JP6490952B2 - Reactor and water treatment device - Google Patents
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Description
本発明は、反応体を充填するための反応体収容体と、反応体収容体に反応体が充填された反応器と、それを用いた水処理装置に関し、特にモノリス状イオン交換体の充填構造に関する。 The present invention relates to a reactant container for filling a reactant, a reactor in which the reactant container is filled with a reactant, and a water treatment apparatus using the same, and more particularly, a monolithic ion exchanger filling structure About.
イオン交換体の一つとしてモノリス状イオン交換体が知られている(特許文献1〜2)。モノリス状イオン交換体は連続細孔構造を有する多孔質イオン交換体である。モノリス状イオン交換体は細孔径を数μmから数十μmに制御することが可能であり、粒状イオン交換樹脂と比べて短いイオン交換帯長を有している。このためイオンを迅速かつ均一に吸着することができ、高流速での処理が可能である。イオン交換帯長とは、イオン交換反応の定常状態において、反応が活性に行われている部分(イオン交換体)の長さのことをいう。モノリス状イオン交換体には様々な触媒を担持させることができる。白金族金属触媒を担持したモノリス状イオン交換体は過酸化水素の分解処理に適している(特許文献3〜4)。 A monolithic ion exchanger is known as one of the ion exchangers (Patent Documents 1 and 2). The monolithic ion exchanger is a porous ion exchanger having a continuous pore structure. The monolithic ion exchanger can control the pore diameter from several μm to several tens of μm, and has a shorter ion exchange zone length than the granular ion exchange resin. Therefore, ions can be adsorbed quickly and uniformly, and processing at a high flow rate is possible. The ion exchange zone length refers to the length of the portion (ion exchanger) in which the reaction is actively performed in the steady state of the ion exchange reaction. Various catalysts can be supported on the monolithic ion exchanger. A monolithic ion exchanger carrying a platinum group metal catalyst is suitable for hydrogen peroxide decomposition treatment (Patent Documents 3 to 4).
モノリス状イオン交換体は、粒状イオン交換体に比べて優れた処理性能を有し、高流速での処理が可能である。しかし、高流速になるほど差圧が上昇し、モノリス状イオン交換体を含むシステム全体の性能に影響を及ぼす。同様の課題はモノリス状イオン交換体だけでなく、高流速での処理が可能だが高流速になるほど差圧が上昇する反応体に一般的に存在する。 Monolithic ion exchangers have superior processing performance compared to granular ion exchangers, and can be processed at high flow rates. However, the higher the flow rate, the higher the differential pressure, affecting the overall performance of the system including the monolithic ion exchanger. Similar problems generally exist not only in monolithic ion exchangers but also in reactants that can be processed at high flow rates, but the differential pressure increases with higher flow rates.
本発明は、高流速の条件でも差圧の上昇が抑えられた反応器を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a reactor in which an increase in differential pressure is suppressed even under high flow rate conditions.
本発明の反応器は、反応体収容体と、前記反応体収容体に充填された、モノリス状イオン交換体である複数の反応体と、を有している。反応体収容体は、複数の反応体がそれぞれ充填される複数の貫通孔を備える反応体保持部と、反応体保持部の上側周縁部に連結され、被処理水が供給される入口部を備えた上蓋と、反応体保持部の下側周縁部に連結され、被処理水が排出される出口部を備えた底蓋と、を有している。上蓋と底蓋はそれぞれ、反応体保持部を挟持するフランジを備え、入口部または出口部で配管と接続されている。貫通孔と直交する貫通孔断面において、少なくとも一つの貫通孔を内包する最小の仮想円の直径をD、貫通孔の軸方向の長さをHとしたときに、D/H≧1であり、少なくとも一つの貫通孔における反応体の充填領域の面積を仮想円の面積で割った値が0.3以上である。 The reactor of the present invention includes a reactant container and a plurality of reactants that are monolithic ion exchangers filled in the reactant container. Reactants container comprises a reaction body holding portion having a plurality of through holes in which a plurality of reactants are filled respectively, are connected to the upper periphery of the reactants holding portion, the inlet portion treated water is supplied An upper lid and a bottom lid that is connected to the lower peripheral edge of the reactant holding portion and has an outlet for discharging the water to be treated. Each top lid and the bottom lid is provided with a flange for holding the reactants holding portion, and is connected to the pipe at the inlet portion or outlet portion. In the cross section of the through hole orthogonal to the through hole, D / H ≧ 1, where D is the diameter of the smallest virtual circle containing at least one through hole, and H is the axial length of the through hole. A value obtained by dividing the area of the filling region of the reactant in at least one through hole by the area of the virtual circle is 0.3 or more.
貫通孔はD/H≧1を満足する形状を有している。上述のように、反応体は高流速の条件での通水処理が可能である反面、反応体の充填高さが高いと通水差圧が大きくなる。D/H≧1を満足することで反応体の充填高さが抑えられるため、通水差圧を抑えながら高流速の条件での通水処理が可能となる。 The through hole has a shape satisfying D / H ≧ 1. As described above, the reactant can be subjected to a water flow treatment under a high flow rate condition. However, if the reactant filling height is high, the water flow differential pressure increases. Since the filling height of the reactants can be suppressed by satisfying D / H ≧ 1, water flow treatment under a high flow rate condition can be performed while suppressing the water flow differential pressure.
本発明によれば、高流速の条件でも差圧の上昇が抑えられた反応器を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a reactor in which an increase in differential pressure is suppressed even under a high flow rate condition.
(第1の実施形態)
まず、本発明の第1の実施形態に係る超純水製造装置について説明する。超純水製造装置は例えば半導体製造業において、不純物を高度に除去した超純水を用いてシリコンウエハの洗浄を行うために用いられる。超純水は、一般に原水(河川水、地下水、工業用水等)中に含まれる懸濁物質や有機物の一部を前処理工程で除去した後、その処理水を一次純水系システム及び二次純水系システム(サブシステム)で順次処理することによって製造され、ウエハ洗浄を行うユースポイントに供給される。一次純水系システムでは例えば、逆浸透膜分離装置で水から塩類や不純物が除去され、脱気装置で溶存酸素が除去され、純水が製造される。二次純水系システムでは水の純度がさらに高められ超純水が製造される。
(First embodiment)
First, the ultrapure water manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described. The ultrapure water production apparatus is used, for example, in the semiconductor manufacturing industry to clean silicon wafers using ultrapure water from which impurities are highly removed. Ultrapure water generally removes part of suspended matter and organic matter contained in raw water (river water, groundwater, industrial water, etc.) in the pretreatment process, and then treats the treated water with the primary pure water system and secondary pure water. Manufactured by sequential processing in an aqueous system (subsystem) and supplied to a use point for wafer cleaning. In a primary pure water system, for example, salts and impurities are removed from water by a reverse osmosis membrane separation device, and dissolved oxygen is removed by a deaeration device, thereby producing pure water. In the secondary pure water system, the purity of water is further increased and ultrapure water is produced.
図1は、本発明の一実施形態における超純水製造装置1の概略構成を示している。超純水製造装置1は上述の二次純水系システム(サブシステム)であるが、本発明の対象となる装置は一次純水系システムやその他の水処理システムにあってもよく、本発明は水処理システム全般に適用することができる。また、本発明は水以外の流体、例えば、アルコール等の薬液の処理(精製)、大気等の気体の処理システムにも適用することができる。超純水製造装置1は、一次純水系システム(図示せず)で製造された純水(被処理水)を貯留するタンク(T)2と、タンク2から被処理水を送出するポンプ(P)3と、熱交換器(Hx)4と、紫外線酸化装置(UVox)5と、パラジウム(Pd)が担持されたモノリス状イオン交換体で構成された過酸化水素除去装置6と、カートリッジポリッシャ(非再生型イオン交換装置;CP)7と、膜脱気装置(MD)8と、限外ろ過装置(UF)9と、を有し、これらが母管10上にこの順で配置されている。 FIG. 1 shows a schematic configuration of an ultrapure water production apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. The ultrapure water production apparatus 1 is the above-described secondary pure water system (subsystem). However, the apparatus that is the subject of the present invention may be in a primary pure water system or other water treatment system. It can be applied to all processing systems. The present invention can also be applied to processing (purification) of fluids other than water, for example, chemicals such as alcohol, and processing systems for gases such as the atmosphere. The ultrapure water production apparatus 1 includes a tank (T) 2 for storing pure water (treated water) produced by a primary pure water system (not shown), and a pump (P) for delivering treated water from the tank 2 (P ) 3, a heat exchanger (Hx) 4, an ultraviolet oxidation device (UVox) 5, a hydrogen peroxide removing device 6 composed of a monolithic ion exchanger carrying palladium (Pd), and a cartridge polisher ( A non-regenerative ion exchange device (CP) 7, a membrane deaeration device (MD) 8, and an ultrafiltration device (UF) 9 are disposed on the mother pipe 10 in this order. .
