JP6501200B2 - Light emitting element - Google Patents
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Description
本発明は、III 族窒化物半導体からなる発光素子に関する。特に、光通信用途に適した構造を有した発光素子であって、発光領域、および電極の平面パターンに特徴を有したものに関する。 The present invention relates to a light emitting device made of a group III nitride semiconductor. In particular, the present invention relates to a light emitting device having a structure suitable for optical communication applications, which is characterized by a light emitting region and a planar pattern of an electrode.
短距離の光ファイバー通信では、安価で曲げに強いなどの理由によりPOF(プラスチック光ファイバー)が広く採用されている。POFは緑色帯域において低損失であるため、光源としてIII 族窒化物半導体からなる緑色発光の発光素子が適している。 In short distance optical fiber communication, POF (plastic optical fiber) is widely adopted for reasons such as low cost and bending resistance. Since POF has a low loss in the green band, a green light emitting element composed of a group III nitride semiconductor is suitable as a light source.
そのような通信用途においては、高電流での光出力低下が少ないことが望ましい。所望の明暗差を得るために必要な最大電流値を小さくすることができるためである。高電流での光出力低下の抑制には、発光の均一化を図ることが有効である。 In such communication applications, it is desirable to reduce the light output drop at high currents. This is because the maximum current value required to obtain the desired contrast can be reduced. In order to suppress the decrease in light output at high current, it is effective to achieve uniform light emission.
特許文献1には、発光層の平面パターンを円とし、その発光層上部に円形の平面パターンのn電極、発光層を囲うリング状の平面パターンのp電極を設けた発光素子が記載されている。発光領域の平面パターンは、発光層の平面パターンと同様の円となる。また、発光層の上部に電流阻止層を設けて、電流を流す領域を制限することが記載されている。発光素子の平面パターンをこのように構成することにり、発光層へ流れる電流が均一となる旨が記載されている。 Patent Document 1 describes a light emitting element in which a flat pattern of a light emitting layer is a circle, and an n electrode of a circular flat pattern above the light emitting layer and a p electrode of a ring flat pattern surrounding the light emitting layer are provided. . The planar pattern of the light emitting region is a circle similar to the planar pattern of the light emitting layer. Also, it is described that a current blocking layer is provided on the top of the light emitting layer to limit a region through which current flows. By configuring the planar pattern of the light emitting element in this manner, it is described that the current flowing to the light emitting layer becomes uniform.
特許文献2には、中心部を円形にエッチングしてn層を露出させ、その中心部に円形のn電極、それを囲うようにリング状の平面パターンのp電極とし、発光領域をそのp電極に沿ってリング状とした発光素子が記載されている。これにより発光の均一化を図る旨が記載されている。 In Patent Document 2, a central portion is etched in a circular shape to expose an n layer, a circular n electrode in the central portion, a p electrode in a ring-like plane pattern surrounding it, and a light emitting region as the p electrode And a ring-shaped light emitting element is described. It is described that the light emission is made uniform by this.
しかし、従来の発光素子では発光が十分に均一でなく、高電流での光出力低下の抑制も十分ではなかった。また、緑色発光では青色発光に比べて均一に発光させることが難しかった。そのため、さらに均一な発光とすることが望まれていた。 However, in the conventional light emitting element, the light emission is not sufficiently uniform, and the suppression of the decrease in light output at a high current is not sufficient. In addition, it was difficult to emit light uniformly as compared with blue light emission in green light emission. Therefore, it has been desired to make the light emission more uniform.
そこで本発明は、発光の均一化を図り、高電流での光出力低下を抑制することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to achieve uniform light emission and to suppress a decrease in light output at high current.
本発明の第1の態様は、III 族窒化物半導体からなり、各々が発光する第1素子領域を複数有し、各第1素子領域にp電極およびn電極が設けられた発光素子において、各第1素子領域の各発光領域の平面パターンは、円周または円弧であり、発光領域全体としての平面パターンは、同心円または同心円弧となるように設定されており、p電極およびn電極の一方の平面パターンは、発光領域の円周または円弧の平面パターンの内側に対向して設けられ、その円周または円弧と中心および中心角を同一とする円、扇型、円周または円弧であり、p電極およびn電極の他方の平面パターンは、発光領域の円弧の平面パターンの外側に対向して設けられ、その円周または円弧と中心および中心角を同一とする円周または円弧であり、各第1素子領域は、並列接続されている、ことを特徴とする発光素子である。 A first aspect of the present invention is a light emitting element comprising a group III nitride semiconductor, having a plurality of first element regions for emitting light, wherein a p electrode and an n electrode are provided in each first element region. The plane pattern of each light emitting area of the first element area is a circumference or an arc, and the plane pattern as the whole light emitting area is set to be a concentric circle or a concentric arc, and one of p electrode and n electrode The plane pattern is a circle, a sector, a circle or an arc which is provided opposite to the inside of the plane pattern of the circumference or arc of the light emitting area and has the same center and central angle as the circumference or arc, p the other planar pattern of electrodes and n electrodes are provided opposite to the outside of the arc of the planar pattern of the light emitting region, Ri circumferential or arc der to its circumference or arc and center and center angle equal, each First element area It is connected in parallel to a light emitting element, characterized in that.
本発明とは別の発明は、III 族窒化物半導体からなり、発光する1つの第1素子領域を有し、第1素子領域にp電極およびn電極が設けられた発光素子において、第1素子領域の発光領域の平面パターンは、円周または円弧であり、p電極およびn電極の一方の平面パターンは、発光領域の円周または円弧の平面パターンの内側に対向して設けられ、その円周または円弧と中心および中心角を同一とする円、扇型、円周または円弧であり、p電極およびn電極の他方の平面パターンは、発光領域の円弧の平面パターンの外側に対向して設けられ、その円周または円弧と中心および中心角を同一とする円周または円弧であり、第1素子領域よりも外側に、第1素子領域とは電気的に分離され、p電極およびn電極が設けられておらず発光しない第2素子領域を有する、ことを特徴とする発光素子である。 Another invention different from the present invention is a light emitting element comprising a group III nitride semiconductor, having one first element region for emitting light, and a p electrode and an n electrode provided in the first element region, wherein the first element The plane pattern of the light emitting area of the area is a circle or an arc, and the plane pattern of one of the p electrode and the n electrode is provided opposite to the inside of the plane pattern of the circle or arc of the light emitting area Or a circle, a sector, a circle, or an arc having the same center and center angle as the arc, and the other plane pattern of the p electrode and the n electrode is provided opposite to the plane pattern of the arc of the light emitting region , A circumference or arc having the same center and center angle as the circumference or arc, electrically isolated from the first element area outside the first element area, and provided with ap electrode and an n electrode No light and no light A light emitting element having a two-element region.
本発明の第1の態様において、第2の態様と同様に、第1素子領域よりも外側に、第1素子領域とは電気的に分離され、p電極およびn電極が設けられておらず発光しない第2素子領域を有するようにしてもよい。第2素子領域によって、発光のピーク波長よりも短波長側の光を吸収することで、発光スペクトルの半値幅がより狭くなり、指向性もより高くなる。そのため、POFを用いた近距離光通信により適した発光となる。 In the first aspect of the present invention, similarly to the second aspect, the first element region is electrically separated from the first element region outside the first element region, and the p electrode and the n electrode are not provided, and light emission is obtained. You may make it have a 2nd element area | region which does not have. By absorbing the light on the short wavelength side of the peak wavelength of light emission by the second element region, the half width of the light emission spectrum becomes narrower and the directivity becomes higher. Therefore, light emission becomes more suitable for short distance optical communication using POF.
また、本発明の第1の態様において、各発光領域の平面パターンの面積Sは、各発光領域の平面パターンの面積の平均値をS0として、0.9×S0以上1.1×S0以下の範囲とするのがよい。各発光領域101a〜dからの発光がより均一となる。より望ましくは0.95×S0以上1.05×S0以下の範囲であり、最も望ましいのは、各発光領域の平面パターンの面積を等しくすることである。 In the first aspect of the present invention, the area S of the plane pattern of each light emitting area is 0.9 × S 0 or more and 1.1 × S 0 or less, where S 0 is the average value of the areas of the plane patterns of each light emitting area. It should be a range. The light emission from each of the light emitting regions 101a to 101d is more uniform. More preferably, it is in the range of 0.95 × S 0 or more and 1.05 × S 0 or less, and the most desirable is to equalize the area of the planar pattern of each light emitting region.
また、本発明の第1の態様において、各素子領域は、並列接続されているとよい。応答速度の向上を図ることができ、より光通信に適したものとすることができる。 Further, in the first aspect of the present invention, each element region may be connected in parallel. The response speed can be improved, and it can be more suitable for optical communication.
また、本発明おいて、発光領域の円周または円弧の幅は、5〜20μmであるとよい。より均一な発光とすることができる。より望ましくは、5〜15μm、さらに望ましくは5〜10μmである。 In the present invention, the width of the circumference or arc of the light emitting region may be 5 to 20 μm. More uniform light emission can be achieved. More desirably, it is 5-15 micrometers, More preferably, it is 5-10 micrometers.
