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JP6578145B2 - エッチング方法 - Google Patents
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Description

本発明の実施形態は、エッチング方法に関するものであり、特に、酸化シリコンから構成された第１領域を窒化シリコンから構成された第２領域に対して選択的にエッチングする方法に関するものである。
電子デバイスの製造においては、酸化シリコンから構成された第１領域を窒化シリコンから構成された第２領域に対して選択的にエッチングすることが行われる。このようなエッチングにおいては、例えば、特許文献１に記載されているように、フルオロカーボンガス、アルゴンガス、及び酸素ガスを含む処理ガスのプラズマがプラズマ処理装置の処理容器内において生成される。
また、第１領域を第２領域に対して選択的にエッチングする技術の一種として、ＳＡＣ（Ｓｅｌｆ−Ａｌｉｇｎｅｄ Ｃｏｎｔａｃｔ）技術が知られている。ＳＡＣ技術においては、第２領域によって形成される凹部内に埋め込まれている第１領域が、自己整合的にエッチングされる。ＳＡＣ技術においても、上述した処理ガスが利用され、当該処理ガスのプラズマがプラズマ処理容器内において生成される。
特開２００２−２５９７９号公報
しかしながら、上述した従来の技術では、第１領域のエッチングの際に第２領域が少なからず浸食される。したがって、窒化シリコンから構成された第２領域の浸食を抑制しつつ、酸化シリコンから構成された第１領域をエッチングすることが求められている。
一態様においては、酸化シリコンから構成された第１領域を窒化シリコンから構成された第２領域に対して選択的にエッチングする方法が提供される。この方法は、（ｉ）第１領域及び第２領域を有する被処理体をプラズマ処理装置の処理容器内に準備する工程と、（ｉｉ）処理容器内において、フルオロカーボンガス及び希ガスを含む処理ガスのプラズマを生成する工程と、を含む。処理ガスのプラズマを生成する前記工程において、被処理体がその上に載置される下部電極の自己バイアス電位は、４Ｖ以上、３５ｅＶ以下である。また、処理ガス中のフルオロカーボンガスの流量に対して処理ガス中の希ガスの流量は、２５０倍以上、５０００倍以下である。
上記一態様に係る方法では、処理ガス中のフルオロカーボンガスが比較的大量の希ガスによって希釈されており、また、自己バイアス電位が４Ｖ以上、３５０Ｖ以下であるので、第１領域のエッチングにおける第２領域の浸食が抑制される。
なお、下部電極の自己バイアス電位が４Ｖ以上に設定されると、被処理体に照射されるイオンのエネルギーは４ｅＶ以上のエネルギーとなる。４ｅＶ以上のエネルギーを有するイオンが被処理体に照射されると、第１領域を構成するシリコンと酸素との結合が切断され、シリコンとフッ素の反応生成物が生成される。この反応生成物は排気される。また、上記方法では、第１領域のエッチングの際に、処理ガスの解離によって発生するフルオロカーボン及び／又はカーボンを含む堆積物が第２領域上に形成される。下部電極の自己バイアス電位が３５０Ｖ以下に設定されると、被処理体に照射されるイオンのエネルギーは３５０ｅＶよりも若干大きいエネルギー以下のエネルギーとなる。このようなエネルギーを有するイオンは、２ｎｍの厚さの堆積物を貫通しない。したがって、自己バイアス電位が３５０Ｖ以下であれば、第２領域の浸食が抑制される。また、処理ガス中のフルオロカーボンガスが２５０倍以上、５０００倍以下の比較的大量の希ガスによって希釈されると、第１領域のエッチングを妨げることなく、第２領域の浸食を更に抑制することが可能になる。これは、堆積物中のフッ素の量が減少され、比較的硬質の堆積物が第２領域上に形成されるからであると推測される。
一実施形態の処理ガスのプラズマを生成する前記工程では、処理ガスを処理容器内に供給するために、第１のガスソースからフルオロカーボンガス及び希ガスを含む第１のガスが処理容器内に供給され、且つ、第２のガスソースから希ガスのみ又は第１のガスとは異なる体積比でフルオロカーボンガス及び希ガスを含む第２のガスが処理容器内に供給される。この実施形態によれば、希ガスの流量に対して極少量のフルオロカーボンガスの流量を高精度に調整することが可能となる。
一実施形態の処理ガスのプラズマを生成する前記工程では、処理ガスを処理容器内に供給するために、単一のガスソースからフルオロカーボンガス及び希ガスを含む混合ガスが処理容器内に供給されてもよい。
一実施形態では、希ガスはアルゴンガスであってもよい。また、一実施形態では、処理ガスは酸素ガスを更に含んでいてもよい。
一実施形態では、第２領域は凹部を形成しており、第１領域は、凹部を埋め、且つ前記第２領域を覆うように設けられている。この実施形態の方法は、第２領域が露出するときを含む期間において、第１領域をエッチングするために一回以上のシーケンスを実行する工程を更に含み得る。一回以上のシーケンスは、処理容器内においてフルオロカーボンガスを含む処理ガスのプラズマを生成する工程であり、第１領域及び第２領域上にフルオロカーボンを含む堆積物を形成する、該工程と、処理容器内において不活性ガスのプラズマを生成する工程と、を含む。この実施形態によれば、第２領域の露出時に堆積物により当該第２領域がより確実に保護され、しかる後に堆積物中のラジカルによって第１領域がエッチングされる。したがって、第２領域の浸食が更に抑制される。
以上説明したように、酸化シリコンから構成された第１領域を、窒化シリコンから構成された第２領域の浸食を抑制しつつ、エッチングすることが可能となる。
