面層)を得る観点から、好ましくは4以上である。
Hereinafter, the details of the general formula (I-d) will be described.
In the general formula (Id), the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar d1 to Ar d4 is a substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in the general formula (I-a) Is the same as
Ar d5 represents a substituted or unsubstituted aryl group when dk is 0, and as the substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in the general formula (I-a) or It is the same as an unsubstituted aryl group.
Ar d5 represents a substituted or unsubstituted arylene group when dk is 1, and examples of the substituted or unsubstituted arylene group include the substituents represented by Ar a5 and Ar a6 in the general formula (I-a) or It is the same as an unsubstituted arylene group.
The total number of Dd is preferably 4 or more from the viewpoint of obtaining a stronger protective layer (uppermost surface layer).

次に、一般式(IA−d)の詳細を説明する。
一般式(IA−d)中、Lで示される2価の連結基としては、例えば、
*−(CHdp−O−、
*−(CHdp−O−(CHdq−O−
等が挙げられる。
ここで、Lで示される連結基中、dpは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。dqは、1以上6以下(好ましくは1以上5以下)の整数を示す。
なお、Lで示される連結基中、「*」は、Ard1〜Ard5で示される基と連結する部位を示している。
Next, the details of the general formula (IA-d) will be described.
Examples of the divalent linking group represented by L d in general formula (IA-d) include
*-(CH 2 ) dp -O-,
*-(CH 2 ) dp -O- (CH 2 ) dq -O-
Etc.
Here, in the linking group represented by L d , dp represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less). dq represents an integer of 1 or more and 6 or less (preferably 1 or more and 5 or less).
In the linking group represented by L d , “*” indicates a site linked to the group represented by Ar d1 to Ar d5 .

・一般式(II−a)で示される反応性化合物
一般式(II−a)で示される反応性化合物について説明する。
特定の反応性電荷輸送材料として、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物を適用すると、長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制され易くなる。その理由は定かではないが、以下の通りと考えられる。
まず、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物は、電荷輸送性骨格から、1つの連結基を介して2つ又は3つの連鎖重合性の反応性基(スチレン基)を有する化合物である。
このため、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物は、高い硬化度、架橋部位数を保ちつつも、この連結基の存在により、重合又は架橋させた際に電荷輸送性骨格に歪みを発生させ難く、高い硬化度と優れた電荷輸送性能との両立が実現され易くなると考えられる。
また、従来用いられていた、(メタ)アクリル基を有する電荷輸送性化合物は、上記のようにひずみを生じやすい上に、反応性部位は親水性が高く、電荷輸送性部位は疎水性が高いため、微視的な相分離(ミクロ相分離)しやすいのに対し、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物は、スチレン基を反応性基として有しており、更に、硬化(架橋)させた際に電荷輸送性骨格に歪みを生じさせ難い連結基を有している構造であること、反応性部位、電荷輸送性部位ともに疎水性のため相分離が起きに難くなるため、効率的な電荷輸送性能と高強度化が図れると考えられる。その結果として、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物の重合体又は架橋体を含む保護層(最表面層)は、機械的強度に優れると共に、電荷輸送性能(電気特性)がより優れるものと考えられる。
以上から、一般式(II)(特に一般式(II−a))で示される反応性化合物を適用すると、長期に亘り繰り返し使用しても電気特性の劣化が抑制され易くなると考えられる。
Reactive Compound Represented by General Formula (II-a) The reactive compound represented by General Formula (II-a) will be described.
When a reactive compound represented by the general formula (II) (in particular, the general formula (II-a)) is applied as a specific reactive charge transport material, deterioration of the electrical characteristics is easily suppressed even when used repeatedly over a long period of time Become. Although the reason is not clear, it is considered as follows.
First, the reactive compound represented by the general formula (II) (in particular, the general formula (II-a)) has two or three chain-polymerizable reactive groups via one linking group from the charge transporting skeleton. It is a compound having (styrene group).
Therefore, the reactive compound represented by the general formula (II) (particularly, the general formula (II-a)) was polymerized or crosslinked by the presence of the linking group while maintaining a high degree of curing and the number of crosslinking sites. It is considered that it is difficult to cause distortion in the charge transportable skeleton at the time, and it becomes easy to realize both the high curing degree and the excellent charge transport performance.
In addition, charge transfer compounds having a (meth) acrylic group, which have been conventionally used, are susceptible to strain as described above, and the reactive site is highly hydrophilic and the charge transport site is highly hydrophobic. Therefore, the reactive compound represented by the general formula (II) (especially, the general formula (II-a)) has a styrene group as a reactive group, while microscopic phase separation (micro phase separation) is likely to occur. In addition, it has a structure that has a linking group that is less likely to cause distortion in the charge transporting skeleton when it is cured (crosslinked), and because both the reactive site and the charge transporting site are hydrophobic. Since separation hardly occurs, it is considered that efficient charge transport performance and high strength can be achieved. As a result, the protective layer (uppermost surface layer) containing the polymer or the crosslinked product of the reactive compound represented by the general formula (II) (in particular, the general formula (II-a)) is excellent in mechanical strength and has a charge It is considered that transport performance (electrical characteristics) is more excellent.
From the above, it is considered that when the reactive compound represented by the general formula (II) (particularly, the general formula (II-a)) is applied, deterioration of the electrical characteristics is easily suppressed even when used repeatedly over a long period of time.

一般式(II−a)中、Ark1〜Ark4は、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示す。Ark5は、置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示す。Dkは、下記一般式(IIA−a)で示される基を示す。kc1〜kc5は,それぞれ独立に0以上2以下の整数を示す。kkは、0又は1を示す。但し、Dkの総数は、1以上8以下である。 In the general formula (II-a), Ar k1 to Ar k4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Ark5 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted arylene group. Dk represents a group represented by the following general formula (IIA-a). kc1 to kc5 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less. kk represents 0 or 1; However, the total number of Dk is 1 or more and 8 or less.

一般式(IIA−a)中、Lは、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む(kn+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。knは、2以上3以下の整数を示す。 In the general formula (IIA-a), L k is a trivalent or tetravalent group derived from an alkane or alkene, and an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)- The (kn + 1) valent connecting group containing 2 or more types selected from the group which consists of -S-, and -O- is shown. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group. kn represents an integer of 2 or more and 3 or less.

以下、一般式(II−a)の詳細を説明する。
一般式(II−a)中、Ark1〜Ark4で示される置換若しくは未置換のアリール基は、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Ark5は、kkが0のとき、置換若しくは未置換のアリール基を示し、この置換若しくは未置換のアリール基としては、一般式(I−a)中のAra1〜Ara4で示される置換若しくは未置換のアリール基と同様である。
Ark5は、kkが1のとき、置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、この置換若しくは未置換のアリーレン基としては、一般式(I−a)中のAra5及びAra6で示される置換若しくは未置換のアリーレン基と同様である。
Dkの総数は、より強度の高い保護層(最表面層)を得る観点から、好ましくは2以上であり、更に好ましくは4以上である。一般に、一分子中の連鎖重合性基の数が多すぎると、重合(架橋)反応が進むにつれ、分子が動きにくくなり連鎖重合反応性が低下し、未反応の連鎖重合性基の割合が増えてしまうことから、Dkの総数は、好ましくは7以下、さらに好ましくは6以下である。
Hereinafter, the details of the general formula (II-a) will be described.
In the general formula (II-a), the substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar k1 to Ar k4 is a substituted or unsubstituted aryl group represented by Ar a1 to Ar a4 in the general formula (I-a) Is the same as
Ark5 represents a substituted or unsubstituted aryl group when kk is 0, and examples of the substituted or unsubstituted aryl group include a substituent represented by Ar a1 to Ar a4 in the general formula (I-a) or It is the same as an unsubstituted aryl group.
Ar k5 represents a substituted or unsubstituted arylene group when kk is 1, and examples of the substituted or unsubstituted arylene group include the substituents represented by Ar a5 and Ar a6 in the general formula (I-a) or It is the same as an unsubstituted arylene group.
The total number of Dk is preferably 2 or more, and more preferably 4 or more from the viewpoint of obtaining a protective layer (uppermost surface layer) with higher strength. In general, when the number of chain polymerizable groups in one molecule is too large, as the polymerization (crosslinking) reaction proceeds, the molecules become difficult to move, the chain polymerization reactivity decreases, and the proportion of unreacted chain polymerizable groups increases. In view of the above, the total number of Dk is preferably 7 or less, more preferably 6 or less.

次に、一般式(IIA−a)の詳細を説明する。
一般式(IIA−a)中、Lで示される(kn+1)価の連結基としては、例えば、一般式(II)中、L’で示される(n+1)価の連結基と同様である。
Next, the details of the general formula (IIA-a) will be described.
The (kn + 1) -valent linking group represented by L k in General Formula (IIA-a) is, for example, the same as the (n + 1) -valent linking group represented by L ′ in General Formula (II).

以下に、特定の反応性電荷輸送材料の具体的を示す。
具体的には、一般式(I)及び(II)の電荷輸送性骨格F(例えば一般式(I−a)中のDaや一般式(II−a)のDkを除く骨格に相当する部位)の具体例、電荷輸送性骨格Fに連結する官能基(例えば一般式(I−a)中のDaや一般式(II−a)のDkに相当する部位)の具体例と共に、一般式(I)及び(II)で示される反応性化合物の具体例を示すが、これらに限定されるわけではない。
なお、一般式(I)及び(II)の電荷輸送性骨格Fの具体例の「*」部分は、電荷輸送性骨格Fに連結する官能基の「*」部分が連結していることを意味する。
つまり、例えば、例示化合物(I−b)−1は、電荷輸送性骨格Fの具体例:(M1)−1、官能基の具体例:(R2)−1と示されているが、その具体的な構造は以下の構造を示す。
The specifics of the specific reactive charge transport material are shown below.
Specifically, the charge transporting skeleton F of the general formulas (I) and (II) (for example, a portion corresponding to the skeleton of Da in the general formula (I-a) or Dk of the general formula (II-a)) And the specific examples of the functional group linked to the charge transporting skeleton F (for example, the portion corresponding to Da in the general formula (I-a) or Dk of the general formula (II-a)) Specific examples of the reactive compound represented by (II) and (II) are shown, but not limited thereto.
The “*” portion of the specific example of the charge transporting skeleton F of the general formulas (I) and (II) means that the “*” portion of the functional group linked to the charge transporting skeleton F is linked. Do.
That is, for example, the exemplified compound (I-b) -1 is shown as a specific example of the charge transporting skeleton F: (M1) -1, and a specific example of the functional group: (R2) -1, The typical structure shows the following structure.

まず、電荷輸送性骨格Fの具体例を以下示す。   First, specific examples of the charge transporting skeleton F will be shown below.




次に、電荷輸送性骨格Fに連結する官能基の具体例を示す。   Next, specific examples of the functional group linked to the charge transporting skeleton F will be shown.


次に、一般式(I)、具体的には一般式(I−a)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (I), specifically the general formula (I-a), are shown.

次に、一般式(I)、具体的には一般式(I−b)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (I), specifically the general formula (I-b) are shown.

次に、一般式(I)、具体的には一般式(I−c)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (I), specifically the general formula (Ic), are shown.

次に、一般式(I)、具体的には一般式(I−d)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (I), specifically the general formula (I-d), are shown.

次に、一般式(II)、具体的には一般式(II−a)で示される化合物の具体例を示す。   Next, specific examples of the compound represented by the general formula (II), specifically the general formula (II-a), are shown.

特定の連鎖重合性電荷輸送材料(特に一般式(I)で示される連鎖重合性化合物)は、例えば、以下のようにして合成される。
即ち、特定の連鎖重合性電荷輸送材料は、前駆体であるカルボン酸、又は、アルコールと、対応するクロロメチルスチレンなどでのエーテル化などにより合成される。
The specific chain polymerizable charge transporting material (in particular, the chain polymerizable compound represented by the general formula (I)) is synthesized, for example, as follows.
That is, a specific chain polymerizable charge transport material is synthesized by, for example, etherification with a precursor carboxylic acid or alcohol and the corresponding chloromethylstyrene or the like.

特定の連鎖重合性電荷輸送材料の例示化合物(I−d)−22の合成経路を一例として以下に示す。   The synthesis route of the exemplified compound (I-d) -22 of the specific chain polymerizable charge transporting material is shown below as an example.

アリールアミン化合物カルボン酸は、アリールアミン化合物のエステル基を、例えば、実験化学講座、第4版、20巻、P.51などに記載されたように、塩基性触媒(NaOH、KCO等)、酸性触媒(例えばリン酸、硫酸等)を用いる加水分解により得られる。
この際、溶媒としては、種々のものが挙げられるが、メタノール、エタノール、エチレングリコールなどのアルコール系を用いるか、これに水を混合して用いることがよい。
さらに、アリールアミン化合物の溶解性が低い場合には、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフランなどを加えてもよい。
溶媒の量は、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物1質量部に対して1質量部以上100質量部以下、好ましくは2質量部以上50質量部以下で用いることがよい。
反応温度は、例えば、室温(例えば25℃)以上溶媒の沸点以下の範囲で設定され、反応速度の問題上、50度以上が好ましい。
触媒の量については、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物1質量部に対して0.001質量部以上1質量部以下、好ましくは0.01質量部以上0.5質量部以下で用いることがよい。
加水分解反応後、塩基性触媒で加水分解を行った場合には、生成した塩を酸(例えば塩酸等)で中和し、遊離させる。さらに、十分に水洗した後、乾燥して使用するか、必要によっては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトンなど、適当な溶媒により、再結晶精製を行った後、乾燥して使用してもよい。
The arylamine compound carboxylic acid can be selected, for example, from the ester group of the arylamine compound as described in, for example, J. Chem. It is obtained by hydrolysis using a basic catalyst (NaOH, K 2 CO 3 etc.), an acidic catalyst (eg phosphoric acid, sulfuric acid etc.) as described in 51 et al.
At this time, various solvents may be mentioned as the solvent, but it is preferable to use an alcohol such as methanol, ethanol, ethylene glycol or the like, or to mix water with this.
Furthermore, when the solubility of the arylamine compound is low, methylene chloride, chloroform, toluene, dimethyl sulfoxide, ether, tetrahydrofuran or the like may be added.
Although the amount of the solvent is not particularly limited, for example, 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of the arylamine compound containing an ester group Good.
The reaction temperature is set, for example, in the range of room temperature (eg, 25 ° C.) to the boiling point of the solvent, and is preferably 50 ° C. or more in view of the reaction rate.
The amount of the catalyst is not particularly limited, but for example, 0.001 part by mass or more and 1 part by mass or less, preferably 0.01 part by mass or more, preferably 1 part by mass to 1 part by mass of the arylamine compound containing an ester group. It is good to use by the mass part or less.
After the hydrolysis reaction, when hydrolysis is carried out with a basic catalyst, the formed salt is neutralized with an acid (for example, hydrochloric acid etc.) and liberated. Furthermore, after thoroughly washing with water, it is used after being dried or, if necessary, after recrystallization purification with an appropriate solvent such as methanol, ethanol, toluene, ethyl acetate, acetone or the like, it is used after drying It is also good.

アリールアミン化合物のアルコール体は、アリールアミン化合物のエステル基を、例えば、実験化学講座、第4版、20巻、P.10などに記載されたように、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどを用いて対応するアルコールに還元して合成する。   The alcohol form of the arylamine compound can be selected, for example, from the ester group of the arylamine compound as described in, for example, J. Chem. The compound is synthesized by reduction to the corresponding alcohol using lithium aluminum hydride, sodium borohydride and the like as described in 10 et al.

例えば、エステル結合にて反応性基を導入する場合、アリールアミン化合物カルボン酸と、ヒドロキシメチルスチレンを酸触媒にて脱水縮合させる通常のエステル化や、アリールアミン化合物カルボン酸と、ハロゲン化メチルスチレンを、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、DBU、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基を用いて縮合させる方法が使用し得るが、ハロゲン化メチルスチレンを用いる方法が副生成物が抑制されることから好適である。   For example, when introducing a reactive group by an ester bond, the usual esterification in which an arylamine compound carboxylic acid and hydroxymethylstyrene are dehydrated and condensed by an acid catalyst, an arylamine compound carboxylic acid and a halogenated methylstyrene May be condensed using a base such as pyridine, piperidine, triethylamine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, DBU, sodium hydride, sodium hydroxide or potassium hydroxide, but the method using halogenated methylstyrene is It is preferred because the product is suppressed.

アリールアミン化合物カルボン酸の酸に対し、ハロゲン化メチルスチレンを1当量以上、好ましくは、1.2当量以上、より好ましくは1.5当量以上加えることがよく、塩基はハロゲン化メチルスチレンに対し0.8当量以上2.0当量以下、好ましくは1.0当量以上1.5当量以下で用いることがよい。
溶媒としては、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、クロロベンゼン、1ークロロナフタレンなどの芳香族系溶媒などが有効であり、アリールアミン化合物カルボン酸の1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、好ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いられることがよい。
反応温度は特に制限はない。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶媒で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
It is preferable to add 1 equivalent or more, preferably 1.2 equivalents or more, more preferably 1.5 equivalents or more of halogenated methylstyrene to the acid of the arylamine compound carboxylic acid, and the base is 0 based on the halogenated methylstyrene. .8 equivalent or more and 2.0 equivalents or less, preferably 1.0 equivalent or more and 1.5 equivalents or less.
As the solvent, aprotic polar solvents such as N-methyl pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and N, N-dimethylformamide, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran, toluene, chlorobenzene, 1 Aromatic solvents such as chloro naphthalene are effective, and the amount is 1 to 100 parts by mass, preferably 2 to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the arylamine compound carboxylic acid. It is good to be used.
The reaction temperature is not particularly limited. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent such as toluene, hexane or ethyl acetate and washed with water, and further, if necessary, purification is performed using an adsorbent such as activated carbon, silica gel, porous alumina or activated clay. May be

また、エーテル結合にて導入する場合、アリールアミン化合物アルコールと、ハロゲン化メチルスチレンを、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、DBU、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基を用いて縮合させる方法が使用することがよい。
アリールアミン化合物アルコールのアルコールに対し、ハロゲン化メチルスチレンを1当量以上、好ましくは、1.2当量以上、より好ましくは1.5当量以上加えることがよく、塩基はハロゲン化メチルスチレンに対し0.8当量以上2.0当量以下、好ましくは、1.0当量以上1.5当量以下で用いることがよい。
溶媒としては、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、クロロベンゼン、1ークロロナフタレンなどの芳香族系溶媒などが有効であり、アリールアミン化合物アルコールの1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、好ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いることがよい。
反応温度は特に制限はない。反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶媒で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
Moreover, when introduce | transducing by ether bond, arylamine compound alcohol and halogenated methylstyrene, bases, such as a pyridine, a piperidine, a triethylamine, a dimethylamino pyridine, a trimethylamine, DBU, sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. It is preferable to use a method of condensation using
It is preferable to add 1 equivalent or more, preferably 1.2 equivalents or more, more preferably 1.5 equivalents or more of halogenated methylstyrene to the alcohol of the arylamine compound alcohol, and the base is preferably 0. It is preferable to use 8 equivalents or more and 2.0 equivalents or less, preferably 1.0 equivalent or more and 1.5 equivalents or less.
As the solvent, aprotic polar solvents such as N-methyl pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and N, N-dimethylformamide, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran, toluene, chlorobenzene, 1 Aromatic solvents such as chloro naphthalene are effective, and it is used in the range of 1 to 100 parts by mass, preferably 2 to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the arylamine compound alcohol Good thing.
The reaction temperature is not particularly limited. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent such as toluene, hexane or ethyl acetate and washed with water, and further, if necessary, purification is performed using an adsorbent such as activated carbon, silica gel, porous alumina or activated clay. May be

特定の連鎖重合性電荷輸送材料(特に一般式(II)で示される連鎖重合性化合物)は、例えば、以下に示す一般の電荷輸送材料の合成方法(ホルミル化、エステル化、エーテル化、水素添加)を利用して、合成される。
・ホルミル化:電子供与性基を持つ芳香族化合物・複素環化合物・アルケンにホルミル基を導入するのに適した反応。DMFとオキシ三塩化リンを用いるのが一般的であり、反応温度は室温(例えば25℃)から100℃程度で行われることが多い。
・エステル化:有機酸とアルコールまたはフェノールのようなヒドロキシル基を含む化合物との縮合反応。脱水剤を共存させたり、水を系外へ除去することで平衡をエステル側へ偏らせる手法を用いることが好ましい。
・エーテル化:アルコキシドと有機ハロゲン化合物を縮合させるウィリアムソン合成法が一般的である。
・水素添加:種々の触媒を用いて不飽和結合に水素を反応させる方法。
The specific chain polymerizable charge transporting material (in particular, the chain polymerizable compound represented by the general formula (II)) is, for example, a general charge transporting material synthesis method shown below (formylation, esterification, etherification, hydrogenation) ) To be synthesized.
Formylation: reaction suitable for introducing a formyl group to an aromatic compound having an electron donating group, a heterocyclic compound, and an alkene. It is common to use DMF and phosphorus oxytrichloride, and the reaction temperature is usually from room temperature (eg, 25 ° C.) to about 100 ° C.
Esterification: condensation reaction of an organic acid with a compound containing a hydroxyl group such as an alcohol or phenol. It is preferable to use a method in which the equilibrium is biased to the ester side by coexisting a dehydrating agent or removing water out of the system.
Etherification: The Williamson synthesis method in which an alkoxide and an organic halogen compound are condensed is common.
Hydrogenation: A method of reacting hydrogen with unsaturated bonds using various catalysts.

なお、反応性電荷輸送性材料は、特定の連鎖重合性電荷輸送材料以外にも、特開2012−163693号公報の[0110]〜[0153]に記載の化合物、特許第4365960号公報の[0055]〜[0082]に記載の化合物、特許第4429340号公報の[0040]〜[0043]に記載の化合物、特開2013−195762号公報の[0161]〜[0166]に記載の化合物、などが挙げられる。   In addition to the specific chain-polymerizable charge transporting material, the reactive charge transporting material may be a compound described in [0110] to [0153] of JP-A-2012-163693, and [0055] of Japanese Patent No. 4365960. Compounds described in [0082], compounds described in [0040] to [0043] of Patent No. 4429340, compounds described in [0161] to [0166] of JP-A No. 2013-195762, etc. It can be mentioned.

特定の連鎖重合性電荷輸送材料の含有量は、例えば、層形成のための組成物中の全固形分に対して40質量%以上95質量%以下がよく、好ましくは50質量%以上95質量%以下である。   The content of the specific chain-polymerizable charge transporting material is, for example, preferably 40% by mass or more and 95% by mass or less, preferably 50% by mass or more and 95% by mass or less based on the total solid content in the composition for layer formation. It is below.

−酸化防止剤−
酸化防止剤として、その代表的なものは電子写真感光体の内部または表面に存在する酸化性物質に対して、光、熱、放電などの条件下で酸素の作用を防止または抑制する性質を有する物質である。
酸化防止剤としては、ラジカル重合禁止剤、過酸化物分解剤等が挙げられる。ラジカル重合禁止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、ジアリルアミン系酸化防止剤、ジアリルジアミン系酸化防止剤、ハイドロキノン系酸化防止剤等の公知の酸化防止剤が挙げられる。過酸化分解剤としては、有機硫黄系(例えばチオエーテル系)酸化防止剤、リン酸系(例えばホスファイト系)酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤等の公知の酸化防止剤が挙げられる。
これの中でも、酸化防止剤としては、脂肪酸金属塩の酸化による劣化を抑え、画像の濃度ムラを抑制する点から、ラジカル重合禁止剤がよく、特にヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤が好ましい。酸化防止剤としては、一分子中に、酸化防止作用を持つ異なる骨格を2つ以上有する酸化防止剤(例えば、ヒンダードフェノール骨格とヒンダードアミン骨格とを有する酸化防止剤等)であってもよい。
-Antioxidant-
As an antioxidant, a typical example thereof has the property of preventing or suppressing the action of oxygen under the conditions of light, heat, discharge and the like to an oxidizing substance present inside or on the surface of the electrophotographic photosensitive member It is a substance.
As an antioxidant, a radical polymerization inhibitor, a peroxide decomposition agent, etc. are mentioned. Examples of the radical polymerization inhibitor include known antioxidants such as hindered phenol type antioxidants, hindered amine type antioxidants, diallylamine type antioxidants, diallyldiamine type antioxidants, hydroquinone type antioxidants, etc. Be As a peroxide decomposition agent, organic sulfur type (for example, thioether type) antioxidant, phosphoric acid type (for example, phosphite type) antioxidant, dithiocarbamate type antioxidant, thiourea type antioxidant, benzimidazole type oxidation Well-known antioxidants, such as an inhibitor, are mentioned.
Among these, as an antioxidant, a radical polymerization inhibitor is preferable in terms of suppressing deterioration due to oxidation of a fatty acid metal salt and suppressing density unevenness of an image, particularly hindered phenol-based antioxidants, hindered amine-based antioxidants Agents are preferred. The antioxidant may be an antioxidant having two or more different skeletons having an antioxidant action in one molecule (for example, an antioxidant having a hindered phenol skeleton and a hindered amine skeleton).