本発明は、緑色発光の素子に特に有効である。緑色発光の素子は、青色発光の素子に比べて均一に発光させることが難しかったためである。緑色発光は、中心波長が490〜570nmの範囲である。より望ましい発光波長の範囲は500〜530nmである。 The present invention is particularly effective for green light emitting devices. This is because it was difficult to cause the device emitting green light to emit light uniformly as compared to the device emitting blue light. The green emission has a center wavelength in the range of 490 to 570 nm. A more desirable range of emission wavelength is 500 to 530 nm.
本発明の発光素子は、POF(プラスチック光ファイバー)を用いた光通信の光源用途として特に有効である。本発明の発光素子は、高電流での光出力低下が抑制されており、所望の明暗差を得るために必要な最大電流値を小さくすることができるためである。 The light emitting device of the present invention is particularly effective as a light source application of optical communication using POF (plastic optical fiber). The light emitting element of the present invention suppresses the decrease in light output at high current, and can reduce the maximum current value required to obtain a desired contrast.
本発明によれば、発光領域から均一に発光させることができ、高電流での光出力低下を抑制することができる。 According to the present invention, light can be emitted uniformly from the light emitting region, and a decrease in light output at high current can be suppressed.
以下、本発明の具体的な実施例について、図を参照に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the embodiments.
図1は、実施例1の発光素子の構成を示した平面図である。また、図2は、実施例1の発光素子の構成を示した断面図である。図2の断面図は、図1におけるA−A’での断面である。図3の断面図は、図1におけるB−B’での断面である。実施例1の発光素子はフェイスアップ型であり、図1において紙面垂直方向に奥側から手前側へと光を取り出す構造である。また、実施例1の発光素子は、POFを用いた近距離光通信に適した緑色発光(中心波長490〜570nm)である。 FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the light emitting device of Example 1. FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the light emitting device of Example 1. As shown in FIG. The cross sectional view of FIG. 2 is a cross section taken along line A-A 'in FIG. The cross sectional view of FIG. 3 is a cross section taken along line B-B 'in FIG. The light-emitting element of Example 1 is a face-up type, and has a structure in which light is extracted from the back side to the front side in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. Moreover, the light emitting element of Example 1 is green light emission (central wavelength of 490 to 570 nm) suitable for short distance optical communication using POF.
図2のように、実施例1の発光素子は、基板10を有し、基板10上にIII 族窒化物半導体からなるn層11、発光層12、p層13を積層し、p層13上の所定領域に電流阻止層14を設け、p層13および電流阻止層14上に透明電極15を設け、透明電極15上にp電極16、溝により露出させたn層11上にn電極17を設けた構造である。各層の構成の詳細については後に述べる。 As shown in FIG. 2, the light emitting device of Example 1 has a substrate 10, and an n layer 11 made of a group III nitride semiconductor, a light emitting layer 12, and a p layer 13 are stacked on the substrate 10. The current blocking layer 14 is provided in a predetermined region, the transparent electrode 15 is provided on the p layer 13 and the current blocking layer 14, the p electrode 16 on the transparent electrode 15 and the n electrode 17 on the n layer 11 exposed by the groove. It is the structure provided. Details of the configuration of each layer will be described later.
次に、図1を参照に、実施例1の発光素子の平面パターンについて説明する。 Next, with reference to FIG. 1, the planar pattern of the light emitting element of Example 1 will be described.
図1のように、実施例1の発光素子は、平面視で一辺が420μmの正方形であり、素子分離溝19によって、4つの第1素子領域100a〜dと、第2素子領域100eとに電気的に分離されている。ここで素子領域とは、基板10上にn層11、発光層12、p層13の積層構造が形成された領域(ただしn電極17が形成される領域はn層11まで)である。素子分離溝19は、p層13表面から基板10に達する深さの溝である。なお、素子分離溝19の深さは、発光層12が電気的に分離される深さであればよく、p層13表面からn層11に達する深さであってもよい。4つの第1素子領域100a〜dは、p電極16およびn電極17によって並列接続され、それぞれが発光する発光領域101a〜dを有している。一方、第2素子領域100eは、p電極16およびn電極17が設けられておらず、発光しない。 As shown in FIG. 1, the light emitting element of Example 1 is a square having a side of 420 μm in plan view, and the element separation groove 19 electrically connects four first element regions 100 a to 100 d and a second element region 100 e. Are separated. Here, the element region is a region where the laminated structure of the n layer 11, the light emitting layer 12 and the p layer 13 is formed on the substrate 10 (however, the region where the n electrode 17 is formed is up to the n layer 11). The element separation groove 19 is a groove having a depth reaching the substrate 10 from the surface of the p layer 13. The depth of the element isolation groove 19 may be a depth at which the light emitting layer 12 is electrically isolated, and may be a depth reaching the n layer 11 from the surface of the p layer 13. The four first element regions 100a to 100d are connected in parallel by the p electrode 16 and the n electrode 17, and have light emitting regions 101a to 101d for emitting light. On the other hand, the second element region 100 e is not provided with the p electrode 16 and the n electrode 17 and does not emit light.
第1素子領域100a、bの平面パターンと第1素子領域100c、dの平面パターンは、発光素子の正方形の平面パターンにおいて、その正方形の辺に平行な中心軸に対して対称なパターンである。 The plane pattern of the first element regions 100a and 100b and the plane pattern of the first element regions 100c and 100d are symmetrical patterns with respect to the central axis parallel to the sides of the square in the square plane pattern of the light emitting element.
第1素子領域100a、cの平面パターンは、図1に示すように円であり、それぞれの半径は等しい。第1素子領域100aの平面パターンの円の中心O1は、発光素子の正方形の平面パターンにおける一辺102a近傍の中央に位置している。第1素子領域100cの平面パターンの円の中心O2は、発光素子の正方形の平面パターンにおける辺102aの対辺である辺102b近傍の中央に位置している。 The plane pattern of the first element regions 100a and 100c is a circle as shown in FIG. 1, and the radius of each is equal. The center O1 of the circle of the plane pattern of the first element region 100a is located at the center near one side 102a in the square plane pattern of the light emitting element. The center O2 of the circle of the plane pattern of the first element region 100c is located at the center in the vicinity of the side 102b which is the opposite side of the side 102a in the square plane pattern of the light emitting element.
第1素子領域100b、dの平面パターンは、図1に示すように円弧であり、それぞれの半径、および円弧の幅は等しい。第1素子領域100bの平面パターンである円弧の中心は、第1素子領域100aの平面パターンである円の中心O1と同一である。また、第1素子領域100bの平面パターンである円弧の半径は、第1素子領域100aの平面パターンである円の半径よりも大きく、その円を内包する。第1素子領域100dの平面パターンである円弧の中心は、その中心を第1素子領域100cの平面パターンである円の中心O2と同一である。また、第1素子領域100dの平面パターンである円弧の半径は、第1素子領域100cの平面パターンである円の半径よりも大きく、その円を内包する。 The plane pattern of the first element regions 100b and 100d is an arc as shown in FIG. 1, and the radius of each and the width of the arc are equal. The center of a circular arc which is a plane pattern of the first element region 100b is the same as the center O1 of a circle which is a plane pattern of the first element region 100a. Further, the radius of the arc that is the plane pattern of the first element region 100b is larger than the radius of the circle that is the plane pattern of the first element region 100a, and the circle is included. The center of the circular arc which is a plane pattern of the first element region 100d is the same as the center O2 of the circle which is a plane pattern of the first element region 100c. Further, the radius of the arc that is the plane pattern of the first element region 100d is larger than the radius of the circle that is the plane pattern of the first element region 100c, and the circle is included.
第2素子領域100eは、第1素子領域100b、dの外側(その平面パターンである円弧の中心部側とは反対側)に、素子分離溝19により隔てられて存在する領域である。第2素子領域100eにはp電極16およびn電極17が接続されておらず、第1素子領域100a〜dと電気的に分離されている。そのため、第2素子領域100eは発光しない領域である。第2素子領域100eは、n層11、発光層12、p層13を除去して素子分離溝19としてもよい領域であるが、実施例1のように残すことが望ましい。第2素子領域100eを、発光領域101a〜dから放射される光のうち、ピーク波長よりも短波長側の光を吸収する吸収層として機能させるためである。この機能によって、発光スペクトルの半値幅がより狭くなり、指向性もより高くなる。そのため、POFを用いた近距離光通信により適した発光となる。 The second element region 100e is a region which is separated by the element isolation groove 19 outside the first element regions 100b and 100d (opposite to the central portion side of the arc which is the plane pattern thereof). The p electrode 16 and the n electrode 17 are not connected to the second element region 100e, and are electrically separated from the first element regions 100a to 100d. Therefore, the second element region 100e is a region which does not emit light. The second element region 100 e is a region where the n layer 11, the light emitting layer 12 and the p layer 13 may be removed to form an element isolation trench 19, but it is desirable to leave it as in the first embodiment. This is because the second element region 100 e is made to function as an absorption layer that absorbs light on the short wavelength side of the peak wavelength among the light emitted from the light emitting regions 101 a to 101 d. By this function, the half width of the emission spectrum becomes narrower and the directivity becomes higher. Therefore, light emission becomes more suitable for short distance optical communication using POF.
