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JP6493733B2 - Method for producing protective film - Google Patents
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Description

この発明は、保護フィルムの製造方法、保護フィルム、並びにディスプレイに関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a protective film, a protective film, and a display.

従来から、スマートフォンやタブレット端末などのタッチパネルディスプレイを傷から保護する目的で、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイに透明な樹脂製の保護フィルムを貼付することがなさされている。
このような保護フィルムは、例えばシート状のフィルム材をレーザー加工により切断して外形を切り出すことで形成されることが一般的である。また、樹脂製のフィルム又は板材を切断する方法として、エンドミルによる切削加工を行う場合がある(例えば特許文献1〜3)。
Conventionally, in order to protect touch panel displays such as smartphones and tablet terminals from scratches, a transparent resin protective film has been attached to a liquid crystal display or an organic EL display.
Such a protective film is generally formed, for example, by cutting a sheet-like film material by laser processing to cut out the outer shape. Further, as a method of cutting a resin film or plate material, there is a case where cutting by an end mill is performed (for example, Patent Documents 1 to 3).

特開2010−064203号公報JP 2010-064203 A 特開2012−157914号公報JP 2012-157914 A 特許第2912363号公報Japanese Patent No. 2912363

フィルム材の切断をレーザー加工により行うと、切断面である保護フィルムの周縁が面方向に対し垂直に近い状態となる。このような保護フィルムは周縁が切り立っているために、タッチパネル用の保護フィルムとして使用すると、周縁部に指が引っかかり、周縁部近傍の操作性を悪化させるという問題があった。   When the film material is cut by laser processing, the peripheral edge of the protective film, which is a cut surface, is almost perpendicular to the surface direction. Since such a protective film has a sharp peripheral edge, when used as a protective film for a touch panel, there is a problem that a finger is caught on the peripheral part and the operability in the vicinity of the peripheral part is deteriorated.

また、フィルム材の切断を切削加工により行う場合には、切断と共に面取り加工を行うことができる。したがって、周縁部における指の引っかかりを抑制し周縁部近傍での操作性を改善できる。しかしながら、切削加工を行う場合には、切断面にチッピング(小さな欠け)を生じることがある。フィルム材は、樹脂からなるため、金属に比較して塑性変形抵抗が小さい。このため切削加工を行うと、その近傍で塑性変形が生じて、表面にチッピングが生じ易い。切断面である保護フィルムの周縁部にチッピングが生じていると、フィルムを曲げた際に、チッピングがフィルムの亀裂の起点となりフィルムが破断しやすくなるという問題があった。   Further, when the film material is cut by cutting, chamfering can be performed together with the cutting. Therefore, it is possible to suppress finger catching at the peripheral portion and improve operability in the vicinity of the peripheral portion. However, when cutting is performed, chipping (small chipping) may occur on the cut surface. Since the film material is made of resin, the plastic deformation resistance is smaller than that of metal. For this reason, when cutting is performed, plastic deformation occurs in the vicinity thereof, and chipping tends to occur on the surface. When chipping occurs at the peripheral edge of the protective film, which is a cut surface, there is a problem that when the film is bent, the chipping becomes a starting point of cracking of the film and the film is easily broken.

本発明は、上述した事情に鑑みなされたものであって、周縁部に面取りが施され、かつチッピングによる亀裂が生じにくい保護フィルムの提供を目的とする。   This invention is made | formed in view of the situation mentioned above, Comprising: A chamfering is given to a peripheral part and it aims at provision of the protective film which is hard to produce the crack by chipping.

この課題を解決するために、本発明の一実施形態に係る保護フィルムの製造方法は、ディスプレイに貼付される保護フィルムの製造方法であって、切断前のフィルム材を用意する前工程と、前記フィルム材を切断する切断工程と、を有し、前記切断工程は、テーパ刃のエンドミルを前記フィルム材の切断線に沿って送り前記フィルム材にV字状の溝を形成する第1の工程と、レーザー光を前記フィルム材の切断線に沿って照射し前記フィルム材を切断する第2の工程と、を含み、前記切断工程は、前記第1の工程の後に、前記第2の工程を行うIn order to solve this problem, a method for producing a protective film according to an embodiment of the present invention is a method for producing a protective film to be attached to a display, and includes a pre-process for preparing a film material before cutting, A cutting step of cutting the film material, and the cutting step sends a taper blade end mill along the cutting line of the film material to form a V-shaped groove in the film material; , seen containing a second step of cutting the film material is irradiated along the laser beam to the cut line of the film material, wherein the cutting step, after the first step, the second step Do.

前記フィルム材は、主層を有し、前記主層が、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、または熱可塑性樹脂からなるのが好ましい。The film material has a main layer, and the main layer is preferably made of a photocurable resin, a thermosetting resin, or a thermoplastic resin.

また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記前工程において、前記フィルム材の一部として防護フィルムが積層され、前記切断工程の前記第2の工程において、前記レーザー光を照射する側と反対側に位置する前記防護フィルムをハーフカットする深さまで切断してもよい。   Further, in the manufacturing method of the protective film, in the previous step, a protective film is laminated as a part of the film material, and in the second step of the cutting step, the side opposite to the side irradiated with the laser beam You may cut | disconnect the said protective film located in the depth to the half cut.

また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記切断工程の前記第1の工程において、前記溝の幅が1mm以上5mm以下であってもよい。   Moreover, the manufacturing method of said protective film WHEREIN: 1 mm or more and 5 mm or less may be sufficient as the width | variety of the said groove | channel in the said 1st process of the said cutting process.

また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記切断工程の前記第2の工程において、前記レーザー光のスポット径の大きさは、前記第1の工程における前記溝の幅に対し、50%以下であってもよい。   Further, in the manufacturing method of the protective film, in the second step of the cutting step, the spot diameter of the laser beam is 50% or less with respect to the width of the groove in the first step. There may be.

本発明の一実施形態に係る保護フィルムは、ディスプレイに貼付される保護フィルムであって、ディスプレイ側に位置する背面と、ディスプレイと反対側に位置する主面と、厚さ方向に延び前記保護フィルムの外形を構成する周縁部と、を有し、前記周縁部は、前記主面側から一定の厚さの領域に形成される第1の面と、前記第1の面と前記背面との間の領域に形成される第2の面と、を備え、前記第1の面は、前記第2の面よりも前記主面に対する傾きが小さい。   The protective film which concerns on one Embodiment of this invention is a protective film affixed on a display, Comprising: The back surface located in the display side, the main surface located in the opposite side to a display, The said protective film extended in thickness direction A peripheral portion constituting the outer shape of the first peripheral surface, and the peripheral portion is formed between a first surface formed in a region having a certain thickness from the main surface side, and between the first surface and the back surface. And a second surface formed in the region, wherein the first surface has a smaller inclination with respect to the main surface than the second surface.

また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記第1の面が、前記主面に対して、10°以上60°以下の傾きを有していてもよい。   Moreover, as for the manufacturing method of said protective film, the said 1st surface may have the inclination of 10 degrees or more and 60 degrees or less with respect to the said main surface.

また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記第2の面が、前記主面に対して、65°以上90°以下の傾きを有していてもよい。   Moreover, as for the manufacturing method of said protective film, the said 2nd surface may have the inclination of 65 to 90 degree with respect to the said main surface.

また、上記の保護フィルムの製造方法は、前記第1の面が、全体の厚みの10%以上85%以下の領域に設けられていてもよい。   Moreover, as for the manufacturing method of said protective film, the said 1st surface may be provided in the area | region of 10% or more and 85% or less of the whole thickness.

また、本発明の一実施形態に係るディスプレイは、上記保護フィルムが貼付されている。   Moreover, the said protective film is affixed on the display which concerns on one Embodiment of this invention.

本発明によれば、周縁部に面取りを施すことで周縁部の操作性を確保するとともに、チッピングを起点とする亀裂が生じにくい保護フィルムを提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while protecting the operability of a peripheral part by giving a chamfer to a peripheral part, the protective film which a crack starting from a chipping does not produce easily can be provided.

