Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6554874B2 - Analysis method, analysis program, and analysis apparatus - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6554874B2 - Analysis method, analysis program, and analysis apparatus - Google Patents

Analysis method, analysis program, and analysis apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP6554874B2
JP6554874B2 JP2015074409A JP2015074409A JP6554874B2 JP 6554874 B2 JP6554874 B2 JP 6554874B2 JP 2015074409 A JP2015074409 A JP 2015074409A JP 2015074409 A JP2015074409 A JP 2015074409A JP 6554874 B2 JP6554874 B2 JP 6554874B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cell
analysis
shape
cells
point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2015074409A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016194818A (en
Inventor
みちこ 明永
みちこ 明永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2015074409A priority Critical patent/JP6554874B2/en
Publication of JP2016194818A publication Critical patent/JP2016194818A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6554874B2 publication Critical patent/JP6554874B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、解析方法、解析プログラム、および解析装置に関する。   The present invention relates to an analysis method, an analysis program, and an analysis apparatus.

従来、電磁界解析において、解析領域を複数のセルに分割し、セルごとに電磁界の過渡的な挙動を計算する技術が公知である(例えば、以下特許文献1参照。)。   Conventionally, in electromagnetic field analysis, a technique for dividing an analysis region into a plurality of cells and calculating a transient behavior of the electromagnetic field for each cell is known (for example, refer to Patent Document 1 below).

また、従来、境界要素法の計算で用いる表面メッシュモデルを生成する表面メッシュモデル生成装置において、凹凸を緩和させるスムージング処理を行うスムージング手段を備えることが公知である(例えば、以下特許文献2参照。)。スムージング処理では、表面メッシュの凹凸部をノイズとし、ある周波数成分のノイズをフィルタにより除去する。   Conventionally, it is known that a surface mesh model generation apparatus that generates a surface mesh model used in the calculation of the boundary element method includes a smoothing unit that performs a smoothing process for reducing unevenness (see, for example, Patent Document 2 below). ). In the smoothing process, the uneven portion of the surface mesh is used as noise, and noise of a certain frequency component is removed by a filter.

また、従来、電磁流体解析において、電気伝導性流体の変形前自由表面内の点P1を射影した変形後自由表面内の点P2を求め、変形前自由表面内の点P1における電磁力に基づいて変形後自由表面内の点P2における電磁力を求める技術が公知である(例えば、以下特許文献3参照。)。   Conventionally, in the electromagnetic fluid analysis, a point P2 in the free surface after deformation obtained by projecting the point P1 in the free surface before deformation of the electrically conductive fluid is obtained, and based on the electromagnetic force at the point P1 in the free surface before deformation. A technique for obtaining an electromagnetic force at a point P2 in the free surface after deformation is known (for example, see Patent Document 3 below).

特開2003−6181号公報JP 2003-6181 A 特開2012−133434号公報JP 2012-133434 A 特開2004−93498号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-93498

ところで、従来技術では、配線やパッドなどの要素の形状に応じてセル分割が行われる。このため、配線やパッドなどの要素の形状に凹部や凸部が含まれると、凹部や凸部において細かいセル分割が行われ、セルの数が増加するという問題点がある。   In the prior art, cell division is performed according to the shape of an element such as a wiring or a pad. For this reason, if a concave portion or a convex portion is included in the shape of an element such as a wiring or a pad, there is a problem that fine cell division is performed in the concave portion or the convex portion, and the number of cells increases.

1つの側面では、本発明は、セルの数の低減を図ることができる解析方法、解析プログラム、および解析装置を提供することを目的とする。   In one aspect, an object of the present invention is to provide an analysis method, an analysis program, and an analysis apparatus that can reduce the number of cells.

本発明の一側面によれば、シミュレーション空間における解析領域に配置される要素の形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第1セル情報を生成し、生成した前記第1セル情報が示す前記複数のセルのうち、前記要素を含む複数のセルにより形成される形状を特定し、特定した前記形状に含まれる所定の形状の部分を特定し、特定した前記形状から、特定した前記部分が削除された形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報を生成する解析方法、解析プログラム、および解析装置が提案される。   According to an aspect of the present invention, first cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality of cells based on the shape of an element arranged in the analysis region in the simulation space is generated, and the generated first Among the plurality of cells indicated by the cell information, the shape formed by the plurality of cells including the element is specified, the part of the predetermined shape included in the specified shape is specified, and the specified shape is specified. An analysis method, an analysis program, and an analysis apparatus for generating second cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality of parts based on the shape from which the portion has been deleted are proposed.

本発明の一態様によれば、セルの数の低減を図ることができる。   According to one embodiment of the present invention, the number of cells can be reduced.

図1は、本発明に係る解析装置による動作例を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing an operation example by the analyzing apparatus according to the present invention. 図2は、微細な格子が発生する例を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating an example in which a fine lattice is generated. 図3は、解析装置のハードウェア構成例を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram illustrating a hardware configuration example of the analysis apparatus. 図4は、解析装置の機能的構成例を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram illustrating a functional configuration example of the analysis apparatus. 図5は、セル情報例を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of cell information. 図6は、格子点番号と座標との対応テーブル例を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing an example of a correspondence table between grid point numbers and coordinates. 図7は、向きが水平な凸部の削除例(その1)を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example (part 1) of deleting a convex portion whose orientation is horizontal. 図8は、つぎの探索方向の決定方法例を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating an example of a method for determining the next search direction. 図9は、向きが水平な凸部の削除例(その2)を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of an example (part 2) of deleting a convex portion whose orientation is horizontal. 図10は、凸部の削除例についてセルの減少例を示す説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram showing an example of cell reduction for an example of convex portion deletion. 図11は、向きが垂直な凹部の削除例を示す説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating an example of deleting a concave portion whose direction is vertical. 図12は、凹部の削除例についてセルの減少例を示す説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing an example of cell reduction with respect to an example of deleting a recess. 図13は、解析装置による解析処理手順例を示すフローチャートである。FIG. 13 is a flowchart illustrating an example of an analysis processing procedure performed by the analysis apparatus. 図14は、図13で示した凹凸削除処理(ステップS1304)の詳細な説明を示すフローチャートである。FIG. 14 is a flowchart showing a detailed description of the unevenness deletion process (step S1304) shown in FIG.

以下に添付図面を参照して、本発明にかかる解析方法、解析プログラム、および解析装置の実施の形態を詳細に説明する。   Exemplary embodiments of an analysis method, an analysis program, and an analysis apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明に係る解析装置による動作例を示す説明図である。解析装置100は、解析領域101を分割した複数のセルの各々について物理量を算出し、物理量に基づき解析領域101の解析結果を取得するコンピュータである。また、解析装置100は、解析を行う前に、解析の計算に要する計算時間を推定するコンピュータである。   FIG. 1 is an explanatory view showing an operation example by the analyzing apparatus according to the present invention. The analysis device 100 is a computer that calculates a physical quantity for each of a plurality of cells obtained by dividing the analysis area 101 and acquires an analysis result of the analysis area 101 based on the physical quantity. The analysis apparatus 100 is a computer that estimates the calculation time required for analysis calculation before performing analysis.

例えば、電磁界解析の一種であるFDTD(Finite−Difference Time−Domain method)法によるシミュレーションでは、解析領域101を格子状に分割したセルの各々について電界と磁界とが算出されることによって、解析領域101内の電磁界分布が解析される。   For example, in a simulation based on the FDTD (Finite-Difference Time-Domain method) method, which is a kind of electromagnetic field analysis, an electric field and a magnetic field are calculated for each of the cells obtained by dividing the analysis region 101 into a lattice shape, thereby obtaining an analysis region. The electromagnetic field distribution in 101 is analyzed.

具体的には、セルは、シミュレーション空間上に格子状に配置された格子点によって解析領域101を分割した領域である。シミュレーション空間とは、解析対象の物理的な要素102の内部とその要素102の外部の空間とを含む解析領域101をコンピュータ上に表すために設定された空間である。例えば、シミュレーション空間には、例えば、X軸とY軸とZ軸とを含む3次元直交座標系が定義される。本実施の形態では、X軸とY軸に着目し、Z軸については説明を省略する。セルcは、矩形状であり、例えば四角形や立方体である。セルcには、例えば、要素102を含むか否かを示す情報が設定可能である。また、解析のために、セルcには、媒体の媒質と、媒質に応じた電気定数と、が設定可能である。電気定数としては、例えば、誘電率、透磁率、および、導電率などが挙げられる。要素102としては、例えば、配線、パッド、基板などの物体を形成する部品などが挙げられる。   Specifically, the cell is an area obtained by dividing the analysis area 101 by lattice points arranged in a lattice pattern on the simulation space. The simulation space is a space set to represent on the computer the analysis area 101 including the inside of the physical element 102 to be analyzed and the space outside the element 102. For example, in the simulation space, a three-dimensional orthogonal coordinate system including, for example, an X axis, a Y axis, and a Z axis is defined. In the present embodiment, attention is paid to the X axis and the Y axis, and description of the Z axis is omitted. The cell c has a rectangular shape, for example, a square or a cube. For example, information indicating whether or not the element 102 is included can be set in the cell c. For analysis, the medium of the medium and the electric constant corresponding to the medium can be set in the cell c. Examples of the electrical constant include dielectric constant, magnetic permeability, and electrical conductivity. Examples of the element 102 include a part that forms an object such as a wiring, a pad, and a substrate.

従来、配線やパッドなどの要素102の形状に応じてセル分割を行うため、凹部や凸部が存在する。凹部や凸部が発生する例については、図2に示す。凹部や凸部において細かいセル分割が行われるためにセルの数が増加するという問題点がある。   Conventionally, since cell division is performed according to the shape of the element 102 such as a wiring or a pad, there is a concave portion or a convex portion. An example in which a concave portion or a convex portion is generated is shown in FIG. There is a problem in that the number of cells increases because fine cell division is performed in the concave and convex portions.