一実施形態に係るエッチング方法を示す流れ図である。 一例の被処理体の一部拡大断面図である。 プラズマ処理装置の一例を概略的に示す図である。 ガス供給部の一例を示す図である。 ガス供給部の別の一例を示す図である。 ガス供給部の更に別の一例を示す図である。 図１に示す方法の実施の途中段階における被処理体の一部を拡大して示す断面図である。 図１に示す方法の実施の途中段階における被処理体の一部を拡大して示す断面図である。 図１に示す方法の実施の途中段階における被処理体の一部を拡大して示す断面図である。 図１に示す方法の実施後の被処理体の一部を拡大して示す断面図である。 別の実施形態に係るエッチング方法を示す流れ図である。 図１１に示す方法の実施の途中段階における被処理体の一部を拡大して示す断面図である。 図１１に示す方法の実施の途中段階における被処理体の一部を拡大して示す断面図である。 図１１に示す方法の実施の途中段階における被処理体の一部を拡大して示す断面図である。 図１１に示す方法の実施の途中段階における被処理体の一部を拡大して示す断面図である。 実験例１〜３及び比較実験例１〜２について説明するための図である。
以下、図面を参照して種々の実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
図１は、一実施形態に係るエッチング方法を示す流れ図である。図１に示す方法ＭＴは、酸化シリコンから構成された第１領域を窒化シリコンから構成された第２領域に対して選択的にエッチングする方法である。
図２は、一例の被処理体の一部拡大断面図である。図２に示すように、被処理体（以下、「ウエハＷ」ということがある）は、基板ＳＢ、第１領域Ｒ１、第２領域Ｒ２、及び、後にマスクを構成する有機膜ＯＬを有している。一例では、ウエハＷは、フィン型電界効果トランジスタの製造途中に得られるものであり、更に、隆起領域ＲＡ、シリコン含有の反射防止膜ＡＬ、及び、レジストマスクＲＭを有している。
隆起領域ＲＡは、基板ＳＢから隆起するように設けられている。この隆起領域ＲＡは、例えば、ゲート領域を構成し得る。第２領域Ｒ２は、窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）から構成されており、隆起領域ＲＡの表面、及び、基板ＳＢの表面上に設けられている。この第２領域Ｒ２は、図２に示すように、凹部を形成するように延在している。一例では、凹部の深さは、約１５０ｎｍであり、凹部の幅は、約２０ｎｍである。
第１領域Ｒ１は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）から構成されており、第２領域Ｒ２上に設けられている。具体的に、第１領域Ｒ１は、第２領域Ｒ２によって形成されている凹部を埋め、当該第２領域Ｒ２を覆うように設けられている。
有機膜ＯＬは、第１領域Ｒ１上に設けられている。有機膜ＯＬは、有機材料、例えば、アモルファスカーボンから構成され得る。反射防止膜ＡＬは、有機膜ＯＬ上に設けられている。レジストマスクＲＭは、反射防止膜ＡＬ上に設けられている。レジストマスクＲＭは、第２領域Ｒ２によって画成される凹部上に当該凹部の幅よりも広い幅を有する開口を提供している。レジストマスクＲＭの開口の幅は、例えば、６０ｎｍである。このようなレジストマスクＲＭのパターンは、フォトリソグラフィ技術により形成される。
方法ＭＴでは、図２に示すウエハＷのような被処理体がプラズマ処理装置内において処理される。図３は、プラズマ処理装置の一例を概略的に示す図である。図３に示すプラズマ処理装置１０は、容量結合型プラズマエッチング装置である。プラズマ処理装置１０は、略円筒状の処理容器１２を備えている。処理容器１２は、例えばアルミニウムから構成されており、当該処理容器１２の内壁面には陽極酸化処理が施されている。この処理容器１２は保安接地されている。
処理容器１２の底部上には、略円筒状の支持部１４が設けられている。支持部１４は、例えば、絶縁材料から構成されている。支持部１４は、処理容器１２内において、処理容器１２の底部から鉛直方向に延在している。また、処理容器１２内には、載置台ＰＤが設けられている。載置台ＰＤは、支持部１４によって支持されている。
載置台ＰＤは、その上面においてウエハＷを保持する。載置台ＰＤは、下部電極ＬＥ及び静電チャックＥＳＣを有している。下部電極ＬＥは、第１プレート１８ａ及び第２プレート１８ｂを含んでいる。第１プレート１８ａ及び第２プレート１８ｂは、例えばアルミニウムといった金属から構成されており、略円盤形状を有している。第２プレート１８ｂは、第１プレート１８ａ上に設けられており、第１プレート１８ａに電気的に接続されている。
第２プレート１８ｂ上には、静電チャックＥＳＣが設けられている。静電チャックＥＳＣは、導電膜である電極を一対の絶縁層又は絶縁シート間に配置した構造を有している。静電チャックＥＳＣの電極には、直流電源２２がスイッチ２３を介して電気的に接続されている。この静電チャックＥＳＣは、直流電源２２からの直流電圧により生じたクーロン力等の静電力によりウエハＷを吸着する。これにより、静電チャックＥＳＣは、ウエハＷを保持することができる。
第２プレート１８ｂの周縁部上には、ウエハＷのエッジ及び静電チャックＥＳＣを囲むようにフォーカスリングＦＲが配置されている。フォーカスリングＦＲは、エッチングの均一性を向上させるために設けられている。フォーカスリングＦＲは、エッチング対象の膜の材料によって適宜選択される材料から構成されており、例えば、石英から構成され得る。
第２プレート１８ｂの内部には、冷媒流路２４が設けられている。冷媒流路２４は、温調機構を構成している。冷媒流路２４には、処理容器１２の外部に設けられたチラーユニットから配管２６ａを介して冷媒が供給される。冷媒流路２４に供給された冷媒は、配管２６ｂを介してチラーユニットに戻される。このように、冷媒流路２４とチラーユニットとの間では、冷媒が循環される。この冷媒の温度を制御することにより、静電チャックＥＳＣによって支持されたウエハＷの温度が制御される。
また、プラズマ処理装置１０には、ガス供給ライン２８が設けられている。ガス供給ライン２８は、伝熱ガス供給機構からの伝熱ガス、例えばＨｅガスを、静電チャックＥＳＣの上面とウエハＷの裏面との間に供給する。
また、プラズマ処理装置１０は、上部電極３０を備えている。上部電極３０は、載置台ＰＤの上方において、当該載置台ＰＤと対向配置されている。下部電極ＬＥと上部電極３０とは、互いに略平行に設けられている。上部電極３０と載置台ＰＤとの間には、ウエハＷにプラズマ処理を行うための処理空間Ｓが提供されている。