発光領域101a、cの平面パターンは、それぞれ第1素子領域100a、cに内包される円周状(円形のリング状)である。発光領域101aの平面パターンである円周の中心は、第1素子領域100aの平面パターンである円の中心O1と同一である。また、発光領域101cの平面パターンである円周の中心は、第1素子領域100cの平面パターンである円の中心O2と同一である。 The planar patterns of the light emitting regions 101a and 101c are circumferential (circular ring shape) included in the first element regions 100a and 100c, respectively. The center of the circumference which is a plane pattern of light emission field 101a is the same as center O1 of the circle which is a plane pattern of the 1st element field 100a. The center of the circumference which is a plane pattern of light emission field 101c is the same as center O2 of the circle which is a plane pattern of the 1st element field 100c.
発光領域101b、dの平面パターンは、それぞれ第1素子領域100b、dに内包される中心角180°の円弧状(半円のリング状)である。その円弧の両端を結ぶ方向は、辺102a、bと平行に揃えている。発光領域101bの平面パターンである円弧の中心は、第1素子領域100aの平面パターンである円の中心O1と同一である。また、発光領域101dの平面パターンである円弧の中心は、第1素子領域100cの平面パターンである円の中心O2と同一である。また、発光領域101b、dの平面パターンである円弧の幅は、発光領域101a、cの平面パターンである円周の幅と同一である。また、発光領域101b、dの平面パターンである円弧の半径(中心から径方向に円弧の幅の中心までの距離)は、発光領域101a、cの平面パターンである円の半径の2倍である。したがって、発光領域101a〜dの平面パターンの面積はそれぞれ等しい。 The planar patterns of the light emitting regions 101b and 101d are arc shapes (semicircular ring shapes) having a central angle of 180 ° included in the first element regions 100b and 100d, respectively. The direction connecting the two ends of the arc is parallel to the sides 102a and 102b. The center of the arc which is a plane pattern of the light emitting area 101b is the same as the center O1 of the circle which is a plane pattern of the first element area 100a. Further, the center of the arc that is the plane pattern of the light emitting area 101d is the same as the center O2 of the circle that is the plane pattern of the first element area 100c. In addition, the width of the arc that is the plane pattern of the light emitting areas 101b and 101d is the same as the width of the circumference that is the plane pattern of the light emitting areas 101a and 101c. In addition, the radius of the arc (the distance from the center to the center of the width of the arc in the radial direction) which is the plane pattern of the light emitting areas 101b and d is twice the radius of the circle which is the plane pattern of the light emitting areas 101a and 101c. . Therefore, the areas of the planar patterns of the light emitting regions 101a to 101d are equal to one another.
なお、各発光領域101a〜dの平面パターンは上記に限るものではなく、円周ないし円弧であれば任意のパターンでよい。また、各発光領域101a〜dの相互の配置の仕方は、ある点を中心として同心円状に配置し、かつ素子の平面パターンに対して対称的な配置とするのがよい。 The plane pattern of each of the light emitting regions 101a to 101d is not limited to the above, and may be any pattern as long as it is a circumference or a circular arc. In addition, it is preferable to arrange the light emitting regions 101a to 101d concentrically around a certain point and to arrange them symmetrically with respect to the planar pattern of the element.
また、実施例1では各発光領域101a〜dの平面パターンの面積はそれぞれ等しくしているが、異なっていてもよい。ただし、均一な発光を得るためには、各発光領域101a〜dの平面パターンの面積Sは、各発光領域101a〜dの平面パターンの面積の平均値をS0として、0.9×S0以上1.1×S0以下の範囲とするのがよい。より望ましくは0.95×S0以上1.05×S0以下の範囲であり、最も望ましいのは、実施例1のように各発光領域101a〜dの平面パターンの面積を等しくすることである。 Moreover, in Example 1, although the area of the plane pattern of each light emission area | region 101 ad is made equal, respectively, you may differ. However, in order to obtain uniform light emission, the area S of the plane pattern of each of the light emitting areas 101a to 101d is 0.9 × S0 or more, where the average value of the areas of the plane patterns of each of the light emitting areas 101a to 101d is S0. It is preferable that the range be 1 × S 0 or less. More preferably, it is in the range of 0.95 × S 0 or more and 1.05 × S 0 or less, and it is most desirable to equalize the area of the planar pattern of each of the light emitting regions 101 a to 101 d as in the first embodiment.
また、発光領域101a〜d全体の面積は、発光素子全体の平面パターンの面積の1〜30%とするのがよい。発光面積の縮小による応答速度の向上を図ることができ、光通信に適したものとすることができる。より望ましくは1〜20%であり、さらに望ましくは1〜10%である。 In addition, it is preferable that the entire area of the light emitting regions 101a to 101d be 1 to 30% of the area of the planar pattern of the entire light emitting element. The response speed can be improved by the reduction of the light emitting area, and it can be made suitable for optical communication. More desirably, it is 1 to 20%, and further desirably, 1 to 10%.
また、各発光領域101a〜dの幅は、5〜20μmとするのがよい。発光のさらなる均一化を図ることができる。より望ましくは、5〜15μm、さらに望ましくは5〜10μmである。 The width of each of the light emitting regions 101a to 101d is preferably 5 to 20 μm. Further uniform emission can be achieved. More desirably, it is 5-15 micrometers, More preferably, it is 5-10 micrometers.
なお、第1素子領域100a〜dの平面パターンは、それぞれが電気的に分離されたパターンであれば、実施例1に限らないが、発光の均一化のためには、発光領域101aの平面パターンの相似形とするのがよい。 The planar patterns of the first element regions 100a to 100d are not limited to those in the first embodiment as long as they are patterns electrically separated from each other, but for the purpose of uniform light emission, the planar pattern of the light emitting region 101a It should be similar to
p電極16の平面パターンは、円周状の平面パターンである円周部16a、cと、中心角180°の円弧状の平面パターンである円弧部16b、dと、これらを接続するコの字型の直線状の平面パターンである接続部16eで構成されている。 The plane pattern of the p electrode 16 is formed by connecting circumferential portions 16a and 16c, which are circumferential plane patterns, and arc portions 16b and d, which are circular plane patterns having a central angle of 180.degree. It is comprised by the connection part 16e which is a linear planar pattern of a type | mold.
円周部16aの平面パターンは、円周状の平面パターンである発光領域101aの外側であって、その発光領域101aの平面パターンの円周と中心を同一とする円周状(リング状)のパターンである。また、円周部16cの平面パターンは、円周状の平面パターンである発光領域101cの内側であって、その発光領域101cの平面パターンの円周と中心を同一とする円周状(リング状)のパターンである。 The plane pattern of the circumferential portion 16a is a ring shape that is outside the light emitting area 101a, which is a circumferential plane pattern, and has the same center and center of the plane pattern of the light emitting area 101a. It is a pattern. In addition, the plane pattern of the circumferential portion 16c is a circumferential shape (ring shape having the same center as the circumference of the plane pattern of the light emitting region 101c, which is inside the light emitting region 101c which is a circumferential flat pattern. It is a pattern of).
円弧部16bの平面パターンは、円弧状の平面パターンである発光領域101bの外側に円弧に沿って対向し、発光領域101bの平面パターンの円弧と中心および中心角を同一とする円弧状(半円のリング状)のパターンである。また、円弧部16dの平面パターンは、円弧状の平面パターンである発光領域101bの内側に円弧に沿って対向し、発光領域101bの平面パターンの円弧と中心および中心角を同一とする円弧状のパターンである。 The plane pattern of the arc portion 16b faces the outside of the light emitting area 101b, which is an arc plane pattern, along the arc and has an arc shape (semicircle having the same center and central angle as the arc of the plane pattern of the light emitting area 101b). Ring pattern). In addition, the plane pattern of the arc portion 16d faces the inside of the light emission area 101b which is an arc plane pattern and faces the arc along the arc, and the arc and the central angle of the plane pattern of the light emission area 101b are the same. It is a pattern.