タンク2にはTOC成分を含む被処理水が貯蔵されている。タンク2に貯蔵されている被処理水はポンプ3で圧送され、紫外線酸化装置5に送られる。被処理水の温度は予め熱交換器4で調整される。紫外線照射装置5では波長254nmと波長185nmを含む紫外線が被処理水に照射されOHラジカルが生成される。生成されたOHラジカルは被処理水中に含まれるTOCを二酸化炭素や有機酸に分解する。 The tank 2 stores water to be treated containing a TOC component. The treated water stored in the tank 2 is pumped by the pump 3 and sent to the ultraviolet oxidizer 5. The temperature of the water to be treated is adjusted by the heat exchanger 4 in advance. In the ultraviolet irradiation device 5, ultraviolet rays including a wavelength of 254 nm and a wavelength of 185 nm are irradiated to the water to be treated to generate OH radicals. The generated OH radical decomposes TOC contained in the water to be treated into carbon dioxide and organic acid.
発生した二酸化炭素や有機酸はカートリッジポリッシャ7で除去される。カートリッジポリッシャ7は、ボンベ内に充填されたイオン交換樹脂が被処理水中のイオンを除去する非再生型イオン交換装置である。樹脂のイオン交換機能が低下すると、樹脂の薬品再生は行われず、新しい樹脂に交換される。このため、各々が50%容量の3台のカートリッジポリッシャ(CP1,CP2,CP3)7a,7b,7cが設けられ、超純水製造装置1の運転中にも樹脂の交換が可能となっている。紫外線照射装置5を通過した被処理水には、紫外線照射装置5で照射される紫外線によって発生した過酸化水素などの酸化性物質が含まれている。このため、紫外線照射装置5とカートリッジポリッシャ7の間に過酸化水素除去装置6が設けられ、過酸化水素が水と酸素に分解される。 The generated carbon dioxide and organic acid are removed by the cartridge polisher 7. The cartridge polisher 7 is a non-regenerative ion exchange device in which an ion exchange resin filled in a cylinder removes ions in the water to be treated. When the ion exchange function of the resin is lowered, the resin chemical regeneration is not performed and the resin is replaced with a new resin. For this reason, three cartridge polishers (CP1, CP2, CP3) 7a, 7b, 7c each having 50% capacity are provided, and the resin can be exchanged even during operation of the ultrapure water production apparatus 1. . The treated water that has passed through the ultraviolet irradiation device 5 contains an oxidizing substance such as hydrogen peroxide generated by the ultraviolet rays irradiated by the ultraviolet irradiation device 5. For this reason, a hydrogen peroxide removing device 6 is provided between the ultraviolet irradiation device 5 and the cartridge polisher 7, and the hydrogen peroxide is decomposed into water and oxygen.
過酸化水素除去装置6としては、Pdなどの白金族金属が担持された触媒金属担持体を用いることが好ましい。被処理水中の過酸化水素を白金族金属触媒と接触させ、触媒分解によって過酸化水素を除去することができる。白金族金属触媒は、例えば、アニオン交換体に担持させられている。アニオン交換体は、粒状のアニオン交換樹脂であってもよいが、アニオン交換樹脂が一体のものとして成形されたモノリス状有機多孔質アニオン交換体が好適に用いられる。アニオン交換体に白金族金属触媒を担持することにより、高い触媒能力が発揮され、触媒からの溶出物を低減させる。白金族金属担持触媒は水素共存下で溶存酸素除去を行うことができ、脱酸素装置としても利用できる。 As the hydrogen peroxide removing device 6, it is preferable to use a catalyst metal carrier on which a platinum group metal such as Pd is supported. Hydrogen peroxide in the water to be treated can be contacted with a platinum group metal catalyst, and hydrogen peroxide can be removed by catalytic decomposition. The platinum group metal catalyst is supported on, for example, an anion exchanger. The anion exchanger may be a granular anion exchange resin, but a monolithic organic porous anion exchanger formed by integrating the anion exchange resin is preferably used. By supporting the platinum group metal catalyst on the anion exchanger, a high catalytic ability is exhibited, and the effluent from the catalyst is reduced. The platinum group metal supported catalyst can remove dissolved oxygen in the presence of hydrogen and can also be used as a deoxygenation apparatus.
カートリッジポリッシャ7を通過した被処理水は膜脱気装置8に送られ、溶存酸素が除去される。超純水中に含まれる溶存酸素は、シリコンウエハなどの表面に自然酸化膜を形成する。自然酸化膜がウエハの表面に形成されると、低温でのエピタキシャルシリコン薄膜の成長を妨げたり、ゲート酸化膜の膜厚及び膜質の精密制御の妨げとなったり、コンタクトホールのコンタクト抵抗の増加原因となったりする。そのため、ウエハ表面の自然酸化膜の形成を極力防止する必要があり、超純水中の溶存酸素量を抑制する必要がある。微粒子は限外ろ過装置9で除去される。このようにして、被処理水は、高度に不純物が除去された超純水となって、ユースポイントに送られる。使用されなかった超純水は、限外ろ過装置9とユースポイントの間の分岐点から戻り配管11によって、タンク2に戻される。 The water to be treated that has passed through the cartridge polisher 7 is sent to the membrane deaerator 8 to remove dissolved oxygen. The dissolved oxygen contained in the ultrapure water forms a natural oxide film on the surface of a silicon wafer or the like. When a natural oxide film is formed on the wafer surface, it prevents growth of epitaxial silicon thin films at low temperatures, hinders precise control of the gate oxide film thickness and film quality, and increases the contact resistance of contact holes. It becomes. Therefore, it is necessary to prevent the formation of a natural oxide film on the wafer surface as much as possible, and it is necessary to suppress the amount of dissolved oxygen in the ultrapure water. Fine particles are removed by the ultrafiltration device 9. In this way, the water to be treated becomes ultrapure water from which impurities are highly removed, and is sent to the use point. The ultrapure water that has not been used is returned to the tank 2 by a return pipe 11 from a branch point between the ultrafiltration device 9 and the use point.
次に、図2を参照して過酸化水素除去装置6の構成についてより詳細に説明する。本実施形態では過酸化水素除去装置6は独立した反応器21として設けられている。図2(a)は反応器21の側方断面図、図2(b)は図2(a)の線2b−2bに沿った反応器21、より詳細には反応体保持部24のレベルにおける反応器21の断面図、図2(c)は図2(b)の線2c−2cに沿った反応体収容体22の側方断面図である。反応体収容体22は反応体が充填される容器を意味し、反応器21は反応体が充填された反応体収容体22を意味する。反応体収容体22はステンレス鋼で作製されている。反応体収容体22は、被処理水が連通可能な入口開口37と出口開口38とを備えた流路または貫通孔34を有している。反応体収容体22は、製作のし易さ、コスト、耐圧性などから概ね回転体の形状を有しており、より具体的には反応体が充填された反応体充填領域23を有する円筒形の反応体保持部24と、反応体保持部24の上側周縁部25に連結される上蓋26と、反応体保持部24の下側周縁部27に連結される底蓋28と、を有している。上蓋26と反応体保持部24と底蓋28は、それぞれフランジ26a,24a,28aを有し、ボルトとナット(図示せず)から構成される締結手段43によって相互に締結されている。後述するように反応体保持部24は薄く、反応体収容体22は全体として円盤状の形状を有している。反応体収容体22は中心線CLが概ね鉛直方向に延びるように設置され、被処理水は上側の入口32から反応体収容体22に流入し、入口開口37を通って反応体保持部24に流入し、出口開口38を通って反応体保持部24から流出し、下側の出口33を通って反応体収容体22から流出する。ここで、反応体とは、被処理水中の特定物質をイオン交換反応、吸着反応、酸化還元反応、触媒反応等の物理化学的反応により処理するものをいう。反応体は、イオン交換体、モノリス状イオン交換体、白金族金属触媒が担持されたモノリス状イオン交換体、白金族金属触媒が担持されたイオン交換樹脂などを含む。反応体充填領域23には少なくとも一つ、本実施形態では複数のPdが担持されたモノリス状イオン交換体(以下、「Pdモノリス」という場合がある。)Mが充填されている。 Next, the configuration of the hydrogen peroxide removing device 6 will be described in more detail with reference to FIG. In this embodiment, the hydrogen peroxide removing device 6 is provided as an independent reactor 21. 2 (a) is a side sectional view of the reactor 21, FIG. 2 (b) is at the level of the reactor 21 along the line 2b-2b of FIG. 2 (a), and more specifically at the level of the reactant holding part 24. FIG. 2C is a cross-sectional view of the reactor 21, and FIG. 2C is a side cross-sectional view of the reactant container 22 taken along line 2c-2c in FIG. The reactant container 22 means a container filled with the reactant, and the reactor 21 means the reactant container 22 filled with the reactant. The reactant container 22 is made of stainless steel. The reactant container 22 has a flow path or through hole 34 having an inlet opening 37 and an outlet opening 38 through which water to be treated can communicate. The reactant container 22 is generally in the shape of a rotating body because of ease of manufacture, cost, pressure resistance, and the like, and more specifically, a cylindrical shape having a reactant filling region 23 filled with the reactant. A reactant lid 24, an upper lid 26 connected to the upper peripheral edge 25 of the reactant holder 24, and a bottom lid 28 connected to the lower peripheral edge 27 of the reactant holder 24. Yes. The top lid 26, the reactant holding portion 24, and the bottom lid 28 have flanges 26a, 24a, and 28a, respectively, and are fastened to each other by fastening means 43 that includes bolts and nuts (not shown). As will be described later, the reactant holder 24 is thin, and the reactant container 22 has a disk-like shape as a whole. The reactant container 22 is installed so that the center line CL extends substantially in the vertical direction, and the water to be treated flows into the reactant container 22 from the upper inlet 32 and passes through the inlet opening 37 to the reactant holder 24. It flows in, flows out from the reactant holding part 24 through the outlet opening 38, and flows out from the reactant container 22 through the lower outlet 33. Here, the reactant means a substance that treats a specific substance in the water to be treated by a physicochemical reaction such as an ion exchange reaction, an adsorption reaction, an oxidation-reduction reaction, or a catalytic reaction. The reactant includes an ion exchanger, a monolithic ion exchanger, a monolithic ion exchanger carrying a platinum group metal catalyst, an ion exchange resin carrying a platinum group metal catalyst, and the like. The reactant filling region 23 is filled with at least one, in this embodiment, a monolithic ion exchanger (hereinafter sometimes referred to as “Pd monolith”) M carrying a plurality of Pd.