実施形態の保護フィルムの製造方法に用いるフィルム材の積層構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated structure of the film material used for the manufacturing method of the protective film of embodiment. 実施形態の保護フィルムの製造方法において設定する切断線を示す平面図である。It is a top view which shows the cutting line set in the manufacturing method of the protective film of embodiment. 実施形態の保護フィルムの製造方法における第1の工程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the 1st process in the manufacturing method of the protective film of embodiment. 実施形態の保護フィルムの製造方法における第2の工程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the 2nd process in the manufacturing method of the protective film of embodiment. 実施形態の保護フィルムの製造方法における隣接する2つの保護フィルムの切断分離部分の断面図である。It is sectional drawing of the cutting separation part of two adjacent protective films in the manufacturing method of the protective film of embodiment. 実施形態の保護フィルムの平面図であり、ディスプレイに貼付された状態を示す。It is a top view of the protective film of embodiment, and shows the state stuck on the display.

以下、図面を参照して本発明の一実施形態について説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, in the drawings used in the following description, in order to make the features easy to understand, there are cases where the portions that become the features are enlarged for the sake of convenience, and the dimensional ratios of the respective components are not always the same as the actual ones. Absent.

図1は、本実施形態の保護フィルム100(図6参照)の製造に用いるフィルム材1の積層構造を示す断面図である。
保護フィルム100の製造工程は、切断前のフィルム材1を用意する前工程と、フィルム材1を切断する切断工程と、を有する。なお、本明細書において、保護フィルム100とは、フィルム材1から特定の形状に切り出して、ディスプレイに貼付する際に不要な層を除去したものを指す。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a laminated structure of a film material 1 used for manufacturing a protective film 100 (see FIG. 6) of this embodiment.
The manufacturing process of the protective film 100 includes a preprocess for preparing the film material 1 before cutting and a cutting process for cutting the film material 1. In the present specification, the protective film 100 refers to a film obtained by cutting out a specific shape from the film material 1 and removing an unnecessary layer when affixing to a display.

図1に示すように、本実施形態のフィルム材1は、7層構造となっている。フィルム材1は、5層構造の本体部20と、本体部20の両側を挟み込むように配置され、本体部20を製造工程上の傷から保護する一対の防護フィルム6A、6Bと、を有する。防護フィルム6A、6Bは、フィルム材1を切断する切断工程において、本体部20に傷が生じることを防止する目的で設けられている。防護フィルム6A、6Bは、切断工程が終了した後に剥離される。   As shown in FIG. 1, the film material 1 of this embodiment has a seven-layer structure. The film material 1 includes a main body portion 20 having a five-layer structure and a pair of protective films 6A and 6B that are disposed so as to sandwich both sides of the main body portion 20 and protect the main body portion 20 from scratches in the manufacturing process. The protective films 6 </ b> A and 6 </ b> B are provided for the purpose of preventing the main body 20 from being damaged in the cutting process of cutting the film material 1. The protective films 6A and 6B are peeled off after the cutting process is completed.

本体部20は、ディスプレイに貼付される側に位置する下面20bと、その反対側に位置する上面20aと、を有している。本体部20は、上面20a側から順に、ハードコート層3と、主層2と、粘着剤層4と、セパレータ層5と、を有する。   The main body 20 has a lower surface 20b located on the side to be attached to the display, and an upper surface 20a located on the opposite side. The main body 20 includes a hard coat layer 3, a main layer 2, an adhesive layer 4, and a separator layer 5 in order from the upper surface 20 a side.

ハードコート層3は、他の層と比較して硬い樹脂からなる層である。ハードコート層3は、これより下に配置される他の層に傷が生じることを抑制する目的で、本体部20の最表面に形成されている。
主層2は、保護フィルム100を主に構成する層である。主層2については、後段においてより詳しく説明する。
粘着剤層4は、保護フィルム100をディスプレイに貼付するための粘着剤が施された層である。
セパレータ層5は、粘着剤層4に剥離可能に貼り付けられた層である。セパレータ層5は、容易に剥離可能であり、セパレータ層5を剥離させることで、粘着剤層4を露出させて、保護フィルム100をディスプレイに貼付できる。
The hard coat layer 3 is a layer made of a resin that is harder than other layers. The hard coat layer 3 is formed on the outermost surface of the main body 20 for the purpose of suppressing the occurrence of scratches on other layers disposed below the hard coat layer 3.
The main layer 2 is a layer mainly constituting the protective film 100. The main layer 2 will be described in more detail later.
The pressure-sensitive adhesive layer 4 is a layer provided with a pressure-sensitive adhesive for attaching the protective film 100 to the display.
The separator layer 5 is a layer that is detachably attached to the pressure-sensitive adhesive layer 4. The separator layer 5 can be easily peeled off, and by peeling the separator layer 5, the pressure-sensitive adhesive layer 4 can be exposed and the protective film 100 can be attached to the display.

主層2は、光硬化性樹脂組成物からなるものが例示されるが、その他にタッチパネルのフィルム材として使用可能なものであれば、これに限定されるものではない。
主層2を構成する光硬化性樹脂組成物としては、光(紫外線、可視光)および電子線などの活性エネルギー線により硬化反応(重合反応)が進行するものが使用できる。また、光硬化性樹脂組成物は重合性樹脂成分に光重合性開始剤を配合したものが好ましい。特に、光硬化性樹脂組成物としては、光重合性の炭素−炭素二重結合を複数個有する化合物が好ましい。
The main layer 2 is exemplified by a photocurable resin composition, but is not limited thereto as long as it can be used as a film material for a touch panel.
As the photocurable resin composition constituting the main layer 2, one that undergoes a curing reaction (polymerization reaction) by active energy rays such as light (ultraviolet rays and visible light) and an electron beam can be used. Further, the photocurable resin composition is preferably obtained by blending a polymerizable resin component with a photopolymerizable initiator. In particular, the photocurable resin composition is preferably a compound having a plurality of photopolymerizable carbon-carbon double bonds.

主層2は、液状(未硬化の)の光硬化性樹脂組成物を一対の基材フィルムにより挟み込んで帯状に加工した後に紫外線を照射して硬化させることで形成することができる。ここで用いる一対の基材フィルムは、紫外線を透過可能な光透過性樹脂からなるフィルムである。基材フィルムは、ハードコート層を主層2に転写する機能を有していてもよい。   The main layer 2 can be formed by sandwiching a liquid (uncured) photocurable resin composition between a pair of substrate films and processing it into a strip shape, and then irradiating it with ultraviolet rays to cure it. A pair of base film used here is a film made of a light transmissive resin capable of transmitting ultraviolet rays. The base film may have a function of transferring the hard coat layer to the main layer 2.

光硬化性樹脂組成物の例としては、(1)多価アリルエステル樹脂、(2)多価ビニルエステル樹脂、(3)多官能ウレタン(メタ)アクリレート樹脂、(4)籠型シロキサン−(メタ)アクリレート樹脂組成物、などが挙げられる。   Examples of the photocurable resin composition include (1) polyvalent allyl ester resin, (2) polyvalent vinyl ester resin, (3) polyfunctional urethane (meth) acrylate resin, and (4) cage-type siloxane- (meta ) Acrylate resin composition.

(1)多価アリルエステル樹脂は、多価アリルエステル化合物と光重合開始剤を含む組成物である。多価アリルエステル化合物は、多価カルボン酸のアリルエステルモノマーと2〜6個の水酸基を有する炭素数2〜20の多価アルコールとのエステル交換反応により製造される。
多価カルボン酸のアリルエステルモノマーの具体例としては、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジアリル、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸ジアリル、メチルテトラヒドロフタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、コハク酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等が挙げられる。これらアリルエステルモノマーは、必要に応じて2種以上使用することもでき、また、上述の具体例に限定されるものではない。
(1) The polyvalent allyl ester resin is a composition containing a polyvalent allyl ester compound and a photopolymerization initiator. The polyvalent allyl ester compound is produced by a transesterification reaction between an allyl ester monomer of a polyvalent carboxylic acid and a C 2-20 polyhydric alcohol having 2 to 6 hydroxyl groups.
Specific examples of the allyl ester monomer of polyvalent carboxylic acid include diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, diallyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, diallyl 1,2-cyclohexanedicarboxylate, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid Examples include diallyl acid, diallyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate, diallyl endomethylenetetrahydrophthalate, diallyl methyltetrahydrophthalate, diallyl adipate, diallyl succinate, diallyl maleate, and the like. These allyl ester monomers can be used in combination of two or more as required, and are not limited to the specific examples described above.

