JP6570012B2 - 蒸発源及び蒸着装置 - Google Patents
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Description
基板に蒸着させる材料を収容する坩堝と、
前記坩堝を取り囲むように設けられ、該坩堝を加熱する加熱体と、
前記加熱体を取り囲むように設けられ、熱を遮断する遮熱構造体と、
を備える蒸発源であって、
前記遮熱構造体の内部に該遮熱構造体の内壁面に沿うように設けられ、かつ冷却液が流れる冷却液室と、
前記冷却液室内に備えられ、冷却液を該冷却液室の下方から排出させる排液管と、
を備えることを特徴とする。
図1〜図6を参照して、本発明の実施例1に係る蒸発源及び蒸着装置について説明する。図1は本発明の実施例1に係る蒸着装置の概略構成図である。図2は本発明の実施例1に係る蒸発源の平面図である。図3は本発明の実施例1に係る蒸発源の側面図であり、蒸着装置内に配置された状態における蒸発源の側面図を示している。図4は本発明の実施例1に係る蒸発源の模式的断面図であり、図2中のA1−A2断面図に相当する。図5は本発明の実施例1に係るリフレクタの平面図であり、蓋部を外した状態を示している。図6は本発明の実施例1に係るリフレクタの内部構造の概略構成図であり、リフレクタの内部構造を簡略的な断面図で示している。図1,図3,図4及び図6においては、図中の上方が蒸着装置の使用時における鉛直方向上方に相当し、図中下方が蒸着装置の使用時における鉛直方向下方に相当する。
図1を参照して、蒸着装置1について簡単に説明する。蒸着装置1は、真空ポンプ30によって、内部が真空に近い状態となるように構成されるチャンバ20と、チャンバ20の内部に配置される蒸発源10とを備えている。蒸発源10は、基板70に蒸着させる物質の材料を加熱させることで、当該材料を蒸発又は昇華させる役割を担っている。この蒸発源10によって蒸発または昇華された物質が、チャンバ20の内部に設置された基板70に付着されることで、基板70に薄膜が形成される。
特に、図2〜図4を参照して、本実施例に係る蒸発源10の全体構成について説明する。蒸発源10は、基板70に蒸着させる物質の材料を収容する坩堝100と、坩堝100を取り囲むように設けられ、坩堝100を加熱する加熱体200と、加熱体200を取り囲むように設けられ、熱を遮断する遮熱構造体としてのリフレクタ300とを備えている。坩堝100を加熱する方式は各種の構成が採用され得る。例えば、通電加熱方式が採用される場合には、加熱体200は、通電されるワイヤに相当する。また、高周波誘導加熱方式が採用される場合には、加熱体200は加熱コイルに相当する。
で、載置台350とリフレクタ300との間隔を調整することにより、載置台350に対するリフレクタ300の傾きを調整することができる。
特に、図4〜図6を参照して、冷却液Lの流れ方について説明する。なお、図5においては、リフレクタ300のうち、蓋部330を取り外した状態の平面図を簡略的に示している。また、図6においては、冷却液Lの流れ方が分かり易いように、リフレクタ300の内部構造において、冷却液Lの流れ方に関連する部材を簡略的に示している。
本実施例に係る蒸発源10によれば、遮熱構造体としてのリフレクタ300の内部(リフレクタ本体310の内部)に、リフレクタ本体310の内壁面312に沿うように冷却液室311が設けられている。従って、パイプ状の管によって、冷却液を流す場合に比べて、冷却効率を高めることができる。
図7〜図9には、本発明の実施例2が示されている。本実施例においては、遮熱構造体としてのリフレクタの構造が、上記実施例1の場合とは異なる場合の構成を示す。リフレクタ以外の構成については、上記実施例1で説明した構成を適用可能なため、本実施例では、リフレクタの構造についてのみ説明する。
却液Lを供給するための供給管370Xが、第2リフレクタ本体310XYにおける冷却液室311XYを通るように設けられている。また、第1リフレクタ本体310XXにおける冷却液室311XX内には、冷却液Lを冷却液室311XXの下方から排出させる排液管340XXが備えられている。この排液管340XXは、第2リフレクタ本体310XYにおける冷却液室311XYを通るように設けられている。
図8に示すように、供給通路321XXから供給管370Xを介して冷却液室311XX内に冷却液Lが供給される。そして、冷却液Lの増加に伴って、冷却液Lの液面は、冷却液室311XX内において、徐々に上昇していく(図8中の実線矢印参照)。そして、冷却液Lの液面が、排液管340XXの上端位置H1を超えると、冷却液Lは、排液管340XXの上端(一端側の端面)の開口部から排液管340XXの管内に入り、重力により落下する(図8中の点線矢印参照)。その後、冷却液Lは、排出通路322XXを通り、チャンバ20の外部に排出される。
