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JP6560109B2 - Suspended metal mask for printing and manufacturing method thereof - Google Patents
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JP6560109B2 JP2015231315A JP2015231315A JP6560109B2 JP 6560109 B2 JP6560109 B2 JP 6560109B2 JP 2015231315 A JP2015231315 A JP 2015231315A JP 2015231315 A JP2015231315 A JP 2015231315A JP 6560109 B2 JP6560109 B2 JP 6560109B2
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Description

この発明は、印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a suspend metal mask for printing and a method for manufacturing the same.

従来、電鋳により所望の印刷パターンにパターンニングされた多数の開口部を有するマスク基板の片面側に、囲い枠に対して緊張状態で張設した導電性を有するステンレスメッシュを重合密着させてめっきにより一体接合させてなるメッシュ一体型メタルマスクが知られている(例えば、特許文献1参照)。このメッシュ一体型メタルマスクでは、ステンレス製の電鋳母型の表面をそのまま使用しているので、電鋳母型の表面に形成される電着層(マスク基板)は荒らし加工の無い鏡面に近い状態となるため、マスク基板が印刷面に密着し版離れが悪くなる。   Conventionally, a conductive stainless steel mesh stretched in a tensioned state with respect to an enclosure frame is superposed and adhered to one side of a mask substrate having a large number of openings patterned in a desired printing pattern by electroforming. There is known a mesh-integrated metal mask that is integrally bonded to each other (see, for example, Patent Document 1). In this mesh-integrated metal mask, since the surface of the stainless steel electroforming mother mold is used as it is, the electrodeposition layer (mask substrate) formed on the surface of the electroforming mother mold is close to a mirror surface without roughening. As a result, the mask substrate comes into close contact with the printing surface and the separation of the plate becomes worse.

また、他の従来技術として、版枠と、版枠の内側に外周を接着固定して張設され、少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着重合させて接合めっきにより一体接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタル(電着層)とを備えたものにおいて、ベースメタルは、中央部に印刷用開口パターンを形成するとともに、印刷面(基板面側)に印刷時にエアーを逃がすためのエアー抜き用凸部を多数形成したサスペンドメタルマスクが知られている(例えば、特許文献2参照)。
また、他の従来技術として、電解研磨処理で通常用いられる電解研磨液の比重1.7よりも比重が小さい電解研磨液で使用してメタルマスクの作製時に使用する電鋳母型に電解研磨を行うことによって、表面の粗面化したサスペンドメタルマスクが知られている(例えば、特許文献3の請求項3参照)。
As another prior art, a plate frame, a mesh having an outer periphery bonded and fixed to the inside of the plate frame, and having a conductive metal mesh at least in the center, and a metal mesh are closely polymerized. The base metal is integrally bonded by bonding plating and provided with a base metal (electrodeposition layer) provided with a printing opening pattern. The base metal forms a printing opening pattern in the central portion and also has a printed surface (substrate). A suspend metal mask is known in which a large number of air venting convex portions for releasing air during printing are formed on the surface side (see, for example, Patent Document 2).
Further, as another conventional technique, electropolishing is performed on an electroforming mother mold used for producing a metal mask by using an electrolytic polishing liquid having a specific gravity smaller than 1.7 of the specific gravity of an electrolytic polishing liquid normally used in an electrolytic polishing process. A suspended metal mask having a roughened surface is known (see, for example, claim 3 of Patent Document 3).

特開平8−183151号公報JP-A-8-183151 特開2014−138981号公報JP 2014-133891 A 特開2014−133375号公報JP 2014-133375 A

上記他の従来技術のサスペンドメタルマスクにおいては、ベースメタル用SUS母材の表面全体に、電解研磨、化学研磨、ブラスト等で荒らし加工を施すことによりSUS母材表面に微小な凹形状を形成することで、SUS母材の表面に形成されるベースメタルの母材側を印刷体に接する側に使用することで、印刷体に接触する側の全面に微小な凸部が多数形成されているため、印刷時にエアー抜きをすることでカスレを防止することができる。しかし、例えば、タッチパネル用配線パターンに使用されるベースメタルの場合、所望の印刷パターン形状が例えば、幅約50μm以下の複数本の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約50μm以下となるように平行に並べられており、極細細線の先端部は端子用の太線に接続されているので、極細細線と端子用の太線が混在した状態となる。このような場合、ベースメタルの印刷パターン全体に荒らし加工による微小な凸部が多数形成されているため、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生し易くなるという問題が発生する。この問題を解決するために、発明者は、ベースメタルの接合めっき面と反対側の被印刷面は荒らし加工が施されたブラスト加工表面としているが、少なくとも所望の印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分は、荒らし加工がされていない鏡面に近い表面としたものを改良案として提案した。しかし、印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を、荒らし加工がされていない鏡面に近い表面としたものでは、印刷用開口パターンの形成領域における極細細線の形成状況の如何によっては、カスレの発生を防止することができないことがある。   In the other conventional suspend metal masks, the entire surface of the SUS base material for base metal is roughened by electrolytic polishing, chemical polishing, blasting, or the like to form a minute concave shape on the surface of the SUS base material. By using the base metal side of the base metal formed on the surface of the SUS base as the side in contact with the printed body, a large number of minute protrusions are formed on the entire surface in contact with the printed body. Scratching can be prevented by bleeding air during printing. However, for example, in the case of a base metal used for a wiring pattern for a touch panel, the desired printed pattern shape is, for example, a plurality of ultrafine wires having a width of about 50 μm or less, and the interval between the ultrafine wires is about 50 μm or less. Since the end portions of the fine wires are connected to the terminal thick wires, the fine wires and the terminal thick wires are mixed. In such a case, since a large number of minute convex portions by roughening are formed on the entire base metal print pattern, there arises a problem that bleeding is likely to occur in the fine line portion of the print pattern during printing. In order to solve this problem, the inventor considered that the surface to be printed opposite to the base metal bonding plating surface is a blasted surface subjected to roughening, but at least in a region where a desired opening pattern for printing is formed. A proposal has been made as an improved plan in which a portion where a plurality of ultrafine wires are arranged in parallel at equal intervals has a surface close to a mirror surface that is not roughened. However, in the case where the portion in which a plurality of fine fine lines, which are the formation region of the printing opening pattern, are arranged in parallel at equal intervals is a surface close to a mirror surface that is not roughened, the formation region of the printing opening pattern Depending on the state of formation of the ultrafine wire in the case, it may not be possible to prevent the occurrence of blurring.

この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生することがない印刷用サスペンドメタルマスク及びその製造方法を提供するものである。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a suspend metal mask for printing that does not cause bleeding in a fine line portion of a print pattern during printing, and a method for manufacturing the same. .

