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JP6569484B2 - Method for producing coating film of electrophotographic photosensitive member - Google Patents
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JP6569484B2 - Method for producing coating film of electrophotographic photosensitive member - Google Patents

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Description

本発明は電子写真感光体の塗布膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a coating film on an electrophotographic photoreceptor.

電子写真方式は、インクジェット方式などの他のプリンタ方式に比較して高速で高画質な印刷が得られ印刷の生産性が高いため、オフィスでプリンタまたは複写機として広く使用されている。電子写真方式では、電子写真感光体に対し帯電/露光/現像/転写といった各処理がなされ印刷が行われる。
電子写真感光体(の塗布膜)を製造する方法として、浸漬塗布方式がひとつの一般的な方法となっている。浸漬塗布方式とは、被塗布部材を、(i)塗布液に浸漬させ(ii)その塗布液から特定の速度で引き上げ塗布し、被塗布部材上に塗布膜を形成する方式である。浸漬塗布方式は、円筒状の支持体上に下引き層や感光層などを順次積層形成するのに使用される。
The electrophotographic system is widely used as a printer or a copying machine in an office because printing with high speed and high image quality is obtained compared to other printer systems such as an ink jet system and printing productivity is high. In the electrophotographic system, printing such as charging / exposure / development / transfer is performed on the electrophotographic photosensitive member.
As a method for producing an electrophotographic photoreceptor (a coating film thereof), a dip coating method is one common method. The dip coating method is a method in which a member to be coated is (i) dipped in a coating solution and (ii) pulled up from the coating solution at a specific speed to form a coating film on the member to be coated. The dip coating method is used for sequentially laminating an undercoat layer and a photosensitive layer on a cylindrical support.

浸漬塗布方式の一例が特許文献1、2に開示されている。
特許文献1の技術では、被塗布部材を、塗布液中に沈めその円周方向に相対的に回転させながら引き上げ塗布しており、平滑な表面状態を得ようとしている(第2ページ左欄12行目〜同ページ右欄12行目、図1参照)。
特許文献2の技術では、はじめに、第1の被塗布部材を、塗布液に浸漬させ回転させながら引き上げ塗布し塗布膜の膜厚を測定する。その後、測定した膜厚と所定の膜厚とを比較し、そこで得た情報から被塗布部材の引き上げ塗布時の回転条件を取得する。最後に、取得した回転条件を用いて、第2の被塗布部材を、塗布液に浸漬させ回転させながら引き上げ塗布する(段落0011〜0016参照)。その結果、引き上げ塗布時の液ダレを防止し、塗布膜の薄膜化を抑制しようとしている。
An example of the dip coating method is disclosed in Patent Documents 1 and 2.
In the technique of Patent Document 1, a member to be coated is submerged in a coating solution and applied while being rotated relatively in the circumferential direction to obtain a smooth surface state (the second column, left column 12). Line to the right column of the same page, line 12, see FIG.
In the technique of Patent Document 2, first, the first member to be coated is lifted and applied while being immersed and rotated in the coating solution, and the thickness of the coating film is measured. Thereafter, the measured film thickness is compared with a predetermined film thickness, and the rotation condition at the time of applying the member to be coated is acquired from the information obtained there. Finally, using the obtained rotation conditions, the second member to be coated is pulled up and applied while being immersed in a coating solution and rotated (see paragraphs 0011 to 0016). As a result, liquid dripping at the time of pull-up coating is prevented, and attempts are made to suppress thinning of the coating film.

ところで、浸漬塗布方式では下記のような別の問題が浮上してきている。
上記のとおり、浸漬塗布方式では、被塗布部材を、(i)一度突入浸漬させてから、(ii)引き上げ塗布する、という2段階の操作が必要になる。引き上げ塗布時の品質を一定に維持するためには、その前段である突入浸漬動作の影響をも配慮する必要がある。すなわち、突入浸漬時に気泡が巻き込まれると、これが塗布液中で体積成長し、引き上げ塗布時に被塗布部材から解放され(脱離し)遊泳する。かかる場合、塗布膜の膜厚が部分的に変動し塗布膜不良が発生するときがある。これは電子写真方式において画像品質を大いに損なわせる原因となりうる。
By the way, in the dip coating method, another problem has emerged as follows.
As described above, the dip coating method requires a two-step operation in which the member to be coated is (i) rushed once and then (ii) pulled up and coated. In order to maintain the quality at the time of application by pulling up, it is necessary to consider the influence of the rush immersion operation that is the previous stage. That is, when air bubbles are involved during rush immersion, they grow in volume in the coating solution, and are released (detached) from the member to be coated when they are lifted and applied to swim. In such a case, the coating film thickness may partially fluctuate and a coating film defect may occur. This can be a cause of greatly damaging image quality in the electrophotographic system.

特開昭63−259669号公報JP-A 63-259669 特開2011−045863号公報JP 2011-045863 A

本発明者は、このような気泡巻き込みによる問題を検討したところ、下記のような技術的事項が内在していることを新たに見出した。
電子写真感光体では、露光時の光の波長と下引き層や感光層などの層厚とが干渉して干渉縞が発生するのを抑制するため、図5に示すとおり、支持体の表面100を粗面化する場合が少なくない。かかる場合、その粗面形状(Rtが±1μm前後)がきっかけになり気泡が巻き込まれることが想定される。支持体に下引き層を形成した後に感光層(電荷発生層など)を形成する場合など、前工程ですでに塗布形成した塗布膜全体の微細凹凸や、塗布膜の下端部102に凹凸(キズやわずかな塊など)ができた場合も、突入浸漬時に気泡が巻き込まれることが想定される。
The present inventor has studied the problem caused by such bubble entrainment and newly found out that the following technical matters are inherent.
In the electrophotographic photoreceptor, in order to suppress interference fringes due to interference between the wavelength of light at the time of exposure and the layer thickness of the undercoat layer, the photosensitive layer, etc., as shown in FIG. In many cases, the surface is roughened. In such a case, it is assumed that the rough surface shape (Rt is around ± 1 μm) is a trigger and bubbles are involved. In the case of forming a photosensitive layer (such as a charge generation layer) after forming an undercoat layer on the support, fine unevenness of the entire coating film already applied and formed in the previous process, or unevenness (scratches) on the lower end portion 102 of the coating film Even if a small lump or the like is formed, it is assumed that bubbles are involved during rush immersion.

一方、塗布膜全体の成膜均質性を得るため、被塗布部材や塗布液は温度管理されるが、その条件次第でも、気泡が体積成長することもあり、巻き込まれた細かな気泡が体積成長し引き上げ塗布時に遊泳することは考えられる。被塗布部材や塗布液の温度管理には制限があり、気泡成長の抑制には限度がある。もちろん、特許文献1、2のように、被塗布部材を引き上げ塗布時に回転させ、被塗布部材に巻き込まれた気泡を、遠心力で脱離させることも1つの方法ではある。ただ、遠心力だけで脱離させるのは不充分であるため、被塗布部材を高速回転させる必要があり、かかる場合、すでに形成した塗布膜を損傷させ、極端な例として塗布膜が剥離する可能性もある。被塗布部材を引き上げ塗布時に回転させるだけでは、気泡に起因する塗布膜不良を抑制するのは難しい。   On the other hand, in order to obtain film formation uniformity of the entire coating film, the temperature of the member to be coated and the coating liquid are controlled. However, depending on the conditions, bubbles may grow in volume, and the entrained fine bubbles may grow in volume. It is conceivable to swim at the time of lifting application. There is a limit to the temperature management of the member to be coated and the coating liquid, and there is a limit to the suppression of bubble growth. Of course, as in Patent Documents 1 and 2, it is also one method that the member to be coated is pulled up and rotated at the time of coating, and bubbles entrained in the member to be coated are detached by centrifugal force. However, it is not sufficient to detach only by centrifugal force, so it is necessary to rotate the member to be coated at high speed. In such a case, the coating film already formed can be damaged and the coating film can be peeled off as an extreme example. There is also sex. It is difficult to suppress coating film defects caused by bubbles only by pulling up and rotating the member to be coated during coating.

したがって、本発明の主な目的は、気泡に起因する塗布膜不良を抑制することができる電子写真感光体の塗布膜の製造方法を提供することにある。   Accordingly, a main object of the present invention is to provide a method for producing a coating film for an electrophotographic photosensitive member that can suppress coating film defects caused by bubbles.

上記課題を解決するため、本発明によれば、
円筒状の被塗布部材を準備する工程と、
前記被塗布部材を回転させながら塗布液に突入させ浸漬させる工程と、を備え、
前記被塗布部材を準備する工程では、
前記被塗布部材として支持体または下引き層が形成された支持体を準備し、
前記被塗布部材を前記塗布液に突入させ浸漬させる工程では、
前記支持体上に下引き層を形成するか、または前記支持体に形成済みの下引き層上に電
荷発生層を形成する時において、被塗布面の回転速度を100〜400mm/secとし、突入速度を25〜100mm/secとし、かつ、
前記塗布液の温度が20〜50℃において、当該塗布液の粘度が1〜800mPa・secとすることを特徴とする電子写真感光体の塗布膜の製造方法が提供される。
In order to solve the above problems, according to the present invention,
A step of preparing a cylindrical coated member;
E Bei and a step of immersing is plunged into the coating solution while rotating the object to be coated member,
In the step of preparing the member to be coated,
Preparing a support or a support on which an undercoat layer is formed as the coated member,
In the step of immersing the member to be coated into the coating liquid,
An undercoat layer is formed on the support, or an electrode is formed on the undercoat layer already formed on the support.
When forming the load generating layer, the rotational speed of the coated surface is 100 to 400 mm / sec, the rush speed is 25 to 100 mm / sec, and
In the temperature of the coating solution is 20 to 50 ° C., the manufacturing method of the coating film of the electrophotographic photosensitive member at which the viscosity of the coating solution is characterized to Rukoto and 1~800mPa · sec is provided.

本発明によれば、気泡に起因する塗布膜不良を抑制することができる。   According to the present invention, coating film defects caused by bubbles can be suppressed.

感光体の概略構成を示す図であって、特に上段部は部分的な断面拡大図である。It is a figure which shows schematic structure of a photoreceptor, Comprising: Especially the upper stage part is a partial expanded sectional view. 感光体の他の態様を示す部分的な断面拡大図である。It is a partial expanded sectional view which shows the other aspect of a photoreceptor. 浸漬塗布装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a dip coating apparatus. 感光体の塗布膜の製造方法を経時的に説明する概略フローチャートである。It is a schematic flowchart explaining the manufacturing method of the coating film of a photoreceptor over time. 従来の感光体の塗布膜製造における問題点を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the problem in the coating film manufacture of the conventional photoconductor.

以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
本願では、「〜」はその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で用いている。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the present application, “to” is used in the sense of including the numerical values described before and after the lower limit value and the upper limit value.