図2(b)を参照すると、反応体収容体22、より具体的には反応体保持部24には7つのPdモノリスM1〜M7が収容されている。反応体収容体22は7つの流路ないし貫通孔34を有し、各流路ないし貫通孔34にそれぞれ一つのPdモノリスM1〜M7が収容されている。各PdモノリスMは反応体収容体22の流路断面(中心軸CLと直交する断面、あるいは反応体収容体22の流路34と直交する断面)において円形の断面を有し、概ね円筒形の形状を有している。PdモノリスMは反応体収容体22の中心軸CLに関し点対称に配置されている。具体的には、反応体収容体22の中心軸CLと同軸に一つのPdモノリスM1が設置され、PdモノリスM1の周囲に、PdモノリスM1と同軸の仮想円40に沿って6つのPdモノリスM2〜M7が間隔α=60°の等間隔で配置されている。PdモノリスMは円筒形であるため、円筒形の流路34に容易に充填することができ、PdモノリスMの配置効率や利用効率が向上する。イオン交換体収容体22の外周部に沿ってボルトが通る穴24bが形成さている。 Referring to FIG. 2B, seven Pd monoliths M1 to M7 are accommodated in the reactant accommodating body 22, more specifically, the reactant holding portion 24. The reactant container 22 has seven flow paths or through-holes 34, and one Pd monolith M1 to M7 is accommodated in each flow path or through-hole 34, respectively. Each Pd monolith M has a circular cross section in the flow path cross section of the reactant container 22 (cross section orthogonal to the central axis CL or cross section orthogonal to the flow path 34 of the reactant container 22), and is generally cylindrical. It has a shape. The Pd monolith M is arranged point-symmetrically with respect to the central axis CL of the reactant container 22. Specifically, one Pd monolith M1 is installed coaxially with the central axis CL of the reactant container 22, and six Pd monoliths M2 are arranged around the Pd monolith M1 along a virtual circle 40 coaxial with the Pd monolith M1. To M7 are arranged at equal intervals of α = 60 °. Since the Pd monolith M is cylindrical, the cylindrical flow path 34 can be easily filled, and the arrangement efficiency and use efficiency of the Pd monolith M are improved. A hole 24 b through which a bolt passes is formed along the outer periphery of the ion exchanger housing 22.
反応体収容体22はその内部に、PdモノリスMを支持する支持プレート31を有している。支持プレート31は7つ設けられ、それぞれがPdモノリスMを支持している。反応体収容体22は各流路34の底部に流路34の中心に向かって突き出すリング状の突起35を有しており、突起35の上に支持プレート31が載置されている。支持プレート31はステンレス鋼で作成されている。図3は支持プレート31の平面図であり、支持プレート31には被処理水が通過する多数の穴31aが形成されている。流路ないし貫通孔34の直径はPdモノリスMの直径と同じか、同程度の大きさにされている。PdモノリスMは流路ないし貫通孔34に挿入され、反応体収容体22に支持される。 The reactant container 22 has a support plate 31 for supporting the Pd monolith M therein. Seven support plates 31 are provided, and each support the Pd monolith M. The reactant container 22 has a ring-shaped protrusion 35 protruding toward the center of the flow path 34 at the bottom of each flow path 34, and the support plate 31 is placed on the protrusion 35. The support plate 31 is made of stainless steel. FIG. 3 is a plan view of the support plate 31. The support plate 31 has a number of holes 31a through which water to be treated passes. The diameter of the flow path or the through hole 34 is the same as or the same as the diameter of the Pd monolith M. The Pd monolith M is inserted into the flow path or through-hole 34 and supported by the reactant container 22.
流路ないし貫通孔34の上部には7つの上部保持プレート29が設けられている。上部保持プレート29は反応体収容体22への通水時にPdモノリスMが流路ないし貫通孔34内にしっかりと保持されるように、PdモノリスMの上下方向への動きを拘束する。上部保持プレート29は省略することができる。ただし、反応体収容体22に粒状の反応体を充填する場合は上部保持プレート29を設けることが好ましい。上部保持プレート29は粒状の反応体の飛散を防止することができる。上部保持プレート29は支持プレート31と同じ構造を有することができ、支持プレート31と同様、被処理水が通過する多数の穴が形成されている。上部保持プレート29の直上を、リング状の溝36が流路34の側面に沿って円周状に延びている。溝36にはスナップリング30が嵌められ、上部保持プレート29を拘束する。スナップリング30はステンレス鋼で形成された開いたリング状の部材である。スナップリング30は流路34の直径より大きい外径を有している。対向する端部が近づく向きに弾性変形させることで外径が流路34の直径より小さくなり、入口開口37から流路34の内部に挿入することができる。変形を解除するとスナップリング30が元の形状に復帰して溝36に嵌り、上部保持プレート29及びPdモノリスMの動きを拘束する。反応体は支持プレート31と上部保持プレート29の間の空間に充填される。反応体充填領域23はこの空間内の実際に反応体が充填されている領域をいう。従って、反応体充填領域23は支持プレート31と上部保持プレート29の間の空間の一部または全部である。 Seven upper holding plates 29 are provided above the flow path or the through hole 34. The upper holding plate 29 restrains the movement of the Pd monolith M in the vertical direction so that the Pd monolith M is firmly held in the flow path or the through hole 34 when water flows into the reactant container 22. The upper holding plate 29 can be omitted. However, it is preferable to provide the upper holding plate 29 when the reactant container 22 is filled with a granular reactant. The upper holding plate 29 can prevent scattering of the granular reactant. The upper holding plate 29 can have the same structure as the support plate 31, and similarly to the support plate 31, a large number of holes through which water to be treated passes are formed. A ring-shaped groove 36 extends circumferentially along the side surface of the flow path 34 just above the upper holding plate 29. A snap ring 30 is fitted in the groove 36 to restrain the upper holding plate 29. The snap ring 30 is an open ring-shaped member made of stainless steel. The snap ring 30 has an outer diameter larger than the diameter of the flow path 34. By elastically deforming the facing end portions toward each other, the outer diameter becomes smaller than the diameter of the flow path 34 and can be inserted into the flow path 34 from the inlet opening 37. When the deformation is released, the snap ring 30 returns to its original shape and fits into the groove 36 to restrain the movement of the upper holding plate 29 and the Pd monolith M. The reactant is filled in the space between the support plate 31 and the upper holding plate 29. The reactant filling area 23 is an area in the space where the reactant is actually filled. Therefore, the reactant filling region 23 is a part or all of the space between the support plate 31 and the upper holding plate 29.
図4は、PdモノリスMの充填パターンが異なる他の実施形態を示している。図4(a)では、円形断面のPdモノリスMが三重に設けられている。このように、被処理水の処理量や処理対象物質の濃度等に応じて、Pdモノリスの数を増減することができる。PdモノリスMの断面形状は、円形に限らず、四角形他の多角形でもよい。 FIG. 4 shows another embodiment in which the filling pattern of the Pd monolith M is different. In FIG. 4A, the Pd monolith M having a circular cross section is provided in triplicate. In this way, the number of Pd monoliths can be increased or decreased according to the amount of water to be treated and the concentration of the substance to be treated. The cross-sectional shape of the Pd monolith M is not limited to a circle, but may be a quadrilateral or other polygon.