上部電極３０は、絶縁性遮蔽部材３２を介して、処理容器１２の上部に支持されている。一実施形態では、上部電極３０は、載置台ＰＤの上面、即ち、ウエハ載置面からの鉛直方向における距離が可変であるように構成され得る。上部電極３０は、天板３４及び支持体３６を含み得る。天板３４は処理空間Ｓに面しており、当該天板３４には複数のガス吐出孔３４ａが設けられている。この天板３４は、一実施形態では、シリコンから構成されている。
支持体３６は、天板３４を着脱自在に支持するものであり、例えばアルミニウムといった導電性材料から構成され得る。この支持体３６は、水冷構造を有し得る。支持体３６の内部には、ガス拡散室３６ａが設けられている。このガス拡散室３６ａからは、ガス吐出孔３４ａに連通する複数のガス通流孔３６ｂが下方に延びている。また、支持体３６には、ガス拡散室３６ａに処理ガスを導くガス導入口３６ｃが形成されており、このガス導入口３６ｃには、ガス供給管３８が接続されている。
ガス供給管３８には、ガス供給部ＧＵが接続されている。図４は、ガス供給部の一例を示す図である。図４に示す第１例のガス供給部ＧＵは、ガスソース群ＧＳＧ、バルブ群４２、流量制御器群４３、及びバルブ群４４を有している。第１例のガス供給部ＧＵでは、ガスソース群ＧＳＧは、複数のガスソースＧＳ１〜ＧＳ７を含んでおり、バルブ群４２は、複数のバルブ４２１〜４２７を含んでおり、流量制御器群４３は、複数の流量制御器４３１〜４３７を含んでおり、バルブ群４４は、複数のバルブ４４１〜４４７を含んでいる。なお、流量制御器４３１〜４３７の各々は、マスフローコントローラ、又は、圧力制御式の流量制御器である。
ガスソースＧＳ１は、Ｃ４Ｆ８ガスのソースであり、バルブ４２１、流量制御器４３１、及び、バルブ４４１を介して、ガス供給管３８に接続されている。ガスソースＧＳ２は、ＣＦ４ガスのソースであり、バルブ４２２、流量制御器４３２、及び、バルブ４４２を介して、ガス供給管３８に接続されている。ガスソースＧＳ３は、Ｃ４Ｆ６ガスのソースであり、バルブ４２３、流量制御器４３３、及び、バルブ４４３を介して、ガス供給管３８に接続されている。ガスソースＧＳ４は、希ガスのソースであり、バルブ４２４、流量制御器４３４、及び、バルブ４４４を介して、ガス供給管３８に接続されている。なお、希ガスは、Ｈｅガス、Ｎｅガス、Ａｒガス、Ｋｒガスといった任意の希ガスであることができる。ガスソースＧＳ５は、窒素ガス（Ｎ２ガス）のソースであり、バルブ４２５、流量制御器４３５、及び、バルブ４４５を介して、ガス供給管３８に接続されている。ガスソースＧＳ６は、水素ガス（Ｈ２ガス）のソースであり、バルブ４２６、流量制御器４３６、及び、バルブ４４６を介して、ガス供給管３８に接続されている。また、ガスソースＧＳ７は、酸素ガス（Ｏ２ガス）のソースであり、バルブ４２７、流量制御器４３７、及び、バルブ４４７を介して、ガス供給管３８に接続されている。なお、第１例のガス供給部ＧＵは、酸素含有ガス、例えば、酸化炭素ガスのソース、並びに当該ソースとガス供給管３８との間に設けられたバルブ、流量制御器、及びバルブを更に有していてもよい。
この第１例のガス供給部ＧＵは、異なるガス種の複数の単ガス用の複数のガスソースを有しており、選択された一以上のガスソースからのガスの流量を調整し、流量調整されたガスをガス供給管３８に供給するように構成されている。
図５は、ガス供給部の別の一例を示す図である。図５に示す第２例のガス供給部ＧＵでは、ガスソース群ＧＳＧは、上述した複数のガスソースＧＳ１〜ＧＳ７に加えて、ガスソースＧＳ８を含んでいる。また、第２例のガス供給部ＧＵでは、バルブ群４２はバルブ４２８を更に含んでおり、流量制御器群４３は流量制御器４３８を更に含んでおり、バルブ群４４はバルブ４４８を更に含んでいる。なお、第２例のガス供給部ＧＵも、酸素含有ガス、例えば、酸化炭素ガスのソース、並びに当該ソースとガス供給管３８との間に設けられたバルブ、流量制御器、及びバルブを更に有していてもよい。
ガスソースＧＳ８は、フルオロカーボンガスと希ガスを含む混合ガス、即ち、第１のガスのソースである。フルオロカーボンガスは例えばＣ４Ｆ６ガスであり、希ガスは先に例示したような任意の希ガスである。このガスソースＧＳ８は、バルブ４２８、流量制御器４３８、及びバルブ４４８を介してガス供給管３８に接続されている。ガスソースＧＳ８からのガスは、後述する工程ＳＴ４で用いられ得る。工程ＳＴ４で用いられる処理ガスは、大流量の希ガスによってフルオロカーボンガスが希釈されたガスである。したがって、この処理ガスの全流量中において、フルオロカーボンガスの流量は相当に小さい。このような流量のフルオロカーボンガスの供給を単ガスのガスソースから行う場合には、流量制御器に求められる流量制御の精度は高いものとなる。一方、第２例のガス供給部ＧＵでは、フルオロカーボンガスの所望の流量及び希ガスの所望の流量に応じた混合比でフルオロカーボンガスと希ガスを含む混合ガス用の単一のガスソースＧＳ８が用いられる。したがって、第２例のガス供給部ＧＵによれば、高い精度の流量制御器を用いずとも、所望の流量のフルオロカーボンガス及び所望の流量の希ガスを供給することが可能となる。
図６は、ガス供給部の更に別の一例を示す図である。図６に示す第３例のガス供給部ＧＵでは、ガスソース群ＧＳＧは、上述した複数のガスソースＧＳ１〜ＧＳ８に加えて、ガスソースＧＳ９を含んでいる。また、第２例のガス供給部ＧＵでは、バルブ群４２はバルブ４２９を更に含んでおり、流量制御器群４３は流量制御器４３９を更に含んでおり、バルブ群４４はバルブ４４９を更に含んでいる。なお、第３例のガス供給部ＧＵも、酸素含有ガス、例えば、酸化炭素ガスのソース、並びに当該ソースとガス供給管３８との間に設けられたバルブ、流量制御器、及びバルブを更に有していてもよい。
ガスソースＧＳ９は、第２のガスのソースであり、当該第２のガスは、希ガスのみを含むか、或いはフルオロカーボンガスと希ガスを含む。第２のガスがフルオロカーボンガスと希ガスを含む場合には、ガスソースＧＳ９は、ガスソースＧＳ８における第１のガスとは異なる体積比で、フルオロカーボンガスと希ガスを含む。この第３例のガス供給部ＧＵのガスソースＧＳ８及びガスソースＧＳ９は、工程ＳＴ４において処理ガスを供給するために用いられる。これらの工程では、フルオロカーボンガスの所望の流量及び希ガスの所望の流量に応じて、ガスソースＧＳ８の第１のガスの流量、及び、ガスソースＧＳ９の第２のガスの流量が調整される。これにより、高精度の流量制御器を用いずとも、処理ガス中のフルオロカーボンガスの流量を高い分解能で制御することが可能となる。