接続部16eの平面パターンは、円周部16a、c、円弧部16b、dを互いに接続するコの字型のパターンである。具体的には、円周部16aから辺102aに沿って辺102c(発光素子の正方形の平面パターンにおける辺のうち、辺102a、bに直交する2辺の一方)に向かって延伸し、円弧部16bの端部と接続する直線状のパターンと、円周部16cから辺102bに沿って辺102cに向かって延伸し、円弧部16dの端部と接続する直線状のパターンと、辺102c近傍においてその辺102cに沿って延伸し、両端において上記の辺102a、bに平行な直線状パターンと接続する直線状のパターンと、で構成されたコの字型のパターンである。 The planar pattern of the connection portion 16e is a U-shaped pattern that connects the circumferential portions 16a and 16c and the arc portions 16b and d to each other. Specifically, it extends from the circumferential portion 16a along the side 102a toward the side 102c (one of two sides of the square planar pattern of the light emitting element, which are orthogonal to the sides 102a and b), and the arc portion A linear pattern connected to the end of 16b, a linear pattern extending from the circumferential portion 16c to the side 102c along the side 102b, and connected to the end of the arc 16d, and in the vicinity of the side 102c It is a U-shaped pattern composed of a linear pattern extending along the side 102 c and connecting with the linear pattern parallel to the above sides 102 a and b at both ends.
n電極17の平面パターンは、p電極16の平面パターンを180°回転させたパターンであり、円周状の平面パターンである円周部17a、cと、中心角180°の円弧状の平面パターンである円弧部17b、dと、これらを接続するコの字型の直線状の平面パターンである接続部17eで構成されている。 The plane pattern of the n electrode 17 is a pattern obtained by rotating the plane pattern of the p electrode 16 by 180 °, and is a circular plane pattern of circumferential portions 17a and 17c, which is a circumferential plane pattern, and a central angle of 180 °. The arc portions 17b and 17d are connected to each other, and a connection portion 17e which is a U-shaped linear planar pattern for connecting the arc portions 17b and d.
円周部17aの平面パターンは、円周状の平面パターンである発光領域101aの内側であって、その発光領域101aの平面パターンの円周と中心を同一とする円周状(リング状)のパターンである。また、円周部17cの平面パターンは、円周状の平面パターンである発光領域101cの外側であって、その発光領域101cの平面パターンの円周と中心を同一とする円周状(リング状)のパターンである。 The plane pattern of the circumferential portion 17a is a ring shape that is the inside of the light emitting area 101a, which is a circumferential plane pattern, and has the same center and center of the plane pattern of the light emitting area 101a. It is a pattern. In addition, the plane pattern of the circumferential portion 17c is a circumferential shape (ring shape in which the center and the circumference of the plane pattern of the light emitting area 101c are the same outside the light emitting area 101c which is a circumferential plane pattern. It is a pattern of).
円弧部17bの平面パターンは、円弧状の平面パターンである発光領域101bの内側に円弧に沿って対向し、発光領域101bの平面パターンの円弧と中心および中心角を同一とする円弧状(半円のリング状)のパターンである。また、円弧部17dの平面パターンは、円弧状の平面パターンである発光領域101bの外側に円弧に沿って対向し、発光領域101bの平面パターンの円弧と中心および中心角を同一とする円弧状のパターンである。 The plane pattern of the arc portion 17b faces the inside of the light emitting area 101b, which is an arc plane pattern, along the arc and has the same arc and center angle as the arc of the plane pattern of the light emitting area 101b (semicircle Ring pattern). Further, the plane pattern of the arc portion 17d faces the outside of the light emitting area 101b, which is an arc plane pattern, along the arc, and has the same arc and center angle as the arc of the plane pattern of the light emitting area 101b. It is a pattern.
接続部17eの平面パターンは、円周部17a、c、円弧部17b、dを互いに接続するコの字型のパターンである。具体的には、円周部17aから辺102aに沿って辺102d(発光素子の正方形の平面パターンにおける辺のうち、辺102cに対向する辺)に向かって延伸し、円弧部17bの端部と接続する直線状のパターンと、円周部17cから辺102bに沿って辺102dに向かって延伸し、円弧部17dの端部と接続する直線状のパターンと、辺102d近傍においてその辺102dに沿って延伸し、両端において上記の辺102a、bに平行な直線状パターンと接続する直線状のパターンと、で構成されたコの字型のパターンである。 The plane pattern of the connection portion 17e is a U-shaped pattern which connects the circumferential portions 17a and 17c and the arc portions 17b and d to each other. Specifically, it extends from the circumferential portion 17a along the side 102a toward the side 102d (of the sides of the square planar pattern of the light emitting element, the side facing the side 102c), and the end of the arc portion 17b and A linear pattern to be connected, a linear pattern extending from the circumferential portion 17c to the side 102d along the side 102b and connecting to the end of the arc portion 17d, and along the side 102d near the side 102d It is a U-shaped pattern composed of a straight line pattern which is extended and connected to a straight line pattern parallel to the sides 102a and 102b at both ends.
p電極16の平面パターンとn電極17の平面パターンは一部重なっている部分があるが、断面においてはp電極16とn電極17との間に絶縁膜18を設けて電気的に分離させている。 The planar pattern of the p electrode 16 and the planar pattern of the n electrode 17 partially overlap, but in the cross section, the insulating film 18 is provided between the p electrode 16 and the n electrode 17 to electrically separate them. There is.
なお、p電極16およびn電極17の平面パターンは上記に限るものではなく、以下の条件をいずれも満たすのであれば任意のパターンでよい。第1に、p電極16およびn電極17の一方の平面パターンが、各発光領域101a〜dの円周または円弧の平面パターンの内側に対向して設けられ、その円周または円弧と中心および中心角を同一とする円ないし円周(発光領域101a〜dの平面パターンが円周の場合)、または扇型ないし円弧(発光領域101a〜dの平面パターンが円弧の場合)である必要がある。第2に、p電極16およびn電極17の他方の平面パターンが、各発光領域101a〜dの円周または円弧の平面パターンの外側に対向して設けられ、その円周または円弧と中心および中心角を同一とする円周(発光領域101a〜dの平面パターンが円周の場合)、または円弧(発光領域101a〜dの平面パターンが円弧の場合)である必要がある。すなわち、p電極16およびn電極17の平面パターンは、円周状または円弧状の発光領域101a〜dを挟んで対向し、かつその円周または円弧に沿った同心円状のパターンであればよい。 The planar pattern of the p electrode 16 and the n electrode 17 is not limited to the above, and any pattern may be used as long as the following conditions are satisfied. First, one plane pattern of the p electrode 16 and the n electrode 17 is provided opposite to the inside of the plane pattern of the circumference or arc of each of the light emitting areas 101a to 101d, and the circumference or arc and center and center of the circumference A circle or a circle having the same angle (if the plane pattern of the light emitting areas 101a to 101d is a circle) or a sector or an arc (if the plane pattern of the light emitting areas 101a to 101d is an arc) is required. Second, the other planar pattern of the p electrode 16 and the n electrode 17 is provided to face the outside of the planar pattern of the circumference or arc of each of the light emitting regions 101a to 101d, and the circumference or arc and center and center of the circle It is necessary to have a circle whose corner is the same (if the plane pattern of the light emitting areas 101a to 101d is a circle) or an arc (if the plane pattern of the light emitting areas 101a to 101d is an arc). That is, the planar patterns of the p electrode 16 and the n electrode 17 may be concentric patterns facing each other with the light emitting regions 101a to 101d in a circumferential shape or an arc shape and along the circumference or the arc.
以上のように発光領域101a〜d、p電極16、およびn電極17の平面パターンを構成すると、p電極16からn電極17までの最短距離が均一となり、その最短距離方向における発光領域101a〜dの幅も均一となるため、発光領域101a〜dを流れる電流もいたるところ均一となる。そのため、発光領域101a〜dを極めて均一に発光させることができ、高電流での光出力低下を抑制することができる。 As described above, when the planar patterns of the light emitting regions 101a to 101d, the p electrode 16, and the n electrode 17 are configured, the shortest distance from the p electrode 16 to the n electrode 17 becomes uniform, and the light emitting regions 101a to 101d in the shortest distance direction Since the width of the light emitting region 101a to 100d is also uniform, the current flowing through the light emitting regions 101a to 101d is uniform everywhere. Therefore, the light emitting regions 101a to 101d can be made to emit light extremely uniformly, and a decrease in light output at high current can be suppressed.
次に、実施例1の発光素子の各層の構成について、図2を参照に説明する。 Next, the configuration of each layer of the light emitting device of Example 1 will be described with reference to FIG.
