JP6488352B2 - Particulate matter detection element - Google Patents
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Description
本発明は、例えば、車両用内燃機関の排気浄化システムに好適に利用されて、被測定ガスとなる排出ガス中に存在する粒子状物質を検出する粒子状物質検出素子に関する。 The present invention relates to a particulate matter detection element that is suitably used for, for example, an exhaust purification system of an internal combustion engine for a vehicle and detects particulate matter present in exhaust gas that is a gas to be measured.
絶縁性を有する基板の表面に、一対の電極を形成して、粒子状物質が導電性を有することを利用して、一対の電極間に粒子状物質が堆積することで生じる抵抗値、静電容量等の電気特性の変化から内燃機関の燃焼排気等の被測定ガス中の粒子状物質を検出する粒子状物質検出センサについて種々提案されている。 A pair of electrodes is formed on the surface of an insulating substrate, and the particulate matter accumulates between the pair of electrodes by utilizing the conductivity of the particulate matter. Various types of particulate matter detection sensors that detect particulate matter in a gas to be measured such as combustion exhaust gas of an internal combustion engine from changes in electric characteristics such as capacity have been proposed.
特許文献1には、アルミナセラミックス等の絶縁基板上に一対の櫛形電極が形成されたセンサエレメントが開示されている。
特許文献1のセンサエレメントでは、電源部から一対の電極間に電圧を印加して、相互に噛み合う櫛形電極間の空間に不均一な電界を形成して、センサエレメントを通過する排気中に含まれる煤粒子を電極に引き寄せて堆積させ、この時の電極間抵抗を検出することで煤堆積量を測定することができる。
In the sensor element of
一方、特許文献2には、従来の厚膜印刷では困難であった電極間の距離を50μm以下に精度良く形成すべく、厚膜印刷及びグリーンシートにより導体層と絶縁層とを交互に積み重ねて積層構造とし、この断面を用い導体層を電極とするセンサ用抵抗測定電極が開示され、電極間の距離を絶縁層の膜厚によって決定される10μm程度まで小さくできることが開示されている。
ところが、特許文献2にあるような導体層と絶縁層とを交互に積み重ねて積層構造とし、その断面に露出させた導体層を一対の電極として用いて、特許文献1にあるように、電極間に電圧を印加して電界を形成して粒子状物質を電極間に堆積させようとした場合、電極端部の角部に電荷の集中が起こる。
このため、電界強度の高い電極端部付近への局所的な粒子状物資の堆積が起こり易くなり、不感質量の個体差が拡大され検出精度の低下を招くおそれがあることが判明した。
However, the conductor layers and insulating layers as described in Patent Document 2 are alternately stacked to form a laminated structure, and the conductor layers exposed in the cross section are used as a pair of electrodes. When a voltage is applied to form an electric field to deposit particulate matter between the electrodes, charge concentration occurs at the corners of the electrode ends.
For this reason, it has been found that local particulate matter is likely to be deposited near the electrode end portion where the electric field strength is high, and the individual difference of the insensitive mass may be increased, leading to a decrease in detection accuracy.
そこで、本発明は、かかる実情に鑑み、平板状の導体層と平板状の絶縁層とを交互に積み重ねて積層構造とし、その断面に露出させた導体層を一対の電極として検出部を構成した粒子状物質検出素子において、電極層端部の形状を特徴的な形状とし、電極層端部への電界集中を抑制した粒子状物質検出素子を提供することを目的とする。 Therefore, in view of such a situation, the present invention has a laminated structure in which a flat conductor layer and a flat insulating layer are alternately stacked to form a detection unit with the conductor layer exposed in the cross section as a pair of electrodes. An object of the particulate matter detection element is to provide a particulate matter detection element in which the shape of the end portion of the electrode layer has a characteristic shape and electric field concentration on the end portion of the electrode layer is suppressed.
本発明の粒子状物質検出素子(10、10a、10c、10d、10f)は、
平板状の導体層(11、11a、11c、11d、11f、12、12a、12c、12d、12f)と平板状の絶縁層(100、100a、100c、100d、100f)とを交互に積み重ねた積層構造を有し、
この断面を用いて、前記導体層を極性の異なる一対の検出電極とした検出部(13、13a、13c、13d、13f)を構成して、
該検出部に堆積する粒子状物質の量によって変化する電気的特性を計測して被測定ガス中の粒子状物質を検出するための粒子状物質検出素子であって、
前記導体層は、一定膜厚を有するとともに断面短冊形状の導体層平面部(110、110a、110c、110d、110f、120、120a、120c、120d、120f)を有し、
前記導体層のうち少なくとも一つにおける前記導体層平面部は、前記短冊形状の長手方向の端部に、長手方向の外側に凸となる形状であり電界集中抑制部となる導体層端縁部(111、111a、111c、111d、111f、121、121a、121c、121d、121f)を具備しており、
前記導体層端縁部(111、111a、111c、111d、111f、121、121a、121c、121d、121f)は、三つ以上の角部を有する多角形状であることを特徴とする。
The particulate matter detection element (10 , 10a, 10c, 10d, 10f ) of the present invention is
Laminate in which flat conductor layers ( 11, 11a, 11c, 11d, 11f , 12 , 12a , 12c, 12d, 12f ) and flat insulating layers (100 , 100a , 100c, 100d, 100f ) are alternately stacked. Has a structure,
Using this cross section, a detection unit (13 , 13a , 13c, 13d, 13f ) having the conductor layer as a pair of detection electrodes having different polarities is configured,
A particulate matter detection element for detecting an electrical property that varies depending on the amount of particulate matter deposited on the detection unit and detecting particulate matter in a gas to be measured,
The conductor layer has a constant film thickness and a conductor layer plane portion (110 , 110a , 110c, 110d, 110f , 120 , 120a , 120c, 120d, 120f ) having a strip-shaped cross section,
The conductor layer flat surface portion in at least one of the conductor layers has a shape that protrudes outward in the longitudinal direction at the end portion in the longitudinal direction of the strip shape, and a conductor layer edge portion that serves as an electric field concentration suppressing portion ( 111,111a, 111c, 111d, 111f, 121,121a, 121c, 121d, are provided with a 121f),
The conductor layer edges (111,111a, 111c, 111d, 111f , 121,121a, 121c, 121d, 121f) is characterized by polygonal der Rukoto having three or more corners.