ヒンダードフェノール系酸化防止剤について説明する。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、ヒンダードフェノール環を有する化合物である。
The hindered phenolic antioxidant is described.
A hindered phenolic antioxidant is a compound having a hindered phenol ring.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤において、ヒンダードフェノール環は、例えば、炭素数4以上8以下のアルキル基(例えば炭素数4以上8以下の分岐状のアルキル基)が少なくとも一つ置換されたフェノール環である。より具体的には、ヒンダードフェノール環は、例えば、フェノール性水酸基に対してオルトの位置が三級アルキル基(例えばtert−ブチル基)で置換されたフェノール環である。   In the hindered phenol-based antioxidant, the hindered phenol ring is, for example, a phenol ring in which an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms (eg, a branched alkyl group having 4 to 8 carbon atoms) is substituted at least one It is. More specifically, the hindered phenol ring is, for example, a phenol ring in which the position ortho to the phenolic hydroxyl group is substituted with a tertiary alkyl group (for example, a tert-butyl group).

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、
1)ヒンダードフェノール環を1つ有する酸化防止剤、
2)ヒンダードフェノール環を2つ以上4つ以下有し、且つ直鎖又は分岐状の2価以上4価以下の脂肪族炭化水素基からなる連結基、又は2価以上4価以下の脂肪族炭化水素基の炭素−炭素の結合間に、エステル結合(−C(=O)O−)及びエーテル結合(−O−)の少なくとも一方が介在した連結基で、2つ以上4つ以下のヒンダードフェノール環が連結された酸化防止剤
3)2つ以上4つ以下のヒンダードフェノール環と、一つのベンゼン環(未置換、又はアルキル基等で置換された置換ベンゼン環)又はイソシアヌレート環とを有し、2つ以上4つ以下のヒンダードフェノール環が、各々、ベンゼン環又はイソシアヌレート環とアルキレン基を介して連結された酸化防止剤
等が挙げられる。
As a hindered phenolic antioxidant,
1) Antioxidants having one hindered phenol ring,
2) A connecting group consisting of a linear or branched divalent or tetravalent aliphatic hydrocarbon group having two or more and four or less hindered phenol rings, or a divalent or tetravalent or less aliphatic group A linking group in which at least one of an ester bond (—C (= O) O—) and an ether bond (—O—) intervenes between carbon-carbon bonds of a hydrocarbon group, and is a hindered group of 2 or more and 4 or less Dephenol ring-linked antioxidant 3) Two or more but four or less hindered phenol rings, and one benzene ring (unsubstituted or substituted benzene ring substituted with an alkyl group or the like) or an isocyanurate ring And antioxidants in which 2 or more and 4 or less hindered phenol rings are linked via a benzene ring or an isocyanurate ring and an alkylene group, respectively, and the like.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤として具体的には、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、スチレン化フェノール、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシビフェニル、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、2−t−ブチル−6−(3’−t−ブチル−5’−メチル−2’−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、4,4’−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオ−ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’,−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、3,9−ビス[2−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。   Specific examples of hindered phenolic antioxidants include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, styrenated phenol, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybiphenyl, n -Octadecyl-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, 2,2'-methylenebis (6-t-butyl-4-methylphenol), 2-t- Butyl-6- (3'-t-butyl-5'-methyl-2'-hydroxybenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 4,4'-butylidene-bis- (3-methyl-6-t-butylphenol) , 4,4'-thio-bis- (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,3,5-tris (4-t-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) iso Anurate, tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, 3,9-bis [2- [3- (3-t-butyl -4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えば、イルガノックス1076、イルガノックス1010、イルガノックス1098、イルガノックス245、イルガノックス1330、イルガノックス3114、イルガノックス1076(以上、チバ・ジャパン社製)、スミライザーMDP-S(住友化学社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available hindered phenolic antioxidants include Irganox 1076, Irganox 1010, Irganox 1098, Irganox 245, Irganox 1330, Irganox 3114, Irganox 1076 (all manufactured by Ciba Japan Ltd.) And Sumilyzer MDP-S (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.).

ヒンダードアミン系酸化防止剤について説明する。
ヒンダードアミン系酸化防止剤は、ヒンダードアミン骨格を有する酸化防止剤である。 ヒンダードアミン骨格としては、例えば、アルキル基で置換されたピペリジル骨格が挙げられる。具体的には、ヒンダードアミン骨格としては、窒素原子に対してオルト位置の炭素原子と結合する2つ水素原子が各々アルキル基で置換されたテトラアルキルピペリジル骨格が挙げられる。なお、このテトラアルキルピペリジル骨格は、窒素原子と結合する水素原子が、アルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。
The hindered amine antioxidant is described.
The hindered amine antioxidant is an antioxidant having a hindered amine skeleton. The hindered amine skeleton includes, for example, a piperidyl skeleton substituted with an alkyl group. Specifically, examples of the hindered amine skeleton include a tetraalkyl piperidyl skeleton in which two hydrogen atoms bonded to a carbon atom ortho to the nitrogen atom are each substituted with an alkyl group. In this tetraalkyl piperidyl skeleton, a hydrogen atom bonded to a nitrogen atom may be substituted by an alkyl group or an alkoxy group.

ヒンダードアミン系酸化防止剤として具体的としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1−[2−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]−4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,5]ウンデカン−2,4−ジオン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイミル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,3,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]、2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン−2,4−ビス[N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ]−6−クロロ−1,3,5−トリアジン縮合物等が挙げられる。   Specific examples of hindered amine antioxidants include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate and bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl). Sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-t-butyl-4-) Hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 8-benzyl-7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] Undecane-2,4-dione, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, succinic acid dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6 6-Tetramethylpiperidine polycondensate, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6 , 6-Tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,3,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], 2- (3,5-di-t-butyl-4-) Hydroxybenzyl) -2-n-butyl malonate bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl), N, N′-bis (3-aminopropyl) ethylenediamine-2,4-bis [ N-butyl-N- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) amino] -6-chloro-1,3,5-triazine condensate and the like can be mentioned.

ヒンダードアミン系酸化防止剤の市販品としては、例えば、サノールLS2626、サノールLS765、サノールLS770、サノールLS744(以上、三共ライフテック社製)、チヌビン144、チヌビン622LD(以上、チバ・ジャパン社製)、マークLA57、マークLA67、マークLA62、マークLA68、マークLA63(以上、アデカ社製)が挙げられる。   Commercially available hindered amine antioxidants include, for example, Sanol LS2626, Sanol LS765, Sanol LS770, Sanol LS744 (all manufactured by Sanko Lifetech Co., Ltd.), Tinuvin 144, Tinuvin 622 LD (all manufactured by Ciba Japan Ltd.), Mark LA57, mark LA67, mark LA62, mark LA68, mark LA63 (all manufactured by Adeka Corp.) can be mentioned.

その他、チオエーテル系酸化防止剤の市販品としては、例えば、スミライザーTPS、スミライザーTP−D(以上、住友化学社製)が挙げられる。ホスファイト系酸化防止剤として、マーク2112、マークPEP−8、マークPEP−24G、マークPEP−36、マーク329K、マークHP−10(以上、アデカ社製)等が挙げられる。   In addition, as a commercial item of thioether system antioxidant, Sumilyzer TPS and Sumilyzer TP-D (above, Sumitomo Chemical Co., Ltd. make) are mentioned, for example. As a phosphite type | system | group antioxidant, mark 2112, mark PEP-8, mark PEP-24G, mark PEP-36, mark 329K, mark HP-10 (above, Adeka company make) etc. are mentioned.

これら酸化防止剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   One of these antioxidants may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

酸化防止剤の含有量は、脂肪酸金属塩の酸化による劣化を抑え、画像の濃度ムラを抑制する点から、層形成のための組成物中の全固形分に対して0.01質量%以上20質量%以下がよく、好ましくは0.05質量%以上10質量%以下である。なお、酸化防止剤の含有量を20質量%以下とすると、保護層(最表面層)の電荷輸送の低下を抑え、残留電位の増加が抑制され易くなる。また、保護層(最表面層)の強度低下も抑制され易くなる。   The content of the antioxidant is 0.01% by mass or more with respect to the total solid content in the composition for layer formation from the viewpoint of suppressing deterioration due to oxidation of the fatty acid metal salt and suppressing density unevenness of the image. % By mass or less is preferable, and preferably 0.05% by mass or more and 10% by mass or less. In addition, when content of antioxidant is 20 mass% or less, the fall of the charge transport of a protective layer (upper surface layer) will be suppressed, and the increase of a residual potential will be easy to be suppressed. In addition, the reduction in strength of the protective layer (uppermost surface layer) is also easily suppressed.

−樹脂粒子−
保護層(最表面層)を構成する膜は、樹脂粒子を含有してもよい。
樹脂粒子としては、例えば、ビスフェノールAタイプ又はビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂の粒子、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン-アクリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂の粒子、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマーの粒子等が挙げられる。
これらの樹脂粒子は、中空粒子であってもよい。
また、樹脂粒子は、これらの樹脂を単独又は2種以上混合して用いてもよい。
-Resin particle-
The film constituting the protective layer (uppermost surface layer) may contain resin particles.
Examples of resin particles include particles of polycarbonate resin such as bisphenol A type or bisphenol Z type, acrylic resin, methacrylic resin, polyarylate resin, polyester resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, Acrylonitrile-butadiene copolymer resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl formal resin, polysulfone resin, styrene-acrylic copolymer, styrene-butadiene copolymer resin, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate- Particles of insulating resin such as maleic anhydride resin, silicone resin, phenol-formaldehyde resin, polyacrylamide resin, polyamide resin, chlorine rubber, polyvinyl carbazole, poly And particles of an organic photoconductive polymer such as vinyl anthracene and polyvinyl pyrene.
These resin particles may be hollow particles.
Moreover, resin particles may use these resin individually or in mixture of 2 or more types.

保護層(最表面層)を構成する膜は、樹脂粒子として、フッ素含有樹脂粒子を含有してもよい。
フッ素含有樹脂粒子としては、フルオロオレフィンのホモポリマーや、2種以上の共重合体であって、フルオロオレフィンの1種又は2種以上と非フッ素系のモノマーとの共重合体の粒子が挙げられる。
The film constituting the protective layer (the outermost surface layer) may contain fluorine-containing resin particles as the resin particles.
Examples of fluorine-containing resin particles include fluoroolefin homopolymers and copolymers of two or more types, and particles of copolymers of one or more types of fluoroolefins and a non-fluorinated monomer .

フルオロオレフィンとしては、例えばテトラフルオロエチレン(TFE)、パーフルオロビニルエーテル、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、クロロトリフルオロエチレン(CTFE)などのパーハロオレフィン、フッ化ビニリデン(VdF)、トリフルオロエチレン、フッ化ビニルなどの非パーフルオロオレフィン等が挙げられ、VdF、TFE、CTFE、HFPなどが好ましい。   As the fluoroolefin, for example, tetrafluoroethylene (TFE), perfluorovinylether, hexafluoropropylene (HFP), perhaloolefin such as chlorotrifluoroethylene (CTFE), vinylidene fluoride (VdF), trifluoroethylene, fluoride Non-perfluoro olefins, such as vinyl, etc. are mentioned, VdF, TFE, CTFE, HFP etc. are preferable.

一方、非フッ素系のモノマーとしては、例えばエチレン、プロピレン、ブテンなどのハイドロカーボン系オレフィン、シクロヘキシルビニルエーテル(CHVE)、エチルビニルエーテル(EVE)、ブチルビニルエーテル、メチルビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル、ポリオキシエチレンアリルエーテル(POEAE)、エチルアリルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル、ビニルトリメトキシシラン(VSi)、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(メトキシエトキシ)シランなどの反応性α,β−不飽和基を有する有機ケイ素化合物、アクリル酸メチル、アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどのメタクリル酸エステル、酢酸ビニル、安息香酸ビニル、「ベオバ」(商品名、シェル社製のビニルエステル)などのビニルエステルなどが挙げられ、アルキルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、ビニルエステル、反応性α,β−不飽和基を有する有機ケイ素化合物が好ましい。   On the other hand, as non-fluorinated monomers, for example, hydrocarbon based olefins such as ethylene, propylene and butene, cyclohexyl vinyl ether (CHVE), ethyl vinyl ether (EVE), alkyl vinyl ethers such as butyl vinyl ether and methyl vinyl ether, polyoxyethylene allyl ether (POEAE), alkenyl vinyl ethers such as ethyl allyl ether, vinyltrimethoxysilane (VSi), organotrisilicon compounds having a reactive α, β-unsaturated group such as vinyltriethoxysilane, vinyltris (methoxyethoxy) silane, acrylic acid Acrylic acid esters such as methyl and ethyl acrylate, methacrylic acid esters such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate, vinyl acetate, vinyl benzoate, "BEOBA (Trade name, vinyl ester manufactured by Shell Corp.) and the like, and alkyl vinyl ether, allyl vinyl ether, vinyl ester, organosilicon compounds having a reactive α, β-unsaturated group are preferable.

これらのうち、フッ素化率の高いものが好ましく、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)などが好ましい。これらのうちでも、PTFE、FEP、PFAが特に好ましい。   Among these, those having a high fluorination ratio are preferable, and polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene-perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer (PFA) , Ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), and the like. Among these, PTFE, FEP and PFA are particularly preferable.

フッ素含有樹脂粒子は、例えばフッ素系単量体を乳化重合などの方法で製造した粒子(フッ素樹脂水性分散液)をそのまま使用してもよく、十分に水洗した後に乾燥したものを使用してもよい。
フッ素含有樹脂粒子の平均粒子径としては0.01μm以上100μm以下が好ましく、特に0.03μm以上5μm以下であることが好ましい。
尚、上記フッ素含有樹脂粒子の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置LA−700(堀場製作所製)を用いて測定した値をいう。
The fluorine-containing resin particles may be, for example, particles (fluorine resin aqueous dispersion) prepared by a method such as emulsion polymerization of fluorine-based monomer as it is, or it may be used after being sufficiently washed with water and then dried. Good.
The average particle size of the fluorine-containing resin particles is preferably 0.01 μm or more and 100 μm or less, and particularly preferably 0.03 μm or more and 5 μm or less.
In addition, the average particle diameter of the said fluorine-containing resin particle says the value measured using laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus LA-700 (made by Horiba, Ltd.).

フッ素含有樹脂粒子は、市販で入手したものを用いてもよく、例えばPTFE粒子としては、フルオンL173JE(旭ガラス社製)、ダニイオンTHV−221AZ、ダニイオン9205(住友3M社製)、ルブロンL2、ルブロンL5(ダイキン社製)などが挙げられる。   As the fluorine-containing resin particles, commercially available ones may be used. For example, as the PTFE particles, Fluon L173JE (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), mite ion THV-221AZ, mite ion 9205 (manufactured by Sumitomo 3M company), Rubron L2, ル bron L5 (made by Daikin) etc. are mentioned.

フッ素含有樹脂粒子は、紫外領域の発振波長を有するレーザー光を照射されたものであってもよい。フッ素含有樹脂粒子に照射されるレーザー光については特に限定されるものではなく、例えば、エキシマレーザー等が挙げられる。エキシマレーザー光としては、波長が400nm以下、特に193nm以上308nm以下の紫外レーザー光が好適である。特に、KrFエキシマレーザー光(波長:248nm)およびArFエキシマレーザー光(波長:193nm)等が好ましい。エキシマレーザー光照射は、通常、室温(25℃)大気中で行うが、酸素雰囲気中で行ってもよい。   The fluorine-containing resin particles may be irradiated with laser light having an oscillation wavelength in the ultraviolet region. It does not specifically limit about the laser beam irradiated to a fluorine-containing resin particle, For example, an excimer laser etc. are mentioned. As excimer laser light, ultraviolet laser light having a wavelength of 400 nm or less, particularly 193 nm or more and 308 nm or less is preferable. In particular, KrF excimer laser light (wavelength: 248 nm) and ArF excimer laser light (wavelength: 193 nm) are preferable. Excimer laser light irradiation is usually performed at room temperature (25 ° C.) in the air, but may be performed in an oxygen atmosphere.

また、エキシマレーザー光の照射条件は、フッ素樹脂の種類および求められる表面改質の程度によって左右されるが、一般的な照射条件は次の通りである。
フルエンス:50mJ/cm/パルス以上
入射エネルギー:0.1J/cm以上
ショット数:100以下
The irradiation conditions of the excimer laser light depend on the kind of the fluorocarbon resin and the degree of surface modification required, but the general irradiation conditions are as follows.
Fluence: 50 mJ / cm 2 / pulse or more Incident energy: 0.1 J / cm 2 or more Shot number: 100 or less

特に好適なKrFエキシマレーザー光およびArFエキシマレーザー光の常用される照射条件は次の通りである。
KrF
フルエンス:100mJ/cm/パルス以上500mJ/cm/パルス以下
入射エネルギー:0.2J/cm以上2.0J/cm以下
ショット数:1以上20以下
The commonly used irradiation conditions of particularly preferable KrF excimer laser light and ArF excimer laser light are as follows.
KrF
Fluence: 100 mJ / cm 2 / pulse or more 500 mJ / cm 2 / pulse or less incident energy: 0.2 J / cm 2 or more 2.0 J / cm 2 or less number of shots: 1 to 20

ArF
フルエンス:50mJ/cm/パルス以上150mJ/cm/パルス以下
入射エネルギー:0.1J/cm以上1.0J/cm以下
ショット数:1以上20以下
ArF
Fluence: 50 mJ / cm 2 / pulse or more 150 mJ / cm 2 / pulse or less incident energy: 0.1 J / cm 2 or more 1.0 J / cm 2 or less number of shots: 1 to 20

フッ素含有樹脂粒子の含有量は、保護層(最表面層)の固形分全量に対して1質量%以上20質量%以下が好ましく、1質量%以上12質量%以下がさらに好ましい。   The content of the fluorine-containing resin particles is preferably 1% by mass to 20% by mass, and more preferably 1% by mass to 12% by mass, with respect to the total solid content of the protective layer (uppermost surface layer).

−フッ素含有分散剤−
保護層(最表面層)を構成する膜は、フッ素含有樹脂粒子と共に、フッ素含有分散剤を含有してもよい。
フッ素含有分散剤は、フッ素含有樹脂粒子を保護層(最表面層)中に分散させるために用いられるものであるため、界面活性作用を有していることが好ましく、つまり分子内に親水基と疎水基とを持つ物質であることがよい。
-Fluorine-containing dispersant-
The film constituting the protective layer (uppermost surface layer) may contain a fluorine-containing dispersant together with the fluorine-containing resin particles.
Since the fluorine-containing dispersant is used to disperse the fluorine-containing resin particles in the protective layer (the outermost surface layer), it preferably has a surface activity, that is, a hydrophilic group in the molecule It is preferably a substance having a hydrophobic group.

フッ素含有分散剤としては、以下の反応性の単量体を重合した樹脂(以下「特定樹脂」と称する。)が挙げられる。具体的には、パーフルオロアルキル基を有するアクリレートと、フッ素を有さないモノマーと、のランダム又はブロック共重合体、メタクリレートホモポリマーおよび前記パーフルオロアルキル基を有するアクリレートと、前記フッ素を有さないモノマーと、のランダム又はブロック共重合体、メタクリレートと、前記フッ素を有さないモノマーと、のランダム又はブロック共重合体が挙げられる。尚、パーフルオロアルキル基を有するアクリレートとしては、例えば2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレートが挙げられる。
また、フッ素を有さないモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレートが挙げられる。また、米国特許5637142号明細書、特許第4251662号公報などに開示されたブロック又はブランチポリマーなどが挙げられる。またその他に、フッ素系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤の具体例としては、サーフロンS−611、サーフロンS−385(AGCセイミケミカル社製)、フタージェント730FL、フタージェント750FL(ネオス社製)、PF−636、PF−6520(北村化学社製)、メガファックEXP,TF−1507、メガファックEXP、TF−1535(DIC社製)、FC−4430、FC−4432(3M社製)などが挙げられる。
なお、特定樹脂の重量平均分子量は100以上50000以下が好ましい。
The fluorine-containing dispersant includes a resin obtained by polymerizing the following reactive monomer (hereinafter, referred to as "specific resin"). Specifically, a random or block copolymer of an acrylate having a perfluoroalkyl group and a monomer having no fluorine, a methacrylate homopolymer and an acrylate having the perfluoroalkyl group, and no fluorine A random or block copolymer of a monomer, and a random or block copolymer of a methacrylate and the monomer which does not have the said fluorine are mentioned. Examples of acrylates having a perfluoroalkyl group include 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate and 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate.
Further, as a monomer having no fluorine, for example, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate , 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxy acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, methoxy polyethylene glycol methacrylate , Phenoxy polyethylene glycol Le acrylate, phenoxy polyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o- phenylphenol acrylate, o- phenylphenol glycidyl ether acrylate. Also, block or branch polymers disclosed in US Pat. No. 5,637,142, patent No. 425162, etc. can be mentioned. In addition, fluorine-based surfactants can be mentioned. Specific examples of the fluorine-based surfactant include Surfron S-611, Surfron S-385 (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.), FUTERgent 730 FL, FUTERgent 750 FL (manufactured by Neos), PF-636, PF-6520 (Kitamura) Manufactured by Kagaku Co., Ltd., Megafuck EXP, TF-1507, Megafuck EXP, TF-1535 (manufactured by DIC), FC-4430, FC-4432 (manufactured by 3M), and the like.
The weight average molecular weight of the specific resin is preferably 100 or more and 50000 or less.

フッ素含有分散剤の含有量は、保護層(最表面層)の固形分全量に対して0.1質量%以上1質量%以下が好ましく、0.2質量%以上0.5質量%以下がさらに好ましい。   The content of the fluorine-containing dispersant is preferably 0.1% by mass or more and 1% by mass or less, and more preferably 0.2% by mass or more and 0.5% by mass or less based on the total solid content of the protective layer (the outermost surface layer). preferable.

フッ素含有分散剤をフッ素含有樹脂粒子の表面に付着させる方法としては、フッ素含有分散剤を直接フッ素含有樹脂粒子の表面に付着させてもよいし、まず上記の単量体をフッ素含有樹脂粒子の表面に吸着させた後に重合を行なって、フッ素含有樹脂粒子の表面に前記特定樹脂を形成させてもよい。   As a method of attaching the fluorine-containing dispersant to the surface of the fluorine-containing resin particles, the fluorine-containing dispersant may be directly attached to the surface of the fluorine-containing resin particles, After adsorption on the surface, polymerization may be performed to form the specific resin on the surface of the fluorine-containing resin particles.

フッ素含有分散剤は、他の界面活性剤と併用してもよい。但し、その量としては極力少ないことがよく、他の界面活性剤の含有量は、フッ素含有樹脂粒子1質量部に対し、0質量部以上0.1質量部以下がよく、好ましくは0質量部以上0.05質量部以下、より好ましくは0質量部以上0.03質量部以下である。   The fluorine-containing dispersant may be used in combination with other surfactants. However, the amount is preferably as small as possible, and the content of the other surfactant is preferably 0 parts by mass or more and 0.1 parts by mass or less, and preferably 0 parts by mass, with respect to 1 part by mass of the fluorine-containing resin particles. The content is 0.05 parts by mass or less, more preferably 0 parts by mass or more and 0.03 parts by mass or less.

他の界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤がよく、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル類、グリセリンエステル類、フッ素系界面活性剤およびその誘導体などが挙げられる。
ポリオキシエチレン類の具体例としては、例えばエマルゲン707(花王社製)、ナロアクティーCL−70、ナロアクティーCL−85(三洋化成工業社製)、レオコールTD−120(ライオン社製)などが挙げられる。
Other surfactants include nonionic surfactants, such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, polyoxyethylene sorbitan alkyl Esters, glycerin esters, fluorosurfactants and derivatives thereof can be mentioned.
Specific examples of polyoxyethylenes include, for example, Emulgen 707 (manufactured by Kao Corp.), Nalocacty CL-70, Nalocacty CL-85 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.), LeoCole TD-120 (manufactured by Lion Corp.), etc. Be

−不飽和結合を有する化合物−
保護層(最表面層)を構成する膜は、不飽和結合を有する化合物を併用してもよい。
不飽和結合を有する化合物としては、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。また、不飽和結合を有する化合物としては、電荷輸送性骨格を有さないものが挙げられる。
-Compound having unsaturated bond-
The film constituting the protective layer (uppermost surface layer) may be used in combination with a compound having an unsaturated bond.
The compound having an unsaturated bond may be any of a monomer, an oligomer and a polymer. Moreover, as a compound which has an unsaturated bond, the thing which does not have charge transportable frame | skeleton is mentioned.

不飽和結合を有する化合物として、電荷輸送性骨格を有さないものとしては以下のようなものが挙げられる。
1官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルo−フェニルフェノールアクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレン、などが挙げられる。
Examples of the compound having an unsaturated bond which does not have a charge transporting skeleton include the following.
Monofunctional monomers are, for example, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl Acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxy acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxy polyethylene glycol acrylate, methoxy polyethylene glycol methacrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate , Roh carboxymethyl polyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o- phenylphenol acrylate, o- phenylphenol glycidyl ether acrylate, styrene, and the like.

