JP6514150B2 - 洗浄装置 - Google Patents
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Description
図1を参照して、本実施形態の洗浄装置10は、ノズルブロック11と、ノズル2と、支持機構3と、導管7と、ガイドブッシュ(ガイド装置)9と、移動機構5と、制御装置67と、液体供給装置61とを備えている。移動機構5は、導管7を介してノズルブロック11をX軸方向(第2の直線方向)83、及びY軸方向(第1の直線方向)84に移動できる。ここで、Y軸方向84は、重力方向であり、図1の下側が重力方向の下側である。制御装置67は、数値制御装置を含んでも良い。制御装置67は、噴流21が洗浄対象物(以下、「ワーク8」という。)の所定の部位に衝突するように移動機構5を制御する。液体供給装置61は、導管7およびノズルブロック11を通して、液体をノズル2へ供給する。ノズル2は、Z軸方向(軸線方向)85に沿って、液体を噴出する。ノズル2は、ノズルブロック11に少なくとも1つ設けられている。支持機構3は、液体の噴流21の反力F21を受け止め、ノズルブロック11を支持する。ワーク8は、洗浄装置10の図示しない載置台に支持される。載置台は、制御装置67の指令に応じて、ワーク8を旋回又は回転しても良い。
図3を参照して、第2実施形態の洗浄装置について説明する。本実施形態の洗浄装置は、支持機構3の構成が上述の第1実施形態の洗浄装置10と異なるが、その他の部位の構造は同一である。以下の説明においては、支持機構3について詳細に説明する。上述の実施形態と同一の部分については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
図4を参照して、第3実施形態の洗浄装置について説明する。本実施形態の洗浄装置は、支持機構3の構成が上述の第1実施形態の洗浄装置10と異なるが、その他の部位の構造は同一である。以下の説明においては、支持機構3について詳細に説明する。上述の実施形態と同一の部分については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
図5及び図6を参照して、本実施形態の洗浄装置200について説明する。洗浄装置200は、主としてノズルブロック211、支持機構3、導管7、Y軸移動機構53が第1実施形態の洗浄装置10と異なる。以下の説明では上述の実施形態と異なる部分について詳細に説明する。上述の実施形態と同一の部分については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
図7を参照して、第5実施形態の洗浄装置300について説明する。洗浄装置300は支持機構3がY軸方向84に沿って設けられた直線ガイド35であり、X軸移動機構54を有さず、Y軸移動機構53が流体圧シリンダ253cであり、ノズルブロック311がY軸方向84から見てL字状を成している点で第1実施形態と異なる。以下、上述の実施形態と同一の部分については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
11,211,311 ノズルブロック
2,27,28 ノズル
23〜26 ノズル群
3 支持機構
31 スライド板(ガイド部材)
32 スライダ(スライド装置)
33 ボール支持装置(スライド装置)
33a ハウジング(回転体支持台)
33c 転動ボール(回転体)
34 台車支持装置(スライド装置)
34b 台車(回転体支持台)
34d 車輪(回転体)
35 直線ガイド(支持機構)
35a 直線ガイドレール(ガイド部材)
35b ガイドブロック(スライド装置)
37 クロス型直線ガイド(支持機構)
37a Y軸ガイドレール(第1のブロック支持レール)
37b クロスガイドブロック(移動ブロック)
37c X軸ガイドレール(第2のブロック支持レール)
5 移動機構
53 Y軸移動機構(第1の移動機構)
53a Y軸直線ガイド(第1のガイド)
53b Y軸サドル(第1のサドル)
53c Y軸駆動装置(第1の駆動装置)
54 X軸移動機構(第2の移動機構)
54a X軸直線ガイド(第2のガイド)
54b,254b X軸サドル(第2のサドル)
54c、254c X軸駆動装置(第2の駆動装置)
7、73〜76 導管
9、93,96 ガイドブッシュ
Claims (8)
- 洗浄装置であって、
噴射軸線に沿って液体の噴流を生成する少なくとも1つのノズルが設けられたノズルブロックと、
前記噴射軸線と垂直な第1の直線方向に沿って前記ノズルブロックに設けられ、前記ノズルブロックに前記液体を供給する中空円筒状の導管と、