炭素数2〜20の多価アルコールの具体例のうち、2価のアルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ビスフェノール−Aのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノール−Aのプロピレンオキサイド付加物、2,2−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジブロモフェニル]プロパン等が挙げられる。
また、3価以上の多価アルコールの具体例としては、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタリスリトール等が挙げられる。これらの多価アルコールは2種以上の混合物であってもよい。また、上述の具体例に限定されるものではない。
Among specific examples of the polyhydric alcohol having 2 to 20 carbon atoms, the divalent alcohol includes ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neo Pentyl glycol, hexamethylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 2-methyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, Examples include bisphenol-A ethylene oxide adduct, bisphenol-A propylene oxide adduct, 2,2- [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dibromophenyl] propane, and the like.
Specific examples of the trihydric or higher polyhydric alcohol include glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, dipentalysitol and the like. These polyhydric alcohols may be a mixture of two or more. Moreover, it is not limited to the above-mentioned specific example.

さらに、多価アリルエステル化合物はラジカル重合性であり、熱や紫外線、電子線等により重合させることができる。また、他のラジカル重合性化合物と共重合することもできる。
多価アリルエステル化合物と共重合させるラジカル重合性化合物は、多価アリルエステル化合物と共重合する化合物であれば特に制限はない。その具体例としては、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート、アリルベンゾエート、α−ナフトエ酸アリル、β−ナフトエ酸アリル、2−フェニル安息香酸アリル、3−フェニル安息香酸アリル、4−フェニル安息香酸アリル、o−クロロ安息香酸アリル、m−クロロ安息香酸アリル、p−クロロ安息香酸アリル、o−ブロモ安息香酸アリル、m−ブロモ安息香酸アリル、p−ブロモ安息香酸アリル、2,6−ジクロロ安息香酸アリル、2,4−ジクロロ安息香酸アリル、2,4,6−トリブロモ安息香酸アリル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸ジアリル、3−メチル−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、4−メチル−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、エンディック酸ジアリル、クロレンド酸ジアリル、3,6−メチレン−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、トリメリット酸トリアリル、ピロメリット酸テトラアリル、ジフェン酸ジアリル等、コハク酸ジアリル、アジピン酸ジアリル等のアリルエステル類、ジベンジルマレート、ジベンジルフマレート、ジフェニルマレート、ジフェニルフマレート、ジブチルマレート、ジブチルフマレート、ジメトキエチルマレート、ジメトキシエチルフマレート等のマレイン酸ジエステル/フマル酸ジエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレンジリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジメタクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類;スチレン、α−メチルスチレン、メトキシスチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル化合物;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、カプロン酸ビニル等の脂肪族カルボン酸のビニルエステル;シクロヘキサンカルボン酸ビニルエステル等の脂環式ビニルエステル;安息香酸ビニルエステル、t−ブチル安息香酸ビニルエステル等の芳香族ビニルエステル、ジアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、PPG社製商品名CR−39に代表されるポリエチレングリコールビス(アリル)カーボネート樹脂等のアリルカーボネート化合物、分子内に反応性の異なる重合性二重結合を有する(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸ビニルやマレイン酸ジアリル等の化合物、イソシアヌル酸トリアリルやシアヌル酸トリアリル等の窒素含有多官能アリル化合物、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等オリゴアクリレート類等が挙げられる。
Furthermore, the polyvalent allyl ester compound is radically polymerizable and can be polymerized by heat, ultraviolet rays, electron beams or the like. It can also be copolymerized with other radically polymerizable compounds.
The radical polymerizable compound to be copolymerized with the polyvalent allyl ester compound is not particularly limited as long as it is a compound copolymerizable with the polyvalent allyl ester compound. Specific examples thereof include diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, allyl benzoate, allyl α-naphthoate, allyl β-naphthoate, allyl 2-phenylbenzoate, allyl 3-phenylbenzoate, 4-phenylbenzoic acid. Allyl, allyl o-chlorobenzoate, allyl m-chlorobenzoate, allyl p-chlorobenzoate, allyl o-bromobenzoate, allyl m-bromobenzoate, allyl p-bromobenzoate, 2,6-dichlorobenzoate Allyl acid, allyl 2,4-dichlorobenzoate, allyl 2,4,6-tribromobenzoate, diallyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate, diallyl 1,3-cyclohexanedicarboxylate, diallyl 1,2-cyclohexanedicarboxylate, 1-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid di Allyl, 3-methyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid diallyl, 4-methyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid diallyl, endic acid diallyl, chlorendic acid diallyl, 3,6-methylene-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid Allyl esters such as diallyl, triallyl trimelliate, tetraallyl pyromellitic acid, diallyl diphenate, diallyl succinate, diallyl adipate, dibenzyl malate, dibenzyl fumarate, diphenyl malate, diphenyl fumarate, dibutyl maleate Maleic acid diesters / fumaric acid diesters, such as rate, dibutyl fumarate, dimethoxyethyl fumarate, dimethoxyethyl fumarate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate , I-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9- Nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene diglycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra ( ) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tri (Meth) acrylic esters such as cyclodecanedimethanol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, ethoxylated cyclohexanedimethanol dimethacrylate, adamantyl (meth) acrylate; styrene, α-methylstyrene, methoxystyrene , Aromatic vinyl compounds such as divinylbenzene; aliphatic carboxyl such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl pivalate, vinyl stearate, vinyl caproate Vinyl ester; cycloaliphatic carboxylic acid vinyl ester and other alicyclic vinyl esters; benzoic acid vinyl ester and t-butyl benzoic acid vinyl ester and other aromatic vinyl esters, diallyl carbonate, diethylene glycol bisallyl carbonate, trade name CR manufactured by PPG -39 Allyl carbonate compounds such as polyethylene glycol bis (allyl) carbonate resin represented by 39, allyl (meth) acrylate having a different polymerizable double bond in the molecule, vinyl (meth) acrylate and maleic acid Compounds such as diallyl, nitrogen-containing polyfunctional allyl compounds such as triallyl isocyanurate and triallyl cyanurate, unsaturated polyester resin, vinyl ester resin, urethane acrylate, epoxy acrylate and other oligoacrylates, etc. And the like.

ただし、これらのラジカル重合性化合物はあくまで例示であり、上記に限定されるわけではない。また、これらのラジカル重合性化合物は、目的の物性を得るために2種以上併用してもよい。   However, these radically polymerizable compounds are merely examples and are not limited to the above. These radically polymerizable compounds may be used in combination of two or more in order to obtain the desired physical properties.

(2)多価ビニルエステル樹脂としては、前記多価アリルエステルのアリル基をビニル基に置換したものが挙げられる。   (2) As polyvalent vinyl ester resin, what substituted the allyl group of the said polyvalent allyl ester by the vinyl group is mentioned.

(3)多官能ウレタン(メタ)アクリレート樹脂としては、ポリイソシアネート系化合物と水酸基含有(メタ)アクリレート系化合物を、必要に応じてジブチルチンジラウレートなどの触媒を用いて反応させて得られた物が挙げられる。ポリイソシアネート系化合物としてはイソホロンジイソシアネート、トリシクロデカンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、1,3−ジイソシアナトシクロヘキサン、1,4−ジイソシアナトシクロヘキサン、水添化キシリレンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネートなどのポリイソシアネート系化合物などが例示される。水酸基含有(メタ)アクリレート系化合物の具体例としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   (3) The polyfunctional urethane (meth) acrylate resin is obtained by reacting a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound using a catalyst such as dibutyltin dilaurate as necessary. Can be mentioned. Examples of polyisocyanate compounds include isophorone diisocyanate, tricyclodecane diisocyanate, norbornene diisocyanate, 1,3-diisocyanatocyclohexane, 1,4-diisocyanatocyclohexane, hydrogenated xylylene diisocyanate, and hydrogenated diphenylmethane diisocyanate. Examples include isocyanate compounds. Specific examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound include, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- ( Examples include meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol tri (meth) acrylate.