[感光体(10)]
図1に示す感光体10は電子写真方式において帯電/露光/現像/転写といった各処理がなされる、いわゆる電子写真感光体(感光体ドラム)の一例である。
図1拡大部に示すとおり、感光体10は基体として円筒状を呈した導電性の支持体1を有しており、支持体1上に下引き層2、感光層3および表面保護層6が積層された構成を有している。表面保護層6には金属酸化物微粒子7が含有されている。
感光層3は、光を吸収して電荷を発生する機能と電荷を輸送する機能の両方を有する層である。感光層3の層構成としては、電荷発生物質を含有する電荷発生層4と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層5とを積層した構成であってもよいし、電荷発生物質と電荷輸送物質とを含有する単層構成であってもよい。
感光層3は、その層構成を特に制限するものではなく、表面保護層6を含めた具体的な層構成として、たとえば以下に示すものがある。
(i)支持体1上に、下引き層2、電荷発生層4、電荷輸送層5および表面保護層6を順次積層した層構成
(ii)支持体1上に、下引き層2、電荷輸送物質と電荷発生物質とを含有する単層および表面保護層6を順次積層した層構成
感光体10は上記(i)または(ii)のいずれの層構成を有していてもよく、これらの中でも、支持体1上に、下引き層2、電荷発生層4、電荷輸送層5および表面保護層6を順次設けて作製された(i)の層構成を有するのが好ましい。
なお、図2に示すとおり、感光体10では表面保護層6がなくてもよい。
[Photosensitive member (10)]
A photoreceptor 10 shown in FIG. 1 is an example of a so-called electrophotographic photoreceptor (photoreceptor drum) that is subjected to various processes such as charging / exposure / development / transfer in an electrophotographic system.
As shown in the enlarged portion of FIG. 1, the photoconductor 10 has a conductive support 1 having a cylindrical shape as a substrate, and an undercoat layer 2, a photosensitive layer 3, and a surface protective layer 6 are formed on the support 1. It has a stacked configuration. The surface protective layer 6 contains metal oxide fine particles 7.
The photosensitive layer 3 is a layer having both a function of generating charges by absorbing light and a function of transporting charges. The layer structure of the photosensitive layer 3 may be a structure in which a charge generation layer 4 containing a charge generation material and a charge transport layer 5 containing a charge transport material are laminated, or a charge generation material and a charge transport material It may be a single layer structure containing
The layer structure of the photosensitive layer 3 is not particularly limited, and examples of a specific layer structure including the surface protective layer 6 include the following.
(I) Layer configuration in which an undercoat layer 2, a charge generation layer 4, a charge transport layer 5 and a surface protective layer 6 are sequentially laminated on the support 1. (ii) On the support 1, the undercoat layer 2, the charge transport. Layer structure in which a single layer containing a substance and a charge generating substance and a surface protective layer 6 are sequentially laminated. The photoconductor 10 may have any one of the above-described layer structures (i) or (ii). The substrate 1 preferably has a layer structure (i) prepared by sequentially providing the undercoat layer 2, the charge generation layer 4, the charge transport layer 5 and the surface protective layer 6 on the support 1.
As shown in FIG. 2, the photoreceptor 10 may not have the surface protective layer 6.

[支持体(1)]
支持体は導電性を有するものであればいずれのものでもよく、たとえば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛またはステンレスなどの金属を円筒状(ドラム状)に成形したものが使用される。
支持体の直径は好ましくは20〜150mmである。
支持体の長さは好ましくは220〜500mmである。
支持体の表面粗さRtは好ましくは0.6μm以上であり、より好ましくは0.9〜1.1μmである。「表面粗さRt」とは、JIS B 0601:2001に準拠するパラメーターであって、JIS規格による粗さ曲線の最大断面高さである。
[Support (1)]
Any support may be used as long as it has conductivity. For example, a support formed by forming a metal such as aluminum, copper, chromium, nickel, zinc, or stainless steel into a cylindrical shape (drum shape) is used.
The diameter of the support is preferably 20 to 150 mm.
The length of the support is preferably 220 to 500 mm.
The surface roughness Rt of the support is preferably 0.6 μm or more, more preferably 0.9 to 1.1 μm. “Surface roughness Rt” is a parameter based on JIS B 0601: 2001, and is the maximum cross-sectional height of a roughness curve according to JIS standards.

[下引き層(2)]
下引き層は、導電性の支持体1と感光層3との間に形成され、バリア機能と接着機能を有している。
下引き層は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリウレタンおよびゼラチンなどのバインダー樹脂を公知の溶媒に溶解させて浸漬塗布方式により形成される。バインダー樹脂としてはアルコール可溶性のポリアミド樹脂を使用するのが好ましい。
[Undercoat layer (2)]
The undercoat layer is formed between the conductive support 1 and the photosensitive layer 3 and has a barrier function and an adhesive function.
The undercoat layer is formed by a dip coating method by dissolving a binder resin such as casein, polyvinyl alcohol, nitrocellulose, ethylene-acrylic acid copolymer, polyamide, polyurethane and gelatin in a known solvent. It is preferable to use an alcohol-soluble polyamide resin as the binder resin.

下引き層には、抵抗調整の目的で、少なくとも金属酸化物が含有される。同様に、下引き層には、抵抗調整の目的で各種導電性微粒子などの無機微粒子が含有されてもよい。たとえば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウムおよび酸化ビスマスなどの各種金属酸化物が挙げられる。スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズおよび酸化ジルコニウムなどの超微粒子も用いることができる。
これら金属酸化物は1種類で使用されてもよいし、2種類以上が混合され使用されてもよい。2種類以上が混合され使用される場合には、固溶体または融着の形態をとってもよい。このような金属酸化物は、微粒子の状態で下引き層に含有されることが好ましく、その場合、個数平均一次粒径が0.3μm以下のものが好ましく、0.1μm以下のものがより好ましい。
当該金属酸化物の個数平均一次粒径の測定方法は表面保護層に含有される金属酸化物微粒子のそれと同様である(後述参照)。
The undercoat layer contains at least a metal oxide for the purpose of adjusting resistance. Similarly, the undercoat layer may contain inorganic fine particles such as various conductive fine particles for the purpose of adjusting the resistance. Examples thereof include various metal oxides such as alumina, zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide and bismuth oxide. Ultrafine particles such as indium oxide doped with tin, tin oxide doped with antimony, and zirconium oxide can also be used.
These metal oxides may be used alone or in combination of two or more. When two or more types are mixed and used, it may take the form of a solid solution or fusion. Such a metal oxide is preferably contained in the undercoat layer in the form of fine particles. In this case, the number average primary particle size is preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. .
The method for measuring the number average primary particle size of the metal oxide is the same as that of the metal oxide fine particles contained in the surface protective layer (see below).

下引き層の形成に使用可能な溶媒としては、前述した導電性微粒子や金属酸化物などの無機微粒子を良好に分散させ、ポリアミド樹脂をはじめとするバインダー樹脂を溶解するものが好ましい。
具体的には、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、t−ブタノールおよびsec−ブタノールなどの炭素数2〜4のアルコール類が挙げられる。これらアルコール類は、バインダー樹脂として公的なポリアミド樹脂に対し良好な溶解性と塗布性能を発現させることから好ましい。
かかる溶媒には、保存性や無機微粒子の分散性を向上させるために、以下のような助溶剤を併用することができる。好ましい効果が得られる助溶媒としては、たとえば、メタノール、ベンジルアルコール、トルエン、シクロヘキサノンおよびテトラヒドロフランなどが挙げられる。
As the solvent that can be used for forming the undercoat layer, a solvent that can satisfactorily disperse the above-described inorganic fine particles such as conductive fine particles and metal oxides and dissolve a binder resin such as a polyamide resin is preferable.
Specific examples include alcohols having 2 to 4 carbon atoms such as ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, t-butanol and sec-butanol. These alcohols are preferable because they exhibit good solubility and coating performance with respect to an official polyamide resin as a binder resin.
In order to improve storage stability and dispersibility of inorganic fine particles, the following cosolvents can be used in combination with such a solvent. Examples of the co-solvent that can provide a preferable effect include methanol, benzyl alcohol, toluene, cyclohexanone, and tetrahydrofuran.

塗布液形成時のバインダー樹脂濃度は、下引き層の層厚などに合わせて適宜選択することができる。
無機微粒子などを分散させるとき、バインダー樹脂に対する無機微粒子の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して無機微粒子を20〜400質量部とすることが好ましく、50〜200質量部とすることがより好ましい。
無機微粒子の分散手段は、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサーなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
下引き層の乾燥方法は、溶媒の種類や形成する層厚に応じて公知の乾燥方法を適宜選択することができ、特に熱乾燥が好ましい。
下引き層の層厚は、好ましくは1〜30μmの範囲内であり、より好ましくは0.1〜15μmであり、さらに好ましくは0.3〜10μmである。
The binder resin concentration at the time of forming the coating liquid can be appropriately selected according to the thickness of the undercoat layer.
When the inorganic fine particles are dispersed, the mixing ratio of the inorganic fine particles to the binder resin is preferably 20 to 400 parts by mass, more preferably 50 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. preferable.
Examples of the means for dispersing the inorganic fine particles include, but are not limited to, an ultrasonic disperser, a ball mill, a sand grinder, and a homomixer.
As a method for drying the undercoat layer, a known drying method can be appropriately selected according to the type of solvent and the layer thickness to be formed, and thermal drying is particularly preferable.
The thickness of the undercoat layer is preferably in the range of 1 to 30 μm, more preferably 0.1 to 15 μm, and still more preferably 0.3 to 10 μm.

[感光層(3)]
上記のとおり、感光層は、感光層の機能(電荷発生機能および電荷輸送機能)を、電荷発生層と電荷輸送層とに分離させた層構成のものがより好ましい。機能分離型の層構成によれば、繰り返し使用に伴う残留電位の上昇を小さく制御できる他、各種の電子写真特性を目的に合わせて制御しやすいメリットがある。
負帯電性感光体では、下引き層の上に電荷発生層、その上に電荷輸送層を設ける構成をとる。正帯電性感光体では、下引き層の上に電荷輸送層、その上に電荷発生層を設ける構成をとる。
感光層の好ましい態様は機能分離構造を有する負帯電性感光体である。
ここでは、感光層の具体例として、機能分離型の負帯電性感光体の感光層の各層について説明する。
[Photosensitive layer (3)]
As described above, the photosensitive layer preferably has a layer structure in which the functions (charge generation function and charge transport function) of the photosensitive layer are separated into the charge generation layer and the charge transport layer. According to the function-separated layer structure, the increase in the residual potential due to repeated use can be controlled to be small, and various electrophotographic characteristics can be easily controlled according to the purpose.
The negatively chargeable photoreceptor has a structure in which a charge generation layer is provided on an undercoat layer and a charge transport layer is provided thereon. The positively chargeable photoreceptor has a structure in which a charge transport layer is provided on the undercoat layer and a charge generation layer is provided thereon.
A preferred embodiment of the photosensitive layer is a negatively chargeable photoreceptor having a function separation structure.
Here, as a specific example of the photosensitive layer, each layer of the photosensitive layer of the function-separated negatively chargeable photoreceptor will be described.