本発明によれば、前記導体層端縁部での電界集中が抑制され、電界集中部への局所的な粒子状物質の堆積による不感質量の変動が抑制され、安定した検出精度の粒子状物質検出素子を実現することができる。 According to the present invention, the electric field concentration at the edge portion of the conductor layer is suppressed, the insensitive mass fluctuation due to the local accumulation of the particulate material on the electric field concentration portion is suppressed, and the particulate material with stable detection accuracy A detection element can be realized.
図1A、図1B、図1Cを参照して、本発明の第1実施形態における粒子状物質検出センサ1並びに本発明の要部である粒子状物質検出素子10の概要について説明する。
本発明の粒子状物質検出センサ1(以下、センサ1と称する。)は、例えば、内燃機関の燃焼排気を被測定ガスとし、被測定ガス中に配設される検出部13を設けた粒子状物質検出素子10(以下、素子10と略す。)と、素子10に所定の電圧を印加する電源2と、素子10に流れる電流、電圧の変化、インピーダンスの変化等の電気的特性を計測して、被測定ガス中の粒子状物質の検出を行う測定部3とによって構成されている。
With reference to FIG. 1A, FIG. 1B, and FIG. 1C, the outline | summary of the particulate
The particulate matter detection sensor 1 (hereinafter referred to as the sensor 1) of the present invention is, for example, a particulate form in which combustion exhaust from an internal combustion engine is used as a measurement gas and a
素子10の検出部13に堆積する粒子状物質の量によって変化する電気的特性を測定部3によって計測して被測定ガス中の粒子状物質を検出することができる。
なお、以下の説明において、素子10の検出部13が設けられ被測定ガスに晒される側を先端側、電源部2、及び、測定部3に接続される側を基端側と称する。
It is possible to detect the particulate matter in the gas to be measured by measuring the electrical characteristics that change depending on the amount of the particulate matter deposited on the
In the following description, the side where the
センサ1は、DPFの下流に設置されて、DPFの異常検出に利用することができる。あるいは、DPFの上流に設置されて、DPFに流入する粒子状物質PMを直接検出するシステムに利用することもできる。
なお、実際に被測定ガス流路に配設する際には、素子10を固定するために、図略のハウジングや検出部13を保護するカバー体など一般的に粒子状物質検出センサとして用いられる公知の構成を適宜採用することができる。
The
Note that, when actually arranged in the gas flow path to be measured, in order to fix the
図1Bを参照して、本発明の要部である素子10の特徴について詳述する。
素子10は、平板状の導体層11、12と平板状の絶縁層100とを交互に積み重ねた積層構造を有している。
素子10は、その断面を用いて、導体層11、12を極性の異なる一対の検出電極とした検出部13を構成している。
With reference to FIG. 1B, the characteristic of the
The
The
図1Bに示すように、検出部13は、絶縁層100を介して一対に導体層11、12の断面が交互に並んで構成されている。
本実施形態においては、導体層11、12が、一定膜厚を有するとともに、断面短冊形状の導体層平面部110、120(以下、平面部110、120と略す。)を有している。導体層11、12のうち少なくとも一つにおける平面部110、120は、短冊形状の長手方向の端部に、長手方向の外側に凸となる形状であり電界集中抑制部となる導体層端縁部111、121(以下、端縁部111、121と略す。)を具備することを特徴としており、ここでは、導体層平面部110、120の両側に、先細りとなる断面三角形状の導体層端縁部111、121(以下、端縁部111、121と略す。)を具備する。
本発明において、長手方向の外側に凸となる形状は、具体的には、三つ以上の角部を有する多角形状が挙げられる。その一例であり、導体層11、12の両端縁に断面三角形状に形成した導体層端縁部111、121を設けることで、導体層11、12の端縁における電界集中を抑制して、電界集中部への局所的な粒子状物質の堆積を防止し、検出精度の向上、安定化を図るものである。
As illustrated in FIG. 1B, the
In the present embodiment, the conductor layers 11 and 12 have a constant film thickness and have conductor
In the present invention, the shape that protrudes outward in the longitudinal direction specifically includes a polygonal shape having three or more corners. For example, by providing conductor
導体層11、12には、アルミニウム、金、白金、タングステン等の金属材料、若しくは、酸化ルテニウム等の金属酸化物材料、又は、LNF(LaNi0.6Fe0.4O3)、LSN(LaNi0.6Fe0.4O3)、LSM(La1−XSrXMnO3−δ)、LSC(La1−XSrXCoO3―δ)、LCC(La1−XCaXCrO3−δ)、LSCN(La0.85Sr0.15Cr1−XNiXO3−δ)(0.1≦X≦0.7)のいずれかから選択したペロブスカイト型の導電性酸化物材料等の公知の導電性材料を適宜用いることができる。
絶縁層100には、アルミナ、マグネシア、チタニア、ムライト等の絶縁層材料や、誘電率の高いチタン酸バリウム等の高誘電率材料とアルミナやジルコニアを混合した誘電体材料や、8YSZ(ZrO2)0.82(Y2O3)0.08)を代表とする部分安定化ジルコニア等の公知のセラミック材料を適宜用いることができる。
The conductor layers 11 and 12 are made of a metal material such as aluminum, gold, platinum, or tungsten, or a metal oxide material such as ruthenium oxide, or LNF (LaNi 0.6 Fe 0.4 O 3 ) or LSN (LaNi). 0.6 Fe 0.4 O 3 ), LSM (La 1-X Sr X MnO 3-δ ), LSC (La 1-X Sr X CoO 3-δ ), LCC (La 1-X Ca X CrO 3- δ ), LSCN (La 0.85 Sr 0.15 Cr 1-X Ni X O 3-δ ) (0.1 ≦ X ≦ 0.7), etc. Any known conductive material can be used as appropriate.