図4(b)では、正六角形の断面のPdモノリスMが設けられている。反応体収容体22の中心軸CLと直交する断面において、中心部に正六角形の断面を有するPdモノリスを配置し、その外周部に正六角形のPdモノリスMをさらに隣接させて蜂の巣状に互いに密着させ、反応体収容体22に収まる一つの円形断面となるように切断する。こうすることにより、図2に示したような個別の流路34を設ける必要はなく、一つの流路に複数のPdモノリスMを充填することができ、PdモノリスMを高い配置効率で配置することができる。被処理水の処理量や処理対象物質の濃度等に応じて、図4(c)のようにPdモノリスの数を増やすことができる。 In FIG. 4B, a Pd monolith M having a regular hexagonal cross section is provided. A Pd monolith having a regular hexagonal cross section is arranged at the center in the cross section perpendicular to the central axis CL of the reactant container 22, and a regular hexagonal Pd monolith M is further adjacent to the outer peripheral part so as to adhere to each other in a honeycomb shape And cut so as to have one circular cross section that fits in the reactant container 22. By doing so, it is not necessary to provide the individual flow paths 34 as shown in FIG. 2, and a single flow path can be filled with a plurality of Pd monoliths M, and the Pd monoliths M are arranged with high arrangement efficiency. be able to. The number of Pd monoliths can be increased as shown in FIG. 4C according to the amount of water to be treated and the concentration of the substance to be treated.
図5は、複数の反応器21が設けられた例を示している。図5(a)を参照すると、鉛直方向に延びる2つの母管10に3つの反応器21a,21b,21cが並列に設けられている。図5(b)を参照すると、水平方向に延びる2つの母管10に3つの反応器21a,21b,21cが並列に設けられている。複数の反応器21を設ける場合、その一部を予備ユニットとして用いることができる。図示の反応器21a,21b,21cでは各反応器21a,21b,21cは流量の50%の容量を有し、一つの反応器21a(または21bまたは21c)を停止させておくことができる。このため、超純水製造装置1の運転を続けながら性能の劣化したPdモノリスMを順次交換することができる。各反応器21a,21b,21cは母管10から分岐する配管12によって接続されている。反応器21a,21b,21cと配管12はフランジ13で接続されており、ナット(図示せず)の締結力を解除することで上蓋26を上方向D1に、底蓋28を下方向D2に動かし、反応体保持部24から分離させることができる。このため、PdモノリスMが充填された反応体保持部24を上蓋26と底蓋28との間から水平方向D3に引き抜くことができ、メンテナンスを容易に行うことができる。 FIG. 5 shows an example in which a plurality of reactors 21 are provided. Referring to FIG. 5A, three reactors 21a, 21b, and 21c are provided in parallel in two mother pipes 10 extending in the vertical direction. Referring to FIG. 5B, three reactors 21a, 21b, and 21c are provided in parallel in two mother pipes 10 extending in the horizontal direction. When a plurality of reactors 21 are provided, a part of them can be used as a spare unit. In the illustrated reactors 21a, 21b, and 21c, each reactor 21a, 21b, and 21c has a capacity of 50% of the flow rate, and one reactor 21a (or 21b or 21c) can be stopped. For this reason, the Pd monolith M whose performance has deteriorated can be sequentially replaced while the operation of the ultrapure water production apparatus 1 is continued. Each reactor 21a, 21b, 21c is connected by a pipe 12 branched from the mother pipe 10. The reactors 21a, 21b, 21c and the pipe 12 are connected by a flange 13, and the upper lid 26 is moved upward D1 and the bottom lid 28 is moved downward D2 by releasing the fastening force of a nut (not shown). , And can be separated from the reactant holder 24. For this reason, the reactant holding part 24 filled with the Pd monolith M can be pulled out in the horizontal direction D3 from between the upper lid 26 and the bottom lid 28, and maintenance can be easily performed.
第1の実施形態ではPdモノリスMがカートリッジポリッシャ7に充填されるイオン交換樹脂(以下、CP樹脂という)から分離されているため、PdモノリスMの交換頻度を長くすることができる。例えばパラジウムを担持したイオン交換樹脂樹脂(以下、Pd樹脂という)をCP樹脂の上部に積層する場合、CP樹脂はPd樹脂に比べて交換時期が早いため、CP樹脂の交換時にまだ触媒活性が残っているPd樹脂を一緒に交換しなければならない。これに対し、本実施形態ではCP樹脂をPdモノリスMとは独立して交換することができる。また、Pd樹脂をCP樹脂と異なる塔に設置する場合、CP樹脂の交換時には同様の効果が得られるが、Pd樹脂はPdモノリスに比べて大きな容量が必要となる。PdモノリスはPd樹脂に比べて容量が小さいため、小型の反応体収容体22を用いることができる。従って、超純水製造装置1の大型化を抑制できる。 In the first embodiment, since the Pd monolith M is separated from the ion exchange resin (hereinafter referred to as CP resin) filled in the cartridge polisher 7, the replacement frequency of the Pd monolith M can be increased. For example, when an ion exchange resin resin carrying palladium (hereinafter referred to as Pd resin) is laminated on top of the CP resin, the CP resin has an earlier replacement time than the Pd resin, so that the catalytic activity still remains when the CP resin is replaced. Pd resin must be exchanged together. On the other hand, in this embodiment, the CP resin can be exchanged independently of the Pd monolith M. When the Pd resin is installed in a different tower from the CP resin, the same effect can be obtained when the CP resin is replaced, but the Pd resin requires a larger capacity than the Pd monolith. Since the Pd monolith has a smaller capacity than the Pd resin, a small reactant container 22 can be used. Therefore, the enlargement of the ultrapure water production apparatus 1 can be suppressed.
(第2の実施形態)
本実施形態の反応体収容体22は、容器または配管の内部に設けるようにされている。以降、容器であるカートリッジポリッシャ7を例に説明するが配管の内部にも同様に適用することができる。容器は水処理システムを構成し被処理水が流通可能な容器であれば限定されない。容器の内圧は特に限定されないが、水処理システムの使用中に大気圧を上回る圧力を受ける容器である場合、より大きな効果が期待できる。また、本実施形態は水以外の流体、例えば、アルコール等の薬液の処理(精製)、大気等の気体の処理システムにも適用することができる。
(Second Embodiment)
The reactant container 22 of the present embodiment is provided inside a container or piping. Hereinafter, the cartridge polisher 7 as a container will be described as an example, but the same can be applied to the inside of a pipe. A container will not be limited if it comprises a water treatment system and the to-be-processed water can distribute | circulate. The internal pressure of the container is not particularly limited, but a greater effect can be expected when the container is subjected to a pressure exceeding atmospheric pressure during use of the water treatment system. Further, the present embodiment can also be applied to a processing system (purification) of a fluid other than water, for example, a chemical solution such as alcohol, and a gas processing system such as the atmosphere.
図6は、本発明の第2の実施形態に係る超純水製造装置101の概略構成を示している。本実施形態では非再生型イオン交換体が充填されるカートリッジポリッシャ7の上部空間に過酸化水素除去装置6ないし反応器21が内蔵されている。具体的には3つのカートリッジポリッシャ7a,7b,7cのそれぞれの内部に反応体収容体22a,22b,22cが設けられている。反応体収容体22a,22b,22cは全て同じ構成を有している。超純水製造装置101のその他の構成は図1に示す第1の実施形態の超純水製造装置1と同じである。 FIG. 6 shows a schematic configuration of an ultrapure water production apparatus 101 according to the second embodiment of the present invention. In this embodiment, the hydrogen peroxide removing device 6 or the reactor 21 is built in the upper space of the cartridge polisher 7 filled with the non-regenerative ion exchanger. Specifically, the reactant accommodating bodies 22a, 22b, and 22c are provided inside the three cartridge polishers 7a, 7b, and 7c, respectively. The reactant containers 22a, 22b, and 22c all have the same configuration. Other configurations of the ultrapure water production apparatus 101 are the same as those of the ultrapure water production apparatus 1 of the first embodiment shown in FIG.
図7(a)は、反応器21が収容されたカートリッジポリッシャ7の断面図を、図7(b)は図7(a)のA部拡大図を示している。カートリッジポリッシャ7は概ね円筒形の形状を有し、上端の入口ないし開口部71から被処理水が流入し、下端の近傍の出口74から流出する。カートリッジポリッシャ7の中央の円筒部にはカチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを混合充填した混床式のイオン交換樹脂充填部73が設けられている。カートリッジポリッシャ7の下端にはイオン交換樹脂の取出し口75が設けられている。反応器21はカートリッジポリッシャ7の被処理水の入口71に設けられている。 7A is a cross-sectional view of the cartridge polisher 7 in which the reactor 21 is accommodated, and FIG. 7B is an enlarged view of a portion A in FIG. 7A. The cartridge polisher 7 has a substantially cylindrical shape, and water to be treated flows from an inlet or opening 71 at the upper end and flows out from an outlet 74 near the lower end. The cylindrical portion at the center of the cartridge polisher 7 is provided with a mixed bed type ion exchange resin filling portion 73 in which a cation exchange resin and an anion exchange resin are mixed and filled. An ion exchange resin outlet 75 is provided at the lower end of the cartridge polisher 7. The reactor 21 is provided at the inlet 71 of the water to be treated of the cartridge polisher 7.
反応体収容体22は反応体充填領域23を有する反応体保持部24を有している。反応体保持部24及びその内部の構成は第1の実施形態の反応体保持部24及びその内部の構成と同一である。一方、本実施形態の反応体収容体22は、第1の実施形態における上蓋26と底蓋28を有していない。以下に述べられていない反応体収容体22の構成は第1の実施形態の説明を参照されたい。 The reactant container 22 has a reactant holding part 24 having a reactant filling region 23. The reactant holding unit 24 and the internal configuration thereof are the same as the reactant holding unit 24 and the internal configuration of the first embodiment. On the other hand, the reactant container 22 of the present embodiment does not have the upper lid 26 and the bottom lid 28 in the first embodiment. Refer to the description of the first embodiment for the configuration of the reactant container 22 not described below.