2官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート等が挙げられる。
3官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、脂肪族トリ(メタ)アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。
4官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、脂肪族テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
5官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Examples of difunctional monomers include diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) Acrylate, divinylbenzene, diallyl phthalate and the like can be mentioned.
Examples of trifunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, aliphatic tri (meth) acrylate, trivinylcyclohexane and the like.
Examples of tetrafunctional monomers include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and aliphatic tetra (meth) acrylate.
Examples of the penta- or higher functional monomer include dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like, as well as (meth) acrylate having a polyester skeleton, a urethane skeleton, and a phosphazene skeleton.

また、不飽和結合を有する化合物のうち、ポリマーとしては、例えば、特開平5−216249号公報、特開平5−323630号公報、特開平11―52603号公報、特開2000−264961号公報、特開2005−2291号公報などに開示されたものが挙げられる。   Further, among the compounds having unsaturated bonds, as polymers, for example, JP-A-5-216249, JP-A-5-323630, JP-A-11-52603, JP-A 2000-264961, The thing disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-2291 etc. is mentioned.

電荷輸送成分を有さない不飽和結合を有する化合物を用いる場合には、単独又は2種以上の混合物として使用される。
電荷輸送成分を有さない不飽和結合を有する化合物の含有量は、保護層(最表面層)を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、例えば、好ましくは60質量%以下がよく、好ましくは55質量%以下、より好ましくは50質量%以下である。
When using a compound having an unsaturated bond which does not have a charge transport component, it is used alone or as a mixture of two or more.
The content of the compound having an unsaturated bond having no charge transport component is, for example, preferably 60% by mass or less based on the total solid content of the composition used in forming the protective layer (uppermost surface layer). Preferably it is 55 mass% or less, More preferably, it is 50 mass% or less.

−非反応性の電荷輸送材料−
保護層(最表面層)を構成する膜は、非反応性の電荷輸送材料を併用してもよい。非反応性の電荷輸送材料は、反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料を保護層(最表面層)に用いた場合には電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。また、非反応性の電荷輸送材料を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。
-Non-reactive charge transport material-
The film constituting the protective layer (uppermost surface layer) may be used in combination with a non-reactive charge transport material. Since the non-reactive charge transport material does not have a reactive group, the concentration of the charge transport component is increased when the non-reactive charge transport material is used for the protective layer (uppermost surface layer), and the electrical characteristics are improved. It is effective to further improve. Alternatively, a non-reactive charge transport material may be added to reduce the crosslink density and adjust the strength.

非反応性の電荷輸送材料としては、公知の電荷輸送材料を用いてもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が用いられる。
中でも、電荷移動度、相溶性など点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが好ましい。
As the non-reactive charge transport material, known charge transport materials may be used. Specifically, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl substituted ethylene compounds, stilbene compounds Anthracene compounds, hydrazone compounds and the like are used.
Among them, those having a triphenylamine skeleton are preferable from the viewpoint of charge mobility, compatibility and the like.

非反応性の電荷輸送材料は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して0質量%以上30質量%以下で用いられることが好ましく、より好ましくは1質量%以上25質量%以下であり、更に好ましくは5質量%以上25質量%以下である。   The non-reactive charge transport material is preferably used in an amount of 0% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 25% by mass or less based on the total solid content in the coating solution for layer formation. More preferably, they are 5 mass% or more and 25 mass% or less.

−その他の添加剤−
保護層(最表面層)を構成する膜は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤と混合して用いてもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。また、ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物を用いてもよい。
-Other additives-
The film constituting the protective layer (uppermost surface layer) is further mixed with other coupling agents, particularly with a fluorine-containing coupling agent, for the purpose of adjusting film forming property, flexibility, lubricity, adhesion and the like. You may use it. As such compounds, various silane coupling agents and commercially available silicone hard coat agents are used. Moreover, you may use the silicon compound which has a radically polymerizable group, and a fluorine-containing compound.

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−8239(以上、信越化学工業社製)、AY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等が挙げられる。
As a silane coupling agent, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2 (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane , Dimethyldimethoxysilane, and the like.
Commercially available hard coating agents include KP-85, X-40-9740, X-8239 (above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AY 42-440, AY 42-441, AY 49-208 (above, Toray Dow Corning Co., Ltd.) Etc.).

また、撥水性等の付与のために、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。   In addition, (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl) triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, 3- (hepta), for imparting water repellency and the like. Fluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluoroalkyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl Fluorine-containing compounds such as triethoxysilane may also be added.

シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で0.25倍以下とすることが好ましい。更に、特開2001−166510号公報などに開示されている反応性のフッ素化合物などを混合してもよい。
ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物としては、特開2007−11005号公報に記載の化合物などが挙げられる。
The silane coupling agent is used in any amount, but the amount of the fluorine-containing compound may be 0.25 times or less by mass with respect to the compound not containing fluorine from the viewpoint of the film formability of the crosslinked film. preferable. Furthermore, you may mix the reactive fluorine compound etc. which are disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-166510 etc. FIG.
Examples of the silicon compound having a radically polymerizable group and the fluorine-containing compound include compounds described in JP-A-2007-11005.

保護層(最表面層)を構成する膜には、導電性粒子や、有機、無機粒子を添加してもよい。
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、好ましくは平均粒径1nm以上100nm以下、より好ましくは10nm以上30nm以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、又はアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。
Conductive particles or organic or inorganic particles may be added to the film constituting the protective layer (uppermost surface layer).
As an example of this particle, silicon-containing particles can be mentioned. The silicon-containing particles are particles containing silicon as a constituent element, and specific examples thereof include colloidal silica and silicone particles. The colloidal silica used as the silicon-containing particles is preferably an acidic or alkaline aqueous dispersion or an organic solvent such as alcohol, ketone, ester or the like having an average particle diameter of 1 nm or more and 100 nm or less, more preferably 10 nm or more and 30 nm or less. It is selected from those dispersed in As the particles, those generally marketed may be used.

保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層の全固形分全量を基準として、0.1質量%以上50質量%以下、好ましくは0.1質量%以上30質量%以下の範囲で用いられる。   The solid content of the colloidal silica in the protective layer is not particularly limited, but is 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 0.1% by mass, based on the total solid content of the protective layer. It is used in% or more and 30 mass% or less.

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は好ましくは1nm以上500nm以下、より好ましくは10nm以上100nm以下である。
表面層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層の全固形分全量を基準として、好ましくは0.1質量%以上30質量%以下、より好ましくは0.5質量%以上10質量%以下である。
The silicone particles used as the silicon-containing particles may be selected from silicone resin particles, silicone rubber particles, silicone surface-treated silica particles, and may be commercially available.
These silicone particles are spherical and preferably have an average particle size of 1 nm or more and 500 nm or less, more preferably 10 nm or more and 100 nm or less.
The content of silicone particles in the surface layer is preferably 0.1% by mass to 30% by mass, more preferably 0.5% by mass to 10% by mass, based on the total solid content of the protective layer. .

また、その他の粒子としては、ZnO−Al、SnO−Sb、In−SnO、ZnO−TiO、ZnO−TiO、MgO−Al、FeO−TiO、TiO、SnO、In、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物が挙げられる。さらに、粒子を分散させるために公知の種々の分散材を用いてもよい。 Further, as other particles, ZnO-Al 2 O 3 , SnO 2 -Sb 2 O 3 , In 2 O 3 -SnO 2 , ZnO 2 -TiO 2 , ZnO-TiO 2 , MgO-Al 2 O 3 , FeO -TiO 2, TiO 2, SnO 2 , in 2 O 3, ZnO, semiconductive metal oxides such as MgO and the like. In addition, various known dispersing agents may be used to disperse the particles.

保護層(最表面層)を構成する膜には、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル;アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類;1,3,5−トリメチル−1.3.5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類;ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類;3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類;メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類;ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
An oil such as silicone oil may be added to the film constituting the protective layer (uppermost surface layer).
As silicone oils, silicone oils such as dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, phenylmethylsiloxane, etc .; amino-modified polysiloxane, epoxy-modified polysiloxane, carboxyl-modified polysiloxane, carbinol-modified polysiloxane, methacryl-modified polysiloxane, mercapto-modified poly Reactive silicone oils such as siloxane and phenol modified polysiloxane; cyclic dimethyl cyclosiloxanes such as hexamethyl cyclotrisiloxane, octamethyl cyclotetrasiloxane, decamethyl cyclopentasiloxane and dodecamethyl cyclohexasiloxane; 1,3,5- Trimethyl-1.3.5-triphenylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclo Cyclic methyl phenyl cyclosiloxanes such as trasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethyl-1,3,5,7,9-pentaphenyl cyclopentasiloxane; cyclic phenyl cyclosiloxanes such as hexaphenyl cyclotrisiloxane Fluorine-containing cyclosiloxanes such as 3- (3,3,3-trifluoropropyl) methyl cyclotrisiloxane; hydrosilyl group-containing cyclosiloxanes such as methylhydrosiloxane mixture, pentamethylcyclopentasiloxane, phenylhydrocyclosiloxane and the like And vinyl group-containing cyclosiloxanes such as pentavinyl pentamethyl cyclopentasiloxane.

保護層(最表面層)を構成する膜には、塗膜の濡れ性改善のため、シリコーン含有オリゴマー、フッ素含有アクリルポリマー、シリコーン含有ポリマー等を添加してもよい。   A silicone-containing oligomer, a fluorine-containing acrylic polymer, a silicone-containing polymer or the like may be added to the film constituting the protective layer (uppermost surface layer) in order to improve the wettability of the coating film.

保護層(最表面層)を構成する膜には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属を樹脂の粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。
これらは単独で、又は2種以上を組み合わせて用いる。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着での混合でもよい。導電性粒子の平均粒径は0.3μm以下、特に0.1μm以下が好ましい。
Metals, metal oxides, carbon black and the like may be added to the film constituting the protective layer (uppermost surface layer). Examples of the metal include aluminum, zinc, copper, chromium, nickel, silver and stainless steel, or those obtained by vapor-depositing these metals on the surface of resin particles. Examples of metal oxides include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, indium oxide doped with tin, antimony oxide doped with antimony and tantalum and zirconium oxide doped with antimony, etc. .
These are used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, they may be simply mixed, or mixed in solid solution or fusion. The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.3 μm or less, and particularly preferably 0.1 μm or less.

−組成物−
保護層を形成するために用いる組成物は、各成分を溶媒中に溶解又は分散してなる保護層形成用塗布液として調製されることが好ましい。
ここで、保護層形成用塗布液の溶媒は、電荷輸送材料の溶解性、フッ素含有樹脂粒子の分散性、最表面層の表層側へのフッ素含有樹脂粒子の偏在を抑制する観点から、電荷輸送層の結着樹脂(特定ポリカーボネート共重合体)とのSP値(Feders法で算出した溶解度パラメータ)の差(絶対値)が2.0以上4.0以下(好ましくは2.5以上3.5以下)のケトン系溶媒またはエステル系溶媒を用いることがよい。
具体的には、保護層形成用塗布液の溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、エチルnブチルケトン、ジnプロピルケトン、メチルnアミルケトン、メチルnブチルケトン、ジエチルケトン、メチルnプロピルケトン等のケトン類; 酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸エチル、酢酸nプロピル、酢酸nブチル、イソ吉草酸エチル、酢酸イソアミル、酪酸イソプロピル、プロピオン酸イソアミル、酪酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸エチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、酢酸アリル等のエステル類等の単独溶媒又は混合溶媒が挙げられる。また、0質量%以上50質量%以下のエーテル系溶剤(例えばジエチルエーテル、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等)、アルキレングリコール系溶剤(例えば1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)を混合して用いてもよい。
-Composition-
The composition used to form the protective layer is preferably prepared as a coating solution for forming a protective layer, in which each component is dissolved or dispersed in a solvent.
Here, the solvent of the coating liquid for forming a protective layer is charge transport from the viewpoint of suppressing the solubility of the charge transport material, the dispersibility of the fluorine-containing resin particles, and the uneven distribution of the fluorine-containing resin particles on the surface side of the outermost surface layer. The difference (absolute value) of the SP value (solubility parameter calculated by the Feders method) with the binder resin (specific polycarbonate copolymer) of the layer is 2.0 or more and 4.0 or less (preferably 2.5 or more and 3.5 or less) The following ketone solvents or ester solvents may be used.
Specifically, as a solvent for the coating solution for forming a protective layer, for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, ethyl n butyl ketone, di n propyl ketone, methyl n amyl ketone, methyl n butyl ketone, diethyl ketone, Ketones such as methyl n propyl ketone; isopropyl acetate, isobutyl acetate, ethyl acetate, n propyl acetate, n butyl acetate, ethyl isovalerate, isoamyl acetate, isopropyl butyrate, isoamyl propionate, butyl butyrate, amyl acetate, butyl propionate And solvents such as ethyl propionate, methyl acetate, methyl propionate, and esters such as allyl acetate, etc. may be used alone or in combination. And 0 to 50% by mass of ether solvents (eg, diethyl ether, dioxane, diisopropyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran etc.), alkylene glycol solvents (eg, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-) 2-propanol, ethylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc. may be mixed and used.

保護層形成用塗布液中にフッ素含有樹脂粒子を分散させるための分散方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機を利用した分散方法が挙げられる。さらに、当該分散方法としては、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液 液衝突や液 壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などの分散方法も挙げられる。   As a dispersion method for dispersing the fluorine-containing resin particles in the coating solution for forming a protective layer, media dispersion machines such as ball mill, vibration ball mill, attritor, sand mill, horizontal sand mill, stirring, ultrasonic dispersion machine, roll mill, A dispersing method using a medialess dispersing machine such as a high pressure homogenizer may be mentioned. Furthermore, as the dispersion method, as a high-pressure homogenizer, a collision method in which the dispersion is dispersed by causing liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high pressure state to disperse, a penetration method in which a fine flow path is dispersed by The dispersion method is also mentioned.

なお、保護層形成用塗布液の調製方法については特に限定されるものではなく、電荷輸送材料とフッ素含有樹脂粒子とフッ素含有分散剤と必要に応じて溶媒等のその他の成分とを混合し、上述の分散機を用いて調製してもよいし、フッ素含有樹脂粒子とフッ素含有分散剤と溶媒とを含む混合液A及び少なくとも電荷輸送材料と溶媒とを含む混合液Bの2液を別々に準備した後に、これら混合液A及び混合液Bを混合することにより調製してもよい。フッ素含有樹脂粒子とフッ素含有分散剤とを溶媒中で混合することにより、フッ素含有樹脂粒子の表面にフッ素含有分散剤を付着され易くなる。   The method of preparing the coating solution for forming a protective layer is not particularly limited, and the charge transport material, the fluorine-containing resin particles, the fluorine-containing dispersant, and other components such as a solvent, if necessary, are mixed. It may be prepared using the above-mentioned disperser, or the two liquids of the mixed liquid A containing fluorine-containing resin particles, the fluorine-containing dispersant and the solvent, and the mixed liquid B containing at least the charge transport material and the solvent separately. After preparation, it may be prepared by mixing the mixed solution A and the mixed solution B. By mixing the fluorine-containing resin particles and the fluorine-containing dispersant in the solvent, the fluorine-containing dispersant is easily attached to the surface of the fluorine-containing resin particles.

また、前述の成分を反応させて保護層形成用塗布液を得るときには、各成分を単純に混合、溶解させるだけでもよいが、好ましくは室温(20℃)以上100℃以下、より好ましくは30℃以上80℃以下で、好ましくは10分以上100時間以下、より好ましくは1時間以上50時間以下の条件で加温する。また、この際に超音波を照射することも好ましい。   When the above components are reacted to obtain a coating solution for forming a protective layer, each component may be simply mixed and dissolved, but preferably from room temperature (20 ° C.) to 100 ° C., more preferably 30 ° C. The heating is performed at a temperature of 80 ° C. or less, preferably 10 minutes to 100 hours, more preferably 1 hour to 50 hours. In addition, it is also preferable to irradiate ultrasonic waves at this time.

−保護層の形成−
保護層形成用塗布液は、被塗布面(電荷輸送層)の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法により塗布される。
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線又は熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を硬化させる。
-Formation of protective layer-
The coating solution for forming a protective layer is formed by blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, air knife coating, curtain coating, or the like on the surface to be coated (charge transport layer). It is applied by a usual method such as an ink jet coating method.
Thereafter, light, an electron beam or heat is applied to the obtained coating film to cause radical polymerization to cure the coating film.

硬化の方法は、熱、光、放射線などが用いられる。熱、光で硬化を行う場合、重合開始剤は必ずしも必要ではないが、光硬化触媒又は熱重合開始剤を用いてもよい。この光硬化触媒及び熱重合開始剤としては、公知の光硬化触媒や熱重合開始剤が用いられる。放射線としては電子線が好ましい。   As a method of curing, heat, light, radiation or the like is used. When curing is performed by heat or light, a polymerization initiator is not necessarily required, but a photocuring catalyst or a thermal polymerization initiator may be used. As the photocuring catalyst and the thermal polymerization initiator, known photocuring catalysts and thermal polymerization initiators are used. As radiation, an electron beam is preferable.

・電子線硬化
電子線を用いる場合、加速電圧は300KV以下が好ましく、最適には150KV以下である。また、線量は好ましくは1Mrad以上100Mrad以下の範囲、より好ましくは3Mrad以上50Mrad以下の範囲である。加速電圧が300KV以下であることにより感光体特性に対する電子線照射のダメージが抑制される。また、線量が1Mrad以上であることにより架橋が十分に行なわれ、100Mrad以下であることにより感光体の劣化が抑制される。
Electron Beam Curing When using an electron beam, the acceleration voltage is preferably 300 KV or less, and most preferably 150 KV or less. The dose is preferably in the range of 1 Mrad to 100 Mrad, more preferably in the range of 3 Mrad to 50 Mrad. When the acceleration voltage is 300 KV or less, the damage of the electron beam irradiation to the photosensitive member characteristics is suppressed. Further, when the dose is 1 Mrad or more, crosslinking is sufficiently performed, and when the dose is 100 Mrad or less, deterioration of the photosensitive member is suppressed.

照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が1000ppm、好ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、又は照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。   The irradiation may be performed at an oxygen concentration of 1000 ppm, preferably 500 ppm or less, in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, and may be heated to 50 ° C. to 150 ° C. during or after irradiation.

・光硬化
光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は自由に選択されるが、例えば照度(365nm)は300mW/cm以上、1000mW/cm以下が好ましく、例えば600mW/cmのUV光を照射する場合、5秒以上360秒以下照射すればよい。
-Photo-curing As a light source, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are used, and a suitable wavelength may be selected using a filter such as a band pass filter. Irradiation time, the light intensity is selected freely, for example, the illuminance (365 nm) is 300 mW / cm 2 or more, preferably 1000 mW / cm 2 or less, for example, the case of irradiation with UV light of 600 mW / cm 2, 5 seconds or more 360 It may be irradiated for less than a second.

照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは1000ppm以下、より好ましくは500ppm以下で行い、さらに照射中、又は照射後に50℃以上150℃以下に加熱してもよい。   The irradiation may be performed at an oxygen concentration of preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, and may be heated to 50 ° C. to 150 ° C. during or after irradiation.

光硬化触媒として、分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。
より具体的には、ベンジルケタール系として、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンが挙げられる。
As the photocuring catalyst, as the intramolecular cleavage type, benzyl ketal type, alkylphenone type, aminoalkylphenone type, phosphine oxide type, titanocene type, oxime type and the like can be mentioned.
More specifically, examples of benzyl ketal include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one.

また、アルキルフェノン系としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、アセトフェノン、2−フェニル−2−(p−トルエンスルフォニルオキシ)アセトフェノンが挙げられる。
アミノアルキルフェノン系としては、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モリホニル)フェニル]−1−ブタノンなどが挙げられる。
ホスフィノキサイド系としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。
チタノセン系としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムなどが挙げられる。
オキシム系としては、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)などが挙げられる。
In addition, as an alkyl phenone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] 2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl- Propan-1-one, acetophenone, 2-phenyl-2- (p-toluenesulfonyloxy) acetophenone can be mentioned.
As an amino alkyl phenone type, p-dimethylamino acetophenone, p-dimethylamino propiophenone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2- Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1 -Butanone etc. are mentioned.
Examples of phosphinoxides include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphincide and the like.
Examples of titanocenes include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium and the like.
As an oxime system, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl)- 9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) and the like.

水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系として、2−ベンゾイル安息香酸、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、p,p’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
チオキサントン系としては、2,4−ジエチルチオキサンテン−9−オン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
ベンジル系としては、ベンジル、(±)−カンファーキノン、p−アニシルなどが挙げられる。
As a hydrogen abstraction type, benzophenone type, thioxanthone type, benzyl type, Michler's ketone type etc. are mentioned.
More specifically, as benzophenones, 2-benzoylbenzoic acid, 2-chlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, p, p'-bisdiethylaminobenzophenone and the like It can be mentioned.
As a thioxanthone type | system | group, a 2, 4- diethyl thioxanthen 9-one, 2-chloro thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone etc. are mentioned.
Examples of benzyl include benzyl, (±) -camphor quinone, p-anisyl and the like.

これらの光重合開始剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用られる。   These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

・熱硬化
熱重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤又はその誘導体が挙げられ、具体的には、例えば、V−30、V−40、V−59、V601、V65、V−70、VF−096、VE−073、Vam−110、Vam−111(和光純薬工業製)、OTazo−15、OTazo−30、AIBN、AMBN、ADVN、ACVA(大塚化学)等のアゾ系開始剤;パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH、パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT−K40/M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーブチルNHP、パーヘキシルPV、パーブチルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーブチルA、パーヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ(日油化学社製)、カヤケタールAM−C55、トリゴノックス36−C75、ラウロックス、パーカドックスL−W75、パーカドックスCH−50L、トリゴノックスTMBH、カヤクメンH、カヤブチルH−70、ペルカドックスBC−FF、カヤヘキサAD、パーカドックス14、カヤブチルC、カヤブチルD、カヤヘキサYD−E85、パーカドックス12−XL25、パーカドックス12−EB20、トリゴノックス22−N70、トリゴノックス22−70E、トリゴノックスD−T50、トリゴノックス423−C70、カヤエステルCND−C70、カヤエステルCND−W50、トリゴノックス23−C70、トリゴノックス23−W50N、トリゴノックス257−C70、カヤエステルP−70、カヤエステルTMPO−70、トリゴノックス121、カヤエステルO、カヤエステルHTP−65W、カヤエステルAN、トリゴノックス42、トリゴノックスF−C50、カヤブチルB、カヤカルボンEH−C70、カヤカルボンEH−W60、カヤカルボンI−20、カヤカルボンBIC−75、トリゴノックス117、カヤレン6−70(化薬アクゾ社製)、ルペロックス610、ルペロックス188、ルペロックス844、ルペロックス259、ルペロックス10、ルペロックス701、ルペロックス11、ルペロックス26、ルペロックス80、ルペロックス7、ルペロックス270、ルペロックスP、ルペロックス546、ルペロックス554、ルペロックス575、ルペロックスTANPO、ルペロックス555、ルペロックス570、ルペロックスTAP、ルペロックスTBIC、ルペロックスTBEC、ルペロックスJW、ルペロックスTAIC、ルペロックスTAEC、ルペロックスDC、ルペロックス101、ルペロックスF、ルペロックスDI、ルペロックス130、ルペロックス220、ルペロックス230、ルペロックス233、ルペロックス531(アルケマ吉富社製)などが挙げられる。
Thermosetting Thermal polymerization initiators include a thermal radical generator or a derivative thereof. Specifically, for example, V-30, V-40, V-59, V601, V65, V-70, VF- Azo initiators such as 096, VE-073, Vam-110, Vam-111 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), OTazo-15, OTazo-30, AIBN, AMBN, ADVN, ACVA (Otsuka Chemical Co., Ltd.); Perhexa HC, Per Hex C, Per Hex V 22, Per Hex MC, Per Butyl H, Percumyl H, Percumyl P, Permenta H, Per Octal H, Per Butyl C, Per Butyl D, Perhexyl D, Peroyl IB, Peroyl 355, Peroyl L, Peroyl SA , Nyper BW, nyper BMT-K 40 / M, peroyl IPP, perlo IL NPP, Peroyl TCP, Peroyl OPP, Perroyl SBP, Perkyl ND, Perocta ND, Perhexyl ND, Perbutyl ND, Perbutyl NHP, Perhexyl PV, Perbutyl PV, Perhexa 250, Perocta O, Perhexyl O, Perbutyl O, Perbutyl L, Perbutyl 355 , Perhexyl I, Perbutyl I, Perbutyl E, Perhexa 25Z, Perbutyl A, Perhexyl Z, Perbutyl ZT, Perbutyl Z (manufactured by NOF Chemical Co., Ltd.), Kayaketal AM-C55, Trigonox 36-C75, Laurox, Percadox L-W75, Perka Dox CH-50 L, Trigonox TM BH, Kayakmen H, Kayabutyl H-70, Percadox BC-FF, Kaya Hexa AD, Perka Dox 14, Kayabuti C, Kayabutyl D, Kaya Hexa YD-E85, Percadox 12-XL25, Percadox 12-EB20, Trigonox 22-N70, Trigonox 22-70 E, Trigonox D-T50, Trigonox 423-C70, Kaya Ester CND-C70, Kaya Ester CND-W50, Trigonox 23-C70, Trigonox 23-W50N, Trigonox 257-C70, Kayaester P-70, Kayaester TMPO-70, Trigonox 121, Kayaester O, Kayaester HTP-65W, Kayaester AN, Trigonox 42 Trigonox F-C50, Kaya butyl B, Kaya carbon EH-C70, Kaya carbon EH-W60, Kaya carbon I-20, Kaya carbon BIC-75, trigonock 117, Kayalen 6-70 (manufactured by Kayaku Akzo Co., Ltd.), Luperox 610, Luperox 188, Luperox 844, Luperox 259, Luperox 10, Luperox 701, Luperox 11, Luperox 26, Luperox 80, Luperox 7, Luperox 270, Luperox P, Ruperox 546, Ruperox 554, Ruperox 575, Ruperox 555, Ruperox 570, Luperox TAP, Luperox TBIC, Ruperox TBEC, Ruperox JW, Ruperox TAIC, Ruperox TAEC, Ruperox DC, Ruperox 101, Ruperox F, Ruperox DI, Ruperox 130 , Luperox 220, Luperox 230, Luperox 23 3 and Luperox 531 (manufactured by Arkema Yoshitomi Co., Ltd.).