(4)籠型シロキサン−(メタ)アクリレート樹脂組成物としては、例えば、特開2010−195986号公報に記載の樹脂組成物が挙げられる。   (4) Examples of the cage siloxane- (meth) acrylate resin composition include the resin composition described in JP 2010-195986 A.

また、主層2に使用できる樹脂としては前述の光硬化性樹脂組成物以外にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、PMMA、ポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂にも適用可能である。   Moreover, as resin which can be used for the main layer 2, it is applicable also to thermoplastic resins, such as thermosetting resins, such as an epoxy resin, PMMA, a polycarbonate other than the above-mentioned photocurable resin composition.

<前工程>
保護フィルム100の製造方法を説明する。まず、フィルム材1を用意する前工程について説明する。
本体部20は、主層2に対して他の層を積層することで形成することができる。主層2は、上述したように、一対の基材フィルムに液状(未硬化の)の光硬化性樹脂組成物を挟み込んで帯状に加工した後に紫外線を照射して硬化させ、基材フィルムを除去することで形成できる。
主層2を形成した後に、主層2の一方の面にハードコート層3を形成し、他方の面に粘着剤層4を形成しさらに粘着剤層4上にセパレータ層5を配置する。これにより、本体部20を形成する。
次に、本体部20の表裏両面に防護フィルム6A、6Bを積層してフィルム材1を形成する。本体部20と防護フィルム6A、6Bとは、剥離可能に接着しておくことが好ましい。
これらの工程を経ることで、フィルム材1を用意する前工程が完了する。
<Pre-process>
A method for manufacturing the protective film 100 will be described. First, the pre-process for preparing the film material 1 will be described.
The main body 20 can be formed by laminating other layers on the main layer 2. As described above, the main layer 2 is formed by sandwiching a liquid (uncured) photo-curable resin composition between a pair of base films and processing them into a strip shape, and then curing by irradiating with ultraviolet rays to remove the base film. Can be formed.
After forming the main layer 2, the hard coat layer 3 is formed on one surface of the main layer 2, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is formed on the other surface, and the separator layer 5 is disposed on the pressure-sensitive adhesive layer 4. Thereby, the main-body part 20 is formed.
Next, the protective film 6 </ b> A, 6 </ b> B is laminated on both the front and back surfaces of the main body 20 to form the film material 1. The main body 20 and the protective films 6A and 6B are preferably bonded in a peelable manner.
By passing through these steps, the pre-process for preparing the film material 1 is completed.

<切断工程>
次に、フィルム材1の切断工程を行う。
まず、図2に示すように、一対の防護フィルム6A、6Bに挟み込まれたフィルム材1に切断線Cを設定する。切断線Cは、フィルム材1から切り出す保護フィルム100の外形を構成する。切断線Cは、隣接する保護フィルム100同士の間に位置する不要部101と、保護フィルム100との境界、及び保護フィルム100の中の孔25の境界を構成する。
切断工程は、以下に説明する第1の工程及び第2の工程を含む。切断工程は、第1の工程及び第2の工程において、切断線Cに沿って、それぞれ、エンドミル10又はレーザー光Lを走らせることで、切断を行う工程である。
<Cutting process>
Next, the cutting process of the film material 1 is performed.
First, as shown in FIG. 2, the cutting line C is set to the film material 1 sandwiched between the pair of protective films 6A and 6B. The cutting line C constitutes the outer shape of the protective film 100 cut out from the film material 1. The cutting line C constitutes a boundary between the unnecessary portion 101 located between the adjacent protective films 100 and the protective film 100, and a boundary of the holes 25 in the protective film 100.
The cutting process includes a first process and a second process described below. The cutting step is a step of cutting by running the end mill 10 or the laser beam L along the cutting line C in the first step and the second step, respectively.

<第1の工程>
次に、切断線Cに沿って回転するエンドミル10を切断線Cに沿って送り切削する第1の工程を行う。
図3に示すように、エンドミル10は、フライス盤などの加工装置の回転軸に連結され直線的に延びる軸部11と、軸部11の先端側に位置するテーパ部12とを有する。テーパ部12には、テーパ刃12aが設けられている。また、テーパ部12の先端には、平坦部12bが設けられている。テーパ刃12aは、エンドミル10の先端から長さh12の領域に設けられている。テーパ刃12aと平坦部12bとは、角度αをなす。
なお、エンドミル10の平坦部12bにも刃が形成されている。したがって、平坦部12bは、形状が平坦となっているのではなく、平坦部12bにより切削加工された対象物が平坦となる部位である。
<First step>
Next, the first step of feeding and cutting the end mill 10 rotating along the cutting line C along the cutting line C is performed.
As shown in FIG. 3, the end mill 10 includes a shaft portion 11 that is connected to a rotating shaft of a machining apparatus such as a milling machine and extends linearly, and a taper portion 12 that is positioned on the tip side of the shaft portion 11. The taper portion 12 is provided with a taper blade 12a. A flat portion 12 b is provided at the tip of the tapered portion 12. The taper blade 12a is provided in a region having a length h12 from the tip of the end mill 10. The taper blade 12a and the flat portion 12b form an angle α.
A blade is also formed on the flat portion 12 b of the end mill 10. Therefore, the flat portion 12b is not a flat shape but a portion where the object cut by the flat portion 12b is flat.

図3に示すように、第1の工程において、エンドミル10は、テーパ部12のテーパ刃12aによりフィルム材1の表面1a側から切削する。エンドミル10によって、フィルム材1の表面1aから深さh30だけ切削される。深さh30は、エンドミル10のテーパ刃12aの高さh12より浅い距離である。即ち、エンドミル10は、直線的に延びる軸部11をフィルム材1の表面1aより下方に挿入せずに切削を行う。これにより、第1の工程によって、フィルム材1には、表面1aと連続する第1の傾斜面(第1の面)31が形成される。第1の傾斜面31の傾斜角は、テーパ刃12aの傾斜角に由来する。したがって、第1の傾斜面31とフィルム材1の表面1aとは、角度αをなす。   As shown in FIG. 3, in the first step, the end mill 10 is cut from the surface 1 a side of the film material 1 by the tapered blade 12 a of the tapered portion 12. The end mill 10 cuts the film material 1 from the surface 1a by a depth h30. The depth h30 is a distance shallower than the height h12 of the tapered blade 12a of the end mill 10. That is, the end mill 10 performs cutting without inserting the linearly extending shaft portion 11 below the surface 1 a of the film material 1. Thereby, the 1st inclined surface (1st surface) 31 continuous with the surface 1a is formed in the film material 1 by a 1st process. The inclination angle of the first inclined surface 31 is derived from the inclination angle of the tapered blade 12a. Therefore, the first inclined surface 31 and the surface 1a of the film material 1 form an angle α.

第1の傾斜面31は、切断線Cに沿って形成されるために、フィルム材1には、V字状の溝30が形成される。溝30は切断線Cに沿った中心線J30を基準線として断面が線対称な形状となる。
溝30は、幅d30に形成される。幅d30は、1mm以上5mm以下とすることが好ましい。幅d30を1mm以上とすることで、保護フィルム100における第1の傾斜面31が十分に大きく確保される。また、幅d30を5mm以下とすることで、保護フィルム100において第1の傾斜面31が大きくなりすぎて、保護フィルム100を通して視認するディスプレイの視認性が悪化することがない。また、同様の理由で、幅d30は、2mm以上4mm以下とすることがより好ましい。
なお、溝30の幅d30は、エンドミル10のフィルム材1に対する切り込み深さと、テーパ刃12aの角度αにより決まる。したがって、幅d30は、テーパ刃12aの角度αに応じて、切り込み深さを調整することで制御できる。
Since the first inclined surface 31 is formed along the cutting line C, a V-shaped groove 30 is formed in the film material 1. The groove 30 has a symmetrical shape with respect to the center line J30 along the cutting line C as a reference line.
The groove 30 is formed with a width d30. The width d30 is preferably 1 mm or more and 5 mm or less. By setting the width d30 to 1 mm or more, the first inclined surface 31 in the protective film 100 is secured sufficiently large. Moreover, the 1st inclined surface 31 becomes large too much in the protective film 100 because the width | variety d30 shall be 5 mm or less, and the visibility of the display visually recognized through the protective film 100 does not deteriorate. For the same reason, the width d30 is more preferably 2 mm or more and 4 mm or less.
The width d30 of the groove 30 is determined by the cutting depth of the end mill 10 with respect to the film material 1 and the angle α of the taper blade 12a. Therefore, the width d30 can be controlled by adjusting the cutting depth according to the angle α of the tapered blade 12a.