例えば、ガスソースＧＳ８の第１のガスが体積比で０．１％のフルオロカーボンガス及び９９．９％の希ガスを含み、ガスソースＧＳ８の第２のガスが希ガスのみをフルオロカーボンガスのみを含む場合を想定する。この場合に、第１のガスの流量を５００ｓｃｃｍ、第２のガスの流量を５００ｓｃｃｍに調整すると、希ガスの流量が約１０００ｓｃｃｍとなり、フルオロカーボンガスの流量は０．５ｓｃｃｍとなる。また、第１のガスの流量を４９０ｓｃｃｍ、第２のガスの流量を５１０ｓｃｃｍに調整すると、希ガスの流量が約１０００ｓｃｃｍとなり、フルオロカーボンガスの流量は０．４９ｓｃｃｍとなる。このように、ガスソースＧＳ８の第１のガスの流量及びガスソースＧＳ９の第２のガスの流量の調整の分解能が低くても、フルオロカーボンガスの流量を高い分解能で調整することが可能となる。
再び図３を参照する。プラズマ処理装置１０では、処理容器１２の内壁に沿ってデポシールド４６が着脱自在に設けられている。デポシールド４６は、支持部１４の外周にも設けられている。デポシールド４６は、処理容器１２にエッチング副生物（デポ）が付着することを防止するものであり、アルミニウム材にＹ２Ｏ３等のセラミックスを被覆することにより構成され得る。
処理容器１２の底部側、且つ、支持部１４と処理容器１２の側壁との間には排気プレート４８が設けられている。排気プレート４８には、当該排気プレート４８を板厚方向に貫通する複数の貫通孔が形成されている。排気プレート４８は、例えば、アルミニウム材にＹ２Ｏ３等のセラミックスを被覆することにより構成され得る。この排気プレート４８の下方、且つ、処理容器１２には、排気口１２ｅが設けられている。排気口１２ｅには、排気管５２を介して排気装置５０が接続されている。排気装置５０は、圧力調整弁、及び、ターボ分子ポンプなどの真空ポンプを有しており、処理容器１２内の空間を所望の真空度まで減圧することができる。また、処理容器１２の側壁にはウエハＷの搬入出口１２ｇが設けられており、この搬入出口１２ｇはゲートバルブ５４により開閉可能となっている。
また、プラズマ処理装置１０は、第１の高周波電源６２及び第２の高周波電源６４を更に備えている。第１の高周波電源６２は、プラズマ生成用の高周波を発生する電源であり、例えば２７〜１００ＭＨｚの周波数の高周波を発生する。第１の高周波電源６２は、整合器６６を介して下部電極ＬＥに接続されている。整合器６６は、第１の高周波電源６２の出力インピーダンスと負荷側（下部電極ＬＥ側）の入力インピーダンスを整合させるための回路を有している。なお、第１の高周波電源６２は、整合器６６を介して上部電極３０に接続されていてもよい。
第２の高周波電源６４は、ウエハＷにイオンを引き込むための高周波バイアスを発生する電源であり、例えば、４００ｋＨｚ〜１３．５６ＭＨｚの範囲内の周波数の高周波バイアスを発生する。第２の高周波電源６４は、整合器６８を介して下部電極ＬＥに接続されている。整合器６８は、第２の高周波電源６４の出力インピーダンスと負荷側（下部電極ＬＥ側）の入力インピーダンスを整合させるための回路を有している。
また、プラズマ処理装置１０は、電源７０を更に備えている。電源７０は、上部電極３０に接続されている。電源７０は、処理空間Ｓ内に存在する正イオンを天板３４に引き込むための電圧を、上部電極３０に印加する。一例においては、電源７０は、負の直流電圧を発生する直流電源である。別の一例において、電源７０は、比較的低周波の交流電圧を発生する交流電源であってもよい。電源７０から上部電極に印加される電圧は、−１５０Ｖ以下の電圧であり得る。即ち、電源７０によって上部電極３０に印加される電圧は、絶対値が１５０Ｖ以上の負の電圧であり得る。このような電圧が電源７０から上部電極３０に印加されると、処理空間Ｓに存在する正イオンが、天板３４に衝突する。これにより、天板３４から二次電子及び／又はシリコンが放出される。放出されたシリコンは、処理空間Ｓ内に存在するフッ素の活性種と結合し、フッ素の活性種の量を低減させる。
また、一実施形態においては、プラズマ処理装置１０は、制御部Ｃｎｔを更に備え得る。この制御部Ｃｎｔは、プロセッサ、記憶部、入力装置、表示装置等を備えるコンピュータであり、プラズマ処理装置１０の各部を制御する。この制御部Ｃｎｔでは、入力装置を用いて、オペレータがプラズマ処理装置１０を管理するためにコマンドの入力操作等を行うことができ、また、表示装置により、プラズマ処理装置１０の稼働状況を可視化して表示することができる。さらに、制御部Ｃｎｔの記憶部には、プラズマ処理装置１０で実行される各種処理をプロセッサにより制御するための制御プログラムや、処理条件に応じてプラズマ処理装置１０の各部に処理を実行させるためのプログラム、即ち、処理レシピが格納される。
以下、再び図１を参照して、方法ＭＴについて詳細に説明する。以下、図１と共に、図２、図７〜図１０を適宜参照する。図７〜図９は、図１に示す方法の実施の途中段階における被処理体の一部を拡大して示す断面図であり、図１０は図１に示す方法の実施後の被処理体の一部を拡大して示す断面図である。以下の説明では、方法ＭＴにおいて図２に示すウエハＷが図３に示す一つのプラズマ処理装置１０を用いて処理される例について説明する。なお、プラズマ処理装置１０を用いて実施される方法ＭＴの各工程では、当該プラズマ処理装置１０の各部の動作は制御部Ｃｎｔによって制御され得る。
まず、方法ＭＴでは、工程ＳＴ１が実行される。工程ＳＴ１では、プラズマ処理装置１０の処理容器１２内に図２に示すウエハＷが準備される。具体的には、ウエハＷが、処理容器１２内に搬入され、当該ウエハＷが載置台ＰＤ上に載置されて、当該載置台ＰＤの静電チャックＥＳＣによって保持される。
方法ＭＴでは、次いで、工程ＳＴ２が実行される。工程ＳＴ２では、反射防止膜ＡＬがエッチングされる。このため、工程ＳＴ２では、ガスソース群ＧＳＧの複数のガスソースのうち選択されたガスソースから処理容器１２内に処理ガスが供給される。この処理ガスは、フルオロカーボンガスを含む。フルオロカーボンガスは、例えば、Ｃ４Ｆ８ガス及びＣＦ４ガスのうち一種以上を含み得る。また、この処理ガスは、希ガス、例えば、Ａｒガスを更に含み得る。また、工程ＳＴ２では、排気装置５０が作動され、処理容器１２内の圧力が所定の圧力に設定される。さらに、工程ＳＴ２では、第１の高周波電源６２からの高周波が下部電極ＬＥに供給され、第２の高周波電源６４からの高周波バイアスが下部電極ＬＥに供給される。