これらのうち、分子量250以上のアゾ系重合開始剤を用いると、低い温度でムラなく反応が進行することから、ムラが抑制された高強度の膜の形成が図られる。より好適には、アゾ系重合開始剤の分子量は、250以上であり、300以上が更に好適である。   Among these, when an azo polymerization initiator having a molecular weight of 250 or more is used, the reaction proceeds uniformly at a low temperature, so that formation of a high-strength film in which unevenness is suppressed can be achieved. More preferably, the molecular weight of the azo polymerization initiator is 250 or more, and 300 or more is more preferable.

加熱は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは1000ppm以下、より好ましくは500ppm以下で行い、好ましくは50℃以上170℃以下、より好ましくは70℃以上150℃以下で、好ましくは10分以上120分以下、より好ましくは15分以上100分以下加熱する。   The heating is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon at an oxygen concentration of preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, preferably 50 ° C. to 170 ° C., more preferably 70 ° C. to 150 ° C., Preferably, heating is performed for 10 minutes or more and 120 minutes or less, more preferably 15 minutes or more and 100 minutes or less.

光硬化触媒又は熱重合開始剤の総含有量は、層形成のための溶解液中の全固形分に対して0.1質量%以上10質量%以下が好ましく、更には0.1質量%以上8質量%以下がより好ましく、0.1質量%以上5質量%以下の範囲が特に好ましい。   The total content of the photocuring catalyst or the thermal polymerization initiator is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, and more preferably 0.1% by mass or more, with respect to the total solid content in the solution for layer formation. 8 mass% or less is more preferable, and the range of 0.1 mass% or more and 5 mass% or less is especially preferable.

なお、本実施態様では、反応が早く進行しすぎると架橋により塗膜の構造緩和ができ難くなり、膜のムラやシワを発生しやすくなるといった理由から、ラジカルの発生が比較的ゆっくりと起こる熱による硬化方法が採用される。
特に、特定の連鎖重合性電荷輸送材料と熱による硬化とを組み合わせることで、塗膜の構造緩和の促進が図られ、表面性状に優れた高い保護層(最表面層)が得られ易くなる。
In the present embodiment, if the reaction proceeds too fast, the structural relaxation of the coating film becomes difficult due to crosslinking, and the generation of radicals relatively slowly occurs because the film becomes uneven and wrinkled easily. Curing method is adopted.
In particular, by combining a specific chain-polymerizable charge transporting material and curing by heat, structural relaxation of the coating film is promoted, and a high protective layer (uppermost surface layer) having excellent surface properties is easily obtained.

保護層の膜厚は、例えば、好ましくは3μm以上40μm以下、より好ましくは5μm以上35μm以下、更に好ましくは7μm以上30μm以下の範囲内に設定される。   The film thickness of the protective layer is, for example, preferably in the range of 3 μm to 40 μm, more preferably 5 μm to 35 μm, and still more preferably 7 μm to 30 μm.

以上、図1に示される電子写真感光体を参照し、機能分離型の感光層における各層の構成を説明したが、図2に示される機能分離型の電子写真感光体における各層においてもこの構成が採用しうる。また、図3に示される電子写真感光体の単層型感光層の場合、以下の態様であることが好ましい。   The configuration of each layer in the function separation type photosensitive layer has been described above with reference to the electrophotographic photosensitive member shown in FIG. 1, but this configuration is also applied to each layer in the function separated type electrophotographic photosensitive member shown in FIG. It can be adopted. Further, in the case of the single-layer type photosensitive layer of the electrophotographic photosensitive member shown in FIG.

即ち、単層型感光層(電荷発生/電荷輸送層)は、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含んで構成されることがよい。なお、これら材料は、電荷発生材料及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して10質量%以上85質量%以下がよく、好ましくは20質量%以上50質量%以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して5質量%以上50質量%以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、5μm以上50μm以下がよく、好ましくは10μm以上40μm以下である。
That is, the single-layer type photosensitive layer (charge generation / charge transport layer) is configured to include a charge generation material, a charge transport material, and, if necessary, a binder resin and other known additives. Is good. Note that these materials are the same as the materials described for the charge generation material and the charge transport layer.
The content of the charge generation material in the single-layer type photosensitive layer is preferably 10% by mass to 85% by mass, and more preferably 20% by mass to 50% by mass, with respect to the total solid content. Further, the content of the charge transport material in the single-layer type photosensitive layer is preferably 5% by mass to 50% by mass with respect to the total solid content.
The method of forming the single-layer type photosensitive layer is the same as the method of forming the charge generation layer or the charge transport layer.
The film thickness of the single layer type photosensitive layer is, for example, 5 μm to 50 μm, and preferably 10 μm to 40 μm.

なお、本実施形態に係る電子写真感光体では、最表面層が保護層である形態を説明したが、保護層がない層構成であってもよい。
保護層がない層構成の場合、図1に示される電子写真感光体では、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が最表面層となる。そして、当該最表面層となる電荷輸送層が、上記特定の組成物の硬化膜で構成される。
また、保護層がない層構成の場合、図3に示される電子写真感光体では、その層構成において最表面に位置する単層型感光層が最表面層となる。そして、当該最表面層となる単層型感光層が、上記特定の組成物の硬化膜で構成される。但し、上記組成物には、電荷発生材料が配合される。
In the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment, the form in which the outermost surface layer is a protective layer has been described, but a layer configuration without a protective layer may be employed.
In the case of a layer configuration without a protective layer, in the electrophotographic photosensitive member shown in FIG. 1, the charge transport layer located on the outermost surface in the layer configuration is the outermost surface layer. And the charge transport layer which becomes the said outermost layer is comprised by the cured film of the said specific composition.
In the case of a layer configuration without a protective layer, in the electrophotographic photosensitive member shown in FIG. 3, the single-layer type photosensitive layer located on the outermost surface in the layer configuration is the outermost surface layer. And the single layer type photosensitive layer used as the said outermost layer is comprised by the cured film of the said specific composition. However, a charge generating material is blended in the above composition.

−帯電装置−
帯電装置8としては、電子写真感光体7の表面に接触又は近接して配置され、電子写真感光体の表面を帯電する帯電装置が採用される。ここで、帯電装置8を近接して配置するとは、例えば、帯電装置8(その導電性部材(帯電部材))を電子写真感光体7の表面から1μm以上200μm以下の範囲で離間して配置することを示す。
帯電装置8として具体的には、帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等の導電性又は半導電性部材を電子写真感光体7の表面に接触して設ける接触型帯電器、前記導電性又は半導電性部材を電子写真感光体7の表面と離間して設ける近接型帯電器が挙げられる。
-Charging device-
As the charging device 8, a charging device which is disposed in contact with or in proximity to the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 and which charges the surface of the electrophotographic photosensitive member is employed. Here, to arrange the charging device 8 in proximity, for example, the charging device 8 (its conductive member (charging member)) is arranged to be separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 in the range of 1 μm to 200 μm. Indicates that.
Specifically, as the charging device 8, a contact type charging device provided with a conductive or semiconductive member such as a charging roller, a charging brush, a charging film, a charging rubber blade, or a charging tube in contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member 7. And a proximity type charging device in which the conductive or semiconductive member is provided apart from the surface of the electrophotographic photosensitive member 7.

−露光装置−
露光装置9としては、例えば、電子写真感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザや青色レーザとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
-Exposure apparatus-
Examples of the exposure device 9 include an optical system device that exposes the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 with light such as semiconductor laser light, LED light, liquid crystal shutter light, etc. in a defined image. The wavelength of the light source is in the spectral sensitivity region of the electrophotographic photosensitive member. As the wavelength of the semiconductor laser, near infrared light having an oscillation wavelength around 780 nm is the mainstream. However, the wavelength is not limited to this, and a laser having an oscillation wavelength of 400 nm or more and 450 nm or less may be used as an oscillation wavelength laser of about 600 nm or a blue laser. In addition, a surface emitting laser light source of a type capable of outputting multiple beams is also effective for color image formation.

−現像装置−
現像装置11としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置11としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
-Development device-
Examples of the developing device 11 include, for example, a general developing device which develops with a developer in contact or non-contact. The developing device 11 is not particularly limited as long as it has the above-described function, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device or the like having a function of causing the one-component developer or the two-component developer to adhere to the electrophotographic photosensitive member 7 using a brush, a roller or the like can be mentioned. Among them, one using a developing roller holding a developer on the surface is preferable.

ここで、現像装置に収容される現像剤は、トナー粒子と、脂肪酸金属塩粒子を含む。脂肪酸金属塩粒子は、外添剤として現像剤に含む。   Here, the developer contained in the developing device contains toner particles and fatty acid metal salt particles. The fatty acid metal salt particles are included in the developer as an external additive.

次に、トナー粒子の構成について説明する。
トナー粒子は、例えば、結着樹脂を含む。トナー粒子は、必要に応じて、着色剤と、離型剤と、その他添加剤とを含んでもよい。
Next, the configuration of the toner particles will be described.
The toner particles contain, for example, a binder resin. The toner particles may optionally contain a colorant, a release agent and other additives.

・結着樹脂
結着樹脂としては、例えば、スチレン類(例えばスチレン、パラクロロスチレン、α−メチルスチレン等)、(メタ)アクリル酸エステル類(例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸2−エチルヘキシル等)、エチレン性不飽和ニトリル類(例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル等)、ビニルエーテル類(例えばビニルメチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等)、ビニルケトン類(ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等)、オレフィン類(例えばエチレン、プロピレン、ブタジエン等)等の単量体の単独重合体、又はこれら単量体を2種以上組み合せた共重合体からなるビニル系樹脂が挙げられる。
結着樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、変性ロジン等の非ビニル系樹脂、これらと前記ビニル系樹脂との混合物、又は、これらの共存下でビニル系単量体を重合して得られるグラフト重合体等も挙げられる。
これらの結着樹脂は、1種類単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Binder resin As the binder resin, for example, styrenes (eg, styrene, parachlorostyrene, α-methylstyrene, etc.), (meth) acrylates (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid n-) Propyl, n-butyl acrylate, lauryl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, lauryl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, etc., ethylenically unsaturated nitriles (Eg acrylonitrile, methacrylonitrile etc.), vinyl ethers (eg vinyl methyl ether, vinyl isobutyl ether etc.), vinyl ketones (vinyl methyl ketone, vinyl ethyl ketone, vinyl isopropenyl ketone etc.), olefins (eg ethylene) , Propylene, a homopolymer of a monomer such as butadiene) and the like, or a vinyl-based resin composed of these monomers with two or more combinations copolymer.
As the binder resin, for example, epoxy resin, polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin, cellulose resin, polyether resin, non-vinyl resin such as modified rosin, a mixture of these with the above-mentioned vinyl resin, or The graft polymer etc. which are obtained by polymerizing a vinyl-type monomer in coexistence are also mentioned.
These binder resins may be used alone or in combination of two or more.

結着樹脂の含有量としては、例えば,トナー粒子全体に対して、40質量%以上95質量%以下が好ましく、50質量%以上90質量%以下がより好ましく、60質量%以上85質量%以下がさらに好ましい。   The content of the binder resin is, for example, preferably 40% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 50% by mass or more and 90% by mass or less, and 60% by mass or more and 85% by mass or less More preferable.

・着色剤
着色剤としては、例えば、カーボンブラック、クロムイエロー、ハンザイエロー、ベンジジンイエロー、スレンイエロー、キノリンイエロー、ピグメントイエロー、パーマネントオレンジGTR、ピラゾロンオレンジ、バルカンオレンジ、ウオッチヤングレッド、パーマネントレッド、ブリリアントカーミン3B、ブリリアントカーミン6B、デュポンオイルレッド、ピラゾロンレッド、リソールレッド、ローダミンBレーキ、レーキレッドC、ピグメントレッド、ローズベンガル、アニリンブルー、ウルトラマリンブルー、カルコオイルブルー、メチレンブルークロライド、フタロシアニンブルー、ピグメントブルー、フタロシアニングリーン、マラカイトグリーンオキサレートなどの種々の顔料、又は、アクリジン系、キサンテン系、アゾ系、ベンゾキノン系、アジン系、アントラキノン系、チオインジコ系、ジオキサジン系、チアジン系、アゾメチン系、インジコ系、フタロシアニン系、アニリンブラック系、ポリメチン系、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、チアゾール系などの各種染料等が挙げられる。
着色剤は、1種類単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
-Colorant As a colorant, for example, carbon black, chrome yellow, Hansa yellow, benzidine yellow, Sureren yellow, quinoline yellow, pigment yellow, permanent orange GTR, pyrazolone orange, Vulcan orange, watch young red, permanent red, brilliant carmine 3B, Brilliant Carmine 6B, DuPont Oil Red, Pyrazolone Red, Risol Red, Rhodamine B Lake, Lake Red C, Pigment Red, Rose Bengal, Aniline Blue, Ultramarine Blue, Chalco Oil Blue, Methylene Blue Chloride, Phthalocyanine Blue, Pigment Blue, Various pigments such as phthalocyanine green, malachite green oxalate, or acridine type, xanthe Types, azo type, benzoquinone type, azine type, anthraquinone type, anthraquinone type, thioindico type, dioxazine type, thiazine type, azomethine type, indico type, phthalocyanine type, aniline black type, polymethine type, triphenylmethane type, diphenylmethane type, thiazole type And various dyes and the like.
The coloring agents may be used alone or in combination of two or more.

着色剤は、必要に応じて表面処理された着色剤を用いてもよく、分散剤と併用してもよい。また、着色剤は、複数種を併用してもよい。   As the coloring agent, a surface-treated coloring agent may be used if necessary, and may be used in combination with a dispersing agent. Moreover, a coloring agent may use multiple types together.

着色剤の含有量としては、例えば、トナー粒子全体に対して、1質量%以上30質量%以下が好ましく、3質量%以上15質量%以下がより好ましい。   As content of a coloring agent, 1 mass% or more and 30 mass% or less are preferable with respect to the whole toner particle, for example, and 3 mass% or more and 15 mass% or less are more preferable.

・離型剤
離型剤としては、例えば、炭化水素系ワックス;カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等の天然ワックス;モンタンワックス等の合成又は鉱物・石油系ワックス;脂肪酸エステル、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス;などが挙げられる。離型剤は、これに限定されるものではない。
· Releasing agent As the releasing agent, for example, hydrocarbon wax; natural wax such as carnauba wax, rice wax, candelilla wax; synthesis of montan wax etc. or mineral or petroleum wax; fatty acid ester, montanic acid ester etc. Ester-based waxes; and the like. The release agent is not limited to this.

離型剤の融解温度は、50℃以上110℃以下が好ましく、60℃以上100℃以下がより好ましい。
なお、融解温度は、示差走査熱量測定(DSC)により得られたDSC曲線から、JIS K−1987「プラスチックの転移温度測定方法」の融解温度の求め方に記載の「融解ピーク温度」により求める。
50 degreeC or more and 110 degrees C or less are preferable, and, as for the melting temperature of a mold release agent, 60 degrees C or more and 100 degrees C or less are more preferable.
In addition, melting temperature is calculated | required by "melting peak temperature" as described in how to obtain | require the melting temperature of JISK-1987 "the transition temperature measurement method of plastics" from the DSC curve obtained by differential scanning calorimetry (DSC).

離型剤の含有量としては、例えば、トナー粒子全体に対して、1質量%以上20質量%以下が好ましく、5質量%以上15質量%以下がより好ましい。   The content of the release agent is, for example, preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more and 15% by mass or less with respect to the entire toner particles.

・その他の添加剤
その他の添加剤としては、例えば、磁性体、帯電制御剤、無機粉体等の周知の添加剤が挙げられる。これらの添加剤は、内添剤としてトナー粒子に含まれる。
Other Additives Other additives include, for example, known additives such as magnetic substances, charge control agents and inorganic powders. These additives are contained in the toner particles as an internal additive.

・トナー粒子の特性等
トナー粒子は、単層構造のトナー粒子であってもよいし、芯部(コア粒子)と芯部を被覆する被覆層(シェル層)とで構成された所謂コア・シェル構造のトナー粒子であってもよい。
ここで、コア・シェル構造のトナー粒子は、例えば、結着樹脂と必要に応じて着色剤及び離型剤等のその他添加剤とを含んで構成された芯部と、結着樹脂を含んで構成された被覆層と、で構成されていることがよい。
· Properties of toner particles, etc. The toner particles may be toner particles having a single layer structure, and a so-called core / shell formed of a core (core particles) and a coating layer (shell layer) for coating the core. It may be a toner particle of structure.
Here, the toner particles having a core-shell structure include, for example, a core portion constituted by including a binder resin and, if necessary, other additives such as a colorant and a release agent, and a binder resin. It is good to be comprised by the comprised coating layer.

トナー粒子の体積平均粒径(D50v)としては、2μm以上10μm以下が好ましく、4μm以上8μm以下がより好ましい。   The volume average particle diameter (D50v) of the toner particles is preferably 2 μm to 10 μm, and more preferably 4 μm to 8 μm.

なお、トナー粒子の各種平均粒径、及び各種粒度分布指標は、コールターマルチサイザーII(ベックマン−コールター社製)を用い、電解液はISOTON−II(ベックマンーコールター社製)を使用して測定される。
測定に際しては、分散剤として、界面活性剤(アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムが好ましい)の5%水溶液2ml中に測定試料を0.5mg以上50mg以下加える。これを電解液100ml以上150ml以下中に添加する。
試料を懸濁した電解液は超音波分散器で1分間分散処理を行い、コールターマルチサイザーIIにより、アパーチャー径として100μmのアパーチャーを用いて2μm以上60μm以下の範囲の粒径の粒子の粒度分布を測定する。なお、サンプリングする粒子数は50000個である。
測定される粒度分布を基にして分割された粒度範囲(チャンネル)に対して体積、数をそれぞれ小径側から累積分布を描いて、累積16%となる粒径を体積粒径D16v、数粒径D16p、累積50%となる粒径を体積平均粒径D50v、累積数平均粒径D50p、累積84%となる粒径を体積粒径D84v、数粒径D84pと定義する。
これらを用いて、体積平均粒度分布指標(GSDv)は(D84v/D16v)1/2、数平均粒度分布指標(GSDp)は(D84p/D16p)1/2として算出される。
In addition, various average particle diameters of toner particles and various particle size distribution indexes are measured using Coulter Multisizer II (manufactured by Beckman Coulter Co., Ltd.), and electrolytic solution is measured using ISOTON-II (manufactured by Beckman Coulter Co.) Ru.
In the measurement, 0.5 mg or more and 50 mg or less of a measurement sample is added to 2 ml of a 5% aqueous solution of surfactant (preferably sodium alkylbenzene sulfonate) as a dispersant. This is added to 100 ml or more and 150 ml or less of electrolyte solution.
The electrolytic solution in which the sample is suspended is dispersed for 1 minute with an ultrasonic disperser, and Coulter Multisizer II, using an aperture of 100 μm as the aperture diameter, the particle size distribution of particles of 2 μm to 60 μm in size. taking measurement. The number of particles to be sampled is 50,000.
With respect to the particle size range (channel) divided based on the particle size distribution to be measured, the cumulative distribution is drawn from the small diameter side in terms of volume and number, and the particle size of cumulative 16% is the volume particle size D16v, number particle size The particle diameter of D16p and cumulative 50% is defined as volume average particle diameter D50v, cumulative number average particle diameter D50p, and particle diameter of 84% cumulative, as volume particle diameter D84v and number particle diameter D84p.
Using these, the volume average particle size distribution index (GSDv) is calculated as (D84 v / D 16 v) 1/2 , and the number average particle size distribution index (GSD p) is calculated as (D 84 p / D 16 p) 1/2 .

トナー粒子の形状係数SF1としては、110以上150以下が好ましく、120以上140以下がより好ましい。   The shape factor SF1 of the toner particles is preferably 110 or more and 150 or less, and more preferably 120 or more and 140 or less.

なお、形状係数SF1は、下記式により求められる。
式:SF1=(ML/A)×(π/4)×100
上記式中、MLはトナーの絶対最大長、Aはトナーの投影面積を各々示す。
具体的には、形状係数SF1は、主に顕微鏡画像又は走査型電子顕微鏡(SEM)画像を画像解析装置を用いて解析することによって数値化され、以下のようにして算出される。すなわち、スライドガラス表面に散布した粒子の光学顕微鏡像をビデオカメラによりルーゼックス画像解析装置に取り込み、100個の粒子の最大長と投影面積を求め、上記式によって計算し、その平均値を求めることにより得られる。
The shape factor SF1 is determined by the following equation.
Formula: SF1 = (ML 2 / A) × (π / 4) × 100
In the above equation, ML represents the absolute maximum length of the toner, and A represents the projected area of the toner.
Specifically, the shape factor SF1 is quantified mainly by analyzing a microscope image or a scanning electron microscope (SEM) image using an image analyzer, and is calculated as follows. That is, an optical microscope image of particles dispersed on the slide glass surface is taken into a Luzex image analyzer by a video camera, the maximum length and projection area of 100 particles are determined, and calculation is made according to the above equation, and the average value is determined. can get.

・外添剤
外添剤は、脂肪酸金属塩粒子を含む。外添剤は、脂肪酸金属塩粒子以外にも、画像の濃度ムラ抑制の点から、無機研磨剤粒子、無機潤滑剤粒子等、その他の外添剤を含んでもよい。
External Additive The external additive contains fatty acid metal salt particles. The external additive may contain, in addition to the fatty acid metal salt particles, other external additives such as inorganic abrasive particles and inorganic lubricant particles from the viewpoint of suppressing unevenness in image density.

脂肪酸金属塩粒子としては、例えば、脂肪酸(例えばステアリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、ベヘン酸、モンタン酸、ラウリン酸、その他有機酸等の脂肪酸)と、金属(例えばカルシウム、亜鉛、マグネシウム、アルミニウム、その他金属(Na、Li等))との金属塩の粒子が挙げられる。
脂肪酸金属塩粒子として具体的には、例えば、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸鉄、ステアリン酸銅、パルミチン酸マグネシウム、パルミチン酸カルシウム、オレイン酸マンガン、オレイン酸鉛、ラウリン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛等の粒子が挙げられる。
脂肪酸金属塩粒子は、これらの中でも、潤滑性、疎水性、及び電子写真感光体への濡れ性と共に、画像の濃度ムラ抑制の点から、ステアリン酸亜鉛の粒子が好ましい。
Examples of fatty acid metal salt particles include fatty acids (eg, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, behenic acid, montanic acid, lauric acid, and other fatty acids such as organic acids) and metals (eg, calcium, zinc, magnesium, aluminum, etc.) Particles of metal salts with other metals (Na, Li etc.) can be mentioned.
Specific examples of fatty acid metal salt particles include zinc stearate, calcium stearate, iron stearate, copper stearate, magnesium palmitate, calcium palmitate, manganese oleate, lead oleate, zinc laurate, zinc palmitate And the like.
Among these, fatty acid metal salt particles are preferably particles of zinc stearate from the viewpoint of suppressing unevenness in image density as well as lubricity, hydrophobicity, and wettability to an electrophotographic photosensitive member.