図9に示すように、供給通路321XYから冷却液室311XY内に冷却液Lが供給される。そして、冷却液Lの増加に伴って、冷却液Lの液面は、冷却液室311XY内において、徐々に上昇していく(図9中の実線矢印参照)。そして、冷却液Lの液面が、排液
管340XYの上端位置H2を超えると、冷却液Lは、排液管340XYの上端(一端側の端面)の開口部から排液管340XYの管内に入り、重力により落下する(図9中の点線矢印参照)。その後、冷却液Lは、排出通路322XYを通り、チャンバ20の外部に排出される。
図10及び図11には、本発明の実施例3が示されている。本実施例においては、遮熱構造体としてのリフレクタの構造が、上記実施例1の場合とは異なる場合の構成を示す。リフレクタ以外の構成については、上記実施例1で説明した構成を適用可能なため、本実施例では、リフレクタの構造についてのみ説明する。
実施例3で説明した通り、高周波誘導加熱方式を採用した場合に、円筒状のリフレクタ本体を採用し、かつリフレクタ本体が導電性の材料により構成される場合には、加熱コイルに電流が流れると、リフレクタ本体にも渦電流が発生してしまう。これを防止するために、円筒形状に対して、周方向の1箇所に軸線方向に伸びるスリットが設けられた形状のリフレクタ本体を採用することもできる。この場合、リフレクタ本体及び冷却液室を上方から見た形状は、C字形状となる。
Claims (11)
- 基板に蒸着させる材料を収容する坩堝と、
前記坩堝を取り囲むように設けられ、該坩堝を加熱する加熱体と、
前記加熱体を取り囲むように設けられ、熱を遮断する遮熱構造体と、
を備える蒸発源であって、
前記遮熱構造体の内部に該遮熱構造体の内壁面に沿うように設けられ、かつ冷却液が流れる冷却液室と、
前記冷却液室内に備えられ、冷却液を該冷却液室の下方から排出させる排液管と、
を備えることを特徴とする蒸発源。 - 前記遮熱構造体の底面から前記冷却液室内に至るように設けられ、冷却液が供給される供給通路を備えることを特徴とする請求項1に記載の蒸発源。
- 前記冷却液室内から前記遮熱構造体の底面に至るように設けられ、冷却液が排出される排出通路を備えると共に、
前記排液管は、一端が前記冷却液室内の上方に位置し、他端が前記排出通路に接続されていることを特徴する請求項1または2に記載の蒸発源。 - 前記排液管の一端側の端面に設けられた開口部が、上方を向いていることを特徴とする請求項1,2または3に記載の蒸発源。
- 前記冷却液室は円筒状の空間により形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の蒸発源。
- 前記冷却液室は上下方向に分割するように複数設けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の蒸発源。
- 前記遮熱構造体は周方向に分割するように複数設けられており、各遮熱構造体の内部にそれぞれ冷却液室が備えられていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の蒸発源。
- 前記遮熱構造体と前記加熱体との間には、該加熱体からの熱を反射させるリフレクタが設けられていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の蒸発源。
- 請求項1〜8のいずれか一つに記載の蒸発源と、
前記蒸発源が内部に配置されるチャンバと、
を備えることを特徴とする蒸着装置。 - 前記遮熱構造体の載置台と、
前記載置台に対する前記遮熱構造体の傾きを調整する傾き調整機構と、
前記チャンバに形成された第1挿通孔内を挿通するように設けられ、かつ前記冷却液室内に供給される冷却液が流れる第1配管と、
第1配管と第1挿通孔との間の環状隙間を封止する弾性体製の第1ガスケットと、
前記チャンバに形成された第2挿通孔内を挿通するように設けられ、かつ前記冷却液室内から排出される冷却液が流れる第2配管と、
第2配管と第2挿通孔との間の環状隙間を封止する弾性体製の第2ガスケットと、
を備えることを特徴とする請求項9に記載の蒸着装置。 - 前記傾き調整機構は、
それぞれの位置で、前記載置台と前記遮熱構造体との間隔を調整する複数のネジ部品により構成されていることを特徴とする請求項10に記載の蒸着装置。
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