JP6485355B2 - 樹脂組成物、樹脂膜、および電子部品 - Google Patents
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Description
そこで、本発明は、基材に対して高い密着性を示し、透明性および耐薬品性に優れた樹脂膜を与えることができる樹脂組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、このような樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜、および該樹脂膜を備える電子部品を提供することも目的とする。
〔1〕バインダー樹脂(A)、アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)、4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)、および光重合開始剤(D)を含有してなり、前記バインダー樹脂(A)100重量部に対する、前記アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)と、前記4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)との合計の含有量が、0.5〜10重量部である樹脂組成物、
〔2〕前記アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)の含有量が、前記バインダー樹脂(A)100重量部に対して0.25〜4重量部である、前記〔1〕に記載の樹脂組成物、
〔3〕前記4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)の含有量が、前記バインダー樹脂(A)100重量部に対して0.25〜7重量部である、請求項前記〔1〕または〔2〕に記載の樹脂組成物、
〔4〕前記4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)として、官能基数の互いに異なる(メタ)アクリレート化合物を2以上用いる、前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の樹脂組成物。
〔5〕エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)をさらに含有する前記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の樹脂組成物、
〔6〕前記エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)の含有量は、前記バインダー樹脂(A)100重量部に対して0.5〜5重量部である、前記〔5〕に記載の樹脂組成物、
〔7〕前記バインダー樹脂(A)は、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A1)、アクリル樹脂(A2)、カルド樹脂(A3)、ポリシロキサン(A4)またはポリイミド(A5)である、前記〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の樹脂組成物、
〔8〕前記光重合開始剤(D)は、ラジカル発生型光重合開始剤であり、前記光重合開始剤(D)の含有量は、前記バインダー樹脂(A)100重量部に対して0.3〜8重量部である、前記〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の樹脂組成物、
〔9〕前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜、ならびに、
〔10〕前記〔9〕に記載の樹脂膜を備える電子部品、
が提供される。
本発明で用いるバインダー樹脂(A)としては、特に限定されないが、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A1)、アクリル樹脂(A2)、カルド樹脂(A3)、ポリシロキサン(A4)またはポリイミド(A5)であることが好ましく、これらの中でも、基材に対する密着性をより向上できる点で、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A1)が特に好ましい。 これらのバインダー樹脂(A)は、それぞれ単独で用いてもよく、または2種以上を併用してもよい。
)
エポキシ基含有アクリレート化合物の具体例としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、アクリル酸−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル等が挙げられる。
オキセタン基含有アクリレート化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸(3−メチルオキセタン−3−イル)メチル、(メタ)アクリル酸(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル、(メタ)アクリル酸(3−メチルオキセタン−3−イル)エチル、(メタ)アクリル酸(3−エチルオキセタン−3−イル)エチル、(メタ)アクリル酸(3−クロロメチルオキセタン−3−イル)メチル、(メタ)アクリル酸(オキセタン−2−イル)メチル、(メタ)アクリル酸(2−メチルオキセタン−2−イル)メチル、(メタ)アクリル酸(2−エチルオキセタン−2−イル)メチル、(1−メチル−1−オキセタニル−2−フェニル)−3−(メタ)アクリレート、(1−メチル−1−オキセタニル)−2−トリフロロメチル−3−(メタ)アクリレート、および(1−メチル−1−オキセタニル)−4−トリフロロメチル−2−(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、(メタ)アクリル酸グリシジル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル等が好ましい。
環状構造を構成している4級炭素原子に二つの環状構造が結合した骨格構造の具体例としては、フルオレン骨格、ビスフェノールフルオレン骨格、ビスアミノフェニルフルオレン骨格、エポキシ基を有するフルオレン骨格、アクリル基を有するフルオレン骨格等が挙げられる。
本発明で用いるカルド樹脂(A3)は、このカルド構造を有する骨格がそれに結合している官能基間の反応等により重合して形成される。カルド樹脂(A3)は、主鎖と嵩高い側鎖が一つの元素で繋がれた構造(カルド構造)をもち、主鎖に対してほぼ垂直方向に環状構造を有している。
カルド樹脂(A3)は、カルド構造を有する単量体を重合して得られる重合体であるが、その他の共重合可能な単量体との共重合体であってもよい。
上記単量体の重合方法は、常法に従えばよく、例えば、開環重合法や付加重合法等が採用される。
(R4)m−Si−(OR5)4−m (4)
これらのオルガノシランのうち、得られる樹脂膜の耐クラック性や硬度の点から3官能性シランが好ましく用いられる。これらのオルガノシランは単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
また、バインダー樹脂(A)の分子量分布は、重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)比で、通常、4以下、好ましくは3以下、より好ましくは2.5以下である。
バインダー樹脂(A)の重量平均分子量(Mw)や分子量分布(Mw/Mn)は、テトラヒドロフラン等の溶媒を溶離液としたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により、ポリスチレン換算値として求められる値である。