なお、脂肪酸金属塩粒子は、複数種の脂肪酸金属塩の混合粒子であってもよい。また、脂肪酸金属塩粒子は、脂肪酸金属塩と他の成分とを含む粒子であってもよい。他の成分としては、例えば、高級脂肪酸アルコール等が挙げられる。ただし、脂肪酸金属塩粒子には、脂肪酸金属塩を10質量%以上含む。   The fatty acid metal salt particles may be mixed particles of a plurality of fatty acid metal salts. The fatty acid metal salt particles may also be particles containing a fatty acid metal salt and other components. Examples of other components include higher fatty acid alcohols. However, fatty acid metal salt particles contain 10% by mass or more of fatty acid metal salt.

脂肪酸金属塩粒子の体積基準によるメディアン径は、画像の濃度ムラ抑制の点から、0.1μm以上10.0μm以下が好ましく、0.2μm以上10.0μm以下がより好ましく、0.2μm以上8.0μm以下が更に好ましい。
脂肪酸金属塩粒子の体積基準によるメディアン径は、次に示す方法により測定される値である。測定装置としては、レーザー回折・散乱式粒度分布測定装置「LA−920」(堀場製作所社製)を用いる。測定条件の設定および測定データの解析は、LA−920に付属の専用ソフト「HORIBA LA−920 for Windows(登録商標) WET(LA−920) Ver.2.02」を用いる。また、測定溶媒としては、予め不純固形物などを除去したイオン交換水を用いる。
The median diameter based on the volume of fatty acid metal salt particles is preferably 0.1 μm or more and 10.0 μm or less, more preferably 0.2 μm or more and 10.0 μm or less, and more preferably 0.2 μm or more and 0.2 μm or less from the viewpoint of suppressing density unevenness of an image. 0 μm or less is more preferable.
The median diameter based on the volume of fatty acid metal salt particles is a value measured by the following method. As a measuring apparatus, a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring apparatus "LA-920" (manufactured by Horiba, Ltd.) is used. Setting of measurement conditions and analysis of measurement data use dedicated software “HORIBA LA-920 for Windows (registered trademark) WET (LA-920) Ver. 2.02” attached to LA-920. In addition, ion exchange water from which impure solid substances and the like have been removed in advance is used as a measurement solvent.

無機研磨剤粒子は、感光体の表面を研磨する機能を有する無機粒子である。
無機研磨剤粒子としては、無機酸化物、窒化物、ホウ化物、炭酸塩等の周知の研磨剤の粒子が挙げられる。無機研磨剤粒子として具体的には、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ハイドロタルサイト等の粒子が挙げられる。
これらの中でも、無機研磨剤粒子としては、研磨性、入手性、及びコストと共に、画像の濃度ムラ抑制の点から、酸化セリウムの粒子、およびチタン酸ストロンチウムの粒子からなる群より選択される少なくとも1種の粒子(特に、チタン酸ストリンチウム)が好ましい。
The inorganic abrasive particles are inorganic particles having a function of polishing the surface of the photosensitive member.
Inorganic abrasive particles include particles of well-known abrasives such as inorganic oxides, nitrides, borides, carbonates and the like. Specific examples of inorganic abrasive particles include, for example, silica, alumina, titania, zirconia, barium titanate, aluminum titanate, strontium titanate, magnesium titanate, zinc oxide, chromium oxide, cerium oxide, antimony oxide, tungsten oxide And particles of tin oxide, tellurium oxide, manganese oxide, silicon carbide, boron carbide, titanium carbide, silicon nitride, titanium nitride, boron nitride, calcium carbonate, magnesium carbonate, hydrotalcite and the like.
Among these, as the inorganic abrasive particles, at least one selected from the group consisting of particles of cerium oxide and particles of strontium titanate from the viewpoint of suppressing unevenness in image density as well as abrasiveness, availability, and cost. Preferred are particles of the species (in particular, stringium titanate).

なお、無機研磨剤粒子は、疎水化処理剤により表面に疎水化処理が施されていてもよい。
疎水化処理剤としては、例えば、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェート)オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤;3−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−2−(N−ビニルベンジルアミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、o−メチルフェニルトリメトキシシラン、p−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤;シリコーンオイル;ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩;等が挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
疎水化処理剤の量としては、通常、例えば、無機粒子100質量部に対して、1質量部以上10質量部である。
In the inorganic abrasive particles, the surface may be subjected to a hydrophobization treatment with a hydrophobization treatment agent.
Examples of the hydrophobizing agent include titanium coupling agents such as tetrabutyl titanate, tetraoctyl titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridecyl benzene sulfonyl titanate, and bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate; 2-Aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-2- (N-vinylbenzylaminoethyl) 3-aminopropyl Trimethoxysilane hydrochloride, hexamethyldisilazane, methyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrichloride Silane coupling agents such as toxilsilane, decyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, o-methylphenyltrimethoxysilane, p-methylphenyltrimethoxysilane, etc .; silicone oils; aluminum stearate, zinc stearate, And higher fatty acid metal salts such as calcium stearate; and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the hydrophobic treatment agent is usually, for example, 1 part by mass or more and 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic particles.

無機研磨剤粒子の体積基準によるメディアン径は、画像の濃度ムラ抑制の点から、0.1μm以上10.0μm以下が好ましく、1.0μm以上10.0μm以下がより好ましく、2.0μm以上8.0μm以下が更に好ましい。
無機研磨剤粒子の体積基準によるメディアン径は、脂肪酸金属塩粒子のメディアン径と同様に測定された値である。
The median diameter based on the volume of the inorganic abrasive particles is preferably 0.1 μm or more and 10.0 μm or less, more preferably 1.0 μm or more and 10.0 μm or less, and more preferably 2.0 μm or more, from the viewpoint of suppressing density unevenness of the image. 0 μm or less is more preferable.
The median diameter based on the volume of the inorganic abrasive particles is a value measured similarly to the median diameter of the fatty acid metal salt particles.

無機潤滑剤粒子としては、物質自身がへき開して潤滑する機能を持つ粒子、又は、内部滑りを起こす粒子が挙げられる。無機潤滑剤粒子として具体的には、雲母、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、滑石、タルク、カオリナイト、モンモリロナイト、フッ化カルシウム、グラファイト等の粒子が挙げられる。
これらの中でも、無機潤滑剤粒子としては、潤滑性と共に、画像の濃度ムラ抑制の点から、窒化ホウ素の粒子が好ましい。
The inorganic lubricant particles include particles having a function of cleaving and lubricating the substance itself or particles which cause internal slippage. Specific examples of the inorganic lubricant particles include mica, boron nitride, molybdenum disulfide, tungsten disulfide, talc, talc, kaolinite, montmorillonite, calcium fluoride, graphite and the like.
Among these, as inorganic lubricant particles, particles of boron nitride are preferable from the viewpoint of suppressing unevenness in image density as well as lubricity.

無機潤滑剤粒子の体積平均粒径は、画像の濃度ムラ抑制の点から、0.1μm以上10μm以下が好ましく、0.2μm以上10μm以下がより好ましく、0.2μm以上8μm以下が更に好ましい。
無機潤滑剤粒子の体積平均粒径は、無機潤滑剤粒子の一次粒子100個を、SEM(Scanning Electron Microscope)装置により観察し、一次粒子の画像解析によって得られた円相当径の累積頻度における50%径(D50v)であり、この方法にて測定される。
The volume average particle diameter of the inorganic lubricant particles is preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 0.2 μm or more and 10 μm or less, and still more preferably 0.2 μm or more and 8 μm or less from the viewpoint of suppressing density unevenness of an image.
The volume average particle diameter of the inorganic lubricant particles is determined by observing 100 primary particles of the inorganic lubricant particles with a scanning electron microscope (SEM) device, and measuring 50 as the cumulative frequency of the equivalent circle diameter obtained by image analysis of the primary particles. % Diameter (D50v), measured by this method.

他の外添剤としては、例えば、体積平均粒径5nm以上100nm未満(好ましくは5nm以上80nm以下)の無機粒子が挙げられる。この無機粒子は、トナー流動性及び帯電性向上の目的で、トナー粒子に外添する。なお、この無機粒子の体積平均粒径は、無機潤滑剤粒子の体積平均粒径と同様の方法で測定される値である。
この無機粒子としては、例えば、SiO、TiO、Al、CuO、ZnO、SnO、CeO、Fe、MgO、BaO、CaO、KO、NaO、ZrO、CaO・SiO、KO・(TiO)n、Al・2SiO、CaCO、MgCO、BaSO、MgSO等が挙げられる。
この無機粒子の表面は、疎水化処理が施されていることがよい。疎水化処理は、例えば疎水化処理剤に無機粒子を浸漬する等して行う。疎水化処理剤は特に制限されないが、例えば、シラン系カップリング剤、シリコーンオイル、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
疎水化処理剤の量としては、通常、例えば、無機粒子100質量部に対して、1質量部以上10質量部である。
Examples of other external additives include inorganic particles having a volume average particle size of 5 nm or more and less than 100 nm (preferably 5 nm or more and 80 nm or less). The inorganic particles are externally added to toner particles for the purpose of improving toner fluidity and chargeability. The volume average particle size of the inorganic particles is a value measured by the same method as the volume average particle size of the inorganic lubricant particles.
Examples of the inorganic particles include SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , CuO, ZnO, SnO 2 , CeO 2 , Fe 2 O 3 , MgO, BaO, CaO, K 2 O, Na 2 O, and ZrO 2. , CaO · SiO 2, K 2 O · (TiO 2) n, Al 2 O 3 · 2SiO 2, CaCO 3, MgCO 3, BaSO 4, MgSO 4 , and the like.
The surface of the inorganic particles may be subjected to a hydrophobization treatment. The hydrophobization treatment is performed, for example, by immersing inorganic particles in a hydrophobization treatment agent. The hydrophobizing agent is not particularly limited, and examples thereof include silane coupling agents, silicone oils, titanate coupling agents, aluminum coupling agents and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the hydrophobic treatment agent is usually, for example, 1 part by mass or more and 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic particles.

他の外添剤としては、樹脂粒子(ポリスチレン、PMMA、メラミン樹脂等の樹脂粒子)、クリーニング活剤(例えば、フッ素系高分子量体の粒子)等も挙げられる。   Other external additives include resin particles (resin particles such as polystyrene, PMMA, melamine resin, etc.), cleaning activators (for example, particles of fluorine-based high molecular weight), and the like.

他の外添剤としては、脂肪酸金属塩の粒子および無機潤滑剤粒子以外の滑性剤の粒子も挙げられる。滑性剤の粒子としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類;加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類;カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス;ミツロウ等の動物系ワックス;モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物系又は石油系ワックス;それらの変性物等の粒子が挙げられる。   Other external additives also include particles of fatty acid metal salt and particles of lubricant other than inorganic lubricant particles. As particles of lubricants, low molecular weight polyolefins such as polypropylene, polyethylene and polybutene; silicones having a softening point by heating, aliphatics such as oleic acid amide, erucic acid amide, ricinoleic acid amide, stearic acid amide and the like Amides; plant-based waxes such as carnauba wax, rice wax, candelilla wax, wood wax, jojoba oil; animal-based waxes such as beeswax; montan wax, ozokerite, ceresin, paraffin wax, microcrystalline wax, Fischer-Tropsch wax, etc. Examples of such particles include mineral or petroleum waxes; and modified products thereof.

・トナーの製造方法
次に、本実施形態に係るトナーの製造方法について説明する。
本実施形態に係るトナーは、トナー粒子を製造後、トナー粒子に対して、外添剤を外添することで得られる。
Method of Manufacturing Toner Next, a method of manufacturing the toner according to the present embodiment will be described.
The toner according to the exemplary embodiment is obtained by externally adding an external additive to toner particles after producing the toner particles.

トナー粒子は、乾式製法(例えば、混練粉砕法等)、湿式製法(例えば凝集合一法、懸濁重合法、溶解懸濁法等)のいずれにより製造してもよい。トナー粒子の製法は、これらの製法に特に制限はなく、周知の製法が採用される。   The toner particles may be produced by any of dry production method (for example, kneading and pulverization method and the like) and wet production method (for example, aggregation and coalescence method, suspension polymerization method, dissolution and suspension method and the like). There are no particular limitations on the method for producing toner particles, and any known method may be employed.

そして、本実施形態に係るトナーは、例えば、得られた乾燥状態のトナー粒子に、外添剤を添加し、混合することにより製造される。混合は、例えばVブレンダー、ヘンシェルミキサー、レディーゲミキサー等によって行うことがよい。更に、必要に応じて、振動師分機、風力師分機等を使ってトナーの粗大粒子を取り除いてもよい。   The toner according to the exemplary embodiment is manufactured, for example, by adding an external additive to the obtained toner particles in a dry state and mixing them. The mixing may be performed by, for example, a V blender, a Henschel mixer, a Loedige mixer, or the like. Furthermore, if necessary, coarse particles of toner may be removed using a vibration divider, an air flow divider, or the like.

・キャリア
キャリアとしては、特に制限はなく、公知のキャリアが挙げられる。キャリアとしては、例えば、磁性粉からなる芯材の表面に被覆樹脂を被覆した被覆キャリア;マトリックス樹脂中に磁性粉が分散・配合された磁性粉分散型キャリア;多孔質の磁性粉に樹脂を含浸させた樹脂含浸型キャリア;等が挙げられる。
なお、磁性粉分散型キャリア、及び樹脂含浸型キャリアは、当該キャリアの構成粒子を芯材とし、これに被覆樹脂により被覆したキャリアであってもよい。
Carrier The carrier is not particularly limited, and may be any known carrier. As the carrier, for example, a coated carrier obtained by coating a coating resin on the surface of a core material made of magnetic powder; a magnetic powder dispersion type carrier in which magnetic powder is dispersed / blended in a matrix resin; porous magnetic powder is impregnated with resin Resin impregnated carriers; and the like.
The magnetic powder-dispersed carrier and the resin-impregnated carrier may be a carrier in which the constituent particles of the carrier are used as a core material and the core particles are coated with a coating resin.

二成分現像剤における、トナーとキャリアとの混合比(質量比)は、トナー:キャリア=1:100乃至30:100が好ましく、3:100乃至20:100がより好ましい。   The mixing ratio (mass ratio) of toner and carrier in the two-component developer is preferably toner: carrier = 1: 100 to 30: 100, and more preferably 3: 100 to 20: 100.

−クリーニング装置−
クリーニング装置13は、クリーニングブレード131を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
-Cleaning device-
As the cleaning device 13, a cleaning blade type device provided with a cleaning blade 131 is used.

クリーニングブレード131は、耐磨耗性、耐へたり性(耐永久変形性)、及び耐欠け性を向上する点から、電子写真感光体7の表面と接触する第一部位と、それ以外の第二部位と、を有し、第一層の材料が、下式(1)〜(3)を満たすことが好ましい。   The cleaning blade 131 has a first portion in contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 and other first portions from the viewpoint of improving wear resistance, sag resistance (permanent deformation resistance), and chipping resistance. It is preferable to have two parts, and the material of the first layer satisfies the following formulas (1) to (3).

・式(1) 3.92≦M≦29.42
・式(2) 0<α≦0.294
・式(3) S≧250
〔但し、式(1)〜(3)中、Mは100%モジュラス(MPa)を表し、αは、応力−歪曲線において、歪量が100%以上200%以下における歪量変化(Δ歪量)に対する応力変化(Δ応力)の割合{Δ応力/Δ歪量=(歪量200%における応力−歪量100%における応力)/(200−100)}(MPa/%)を表し、Sは、JIS K6251(ダンベル状3号形試験片使用)に基づいて測定された破断伸び(%)を表す。〕
-Formula (1) 3.92 <= M <= 29.42
Formula (2) 0 <α ≦ 0.294
· Formula (3) S 250 250
[Wherein, in the formulas (1) to (3), M represents 100% modulus (MPa), α represents a strain amount change (Δ strain amount at a strain amount of 100% or more and 200% or less) Ratio of stress change (Δ stress) to Δ) {Δ stress / Δ strain amount = (stress at 200% strain−stress at 100% strain amount) / (200−100)} (MPa /%), S represents The breaking elongation (%) measured based on JIS K6251 (use of dumbbell-shaped No. 3 test piece) is shown. ]

式(1)に示す100%モジュラスMは、JISK6251(1993年)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を用い、引張速度500mm/minで計測し、100%歪み時の応力より求められる。なお、測定装置は、東洋精機(株)製、ストログラフAEエラストマを用いた。
一方、式(2)に示すαは、応力−歪曲線から求められるものである。応力および歪量は以下に説明する手順・方法により求められる。すなわち、JISK6251(1993年)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を用い、引張速度500mm/minで計測し、100%歪み時の応力と200%歪み時の応力より求められる。なお、測定装置は、東洋精機(株)製、ストログラフAEエラストマを用いた。
The 100% modulus M shown in the formula (1) can be obtained from the stress at 100% strain, measured at a tensile speed of 500 mm / min using a dumbbell-shaped No. 3 test piece in accordance with JIS K6251 (1993). . In addition, as a measuring apparatus, a Toyo Seiki Co., Ltd. product and Strograph AE elastomer were used.
On the other hand, α shown in the equation (2) is obtained from a stress-strain curve. The amount of stress and strain can be determined by the procedure and method described below. That is, in accordance with JIS K6251 (1993), using a dumbbell-shaped No. 3 test piece, it is measured at a tensile speed of 500 mm / min, and is obtained from stress at 100% strain and stress at 200% strain. In addition, as a measuring apparatus, a Toyo Seiki Co., Ltd. product and Strograph AE elastomer were used.

ここで、クリーニングブレード131は、1)電子写真感光体7の表面に接触する第一層(第一部位の一例)と第一層の背面に背面層としての第二層(第二部位の一例)を設けた積層構成、2)電子写真感光体7の表面に接触するブレード角部に配置される接触部(第一部位の一例)と接触部を支持する支持部(第二部位の一例)とを有する構成が挙げられる。なお、背面層としての第二層は、単層構成であってもよいし、2層以上の複層構成であってもよい。   Here, the cleaning blade 131 includes: 1) a first layer (an example of a first portion) in contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 and a second layer (an example of a second portion) on the back surface of the first layer 2) a contact portion (an example of a first portion) disposed at a corner of the blade contacting the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 and a support portion (an example of a second portion) supporting the contact portion And the structure which has and. The second layer as the back layer may have a single layer structure or a multilayer structure of two or more layers.

以下、第一層と背面層としての第二層(単層)とからなる2層構成のクリーニングブレード131を取り上げて、詳細に説明する。   Hereinafter, the cleaning blade 131 having a two-layer configuration including the first layer and the second layer (single layer) as the back layer will be described in detail.

・第一層
第一層の材料が式(1)を満たすと、良好なクリーニング性を発揮しつつ、耐磨耗性が高まり易くなる。100%モジュラスMは、5MPa以上20MPa以下の範囲内であることが好ましく、6.5MPa以上15MPa以下の範囲内であることがより好ましい。
First Layer When the material of the first layer satisfies the formula (1), abrasion resistance tends to be enhanced while exhibiting good cleaning properties. The 100% modulus M is preferably in the range of 5 MPa to 20 MPa, and more preferably in the range of 6.5 MPa to 15 MPa.

第一層の材料が式(2)および式(3)を満たすと、耐欠け性が高まり易くなる。
なお、αは0.2以下であることが好ましく、0.1以下であることがより好ましく、物性上の限界下限値である0に近ければ近いほどよい。
破断伸びSは300%以上であることが好ましく、350%以上であることがより好ましい。一方、破断伸びSは、耐摩耗性の観点から、500%以下であることが好ましく、450%以下であることがより好ましく、400%以下であることが更に好ましい。
When the material of the first layer satisfies the formulas (2) and (3), chipping resistance tends to be enhanced.
Here, α is preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less, and the closer to 0, which is the limit lower limit value in physical properties, the better.
The breaking elongation S is preferably 300% or more, more preferably 350% or more. On the other hand, the breaking elongation S is preferably 500% or less, more preferably 450% or less, and still more preferably 400% or less from the viewpoint of wear resistance.

第一層の材料のガラス転移温度Tgは、クリーニングブレード131の接触圧の安定性の点から、装置の使用環境温度の下限値(例えば10℃)以下であることが好ましい。   From the viewpoint of the stability of the contact pressure of the cleaning blade 131, the glass transition temperature Tg of the material of the first layer is preferably equal to or lower than the lower limit (for example, 10 ° C.) of the operating environment temperature of the apparatus.

第一層の材料のガラス転移温度は、粘弾性測定装置により温度分散を測定し、tanδ(損失正接)のピーク温度として求められる。
ここで、tanδ値は、以下に説明する貯蔵及び損失弾性率から導かれるものである。線形弾性体に、正弦波の歪みを定常振動的に与えたとき、応力は式(4)で表される。|E*|は複素弾性率と呼ばれる。また、レオロジー学の理論より、弾性体成分は式(5)、及び粘性体成分は式(6)で表される。ここで、E’は貯蔵弾性率、E''は損失弾性率と呼ばれる。δは応力と歪みとの位相差角を表し、“力学的損失角”と呼ばれるものである。
tanδ値は、式(7)の様にE''/E’で表され、“損失正弦”と呼ばれるものであり、その値が大きい程、その線形弾性体は、ゴム弾性を有するものとなる。
式(4) σ=|E*|γcos(ωt)
式(5) E’=|E*|cosδ
式(6) E”=|E*|sinδ
式(7) tanδ=E”/E’
tanδ値は、レオペクトラ−DVE−V4(レオロジ−(株)製)によって静止歪み5%、10Hz 正弦波引張加振を温度範囲−60℃以上100℃以下で測定した。
The glass transition temperature of the material of the first layer is determined as a peak temperature of tan δ (loss tangent) by measuring temperature dispersion with a viscoelasticity measuring device.
Here, the tan δ value is derived from the storage and loss modulus described below. When a linear elastic body is given a sinusoidal distortion in a steady-state vibration manner, the stress is expressed by equation (4). | E * | is called complex elastic modulus. Further, according to the theory of rheology, the elastic component is represented by the formula (5), and the viscous component is represented by the formula (6). Here, E ′ is called storage modulus, and E ′ ′ is called loss modulus. δ represents the phase difference angle between stress and strain, and is called “mechanical loss angle”.
The tan δ value is expressed by E ′ ′ / E ′ as in equation (7) and is called “loss sine”, and the larger the value, the more the linear elastic body has rubber elasticity. .
Equation (4) σ = | E * | γ cos (ωt)
Formula (5) E '= | E * | cos δ
Equation (6) E ′ ′ = | E * | sin δ
Formula (7) tan δ = E ′ ′ / E ′
The tan δ value was measured at a static strain of 5%, 10 Hz sine wave tensile excitation in a temperature range of −60 ° C. or more and 100 ° C. or less by Leopectra-DVE-V4 (manufactured by Rheology Co., Ltd.).

第一層の材料の反発弾性Rは、使用環境温度の実質的な下限値である温度10℃以上の環境下において、反発弾性Rは、10%以上であることが好ましく、15%以上がより好ましく、20%以上が更に好ましい。第一層の材料の反発弾性Rを10%以上とすると、スティック&スリップ挙動(電子写真感光体7の表面に対する第一層の付着及び滑りの繰り返しによって引き起こされる微視的な自励振動現象)が生じ易くなり、第一層の可塑変形が生じ難くなる。これにより、第一層と電子写真感光体7との密着性が向上し、クリーニング不良が発生が抑制され易くなる。反発弾性Rは、JISK6255(1996年)に準じて測定された値である。   The impact resilience R of the material of the first layer is preferably 10% or more, preferably 15% or more, under an environment at a temperature of 10 ° C. or higher, which is a substantially lower limit value of the operating environment temperature. Preferably, 20% or more is more preferable. Stick-and-slip behavior (microscopic self-excitation vibration phenomenon caused by repeated adhesion and sliding of the first layer to the surface of the electrophotographic photoreceptor 7) when the impact resilience R of the material of the first layer is 10% or more Is more likely to occur, and plastic deformation of the first layer is less likely to occur. Thereby, the adhesion between the first layer and the electrophotographic photosensitive member 7 is improved, and the occurrence of the cleaning failure is easily suppressed. The impact resilience R is a value measured according to JIS K 6255 (1996).

次に、式(1)〜(3)を満たす材料について説明する。
式(1)〜(3)を満たす材料は、エラストマー材料であれば特に限定されないが、ハードセグメントおよびソフトセグメントを含むエラストマー材料であることが特に好ましい。エラストマー材料が、ハードセグメントおよびソフトセグメントの双方を含むことにより、式(1)〜(3)に示す物性を満たすことが容易となり、耐磨耗性および耐欠け性の双方を、より高いレベルで両立し得るためである。
なお、「ハードセグメント」および「ソフトセグメント」とは、エラストマー材料中で、前者を構成する材料の方が、後者を構成する材料よりも相対的に硬い材料からなり、後者を構成する材料の方が前者を構成する材料よりも相対的に柔らかい材料からなるセグメントを意味する。
Next, materials satisfying the formulas (1) to (3) will be described.
Although the material which satisfy | fills Formula (1)-(3) will not be specifically limited if it is an elastomeric material, It is especially preferable that it is an elastomeric material containing a hard segment and a soft segment. By including both the hard segment and the soft segment, the elastomeric material can easily satisfy the physical properties shown in Formulas (1) to (3), and both wear resistance and chipping resistance can be achieved at a higher level. It is because it can be compatible.
In the “hard segment” and “soft segment”, in the elastomer material, the material constituting the former is relatively harder than the material constituting the latter, and the material constituting the latter is Means a segment made of a material softer than the material constituting the former.