[電荷発生層(4)]
電荷発生層は、電荷発生物質(CGM)とバインダー樹脂とを含有するものであり、電荷発生物質をバインダー樹脂溶液中に分散させた塗布液を用いて、浸漬塗布方式により形成される。
[Charge generation layer (4)]
The charge generation layer contains a charge generation material (CGM) and a binder resin, and is formed by a dip coating method using a coating liquid in which the charge generation material is dispersed in a binder resin solution.

電荷発生物質は、スーダンレッドやダイアンブルーなどのアゾ原料、ピレンキノンやアントアントロンなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴおよびチオインジゴなどのインジゴ顔料や、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニンおよびチタニルフタロシアニンなどのフタロシアニン顔料などが挙げられる。これらの中でも700nm以上に感度を有するフタロシアニン系顔料が好ましく、中でもチタニルフタロシアニン系顔料、特にY−チタニルフタロシアニン(Cu−Kα特性X線回折スペクトル測定で、少なくとも27.3°の位置に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン顔料で、780nmに非常に大きな吸収を有する。Y−TiPhと記載する。)を含有することが好ましいが、電荷発生物質はこれらに限定されるものではない。   Charge generation materials include azo raw materials such as Sudan Red and Diane Blue, quinone pigments such as pyrenequinone and anthanthrone, quinocyanine pigments, perylene pigments, indigo pigments such as indigo and thioindigo, hydroxygallium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, and titanyl phthalocyanine And phthalocyanine pigments. Of these, phthalocyanine pigments having a sensitivity of 700 nm or more are preferable, and titanyl phthalocyanine pigments, particularly Y-titanyl phthalocyanine (a maximum diffraction peak at a position of at least 27.3 ° in Cu-Kα characteristic X-ray diffraction spectrum measurement). It is preferable that the titanyl phthalocyanine pigment has a very large absorption at 780 nm, which is described as Y-TiPh, but the charge generation material is not limited thereto.

これらの電荷発生物質は単独、または公知のバインダー樹脂中に分散させる形態で使用することができる。   These charge generation materials can be used alone or in a form dispersed in a known binder resin.

電荷発生層を形成するバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、たとえば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、並びにこれらの樹脂の内二つ以上を含む共重合体樹脂(たとえば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂)およびポリ−ビニルカルバゾール樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   As the binder resin for forming the charge generation layer, known resins can be used. For example, polystyrene resin, polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, epoxy Resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin, silicone resin, melamine resin, and copolymer resin containing two or more of these resins (for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin) , Vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin) and poly-vinyl carbazole resin, but are not limited thereto.

電荷発生層を形成する場合は、バインダー樹脂を溶媒で溶解した溶液中に分散機を用いて電荷発生物質を分散させて塗布液を調製し、塗布液を浸漬塗布方式で一定の層厚に塗布し、塗布膜を乾燥させるのが好ましい。   When forming the charge generation layer, use a disperser to disperse the charge generation material in a solution in which the binder resin is dissolved in a solvent to prepare a coating solution, and apply the coating solution to a constant layer thickness by dip coating. It is preferable to dry the coating film.

電荷発生層に使用するバインダー樹脂を溶解し塗布するための溶媒としては、たとえば、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Solvents for dissolving and coating the binder resin used for the charge generation layer include, for example, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, butyl acetate, methanol, ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrahydrofuran 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, pyridine, diethylamine and the like, but are not limited thereto.

電荷発生物質の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサーなどが使用できるが、これらに限定されるものではない。   As a means for dispersing the charge generating material, an ultrasonic disperser, a ball mill, a sand grinder, a homomixer, or the like can be used, but the charge generating substance is not limited to these.

バインダー樹脂に対する電荷発生物質の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷発生物質1〜600質量部が好ましく、50〜500質量部がより好ましい。
電荷発生層の層厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合などにより異なるが0.01〜5μmが好ましく、0.05〜3μmがより好ましい。
なお、電荷発生層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。
The mixing ratio of the charge generating material to the binder resin is preferably 1 to 600 parts by mass, more preferably 50 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
The thickness of the charge generation layer varies depending on the characteristics of the charge generation material, the characteristics of the binder resin, the mixing ratio, and the like, but is preferably 0.01 to 5 μm, and more preferably 0.05 to 3 μm.
It should be noted that the coating solution for the charge generation layer can prevent the occurrence of image defects by filtering foreign matter and aggregates before coating.

[電荷輸送層(5)]
電荷輸送層は、電荷輸送物質(CTM)とバインダー樹脂とを含有するものであり、電荷輸送物質をバインダー樹脂溶液中に溶解させた塗布液を用いて、浸漬塗布方式により形成される。
[Charge transport layer (5)]
The charge transport layer contains a charge transport material (CTM) and a binder resin, and is formed by a dip coating method using a coating solution in which the charge transport material is dissolved in a binder resin solution.

電荷輸送物質は、公知の化合物を用いることが可能で、たとえば、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレンおよびポリ−9−ビニルアントラセンなどが挙げられる。これらの化合物を単独または2種類以上混合して使用することができる。   As the charge transport material, known compounds can be used, for example, carbazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, imidazolone derivatives, imidazolidine derivatives, bisimidazolidines. Derivatives, styryl compounds, hydrazone compounds, pyrazoline compounds, oxazolone derivatives, benzimidazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives, phenazine derivatives, aminostilbene derivatives, triarylamine derivatives, phenylenediamine derivatives, stilbene derivatives, benzidine derivatives, poly -N-vinylcarbazole, poly-1-vinylpyrene, poly-9-vinylanthracene and the like. These compounds can be used alone or in admixture of two or more.

電荷輸送層用のバインダー樹脂は公知の樹脂を用いることが可能で、たとえば、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂などが挙げられる。これらの中でもポリカーボネート樹脂が好ましく、更に、ビスフェノールA(BPA)、ビスフェノールZ(BPZ)、ジメチルBPAタイプのポリカーボネート樹脂、およびBPA−ジメチルBPA共重合体などのタイプのポリカーボネート樹脂が耐クラック性、耐摩耗性、帯電特性の観点から好ましいものである。   As the binder resin for the charge transport layer, a known resin can be used. For example, polycarbonate resin, polyacrylate resin, polyester resin, polystyrene resin, styrene-acrylonitrile copolymer resin, polymethacrylate resin, styrene- Examples thereof include methacrylic acid ester copolymer resins. Of these, polycarbonate resins are preferred, and polycarbonate resins of the types such as bisphenol A (BPA), bisphenol Z (BPZ), dimethyl BPA type, and BPA-dimethyl BPA copolymer are crack resistant and wear resistant. From the viewpoint of the property and charging characteristics, it is preferable.

電荷輸送層を形成する場合は、バインダー樹脂と電荷輸送物質とを溶媒に溶解させて塗布液を調製し、塗布液を浸漬塗布方式で一定の層厚に塗布し、塗布膜を乾燥させるのが好ましい。   When forming the charge transport layer, the binder resin and the charge transport material are dissolved in a solvent to prepare a coating solution, the coating solution is applied to a constant layer thickness by a dip coating method, and the coating film is dried. preferable.

上記バインダー樹脂と電荷輸送物質を溶解する溶媒としては、たとえば、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソランなどが挙げられる。
なお、電荷輸送層用の塗布液を調製するのに使用する溶媒は上記のものに限定されるものではない。
Examples of the solvent that dissolves the binder resin and the charge transport material include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, methanol, ethanol, propanol, butanol, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3- And dioxolane.
The solvent used for preparing the coating solution for the charge transport layer is not limited to the above.

バインダー樹脂と電荷輸送物質の混合比率は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷輸送物質を10〜500質量部とすることが好ましく、20〜100質量部とすることがより好ましい。   The mixing ratio of the binder resin and the charge transport material is preferably 10 to 500 parts by weight, and more preferably 20 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin.

電荷輸送層の層厚は、電荷輸送物質やバインダー樹脂の特性およびこれらの混合比などにより異なるが、5〜40μmが好ましく、10〜30μmがより好ましい。   The layer thickness of the charge transport layer varies depending on the characteristics of the charge transport material and the binder resin and the mixing ratio thereof, but is preferably 5 to 40 μm, and more preferably 10 to 30 μm.

電荷輸送層中には、公知の酸化防止剤を添加することが可能で、たとえば特開2000−305291号公報記載の酸化防止剤が使用できる。   In the charge transport layer, a known antioxidant can be added. For example, an antioxidant described in JP-A-2000-305291 can be used.

[表面保護層(6)]
表面保護層は、少なくとも架橋性の重合性化合物を重合して得られた樹脂と金属酸化物微粒子で構成されている。
[Surface protective layer (6)]
The surface protective layer comprises at least a resin obtained by polymerizing a crosslinkable polymerizable compound and metal oxide fine particles.

表面保護層は、架橋性の重合性化合物を重合して得られた樹脂をバインダー樹脂として含有する。表面保護層では、架橋性の重合性化合物を重合して得られた樹脂の他に、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂またはシリコーン樹脂などの公知の樹脂を併用して用いることができる。   The surface protective layer contains a resin obtained by polymerizing a crosslinkable polymerizable compound as a binder resin. In the surface protective layer, in addition to a resin obtained by polymerizing a crosslinkable polymerizable compound, a known resin such as a polyester resin, a polycarbonate resin, a polyurethane resin, or a silicone resin can be used in combination.

(1)架橋性の重合性化合物
表面保護層に使用可能な架橋性の重合性化合物としては、ラジカル重合性反応基を二つ以上有するラジカル重合性の化合物が挙げられ、ラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合性反応基として、アクリロイル基またはメタクリロイル基の少なくともいずれかを有するラジカル重合性単量体が好ましい。
(1) Crosslinkable polymerizable compound Examples of the crosslinkable polymerizable compound that can be used in the surface protective layer include a radical polymerizable compound having two or more radical polymerizable reactive groups. The radical polymerizable monomer having at least one of acryloyl group or methacryloyl group as the radical polymerizable reactive group is preferable.

これらのラジカル重合性単量体としては、例えば以下の化合物を例示することができるが、ラジカル重合性単量体はこれらに限定されるものではない。   Examples of these radical polymerizable monomers include the following compounds, but the radical polymerizable monomers are not limited thereto.