本発明で用いるアルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)は、(メタ)アクリル酸〔アクリル酸および/またはメタクリル酸の意。以下、同様。〕のエステルであり、かつ、アルコキシシリル基を含有する化合物である。本発明においては、このようなアルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)と、後述する4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)と、光重合開始剤(D)とを併用し、かつ、アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)と、4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)との合計の含有割合を特定の範囲とすることにより、本発明の樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜を、基材に対する密着性に優れたものとすることができる。
本発明で用いる4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)は、(メタ)アクリル酸のエステルであり、かつ、(メタ)アクリロイル基を4つ以上有する化合物である。
本発明で用いる光重合開始剤(D)としては、光により化学反応を引き起こす化合物であればよく、特に限定されないが、好ましくは、光によりラジカルを発生し、これより化学反応を引き起こすラジカル発生型光重合開始剤が好ましく、特に、ラジカル発生型光重合開始剤のなかでも、400nm以下の波長の光に対する感度を有し、400nm以下の波長の光、具体的には、紫外線や電子線等の放射線を照射した場合に、ラジカルを発生し、化学反応を引き起こす化合物であることが好ましい。
本発明の樹脂組成物は、上述したバインダー樹脂(A)、アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)、4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)、および光重合開始剤(D)に加えて、エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)をさらに含有していることが好ましい。エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)をさらに含有していることで、得られる樹脂膜の基材に対する密着性をより高めることができる。
また、本発明の樹脂組成物は、上述した各成分に加えて、架橋剤(F)をさらに含有していることが好ましい。架橋剤(F)としては、加熱により架橋剤分子間に架橋構造を形成するものや、バインダー樹脂(A)と反応して樹脂分子間に架橋構造を形成するものであり、具体的には、2以上の反応性基を有する化合物が挙げられる。このような反応性基としては、例えば、アミノ基、カルボキシ基、水酸基、エポキシ基、イソシアネート基が挙げられ、より好ましくはアミノ基、エポキシ基又はイソシアネート基であり、アミノ基又はエポキシ基が特に好ましい。
本発明の樹脂組成物には、さらに、溶剤が含有されていてもよい。溶剤としては、特に限定されず、樹脂組成物の溶剤として公知のもの、例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、2−ヘキサノン、3−ヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−オクタノン、3−オクタノン、4−オクタノンなどの直鎖のケトン類;n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、シクロヘキサノールなどのアルコール類;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのアルコールエーテル類;ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類;セロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートなどのセロソルブエステル類;プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコール類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルなどのジエチレングリコール類;γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−カプリロラクトンなどの飽和γ−ラクトン類;トリクロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチルアセトアミドなどの極性溶媒などが挙げられる。これらの溶剤は、単独でも2種以上を組み合わせて用いてもよい。溶剤の含有量は、バインダー樹脂(A)100重量部に対して、好ましくは10〜10000重量部、より好ましくは50〜5000重量部、さらに好ましくは100〜1000重量部の範囲である。なお、樹脂組成物に溶剤を含有させる場合には、溶剤は、通常、樹脂膜形成後に除去されることとなる。
これらの中でも、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール性水酸基を有する化合物との縮合物が好ましく、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン(1モル)と1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロライド(1.9モル)との縮合物がより好ましい。
混合の方法は特に限定されないが、樹脂組成物を構成する各成分を溶剤に溶解または分散して得られる溶液または分散液を混合するのが好ましい。これにより、樹脂組成物は、溶液または分散液の形態で得られる。
本発明の樹脂膜は、上述した本発明の樹脂組成物を用いて得ることができる。本発明の樹脂膜としては、上述した本発明の樹脂組成物を基材上に形成させることによって得られるものが好ましい。
潜像パターンを有する樹脂膜に現像液を接触させる方法としては、例えば、パドル法、スプレー法、ディッピング法等の方法が用いられる。現像は、通常、0〜100℃、好ましくは5〜55℃、より好ましくは10〜30℃の範囲で、通常、30〜180秒間の範囲で適宜選択される。
本発明の電子部品は、上述した本発明の樹脂膜を備えてなる。本発明の電子部品としては、特に限定されないが、各種電子部品が挙げられ、具体的には、タッチパレットやフレキシブル有機ELディスプレイなどのタッチパネル構造を備えた表示装置などが挙げられる。
なお、各特性の定義および評価方法は、以下のとおりである。
ソーダガラス基板上に、樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、ホットプレートを用いて110℃で2分間プリベークした。次いで、2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて、25℃で30秒間現像処理を行った後、超純水で30秒間リンスした。次いで、365nmにおける光強度が50mJ/cm2である紫外線を、300秒間、空気中で照射した。次いで、オーブンを用いて、窒素雰囲気において230℃で30分間加熱するポストベークを行い、樹脂膜とソーダガラス基板とからなる樹脂膜付き基板を得た。なお、樹脂膜を形成する際には、ポストベークの後の膜厚が約2.0μmとなるようにスピンコート時の回転数を制御した。得られた樹脂膜付き基板は温度80℃、湿度85%の環境下にて24時間保管した後、表面−界面切削法(SAICAS法)により密着性(剥離強度)の試験を実施した。