基板10は、n層11側の表面に凹凸加工(図示しない)が施されたサファイア基板である。凹凸加工は光取り出し効率を向上させるために設けている。基板10の材料にはサファイア以外にも、III 族窒化物半導体を結晶成長可能な任意の材料の基板を用いることができる。たとえば、SiC、Si、ZnOなどである。 The substrate 10 is a sapphire substrate whose surface on the n-layer 11 side is roughened (not shown). Concavo-convex processing is provided to improve the light extraction efficiency. As the material of the substrate 10, a substrate of any material capable of crystal growth of a group III nitride semiconductor can be used other than sapphire. For example, SiC, Si, ZnO or the like.
n層11は、基板10側から順に、n型コンタクト層、n型ESD層、n型SL層が積層された構造である。n型コンタクト層はn電極17が接触する層である。n型コンタクト層は、Si濃度が1×1018/cm3 以上のn−GaNからなる。n型コンタクト層をキャリア濃度の異なる複数の層で構成することでn電極17のコンタクト抵抗を低減することも可能である。n型ESD層は、素子の静電破壊を防止するための静電耐圧層である。n型ESD層は、ノンドープのGaNとSiドープのn−GaNの積層構造である。n型SL層は、InGaNと、GaNと、n−GaNとを順に積層した構造を単位として、これを複数単位繰り返し積層した超格子構造を有するn型超格子層である。n型SL層は、発光層12にかかる応力を緩和するための層である。 The n layer 11 has a structure in which an n-type contact layer, an n-type ESD layer, and an n-type SL layer are sequentially stacked from the substrate 10 side. The n-type contact layer is a layer in contact with the n-electrode 17. The n-type contact layer is made of n-GaN having a Si concentration of 1 × 10 18 / cm 3 or more. It is also possible to reduce the contact resistance of the n electrode 17 by configuring the n-type contact layer with a plurality of layers having different carrier concentrations. The n-type ESD layer is an electrostatic pressure resistant layer for preventing electrostatic breakdown of the device. The n-type ESD layer is a stacked structure of non-doped GaN and Si-doped n-GaN. The n-type SL layer is an n-type superlattice layer having a superlattice structure in which a plurality of units are repeatedly stacked in units of a structure in which InGaN, GaN, and n-GaN are sequentially stacked. The n-type SL layer is a layer for relieving stress applied to the light emitting layer 12.
発光層12は、InGaNからなる井戸層と、AlGaNからなる障壁層とを繰り返し積層したMQW構造である。井戸層のIn組成比は、緑色発光(中心波長が490〜570nm)となるように調整されている。井戸層と障壁層との間に、Inの蒸発を防ぐための保護層を設けてもよい。 The light emitting layer 12 has an MQW structure in which a well layer made of InGaN and a barrier layer made of AlGaN are repeatedly stacked. The In composition ratio of the well layer is adjusted to be green light emission (center wavelength is 490 to 570 nm). A protective layer may be provided between the well layer and the barrier layer to prevent evaporation of In.
p層13は、発光層12側から順に、p型クラッド層、p型コンタクト層が積層された構造である。p型クラッド層は、電子がp型コンタクト層側に拡散するのを防止するための層である。p型クラッド層は、p−InGaNとp−AlGaNを順に積層した構造を単位として、これを複数回繰り返し積層させた構造である。p型コンタクト層は、p電極16がp層13に良好にコンタクトをとるために設ける層である。p型コンタクト層は、Mg濃度が1×1019〜1×1022/cm3 で厚さ100〜1000Åのp−GaNからなる。 The p layer 13 has a structure in which a p-type cladding layer and a p-type contact layer are laminated in order from the light emitting layer 12 side. The p-type cladding layer is a layer for preventing electrons from diffusing toward the p-type contact layer. The p-type cladding layer is a structure in which a p-InGaN layer and a p-AlGaN layer are sequentially stacked a plurality of times, using a structure in which p-InGaN and p-AlGaN are sequentially stacked. The p-type contact layer is a layer provided for the p electrode 16 to make good contact with the p layer 13. The p-type contact layer is made of p-GaN having a Mg concentration of 1 × 10 19 to 1 × 10 22 / cm 3 and a thickness of 100 to 1000 Å.
n層11、発光層12、およびp層13は、素子分離溝19によって各第1素子領域100a〜d、および第2素子領域100eに電気的に分離されている。 The n layer 11, the light emitting layer 12, and the p layer 13 are electrically separated into the first element regions 100 a to 100 d and the second element region 100 e by the element isolation groove 19.
なお、n層11、発光層12、p層13の構成は、上記記載の構成に限るものではなく、従来、III 族窒化物半導体からなる発光素子に用いられている任意の構成を採用することができる。 The configurations of the n layer 11, the light emitting layer 12, and the p layer 13 are not limited to the above-described configurations, and any configuration conventionally used for a light emitting element made of a group III nitride semiconductor may be employed. Can.
電流阻止層14は、SiO2 からなり、p層13上の所定の領域に設けられている。電流阻止層14の厚さは100nmである。電流阻止層14を設けることにより、その領域の電流をブロックして、発光領域101a〜dが図1に示す平面パターンとなるようにする。この発光領域101a〜dの平面パターンは、p電極16の平面パターンと重ならないようにする。p電極16直下の領域を光らせないこと、および電流阻止層14による反射によってp電極16へと向かう光を反射させることによって、p電極16による光の吸収・遮蔽を抑制するためである。 The current blocking layer 14 is made of SiO 2 and provided in a predetermined region on the p layer 13. The thickness of the current blocking layer 14 is 100 nm. By providing the current blocking layer 14, the current in that region is blocked so that the light emitting regions 101a to 101d have the planar pattern shown in FIG. The planar patterns of the light emitting regions 101 a to 101 d do not overlap with the planar pattern of the p electrode 16. It is for suppressing absorption and shielding of light by the p electrode 16 by not making the region immediately below the p electrode 16 shine and by reflecting light directed to the p electrode 16 by reflection by the current blocking layer 14.
電流阻止層14の材料には、SiO2 以外にも、SiON、Al2 O3 、TiO2 、ZrO2 、HfO2 、Nb2 O5 、などの酸化物、AlN、SiNなどの窒化物、SiCなどの炭化物、フッ化物、など種々の絶縁体を用いることができる。それらの材料の単層でも多層でもよく、単結晶、多結晶、アモルファスのいずれの結晶状態であってもよい。また、光学膜厚が1/4波長で屈折率が異なる2種類の膜を交互に積層させた誘電体多層膜としてもよい。電流阻止層14による反射によってp電極16へと向かう光が減少し、p電極16による光の吸収が低減されるため、発光効率をより向上させることが可能である。 The material of the current blocking layer 14 is not only SiO 2 but also oxides such as SiON, Al 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , HfO 2 , Nb 2 O 5 , nitrides such as AlN and SiN, and SiC Various insulators such as carbides, fluorides, etc. can be used. It may be a single layer or multiple layers of these materials, and may be single crystalline, polycrystalline or amorphous in any crystalline state. In addition, a dielectric multilayer film may be formed by alternately laminating two types of films having different optical indexes and 1⁄4 wavelength and different refractive indexes. Since the light traveling toward the p electrode 16 is reduced by the reflection by the current blocking layer 14 and the absorption of light by the p electrode 16 is reduced, the light emission efficiency can be further improved.
透明電極15は、IZO(亜鉛ドープの酸化インジウム)からなる。透明電極15は、p層13上および電流阻止層14上に連続して形成されている。平面視において、p層13と透明電極15が接している領域が発光領域101a〜dとなる。透明電極15の厚さは200nmである。透明電極15の材料として、IZO以外にも、ITO(酸化インジウムスズ)、ICO(セリウムドープの酸化インジウム)などの酸化インジウム系材料や、その他の透明導電性酸化物を用いることができる。 The transparent electrode 15 is made of IZO (zinc-doped indium oxide). The transparent electrode 15 is continuously formed on the p layer 13 and the current blocking layer 14. Regions in which the p layer 13 and the transparent electrode 15 are in contact with each other in a plan view are light emitting regions 101a to 101d. The thickness of the transparent electrode 15 is 200 nm. As a material of the transparent electrode 15, other than IZO, indium oxide based materials such as ITO (indium tin oxide) and ICO (cerium-doped indium oxide) can be used, and other transparent conductive oxides can be used.
発光をより均一とするために、透明電極15のシート抵抗は、n層11のシート抵抗の0.8倍から1.2倍であることが望ましい。より望ましくは0.9倍から1.1倍であり、さらに望ましくは0.95倍から1.05倍である。 In order to make light emission more uniform, the sheet resistance of the transparent electrode 15 is desirably 0.8 times to 1.2 times the sheet resistance of the n layer 11. More preferably, it is 0.9 times to 1.1 times, more preferably 0.95 times to 1.05 times.
p電極16およびn電極17は、Ni/Au/Alからなる。Ni膜は50nm、Au膜は1500nm、Al膜は10nmである。p電極16の平面パターンは図1の通りである。p電極16のうち円周部16a、cと円弧部16b、dは、透明電極15上の所定領域に位置している。p電極16のうち接続部16eは、絶縁膜18中に位置している。接続部16eによって、円周部16a、c、円弧部16b、dが並列に接続されている。また、n電極17のうち円周部17a、cと円弧部17b、dは、エッチングにより露出したn層11上の所定領域に位置している。n電極17のうち接続部17eは、絶縁膜18中に位置している。接続部17eによって、円周部17a、c、円弧部17b、dが並列に接続されている。 The p electrode 16 and the n electrode 17 are made of Ni / Au / Al. The Ni film is 50 nm, the Au film is 1500 nm, and the Al film is 10 nm. The planar pattern of the p electrode 16 is as shown in FIG. The circumferential portions 16 a and c and the arc portions 16 b and d of the p electrode 16 are located in predetermined regions on the transparent electrode 15. The connection portion 16 e of the p electrode 16 is located in the insulating film 18. The circumferential portions 16 a and c and the arc portions 16 b and d are connected in parallel by the connection portion 16 e. Further, the circumferential portions 17 a and c and the arc portions 17 b and d of the n electrode 17 are located in predetermined regions on the n layer 11 exposed by etching. The connection portion 17 e of the n-electrode 17 is located in the insulating film 18. The circumferential portions 17 a and c and the arc portions 17 b and d are connected in parallel by the connection portion 17 e.