本実施の形態では、解析領域を分割した複数のセルのうち、該解析領域に配置される要素を含む複数のセルにより形成される形状から微少な凸部または凹部が削除された形状に基づき解析領域を複数のセルに分割する。また、微少な凹部や凸部は、CAD(Computer Aided Design)の設計段階では生じるが、実際の基板では生じない場合が多く、また解析精度に与える影響も少ない場合がある。微少な凹部や凸部とは、利用者によって設定された閾値よりも小さい凹部や凸部である。閾値については、例えば、要素102の種類や要素102に含まれるホールなどによって設定される。例えば、要素102が基板であれば、閾値は、基板に含まれるホールの幅に基づく値である。より具体的に、閾値は、基板に含まれるホールの幅よりも小さい値に設定される。   In the present embodiment, analysis is performed based on a shape in which minute convex portions or concave portions are deleted from a shape formed by a plurality of cells including elements arranged in the analysis region among a plurality of cells obtained by dividing the analysis region. Divide the region into multiple cells. In addition, although minute concave portions and convex portions are generated in a CAD (Computer Aided Design) design stage, they are often not generated in an actual substrate and may have little influence on analysis accuracy. A minute concave part or convex part is a concave part or convex part that is smaller than a threshold set by the user. The threshold value is set by, for example, the type of the element 102 or a hole included in the element 102. For example, if the element 102 is a substrate, the threshold is a value based on the width of holes included in the substrate. More specifically, the threshold value is set to a value smaller than the width of the hole included in the substrate.

これにより、セルの数の低減を図ることができる。電磁界解析のようにセルcごとに物理量を算出する解析の場合、セルcの数が多いほど解析にかかる時間が長くなるため、セルの数を低減させることにより解析にかかる時間の低減を図ることができる。   Thereby, the number of cells can be reduced. In the case of analysis in which a physical quantity is calculated for each cell c as in the electromagnetic field analysis, the time required for the analysis increases as the number of cells c increases. Therefore, the time required for the analysis is reduced by reducing the number of cells. be able to.

まず、解析装置100は、シミュレーション空間における解析領域101に配置される要素102の形状に基づいて解析領域101を複数に分割した複数のセルを示す第1セル情報103を生成する。解析装置100は、例えば、解析領域101を所定の格子点の間隔によって複数のセルcに分割する。所定の格子点の間隔は、例えば、要素102のサイズなどによって決定されてもよい。例えば、要素102が配線を含む場合に、所定の格子点の間隔は、配線の最小幅であってもよい。   First, the analysis apparatus 100 generates first cell information 103 indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region 101 into a plurality based on the shape of the element 102 arranged in the analysis region 101 in the simulation space. For example, the analysis apparatus 100 divides the analysis region 101 into a plurality of cells c by a predetermined lattice point interval. The interval between the predetermined grid points may be determined by the size of the element 102, for example. For example, when the element 102 includes a wiring, the interval between the predetermined lattice points may be the minimum width of the wiring.

つぎに、解析装置100は、第1セル情報103が示す複数のセルのうち、要素102を含む複数のセルにより形成される形状を特定する。要素102を含むセルとは、例えば、要素102を所定の割合以上含むセルである。所定の割合は、例えば、利用者によって設定されてもよいし、固定値であってもよい。所定の割合は、例えば、50[%]などであってもよい。ここでは、第1セル情報103において、複数のセルの各々に要素102を含むか否かを設定可能とする。例えば、セルc1については、要素102を含むことを示す情報が設定される。例えば、セルc6については、要素102を含まないことを示す情報が設定される。例えば、セルc17については、要素102を含むことを示す情報が設定される。   Next, the analysis apparatus 100 specifies a shape formed by a plurality of cells including the element 102 among the plurality of cells indicated by the first cell information 103. The cell including the element 102 is, for example, a cell including the element 102 at a predetermined ratio or more. The predetermined ratio may be set by a user or may be a fixed value, for example. The predetermined ratio may be 50 [%], for example. Here, in the first cell information 103, whether or not the element 102 is included in each of the plurality of cells can be set. For example, information indicating that the element 102 is included is set for the cell c1. For example, information indicating that the element 102 is not included is set for the cell c6. For example, information indicating that the element 102 is included is set for the cell c17.

そして、解析装置100は、特定した形状に含まれる所定の形状の部分を特定する。所定の形状の部分は、例えば、所定の凸部または凹部である。所定の凸部や所定の凹部とは、所定のサイズ以下の凸部や所定のサイズ以下の凹部である。例えば、要素102が基板である場合、所定の凸部や所定の凹部は、基板に含まれるホールよりも小さい幅の凸部や凹部である。基板に含まれるホールより大きい凸部や凹部は、実際の基板でも生じるものであるため、無視できない。一方、基板に含まれるホールよりも小さい凸部や凹部は、実際の基板では生じない場合が多く、また解析精度に与える影響も少ない場合がある。   Then, the analysis device 100 specifies a portion having a predetermined shape included in the specified shape. The predetermined shape portion is, for example, a predetermined convex portion or a concave portion. The predetermined convex portion and the predetermined concave portion are a convex portion having a predetermined size or less and a concave portion having a predetermined size or less. For example, when the element 102 is a substrate, the predetermined convex portion or the predetermined concave portion is a convex portion or a concave portion having a width smaller than a hole included in the substrate. Projections and recesses larger than the holes included in the substrate are also generated in an actual substrate and cannot be ignored. On the other hand, convex portions and concave portions smaller than the holes included in the substrate often do not occur in an actual substrate, and may have little influence on analysis accuracy.

解析装置100は、例えば、要素102を含む複数のセルにより形成される形状における輪郭を形成する格子点を探索して所定の凸部または凹部を特定する。例えば、セルc17が所定の凸部または凹部として特定される。   For example, the analysis device 100 searches for a lattice point that forms an outline in a shape formed by a plurality of cells including the element 102 and specifies a predetermined convex portion or concave portion. For example, the cell c17 is specified as a predetermined convex portion or concave portion.

つぎに、解析装置100は、要素102を含む複数のセルによって形成される形状から、特定した凸部または凹部が削除された形状に基づいて解析領域101を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報104を生成する。解析装置100は、特定した凸部または凹部であるセルについて、要素102を含むか否かを示す情報の設定を変更する。   Next, the analysis apparatus 100 shows a plurality of cells obtained by dividing the analysis region 101 into a plurality of cells based on a shape in which the specified convex portion or concave portion is deleted from the shape formed by the plurality of cells including the element 102. Two-cell information 104 is generated. The analysis apparatus 100 changes the setting of information indicating whether or not the element 102 is included for the specified convex or concave cell.

解析装置100は、例えば、第1セル情報103において、特定した凸部であるセルについて、要素102を含むことを示す情報が設定されているため、要素102を含まないことを示す情報に変更する。また、解析装置100は、例えば、第1セル情報103において、特定した凹部であるセルについて、要素102を含まないことを示す情報が設定されているため、要素102を含むことを示す情報に変更する。これにより、要素102を含む複数のセルによって形成される形状から、特定した凸部または凹部が削除された形状が特定される。図1の例では、解析装置100は、セルc17について要素を含むことを示す情報から要素を含まないことを示す情報に設定を変更する。   For example, in the first cell information 103, the information indicating that the element 102 is included is set in the first cell information 103, and thus the analysis apparatus 100 changes the information to indicate that the element 102 is not included. . In addition, for example, in the first cell information 103, the analysis apparatus 100 is set to information indicating that the element 102 is included since information indicating that the element 102 is not included is set for the cell that is the specified recess. To do. Thereby, the shape from which the specified convex portion or concave portion is deleted is specified from the shape formed by the plurality of cells including the element 102. In the example of FIG. 1, the analysis apparatus 100 changes the setting from information indicating that an element is included for the cell c17 to information indicating that an element is not included.

そして、解析装置100は、例えば、削除された形状に基づいて解析領域101における格子点を調整することによって第2セル情報104を生成する。X軸方向の格子を一つ抜いてもよいため、第2セル情報104では、例えば、セルc5とセルc6とは1つのセルc5となる。   And the analysis apparatus 100 produces | generates the 2nd cell information 104 by adjusting the lattice point in the analysis area | region 101 based on the deleted shape, for example. Since one grid in the X-axis direction may be removed, in the second cell information 104, for example, the cell c5 and the cell c6 become one cell c5.

これにより、セルの数の低減を図ることができ、解析にかかる時間の低減を図ることができる。   Thereby, the number of cells can be reduced, and the time required for analysis can be reduced.

図2は、微細な格子が発生する例を示す説明図である。簡単に電磁界解析における格子の生成方法について説明する。解析装置100は、基準となる格子幅を決定する。そして、解析装置100は、格子幅をもとに等間隔に格子を生成して、要素102をセルごとに分割する。例えば、セルには、要素102の有無や要素102の媒質などが設定される。図2の例では、「格子に沿って分割した場合」において、要素102があるセルは黒丸で示す。そして、解析装置100は、格子を抜いてもセルによって表される要素102の形状に影響がない箇所の格子を抜く。これにより、セルの数を減らすことができる。   FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating an example in which a fine lattice is generated. A method for generating a grid in electromagnetic field analysis will be briefly described. The analysis apparatus 100 determines a reference grid width. Then, the analysis apparatus 100 generates a grid at regular intervals based on the grid width, and divides the element 102 for each cell. For example, the presence / absence of the element 102 and the medium of the element 102 are set in the cell. In the example of FIG. 2, the cell in which the element 102 is present is indicated by a black circle in “when divided along the grid”. Then, the analysis apparatus 100 extracts a grid where there is no influence on the shape of the element 102 represented by the cell even if the grid is extracted. Thereby, the number of cells can be reduced.

しかし、例えば、上側の基板の形状において、四角で囲った箇所は、基板の形状において要素102なしとなっているために、微細な格子が発生してしまう。例えば、下側の基板の形状においては、四角で囲った箇所は、基板の形状において要素102ありとなっているために、格子が発生してしまう。このように、微細な凹凸部によって格子が発生してしまい、セル数が増加してしまう。   However, for example, a portion surrounded by a square in the shape of the upper substrate has no element 102 in the shape of the substrate, so that a fine lattice is generated. For example, in the shape of the lower substrate, a portion surrounded by a square is the element 102 in the shape of the substrate, and thus a lattice is generated. As described above, a lattice is generated by the fine uneven portion, and the number of cells increases.