Figure 0006569484
Figure 0006569484

Figure 0006569484
Figure 0006569484

上記のラジカル重合性単量体は公知であり市販品として入手できる。
ここで、Rは下記アクリロイル基、R′は下記メタクリロイル基を表す。

Figure 0006569484
The above radical polymerizable monomers are known and can be obtained as commercial products.
Here, R represents the following acryloyl group, and R ′ represents the following methacryloyl group.
Figure 0006569484

(2)金属酸化物微粒子
表面保護層には金属酸化物微粒子7(図1参照)が含有される。
金属酸化物微粒子としては、酸化スズ微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化チタン微粒子および酸化アルミニウム微粒子が好ましい。
金属酸化物微粒子の個数平均一次粒径は1〜300nmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは3〜100nmの範囲内である。
(2) Metal oxide fine particles The surface protective layer contains metal oxide fine particles 7 (see FIG. 1).
As the metal oxide fine particles, tin oxide fine particles, zinc oxide fine particles, titanium oxide fine particles and aluminum oxide fine particles are preferable.
The number average primary particle size of the metal oxide fine particles is preferably in the range of 1 to 300 nm, more preferably in the range of 3 to 100 nm.

(2.1)金属酸化物微粒子の個数平均一次粒径の測定法
金属酸化物微粒子の個数平均一次粒径は、走査型電子顕微鏡「JSM−7401F」(日本電子(株)製)により10000倍の拡大写真を撮影し、ランダムに300個の粒子をスキャナーにより取り込んだ写真画像(凝集粒子は除く)を自動画像処理解析装置「ルーゼックス AP(LUZEX(登録商標)AP)」((株)ニレコ製)ソフトウエアVer.1.32を使用して、2値化処理し、それぞれ水平方向フェレ径を算出、その平均値を個数平均一次粒径として算出する。
水平方向フェレ径とは、金属酸化物微粒子の画像を2値化処理したときの外接長方形の、x軸に平行な辺の長さをいう。
(2.1) Method for Measuring Number Average Primary Particle Size of Metal Oxide Fine Particles The number average primary particle size of metal oxide fine particles is 10,000 times using a scanning electron microscope “JSM-7401F” (manufactured by JEOL Ltd.). An automatic image processing analyzer "Luzex AP (LUZEX (registered trademark) AP)" (manufactured by Nireco Co., Ltd.) ) Software Ver. Using 1.32, binarization is performed, the horizontal ferret diameter is calculated, and the average value is calculated as the number average primary particle diameter.
The horizontal ferret diameter refers to the length of a side parallel to the x axis of a circumscribed rectangle when the image of metal oxide fine particles is binarized.

(2.2)金属酸化物微粒子の表面修飾
表面保護層に含有される金属酸化物微粒子は、カップリング剤で修飾されたものであることが好ましく、さらに反応性有機基を有するカップリング剤で表面修飾されたものがより好ましい。
(2.2) Surface modification of metal oxide fine particles The metal oxide fine particles contained in the surface protective layer are preferably those modified with a coupling agent, and further a coupling agent having a reactive organic group. A surface-modified one is more preferable.

(2.2.1)カップリング剤
金属酸化物微粒子を表面修飾するカップリング剤としては、金属酸化物微粒子の表面に存在するヒドロキシ基などと反応するカップリング剤が好ましく、これらのカップリング剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などが挙げられる。
カップリング剤としては、表面保護層の硬度を更に高くする目的で、反応性有機基を有するカップリング剤が好ましく、反応性有機基を有するカップリング剤としては、ラジカル重合性反応基を有するカップリング剤が好ましい。これらのラジカル重合性反応基は、架橋性の重合性化合物とも反応して強固な保護膜を形成することができる。
ラジカル重合性反応基を有するカップリング剤としては、ビニル基、アクリロイル基またはメタクリロイル基などのラジカル重合性反応基を有するシランカップリング剤が好ましく、このようなラジカル重合性反応基を有するシランカップリング剤の例としては、下記のような公知の化合物を挙げることができる。
(2.2.1) Coupling agent The coupling agent for modifying the surface of the metal oxide fine particles is preferably a coupling agent that reacts with a hydroxy group or the like present on the surface of the metal oxide fine particles. Examples thereof include silane coupling agents and titanium coupling agents.
As the coupling agent, a coupling agent having a reactive organic group is preferable for the purpose of further increasing the hardness of the surface protective layer, and the coupling agent having a reactive organic group is a cup having a radical polymerizable reactive group. A ring agent is preferred. These radical polymerizable reactive groups can react with a crosslinkable polymerizable compound to form a strong protective film.
As the coupling agent having a radical polymerizable reactive group, a silane coupling agent having a radical polymerizable reactive group such as a vinyl group, an acryloyl group or a methacryloyl group is preferable, and a silane coupling agent having such a radical polymerizable reactive group. Examples of the agent include the following known compounds.

S−1:CH=CHSi(CH)(OCH
S−2:CH=CHSi(OCH
S−3:CH=CHSiCl
S−4:CH=CHCOO(CHSi(CH)(OCH
S−5:CH=CHCOO(CHSi(OCH
S−6:CH=CHCOO(CHSi(OC)(OCH
S−7:CH=CHCOO(CHSi(OCH
S−8:CH=CHCOO(CHSi(CH)Cl
S−9:CH=CHCOO(CHSiCl
S−10:CH=CHCOO(CHSi(CH)Cl
S−11:CH=CHCOO(CHSiCl
S−12:CH=C(CH)COO(CHSi(CH)(OCH
S−13:CH=C(CH)COO(CHSi(OCH
S−14:CH=C(CH)COO(CHSi(CH)(OCH
S−15:CH=C(CH)COO(CHSi(OCH
S−16:CH=C(CH)COO(CHSi(CH)Cl
S−17:CH=C(CH)COO(CHSiCl
S−18:CH=C(CH)COO(CHSi(CH)Cl
S−19:CH=C(CH)COO(CHSiCl
S−20:CH=CHSi(C)(OCH
S−21:CH=C(CH)Si(OCH
S−22:CH=C(CH)Si(OC
S−23:CH=CHSi(OCH
S−24:CH=C(CH)Si(CH)(OCH
S−25:CH=CHSi(CH)Cl
S−26:CH=CHCOOSi(OCH
S−27:CH=CHCOOSi(OC
S−28:CH=C(CH)COOSi(OCH
S−29:CH=C(CH)COOSi(OC
S−30:CH=C(CH)COO(CHSi(OC
S−31:CH=CHCOO(CHSi(CH(OCH
S−32:CH=CHCOO(CHSi(CH)(OCOCH
S−33:CH=CHCOO(CHSi(CH)(ONHCH
S−34:CH=CHCOO(CHSi(CH)(OC
S−35:CH=CHCOO(CHSi(C1021)(OCH
S−36:CH=CHCOO(CHSi(CH)(OCH
S-1: CH 2 = CHSi (CH 3) (OCH 3) 2
S-2: CH 2 = CHSi (OCH 3) 3
S-3: CH 2 = CHSiCl 3
S-4: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (CH 3) (OCH 3) 2
S-5: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (OCH 3) 3
S-6: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (OC 2 H 5) (OCH 3) 2
S-7: CH 2 = CHCOO (CH 2) 3 Si (OCH 3) 3
S-8: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (CH 3) Cl 2
S-9: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 SiCl 3
S-10: CH 2 = CHCOO (CH 2) 3 Si (CH 3) Cl 2
S-11: CH 2 = CHCOO (CH 2 ) 3 SiCl 3
S-12: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 2 Si (CH 3) (OCH 3) 2
S-13: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 2 Si (OCH 3) 3
S-14: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 Si (CH 3) (OCH 3) 2
S-15: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 Si (OCH 3) 3
S-16: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 2 Si (CH 3) Cl 2
S-17: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 2 SiCl 3
S-18: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 Si (CH 3) Cl 2
S-19: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 SiCl 3
S-20: CH 2 = CHSi (C 2 H 5) (OCH 3) 2
S-21: CH 2 = C (CH 3) Si (OCH 3) 3
S-22: CH 2 = C (CH 3) Si (OC 2 H 5) 3
S-23: CH 2 = CHSi (OCH 3) 3
S-24: CH 2 = C (CH 3) Si (CH 3) (OCH 3) 2
S-25: CH 2 = CHSi (CH 3) Cl 2
S-26: CH 2 = CHCOOSi (OCH 3) 3
S-27: CH 2 = CHCOOSi (OC 2 H 5) 3
S-28: CH 2 = C (CH 3) COOSi (OCH 3) 3
S-29: CH 2 = C (CH 3) COOSi (OC 2 H 5) 3
S-30: CH 2 = C (CH 3) COO (CH 2) 3 Si (OC 2 H 5) 3
S-31: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (CH 3) 2 (OCH 3)
S-32: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (CH 3) (OCOCH 3) 2
S-33: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (CH 3) (ONHCH 3) 2
S-34: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (CH 3) (OC 6 H 5) 2
S-35: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (C 10 H 21) (OCH 3) 2
S-36: CH 2 = CHCOO (CH 2) 2 Si (CH 2 C 6 H 5) (OCH 3) 2

シランカップリング剤としては、上記S−1からS−36以外でも、ラジカル重合可能な反応性有機基を有するシラン化合物を用いてもよい。これらのシランカップリング剤は単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。   As the silane coupling agent, other than the above S-1 to S-36, a silane compound having a reactive organic group capable of radical polymerization may be used. These silane coupling agents can be used alone or in admixture of two or more.

(2.2.2)金属酸化物微粒子の表面修飾方法
表面修飾するに際して、金属酸化物微粒子100質量部に対し、カップリング剤0.1〜100質量部、溶媒50〜5000質量部を用いて湿式メディア分散型装置を使用して表面修飾することが好ましい。乾式でも表面修飾することができる。
(2.2.2) Surface Modification Method for Metal Oxide Fine Particles When surface modification is performed, 0.1 to 100 parts by mass of coupling agent and 50 to 5000 parts by mass of solvent are used with respect to 100 parts by mass of metal oxide fine particles. Surface modification is preferably performed using a wet media dispersion type apparatus. The surface can be modified even in a dry process.

以下、均一にカップリング剤で表面修飾された金属酸化物微粒子を製造する表面修飾方法について説明する。   Hereinafter, a surface modification method for producing metal oxide fine particles whose surface is uniformly modified with a coupling agent will be described.

金属酸化物微粒子とカップリング剤とを含むスラリー(固体粒子の懸濁液)を湿式粉砕することにより、金属酸化物微粒子を微細化すると同時に微粒子の表面修飾が進行する。その後、溶媒を除去して粉体化することで均一にカップリング剤により表面修飾された金属酸化物微粒子を得ることができる。   By wet pulverizing the slurry (suspension of solid particles) containing the metal oxide fine particles and the coupling agent, the metal oxide fine particles are refined and at the same time the surface modification of the fine particles proceeds. Thereafter, by removing the solvent and pulverizing, metal oxide fine particles whose surface is uniformly modified with a coupling agent can be obtained.