この発明に係る印刷用サスペンドメタルマスクにおいては、版枠と、版枠の内側に外周が張設されている少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、金属製メッシュに密着した状態で接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルと、を備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクであって、ベースメタルは、印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備え、印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅200μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面であり、第1のブラスト加工表面以外の印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び印刷開口パターン非開口領域部分は、極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面である。 In the suspending metal mask for printing according to the present invention, the plate frame, a mesh having an electrically conductive metal mesh in at least the central portion of which the outer periphery is stretched inside the plate frame, and the metal mesh are in close contact with each other A suspending metal mask for screen printing comprising a base metal bonded in a state and provided with a printing opening pattern, wherein the base metal includes a printing opening pattern forming region portion on which the printing opening pattern is formed; And a printing aperture pattern non-formation region portion in which the printing aperture pattern is not formed, and a part of the printing aperture pattern formation region portion in which the printing aperture pattern is formed has a plurality of ultrafine widths of 200 μm or less This is the first blasted surface that includes portions where fine lines are arranged in parallel at equal intervals, and a large number of convex convex curved ultra-small convex portions are formed. The first balance and printing opening pattern non-opening area portion of the blast printing opening pattern forming region portion printing opening pattern other than the work surface is formed, very large convex curved micro than the convex portion of the fine It is the 2nd blast processing surface in which many convex parts were formed.

また、幅15〜200μm以下の複数本の極細細線を、極細細線相互間の間隔が幅15〜200μm以下となるように平行に並べたものである。   In addition, a plurality of ultrafine wires having a width of 15 to 200 μm or less are arranged in parallel so that an interval between the ultrafine wires is 15 to 200 μm or less.

また、この発明に係る印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法においては、SUS材の表面全体に第1のブラスト加工を施すことにより、凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第1のブラスト加工表面を形成し、SUS材の表面に目隠しのパターンレジスト膜を形成し、目隠しのパターンレジスト膜が形成されたSUS材の上面から第2のブラスト加工を施すことにより、目隠しのパターンレジスト膜で保護されていないSUS材の表面に極微小の凹部よりも大きい微小凹部が多数形成された第2のブラスト加工表面を形成して、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材を作製する工程と、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材を用い、凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第1のブラスト加工表面に、複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含む印刷用開口パターンを形成するためのパターンレジスト膜を形成し、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材の上面からめっき加工を施すことにより、ベースメタルの接合めっき面と反対側の被印刷面は、大きい微小凹部に対応する大きい微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面とし、少なくとも印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分は、極微小凹部に対応する微小凸部よりも小さい凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面としたベースメタルを作製する工程と、を含むものである。   In the method for manufacturing a suspending metal mask for printing according to the present invention, the first blast in which a number of very small concave portions having a concave curved surface are formed by subjecting the entire surface of the SUS material to a first blasting process. By forming a processed surface, forming a blind pattern resist film on the surface of the SUS material, and performing a second blasting process from the upper surface of the SUS material on which the blind pattern resist film is formed, A step of forming a second blasted surface in which a large number of minute recesses larger than very minute recesses are formed on the surface of an unprotected SUS material to produce an SUS base material subjected to two types of blasting In addition, using a SUS base material that has been subjected to two types of blasting, a plurality of ultrafine fine lines are formed on the first blasting surface on which a large number of concave concave-shaped concave portions are formed. By forming a pattern resist film for forming an opening pattern for printing including portions arranged in parallel at equal intervals, and performing plating from the upper surface of the SUS base material subjected to two types of blasting, The surface to be printed opposite to the base metal bonding plating surface is a second blasted surface on which a large number of large convex portions corresponding to the large minute concave portions are formed, and at least a plurality of printing opening pattern forming regions are formed. The portion in which the ultrafine wires are arranged in parallel at equal intervals is a base that is a first blasted surface on which a large number of convex microscopic convex portions smaller than the micro convex portions corresponding to the micro micro concave portions are formed. And a step of producing a metal.

また、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材の第1のブラスト加工表面は、小粒で球状のガラスビーズによる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成され、SUS母材の第2のブラスト加工表面は、大粒で球状のガラスビーズによる極微小の凹部よりも大きい凹曲面状の極微小の凹部が多数形成されており、ベースメタルの第1のブラスト加工表面は、小粒で球状のガラスビーズによる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成され、ベースメタルの第2のブラスト加工表面は、大粒で球状のガラスビーズによる前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の極微小の凸部が多数形成されているものである。   In addition, the first blasting surface of the SUS base material that has been subjected to two types of blasting is formed with a large number of concave concave-shaped concave portions made of small and spherical glass beads, and the second surface of the SUS base material. The blasted surface has a large number of concave concave surfaces that are larger than the extremely small concave portions formed by large and spherical glass beads, and the first blasted surface of the base metal is small and spherical glass. A large number of very small convex portions of convex curved surface formed by beads are formed, and the second blasted surface of the base metal has a very small convex curved surface shape that is larger than the extremely small convex portion of large and spherical glass beads. A large number of convex portions are formed.

また、この発明に係る印刷用メタルマスクにおいては、印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備えたメタルマスクにおいて、印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅200μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面とし、第1のブラスト加工表面以外の印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び印刷開口パターン非開口領域部分は、前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面としたものである。


Further, in the printing metal mask according to the present invention, a metal provided with a printing opening pattern forming region portion where the printing opening pattern is formed and a printing opening pattern non-forming region portion where the printing opening pattern is not formed. In the mask, a part of the printing opening pattern forming region where the printing opening pattern is formed includes a portion in which a plurality of ultrafine lines having a width of 200 μm or less are arranged in parallel at equal intervals, and has a convex curved surface shape. The remaining part of the printing opening pattern forming region portion and the printing opening pattern in which the printing blasting pattern other than the first blasting surface is formed as a first blasting surface on which a large number of extremely small convex portions are formed The non-opening region portion is a second blasted surface on which a large number of convex convex portions that are larger than the extremely minute convex portions are formed.


この発明によれば、印刷パターン形状が、例えば幅約15〜200μm以下の複数本(例えば10本)の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約15〜200μm以下となるように平行に並んだものが要求された場合であっても、幅約15〜200μm以下の複数本の極細細線と対応する形成領域のベースメタル5の表面は、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成されている第1のブラスト加工表面となるので、メタルマスクとしての印刷使用時に印刷ムラが発生することがなく、綺麗な印刷になるという効果がある。   According to this invention, the printed pattern shape is a plurality of (for example, 10) ultrafine wires having a width of about 15 to 200 μm or less, for example, and the interval between the ultrafine wires is about 15 to 200 μm or less in parallel. Even when a line-up is required, the surface of the base metal 5 in the formation region corresponding to a plurality of ultrafine wires having a width of about 15 to 200 μm or less is formed with a large number of extremely convex portions having a convex curve shape. Since the first blasted surface is used, printing unevenness does not occur when printing as a metal mask, and there is an effect that clean printing is achieved.