そこで、本実施の形態では、図1で説明したように、解析領域を分割した複数のセルのうち、該解析領域に配置される要素を含む複数のセルにより形成される形状から微少な凸部または凹部が削除された形状に基づき解析領域を複数のセルに分割する。これにより、微少な凹部や凸部が削除されるため、格子を抜くことが可能となる。したがって、セル数の低減を図ることができ減らし、計算時間の短縮を図ることができる。   Therefore, in the present embodiment, as described with reference to FIG. 1, from the shape formed by the plurality of cells including the elements arranged in the analysis region among the plurality of cells obtained by dividing the analysis region, a minute convex portion is formed. Alternatively, the analysis region is divided into a plurality of cells based on the shape from which the concave portions are deleted. Thereby, since a minute recessed part and a convex part are deleted, it becomes possible to extract a grating | lattice. Therefore, the number of cells can be reduced and the calculation time can be reduced.

(解析装置100のハードウェア構成例)
図3は、解析装置のハードウェア構成例を示すブロック図である。図3において、解析装置100は、CPU(Central Processing Unit)301と、ROM(Read Only Memory)302と、RAM(Random Access Memory)303と、ディスクドライブ304と、ディスク305と、を有している。解析装置100は、I/F(Inter/Face)306と、キーボード307と、マウス308と、ディスプレイ309と、を有している。また、各部はバス300によってそれぞれ接続されている。
(Hardware configuration example of analysis apparatus 100)
FIG. 3 is a block diagram illustrating a hardware configuration example of the analysis apparatus. In FIG. 3, the analysis device 100 includes a CPU (Central Processing Unit) 301, a ROM (Read Only Memory) 302, a RAM (Random Access Memory) 303, a disk drive 304, and a disk 305. . The analysis apparatus 100 includes an I / F (Inter / Face) 306, a keyboard 307, a mouse 308, and a display 309. Each unit is connected by a bus 300.

ここで、CPU301は、解析装置100の全体の制御を司る。ROM302は、ブートプログラムなどのプログラムを記憶している。RAM303は、CPU301のワークエリアとして使用される。ディスクドライブ304は、CPU301の制御にしたがってディスク305に対するデータのリード/ライトを制御する。ディスク305は、ディスクドライブ304の制御で書き込まれたデータを記憶する。ディスク305としては、磁気ディスク、光ディスクなどが挙げられる。   Here, the CPU 301 controls the entire analysis apparatus 100. The ROM 302 stores a program such as a boot program. The RAM 303 is used as a work area for the CPU 301. The disk drive 304 controls reading / writing of data with respect to the disk 305 according to the control of the CPU 301. The disk 305 stores data written under the control of the disk drive 304. Examples of the disk 305 include a magnetic disk and an optical disk.

I/F306は、通信回線を通じてLAN(Local Area Network)、WAN(Wide Area Network)、インターネットなどのネットワーク310に接続され、このネットワーク310を介して他の装置に接続される。そして、I/F306は、ネットワーク310と内部のインターフェースを司り、外部装置からのデータの入出力を制御する。I/F306には、例えばモデムやLANアダプタなどを採用することができる。   The I / F 306 is connected to a network 310 such as a LAN (Local Area Network), a WAN (Wide Area Network), and the Internet through a communication line, and is connected to other devices via the network 310. The I / F 306 controls an internal interface with the network 310 and controls input / output of data from an external device. For example, a modem or a LAN adapter can be used as the I / F 306.

キーボード307やマウス308は、例えば、利用者の操作により、各種データの入力を行うインターフェースである。ディスプレイ309は、例えば、CPU301の指示により、データを出力するインターフェースである。   The keyboard 307 and the mouse 308 are interfaces for inputting various data, for example, by user operations. The display 309 is an interface that outputs data in accordance with an instruction from the CPU 301, for example.

また、図示を省略するが、解析装置100には、カメラから画像や動画を取り込む入力装置やマイクから音声を取り込む入力装置が設けられていてもよい。また、図示を省略するが、解析装置100には、プリンタなどの出力装置が設けられていてもよい。また、図示を省略するが、解析装置100には、例えば、SSDやフラッシュROMなどが設けられていてもよい。   Although not shown, the analysis apparatus 100 may be provided with an input device that captures images and moving images from a camera and an input device that captures sound from a microphone. Although not shown, the analysis apparatus 100 may be provided with an output device such as a printer. Although not shown, the analysis apparatus 100 may be provided with, for example, an SSD or a flash ROM.

(解析装置100の機能的構成例)
図4は、解析装置の機能的構成例を示すブロック図である。解析装置100は、第1生成部401と、第1特定部402と、第2特定部403と、第2生成部404と、記憶部411と、を有する。記憶部411は、例えば、ROM302、RAM303、ディスク305などの記憶装置によって実現される。第1生成部401から第2生成部404までの制御部の処理は、例えば、図3に示すCPU301がアクセス可能な記憶部411に記憶されたプログラムにコーディングされている。そして、CPU301が記憶部411から該プログラムを読み出して、プログラムにコーディングされている処理を実行する。これにより、制御部の処理が実現される。また、制御部の処理結果は、例えば、記憶部411に記憶される。
(Functional configuration example of the analysis apparatus 100)
FIG. 4 is a block diagram illustrating a functional configuration example of the analysis apparatus. The analysis apparatus 100 includes a first generation unit 401, a first specification unit 402, a second specification unit 403, a second generation unit 404, and a storage unit 411. The storage unit 411 is realized by a storage device such as the ROM 302, the RAM 303, and the disk 305, for example. The processes of the control units from the first generation unit 401 to the second generation unit 404 are coded in, for example, a program stored in the storage unit 411 accessible by the CPU 301 illustrated in FIG. Then, the CPU 301 reads the program from the storage unit 411 and executes the process coded in the program. Thereby, the process of a control part is implement | achieved. The processing result of the control unit is stored in the storage unit 411, for example.

第1生成部401は、シミュレーション空間における解析領域101に配置される要素102の形状に基づいて解析領域101を複数のセルに分割した第1セル情報103を生成する。解析領域101に配置される要素102は、例えば、CADデータが示す解析対象の物体である。CADデータは、解析対象の物体に含まれる部品などの要素102の各々を示すデータである。CADデータについては、図示省略するが、例えば、要素102、層番号、要素102が配置される始点、要素102が配置される終点、線長、線幅などが含まれる。   The first generation unit 401 generates first cell information 103 obtained by dividing the analysis region 101 into a plurality of cells based on the shape of the element 102 arranged in the analysis region 101 in the simulation space. The element 102 arranged in the analysis area 101 is, for example, an object to be analyzed indicated by CAD data. The CAD data is data indicating each element 102 such as a part included in the object to be analyzed. Although not shown, the CAD data includes, for example, the element 102, the layer number, the start point where the element 102 is arranged, the end point where the element 102 is arranged, the line length, the line width, and the like.

解析領域101が格子点の間隔によって複数のセルcに分割される。各セルcには、セルcを識別可能な識別情報が付される。また、各セルcの位置を表すためにX軸方向の格子点とY軸方向の格子点との各々に、格子点を識別可能な識別情報として番号が付される。   The analysis area 101 is divided into a plurality of cells c according to the lattice point intervals. Identification information capable of identifying the cell c is attached to each cell c. Further, in order to represent the position of each cell c, a number is assigned to each of the lattice point in the X-axis direction and the lattice point in the Y-axis direction as identification information that can identify the lattice point.

図5は、セル情報例を示す説明図である。図5に示すセル情報500は、第1セル情報103や第2セル情報104などの情報の一例である。セル情報500は、複数のセルcの各々について位置と媒質とを示す情報である。例えば、セル情報500は、セル、左上(X)格子点番号、左上(Y)格子点番号、右下(X)格子点番号、右下(Y)格子点番号、要素の有無(媒質)のフィールドを有する。各フィールドに情報が設定されることによって、レコード(例えば、501−1〜501−4、など)として記憶される。ここでは、Z軸方向についての格子点番号などは、省略する。   FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of cell information. The cell information 500 illustrated in FIG. 5 is an example of information such as the first cell information 103 and the second cell information 104. The cell information 500 is information indicating a position and a medium for each of the plurality of cells c. For example, cell information 500 includes cells, upper left (X) lattice point numbers, upper left (Y) lattice point numbers, lower right (X) lattice point numbers, lower right (Y) lattice point numbers, and presence / absence of elements (medium). Has a field. By setting information in each field, it is stored as a record (for example, 501-1 to 501-4). Here, the lattice point numbers in the Z-axis direction are omitted.

セルのフィールドには、セルcを一意に特定可能な識別情報が設定される。左上(X)格子点番号のフィールドには、セルcが有する4つの頂点の格子点番号のうち、左上のX軸方向の格子点番号が設定される。左上(Y)格子点番号のフィールドには、セルcが有する4点の頂点の格子点番号のうち、左上のY軸方向の格子点番号が設定される。右下(X)格子点番号のフィールドには、セルcが有する4点の頂点の格子点番号のうち、右下のX軸方向の格子点番号が設定される。右下(Y)格子点番号のフィールドには、セルcが有する4点の頂点の格子点番号のうち、右下のY軸方向の格子点番号が設定される。   Identification information that can uniquely identify the cell c is set in the cell field. In the upper left (X) lattice point number field, among the lattice point numbers of the four vertices of the cell c, the upper left lattice point number is set. In the upper left (Y) grid point number field, the grid point number in the upper left Y-axis direction among the grid point numbers of the four vertices of the cell c is set. In the lower right (X) lattice point number field, the lattice point numbers in the lower right X-axis direction among the lattice point numbers of the four vertices of the cell c are set. In the field of the lower right (Y) lattice point number, the lattice point number in the lower right Y-axis direction among the lattice point numbers of the four vertices of the cell c is set.

ここでは、左上(X)格子点番号と、左上(Y)格子点番号と、右下(X)格子点番号と、右下(Y)格子点番号と、によってセルcの位置が表される。また、左上(X)格子点番号と、左上(Y)格子点番号と、右下(X)格子点番号と、右下(Y)格子点番号と、によってセルcについての左下(X)格子点番号と、左下(Y)格子点番号と、右上(X)格子点番号と、右上(Y)格子点番号と、が特定可能である。   Here, the position of the cell c is represented by the upper left (X) lattice point number, the upper left (Y) lattice point number, the lower right (X) lattice point number, and the lower right (Y) lattice point number. . Further, the lower left (X) lattice point number of the cell c by the upper left (X) lattice point number, the upper left (Y) lattice point number, the lower right (X) lattice point number, and the lower right (Y) lattice point number. A point number, a lower left (Y) lattice point number, an upper right (X) lattice point number, and an upper right (Y) lattice point number can be specified.