なお、実施例1では、図3に示すようにp電極16およびn電極17によって各第1素子領域100a〜dは並列接続されているが、p電極16およびn電極17の接続部16e、17eの平面パターンを変えることで直列接続としてもよい。直列接続とした場合のB−B’における断面図を図4に示す。ただし、並列接続とすれば、応答速度の向上を図ることができ、より光通信に適したものとすることができる。 In the first embodiment, as shown in FIG. 3, the first element regions 100a to 100d are connected in parallel by the p electrode 16 and the n electrode 17. However, connection portions 16e and 17e of the p electrode 16 and the n electrode 17 are connected. It may be connected in series by changing the plane pattern of. A cross-sectional view taken along line B-B 'in the case of series connection is shown in FIG. However, parallel connection can improve the response speed, and can be more suitable for optical communication.
絶縁膜18は、SiO2 からなり、第1素子領域100a〜dの上面を覆うようにして形成されている。そして、絶縁膜18中には、Ti/Au/Alからなるpパッド部16f、接続部16e、nパッド部17f、接続部17eが形成されている。pパッド部16fおよび接続部16eは溝を介して円周部16a、c、円弧部16b、dと接続されている。また、nパッド部17fおよび接続部17eは溝を介して円周部17a、c、円弧部17b、dと接続されている。また、pパッド部16f、nパッド部17f上の一部領域は絶縁膜18が形成されておらず、露出している。 The insulating film 18 is made of SiO 2 and is formed so as to cover the top surfaces of the first element regions 100a to 100d. In the insulating film 18, a p pad portion 16f made of Ti / Au / Al, a connection portion 16e, an n pad portion 17f, and a connection portion 17e are formed. The p pad portion 16f and the connection portion 16e are connected to the circumferential portions 16a and 16c and the arc portions 16b and d through the grooves. The n pad portion 17f and the connection portion 17e are connected to the circumferential portions 17a and 17c and the circular arc portions 17b and d through the grooves. Further, the insulating film 18 is not formed on a part of the p pad portion 16 f and the n pad portion 17 f, and the region is exposed.
以上、実施例1の発光素子では、発光領域101a〜dの平面パターンを円周状ないし円弧状とし、その内側と外側に対向して、中心および中心角を同一とする円弧状の平面パターンのp電極16およびn電極17を設けているため、発光領域101a〜dを均一に発光させることができ、高電流での光出力低下を抑制することができる。 As described above, in the light emitting element of Example 1, the planar patterns of the light emitting regions 101a to 101d are circumferential or arc-shaped, and the arc-shaped plane pattern having the same center and central angle facing the inside and the outside. Since the p electrode 16 and the n electrode 17 are provided, the light emitting regions 101a to 101d can emit light uniformly, and it is possible to suppress a decrease in light output at high current.
図5は、実施例2の発光素子の構成を示した平面図である。また、図6は、実施例2の発光素子の構成を示した断面図である。図6の断面図は、図5におけるA−A’での断面である。実施例2の発光素子は、実施例1の発光素子における第1素子領域100a〜d、第2素子領域100e、発光領域101a〜d、p電極16およびn電極17の平面パターンを、図5のように替えたものであり、他の構成は実施例1と同様である。 FIG. 5 is a plan view showing the configuration of the light emitting device of Example 2. As shown in FIG. 6 is a cross-sectional view showing the configuration of the light emitting device of Example 2. As shown in FIG. The cross sectional view of FIG. 6 is a cross section taken along line A-A 'in FIG. The light emitting device of Example 2 is the same as the light emitting device of Example 1 except for the planar patterns of the first device regions 100a to 100d, the second device region 100e, the light emitting regions 101a to 101d, the p electrode 16 and the n electrode 17 shown in FIG. The other configuration is the same as that of the first embodiment.
図5のように、実施例2の発光素子は、平面視で一辺が420μmの正方形であり、素子分離溝29によって、第1素子領域200aと、第2素子領域200bとに電気的に分離されている。第1素子領域200aは、p電極26およびn電極27によって接続され、発光する発光領域201を有している。一方、第2素子領域200bは、p電極26およびn電極27が設けられておらず、発光しない。 As shown in FIG. 5, the light emitting element of Example 2 is a square having a side of 420 μm in plan view, and is electrically separated into the first element region 200 a and the second element region 200 b by the element isolation trench 29. ing. The first element region 200 a is connected by the p electrode 26 and the n electrode 27 and has a light emitting region 201 that emits light. On the other hand, the second element region 200b is not provided with the p electrode 26 and the n electrode 27, and does not emit light.
第1素子領域200aの平面パターンは、図5に示すように円である。第1素子領域200aの平面パターンの円の中心Oは、発光素子の正方形の平面パターンにおける一辺202aの中央近傍に位置している。 The plane pattern of the first element region 200a is a circle as shown in FIG. The center O of the circle of the plane pattern of the first element region 200a is located near the center of one side 202a in the square plane pattern of the light emitting element.
第2素子領域200bは、第1素子領域200aの外側に、素子分離溝29により隔てられて存在する領域である。第2素子領域200bにはp電極26およびn電極27が接続されておらず、第1素子領域200aと電気的に分離されている。そのため、第2素子領域200bは発光しない領域である。第2素子領域200bを、発光領域201から放射される光のうち、ピーク波長よりも短波長側の光を吸収する吸収層として機能させる。この機能によって、発光スペクトルの半値幅がより狭くなり、指向性もより高くなる。そのため、POFを用いた近距離光通信により適した発光となる。 The second element region 200 b is a region which is separated by the element isolation trench 29 and exists outside the first element region 200 a. The p electrode 26 and the n electrode 27 are not connected to the second element region 200 b and are electrically separated from the first element region 200 a. Therefore, the second element region 200b is a region which does not emit light. The second element region 200 b functions as an absorption layer that absorbs light on the short wavelength side of the peak wavelength among the light emitted from the light emitting region 201. By this function, the half width of the emission spectrum becomes narrower and the directivity becomes higher. Therefore, light emission becomes more suitable for short distance optical communication using POF.
発光領域201の平面パターンは、第1素子領域200aに内包される円周状(円形のリング状)である。発光領域201の平面パターンである円周の中心は、第1素子領域200aの平面パターンである円の中心Oと同一である。 The planar pattern of the light emitting region 201 is a circumferential shape (circular ring shape) contained in the first element region 200a. The center of the circumference which is a plane pattern of light emission field 201 is the same as the center O of the circle which is a plane pattern of the 1st element field 200a.
p電極26の平面パターンは、円周状の平面パターンである発光領域201の内側であって、その発光領域201の平面パターンの円周と中心を同一とする円のパターンである。 The plane pattern of the p electrode 26 is a pattern of a circle which is the inside of the light emitting area 201 which is a circumferential plane pattern and whose center and the circumference of the plane pattern of the light emitting area 201 are the same.
n電極27の平面パターンは、円周状の平面パターンである円周部27aと、パッド部27bと、これらを接続する接続部27cで構成されている。円周部27aの平面パターンは、円周状の平面パターンである発光領域201の外側であって、その発光領域201の平面パターンの円周と中心を同一とする円周状(リング状)のパターンである。 The plane pattern of the n electrode 27 is composed of a circumferential portion 27a which is a circumferential plane pattern, a pad portion 27b, and a connection portion 27c connecting these. The plane pattern of the circumferential portion 27a is a circle (ring shape) outside the light emitting area 201 which is a circumferential plane pattern and having the same center and circumference of the plane pattern of the light emitting area 201. It is a pattern.
以上述べた実施例2の発光素子は、発光領域201、p電極26、およびn電極27の平面パターンが上記のように構成されているため、実施例1と同様の効果が得られる。すなわち、p電極26からn電極27までの最短距離が均一となり、その最短距離方向における発光領域201の幅も均一となるため、発光領域201を流れる電流もいたるところ均一となる。そのため、発光領域201を極めて均一に発光させることができ、高電流での光出力低下を抑制することができる。 In the light emitting element of Example 2 described above, the planar pattern of the light emitting region 201, the p electrode 26, and the n electrode 27 is configured as described above, so that the same effect as that of Example 1 can be obtained. That is, the shortest distance from the p electrode 26 to the n electrode 27 is uniform, and the width of the light emitting region 201 in the direction of the shortest distance is also uniform. Therefore, the current flowing through the light emitting region 201 is even everywhere. Therefore, the light emitting region 201 can be made to emit light extremely uniformly, and a decrease in light output at high current can be suppressed.