ここで、ハードセグメントおよびソフトセグメントを含むエラストマー材料のガラス転移温度は、−50℃以上30℃以下の範囲内であることが好ましく、−30℃以上10℃以下の範囲内であることが好ましい。ガラス転移温度が30℃以下であると、クリーニングブレードを使用する実用温度域において脆化の発生が抑制され易くなる。また、ガラス転移温度が−50℃以上であると、実使用領域において十分な硬度、応力が得られ易くなる。
したがって、上記範囲のガラス転移温度を実現するためには、エラストマー材料のハードセグメントを構成する材料(以下、「ハードセグメント材料」と称す場合がある)のガラス転移温度は、30℃以上100℃以下の範囲内であることが好ましく、35℃以上60℃以下の範囲内であることがより好ましい。一方、ソフトセグメントを構成する材料(以下、「ソフトセグメント材料」と称す場合がある)のガラス転移温度は、−100℃以上−50℃以下の範囲内であることが好ましく、−90℃以上−60℃以下の範囲内であることがより好ましい。
Here, the glass transition temperature of the elastomeric material containing the hard segment and the soft segment is preferably in the range of −50 ° C. to 30 ° C., and more preferably in the range of −30 ° C. to 10 ° C. When the glass transition temperature is 30 ° C. or less, the occurrence of embrittlement tends to be suppressed in the practical temperature range in which the cleaning blade is used. In addition, when the glass transition temperature is -50 ° C or more, sufficient hardness and stress can be easily obtained in the practical use region.
Therefore, in order to realize the glass transition temperature in the above range, the glass transition temperature of the material constituting the hard segment of the elastomer material (hereinafter sometimes referred to as “hard segment material”) is 30 ° C. or more and 100 ° C. or less It is preferable to be in the range of 35.degree. C. to 60.degree. C. or less. On the other hand, the glass transition temperature of the material constituting the soft segment (hereinafter sometimes referred to as “soft segment material”) is preferably in the range of −100 ° C. or more and −50 ° C. or less, −90 ° C. or more It is more preferable to be in the range of 60 ° C. or less.

また、上記範囲のガラス転移温度を有するハードセグメント材料およびソフトセグメント材料を用いる場合、ハードセグメント材料およびソフトセグメント材料の総量に対するハードセグメントを構成する材料の質量比(以下、「ハードセグメント材料比」と称す場合がある)が46質量%以上96質量%以下の範囲内であることが好ましく、50質量%以上90質量%以下の範囲内であることがより好ましく、60質量%以上85質量%以下の範囲内であることが更に好ましい。
ハードセグメント材料比が、46質量%以上であると、第一層先端の耐磨耗性が確保され、磨耗の発生が抑制され易くなる。これにより、長期に渡って良好なクリーニング性が維持され易くなる。また、ハードセグメント材料比が96質量%以下であると、第一層先端が硬くなり過ぎず、柔軟性及び伸張性が得られ易くなる。これにより、欠けの発生が抑制され、長期に渡って良好なクリーニング性が維持され易くなる。
In addition, when hard segment material and soft segment material having a glass transition temperature in the above range are used, the mass ratio of the material constituting the hard segment to the total amount of hard segment material and soft segment material (hereinafter referred to as “hard segment material ratio” Is preferably in the range of 46% by mass to 96% by mass, more preferably in the range of 50% by mass to 90% by mass, and more preferably 60% by mass to 85% by mass More preferably, it is within the range.
When the hard segment material ratio is 46% by mass or more, the wear resistance of the front end of the first layer is ensured, and the occurrence of wear is easily suppressed. This makes it easy to maintain good cleanability over a long period of time. In addition, when the hard segment material ratio is 96 mass% or less, the tip of the first layer does not become too hard, and flexibility and extensibility are easily obtained. As a result, the occurrence of chipping can be suppressed, and good cleanability can be easily maintained over a long period of time.

ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との組み合わせとしては、特に限定されず、一方が他方に対して相対的に硬く、他方が一方に対して相対的に柔らかい組み合わせとなるように公知の樹脂材料から選択されるが、以下の組み合わせが好適である。
すなわち、ハードセグメント材料としては、ポリウレタン樹脂を用いることが好ましい。この場合のポリウレタン樹脂の重量平均分子量は、1000以上4000以下の範囲内であることが好ましく、1500以上3500以下の範囲内であることがより好ましい。
重量平均分子量が1000以上にすると、クリーニングブレード131が低温環境下で使用される場合にハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の弾性が失われ難くなる。これにより、クリーニング不良が抑制され易くなる。また、重量平均分子量が4000以下にすると、ハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の永久歪みが過剰に大きくなり難くなる。これにより、第一層先端が電子写真感光体7に対して接触圧力を保持し得るため、クリーニング不良が抑制され易くなる。
なお、ハードセグメント材料として用いられるポリウレタン樹脂としては、例えば、ダイセル化学社製、プラクセル205やプラクセル240などが挙げられる。
The combination of hard segment material and soft segment material is not particularly limited, and is selected from known resin materials such that one is relatively hard with respect to the other and the other is relatively soft with respect to the one. However, the following combinations are preferred.
That is, it is preferable to use a polyurethane resin as the hard segment material. The weight average molecular weight of the polyurethane resin in this case is preferably in the range of 1000 or more and 4000 or less, and more preferably in the range of 1500 or more and 3500 or less.
When the weight average molecular weight is 1000 or more, when the cleaning blade 131 is used in a low temperature environment, the elasticity of the polyurethane resin constituting the hard segment is unlikely to be lost. This makes it easy to suppress cleaning failure. In addition, when the weight average molecular weight is 4000 or less, the permanent deformation of the polyurethane resin constituting the hard segment is unlikely to be excessively large. As a result, since the front end of the first layer can hold the contact pressure with respect to the electrophotographic photosensitive member 7, the cleaning failure is easily suppressed.
Examples of the polyurethane resin used as the hard segment material include Plaxel 205 and Plaxel 240, etc., manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.

クリーニングブレード131の押し付け圧は、好ましくは1.7gf/mm以上6.5gf/mm以下、より好ましくは2.0gf/mm以上6.0gf/mm以下に設定される。押し付け圧が上記下限値以上であると、高硬度ブレードを用いた場合でもトナーのクリーニング不良が抑制され易くなる。押し付け圧を上記上限値以下であると、感光体との摩擦が高くなり過ぎず、トルク上昇、感光体磨耗、ブレードエッジの欠けによるスジの発生、感光体との摩擦によるゴーストの発生などが抑制され易くなる。   The pressing pressure of the cleaning blade 131 is preferably set to 1.7 gf / mm or more and 6.5 gf / mm or less, more preferably 2.0 gf / mm or more and 6.0 gf / mm or less. When the pressing pressure is equal to or more than the lower limit value, cleaning failure of the toner can be easily suppressed even when using a high hardness blade. If the pressing pressure is less than the above upper limit, the friction with the photosensitive member does not become too high, and the torque increase, the photosensitive member wear, the generation of streaks due to blade edge chipping, and the generation of ghost due to the frictional contact with the photosensitive member are suppressed. It becomes easy to do.

−転写装置−
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
-Transfer device-
The transfer device 40 may be, for example, a contact type transfer charger using a belt, a roller, a film, a rubber blade or the like, a scorotron transfer charger using corona discharge, a corotron transfer charger, etc. It can be mentioned.

−中間転写体−
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
-Intermediate transfer body-
As the intermediate transfer member 50, a belt-like member (intermediate transfer belt) containing semiconductive conductive polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber and the like is used. The intermediate transfer member may be in the form of a drum other than the belt.

図5は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図5に示す画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
FIG. 5 is a schematic configuration view showing another example of the image forming apparatus according to the present embodiment.
An image forming apparatus 120 shown in FIG. 5 is a tandem multicolor image forming apparatus in which four process cartridges 300 are mounted. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member is used for one color. The image forming apparatus 120 has the same configuration as that of the image forming apparatus 100 except that the image forming apparatus 120 is a tandem system.

なお、以上説明した本実施形態に係る画像形成装置(プロセスカートリッジ)は、上記構成に限られず、周知の構成を適用してもよい。   Note that the image forming apparatus (process cartridge) according to the present embodiment described above is not limited to the above configuration, and a known configuration may be applied.

以下実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described more specifically by the following examples, but the present invention is not limited thereto.

<感光体の作製>
[感光体(1)]
−下引層の作製−
酸化亜鉛:(平均粒子径70nm:テイカ社製:比表面積値15m/g)100質量部をトルエン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM503:信越化学工業社製)1.3質量部を添加し、2時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
表面処理を施した酸化亜鉛110質量部を500質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン0.6質量部を50質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、50℃にて5時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに60℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
<Production of Photoreceptor>
[Photosensitive body (1)]
-Preparation of undercoat layer-
Zinc oxide: (average particle diameter 70 nm: manufactured by Tayca: specific surface area 15 m 2 / g) 100 parts by mass is stirred and mixed with 500 parts by mass of toluene, and a silane coupling agent (KBM 503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.3 The parts were added and stirred for 2 hours. Thereafter, toluene was distilled off by distillation under reduced pressure, and baking was carried out at 120 ° C. for 3 hours to obtain a silane coupling agent surface-treated zinc oxide.
110 parts by mass of surface-treated zinc oxide was stirred and mixed with 500 parts by mass of tetrahydrofuran, and a solution of 0.6 parts by mass of alizarin dissolved in 50 parts by mass of tetrahydrofuran was added and stirred at 50 ° C. for 5 hours . Thereafter, the zinc oxide to which alizarin was imparted was separated by filtration under reduced pressure, and further dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain alizarin-added zinc oxide.

このアリザリン付与酸化亜鉛60質量部と硬化剤(ブロック化イソシアネート スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製):13.5質量部とブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学工業社製)15質量部とをメチルエチルケトン85質量部に溶解した溶液38質量部とメチルエチルケトン:25質量部とを混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート:0.005質量部、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製):40質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。
60 parts by mass of this alizarin-imparted zinc oxide and a curing agent (blocked isocyanate semidur 3175, manufactured by Sumitomo Bavaria Urethane Co., Ltd.): 13.5 parts by mass and 15 parts by mass of butyral resin (S-Lec BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) A solution of 38 parts by mass of methyl ethyl ketone dissolved in 85 parts by mass of methyl ethyl ketone and 25 parts by mass of methyl ethyl ketone were mixed, and dispersion was performed for 2 hours in a sand mill using 1 mmφ glass beads to obtain a dispersion.
Dioctyltin dilaurate as a catalyst: 0.005 parts by mass, and silicone resin particles (Tospearl 145, manufactured by Momentive Performance Materials): 40 parts by mass as a catalyst were added to the obtained dispersion, and a coating liquid for forming an undercoat layer was added. Obtained.

導電性基体として直径30mm、長さ340mm、肉厚1mmの円筒状アルミニウム基体を準備し、得られた下引層形成用塗布液を浸漬塗布法にて、円筒状アルミニウム基体上に塗布し、170℃、40分の乾燥硬化を行い、厚さ18.7μmの下引層を得た。   A cylindrical aluminum substrate having a diameter of 30 mm, a length of 340 mm and a thickness of 1 mm is prepared as a conductive substrate, and the obtained undercoat layer forming coating solution is applied onto the cylindrical aluminum substrate by dip coating. Drying curing was performed for 40 minutes at a temperature of 1 ° C. to obtain an undercoat layer having a thickness of 18.7 μm.

−電荷発生層の作製−
電荷発生物質としてのCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜,16.0゜,24.9゜,28.0゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン15質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10質量部、及びn−酢酸ブチル200質量部からなる混合物を、直径1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散した。得られた分散液にn−酢酸ブチル175質量部、及びメチルエチルケトン180質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。
得られた電荷発生層形成用塗布液を先に円筒状アルミニウム基体に形成した下引層上に浸漬塗布し、常温(25℃)で乾燥して、膜厚が0.2μmの電荷発生層を形成した。
-Preparation of charge generation layer-
The Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα characteristic X-ray as a charge generation material is at least 7.3 °, 16.0 °, 24.9 °, 28.0 ° A mixture comprising 15 parts by mass of hydroxygallium phthalocyanine having a diffraction peak in 10% by mass, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin (VMCH, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) as a binder resin, and 200 parts by mass of n-butyl acetate The mixture was dispersed for 4 hours with a sand mill using glass beads of 1 mm in diameter. 175 parts by mass of n-butyl acetate and 180 parts by mass of methyl ethyl ketone were added to the obtained dispersion, and the mixture was stirred to obtain a coating liquid for forming a charge generation layer.
The obtained coating solution for forming a charge generation layer was dip-coated on the undercoat layer previously formed on a cylindrical aluminum substrate, and dried at normal temperature (25 ° C.) to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm. It formed.

−電荷輸送層の作製−
まず、次のようにして、ポリカーボネート共重合体(1)を得た。
ホスゲン吹込管、温度計及び攪拌機を備えたフラスコに窒素雰囲気下にて1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(以下「Z」と称する)106.9g(0.398モル)、4,4’−ジヒドロキシビフェニル(以下「BP」と称する)24.7g(0.133モル)、ハイドロサルファイト0.41g、9.1%水酸化ナトリウム水溶液825ml(水酸化ナトリウム2.018モル)、塩化メチレン500mlを仕込んで溶解し、攪拌下18℃以上21℃以下の範囲に保持し、ホスゲン76.2g(0.770モル)を75分要して吹込みホスゲン化反応させた。ホスゲン化反応終了後p−tert−ブチルフェノール1.11g(0.0075モル)および25%水酸化ナトリウム水溶液54ml(水酸化ナトリウム0.266モル)を加え撹拌し、途中トリエチルアミン0.18mL(0.0013モル)を添加し、30℃以上35℃以下の温度で2.5時間反応させた。分離した塩化メチレン相を無機塩類及びアミン類がなくなるまで酸洗浄及び水洗した後、塩化メチレンを除去してポリカーボネート共重合体(1)を得た。このポリカーボネートは、ZとBPとの構成単位の比がモル比で75:25であった。
-Preparation of charge transport layer-
First, polycarbonate copolymer (1) was obtained as follows.
4, 10, 1 g (0.398 mol) of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (hereinafter referred to as "Z") under a nitrogen atmosphere in a flask equipped with a phosgene blowing tube, a thermometer and a stirrer 24.7 g (0.133 mol) of 4'-dihydroxybiphenyl (hereinafter referred to as "BP"), 0.41 g of hydrosulfite, 825 ml of a 9.1% aqueous solution of sodium hydroxide (2.018 mol of sodium hydroxide), chloride 500 ml of methylene was charged and dissolved, and the mixture was stirred and kept in the range of 18 ° C. or more and 21 ° C. or less, and 76.2 g (0.770 mol) of phosgene was blown for 75 minutes to cause phosgenation reaction. After completion of the phosgenation reaction, 1.11 g (0.0075 mol) of p-tert-butylphenol and 54 ml of a 25% aqueous sodium hydroxide solution (0.266 mol of sodium hydroxide) are added and stirred, while 0.18 mL (0.0013) of triethylamine is added. Mol) was added and reacted for 2.5 hours at a temperature of 30.degree. C. or more and 35.degree. C. or less. The separated methylene chloride phase was acid-washed and washed with water until inorganic salts and amines were eliminated, and then methylene chloride was removed to obtain a polycarbonate copolymer (1). In this polycarbonate, the molar ratio of Z to BP was 75:25.

次に、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)25質量部、下記構造式(A)で示される化合物20質量部、及び結着樹脂としてポリカーボネート共重合体(1)(粘度平均分子量:5万)55質量部をテトラヒドロフラン560質量部、トルエン240質量部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、135℃、45分の乾燥を行って膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。   Next, 25 parts by mass of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-[1,1 '] biphenyl-4,4'-diamine (TPD), the following structural formula (A) 20 parts by mass of a compound represented by the following formula, and 55 parts by mass of a polycarbonate copolymer (1) (viscosity average molecular weight: 50,000) as a binder resin are added to 560 parts by mass of tetrahydrofuran and 240 parts by mass of toluene and dissolved: A coating solution was obtained. The coating solution was applied onto the charge generation layer and dried at 135 ° C. for 45 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm.

−保護層の作製−
反応性電荷輸送材料(連鎖重合性電荷輸送材料)として「例示化合物(I−d)−28」 100質量部と、重合開始剤のVE−073(和光純薬工業(株)製)2質量部と、酸化防止剤「スミライザー MDP−S(住友化学(株)製)、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)」 5質量部と、酢酸イソブチル300質量部を混合し、室温で12時間撹拌撹拌混合して、保護層形成用塗布液を作製した。
-Preparation of protective layer-
100 parts by mass of “exemplified compound (I-d) -28” as a reactive charge transporting material (chain polymerizable charge transporting material) and 2 parts by mass of VE-073 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a polymerization initiator And 5 parts by mass of antioxidant "Sumilyzer MDP-S (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 2,2'-methylene bis (6-t-butyl-4-methylphenol)" and 300 parts by mass of isobutyl acetate The mixture was stirred and mixed at room temperature for 12 hours to prepare a coating solution for forming a protective layer.

次に、得られた保護層形成用塗布液を、先に円筒状アルミニウム基体上に形成した電荷輸送層上にリング塗布法によって、突き上げ速度180mm/minで塗布した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度200ppm以下の状態で、温度160±5℃、時間60分の硬化反応を実施し、保護層を形成した。保護層の膜厚は12μmであった。   Next, the obtained coating solution for forming a protective layer was coated on the charge transport layer previously formed on the cylindrical aluminum substrate by a ring coating method at a pushing speed of 180 mm / min. Thereafter, in a nitrogen dryer having an oximeter, a curing reaction was carried out at a temperature of 160 ± 5 ° C. for 60 minutes in a state of an oxygen concentration of 200 ppm or less to form a protective layer. The film thickness of the protective layer was 12 μm.

以上のようにして、感光体(1)を作製した。作製した感光体(1)を画像形成装置「富士ゼロックス社製(Docucentre−IV C2260)」に装着した。そして、画像形成装置により、図6に示す画像パターンを出力し、目的とする画像濃度の画像が得られることを確認する初期画質テストを実施した。   As described above, a photosensitive member (1) was produced. The produced photosensitive body (1) was attached to an image forming apparatus "Fuji Xerox Co., Ltd. (Docucentre-IV C2260)". Then, an image pattern shown in FIG. 6 was output by the image forming apparatus, and an initial image quality test was conducted to confirm that an image having a target image density can be obtained.

[感光体(2)〜(24)、参考感光体(R1)]
感光体(1)に記載の方法と同様にして、円筒状アルミニウム基体に下引層、電荷発生層、電荷輸送層を順次塗布により形成した。その後、表1に従って、保護層形成用塗布液の組成[反応性電荷輸送材料(表中「RCTM」と表記)の種類及び量、非反応性電荷輸送材料(表中「CTM」と表記)の種類及び量、酸化防止剤の種類及び量、並びに、添加剤の種類及び量]、及び保護層の厚みを変更した以外は、感光体(1)と同様に、保護層を形成し、感光体(2)〜(24)、参考感光体(R1)を作製した。そして、感光体(1)と同様にして、初期画質テストを実施した。
初期画質テストの結果、感光体(22)は、著しく濃度低下を発生し、膜厚12μmの保護層では感光体としての機能が果たせなかった。
なお、膜厚5μmの保護層を形成した参考感光体(R1)は、感光体(22)に対しては、摩耗率が小さく、長寿命化が可能であるが、保護層の厚膜化が可能な感光体(1)等の方がさらに長寿命化が可能である。
[Photoreceptors (2) to (24), Reference Photoreceptor (R1)]
In the same manner as in the method described for the photosensitive member (1), an undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer were sequentially formed on a cylindrical aluminum substrate by coating. Thereafter, according to Table 1, the composition of the coating solution for forming a protective layer [type and amount of reactive charge transport material (denoted as “RCTM” in the table), non-reactive charge transport material (denoted as “CTM” in the table) The protective layer is formed in the same manner as the photosensitive member (1) except that the type and amount of antioxidant, the type and amount of antioxidant, and the type and amount of additive] and the thickness of the protective layer are changed. (2) to (24), a reference photosensitive member (R1) was produced. Then, an initial image quality test was conducted in the same manner as in the photosensitive member (1).
As a result of the initial image quality test, the photosensitive member (22) remarkably lowered its density, and the protective layer with a film thickness of 12 μm could not fulfill its function as a photosensitive member.
The reference photoreceptor (R1) on which the protective layer of 5 μm thickness is formed has a smaller wear rate than the photosensitive body (22) and can extend its life, but the protective layer can be thickened. The life of the photosensitive member (1) etc. is further increased.

[比較例感光体(C1)]
感光体1に記載の方法と同様にして、円筒状アルミニウム基体に下引層、電荷発生層を順次塗布により形成した。
次いで、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1’]ビフェニル−4,4’−ジアミン(TPD)25質量部、構造式(A)で示される化合物20質量部、及び結着樹脂としてポリカーボネート共重合体(1)(粘度平均分子量:5万)55質量部、PTFE微粒子(ルブロンL−2、ダイキン社製)7.3質量部、フッ素樹脂(GF−400、東亜合成社製)0.35質量部、酸化防止剤「スミライザー MDP−S(住友化学(株)製)、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)」 5質量部を、テトラヒドロフラン560質量部、トルエン240質量部に加えて溶解し、高圧湿式メディアレス微粒化装置(ナノマイザーNMS−200ED、ナノマイザー社製)で分散処理を行い、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、135℃、45分の乾燥を行って膜厚が40μmの電荷輸送層を形成した。
以上のようにして、比較感光体(C1)を作製した。そして、感光体(1)と同様にして、初期画質テストを実施した。
[Comparative Example photoconductor (C1)]
In the same manner as in the method described for Photosensitive Member 1, a subbing layer and a charge generation layer were sequentially formed on a cylindrical aluminum substrate by coating.
Next, 25 parts by mass of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-[1,1 '] biphenyl-4,4'-diamine (TPD), shown by the structural formula (A) 20 parts by weight of the compound to be used, and 55 parts by weight of a polycarbonate copolymer (1) (viscosity average molecular weight: 50,000) as a binder resin, 7.3 parts by weight of PTFE fine particles (Lublon L-2, manufactured by Daikin), fluorocarbon resin (GF-400, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 0.35 parts by mass, antioxidant "Sumilyzer MDP-S (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 2,2'-methylene bis (6-t-butyl-4-methylphenol) 5 parts by mass is dissolved in 560 parts by mass of tetrahydrofuran and 240 parts by mass of toluene and dissolved, and dispersion treatment is performed with a high-pressure wet medialess atomization device (Nanomizer NMS-200ED, manufactured by Nanomizer Inc.), A charge transport layer coating solution was obtained. The coating solution was applied onto the charge generation layer and dried at 135 ° C. for 45 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 40 μm.
The comparative photoreceptor (C1) was produced as described above. Then, an initial image quality test was conducted in the same manner as in the photosensitive member (1).

[比較例感光体(C2)]
感光体(1)に記載の方法と同様にして、円筒状アルミニウム基体に下引層、電荷発生層、電荷輸送層を順次塗布により形成した。その後、酸化防止剤「スミライザー MDP−S(住友化学(株)製)、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)」を使用しない以外は、感光体(1)と同様して、保護層を形成し、比較感光体(C2)を作製した。そして、感光体(1)と同様にして、初期画質テストを実施した。
[Comparative Example photoconductor (C2)]
In the same manner as in the method described for the photosensitive member (1), an undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer were sequentially formed on a cylindrical aluminum substrate by coating. Thereafter, the photosensitive member (1) is used except that the antioxidant "Sumilyzer MDP-S (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 2,2'-methylenebis (6-t-butyl-4-methylphenol)" is not used. Similarly, a protective layer was formed, and a comparative photosensitive member (C2) was produced. Then, an initial image quality test was conducted in the same manner as in the photosensitive member (1).