要素102の有無のフィールドには、解析対象の要素102を含むか否かを示す情報が設定される。また、要素102の有無のフィールドには、解析対象の要素102が所定の割合以上セルに含まれる場合、「有」とし、解析対象の要素102が所定の割合以上セルに含まれない場合、「無」とする。「有」が設定されるセルについては、例えば、前景のセルとも称し、「無」が設定されるセルについては、例えば、背景のセルとも称する。また、要素102の有無のフィールドには、要素102を含む解析領域101をモデリングした場合の媒質が設定されてもよい。例えば、媒質としては、空気や金属などが挙げられる。   Information indicating whether or not the analysis target element 102 is included is set in the presence / absence field of the element 102. Further, the presence / absence field of the element 102 indicates “Yes” when the analysis target element 102 is included in the cell in a predetermined ratio or more, and “Available” indicates that the analysis target element 102 is not included in the cell in the predetermined ratio. "No". A cell in which “present” is set is also referred to as a foreground cell, for example, and a cell in which “no” is set is also referred to as a background cell, for example. In the field of presence / absence of the element 102, a medium when the analysis region 101 including the element 102 is modeled may be set. For example, examples of the medium include air and metal.

レコード501−2を例に挙げると、セルc2の左上(X)格子点番号は1であり、セルc2の左上(Y)格子点番号は0であり、セルc2の右下(X)格子点番号は2であり、セルc2の右下(Y)格子点番号は1であり、要素102の有無は「有」である。要素102の有無のフィールドには、後述する第1特定部402の特定結果が設定される。   Taking the record 501-2 as an example, the upper left (X) lattice point number of the cell c2 is 1, the upper left (Y) lattice point number of the cell c2 is 0, and the lower right (X) lattice point of the cell c2. The number is 2, the lower right (Y) lattice point number of the cell c2 is 1, and the presence or absence of the element 102 is “present”. In the field for the presence / absence of the element 102, the identification result of the first identification unit 402 described later is set.

図6は、格子点番号と座標との対応テーブル例を示す説明図である。対応テーブル600−Xは、X軸方向について、格子点番号(X)と座標との対応関係を示す。例えば、格子点番号(X)が1の場合、X軸の座標は0.1である。対応テーブル600−Yは、Y軸方向について、格子点番号(Y)と座標との対応関係を示す。例えば、格子点番号(Y)が1の場合、Y軸の座標は0.1である。格子点番号(Y)とY軸の座標とは、初期の格子点の間隔dによって定まる。   FIG. 6 is an explanatory diagram showing an example of a correspondence table between grid point numbers and coordinates. The correspondence table 600-X shows the correspondence between the grid point number (X) and the coordinates in the X-axis direction. For example, when the grid point number (X) is 1, the X-axis coordinate is 0.1. The correspondence table 600-Y shows the correspondence between the grid point number (Y) and the coordinates in the Y-axis direction. For example, when the grid point number (Y) is 1, the Y-axis coordinate is 0.1. The grid point number (Y) and the Y-axis coordinates are determined by the initial grid point interval d.

第1特定部402は、生成した第1セル情報103が示す複数のセルのうち、要素102に対応する複数のセルにより形成される形状を特定する。具体的に、第1特定部402は、例えば、複数のセルのうち、シミュレーション空間において解析領域101に配置された要素102を含むセルを前景のセルとして特定する。前景のセルは、例えば、要素102を少なくとも一部含むセルであってもよいし、要素102を所定割合以上含むセルであってもよい。所定割合は、利用者などによって設定されればよく、特に限定しない。具体的に、第1特定部402は、例えば、複数のセルのうち、シミュレーション空間に配置された要素102を含むセルを背景のセルに特定する。第1特定部402は、複数のセルのうち前景のセルと異なるセルを背景のセルとする。特定結果は、セルごとに上述したセルデータに含まれる要素102の有無に設定される。   The first specifying unit 402 specifies a shape formed by a plurality of cells corresponding to the element 102 among the plurality of cells indicated by the generated first cell information 103. Specifically, for example, the first specifying unit 402 specifies a cell including the element 102 arranged in the analysis region 101 in the simulation space among the plurality of cells as the foreground cell. The foreground cell may be, for example, a cell including at least a part of the element 102 or a cell including a predetermined percentage or more of the element 102. The predetermined ratio may be set by a user or the like, and is not particularly limited. Specifically, for example, the first specifying unit 402 specifies, as a background cell, a cell including the element 102 arranged in the simulation space among a plurality of cells. The first specifying unit 402 sets a cell different from the foreground cell among the plurality of cells as a background cell. The identification result is set for each cell based on the presence or absence of the element 102 included in the cell data described above.

つぎに、第2特定部403は、特定した形状に含まれる所定の形状の部分を特定する。
所定の形状の部分は、例えば、所定の凸部または凹部である。ここでは、特定された要素102の形状の向きが水平な凸部の例と、特定された要素102の形状の向きが垂直な凹部の例と、を示す。要素102の形状の向きについては、例えば、利用者によって指定されてもよいし、水平または垂直のいずれかの向きに揃えておくこととして予め定められていてもよい。所定の凸部または凹部とは、例えば、閾値よりも小さい凸部または凹部である。
Next, the second specifying unit 403 specifies a portion having a predetermined shape included in the specified shape.
The predetermined shape portion is, for example, a predetermined convex portion or a concave portion. Here, an example of a convex part in which the direction of the shape of the specified element 102 is horizontal and an example of a concave part in which the direction of the shape of the specified element 102 is vertical are shown. The direction of the shape of the element 102 may be specified by the user, for example, or may be determined in advance as being aligned in either the horizontal or vertical direction. The predetermined convex portion or concave portion is, for example, a convex portion or concave portion that is smaller than a threshold value.

図7は、向きが水平な凸部の削除例(その1)を示す説明図である。水平な凸部を含む要素102例を示す。格子数は、Xが7であり、Yが6である。セル数は30である。探索開始点をセルc1の左下の格子点とする。ここでは、閾値を2とする。閾値については、例えば、部品や基板のホールなどのサイズに応じて利用者が決定する。   FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example (part 1) of deleting a convex portion whose orientation is horizontal. An example of an element 102 including a horizontal protrusion is shown. As for the number of lattices, X is 7 and Y is 6. The number of cells is 30. Let the search start point be the lower left lattice point of the cell c1. Here, the threshold value is 2. About a threshold value, a user determines according to sizes, such as a hole of a component or a board | substrate, for example.

図7(1)に示すように、第1特定部402は、探索開始点を決定し、探索開始点を最初の起点にする。つぎに、第1特定部402は、探索方向を決定する。第1特定部402は、起点から探索方向に輪郭を形成する格子点を探索する。輪郭を形成するセルは、前景のセルであって、かつ背景に接するセルである。そのため、輪郭を形成する格子点とは、前景のセルの4つの頂点を形成する格子点であり、かつ背景のセルの4つの頂点を形成する格子点である。   As illustrated in FIG. 7A, the first specifying unit 402 determines a search start point and sets the search start point as the first start point. Next, the 1st specific | specification part 402 determines a search direction. The first specifying unit 402 searches for lattice points that form a contour in the search direction from the starting point. The cell forming the contour is a cell in the foreground and in contact with the background. Therefore, the grid points that form the outline are the grid points that form the four vertices of the foreground cell and the grid points that form the four vertices of the background cell.

探索中に、第1特定部402は、折れ曲がり点を検出する。折れ曲がり点とは、輪郭を形成する格子点であり、その格子点から探索方向にあるつぎの格子点によって形成されるセルがすべて背景のセルである格子点である。そして、第1特定部402は、折れ曲がり点を対象点として、起点から対象点までのX軸とY軸との少なくともいずれかの移動量が閾値以上である場合に、対象点を新たな起点にする。   During the search, the first specifying unit 402 detects a bending point. The bending point is a lattice point that forms an outline, and the cells formed by the next lattice point in the search direction from the lattice point are all background cells. Then, the first specifying unit 402 sets the target point as a new starting point when the amount of movement of at least one of the X-axis and the Y-axis from the starting point to the target point is equal to or greater than the threshold with the bending point as the target point. To do.

そして、図7(2)に示すように、第1特定部402は、対象点をあらたな起点として、つぎの探索方向を決定する。起点は1の格子点である。   Then, as illustrated in FIG. 7B, the first specifying unit 402 determines the next search direction with the target point as a new starting point. The starting point is one grid point.

図8は、つぎの探索方向の決定方法例を示す説明図である。まず、探索するセルの移動方向と移動量の関係を表に示す。例えば、Y軸のマイナス方向は方向0であり、X軸のプラス方向は方向1であり、Y軸のプラス方向は方向2であり、X軸のマイナス方向は方向3である。   FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating an example of a method for determining the next search direction. First, the relationship between the moving direction and the moving amount of the cell to be searched is shown in the table. For example, the negative direction of the Y axis is direction 0, the positive direction of the X axis is direction 1, the positive direction of the Y axis is direction 2, and the negative direction of the X axis is direction 3.

方向0に移動した場合、X軸方向の移動量は0であり、Y軸方向の移動量は−1である。方向1に移動した場合、X軸方向の移動量は1であり、Y軸方向の移動量は0である。方向2に移動した場合、X軸方向の移動量は0であり、Y軸方向の移動量は1である。方向3に移動した場合、X軸方向の移動量は−1であり、Y軸方向の移動量は0である。   When moving in the direction 0, the movement amount in the X-axis direction is 0, and the movement amount in the Y-axis direction is -1. When moving in the direction 1, the movement amount in the X-axis direction is 1, and the movement amount in the Y-axis direction is 0. When moving in the direction 2, the movement amount in the X-axis direction is 0, and the movement amount in the Y-axis direction is 1. When moving in the direction 3, the amount of movement in the X-axis direction is -1, and the amount of movement in the Y-axis direction is zero.