この発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な各構成要素を分離して示す斜視図である。It is a perspective view which isolate | separates and shows each component required for the manufacturing method of the suspending metal mask for printing which is fundamental in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっき工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the joining plating process of the manufacturing method of the suspend metal mask for printing used as the foundation in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっきが終了した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the junction plating of the manufacturing method of the suspending metal mask for printing used as the foundation in Embodiment 1 of this invention was complete | finished. この発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合状態からセットを解除した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which cancelled | released the set from the joining state of the manufacturing method of the suspending metal mask for printing which is fundamental in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のベースメタルからSUS母材を剥離している状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which has peeled the SUS base material from the base metal of the manufacturing method of the suspending metal mask for printing used as the foundation in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のベースメタルの開口レジストを剥離する前の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state before peeling the opening resist of the base metal of the manufacturing method of the suspend metal mask for printing used in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法のベースメタルの開口レジストを剥離した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which peeled the opening resist of the base metal of the manufacturing method of the suspend metal mask for printing used in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するSUS母材の作製工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the preparation process of the SUS base material used for the manufacturing method of the suspend metal mask for printing in Embodiment 1 of this invention. 第1のブラスト加工が施されたSUS母材の一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of SUS base material in which the 1st blast process was given. 第2のブラスト加工が施されたSUS母材の一部を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows a part of SUS base material to which the 2nd blast process was given. この発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するSUS母材の表面状態を示す要部平面図である。It is a principal part top view which shows the surface state of the SUS base material used for the manufacturing method of the suspend metal mask for printing in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するベースメタルの作製工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the production process of the base metal used for the manufacturing method of the suspend metal mask for printing in Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクを示す要部平面図である。It is a principal part top view which shows the suspend metal mask for printing in Embodiment 1 of this invention. 図13の一部を拡大して示す平面図である。It is a top view which expands and shows a part of FIG. 図13のベースメタルの第1のブラスト加工表面部分を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the 1st blasting surface part of the base metal of FIG. 図13のベースメタルの第2のブラスト加工表面部分を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the 2nd blasting surface part of the base metal of FIG.

この発明をより詳細に説明するため、添付の図面に従ってこれを説明する。なお、各図
中、同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に簡略化な
いし省略する。
In order to explain the present invention in more detail, it will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, in each figure, the same code | symbol is attached | subjected to the part which is the same or it corresponds, The duplication description is simplified or abbreviate | omitted suitably.

実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な各構成要素を分離して示す斜視図、図2〜図7はこの発明の実施の形態1において基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の製造工程を示す断面図、図8はこの発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するSUS母材の作製工程を示す断面図、図9は第1のブラスト加工が施されたSUS母材の一部を拡大して示す断面図、図10は第2のブラスト加工が施されたSUS母材の一部を拡大して示す断面図、図11はこの発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するSUS母材の表面状態を示す要部平面図、図12はこの発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するベースメタルの作製工程を示す断面図、図13はこの発明の実施の形態1における印刷用サスペンドメタルマスクを示す要部平面図、図14は図13の一部を拡大して示す平面図、図15は図13のベースメタルの第1のブラスト加工表面部分を拡大して示す断面図、図16は図13のベースメタルの第2のブラスト加工表面部分を拡大して示す断面図である。
Embodiment 1.
FIG. 1 is a perspective view separately showing each component necessary for a printing suspend metal mask manufacturing method which is the basic in Embodiment 1 of the present invention, and FIGS. 2 to 7 are Embodiment 1 of the present invention. Sectional drawing which shows the manufacturing process of the manufacturing method of the suspending metal mask for printing used as a base, FIG. 8 is a cross section which shows the manufacturing process of the SUS base material used for the manufacturing method of the suspending metal mask for printing in Embodiment 1 of this invention. FIG. 9 is an enlarged sectional view showing a part of the SUS base material subjected to the first blasting process, and FIG. 10 is an enlarged part of the SUS base material subjected to the second blasting process. FIG. 11 is a main part plan view showing a surface state of a SUS base material used in the method for manufacturing a suspending metal mask for printing in the first embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a sectional view in the first embodiment of the present invention. mark FIG. 13 is a main part plan view showing a printing suspend metal mask according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 14 is a plan view of FIG. 15 is an enlarged plan view, FIG. 15 is an enlarged sectional view of the first blasting surface portion of the base metal in FIG. 13, and FIG. 16 is a second blasting surface portion of the base metal in FIG. It is sectional drawing expanded and shown.

この発明の基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に必要な構成要素は、図1に示すように、中央部に設けられた通電性を有するステンレスメッシュ又はニッケルメッシュからなる金属製メッシュ1及びこの金属製メッシュ1の外側に設けられたテトロンメッシュ2とからなるコンビネーションメッシュが内側に張設された四角形状の金属製版枠3と、ベースメタル用SUS母材4上に設けられ、印刷用開口パターンが形成される中央部分に印刷用開口パターン形成用レジスト5aが施されているNi製のベースメタル5と、テトロンメッシュ6が張設された四角形状の接合補助用金属製版枠7と、この接合補助用金属製版枠7のテトロンメッシュ6とベースメタル用SUS母材4との間に介装されるスポンジ8とから構成される。なお、四角形状の金属製版枠3に張設されるメッシュは、中央部の金属製メッシュ1と外側のテトロンメッシュ2とからなるコンビネーションメッシュが好適であるが、コンビネーションメッシュでなく、通電性を有する金属製メッシュ1の単体からなる一枚物であっても良い。上記ベースメタル5は、所望の箇所に印刷用開口パターン5bが形成されている。   As shown in FIG. 1, the constituent elements necessary for the method of manufacturing a suspending metal mask for printing, which is the basis of the present invention, are a metal mesh 1 made of a stainless mesh or nickel mesh having electrical conductivity provided in the center portion, and This is provided on a rectangular metal plate frame 3 in which a combination mesh composed of a Tetron mesh 2 provided on the outside of the metal mesh 1 is stretched on the inside, and a SUS base material 4 for base metal, and has a printing opening. A base metal 5 made of Ni having a resist 5a for forming an opening pattern for printing at a central portion where a pattern is formed, a quadrilateral joining auxiliary metal plate frame 7 in which a tetron mesh 6 is stretched, and this It consists of a sponge 8 interposed between a tetron mesh 6 of a metal plate frame 7 for joining assistance and a SUS base material 4 for base metal. . The mesh stretched on the rectangular metal plate frame 3 is preferably a combination mesh composed of a metal mesh 1 at the center and an outer tetron mesh 2 but is not a combination mesh and has electrical conductivity. A single piece of metal mesh 1 may be used. The base metal 5 has a printing opening pattern 5b formed at a desired location.

この発明の基本となる印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法の接合めっき工程に当たっては、図2に示すように、右側に四角形状の金属製版枠3を配置し、左側に四角形状の接合補助用金属製版枠7を配置する。そして、金属製版枠3の金属製メッシュ1と重合して位置するようにベースメタル5を配置し、金属製版枠3と接合補助用金属製版枠7を互いに重合させて粘着テープ9等で締結固定し、ベースメタル用SUS母材4及びスポンジ8を介してベースメタル5と金属製メッシュ1が互いに密着状態となるようにセットする。この密着状態にセットしたものを陰極10に接続するとともに電気的に導通させて、スルファミン酸ニッケル浴が入っためっき槽11内に収容し、ニッケル12を陽極13に接続することにより、ベースメタル5と金属製メッシュ1の間で接合めっきを行い、両者を一体的に接合する。この接合めっき量は、通常片側2μmとし、電鋳めっきと同じめっき法を用いる。また、陽・陰極電流密度は約0.1〜2.0A/dm、好ましくは0.5〜1.0A/dmの低電流を用いることにより、接合めっき量の均一性向上と金属製メッシュ1の断線を防止することができる。 In the bonding plating step of the printing suspend metal mask manufacturing method which is the basis of the present invention, as shown in FIG. 2, a rectangular metal plate frame 3 is arranged on the right side, and a rectangular bonding auxiliary metal on the left side. A plate making frame 7 is arranged. Then, the base metal 5 is arranged so as to be superposed with the metal mesh 1 of the metal plate frame 3, and the metal plate frame 3 and the joining auxiliary metal plate frame 7 are superposed with each other and fastened with an adhesive tape 9 or the like. Then, the base metal 5 and the metal mesh 1 are set in close contact with each other through the base metal SUS base material 4 and the sponge 8. The base metal 5 is connected to the cathode 10 while being electrically connected and accommodated in a plating tank 11 containing a nickel sulfamate bath, and nickel 12 is connected to the anode 13. And metal mesh 1 are bonded and bonded together. This bonding plating amount is usually 2 μm on one side, and the same plating method as electroforming plating is used. The positive / cathode current density is about 0.1 to 2.0 A / dm 2 , preferably 0.5 to 1.0 A / dm 2 . Disconnection of the mesh 1 can be prevented.

