JP6490328B2 - Light emitting device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、発光装置及びその製造方法に関する。
The present invention relates to a light emitting device and a method for manufacturing the same .
従来から、発光素子等の半導体素子を実装基板に実装する場合、通常、半導体素子はダイボンド材によってボンディングされている。このようなダイボンド材としては、例えば、通常、銀、金、パラジウムなどの導電性ペースト、導電材を含有した樹脂組成物、Au−Sn共晶、Sn−Biなどの半田、低融点金属等のろう材等が、導電性ダイボンド材として利用されている(例えば、特許文献1及び2)。
Conventionally, when a semiconductor element such as a light emitting element is mounted on a mounting substrate, the semiconductor element is usually bonded by a die bond material. As such a die bond material, for example, conductive paste such as silver, gold, palladium, etc., a resin composition containing a conductive material, solder such as Au—Sn eutectic, Sn—Bi, low melting point metal, etc. A brazing material or the like is used as a conductive die bond material (for example,
しかし、実装される半導体素子が発光素子の場合、発光素子から出射される光を効率的に取り出すために、ダイボンド材での光の吸収を最小限に止めることが必要となる。従って、半導体装置にダイボンド用に利用されているようなダイボンド材をそのまま発光素子のダイボンド材として使用することは、半田又は樹脂等による光吸収に関して一切考慮されていないことから、現実的でない。 However, when the semiconductor element to be mounted is a light emitting element, it is necessary to minimize light absorption by the die bonding material in order to efficiently extract light emitted from the light emitting element. Therefore, it is not practical to use a die bond material used for die bonding in a semiconductor device as it is as a die bond material for a light emitting element because no consideration is given to light absorption by solder or resin.
また、発光素子の電極が半導体層に対して同じ側に設けられた片面電極構造の発光素子をフリップチップで実装し、発光素子の各電極と実装基板における各配線との間での電気的な接続を行う場合には、それら配線から露出した実装基板表面に、出射された光が直接照射されるため、基板自体の劣化が避けられないという別の課題がある。 In addition, a light-emitting element having a single-sided electrode structure in which the electrode of the light-emitting element is provided on the same side with respect to the semiconductor layer is mounted by flip chip, and electrical connection between each electrode of the light-emitting element and each wiring on the mounting substrate is performed. In the case of connection, since the emitted light is directly irradiated onto the surface of the mounting substrate exposed from the wiring, there is another problem that deterioration of the substrate itself cannot be avoided.
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、ダイボンド材による光の吸収を最小限に止めて効率的に光を取り出すことができるとともに、実装基板の劣化をも防止することができるダイボンド材及びこのダイボンド材を利用した発光装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and can provide a die-bonding material capable of efficiently extracting light by minimizing light absorption by the die-bonding material and preventing deterioration of the mounting substrate. It is an object of the present invention to provide a light emitting device using this die bond material.
本発明は以下のとおりである。
〔1〕透光性を有する熱硬化性樹脂中に、半田及び光反射材が含有されたダイボンド材であって、
前記透光性を有する熱硬化性樹脂は、前記半田よりも多く含有されていることを特徴とするダイボンド材。
〔2〕前記光反射材は、前記半田よりも多く含有されている上述のダイボンド材。
〔3〕透光性を有する熱硬化性樹脂が25〜85重量部、半田が5〜30重量部及び光反射材が10〜70重量部含有されてなる上述したいずれか1つのダイボンド材。
〔4〕光反射材が絶縁性材料から選択される粉末又は粒子形態である上述したいずれか1つのダイボンド材。
〔5〕半田は、粉末又は粒子形態である上述したいずれか1つのダイボンド材。
〔6〕半導体層積層構造の同一面側に一対の電極が配置された発光素子及び
該発光素子を搭載し、表面に互いに分離された配線を有する基板を備えた発光装置であって、
前記基板表面の配線と、前記発光素子の一対の電極とが、上述したいずれか1つに記載のダイボンド材でそれぞれ電気的に接続されていることを特徴とする発光装置。
〔7〕前記配線間の基板表面が前記ダイボンド材で被覆されている上述したいずれか1つに記載の発光装置。
The present invention is as follows.
[1] A die bond material in which solder and a light reflecting material are contained in a thermosetting resin having translucency,
The die-bonding material characterized by containing more translucent thermosetting resin than the said solder.
[2] The above-described die bond material, wherein the light reflecting material is contained in a larger amount than the solder.
[3] Any one of the above-mentioned die bond materials comprising 25 to 85 parts by weight of a thermosetting resin having translucency, 5 to 30 parts by weight of solder, and 10 to 70 parts by weight of a light reflecting material.
[4] Any one of the above-described die bond materials, wherein the light reflecting material is in the form of powder or particles selected from an insulating material.
[5] The solder is any one of the above-described die bond materials in a powder or particle form.
[6] A light-emitting device including a light-emitting element having a pair of electrodes arranged on the same surface side of a semiconductor layer stacked structure and a substrate having the light-emitting element mounted thereon and wirings separated from each other on the surface,
A light-emitting device, wherein the wiring on the surface of the substrate and the pair of electrodes of the light-emitting element are electrically connected to each other by the die-bonding material described in any one of the above.
[7] The light emitting device according to any one of the above, wherein a substrate surface between the wirings is covered with the die bond material.
本発明によれば、ダイボンド材による光の吸収を最小限に止めて効率的に光を取り出すことができ、また、発光素子を実装するための実装基板の劣化を防止することができるダイボンド材及び発光装置を提供することが可能となる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the die-bonding material which can take out light efficiently by minimizing the light absorption by a die-bonding material, and can prevent the deterioration of the mounting substrate for mounting a light emitting element, and A light emitting device can be provided.
本発明のダイボンド材は、透光性を有する熱硬化性樹脂と、半田と、光反射材とを含有する。 The die bond material of the present invention contains a thermosetting resin having translucency, solder, and a light reflecting material.
(熱硬化性樹脂)
透光性を有する熱硬化性樹脂(以下、単に「熱硬化性樹脂」ということがある)としては、発光素子から出射された光の60%程度以上を透過し得るもの、好ましくは70%程度以上、75%程度以上、80%程度以上、85%程度以上、90%程度以上を透過し得るものが好ましい。
熱硬化性樹脂に半田フラックス機能をもたせたものがあるが、このような樹脂を単独で使用又は併用してもよい。
(Thermosetting resin)
As the thermosetting resin having translucency (hereinafter, simply referred to as “thermosetting resin”), it is possible to transmit about 60% or more of the light emitted from the light emitting element, preferably about 70%. As mentioned above, what can permeate | transmit about 75% or more, about 80% or more, about 85% or more, about 90% or more is preferable.
Some thermosetting resins have a solder flux function, but such resins may be used alone or in combination.