直前の探索方向に対して、つぎの探索するセルの方向に関する優先順位を表に示す。表には、現在の起点からの探索回数と、直前の探索方向と、に対応する優先順位を示す。表によれば、逆行の探索方向が最後になるように、順につぎの探索方向となる。また、第2特定部403は、つぎの探索方向を例えば、以下の式(1)を用いて決定する。   The priorities regarding the direction of the next cell to be searched are shown in the table with respect to the previous search direction. The table shows priorities corresponding to the number of searches from the current starting point and the immediately preceding search direction. According to the table, the next search direction is in turn so that the reverse search direction is last. The second specifying unit 403 determines the next search direction using, for example, the following formula (1).

つぎの探索方向=((探索回数+直前の探索方向−1)+4)%4・・・(1)   Next search direction = ((number of searches + previous search direction−1) +4)% 4 (1)

図7(2)の説明に戻って、第2特定部403は、例えば、直前の探索方向と、探索回数と、に基づきつぎの探索方向を決定する。例えば、探索回数は0であり、直前の探索方向が方向1であるため、第2特定部403は、つぎの探索方向を方向0に決定する。   Returning to the description of FIG. 7B, the second specifying unit 403 determines the next search direction based on the immediately preceding search direction and the number of searches, for example. For example, since the number of searches is 0 and the previous search direction is direction 1, the second specifying unit 403 determines the next search direction as direction 0.

第2特定部403は、方向0にはセルがないため、探索回数をカウントアップしてつぎの探索方向を決定する。例えば、探索回数は1であり、直前の探索方向が方向1であるため、第2特定部403は、つぎの探索方向を方向1にする。起点1から方向1にある格子点は、背景のセルを形成する格子点であるため、要素102を含むセルの形状における輪郭を形成する格子点でないため、第2特定部403は、探索回数をカウントアップしてつぎの探索方向を決定する。   Since there is no cell in direction 0, second specifying unit 403 counts up the number of searches to determine the next search direction. For example, since the number of searches is 1, and the immediately preceding search direction is direction 1, the second specifying unit 403 sets the next search direction as direction 1. Since the grid point in the direction 1 from the starting point 1 is a grid point that forms the background cell, it is not a grid point that forms an outline in the shape of the cell including the element 102. Therefore, the second specifying unit 403 determines the number of searches. Count up to determine the next search direction.

例えば、探索回数は2であり、直前の探索方向が方向1であるため、第2特定部403は、つぎの探索方向を方向2にする。起点1から方向2にある格子点は、輪郭を形成する格子点である。そして、第2特定部403は、起点1から決定した探索方向に輪郭を形成する格子点を探索して折れ曲がり点を検出する。起点1から方向2にあるセルc3の右上の格子点は折れ曲がり点である。そして、第2特定部403は、折れ曲がり点を対象点2として起点からの移動量を特定する。対象点2の移動量は、「X方向:0、Y方向:1」である。そのため、第2特定部403は、対象点2の移動量が閾値以上でないと判断する。そして、第2特定部403は、新たに対象点2から探索方向を決定して、要素102を含むセルの形状における輪郭を形成する格子点を探索する。   For example, since the number of searches is 2, and the immediately preceding search direction is direction 1, the second specifying unit 403 sets the next search direction to direction 2. The lattice points in the direction 2 from the starting point 1 are lattice points that form a contour. Then, the second specifying unit 403 searches for a lattice point that forms an outline in the search direction determined from the starting point 1 and detects a bending point. The lattice point on the upper right of the cell c3 in the direction 2 from the starting point 1 is a bending point. Then, the second specifying unit 403 specifies the amount of movement from the starting point with the bending point as the target point 2. The movement amount of the target point 2 is “X direction: 0, Y direction: 1”. Therefore, the second specifying unit 403 determines that the movement amount of the target point 2 is not greater than or equal to the threshold value. Then, the second specifying unit 403 newly determines a search direction from the target point 2 and searches for a lattice point that forms a contour in the shape of the cell including the element 102.

そして、第2特定部403は、探索中に、折れ曲がり点があれば、折れ曲がり点を対象点とする。このようにして、図7(2)に示すように、対象点3と対象点4とが探索される。起点1から対象点3までの移動量は、「X:1、Y:1」であり、対象点4の移動量は、「X:1、Y:2」である。   Then, if there is a turning point during the search, the second specifying unit 403 sets the turning point as a target point. In this way, the target point 3 and the target point 4 are searched as shown in FIG. The movement amount from the starting point 1 to the target point 3 is “X: 1, Y: 1”, and the movement amount of the target point 4 is “X: 1, Y: 2”.

図9は、向きが水平な凸部の削除例(その2)を示す説明図である。図9(1)に示すように、第2特定部403は、対象点4において、X軸方向またはY軸方向の少なくともいずれかの移動量の絶対値が閾値である2以上であるため、対象点4を新たな起点1とする。   FIG. 9 is an explanatory diagram of an example (part 2) of deleting a convex portion whose orientation is horizontal. As shown in FIG. 9 (1), the second specifying unit 403 determines the target point 4 because the absolute value of the movement amount in at least one of the X-axis direction and the Y-axis direction is two or more which is a threshold value. Point 4 is set as a new starting point 1.

そして、図9(2)に示すように、第2特定部403は、起点1から探索方向を決定して要素102を含む複数のセルの形状における輪郭を形成する格子点を探索する。第2特定部403は、折れ曲がり点を対象点として検出する。そして、第2特定部403は、起点1から対象点までの移動量を特定し、移動量がX軸方向またはY軸方向の少なくともいずれかの移動量の絶対値が閾値以上であるか否かを判断する。ここでは、対象点2の移動量が「X:1、Y:0」であり、対象点3の移動量が「X:1、Y:1」であり、対象点4の移動量が「X:0、Y:1」である。   Then, as illustrated in FIG. 9B, the second specifying unit 403 determines a search direction from the starting point 1 and searches for lattice points that form contours in the shapes of a plurality of cells including the element 102. The 2nd specific | specification part 403 detects a bending point as an object point. Then, the second specifying unit 403 specifies the movement amount from the starting point 1 to the target point, and whether or not the absolute value of the movement amount of at least one of the movement amount in the X-axis direction or the Y-axis direction is equal to or greater than a threshold value. Judging. Here, the movement amount of the target point 2 is “X: 1, Y: 0”, the movement amount of the target point 3 is “X: 1, Y: 1”, and the movement amount of the target point 4 is “X”. : 0, Y: 1 ”.

また、第2特定部403は、移動量の絶対値が閾値以上でないと判断された場合に、凹凸の向きについての移動量が0に戻ったか否かを判断する。ここでは、凹凸の向きがX軸方向であるため、X軸方向においての移動量が起点から対象点4までの間に0に戻る。0に戻った場合、第2特定部403は、起点から対象点までの間を凹凸部として検出する。ここでは、1〜4までの格子点を頂点として含むセルはセルc17であるため、第2特定部403は、セルc17を凹凸部として特定する。   In addition, when it is determined that the absolute value of the movement amount is not equal to or greater than the threshold, the second specifying unit 403 determines whether or not the movement amount regarding the direction of the unevenness has returned to zero. Here, since the direction of the unevenness is the X-axis direction, the movement amount in the X-axis direction returns to 0 between the starting point and the target point 4. When it returns to 0, the 2nd specific | specification part 403 detects between a starting point and a target point as an uneven | corrugated | grooved part. Here, since the cell including the lattice points 1 to 4 as vertices is the cell c17, the second specifying unit 403 specifies the cell c17 as the uneven portion.

第2生成部404は、第1生成部401によって生成された第1セル情報103が示す要素102の形状から第2特定部403によって特定された凸部または凹部を削除した形状に基づいて解析領域101を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報104を生成する。具体的に、第2生成部404は、例えば、第1セル情報103において、特定された凸部または凹部についてのセルが前景であれば背景に変更し、背景であれば前景に変更する。具体的に、第2生成部404は、例えば、特定された凸部または凹部についてのセルが前景であれば背景に変更し、背景であれば前景に変更する。図9(3)に示すように、第2生成部404は、セルc17を前景から背景に変更する。   The second generation unit 404 analyzes the analysis region based on the shape obtained by deleting the convex portion or the concave portion specified by the second specification unit 403 from the shape of the element 102 indicated by the first cell information 103 generated by the first generation unit 401. Second cell information 104 indicating a plurality of cells obtained by dividing 101 into a plurality of cells is generated. Specifically, for example, in the first cell information 103, the second generation unit 404 changes to the background if the cell for the specified convex portion or concave portion is the foreground, and changes to the foreground if it is the background. Specifically, for example, the second generation unit 404 changes the background to the foreground if the cell for the specified convex or concave portion is the foreground, and changes to the foreground if the cell is the background. As shown in FIG. 9 (3), the second generation unit 404 changes the cell c17 from the foreground to the background.

そして、具体的に、第2生成部404は、解析対象の要素102の形状が変化しないように格子点を抜いた後の複数のセルを示す第2セル情報104を生成する。格子点を抜くとは、例えば、セルの有無が同一の連続する複数のセルを1つのセルにマージすることである。例えば、第2生成部404は、第1セル情報103に基づいて、要素102の外形を表すセルcのX軸およびY軸の延長上にあるセルcを境目として、セルの有無が同一の連続するセルcを1つのセルにマージした第2セル情報104を生成する。   Specifically, the second generation unit 404 generates the second cell information 104 indicating a plurality of cells after removing the lattice points so that the shape of the analysis target element 102 does not change. To remove a grid point is, for example, to merge a plurality of consecutive cells having the same presence or absence of cells into one cell. For example, based on the first cell information 103, the second generation unit 404 uses the cell c on the extension of the X axis and Y axis of the cell c representing the outer shape of the element 102 as a boundary and has the same presence or absence of cells. The second cell information 104 is generated by merging the cell c to be merged into one cell.

図10は、凸部の削除例についてセルの減少例を示す説明図である。例えば、セルc17が前景から背景になると、X軸方向の格子が1つ減る。これにより、例えば、セルc5とセルc6とがセルc5になり、セルc11とセルc12とがセルc11になり、セルc17とセルc18とがセルc17になり、セルc23とセルc24とがセルc23になり、セルc29とセルc30とがセルc29になる。   FIG. 10 is an explanatory diagram showing an example of cell reduction for an example of convex portion deletion. For example, when the cell c17 changes from the foreground to the background, the grid in the X-axis direction is reduced by one. Thereby, for example, cell c5 and cell c6 become cell c5, cell c11 and cell c12 become cell c11, cell c17 and cell c18 become cell c17, and cell c23 and cell c24 become cell c23. And cell c29 and cell c30 become cell c29.