工程ＳＴ２では、処理ガスのプラズマが生成され、フルオロカーボン及び／又はフッ素の活性種によって、レジストマスクＲＭの開口から露出されている部分において反射防止膜ＡＬがエッチングされる。その結果、図７に示すように、反射防止膜ＡＬの全領域のうち、レジストマスクＲＭの開口から露出されている部分が除去される。即ち、反射防止膜ＡＬにレジストマスクＲＭのパターンが転写され、開口を提供するパターンが反射防止膜ＡＬに形成される。
続く工程ＳＴ３では、有機膜ＯＬがエッチングされる。このため、工程ＳＴ３では、ガスソース群ＧＳＧの複数のガスソースのうち選択されたガスソースから処理容器１２内に処理ガスが供給される。この処理ガスは、水素ガス及び窒素ガスを含み得る。なお、工程ＳＴ３において用いられる処理ガスは、有機膜をエッチングし得るものであれば、他のガス、例えば、酸素ガスを含む処理ガスであってもよい。また、工程ＳＴ３では、排気装置５０が作動され、処理容器１２内の圧力が所定の圧力に設定される。さらに、工程ＳＴ３では、第１の高周波電源６２からの高周波が下部電極ＬＥに供給され、第２の高周波電源６４からの高周波バイアスが下部電極ＬＥに供給される。
工程ＳＴ３では、処理ガスのプラズマが生成され、反射防止膜ＡＬの開口から露出されている部分において有機膜ＯＬがエッチングされる。また、レジストマスクＲＭもエッチングされる。その結果、図８に示すように、レジストマスクＲＭが除去され、有機膜ＯＬの全領域のうち、反射防止膜ＡＬの開口から露出されている部分が除去される。即ち、有機膜ＯＬに反射防止膜ＡＬのパターンが転写され、開口を提供するパターンが有機膜ＯＬに形成され、当該有機膜ＯＬからマスクＭＫが生成される。
続く工程ＳＴ４では、第１領域Ｒ１がエッチングされる。このため、工程ＳＴ４では、処理ガスのプラズマが処理容器１２内において生成される。この処理ガスは、フルオロカーボンガス及び希ガスを含む。フルオロカーボンガスは、例えば、Ｃ４Ｆ６ガスである。また、希ガスは、例えば、アルゴンガス（Ａｒガス）である。また、一実施形態では、処理ガスは酸素ガスを更に含む。処理ガスに酸素ガスが含まれていることにより、後述する堆積物ＤＰの量が適度に調整される。
工程ＳＴ４では、ガスソース群ＧＳＧの複数のガスソースのうち選択されたガスソースから処理容器１２内に上記処理ガスが供給される。一実施形態では、上述した第１〜第３例のガス供給部ＧＵの何れかによって処理ガスが供給される。第２例のガス供給部ＧＵが用いられる場合には、ガスソースＧＳ８からフルオロカーボンガスと希ガスの混合ガスが供給される。また、第３例のガス供給部ＧＵが用いられる場合には、ガスソースＧＳ８（第１のガスソース）からフルオロカーボンガスと希ガスを含む第１のガスが供給され、ガスソースＧＳ９（第２のガスソース）から希ガスのみを含むか、或いは、第１のガスとは異なる体積比でフルオロカーオンガス及び希ガスを含む第２のガスが供給される。また、工程ＳＴ４では、排気装置５０が作動され、処理容器１２内の圧力が所定の圧力に設定される。さらに、工程ＳＴ４では、第１の高周波電源６２からの高周波が下部電極ＬＥに供給される。なお、第２の高周波電源６４からの下部電極ＬＥに対する高周波バイアスの供給は行われてもよく、或いは行われなくてもよい。
工程ＳＴ４では、ウエハＷがその上に載置される下部電極ＬＥの自己バイアス電位が、４Ｖ以上、３５０Ｖ以下となるように、第１の高周波電源６２からの高周波の電力が設定される。また、第１の高周波電源６２からの高周波に加えて第２の高周波電源６４からの高周波バイアスが下部電極ＬＥに供給される場合には、上記の自己バイアス電位が発生するよう、第１の高周波電源６２からの高周波の電力、及び第２の高周波電源６４からの高周波バイアスの電力の双方が設定される。なお、自己バイアス電位は、第１の高周波電源６２からの高周波の電力が大きいほど高くなる傾向があり、第２の高周波電源６４からの高周波バイアスの電力が大きいほど高くなる傾向がある。また、自己バイアス電位は、処理容器１２内の空間の圧力、第１の高周波電源６２の高周波の周波数、及び、第２の高周波電源６４からの高周波バイアスの周波数にも依存する。但し、処理容器１２内の空間の圧力、第１の高周波電源６２の高周波の周波数、及び、第２の高周波電源６４からの高周波バイアスの周波数等が決定されれば、上記傾向に従って第１の高周波電源６２からの高周波の電力及び第２の高周波電源６４からの高周波バイアスの電力を調整することにより、自己バイアス電位を所望の値に設定することができる。
また、工程ＳＴ４では、処理ガス中のフルオロカーボンガスの流量に対して処理ガス中の希ガスの流量は、２５０倍以上、５０００倍以下の流量に設定される。即ち、工程ＳＴ４では、大量の希ガスによって希釈されたフルオロカーボンガスが利用される。
以下に、工程ＳＴ４における各種処理条件を例示する。
・処理容器内圧力：１０ｍＴｏｒｒ（１．３３Ｐａ）〜１００ｍＴｏｒｒ（１３．３Ｐａ）
・処理ガス
Ｃ４Ｆ６ガス：０．２ｓｃｃｍ〜４ｓｃｃｍ
Ａｒガス：５００ｓｃｃｍ〜１５００ｓｃｃｍ
Ｏ２ガス：０．２ｓｃｃｍ〜５ｓｃｃｍ
・プラズマ生成用の高周波の電力：３０Ｗ〜５００Ｗ
・高周波バイアスの電力：０Ｗ〜１００Ｗ
・電源７０の負の直流電圧：０Ｖ〜−６００Ｖ
工程ＳＴ４では、図９に示すように、処理ガス中のプラズマの生成によって得られるフルオロカーボン及び／又はフッ素の活性種によって第１領域Ｒ１がエッチングされる。また、マスクＭＫの表面、エッチングによって形成された開口を画成する側壁面、及び第２領域Ｒ２の表面に、フルオロカーボン及び／又はカーボンを含む堆積物ＤＰが形成される。この堆積物ＤＰによって第２領域Ｒ２が保護されつつ、第１領域Ｒ１のエッチングが進行する。そして工程ＳＴ４の終了時には、図１０に示すように、第２領域Ｒ２によって形成されている凹部の底面まで第１領域Ｒ１がエッチングされる。