また、エンドミル10の先端には平坦部12bが設けられているために、溝30には、平坦な底部32が形成される。底部32の幅d32は、エンドミル10の先端の平坦部12bの径と略同一となる。
なお、エンドミル10の先端には、平坦部12bが設けられていなくても良い。即ち、エンドミル10は、先端までテーパ刃12aが形成された鋭利な形状とされていても良い。この場合には、溝30に平坦な底部32が形成されない。
Further, since the flat portion 12 b is provided at the tip of the end mill 10, a flat bottom portion 32 is formed in the groove 30. The width d32 of the bottom 32 is substantially the same as the diameter of the flat portion 12b at the tip of the end mill 10.
Note that the end portion of the end mill 10 may not be provided with the flat portion 12b. That is, the end mill 10 may have a sharp shape in which the tapered blade 12a is formed up to the tip. In this case, the flat bottom portion 32 is not formed in the groove 30.

次に、図4に示すように、切断線Cに沿って、レーザー光Lをフィルム材1の表面1aから照射して、フィルム材1を切断する第2の工程を行う。切断線Cには、第1の工程において形成された溝30が形成されており、レーザー光Lは、溝30の中心線J30から保護フィルム側(図4の左側)に偏差した中心線J40に沿って照射される。これはレーザー光Lの幅が溝30の幅よりもかなり小さいためである。図4の右側のフィルム材1は不要部101として廃棄される。なお、溝30の幅が狭い場合はレーザー光Lを溝30の中心線に沿って照射してもよい。この場合、図4の右側のフィルム材1は不要部101とせず、保護フィルムに用いることができるので原材料のロスを少なくすることができる。   Next, as shown in FIG. 4, along the cutting line C, a laser beam L is irradiated from the surface 1 a of the film material 1 to perform a second step of cutting the film material 1. In the cutting line C, the groove 30 formed in the first step is formed, and the laser light L is shifted from the center line J30 of the groove 30 to the center line J40 deviated to the protective film side (left side in FIG. 4). Irradiated along. This is because the width of the laser beam L is considerably smaller than the width of the groove 30. The film material 1 on the right side of FIG. If the width of the groove 30 is narrow, the laser beam L may be irradiated along the center line of the groove 30. In this case, since the film material 1 on the right side of FIG. 4 is not used as the unnecessary portion 101 and can be used as a protective film, loss of raw materials can be reduced.

レーザー光Lが照射されることで、フィルム材1は、表面1a側から深さ方向に向かって深さh40だけ溶融され切断された溝状の切断部40が形成される。切断部40は、フィルム材1の表面1a側の防護フィルム6Aと本体部20を貫通し、下側の防護フィルム6Bをハーフカットするように形成される。切断部40の深さh40は、レーザー光Lの出力(エネルギー密度)と照射時間を適切に調整することで制御できる。   By irradiating the laser beam L, the film material 1 is formed with a groove-shaped cut portion 40 which is melted and cut by a depth h40 from the surface 1a side in the depth direction. The cutting part 40 is formed so as to penetrate the protective film 6A on the surface 1a side of the film material 1 and the main body part 20 and to half-cut the lower protective film 6B. The depth h40 of the cutting part 40 can be controlled by appropriately adjusting the output (energy density) of the laser light L and the irradiation time.

レーザー光Lにより切断された切断部40は表面1a側の開口が広い形状となる。レーザー光Lは、フィルム材1の表面1a側から照射され、表面1a側から徐々にフィルム材1を溶融するために、表面1aに近い領域ほど熱の影響を長く受ける。これにより、レーザー光Lによる切断においては、若干開口に向かって広がる第2の傾斜面(第2の面)41が形成される。   The cutting part 40 cut by the laser beam L has a shape with a wide opening on the surface 1a side. The laser beam L is irradiated from the surface 1a side of the film material 1, and in order to melt the film material 1 gradually from the surface 1a side, the region closer to the surface 1a is affected by heat longer. Thereby, in the cutting | disconnection by the laser beam L, the 2nd inclined surface (2nd surface) 41 which spreads toward opening slightly is formed.

第2の傾斜面41とフィルム材1の表面1aとは、角度βをなす。第2の傾斜面41の傾斜角度は、レーザー光Lの出力(エネルギー密度)に依存する。レーザー光Lの出力を高めた場合には、角度βが大きくなり90°に近づく。
また、レーザー光Lの出力を低めた場合には、所定の深さの切断を行うための時間(照射時間)を長くする必要が生じる。これによって、開口側が熱の影響を受ける時間が長くなり角度βが小さくなり開口が広くなる。
The second inclined surface 41 and the surface 1a of the film material 1 form an angle β. The inclination angle of the second inclined surface 41 depends on the output (energy density) of the laser light L. When the output of the laser beam L is increased, the angle β increases and approaches 90 °.
Moreover, when the output of the laser beam L is lowered, it is necessary to lengthen the time (irradiation time) for cutting at a predetermined depth. As a result, the time during which the opening side is affected by heat becomes longer, the angle β becomes smaller, and the opening becomes wider.

レーザー光Lのスポット径dsは、溝30の底部32の幅d32より大きい。これにより、溝30の底部32は完全に溶融され、切断部40の第2の傾斜面41は、第1の傾斜面31と連続する面となる。
また、レーザー光Lのスポット径dsの大きさは、第1の工程における溝30の幅d30に対し、50%以下である。これにより、第2の工程を経た後であっても、溝30の第1の傾斜面31が、レーザー光Lにより溶融されずに、切断部40の両側に十分な大きさだけ残った状態となる。より具体的には、溝30の幅d30は1mm以上とされた場合に、レーザー光Lのスポット径dsを幅d30の50%以下とすることで、第1の傾斜面31を0.5mm以上確保できる。
The spot diameter ds of the laser beam L is larger than the width d32 of the bottom 32 of the groove 30. Thereby, the bottom portion 32 of the groove 30 is completely melted, and the second inclined surface 41 of the cutting portion 40 becomes a surface continuous with the first inclined surface 31.
The spot diameter ds of the laser beam L is 50% or less with respect to the width d30 of the groove 30 in the first step. Thereby, even after passing through the second step, the first inclined surface 31 of the groove 30 is not melted by the laser light L and remains in a sufficient size on both sides of the cutting portion 40. Become. More specifically, when the width d30 of the groove 30 is set to 1 mm or more, the first inclined surface 31 is set to 0.5 mm or more by setting the spot diameter ds of the laser light L to 50% or less of the width d30. It can be secured.

レーザー光Lは、熱で溶融させてフィルム材1を切断する。熱の影響は、切断部40のみならず、その周囲にも及ぶ。第1の工程のエンドミル10による切削加工で形成された第1の傾斜面31には、チッピング(小さな欠け)が生じている場合がある。レーザー光Lによる切断時の熱は、チッピングの周辺のフィルム材1をわずかに溶融させ、チッピングを埋め込み消失させる。レーザー光Lによる切断時の熱は、チッピングの最奥部に形成される、鋭角の切欠が丸め、チッピングを亀裂の起点としにくくする。   The laser beam L is melted by heat to cut the film material 1. The influence of heat extends not only to the cutting part 40 but also to the surroundings. Chipping (small chipping) may occur on the first inclined surface 31 formed by the cutting by the end mill 10 in the first step. The heat at the time of cutting with the laser beam L slightly melts the film material 1 around the chipping, and the chipping is embedded and disappeared. The heat at the time of cutting by the laser beam L rounds off the acute notch formed at the innermost part of the chipping, making it difficult to make the chipping the starting point of the crack.