つぎに、凹凸の向きが垂直な凹部の削除例について説明する。凹凸の向きが垂直であるとは、ここではY軸方向であることを示す。各部の処理については、凸部の削除例と同じであるため、ここでは簡単に説明する。   Next, a description will be given of an example of deleting a concave portion in which the direction of the unevenness is vertical. Here, the direction of the unevenness is perpendicular to the Y-axis direction. Since the processing of each part is the same as the example of deleting the convex part, it will be briefly described here.

第1生成部401は、上述したように、シミュレーション空間における解析領域101に配置される要素102の形状に基づいて解析領域101を複数に分割した複数のセルを示す第1セル情報103を生成する。そして、第1特定部402は、上述したように、生成された第1セル情報103が示す複数のセルのうち、要素102に対応する複数のセルにより形成される形状を特定する。   As described above, the first generation unit 401 generates the first cell information 103 indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region 101 into a plurality based on the shape of the element 102 arranged in the analysis region 101 in the simulation space. . Then, as described above, the first specifying unit 402 specifies a shape formed by a plurality of cells corresponding to the element 102 among the plurality of cells indicated by the generated first cell information 103.

図11は、向きが垂直な凹部の削除例を示す説明図である。ここでは、閾値が2である場合を例に挙げる。図11(1)に示すように、第2特定部403は、探索開始点を起点にして起点から決定した探索方向に順に輪郭を形成する格子点を探索する。ここでは、第2特定部403は、起点からセルc6の右下の格子点までを探索する。   FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating an example of deleting a concave portion whose direction is vertical. Here, a case where the threshold value is 2 is taken as an example. As shown in FIG. 11 (1), the second specifying unit 403 searches for lattice points that form contours in order in the search direction determined from the search start point as the start point. Here, the second specifying unit 403 searches from the starting point to the lower right lattice point of the cell c6.

セルc6の右下の格子点が折れ曲がり点であるため、第2特定部403は、セルc6の右下の格子点を対象点とする。起点から対象点までのX軸方向の移動量の絶対値が閾値以上であるため、第2特定部403は、対象点を新たな起点として探索方向を決定する。探索方向の決定方法は、図8に示した例と同じであるため、詳細な説明を省略する。   Since the lower right lattice point of the cell c6 is a bending point, the second specifying unit 403 sets the lower right lattice point of the cell c6 as a target point. Since the absolute value of the movement amount in the X-axis direction from the starting point to the target point is equal to or greater than the threshold value, the second specifying unit 403 determines the search direction using the target point as a new starting point. Since the search direction determination method is the same as the example shown in FIG. 8, detailed description thereof is omitted.

図11(1)に示すように、第2特定部403は、セルc6の右下の格子点である起点から、探索方向に順に輪郭を形成する格子点を探索する。第2特定部403は、起点から折れ曲がり点であるセルc24の右上の格子点を対象点として検出する。つぎに、第2特定部403は、起点から対象点までのY軸方向の移動量の絶対値が閾値以上であると判断する。   As illustrated in FIG. 11A, the second specifying unit 403 searches for lattice points that form contours in order in the search direction from the starting point which is the lower right lattice point of the cell c6. The second specifying unit 403 detects the upper right lattice point of the cell c24 that is a turning point from the starting point as a target point. Next, the second specifying unit 403 determines that the absolute value of the amount of movement in the Y-axis direction from the starting point to the target point is greater than or equal to the threshold value.

そして、第2特定部403は、セルc24の右上の格子点を新たな起点として探索方向を決定する。第2特定部403は、セルc24の右上の格子点である起点から探索方向に順に輪郭を形成する格子点を探索する。第2特定部403は、起点から折れ曲がり点であるセルc22の右上の格子点を対象点として検出する。第2特定部403は、起点から対象点までのX軸方向の移動量の絶対値が閾値以上であるため、対象点であるセルc22の右上の格子点を新たに起点とする。   Then, the second specifying unit 403 determines the search direction using the upper right grid point of the cell c24 as a new starting point. The second specifying unit 403 searches for lattice points that form an outline in the search direction from the starting point which is the upper right lattice point of the cell c24. The second specifying unit 403 detects the upper right lattice point of the cell c22 that is a turning point from the starting point as a target point. Since the absolute value of the amount of movement in the X-axis direction from the starting point to the target point is equal to or greater than the threshold value, the second specifying unit 403 newly sets the upper right lattice point of the cell c22 that is the target point.

ここでは、セルc22の右上の格子点である起点を起点1とする。そして、第2特定部403は、セルc22の右上の格子点である起点1から探索方向に順に輪郭を形成する格子点を探索する。第2特定部403は、起点1から折れ曲がり点であるセルc22の右下の格子点を対象点2として検出する。そして、第2特定部403は、起点1から対象点2までのX軸方向およびY軸方向の移動量の絶対値がいずれも閾値以上でないため、対象点2からあらたに探索方向を決定して輪郭を形成する格子点を探索する。そして、第2特定部403は、あらたな折れ曲がり点であるセルc22の左下の格子点を対象点3として検出する。第2特定部403は、起点1から対象点3までのX軸方向およびY軸方向の移動量の絶対値がいずれも閾値以上でないため、対象点3からあらたに探索方向を決定して輪郭を形成する格子点を探索する。   Here, the starting point which is the upper right lattice point of the cell c22 is set as the starting point 1. Then, the second specifying unit 403 searches for lattice points that form contours in order in the search direction from the starting point 1 that is the upper right lattice point of the cell c22. The second specifying unit 403 detects the lower right lattice point of the cell c22 that is a turning point from the starting point 1 as the target point 2. Then, the second specifying unit 403 newly determines the search direction from the target point 2 because the absolute values of the movement amounts in the X-axis direction and the Y-axis direction from the starting point 1 to the target point 2 are not more than the threshold value. Search for lattice points that form a contour. Then, the second specifying unit 403 detects the lower left lattice point of the cell c22 that is a new bending point as the target point 3. Since the absolute values of the movement amounts in the X-axis direction and the Y-axis direction from the starting point 1 to the target point 3 are not equal to or greater than the threshold value, the second specifying unit 403 newly determines the search direction from the target point 3 and defines the contour. Search for lattice points to be formed.

第2特定部403は、あらたな折れ曲がり点であるセルc22の左上の格子点を対象点4として検出する。第2特定部403は、起点1から対象点4までのX軸方向およびY軸方向の移動量の絶対値がいずれも閾値以上でないと判断する。そして、第2特定部403は、起点1から対象点4までの間に凹凸の向きであるY軸方向において、対象点2からあらたに探索方向を決定し、決定した探索方向に輪郭を形成する格子点を探索する。   The second specifying unit 403 detects the upper left lattice point of the cell c22 which is a new bending point as the target point 4. The second specifying unit 403 determines that the absolute values of the movement amounts in the X-axis direction and the Y-axis direction from the starting point 1 to the target point 4 are not more than a threshold value. Then, the second specifying unit 403 newly determines the search direction from the target point 2 in the Y-axis direction, which is the direction of unevenness between the starting point 1 and the target point 4, and forms a contour in the determined search direction. Search for grid points.

第2特定部403は、起点1から対象点4までの間に、凹凸の向きであるY軸方向において移動量が0に戻ったため、起点1から対象点4までを凹凸部として検出する。   The second specifying unit 403 detects from the starting point 1 to the target point 4 as an uneven portion since the movement amount has returned to 0 in the Y-axis direction that is the direction of the unevenness from the starting point 1 to the target point 4.

第2生成部404は、第1生成部401によって生成された第1セル情報103が示す要素102の形状から、第2特定部403によって特定された凹凸部を削除した形状に基づいて解析領域101を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報104を生成する。具体的に、第2生成部404は、例えば、第1セル情報103において、特定された凸部または凹部についてのセルが前景であれば背景に変更し、背景であれば前景に変更する。図11(2)に示すように、第2生成部404は、セルc22を背景から前景に変更する。これにより、第1生成部401によって生成された第1セル情報103が示す要素102の形状から第2特定部403によって特定された凹凸部を削除した形状が特定される。   The second generation unit 404 analyzes the analysis region 101 based on the shape obtained by deleting the uneven portion specified by the second specification unit 403 from the shape of the element 102 indicated by the first cell information 103 generated by the first generation unit 401. 2nd cell information 104 indicating a plurality of cells divided into a plurality of cells is generated. Specifically, for example, in the first cell information 103, the second generation unit 404 changes to the background if the cell for the specified convex portion or concave portion is the foreground, and changes to the foreground if it is the background. As illustrated in FIG. 11B, the second generation unit 404 changes the cell c22 from the background to the foreground. As a result, a shape obtained by deleting the uneven portion specified by the second specifying unit 403 from the shape of the element 102 indicated by the first cell information 103 generated by the first generating unit 401 is specified.

図12は、凹部の削除例についてセルの減少例を示す説明図である。第2生成部404は、例えば、解析対象の要素102の形状が変化しないように格子点を抜いた後の複数のセルを示す第2セル情報104を生成する。   FIG. 12 is an explanatory diagram showing an example of cell reduction with respect to an example of deleting a recess. For example, the second generation unit 404 generates the second cell information 104 indicating a plurality of cells after removing lattice points so that the shape of the analysis target element 102 does not change.

図12の例では、セルc7からセルc12と、セルc13からセルc18と、の間にあった格子が無くなる。そのため、セルc7とセルc13とが一つのセルc7になり、セルc8とセルc14とが一つのセルc8になり、セルc9とセルc15とが一つのセルc9になる。そして、セルc10とセルc16とが一つのセルc10になり、セルc11とセルc17とが一つのセルc11になり、セルc12とセルc18とが一つのセルc12になる。   In the example of FIG. 12, the lattices between the cells c7 to c12 and the cells c13 to c18 are eliminated. Therefore, the cell c7 and the cell c13 become one cell c7, the cell c8 and the cell c14 become one cell c8, and the cell c9 and the cell c15 become one cell c9. Then, the cell c10 and the cell c16 become one cell c10, the cell c11 and the cell c17 become one cell c11, and the cell c12 and the cell c18 become one cell c12.