<トナー粒子の作製>
[シアン色(C色)のトナー粒子(1)の作製]
−結晶性ポリエステル樹脂(1)の合成−
加熱乾燥した3口フラスコに、エチレングリコール124質量部、5−スルホイソフタル酸ナトリウムジメチル22.2質量部、セバシン酸ジメチル213質量部、と触媒としてジブチル錫オキサイド0.3質量部を入れた後、減圧操作により容器内の空気を窒素ガスにより不活性雰囲気下とし、機械攪拌にて180℃で5時間攪拌を行った。その後、減圧下にて220℃まで徐々に昇温を行い4時間攪拌し、粘稠な状態となったところで空冷し、反応を停止させ、結晶性ポリエステル樹脂(1)220質量部を合成した。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる分子量測定(ポリスチレン換算)で、得られた結晶性ポリエステル樹脂(1)の重量平均分子量(M)は19000であり、数平均分子量(M)は5800であった。
また、結晶性ポリエステル樹脂(1)の融点(Tm)を、前述の測定方法により、示差走査熱量計(DSC)を用いて測定したところ、明確なピークを有し、ピークトップの温度は70℃であった。
<Preparation of Toner Particles>
[Production of cyan (C) toner particles (1)]
-Synthesis of crystalline polyester resin (1)-
After 124 parts by mass of ethylene glycol, 22.2 parts by mass of dimethyl 5-sulfoisophthalate, 213 parts by mass of dimethyl sebacate and 0.3 parts by mass of dibutyltin oxide as a catalyst are put into a heat-dried three-necked flask, The air in the container was brought into an inert atmosphere with nitrogen gas by a pressure reduction operation, and stirring was performed at 180 ° C. for 5 hours by mechanical stirring. Thereafter, the temperature was gradually raised to 220 ° C. under reduced pressure and the mixture was stirred for 4 hours. When it became viscous, air cooling was performed to stop the reaction, and 220 parts by mass of crystalline polyester resin (1) was synthesized.
In gel permeation chromatography molecular weight measurement by (in terms of polystyrene), the weight average molecular weight of the resulting crystalline polyester resin (1) (M W) is 19000, the number average molecular weight (M n) was 5800.
Further, the melting point (Tm) of the crystalline polyester resin (1) is measured using a differential scanning calorimeter (DSC) by the above-mentioned measuring method, and it has a clear peak, and the temperature of the peak top is 70 ° C. Met.

−樹脂分散液(1)の調製−
結晶性ポリエステル樹脂(1)150質量部を蒸留水850質量部中に入れ、80℃に加熱しながらホモジナイザー(IKAジャパン社製:ウルトラタラクス)にて混合攪拌して、樹脂粒子分散液(1)を得た。次いで、フタロシアニン顔料250質量部(大日精化(株)製:PV FAST BLUE)、アニオン界面活性剤20質量部(第一工業製薬(株)社製:ネオゲンRK)、イオン交換水700質量部を混合し、溶解させた後、ホモジナイザー(IKA社製:ウルトラタラクス)を用いて分散し、着色剤(フタロシアニン顔料)を分散させてなる着色剤分散液(1)を調製した。
-Preparation of resin dispersion (1)-
150 parts by mass of the crystalline polyester resin (1) is put in 850 parts by mass of distilled water, mixed and stirred by a homogenizer (UltraTaracus manufactured by IKA Japan Co., Ltd.) while heating to 80 ° C., resin particle dispersion (1 Got). Next, 250 parts by mass of phthalocyanine pigment (Dainichi Seika Co., Ltd. product: PV FAST BLUE), 20 parts by mass of anionic surfactant (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. product: Neogen RK), 700 parts by mass of ion exchanged water After mixing and dissolving, they were dispersed using a homogenizer (manufactured by IKA: Ultra-Taracus) to prepare a colorant dispersion liquid (1) in which the colorant (phthalocyanine pigment) is dispersed.

−凝集粒子の調製―
樹脂粒子分散液(1)2400質量部、着色剤分散液(1)100質量部、離型剤粒子分散液63質量部、硫酸アルミニウム6質量部(和光純薬工業社製)、イオン交換水100質量部、を丸型ステンレス製フラスコ中に収容させ、pH2.0に調整した後、ホモジナイザー(IKA社製:ウルトラタラックスT50)を用いて分散させた後、加熱用オイルバス中で60℃まで攪拌しながら加熱した。60℃で2時間保持した後、光学顕微鏡にて観察すると、平均粒径が約4.3μmである凝集粒子が形成されていることが確認された。更に1時間、60℃で加熱攪拌を保持した後、光学顕微鏡にて観察すると、体積平均粒径が4.4μmである凝集粒子が形成されていることが確認された。
この凝集粒子液のpHは2.4であった。そこで炭酸ナトリウム(和光純薬工業社製)を0.5質量%に希釈した水溶液を穏やかに添加し、pHを5.0に調整した後、攪拌を継続しながら75℃まで加熱し、3時間保持した。
その後、反応生成物をろ過し、イオン交換水で十分に洗浄した後、真空乾燥機を用いて乾燥させることにより、シアン色のトナー粒子(1)を得た。得られたシアン色のトナー粒子トナーの融点は65℃であった。
得られたシアン色のトナー粒子(1)は、体積平均粒径=4.5μm、形状係数SF1=133であった。
-Preparation of aggregated particles-
Resin particle dispersion (1) 2400 parts by mass, colorant dispersion (1) 100 parts by mass, release agent particle dispersion liquid 63 parts by mass, aluminum sulfate 6 parts by mass (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), ion-exchanged water 100 The mass part is contained in a round stainless steel flask, adjusted to pH 2.0, dispersed using a homogenizer (manufactured by IKA: Ultra-Tarlax T50), and heated to 60 ° C. in a heating oil bath Heated while stirring. After holding at 60 ° C. for 2 hours, observation with an optical microscope confirmed that aggregated particles having an average particle diameter of about 4.3 μm were formed. After further heating and stirring at 60 ° C. for 1 hour, observation with an optical microscope confirmed that aggregated particles having a volume average particle diameter of 4.4 μm were formed.
The pH of this aggregated particle liquid was 2.4. Therefore, an aqueous solution of sodium carbonate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) diluted to 0.5% by mass is gently added to adjust the pH to 5.0, and then heated to 75 ° C. while continuing the stirring for 3 hours I kept it.
Thereafter, the reaction product is filtered, sufficiently washed with ion exchange water, and dried using a vacuum drier to obtain cyan toner particles (1). The melting point of the cyan toner particle was 65.degree.
The obtained cyan toner particles (1) had a volume average particle diameter of 4.5 μm and a shape factor SF1 of 133.

[イエロー色(Y色)のトナー粒子(1)]
シアン色のトナー粒子(1)の作製において、フタロシアニン顔料の代わりにイエロ−アゾ顔料を使用した以外は、同様の処方で、イエロー色(Y色)のトナー粒子(1)を得た。
[Yellow (Y) toner particles (1)]
A yellow (Y) toner particle (1) was obtained with the same formulation except that a yellow-azo pigment was used instead of the phthalocyanine pigment in the preparation of the cyan toner particle (1).

[マゼンタ色(M色)のトナー粒子(1)]
シアン色のトナー粒子(1)の作製において、フタロシアニン顔料の代わりにキナクリドン顔料を使用した以外は、同様の処方で、マゼンタ色(M色)のトナー粒子(1)を得た。
[Magenta (M) toner particles (1)]
A magenta (M) toner particle (1) was obtained by the same formulation except that a quinacridone pigment was used instead of the phthalocyanine pigment in the preparation of the cyan toner particle (1).

[ブラック色(K色)のトナー粒子(1)]
シアン色のトナー粒子(1)の作製において、フタロシアニン顔料の代わりにカーボンブラックを使用した以外は、同様の処方で、ブラック色(K色)のトナー粒子(1)を得た。
[Black (K) toner particles (1)]
A black (K) toner particle (1) was obtained by the same formulation, except that carbon black was used instead of the phthalocyanine pigment in the preparation of the cyan toner particle (1).

<現像剤の作製>
[現像剤1]
得られた4色の各トナー粒子(1)100質量部に、外添剤として、ヘキサメチルジシラザン処理したシリカ粒子(体積平均粒径40nm)0.5質量部と、メタチタン酸にイソブチルトリメトキシシラン50%処理後に焼成して得られたチタン化合物粒子(体積平均粒径30nm)0.7質量部と、脂肪酸金属塩粒子としてのステアリン酸亜鉛粒子(ニッサンエレクトールMZ−2、体積基準によるメディアン径1.5μm、日油社製)0.18質量部と、を75Lヘンシェルミキサーにて10分間混合し、その後、風力篩分機ハイボルター300(東洋ハイテック社製)にて篩分し、4色の各トナー(1)を各々作製した。
<Preparation of developer>
[Developer 1]
100 parts by mass of the obtained four color toner particles (1), 0.5 parts by mass of silica particles (volume average particle diameter 40 nm) treated with hexamethyldisilazane as an external additive, and isobutyltrimethoxy in metatitanic acid 0.7 parts by mass of titanium compound particles (volume average particle diameter 30 nm) obtained by firing after 50% treatment with silane and zinc stearate particles as fatty acid metal salt particles (Nissan Electol MZ-2, median based on volume) 0.18 parts by weight of 1.5 μm in diameter, manufactured by NOF Corporation, is mixed for 10 minutes with a 75 L Henschel mixer, and then sifted with a wind screen sieving machine Hi-Bolter 300 (manufactured by Toyo Hitech Co., Ltd.) to obtain 4 colors Each toner (1) was produced separately.

次に、フェライトコア100質量部に対して、弗化ビニリデン0.15質量部と、メチルメタアクリレート及びトリフロロエチレンの共重合体(重合比80:20)樹脂1.35質量部との混合物を用いて、ニーダー装置により、平均粒径50μmのフェライトコアに樹脂被覆(コーティング)を行って、キャリアを作製した。   Next, a mixture of 0.15 parts by mass of vinylidene fluoride and 1.35 parts by mass of a copolymer of methyl methacrylate and trifluoroethylene (polymerization ratio 80: 20) with 100 parts by mass of the ferrite core is prepared. Using a kneader, a ferrite core having an average particle diameter of 50 μm was resin-coated (coated) to prepare a carrier.

そして、得られた4色の各トナー(1): 8質量部と、得られたキャリア 100質量部とを2リッターのVブレンダーで混合し、4色の現像剤を各々を作製した。得られた4色の現像剤のセットを現像剤(1)とした。   Then, 8 parts by mass of each of the obtained four toners (1) and 100 parts by mass of the obtained carrier were mixed in a 2-liter V blender to prepare four color developers. A set of the obtained four color developers was used as a developer (1).

[現像剤2]
4色の各トナー(1)の作製において、ステアリン酸亜鉛粒子の量を0.18質量部から0.12質量部に変更した以外は、4色の各トナー(1)と同様にして、4色の各トナー(2)を各々作製した。
そして、4色の各トナー(1)に代えて、得られた4色の各トナー(2)を用いた以外は、現像剤(1)と同様にして、現像剤(2)を作製した。
[Developer 2]
In the preparation of each of the four color toners (1), in the same manner as each of the four color toners (1) except that the amount of zinc stearate particles was changed from 0.18 parts by mass to 0.12 parts by mass, 4 Each color toner (2) was prepared.
Then, a developer (2) was produced in the same manner as the developer (1) except that the obtained four toners (2) were used instead of the four toners (1).

[現像剤3]
4色の各トナー(1)の作製において、ステアリン酸亜鉛粒子の量を0.18質量部から0.03質量部に変更した以外は、4色の各トナー(1)と同様にして、4色の各トナー(3)を各々作製した。
そして、4色の各トナー(1)に代えて、得られた4色の各トナー(3)を用いた以外は、現像剤(1)と同様にして、現像剤(3)を作製した。
[Developer 3]
In the preparation of each of the four color toners (1), in the same manner as each of the four color toners (1), except that the amount of zinc stearate particles was changed from 0.18 parts by mass to 0.03 parts by mass, 4 Color toners (3) were prepared respectively.
Then, a developer (3) was produced in the same manner as the developer (1) except that the obtained four toners (3) were used instead of the four toners (1).

[現像剤4]
4色の各トナー(1)の作製において、ステアリン酸亜鉛粒子(ニッサンエレクトールMZ−2、体積基準によるメディアン径1.5μm、日油社製)に代えて、ステアリン酸亜鉛粒子(ジンクステアレートS、体積基準によるメディアン径12μm、日油社製)を用いた以外は、4色の各トナー(1)と同様にして、4色の各トナー(4)を各々作製した。
そして、4色の各トナー(1)に代えて、得られた4色の各トナー(4)を用いた以外は、現像剤(1)と同様にして、現像剤(4)を作製した。
[Developer 4]
Zinc stearate particles (zinc stearate) in place of zinc stearate particles (Nissan Electol MZ-2, median diameter 1.5 μm by volume, manufactured by NOF Corporation) in the preparation of each toner (1) of four colors Each of the four color toners (4) was prepared in the same manner as the four color toners (1) except that S and a median diameter 12 μm based on volume, manufactured by NOF Corporation, were used.
Then, a developer (4) was produced in the same manner as the developer (1) except that the obtained four toners (4) were used instead of the four toners (1).

[現像剤5]
4色の各トナー(1)の作製において、ステアリン酸亜鉛粒子を加えなかった以外は、4色の各トナー(1)と同様にして、4色の各トナー(5)を各々作製した。
そして、4色の各トナー(1)に代えて、得られた4色の各トナー(5)を用いた以外は、現像剤(1)と同様にして、現像剤(5)を作製した。
[Developer 5]
In the preparation of each of the four toners (1), each of the four toners (5) was prepared in the same manner as the four toners (1) except that zinc stearate particles were not added.
Then, a developer (5) was produced in the same manner as the developer (1) except that the obtained four toners (5) were used instead of the four toners (1).

[現像剤6]
4色の各トナー(1)の作製において、ステアリン酸亜鉛粒子の量を0.18質量部から0.25質量部に変更した以外は、4色の各トナー(1)と同様にして、4色の各トナー(6)を各々作製した。
そして、4色の各トナー(1)に代えて、得られた4色の各トナー(6)を用いた以外は、現像剤(1)と同様にして、現像剤(6)を作製した。
[Developer 6]
In the preparation of each of the four color toners (1), in the same manner as each of the four color toners (1) except that the amount of zinc stearate particles was changed from 0.18 parts by mass to 0.25 parts by mass, 4 Color toners (6) were prepared respectively.
Then, a developer (6) was produced in the same manner as the developer (1) except that the obtained four toners (6) were used instead of the four toners (1).

[現像剤7]
4色の各トナー(1)の作製において、ステアリン酸亜鉛粒子の量を0.18質量部から0.06質量部に変更した以外は、4色の各トナー(1)と同様にして、4色の各トナー(7)を各々作製した。
そして、4色の各トナー(1)に代えて、得られた4色の各トナー(7)を用いた以外は、現像剤(1)と同様にして、現像剤(7)を作製した。
[Developer 7]
In the preparation of each of the four color toners (1), in the same manner as each of the four color toners (1) except that the amount of zinc stearate particles was changed from 0.18 parts by mass to 0.06 parts by mass, 4 Color toners (7) were prepared respectively.
Then, a developer (7) was produced in the same manner as the developer (1) except that the obtained four toners (7) were used instead of the four toners (1).

[現像剤8]
4色の各トナー(1)の作製において、ステアリン酸亜鉛粒子(ニッサンエレクトールMZ−2、体積基準によるメディアン径1.5μm、日油社製)に代えて、ステアリン酸亜鉛粒子(ステアリン酸亜鉛FP、体積基準によるメディアン径5.5μm、日油社製)を用いた以外は、4色の各トナー(1)と同様にして、4色の各トナー(8)を各々作製した。
そして、4色の各トナー(1)に代えて、得られた4色の各トナー(8)を用いた以外は、現像剤(1)と同様にして、現像剤(8)を作製した。
[Developer 8]
Zinc stearate particles (zinc stearate) in place of zinc stearate particles (Nissan Electol MZ-2, median diameter 1.5 μm by volume, manufactured by NOF Corporation) in the preparation of each of the four color toners (1) Four toners (8) were produced in the same manner as the four toners (1), respectively, except that FP, a median diameter of 5.5 μm based on volume, manufactured by NOF Corporation were used.
Then, a developer (8) was produced in the same manner as the developer (1) except that the obtained four toners (8) were used instead of the four toners (1).

[現像剤9]
4色の各トナー(1)の作製において、ステアリン酸亜鉛粒子(ニッサンエレクトールMZ−2、体積基準によるメディアン径1.5μm、日油社製)に代えて、ステアリン酸亜鉛粒子(ステアリン酸亜鉛FP、体積基準によるメディアン径5.5μm、日油社製)を用い、ステアリン酸亜鉛粒子の量を0.18質量部から0.005質量部に変更した以外は、4色の各トナー(1)と同様にして、4色の各トナー(9)を各々作製した。
そして、4色の各トナー(1)に代えて、得られた4色の各トナー(9)を用いた以外は、現像剤(1)と同様にして、現像剤(9)を作製した。
[Developer 9]
Zinc stearate particles (zinc stearate) in place of zinc stearate particles (Nissan Electol MZ-2, median diameter 1.5 μm by volume, manufactured by NOF Corporation) in the preparation of each of the four color toners (1) Each toner of four colors except for the amount of zinc stearate particles changed from 0.18 parts by mass to 0.005 parts by mass using FP, a median diameter based on volume, 5.5 μm, manufactured by NOF Corporation In the same manner as in the above, four toners (9) were prepared.
Then, a developer (9) was produced in the same manner as the developer (1) except that the obtained four toners (9) were used instead of the four toners (1).

<クリーニングブレードの作製>
[クリーニングブレード(1)]
はじめに、第一層用の部材を以下のようにして形成した。
まず、ポリオール成分として、ポリカプロラクトンポリオール(ダイセル化学社製、プラクセル205、平均分子量529、水酸基価212KOHmg/g)及びポリカプロラクトンポリオール(ダイセル化学社製、プラクセル240、平均分子量4155、水酸基価27KOHmg/g)とからなるハードセグメント材料と、2つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂(綜研化学社製、アクトフローUMB−2005B)からなるソフトセグメント材料とを、8:2(質量比)の割合で混合した。
<Preparation of Cleaning Blade>
[Cleaning blade (1)]
First, a member for the first layer was formed as follows.
First, as a polyol component, polycaprolactone polyol (manufactured by Daicel Chemical Industries, Plaxel 205, average molecular weight 529, hydroxyl value 212 KOHmg / g) and polycaprolactone polyol (manufactured by Daicel Chemical Co., Plaxel 240, average molecular weight 4155, hydroxyl number 27 KOHmg / g And a soft segment material composed of an acrylic resin (Atoflow UMB-2005B, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) containing two or more hydroxyl groups in a ratio of 8: 2 (mass ratio) did.

次に、このハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合物100部に対して、イソシアネート化合物として4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(日本ポリウレタン工業社製、ミリオネートMT、以下「MDI」という)を6.26部加えて、窒素雰囲気下で、70℃で3時間反応させた。なお、この反応で使用したイソシアネート化合物量は、反応系に含まれる水酸基に対するイソシアネート基の比(イソシアネート基/水酸基)が0.5となるように選択したものである。
続いて、上記イソシアネート化合物を更に34.3部加え、窒素雰囲気下で、70℃で3時間反応させて、プレポリマーを得た。
なお、プレポリマーの使用に際して利用したイソシアネート化合物の全量は40.56部である。
Next, with respect to 100 parts of a mixture of the hard segment material and the soft segment material, as an isocyanate compound, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Millionate MT, hereinafter referred to as “MDI”) is 6.26. A portion was added and allowed to react at 70 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. The amount of isocyanate compound used in this reaction is selected such that the ratio of isocyanate group to hydroxyl group (isocyanate group / hydroxyl group) contained in the reaction system is 0.5.
Subsequently, 34.3 parts of the above isocyanate compound was further added, and the mixture was reacted at 70 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere to obtain a prepolymer.
In addition, the total amount of the isocyanate compound utilized in using the prepolymer is 40.56 parts.

次に、このプレポリマーを100℃に昇温し、減圧下で1時間脱泡した後、プレポリマー100部に対して、1,4−ブタンジオールとトリメチロールプロパンとの混合物(質量比=60/40)を7.14部加え、3分間泡を巻き込まないように充分に混合し、第一層形成用組成物A1を調製した。   Next, this prepolymer is heated to 100 ° C. and degassed for 1 hour under reduced pressure, and then a mixture of 1,4-butanediol and trimethylolpropane (mass ratio = 60 per 100 parts of prepolymer). 7.14 parts of / 40) were added, and thoroughly mixed so as not to cause bubbles for 3 minutes, to prepare a composition for forming a first layer A1.

次いで、140℃に金型を調整した遠心成形機に上記第一層形成用組成物A1を流し込み、1時間硬化反応させ、平板状の第一層を形成した。   Subsequently, the composition A1 for forming the first layer was poured into a centrifugal molding machine whose mold was adjusted to 140 ° C., and curing reaction was performed for 1 hour to form a flat first layer.

一方、第二層用の部材として以下の方法により調製した第二層形成用組成物A1を準備した。
脱水処理したポリテトラメチルエーテルグリコールに、ジフェニルメタン−4,4−ジイソシアネートを混入し120℃で15分反応させ、生成したプレポリマーに硬化剤として1,4−ブタジオールおよびトリメチロールプロパンを併用したものを用いた。
On the other hand, a composition for forming a second layer A1 prepared by the following method as a member for the second layer was prepared.
Diphenylmethane-4,4-diisocyanate is mixed with dehydrated polytetramethylether glycol and reacted at 120 ° C for 15 minutes, and the formed prepolymer is used in combination with 1,4-butadiol and trimethylolpropane as a curing agent. Using.

次に、前述の通り第一層を平板状に形成した後の遠心成形機に、第二層形成用の組成物A1を流し込み、硬化させることによって行い、第一層の背面に第二層を形成した。   Next, the composition A1 for forming the second layer is poured into a centrifugal molding machine after forming the first layer in a flat plate shape as described above, and cured, and the second layer is formed on the back surface of the first layer. It formed.

そして、得られた第一層の背面に第二層を形成した平板を110℃で24時間架橋後冷却し、目的とする寸法にカットして、第一層厚さ0.5mm、第二層厚さ1.5mm(全体の厚さに対するの厚さ割合25%)のクリーニングブレード(1)を得た。
なお、第一層単層での物性を測定したところ、次のとおりであった。
・100%モジュラスM=7.4MPa
・α=0.09(MPa/%)
・破断伸びS=535%
・反発弾性R=35%
・ガラス転移温度Tg=−8℃であった。
Then, the flat plate having the second layer formed on the back surface of the first layer obtained is crosslinked after being crosslinked for 24 hours at 110 ° C., cooled, and cut into the desired dimensions, the first layer thickness 0.5 mm, the second layer A cleaning blade (1) having a thickness of 1.5 mm (thickness ratio of 25% of the total thickness) was obtained.
In addition, when the physical property in a 1st layer single layer was measured, it was as follows.
· 100% modulus M = 7.4 MPa
· Α = 0.09 (MPa /%)
· Elongation at break S = 535%
· Rebound resilience R = 35%
Glass transition temperature Tg = -8 ° C.

<実施例1〜27、比較例1〜9>
表2に従った組合せで、感光体、現像剤、及びクリーニングブレードを、接触帯電方式の帯電装置を備えた画像形成装置(富士ゼロックス社製「Docucentre−IV C2260」)に装着した。この画像形成装置を実施例1〜27、比較例1〜9の画像形成装置とした。
<Examples 1 to 27, Comparative Examples 1 to 9>
The photoreceptor, the developer, and the cleaning blade were mounted on an image forming apparatus ("Docucentre-IV C2260" manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd.) equipped with a charging device of a contact charging type in the combination according to Table 2. This image forming apparatus was used as the image forming apparatus of Examples 1 to 27 and Comparative Examples 1 to 9.

<評価>
各例の画像形成装置により、図6に示す画像パターンをA4用紙に出力し、目的とする画像濃度の画像が得られることを確認する初期画質テストを実施した。
次に、図6に示す画像パターンをA4用紙に連続3枚出力するジョブパターンで、1)常温常湿(温度20℃、湿度50%RH)で70,000枚(感光体200,000回転(サイクル:cycle)に相当)、2)低温低湿(温度10℃、湿度15%RH)で70,000枚、3)高温高湿(温度29℃、湿度85%RH)で70,000枚、各々出力する出力テストを実施した。この画像パターンの出力は、A4用紙[富士ゼロックス製P紙]の短手方向搬送で実施した。
<Evaluation>
The image forming apparatus shown in each example outputs the image pattern shown in FIG. 6 to an A4 sheet, and an initial image quality test is performed to confirm that an image having a target image density can be obtained.
Next, a job pattern for continuously outputting three sheets of the image pattern shown in FIG. 6 onto A4 paper is as follows: 1) 70,000 sheets (photosensitive member 200,000 rotations (at a temperature of 20 ° C., humidity 50% RH) 2) 70,000 sheets at low temperature and low humidity (temperature 10 ° C, humidity 15% RH) 3) 70,000 sheets at high temperature and humidity (temperature 29 ° C, humidity 85% RH) The output test to output was carried out. The output of this image pattern was carried out in the short direction conveyance of A4 paper [P paper made by Fuji Xerox].

各環境での出力テスト終了ごとに、1)感光体の電気特性の評価、2)感光体の平均摩耗率(nm/1000回転)、最大摩耗率(nm/1000回転)、及び最小摩耗率(nm/1000回転)の測定、3)クリーニングブレードの摩耗断面積(μm)の評価、4)クリーニングブレードの欠けの評価、5)画質の評価、6)外添剤すり抜けの評価を行った。 At the end of each output test in each environment, 1) evaluation of the electrical characteristics of the photoreceptor, 2) average wear rate of the photoreceptor (nm / 1000 rotations), maximum wear rate (nm / 1000 rotations), and minimum wear rate ( 3) Evaluation of wear cross section (μm 2 ) of cleaning blade, 4) Evaluation of chipping of cleaning blade, 5) Evaluation of image quality, and 6) Evaluation of external additive slip through.