以上に説明した、第1の工程及び第2の工程を経ることで切断工程が完了する。
第1の工程と、第2の工程は、順序を逆として行っても良い。即ち、先にレーザー光Lによる第2工程を行い、後にエンドミル10による第1の工程を行ってもよい。この場合には、レーザー光Lによる熱の影響で、チッピングを埋め込む、又は切欠を丸めるといった効果を奏さない。このため、上述したように、第1の工程の後に第2の工程を行うことが、より好ましい。
The cutting process is completed through the first process and the second process described above.
The first step and the second step may be performed in the reverse order. That is, the second process using the laser beam L may be performed first, and the first process using the end mill 10 may be performed later. In this case, the effect of embedding chipping or rounding the notch due to the influence of heat from the laser beam L is not achieved. For this reason, as described above, it is more preferable to perform the second step after the first step.

さらに、切断工程が完了した後に、防護フィルム6A、6Bが除去される。一対の防護フィルム6A、6Bのうち下側の防護フィルム6Bは、ハーフカットされているため、複数の保護フィルム100が、防護フィルム6B上に搭載された状態となっている。したがって、複数の保護フィルム100が、離散してしまうことがなく、下側の防護フィルム6Bを除去しながら保護フィルム100の回収を行うことで、回収作業を容易にできる。   Further, after the cutting process is completed, the protective films 6A and 6B are removed. Since the lower protective film 6B of the pair of protective films 6A and 6B is half-cut, a plurality of protective films 100 are mounted on the protective film 6B. Therefore, the plurality of protective films 100 are not dispersed, and the recovery operation can be facilitated by collecting the protective films 100 while removing the lower protective film 6B.

<保護フィルム>
図5は、上述の製造工程で切断、分離された隣接する2つの保護フィルム100の断面図である。図5の保護フィルム100には、セパレータ層5が積層されているが、保護フィルム100の使用時には、セパレータ層5は除去される。
また、図6は、保護フィルム100の平面図であり、ディスプレイ60に貼付された状態を示す。
<Protective film>
FIG. 5 is a cross-sectional view of two adjacent protective films 100 cut and separated in the above-described manufacturing process. Although the separator layer 5 is laminated | stacked on the protective film 100 of FIG. 5, when using the protective film 100, the separator layer 5 is removed.
FIG. 6 is a plan view of the protective film 100 and shows a state of being attached to the display 60.

保護フィルム100は、ディスプレイ60に貼付される側の面である背面100bと、その反対側に位置する主面100aと、厚さ方向に延びる周縁部100cと、を有している。周縁部100cは、保護フィルム100の外形、(又は孔25の外形)を構成する。
また、保護フィルム100は、主面100a側から順に、ハードコート層3と、主層2と、粘着剤層4と、を有する。
The protective film 100 has a back surface 100b which is a surface to be attached to the display 60, a main surface 100a located on the opposite side, and a peripheral edge portion 100c extending in the thickness direction. The peripheral edge portion 100c constitutes the outer shape of the protective film 100 (or the outer shape of the hole 25).
Moreover, the protective film 100 has the hard-coat layer 3, the main layer 2, and the adhesive layer 4 in an order from the main surface 100a side.

図5に示すように、周縁部100cは、主面100a側から一定の厚さの領域に形成される第1の傾斜面(第1の面)31と、第1の傾斜面31と背面100bとの間の領域に形成される第2の傾斜面(第2の面)41と、を備える。第1の傾斜面31は、第1の工程(エンドミル加工)に由来し、第2の傾斜面41は、第2の工程(レーザー光Lによる切断加工)に由来する。
第1の傾斜面31の主面100aに対する角度αは、第2の傾斜面41の主面100aに対する角度βより小さい。
As shown in FIG. 5, the peripheral portion 100c includes a first inclined surface (first surface) 31 formed in a region having a certain thickness from the main surface 100a side, a first inclined surface 31, and a back surface 100b. 2nd inclined surface (2nd surface) 41 formed in the area | region between. The first inclined surface 31 is derived from the first step (end milling), and the second inclined surface 41 is derived from the second step (cutting with the laser beam L).
The angle α of the first inclined surface 31 with respect to the main surface 100a is smaller than the angle β of the second inclined surface 41 with respect to the main surface 100a.

第1の傾斜面31の主面100aに対する角度αは、10°以上60°以下であることが好ましい。
角度αを10°以上とすることで、主面100aと第1の傾斜面31とがなす角度が緩やかとなり、周縁部100cにおいて指が引っかかりにくくなる。
また、角度αを60°以下とすることで、第1の傾斜面31と第2の傾斜面41との角部39の角度γが緩やかとなり、周縁部100cにおいて指が引っかかりにくくなる。
同様の理由で、角度αは、15°以上45°以下であることがより好ましい。
The angle α of the first inclined surface 31 with respect to the main surface 100a is preferably 10 ° or more and 60 ° or less.
By setting the angle α to 10 ° or more, the angle formed by the main surface 100a and the first inclined surface 31 becomes gentle, and the finger is hardly caught at the peripheral edge portion 100c.
Moreover, by setting the angle α to 60 ° or less, the angle γ of the corner portion 39 between the first inclined surface 31 and the second inclined surface 41 becomes gentle, and the finger is hardly caught at the peripheral edge portion 100c.
For the same reason, the angle α is more preferably 15 ° or more and 45 ° or less.

第1の傾斜面31は、保護フィルム100の厚みDの10%以上、85%以下の領域に設けられていることが好ましい。即ち、d1の値がDの値の10〜85%となることが好ましい。
第1の傾斜面31を保護フィルム100の厚みDの10%以上の領域に設けることで、第1の傾斜面31を十分に大きく確保して、面取りとしての効果を高めることとができる。即ち、保護フィルム100は、周縁部100cにおいて指が引っかかりにくくなる。
また、第1の傾斜面31は、エンドミル10による切削加工により形成されているために、亀裂の起点となり得るチッピングが生じている場合がある。したがって、第1の傾斜面31を保護フィルム100の厚みDの85%以下の領域とすることで、第1の傾斜面31を小さくし、亀裂の発生を抑制できる。
The first inclined surface 31 is preferably provided in a region of 10% to 85% of the thickness D of the protective film 100. That is, the value of d1 is preferably 10 to 85% of the value of D.
By providing the 1st inclined surface 31 in the area | region of 10% or more of the thickness D of the protective film 100, the 1st inclined surface 31 can be ensured large enough and the effect as chamfering can be improved. That is, the protective film 100 is less likely to get a finger caught at the peripheral edge portion 100c.
Moreover, since the 1st inclined surface 31 is formed by the cutting process by the end mill 10, the chipping which may become a crack starting point may arise. Therefore, the 1st inclined surface 31 can be made small by making the 1st inclined surface 31 into the area | region of 85% or less of the thickness D of the protective film 100, and generation | occurrence | production of a crack can be suppressed.

第2の傾斜面41の主面100aに対する角度βは、65°以上90°以下であることが好ましい。
角度βを65°以上とすることで、保護フィルム100の面方向に沿う第2の傾斜面41の長さを短くすることができる。即ち正面視における第2の傾斜面41を小さくすることができ、保護フィルム100を通して視認するディスプレイ60の視認性が悪化することがない。また、角度βは、同様の理由から75°以上とすることが好ましい。
The angle β of the second inclined surface 41 with respect to the main surface 100a is preferably 65 ° or more and 90 ° or less.
By setting the angle β to 65 ° or more, the length of the second inclined surface 41 along the surface direction of the protective film 100 can be shortened. That is, the 2nd inclined surface 41 in front view can be made small, and the visibility of the display 60 visually recognized through the protective film 100 does not deteriorate. Further, the angle β is preferably set to 75 ° or more for the same reason.