かかる方法ＭＴの工程ＳＴ４によれば、処理ガス中のフルオロカーボンガスが比較的大量の希ガスによって希釈されており、また、自己バイアス電位が４Ｖ以上、３５０Ｖ以下であるので、第１領域Ｒ１のエッチングにおける第２領域Ｒ２の浸食が抑制される。
なお、下部電極ＬＥの自己バイアス電位が４Ｖ以上に設定されると、ウエハＷに照射されるイオンのエネルギーは４ｅＶ以上のエネルギーとなる。４ｅＶ以上のエネルギーを有するイオンがウエハＷに照射されると、第１領域Ｒ１を構成するシリコンと酸素との結合が切断され、シリコンとフッ素の反応生成物が生成される。この反応生成物は排気される。また、下部電極ＬＥの自己バイアス電位が３５０Ｖ以下に設定されると、ウエハＷに照射されるイオンのエネルギーは３５０ｅＶよりも若干大きいエネルギー以下のエネルギーとなる。このようなエネルギーを有するイオンは、２ｎｍの厚さの堆積物ＤＰを貫通しない。したがって、自己バイアス電位が３５０Ｖ以下であれば、第２領域Ｒ２の浸食が抑制される。また、工程ＳＴ４において用いられる処理ガス中のフルオロカーボンガスが２５０倍以上、５０００倍以下の比較的大量の希ガスによって希釈されると、第１領域Ｒ１のエッチングを妨げることなく、第２領域Ｒ２の浸食を更に抑制することが可能になる。これは、堆積物ＤＰ中のフッ素の量が減少され、比較的硬質の堆積物ＤＰが第２領域Ｒ２上に形成されるからであると推測される。
以下、別の実施形態に係るエッチング方法について説明する。図１１は、別の実施形態に係るエッチング方法を示す流れ図である。図１１に示す方法ＭＴ２は、シーケンスＳＱを含む点において方法ＭＴとは異なっている。方法ＭＴ２は、工程ＳＴ５を更に含んでいてもよい。以下、図１１に加えて、図１２〜図１５を参照する。図１２〜図１５は、図１１に示す方法の実施の途中段階における被処理体の一部を拡大して示す断面図である。また、以下の説明では、方法ＭＴ２において図２に示すウエハＷが図３に示す一つのプラズマ処理装置１０を用いて処理される例について説明する。なお、プラズマ処理装置１０を用いて実施される方法ＭＴ２の各工程では、当該プラズマ処理装置１０の各部の動作は制御部Ｃｎｔによって制御され得る。
方法ＭＴ２では、方法ＭＴと同様に工程ＳＴ１〜工程ＳＴ３が実行され、図８に示す状態のウエハＷが得られる。次いで、工程ＳＴ５が実行される。工程ＳＴ５では、第１領域Ｒ１が、第２領域Ｒ２が露出する直前までエッチングされる。即ち、第２領域Ｒ２上に第１領域Ｒ１が僅かに残されるまで、当該第１領域Ｒ１がエッチングされる。このため、工程ＳＴ５では、ガスソース群ＧＳＧの複数のガスソースのうち選択されたガスソースから処理容器１２内に処理ガスが供給される。この処理ガスは、フルオロカーボンガスを含む。また、この処理ガスは、希ガス、例えば、Ａｒガスを更に含み得る。また、この処理ガスは、酸素ガスを更に含み得る。また、工程ＳＴ５では、排気装置５０が作動され、処理容器１２内の圧力が所定の圧力に設定される。さらに、工程ＳＴ５では、第１の高周波電源６２からの高周波が下部電極ＬＥに供給され、第２の高周波電源６４からの高周波バイアスが下部電極ＬＥに供給される。
図１２に示すように、工程ＳＴ５では、処理ガスのプラズマが生成され、マスクＭＫの開口から露出されている部分において第１領域Ｒ１が、フルオロカーボン及び／又はフッ素の活性種によってエッチングされる。また、工程ＳＴ５では、マスクＭＫの表面、及びエッチングによって形成された開口を画成する側壁面に、フルオロカーボン及び／又はカーボンを含む堆積物ＤＰが形成される。この工程ＳＴ５の処理時間は、当該工程ＳＴ５の終了時に、第２領域Ｒ２上に第１領域Ｒ１が所定の膜厚で残されるように、設定される。
なお、工程ＳＴ５の処理条件は工程ＳＴ４の処理条件と同様の条件であってもよい。或いは、工程ＳＴ５は、より短時間で第１領域Ｒ１のエッチングを行うことが可能であるよう、以下に示す処理条件で実行されてもよい。
・処理容器内圧力：１０ｍＴｏｒｒ（１．３３Ｐａ）〜５０ｍＴｏｒｒ（６．６５Ｐａ）
・処理ガス
Ｃ４Ｆ8ガス：１０ｓｃｃｍ〜３０ｓｃｃｍ
ＣＦ４ガス：５０ｓｃｃｍ〜１５０ｓｃｃｍ
Ａｒガス：５００ｓｃｃｍ〜１０００ｓｃｃｍ
Ｏ２ガス：１０ｓｃｃｍ〜３０ｓｃｃｍ
・プラズマ生成用の高周波の電力：５００Ｗ〜２０００Ｗ
・高周波バイアスの電力：５００Ｗ〜２０００Ｗ
次いで、方法ＭＴ２では、一回以上のシーケンスＳＱが実行される。シーケンスＳＱは、第２領域Ｒ２が露出するときを含む期間において第１領域Ｒ１をエッチングするために実行される。シーケンスＳＱは、工程ＳＴ１１及び工程ＳＴ１３を含んでいる。一実施形態では、シーケンスＳＱは、工程ＳＴ１２を更に含み得る。
工程ＳＴ１１では、図１２に示したウエハＷが収容された処理容器１２内で、処理ガスのプラズマが生成される。このため、工程ＳＴ１１では、ガスソース群ＧＳＧの複数のガスソースのうち選択されたガスソースから処理容器１２内に処理ガスが供給される。この処理ガスは、フルオロカーボンガスを含む。また、この処理ガスは、希ガス、例えば、Ａｒガスを更に含み得る。また、工程ＳＴ１１では、排気装置５０が作動され、処理容器１２内の圧力が所定の圧力に設定される。さらに、工程ＳＴ１１では、第１の高周波電源６２からの高周波が下部電極ＬＥに供給される。なお、第２の高周波電源６４からの高周波バイアスが下部電極ＬＥに供給されてもよく、供給されなくてもよい。この工程ＳＴ１１では、フルオロカーボンガスを含む処理ガスのプラズマが生成され、解離したフルオロカーボンが、ウエハＷの表面上に堆積して、図１３に示すように堆積物ＤＰを形成する。
この工程ＳＴ１１では、工程ＳＴ５の処理条件及び工程ＳＴ４の処理条件は異なり、第１領域Ｒ１のエッチングよりも、ウエハＷ上への堆積物ＤＰの形成が優位となるモード、即ち、堆積モードとなる処理条件が選択される。一例では、工程ＳＴ１１の処理ガス中のフルオロカーボンガスとして、Ｃ４Ｆ６ガスが利用される。
以下に、工程ＳＴ１１における各種処理条件を例示する。
・処理容器内圧力：１０ｍＴｏｒｒ（１．３３Ｐａ）〜５０ｍＴｏｒｒ（６．６５Ｐａ）
・処理ガス
Ｃ４Ｆ６ガス：２ｓｃｃｍ〜１０ｓｃｃｍ
Ａｒガス：５００ｓｃｃｍ〜１５００ｓｃｃｍ
・プラズマ生成用の高周波の電力：１００Ｗ〜５００Ｗ
・高周波バイアスの電力：０Ｗ