また、熱硬化性樹脂は、熱硬化に要する温度として、後述する半田の融点と同等の温度で硬化するものが好ましい。例えば、120〜300℃程度が挙げられ、140〜250℃程度が好ましい。具体的には、半田としてSn−Biを用いた場合には、140〜200℃程度、Sn−Ag−Cuを用いた場合には、200〜250℃程度が挙げられる。
さらに、熱硬化性樹脂は、硬化するまでに種々の時間を要するものがあるが、簡便かつ確実な半田接合を行うために、短時間で硬化するものが好ましい。例えば、数分間以内に硬化するものが好ましく、1分間以内に硬化するものがより好ましく、数十秒間以内に硬化するもの、10秒間以内に硬化するものがさらに好ましい。
Further, the thermosetting resin is preferably one that cures at a temperature equivalent to the melting point of the solder described later as the temperature required for thermosetting. For example, about 120-300 degreeC is mentioned, About 140-250 degreeC is preferable. Specifically, when Sn—Bi is used as solder, about 140 to 200 ° C. is used, and when Sn—Ag—Cu is used, about 200 to 250 ° C. is mentioned.
Furthermore, some thermosetting resins require various times until they are cured, but those that cure in a short time are preferable in order to perform simple and reliable solder bonding. For example, those that cure within a few minutes are preferred, those that cure within 1 minute are more preferred, those that cure within tens of seconds, and those that cure within 10 seconds are even more preferred.
熱硬化性樹脂としては、具体的には、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂などの変性エポキシ樹脂、エポキシ変性シリコーン樹脂などの変性シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、変性ポリイミド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキド樹脂、シリコーンなどが挙げられる。特に、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、エポキシ変性シリコーン樹脂等が好ましい。熱硬化性樹脂は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いてもよい。
エポキシ樹脂組成物の成分として用いられるエポキシ樹脂としては、たとえば、従来公知の脂肪族エポキシ樹脂および芳香族エポキシ樹脂が挙げられる。
エポキシ樹脂のなかで、不飽和結合を有するエポキシ樹脂は、波長の短い光及び熱により二重結合が切れたり、酸化されて、黄変着色や劣化の原因になることがあるため、反応性の高い不飽和結合を含まないエポキシ樹脂が好ましく、特に脂肪族エポキシ樹脂なかでも脂環式エポキシ樹脂が好ましい。
Specific examples of thermosetting resins include modified epoxy resins such as epoxy resins, silicone resins and silicone modified epoxy resins, modified silicone resins such as epoxy modified silicone resins, polyimide resins, modified polyimide resins, melamine resins and urea resins. , Alkyd resin, silicone and the like. In particular, an epoxy resin, a silicone resin, a silicone-modified epoxy resin, an epoxy-modified silicone resin, and the like are preferable. Thermosetting resins may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the epoxy resin used as a component of the epoxy resin composition include conventionally known aliphatic epoxy resins and aromatic epoxy resins.
Among epoxy resins, an epoxy resin having an unsaturated bond may cause yellowing coloring or deterioration due to breakage of a double bond or oxidation due to light and heat having a short wavelength. Epoxy resins that do not contain high unsaturated bonds are preferred, and alicyclic epoxy resins are particularly preferred among aliphatic epoxy resins.
熱硬化性樹脂又は光反射材は、本発明のダイボンド材中の主成分として含有されていることが好ましい。ここで主成分としては、最も重量割合が多い成分を意味する。従って、熱硬化性樹脂もしくは光反射材は、ダイボンド材を構成する、後述の半田よりも多く含有されていることが好ましい。
また、ダイボンド材の塗布性を考慮して、熱硬化性樹脂は光反射材よりも多く含有されていることがより好ましい。これにより、ダイボンド材を適当な塗布量及び塗布厚とすることができる。これは、熱硬化性樹脂の含有率が少なく、ダイボンド材としての粘度が上がると、微量塗布が難しくなり、発光素子の上面までダイボンド材が回りこんでしまうためである。
なお、本明細書においては、各成分の多い/少ないは、特に断りのない限り重量基準の含有率又は含有量とする。
The thermosetting resin or the light reflecting material is preferably contained as a main component in the die bond material of the present invention. Here, the main component means the component having the largest weight ratio. Therefore, it is preferable that the thermosetting resin or the light reflecting material is contained in a larger amount than the later-described solder constituting the die bonding material.
In consideration of the applicability of the die bond material, it is more preferable that the thermosetting resin is contained more than the light reflecting material. Thereby, a die-bonding material can be made into a suitable coating amount and coating thickness. This is because when the content of the thermosetting resin is small and the viscosity as the die bond material is increased, a small amount of coating becomes difficult and the die bond material wraps around to the upper surface of the light emitting element.
In the present specification, the amount of each component is the content or content based on weight unless otherwise specified.
熱可塑性樹脂の含有率は、ダイボンド材の全重量(100%)に対して、25〜85%程度が挙げられ、30〜70%程度が好ましく、40〜70%程度がより好ましく、50〜70%程度がさらに好ましい。 As for the content rate of a thermoplastic resin, about 25-85% is mentioned with respect to the total weight (100%) of a die-bonding material, About 30-70% is preferable, About 40-70% is more preferable, 50-70 % Is more preferable.
(半田)
半田は、当該分野で通常用いられているもの、市販されているものであれば特に限定されることなくどのようなものでも用いることができる。例えば、Ag、Au、Cu、Pt、Pd、W、Ni、Ta、Ti、Cr、Fe、Co、Ga、In、Li、Se、Sn、Bi、Tl、Zn、Te及びPbの少なくとも1種の金属又は合金を含むものが挙げられる。なかでも、Sn、Cu、Ag、Bi、Sb、In、Zn、Au、Ni,Pb等から選択された少なくとも1種の金属又は合金を含むものが好ましく、Sn、Cu、Ag、Bi、Zn、Pb等から選択された少なくとも1種の金属又は合金を含むものがより好ましい。
(solder)
Any solder can be used without particular limitation as long as it is commonly used in the field or is commercially available. For example, at least one of Ag, Au, Cu, Pt, Pd, W, Ni, Ta, Ti, Cr, Fe, Co, Ga, In, Li, Se, Sn, Bi, Tl, Zn, Te, and Pb The thing containing a metal or an alloy is mentioned. Among them, those containing at least one metal or alloy selected from Sn, Cu, Ag, Bi, Sb, In, Zn, Au, Ni, Pb and the like are preferable, and Sn, Cu, Ag, Bi, Zn, Those containing at least one metal or alloy selected from Pb and the like are more preferable.