第2の傾斜面41の主面100aに対する角度βは、フィルム材1の表面1a側からレーザー光Lを照射した場合に、必然的に90°以下となる(図4参照)。第1の工程における切削加工は、フィルム材1の表面1a側から行うため、レーザー光Lをフィルム材1の表面1a側から照射することは、第1の工程と同一の方向から第2の工程を行うことを意味する。したがって、レーザー光Lをフィルム材1の表面1a側から照射し、角度βを90°以下とすることで、第1の工程と第2の工程とを同一ライン上で連続的に行うことができ、工程を簡素化できる。   The angle β of the second inclined surface 41 with respect to the main surface 100a is inevitably 90 ° or less when the laser beam L is irradiated from the surface 1a side of the film material 1 (see FIG. 4). Since the cutting process in the first step is performed from the surface 1a side of the film material 1, the irradiation of the laser light L from the surface 1a side of the film material 1 is performed in the second step from the same direction as the first step. Means to do. Therefore, the first step and the second step can be continuously performed on the same line by irradiating the laser beam L from the surface 1a side of the film material 1 and setting the angle β to 90 ° or less. The process can be simplified.

また、第2の傾斜面41の主面100aに対する角度βは、85°以下であることがより好ましい。角度βを85°以下とすることで、第1の傾斜面31と第2の傾斜面41との境界である角部39のなす角度γを大きくすることができる。角度γを大きくすることで、第1の傾斜面31と第2の傾斜面41とのである角部39において、指が引っかかりにくくなる。したがって、この保護フィルム100をディスプレイ60に貼付した場合に、周縁部100cの近傍における操作性を高めることができる。   The angle β of the second inclined surface 41 with respect to the main surface 100a is more preferably 85 ° or less. By setting the angle β to 85 ° or less, the angle γ formed by the corner portion 39 that is the boundary between the first inclined surface 31 and the second inclined surface 41 can be increased. Increasing the angle γ makes it difficult for the finger to get caught at the corner 39 between the first inclined surface 31 and the second inclined surface 41. Therefore, when this protective film 100 is affixed to the display 60, the operativity in the vicinity of the peripheral part 100c can be improved.

本実施形態の保護フィルム100によれば、周縁部100cに、主面100a側に位置する第1の傾斜面31と、背面100b側に位置する第2の傾斜面41とが形成されている。
第1の傾斜面31は、エンドミル10のテーパ刃12aにより切削加工された面であり、十分な傾斜角(角度α)を有している。したがって、主面100a側において、使用者が周縁部100cの外側から内側に向かって指を運んだ場合に、指が周縁部100cで引っかかりにくい。これにより、周縁部100cの近傍において、タッチパネルの操作性が阻害されることがない。
According to the protective film 100 of this embodiment, the 1st inclined surface 31 located in the main surface 100a side and the 2nd inclined surface 41 located in the back surface 100b side are formed in the peripheral part 100c.
The first inclined surface 31 is a surface cut by the taper blade 12a of the end mill 10, and has a sufficient inclination angle (angle α). Therefore, on the main surface 100a side, when the user carries his / her finger from the outer side of the peripheral part 100c toward the inner side, the finger is not easily caught by the peripheral part 100c. Thereby, the operativity of a touchscreen is not inhibited in the vicinity of the peripheral part 100c.

また、保護フィルム100は、レーザー光Lによって加工された第2の傾斜面41を有する。また、第2の傾斜面41は、第1の傾斜面31より周縁部100cにおいて平面視の外側に位置する。第1の傾斜面31は、切削加工により形成されているためにチッピングを生じている場合がある。しかしながら、第2の傾斜面41は、第1の傾斜面31より内側に位置しているため、保護フィルム100を曲げた場合であっても、第1の傾斜面31には、応力が加わりにくい。したがって、第1の傾斜面31にチッピングが形成されていた場合であっても、チッピングが亀裂の起点となりにくい。即ち、保護フィルム100は、第2の傾斜面41を備えていることにより、亀裂が生じにくい。   Further, the protective film 100 has a second inclined surface 41 processed by the laser light L. In addition, the second inclined surface 41 is located on the outer side in plan view at the peripheral edge portion 100 c than the first inclined surface 31. The first inclined surface 31 may be chipped because it is formed by cutting. However, since the 2nd inclined surface 41 is located inside the 1st inclined surface 31, even when it is a case where the protective film 100 is bent, it is hard to apply stress to the 1st inclined surface 31. . Therefore, even when chipping is formed on the first inclined surface 31, the chipping is unlikely to become a starting point of a crack. That is, since the protective film 100 includes the second inclined surface 41, it is difficult for cracks to occur.

以上に、本発明の実施形態を説明したが、各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、及びその他の変更が可能である。
例えば、フィルム材1の層構造は、これに限るものではなく、例えば、ハードコート層3、粘着剤層4、並びにセパレータ層5は、省略しても良い。同様に保護フィルム100は、主層2のみから構成されるものであってもよい。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the configurations and combinations thereof in the embodiments are examples, and the addition, omission, replacement, and others of the configurations are within the scope not departing from the gist of the present invention. Can be changed.
For example, the layer structure of the film material 1 is not limited to this. For example, the hard coat layer 3, the pressure-sensitive adhesive layer 4, and the separator layer 5 may be omitted. Similarly, the protective film 100 may be composed only of the main layer 2.

以下、実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail, this invention is not limited to these Examples.

<サンプルの作製>
まず、図1に示すフィルム材1を用意する。フィルム材1は、本体部20と、本体部20を挟み込むように配置された厚さ43μmの防護フィルム6A、厚さ150μmの防護フィルム6Bと、を有している。本体部20は、6μmのハードコート層3と、200μm〜300μm(表1参照)の主層2と、50μmの粘着剤層4と、50μmのセパレータ層5と、を有している。
<Preparation of sample>
First, the film material 1 shown in FIG. 1 is prepared. The film material 1 includes a main body 20, a protective film 6 </ b> A having a thickness of 43 μm and a protective film 6 </ b> B having a thickness of 150 μm, which are arranged so as to sandwich the main body 20. The main body 20 has a 6 μm hard coat layer 3, a main layer 2 of 200 μm to 300 μm (see Table 1), a 50 μm pressure-sensitive adhesive layer 4, and a 50 μm separator layer 5.

上述したフィルム材1を切断した。
サンプルNo.1、No.2として、第1の工程(エンドミル10による切削)と第2の工程(レーザー光Lによる切断)と、をこの順で行って切断して作製した。
サンプルNo.3として、第2の工程のみを行って作製した。
サンプルNo.4として、第1の工程のみを行って作製した。
The film material 1 described above was cut.
Sample No. 1, no. No. 2, the first step (cutting by the end mill 10) and the second step (cutting by the laser beam L) were performed in this order and cut.
Sample No. 3 was prepared by performing only the second step.
Sample No. 4 was produced by performing only the first step.

第1の工程は、エンドミル10を、回転数50000rpmで回転させ、送り速度500mm/分で送ることで行った。なお、第1の工程に用いたエンドミル10は、図5における角度αが表1に示すものとなるように、適宜選択した。なお、実施例1、2で用いたエンドミルの直径は3mm、先端の低端部直径は2mmである。また、実施例4に用いたエンドミルの直径は3mmでテーパなし(先端の低端部直径も3mm)を使用した。   The first step was performed by rotating the end mill 10 at a rotational speed of 50000 rpm and feeding it at a feed rate of 500 mm / min. The end mill 10 used in the first step was appropriately selected so that the angle α in FIG. The diameter of the end mill used in Examples 1 and 2 is 3 mm, and the low end diameter at the tip is 2 mm. Moreover, the diameter of the end mill used in Example 4 was 3 mm, and there was no taper (the diameter of the low end portion of the tip was also 3 mm).

第2の工程は、COレーザー装置(パナソニック株式会社製レーザーマーカー)を用いて行った。レーザーの出力は40W、切断速度を2500mm/分とした。また、照射時間は、図5における角度βが表1に示すものとなるように、適宜選択した。 The second step was performed using a CO 2 laser device (Laser Marker manufactured by Panasonic Corporation). The laser output was 40 W and the cutting speed was 2500 mm / min. Further, the irradiation time was appropriately selected so that the angle β in FIG.

<評価>
作製されたサンプルNo.1〜No.4の保護フィルムに対して、周縁部近傍の操作性の評価と、亀裂試験を行った。
周縁部近傍の操作性の評価として、任意に選択した10人の評価者による官能評価を行った。各評価者の評価得点を集計し結果を、○、×の2段階に分けて、表1に記載する。
<Evaluation>
The produced sample No. 1-No. Evaluation of the operativity of the peripheral part vicinity and a crack test were done with respect to 4 protective films.
As evaluation of the operativity of the peripheral part vicinity, the sensory evaluation by the 10 evaluators arbitrarily selected was performed. The evaluation score of each evaluator is tabulated and the results are shown in Table 1 in two stages of ◯ and ×.