表面修飾装置である湿式メディア分散型装置とは、容器内にメディアとしてビーズを充填し、さらに回転軸と垂直に取り付けられた撹拌ディスクを高速回転させることにより、金属酸化物微粒子の凝集粒子を砕いて粉砕・分散する工程を有する装置である。
分散型装置の構成としては、金属酸化物微粒子に表面修飾を行う際に金属酸化物微粒子を十分に分散させかつ表面修飾できる形式であれば問題なく、たとえば、縦型・横型、連続式・回分式など、種々の様式が採用できる。具体的にはサンドミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミルなどが使用できる。これらの分散型装置では、ボール、またはビーズなどの粉砕媒体(メディア)を使用して衝撃圧壊、摩擦、剪断、ズリ応力などにより微粉砕、および分散が行われる。
Wet media dispersion type device, which is a surface modification device, crushes agglomerated particles of metal oxide fine particles by filling beads in a container as media and rotating a stirring disk mounted perpendicular to the rotation axis at high speed. It is an apparatus having a process of pulverizing and dispersing.
The configuration of the dispersion type apparatus is not a problem as long as the metal oxide fine particles are sufficiently dispersed and surface-modified when performing surface modification on the metal oxide fine particles. For example, the vertical type / horizontal type, continuous type / batch type can be used. Various forms such as a formula can be adopted. Specifically, a sand mill, ultra visco mill, pearl mill, glen mill, dyno mill, agitator mill, dynamic mill and the like can be used. In these dispersion-type apparatuses, pulverization and dispersion are performed by impact crushing, friction, shearing, shear stress, and the like using a pulverizing medium (media) such as balls or beads.

上記湿式メディア分散型装置で用いるビーズとしては、ガラス、アルミナ、ジルコン、ジルコニア、スチール、またはフリント石などを原材料としたボールが使用可能であるが、特にジルコニア製やジルコン製のものが好ましい。
ビーズの大きさとしては、通常、直径1〜2mm程度のものを使用しうるが、0.1〜1.0mm程度のものを用いるのが好ましい。
As the beads used in the wet media dispersion type apparatus, balls made of glass, alumina, zircon, zirconia, steel, flint stone or the like can be used, but those made of zirconia or zircon are particularly preferable.
As the size of the beads, those having a diameter of about 1 to 2 mm can be usually used, but those having a diameter of about 0.1 to 1.0 mm are preferably used.

湿式メディア分散型装置に使用するディスクや容器内壁には、ステンレス製、ナイロン製、およびセラミック製など種々の素材のものが使用できるが、特にジルコニアまたはシリコンカーバイドといったセラミック製のディスクや容器内壁を使用するのが好ましい。   Various materials such as stainless steel, nylon, and ceramic can be used for the disk and container inner wall used in wet media dispersion type equipment, but especially ceramic disk or container inner wall such as zirconia or silicon carbide is used. It is preferable to do this.

以上のような湿式処理により、カップリング剤によって表面修飾された金属酸化物微粒子を得ることができる。
上述した表面修飾金属酸化物微粒子は、架橋性の重合性化合物100質量部に対して、30〜250質量部含有されることが、表面保護層の耐摩耗性向上の観点から好ましい。
By the wet treatment as described above, metal oxide fine particles whose surface is modified with a coupling agent can be obtained.
The surface-modified metal oxide fine particles described above are preferably contained in an amount of 30 to 250 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the crosslinkable polymerizable compound from the viewpoint of improving the wear resistance of the surface protective layer.

(3)表面保護層の形成
表面保護層は、溶媒に架橋性の重合性化合物、表面修飾金属酸化物微粒子、必要に応じて、その他の樹脂、重合開始剤、滑剤粒子、酸化防止剤などを添加して調製した塗布液が、浸漬塗布方式により塗布され、その後、塗布膜に対し自然乾燥または熱乾燥が行われ硬化処理され(重合反応させ)形成される。
表面保護層の層厚は、0.2〜10μmが好ましく、0.5〜6μmがより好ましい。
(3) Formation of surface protective layer The surface protective layer comprises a crosslinkable polymerizable compound, surface-modified metal oxide fine particles, and, if necessary, other resins, polymerization initiators, lubricant particles, and antioxidants. The coating solution prepared by addition is applied by a dip coating method, and then the coating film is naturally dried or heat-dried and cured (polymerized) to form.
The layer thickness of the surface protective layer is preferably 0.2 to 10 μm, and more preferably 0.5 to 6 μm.

(3.1)溶媒
表面保護層の形成に使用される溶媒としては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−2−プロパノール、ベンジルアルコール、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、酢酸エチル、酢酸ブチル、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(3.1) Solvent As the solvent used for forming the surface protective layer, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-2-propanol, benzyl alcohol, Methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, toluene, xylene, methylene chloride, ethyl acetate, butyl acetate, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, pyridine And diethylamine, but are not limited thereto.

(3.2)重合開始剤
表面保護層に使用可能な架橋性の重合性化合物を重合反応させる方法としては、電子線開裂反応を利用する方法やラジカル重合開始剤の存在下で光や熱を利用する方法などにより重合反応を行うことができる。
ラジカル重合開始剤を用いて重合反応を行う場合、重合開始剤として光重合開始剤、熱重合開始剤のいずれも使用することができる。また、光、熱の両方の開始剤を併用することもできる。
(3.2) Polymerization initiator As a method for polymerizing a crosslinkable polymerizable compound that can be used for the surface protective layer, a method using an electron beam cleavage reaction or light or heat in the presence of a radical polymerization initiator is used. The polymerization reaction can be performed by the method used.
When performing a polymerization reaction using a radical polymerization initiator, both a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator can be used as the polymerization initiator. Further, both light and heat initiators can be used in combination.

熱重合開始剤としては、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルアゾビスバレロニリル)、2,2′−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)などのアゾ化合物、過酸化ベンゾイル(BPO)、ジ−tert−ブチルヒドロペルオキシド、tert−ブチルヒドロペルオキシド、過酸化クロロベンゾイル、過酸化ジクロロベンゾイル、過酸化ブロモメチルベンゾイル、および過酸化ラウロイルなどの過酸化物などの熱重合開始剤が挙げられる。   Examples of thermal polymerization initiators include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylazobisvaleronyl), 2,2'-azobis (2-methylbutyro). Nitriles), benzoyl peroxide (BPO), di-tert-butyl hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide, chlorobenzoyl peroxide, dichlorobenzoyl peroxide, bromomethylbenzoyl peroxide, and lauroyl peroxide Examples thereof include thermal polymerization initiators such as peroxides.

光重合開始剤としては、ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノン−1(イルガキュア369:BASFジャパン社製)、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−2−モルホリノ(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、および1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシムなどのアセトフェノン系またはケタール系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、およびベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾインエーテル系光重合開始剤、ベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2−ベンゾイルナフタレン、4−ベンゾイルビフェニル、4−ベンゾイルフェニルエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、および1,4−ベンゾイルベンゼンなどのベンゾフェノン系光重合開始剤、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、および2,4−ジクロロチオキサントンなどのチオキサントン系光重合開始剤が挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2 -Hydroxy-2-propyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 (Irgacure 369: manufactured by BASF Japan Ltd.), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl Acetophenones such as propan-1-one, 2-methyl-2-morpholino (4-methylthiophenyl) propan-1-one, and 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime Or ketal photopolymerization initiator, benzoin, benzoin methyl ether, benzo Benzoin ether photopolymerization initiators such as ethyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin isopropyl ether, benzophenone, 4-hydroxybenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 2-benzoylnaphthalene, 4-benzoylbiphenyl, 4-benzoylphenyl Benzophenone-based photopolymerization initiators such as ether, acrylated benzophenone, and 1,4-benzoylbenzene, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and 2,4 -Thioxanthone photopolymerization initiators such as dichlorothioxanthone are included.

その他の光重合開始剤としては、エチルアントラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキしド(イルガキュア819:BASFジャパン社製)、ビス(2,4−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、メチルフェニルグリオキシエステル、9,10−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、およびイミダゾール系化合物が挙げられる。また、光重合促進効果を有するものを単独または上記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、および4,4′−ジメチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。   Other photopolymerization initiators include ethyl anthraquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylethoxyphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine Oxide (Irgacure 819: manufactured by BASF Japan), bis (2,4-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, methylphenylglyoxyester, 9,10-phenanthrene, acridine compound, Examples include triazine compounds and imidazole compounds. Moreover, what has a photopolymerization acceleration effect can also be used individually or in combination with the said photoinitiator. Examples include triethanolamine, methyldiethanolamine, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl (2-dimethylamino) benzoate, and 4,4′-dimethylaminobenzophenone.

表面保護層に用いられる重合開始剤としては光重合開始剤が好ましく、アルキルフェノン系化合物、およびホスフィンオキシド系化合物が好ましく、更に好ましくは、α−ヒドロキシアセトフェノン構造またはアシルホスフィンオキシド構造を有する開始剤が好ましい。   The polymerization initiator used for the surface protective layer is preferably a photopolymerization initiator, preferably an alkylphenone compound and a phosphine oxide compound, and more preferably an initiator having an α-hydroxyacetophenone structure or an acylphosphine oxide structure. preferable.

これらの重合開始剤は1種または2種以上を混合して用いてもよい。
重合開始剤の含有量は、架橋性の重合性化合物100質量部に対し好ましくは0.1〜40質量部であり、より好ましくは0.5〜20質量部である。
These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
The content of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 40 parts by mass, more preferably 0.5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the crosslinkable polymerizable compound.

(3.3)滑剤粒子など
表面保護層には、これらの他に必要に応じて滑剤粒子および酸化防止剤などを含有させてもよい。
滑剤粒子としては、たとえば、フッ素原子含有樹脂粒子を加えることができる。
フッ素原子含有樹脂粒子としては、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、六フッ化塩化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂、およびこれらの共重合体の中から1種または2種以上を適宜選択するのが好ましいが、特に四フッ化エチレン樹脂およびフッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
(3.3) Lubricant Particles, etc. In addition to these, the surface protective layer may contain lubricant particles, an antioxidant and the like as necessary.
As the lubricant particles, for example, fluorine atom-containing resin particles can be added.
Examples of the fluorine atom-containing resin particles include tetrafluoroethylene resin, trifluorinated ethylene chloride resin, hexafluoroethylene chloride propylene resin, vinyl fluoride resin, vinylidene fluoride resin, ethylene difluoride dichloride resin, and these It is preferable to select one or two or more types from among the copolymers, and tetrafluoroethylene resin and vinylidene fluoride resin are particularly preferable.