The insulating
なお、本実施形態においては、直方体状に形成した粒子状物質検出素子10の先端側の側面方向に一対の導体層11、12の断面を露出させて検出部13を形成した例を示しているが、素子10の先端側の底面から一対の導体層11、12の断面を露出させ検出部13を設けるようにしても良い。
また、図1A〜図1Cにおいては、一対の導体層11、12が交互に積層され、極性が交互に異なるものであることを明確にするために、異なるハッチングを施しているが、両導体層11、12の材質を区別するものではない。
In addition, in this embodiment, the example which formed the
Further, in FIGS. 1A to 1C, a pair of conductor layers 11 and 12 are alternately stacked, and in order to clarify that the polarities are alternately different, different hatching is applied. 11 and 12 are not distinguished from each other.
図1Cを参照して、より具体的な素子10の内部構造について説明する。
絶縁層100は、ドクターブレード法等の公知の製法により、平板状に形成され、必要に応じて所定の位置にスルーホールを穿設し、スルーホール電極114、124が形成されている。
一対の導体層11、12は、後述する製造方法により端縁部111、121を設けた平面部110、120と、外部との接続を図るリード部112、122、端子部113、123、スルーホール電極114、124、125によって構成されている。
スルーホール電極114、124は、極性の等しい平面部110、120同士の導通を図っている。
リード部112、122、スルーホール電極114、124、端子部113、123は、公知の厚膜印刷等の製法により形成されている。
A more specific internal structure of the
The insulating
The pair of conductor layers 11 and 12 are formed by
The through-
The
絶縁層100に導体層11、12を交互に形成したものを複数層積み重ねた積層構造となっており、本実施形態においては、最下段の絶縁層100Hには、通電により発熱する発熱体140と発熱体140との導通を図る一対のリード部141及び端子部142が形成され発熱部14を構成している。
発熱体140には、タングステン、モリブデンシリサイト、酸化ルテニウム等公知の抵抗発熱体材料が用いられ、リード部141、端子部142には、金、白金、タングステン等の公知の導電性金属材料が用いられ、厚膜印刷等の公知の方法により形成されている。
素子10は、焼成によって、一体となっている。
また、本実施形態における検出部13は、積層、焼成工程を経たのち、素子10の側面部に断面が露出するよう適宜切断され、研磨を施すことによって形成されている。
The insulating
A known resistance heating material such as tungsten, molybdenum silicite or ruthenium oxide is used for the
The
In addition, the
ここで、図2A、図2B、図2C、図2D、図3A、図3B、図3C、図3Dを参照して、本発明の効果を確認するために検討した、比較例1、実施例1、実施例2、参考例3、比較例2、実施例4、実施例5、参考例6について説明する。
なお、比較例、実施例とも、基本的な構造は、図1cに示した実施例1と同様の積層構造をしており、以下の説明において、それぞれの対応する部分に、比較例1、2には枝番としてz、yの符号を、実施例2、4、5、参考例3、6にはそれぞれa〜fの枝番を付して区別した。また、後述する比較例3には枝番としてxの符号を、実施例7、8にはそれぞれf、gの枝番を付して区別した。
Here, with reference to FIGS. 2A, 2B, 2C, 2D, 3A, 3B, 3C, and 3D, Comparative Example 1 and Example 1 were examined to confirm the effects of the present invention. Example 2, Reference Example 3, Comparative Example 2, Example 4, Example 5, and Reference Example 6 will be described.
In both the comparative example and the example, the basic structure is the same as the laminated structure of the example 1 shown in FIG. 1c. The numbers z and y are assigned as branch numbers, and Examples 2 , 4, 5, and Reference Examples 3 and 6 are assigned branch numbers a to f, respectively. Further, the comparative example 3 described later is distinguished by assigning a symbol x as a branch number, and the examples 7 and 8 by branch numbers f and g, respectively.
比較例1として図2Aに示す素子10zは、絶縁層100zと、導体層11z(平面部110z)と導体層12z(平面部120z)とが交互に積層されている。
比較例1の導体層11z、12zは、断面矩形で、端面が四角形状となっており、端面の位置は揃えられている。
In the
The conductor layers 11z and 12z of Comparative Example 1 have a rectangular cross section, a square end surface, and the end surfaces are aligned.