(感光体の電気特性)
感光体の電気特性は、除電した後の残留電位(Rp)を表面電位計(トレック社製、トレック334)を用いて、測定対象の領域に表面電位プローブを設けて(電子写真感光体の表面から1mm離れた位置)測定し、初期の残留電位と各環境50,000枚プリント後の残留電位との差(ΔRp)を算出した。そして、残留電位について、以下の評価基準で評価した。
A+: 20V未満
A : 20V以上50V未満
B : 50V以上80V未満
C : 80V以上
(Electrical characteristics of photoreceptor)
The electrical characteristics of the photosensitive member are determined by providing a surface potential probe in the area to be measured using the surface potential meter (TREK 334, manufactured by Trek Co., Ltd.) after removing the residual charge (the surface of the electrophotographic photosensitive member 1), and the difference (ΔRp) between the initial residual potential and the residual potential after printing of 50,000 sheets in each environment was calculated. And about the residual potential, it evaluated by the following evaluation criteria.
A +: Less than 20 V A: 20 V or more and less than 50 V B: 50 V or more and less than 80 V C: 80 V or more

(感光体の摩耗率)
感光体の平均摩耗率、感光体の最大摩耗率、感光体の最小摩耗率は、既述の方法によって測定した。表中、単位「(nm/1000回転)」については、省略して示す。なお、各表中における各摩耗率の表記は、次の通りである。
・「Wm」: 常温常湿環境での感光体の平均摩耗率
・「Wmmax」:常温常湿環境での感光体の最大摩耗率
・「Wmmin」:常温常湿環境での感光体の最小摩耗率
・「Wl」: 低温低湿環境での感光体の平均摩耗率
・「Wlmax」:低温低湿環境での感光体の最大摩耗率
・「Wlmin」:低温低湿環境での感光体の最小摩耗率
・「Wh」: 高温高湿環境での感光体の平均摩耗率
・「Whmax」:高温高湿環境での感光体の最大摩耗率
・「Whmin」:高温高湿環境での感光体の最小摩耗率
(Abrasion rate of photoreceptor)
The average wear rate of the photosensitive member, the maximum wear rate of the photosensitive member, and the minimum wear rate of the photosensitive member were measured by the methods described above. In the table, the unit "(nm / 1000 rotation)" is omitted. The notation of each wear rate in each table is as follows.
・ “Wm”: Average wear rate of photoreceptor at normal temperature and humidity environment ・ “Wmmax”: Maximum wear rate of photoreceptor at normal temperature and humidity environment ・ “Wmmin”: Minimum wear of photoreceptor at normal temperature and humidity environment Rate · "Wl": Average wear rate of photoreceptor in low temperature and low humidity environment · "Wlmax": Maximum wear rate of photoreceptor in low temperature and low humidity environment · "Wlmin": Minimum wear rate of photoreceptor in low temperature and low humidity environment · "Wh": Average wear rate of photoreceptor at high temperature and high humidity environment "Whmax": Maximum wear rate of photoreceptor at high temperature and high humidity environment "Whmin": Minimum wear rate of photoreceptor at high temperature and high humidity environment

(クリーニングブレードの摩耗断面積)
クリーニングブレードが感光体に接する部分をレーザー顕微鏡にて観察し、摩耗断面積を測定した。この摩耗断面積は、初期のブレードが感光体に接する部分の断面積から出力テスト後の摩耗断面積を差し引いた面積として求めた。そして、クリーニングブレードの摩耗断面積について、以下の評価基準で評価した。
A+: 10μm未満
A : 10μm以上20μm未満
B : 20μm以上40μm未満
C : 40μm以上
(Abrasion cross section of cleaning blade)
The portion of the cleaning blade in contact with the photosensitive member was observed with a laser microscope to measure the wear cross-sectional area. The wear cross-sectional area was determined as the area obtained by subtracting the wear cross-sectional area after the output test from the cross-sectional area of the portion where the initial blade contacts the photosensitive member. And the following evaluation criteria evaluated about the wear cross-sectional area of the cleaning blade.
A +: less than 10μm 2 A: 10μm 2 or more 20 [mu] m 2 less B: less 20 [mu] m 2 or more 40μm 2 C: 40μm 2 or more

(クリーニングブレードの欠け)
各環境での出力テスト終了後、更に、画像濃度30%のべた画像をA4用紙に1枚出力し、画像上のスジの発生状況を観察した。そして、クリーニングブレードの欠けについて、以下の評価基準で評価した。
A+: スジ発生なし
A : 3本以下の軽微なスジが発生
B : 3本超え10本未満のスジが発生
C : 10本以上の明瞭なスジが発生
(Missing of cleaning blade)
After the output test in each environment, one solid image with an image density of 30% was further output to A4 paper, and the occurrence of streaks on the image was observed. And the following evaluation criteria evaluated about the crack of the cleaning blade.
A +: no streaks generated A: minor streaks of 3 or less were generated B: streaks of more than 3 and less than 10 were generated C: clear streaks of 10 or more were generated

(画質)
各環境での出力テスト終了後、更に、画像濃度30%のべた画像をA4用紙に1枚出力し、得られた画像を観察し、画像流れ、濃度ムラについて、以下の評価基準で評価した。
(image quality)
After completion of the output test in each environment, one solid image with an image density of 30% was further output on A4 paper, the obtained image was observed, and the image flow and density unevenness were evaluated according to the following evaluation criteria.

−画像流れの評価基準−
A+: 画像流れ全くなし
A : 画質上問題となる画像流れなし
B : 若干画像流れ発生
C : 画質上問題となる画像流れ発生
-Evaluation criteria of image flow-
A +: no image flow at all A: no image flow to cause image quality problems B: slight image flow generation C: image flow problems to cause image quality problems

−濃度ムラの評価基準−
A+: 濃度ムラ発生全くなし
A : 画質上問題となる濃度ムラなし
B : 若干濃度ムラ発生
C : 画質上問題となる濃度ムラ発生
-Evaluation criteria for uneven density-
A +: No occurrence of uneven density A: No occurrence of uneven density B: Some occurrence of uneven density C: Occurrence of uneven density

(外添剤すり抜け)
各環境での出力テスト終了後、更に、画像濃度30%のべた画像をA4用紙に1枚出力した後、軸方向の中央部分と両端部からそれぞれ5cmの部分との合計3箇所の感光体の表面をレーザー顕微鏡で観察し、100μmの領域内で観察された外添剤の数の平均について、以下の評価基準で評価した。
A+: 外添剤の数が5個未満
A : 外添剤の数が5個以上10個未満
B : 外添剤の数が10個以上20個未満
C : 外添剤の数が20個以上
(External additive slip through)
After the output test in each environment, one solid image with an image density of 30% is further output to A4 paper, and then a total of three photosensitive members of the central part of the axial direction and the part of 5 cm from both ends. The surface was observed with a laser microscope, and the average of the number of external additives observed in the area of 100 μm 2 was evaluated by the following evaluation criteria.
A +: The number of external additives is less than 5 A: The number of external additives is 5 or more and less than 10 B: The number of external additives is 10 or more and less than 20 C: The number of external additives is 20 or more

(総合評価)
上記各評価を総合し、電子写真感光体、画像形成システムの総合評価を行った。なお、評価基準は、以下の通りである。
A+:特に優れる
A: 優れる
B: 若干課題はあるが、実用上の大きな問題はない
C: 実用上の課題あり
(Comprehensive evaluation)
The above evaluations were integrated, and the electrophotographic photoreceptor and the image forming system were comprehensively evaluated. The evaluation criteria are as follows.
A +: Particularly excellent A: Excellent B: There are some problems but there are no major problems in practical use C: There are practical problems

以下、各例の詳細、評価結果を表1〜表5に一覧にして示す。   The details of each example and the evaluation results are listed in Tables 1 to 5 below.

上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、濃度ムラの評価が良好であることがわかる。
本実施例では、感光体の電気特性(残留電位)、クリーニングブレードの摩耗断面積(μm)、クリーニングブレードの欠け、外添剤すり抜け、画像流れの各評価も良好であることがわかる。
From the above results, it can be seen that in the present example, evaluation of density unevenness is better than in the comparative example.
In this example, it is understood that the electrical characteristics (residual potential) of the photosensitive member, the wear cross-sectional area (μm 2 ) of the cleaning blade, the chipping of the cleaning blade, the external additive slip-through, and the evaluation of the image flow are also good.

比較例の評価結果から、図6に示すような画像濃度の異なる3種の画像パターンを出力し続けた場合には、感光体の摩耗率が画像パターンによって大きく異なり、感光体(保護層)の膜厚差を生じるため、濃度ムラとなって現れやすいことがわかる。感光体の摩耗はクリーニングブレードブレードの硬度が増す低温下で進行しやすいため、低温低湿環境下での感光体の最大摩耗律Wlmaxはクリーニングブレードの摩耗を勘案しながらできるだけ小さくすることが好ましく、10nm/Kcycle以下がより好ましいことがわかる。   From the evaluation results of the comparative example, when three types of image patterns having different image densities as shown in FIG. 6 are continuously output, the wear rate of the photosensitive member greatly varies depending on the image pattern. Since a film thickness difference occurs, it can be seen that unevenness in density tends to appear. Since the wear of the photosensitive member tends to progress at low temperatures where the hardness of the cleaning blade increases, the maximum wear rate Wlmax of the photosensitive member in a low temperature and low humidity environment is preferably as small as possible taking into account the wear of the cleaning blade, 10 nm It turns out that / Kcycle or less is more preferable.

以下、表中に示す各略称の詳細について示す。
[RCTM:反応性電荷輸送材料]
・(I−d)−28: 例示化合物(I−d)−28(下記合成法参照)
・(I−b)−23: 例示化合物(I−b)−23
・(I−b)−28: 例示化合物(I−b)−28
・(I−c)−23: 例示化合物(I−c)−23
・(I−c)−53: 例示化合物(I−c)−53
・(I−d)−20: 例示化合物(I−d)−20
・(II)−50: 例示化合物(II)−50
・(II)−56: 例示化合物(II)−56
・(II)−182: 例示化合物(II)−181
・(II)−182: 例示化合物(II)−182
・化合物(B):下記構造式(B)で示される化合物
The details of the respective abbreviations shown in the table are shown below.
[RCTM: Reactive Charge Transport Material]
(I-d) -28: exemplified compound (I-d) -28 (see the synthesis method below)
(I-b) -23: exemplified compound (I-b) -23
(I-b) -28: exemplified compound (I-b) -28
(I-c) -23: exemplified compound (I-c) -23
(I-c) -53: exemplified compound (I-c) -53
(I-d) -20: exemplified compound (I-d) -20
・ (II) -50: Exemplified compound (II) -50
(II) -56: exemplified compound (II) -56
・ (II) -182: exemplified compound (II) -181
(II) -182: exemplified compound (II) -182
-Compound (B): a compound represented by the following structural formula (B)

−例示化合物(I−d)−28の合成−
500mlフラスコに、下記化合物(2)を22g、t−ブトキシカリウム33g、テトラヒドロフラン300ml、ニトロベンゼン0.2gを加え、窒素気流下で攪拌しながら、4−クロロメチルスチレン25gをテトラヒドロフラン150mlに溶解した溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、4時間加熱還流した後、冷却し、水中に注ぎ、トルエンで抽出した。トルエン層を十分に水洗した後、濃縮し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトにより精製して、油状の例示化合物(I−d)−28を29g得た。
-Synthesis of Exemplified Compound (Id)-28-
In a 500 ml flask, 22 g of the following compound (2), 33 g of potassium t-butoxide, 300 ml of tetrahydrofuran and 0.2 g of nitrobenzene were added, and a solution of 25 g of 4-chloromethylstyrene in 150 ml of tetrahydrofuran was stirred while stirring under a nitrogen stream. It dripped slowly. After completion of the dropwise addition, the mixture was heated under reflux for 4 hours, cooled, poured into water and extracted with toluene. The toluene layer was sufficiently washed with water and then concentrated, and the obtained oil was purified by silica gel column chromatography to obtain 29 g of an exemplary compound (Id)-28 as an oil.

なお、他の例示化合物も、上記合成に準じて合成した。   Other exemplified compounds were synthesized according to the above synthesis.

[CTM:非反応性電荷輸送材料]
・化合物(C): 下記構造式(C)で示される化合物
[CTM: non-reactive charge transport material]
-Compound (C): a compound represented by the following structural formula (C)

[酸化防止剤]
・MDS−S: スミライザー MDP−S(住友化学(株)製)、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)
・144: チヌビン144(BASF社製)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート
・TPS: スミライザーTPS(住友化学(株)製)
[Antioxidant]
-MDS-S: SMILIZER MDP-S (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 2,2'-methylenebis (6-t-butyl-4-methylphenol)
-144: Tinuvin 144 (manufactured by BASF), bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] Methyl] butyl malonate · TPS: Sumilyzer TPS (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)

[添加剤]
・L−2: テトラフルオロエチレン重合体粒子:ルブロンL−2(ダイキン工業社製))
[Additive]
· L-2: tetrafluoroethylene polymer particles: Rubron L-2 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.))

1…下引層、2…電荷発生層、3…電荷輸送層、4…導電性基体、5…保護層、6…単層型感光層、7A,7B,7C,7…電子写真感光体、8…帯電装置、9…露光装置、11…現像装置、13…クリーニング装置、131…クリーニングブレード、132…ロアシール、133…トナー溜りシート、40…転写装置、50…中間転写体、100…画像形成装置、120…画像形成装置、300…プロセスカートリッジ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... undercoat layer, 2 ... charge generation layer, 3 ... charge transport layer, 4 ... conductive substrate, 5 ... protective layer, 6 ... single layer type photosensitive layer, 7A, 7B, 7C, 7 ... electrophotographic photosensitive member, 8: charging device, 9: exposure device, 11: developing device, 13: cleaning device, 131: cleaning blade, 132: lower seal, 133: toner accumulation sheet, 40: transfer device, 50: intermediate transfer member, 100: image formation Device 120: Image forming device 300: Process cartridge

Claims (8)

導電性基体および前記導電性基体上に設けられた感光層を有し、反応性電荷輸送材料および酸化防止剤を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置される帯電手段により、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電工程と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成工程と、
トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像工程と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写工程と、
前記電子写真感光体の表面に接触したクリーニングブレードにより、前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング工程と、
を有し、
前記トナーの全質量に対する前記脂肪酸金属塩粒子の含有量をRmf(質量%)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を高温高湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWh(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWhmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWhmin(nm/1000回転)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を低温低湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWl(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWlmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWlmin(nm/1000回転)とした場合、
下記式(A1)、下記式(B1)、下記式(B2)、下記式(C1)および下記式(C2)を満たす画像形成方法。
・式(A1): 0.01<Rmf<0.20
・式(B1): 0.005<Rmf/Wh<5.000
・式(B2): 0.002<Rmf/Wl<1.000
・式(C1): 1.0<Whmax/Whmin<2.5
・式(C2): 1.0<Wlmax/Wlmin<2.5
The surface of an electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate, and a cured film of a composition containing a reactive charge transport material and an antioxidant, wherein the outermost surface layer is formed. Charging the surface of the electrophotographic photosensitive member by charging means disposed in contact with or in proximity to the
An electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the surface of the electrophotographic photosensitive member charged;
Developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer including toner having toner particles and fatty acid metal salt particles to form a toner image;
A transfer step of transferring the toner image to the surface of a recording medium;
A cleaning step of cleaning the surface of the electrophotographic photosensitive member with a cleaning blade in contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Have
The content of the fatty acid metal salt particles relative to the total mass of the toner is Rmf (mass%),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wh (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a high temperature and high humidity environment, and the maximum wear of the electrophotographic photosensitive member Rate is Whmax (nm / 1000 rotation), and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Whmin (nm / 1000 rotation),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wl (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a low temperature and low humidity environment, and the maximum wear rate of the electrophotographic photosensitive member Where Wlmax (nm / 1000 rotations) and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wlmin (nm / 1000 rotations),
An image forming method which satisfies the following formula (A1), the following formula (B1), the following formula (B2), the following formula (C1) and the following formula (C2).
-Formula (A1): 0.01 <Rmf <0.20
Formula (B1): 0.005 <Rmf / Wh <5.000
Formula (B2): 0.002 <Rmf / Wl <1.000
-Formula (C1): 1.0 <Whmax / Whmin <2.5
-Formula (C2): 1.0 <Wlmax / Wlmin <2.5
前記脂肪酸金属塩粒子が、体積基準によるメディアン径が0.1μm以上10.0μm以下のステアリン酸亜鉛の粒子である請求項1に記載の画像形成方法。   The image forming method according to claim 1, wherein the fatty acid metal salt particles are particles of zinc stearate having a median diameter of 0.1 μm or more and 10.0 μm or less based on volume. 前記酸化防止剤が、ラジカル重合禁止剤である請求項1又は請求項2に記載の画像形成方法。   The image forming method according to claim 1, wherein the antioxidant is a radical polymerization inhibitor. 前記反応性電荷輸送材料が、同一分子内に電荷輸送性骨格及び連鎖重合性官能基を少なくとも有する連鎖重合性化合物である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の画像形成方法。   The image forming method according to any one of claims 1 to 3, wherein the reactive charge transporting material is a chain polymerizable compound having at least a charge transporting skeleton and a chain polymerizable functional group in the same molecule. 前記反応性電荷輸送材料が、下記一般式(I)及び(II)で示される連鎖重合性化合物から選択される少なくとも1種である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の画像形成方法。


〔一般式(I)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。Lは、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む2価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは1以上8以下の整数を示す。〕


〔一般式(II)中、Fは、電荷輸送性骨格を示す。L’は、アルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−C(=O)−、−N(R)−、−S−、及び−O−からなる群より選択される2種以上を含む(n+1)価の連結基を示す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 m’は、1以上6以下の整数を示す。nは、2以上3以下の整数を示す。〕
The image according to any one of claims 1 to 3, wherein the reactive charge transporting material is at least one selected from chain polymerizable compounds represented by the following general formulas (I) and (II). Formation method.


[In general formula (I), F shows a charge transportable skeleton. L represents a divalent linking group containing two or more selected from the group consisting of an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)-, -S- and -O- Show. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group. m represents an integer of 1 or more and 8 or less. ]


[In general formula (II), F shows a charge transportable skeleton. L 'is a trivalent or tetravalent group derived from alkane or alkene, and an alkylene group, an alkenylene group, -C (= O)-, -N (R)-, -S-, and -O- The (n + 1) valent linking group containing 2 or more types selected from the group which consists of these is shown. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group. m 'represents an integer of 1 or more and 6 or less. n represents an integer of 2 or more and 3 or less. ]
式:0.01<Rmf<0.18を満たす請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の画像形成方法。  The image forming method according to any one of claims 1 to 5, wherein the formula: 0.01 <Rmf <0.18 is satisfied. 導電性基体および前記導電性基体上に設けられた感光層を有し、反応性電荷輸送材料および酸化防止剤を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置され、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤を収容し、前記現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触し、前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、
を備え、
前記トナーの全質量に対する前記脂肪酸金属塩粒子の含有量をRmf(質量%)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を高温高湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWh(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWhmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWhmin(nm/1000回転)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を低温低湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWl(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWlmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWlmin(nm/1000回転)とした場合、
下記式(A1)、下記式(B1)、下記式(B2)、下記式(C1)および下記式(C2)を満たす画像形成装置。
・式(A1): 0.01<Rmf<0.20
・式(B1): 0.005<Rmf/Wh<5.000
・式(B2): 0.002<Rmf/Wl<1.000
・式(C1): 1.0<Whmax/Whmin<2.5
・式(C2): 1.0<Wlmax/Wlmin<2.5
An electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate, and a cured film of a composition containing a reactive charge transport material and an antioxidant, wherein the outermost surface layer is formed;
A charging unit disposed in contact with or in close proximity to the surface of the electrophotographic photosensitive member to charge the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the electrophotographic photosensitive member charged;
Developing means for containing a developer containing toner having toner particles and fatty acid metal salt particles, and developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member by the developer to form a toner image When,
A transfer unit that transfers the toner image to the surface of a recording medium;
A cleaning unit having a cleaning blade that contacts the surface of the electrophotographic photosensitive member and cleans the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Equipped with
The content of the fatty acid metal salt particles relative to the total mass of the toner is Rmf (mass%),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wh (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a high temperature and high humidity environment, and the maximum wear of the electrophotographic photosensitive member Rate is Whmax (nm / 1000 rotation), and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Whmin (nm / 1000 rotation),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wl (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a low temperature and low humidity environment, and the maximum wear rate of the electrophotographic photosensitive member Where Wlmax (nm / 1000 rotations) and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wlmin (nm / 1000 rotations),
An image forming apparatus which satisfies the following formula (A1), the following formula (B1), the following formula (B2), the following formula (C1) and the following formula (C2).
-Formula (A1): 0.01 <Rmf <0.20
Formula (B1): 0.005 <Rmf / Wh <5.000
Formula (B2): 0.002 <Rmf / Wl <1.000
-Formula (C1): 1.0 <Whmax / Whmin <2.5
-Formula (C2): 1.0 <Wlmax / Wlmin <2.5
導電性基体および前記導電性基体上に設けられた感光層を有し、反応性電荷輸送材料および酸化防止剤を含む組成物の硬化膜で、最表面層が構成された電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触又は近接して配置され、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
トナー粒子と脂肪酸金属塩粒子とを有するトナーを含む現像剤を収容し、前記現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触し、前記電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、
を備え、
前記トナーの全質量に対する前記脂肪酸金属塩粒子の含有量をRmf(質量%)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を高温高湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWh(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWhmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWhmin(nm/1000回転)とし、
画像濃度が異なる3種の画像パターンを含む画像を低温低湿環境で繰り返し形成したときにおける、前記電子写真感光体の平均摩耗率をWl(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最大摩耗率をWlmax(nm/1000回転)、前記電子写真感光体の最小摩耗率をWlmin(nm/1000回転)とした場合、
下記式(A1)、下記式(B1)、下記式(B2)、下記式(C1)および下記式(C2)を満たし、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
・式(A1): 0.01<Rmf<0.20
・式(B1): 0.005<Rmf/Wh<5.000
・式(B2): 0.002<Rmf/Wl<1.000
・式(C1): 1.0<Whmax/Whmin<2.5
・式(C2): 1.0<Wlmax/Wlmin<2.5
An electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate and a photosensitive layer provided on the conductive substrate, and a cured film of a composition containing a reactive charge transport material and an antioxidant, wherein the outermost surface layer is formed;
A charging unit disposed in contact with or in close proximity to the surface of the electrophotographic photosensitive member to charge the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Developing means for containing a developer containing toner having toner particles and fatty acid metal salt particles, and developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member by the developer to form a toner image When,
A cleaning unit having a cleaning blade that contacts the surface of the electrophotographic photosensitive member and cleans the surface of the electrophotographic photosensitive member;
Equipped with
The content of the fatty acid metal salt particles relative to the total mass of the toner is Rmf (mass%),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wh (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a high temperature and high humidity environment, and the maximum wear of the electrophotographic photosensitive member Rate is Whmax (nm / 1000 rotation), and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Whmin (nm / 1000 rotation),
The average wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wl (nm / 1000 revolutions) when an image including three image patterns different in image density is repeatedly formed in a low temperature and low humidity environment, and the maximum wear rate of the electrophotographic photosensitive member Where Wlmax (nm / 1000 rotations) and the minimum wear rate of the electrophotographic photosensitive member is Wlmin (nm / 1000 rotations),
Satisfy the following formula (A1), the following formula (B1), the following formula (B2), the following formula (C1) and the following formula (C2),
Process cartridge to be attached to and removed from the image forming apparatus.
-Formula (A1): 0.01 <Rmf <0.20
Formula (B1): 0.005 <Rmf / Wh <5.000
Formula (B2): 0.002 <Rmf / Wl <1.000
-Formula (C1): 1.0 <Whmax / Whmin <2.5
-Formula (C2): 1.0 <Wlmax / Wlmin <2.5
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JP2004279452A (en) * 2003-03-12 2004-10-07 Fuji Xerox Co Ltd Image forming apparatus
JP2006072293A (en) * 2004-08-06 2006-03-16 Fuji Xerox Co Ltd Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge
JP2006085042A (en) * 2004-09-17 2006-03-30 Fuji Xerox Co Ltd Image forming apparatus
JP4772416B2 (en) * 2004-11-01 2011-09-14 株式会社リコー Cleaning device, process cartridge, and image forming apparatus
JP2007086202A (en) * 2005-09-20 2007-04-05 Fuji Xerox Co Ltd Image forming apparatus
JP5505791B2 (en) * 2009-06-25 2014-05-28 株式会社リコー Image forming apparatus, process cartridge, and image forming method
JP5772384B2 (en) * 2011-08-22 2015-09-02 富士ゼロックス株式会社 Image forming apparatus and process cartridge
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