(3.4)表面保護層の重合反応
表面保護層の重合反応では、塗布膜に活性線を照射してラジカルを発生させて重合させ、かつ、分子間および分子内で架橋反応による架橋結合を形成させて硬化させ、硬化樹脂を生成することが好ましい。
活性線としては、紫外線、可視光などの光や電子線が好ましく、使いやすさなどの見地から紫外線が特に好ましい。
(3.4) Polymerization reaction of the surface protective layer In the polymerization reaction of the surface protective layer, the coating film is irradiated with actinic rays to generate radicals and polymerize, and the cross-linking by cross-linking reaction between molecules and within the molecule. It is preferable to form and cure to produce a cured resin.
The active ray is preferably light such as ultraviolet light or visible light, or an electron beam, and ultraviolet light is particularly preferred from the standpoint of ease of use.

紫外線光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。
たとえば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、フラッシュ(パルス)キセノンまたは紫外線LEDなどを用いることができる。
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常1〜20mJ/cm、好ましくは5〜15mJ/cmである。光源の出力電圧は、好ましくは0.1〜5kWであり、特に好ましくは、0.5〜3kWである。
As the ultraviolet light source, any light source that generates ultraviolet light can be used without limitation.
For example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a flash (pulse) xenon, or an ultraviolet LED can be used.
Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 1 to 20 mJ / cm 2 , preferably 5 to 15 mJ / cm 2 . The output voltage of the light source is preferably 0.1 to 5 kW, and particularly preferably 0.5 to 3 kW.

電子線源としては、電子線照射装置に格別の制限はなく、一般にはこのような電子線照射用の電子線加速機として、比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式のものが有効に用いられる。電子線照射の際の加速電圧は、100〜300kVであることが好ましい。吸収線量としては0.005Gy〜100kGy(0.5rad〜10Mrad)であることが好ましい。   As an electron beam source, there is no particular limitation on the electron beam irradiation apparatus, and generally, an electron beam accelerator for electron beam irradiation is a curtain beam type that is relatively inexpensive and can provide a large output. Used. The acceleration voltage during electron beam irradiation is preferably 100 to 300 kV. The absorbed dose is preferably 0.005 Gy to 100 kGy (0.5 rad to 10 Mrad).

活性線の照射時間は、活性線の必要照射量が得られる時間であり、具体的には0.1秒〜10分が好ましく、重合効率または作業効率の観点から1秒〜5分がより好ましいとされる。   The irradiation time of the active ray is a time for obtaining the necessary irradiation amount of the active ray, specifically 0.1 seconds to 10 minutes is preferable, and 1 second to 5 minutes is more preferable from the viewpoint of polymerization efficiency or work efficiency. It is said.

表面保護層の形成では、活性線の照射前後、および活性線を照射中に表面保護層を乾燥処理することができ、乾燥を行うタイミングは活性線の照射条件と組み合わせて適宜選択することができる。
表面保護層の乾燥条件は、塗布液に使用する溶媒の種類や表面保護層の層厚などにより適宜選択することが可能である。
乾燥温度は、室温〜180℃が好ましく、80〜140℃が特に好ましい。乾燥時間は、1〜200分が好ましく、5〜100分が特に好ましい。上記乾燥条件で表面保護層を乾燥させることにより、表面保護層に含有される溶媒量を20ppmから75ppmの範囲に制御することができる。
In the formation of the surface protective layer, the surface protective layer can be subjected to drying treatment before and after irradiation with active rays and during irradiation with active rays, and the timing of drying can be appropriately selected in combination with the irradiation conditions of active rays. .
The drying conditions for the surface protective layer can be appropriately selected depending on the type of solvent used in the coating solution, the layer thickness of the surface protective layer, and the like.
The drying temperature is preferably room temperature to 180 ° C, particularly preferably 80 to 140 ° C. The drying time is preferably 1 to 200 minutes, particularly preferably 5 to 100 minutes. By drying the surface protective layer under the above drying conditions, the amount of solvent contained in the surface protective layer can be controlled in the range of 20 ppm to 75 ppm.

以上のようにして感光層上に表面保護層を設けることにより、感光体表面の硬度を上げ、耐摩耗性を向上させ耐久性を向上させることができる。   By providing the surface protective layer on the photosensitive layer as described above, it is possible to increase the hardness of the surface of the photoreceptor, improve the wear resistance, and improve the durability.

[浸漬塗布装置(20)]
図3に示すとおり、浸漬塗布装置20は浸漬塗布方式により被塗布部材40に塗布膜を形成する装置であり、主に塗布槽22、仮貯留槽24、供給槽26およびポンプ28を有している。
塗布槽22には、被塗布部材40に対し塗布膜を形成するための塗布液30が貯留される。塗布槽22には被塗布部材40が浸漬される。仮貯留槽24は塗布槽22から溢れ出た塗布液30を一時的に受ける層である。供給槽26は塗布槽22に対し塗布液30を供給するための層である。ポンプ28は塗布槽22と供給槽26との間に設けられている。
浸漬塗布装置20によれば、被塗布部材40が塗布槽22の塗布液30に浸漬されると、塗布槽22の塗布液30が、塗布槽22から仮貯留槽24に溢れ出て供給槽26に流入し、ポンプ28により、供給槽26から塗布槽22に供給される。すなわち、塗布槽22の塗布液30は、塗布槽22→仮貯留槽24→供給槽26→塗布槽22というようにこれらの層を循環するようになっており、被塗布部材40の浸漬があっても、塗布槽22の塗布液30の液面は変動しないように制御される。
[Dip coater (20)]
As shown in FIG. 3, the dip coating apparatus 20 is an apparatus that forms a coating film on the member to be coated 40 by a dip coating method, and mainly includes a coating tank 22, a temporary storage tank 24, a supply tank 26, and a pump 28. Yes.
A coating solution 30 for forming a coating film on the member to be coated 40 is stored in the coating tank 22. A member to be coated 40 is immersed in the coating tank 22. The temporary storage tank 24 is a layer that temporarily receives the coating liquid 30 overflowing from the coating tank 22. The supply tank 26 is a layer for supplying the coating liquid 30 to the coating tank 22. The pump 28 is provided between the coating tank 22 and the supply tank 26.
According to the dip coating apparatus 20, when the member 40 to be coated is immersed in the coating liquid 30 in the coating tank 22, the coating liquid 30 in the coating tank 22 overflows from the coating tank 22 to the temporary storage tank 24 and is supplied to the supply tank 26. And is supplied from the supply tank 26 to the coating tank 22 by the pump 28. That is, the coating liquid 30 in the coating tank 22 circulates through these layers in the order of the coating tank 22 → the temporary storage tank 24 → the supply tank 26 → the coating tank 22, and the coating target member 40 is immersed. Even so, the liquid level of the coating liquid 30 in the coating tank 22 is controlled so as not to fluctuate.

[感光体の塗布膜の製造方法]
感光体の塗布膜の製造方法では、基本的に図3の浸漬塗布装置20が使用される。
感光体の塗布膜の製造方法は主に、図4に示すとおり、
(i)被塗布部材40を準備する工程S1と、
(ii)被塗布部材40を回転させながら塗布槽22の塗布液30に突入させ浸漬させる工程S2と、
(iii)被塗布部材40を塗布槽22の塗布液30から引き上げ塗布する工程S3と、
を備えている。
かかる感光体の塗布膜の製造方法は、下引き層2、電荷発生層4、電荷輸送層5または表面保護層6のいずれの層を形成する場合にも適用可能であり、好ましくは下引き層2または電荷発生層4を形成するのに適用され、より好ましくは電荷発生層4を形成するのに適用される。下引き層2、電荷発生層4、電荷輸送層5または表面保護層6の各層は塗布膜の一例である。
[Method for producing coated film of photoreceptor]
In the manufacturing method of the coating film of the photoreceptor, the dip coating apparatus 20 shown in FIG. 3 is basically used.
The manufacturing method of the coating film of the photoreceptor is mainly as shown in FIG.
(I) Step S1 of preparing the member to be coated 40;
(Ii) Step S2 for plunging into the coating liquid 30 in the coating tank 22 and immersing it while rotating the member to be coated 40;
(Iii) Step S3 for pulling up and applying the member to be coated 40 from the coating liquid 30 in the coating tank 22, and
It has.
Such a method for producing a coated film of a photoreceptor can be applied to the formation of any of the undercoat layer 2, the charge generation layer 4, the charge transport layer 5 and the surface protective layer 6, and preferably the undercoat layer. 2 or the charge generation layer 4 is formed, and more preferably, the charge generation layer 4 is formed. Each layer of the undercoat layer 2, the charge generation layer 4, the charge transport layer 5 or the surface protective layer 6 is an example of a coating film.

(i)の準備工程S1では、被塗布部材40を準備する。
「被塗布部材40」とは、塗布膜が形成される対象物であって、ここでは支持体1か、または下引き層2もしくは感光層3のいずれかの層が形成されたものが対象となる。
すなわち、下引き層2を形成する場合には、支持体1が被塗布部材40となり、下引き層2が塗布膜となる。
電荷発生層4を形成する場合には、下引き層2が形成された支持体1が被塗布部材40となり、電荷発生層4が塗布膜となる。
電荷輸送層5を形成する場合には、下引き層2および電荷発生層4が形成された支持体1が被塗布部材40となり、電荷輸送層5が塗布膜となる。
表面保護層6を形成する場合には、下引き層2、電荷発生層4および電荷輸送層5が形成された支持体1が被塗布部材40となり、表面保護層6が塗布膜となる。
In the preparation step S1 of (i), the application target member 40 is prepared.
The “coating member 40” is an object on which a coating film is formed, and here, the object is a support 1 or an object in which either the undercoat layer 2 or the photosensitive layer 3 is formed. Become.
That is, when the undercoat layer 2 is formed, the support 1 becomes the member to be coated 40 and the undercoat layer 2 becomes the coating film.
When the charge generation layer 4 is formed, the support 1 on which the undercoat layer 2 is formed becomes the member to be coated 40, and the charge generation layer 4 becomes the coating film.
When the charge transport layer 5 is formed, the support 1 on which the undercoat layer 2 and the charge generation layer 4 are formed serves as a member to be coated 40, and the charge transport layer 5 serves as a coating film.
When the surface protective layer 6 is formed, the support 1 on which the undercoat layer 2, the charge generation layer 4, and the charge transport layer 5 are formed becomes the coated member 40, and the surface protective layer 6 becomes the coating film.

(ii)の突入浸漬工程S2から(iii)の引き上げ塗布工程S3では、塗布膜として、支持体1上に下引き層2を形成するか、下引き層2上に電荷発生層4を形成するか、電荷発生層4上に電荷輸送層5を形成するか、または電荷輸送層5上に表面保護層6を形成しうる。   In the dip dipping step S2 of (ii) to the pulling up coating step S3 of (iii), the undercoat layer 2 is formed on the support 1 or the charge generation layer 4 is formed on the undercoat layer 2 as a coating film. Alternatively, the charge transport layer 5 can be formed on the charge generation layer 4, or the surface protective layer 6 can be formed on the charge transport layer 5.