反応体収容体22は、被処理水が連通可能な入口開口37と出口開口38とを備えた流路または貫通孔34を有している。カートリッジポリッシャ7は被処理水の入口71に第2のフランジ72を有し、反応体収容体22は、被処理水の入口配管10に接続された第3のフランジ14と第2のフランジ72との間に位置する第1のフランジ39を有している。第2のフランジ72はカートリッジポリッシャ7の本体から立ち上がる入口ノズル壁76の先端部に連結されている。入口ノズル壁76と反応体保持部24の間には円筒壁42が設けられ、第1のフランジ39は円筒壁42の先端部に連結されている。第1のフランジ39と円筒壁42は一体成型されてもよく、それぞれ別々の部材を接合して形成されていてもよい。また、円筒壁42と反応体保持部24は一体成型されてもよく、それぞれ別々の部材を接合して形成されていてもよい。第3のフランジ14はカートリッジポリッシャ7のマンホール15の一部であるが、入口配管10自体のフランジであってもよい。第1のフランジ39は、ボルト、ナットなどの締結手段29によって第2及び第3のフランジ72,14とともに締結されている。反応体収容体22(反応器21)は第1のフランジ39が第2のフランジ72上に支持されることで、カートリッジポリッシャ7の入口付近でカートリッジポリッシャ7の内部に吊下げられている。反応体収容体22は入口開口37と出口開口38の間に差圧は掛かるものの、超純水製造装置101のシステム圧力は掛からないため、極めて薄肉の構造とすることができる。本実施形態の反応体収容体22はステンレス鋼で形成されているが、樹脂で形成することもできる。 The reactant container 22 has a flow path or through hole 34 having an inlet opening 37 and an outlet opening 38 through which water to be treated can communicate. The cartridge polisher 7 has a second flange 72 at the inlet 71 of the water to be treated, and the reactant container 22 includes the third flange 14 and the second flange 72 connected to the inlet pipe 10 of the water to be treated. The first flange 39 is located between the two. The second flange 72 is connected to the tip of the inlet nozzle wall 76 that rises from the main body of the cartridge polisher 7. A cylindrical wall 42 is provided between the inlet nozzle wall 76 and the reactant holder 24, and the first flange 39 is connected to the tip of the cylindrical wall 42. The first flange 39 and the cylindrical wall 42 may be integrally formed, or may be formed by joining separate members. Moreover, the cylindrical wall 42 and the reactant holding part 24 may be integrally formed, or may be formed by joining separate members. The third flange 14 is a part of the manhole 15 of the cartridge polisher 7, but may be a flange of the inlet pipe 10 itself. The first flange 39 is fastened together with the second and third flanges 72 and 14 by fastening means 29 such as bolts and nuts. The reactant container 22 (reactor 21) is suspended inside the cartridge polisher 7 in the vicinity of the inlet of the cartridge polisher 7 by the first flange 39 being supported on the second flange 72. Although the differential pressure is applied between the inlet opening 37 and the outlet opening 38, the reactant container 22 does not receive the system pressure of the ultrapure water production apparatus 101, and thus can have a very thin structure. Although the reactant container 22 of this embodiment is formed of stainless steel, it can also be formed of resin.
反応体収容体22にはPdモノリスMが充填されている。本実施形態では反応体収容体22はカートリッジポリッシャ7の上部空間に設けられているため、専用の設置エリアを必要としない。このため、超純水製造装置101全体の設置面積とコストを低減することができる。特に、本実施形態によれば既設のカートリッジポリッシャ7を改造して反応体収容体22を設けることができる。反応体収容体22が設けられる前のカートリッジポリッシャ7では、第2のフランジ72と第3のフランジ14が締結手段43によって直接締結されている。反応体収容体22の第1のフランジ39は第2及び第3のフランジ72,14と同じ位置にボルト用の穴が設けられているため、必要に応じて長いボルトに交換するだけでよい。反応体収容体22が円筒形の形状を有しているため、同じく円筒形のカートリッジポリッシャ7への収容は容易であり、第1のフランジ39を第2及び第3のフランジ72,14と同様のリング状の形状とすることも容易である。 The reactant container 22 is filled with Pd monolith M. In this embodiment, since the reactant container 22 is provided in the upper space of the cartridge polisher 7, a dedicated installation area is not required. For this reason, the installation area and cost of the whole ultrapure water production apparatus 101 can be reduced. In particular, according to the present embodiment, the existing cartridge polisher 7 can be modified to provide the reactant container 22. In the cartridge polisher 7 before the reactant container 22 is provided, the second flange 72 and the third flange 14 are directly fastened by the fastening means 43 . Since the first flange 39 of the reactant container 22 is provided with bolt holes at the same positions as the second and third flanges 72 and 14, it is only necessary to replace the first flange 39 with a longer bolt if necessary. Since the reactant container 22 has a cylindrical shape, it can be easily accommodated in the cylindrical cartridge polisher 7, and the first flange 39 is the same as the second and third flanges 72 and 14. It is also easy to have a ring shape.
(モノリスの充填方法)
次に、本発明に特徴的なモノリスの充填方法について述べる。以下に述べるモノリスの充填方法は第1の実施形態と第2の実施形態に共通している。図2に示すように、これらの実施形態では、反応体収容体22の中心軸CLを中心とする、反応体充填領域23を内包する最小半径の仮想円411の直径をD1、反応体充填領域23に充填された流路方向のPdモノリスの充填高さをH1としたときに、D1/H1≧1となっている。また、全ての貫通孔34を内包する最小半径の仮想円41の直径をD、貫通孔34の流路方向ないし軸方向の高さをHとしたときに、D/H≧1となっている。通常は仮想円41の直径Dは仮想円411の直径D1と一致するかほぼ等しく、一方Pdモノリスの充填高さH1は貫通孔34の高さHより小さいため、D/H≧1が満足されればD1/H1≧1が満足される。本実施形態では仮想円41の直径Dは仮想円411の直径D1と一致している。
(Monolith filling method)
Next, a monolith filling method characteristic of the present invention will be described. The monolith filling method described below is common to the first embodiment and the second embodiment. As shown in FIG. 2, in these embodiments, the diameter of the virtual circle 411 having the smallest radius including the reactant filling region 23 around the central axis CL of the reactant container 22 is D1, and the reactant filling region When the filling height of the Pd monolith in the flow path direction filled in 23 is H1, D1 / H1 ≧ 1. Further, D / H ≧ 1 when D is the diameter of the virtual circle 41 having the smallest radius including all the through holes 34 and H is the height of the through hole 34 in the flow path direction or the axial direction. . Usually, the diameter D of the imaginary circle 41 matches or is approximately equal to the diameter D1 of the imaginary circle 411, while the filling height H1 of the Pd monolith is smaller than the height H of the through-hole 34, so that D / H ≧ 1 is satisfied. If so, D1 / H1 ≧ 1 is satisfied. In this embodiment, the diameter D of the virtual circle 41 matches the diameter D1 of the virtual circle 411.
前述のように、モノリス状イオン交換体は粒状イオン交換体に比べて高流速での処理が可能である。しかし、流速に応じた差圧が生じ、かつその差圧が粒状イオン交換体と比べて大きい。モノリス状イオン交換体の特徴を有効に利用するため、反応体充填領域23はD1/H1≧1の条件を満たす扁平な形状であることが望ましく、そのためには反応体保持部24がD/H≧1の条件を満たす扁平な形状であることが望ましい。つまり、モノリス状イオン交換体の充填高さH1は所定の処理が行える範囲内でできるだけ低く(薄く)して、差圧を抑えることが望ましい。一方、SV(空間速度:流量を流路断面積で割った値)を確保するためには、反応体充填領域23の平面積を大きくすることが望ましい。このため、処理量(通水量)が多い場合、反応体充填領域23の直径を大きくし、内部の通水断面積を増加させることが望ましい。その場合、図5に示すように、複数の反応体収容体22を並列に設けることも好ましい構成である。 As described above, the monolithic ion exchanger can be processed at a higher flow rate than the granular ion exchanger. However, a differential pressure corresponding to the flow velocity is generated, and the differential pressure is larger than that of the granular ion exchanger. In order to effectively use the characteristics of the monolithic ion exchanger, it is desirable that the reactant filling region 23 has a flat shape that satisfies the condition of D1 / H1 ≧ 1, and for this purpose, the reactant holding unit 24 has the D / H A flat shape satisfying the condition of ≧ 1 is desirable. That is, it is desirable that the filling height H1 of the monolithic ion exchanger be as low (thin) as possible within a range where a predetermined treatment can be performed to suppress the differential pressure. On the other hand, in order to ensure SV (space velocity: the value obtained by dividing the flow rate by the cross-sectional area of the flow path), it is desirable to increase the plane area of the reactant filling region 23. For this reason, when there is much processing amount (water flow volume), it is desirable to enlarge the diameter of the reactant filling area | region 23 and to increase an internal water flow cross-sectional area. In that case, as shown in FIG. 5, it is also preferable to provide a plurality of reactant containers 22 in parallel.