一実施形態では、次いで、工程ＳＴ１２が実行される。工程ＳＴ１２では、処理容器１２内において酸素含有ガス及び不活性ガスを含む処理ガスのプラズマが生成される。このため、工程ＳＴ１２では、ガスソース群ＧＳＧの複数のガスソースのうち選択されたガスソースから処理容器１２内に処理ガスが供給される。一例では、この処理ガスは、酸素含有ガスとして、酸素ガスを含む。また、一例では、この処理ガスは、不活性ガスとして、Ａｒガスといった希ガスを含む。不活性ガスは、窒素ガスであってもよい。また、工程ＳＴ１２では、排気装置５０が作動され、処理容器１２内の圧力が所定の圧力に設定される。さらに、工程ＳＴ１２では、第１の高周波電源６２からの高周波が下部電極ＬＥに供給される。工程ＳＴ１２では、第２の高周波電源６４からの高周波バイアスが下部電極ＬＥに供給されなくてもよい。
工程ＳＴ１２では、酸素の活性種が生成され、当該酸素の活性種によって、ウエハＷ上の堆積物ＤＰの量が、図１４に示すように、適度に減少される。その結果、マスクＭＫが形成する開口、及びエッチングによって形成される開口が、過剰な堆積物ＤＰによって閉塞されることが防止される。また、工程ＳＴ１２で利用される処理ガスでは、酸素ガスが不活性ガスによって希釈されているので、堆積物ＤＰが過剰に除去されることが抑制される。
以下に、工程ＳＴ１２における各種処理条件を例示する。
・処理容器内圧力：１０ｍＴｏｒｒ（１．３３Ｐａ）〜５０ｍＴｏｒｒ（６．６５Ｐａ）
・処理ガス
Ｏ２ガス：２ｓｃｃｍ〜２０ｓｃｃｍ
Ａｒガス：５００ｓｃｃｍ〜１５００ｓｃｃｍ
・プラズマ生成用の高周波の電力：１００Ｗ〜５００Ｗ
・高周波バイアスの電力：０Ｗ
一実施形態では、各シーケンスの工程ＳＴ１２、即ち一回の工程ＳＴ１２は２秒以上実行され、且つ、工程ＳＴ１２において堆積物ＤＰが１ｎｍ／秒以下のレートでエッチングされ得る。プラズマ処理装置１０のようなプラズマ処理装置を用いて上記シーケンスを実行するには、工程ＳＴ１１、工程ＳＴ１２、及び工程ＳＴ１３の各工程間の遷移のためのガスの切り換えに時間を要する。したがって、放電の安定に要する時間を考慮すると、工程ＳＴ１２は２秒以上実行される必要がある。しかしながら、このような時間長の期間における堆積物ＤＰのエッチングのレートが高すぎると、第２領域Ｒ２を保護するための堆積物が過剰に除去され得る。このため、工程ＳＴ１２において１ｎｍ／秒以下のレートで堆積物ＤＰがエッチングされる。これにより、ウエハＷ上に形成されている堆積物ＤＰの量を適度に調整することが可能となる。なお、工程ＳＴ１２における堆積物ＤＰのエッチングの１ｎｍ／秒以下のレートは、処理容器内の圧力、処理ガス中の酸素の希ガスによる希釈の度合い、即ち、酸素濃度、及び、プラズマ生成用の高周波の電力を、上述した条件から選択することによって達成され得る。
続く工程ＳＴ１３では、第１領域Ｒ１がエッチングされる。この工程ＳＴ１３では、堆積物ＤＰ中のフルオロカーボンと第１領域Ｒ１の酸化シリコンとの反応を促進させる処理が行われる。このため、工程ＳＴ１３では、ガスソース群ＧＳＧの複数のガスソースのうち選択されたガスソースから処理容器１２内に処理ガスが供給される。この処理ガスは、不活性ガスを含む。不活性ガスは、一例では、Ａｒガスといった希ガスであり得る。或いは、不活性ガスは、窒素ガスであってもよい。また、工程ＳＴ１３では、排気装置５０が作動され、処理容器１２内の圧力が所定の圧力に設定される。さらに、工程ＳＴ１３では、第１の高周波電源６２からの高周波が下部電極ＬＥに供給される。また、工程ＳＴ１３では、第２の高周波電源６４からの高周波バイアスが下部電極ＬＥに供給される。
以下に、工程ＳＴ１３における各種条件を例示する。
・処理容器内圧力：１０ｍＴｏｒｒ（１．３３Ｐａ）〜５０ｍＴｏｒｒ（６．６５Ｐａ）
・処理ガス
Ａｒガス：５００ｓｃｃｍ〜１５００ｓｃｃｍ
・プラズマ生成用の高周波の電力：１００Ｗ〜５００Ｗ
・高周波バイアスの電力：２０Ｗ〜３００Ｗ
工程ＳＴ１３では、不活性ガスのプラズマが生成され、イオンがウエハＷに対して引き込まれる。これにより、堆積物ＤＰ中に含まれるフルオロカーボンのラジカルと第１領域Ｒ１の酸化シリコンとの反応が促進され、第１領域Ｒ１がエッチングされる。この工程ＳＴ１３の実行により、図１５に示すように、第２領域Ｒ２によって提供される凹部内の第１領域Ｒ１がエッチングされる。
このシーケンスＳＱの実行回数は１回であってもよい。この場合には、後述する工程ＳＴＪの判定は不要であり、シーケンスＳＱの実行後、工程ＳＴ４が実行される。
一実施形態では、シーケンスＳＱは繰り返して実行される。即ち、シーケンスＳＱが複数回実行される。この実施形態では、工程ＳＴＪにおいて、停止条件が満たされるか否かが判定される。停止条件はシーケンスＳＱが所定回数実行されている場合に満たされるものと判定される。工程ＳＴＪにおいて、停止条件が満たされないと判定される場合には、工程ＳＴ１１からシーケンスＳＱが再び実行される。一方、工程ＳＴＪにおいて、停止条件が満たされると判定される場合には、次いで、工程ＳＴ４が実行される。方法ＭＴ２の工程ＳＴ４は、方法ＭＴの工程ＳＴ４と同一の工程である。この工程ＳＴ４の実行の終了時には、図１０に示したように、ウエハＷは、第２領域Ｒ２によって形成されている凹部の底面まで第１領域Ｒ１がエッチングされた状態となる。
この方法ＭＴ２によれば、第２領域Ｒ２の露出時にシーケンスＳＱが実行され、堆積物ＤＰにより当該第２領域Ｒ２がより確実に保護される。しかる後に堆積物ＤＰ中のラジカルによって第１領域Ｒ１がエッチングされる。したがって、第２領域Ｒ２の浸食が更に抑制される。
以上、種々の実施形態について説明してきたが、上述した実施形態に限定されることなく種々の変形態様を構成可能である。例えば、上述した実施形態に係る方法が適用される被処理体は、図２に示した被処理体に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態に係る方法は、酸化シリコンから構成された第１領域と窒化シリコンから第２領域を有する任意の被処理体に適用可能である。
また、上述した実施形態に係る方法は、容量結合型のプラズマ処理装置以外の任意のプラズマ処理装置を用いて実施することが可能である。例えば、上述した実施形態に係る方法は、誘導結合型のプラズマ処理装置、又は、マイクロ波といった表面波によりプラズマを生成するプラズマ処理装置を用いて実施されてもよい。