図8(a)は、実施例2の発光素子における順方向電流と光出力の関係を示したグラフである。光出力は、順方向電流を5mAとしたときの光出力を基準とした相対値である。比較のため、図8(b)に示す電極パターンの発光素子(比較例1〜4の発光素子)についても順方向電流と光出力の関係を調べた。比較例1〜4の発光素子においては、発光領域はp電極とn電極の間にはさまれた矩形の平面パターンである。比較例1〜4では、パッド部から伸びる配線状のパターンの本数、およびその間隔を変化させていて、比較例1ではパッド部のみ、比較例2では、pパッド部、nパッド部からそれぞれ1本の配線状のパターン、比較例3では、nパッド部から1本の配線状、pパッド部から2本の配線状のパターン、比較例4では、nパッド部から2本の配線状、pパッド部から3本の配線状のパターンとした。 FIG. 8A is a graph showing the relationship between forward current and light output in the light emitting device of Example 2. FIG. The light output is a relative value based on the light output when the forward current is 5 mA. For comparison, the relationship between the forward current and the light output was examined also for the light emitting elements (light emitting elements of Comparative Examples 1 to 4) of the electrode patterns shown in FIG. 8B. In the light emitting element of Comparative Examples 1 to 4, the light emitting region is a rectangular planar pattern sandwiched between the p electrode and the n electrode. In Comparative Examples 1 to 4, the number of wiring patterns extending from the pad portion and the distance between them are changed, and in Comparative Example 1, only the pad portion in Comparative Example 1 and 1 each from the p pad portion and n pad portion in Comparative Example 2. In the wiring pattern of this embodiment, in the comparative example 3, one wiring pattern from the n pad portion, two wiring patterns from the p pad portion, in the comparative example 4, two wiring patterns from the n pad portion, p Three wiring patterns were formed from the pad portion.
図8のように、配線状のパターンの本数が多く、その間隔が短いほど、つまりp電極とn電極の最短距離が均一であるほど、高電流での光出力低下が小さく、高電流での光出力低下が最も小さいのは実施例2の発光素子であった。 As shown in FIG. 8, the larger the number of wiring patterns and the shorter the distance, that is, the shorter the distance between the p electrode and the n electrode, the smaller the decrease in light output at high current, and the higher the current. It is the light emitting element of Example 2 that the light output decrease is the smallest.
図9は、実施例3の発光素子の構成を示した平面図である。実施例3の発光素子は、実施例1の発光素子における第1素子領域100a〜d、第2素子領域100e、発光領域101a〜d、p電極16およびn電極17の平面パターンを、図9のように替えたものであり、他の構成は実施例1と同様である。 FIG. 9 is a plan view showing the configuration of the light emitting device of Example 3. FIG. The light emitting device of Example 3 is the same as the light emitting device of Example 1 except for the planar patterns of the first device regions 100a to 100d, the second device region 100e, the light emitting regions 101a to 101d, the p electrode 16 and the n electrode 17 shown in FIG. The other configuration is the same as that of the first embodiment.
図9のように、実施例3の発光素子は、平面視で一辺が420μmの正方形であり、素子分離溝39によって、4つの第1素子領域300a〜dに分離されている。4つの第1素子領域300a〜dは、p電極36およびn電極37によって並列接続され、それぞれが発光する発光領域301a〜dを有している。 As shown in FIG. 9, the light emitting element of Example 3 is a square having a side of 420 μm in plan view, and is separated into four first element regions 300 a to 300 d by the element separation groove 39. The four first element regions 300a to 300d are connected in parallel by the p electrode 36 and the n electrode 37, and have light emitting regions 301a to 301d to emit light.
第1素子領域300aの平面パターンは、図9に示すように円であり、その中心Oは、発光素子の正方形の平面パターンにおける一辺102b近傍の中央に位置している。第1素子領域300b、cの平面パターンは、図1に示すように、中心をOとする円弧状である。第1素子領域300aの外側に、第1素子領域300b、cの順に配置された2重の同心円状のパターンである。第1素子領域300dは、第1素子領域300cの外側の領域である。 The plane pattern of the first element region 300a is a circle as shown in FIG. 9, and the center O is located at the center near one side 102b in the square plane pattern of the light emitting element. The planar pattern of the first element regions 300b and 300c is arc-shaped with the center at O as shown in FIG. It is a double concentric pattern arranged in the order of the first element regions 300 b and c outside the first element region 300 a. The first element region 300d is a region outside the first element region 300c.
発光領域301aの平面パターンは、第1素子領域300aに内包される円周状(円形のリング状)である。発光領域301bの平面パターンは、第1素子領域300bに内包される中心角180°の円弧状(半円のリング状)である。その円弧の両端を結ぶ方向は、辺102bと平行に揃えている。発光領域301cの平面パターンは、第1素子領域300bに内包される中心角120°の円弧状である。発光領域301dの平面パターンは、第1素子領域300bに内包される中心角80°の円弧状である。発光領域301a〜dの平面パターンである円弧の中心は、第1素子領域300aの平面パターンである円の中心Oと同一である。また、発光領域301b〜dは、辺102に直交し中心Oを通る中心軸に対して対称なパターンとなっている。したがって、発光領域301a〜dの相互の配置は、中心軸に対して対称な同心円状のパターンとなっている。 The planar pattern of the light emitting region 301a is a circumferential shape (circular ring shape) included in the first element region 300a. The planar pattern of the light emitting area 301 b is an arc (a semicircular ring) having a central angle of 180 ° included in the first element area 300 b. The direction connecting the two ends of the arc is parallel to the side 102b. The planar pattern of the light emitting region 301c is an arc having a central angle of 120 ° included in the first element region 300b. The planar pattern of the light emitting area 301 d is an arc having a central angle of 80 ° included in the first element area 300 b. The center of the arc which is a plane pattern of the light emitting regions 301a to 301d is the same as the center O of a circle which is a plane pattern of the first element region 300a. In addition, the light emitting regions 301 b to d have a symmetrical pattern with respect to a central axis perpendicular to the side 102 and passing through the center O. Therefore, the mutual arrangement of the light emitting regions 301a to 301d is a concentric pattern symmetrical with respect to the central axis.
発光領域301a〜dの平面パターンである円周ないし円弧の幅は、互いに等しい。また、発光領域301aの平面パターンである円周の半径(中心Oから径方向に円周の幅の中央までの距離)をrとすると、発光領域301bの平面パターンである円弧の半径は2r、発光領域301cの平面パターンである円弧の半径は3r、発光領域301dの平面パターンである円弧の半径は4.5rである。したがって、発光領域301a〜dの平面パターンの面積は互いに等しい。 The widths of circumferences or arcs which are planar patterns of the light emitting regions 301a to 301d are equal to one another. Further, assuming that the radius of the circumference (the distance from the center O to the center of the width of the circumference in the radial direction) which is a plane pattern of the light emitting area 301a is r, the radius of the arc which is a plane pattern of the light emitting area 301b is 2r. The radius of the arc that is the plane pattern of the light emitting area 301c is 3r, and the radius of the arc that is the plane pattern of the light emitting area 301d is 4.5r. Therefore, the areas of the planar patterns of the light emitting regions 301a to 301d are equal to one another.
p電極36の平面パターンは、円周状の平面パターンである円周部36aと、中心角がそれぞれ180°、120°、80°の円弧状の平面パターンである円弧部36b〜dと、これらを接続する直線状の平面パターンである接続部36eで構成されている。 The planar pattern of the p electrode 36 includes a circumferential portion 36a which is a circumferential planar pattern, and arc portions 36b to 36d which are arcuate planar patterns having central angles of 180 °, 120 ° and 80 °, respectively, and And a connecting portion 36e which is a linear flat pattern connecting the two.
円周部36aの平面パターンは、円周状の平面パターンである発光領域301aの内側であって、その発光領域301aの平面パターンの円周と中心Oを同一とする円周状(円形のリング状)のパターンである。 The plane pattern of the circumferential portion 36a is an inner side of the light emitting area 301a which is a circumferential plane pattern, and the circumferential O of the plane pattern of the light emitting area 301a and the center O are the same (circular ring Pattern).
円弧部36b〜dの平面パターンは、円弧状の平面パターンである発光領域301b〜dの内側に円弧に沿って対向し、発光領域301b〜dの平面パターンの円弧と中心Oおよび中心角を同一とする円弧状のパターンである。 The plane pattern of the arcs 36b to 36d faces the inside of the light emitting area 301b to d, which is an arc-shaped plane pattern, along the arc, and the arc O of the plane pattern of the light emitting areas 301b to 301d has the same center O and center angle. It is a circular arc-shaped pattern.