本発明ではPdなどの白金族金属が担持されたモノリス状イオン交換体が好適に用いられるが、Pdなどの白金族金属が担持された粒状イオン交換体を用いることもできる。粒状イオン交換体はモノリス状イオン交換体に比べてイオン交換帯長が長い。Pd樹脂では層厚を増やすことでPdモノリスと同等の過酸化水素除去性能を得ることができるため、例えば第2の実施形態に粒状イオン交換体を用いることは可能である。しかし、装置の設置スペース等の問題から、層厚を増やすことには制限がある。 In the present invention, a monolithic ion exchanger carrying a platinum group metal such as Pd is preferably used, but a granular ion exchanger carrying a platinum group metal such as Pd can also be used. The granular ion exchanger has a longer ion exchange zone length than the monolithic ion exchanger. Since the hydrogen peroxide removal performance equivalent to that of Pd monolith can be obtained by increasing the layer thickness of Pd resin, for example, it is possible to use a granular ion exchanger in the second embodiment. However, there is a limit to increasing the layer thickness due to problems such as installation space of the apparatus.
反応体収容体22は円形の断面を有しているため、上述の説明では直径D,D1を用いているが、反応体収容体22の形状はこれに限定されるものではなく、任意の形状をとることができる。反応体収容体22が円形以外の断面を有する場合、例えば反応体保持部24の内空部と面積の等しい等価円の直径Dを用いることもできる。 Since the reactant container 22 has a circular cross section, the diameters D and D1 are used in the above description, but the shape of the reactant container 22 is not limited to this, and may be any shape. Can be taken. When the reactant container 22 has a cross section other than a circle, for example, an equivalent circle diameter D having the same area as the inner space of the reactant holder 24 can be used.
所望の過酸化水素除去性能を得るためには、Pdモノリスの充填高さH1は少なくとも10mm以上とすることが望ましい。反応体保持部24の高さ(貫通孔の高さH)はPdモノリスの充填高さH1と同じでもよいが、反応体保持部24の高さの方が大きくてもよい。反応体保持部24の高さは10〜1000mm、好ましくは50〜500mm、更に好ましくは100〜300mmである。反応体保持部24の高さがPdモノリスの充填高さH1と比べて大きくなると、反応体収容体22が大きくなり、材料コストが上がる。さらに、大型の重量物になるためハンドリング性が低下する。反応体保持部24の外径は50〜1100mm、好ましくは100〜900mmである。 In order to obtain the desired hydrogen peroxide removal performance, it is desirable that the filling height H1 of the Pd monolith is at least 10 mm. The height of the reactant holding part 24 (height H of the through hole) may be the same as the filling height H1 of the Pd monolith, but the height of the reactant holding part 24 may be larger. The height of the reactant holder 24 is 10 to 1000 mm, preferably 50 to 500 mm, and more preferably 100 to 300 mm. When the height of the reactant holding part 24 becomes larger than the filling height H1 of the Pd monolith, the reactant container 22 becomes larger and the material cost increases. Furthermore, since it becomes a large-sized heavy article, handling property falls. The outer diameter of the reactant holder 24 is 50 to 1100 mm, preferably 100 to 900 mm.
PdモノリスMの配置パターンは図2,4に示すものに限定されないが、上記流路断面において、反応体充填領域23の面積を仮想円41の面積で割った値(充填率)は0.3以上であることが望ましい。充填率が高いほど、反応体収容体22の小型化、軽量化を図ることができる。図2(b)の例では、PdモノリスMの外形は約140mmであり、仮想円41の直径は約450mmである。従って、イオン交換体充填領域23の面積は7×π×702=約107760mm2であり、仮想円41の面積はπ×2252=約159040mm2であり、充填率は約68%となる。 The arrangement pattern of the Pd monolith M is not limited to that shown in FIGS. 2 and 4, but the value (packing rate) obtained by dividing the area of the reactant filling region 23 by the area of the virtual circle 41 in the above-described channel cross section is 0.3. The above is desirable. As the filling rate is higher, the reactant container 22 can be reduced in size and weight. In the example of FIG. 2B, the outer shape of the Pd monolith M is about 140 mm, and the diameter of the virtual circle 41 is about 450 mm. Therefore, the area of the ion exchanger filling region 23 is 7 × π × 70 2 = about 107760 mm 2 , the area of the virtual circle 41 is π × 225 2 = about 159040 mm 2 , and the filling rate is about 68%.
(モノリス状イオン交換体について)
次に、第1及び第2の実施形態に共通して用いられるモノリス状イオン交換体についてさらに詳しく説明する。上述のようにモノリス状イオン交換体は連続細孔構造を有する多孔質イオン交換体である。図8にその概念図を示す。モノリス状イオン交換体としてはモノリスアニオン交換体が好ましく用いられ、特に、以下に述べるAタイプ及びBタイプのモノリスアニオン交換体が好ましく用いられる。特にPdが担持されたPdモノリスは、水中の過酸化水素を分解することができ、水素との共存条件で溶存酸素を分解することもできる。Pdモノリスは粒状のPd樹脂に比べて過酸化水素の分解性能が高い。Pdは触媒であるため、Pdモノリスは、イオン交換機能というよりは触媒機能を有し、長期間使用することができる。
(About monolithic ion exchangers)
Next, the monolithic ion exchanger commonly used in the first and second embodiments will be described in more detail. As described above, the monolithic ion exchanger is a porous ion exchanger having a continuous pore structure. FIG. 8 shows a conceptual diagram thereof. As the monolithic ion exchanger, a monolith anion exchanger is preferably used, and in particular, A-type and B-type monolith anion exchangers described below are preferably used. In particular, a Pd monolith carrying Pd can decompose hydrogen peroxide in water, and can also decompose dissolved oxygen under the coexistence conditions with hydrogen. Pd monolith has higher hydrogen peroxide decomposition performance than granular Pd resin. Since Pd is a catalyst, the Pd monolith has a catalytic function rather than an ion exchange function, and can be used for a long time.
(Aタイプのモノリスアニオン交換体)
Aタイプのモノリスアニオン交換体は、モノリスにアニオン交換基を導入することで得られるものであり、気泡状のマクロポア同士が重なり合い、この重なる部分が水湿潤状態で平均直径30〜300μm、好ましくは30〜200μm、特に好ましくは40〜100μmの開口(メソポア)となる連続マクロポア構造体である。Aタイプのモノリスアニオン交換体の開口の平均直径は、モノリスにアニオン交換基を導入する際、モノリス全体が膨潤するため、モノリスの開口の平均直径よりも大となる。水湿潤状態での開口の平均直径が30μm未満であると、通水時の圧力損失が大きくなってしまうため好ましくなく、水湿潤状態での開口の平均直径が大き過ぎると、被処理水とAタイプのモノリスアニオン交換体および担持された白金族金属ナノ粒子との接触が不十分となり、その結果、過酸化水素分解特性が低下してしまうため好ましくない。水湿潤状態のAタイプのモノリスアニオン交換体の開口の平均直径は、乾燥状態のAタイプのモノリスあるいはモノリスアニオン交換体の開口の平均直径に、膨潤率を乗じて算出される値である。乾燥状態のモノリスアニオン交換体の開口の平均直径は、水銀圧入法により測定される。水銀圧入法は、水銀の表面張力が大きいことを利用して細孔に水銀を浸入させるために圧力を加え、圧力と圧入された水銀量から比表面積や細孔分布を求める方法である。また、膨潤率は、1.4〜1.9である。Aタイプのモノリスアニオン交換体において、連続マクロポア構造体の切断面のSEM画像において、断面に表れる骨格部面積が、画像領域中、25〜50%、好ましくは25〜45%である。断面に表れる骨格部面積が、画像領域中、25%未満であると、細い骨格となり、機械的強度が低下して、特に高流速で通水した際にモノリスアニオン交換体が大きく変形してしまうため好ましくない。さらに、被処理水とAタイプのモノリスアニオン交換体およびそれに担持された白金族金属ナノ粒子との接触効率が低下し、触媒効果が低下するため好ましくなく、50%を超えると、骨格が太くなり過ぎ、通水時の圧力損失が増大するため好ましくない。
(A type monolith anion exchanger)
The A-type monolith anion exchanger is obtained by introducing an anion exchange group into the monolith, and the macropores in the form of bubbles overlap each other, and the overlapping portion has an average diameter of 30 to 300 μm, preferably 30 when wet. A continuous macropore structure having an opening (mesopore) of ˜200 μm, particularly preferably 40˜100 μm. The average diameter of the A-type monolith anion exchanger opening is larger than the average diameter of the monolith opening because the entire monolith swells when an anion exchange group is introduced into the monolith. If the average diameter of the openings in the water-wet state is less than 30 μm, the pressure loss during water flow increases, which is not preferable. If the average diameter of the openings in the water-wet state is too large, the water to be treated and A The contact between the monolith anion exchanger of the type and the supported platinum group metal nanoparticles becomes insufficient, and as a result, the hydrogen peroxide decomposition property is lowered, which is not preferable. The average diameter of the openings of the A-type monolith anion exchanger in the water wet state is a value calculated by multiplying the average diameter of the openings of the A-type monolith in the dry state or the monolith anion exchanger by the swelling ratio. The average diameter of the openings of the dried monolith anion exchanger is measured by the mercury intrusion method. The mercury intrusion method is a method for obtaining a specific surface area and pore distribution from the pressure and the amount of injected mercury by applying pressure to intrude mercury into pores by utilizing the high surface tension of mercury. The swelling rate is 1.4 to 1.9. In the A-type monolith anion exchanger, in the SEM image of the cut surface of the continuous macropore structure, the skeleton part area appearing in the cross section is 25 to 50%, preferably 25 to 45% in the image region. When the area of the skeletal part appearing in the cross section is less than 25% in the image region, the skeleton becomes a thin skeleton, the mechanical strength is lowered, and the monolith anion exchanger is greatly deformed particularly when water is passed at a high flow rate. Therefore, it is not preferable. Furthermore, the contact efficiency between the water to be treated and the A-type monolith anion exchanger and the platinum group metal nanoparticles supported thereon is lowered, and the catalytic effect is lowered, which is not preferable. If it exceeds 50%, the skeleton becomes thick. This is not preferable because the pressure loss during water passage increases.