次に、接合めっき工程が終了したら、上記密着状態にセットしたものをめっき槽11から取り出し(図3参照)、粘着テープ9を取り外して密着状態にセットしたものを解除する(図4参照)。次に、ベースメタル5からベースメタル用SUS母材4を剥離する(図5及び図6参照)。その後、ベースメタル5と金属製メッシュ1の接合部がめっきにより一体的に接合されている金属製版枠3のベースメタル5から印刷用開口パターン形成用レジスト5aを剥離することにより、印刷用開口パターン5bが形成される(図7参照)。なお、ベースメタル5の印刷用開口パターン形成用レジスト5a及び印刷用開口パターン5bは、簡略化してイメージのみを示したものであり、実際のものとは相違する。   Next, when the bonding plating step is completed, the one set in the above-mentioned close contact state is taken out from the plating tank 11 (see FIG. 3), and the adhesive tape 9 is removed and the one set in the close contact state is released (see FIG. 4). Next, the base metal SUS base material 4 is peeled from the base metal 5 (see FIGS. 5 and 6). Thereafter, the opening pattern for printing is removed by peeling the resist 5a for forming the opening pattern for printing from the base metal 5 of the metal plate frame 3 in which the joint between the base metal 5 and the metal mesh 1 is integrally joined by plating. 5b is formed (see FIG. 7). Note that the printing opening pattern forming resist 5a and the printing opening pattern 5b of the base metal 5 are simplified and show only images, and are different from actual ones.

この基本となる印刷用サスペンドメタルマスクでは、ベースメタル用SUS母材4の表面全体に、電解研磨、化学研磨でなく、例えばビーズブラスト等で荒らし加工を施すことにより、SUS母材の表面に形成される電着層(ベースメタル)の印刷体に接触する側の全面に微小な凸部が多数形成されているため、印刷時にエアー抜きをすることでカスレを防止することができるが、例えば、タッチパネル用配線パターンに使用されるメタルマスクの場合、所望の印刷パターン形状が例えば、幅約50μm以下の複数本の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約50μm以下となるように平行に並べられており、極細細線の先端部が端子用の太線に接続されており、極細細線と端子用の太線が混在することになる。このような場合、メタルマスクの印刷パターン部分の周辺にも荒らし加工による微小な凸部が多数形成されているため、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生し易くなるという問題が発生する。また、前述の改良案のように、印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を、荒らし加工がされていない鏡面に近い表面としたものであっても、印刷用開口パターンの形成領域における極細細線の形成状況の如何によっては、カスレの発生を防止することができないことがある。   In this basic suspend metal mask for printing, the entire surface of the SUS base material 4 for the base metal is formed on the surface of the SUS base material by subjecting the entire surface of the SUS base material 4 to roughening with, for example, bead blasting instead of electrolytic polishing or chemical polishing. Since a large number of minute protrusions are formed on the entire surface of the electrodeposited layer (base metal) in contact with the printed body, bleed can be prevented by bleeding air during printing. In the case of a metal mask used for a wiring pattern for a touch panel, the desired printed pattern shape is, for example, a plurality of ultrafine wires having a width of about 50 μm or less, and the interval between the ultrafine wires is about 50 μm or less in parallel. The tips of the fine wires are connected to the terminal thick wires, and the fine wires and the terminal thick wires are mixed. In such a case, since a large number of minute convex portions are formed around the printed pattern portion of the metal mask by roughening, there is a problem that bleeding is likely to occur in the fine line portion of the printed pattern during printing. . In addition, as in the above-described improvement, a portion in which a plurality of fine fine lines, which are the formation areas of the printing opening pattern, are arranged in parallel at equal intervals is a surface close to a mirror surface that is not roughened. Even in such a case, the occurrence of blurring may not be prevented depending on the state of formation of the ultrathin lines in the formation region of the printing opening pattern.

次に、これら問題を解決したこの発明の印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用する2種類のブラスト加工が施されたSUS母材の作製工程及びSUS母材の表面の状態を図8〜図10により説明する。
位置決め用認識マーク(図示せず)を付したSUS材41を用意し(図8(a))、先ずSUS材41の表面全体に上面から比較的小粒(約20〜80μm)の球状のガラスビーズによる第1のブラスト加工が施される(図8(b))。これにより、比較的小粒の球状のガラスビーズによりSUS材41の表面全体には、図9に示すように、球状の一部からなる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第1のブラスト加工表面4aとなる。この極微小の凹部のサイズは、深さがRA25μm以下、直径が5〜80μmである。次にSUS材41の表面全体にドライフィルム42を塗布する(図8(c))。そして、ドライフィルム42の上に印刷パターンフィルム43を密着させて露光、現像等を行い(図8(d))、SUS材41の表面の、例えば幅約1000μm(1mm)のみにパターンレジスト膜42aを形成し、目隠しとする(図8(e))。なお、この幅約1000μm(1mm)のパターンレジスト膜42aが形成される形成領域は、位置決め用認識マークで位置合わせすることにより正確に設定することができ、タッチパネル用配線パターンに使用されるメタルマスクの場合、所望の印刷パターン形状が、例えば幅約50μm以下の複数本(例えば10本)の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約50μm以下となるように平行に並べられており、極細細線の先端部が端子用の太線に接続されているものが相当し、それに例えば+100μm程度の補正をかけたものとなる。そして、幅約1000μm(1mm)の目隠しのパターンレジスト膜42aが形成されたSUS材41の上面から比較的大粒(100〜1000μm)の球状のガラスビーズによる第2のブラスト加工が施される(図8(f))。これにより、比較的大粒の球状のガラスビーズによりSUS材41の表面全体のうち、パターンレジスト膜42aの目隠しがされていない部分には、図10に示すように、球状の一部からなる凹曲面状の極微小の凹部よりも大きい微小凹部が多数形成された第2のブラスト加工表面4bとなる。この大きい微小凹部のサイズは、深さがRA50μm以下、直径が85〜250μmである。この2種類の球状のガラスビーズによる第1のブラスト加工及び第2のブラスト加工終了後に得られるこの発明のSUS母材4の表面の状態は、図11に示すように、幅約1000μm(1mm)の目隠しのパターンレジスト膜42aで保護されていない箇所の表面は、比較的大粒の球状のガラスビーズによる凹曲面状の大きい微小凹部が多数形成された第2のブラスト加工表面4bとなるが、幅約1000μm(1mm)の目隠しのパターンレジスト膜42aで保護されている形成領域の表面は、比較的小粒の球状のガラスビーズによる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第1のブラスト加工表面4aとなる。すなわち、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材4が作製されることになる。なお、比較的小粒の球状のガラスビーズが施された第1のブラスト加工表面4aには、図9に示すように、球状の一部からなる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成されることになる。また、比較的大粒の球状のガラスビーズが施された第2のブラスト加工表面4bには、図10に示すように、球状の一部からなる凹曲面状の大きい微小の凹部が多数形成されることになる。このように球状の一部からなる凹曲面状の極微小の凹部や微小の凹部であることから、後の作製工程で作製されるベースメタル5をSUS母材4から容易に剥がすことができる。第1及び第2のブラスト加工表面4a、4bが凹曲面状の極微小凹部又は微小凹部ではなく、垂直な壁面を持つもの、或いは上部が狭くなっているものであると、ベースメタル5が剥がれにくくなってしまうのである。なお、2種類のブラスト加工として、球状のガラスビーズを用いた例を説明したが、ガラスビーズの場合は衝撃により砕けてしまうため、再利用することができない。再利用を可能にするために、例えば金属球を使用することもできる。
Next, a manufacturing process of a SUS base material subjected to two types of blasting and a state of the surface of the SUS base material used in the method for manufacturing a suspending metal mask for printing according to the present invention that solves these problems are shown in FIGS. 10 will be described.
A SUS material 41 with a positioning recognition mark (not shown) is prepared (FIG. 8A). First, relatively small particles (about 20 to 80 μm) of spherical glass beads are formed on the entire surface of the SUS material 41 from the upper surface. A first blasting process is performed (FIG. 8B). As a result, the entire surface of the SUS material 41 is formed by a relatively small spherical glass bead, as shown in FIG. It becomes the blast processing surface 4a. As for the size of this very minute recess, the depth is RA 25 μm or less and the diameter is 5 to 80 μm. Next, the dry film 42 is apply | coated to the whole surface of the SUS material 41 (FIG.8 (c)). Then, the printed pattern film 43 is brought into close contact with the dry film 42 to perform exposure, development, and the like (FIG. 8D), and the pattern resist film 42a is formed only on the surface of the SUS material 41, for example, about 1000 μm (1 mm) wide. Is formed as a blindfold (FIG. 8E). The formation region where the pattern resist film 42a having a width of about 1000 μm (1 mm) is formed can be accurately set by aligning with a positioning recognition mark, and a metal mask used for a wiring pattern for a touch panel. In this case, the desired printed pattern shape is, for example, a plurality of (for example, 10) ultrafine wires having a width of about 50 μm or less, and arranged in parallel so that the interval between the ultrafine wires is about 50 μm or less, The tip of the extra fine wire corresponds to the one connected to the thick terminal wire, which is, for example, corrected by about +100 μm. Then, a second blasting process is performed with relatively large (100 to 1000 μm) spherical glass beads from the upper surface of the SUS material 41 on which the blind pattern resist film 42a having a width of about 1000 μm (1 mm) is formed (FIG. 8 (f)). As a result, as shown in FIG. 10, a concave curved surface consisting of a part of a sphere is formed on a portion of the entire surface of the SUS material 41 that is not covered with a relatively large spherical glass bead, as shown in FIG. The second blasted surface 4b is formed with a large number of minute recesses larger than the extremely minute recesses. The size of this large minute recess is RA 50 μm or less in depth and 85 to 250 μm in diameter. As shown in FIG. 11, the surface state of the SUS base material 4 of the present invention obtained after completion of the first blasting process and the second blasting process using the two types of spherical glass beads is about 1000 μm (1 mm) in width. The surface of the portion that is not protected by the blind pattern resist film 42a is the second blasted surface 4b in which a large number of concave concave surfaces made of relatively large spherical glass beads are formed. The first blasting process in which the surface of the formation region protected by the pattern resist film 42a having a blindfold of about 1000 μm (1 mm) is formed with a large number of concave concave surface-shaped microscopic concave portions made of relatively small spherical glass beads. It becomes the surface 4a. That is, the SUS base material 4 subjected to two types of blasting is produced. In addition, on the first blasting surface 4a to which relatively small spherical glass beads are applied, as shown in FIG. 9, a large number of concave concave curved ultrafine concave portions are formed. It will be. In addition, as shown in FIG. 10, a large number of small concave portions having a concave curved surface formed of a part of a spherical shape are formed on the second blasting surface 4b to which relatively large spherical glass beads are applied. It will be. In this way, since the concave curved surface is a very small concave portion or a small concave portion formed of a spherical part, the base metal 5 manufactured in a subsequent manufacturing process can be easily peeled off from the SUS base material 4. If the first and second blasted surfaces 4a, 4b are not concave concave micro-recesses or micro-recesses but have a vertical wall surface or a narrow upper part, the base metal 5 is peeled off. It becomes difficult. In addition, although the example using the spherical glass bead was demonstrated as two types of blasting, in the case of a glass bead, since it will be crushed by an impact, it cannot be reused. In order to enable reuse, for example, metal spheres can be used.

次に、問題を解決したこの発明の印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するベースメタルの作製工程を図12により説明する。
まず上記SUS母材の作製工程で得られた2種類のブラスト加工が施されたSUS母材4を第1のブラスト加工表面4a及び第2のブラスト加工表面4bが上となるように用意し(図12(a))、2種類のブラスト加工が施された荒らしSUS母材4の上面にドライフィルム52を塗布する(図12(b))。次にドライフィルム52の上に印刷パターンフィルム53を密着させて露光、現像等を行い(図12(c))、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材4の上面中央の幅約1000μm(1mm)の範囲である第1のブラスト加工表面4aに、例えば幅約50μm以下の複数本(例えば10本)の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約50μm以下となるように平行に並べたパターンレジスト膜52aを形成する(図12(d))。なお、幅約1000μm(1mm)の範囲にパターンレジスト膜52aを正確に形成するために位置決め用認識マークが利用される。そして、パターンレジスト膜52aが形成された2種類のブラスト加工が施されたSUS母材4の上面からめっき加工を施すことにより、ベースメタル5を作製する(図12(e))。このめっき加工終了後に得られるこの発明のベースメタル5の表面の状態は、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材4の比較的大粒の球状のガラスビーズが施された第2のブラスト加工表面4bと対応する面が、対称となる逆の関係となりベースメタル5の第2のブラスト加工表面5dとなる。一方、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材4の上面中央の幅約1000μm(1mm)の範囲である比較的小粒の球状のガラスビーズが施された第1のブラスト加工表面4aに対応する面が、対称となる逆の関係となりベースメタル5の第1のブラスト加工表面5cとなる。なお、ベースメタル5の第1のブラスト加工表面5cには、図15に示すように、球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成されることになる。また、ベースメタル5の第2のブラスト加工表面5dには、図16に示すように、球状の一部からなる凸曲面状の大きい微小凸部が多数形成されることになる。このように球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部や微小凸部であることから、印刷対象物(印刷体)に対し滑らかに接触することになるので、印刷対象物に傷が付きにくいという利点がある。
Next, a process for producing a base metal used in the method for producing a suspending metal mask for printing according to the present invention that solves the problem will be described with reference to FIG.
First, the SUS base material 4 subjected to the two types of blast processing obtained in the SUS base material manufacturing step is prepared so that the first blast processing surface 4a and the second blast processing surface 4b are on top ( 12A), a dry film 52 is applied to the upper surface of the roughened SUS base material 4 that has been subjected to two types of blasting (FIG. 12B). Next, the printed pattern film 53 is brought into intimate contact with the dry film 52 to perform exposure, development, and the like (FIG. 12C). The width of the center of the upper surface of the SUS base material 4 subjected to two types of blasting is about 1000 μm. The first blasting surface 4a in the range of (1 mm) is a plurality of (for example, 10) ultrafine wires having a width of about 50 μm or less, for example, and is parallel so that the interval between the ultrafine wires is about 50 μm or less. A pattern resist film 52a arranged in a row is formed (FIG. 12D). A positioning recognition mark is used to accurately form the pattern resist film 52a in a range of about 1000 μm (1 mm) in width. Then, the base metal 5 is manufactured by performing plating from the upper surface of the SUS base material 4 on which the two types of blast processing on which the pattern resist film 52a is formed (FIG. 12E). The surface state of the base metal 5 of the present invention obtained after completion of the plating process is the second blasting process in which the relatively large spherical glass beads of the SUS base material 4 subjected to two types of blasting processes are applied. The surface corresponding to the surface 4b becomes a symmetrical reverse relationship and becomes the second blasted surface 5d of the base metal 5. On the other hand, it corresponds to the first blasting surface 4a provided with relatively small spherical glass beads having a width of about 1000 μm (1 mm) in the center of the upper surface of the SUS base material 4 subjected to two types of blasting. The surface to be turned becomes a symmetrical reverse relationship and becomes the first blasted surface 5 c of the base metal 5. Note that, as shown in FIG. 15, a number of extremely small convex portions having a convex curved surface formed of a part of a spherical shape are formed on the first blasted surface 5c of the base metal 5. Further, as shown in FIG. 16, a large number of large convex portions having a convex curved surface formed of a spherical part are formed on the second blasted surface 5 d of the base metal 5. In this way, since it is a very small convex part or a minute convex part of a convex curved surface consisting of a part of a sphere, it will be in smooth contact with the printing object (printed body), so that the printing object will be damaged. There is an advantage that is difficult to stick.

次に、この発明の印刷用サスペンドメタルマスクの要部構成を図13〜図15により説明する。2種類の球状のガラスビーズによるブラスト加工終了後に得られる2種類のブラスト加工が施されたSUS母材4を使用して、印刷用サスペンドメタルマスクを作製する場合を考える。例えば、タッチパネル用配線パターンに使用されるサスペンドメタルマスクのベースメタル5の場合、所望の印刷パターン形状の一部が、例えば幅約50μm以下の複数本(例えば10本)の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約50μm以下となるように平行に並べたもので、極細細線の先端部は端子用の太線に接続されているので、極細細線と端子用の太線が混在した状態となる。幅約50μm以下の複数本(10本)の極細細線と対応する形成領域のベースメタル5の表面は、比較的小粒の球状のガラスビーズが施された第1のブラスト加工表面4aに対応し、対称となる逆の関係となり球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面5cとなる。一方、極細細線と対応する形成領域以外、すなわち第1のブラスト加工表面5c以外の箇所(端子用の太線を含む)のベースメタル5の表面は、比較的大粒の球状のガラスビーズが施された第2のブラスト加工表面4bと対応し、対称となる逆の関係となり球状の一部からなる凸曲面状の大きい微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面5dとなる。なお、図13〜図14において、ベースメタル5の裏側には金属製メッシュ1がめっきにより接合されているので、ベースメタル5の印刷パターン形状を通して裏側の金属製メッシュ1の一部が見える。
これにより、タッチパネル用配線パターンに使用されるサスペンドメタルマスクのベースメタル5の場合で、所望の印刷パターン形状の一部が、例えば幅約50μm以下の複数本(例えば10本)の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約50μm以下となるように平行に並んだものが要求された場合であっても、幅約50μm以下の複数本の極細細線と対応する形成領域のベースメタル5の表面は、比較的小粒の球状のガラスビーズ加工が施された面と対応する対称となる逆の関係となり、球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面5cとなるので、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生することがない。
なお、所望の印刷パターン形状の一部を、例えば幅約50μm以下の複数本の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約50μm以下となるように平行に並べたものとしたが、複数本の極細細線の本数と幅と間隔は、設計値であるので任意に変更することができる。例えば、本数は20〜30本、幅と間隔は、約15μm〜200μmまで可能である。
また、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材4及びベースメタル5について説明したが、大きさの異なる3種類、4種類のブラスト加工が施されたものであっても良い。
Next, the structure of the main part of the suspending metal mask for printing according to the present invention will be described with reference to FIGS. Consider a case where a suspend metal mask for printing is produced using a SUS base material 4 that has been subjected to two types of blasting and obtained after completion of blasting with two types of spherical glass beads. For example, in the case of the base metal 5 of the suspend metal mask used for the wiring pattern for the touch panel, a part of the desired print pattern shape is, for example, a plurality of (for example, 10) ultrafine wires having a width of about 50 μm or less. They are arranged in parallel so that the distance between the thin wires is about 50 μm or less, and the tip of the ultra fine wire is connected to the thick wire for the terminal, so that the ultra fine wire and the thick wire for the terminal are mixed. . The surface of the base metal 5 in the formation region corresponding to a plurality of (10) ultrafine wires having a width of about 50 μm or less corresponds to the first blasted surface 4a provided with relatively small spherical glass beads, The first blasted surface 5c is formed with a number of extremely small convex portions having a convex curved surface formed of a part of a sphere and having a reverse relationship of symmetry. On the other hand, the surface of the base metal 5 other than the formation region corresponding to the ultrafine wire, that is, the portion other than the first blasting surface 5c (including the terminal thick line) is provided with relatively large spherical glass beads. Corresponding to the second blasting surface 4b, it becomes a second blasting surface 5d in which a large number of small convex portions having a convex curved surface formed of a part of a sphere are formed in a symmetric and reverse relationship. 13 to 14, since the metal mesh 1 is joined to the back side of the base metal 5 by plating, a part of the metal mesh 1 on the back side can be seen through the printed pattern shape of the base metal 5.
Thereby, in the case of the base metal 5 of the suspend metal mask used for the wiring pattern for the touch panel, a part of the desired print pattern shape is, for example, a plurality of (for example, 10) ultrafine wires having a width of about 50 μm or less. Even when a parallel arrangement is required so that the distance between the fine wires is about 50 μm or less, the base metal 5 in the formation region corresponding to the plurality of fine wires with a width of about 50 μm or less is required. The surface has a reverse relationship corresponding to a symmetric surface corresponding to the surface of a relatively small spherical glass bead, and a plurality of very small convex portions having a convex curved surface formed of a part of a spherical shape are formed. Therefore, bleeding does not occur in the fine line portion of the print pattern during printing.
A part of the desired printed pattern shape is, for example, a plurality of ultrafine wires having a width of about 50 μm or less and arranged in parallel so that the interval between the ultrafine wires is about 50 μm or less. The number, width, and interval of the extra fine wires are design values and can be arbitrarily changed. For example, the number can be 20 to 30 and the width and interval can be about 15 μm to 200 μm.
In addition, although the SUS base material 4 and the base metal 5 that have been subjected to two types of blasting have been described, three types and four types of blasting that have different sizes may be performed.

実施の形態2.
上記実施の形態1では、所望の印刷パターン形状の一部が、例えば幅約50μm以下の複数本(例えば10本)の極細細線であり、極細細線相互間の間隔が約50μm以下となるように平行に並べたものであり、各極細細線を全て同一幅であるとしたが、この実施の形態2においては、複数本の極細細線のうち、大きな開口の近くに配置される1本の極細細線(図12の最上端に配置される極細細線)の幅を、最上端の下方に配置される他の極細細線の幅の2倍以上に設定したものである。この場合、スキージの進行方向は下方から上方に向かって移動するものとする。大きな開口の近くに配置される1本の極細細線(図12の最上端に配置される極細細線)の下方寄り(スキージ進行方向の入口側)の1/2の部分は、滲みの問題があるため、球状の一部からなる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面5cとするが、大きな開口の近くに配置される1本の極細細線(図12の最上端に配置される極細細線)の上方寄り(スキージ進行方向の出口側)の1/2の部分は、滲みの問題が発生することが少ないので、球状の一部からなる凸曲面状の大きい微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面5dとしたものである。
この実施の形態2においても、実施の形態1と同様、印刷時に印刷パターンの極細細線部分に滲みが発生することがないという効果を得ることができる。
Embodiment 2.
In the first embodiment, a part of the desired print pattern shape is, for example, a plurality of (for example, 10) ultrafine wires having a width of about 50 μm or less, and the interval between the ultrafine wires is about 50 μm or less. Although arranged in parallel and all the fine wires have the same width, in Embodiment 2, one of the fine wires arranged near a large opening is arranged. The width of (the fine line disposed at the uppermost end in FIG. 12) is set to be twice or more the width of the other fine line disposed below the uppermost end. In this case, the traveling direction of the squeegee moves from the bottom to the top. There is a problem of bleeding in the half of the one thin wire (the fine wire disposed at the uppermost end in FIG. 12) located near the large opening, which is half the lower side (the entrance side in the squeegee traveling direction). For this reason, the first blasted surface 5c is formed with a large number of very small convex portions having a convex curved surface formed of a part of a spherical shape. The ½ part of the upper fine line (extra fine line arranged at the uppermost end) (exit side in the squeegee traveling direction) is less likely to cause bleeding, so the convex curved surface formed of a part of a spherical shape is large. The second blasted surface 5d is formed with a large number of minute convex portions.
Also in the second embodiment, as in the first embodiment, it is possible to obtain an effect that bleeding does not occur in the ultrathin line portion of the print pattern during printing.

実施の形態3.
上記実施の形態1、2では、印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用する2種類のブラスト加工が施されたSUS母材の作製工程、同じく印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法に使用するベースメタルの作製工程、及び印刷用サスペンドメタルマスクの要部構成について説明したが、この発明は印刷用サスペンドメタルマスクに限らず、印刷用開口パターンが形成される印刷に関係がある部分と、印刷用開口パターンが形成されない印刷に関係がない部分とを備えたメタルマスクにおいて、印刷用開口パターンが形成される印刷に関係がある部分のうちの一部は、複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面とし、第1のブラスト加工表面以外の印刷用開口パターンが形成される印刷に関係がある部分のうちの残部及び印刷に関係がない部分は、極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面としたスクリーン印刷用メタルマスクの場合にも、適用することが可能である。
Embodiment 3.
In the first and second embodiments, the manufacturing process of the SUS base material subjected to two types of blasting used in the manufacturing method of the suspending metal mask for printing, and the base metal used in the manufacturing method of the suspending metal mask for printing are also used. However, the present invention is not limited to the suspending metal mask for printing, the portion related to printing on which the opening pattern for printing is formed, and the opening for printing. In a metal mask provided with a portion not related to printing in which a pattern is not formed, some of the portions related to printing in which a printing opening pattern is formed are parallel to each other with a plurality of ultrafine wires arranged at equal intervals. A first blasting surface including a plurality of very small convex portions having a convex curved surface shape including arranged portions, and other than the first blasting surface Among the portions related to printing on which the opening pattern for printing is formed and the portions not related to printing, the second portion in which a large number of convex convex portions larger than the extremely small convex portions are formed. The present invention can also be applied to a screen printing metal mask having a blasted surface.

1 金属製メッシュ
2 テトロンメッシュ
3 金属製版枠
4 2種類のブラスト加工が施されたSUS母材(ベースメタル用SUS母材)
4a 第1のブラスト加工表面
4b 第2のブラスト加工表面
5 ベースメタル
5a 印刷用開口パターン形成用レジスト
5b 印刷用開口パターン
5c 第1のブラスト加工表面
5d 第2のブラスト加工表面
6 テトロンメッシュ
7 接合補助用金属製版枠
8 スポンジ
9 粘着テープ
10 陰極
11 めっき槽
12 ニッケル
13 陽極
41 SUS材
42、52 ドライフィルム
42a 目隠しのパターンレジスト膜
52a パターンレジスト膜
43、53 印刷パターンフィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal mesh 2 Tetron mesh 3 Metal plate frame 4 SUS base material (SUS base material for base metal) to which two types of blasting were given
4a 1st blasting surface 4b 2nd blasting surface 5 Base metal 5a Resist for forming opening pattern for printing 5b Opening pattern for printing 5c 1st blasting surface 5d 2nd blasting surface 6 Tetron mesh 7 Joining assistance Metal plate frame 8 Sponge 9 Adhesive tape 10 Cathode 11 Plating tank 12 Nickel 13 Anode 41 SUS material 42, 52 Dry film 42a Blind pattern resist film 52a Pattern resist film 43, 53 Print pattern film

Claims (6)

版枠と、
前記版枠の内側に外周が張設されている少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、
前記金属製メッシュに密着した状態で接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルと、を備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクであって、
前記ベースメタルは、前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、前記印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備え、
前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅200μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面であり、
前記第1のブラスト加工表面以外の前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び前記印刷開口パターン非開口領域部分は、前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面であることを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスク。
Plate frame,
A mesh having an electrically conductive metal mesh in at least the central part of which the outer periphery is stretched inside the plate frame; and
A suspending metal mask for screen printing comprising: a base metal bonded in close contact with the metal mesh and provided with a printing opening pattern;
The base metal includes a printing opening pattern forming region portion where the printing opening pattern is formed, and a printing opening pattern non-forming region portion where the printing opening pattern is not formed ,
A part of the printing opening pattern forming region where the printing opening pattern is formed includes a part in which a plurality of fine fine lines having a width of 200 μm or less are arranged in parallel at equal intervals, and is a convex curved micro A first blasted surface formed with a large number of small convex portions;
The remaining portion of the printing opening pattern forming region portion where the printing opening pattern other than the first blasting surface is formed and the printing opening pattern non-opening region portion are larger than the extremely small convex portion. A suspending metal mask for screen printing, characterized in that it is a second blasted surface on which a large number of curved convex portions are formed.
幅15〜200μm以下の複数本の極細細線を、極細細線相互間の間隔が幅15〜200μm以下となるように平行に並べたことを特徴とする請求項1記載のスクリーン印刷用サスペンドメタルマスク。   2. The suspending metal mask for screen printing according to claim 1, wherein a plurality of ultrafine wires having a width of 15 to 200 [mu] m or less are arranged in parallel so that a distance between the ultrafine wires is 15 to 200 [mu] m or less. 版枠と、
前記版枠の内側に外周が張設されている少なくとも中央部に通電性のある金属製メッシュを有するメッシュと、
前記金属製メッシュに密着した状態で接合され、印刷用開口パターンが設けられたベースメタルと、を備えたスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクであって、
前記ベースメタルは、前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、前記印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備え、
前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅200μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面であり、
前記第1のブラスト加工表面以外の前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び前記印刷開口パターン非開口領域部分は、前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面であるスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法であって、
SUS材の表面全体に第1のブラスト加工を施すことにより、凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第1のブラスト加工表面を形成し、前記SUS材の表面に目隠しのパターンレジスト膜を形成し、前記目隠しのパターンレジスト膜が形成されたSUS材の上面から第2のブラスト加工を施すことにより、目隠しのパターンレジスト膜で保護されていないSUS材の表面に前記極微小の凹部よりも大きい微小凹部が多数形成された第2のブラスト加工表面を形成して、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材を作製する工程と、
前記2種類のブラスト加工が施されたSUS母材を用い、凹曲面状の極微小の凹部が多数形成された第1のブラスト加工表面に、複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含む印刷用開口パターンを形成するためのパターンレジスト膜を形成し、2種類のブラスト加工が施されたSUS母材の上面からめっき加工を施すことにより、前記ベースメタルの前記接合めっき面と反対側の被印刷面は、前記大きい微小凹部に対応する大きい微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面とし、少なくとも前記印刷用開口パターンの形成領域である複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分は、前記極微小の凹部に対応する前記微小凸部よりも小さい凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面としたベースメタルを作製する工程と、
を含むことを特徴とするスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。
Plate frame,
A mesh having an electrically conductive metal mesh in at least the central part of which the outer periphery is stretched inside the plate frame; and
A suspending metal mask for screen printing comprising: a base metal bonded in close contact with the metal mesh and provided with a printing opening pattern;
The base metal includes a printing opening pattern forming region portion where the printing opening pattern is formed, and a printing opening pattern non-forming region portion where the printing opening pattern is not formed ,
A part of the printing opening pattern forming region where the printing opening pattern is formed includes a part in which a plurality of fine fine lines having a width of 200 μm or less are arranged in parallel at equal intervals, and is a convex curved micro A first blasted surface formed with a large number of small convex portions;
The remaining portion of the printing opening pattern forming region portion where the printing opening pattern other than the first blasting surface is formed and the printing opening pattern non-opening region portion are larger than the extremely small convex portion. A method for producing a suspending metal mask for screen printing, which is a second blasted surface formed with a large number of curved convex portions,
A first blasting process is performed on the entire surface of the SUS material to form a first blasting surface on which a large number of concave concave curved ultrafine recesses are formed, and a pattern resist film that is blindfolded on the surface of the SUS material And performing a second blasting process from the upper surface of the SUS material on which the blind pattern resist film is formed, so that the surface of the SUS material not protected by the blind pattern resist film is formed from Forming a second blasted surface on which a large number of micro-recesses are formed to produce a SUS base material subjected to two types of blasting;
Using the SUS base material that has been subjected to the two types of blasting, a plurality of ultrafine wires are arranged in parallel at equal intervals on the first blasting surface on which a large number of concave concave curved surfaces are formed. Forming a pattern resist film for forming a printing opening pattern including a portion, and performing plating from the upper surface of the SUS base material subjected to two types of blasting, thereby the joint plating surface of the base metal The surface to be printed opposite is a second blasted surface on which a large number of large micro-projections corresponding to the large micro-recesses are formed, and at least a plurality of ultrafine wires that are regions for forming the printing opening pattern are formed. The portions arranged in parallel at equal intervals are the first blasted surface on which a large number of extremely small convex portions having convex curved surfaces smaller than the small convex portions corresponding to the extremely small concave portions are formed. And a step of preparing a Sumetaru,
A method for producing a suspending metal mask for screen printing, comprising:
2種類のブラスト加工が施されたSUS母材の第1のブラスト加工表面は、小粒で球状のガラスビーズによる凹曲面状の極微小の凹部が多数形成され、前記SUS母材の第2のブラスト加工表面は、大粒で球状のガラスビーズによる前記極微小の凹部よりも大きい凹曲面状の極微小の凹部が多数形成されており、
ベースメタルの第1のブラスト加工表面は、小粒で球状のガラスビーズによる凸曲面状の極微小の凸部が多数形成され、ベースメタルの第2のブラスト加工表面は、大粒で球状のガラスビーズによる前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の極微小の凸部が多数形成されていることを特徴とする請求項記載のスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。
The first blasting surface of the SUS base material that has been subjected to two types of blasting is formed with a large number of concave concave-shaped concave portions made of small and spherical glass beads, and the second blasting of the SUS base material. The processed surface is formed with a large number of concave concave surfaces that are larger than the above-mentioned extremely small concave portions made of large and spherical glass beads,
The first blasted surface of the base metal has a large number of very small convex portions with convex curved surfaces formed by small and spherical glass beads, and the second blasted surface of the base metal is formed by large and spherical glass beads. 4. The method for producing a suspending metal mask for screen printing according to claim 3 , wherein a number of extremely minute convex portions having a convex curved surface larger than the extremely minute convex portions are formed.
幅15〜200μm以下の複数本の極細細線を、極細細線相互間の間隔が幅15〜200μm以下となるように平行に並べたことを特徴とする請求項又は請求項載のスクリーン印刷用サスペンドメタルマスクの製造方法。 Microfine fine lines of the following plurality of width 15 to 200 m, according to claim 3 or screen printing of claim 4 mounting, characterized in that arranged in parallel so that the distance between the ultrafine fine wire cross is less than the width 15 to 200 m Suspended metal mask manufacturing method. 印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分と、前記印刷用開口パターンが形成されない印刷用開口パターン非形成領域部分とを備えたメタルマスクにおいて、
前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの一部は、幅200μm以下の複数本の極細細線が等間隔で平行に並べられた部分を含み、凸曲面状の極微小の凸部が多数形成された第1のブラスト加工表面とし、
前記第1のブラスト加工表面以外の前記印刷用開口パターンが形成される印刷用開口パターン形成領域部分のうちの残部及び前記印刷開口パターン非開口領域部分は、前記極微小の凸部よりも大きい凸曲面状の微小凸部が多数形成された第2のブラスト加工表面としたことを特徴とするスクリーン印刷用メタルマスク。
In a metal mask comprising a printing opening pattern forming region portion where a printing opening pattern is formed and a printing opening pattern non-forming region portion where the printing opening pattern is not formed ,
A part of the printing opening pattern forming region where the printing opening pattern is formed includes a part in which a plurality of fine fine lines having a width of 200 μm or less are arranged in parallel at equal intervals, and is a convex curved micro A first blasted surface with a large number of small protrusions,
The remaining portion of the printing opening pattern forming region portion where the printing opening pattern other than the first blasting surface is formed and the printing opening pattern non-opening region portion are larger than the extremely small convex portion. A metal mask for screen printing, characterized in that the second blasted surface is provided with a large number of curved convex portions.
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