接続部36eの平面パターンは、円周部36aからその径方向に円弧部36dの一方の端部まで延伸し、円周部36aと円弧部36b〜dとを接続する直線状のパターンである。 The planar pattern of the connection portion 36e is a linear pattern extending from the circumferential portion 36a in the radial direction to one end of the arc portion 36d and connecting the circumferential portion 36a and the arc portions 36b to d.
n電極37の平面パターンは、円周状の平面パターンである円周部37aと、中心角がそれぞれ180°、120°、80°の円弧状の平面パターンである円弧部37b〜dと、これらを接続する直線状の平面パターンである接続部37eと、パッド部37fで構成されている。 The plane pattern of the n electrode 37 includes: a circumferential portion 37a which is a circumferential plane pattern; and arc portions 37b to 37d which are arc plane patterns having central angles of 180 °, 120 °, and 80 °, respectively. And a pad portion 37f, which is a linear flat pattern connecting the two.
円周部37aの平面パターンは、円周状の平面パターンである発光領域301aの外側であって、その発光領域301aの平面パターンの円周と中心Oを同一とする円周状(円形のリング状)のパターンである。 The plane pattern of the circumferential portion 37a is a circle (a circular ring having the same center O as the circumference of the plane pattern of the light emitting area 301a, which is outside the light emitting area 301a which is a circumferential plane pattern. Pattern).
円弧部37b〜dの平面パターンは、円弧状の平面パターンである発光領域301b〜dの外側に円弧に沿って対向し、発光領域301b〜dの平面パターンの円弧と中心Oおよび中心角を同一とする円弧状のパターンである。円弧部37dは、へら型の平面パターンのパッド部37fに接続している。 The plane pattern of the arcs 37b to 37d faces the outside of the light emitting area 301b to d, which is an arc-shaped plane pattern, along the arc, and the arc O of the plane pattern of the light emitting area 301b to d is equal to the center O and the center angle. It is a circular arc-shaped pattern. The circular arc portion 37 d is connected to the pad portion 37 f of the flat pattern of the spatula type.
接続部37eの平面パターンは、円周部37aからその径方向に円弧部37dの一方の端部まで延伸し、円周部37aと円弧部37b〜dとを接続する直線状のパターンである。 The planar pattern of the connection portion 37e is a linear pattern extending from the circumferential portion 37a in the radial direction to one end of the circular arc portion 37d and connecting the circumferential portion 37a and the circular arc portions 37b to d.
以上述べた実施例3の発光素子は、発光領域301a〜d、p電極36、およびn電極37の平面パターンが上記のように構成されているため、実施例1と同様の効果が得られる。すなわち、p電極36からn電極37までの最短距離が均一となり、その最短距離方向における発光領域301a〜dの幅も均一となるため、発光領域301a〜dを流れる電流もいたるところ均一となる。そのため、発光領域301a〜dを極めて均一に発光させることができ、高電流での光出力低下を抑制することができる。
[各種変形例]
In the light emitting device of Example 3 described above, the planar pattern of the light emitting regions 301a to 301d, the p electrode 36, and the n electrode 37 is configured as described above, so that the same effect as that of Example 1 can be obtained. That is, the shortest distance from the p electrode 36 to the n electrode 37 is uniform, and the widths of the light emitting regions 301a to 301d in the direction of the shortest distance are also uniform. Therefore, the current flowing through the light emitting regions 301a to 301d is even everywhere. Therefore, the light emitting regions 301a to 301d can be made to emit light extremely uniformly, and a decrease in light output at high current can be suppressed.
[Various modifications]
本発明の発光素子は、第1素子領域、発光領域101、およびp電極、n電極の平面パターンや配置に特徴を有するものであり、実施例1〜3に示したフェイスアップ型の素子に限らず、従来知られる任意の構造を採用することができる。 The light emitting device of the present invention is characterized in the plane pattern and arrangement of the first element region, the light emitting region 101, and the p electrode and the n electrode, and is limited to the face-up type devices shown in the first to third embodiments. Alternatively, any conventionally known structure can be adopted.
たとえば、フリップチップ型の素子や縦型の素子にも本発明は適用することができる。また、実施例1〜3において、n層およびn電極の平面パターンとp層およびp電極の平面パターンを反転した構造にも適用することができる。このような反転構造としても、発光領域の平面パターンを変えずに済む。図7は、実施例2の発光素子において、そのような反転構造とした場合のA−A’での断面を示す。 For example, the present invention can be applied to flip chip type devices and vertical type devices. Moreover, in Examples 1-3, it is applicable also to the structure which inverted the planar pattern of n layer and n electrode, and the planar pattern of p layer and p electrode. Even with such a reversed structure, it is not necessary to change the planar pattern of the light emitting region. FIG. 7 shows a cross section taken along the line A-A 'in the light emitting element of Example 2 in the case of such an inverted structure.
また、電流阻止層14を設けずに、替わりにその領域においてp電極とp層を直接接触させてもよい。p層に対するコンタクトはp電極よりも透明電極の方が良好であるため、電流はp電極から透明電極を介してp層へと流れ、p電極とp層が接触している領域へは流れないので、発光領域の平面パターンを同様とすることができる。 Alternatively, without providing the current blocking layer 14, the p electrode may be in direct contact with the p layer in that region instead. Since the contact to the p layer is better for the transparent electrode than for the p electrode, current flows from the p electrode to the p layer through the transparent electrode and not to the region where the p electrode and p layer are in contact Therefore, the planar pattern of the light emitting region can be made similar.
これら各種素子構造の中でも、特に本発明が有効なのはフリップチップ型の素子である。フリップチップ型の素子では、実装時にボンディングワイヤによって光が遮蔽されることがなく、発光素子から放射される光を効率的にPOFのコアに入射させることができるからである。 Among the various element structures, the present invention is particularly effective for flip chip type elements. In the flip chip type element, light is not shielded by the bonding wire at the time of mounting, and light emitted from the light emitting element can be efficiently incident on the core of the POF.
本発明は、中心波長が490〜570nmの緑色発光の素子以外にも適用可能である。ただし、本発明の発光素子は高電流での光出力低下が抑制されているため、POFによる光通信用の光源として特に有効である。POFは緑色帯域において低損失であるから、本発明の発光素子も中心波長が490〜570nmの緑色発光とするのがよい。より望ましいのは中心波長が510〜550nmである。 The present invention is applicable to devices other than green light emitting devices with a center wavelength of 490 to 570 nm. However, the light emitting element of the present invention is particularly effective as a light source for optical communication by POF because the decrease in light output at high current is suppressed. Since POF has low loss in the green band, the light emitting device of the present invention should also emit green light with a center wavelength of 490 to 570 nm. More preferably, the center wavelength is 510 to 550 nm.
本発明の発光素子は、光通信の光源などに利用することができ、特にPOFを用いた短距離通信の光源として有効である。 The light emitting element of the present invention can be used as a light source for optical communication, and is particularly effective as a light source for short distance communication using POF.
10:基板
11:n層
12:発光層
13:p層
14:電流阻止層
15:透明電極
16、26、36:p電極
17、27、37:n電極
18:絶縁膜
100a〜d、200a、300a〜d:第1素子領域
100e、200b:第2素子領域
101a〜d、201、301a〜d:発光領域
10: substrate 11: n layer 12: light emitting layer 13: p layer 14: current blocking layer 15: transparent electrode 16, 26, 36: p electrode 17, 27, 37: n electrode 18: insulating film 100a to d, 200a, 300a to d: first element region 100e, 200b: second element region 101a to d, 201, 301a to d: light emitting region
Claims (6)
各前記第1素子領域の各発光領域の平面パターンは、円周または円弧であり、
前記発光領域全体としての平面パターンは、同心円または同心円弧となるように設定されており、
前記p電極および前記n電極の一方の平面パターンは、前記発光領域の円周または円弧の平面パターンの内側に対向して設けられ、その円周または円弧と中心および中心角を同一とする円、扇型、円周または円弧であり、
前記p電極および前記n電極の他方の平面パターンは、前記発光領域の円弧の平面パターンの外側に対向して設けられ、その円周または円弧と中心および中心角を同一とする円周または円弧であり、
前記各第1素子領域は、並列接続されている、
ことを特徴とする発光素子。 A light emitting device comprising a group III nitride semiconductor, having a plurality of first element regions for emitting light, wherein a p electrode and an n electrode are provided in each of the first element regions,
The planar pattern of each light emitting area of each of the first element areas is a circle or an arc;
The plane pattern of the entire light emitting area is set to be concentric circles or concentric arcs,
One plane pattern of the p electrode and the n electrode is provided opposite to the inside of the plane pattern of the circumference or arc of the light emitting region, and a circle whose center and central angle are the same as the circumference or arc, Fan-shaped, circumferential or arc,
The other plane pattern of the p electrode and the n electrode is provided to face the outside of the plane pattern of the arc of the light emitting area, and is a circle or arc having the same center and central angle as the circle or arc. Oh it is,
The first element regions are connected in parallel,
A light emitting element characterized by
ことを特徴とする請求項1に記載の発光素子。 A second element region made of a group III nitride semiconductor, electrically isolated from the first element region outside the first element region, not provided with the p electrode and the n electrode and not emitting light Have
The light emitting device according to claim 1,
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