亀裂試験は、以下の手順により行った。
まず、十分な長さを有するφ2mm、φ3mmの円棒筒をそれぞれ用意した。
複数用意した各サンプルを、それぞれ5枚ずつφ2mmの円棒筒とφ3mmの円棒筒とに、半周させて巻きつけ、亀裂が生じるかどうかを確認した。
5枚中1枚でも亀裂が生じた場合は×とし、3枚以下の亀裂が生じた場合は△、亀裂が生じたものがなかった場合に○とした。
The crack test was performed according to the following procedure.
First, φ2 mm and φ3 mm rod cylinders having sufficient lengths were prepared.
A plurality of each of the prepared samples was wound around a half-diameter cylinder of φ2 mm and a cylinder of φ3 mm half-turned, and it was confirmed whether or not a crack occurred.
When one of the five cracks was cracked, it was rated as x. When three or fewer cracks were observed, the mark was Δ, and when there was no crack, mark was marked as ◯.

表1に、サンプルNo.1〜No.4の保護フィルムの構成と、評価結果をまとめて示す。   In Table 1, Sample No. 1-No. The structure of 4 protective films and an evaluation result are shown collectively.

Figure 0006493733
Figure 0006493733

表1に示すように、第1の工程と第2の工程とを行ったサンプルNo.1、No.2について、保護フィルムの周縁部100c近傍の操作性及び亀裂試験の評価結果は良好なものとなった。
これに対して、第2の工程(レーザー光Lによる切断)のみを行ったサンプルNo.3の保護フィルムは、周縁部100c近傍の操作性が悪い。これは、サンプルNo.3の保護フィルムは、周縁部100cに第2の傾斜面41のみが形成され、第1の傾斜面31が形成れていないために、傾斜角度が88°と垂直に近く、指が引っかかるためであると考えられる。
また、第1の工程(エンドミル10による切削)のみを行ったサンプルNo.4の保護フィルムは、亀裂試験の結果から、亀裂が生じやすいことが分かった。これは、サンプルNo.4の保護フィルムは、周縁部100cにチッピングが生じている虞のある第1の傾斜面31のみが形成されている。したがってサンプルNo.4の保護フィルムは、第1の傾斜面31のチッピングが亀裂の起点となったと考えられる。また、第1の工程のみを行っているために、チッピングにレーザー光Lによる切断時の熱の影響が加わっておらず、チッピングが埋められるといった効果を奏することができていないことも、亀裂が生じやすくなった一因であると考えられる。
As shown in Table 1, the sample No. which performed the 1st process and the 2nd process. 1, no. About 2, the operativity of the peripheral part 100c vicinity of a protective film and the evaluation result of the crack test became a favorable thing.
On the other hand, sample No. which performed only the 2nd process (cutting by laser beam L). The protective film 3 has poor operability in the vicinity of the peripheral edge portion 100c. This is sample no. Since the protective film 3 has only the second inclined surface 41 formed on the peripheral edge portion 100c and the first inclined surface 31 is not formed, the inclination angle is nearly perpendicular to 88 ° and the finger is caught. It is believed that there is.
In addition, sample No. 1 in which only the first step (cutting by the end mill 10) was performed. From the result of the crack test, it was found that the protective film No. 4 was prone to crack. This is sample no. In the protective film 4, only the first inclined surface 31 in which the peripheral portion 100c may be chipped is formed. Therefore, sample no. In the protective film No. 4, it is considered that the chipping of the first inclined surface 31 became the starting point of the crack. In addition, since only the first step is performed, the effect of heat at the time of cutting with the laser beam L is not added to the chipping, and the effect that the chipping is buried cannot be achieved. This is thought to be one of the reasons why it is likely to occur.

このように、第1の工程と第2の工程とを行うことで、周縁部100cの近傍における操作性を改善すると共に、周縁部100cを起点とする亀裂が生じにくくなったことが確認された。   As described above, it was confirmed that by performing the first step and the second step, the operability in the vicinity of the peripheral portion 100c was improved, and cracks starting from the peripheral portion 100c were less likely to occur. .

1…フィルム材、1a…表面、2…主層、3…ハードコート層、4…粘着剤層、5…セパレータ層、6A、6B…防護フィルム、10…エンドミル、11…軸部、12…テーパ部、12a…テーパ刃、12b…平坦部、20…本体部、25…孔、30…溝、31…第1の傾斜面(第1の面)、32…底部、40…切断部、41…第2の傾斜面(第2の面)、60…ディスプレイ、100…保護フィルム(個片)、100a…主面、100b…背面、100c…周縁部、C…切断線、D…厚み、L…レーザー光、d30、d32…幅、ds…スポット径、h12…高さ、α、β、γ…角度 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film material, 1a ... Surface, 2 ... Main layer, 3 ... Hard coat layer, 4 ... Adhesive layer, 5 ... Separator layer, 6A, 6B ... Protective film, 10 ... End mill, 11 ... Shaft part, 12 ... Taper Part 12a ... taper blade 12b flat part 20 ... body part 25 ... hole 30 ... groove 31 ... first inclined surface (first surface) 32 ... bottom part 40 ... cutting part 41 ... Second inclined surface (second surface), 60 ... display, 100 ... protective film (piece), 100a ... main surface, 100b ... back surface, 100c ... peripheral edge, C ... cutting line, D ... thickness, L ... Laser light, d30, d32 ... width, ds ... spot diameter, h12 ... height, α, β, γ ... angle

Claims (5)

ディスプレイに貼付される保護フィルムの製造方法であって、
切断前のフィルム材を用意する前工程と、
前記フィルム材を切断する切断工程と、を有し、
前記切断工程は、
テーパ刃のエンドミルを前記フィルム材の切断線に沿って送り前記フィルム材にV字状の溝を形成する第1の工程と、
レーザー光を前記フィルム材の切断線に沿って照射し前記フィルム材を切断する第2の工程と、を含み、
前記切断工程は、前記第1の工程の後に、前記第2の工程を行う、
保護フィルムの製造方法。
A method for producing a protective film to be attached to a display,
A pre-process for preparing a film material before cutting;
A cutting step of cutting the film material,
The cutting step includes
A first step of feeding a taper blade end mill along a cutting line of the film material to form a V-shaped groove in the film material;
A second step of irradiating along the laser beam to the cutting line of the film material cut the film material, only including,
The cutting step performs the second step after the first step.
A method for producing a protective film.
前記フィルム材は、主層を有し、The film material has a main layer,
前記主層が、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、または熱可塑性樹脂からなる、請求項1に記載の保護フィルムの製造方法。The manufacturing method of the protective film of Claim 1 with which the said main layer consists of photocurable resin, a thermosetting resin, or a thermoplastic resin.
前記前工程において、前記フィルム材の一部として防護フィルムが積層され、
前記切断工程の前記第2の工程において、前記レーザー光を照射する側と反対側に位置する前記防護フィルムをハーフカットする深さまで切断する、
請求項1又は2に記載の保護フィルムの製造方法。
In the previous step, a protective film is laminated as a part of the film material,
In the second step of the cutting step, the protective film located on the side opposite to the side irradiated with the laser light is cut to a depth of half-cut,
The manufacturing method of the protective film of Claim 1 or 2.
前記切断工程の前記第1の工程において、前記溝の幅が1mm以上5mm以下である、
請求項1〜3の何れか一項に記載の保護フィルムの製造方法。
In the first step of the cutting step, the width of the groove is 1 mm or more and 5 mm or less.
The manufacturing method of the protective film as described in any one of Claims 1-3.
前記切断工程の前記第2の工程において、前記レーザー光のスポット径の大きさは、前記第1の工程における前記溝の幅に対し、50%以下である、
請求項1〜4の何れか一項に記載の保護フィルムの製造方法
In the second step of the cutting step, the spot diameter of the laser light is 50% or less with respect to the width of the groove in the first step.
The manufacturing method of the protective film as described in any one of Claims 1-4 .
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