前記第1の直線方向に沿って、前記導管を介して前記ノズルブロックを移動させる第1の移動機構と、
前記噴流の反力を前記噴射軸線の方向から見て前記ノズルブロックの背面側で受け止め、前記ノズルブロックを前記第1の直線方向に沿って移動できるように支持する支持機構と、を備え、
前記支持機構は、ガイド部材と、前記ノズルブロックの背面に設けられ、前記ガイド部材上を摺動又は転動するように構成されたスライド装置と、を含む、
洗浄装置。 - 請求項1に記載の洗浄装置であって、
前記スライド装置は、前記ノズルブロックの背面に設けられた回転体支持台と、前記回転体支持台に回転可能に設けられた回転体と、を含み、
前記ガイド部材は、前記回転体が転動するガイド面を含む、
洗浄装置。 - 請求項1または請求項2に記載の洗浄装置であって、
前記導管を前記第1の直線方向に摺動してガイドするガイドブッシュを更に備える、洗浄装置。 - 請求項3に記載の洗浄装置であって、
前記噴射軸線及び前記第1の直線方向のそれぞれに垂直な第2の直線方向に沿って設けられた第2のガイドと、
前記第2のガイド上に設けられ、前記第2のガイドに沿って移動できる第2のサドルと、
前記第2のサドルを駆動する第2の駆動装置と、を更に備え、
前記支持機構は、前記ノズルブロックを前記第1の直線方向及び前記第2の直線方向を含む平面に沿って移動できるように支持し、
前記ガイドブッシュ及び前記第1の移動機構は、前記第2のサドルに設けられ、前記第2のサドルと一体として移動する、洗浄装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の洗浄装置であって、
前記第1の移動機構は、前記第1の直線方向に設けられた第1のガイドと、前記第1のガイド上に移動可能に設けられ、前記導管と一体に移動する第1のサドルと、前記第1のサドルを駆動する第1の駆動装置とを有する、
洗浄装置。 - 洗浄装置であって、
噴射軸線に沿って液体の噴流を生成する少なくとも1つのノズルが設けられたノズルブロックと、
前記噴射軸線と垂直な第1の直線方向に沿って前記ノズルブロックに設けられ、前記ノズルブロックに前記液体を供給する中空円筒状の導管と、
前記第1の直線方向に沿って、前記導管を介して前記ノズルブロックを移動させる第1の移動機構と、
前記導管を前記第1の直線方向に摺動してガイドするガイドブッシュと、
前記噴射軸線及び前記第1の直線方向のそれぞれに垂直な第2の直線方向に沿って設けられた第2のガイドと、
前記第2のガイド上に設けられ、前記ガイドブッシュおよび前記第1の移動機構を支持し、前記ガイドブッシュ及び前記第1の移動機構と一体として、前記第2のガイドに沿って移動できる第2のサドルと、
前記第2のサドルを駆動する第2の駆動装置と、
支持機構であって、
前記ノズルブロックの背面に、前記第1の直線方向に沿って設けられた第1のブロック支持レールと、
前記第2の直線方向に沿って設けられた第2のブロック支持レールと、
前記第1のブロック支持レールと前記第2のブロック支持レールに挟まれるように設けられ、前記第1のブロック支持レールに対して前記第1の直線方向に沿って相対的に移動し、前記第2のブロック支持レールに対して前記第2の直線方向に沿って相対的に移動できるように構成された移動ブロックと、を含み、
前記ノズルブロックを前記第1の直線方向及び前記第2の直線方向を含む平面に沿って移動できるように、かつ、前記噴流の反力を前記噴射軸線の方向から見て前記ノズルブロックの背面側で受け止めるように支持する支持機構と、を備える、
洗浄装置。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載の洗浄装置であって、
前記第1の直線方向は、重力方向であって、前記ノズルブロックは、前記導管の重力方向下側に設けられている、洗浄装置。 - 請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の洗浄装置であって、
液体分配装置を更に備え、
前記少なくとも1つのノズルは、複数のノズルを含むノズル群に属し、
前記液体分配装置は、あるノズル群に属する全てのノズルから液体を噴射するように、それぞれのノズル群に液体を独立して供給するように構成されている、
洗浄装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016132490A JP6514150B2 (ja) | 2016-07-04 | 2016-07-04 | 洗浄装置 |
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