特に(ii)の突入浸漬工程S2では、図3に示すとおり、被塗布部材40を回転させながら塗布槽22の塗布液30に突入させる。
かかる場合、被塗布面の回転速度を100〜400mm/sec(秒)と、突入速度を25〜100mm/sec(秒)とする。
「被塗布面の回転速度」とは被塗布面が回転方向に沿って移動する速度である。
回転速度が100mm/sec未満であれば、製造上問題のない範囲内ではあるが気泡を巻き込む可能性がある。回転速度が400mm/secを超えると、回転速度が速く浸漬塗布装置20にかかる負荷が大きい。突入速度が25mm/sec未満であると、突入速度が遅く生産速度が遅延する。突入速度が100mm/secを超えると、突入速度が速く浸漬塗布装置20にかかる負荷が大きい。
かかる条件によれば、主に装置負荷および生産速度の関係から、新たな設備投資をすることなく既存設備を利用しながら、被塗布部材40に塗布膜を形成することができる。
In particular, in the rush immersion step S2 of (ii), as shown in FIG. 3, the member to be coated 40 is rushed into the coating liquid 30 in the coating tank 22 while rotating.
In such a case, the rotation speed of the coated surface is set to 100 to 400 mm / sec (seconds), and the entry speed is set to 25 to 100 mm / sec (seconds).
The “rotation speed of the coated surface” is a speed at which the coated surface moves along the rotation direction.
If the rotational speed is less than 100 mm / sec, there is a possibility of entraining bubbles, although it is within a range where there is no problem in manufacturing. When the rotation speed exceeds 400 mm / sec, the rotation speed is high and the load applied to the dip coating apparatus 20 is large. When the rush speed is less than 25 mm / sec, the rush speed is slow and the production speed is delayed. When the rush speed exceeds 100 mm / sec, the rush speed is fast and the load applied to the dip coating apparatus 20 is large.
According to such conditions, a coating film can be formed on the member to be coated 40 while using existing facilities without investing in new facilities mainly due to the relationship between the apparatus load and the production speed.

なお、かかる条件は、下引き層2、電荷発生層4、電荷輸送層5または表面保護層6のいずれの層を形成する場合にも適用可能である。もちろん、形成しようとする層(塗布液30)ごとに、当該数値範囲内において被塗布面の回転速度および突入速度は適宜変更されてもよい。   Such conditions can be applied to the case of forming any of the undercoat layer 2, the charge generation layer 4, the charge transport layer 5 and the surface protective layer 6. Of course, for each layer (coating liquid 30) to be formed, the rotation speed and the entry speed of the surface to be coated may be appropriately changed within the numerical range.

塗布液30の条件については、通常、塗布液30の温度は好ましくは20〜50℃で設定され、塗布液30の粘度は1〜800mPa・secで設定される。   About the conditions of the coating liquid 30, normally, the temperature of the coating liquid 30 is preferably set at 20 to 50 ° C., and the viscosity of the coating liquid 30 is set at 1 to 800 mPa · sec.

(iii)の引き上げ塗布工程S3では、(ii)の突入浸漬工程S2とは異なり、好ましくは引き上げ塗布時の塗布膜の膜厚を均一化するため回転させない。   In the (iii) pull-up coating step S3, unlike the inrush dipping step S2 in (ii), it is preferably not rotated to make the thickness of the coating film uniform during the pull-up coating.

以上の本実施形態によれば、被塗布部材40を回転させながら塗布槽22の塗布液30に突入させるから、被塗布部材40には、被塗布部材40の突入方向(垂直方向)と被塗布部材40の軸を中心とした回転方向(円周方向)との2方向に、被塗布部材40の突入浸漬時に気泡を巻き込まないための抑止力、または巻き込んだ気泡を脱離させるための遠心力がかかる。
そのため、被塗布部材40を塗布槽22の塗布液30に浸漬させる前段階で、気泡が巻き込まれるのを事前に防止することができるし、被塗布部材40を塗布槽22の塗布液30に浸漬させている段階でも、巻き込んだ気泡を事後的に除去することもでき、結果的に気泡に起因する塗布膜不良を抑制することができる。
According to the above-described embodiment, since the member to be coated 40 is caused to enter the coating liquid 30 in the coating tank 22 while rotating, the piercing direction (vertical direction) of the member to be coated 40 and the direction to be coated are applied to the member to be coated 40. Inhibiting force for preventing air bubbles from being entrained at the time of entry and immersion of the member to be coated 40 in two directions, ie, a rotation direction (circumferential direction) about the axis of the member 40, or a centrifugal force for removing the entrained air bubbles It takes.
Therefore, it is possible to prevent air bubbles from being involved in the stage before the member to be coated 40 is immersed in the coating liquid 30 in the coating tank 22, and the member 40 to be coated is immersed in the coating liquid 30 in the coating tank 22. Even at the stage of making it, the entrained bubbles can be removed afterwards, and as a result, coating film defects caused by the bubbles can be suppressed.

(1)感光体サンプルの作製
(1.1)支持体
直径60mmの円筒形アルミニウム支持体の表面をRt=1.0μmで切削加工し導電性支持体を用意した。
(1) Production of Photoreceptor Sample (1.1) Support A surface of a cylindrical aluminum support having a diameter of 60 mm was cut at Rt = 1.0 μm to prepare a conductive support.

(1.2)下引き層
下記組成の分散液を一夜静置後に濾過(フィルター;日本ポール社製リジメッシュ5μmフィルター使用)し、下引き層塗布液を調製した。
分散機としてサンドミルを用いて、10時間の分散を行った。
上記塗布液を用いて上記導電性支持体上に、乾燥後の層厚1.5μmとなるようにして浸漬塗布法で塗布し下引き層を形成した。
(1.2) Undercoat layer A dispersion having the following composition was allowed to stand overnight, and then filtered (filter; using a lysh mesh 5 μm filter manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) to prepare an undercoat layer coating solution.
Using a sand mill as a disperser, dispersion was performed for 10 hours.
Using the coating solution, an undercoat layer was formed on the conductive support by a dip coating method so that the layer thickness after drying was 1.5 μm.

バインダー:ポリアミド樹脂 ダイアミドX4685(ダイセル・エボニック社製)
100質量部
無機微粒子:酸化チタンSMT500SAS(テイカ社製) 300質量部
溶媒:エタノール 1440質量部
1−プロパノール 360質量部
Binder: Polyamide resin DAIAMID X4685 (manufactured by Daicel-Evonik)
100 parts by mass Inorganic fine particles: Titanium oxide SMT500SAS (manufactured by Teika) 300 parts by mass Solvent: ethanol 1440 parts by mass
360 parts by weight of 1-propanol

(1.3)電荷発生層
下記原料を混合し、サンドミルを用いて10時間分散し、電荷発生層塗布液を調製した。
その後、表1に記載の被塗布面の回転速度および突入速度条件で、被塗布部材を回転させながらこの塗布液に突入させ、引上げ速度8mm/secにて浸漬塗布し、上記下引き層の上に、乾燥後の層厚0.3μmの電荷発生層を形成した。
かかる工程では、電荷発生層塗布液の温度を33℃と、電荷発生層塗布液の粘度を5mPa・secと、被塗布部材の温度を35℃とそれぞれ設定した。
(1.3) Charge Generation Layer The following raw materials were mixed and dispersed for 10 hours using a sand mill to prepare a charge generation layer coating solution.
Thereafter, the coated member is rushed into the coating solution under the rotational speed and rushing speed conditions shown in Table 1 and dip coated at a pulling rate of 8 mm / sec. Then, a charge generation layer having a dried layer thickness of 0.3 μm was formed.
In this step, the temperature of the charge generation layer coating solution was set to 33 ° C., the viscosity of the charge generation layer coating solution was set to 5 mPa · sec, and the temperature of the member to be coated was set to 35 ° C.

電荷発生物質:Y−TiPh(チタニルフタロシアニン顔料(Cu−Kα特性X線回折スペクトル測定で、少なくとも27.3°の位置に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン顔料で780nmに充分大きな吸収を有する)) 20質量部
バインダー:ポリビニルブチラール樹脂(#6000−C:電気化学工業社製)
10質量部
溶媒:酢酸t−ブチル 700質量部
4−メトキシ−4−メチル−2−ペンタノン 300質量部
Charge generation material: Y-TiPh (Titanyl phthalocyanine pigment (it is a titanyl phthalocyanine pigment having a maximum diffraction peak at a position of at least 27.3 ° in Cu-Kα characteristic X-ray diffraction spectrum measurement and has a sufficiently large absorption at 780 nm)) Part by mass Binder: Polyvinyl butyral resin (# 6000-C: manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
10 parts by mass Solvent: 700 parts by mass of t-butyl acetate
4-Methoxy-4-methyl-2-pentanone 300 parts by mass

(1.4)電荷輸送層
下記原料を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。
この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥後の層厚28μmの電荷輸送層を形成した。
(1.4) Charge Transport Layer The following raw materials were mixed and dissolved to prepare a charge transport layer coating solution.
This coating solution was applied onto the charge generation layer by a dip coating method to form a charge transport layer having a layer thickness of 28 μm after drying.

電荷輸送物質:CTM−A 150質量部
バインダー:ポリカーボネート(FPC6535A:三菱ガス化学社製)
300質量部
酸化防止剤:Irganox1010(BASFジャパン社製) 6質量部
溶媒:テトラヒドロフラン 1500質量部
トルエン 375質量部
添加剤:シリコーンオイル(KF−96:信越化学社製) 0.25質量部
Charge transport material: 150 parts by mass of CTM-A Binder: Polycarbonate (FPC6535A: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company)
300 parts by mass Antioxidant: Irganox 1010 (manufactured by BASF Japan) 6 parts by mass Solvent: 1500 parts by mass of tetrahydrofuran
375 parts by mass of toluene Additive: Silicone oil (KF-96: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.25 parts by mass

上記で用いた電荷発生物質(Y−TiPh)と電荷輸送物質(CTM−A)の構造式を下記に示した。   The structural formulas of the charge generation material (Y-TiPh) and the charge transport material (CTM-A) used above are shown below.

Figure 0006569484
Figure 0006569484

以上の工程から、感光体のサンプルを製造した。
なお、本実施例では、電荷発生層の形成時において、被塗布面の回転速度および突入速度を変動させたり回転の有無を設定したりして、表1に記載の9種のサンプル1〜9を製造した。
From the above process, a sample of the photoreceptor was manufactured.
In this example, nine samples 1 to 9 shown in Table 1 were prepared by changing the rotation speed and rush speed of the coated surface or setting the presence or absence of rotation when forming the charge generation layer. Manufactured.