具体的には、上記にて得られた樹脂膜付き基板について、樹脂膜部分にカッターで1mm幅の切込みを入れ、切込みを入れた樹脂膜付き基板について、測定装置として、ダイプラ・ウィンテス社のサイカスDN−20型を用い、切刃(1.0mm幅、すくい角20°逃げ角10°の単結晶ダイヤモンド製)にて、水平速度0.2μm/秒、垂直速度0.02μm/秒で試料の切削を行い、切刃が樹脂膜とソーダガラス表面との界面まで切削したところで、垂直速度を0μm/秒として切刃を基板に平行に動かして平行力FH[N]を測定した。そして、切刃の幅w[m]から剥離強度Pを「P[N/m]=FH[N]/w[m]」の計算式から求め、剥離強度Pを樹脂膜とソーダガラス基板との密着性の値とした。本実施例では、50N/m以上を良好とした。
上記密着性の評価と同様の方法で無アルカリガラス基板を用いて作製した樹脂膜付き基板について、分光光度計(日本分光株式会社製、「紫外可視分光光度計V−560(製品名)」を用いて、波長400nm〜700nmの範囲を1nm間隔で透過率の測定を行った。得られた400nm〜700nmの範囲の全透過率の平均を透明性として観測した。なお、透明性は、以下の基準で評価した。
○:全透過率が95%以上
ばつ:全透過率が95%未満
上記密着性の評価に用いた樹脂膜付き基板を、溶剤としてのモノエタノールアミンとN−メチルピロリドンとの重量比7:3の混合液中に、65℃で5分間浸漬し、浸漬前後の樹脂膜の厚みの変化率を測定することで、耐薬品性の評価を行った。なお、浸漬前後の樹脂膜の厚みの変化率は、「浸漬前後の樹脂膜の厚みの変化率(%)=(|浸漬後の樹脂膜の厚み−浸漬前の樹脂膜の厚み|/浸漬前の樹脂膜の厚み)×100」に従って算出した。また、耐薬品性は、以下の基準で評価した。
○:浸漬前後の樹脂膜の厚みの変化率が3.0%未満
△:浸漬前後の樹脂膜の厚みの変化率が3.0%以上、5.0%未満
×:浸漬前後の樹脂膜の厚みの変化率が5.0%以上
<環状オレフィン重合体(A−1)の調製>
N−フェニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド(NBPI)40モル%、および4−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−9−エン(TCDC)60モル%からなる単量体混合物100部、1,5−ヘキサジエン2.0部、(1,3−ジメシチルイミダゾリン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド(Org.Lett.,第1巻,953頁,1999年 に記載された方法で合成した)0.02部、およびジエチレングリコールエチルメチルエーテル200部を、窒素置換したガラス製耐圧反応器に仕込み、攪拌しつつ80℃にて4時間反応させて重合反応液を得た。
<アクリル樹脂(A−2)の調製>
スチレン20部、ブチルメタクリレート25部、2−エチルヘキシルアクリレート25部、メタクリル酸30部、2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.5部、およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート300部を窒素気流中で撹拌しながら80℃で5時間加熱した。得られた樹脂溶液をロータリーエバポレーターで濃縮し、固形分濃度35重量%のアクリル樹脂(A−2)の重合体溶液を得た。
バインダー樹脂(A)として、合成例1で得られた環状オレフィン重合体(A−1)の重合体溶液291部(環状オレフィン重合体(A−1)として100部)、アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)として、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(製品名「KBM−5103」、信越化学工業社製)1部、4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)として、ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート(製品名「アロニックスM−406 ペンタ25−35%」、東亜合成社製)3部、光重合開始剤(D)として、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン(製品名「Irgacure127」、BASF社製)1部、架橋剤(F)として、エポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス(3−シクロヘキセニルメチル)修飾ε−カプロラクトン(脂肪族環状4官能性のエポキシ樹脂、製品名「エポリードGT401」、ダイセル化学工業社製)15部、シリコーン系界面活性剤(製品名「KP−341」、信越化学工業社製)0.03部、および、溶剤として、エチレングリコールエチルメチルエーテル270部を混合し、溶解させた後、孔径0.45μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して固形分濃度20.7重量%の樹脂組成物を調製した。
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの配合量を1部から0.5部に変更するとともに、ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートの配合量を3部から0.5部に変更した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.2重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの配合量を1部から3部に変更するとともに、ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートの配合量を3部から1部に変更した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.7重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートの配合量を3部から7部に変更した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度21.2重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)として、ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート3部の代わりに、ペンタエリストリールトリ/テトラアクリレート(製品名「アロニックスM−303 トリ40−60%」、東亜合成社製)3部を使用した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.7重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)としての3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート(製品名「サイクロマーM100」、ダイセル社製)1部をさらに配合した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.8重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