(解析装置100による解析処理手順例)
図13は、解析装置による解析処理手順例を示すフローチャートである。解析装置100は、解析領域101を複数のセルに分割して第1セル情報103を生成する(ステップS1301)。つぎに、解析装置100は、複数のセルの各々について、要素102の有無に基づき前景と背景とを特定する(ステップS1302)。そして、解析装置100は、処理対象の要素102を決定する(ステップS1303)。
(Example of analysis processing procedure by analysis apparatus 100)
FIG. 13 is a flowchart illustrating an example of an analysis processing procedure performed by the analysis apparatus. The analysis apparatus 100 divides the analysis area 101 into a plurality of cells and generates first cell information 103 (step S1301). Next, the analysis apparatus 100 specifies the foreground and the background for each of the plurality of cells based on the presence / absence of the element 102 (step S1302). Then, the analysis apparatus 100 determines the processing target element 102 (step S1303).

つぎに、解析装置100は、凹凸削除処理を行う(ステップS1304)。そして、解析装置100は、未処理の要素102があるか否かを判断する(ステップS1305)。未処理の要素102があると判断された場合(ステップS1305:Yes)、解析装置100は、ステップS1303へ戻る。   Next, the analysis apparatus 100 performs an unevenness deletion process (step S1304). The analysis apparatus 100 determines whether there is an unprocessed element 102 (step S1305). When it is determined that there is an unprocessed element 102 (step S1305: Yes), the analysis apparatus 100 returns to step S1303.

未処理の要素102がないと判断された場合(ステップS1305:No)、解析装置100は、変更後の第1セル情報103に基づいて、格子を調整して第2セル情報104を生成し(ステップS1306)、一連の処理を終了する。   When it is determined that there is no unprocessed element 102 (step S1305: No), the analysis apparatus 100 generates the second cell information 104 by adjusting the lattice based on the changed first cell information 103 ( In step S1306), a series of processing ends.

図14は、図13で示した凹凸削除処理(ステップS1304)の詳細な説明を示すフローチャートである。まず、解析装置100は、処理対象の要素102についての凹凸の向きの入力を受け付ける(ステップS1401)。つぎに、解析装置100は、要素102の輪郭を形成する前景のセルに含まれる格子点から探索開始点を決定する(ステップS1402)。要素102の輪郭とは、要素102を含む複数のセルの形状における輪郭である。そして、解析装置100は、探索方向を決定する(ステップS1403)。   FIG. 14 is a flowchart showing a detailed description of the unevenness deletion process (step S1304) shown in FIG. First, the analysis apparatus 100 accepts an input of the direction of unevenness for the processing target element 102 (step S1401). Next, the analysis apparatus 100 determines a search start point from the grid points included in the foreground cell forming the contour of the element 102 (step S1402). The outline of the element 102 is an outline in the shape of a plurality of cells including the element 102. Then, the analysis device 100 determines a search direction (step S1403).

つぎに、解析装置100は、起点または直前の折れ曲がり点から探索方向に輪郭を形成する格子点を追跡してつぎの折れ曲がり点を対象点に検出する(ステップS1404)。そして、解析装置100は、起点から対象点までの移動量の絶対値が閾値以上であるか否かを判断する(ステップS1405)。ステップS1405では、具体的に、解析装置100は、起点から対象点までのX軸方向の移動量の絶対値と起点から対象点までのX軸方向の移動量の絶対値とのうちの少なくともいずれかの値が閾値以上であるか否かを判断する。   Next, the analysis apparatus 100 tracks a lattice point that forms a contour in the search direction from the starting point or the previous bending point, and detects the next bending point as a target point (step S1404). Then, the analysis apparatus 100 determines whether or not the absolute value of the movement amount from the starting point to the target point is greater than or equal to a threshold value (step S1405). In step S1405, the analysis apparatus 100 specifically includes at least one of the absolute value of the movement amount in the X-axis direction from the starting point to the target point and the absolute value of the movement amount in the X-axis direction from the starting point to the target point. It is determined whether or not the value is greater than or equal to a threshold value.

閾値以上であると判断された場合(ステップS1405:Yes)、解析装置100は、対象点を起点に決定する(ステップS1407)。そして、解析装置100は、つぎの探索方向を決定し(ステップS1408)、ステップS1404へ戻る。   When it is determined that the value is equal to or greater than the threshold (step S1405: Yes), the analysis apparatus 100 determines the target point as a starting point (step S1407). Then, the analysis apparatus 100 determines the next search direction (step S1408) and returns to step S1404.

一方、閾値以上でないと判断された場合(ステップS1405:No)、解析装置100は、入力を受け付けた凹凸の向きについての移動量が0に戻ったか否かを判断する(ステップS1406)。移動量が0に戻っていないと判断された場合(ステップS1406:No)、解析装置100は、ステップS1408へ移行する。   On the other hand, when it is determined that the value is not equal to or greater than the threshold value (step S1405: No), the analysis apparatus 100 determines whether or not the movement amount with respect to the direction of the unevenness that has received the input has returned to 0 (step S1406). If it is determined that the movement amount has not returned to 0 (step S1406: No), the analysis apparatus 100 proceeds to step S1408.

移動量が0に戻ったと判断された場合(ステップS1406:Yes)、解析装置100は、起点から対象点までを含むセルについての前景と背景を変更する(ステップS1409)。ステップS1409において起点から対象点までが、凹部または凸部である。解析装置100は、探索開始点まで探索したか否かを判断する(ステップS1410)。   When it is determined that the amount of movement has returned to 0 (step S1406: Yes), the analysis apparatus 100 changes the foreground and background of the cell including the starting point to the target point (step S1409). In step S1409, the portion from the starting point to the target point is a concave portion or a convex portion. The analysis apparatus 100 determines whether the search has been performed up to the search start point (step S1410).

探索開始点まで探索していないと判断された場合(ステップS1410:No)、解析装置100は、ステップS1407へ戻る。探索開始点まで探索したと判断された場合(ステップS1410:Yes)、解析装置100は、一連の処理を終了する。   If it is determined that the search has not been made to the search start point (step S1410: No), the analysis apparatus 100 returns to step S1407. When it is determined that the search has been performed up to the search start point (step S1410: Yes), the analysis apparatus 100 ends the series of processes.

以上説明したように、解析装置は、解析領域を分割した複数のセルのうち、該領域に配置される要素を含む複数のセルにより形成される形状から凸部または凹部が削除された形状に基づき該領域を複数のセルに分割する。これにより、セルの数の低減を図ることができる。電磁界解析のようにセルごとに物理量を算出する解析の場合、セルの数が多いほど解析にかかる時間が長くなるため、セルの数を低減させることにより解析にかかる時間の低減を図ることができる。   As described above, the analysis device is based on a shape in which a convex portion or a concave portion is deleted from a shape formed by a plurality of cells including elements arranged in the analysis region among the plurality of cells obtained by dividing the analysis region. The area is divided into a plurality of cells. Thereby, the number of cells can be reduced. In the case of an analysis that calculates a physical quantity for each cell as in an electromagnetic field analysis, the time required for the analysis increases as the number of cells increases. Therefore, the time required for the analysis can be reduced by reducing the number of cells. it can.

また、所定の凸部または凹部は、閾値よりも小さいサイズである。これにより、微少な凸部または凹部を削除することができる。   Further, the predetermined convex portion or concave portion has a size smaller than the threshold value. Thereby, a minute convex part or a recessed part can be deleted.

また、要素が基板を有する場合に、所定の凸部または凹部は基板に含まれるホールの幅よりも小さい。基板に含まれるホールより大きい凸部や凹部は、実際の基板でも生じるものであるため、無視できない。一方、基板に含まれるホールよりも小さい凸部や凹部は、実際の基板では生じない場合が多く、また解析精度に与える影響も少ない場合がある。そのため、基板における微少な凸部または凹部を削除することができ、セルの数の減少を図ることができる。   Further, when the element has a substrate, the predetermined convex portion or the concave portion is smaller than the width of the hole included in the substrate. Projections and recesses larger than the holes included in the substrate are also generated in an actual substrate and cannot be ignored. On the other hand, convex portions and concave portions smaller than the holes included in the substrate often do not occur in an actual substrate, and may have little influence on analysis accuracy. Therefore, minute convex portions or concave portions on the substrate can be deleted, and the number of cells can be reduced.

また、要素を含む複数のセルは、要素を所定の割合以上含む複数のセルである。これにより、複数のセルによって要素の形状をより精度よく再現することができる。   Further, the plurality of cells including the elements are a plurality of cells including the elements in a predetermined ratio or more. Thereby, the shape of an element can be reproduced more accurately by a plurality of cells.

なお、本実施の形態で説明した解析方法は、予め用意された解析プログラムをパーソナル・コンピュータやワークステーション等のコンピュータで実行することにより実現することができる。本解析プログラムは、磁気ディスク、光ディスク、USB(Universal Serial Bus)フラッシュメモリなどのコンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録され、コンピュータによって記録媒体から読み出されることによって実行される。また、解析プログラムは、インターネット等のネットワーク310を介して配布してもよい。   Note that the analysis method described in the present embodiment can be realized by executing a prepared analysis program on a computer such as a personal computer or a workstation. This analysis program is recorded on a computer-readable recording medium such as a magnetic disk, an optical disk, or a USB (Universal Serial Bus) flash memory, and is executed by being read from the recording medium by the computer. The analysis program may be distributed via a network 310 such as the Internet.

上述した実施の形態に関し、さらに以下の付記を開示する。   The following additional notes are disclosed with respect to the embodiment described above.

(付記1)コンピュータが、
シミュレーション空間における解析領域に配置される要素の形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第1セル情報を生成し、
生成した前記第1セル情報が示す前記複数のセルのうち、前記要素を含む複数のセルにより形成される形状を特定し、
特定した前記形状に含まれる所定の形状の部分を特定し、
特定した前記形状から、特定した前記部分が削除された形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報を生成する、
処理を実行することを特徴とする解析方法。
(Supplementary note 1)
Generating first cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality based on the shape of an element arranged in the analysis region in the simulation space;
Among the plurality of cells indicated by the generated first cell information, a shape formed by a plurality of cells including the element is specified,
Identify the part of the predetermined shape included in the identified shape,
Generating second cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality of shapes based on the shape from which the specified portion is deleted from the specified shape;
An analysis method characterized by executing processing.