(2)感光体サンプルの評価
電荷発生層の形成時に微細な気泡が巻き込まれると、その気泡は塗膜面に存在し、その後塗膜面から遊離して浮遊し、気泡が存在し浮遊した部分で電荷発生層に薄い不定形の線状に白く抜けた箇所ができる。かかる場合、画像(biz-hub C6500 コニカミノルタ製複合機)ではハーフトーン画像で白抜けになる。これらの塗布欠陥部分を外観検査装置と対比させ、不良発生の検出をおこなった。
外観検査装置として光照射ラインセンサー画像処理装置(長瀬産業(株)社製 SCANTEC−7000)を用いて、1万本中での気泡発生頻度(1万本の感光体サンプルのうち気泡が発生した本数)を測定した。
測定結果とその評価結果とを表1に示す。表1中、◎、○、△、×の評価基準は下記のとおりであり、評価基準中の「Cp」は工程能力である。
◎:0.01%未満(Cp≧1.30)
○:0.01%以上で0.27%未満(1.00≦Cp<1.30)
△:0.27%以上で1.00%未満(0.86≦Cp<1.00)
×:1.00%以上(Cp<0.86)
(2) Evaluation of photoconductor sample When fine bubbles are involved in the formation of the charge generation layer, the bubbles are present on the coating surface and then float free from the coating surface. In the charge generation layer, a white spot is formed in a thin irregular line. In such a case, in the image (biz-hub C6500 Konica Minolta MFP), the halftone image is blank. These coating defect portions were compared with an appearance inspection apparatus, and the occurrence of defects was detected.
Using a light irradiation line sensor image processing device (SCANTEC-7000, manufactured by Nagase Sangyo Co., Ltd.) as an appearance inspection device, a bubble generation frequency in 10,000 (bubbles were generated among 10,000 photoconductor samples. Number).
Table 1 shows the measurement results and the evaluation results. In Table 1, the evaluation criteria of ◎, ○, Δ, × are as follows, and “Cp” in the evaluation criteria is the process capability.
A: Less than 0.01% (Cp ≧ 1.30)
○: 0.01% or more and less than 0.27% (1.00 ≦ Cp <1.30)
Δ: 0.27% or more and less than 1.00% (0.86 ≦ Cp <1.00)
X: 1.00% or more (Cp <0.86)

Figure 0006569484
Figure 0006569484

(3)まとめ
表1に示すとおり、サンプル1〜7とサンプル8〜9とを比較すると、前者のサンプル1〜7では気泡発生頻度が著しく低く結果が良好であった。
このことから、気泡に起因する塗布膜不良を抑制するうえでは、被塗布部材(ここでは下引き層が形成された支持体)を回転させながら塗布液に突入させ浸漬させることが有用であることがわかった。
サンプル1〜5、7とサンプル6との比較結果から、被塗布面の回転速度は100〜400mm/secとするのが有用であることがわかった。
なお、サンプル5では良好な結果が得られるものの、突入速度が100mm/secを超え、浸漬塗布装置にかかる負荷が大きいと考えられたため、突入速度は25〜100mm/secとするのがよいと考えられた。
(3) Summary As shown in Table 1, when Samples 1 to 7 and Samples 8 to 9 were compared, the former samples 1 to 7 had a significantly low bubble generation frequency and good results.
For this reason, in order to suppress coating film defects caused by bubbles, it is useful to immerse the member to be coated (here, the support on which the undercoat layer is formed) into the coating liquid while rotating. I understood.
From comparison results between Samples 1 to 5 and 7 and Sample 6, it was found that it is useful to set the rotation speed of the coated surface to 100 to 400 mm / sec.
In addition, although a good result was obtained with Sample 5, the rush speed exceeded 100 mm / sec and the load applied to the dip coating apparatus was considered to be large, so the rush speed should be 25 to 100 mm / sec. It was.

(1)感光体サンプルの作製
(1.1)支持体
実施例1と同様の導電性支持体を用意した。
(1) Preparation of Photoreceptor Sample (1.1) Support A conductive support similar to that in Example 1 was prepared.

(1.2)下引き層
下記組成の分散液を同じ溶媒にて2倍に希釈し、一夜静置後に濾過(フィルター;日本ポール社製リジメッシュ5μmフィルター使用)し、下引き層塗布液を調製した。分散機としてサンドミルを用いて、6時間の分散を行った。
その後、表2に記載の被塗布面の回転速度および突入速度条件で、被塗布部材を回転させながらこの塗布液に突入させ、引上げ速度7mm/secにて浸漬塗布し、上記導電性支持体の上に、乾燥後の層厚1.5μmの下引き層を形成した。
かかる工程では、下引き層塗布液の温度を26℃と、下引き層塗布液の粘度を80mPa・secと、被塗布部材の温度を30℃とそれぞれ設定した。
(1.2) Undercoat layer A dispersion of the following composition was diluted twice with the same solvent, and allowed to stand overnight and then filtered (filter; using a lymesh 5 μm filter manufactured by Nihon Pall) to prepare an undercoat layer coating solution. did. Dispersion was performed for 6 hours using a sand mill as a disperser.
Thereafter, the coated member is plunged into the coating solution while rotating the coated member under the rotational speed and rushing speed conditions described in Table 2, and dip coated at a pulling speed of 7 mm / sec. An undercoat layer having a thickness of 1.5 μm after drying was formed thereon.
In this step, the temperature of the undercoat layer coating solution was set to 26 ° C., the viscosity of the undercoat layer coating solution was set to 80 mPa · sec, and the temperature of the member to be coated was set to 30 ° C.

バインダー:ポリアミド樹脂CM8000(東レ社製) 80質量部
無機微粒子:酸化チタンSMT500SAS(テイカ社製) 300質量部
溶媒:メタノール 1000質量部
1−プロパノール 200質量部
Binder: Polyamide resin CM8000 (manufactured by Toray Industries, Inc.) 80 parts by mass Inorganic fine particles: Titanium oxide SMT500SAS (manufactured by Teika) 300 parts by mass Solvent: 1000 parts by mass of methanol
200 parts by mass of 1-propanol

(1.3)電荷発生層および電荷輸送層
電荷発生層を、実施例1のサンプル2(表1参照)と同じ条件で回転突入後浸漬塗布をして形成した。その後、電荷輸送層を実施例1と同様にして形成し、感光体のサンプルを製造した。
なお、本実施例では、下引き層の形成時において、回転の有無を設定し、表2に記載の2種のサンプル11〜12を製造した。
(1.3) Charge generation layer and charge transport layer The charge generation layer was formed by dip coating after rotating entry under the same conditions as Sample 2 of Example 1 (see Table 1). Thereafter, a charge transport layer was formed in the same manner as in Example 1 to produce a sample of the photoreceptor.
In this example, at the time of forming the undercoat layer, whether or not to rotate was set, and two types of samples 11 to 12 shown in Table 2 were manufactured.

(2)感光体サンプルの評価
下引き層の形成時に気泡が巻き込まれると、気泡の浮遊により下引き層で局部的な薄膜部が発生し、上層の電荷発生層で局部的に濃い部分が発生する。かかる場合、画像上(同上複合機)では黒点が白画像に現れる。これを実施例1と同様の外観検査装置と対比させ、不良発生の検出をおこなった。評価基準は実施例1に準ずる。
(2) Evaluation of photoconductor sample When bubbles are involved during the formation of the undercoat layer, local thin film portions are generated in the undercoat layer due to the floating of the bubbles, and locally dark portions are generated in the upper charge generation layer. To do. In such a case, a black dot appears in the white image on the image (the same multifunction machine as above). This was compared with the same appearance inspection apparatus as in Example 1 to detect the occurrence of defects. Evaluation criteria are in accordance with Example 1.

Figure 0006569484
Figure 0006569484

(3)まとめ
表2に示すとおり、サンプル11とサンプル12とを比較すると、前者のサンプル11では気泡発生頻度が著しく低く結果が良好であった。
このことから、下引き層を形成する場合でも、気泡に起因する塗布膜不良を抑制するうえでは、被塗布部材(ここでは支持体)を回転させながら塗布液に突入させ浸漬させることが有用であることがわかった。
(3) Summary As shown in Table 2, when sample 11 and sample 12 were compared, the former sample 11 had a remarkably low bubble generation frequency and good results.
For this reason, even when the undercoat layer is formed, in order to suppress coating film defects caused by bubbles, it is useful to immerse the member to be coated (here, the support) into the coating solution while rotating it. I found out.

1 支持体
2 下引き層
3 感光層
4 電荷発生層
5 電荷輸送層
6 表面保護層
7 金属酸化物微粒子
10 感光体
20 浸漬塗布装置
22 塗布槽
24 仮貯留槽
26 供給槽
28 ポンプ
30 塗布液
40 被塗布部材
100 支持体の表面
102 塗布膜の下端部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support body 2 Undercoat layer 3 Photosensitive layer 4 Charge generation layer 5 Charge transport layer 6 Surface protective layer 7 Metal oxide fine particle 10 Photoconductor 20 Immersion coating apparatus 22 Coating tank 24 Temporary storage tank 26 Supply tank 28 Pump 30 Coating liquid 40 To-be-coated member 100 Support surface 102 Lower end of coating film

Claims (3)

円筒状の被塗布部材を準備する工程と、
前記被塗布部材を回転させながら塗布液に突入させ浸漬させる工程と、を備え、
前記被塗布部材を準備する工程では、
前記被塗布部材として支持体または下引き層が形成された支持体を準備し、
前記被塗布部材を前記塗布液に突入させ浸漬させる工程では、
前記支持体上に下引き層を形成するか、または前記支持体に形成済みの下引き層上に電
荷発生層を形成する時において、被塗布面の回転速度を100〜400mm/secとし、突入速度を25〜100mm/secとし、かつ、
前記塗布液の温度が20〜50℃において、当該塗布液の粘度が1〜800mPa・secとすることを特徴とする記載の電子写真感光体の塗布膜の製造方法。
A step of preparing a cylindrical coated member;
E Bei and a step of immersing is plunged into the coating solution while rotating the object to be coated member,
In the step of preparing the member to be coated,
Preparing a support or a support on which an undercoat layer is formed as the coated member,
In the step of immersing the member to be coated into the coating liquid,
An undercoat layer is formed on the support, or an electrode is formed on the undercoat layer already formed on the support.
When forming the load generating layer, the rotational speed of the coated surface is 100 to 400 mm / sec, the rush speed is 25 to 100 mm / sec, and
The method for producing a coating film on an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the coating liquid has a viscosity of 1 to 800 mPa · sec at a temperature of 20 to 50 ° C.
前記電荷発生層の塗布液が、チタニルフタロシアニン顔料を含有することを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体の塗布膜の製造方法。2. The method for producing a coating film for an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the coating solution for the charge generation layer contains a titanyl phthalocyanine pigment. 前記下引き層の塗布液が、ポリアミド樹脂を含有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子写真感光体の塗布膜の製造方法。The method for producing a coating film for an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the coating solution for the undercoat layer contains a polyamide resin.
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