実施例1として図2Bに示す素子10は、絶縁層100と、導体層11と導体層12とが交互に積層されている。
実施例1の導体層11、12の平面部110、120の両側には、先細りとなる三角形状(鈍角)の断面を有する端縁部111、121が形成されており、積層方向において、端縁部111、121の位置は揃えられている。
端縁部111、121は、少なくとも三つの角部を有し、導体層11、12の短冊形状の断面において、長手方向の辺上に位置する角部よりも外側に、より角度の小さい角部を少なくとも一つ有する形状となっている。例えば、短手方向の二つの辺にて、より角度の小さい角部が形成され、外側に凸となる形状の端縁部111、121を形成する。
In the
Edge sides 111 and 121 having a tapered triangular shape (obtuse angle) are formed on both sides of the
The
実施例2として図2Cに示す素子10aは、実施例1とは、導体層11a、12aの端縁部111a、121aが鋭角の三角形状の断面となっている点が相違する。
参考例3として図2Dに示す素子10bは、実施例1と端縁部111b、121bが湾曲する円弧形状の断面となっている点が相違する。導体層11b、12bが、一定膜厚を有し、断面短冊形状の導体層平面部110b、120bと、該導体層平面部110b、120bの両側に、長手方向の外側に凸となる形状であり、角部を有しない形状の一例として、滑らかに湾曲する断面円弧形状の導体層端縁部111b、121bを具備することを特徴とする。
The
The
比較例2として図3Aに示す素子10yは、比較例1と同様に導体層11y、12y(平面部110y、120y)が四角形状の端面を有するが、端面位置が揃えられていない点が相違する。
実施例4として図3Bに示す素子10cは、実施例1と同様に導体層11c、12cの平面部110c、120cの両側には、先細りとなる三角形状(鈍角)の断面を有する端縁部111c、121cが形成されているが、積層方向において、端縁部111c、121cの位置は揃えられていない点が相違する。
The
The
実施例5として図3Cに示す素子10dは、実施例2と同様に導体層11d、12dの平面部110d、120dの両側には、先細りとなる三角形状(鋭角)の断面を有する端縁部111d、121dが形成されているが、積層方向において、端縁部111d、121dの位置は揃えられていない点が相違する。
参考例6として図3Dに示す素子10eは、参考例3と同様に、導体層11e、12eにおいて、平面部110e、120eの両側の端縁部111e、121eが湾曲する円弧形状の断面となっているが、積層方向において、端縁部111e、121eの位置は揃えられていない点が相違する。
The
The
ここで、図4A、図4B、図4C、図4D、図5A、図5B、図5C、図5Dを参照して、一対の導体層間に一定の電圧を印加したときに検出部平面上に発生する電界強度分布について、比較例1、実施例1、2、参考例3、比較例2、実施例4、5、参考例6におけるシミュレーション結果の違いについて説明する。
図4Aに示すように、比較例1では、導体層11z、12zの角部に強い電界集中が起こり、一対の平面部110z、120z間の電界強度が均一になる領域における電界強度が相対的に低くなることが判明した。
図4Bに示すように、実施例1では、電界集中部がそれぞれの端縁部111、121の3箇所に分散され、電界集中の割合が相対的に低くなり、その分、平面部110、120間で電界強度が均一になる領域における電荷強度が相対的に高くなることが判明した。
Here, referring to FIGS. 4A, 4B, 4C, 4D, 5A, 5B, 5C, and 5D, it is generated on the plane of the detection unit when a certain voltage is applied between a pair of conductor layers. Differences in simulation results in Comparative Example 1, Example 1 , 2, Reference Example 3, Comparative Example 2, Examples 4 , 5, and Reference Example 6 will be described.
As shown in FIG. 4A, in Comparative Example 1, a strong electric field concentration occurs at the corners of the conductor layers 11z and 12z, and the electric field strength in the region where the electric field strength between the pair of
As shown in FIG. 4B, in the first embodiment, the electric field concentration portions are dispersed at the three portions of the
図4Cに示すように、実施例2では、さらに、電界集中が抑制され、その分、平面部110a、120a間の電界強度が均一になる領域における電荷強度が最も高くなることが判明した。
図4Dに示すように、参考例3でも、電界集中が抑制され平面部110b、120b間の電界強度が均一になる領域における電荷強度が相対的に高くなることが判明した。
As shown in FIG. 4C, it was found that in Example 2, the electric field concentration was further suppressed, and the charge intensity in the region where the electric field intensity between the
As shown in FIG. 4D, it was found that the charge intensity in the region in which the electric field concentration is suppressed and the electric field intensity between the
次いで、端面位置を揃えない場合を見ると、図5Aに示すように、比較例2では、比較例1よりも電界集中が抑制され、一対の平面部110y、120y間の電界強度が均一になる領域における電界強度は、比較例1よりは、相対的に高くなることが判明した。
Next, looking at the case where the end face positions are not aligned, as shown in FIG. 5A, in Comparative Example 2, the electric field concentration is suppressed more than in Comparative Example 1, and the electric field strength between the pair of
一方、実施例4、5では、実施例1、2よりも却って電荷集中を招き、一対の平面部110c、110d、120c、120d間の電界強度が均一になる領域における電界強度は、実施例1、2より、相対的に低くなることが判明した。
しかし、参考例6では、参考例3よりも、電界集中が抑制され、一対の平面部110e、120e間の電界強度が均一になる領域における電界強度は、実施例3より、相対的に高くなることが判明した。
On the other hand, in Examples 4 and 5, the electric field concentration in the region where the electric field concentration between the pair of
However, in Reference Example 6, than Reference Example 3, the electric field concentration can be suppressed, a pair of
ここで、図6を参照して、本発明の実施例7における素子10fについて説明する。
本実施例においては、検出部13fにおいて、端縁部111f、121fの全部、及び、平面部110f、120fの一部で、電界強度が不均一となる領域を覆うように、ガラス、アルミナ等の公知の絶縁性材料、若しくは、絶縁層100と同材質からなるからなる遮蔽層14を設けてある。
なお、遮蔽層14を設ける構成は、前述の実施例1、2、4、5、参考例3、6のいずれにも採用し得るものである。
Here, with reference to FIG. 6, the
In the present embodiment, in the
In addition, the structure which provides the
ここで、図7A、図7Bを参照して、本発明の効果の確認のために行った試験結果について説明する。
被測定ガス流路内に、素子10の検出部13を露出させ、電源部2から所定の電圧を印加し、既知量の粒子状物質を流した場合に、検出部13に一定量以上の粒子状物質が堆積するまで、粒子状物質の検出ができない不感質量Q0(不感期間)が存在する。
そこで、前述の比較例1、比較例2、実施例1、2、4、5、7、参考例3、6に加え、比較例1と同様の導体層を中間層を設けないで形成した比較例3と、比較例2に前述の遮蔽層14を設けた比較例4、参考例6に遮蔽層14を設けた実施例8について既知量の粒子状物質を投入した場合に、各実施例及び比較例のそれぞれに複数のサンプルを用意し、粒子状物質が検出されるまでの不感質量Q0を測定した。実施例8における素子10gは、図3D、図6に参照されるように、導体層11g、12gに平面部110g、120gと端縁部111g、121gを有する。
Here, with reference to FIG. 7A and FIG. 7B, the test result performed for confirmation of the effect of this invention is demonstrated.
When the
Therefore, in addition to the above-described Comparative Example 1, Comparative Example 2, Example 1 , 2, 4, 5, 7 and Reference Examples 3 and 6 , a comparison was made by forming a conductor layer similar to Comparative Example 1 without providing an intermediate layer. When Example 3 and Comparative Example 4 in which Comparative Example 2 was provided with the
図7Aに示すように、比較例1では、不感質量Q0の平均値μ2が小さく、早期に粒子状物質の検出が可能となるが、サンプル間のバラツキσ2が大きいことが判明した。
一方、実施例1では、不感質量Q0の平均値μ1は、比較例1の不感質量よりも大きいが、サンプル間のバラツキσ1が遙かに小さいことが判明した。
これは、比較例1では、導体層11z、12zの端面の角部に強い電界集中が起こり、その表面に集まった電荷に粒子状物質が引きつけられ、局所的に堆積するため早期に導通パスが形成されるためと推察される。
As shown in FIG. 7A, in Comparative Example 1, it was found that the average value μ 2 of the
On the other hand, in Example 1, the average value μ 1 of the dead mass Q0 was larger than the dead mass of Comparative Example 1, but it was found that the variation σ 1 between samples was much smaller.
In Comparative Example 1, a strong electric field concentration occurs at the corners of the end faces of the conductor layers 11z and 12z, and the particulate matter is attracted to the electric charges collected on the surfaces and deposited locally. It is assumed that it is formed.
しかし、角部における電界集中はサンプル間の変動が大きく、安定しないものと考えられる。
そこで、変動係数CV(100√σ2/μ)(%)を計算して、各サンプルの評価を行い、その結果を図7Bに示す。
比較例2では、比較例1よりは、バラツキが小さくなっているが、実施例1、2、4、5、7、参考例3、6のいずれも、比較例1〜4よりも、変動係数を小さくすることができ、本発明がセンサとしての信頼性の向上を図る効果を有するものであることが分かる。
However, the electric field concentration at the corners is considered to be unstable due to large fluctuations between samples.
Therefore, the coefficient of variation CV (100√σ2 / μ) (%) is calculated to evaluate each sample, and the result is shown in FIG. 7B.
In Comparative Example 2, the variation is smaller than in Comparative Example 1, but all of Examples 1 , 2, 4, 5, 7 and Reference Examples 3 and 6 have a coefficient of variation more than that of Comparative Examples 1 to 4. It can be seen that the present invention has the effect of improving the reliability of the sensor.
導体層11、12の両端面に断面が三角形状や円弧形状の端縁部111、121、111a、121a、111b、121b、111c、121c、111d、121d、111e、121eを設けることで、電界集中を抑制し、導体層11、12の端部への局所的な粒子状物質の堆積が抑制されるものと考えられる。
加えて、端縁部111a、121aでは、断面鋭角三角形状となっているので、電界集中の起こりやすい頂点間の距離が長くなるため、一対の端縁部111a、121a間に導通パスが形成されるまでの時間も長くなるものと推察される。
Electric field concentration is provided by providing
In addition, since the
ここで、図8A、図8B、図8C、図8Dを参照して、前述の比較例1、比較例2、実施例1、実施例2として示した粒子状物質検出素子10z、10y、10、10aのそれぞれの製造方法について説明する。
比較例1は、導体層11z、12zと絶縁層100zとを交互に積層して断面を検出部13zとして利用する粒子状物質検出素子10zの基本的な製造方法を示している。
Here, with reference to FIG. 8A, FIG. 8B, FIG. 8C, and FIG. 8D, the particulate
Comparative Example 1 shows a basic manufacturing method of the particulate
アルミナ等の絶縁性材料を、公知の結合材、可塑剤、分散剤、溶剤等と混合、攪拌してスラリーを形成し、ドクターブレード法などの公知の製法によって、シート状に形成し、絶縁性シート100zGSを得る。
これを、図略の打ち抜き工程P0zにおいて、予め、金型等を用いて、印刷の位置あわせのためのガイドや、極性が共通する導体層同士を接続するためのスルーホール電極114z、124zを埋設するためのスルーホール等を必要に応じて穿設すると共に、所定の外形形状に打ち抜く。
An insulating material such as alumina is mixed with a known binder, plasticizer, dispersant, solvent, etc. and stirred to form a slurry, which is formed into a sheet by a known manufacturing method such as a doctor blade method, and has an insulating property. A sheet 100zGS is obtained.
In the punching process P0z (not shown), a guide for printing alignment and through-hole electrodes 114z and 124z for connecting conductor layers having the same polarity are embedded in advance using a mold or the like. A through hole or the like for drilling is formed as necessary, and punched into a predetermined outer shape.
厚膜印刷工程としての印刷工程P1zでは、導体ペーストを所定の導体パターンを形成した厚膜印刷用スクリーンから吐出して、導体層印刷膜11zPRT、12zPRTを絶縁層シート100zGSに転写する。
このとき、円内に拡大して示すように、ペーストのレオロジー特性と表面張力の影響により、極僅かではあるが、中心付近の膜厚が薄くなり、外周付近の膜厚が厚くなる。
In the printing process P1z as the thick film printing process, the conductive paste is discharged from the thick film printing screen on which a predetermined conductive pattern is formed, and the conductive layer printed films 11zPRT and 12zPRT are transferred to the insulating layer sheet 100zGS.
At this time, as shown enlarged in a circle, the film thickness near the center becomes thin and the film thickness near the outer periphery becomes thick due to the influence of the rheological characteristics and surface tension of the paste.
比較例1では、絶縁層100を構成する絶縁性材料と同材料を含むペーストを用いて、厚膜印刷により、導体層印刷膜11zPRT、12zPRTと同じ膜厚で、導体層以外の部分を覆うように中間層101zを形成している。
続く、積層圧着工程P2zでは、導体層印刷膜11zPRT、12zPRTの極性が交互に入れ替わるように絶縁層シート100zGSを積み重ね、金型等を用いて圧着する。
In Comparative Example 1, a paste containing the same material as the insulating material constituting the insulating
In the subsequent laminating and pressing step P2z, the insulating layer sheets 100zGS are stacked so that the polarities of the conductor layer printed films 11zPRT and 12zPRT are alternately switched, and are pressed using a mold or the like.
このようにして得られた積層構造体を焼成工程P3zにおいて、絶縁層11z、12zと導体層100zとを同時に焼成し一体とする。
その後、切削、研磨等により、導体層11z、12zの断面を露出させ検出部13zとした素子10zが完成する。
In the firing process P3z, the insulating
Thereafter, the
比較例1では、中間層101zが設けられているため、積層圧着時に導体層印刷膜11zPRT、12zPRT及び絶縁層シート110zの変形がほとんどなく、素子10zの機械的強度は優れているが、導体層11z、12zは、断面短冊状の形状が維持されている。
しかし、両導体層間に電圧を印加したときには、角部への電界集中が大きく、前述の如く、不感質量のバラツキが大きいことが判明した。
なお、比較例2として示す素子10yは、比較例1と同様の製造法を基本とし、積層圧着工程において、導体層11y、12y端面の位置を意図的にずらして積層したものである。
In Comparative Example 1, since the intermediate layer 101z is provided, there is almost no deformation of the conductor layer printed films 11zPRT, 12zPRT and the insulating
However, it has been found that when a voltage is applied between the two conductor layers, the electric field concentration at the corners is large, and the variation in dead mass is large as described above.
In addition, the
図8Bを参照して、比較例3として示した素子10xの製造工程の概要と、比較例3の問題点について説明する。
比較例3では、印刷工程P1xに示すように、所定形状に打ち抜いた絶縁層シート100xGSに、導体層110x、120xの印刷のみを行い、中間層を設けることなく、積層圧着工程P2xに進む。
With reference to FIG. 8B, the outline of the manufacturing process of the
In Comparative Example 3, as shown in the printing process P1x, only the conductor layers 110x and 120x are printed on the insulating layer sheet 100xGS punched into a predetermined shape, and the process proceeds to the lamination pressing process P2x without providing an intermediate layer.
積層圧着工程P2xでは、導体層印刷膜11xPRT、12xPRTが、絶縁層シート100xGSよりも硬いため、積層圧着時には、絶縁層シート100xGSが弾性変形し、導体層印刷膜11xPRT、12xPRTが、絶縁層シート100xGS内にめり込むようにして絶縁層シート100xGS同士が密着する。
このとき、導体層印刷膜11xPRT、12xPRTの両側には、図8Bの積層圧着工程P2xの円内に拡大して示すように、断面三角形状の空隙が形成される。
In the lamination pressure bonding step P2x, the conductor layer printed films 11xPRT and 12xPRT are harder than the insulating layer sheet 100xGS. Therefore, at the time of laminated pressure bonding, the insulating layer sheet 100xGS is elastically deformed, and the conductor layer printed films 11xPRT and 12xPRT are changed to the insulating layer sheet 100xGS. The insulating layer sheets 100xGS are in close contact with each other so as to be recessed.
At this time, voids having a triangular cross-section are formed on both sides of the conductor layer printed films 11xPRT and 12xPRT as shown in an enlarged manner in the circle of the lamination pressure bonding step P2x in FIG. 8B.
その後の焼成工程P3xによって、空隙の表面積を小さくするように焼結がするむので、空隙は縮小されるが、完全には消滅せず、ボイドとして残留したり、デラミネーションのきっかけとなったりする虞がある。
また、焼成後の導体層11x、12xの端面は、多角形やいびつな形状となり、前述の比較例2と同様、角部に電界集中が起こり易くなる。
Subsequent firing step P3x allows sintering to reduce the surface area of the voids, so the voids are reduced, but they do not disappear completely, but remain as voids or trigger delamination. There is a fear.
Moreover, the end surfaces of the conductor layers 11x and 12x after firing have polygonal or irregular shapes, and electric field concentration is likely to occur at the corners as in Comparative Example 2 described above.
図8Cを参照して、本発明の実施例1の製造工程の概要について説明する。
本実施形態においては、比較例1と同様の工程により、形成した絶縁層シート100GSに、位置決めのためのガイドと必要に応じたスルーホールを穿設すると共に、所定の外形形状に打ち抜く、打ち抜き工程P0において、絶縁層シート100GSの打ち抜きと同時に、導体層11、12を印刷形成する位置に合わせて、所定の導体層端縁部111、121の形状に合わせた凹み部101を設けた凹みシート100PCDを形成する。
具体的には、打ち抜き用の金型に、凹み部101を形成するための突起を設けて、絶縁層シート100GSの表面を押圧する。
これにより、導体層端縁部111、121を形成する部分に所望の角度で傾斜するテーパ面を形成することができる。
With reference to FIG. 8C, the outline | summary of the manufacturing process of Example 1 of this invention is demonstrated.
In the present embodiment, a punching process in which a guide for positioning and a through hole as necessary are formed in the formed insulating layer sheet 100GS by a process similar to that of Comparative Example 1, and punched into a predetermined outer shape. At P0, at the same time as the punching of the insulating layer sheet 100GS, a concave sheet 100PCD provided with a concave portion 101 that matches the shape of the predetermined conductor
Specifically, a protrusion for forming the recess 101 is provided on the punching die, and the surface of the insulating layer sheet 100GS is pressed.
Thereby, the taper surface which inclines at a desired angle in the part which forms the conductor
その結果、印刷工程P1において、通常の厚膜印刷を行っても、導体層端縁部111、121の絶縁層シート100GSに接する側が凹み部101の形状に沿って傾斜することになる。
また、凹みシート100PCDの下面側にも凹み部101が形成されているので、積層圧着工程P1において積み重ねたときに、導体層印刷膜110、120との密着性が向上し、比較例2のようなボイドが形成されることがない。
As a result, even if normal thick film printing is performed in the printing process P1, the sides of the conductor
Moreover, since the recessed part 101 is formed also in the lower surface side of the recessed sheet 100PCD, when it accumulates in the lamination | stacking crimping | compression-bonding process P1, adhesiveness with the conductor layer printed
さらに、比較例1に用いたような中間層を設けなくても、絶縁層シート100GS同士を簡単に密着させることができる。
その結果、焼成工程P3により、導体層11、12と絶縁層100とを一体化したときに、デラミネーションの起こり難い素子10を形成することができる。
加えて、導体層端縁部111、121を断面先細りとなる三角形状に形成することが可能となるので、電界集中を抑制した素子10の実現が容易である。
Furthermore, the insulating layer sheets 100GS can be easily brought into close contact with each other without providing an intermediate layer as used in Comparative Example 1.
As a result, when the conductor layers 11 and 12 and the insulating
In addition, since the conductor
図8Dを参照して本発明の実施例2の製造工程の概要について説明する。
本実施形態における導体印刷工程P1aにおいては、絶縁層シート100(GS)に導体層11、12を印刷形成する際に、部分的にメッシュ開口率を変化させて所定の位置において印刷膜厚が薄くなるように設定した開口率部分変更印刷用スクリーンPPM、PPMAを用いている点が前記実施形態と相違する。
開口率部分変更印刷用スクリーンPPM、PPMAについては、図9A、図9B、図10を参照して後述する。
本実施形態においては、開口率部分変更印刷用スクリーンPPMを用いることで、開効率を低く設定した部分から吐出される導体ペーストの量が抑制され、これによって形成される導体層の膜厚を薄くすることができ、外側に向かって先細りとなり鋭角の傾斜面を有する断面三角形状の導体層端縁部111a、121aを形成することができる。
With reference to FIG. 8D, the outline | summary of the manufacturing process of Example 2 of this invention is demonstrated.
In the conductor printing process P1a in the present embodiment, when the conductor layers 11 and 12 are printed and formed on the insulating layer sheet 100 (GS), the mesh opening ratio is partially changed to reduce the printed film thickness at a predetermined position. This is different from the above-described embodiment in that the aperture ratio partial change printing screens PPM and PPMA set as described above are used.
The aperture ratio partial change printing screens PPM and PPMA will be described later with reference to FIGS. 9A, 9B, and 10. FIG.
In the present embodiment, by using the aperture ratio partial change printing screen PPM, the amount of the conductive paste discharged from the portion where the opening efficiency is set low is suppressed, and the thickness of the conductive layer formed thereby is reduced. It is possible to form the conductor
このように、断面三角形状の導体層端縁部111a、121aを有する導体層11a、12aを形成した絶縁層シート100GSを積み重ね金型等を用いて圧着することで、導体層11a、12aが絶縁層100GSにめり込みながら、導体層100GS同士が密着状態となる。
このとき、導体層端縁部111a、121aが、先細りの三角形状となっているので、比較例2に示したような空隙が形成されることがない。
このようにしてできあがった積層構造体を焼成工程P3aで焼成することにより、導体端面付近の電界集中を抑制した素子10aを極めて容易に形成することができる。
Thus, the conductor layers 11a and 12a are insulated by pressure-bonding the insulating layer sheet 100GS formed with the conductor layers 11a and 12a having the conductor
At this time, since the conductor
By firing the laminated structure thus completed in the firing step P3a, the
図9A、図9Bを参照して、本発明の粒子状物質検出素子10の製造において、用いられる厚膜印刷用スクリーンMの特徴と、これを用いたときに形成される導体層11、12の形状について説明する。
なお、本図においては、一対の導体層11、12の内、一方の導体平面部110、導体層端縁部111を形成するパターンのみを示しているが、他方の導体平面部120、導体層端縁部121は、一方のパターンを左右反転したパターンとなるので、他方を省略し、共通する構成について符号を110/120のように並べて記載してある。
With reference to FIG. 9A and FIG. 9B, the characteristics of the thick film printing screen M used in the production of the particulate
In this figure, only the pattern that forms one
本実施形態においては、一般的に厚膜印刷に用いられている厚膜印刷用スクリーンの一部を圧延して部分的に平坦化し、メッシュ厚を薄くすると共にメッシュ開口率を小さくした開口率部分低下スクリーンMを用いている。
レジスト膜Rは、一般的な厚膜印刷と同様、印刷用スクリーンに乳剤を塗布し、導体層平面部110、120の形状に合わせたパターンを露光、硬化して、所定の印刷パターンに形成されている。
図9A、図9Bに示すように、導体層端縁部111、121を印刷形成する部分のマスクM2の断面方向の厚さは薄く、平面方向の線幅が広くなっているので、導体層端縁部111、121を印刷形成する部分の開口率、即ち、端縁部形成用開口率P111、P121は、導体平面部110を形成する部分のマスクM1の開口率、即ち、平面部形成用開効率P111、P121よりも低くなっている。
このため、図9Bに示すように、導体層平面部110、120を印刷形成したときに、マスクM2から吐出するペースト量が少なくなり、導体層端縁部111、121の膜厚は、導体層平面部110、120の膜厚より薄くなる。
In this embodiment, a part of a thick film printing screen generally used for thick film printing is rolled and partially flattened to reduce the mesh thickness and reduce the mesh opening ratio. A drop screen M is used.
The resist film R is formed in a predetermined printing pattern by applying an emulsion on a printing screen and exposing and curing a pattern in accordance with the shape of the conductor
As shown in FIGS. 9A and 9B, the thickness of the mask M2 in the cross-sectional direction of the portion where the conductor
For this reason, as shown in FIG. 9B, when the conductor
図10を参照して、開口率部分低下スクリーンの変形例MAについて説明する。
前記実施形態においては、厚膜印刷用スクリーンの一部を加圧して、開口率を低くした開口率部分低下スクリーンMを例として示したが、本図に示すように、開口率部分低下スクリーンMAでは、導体層平面部110、120を印刷するマスクM1Aに比べて導体層端縁部111、121を印刷するマスクM2Aの横糸と縦糸の織り込み密度を高くすることで端縁部形成用開口率P111A/P121Aを平面部形成用開口率P110A/P120Aよりも低くしてある
本実施形態における開口率部分低下スクリーンMAでは、予め開効率を部分的に調整したスクーリンメッシュに所定の導体パターンとなるようレジストRを形成してある。
With reference to FIG. 10, a modification MA of the aperture ratio partial lowering screen will be described.
In the above-described embodiment, the aperture ratio partial lowering screen M in which a part of the thick film printing screen is pressurized to reduce the aperture ratio has been shown as an example. However, as shown in FIG. Then, the edge portion opening ratio P is increased by increasing the weaving density of the weft and warp of the mask M2A for printing the conductor
これによって、導体層11、12を印刷したときに、導体層端縁部111、121において、マスクM2Aから吐出される導体ペースト量が抑制され、導体層平面部110、120よりも薄い膜厚に形成することができる。
また、外側に向かって織り込み密度を徐々に高くすることで、導体層端縁部111、121の膜厚を外側に向かって徐々に薄くすることが可能となり、先細りの断面三角形状とすることができる。
Thus, when the conductor layers 11 and 12 are printed, the conductor paste amount discharged from the mask M2A is suppressed at the conductor
Further, by gradually increasing the weaving density toward the outside, the film thickness of the conductor
なお、前記実施形態においては、打ち抜き工程P0と印刷工程P1とのそれぞれで、導体層端縁部111、121を所望の形状にできる方法を示したが、これらを組み合わせることも可能である。
また、積層圧着工程P3では、導体層11、12を乾燥した後に、積層圧着する場合を例としたが、導体層11、12が未乾燥の状態で、積層圧着するようにしても良い。
特に、打ち抜き工程P0で、絶縁層シート100(GS)に、凹み部10を設けた場合、導体層11、12が未乾燥状態で積層圧着すると、凹み部10の形状に合わせて、導体層11、12が流動変形するので、導体層端縁部111、121を所望の形状に形成することができる。
In the above-described embodiment, the method in which the conductor
Moreover, in the lamination | stacking crimping | compression-bonding process P3, after drying the conductor layers 11 and 12, the case where lamination | stacking crimping | compression-bonding was taken as an example, you may make it carry out lamination | stacking crimping | bonding in the state where the conductor layers 11 and 12 are undried.
In particular, when the
また、前記実施形態においては、積層圧着工程P3において、比較例1に示したような絶縁性材料からなる中間層101を用いない方法を示したが、導体層端縁部111、121の形状が予め、先細り三角形状の断面や緩やかに湾曲する円弧形状の断面となるように形成されている場合には、印刷工程で絶縁性材料からなるペーストを用いて中間層101を印刷形成するようにしても良い。
中間層101を用いることで、積層圧着時における絶縁層シート100に作用する剪断応力を緩和し、素子10の機械的強度を向上したり、焼成時に亀裂の発生を抑制したりできる。
検出精度の向上に加え、素子10の耐久性向上を図る効果が期待できる。
Moreover, in the said embodiment, although the method which does not use the intermediate | middle layer 101 which consists of an insulating material as shown in the comparative example 1 was shown in the lamination | stacking crimping | compression-bonding process P3, the shape of the conductor
By using the intermediate layer 101, the shear stress acting on the insulating
In addition to the improvement in detection accuracy, the effect of improving the durability of the
1 粒子状物質検出センサ
10 粒子状物質検出素子
100 絶縁層
11、12 導体層
110、120 導体平面部
111、121 導体層端縁部
13 検出部
14 絶縁保護層
2 電源部
3 測定部
P0 打ち抜き工程
P1 導体層印刷工程
P2 積層圧着工程
P3 焼成工程
P111、P111A、P121、P121A 端縁部形成用開口率
P110、P110A、P120、P120A 平面部形成用開口率
M、MA 開口率部分低下スクリーン
DESCRIPTION OF
Claims (5)
この断面を用いて、前記導体層を極性の異なる一対の検出電極とした検出部(13、13a、13c、13d、13f)を構成して、
該検出部に堆積する粒子状物質の量によって変化する電気的特性を計測して被測定ガス中の粒子状物質を検出するための粒子状物質検出素子であって、
前記導体層は、一定膜厚を有するとともに断面短冊形状の導体層平面部(110、110a、110c、110d、110f、120、120a、120c、120d、120f)を有し、
前記導体層のうち少なくとも一つにおける前記導体層平面部は、前記短冊形状の長手方向の端部に、長手方向の外側に凸となる形状であり電界集中抑制部となる導体層端縁部(111、111a、111c、111d、111f、121、121a、121c、121d、121f)を具備しており、
前記導体層端縁部(111、111a、111c、111d、111f、121、121a、121c、121d、121f)は、三つ以上の角部を有する多角形状であることを特徴とする粒子状物質検出素子(10、10a、10c、10d、10f)。 Laminate in which flat conductor layers ( 11, 11a, 11c, 11d, 11f , 12 , 12a , 12c, 12d, 12f ) and flat insulating layers (100 , 100a , 100c, 100d, 100f ) are alternately stacked. Has a structure,
Using this cross section, a detection unit (13 , 13a , 13c, 13d, 13f ) having the conductor layer as a pair of detection electrodes having different polarities is configured,
A particulate matter detection element for detecting an electrical property that varies depending on the amount of particulate matter deposited on the detection unit and detecting particulate matter in a gas to be measured,
The conductor layer has a constant film thickness and a conductor layer plane portion (110 , 110a , 110c, 110d, 110f , 120 , 120a , 120c, 120d, 120f ) having a strip-shaped cross section,
The conductor layer flat surface portion in at least one of the conductor layers has a shape that protrudes outward in the longitudinal direction at the end portion in the longitudinal direction of the strip shape, and a conductor layer edge portion that serves as an electric field concentration suppressing portion ( 111,111a, 111c, 111d, 111f, 121,121a, 121c, 121d, are provided with a 121f),
The conductor layer edges (111,111a, 111c, 111d, 111f , 121,121a, 121c, 121d, 121f) is particulate matter, wherein polygonal der Rukoto having three or more corners Detection element (10 , 10a, 10c, 10d, 10f ).
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