合金としては、例えば、95.3Ag/4.7Bi等のAg−Bi系、66Ag/34Li等のAg−Li系、3Ag/97In等のAg−In系、67Ag/33Te等のAg−Te系、97.2Ag/2.8Tl等のAg−Tl系、45.6Ag/54.4Zn等のAg−Zn系、80Au/20Sn等のAu−Sn系、52.7Bi/47.3In系のBi−In系、35In/65Sn、51In/49Sn、52In/48Sn等のIn−Sn系、8.1Bi/91.9Zn等のBi−Zn系、43Sn/57Bi、42Sn/58Bi等のSn−Bi系、98Sn/2Ag、96.5Sn/3.5Ag、96Sn/4Ag、95Sn/5Ag等のSn−Ag系、91Sn/9Zn、30Sn/70Zn等のSn−Zn系、99.3Sn/0.7Cu等のSn−Cu系、95Sn/5Sb等のSn−Sb系、95.5Sn/3.5Ag/1In等のSn−Ag−In系、86Sn/9Zn/5In、81Sn/9Zn/10In等のSn−Zn−In系、95.5Sn/0.5Ag/4Cu、96.5Sn/3.0Ag/0.5Cu等のSn−Ag−Cu系、90.5Sn/7.5Bi/2Ag、41.0Sn/58Bi/1,0Ag等のSn−Bi−Ag系、89.0Sn/8.0Zn/3.0Bi等のSn−Zn−Bi系、Sn/Ag/Cu/Bi等が挙げられる。
特にSn−Bi系等の融点が低い半田は、熱硬化性樹脂の硬化温度との調整が図りやすいため好ましい。
Examples of the alloy include, for example, an Ag-Bi system such as 95.3Ag / 4.7Bi, an Ag-Li system such as 66Ag / 34Li, an Ag-In system such as 3Ag / 97In, and an Ag-Te system such as 67Ag / 33Te, Ag-Tl system such as 97.2Ag / 2.8Tl, Ag-Zn system such as 45.6Ag / 54.4Zn, Au-Sn system such as 80Au / 20Sn, Bi-In of 52.7Bi / 47.3In system In-Sn system such as 35In / 65Sn, 51In / 49Sn, 52In / 48Sn, Bi-Zn system such as 8.1Bi / 91.9Zn, Sn-Bi system such as 43Sn / 57Bi, 42Sn / 58Bi, 98Sn / Sn-Ag systems such as 2Ag, 96.5Sn / 3.5Ag, 96Sn / 4Ag, and 95Sn / 5Ag; Sn-Zn systems such as 91Sn / 9Zn and 30Sn / 70Zn; Sn-Cu system such as Sn / 0.7Cu, Sn-Sb system such as 95Sn / 5Sb, Sn-Ag-In system such as 95.5Sn / 3.5Ag / 1In, 86Sn / 9Zn / 5In, 81Sn / 9Zn / Sn-Zn-In series such as 10In, Sn-Ag-Cu series such as 95.5Sn / 0.5Ag / 4Cu, 96.5Sn / 3.0Ag / 0.5Cu, 90.5Sn / 7.5Bi / 2Ag, Examples include Sn-Bi-Ag systems such as 41.0Sn / 58Bi / 1,0Ag, Sn-Zn-Bi systems such as 89.0Sn / 8.0Zn / 3.0Bi, and Sn / Ag / Cu / Bi.
In particular, a Sn-Bi-based solder having a low melting point is preferable because it can be easily adjusted with the curing temperature of the thermosetting resin.
半田は、ダイボンド材において均一に分散している状態が好ましいことから、小片、粉末状又は粒子の形態であることが好ましい。この場合の大きさは特に限定されないが、例えば、小片、粉末状又は平均粒径は50μm程度以下が好ましく、35μm程度以下のものがより好ましい。ここで、平均粒径とは、レーザ回折法、光学顕微鏡等による画像観察等によって測定することができる。
半田の含有量は、発光素子の電極と各配線とを電気的に接合できる量であればよく、さらには光の吸収を最小限に止める程度に含まれていることが好ましい。
半田の含有率は、ダイボンド材の全重量(100%)に対して、5〜30%程度が挙げられ、10〜30%程度が好ましい。
Since the solder is preferably uniformly dispersed in the die bond material, the solder is preferably in the form of small pieces, powder or particles. Although the size in this case is not particularly limited, for example, the small piece, powder or average particle size is preferably about 50 μm or less, more preferably about 35 μm or less. Here, the average particle diameter can be measured by image observation using a laser diffraction method, an optical microscope, or the like.
The solder content may be an amount that can electrically bond the electrode of the light emitting element and each wiring, and is preferably included to the extent that light absorption is minimized.
As for the content rate of solder, about 5-30% is mentioned with respect to the total weight (100%) of die-bonding material, and about 10-30% is preferable.
(光反射材)
光反射材としては、発光素子から出射される光を反射し得るものであればよい。なかでも、導電性を有さない材料、つまり、絶縁性材料からなるものが好ましい。具体的には、酸化チタン、酸化ケイ素、硫酸バリウム、窒化ホウ素等が挙げられる。
光反射材は、ダイボンド材において均一に分散している状態が好ましいことから、小片、粉末状又は粒子の形態であることが好ましい。この場合の大きさは特に限定されないが、例えば、小片、粉末状又は粒子の平均粒径は数μm程度以下が好ましく、数百nm程度以下のものがより好ましい。
ここでの平均粒径は、上記と同様測定することができる。
(Light reflecting material)
Any light reflecting material that can reflect the light emitted from the light emitting element may be used. Among them, a material having no conductivity, that is, an insulating material is preferable. Specific examples include titanium oxide, silicon oxide, barium sulfate, and boron nitride.
Since the light reflecting material is preferably dispersed uniformly in the die-bonding material, the light reflecting material is preferably in the form of small pieces, powder or particles. The size in this case is not particularly limited, but for example, the average particle size of small pieces, powder or particles is preferably about several μm or less, more preferably about several hundred nm or less.
Here, the average particle diameter can be measured in the same manner as described above.
光反射材は、半田による光の吸収を最小限に止める程度に含有されていることが好ましい。つまり、半田と同程度の量又は半田よりも多く含有されていることが好ましい。
また、上述したように、光反射材は、熱硬化性樹脂よりも少なく含有されていてもよいが、熱硬化性樹脂よりも多いことが好ましい。
例えば、光反射材の含有率は、ダイボンド材の全重量(100%)に対して、10〜70%程度が挙げられ、10〜40%程度が好ましく、20〜30%程度がより好ましい。
The light reflecting material is preferably contained to such an extent that light absorption by the solder is minimized. That is, it is preferable to contain the same amount as solder or more than solder.
Further, as described above, the light reflecting material may be contained less than the thermosetting resin, but it is preferable that the light reflecting material is more than the thermosetting resin.
For example, the content of the light reflecting material may be about 10 to 70%, preferably about 10 to 40%, and more preferably about 20 to 30% with respect to the total weight (100%) of the die bonding material.
本発明のダイボンド材においては、さらに、半田フラックス、フィラー、活性剤、チクソ剤、硬化剤等、当該分野で用いられている種々の添加剤をダイボンド材の作用を損なわない範囲で含有してもよい。つまり、これらの添加剤は、光吸収を避けるために、光吸収しない材料又は光吸収が許容される最小限の量に止めることが好ましい。また、ダイボンド材の融点を低減し、加工時の温度を引き下げるために、インジウム又はインジウム合金、アンチモン合金等を添加してもよい。
本発明のダイボンド材は、通常、熱硬化性樹脂が常温で流動状態であることから、例えば、10〜100万cP程度の粘度を有する形態であることが適している。このような粘度を有することにより、ダイボンド材としての使用時にそのままの形態で、簡便に使用することができる。
The die bond material of the present invention may further contain various additives used in the field such as solder flux, filler, activator, thixotropic agent, curing agent, etc., within a range that does not impair the action of the die bond material. Good. That is, it is preferable to stop these additives in a material that does not absorb light or a minimum amount that allows light absorption in order to avoid light absorption. Further, indium, an indium alloy, an antimony alloy, or the like may be added in order to reduce the melting point of the die bond material and lower the processing temperature.
Since the die-bonding material of the present invention is usually in a fluid state at normal temperature, it is suitable that the die-bonding material has a viscosity of, for example, about 10 to 1 million cP. By having such a viscosity, it can be simply used in the form as it is when used as a die bond material.
本発明のダイボンド材は、上述したように、透光性の熱硬化性樹脂中に、半田が分散していることにより、ダイボンド材として異方性を有することができるため、種々の形状の発光素子、種々の形状又は配線パターンを有する実装基板に対して、容易かつ簡便にダイボンドすることができる。 As described above, the die-bonding material of the present invention can have anisotropy as a die-bonding material because the solder is dispersed in the translucent thermosetting resin. It is possible to easily and simply die-bond to a mounting substrate having elements, various shapes, or wiring patterns.
また、本発明のダイボンド材は、上述したように、透光性を有する熱硬化性樹脂または光反射材を主成分とすることにより、より好ましくは熱硬化性樹脂を主成分とすることにより、ダイボンド材による光の吸収を最大限に防止することができる。また、このような透光性の熱硬化性樹脂中に、光反射材が半田よりも多く、かつ均一に分散しているために、半田による光の吸収を最小限に止めるのみならず、配線間の基板への光照射を最小限に止めることができ、基板の劣化を回避することができる。さらに、発光素子から出射した光が直接ダイボンド材に当たり反射される以外の光、つまり、周辺部材からの反射・散乱光がダイボンド材に再度入射した場合でも、効率よく光を反射させることができる。 In addition, as described above, the die bond material of the present invention has a light-transmitting thermosetting resin or light reflecting material as a main component, more preferably a thermosetting resin as a main component, The absorption of light by the die bond material can be prevented to the maximum. Moreover, in such a light-transmitting thermosetting resin, since the light reflecting material is more uniformly distributed than the solder, not only the light absorption by the solder is minimized, but also the wiring. In the meantime, light irradiation to the substrate can be minimized, and deterioration of the substrate can be avoided. Further, even when light emitted from the light emitting element is directly incident on the die bond material and reflected, that is, reflected / scattered light from the peripheral member is incident on the die bond material again, the light can be efficiently reflected.
本発明のダイボンド材は、例えば、熱硬化性樹脂が25〜85重量部、半田が5〜30重量部及び光反射材が10〜70重量部含有されていることが好ましく、熱硬化性樹脂が35〜85重量部、半田が5〜30重量部及び光反射材が10〜40重量部含有されることがより好ましい。 The die bond material of the present invention preferably contains, for example, 25 to 85 parts by weight of thermosetting resin, 5 to 30 parts by weight of solder, and 10 to 70 parts by weight of light reflecting material. It is more preferable that 35 to 85 parts by weight, 5 to 30 parts by weight of solder, and 10 to 40 parts by weight of light reflecting material are contained.
このような割合で各成分を含有することにより、ダイボンド材としての異方導電性を確保することができるとともに、光の吸収と反射とのバランスを図ることができる。さらに、配線上における半田による濡れ性を確保することによって、配線上においては確実に半田によるダイボンドを行うことができるとともに、半田の濡れ性が良好ではない部位(例えば、絶縁性の基板の露出領域)においては、半田による連結による短絡を回避しながら、熱硬化性樹脂により、半田のボンディング性をより補強して、確実なダイボンドを実現することができる。その結果、光反射材により基板に光が直接照射されることを回避することができるため、基板の劣化を阻止することが可能となる。 By containing each component in such a ratio, anisotropic conductivity as a die-bonding material can be secured, and a balance between light absorption and reflection can be achieved. Furthermore, by ensuring the wettability with solder on the wiring, die bonding by solder can be surely performed on the wiring, and the portion where the wettability of solder is not good (for example, the exposed region of the insulating substrate) ), The bonding property of the solder can be further reinforced by the thermosetting resin while avoiding a short circuit due to the connection by the solder, and a reliable die bond can be realized. As a result, it is possible to prevent the substrate from being directly irradiated with light by the light reflecting material, and thus it is possible to prevent the deterioration of the substrate.
本発明の発光装置は、上述したダイボンド材を用いて、発光素子が基板上にダイボンドされた装置である。
そのために、発光装置は、発光素子を備える。この発光素子は、第1半導体層(例えば、n型半導体層)、活性層及び第2半導体層(例えば、p型半導体層)の種類、材料は特に限定されるものではないが、例えば、III-V族化合物半導体、II-VI族化合物半導体等、種々の半導体が挙げられる。具体的には、InXAlYGa1-X-YN(0≦X、0≦Y、X+Y≦1)等の窒化ガリウム系の半導体材料が挙げられ、InN、AlN、GaN、InGaN、AlGaN、InGaAlN等の窒化物半導体が好ましい。各層の膜厚及び層構造は、当該分野で公知のものを利用することができる。
この発光素子は、半導体積層構造の異なる面に一対の電極がそれぞれ配置されていてもよいが、同一面側に一対の電極が配置されているもの、いわゆる片面電極タイプが好ましい。このような構成によって、フリップチップ実装を行うことができ、上述したダイボンド材によって、簡便に一対の電極への電気的な接続を図ることができる。
The light-emitting device of the present invention is a device in which a light-emitting element is die-bonded on a substrate using the above-described die-bonding material.
For this purpose, the light-emitting device includes a light-emitting element. In this light emitting device, the types and materials of the first semiconductor layer (for example, n-type semiconductor layer), the active layer, and the second semiconductor layer (for example, p-type semiconductor layer) are not particularly limited. Various semiconductors such as -V group compound semiconductors and II-VI group compound semiconductors can be mentioned. Specific examples include gallium nitride-based semiconductor materials such as In X Al Y Ga 1-XY N (0 ≦ X, 0 ≦ Y, X + Y ≦ 1), and include InN, AlN, GaN, InGaN, AlGaN, and InGaAlN. Nitride semiconductors such as are preferred. As the film thickness and layer structure of each layer, those known in the art can be used.
In this light emitting element, a pair of electrodes may be disposed on different surfaces of the semiconductor laminated structure, but a so-called single-sided electrode type in which a pair of electrodes are disposed on the same surface side is preferable. With such a configuration, flip-chip mounting can be performed, and electrical connection to a pair of electrodes can be easily achieved by the above-described die bonding material.
発光素子がダイボンドされる基板は、通常、板状又はシート状の部材であり、いわゆる実装基板、パッケージ基材等を意味する。その材料は特に限定されるものではなく、例えば、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂などの樹脂(フェノール樹脂、ガラスエポキシ樹脂等の剛性の材料、BTレジン、PPA、ポリイミド、PET等のフレキシブル材料等)、セラミックス、ガラス等の絶縁性材料により形成されているものが挙げられる。 The substrate to which the light emitting element is die-bonded is usually a plate-like or sheet-like member, and means a so-called mounting substrate, package base material, or the like. The material is not particularly limited. For example, resins such as thermosetting resins and thermoplastic resins (rigid materials such as phenol resin and glass epoxy resin, flexible materials such as BT resin, PPA, polyimide, and PET, etc. ), And those formed of an insulating material such as ceramics or glass.
基板の表面には、少なくとも1つの発光素子の一対の電極に対応するように、互いに分離された少なくとも2つの配線パターンが存在する。また、基板の表面に配線が存在する限り、内部に配線が埋め込まれたものであってもよい。このような配線パターンの形状は、特に限定されず、種々の形態とすることができる。
配線は、半田接合が可能であり、導電性材料により形成されるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、金、銀、銅、ニッケル等の金属又は合金等が挙げられる。また、これらの材料により鍍金によって形成されたものでもよい。
On the surface of the substrate, there are at least two wiring patterns separated from each other so as to correspond to a pair of electrodes of at least one light emitting element. Further, as long as the wiring exists on the surface of the substrate, the wiring may be embedded inside. The shape of such a wiring pattern is not particularly limited, and can be various forms.
The wiring is not particularly limited as long as it can be soldered and formed of a conductive material, and examples thereof include metals such as gold, silver, copper, nickel, and alloys. Moreover, what was formed by plating with these materials may be used.
このような基板表面の互いに分離された配線と、発光素子の一対の電極とが、それぞれ、上述したダイボンド材で電気的に接続されている。
この場合、基板表面の互いに分離された配線のうちの一方と、発光素子の一対の電極の一方とが、基板表面の互いに分離された配線のうちの他方と、発光素子の一対の電極の他方とが、分離して、それぞれダイボンド材によってボンディングされていてもよいが、図1に示したように、基板2上の互いに分離された配線3と、一対の電極1aとが、ダイボンド材4によって一体的にボンディングされているものが好ましい。
言い換えると、互いに分離された配線3上のみならず、配線3間の基板2の露出面が、ダイボンド材4で被覆されるように配置されていることが好ましい。これにより、正電極ごとに、あるいは負電極ごとに、ダイボンド材を配置してダイボンドすることなく、一度のダイボンド材の配置によりダイボンドすることができ、より簡便に製造することが可能となる。
Such separated wirings on the surface of the substrate and the pair of electrodes of the light emitting element are electrically connected by the above-described die bond material.
In this case, one of the wirings separated from each other on the surface of the substrate and one of the pair of electrodes of the light emitting element are the other of the wirings separated from each other on the surface of the substrate and the other of the pair of electrodes of the light emitting element. May be separated and bonded to each other by a die bond material. However, as shown in FIG. 1, the
In other words, it is preferable that the exposed surface of the
このような形態のダイボンドを実現するために、上述した本発明のダイボンド材の使用が有利となる。つまり、熱硬化性樹脂が、半田及び光反射材を均一に分散させて含有することにより、熱硬化性樹脂内で、配線上における半田の濡れ性により、配線と電極との接続を確実に図ることができ、一方、配線間であって、基板の露出面では、半田の濡れ性が良好ではない部位(例えば、絶縁性の基板の露出領域)では、半田がダイボンド材に分散しているため、半田の連結による配線間又は電極間の短絡を回避することができる。加えて、光反射材で発光素子からの光が基板に直接照射されることを防ぎ、基板の劣化を阻止することができる、極めて良好なダイボンドを実現することができる。 In order to realize such a die bond, the use of the above-described die bond material of the present invention is advantageous. That is, when the thermosetting resin contains the solder and the light reflecting material uniformly dispersed, the connection between the wiring and the electrode is ensured by the wettability of the solder on the wiring in the thermosetting resin. On the other hand, since the solder is dispersed in the die-bonding material between the wirings and in the portion where the wettability of the solder is not good on the exposed surface of the substrate (for example, the exposed region of the insulating substrate). In addition, it is possible to avoid a short circuit between wires or electrodes due to the connection of solder. In addition, it is possible to realize a very good die bond that can prevent light from the light emitting element from being directly irradiated onto the substrate by the light reflecting material and prevent deterioration of the substrate.
一般に、配線材料は、半田に対して濡れ性が比較的良好であり、一方、基板を構成するような絶縁性材料は、半田に対する濡れ性が配線材料よりも悪いため又は半田をはじくため、上述したような配線間での半田の連結による短絡を回避することが可能である。あるいは、熱硬化性樹脂に対する半田の含有率を調整することにより、上述したような配線間又は電極間での半田の連結による短絡を効果的に回避することができる。 In general, the wiring material has a relatively good wettability with respect to the solder, whereas the insulating material constituting the substrate has a lower wettability with respect to the solder than the wiring material or repels the solder. It is possible to avoid a short circuit due to solder connection between the wirings. Alternatively, by adjusting the solder content with respect to the thermosetting resin, it is possible to effectively avoid a short circuit due to the connection of the solder between the wirings or between the electrodes as described above.
また、配線間の基板露出面がダイボンド材で被覆されることにより、発光素子直下の基板の露出面(配線が配置されている以外の部位)に、ダイボンド材の光反射材が配置することとなり、基板の露出面への光の照射が回避され、光照射による基板の露出面の劣化を効果的に防止することができる。 In addition, when the substrate exposed surface between the wirings is covered with a die bonding material, the light reflecting material of the die bonding material is disposed on the exposed surface of the substrate directly below the light emitting element (a part other than where the wiring is disposed). Irradiation of light onto the exposed surface of the substrate is avoided, and deterioration of the exposed surface of the substrate due to light irradiation can be effectively prevented.
本発明の発光装置を製造するためには、まず、所望の互いに分離した配線がその表面に形成された基板と、半導体積層構造の同一面側に一対の電極が配置された発光素子とを準備する。
次いで、互いに分離した配線の表面に、ダイボンド材を塗布する。この場合の塗布は、ディスペンサを用いた塗布、印刷等の公知の方法を利用することができる。この際、ダイボンド材は、互いに分離した配線上及びそれら配線間も含めて塗布することが好ましい。
続いて、ダイボンド材が塗布された、互いに分離した配線上に、一対の電極が対向するように、適所に発光素子をフリップチップで載置する。
In order to manufacture the light emitting device of the present invention, first, a substrate on which desired mutually separated wirings are formed and a light emitting element in which a pair of electrodes are arranged on the same side of the semiconductor multilayer structure are prepared. To do.
Next, a die bond material is applied to the surfaces of the wirings separated from each other. In this case, a known method such as coating using a dispenser or printing can be used. At this time, it is preferable to apply the die bond material on the wirings separated from each other and between the wirings.
Subsequently, the light emitting element is mounted in a flip chip at an appropriate position so that the pair of electrodes face each other on the wiring separated from each other and coated with the die bonding material.
その後、発光素子及び/又は基板を加熱することにより、発光素子と基板上の配線とを、半田接合すると同時に、熱硬化性樹脂の硬化により半田接合を補助する。この場合の加熱は、発光素子側から又は基板側からのいずれでも、双方からでもよい。加熱温度は、半田が溶融し、熱硬化性樹脂が硬化する温度程度とすることが好ましい。具体的には、140〜250℃程度が挙げられる。加熱時間は、数分から数秒程度が挙げられる。この加熱の際には、発光素子を加圧して基板に押し付けてもよい。加圧は、加熱と同時に行うことが好ましい。加圧する場合の加圧の程度は特に限定されないが、例えば、0.1MPa程度以上が挙げられる。
次いで、加熱及び/又は加圧を終了する。この際、発光素子側から又は基板側から、あるいは双方から積極的に冷却する、冷風を吹き付けるなどを行ってもよい。
Thereafter, by heating the light emitting element and / or the substrate, the light emitting element and the wiring on the substrate are soldered together, and at the same time, the soldering is assisted by curing the thermosetting resin. In this case, the heating may be performed from either the light emitting element side or the substrate side, or from both sides. The heating temperature is preferably about the temperature at which the solder melts and the thermosetting resin cures. Specifically, about 140-250 degreeC is mentioned. The heating time is about several minutes to several seconds. During this heating, the light emitting element may be pressurized and pressed against the substrate. The pressurization is preferably performed simultaneously with the heating. Although the degree of pressurization in the case of pressurizing is not particularly limited, for example, about 0.1 MPa or more can be mentioned.
Next, heating and / or pressurization is terminated. At this time, active cooling from the light emitting element side, the substrate side, or both, or blowing cold air may be performed.
このような一連の工程によって、ダイボンド材が、発光素子の一対の電極と基板の配線との間に配置されるとともに、配線間の基板露出面をも被覆するため、発光素子のダイボンドと、発光素子からの光照射による基板の保護とを、同時に行うことが可能となる。 Through such a series of steps, the die bonding material is disposed between the pair of electrodes of the light emitting element and the wiring of the substrate, and also covers the exposed surface of the substrate between the wirings. It is possible to simultaneously protect the substrate by light irradiation from the element.
以下に、本発明のダイボンド材及び発光装置の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
実施例1
透光性の熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂を準備した。
エポキシ樹脂100重量部に、半田(Sn−Bi系半田、粒径10μm程度)を15重量部と、光反射材としてTiO2(粒径0.5μm)とを20重量部均一に混合してダイボンド材を得た。
Hereinafter, embodiments of the die bonding material and the light emitting device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
Example 1
An epoxy resin was prepared as a translucent thermosetting resin.
Die bond by uniformly mixing 100 parts by weight of epoxy resin with 15 parts by weight of solder (Sn—Bi solder, particle size of about 10 μm) and 20 parts by weight of TiO 2 (particle size of 0.5 μm) as a light reflecting material. The material was obtained.
実施形態1
本発明の発光装置を図1Aに示す。
この発光装置は、半導体層の積層構造の一面側に一対の電極が配置された発光素子1と、実装基板2として、表面に互いに分離した一対の配線3が形成された基板によって構成されている。基板は、ガラスエポキシ樹脂から形成されており、一対の配線3は、膜厚35μm程度のCuによって形成されている。
A light-emitting device of the present invention is shown in FIG. 1A.
This light-emitting device includes a light-emitting
実装基板の一対の配線3には、発光素子1の一対の電極がそれぞれ対向するように、発光素子がフリップチップ実装されている。この実装は、配線3と、発光素子1の一対の電極との間に配置された上述したダイボンド材4によってボンディングされている。
ダイボンド材4中に分散した半田5は、配線3上で適度に連結し、配線3と電極とを電気的に接続するとともに、配線3間の基板の露出面上には、半田5が配置していないか、半田5の粒子(粒径:10μm程度)が、配線3及び電極の双方に接触していても、連結されていない状態で配置されている。
また、配線3間の基板の露出面上及び配線3と電極との間には、光反射材6が粒子状(粒径:0.5μm程度)で配置されている。
さらに、配線3上であって電極との間、配線3間、さらに、発光素子1の周辺には、半田及び光反射材が分散した熱硬化性樹脂が硬化し、配線と電極とを接着した状態で配置している。
The light emitting element is flip-chip mounted on the pair of
The
Further, the
Further, the thermosetting resin in which the solder and the light reflecting material are dispersed is cured on the
上述した発光装置は、例えば、図2A〜図2Dに示すように製造することができる。
まず、互いに分離した配線3がその表面に形成された実装基板2を準備する。図2Aに示すように、この実装基板2の発光素子1の実装部位であって、配線3上及び配線3間に、ダイボンド材4を例えば、ディスペンサにより塗布する。この場合のダイボンド材4の塗布厚は、0.1mm程度である。
次いで、図2Bに示すように、半導体積層構造の同一面側に一対の電極が配置された発光素子1を、実装基板2の配線3上に、フリップチップ実装するために、その一対の電極が配線3に対向するように載置する。
続いて、図2Cに示すように、発光素子及び/又は基板を加熱することにより、発光素子と基板上の配線とを、半田接合する。また、この際、同時に、熱硬化性樹脂の硬化により半田接合を補助する。この場合の加熱は、例えば、190℃にて、10分間とする。また、この加熱の際には、例えば、0.1MPa程度の加重を発光素子に負荷する。
その後、図2Dに示すように、加熱及び/又は加圧を終了し、常温で放置する。
The light-emitting device described above can be manufactured, for example, as shown in FIGS. 2A to 2D.
First, a mounting
Next, as shown in FIG. 2B, in order to flip-chip mount the
Subsequently, as shown in FIG. 2C, the light emitting element and / or the substrate are heated to solder the light emitting element and the wiring on the substrate. At the same time, solder bonding is assisted by curing the thermosetting resin. In this case, the heating is performed at 190 ° C. for 10 minutes, for example. In this heating, for example, a load of about 0.1 MPa is applied to the light emitting element.
Then, as shown to FIG. 2D, a heating and / or pressurization is complete | finished and it is left to stand at normal temperature.
このような一連の工程によって、ダイボンド材が、発光素子の一対の電極と基板の配線との間に配置されるとともに、配線間の基板露出面をも被覆するため、発光素子のダイボンドと、発光素子からの光照射による基板の保護とを、同時に行うことが可能となる。 Through such a series of steps, the die bonding material is disposed between the pair of electrodes of the light emitting element and the wiring of the substrate, and also covers the exposed surface of the substrate between the wirings. It is possible to simultaneously protect the substrate by light irradiation from the element.
実施形態2
本発明の発光装置を図1Bに示す。
この発光装置は、半導体層の積層構造の一面側の電極1aと、実装基板の配線3との間に配置された半田5が、電極1aのほぼ全面を覆うように配置されている以外は、実質的に実施形態1の発光装置と同様の構成を有する。
The light emitting device of the present invention is shown in FIG. 1B.
This light-emitting device has a configuration in which the
実施形態3
本発明の発光装置を図1Cに示す。
この発光装置は、内部に配線13を備え、かつ、底面に配線13を露出する開口を中央部分に備えた基板12を、図1Aの実装基板2に代えて用い、さらに、レンズ機能を備えたモールド材8を、発光素子1、ダイボンド材4等を被覆するように開口内全面に形成した以外は、実質的に実施形態1の発光装置と同様の構成を有する。
The light emitting device of the present invention is shown in FIG. 1C.
This light-emitting device uses a substrate 12 that includes
このように、本発明のダイボンド材は、透光性の熱硬化性樹脂中に半田が分散していることにより、ダイボンド材として異方性を有することができるため、種々の形状の発光素子、種々の形状又は配線パターンを有する実装基板に対して、容易かつ簡便にダイボンドすることができる。 As described above, since the die bond material of the present invention can have anisotropy as a die bond material because the solder is dispersed in the translucent thermosetting resin, light emitting elements having various shapes, Die bonding can be easily and simply performed on a mounting substrate having various shapes or wiring patterns.
本発明のダイボンド材は、透光性の熱硬化性樹脂を用いることにより、樹脂による光吸収を最小限に止め、かつ、光反射材を熱硬化性樹脂中に混合、拡散することにより、半田による光吸収をも最小限に止めることができる。また、図1AのMに示すように、光反射材6により、光を反射させることが可能となる。従って、このようなダイボンド材を発光素子のダイボンド材として使用した場合に、光の取り出し効率を最大限に発揮させることができる。さらに、ダイボンド材に含まれる半田により、発光素子の実装基板への接合を行うと同時に、熱硬化性樹脂による硬化によって、より発光素子の実装基板への実装を補強することができる。これにより、実装基板に形成された配線への発光素子の確実なボンディングを簡便かつ確実に行うことが可能となる。
The die-bonding material of the present invention uses a light-transmitting thermosetting resin to minimize light absorption by the resin, and mixes and diffuses the light-reflecting material in the thermosetting resin. The light absorption by can also be minimized. Further, as indicated by M in FIG. 1A, the
また、このようなダイボンド材を、発光素子の実装基板への実装に用いる場合、実装基板上の配線間で露出している表面に配置させることにより、実装基板自体の光照射による劣化を効果的に防止することができる。これにより、実装基板の劣化を伴わずに、長期にわたる安定した実装を維持するができ、発光装置の品質を維持しながら高寿命化を実現することができる。 In addition, when such a die-bonding material is used for mounting a light-emitting element on a mounting substrate, the mounting substrate itself is effectively deteriorated by light irradiation by being disposed on the surface exposed between the wirings on the mounting substrate. Can be prevented. As a result, stable mounting over a long period can be maintained without deteriorating the mounting substrate, and a long lifetime can be realized while maintaining the quality of the light emitting device.
本発明のダイボンド材は、発光装置のみならず、半導体装置のダイボンド材として広く利用することができ、特に、発光装置のダイボンドにおいて有利である。 The die-bonding material of the present invention can be widely used not only as a light-emitting device but also as a die-bonding material for a semiconductor device, and is particularly advantageous in the die-bonding of a light-emitting device.
1 発光素子
1a 電極
2 実装基板
3、13 配線
4 ダイボンド材
5 半田
6 光反射材
7 透光性の熱硬化樹脂
8 モールド材
12 基板
DESCRIPTION OF
Claims (10)
開口を備え、該開口内に前記発光素子が搭載され、前記開口の底面に導電性材料により形成された配線の一部が露出し、互いに分離された前記配線を有する、絶縁性材料により形成された基板を備えた発光装置であって、
前記基板表面の配線と、前記発光素子の一対の電極とが、透光性を有する熱硬化性樹脂中に半田及び光反射材が含有されたダイボンド材でそれぞれ電気的に接続され、前記発光素子直下の前記配線間の基板の露出面上には前記半田が配置されておらず、
前記ダイボンド材は、前記開口の底面の全面に配置され、
前記透光性を有する熱硬化性樹脂は、熱硬化に要する温度が140〜250℃であり、前記半田よりも多い重量で含有されており、
前記光反射材は、前記半田よりも多い重量で含有されており、
前記半田は、融点が140〜200℃であり、前記ダイボンド材の全重量に対して5〜30%であり、ただし30%は除くことを特徴とする発光装置。 A light emitting element having a pair of electrodes arranged on the same surface side of the semiconductor layer stacked structure and an opening, the light emitting element being mounted in the opening, and a part of a wiring formed of a conductive material on a bottom surface of the opening there was exposed, with the wiring which are separated from each other, a light-emitting device having a substrate formed of an insulating material,
The wiring on the surface of the substrate and the pair of electrodes of the light emitting element are electrically connected to each other by a die bond material containing a solder and a light reflecting material in a thermosetting resin having translucency, and the light emitting element The solder is not disposed on the exposed surface of the substrate between the wirings immediately below,
The die bond material is disposed on the entire bottom surface of the opening,
The thermosetting resin having translucency has a temperature required for thermosetting of 140 to 250 ° C., and is contained in a larger weight than the solder.
The light reflecting material is contained in a greater weight than the solder,
The light emitting device, wherein the solder has a melting point of 140 to 200 ° C. and is 5 to 30% with respect to the total weight of the die bond material, except for 30%.
開口を備え、該開口内に前記発光素子が搭載され、前記開口の底面に導電性材料により形成された配線の一部が露出し、互いに分離された前記配線を有する絶縁性材料により形成された基板を備えた発光装置であって、
前記基板表面の配線と、前記発光素子の一対の電極とが、透光性を有する熱硬化性樹脂中に半田及び光反射材が含有されたダイボンド材でそれぞれ電気的に接続され、前記発光素子直下の前記配線間の基板の露出面上には前記半田が配置されておらず、
前記ダイボンド材は、前記開口の底面の全面に配置され、
前記透光性を有する熱硬化性樹脂は、前記半田よりも多い重量で含有されており、前記半田の融点と同等の温度で硬化する樹脂であり、
前記光反射材は、前記半田よりも多い重量で含有されており、
前記半田は、前記ダイボンド材の全重量に対して5〜30%であり、ただし30%は除くことを特徴とする発光装置。 A light emitting element having a pair of electrodes arranged on the same surface side of the semiconductor layer stacked structure and an opening, the light emitting element being mounted in the opening, and a part of a wiring formed of a conductive material on a bottom surface of the opening there is exposed to a light emitting device having a substrate formed of an insulating material having the wiring which are separated from each other,
The wiring on the surface of the substrate and the pair of electrodes of the light emitting element are electrically connected to each other by a die bond material containing a solder and a light reflecting material in a thermosetting resin having translucency, and the light emitting element The solder is not disposed on the exposed surface of the substrate between the wirings immediately below,
The die bond material is disposed on the entire bottom surface of the opening,
The light-transmitting thermosetting resin is contained in a weight greater than that of the solder, and is a resin that is cured at a temperature equivalent to the melting point of the solder.
The light reflecting material is contained in a greater weight than the solder,
The light emitting device according to claim 1, wherein the solder accounts for 5 to 30% of the total weight of the die bond material, except for 30%.
開口を備え、該開口内に前記該発光素子を搭載し、前記開口の底面に導電性材料により形成された配線の一部が露出し、互いに分離された前記配線を有する絶縁性材料により形成された基板を備えた発光装置の製造方法であって、
前記基板の前記開口の底面の全面に、熱硬化に要する温度が140〜250℃であり、かつ透光性を有する熱硬化性樹脂中に半田及び光反射材が含有され、かつ前記熱硬化性樹脂が前記半田よりも多い重量で含有されるとともに、前記光反射材が、前記半田よりも多い重量で含有された、ダイボンド材を供給する工程と、
前記ダイボンド材上に発光素子を配置する工程と、
前記熱硬化性樹脂を硬化させると同時に前記半田を溶融させる加熱工程とを含み、
前記半田は、融点が140〜200℃であり、前記ダイボンド材の全重量に対して5〜30%であり、ただし30%は除き、
前記溶融された半田によって、前記基板表面の配線と前記発光素子の一対の電極とが、それぞれ電気的に接続されるとともに、前記発光素子直下の前記配線間の基板の露出面上には前記半田が配置されていない発光装置の製造方法。 A light-emitting element having a pair of electrodes arranged on the same surface side of the semiconductor layer stacked structure and an opening, the light-emitting element mounted in the opening, and a wiring formed of a conductive material on the bottom surface of the opening parts are exposed, the method for manufacturing a light emitting device having a substrate formed of an insulating material having the wiring which are separated from each other,
The entire surface of the bottom surface of the opening of the substrate has a temperature required for thermosetting of 140 to 250 ° C., and contains a solder and a light reflecting material in a thermosetting resin having translucency, and the thermosetting A step of supplying a die bond material in which a resin is contained in a weight greater than that of the solder and the light reflecting material is contained in a weight greater than that of the solder;
Arranging a light emitting element on the die bond material;
A heating step of curing the thermosetting resin and simultaneously melting the solder,
The solder has a melting point of 140 to 200 ° C. and 5 to 30% based on the total weight of the die bond material, except for 30%.
The melted solder electrically connects the wiring on the substrate surface and the pair of electrodes of the light emitting element, and the solder is disposed on the exposed surface of the substrate between the wirings immediately below the light emitting element. A method for manufacturing a light emitting device in which no is disposed.
開口を備え、該開口内に前記該発光素子を搭載し、前記開口の底面に導電性材料により形成された配線の一部が露出し、互いに分離された前記配線を有する絶縁性材料により形成された基板を備えた発光装置の製造方法であって、
前記基板の前記開口の底面の全面に、透光性を有する熱硬化性樹脂中に半田及び光反射材が含有され、かつ前記熱硬化性樹脂は、前記半田の融点と同等の温度で硬化する樹脂であり、かつ前記半田よりも多い重量で含有されるとともに、前記光反射材が、前記半田よりも多い重量で含有された、ダイボンド材を供給する工程と、
前記ダイボンド材上に発光素子を配置する工程と、
前記熱硬化性樹脂を硬化させると同時に前記半田を溶融させる加熱工程とを含み、
前記半田は、融点が140〜200℃であり、前記ダイボンド材の全重量に対して5〜30%であり、ただし30%は除き、
前記溶融された半田によって、前記基板表面の配線と前記発光素子の一対の電極とを、それぞれ電気的に接続するとともに、前記発光素子直下の前記配線間の基板の露出面上には前記半田が配置されていない発光装置の製造方法。 A light-emitting element having a pair of electrodes arranged on the same surface side of the semiconductor layer stacked structure and an opening, the light-emitting element mounted in the opening, and a wiring formed of a conductive material on the bottom surface of the opening parts are exposed, the method for manufacturing a light emitting device having a substrate formed of an insulating material having the wiring which are separated from each other,
The entire bottom surface of the opening of the substrate contains solder and a light reflecting material in a light-transmitting thermosetting resin, and the thermosetting resin is cured at a temperature equivalent to the melting point of the solder. Supplying a die bond material that is a resin and is contained in a weight greater than that of the solder, and wherein the light reflecting material is contained in a weight greater than that of the solder;
Arranging a light emitting element on the die bond material;
A heating step of curing the thermosetting resin and simultaneously melting the solder,
The solder has a melting point of 140 to 200 ° C. and 5 to 30% based on the total weight of the die bond material, except for 30%.
The molten solder electrically connects the wiring on the substrate surface and the pair of electrodes of the light emitting element, and the solder is exposed on the exposed surface of the substrate between the wirings immediately below the light emitting element. A method for manufacturing a light emitting device that is not arranged.
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