また、Aタイプのモノリスアニオン交換体の全細孔容積は、0.5〜5ml/g、好ましくは0.8〜4ml/gである。全細孔容積が0.5ml/g未満であると、通水時の圧力損失が大きくなってしまうため好ましくなく、さらに、単位断面積当りの透過流体量が小さくなり、処理能力が低下してしまうため好ましくない。一方、全細孔容積が5ml/gを超えると、機械的強度が低下して、特に高流速で通水した際にAタイプのモノリスアニオン交換体が大きく変形してしまうため好ましくない。さらに、被処理水とAタイプのモノリスアニオン交換体およびそれに担持された白金族金属ナノ粒子との接触効率が低下し、触媒効果も低下してしまうため好ましくない。 The total pore volume of the A type monolith anion exchanger is 0.5 to 5 ml / g, preferably 0.8 to 4 ml / g. If the total pore volume is less than 0.5 ml / g, the pressure loss during water flow will increase, which is not preferable. Furthermore, the amount of permeated fluid per unit cross-sectional area decreases, and the processing capacity decreases. Therefore, it is not preferable. On the other hand, if the total pore volume exceeds 5 ml / g, the mechanical strength is lowered, and the A-type monolith anion exchanger is greatly deformed particularly when water is passed at a high flow rate. Furthermore, the contact efficiency between the water to be treated, the A-type monolith anion exchanger and the platinum group metal nanoparticles supported thereon is lowered, and the catalytic effect is also lowered, which is not preferable.
なお、Aタイプのモノリスアニオン交換体に水を透過させた際の圧力損失は、これを1m充填したカラムに通水線速度(LV)1m/hで通水した際の圧力損失で示すと、0.001〜0.1MPa/m・LVの範囲、特に0.005〜0.05MPa/m・LVであることが好ましい。 The pressure loss when water is permeated through the A-type monolith anion exchanger is expressed as the pressure loss when water is passed through a column packed with 1 m at a water flow velocity (LV) of 1 m / h. A range of 0.001 to 0.1 MPa / m · LV, particularly 0.005 to 0.05 MPa / m · LV is preferable.
(Bタイプのモノリスアニオン交換体)
Bタイプのモノリスアニオン交換体は、アニオン交換基が導入された全構成単位中、架橋構造単位を0.3〜5.0モル%含有する芳香族ビニルポリマーからなる平均太さが水湿潤状態で1〜60μmの三次元的に連続した骨格と、その骨格間に平均直径が水湿潤状態で10〜100μmの三次元的に連続した空孔とからなる共連続構造体であって、全細孔容積が0.5〜5ml/gであり、水湿潤状態での体積当りのイオン交換容量が0.3〜1.0mg当量/mlであり、アニオン交換基が該多孔質イオン交換体中に均一に分布している。
(B type monolith anion exchanger)
The B type monolith anion exchanger has an average thickness composed of an aromatic vinyl polymer containing 0.3 to 5.0 mol% of a cross-linking structural unit in all the structural units into which an anion exchange group has been introduced. A co-continuous structure comprising a three-dimensionally continuous skeleton of 1 to 60 μm and three-dimensionally continuous pores having an average diameter of 10 to 100 μm in a wet state between the skeletons. The volume is 0.5 to 5 ml / g, the ion exchange capacity per volume under water wet condition is 0.3 to 1.0 mg equivalent / ml, and the anion exchange group is uniform in the porous ion exchanger. Is distributed.
Bタイプのモノリスアニオン交換体は、アニオン交換基が導入された平均太さが水湿潤状態で1〜60μm、好ましくは3〜58μmの三次元的に連続した骨格と、その骨格間に平均直径が水湿潤状態で10〜100μm、好ましくは15〜90μm、特に好ましくは20〜80μmの三次元的に連続した空孔とからなる共連続構造体である。すなわち、共連続構造は、連続する骨格相と連続する空孔相とが絡み合ってそれぞれが共に3次元的に連続する構造である。この連続した空孔は、従来の連続気泡型モノリスや粒子凝集型モノリスに比べて空孔の連続性が高くてその大きさに偏りがないため、極めて均一なイオンの吸着挙動を達成できる。また、骨格が太いため機械的強度が高い。 The B-type monolith anion exchanger has a three-dimensional continuous skeleton having an average thickness of 1 to 60 μm, preferably 3 to 58 μm in an wet state in which an anion exchange group is introduced, and an average diameter between the skeletons. A co-continuous structure composed of three-dimensionally continuous pores of 10 to 100 μm, preferably 15 to 90 μm, particularly preferably 20 to 80 μm in a wet state. That is, the co-continuous structure is a structure in which a continuous skeleton phase and a continuous vacancy phase are intertwined and both are three-dimensionally continuous. These continuous vacancies have higher continuity of the vacancies than the conventional open-cell monolith and particle aggregation monolith, and the size of the vacancies is not biased, so that extremely uniform ion adsorption behavior can be achieved. Moreover, since the skeleton is thick, the mechanical strength is high.
上記連続構造体の空孔の水湿潤状態での平均直径は、水銀圧入法で測定した乾燥状態のモノリスあるいはモノリスアニオン交換体の空孔の平均直径に、膨潤率を乗じて算出される値である。膨潤率は、1.4〜1.9である。上記連続構造体の骨格の水湿潤状態での平均太さは、乾燥状態のBタイプのモノリスあるいはモノリスアニオン交換体のSEM観察を少なくとも3回行い、得られた画像中の骨格の太さを測定し、その平均値に、膨潤率を乗じて算出される値である。なお、骨格は棒状であり円形断面形状であるが、楕円断面形状等異径断面のものが含まれていてもよい。 The average diameter of the pores of the continuous structure in the water-wet state is a value calculated by multiplying the average diameter of the pores of the dry monolith or monolith anion exchanger measured by the mercury intrusion method and the swelling ratio. is there. The swelling rate is 1.4 to 1.9. The average thickness of the skeleton of the continuous structure in the wet state is determined by performing SEM observation of a dry B-type monolith or monolith anion exchanger at least three times, and measuring the thickness of the skeleton in the obtained image. The average value is calculated by multiplying the swelling ratio. The skeleton has a rod-like shape and a circular cross-sectional shape, but may have a cross-section with a different diameter such as an elliptical cross-sectional shape.
また、Bタイプのモノリスアニオン交換体の全細孔容積は、0.5〜5ml/gである。全細孔容積が0.5ml/g未満であると、通水時の圧力損失が大きくなってしまうため好ましくなく、さらに、単位断面積当りの透過水量が小さくなり、処理水量が低下してしまうため好ましくない。一方、全細孔容積が5ml/gを超えると、体積当りのアニオン交換容量が低下し、白金族金属ナノ粒子の担持量も低下し触媒効果が低下するため好ましくない。また、機械的強度が低下して、特に高流速で通水した際にBタイプのモノリスアニオン交換体が大きく変形してしまうため好ましくない。さらに、被処理水とBタイプのモノリスアニオン交換体との接触効率が低下して、過酸化水素分解効果も低下してしまうため好ましくない。三次元的に連続した空孔の大きさ及び全細孔容積が上記範囲にあれば、被処理水との接触が極めて均一で接触面積も大きく、かつ低圧力損失下での通水が可能となる。なお、モノリス(モノリス中間体、モノリス、モノリスアニオン交換体)の全細孔容積は、乾燥状態でも、水湿潤状態でも、同じである。 The total pore volume of the B type monolith anion exchanger is 0.5 to 5 ml / g. If the total pore volume is less than 0.5 ml / g, the pressure loss at the time of water flow is increased, which is not preferable. Further, the amount of permeated water per unit cross-sectional area is decreased, and the amount of treated water is decreased. Therefore, it is not preferable. On the other hand, if the total pore volume exceeds 5 ml / g, the anion exchange capacity per volume decreases, the amount of platinum group metal nanoparticles supported decreases, and the catalytic effect decreases. Further, the mechanical strength is lowered, and the B-type monolith anion exchanger is greatly deformed particularly when water is passed at a high flow rate, which is not preferable. Furthermore, the contact efficiency between the water to be treated and the B-type monolith anion exchanger decreases, and the hydrogen peroxide decomposition effect also decreases, which is not preferable. If the three-dimensional continuous pore size and total pore volume are within the above ranges, the contact with the water to be treated is extremely uniform, the contact area is large, and water can flow through under low pressure loss. Become. Note that the total pore volume of the monolith (monolith intermediate, monolith, monolith anion exchanger) is the same in both the dry state and the water wet state.