(付記2)前記所定の形状の部分は、所定の凸部または凹部であることを特徴とする付記1に記載の解析方法。 (Additional remark 2) The analysis method of Additional remark 1 characterized by the said predetermined-shaped part being a predetermined convex part or a recessed part.

(付記3)前記所定の凸部または凹部は、閾値よりも小さいことを特徴とする付記2に記載の解析方法。 (Additional remark 3) The said predetermined convex part or recessed part is smaller than a threshold value, The analysis method of Additional remark 2 characterized by the above-mentioned.

(付記4)前記要素が基板を有する場合に、前記閾値は、前記基板に含まれるホールの幅に基づく値であることを特徴とする付記3に記載の解析方法。 (Additional remark 4) When the said element has a board | substrate, the said threshold value is a value based on the width | variety of the hole contained in the said board | substrate, The analysis method of Additional remark 3 characterized by the above-mentioned.

(付記5)前記要素を含む前記複数のセルは、生成した前記第1セル情報が示す前記複数のセルのうち、前記要素を所定割合以上含むセルであることを特徴とする付記1〜4のいずれか一つに記載の解析方法。 (Supplementary note 5) The supplementary notes 1 to 4, wherein the plurality of cells including the element are cells including a predetermined ratio or more of the element among the plurality of cells indicated by the generated first cell information. The analysis method as described in any one.

(付記6)コンピュータが、
シミュレーション空間における解析領域に配置される要素の形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第1セル情報を生成し、
生成した前記第1セル情報が示す前記複数のセルのうち、前記要素を含む複数のセルにより形成される形状を特定し、
特定した前記形状に含まれる所定の形状の部分を特定し、
特定した前記形状から、特定した前記部分が削除された形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報を生成する、
処理を実行することを特徴とする解析プログラム。
(Appendix 6)
Generating first cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality based on the shape of an element arranged in the analysis region in the simulation space;
Among the plurality of cells indicated by the generated first cell information, a shape formed by a plurality of cells including the element is specified,
Identify the part of the predetermined shape included in the identified shape,
Generating second cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality of shapes based on the shape from which the specified portion is deleted from the specified shape;
An analysis program characterized by executing processing.

(付記7)シミュレーション空間における解析領域に配置される要素の形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第1セル情報を生成し、生成した前記第1セル情報が示す前記複数のセルのうち、前記要素を含む複数のセルにより形成される形状を特定し、特定した前記形状に含まれる所定の形状の部分を特定し、特定した前記形状から、特定した前記部分が削除された形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報を生成する、
制御部を有することを特徴とする解析装置。
(Supplementary Note 7) First cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality of cells based on the shape of an element arranged in the analysis region in the simulation space is generated, and the generated first cell information indicates Among the plurality of cells, the shape formed by the plurality of cells including the element is specified, the portion of the predetermined shape included in the specified shape is specified, and the specified portion is deleted from the specified shape Generating second cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality based on the formed shape;
An analysis apparatus comprising a control unit.

100 解析装置
101 解析領域
102 要素
103 第1セル情報
104 第2セル情報
401 第1生成部
402 第1特定部
403 第2特定部
404 第2生成部
411 記憶部
500 セル情報
c1〜c36 セル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Analysis apparatus 101 Analysis area | region 102 Element 103 1st cell information 104 2nd cell information 401 1st production | generation part 402 1st specification part 403 2nd specification part 404 2nd generation part 411 Memory | storage part 500 Cell information c1-c36 cell

Claims (3)

コンピュータが、
シミュレーション空間における解析領域に配置され基板を含む要素の形状に基づいて前記解析領域を格子状に分割した複数のセルを示す第1セル情報を生成し、
生成した前記第1セル情報が示す前記複数のセルのうち、前記要素を含む複数のセルにより形成される形状を特定し、
特定した前記形状に含まれる、前記基板に含まれるホールの幅に基づく閾値以上の長さを有する線分を輪郭に含まない凸部、または前記閾値以上の長さを有する線分を輪郭に含まない凹部を特定し、
特定した前記形状から、特定した前記凸部または前記凹部が削除された形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報を生成する、
処理を実行することを特徴とする解析方法。
Computer
Generating first cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a lattice based on the shape of an element including a substrate arranged in the analysis region in the simulation space;
Among the plurality of cells indicated by the generated first cell information, a shape formed by a plurality of cells including the element is specified,
Included in the contour is a convex portion that does not include a line segment having a length equal to or greater than a threshold based on the width of a hole included in the substrate included in the identified shape , or includes a line segment having a length equal to or greater than the threshold value in the contour. Identify no recesses ,
From the identified shape, generate second cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality based on the shape from which the identified convex portion or concave portion is deleted.
An analysis method characterized by executing processing.
コンピュータが、Computer
シミュレーション空間における解析領域に配置され基板を含む要素の形状に基づいて前記解析領域を格子状に分割した複数のセルを示す第1セル情報を生成し、Generating first cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a lattice based on the shape of an element including a substrate arranged in the analysis region in the simulation space;
生成した前記第1セル情報が示す前記複数のセルのうち、前記要素を含む複数のセルにより形成される形状を特定し、Among the plurality of cells indicated by the generated first cell information, a shape formed by a plurality of cells including the element is specified,
特定した前記形状に含まれる、前記基板に含まれるホールの幅に基づく閾値以上の長さを有する線分を輪郭に含まない凸部、または前記閾値以上の長さを有する線分を輪郭に含まない凹部を特定し、Included in the contour is a convex portion that does not include a line segment having a length equal to or greater than a threshold based on the width of a hole included in the substrate included in the identified shape, or includes a line segment having a length equal to or greater than the threshold value in the contour. Identify no recesses,
特定した前記形状から、特定した前記凸部または前記凹部が削除された形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報を生成する、From the identified shape, generate second cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality based on the shape from which the identified convex portion or concave portion is deleted.
処理を実行することを特徴とする解析プログラム。An analysis program characterized by executing processing.
シミュレーション空間における解析領域に配置され基板を含む要素の形状に基づいて前記解析領域を格子状に分割した複数のセルを示す第1セル情報を生成し、生成した前記第1セル情報が示す前記複数のセルのうち、前記要素を含む複数のセルにより形成される形状を特定し、特定した前記形状に含まれる、前記基板に含まれるホールの幅に基づく閾値以上の長さを有する線分を輪郭に含まない凸部、または前記閾値以上の長さを有する線分を輪郭に含まない凹部を特定し、特定した前記形状から、特定した前記凸部または前記凹部が削除された形状に基づいて前記解析領域を複数に分割した複数のセルを示す第2セル情報を生成する、First cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a lattice shape is generated based on the shape of an element including a substrate arranged in the analysis region in the simulation space, and the plurality of the first cell information indicated by the generated first cell information A shape formed by a plurality of cells including the element is specified, and a line segment having a length equal to or greater than a threshold based on the width of a hole included in the substrate is included in the specified shape. A convex portion not included in the contour, or a concave portion that does not include a line segment having a length equal to or longer than the threshold value in the contour, and the specified convex portion or the concave portion is deleted from the identified shape based on the shape Generating second cell information indicating a plurality of cells obtained by dividing the analysis region into a plurality of areas;
制御部を有することを特徴とする解析装置。An analysis apparatus comprising a control unit.
JP2015074409A 2015-03-31 2015-03-31 Analysis method, analysis program, and analysis apparatus Expired - Fee Related JP6554874B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015074409A JP6554874B2 (en) 2015-03-31 2015-03-31 Analysis method, analysis program, and analysis apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015074409A JP6554874B2 (en) 2015-03-31 2015-03-31 Analysis method, analysis program, and analysis apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016194818A JP2016194818A (en) 2016-11-17
JP6554874B2 true JP6554874B2 (en) 2019-08-07

Family

ID=57323688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015074409A Expired - Fee Related JP6554874B2 (en) 2015-03-31 2015-03-31 Analysis method, analysis program, and analysis apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6554874B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023097502A (en) * 2021-12-28 2023-07-10 日本ファブテック株式会社 Model data creation program and analysis system

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4468409B2 (en) * 2007-06-11 2010-05-26 株式会社日立製作所 Analysis mesh generator
JP6040821B2 (en) * 2013-03-22 2016-12-07 富士通株式会社 Analysis model generation program, analysis model generation method, and analysis model generation apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016194818A (en) 2016-11-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101955035B1 (en) Method for designing a geometrical three-dimensional modeled object
CN116432329A (en) Computer-aided generative design with feature thickness control for fabrication and structural performance
CN111199064B (en) Subway track surface three-dimensional center line generation method
KR20150081992A (en) Method for generating template of building component, method for generating primitive, and apparatus for modelling bulding component
JP4893148B2 (en) Shape simplification device and program used therefor
TWI809703B (en) Contour analysis device, processing condition determination system, shape estimation system, semiconductor device manufacturing system, search device and data structure used for them
CN117874966B (en) Automatic parting line generation method, electronic device and computer readable storage medium
Zhang et al. Mesh Mamba: A unified state space model for saliency prediction in non-textured and textured meshes
JP6554874B2 (en) Analysis method, analysis program, and analysis apparatus
JP2010152863A (en) System and method for extracting boundary node, and program
US10331837B1 (en) Device graphics rendering for electronic designs
CN117057296A (en) Method for automatically generating characteristic line width of metal layer
JP2015133051A (en) Substrate analysis program, information processing apparatus, and substrate analysis method
US10083531B2 (en) Physical quantity distribution calculation program, physical quantity distribution calculation method, and information processing apparatus
JP4879163B2 (en) Modeling method and apparatus, program, and storage medium
JP7117177B2 (en) Area identification device and program
Liu et al. Fast and accurate edge extraction algorithm of stacked workpiece point cloud
CN121212063B (en) A method and system for capacitance identification and mesh optimization for simulation of integrated passive devices
CN106228589A (en) Gridding method with direction constraint scatterplot data
TWI749594B (en) Component detecting method
CN121683678B (en) Method, apparatus, computer equipment and storage medium for merging vias in a layout
JP6421447B2 (en) Analysis device, analysis program, and analysis method
JP2003271687A (en) Interference model detection apparatus, method, and storage medium
Zheng et al. Sketching-based skeleton generation
JP2018156145A (en) Contact determination program, contact determination method, and contact determination device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180115

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181113

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181218

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190212

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190611

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190624

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6554874

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees