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JP6567931B2 - Method for producing laminated optical film - Google Patents
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Description

本発明は、積層光学フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a laminated optical film.

積層光学フィルムの一種である偏光板は、液晶表示装置を構成する。偏光板は、光学フィルムの一種である偏光子と、偏光子の片面又は両面に積層された保護フィルムと、を備える。下記特許文献1には、樹脂溶液を偏光フィルムの片面又は両面に塗工することにより、透明な樹脂層を形成することが開示されている。偏光子以外の光学フィルムを保護する必要がある場合も、積層光学フィルムは光学フィルムに重なる樹脂層を備える。   A polarizing plate which is a kind of laminated optical film constitutes a liquid crystal display device. A polarizing plate is equipped with the polarizer which is 1 type of an optical film, and the protective film laminated | stacked on the single side | surface or both surfaces of the polarizer. Patent Document 1 below discloses forming a transparent resin layer by coating a resin solution on one or both surfaces of a polarizing film. When it is necessary to protect an optical film other than the polarizer, the laminated optical film includes a resin layer that overlaps the optical film.

特開2000‐199819号公報JP 2000-199819 A

近年、スマートフォン等のモバイル機器の薄型化に伴い、モバイル機器に用いられる積層光学フィルムを薄くすることが求められている。積層光学フィルムを薄くする一つの方法は、従来の保護フィルムの代わりに、より薄い保護層を光学フィルムに重ねることである。例えば、偏光板を製造する場合、グラビアロール等の塗工装置を用いて、活性エネルギー線硬化性樹脂を含む塗膜を偏光子の表面に形成して、この塗膜を活性エネルギー線で硬化すると、従来の保護フィルムよりも薄い保護層(樹脂層)を形成し易い。しかしながら、塗膜を偏光子の表面に塗布する際に、塗工装置が偏光子に接触して、偏光子の表面を傷付けてしまう。このような問題は、偏光子以外の光学フィルムの表面に保護層を形成する場合にも起こり得る。つまり、塗工装置が光学フィルムの表面を傷付けることにより、光学フィルムの光学的機能が損なわれてしまう。また、偏光子表面上に形成された保護層(樹脂層)も、その薄さゆえ、後工程や搬送時でのロール等との接触により傷つけられることがあった。   In recent years, with the thinning of mobile devices such as smartphones, it has been required to thin laminated optical films used for mobile devices. One way to thin the laminated optical film is to overlay a thinner protective layer on the optical film instead of a conventional protective film. For example, when manufacturing a polarizing plate, using a coating apparatus such as a gravure roll, forming a coating film containing an active energy ray-curable resin on the surface of the polarizer, and curing this coating film with active energy rays It is easy to form a protective layer (resin layer) thinner than a conventional protective film. However, when the coating film is applied to the surface of the polarizer, the coating apparatus comes into contact with the polarizer and damages the surface of the polarizer. Such a problem may also occur when a protective layer is formed on the surface of an optical film other than the polarizer. That is, when the coating apparatus damages the surface of the optical film, the optical function of the optical film is impaired. In addition, the protective layer (resin layer) formed on the surface of the polarizer may also be damaged by contact with a roll or the like during subsequent processes or during transportation.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光学フィルム表面及び光学フィルムに重なる樹脂層表面の損傷を抑制することができる積層光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said situation, and it aims at providing the manufacturing method of the laminated optical film which can suppress the damage of the resin layer surface which overlaps with the optical film surface and an optical film.

本発明の一側面に係る積層光学フィルムの製造方法は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含む塗膜を、フィルム状の基材のコロナ処理が施されていない表面に形成する塗工工程と、基材を、塗膜を介して、光学フィルムの表面に貼合する貼合工程と、活性エネルギー線を、基材側から塗膜へ照射して、塗膜から樹脂層を形成する硬化工程と、基材を樹脂層から剥離する剥離工程と、を備え、基材における活性エネルギー線の透過率が、70%以上であり、基材は、環状ポリオレフィン系樹脂又はアクリル系樹脂であり、樹脂層は、光学フィルムを保護する保護層である。 A method for producing a laminated optical film according to one aspect of the present invention includes a coating step of forming a coating film containing an active energy ray-curable resin on a surface of a film-like substrate that has not been subjected to corona treatment , A curing step in which the material is bonded to the surface of the optical film via the coating film, an active energy ray is irradiated from the substrate side to the coating film, and a resin layer is formed from the coating film; It includes a peeling step of peeling the substrate from the resin layer, the transmittance of the active energy ray in the substrate state, and are 70% or more, the substrate is a cyclic polyolefin resin or an acrylic resin, a resin layer Is a protective layer for protecting the optical film.

本発明の一側面においては、活性エネルギー線が、紫外線であってよい。   In one aspect of the present invention, the active energy ray may be ultraviolet light.

本発明の一側面においては、活性エネルギー線硬化性樹脂が、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂及びオキセタン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。   In one aspect of the present invention, the active energy ray-curable resin may be at least one selected from the group consisting of epoxy resins, acrylic resins, and oxetane resins.

本発明によれば、光学フィルム表面及び光学フィルムに重なる樹脂層表面の損傷を抑制することができる積層光学フィルムの製造方法が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the lamination | stacking optical film which can suppress the damage of the resin film surface which overlaps with the optical film surface and an optical film is provided.

図1は、本発明の第一実施形態に係る偏光板の製造方法を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing a method for producing a polarizing plate according to the first embodiment of the present invention. 図2中の(a)、図2中の(b)、及び図2中の(c)は、本発明の第一実施形態に係る偏光板の製造方法を示す模式図である。(A) in FIG. 2, (b) in FIG. 2, and (c) in FIG. 2 are schematic views showing a method for producing a polarizing plate according to the first embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第二実施形態に係る偏光板の製造方法を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing a method for producing a polarizing plate according to the second embodiment of the present invention. 図4中の(a)、図4中の(b)、及び図4中の(c)は、本発明の第二実施形態に係る偏光板の製造方法を示す模式図である。(A) in FIG. 4, (b) in FIG. 4, and (c) in FIG. 4 are schematic views showing a method for producing a polarizing plate according to the second embodiment of the present invention.

以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について説明する。図面において、同等の構成要素には同等の符号を付す。本発明は下記実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same components are denoted by the same reference numerals. The present invention is not limited to the following embodiment.

(第一実施形態)
第一実施形態は、積層光学フィルムの一種である偏光板の製造方法に関する。第一実施形態に係る偏光板の製造方法は、少なくとも塗工工程と貼合工程と硬化工程と、を備える。塗工工程では、活性エネルギー線硬化性樹脂を含む塗膜を、フィルム状の基材の表面に形成する。貼合工程では、基材を、塗膜を介して、光学フィルムの表面に貼合する。硬化工程では、活性エネルギー線を、基材側から塗膜へ照射して、塗膜から樹脂層を形成する。以下では、各工程を詳しく説明する。
(First embodiment)
1st embodiment is related with the manufacturing method of the polarizing plate which is 1 type of a laminated optical film. The manufacturing method of the polarizing plate which concerns on 1st embodiment is provided with a coating process, a bonding process, and a hardening process at least. In the coating process, a coating film containing the active energy ray-curable resin is formed on the surface of the film-like substrate. In the bonding step, the substrate is bonded to the surface of the optical film via the coating film. In the curing step, the active energy ray is irradiated onto the coating film from the substrate side to form a resin layer from the coating film. Below, each process is demonstrated in detail.

[塗工工程]
図1及び図2中の(a)に示すように、第一実施形態の塗工工程では、第一積層体24を用いる。第一積層体24は、フィルム状の偏光子38と、偏光子38に重なる接着剤層36と、接着剤層36を介して偏光子38に貼合された保護フィルム34とを備える。
[Coating process]
As shown to (a) in FIG.1 and FIG.2, the 1st laminated body 24 is used in the coating process of 1st embodiment. The first laminate 24 includes a film-like polarizer 38, an adhesive layer 36 that overlaps the polarizer 38, and a protective film 34 that is bonded to the polarizer 38 through the adhesive layer 36.

フィルム状の偏光子38は、例えば、以下の手順で作製されてよい。   The film-like polarizer 38 may be produced, for example, by the following procedure.

まず、フィルム状のポリビニルアルコール系樹脂を、一軸方向又は二軸方向に延伸する。続いて、ポリビニルアルコール系樹脂を、ヨウ素又は二色性色素によって染色する。染色後のポリビニルアルコール系樹脂を、架橋のために、架橋剤の溶液(例えば、ホウ酸の水溶液)で処理する。架橋剤による処理後、ポリビニルアルコール系樹脂を水洗し、続いて乾燥する。以上の手順を経て、偏光子38が得られる。ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニル、又は、酢酸ビニルと他の単量体との共重合体(例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体)であってよい。酢酸ビニルと共重合する他の単量体は、エチレンの他に、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、又はアンモニウム基を有するアクリルアミド類であってよい。ポリビニルアルコール系樹脂は、変性されていてもよい。変性されたポリビニルアルコール系樹脂は、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、又はポリビニルブチラールであってよい。   First, a film-like polyvinyl alcohol-based resin is stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction. Subsequently, the polyvinyl alcohol resin is dyed with iodine or a dichroic dye. The polyvinyl alcohol resin after dyeing is treated with a solution of a crosslinking agent (for example, an aqueous solution of boric acid) for crosslinking. After the treatment with the crosslinking agent, the polyvinyl alcohol-based resin is washed with water and subsequently dried. Through the above procedure, a polarizer 38 is obtained. The polyvinyl alcohol resin can be obtained by saponifying a polyvinyl acetate resin. The polyvinyl acetate resin is, for example, polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, or a copolymer of vinyl acetate and another monomer (for example, ethylene-vinyl acetate copolymer). Good. Other monomers that copolymerize with vinyl acetate may be unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, or acrylamides with ammonium groups in addition to ethylene. The polyvinyl alcohol resin may be modified. The modified polyvinyl alcohol resin may be, for example, polyvinyl formal modified with aldehydes, polyvinyl acetal, or polyvinyl butyral.

偏光子38の厚みは、10μm以下、又は8μm以下であってよい。偏光子38が薄いほど、偏光板の薄型化が容易である。偏光子38の厚みは、2μm以上であってよい。偏光子38が厚いほど、偏光子38の機械的強度が向上し易い。   The thickness of the polarizer 38 may be 10 μm or less, or 8 μm or less. The thinner the polarizer 38, the easier it is to make the polarizing plate thinner. The thickness of the polarizer 38 may be 2 μm or more. The thicker the polarizer 38, the easier it is to improve the mechanical strength of the polarizer 38.

保護フィルム34は、偏光子38を保護する機能を有する。保護フィルム34は、透光性を有する熱可塑性樹脂であればよく、光学的に透明な熱可塑性樹脂であってもよい。保護フィルム34を構成する樹脂は、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、又はこれらの混合物若しくは共重合物であってよい。   The protective film 34 has a function of protecting the polarizer 38. The protective film 34 may be a light-transmitting thermoplastic resin and may be an optically transparent thermoplastic resin. The resin constituting the protective film 34 is, for example, a chain polyolefin resin, a cyclic polyolefin resin, a cellulose ester resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic resin, a polystyrene resin, or a mixture thereof. Or it may be a copolymer.

鎖状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、ポリエチレン系樹脂又はポリプロピレン系樹脂のような鎖状オレフィンの単独重合体であってよい。鎖状ポリオレフィン系樹脂は、二種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体であってもよい。   The chain polyolefin resin may be a homopolymer of a chain olefin such as a polyethylene resin or a polypropylene resin. The chain polyolefin resin may be a copolymer composed of two or more chain olefins.

環状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、環状オレフィンの開環(共)重合体、又は環状オレフィンの付加重合体であってよい。環状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、環状オレフィンと鎖状オレフィンとの共重合体(例えば、ランダム共重合体)であってよい。共重合体を構成する鎖状オレフィンは、例えば、エチレン又はプロピレンであってよい。環状ポリオレフィン系樹脂は、上記の重合体を不飽和カルボン酸若しくはその誘導体で変性したグラフト重合体、又はそれらの水素化物であってもよい。環状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、ノルボルネン又は多環ノルボルネン系モノマー等のノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂であってよい。   The cyclic polyolefin resin may be, for example, a ring-opening (co) polymer of a cyclic olefin or an addition polymer of a cyclic olefin. The cyclic polyolefin resin may be, for example, a copolymer (for example, a random copolymer) of a cyclic olefin and a chain olefin. The chain olefin constituting the copolymer may be, for example, ethylene or propylene. The cyclic polyolefin resin may be a graft polymer obtained by modifying the above polymer with an unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof, or a hydride thereof. The cyclic polyolefin resin may be a norbornene resin using a norbornene monomer such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer.

セルロースエステル系樹脂は、例えば、セルローストリアセテート(トリアセチルセルロース)、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート又はセルロースジプロピオネートであってよい。これらの共重合物を用いてもよい。水酸基の一部が他の置換基で修飾されたセルロースエステル系樹脂を用いてもよい。   The cellulose ester resin may be, for example, cellulose triacetate (triacetyl cellulose), cellulose diacetate, cellulose tripropionate, or cellulose dipropionate. These copolymers may be used. A cellulose ester resin in which a part of the hydroxyl group is modified with another substituent may be used.

セルロースエステル系樹脂以外のポリエステル系樹脂を用いてもよい。ポリエステル系樹脂は、例えば、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体であってよい。多価カルボン酸又はその誘導体は、ジカルボン酸又はその誘導体であってよい。多価カルボン酸又はその誘導体は、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、又はナフタレンジカルボン酸ジメチルであってよい。多価アルコールは、例えば、ジオールであってよい。多価アルコールは、例えば、エチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、又はシクロヘキサンジメタノールであってよい。   Polyester resins other than cellulose ester resins may be used. The polyester resin may be, for example, a polycondensate of a polyvalent carboxylic acid or derivative thereof and a polyhydric alcohol. The polyvalent carboxylic acid or derivative thereof may be a dicarboxylic acid or derivative thereof. The polyvalent carboxylic acid or derivative thereof may be, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, dimethyl terephthalate, or dimethyl naphthalenedicarboxylate. The polyhydric alcohol may be, for example, a diol. The polyhydric alcohol may be, for example, ethylene glycol, propanediol, butanediol, neopentyl glycol, or cyclohexanedimethanol.

ポリエステル系樹脂は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンナフタレート、ポリシクロへキサンジメチルテレフタレート、又はポリシクロヘキサンジメチルナフタレートであってよい。   The polyester resin may be, for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polytrimethylene terephthalate, polytrimethylene naphthalate, polycyclohexanedimethyl terephthalate, or polycyclohexanedimethyl naphthalate. .

ポリカーボネート系樹脂は、カルボナート基を介して重合単位(モノマー)が結合された重合体である。ポリカーボネート系樹脂は、修飾されたポリマー骨格を有する変性ポリカーボネートであってよく、共重合ポリカーボネートであってもよい。   The polycarbonate-based resin is a polymer in which polymerized units (monomers) are bonded via a carbonate group. The polycarbonate resin may be a modified polycarbonate having a modified polymer skeleton, or may be a copolymerized polycarbonate.

(メタ)アクリル系樹脂は、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例えば、ポリメタクリル酸メチル);メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合体;メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体;メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−(メタ)アクリル酸共重合体;(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体(例えば、MS樹脂);メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体(例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ノルボルニル共重合体等)であってよい。   (Meth) acrylic resin is, for example, poly (meth) acrylic acid ester (for example, polymethyl methacrylate); methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer; methyl methacrylate- (meth) acrylic acid ester Polymer; methyl methacrylate-acrylic ester- (meth) acrylic acid copolymer; (meth) methyl acrylate-styrene copolymer (for example, MS resin); having methyl methacrylate and alicyclic hydrocarbon group It may be a copolymer with a compound (for example, methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer, methyl methacrylate- (meth) acrylate norbornyl copolymer, etc.).

保護フィルム34は、滑剤、可塑剤、分散剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、及び酸化防止剤からな群より選ばれる少なくとも一種の添加剤を含んでよい。   The protective film 34 may include at least one additive selected from the group consisting of a lubricant, a plasticizer, a dispersant, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antistatic agent, and an antioxidant.

保護フィルム34の厚みは、90μm以下、50μm以下、又は30μm以下であってよい。保護フィルム34が薄いほど、偏光板の薄型化が容易である。保護フィルム34の厚みは、5μm以上であってよい。保護フィルム34が厚いほど、保護フィルム34の機械的強度及び取扱性が向上し易い。   The thickness of the protective film 34 may be 90 μm or less, 50 μm or less, or 30 μm or less. The thinner the protective film 34, the easier it is to make the polarizing plate thinner. The thickness of the protective film 34 may be 5 μm or more. The thicker the protective film 34 is, the easier it is to improve the mechanical strength and handleability of the protective film 34.

保護フィルム34は、位相差フィルム又は輝度向上フィルムのように、光学機能を有するフィルムであってよい。例えば、上記熱可塑性樹脂からなるフィルムを延伸したり、該フィルム上に液晶層等を形成したりすることにより、任意の位相差値が付与された位相差フィルムが得られる。   The protective film 34 may be a film having an optical function, such as a retardation film or a brightness enhancement film. For example, a retardation film to which an arbitrary retardation value is given can be obtained by stretching a film made of the thermoplastic resin or forming a liquid crystal layer or the like on the film.

接着剤層36は、ポリビニルアルコール等の水系接着剤を含んでよく、後述する活性エネルギー線硬化性樹脂を含んでもよい。硬化した接着剤層36の厚みは、例えば、0.05μm以上10μm以下であってよい。接着剤層36が厚いほど、偏光子38と保護フィルム34との間に気泡が形成され難く、偏光子38及び保護フィルム34が強固に接着され易い。接着剤層36が薄いほど、偏光板の薄型化が容易である。   The adhesive layer 36 may include an aqueous adhesive such as polyvinyl alcohol, and may include an active energy ray curable resin described later. The thickness of the cured adhesive layer 36 may be, for example, 0.05 μm or more and 10 μm or less. As the adhesive layer 36 is thicker, bubbles are less likely to be formed between the polarizer 38 and the protective film 34, and the polarizer 38 and the protective film 34 are more easily bonded firmly. The thinner the adhesive layer 36, the easier it is to make the polarizing plate thinner.

図1及び図2中の(a)に示すように、第一実施形態の塗工工程では、塗工装置1を用いて、活性エネルギー線硬化性樹脂を含む塗膜32aを、フィルム状の基材22aの表面に形成する。つまり塗工工程では、基材22aと、基材22aの表面に形成された塗膜32aとを備える第二積層体22bを作製する。塗工装置1は、例えば、マイクロチャンバードクター等のグラビアコーターであってよい。塗膜32aは、活性エネルギー線硬化性樹脂のみからなっていてよい。以上のように、塗膜32aを、偏光子38の表面ではなく基材22aの表面に形成するので、塗工装置1が偏光子38の表面に直接接触することがない。したがって、塗工装置1との接触に起因する偏光子38の表面の損傷もない。   As shown to (a) in FIG.1 and FIG.2, in the coating process of 1st embodiment, using the coating apparatus 1, the coating film 32a containing active energy ray curable resin is made into film-form base | substrate. It is formed on the surface of the material 22a. That is, in the coating process, the second laminated body 22b including the base material 22a and the coating film 32a formed on the surface of the base material 22a is produced. The coating apparatus 1 may be a gravure coater such as a micro chamber doctor, for example. The coating film 32a may consist only of active energy ray-curable resin. As described above, since the coating film 32a is formed not on the surface of the polarizer 38 but on the surface of the substrate 22a, the coating apparatus 1 does not directly contact the surface of the polarizer 38. Therefore, there is no damage on the surface of the polarizer 38 due to contact with the coating apparatus 1.

基材22aにおける活性エネルギー線の透過率は、70%以上である。活性エネルギー線は、例えば、紫外線、可視光、電子線、又はX線であってよい。基材22aにおける活性エネルギー線の透過率は、75%以上、76.7%以上、80%以上、又は89%以上であってもよい。基材22aにおける活性エネルギー線の透過率は95%以下、99%以下、又は100%未満であってよい。なお、基材22aにおける活性エネルギー線の透過率Τは、例えば、(I/I)×100と定義されてよい。Iは、基材22aに入射する活性エネルギー線の放射発散度である。Iは、基材22aを透過した活性エネルギー線の放射発散度である。 The transmittance of the active energy ray in the base material 22a is 70% or more. The active energy ray may be, for example, ultraviolet light, visible light, electron beam, or X-ray. The transmittance of the active energy ray in the base material 22a may be 75% or more, 76.7% or more, 80% or more, or 89% or more. The transmittance of the active energy rays in the base material 22a may be 95% or less, 99% or less, or less than 100%. In addition, the transmittance | permeability haze of the active energy ray in the base material 22a may be defined as (I / I 0 ) × 100, for example. I 0 is the radiation divergence of the active energy ray incident on the base material 22a. I 0 is the radiant divergence of the active energy ray that has passed through the substrate 22a.

基材22aにおける活性エネルギー線の透過率は、例えば、日本分光株式会社製の紫外可視金赤外分光光度計「V−7100」を用いて測定することができる。   The transmittance of active energy rays in the base material 22a can be measured using, for example, an ultraviolet-visible gold-infrared spectrophotometer “V-7100” manufactured by JASCO Corporation.

活性エネルギー線は、紫外線であってよい。紫外線の透過率が70%以上である基材22aは、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、アクリル系樹脂及びポリエチレン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでよい。   The active energy ray may be ultraviolet light. The base material 22a having an ultraviolet transmittance of 70% or more may include at least one selected from the group consisting of a cyclic polyolefin resin, a polypropylene resin, an acrylic resin, and a polyethylene resin, for example.

環状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、環状オレフィンの開環(共)重合体、又は環状オレフィンの付加重合体であってよい。環状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、環状オレフィンと鎖状オレフィンとの共重合体(例えば、ランダム共重合体)であってよい。共重合体を構成する鎖状オレフィンは、例えば、エチレン又はプロピレンであってよい。環状ポリオレフィン系樹脂は、上記の重合体を不飽和カルボン酸若しくはその誘導体で変性したグラフト重合体、又はそれらの水素化物であってもよい。環状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、ノルボルネン又は多環ノルボルネン系モノマー等のノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂であってよい。   The cyclic polyolefin resin may be, for example, a ring-opening (co) polymer of a cyclic olefin or an addition polymer of a cyclic olefin. The cyclic polyolefin resin may be, for example, a copolymer (for example, a random copolymer) of a cyclic olefin and a chain olefin. The chain olefin constituting the copolymer may be, for example, ethylene or propylene. The cyclic polyolefin resin may be a graft polymer obtained by modifying the above polymer with an unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof, or a hydride thereof. The cyclic polyolefin resin may be a norbornene resin using a norbornene monomer such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer.

アクリル系樹脂((メタ)アクリル系樹脂)は、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例えば、ポリメタクリル酸メチル);メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合体;メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体;メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−(メタ)アクリル酸共重合体;(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体(例えば、MS樹脂);メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体(例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ノルボルニル共重合体等)であってよい。   Acrylic resin ((meth) acrylic resin) is, for example, poly (meth) acrylic acid ester (for example, polymethyl methacrylate); methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer; methyl methacrylate- (meta ) Acrylate ester copolymer; Methyl methacrylate-Acrylate ester- (Meth) acrylic acid copolymer; (Meth) acrylate methyl-styrene copolymer (for example, MS resin); Methyl methacrylate and alicyclic It may be a copolymer with a compound having a hydrocarbon group (for example, methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer, methyl methacrylate-norbornyl copolymer (meth) acrylate).

活性エネルギー線硬化性樹脂は、活性エネルギー線を照射されることにより、硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化性樹脂は、一種の樹脂であってよく、複数種の樹脂を含んでもよい。   The active energy ray-curable resin is a resin that cures when irradiated with active energy rays. The active energy ray-curable resin may be a kind of resin and may include a plurality of kinds of resins.

活性エネルギー線が紫外線である場合、活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線硬化性樹脂である。紫外線硬化性樹脂は、無溶剤型の接着剤として調製することができる。したがって、活性エネルギー線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である場合、塗工工程、貼合工程又は硬化工程の後で、溶剤を除去するための乾燥工程を実施しなくてもよい。また紫外線硬化性樹脂は、水系接着剤に比べて、透湿度の低い保護フィルムと併用し易い。   When the active energy ray is ultraviolet light, the active energy ray curable resin is an ultraviolet curable resin. The ultraviolet curable resin can be prepared as a solventless adhesive. Therefore, when the active energy ray curable resin is an ultraviolet curable resin, the drying step for removing the solvent may not be performed after the coating step, the bonding step, or the curing step. Further, the ultraviolet curable resin is easy to use in combination with a protective film having a low moisture permeability as compared with the water-based adhesive.

紫外線硬化性樹脂は、カチオン重合性の硬化性化合物、又はラジカル重合性の硬化性化合物を含んでよい。紫外線硬化性樹脂は、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤を含んでよい。   The ultraviolet curable resin may contain a cationic polymerizable curable compound or a radical polymerizable curable compound. The ultraviolet curable resin may contain a cationic polymerization initiator or a radical polymerization initiator for initiating the curing reaction of the curable compound.

カチオン重合性の硬化性化合物は、例えば、エポキシ系樹脂(分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物)、又はオキセタン系樹脂(分子内に少なくとも一つのオキセタン環を有する化合物)であってよい。ラジカル重合性の硬化性化合物は、例えば、(メタ)アクリル系樹脂(分子内に少なくとも一つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物)であってよい。ラジカル重合性の硬化性化合物は、ラジカル重合性の二重結合を有するビニル系樹脂であってもよい。   The cationically polymerizable curable compound may be, for example, an epoxy resin (a compound having at least one epoxy group in the molecule) or an oxetane resin (a compound having at least one oxetane ring in the molecule). The radical polymerizable curable compound may be, for example, a (meth) acrylic resin (a compound having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule). The radical polymerizable curable compound may be a vinyl resin having a radical polymerizable double bond.

活性エネルギー線硬化性樹脂は、必要に応じて、カチオン重合促進剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、又は溶剤等を含んでよい。   The active energy ray curable resin may be a cationic polymerization accelerator, an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow regulator, a plasticizer, or an antifoaming agent, if necessary. Agents, antistatic agents, leveling agents, or solvents.

活性エネルギー線は、紫外線A波(UVA)であってよい。紫外線A波とは、波長が400〜315nmである紫外線である。紫外線A波の透過率が70%以上である基材22aを構成する樹脂は、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、又はアクリル系樹脂であってよい。紫外線A波の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂(紫外線硬化性樹脂)は、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、又はオキセタン系樹脂であってよい。活性エネルギー線は、紫外線B波(UVB)であってよい。紫外線B波とは、波長が315〜280nmである紫外線である。紫外線B波の透過率が70%以上である基材22aを構成する樹脂は、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、又はアクリル系樹脂であってよい。紫外線B波の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂(紫外線硬化性樹脂)は、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、又はオキセタン系樹脂であってよい。活性エネルギー線は、紫外線C波(UVC)であってよい。紫外線C波は、波長が280nm未満である紫外線である。紫外線C波の透過率が70%以上である樹脂を基材22aに用いればよい。   The active energy ray may be an ultraviolet A wave (UVA). The ultraviolet A wave is ultraviolet light having a wavelength of 400 to 315 nm. The resin constituting the base material 22a having an ultraviolet A wave transmittance of 70% or more may be, for example, a cyclic polyolefin resin, a polypropylene resin, or an acrylic resin. The active energy ray-curable resin (ultraviolet curable resin) that is cured by irradiation with ultraviolet A waves may be, for example, an epoxy resin, an acrylic resin, or an oxetane resin. The active energy ray may be an ultraviolet B wave (UVB). The ultraviolet B wave is an ultraviolet ray having a wavelength of 315 to 280 nm. The resin constituting the base material 22a having an ultraviolet B wave transmittance of 70% or more may be, for example, a cyclic polyolefin resin, a polypropylene resin, or an acrylic resin. The active energy ray-curable resin (ultraviolet curable resin) that is cured by irradiation with ultraviolet B waves may be, for example, an epoxy resin, an acrylic resin, or an oxetane resin. The active energy ray may be an ultraviolet C wave (UVC). The ultraviolet C wave is an ultraviolet ray having a wavelength of less than 280 nm. A resin having an ultraviolet C wave transmittance of 70% or more may be used for the base material 22a.

活性エネルギー線は、可視光であってよい。可視光の透過率が70%以上である樹脂を基材22aに用いればよい。   The active energy ray may be visible light. A resin having a visible light transmittance of 70% or more may be used for the base material 22a.

例えば、活性エネルギー線が、高圧水銀ランプを光源とする紫外線であり、その紫外線の波長が300nmであり、基材22aが環状ポリオレフィン系樹脂フィルム、又はポリプロピレン系樹脂フィルムからなる場合、基材22aにおける活性エネルギー線の透過率は89%である。この場合、活性エネルギー線の照射によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、エポキシ系樹脂である。例えば、活性エネルギー線が、高圧水銀ランプを光源とする紫外線であり、その紫外線の波長が300nmであり、基材22aがアクリル系樹脂フィルムからなる場合、基材22aにおける活性エネルギー線の透過率は76.7%である。この場合、活性エネルギー線の照射によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、エポキシ系樹脂である。   For example, when the active energy ray is ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp as a light source, the wavelength of the ultraviolet light is 300 nm, and the base material 22a is made of a cyclic polyolefin resin film or a polypropylene resin film, The transmittance of the active energy ray is 89%. In this case, the active energy ray-curable resin that is cured by irradiation with active energy rays is, for example, an epoxy resin. For example, when the active energy rays are ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp as a light source, the wavelength of the ultraviolet rays is 300 nm, and the substrate 22a is made of an acrylic resin film, the transmittance of the active energy rays in the substrate 22a is 76.7%. In this case, the active energy ray-curable resin that is cured by irradiation with active energy rays is, for example, an epoxy resin.

基材22aの厚みは、例えば、5μm以上100μm以下であってよい。基材22aが薄いほど、基材22aにおける活性エネルギー線の透過率が高い傾向がある。基材22aが厚いほど、基材22aにおける活性エネルギー線の透過率が低い傾向がある。   The thickness of the base material 22a may be, for example, 5 μm or more and 100 μm or less. The thinner the substrate 22a, the higher the transmittance of active energy rays in the substrate 22a. The thicker the base material 22a, the lower the transmittance of active energy rays in the base material 22a.

[貼合工程]
図1及び図2中の(a)に示すように、第一積層体24aを方向d24に沿って搬送し、一対の貼合ロール(ロール7a及び7b)の間へ供給する。ガイドロール5aは、第一積層体24が有する保護フィルム34の表面に接する。また、第二積層体22bを方向d22に沿って搬送し、一対のロール7a及び7bの間へ供給する。ガイドロール5bは、第二積層体22bが有する基材22aの表面に接する。
[Bonding process]
As shown to (a) in FIG.1 and FIG.2, the 1st laminated body 24a is conveyed along the direction d24, and is supplied between a pair of bonding rolls (roll 7a and 7b). The guide roll 5 a is in contact with the surface of the protective film 34 included in the first laminate 24. Moreover, the 2nd laminated body 22b is conveyed along the direction d22, and is supplied between a pair of rolls 7a and 7b. The guide roll 5b is in contact with the surface of the base material 22a included in the second laminate 22b.

図1並びに図2中の(a)及び(b)に示すように、貼合工程では、第二積層体22bの塗膜32aを、第一積層体24の偏光子38に対向させ、第一積層体24及び第二積層体を重ねる。重なった第一積層体24及び第二積層体22bを一対のロール7a及び7bで挟む。換言すると、一対の貼合ロールを用いて、基材22aを、塗膜32aを介して、偏光子38の表面に貼合する。その結果、基材22aと、基材22aに重なる塗膜32aと、塗膜32aに重なる偏光子38と、偏光子38に重なる接着剤層36と、接着剤層36に重なる保護フィルム34とを備える第三積層体26aが得られる。   As shown to (a) and (b) in FIG.1 and FIG.2, in the bonding process, the coating film 32a of the 2nd laminated body 22b is made to oppose the polarizer 38 of the 1st laminated body 24, and the 1st The stacked body 24 and the second stacked body are stacked. The overlapped first laminate 24 and second laminate 22b are sandwiched between a pair of rolls 7a and 7b. In other words, the base material 22a is bonded to the surface of the polarizer 38 through the coating film 32a using a pair of bonding rolls. As a result, the base material 22a, the coating film 32a overlapping the base material 22a, the polarizer 38 overlapping the coating film 32a, the adhesive layer 36 overlapping the polarizer 38, and the protective film 34 overlapping the adhesive layer 36 are provided. The 3rd laminated body 26a provided is obtained.

[硬化工程及び剥離工程]
図1に示すように、第三積層体26aを一対のロール7a及び7bの間から方向d26に沿って搬送する。そして硬化工程では、照射装置3を用いて、活性エネルギー線Lを基材22a側から塗膜32aへ照射する。つまり、活性エネルギー線Lを、基材22aを介して、塗膜32aへ間接的に照射する。つまり、活性エネルギー線Lは、基材22aを透過して、塗膜32aへ到達する。活性エネルギー線Lの照射により、塗膜32aが硬化して樹脂層32bになる。
[Curing process and peeling process]
As shown in FIG. 1, the 3rd laminated body 26a is conveyed along the direction d26 from between a pair of rolls 7a and 7b. In the curing step, the active energy ray L is irradiated to the coating film 32a from the substrate 22a side using the irradiation device 3. That is, the active energy ray L is indirectly irradiated to the coating film 32a through the base material 22a. That is, the active energy ray L passes through the base material 22a and reaches the coating film 32a. By the irradiation with the active energy ray L, the coating film 32a is cured to become the resin layer 32b.

照射装置3は、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、又はメタルハライドランプであってよい。   The irradiation device 3 may be, for example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave excitation mercury lamp, or a metal halide lamp.

硬化工程後に剥離工程を実施してよい。図1並びに図2中の(b)及び(c)に示すように、剥離工程では、基材22aを第三積層体26aの樹脂層32bから剥離する。剥離工程において、ガイドロール5cは、第三積層体26aが有する基材22aに接する。基材22aが剥離された第四積層体26bは方向d26へ搬送される。   A peeling step may be performed after the curing step. As shown in FIGS. 1 and 2 (b) and (c), in the peeling step, the base material 22a is peeled from the resin layer 32b of the third laminate 26a. In the peeling step, the guide roll 5c contacts the base material 22a included in the third stacked body 26a. The 4th laminated body 26b from which the base material 22a was peeled is conveyed in the direction d26.

剥離工程を実施した場合、偏光板は、基材22aを備えない。剥離工程を経て完成された偏光板(第四積層体26b)は、図2中の(c)に示すように、樹脂層32bと、樹脂層32に直接重なる偏光子38と、接着剤層36を介して偏光子38に貼合された保護フィルム34と、を備える。また、後工程で基材22aが不要にならない限り、基材22aを剥離しなくても良い。基材22aが樹脂層32bを保護することにより、樹脂層32bの表面における傷や凹凸の発生を抑制することが出来る。   When the peeling step is performed, the polarizing plate does not include the base material 22a. The polarizing plate (fourth laminated body 26b) completed through the peeling step includes a resin layer 32b, a polarizer 38 that directly overlaps the resin layer 32, and an adhesive layer 36, as shown in FIG. And a protective film 34 bonded to the polarizer 38 via the. Moreover, as long as the base material 22a becomes unnecessary in a post process, it is not necessary to peel the base material 22a. By the base material 22a protecting the resin layer 32b, it is possible to suppress the generation of scratches and irregularities on the surface of the resin layer 32b.

樹脂層32bは、偏光子38を保護する保護層であってよい。樹脂層32bは、光学補償層(OC層)であってもよい。偏光板(第四積層体26b)は、保護フィルム34又は樹脂層32bに積層された他の光学層を備えてよい。他の光学層は、例えば、反射型偏光フィルム、防眩機能付フィルム、表面反射防止機能付フィルム、反射フィルム、半透過反射フィルム、視野角補償フィルム、ハードコート層、粘着剤層、タッチセンサー層、帯電防止層又は防汚層であってよい。   The resin layer 32 b may be a protective layer that protects the polarizer 38. The resin layer 32b may be an optical compensation layer (OC layer). The polarizing plate (fourth laminated body 26b) may include another optical layer laminated on the protective film 34 or the resin layer 32b. Other optical layers include, for example, a reflective polarizing film, a film with antiglare function, a film with antireflection function, a reflective film, a transflective film, a viewing angle compensation film, a hard coat layer, an adhesive layer, and a touch sensor layer. It may be an antistatic layer or an antifouling layer.

硬化工程では、基材22aにおける活性エネルギー線Lの透過率が70%以上であるため、基材における活性エネルギー線Lの透過率が下限値未満である場合に比べて、塗膜32aが均一且つ十分に硬化し易い。その結果、硬度が高く傷付き難い樹脂層32bが形成される。したがって、基材22aを樹脂層32bから剥離した場合であっても、樹脂層32bの一部又は未硬化の樹脂が剥離後の基材22aの表面に付着し難い。つまり、基材22aに接していた樹脂層32bの表面が基材22aの剥離に伴って損傷することが抑制される。以上の理由により、フィルム状の偏光子38(光学フィルム)に重なる樹脂層32bの損傷が抑制される。   In the curing step, since the transmittance of the active energy ray L in the base material 22a is 70% or more, the coating film 32a is more uniform than in the case where the transmittance of the active energy ray L in the base material is less than the lower limit value. It is easy to cure sufficiently. As a result, the resin layer 32b having a high hardness and hardly scratched is formed. Therefore, even when the base material 22a is peeled from the resin layer 32b, a part of the resin layer 32b or uncured resin is difficult to adhere to the surface of the base material 22a after peeling. That is, it is suppressed that the surface of the resin layer 32b that has been in contact with the base material 22a is damaged as the base material 22a is peeled off. For the above reasons, damage to the resin layer 32b overlapping the film-like polarizer 38 (optical film) is suppressed.

剥離工程を実施する場合、塗工工程では、塗膜32aを、粗面化処理が施されていない基材22aの表面に形成してよい。粗面化処理を基材22aに施す場合、塗膜32aが基材22aの表面に密着し易く、基材22aが硬化後の塗膜32a(樹脂層32b)から剥がれ難くなる。また、粗面化処理を基材22aに施す場合、基材22aに接していた樹脂層32bの表面が基材22aの剥離に伴って損傷することがある。したがって、塗膜32aを、粗面化処理が施されていない基材22aの表面に形成することにより、剥離工程において基材22aを樹脂層32bから剥がし易くなり、樹脂層32bの表面の損傷が抑制される。粗面化処理は、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、又はフレーム処理(火炎処理)であってよい。   When performing a peeling process, you may form the coating film 32a in the surface of the base material 22a which has not been roughened in a coating process. When the roughening treatment is applied to the base material 22a, the coating film 32a is likely to be in close contact with the surface of the base material 22a, and the base material 22a is difficult to peel off from the cured coating film 32a (resin layer 32b). Further, when the surface roughening treatment is performed on the base material 22a, the surface of the resin layer 32b in contact with the base material 22a may be damaged as the base material 22a is peeled off. Therefore, by forming the coating film 32a on the surface of the base material 22a that has not been subjected to the roughening treatment, the base material 22a is easily peeled off from the resin layer 32b in the peeling step, and the surface of the resin layer 32b is damaged. It is suppressed. The surface roughening treatment may be, for example, plasma treatment, corona treatment, ultraviolet irradiation treatment, or flame treatment (flame treatment).

剥離工程を実施しなくてもよい。剥離工程を実施しない場合、塗工工程前に基材22aの表面に粗面化処理を施してよい。続く塗工工程では、塗膜32aを、粗面化された基材22aの表面に形成してよい。その結果、基材22aが樹脂層32bから剥離し難くなる。剥離工程を実施しない場合、完成された偏光板は、基材22aと、基材に重なる樹脂層32bと、樹脂層32に重なる偏光子38と、接着剤層36を介して偏光子38に貼合された保護フィルム34と、を備える。基材22aは偏光子38を保護するフィルムとして機能してよい。偏光板は、基材22aに積層される他の光学層を備えてよい。   The peeling process may not be performed. When not performing a peeling process, you may give a roughening process to the surface of the base material 22a before a coating process. In the subsequent coating process, the coating film 32a may be formed on the surface of the roughened substrate 22a. As a result, the base material 22a becomes difficult to peel from the resin layer 32b. When the peeling process is not performed, the completed polarizing plate is attached to the polarizer 38 via the base material 22a, the resin layer 32b overlapping the base material, the polarizer 38 overlapping the resin layer 32, and the adhesive layer 36. And a combined protective film 34. The base material 22 a may function as a film that protects the polarizer 38. The polarizing plate may include another optical layer laminated on the base material 22a.

(第二実施形態)
本発明の第二実施形態に係る偏光板の製造方法は、以下に記載する事項を除いて、第一実施形態と同じである。第二実施形態においても、第一実施形態と同様に、偏光子38(光学フィルム)に重なる樹脂層32bの損傷が抑制される。以下では、第一実施形態及び第二実施形態に共通する事項の説明を省略する。
(Second embodiment)
The manufacturing method of the polarizing plate which concerns on 2nd embodiment of this invention is the same as 1st embodiment except the matter described below. Also in the second embodiment, similarly to the first embodiment, damage to the resin layer 32b overlapping the polarizer 38 (optical film) is suppressed. Hereinafter, descriptions of matters common to the first embodiment and the second embodiment are omitted.

第二実施形態に係る偏光板の製造方法は、第一実施形態と同様に、少なくとも塗工工程と貼合工程と硬化工程とを備える。ただし、第二実施形態の塗工工程では、一対の基材其々の表面に塗膜を形成する。第二実施形態の貼合工程では、フィルム状の偏光子を一対の基材の間に配置する。そして、一対の基材を、塗膜を介して、偏光子の両面に貼合する。第二実施形態の硬化工程では、活性エネルギー線を一対の基材其々の側から塗膜へ照射することにより、偏光子を挟む一対の樹脂層を形成する。これらの工程を以下に詳しく説明する。   The manufacturing method of the polarizing plate which concerns on 2nd embodiment is equipped with a coating process, a bonding process, and a hardening process at least similarly to 1st embodiment. However, in the coating process of the second embodiment, a coating film is formed on the surface of each of the pair of base materials. In the bonding step of the second embodiment, a film-like polarizer is disposed between a pair of substrates. And a pair of base material is bonded on both surfaces of a polarizer through a coating film. In the curing step of the second embodiment, a pair of resin layers sandwiching the polarizer are formed by irradiating the coating film with active energy rays from the respective sides of the pair of base materials. These steps will be described in detail below.

図3及び図4中の(a)に示すように、第二実施形態の塗工工程では、塗工装置1aを用いて、活性エネルギー線硬化性樹脂を含む塗膜54aを、フィルム状の基材44aの表面に形成して、積層体44bを作製する。第二実施形態の積層体44bは、第一実施形態の第二積層体22bと同じであってよい。また塗工工程では、塗工装置1bを用いて、活性エネルギー線硬化性樹脂を含む塗膜52aを、フィルム状の基材42aの表面に形成して、積層体42bを作製する。第二実施形態の積層体42bは、第一実施形態の第二積層体22bと同じであってよい。積層体44bの塗膜54aの組成は、積層体42bの塗膜52aと同じであってよい。積層体44bの塗膜54aの組成は、積層体42bの塗膜52aと異なっていてもよい。積層体44bの基材44aの組成は、積層体42bの基材42aと同じであってよい。積層体44bの基材44aの組成は、積層体42bの基材42aと異なっていてもよい。以上のように、塗膜52aを、偏光子38の表面ではなく基材42aの表面に形成するので、塗工装置1bが偏光子38の表面に直接接触することがない。また、塗膜54aを、偏光子38の表面ではなく基材44aの表面に形成するので、塗工装置1aが偏光子38の表面に直接接触することがない。したがって、塗工装置1a及び1bとの接触に起因する偏光子38の両表面の損傷もない。   As shown to (a) in FIG.3 and FIG.4, in the coating process of 2nd embodiment, using the coating apparatus 1a, the coating film 54a containing active energy ray curable resin is made into film-form base | substrate. Formed on the surface of the material 44a to produce a laminate 44b. The laminated body 44b of the second embodiment may be the same as the second laminated body 22b of the first embodiment. In the coating process, the coating device 1b is used to form the coating film 52a containing the active energy ray-curable resin on the surface of the film-like base material 42a to produce the laminate 42b. The laminated body 42b of the second embodiment may be the same as the second laminated body 22b of the first embodiment. The composition of the coating film 54a of the laminate 44b may be the same as that of the coating film 52a of the laminate 42b. The composition of the coating film 54a of the laminate 44b may be different from the coating film 52a of the laminate 42b. The composition of the base material 44a of the stacked body 44b may be the same as that of the base material 42a of the stacked body 42b. The composition of the base material 44a of the laminate 44b may be different from the base material 42a of the laminate 42b. As described above, since the coating film 52a is formed not on the surface of the polarizer 38 but on the surface of the base material 42a, the coating apparatus 1b does not directly contact the surface of the polarizer 38. Moreover, since the coating film 54a is formed not on the surface of the polarizer 38 but on the surface of the substrate 44a, the coating apparatus 1a does not directly contact the surface of the polarizer 38. Accordingly, there is no damage on both surfaces of the polarizer 38 due to contact with the coating apparatuses 1a and 1b.

図3に示すように、第二実施形態では、積層体44bを方向d44に沿って搬送し、一対の貼合ロール(ロール7c及び7d)の間へ供給する。ガイドロール5dは、積層体44bが有する基材44aの表面に接する。また、積層体42bを方向d42に沿って搬送し、ロール7c及び7dの間へ供給する。ガイドロール5eは、積層体42bが有する基材42aの表面に接する。また、フィルム状の偏光子38を、ロール7c及び7dの間へ供給する。   As shown in FIG. 3, in 2nd embodiment, the laminated body 44b is conveyed along the direction d44, and is supplied between a pair of bonding rolls (roll 7c and 7d). The guide roll 5d is in contact with the surface of the base material 44a included in the stacked body 44b. Moreover, the laminated body 42b is conveyed along the direction d42, and is supplied between the rolls 7c and 7d. The guide roll 5e is in contact with the surface of the base material 42a included in the stacked body 42b. Moreover, the film-like polarizer 38 is supplied between the rolls 7c and 7d.

図3並びに図4中の(a)及び(b)に示すように、第二実施形態の貼合工程では、偏光子38を一対の積層体44b及び42bの間に挟む。積層体44bの塗膜54aは、偏光子38の一方の表面に対向する。積層体42bの塗膜52aは、偏光子38の他方の表面に対向する。そして、積層体44b、偏光子38及び積層体42bを重ねて一対のロール7c及び7dで挟む。その結果、図4中の(b)に示すように、基材44aが、塗膜54aを介して、偏光子38の一方の表面に貼合され、基材42aが、塗膜52aを介して、偏光子38の他方の表面に貼合される。つまり、貼合工程では、基材42aと、基材42aに重なる塗膜52aと、塗膜52aに重なる偏光子38と、偏光子38に重なる塗膜54aと、塗膜54aに重なる基材44aと、を備える積層体46aが得られる。   As shown to (a) and (b) in FIG.3 and FIG.4, in the bonding process of 2nd embodiment, the polarizer 38 is pinched | interposed between a pair of laminated bodies 44b and 42b. The coating film 54 a of the laminate 44 b faces one surface of the polarizer 38. The coating film 52a of the laminate 42b faces the other surface of the polarizer 38. Then, the stacked body 44b, the polarizer 38, and the stacked body 42b are overlapped and sandwiched between a pair of rolls 7c and 7d. As a result, as shown in FIG. 4B, the base material 44a is bonded to one surface of the polarizer 38 through the coating film 54a, and the base material 42a is passed through the coating film 52a. , And bonded to the other surface of the polarizer 38. That is, in the bonding step, the base material 42a, the coating film 52a overlapping the base material 42a, the polarizer 38 overlapping the coating film 52a, the coating film 54a overlapping the polarizer 38, and the base material 44a overlapping the coating film 54a. And a laminated body 46a comprising:

図4に示すように、第二実施形態では、積層体46を一対のロール7c及び7dの間から方向d46に沿って搬送する。そして硬化工程では、照射装置3aを用いて、活性エネルギー線Lを基材44aの側から塗膜54aへ間接的に照射して、塗膜54aを硬化させる。つまり、活性エネルギー線Lが、基材44aを透過して、塗膜54aに到達する。同時に、照射装置3bを用いて、活性エネルギー線Lを基材42aの側から塗膜52aへ間接的に照射して、塗膜52aを硬化させる。つまり、活性エネルギー線Lが、基材42aを透過して、塗膜52aに到達する。以上の硬化工程により、塗膜52aから樹脂層52bが形成され、塗膜54aから樹脂層54bが形成される。   As shown in FIG. 4, in 2nd embodiment, the laminated body 46 is conveyed along the direction d46 from between a pair of rolls 7c and 7d. In the curing step, the coating device 54a is cured by indirectly irradiating the coating material 54a with the active energy ray L from the side of the substrate 44a using the irradiation device 3a. That is, the active energy ray L passes through the base material 44a and reaches the coating film 54a. At the same time, using the irradiation device 3b, the active energy ray L is indirectly irradiated from the substrate 42a side to the coating film 52a to cure the coating film 52a. That is, the active energy ray L passes through the base material 42a and reaches the coating film 52a. Through the above curing process, the resin layer 52b is formed from the coating film 52a, and the resin layer 54b is formed from the coating film 54a.

図3及び図4中の(b)及び(c)に示すように、第二実施形態では、硬化工程後に剥離工程を実施してよい。剥離工程では、基材44aを積層体46aの樹脂層54bから剥離する。剥離工程において、ガイドロール5fは、積層体46aが有する基材44aに接する。また剥離工程では、基材42aを積層体46aの樹脂層52bから剥離する。剥離工程において、ガイドロール5gは、積層体46aが有する基材42aに接する。基材42a及び44aが剥離された積層体46bは方向d46へ搬送される。   As shown to (b) and (c) in FIG.3 and FIG.4, in 2nd embodiment, you may implement a peeling process after a hardening process. In the peeling step, the base material 44a is peeled from the resin layer 54b of the laminated body 46a. In the peeling step, the guide roll 5f is in contact with the base material 44a included in the stacked body 46a. In the peeling process, the base material 42a is peeled from the resin layer 52b of the laminate 46a. In the peeling step, the guide roll 5g is in contact with the base material 42a included in the stacked body 46a. The laminated body 46b from which the base materials 42a and 44a have been peeled is conveyed in the direction d46.

剥離工程を実施した場合、偏光板は、基材42a又は44aを備えない。例えば、剥離工程を経て完成された偏光板は、少なくとも、樹脂層52bと、樹脂層52bに直接重なる偏光子38と、偏光子38に直接重なる別の樹脂層54bと、を備えていればよい。偏光板は、樹脂層52b又は54bに積層された他の光学層を備えてよい。また、後工程で基材42a又は44aが不要にならない限り、基材42a又は44aを剥離しなくても良い。基材42aが樹脂層52bを保護することにより、樹脂層52bの表面における傷や凹凸の発生を抑制することが出来る。基材44aが樹脂層54bを保護することにより、樹脂層54bの表面における傷や凹凸の発生を抑制することが出来る。   When the peeling process is performed, the polarizing plate does not include the base material 42a or 44a. For example, the polarizing plate completed through the peeling process may include at least the resin layer 52b, the polarizer 38 that directly overlaps the resin layer 52b, and another resin layer 54b that directly overlaps the polarizer 38. . The polarizing plate may include another optical layer laminated on the resin layer 52b or 54b. Further, the base material 42a or 44a may not be peeled off unless the base material 42a or 44a becomes unnecessary in a subsequent process. Since the base material 42a protects the resin layer 52b, it is possible to suppress the generation of scratches and irregularities on the surface of the resin layer 52b. By the base material 44a protecting the resin layer 54b, it is possible to suppress the generation of scratches and irregularities on the surface of the resin layer 54b.

剥離工程を実施する場合、粗面化処理が施されていない基材42a及び44aを塗工工程に用いればよい。   When carrying out the peeling step, the base materials 42a and 44a that have not been subjected to the roughening treatment may be used in the coating step.

第二実施形態では、剥離工程において基材42a又は44aのうちいずれか一方のみを剥離してよい。基材42a又は44aのうちいずれか一方のみを剥離する場合、剥離しない側の基材として、粗面化処理が施された基材を塗工工程に用いればよい。第二実施形態では、剥離工程を実施しなくてもよい。剥離工程を実施しない場合、粗面化処理が施された基材を塗工工程に用いればよい。剥離工程を実施せずに完成された偏光板の外表面には基材42a及び44aが配置される。この偏光板は、基材42a又は44aに積層された他の光学層を備えてよい。   In 2nd embodiment, you may peel only either one of the base materials 42a or 44a in a peeling process. When only one of the base materials 42a or 44a is peeled off, a base material that has been subjected to a roughening treatment may be used in the coating process as the base material on the side that does not peel off. In the second embodiment, the peeling process may not be performed. In the case where the peeling step is not performed, a base material that has been subjected to a roughening treatment may be used in the coating step. Substrates 42a and 44a are arranged on the outer surface of the polarizing plate completed without performing the peeling step. The polarizing plate may include another optical layer laminated on the base material 42a or 44a.

以上、本発明の第一実施形態及び第二実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではない。   As mentioned above, although 1st embodiment and 2nd embodiment of this invention were described, this invention is not limited to the said embodiment at all.

例えば、樹脂層が形成される光学フィルムは、偏光子ではなく、他の光学層であってもよい。例えば、偏光子の表面に樹脂層を形成する場合の同様の方法で、保護フィルム、反射型偏光フィルム、防眩機能付フィルム、表面反射防止機能付フィルム、反射フィルム、半透過反射フィルム、視野角補償フィルム、タッチセンサー層又は液晶層等の光学層の表面に樹脂層を形成してもよい。   For example, the optical film on which the resin layer is formed may be other optical layers instead of the polarizer. For example, in the same manner when a resin layer is formed on the surface of a polarizer, a protective film, a reflective polarizing film, a film with an antiglare function, a film with a surface antireflection function, a reflective film, a transflective film, a viewing angle A resin layer may be formed on the surface of an optical layer such as a compensation film, a touch sensor layer, or a liquid crystal layer.

以下、本発明の内容を実施例及び比較例を用いてより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, although the content of the present invention is explained in detail using an example and a comparative example, the present invention is not limited to the following examples.

[実施例1]
(1)プライマー層形成工程
ポリビニルアルコール粉末を95℃の熱水に溶解し、濃度3重量%のポリビニルアルコール水溶液を調製した。ポリビニルアルコール粉末としては、日本合成化学工業(株)製の「Z−200」(平均重合度1100、ケン化度99.5モル%)を用いた。ポリビニルアルコール水溶液に架橋剤を混合した。架橋剤の添加量は、ポリビニルアルコール粉末6重量部に対して5重量部に調整した。架橋剤としては、田岡化学工業(株)製の「スミレーズレジン650」を用いた。以上の工程により、プライマー層形成用の塗工液(塗工液1)を得た。
[Example 1]
(1) Primer layer formation process Polyvinyl alcohol powder was melt | dissolved in 95 degreeC hot water, and the polyvinyl alcohol aqueous solution with a density | concentration of 3 weight% was prepared. As the polyvinyl alcohol powder, “Z-200” (average polymerization degree 1100, saponification degree 99.5 mol%) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. was used. A crosslinking agent was mixed in the polyvinyl alcohol aqueous solution. The addition amount of the crosslinking agent was adjusted to 5 parts by weight with respect to 6 parts by weight of the polyvinyl alcohol powder. As the cross-linking agent, “SUMIREZ RESIN 650” manufactured by Taoka Chemical Co., Ltd. was used. Through the above steps, a primer layer forming coating solution (coating solution 1) was obtained.

基材フィルムとして、厚み90μmの未延伸ポリプロピレンフィルム(融点:163℃)を用意した。基材フィルムの片面にコロナ処理を施した。コロナ処理が施された基材フィルムの表面に、小径グラビアコーターを用いて、塗工液1を塗布した。基材フィルムに塗布された塗工液1を80℃で10分間乾燥させることにより、プライマー層を形成した。プライマー層の厚みは0.2μmであった。   An unstretched polypropylene film (melting point: 163 ° C.) having a thickness of 90 μm was prepared as a base film. One side of the substrate film was subjected to corona treatment. The coating liquid 1 was apply | coated to the surface of the base film to which the corona treatment was performed using the small diameter gravure coater. The primer layer was formed by drying the coating liquid 1 apply | coated to the base film at 80 degreeC for 10 minute (s). The thickness of the primer layer was 0.2 μm.

(2)積層フィルムの作製(樹脂層形成工程)
ポリビニルアルコール粉末を95℃の熱水に溶解し、濃度8重量%のポリビニルアルコール水溶液を調製した。ポリビニルアルコール粉末としては、(株)クラレ製の「PVA124」(平均重合度2400、ケン化度98.0〜99.0モル%)を用いた。このポリビニルアルコール水溶液を、ポリビニルアルコール系樹脂層形成用の塗工液(塗工液2)として用いた。
(2) Production of laminated film (resin layer forming step)
Polyvinyl alcohol powder was dissolved in hot water at 95 ° C. to prepare a polyvinyl alcohol aqueous solution having a concentration of 8% by weight. As the polyvinyl alcohol powder, “PVA124” (average polymerization degree 2400, saponification degree 98.0 to 99.0 mol%) manufactured by Kuraray Co., Ltd. was used. This aqueous polyvinyl alcohol solution was used as a coating liquid (coating liquid 2) for forming a polyvinyl alcohol-based resin layer.

基材フィルムに形成されたプライマー層の表面に、リップコーターを用いて、塗工液2を塗布した。プライマー層の表面に塗布された塗工液2を、80℃で20分間乾燥させることにより、ポリビニルアルコール系樹脂層をプライマー層上に形成した。以上の工程により、基材フィルムと、基材フィルムに重なるプライマー層と、プライマー層に重なるポリビニルアルコール系樹脂層とからなる積層フィルムを得た。   The coating liquid 2 was apply | coated to the surface of the primer layer formed in the base film using the lip coater. The coating liquid 2 applied on the surface of the primer layer was dried at 80 ° C. for 20 minutes to form a polyvinyl alcohol-based resin layer on the primer layer. The laminated film which consists of a base film, the primer layer which overlaps with a base film, and the polyvinyl alcohol-type resin layer which overlaps with a primer layer was obtained by the above process.

(3)延伸フィルムの作製(延伸工程)
160℃で5.3倍の積層フィルムの自由端一軸延伸を実施して、延伸フィルムを得た。積層フィルムの延伸には、フローティング式の縦一軸延伸装置を用いた。延伸後のポリビニルアルコール系樹脂層の厚みは5.0μmであった。
(3) Production of stretched film (stretching process)
The free end uniaxial stretching of the 5.3 times laminated film was performed at 160 ° C. to obtain a stretched film. A floating vertical uniaxial stretching apparatus was used for stretching the laminated film. The thickness of the stretched polyvinyl alcohol resin layer was 5.0 μm.

(4)偏光性積層フィルムの作製(染色工程)
延伸フィルムを、ヨウ素及びヨウ化カリウムの水溶液(染色液)に約180秒間浸漬して、ポリビニルアルコール系樹脂層の染色処理を行った。染色液の温度は30℃に調整した。染色液中のヨウ素の重量は、水100重量部あたり0.6重量部に調整した。染色液中のヨウ化カリウムの重量は、水100重量部あたり10重量部に調整した。染色処理後、10℃の純水を用いて、余分な染色液をポリビニルアルコール系樹脂層から洗い流した。
(4) Production of polarizing laminated film (dyeing process)
The stretched film was immersed in an aqueous solution (dyeing solution) of iodine and potassium iodide for about 180 seconds to dye the polyvinyl alcohol resin layer. The temperature of the staining solution was adjusted to 30 ° C. The weight of iodine in the staining solution was adjusted to 0.6 parts by weight per 100 parts by weight of water. The weight of potassium iodide in the staining solution was adjusted to 10 parts by weight per 100 parts by weight of water. After the dyeing treatment, the excess dyeing solution was washed away from the polyvinyl alcohol resin layer using 10 ° C. pure water.

続く第一架橋処理では、延伸フィルムを、ホウ酸を含む水溶液(第一架橋液)に120秒間浸漬した。第一架橋液の温度は78℃に調整した。第一架橋液中のホウ酸の重量は、水100重量部あたり9.5重量部に調整した。   In the subsequent first crosslinking treatment, the stretched film was immersed in an aqueous solution containing boric acid (first crosslinking solution) for 120 seconds. The temperature of the first crosslinking liquid was adjusted to 78 ° C. The weight of boric acid in the first crosslinking liquid was adjusted to 9.5 parts by weight per 100 parts by weight of water.

続く第二架橋処理では、延伸フィルムを、ホウ酸及びヨウ化カリウムを含む水溶液(第二架橋液)に60秒間浸漬した。第二架橋液の温度は70℃に調整した。第二架橋液中のホウ酸の重量は、水100重量部あたり9.5重量部に調整した。第二架橋液中のヨウ化カリウムの重量は、水100重量部あたり4重量部に調整した。   In the subsequent second crosslinking treatment, the stretched film was immersed in an aqueous solution (second crosslinking solution) containing boric acid and potassium iodide for 60 seconds. The temperature of the second cross-linking liquid was adjusted to 70 ° C. The weight of boric acid in the second crosslinking liquid was adjusted to 9.5 parts by weight per 100 parts by weight of water. The weight of potassium iodide in the second crosslinking liquid was adjusted to 4 parts by weight per 100 parts by weight of water.

第二架橋処理後、延伸フィルムを10℃の純水で10秒間洗浄した。洗浄後の延伸フィルムを40℃で300秒間乾燥させた。   After the second crosslinking treatment, the stretched film was washed with pure water at 10 ° C. for 10 seconds. The stretched film after washing was dried at 40 ° C. for 300 seconds.

以上の工程により、基材フィルムと、基材フィルムに重なるフィルム状の偏光子とからなる偏光性積層フィルムを得た。   By the above process, the polarizing laminated film which consists of a base film and a film-form polarizer which overlaps with a base film was obtained.

(5)保護フィルム付偏光子の作製
第一保護フィルムとして、トリアセチルセルロース系樹脂からなるフィルムを用意した。第一保護フィルムの厚みは、25μmであった。第一保護フィルムは、偏光板を表示用セル上に配置する際に外側(表示用セルとの反対側)に配置される。
(5) Production of Polarizer with Protective Film A film made of a triacetyl cellulose resin was prepared as the first protective film. The thickness of the first protective film was 25 μm. The first protective film is disposed on the outer side (opposite to the display cell) when the polarizing plate is disposed on the display cell.

第一保護フィルムの表面にコロナ処理を施した。コロナ処理が施された第一保護フィルムの表面に、紫外線硬化性接着剤を塗布して、第一接着剤層を形成した。紫外線硬化性接着剤としては、(株)ADEKA製の「KR−70T」を用いた。紫外線硬化性接着剤の塗布には、小径グラビアコーターを用いた。   The surface of the first protective film was subjected to corona treatment. An ultraviolet curable adhesive was applied to the surface of the first protective film subjected to the corona treatment to form a first adhesive layer. As the ultraviolet curable adhesive, “KR-70T” manufactured by ADEKA Corporation was used. A small-diameter gravure coater was used for application of the ultraviolet curable adhesive.

第一接着剤層を介して、第一保護フィルムを、偏光性積層フィルムが有する偏光子の表面に貼合した。第一保護フィルムの貼合には、一対の貼合ロールを用いた。   The first protective film was bonded to the surface of the polarizer of the polarizing laminate film via the first adhesive layer. A pair of bonding rolls was used for bonding the first protective film.

次いで、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を偏光性積層フィルム側から第一接着剤層へ照射することにより、第一接着剤層を硬化させた。硬化後の第一接着剤層の厚みは、1.2μmであった。紫外線の積算光量は200mJ/cm2に調整した。 Next, the first adhesive layer was cured by irradiating the first adhesive layer with ultraviolet rays from the polarizing laminated film side using a high-pressure mercury lamp. The thickness of the 1st adhesive bond layer after hardening was 1.2 micrometers. The integrated amount of ultraviolet light was adjusted to 200 mJ / cm 2 .

以上の工程により、基材フィルムと、基材フィルムに重なる偏光子と、偏光子に重なる第一接着剤層と、第一接着剤層を介して偏光子に貼合された第一保護フィルムと、からなる積層体を得た。この積層体から基材フィルムを剥離することにより、偏光子と、偏光子に重なる第一接着剤層と、第一接着剤層を介して偏光子に貼合された第一保護フィルムとからなる保護フィルム付偏光子を得た。   Through the above steps, the base film, the polarizer overlapping the base film, the first adhesive layer overlapping the polarizer, and the first protective film bonded to the polarizer via the first adhesive layer A laminated body consisting of was obtained. By peeling the substrate film from the laminate, the polarizer, the first adhesive layer overlapping the polarizer, and the first protective film bonded to the polarizer via the first adhesive layer are formed. A polarizer with a protective film was obtained.

(6)偏光板の作製
(塗工工程)
保護層を形成するために、活性エネルギー線硬化性樹脂(紫外線硬化性樹脂)の一種であるエポキシ系樹脂を用意した。保護層は、偏光板を表示用セル上に配置する際に表示用セル側に配置される。エポキシ系樹脂としては、(株)ADEKA製の「KR−25T」を用いた。転写基材として、環状ポリオレフィン系樹脂フィルムからなるフィルムを用意した。転写基材の厚さは20μmであった。小径グラビアコーターを用いて、エポキシ系樹脂を、基材の表面に塗布して、エポキシ系樹脂からなる塗膜を基材の表面に形成した。
(6) Production of polarizing plate (Coating process)
In order to form the protective layer, an epoxy resin which is a kind of active energy ray curable resin (ultraviolet curable resin) was prepared. The protective layer is disposed on the display cell side when the polarizing plate is disposed on the display cell. As the epoxy resin, “KR-25T” manufactured by ADEKA Corporation was used. A film made of a cyclic polyolefin resin film was prepared as a transfer substrate. The thickness of the transfer substrate was 20 μm. Using a small-diameter gravure coater, an epoxy resin was applied to the surface of the substrate to form a coating film made of the epoxy resin on the surface of the substrate.

(貼合工程)
転写基材を、塗膜を介して、保護フィルム付偏光子を構成する偏光子の表面に貼合した。貼合には、貼合ロールを用いた。
(Bonding process)
The transfer substrate was bonded to the surface of the polarizer constituting the polarizer with a protective film via the coating film. A pasting roll was used for pasting.

(硬化工程)
高圧水銀ランプを用いて、紫外線(活性エネルギー線)を、転写基材側から塗膜へ照射した。紫外線の照射により塗膜を硬化して、樹脂層を形成した。転写基材に照射された紫外線の積算光量は200mJ/cmに調整した。紫外線の波長は300nmであった。転写基材における紫外線の透過率を、下記表1に示す。樹脂層の厚みは、3.5μmであった。
(Curing process)
Using a high-pressure mercury lamp, the coating film was irradiated with ultraviolet rays (active energy rays) from the transfer substrate side. The coating film was cured by ultraviolet irradiation to form a resin layer. The integrated light quantity of the ultraviolet rays irradiated on the transfer substrate was adjusted to 200 mJ / cm 2 . The wavelength of the ultraviolet light was 300 nm. Table 1 below shows the transmittance of ultraviolet rays in the transfer substrate. The thickness of the resin layer was 3.5 μm.

(剥離工程)
硬化工程後、樹脂層から転写基材を剥離した。
(Peeling process)
After the curing step, the transfer substrate was peeled from the resin layer.

以上の工程により、樹脂層と、樹脂層に重なる偏光子と、第一接着剤層と、第一接着剤層を介して偏光子に貼合された第一保護フィルムと、を備える実施例1の偏光板を作製した。   Example 1 provided with the resin layer, the polarizer overlapped with the resin layer, the first adhesive layer, and the first protective film bonded to the polarizer through the first adhesive layer by the above steps. A polarizing plate was prepared.

[実施例1〜3、比較例1]
下記表1に示す転写基材を用いたこと以外は実施例1と同様の方法で、他の実施例及び比較例1其々の偏光板を作製した。他の実施例及び比較例1其々で用いた転写基材における紫外線の透過率を、下記表1に示す。
[Examples 1 to 3, Comparative Example 1]
Except having used the transfer base material shown in following Table 1, it carried out similarly to Example 1, and produced each Example and Comparative Example 1 each polarizing plate. Table 1 below shows the transmittance of ultraviolet rays in the transfer substrates used in the other Examples and Comparative Example 1.

[比較例2]
比較例2の塗工工程では、小径グラビアコーターを用いて、エポキシ系樹脂を、保護フィルム付偏光子を構成する偏光子の表面に直接塗布して、塗膜を形成した。
[Comparative Example 2]
In the coating process of Comparative Example 2, an epoxy resin was directly applied to the surface of the polarizer constituting the polarizer with a protective film using a small diameter gravure coater to form a coating film.

比較例2の硬化工程では、偏光子の表面に形成された塗膜に紫外線を直接照射して、樹脂層を偏光子の表面に形成した。   In the curing process of Comparative Example 2, the coating film formed on the surface of the polarizer was directly irradiated with ultraviolet rays to form a resin layer on the surface of the polarizer.

以上のように、転写基材を用いずに樹脂層を形成したこと以外は実施例1と同様の方法で、比較例2の偏光板を作製した。   As described above, a polarizing plate of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin layer was formed without using a transfer substrate.

<樹脂層の表面の観察>
実施例1の偏光板を切断して、サンプルを作製した。サンプルの寸法は、500mm×500mmであった。サンプルを蛍光灯下に配置し、サンプルが有する樹脂層の表面に光を当てた。樹脂層の表面における光の反射像を観察した。観察の結果を下記表1に示す。
<Observation of the surface of the resin layer>
The polarizing plate of Example 1 was cut to prepare a sample. The sample dimensions were 500 mm × 500 mm. The sample was placed under a fluorescent lamp, and light was applied to the surface of the resin layer included in the sample. A reflection image of light on the surface of the resin layer was observed. The results of observation are shown in Table 1 below.

実施例1と同様の方法で、他の実施例及び比較例其々の樹脂層の表面を観察した。観察の結果を下記表1に示す。下記表1に記載のAは、樹脂層の表面に傷及び凹凸が見られなかったことを意味する。Bは、樹脂層の表面に凹凸が見られたことを意味する。Cは、樹脂層の表面に傷が見られたことを意味する。   In the same manner as in Example 1, the surfaces of the resin layers in other Examples and Comparative Examples were observed. The results of observation are shown in Table 1 below. A in Table 1 below means that no scratches or irregularities were found on the surface of the resin layer. B means that irregularities were found on the surface of the resin layer. C means that the surface of the resin layer was scratched.

Figure 0006567931
Figure 0006567931

本発明によれば、光学フィルム表面及び光学フィルムに重なる樹脂層表面の損傷を抑制することができる積層光学フィルムを製造することが可能である。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is possible to manufacture the laminated | multilayer optical film which can suppress the damage of the resin film surface which overlaps with the optical film surface and an optical film.

38…偏光子(光学フィルム)、32a,52a,54a…塗膜、32b,52b,54b…樹脂層(保護層)、22a,42a,44a…基材、L…活性エネルギー線。   38 ... Polarizer (optical film), 32a, 52a, 54a ... coating film, 32b, 52b, 54b ... resin layer (protective layer), 22a, 42a, 44a ... base material, L ... active energy ray.

Claims (3)

活性エネルギー線硬化性樹脂を含む塗膜を、フィルム状の基材のコロナ処理が施されていない表面に形成する塗工工程と、
前記基材を、前記塗膜を介して、光学フィルムの表面に貼合する貼合工程と、
活性エネルギー線を、前記基材側から前記塗膜へ照射して、前記塗膜から樹脂層を形成する硬化工程と、
前記基材を前記樹脂層から剥離する剥離工程と、
を備え、
前記基材における前記活性エネルギー線の透過率が、70%以上であり、前記基材は、環状ポリオレフィン系樹脂又はアクリル系樹脂であり、
前記樹脂層は、前記光学フィルムを保護する保護層である、
積層光学フィルムの製造方法。
A coating step that forms a coating film containing an active energy ray-curable resin on the surface of the film-like substrate that has not been subjected to corona treatment ; and
A laminating step of laminating the base material on the surface of the optical film via the coating film,
A curing step of irradiating the coating film with active energy rays from the substrate side to form a resin layer from the coating film,
A peeling step of peeling the base material from the resin layer;
With
Transmittance of the active energy ray in said substrate, der 70% is, the substrate is a cyclic polyolefin resin or an acrylic resin,
The resin layer is a protective layer that protects the optical film.
A method for producing a laminated optical film.
前記活性エネルギー線が、紫外線である、
請求項1に記載の積層光学フィルムの製造方法。
The active energy ray is ultraviolet light;
The method for producing a laminated optical film according to claim 1.
前記活性エネルギー線硬化性樹脂が、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂及びオキセタン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種である、
請求項1又は2に記載の積層光学フィルムの製造方法。
The active energy ray-curable resin is at least one selected from the group consisting of epoxy resins, acrylic resins and oxetane resins,
The manufacturing method of the laminated | multilayer optical film of Claim 1 or 2 .
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