なお、Bタイプのモノリスアニオン交換体に水を透過させた際の圧力損失は、多孔質体を1m充填したカラムに通水線速度(LV)1m/hで通水した際の圧力損失で示すと、0.001〜0.5MPa/m・LVの範囲、特に0.005〜0.1MPa/m・LVである。 The pressure loss when water is allowed to permeate through the B-type monolith anion exchanger is indicated by the pressure loss when water is passed through a column filled with 1 m of a porous body at a water flow rate (LV) of 1 m / h. And a range of 0.001 to 0.5 MPa / m · LV, particularly 0.005 to 0.1 MPa / m · LV.
(触媒金属担持体)
触媒金属担持体は、モノリスアニオン交換体に白金族金属が担持されてなるものであり、モノリスアニオン交換体に、白金族金属のナノ粒子が担持されている触媒金属担持体であることが好ましい。
(Catalyst metal carrier)
The catalyst metal carrier is formed by carrying a platinum group metal on a monolith anion exchanger, and is preferably a catalyst metal carrier having platinum group metal nanoparticles supported on the monolith anion exchanger.
モノリスアニオン交換体としては、上述したA,Bタイプのモノリスアニオン交換体が好ましい。 As the monolith anion exchanger, the above-described A and B type monolith anion exchangers are preferable.
白金族金属とは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金である。これらの白金族金属は、一種類を単独で用いても、二種類以上の金属を組み合わせて用いてもよく、さらに、二種類以上の金属を合金として用いてもよい。これらの中で、白金、パラジウム、白金/パラジウム合金は触媒活性が高く、好適に用いられる。 The platinum group metal is ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, or platinum. These platinum group metals may be used alone or in combination of two or more metals, and more than one metal may be used as an alloy. Among these, platinum, palladium, and platinum / palladium alloys have high catalytic activity and are preferably used.
白金族金属のナノ粒子の平均粒子径は、1〜100nmであり、好ましくは1〜50nm、さらに好ましくは1〜20nmである。平均粒子径が1nm未満であると、ナノ粒子が担体から脱離する可能性が高くなるため好ましくなく、一方、平均粒子径が100nmを超えると、金属の単位質量当たりの表面積が少なくなり触媒効果が効率的に得られなくなるため好ましくない。なお、ナノ粒子の平均粒子径が上記範囲内の場合、表面プラズモン共鳴によりナノ粒子は強く着色するため、目視によっても確認可能である。 The average particle diameter of the platinum group metal nanoparticles is 1 to 100 nm, preferably 1 to 50 nm, and more preferably 1 to 20 nm. If the average particle size is less than 1 nm, the possibility that the nanoparticles are detached from the carrier increases, which is not preferable. On the other hand, if the average particle size exceeds 100 nm, the surface area per unit mass of the metal decreases and the catalytic effect. Is not preferred because it cannot be obtained efficiently. When the average particle diameter of the nanoparticles is within the above range, the nanoparticles are strongly colored by surface plasmon resonance and can be confirmed by visual observation.
乾燥状態の触媒金属担持体中の白金族金属ナノ粒子の担持量((白金族金属ナノ粒子/乾燥状態の白金族金属担持触媒)×100)は、0.004〜20重量%、好ましくは0.005〜15重量%である。白金族金属ナノ粒子の担持量が0.004重量%未満であると、過酸化水素分解効果が不十分になるため好ましくない。 The amount of platinum group metal nanoparticles supported in the catalyst metal support in the dry state ((platinum group metal nanoparticles / dry platinum group metal supported catalyst) × 100) is 0.004 to 20% by weight, preferably 0. 0.005 to 15% by weight. If the supported amount of platinum group metal nanoparticles is less than 0.004% by weight, the effect of decomposing hydrogen peroxide is insufficient, which is not preferable.
触媒金属担持体において、白金族金属ナノ粒子の担体であるモノリスアニオン交換体のイオン形は、白金族金属ナノ粒子を担持した後は、通常、塩化物形のような塩形となる。このような塩形のものを過酸化水素分解用の触媒として用いても良い。また、触媒金属担持体は、モノリスアニオン交換体のイオン形を、OH形に再生したものであってもよい。そして、これらのうち、モノリスアニオン交換体のイオン形がOH形であることが、高い触媒効果が得られるため好ましい。白金族金属ナノ粒子を担持した後のモノリスアニオン交換体のOH形への再生方法には特に制限はなく、水酸化ナトリウム水溶液を通液する等の公知の方法を用いればよい。 In the catalyst metal carrier, the ionic form of the monolith anion exchanger, which is the carrier of the platinum group metal nanoparticles, is usually a salt form such as a chloride form after the platinum group metal nanoparticles are supported. Such a salt form may be used as a catalyst for decomposing hydrogen peroxide. Further, the catalyst metal carrier may be one obtained by regenerating the ionic form of the monolith anion exchanger into the OH form. Of these, the ionic form of the monolith anion exchanger is preferably the OH form because a high catalytic effect is obtained. The method for regenerating the monolith anion exchanger after supporting the platinum group metal nanoparticles to the OH form is not particularly limited, and a known method such as passing a sodium hydroxide aqueous solution may be used.
1 超純水製造装置
5 紫外線酸化装置
6 過酸化水素除去装置
7 カートリッジポリッシャ
14 第3のフランジ
21 反応器
22 反応体収容体
23 反応体充填領域
24 反応体保持部
26 上蓋
28 底蓋
29 上部保持プレート
30 スナップリング
31 支持プレート
34 流路、貫通孔
37 入口開口
38 出口開口
39 第1のフランジ
41,411 仮想円
72 第2のフランジ
73 イオン交換樹脂充填部
CL 中心線
M モノリス状イオン交換体
D 全ての貫通孔を内包する最小半径の仮想円の直径
D1 反応体充填領域を内包する最小半径の仮想円の直径
H 貫通孔の流路方向ないし軸方向の高さ
H1 モノリスの充填高さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ultrapure water production apparatus 5 Ultraviolet oxidation apparatus 6 Hydrogen peroxide removal apparatus 7 Cartridge polisher 14 3rd flange 21 Reactor 22 Reactor container 23 Reactant filling area 24 Reactor holding part 26 Top cover 28 Bottom cover 29 Upper part holding Plate 30 Snap ring 31 Support plate 34 Flow path, through hole 37 Inlet opening 38 Outlet opening 39 First flange 41,411 Virtual circle 72 Second flange 73 Ion exchange resin filling portion CL Center line
M Monolithic ion exchanger D Diameter of virtual circle with minimum radius including all through holes D1 Diameter of virtual circle with minimum radius including reactant filling region H Height of through hole in flow direction or axial direction H1 Monolith filling height
Claims (3)
前記反応体収容体は、前記複数の反応体がそれぞれ充填される複数の貫通孔を備える反応体保持部と、前記反応体保持部の上側周縁部に連結され、被処理水が供給される入口部を備えた上蓋と、前記反応体保持部の下側周縁部に連結され、前記被処理水が排出される出口部を備えた底蓋と、を有し、前記上蓋と前記底蓋はそれぞれ、前記反応体保持部を挟持するフランジを備え、前記入口部または前記出口部で配管と接続されており、
前記貫通孔と直交する貫通孔断面において、前記少なくとも一つの貫通孔を内包する最小の仮想円の直径をD、前記貫通孔の軸方向の長さをHとしたときに、D/H≧1であり、前記少なくとも一つの貫通孔における前記反応体の充填領域の面積を前記仮想円の面積で割った値が0.3以上である、反応器。 And a plurality of reactants that are monolithic ion exchangers filled in the reactant receptacle,
The reactant container is connected to a reactant holding portion having a plurality of through holes filled with the plurality of reactants, respectively, and an inlet connected to the upper peripheral edge of the reactant holding portion, to which treated water is supplied. An upper lid provided with a portion, and a bottom lid connected to a lower peripheral edge portion of the reactant holding portion, and having an outlet portion through which the water to be treated is discharged, each of the upper lid and the bottom lid being each A flange for sandwiching the reactant holding part, and connected to the pipe at the inlet part or the outlet part,
In the cross-section of the through-hole orthogonal to the through-hole, D / H ≧ 1 where D is the diameter of the smallest virtual circle containing the at least one through-hole and H is the length in the axial direction of the through-hole. And the value obtained by dividing the area of the filling region of the reactant in the at least one through hole by the area of the virtual circle is 0.3 or more.
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