バインダー樹脂(A)として、環状オレフィン重合体(A−1)の重合体溶液291部の代わりに、合成例2で得られたアクリル樹脂(A−2)の重合体溶液285部(アクリル樹脂(A−2)として100部)を使用した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.9重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)としての3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート(製品名「サイクロマーM100」、ダイセル社製)0.5部をさらに配合した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.7重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)としての3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート(製品名「サイクロマーM100」、ダイセル社製)4部をさらに配合した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度21.2重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)としてのグリシジルメタアクリレート(三菱ガス化学社製)1部をさらに配合した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.8重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートの配合量を3部から14部に変更した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度22.1重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)としての3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート(製品名「サイクロマーM100」、ダイセル社製)1部をさらに配合した以外は、比較例1と同様にして、固形分濃度22.3重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの配合量を1部から5部に変更するとともに、ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートの配合量を3部から9部に変更した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度22.0重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの配合量を1部から0.2部に変更するとともに、ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートの配合量を3部から0.2部に変更した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.2重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレートを配合しなかった以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.2重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランを配合しなかった以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.5重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート3部の代わりに、トリメチロールプロパントリアクリレート(製品名「アロニックスM−309」、東亜合成社製)3部を使用した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.7重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート3部の代わりに、エチレングリコールジメタクリレート(製品名「NKエステル1G」、新中村化学工業社製)3部を使用した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.7重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
ジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート3部の代わりに、ベンジルアクリレート(製品名「ファンクリルFA−BZA」、日立化成社製)3部を使用した以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.7重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンを配合しなかった以外は、実施例1と同様にして、固形分濃度20.5重量%の樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
さらに、アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)としての3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)としてのジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサアクリレート、または光重合開始剤(D)としての2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンを配合しなかった場合には、得られる樹脂膜は、基材に対する密着性に劣る結果となった(比較例5〜10)。
Claims (9)
- プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A1)、アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)、4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)、および光重合開始剤(D)を含有してなり、
前記プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A1)100重量部に対する、前記アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)と、前記4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)との合計の含有量が、0.5〜10重量部である樹脂組成物。 - 前記アルコキシシリル基含有(メタ)アクリレート化合物(B)の含有量が、前記プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A1)100重量部に対して0.25〜4重量部である、請求項1に記載の樹脂組成物。
- 前記4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)の含有量が、前記プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A1)100重量部に対して0.25〜7重量部である、請求項1または2に記載の樹脂組成物。
- 前記4官能以上の(メタ)アクリレート化合物(C)として、4官能以上であり、官能基数が互いに異なる(メタ)アクリレート化合物を組み合わせて用いる、請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂組成物。
- エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)をさらに含有する請求項1〜4のいずれかに記載の樹脂組成物。
- 前記エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物(E)の含有量は、前記プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A1)100重量部に対して0.5〜5重量部である、請求項5に記載の樹脂組成物。
- 前記光重合開始剤(D)は、ラジカル発生型光重合開始剤であり、
前記光重合開始剤(D)の含有量は、前記プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A1)100重量部に対して0.3〜8重量部である、請求項1〜6のいずれかに記載の樹脂組成物。 - 請求項1〜7のいずれかに記載の樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜。
- 請求項8に記載の樹脂膜を備える電子部品。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013175463 | 2013-08-27 | ||
| JP2013175463 | 2013-08-27 | ||
| PCT/JP2014/072111 WO2015029931A1 (ja) | 2013-08-27 | 2014-08-25 | 樹脂組成物、樹脂膜、および電子部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2015029931A1 JPWO2015029931A1 (ja) | 2017-03-02 |
| JP6485355B2 true JP6485355B2 (ja) | 2019-03-20 |
Family
ID=52586489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015534192A Active JP6485355B2 (ja) | 2013-08-27 | 2014-08-25 | 樹脂組成物、樹脂膜、および電子部品 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9574090B2 (ja) |
| JP (1) | JP6485355B2 (ja) |
| KR (1) | KR102228989B1 (ja) |
| CN (1) | CN105492467B (ja) |
| TW (1) | TWI628221B (ja) |
| WO (1) | WO2015029931A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105474096B (zh) * | 2013-08-27 | 2019-11-12 | 日本瑞翁株式会社 | 辐射敏感树脂组合物、树脂膜及电子部件 |
| WO2015080073A1 (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-04 | 日本ゼオン株式会社 | 積層体 |
| WO2017038643A1 (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びその製造方法、並びにレジストパターン形成方法 |
| JPWO2017065172A1 (ja) * | 2015-10-13 | 2018-07-26 | 三菱ケミカル株式会社 | (メタ)アクリル系共重合体、樹脂組成物、防汚塗料組成物及び(メタ)アクリル系共重合体の製造方法 |
| JP7258420B2 (ja) | 2019-01-18 | 2023-04-17 | 株式会社ディスコ | レーザーダイシング用保護膜剤、レーザーダイシング用保護膜剤の製造方法及びレーザーダイシング用保護膜剤を用いた被加工物の加工方法 |
| KR102852176B1 (ko) * | 2021-01-25 | 2025-08-29 | 주식회사 엘지화학 | 반도체 웨이퍼 표면 보호용 점착필름 |
| KR102852179B1 (ko) * | 2021-01-25 | 2025-08-29 | 주식회사 엘지화학 | 반도체 웨이퍼 표면 보호용 점착필름 |
| KR102855000B1 (ko) * | 2021-01-25 | 2025-09-04 | 주식회사 엘지화학 | 반도체 웨이퍼 표면 보호용 점착필름 |
| KR102857241B1 (ko) * | 2021-01-25 | 2025-09-09 | 주식회사 엘지화학 | 반도체 웨이퍼 표면 보호용 점착필름 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001354896A (ja) * | 2001-04-27 | 2001-12-25 | Nippon Zeon Co Ltd | 熱可塑性ノルボルネン系樹脂コーティング剤及びコート層形成方法 |
| JP5407210B2 (ja) * | 2008-07-30 | 2014-02-05 | 東レ株式会社 | シロキサン樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜 |
| CN102482364B (zh) | 2009-08-26 | 2013-08-28 | 三井化学株式会社 | 含氟环状烯烃聚合物组合物、由该组合物获得的转印体及其制造方法 |
| JP5439346B2 (ja) * | 2010-07-28 | 2014-03-12 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| US20130237629A1 (en) * | 2010-11-22 | 2013-09-12 | Showa Denko K.K. | Curable resin composition |
| KR20120080385A (ko) * | 2011-01-07 | 2012-07-17 | 삼성전자주식회사 | 패턴 형성용 접착 필름 조성물, 이를 포함하는 접착 필름 및 이를 이용한 반도체 패키징 방법 |
| CN102167919B (zh) * | 2011-01-18 | 2013-04-17 | 南通大学 | 可采用紫外光固化的载玻片用涂层材料及其制备方法 |
| JP5640864B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2014-12-17 | 日本ゼオン株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物および電子部品 |
-
2014
- 2014-08-25 JP JP2015534192A patent/JP6485355B2/ja active Active
- 2014-08-25 CN CN201480046648.0A patent/CN105492467B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-08-25 US US14/913,474 patent/US9574090B2/en active Active
- 2014-08-25 KR KR1020167004406A patent/KR102228989B1/ko active Active
- 2014-08-25 WO PCT/JP2014/072111 patent/WO2015029931A1/ja not_active Ceased
- 2014-08-27 TW TW103129472A patent/TWI628221B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN105492467A (zh) | 2016-04-13 |
| CN105492467B (zh) | 2018-01-12 |
| US9574090B2 (en) | 2017-02-21 |
| KR20160048779A (ko) | 2016-05-04 |
| JPWO2015029931A1 (ja) | 2017-03-02 |
| KR102228989B1 (ko) | 2021-03-16 |
| TWI628221B (zh) | 2018-07-01 |
| US20160200914A1 (en) | 2016-07-14 |
| TW201514239A (zh) | 2015-04-16 |
| WO2015029931A1 (ja) | 2015-03-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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