また、方法ＭＴ２では、工程ＳＴ５を実行せず、工程ＳＴ３に続けてシーケンスＳＱが実行されてもよい。また、シーケンスＳＱは工程ＳＴ１２を含んでいなくてもよい。一方、シーケンスＳＱが工程ＳＴ１２を含む場合には、当該シーケンスＳＱにおける工程ＳＴ１２の実行順は任意であり得る。例えば、シーケンスＳＱにおいて、工程ＳＴ１２は工程ＳＴ１３の実行後に実行されてもよい。
以下、工程ＳＴ４の評価のために行った実験例１〜３について説明する。実験例１〜３では、図１６の（ａ）にその一部の拡大断面図を示すウエハＷＥを準備した。ウエハＷＥは、基板ＳＢ上に設けられた隆起領域ＲＡ、当該隆起領域ＲＡを覆う窒化シリコン製の第２領域Ｒ２、第２領域Ｒ２によって形成された凹部を埋め、且つ、第２領域Ｒ２を覆うように設けられた酸化シリコン製の第１領域Ｒ１を有するものであった。第２領域Ｒ２によって形成された凹部はトレンチであり、その幅は２０ｎｍであり、深さは１５０ｎｍであった。また、比較実験例１〜２においても同様のウエハＷＥを準備した。
実験例１〜３及び比較実験例１〜２の各々では、プラズマ処理装置１０を用いて以下に示す処理条件で、第１領域Ｒ１をエッチングした。
＜実験例１の処理条件＞
処理容器内圧力：３０ｍＴｏｒｒ（４Ｐａ）
Ｃ４Ｆ６ガスの流量：４ｓｃｃｍ
Ａｒガスの流量：１０００ｓｃｃｍ
Ｏ２ガスの流量：５ｓｃｃｍ
Ｃ４Ｆ６ガスの流量に対するＡｒガスの流量：２５０倍
第１の高周波電源６２の高周波：４０ＭＨｚ、５００Ｗ
第２の高周波電源６４の高周波バイアス：１３ＭＨｚ、５０Ｗ
下部電極ＬＥの自己バイアス電位：３５０Ｖ
電源７０の負の直流電圧：−３００Ｖ
処理時間：１０分
＜実験例２の処理条件＞
処理容器内圧力：３０ｍＴｏｒｒ（４Ｐａ）
Ｃ４Ｆ６ガスの流量：０．８ｓｃｃｍ
Ａｒガスの流量：１０００ｓｃｃｍ
Ｏ２ガスの流量：０．８ｓｃｃｍ
Ｃ４Ｆ６ガスの流量に対するＡｒガスの流量：１２５０倍
第１の高周波電源６２の高周波：４０ＭＨｚ、３００Ｗ
第２の高周波電源６４の高周波バイアス：１３ＭＨｚ、０Ｗ
下部電極ＬＥの自己バイアス電位：１５０Ｖ
電源７０の負の直流電圧：−３００Ｖ
処理時間：１０分
＜実験例３の処理条件＞
処理容器内圧力：３０ｍＴｏｒｒ（４Ｐａ）
Ｃ４Ｆ６ガスの流量：０．２ｓｃｃｍ
Ａｒガスの流量：１０００ｓｃｃｍ
Ｏ２ガスの流量：０．２ｓｃｃｍ
Ｃ４Ｆ６ガスの流量に対するＡｒガスの流量：５０００倍
第１の高周波電源６２の高周波：４０ＭＨｚ、１２０Ｗ
第２の高周波電源６４の高周波バイアス：１３ＭＨｚ、０Ｗ
下部電極ＬＥの自己バイアス電位：５０Ｖ
電源７０の負の直流電圧：−３００Ｖ
処理時間：１０分
＜比較実験例１の処理条件＞
処理容器内圧力：３０ｍＴｏｒｒ（４Ｐａ）
Ｃ４Ｆ６ガスの流量：８ｓｃｃｍ
Ａｒガスの流量：１０００ｓｃｃｍ
Ｏ２ガスの流量：１０ｓｃｃｍ
Ｃ４Ｆ６ガスの流量に対するＡｒガスの流量：１２５倍
第１の高周波電源６２の高周波：４０ＭＨｚ、５００Ｗ
第２の高周波電源６４の高周波バイアス：１３ＭＨｚ、１００Ｗ
下部電極ＬＥの自己バイアス電位：５００Ｖ
電源７０の負の直流電圧：−３００Ｖ
処理時間：１０分
＜比較実験例２の処理条件＞
処理容器内圧力：３０ｍＴｏｒｒ（４Ｐａ）
Ｃ４Ｆ６ガスの流量：７．６ｓｃｃｍ
Ａｒガスの流量：１０００ｓｃｃｍ
Ｏ２ガスの流量：１０ｓｃｃｍ
Ｃ４Ｆ６ガスの流量に対するＡｒガスの流量：１３１倍
第１の高周波電源６２の高周波：４０ＭＨｚ、３００Ｗ
第２の高周波電源６４の高周波バイアス：１３ＭＨｚ、０Ｗ
下部電極ＬＥの自己バイアス電位：１５０Ｖ
電源７０の負の直流電圧：−３００Ｖ
処理時間：１０分
実験例１〜３及び比較実験例１〜２では、処理後のウエハＷＥのＳＥＭ画像を取得し、隆起領域ＲＡの中央の上における第２領域Ｒ２の膜厚の減少量ΔＴ１（処理前後の第２領域Ｒ２の膜厚の差）、第２領域Ｒ２の肩部における当該第２領域Ｒ２の膜厚の減少量ΔＴ２（処理前後の第２領域Ｒ２の膜厚の差）を求めた。その結果、実験例１のΔＴ１は２．４ｎｍ、実験例１のΔＴ２は６．３ｎｍであり、実験例２のΔＴ１は及びΔＴ２は０ｎｍであり、実験例３のΔＴ１は及びΔＴ２は０ｎｍであった。また、比較実験例１のΔＴ１は１４．７ｎｍ、比較実験例１のΔＴ２は２３．９ｎｍであり、比較実験例２のΔＴ１は１１．１ｎｍ、比較実験例２のΔＴ２は１７．６ｎｍであった。比較実験例１、即ち、Ｃ４Ｆ６ガスの流量に対するＡｒガスの流量が１２５倍であり、自己バイアス電位が５００Ｖの処理条件でエッチングを行った実験例では、第２領域Ｒ２が大きく浸食され、第２領域Ｒ２の膜厚が大きく減少していた。比較実験例１の自己バイアス電位よりも低い自己バイアス電位を用いた比較実験例２においても、１０ｎｍを超える第２領域Ｒ２の膜厚の減少が生じていた。これは、比較実験例２では、Ｃ４Ｆ６ガスの流量に対するＡｒガスの流量が１３１倍であり、２５０倍よりも小さかったことが原因である。一方、実験例１〜３では、第２領域Ｒ２の膜厚の減少量が非常に小さくなっていた。したがって、方法ＭＴ及び方法ＭＴ２では、工程ＳＴ４の実行によって、第２領域Ｒ２の浸食を抑制しつつ、第１領域Ｒ１をエッチングすることが可能であることが確認された。
１０…プラズマ処理装置、１２…処理容器、３０…上部電極、５０…排気装置、ＰＤ…載置台、ＬＥ…下部電極、ＥＳＣ…静電チャック、６２…第１の高周波電源、６４…第２の高周波電源、ＧＵ…ガス供給部、ＧＳＧ…ガスソース群、Ｃｎｔ…制御部、Ｗ…ウエハ、ＭＫ…マスク、Ｒ１…第１領域、Ｒ２…第２領域、ＤＰ…堆積物。

Claims (6)

  1. 酸化シリコンから構成された第１領域を窒化シリコンから構成された第２領域に対して選択的にエッチングする方法であって、
    前記第１領域及び前記第２領域を有する被処理体をプラズマ処理装置の処理容器内に準備する工程と、
    前記処理容器内において、フルオロカーボンガス及び希ガスを含む処理ガスのプラズマを生成する工程と、
    を含み、
    処理ガスのプラズマを生成する前記工程において、前記被処理体がその上に載置される下部電極の自己バイアス電位が４Ｖ以上、３５０Ｖ以下であり、
    前記処理ガス中の前記フルオロカーボンガスの流量に対して前記処理ガス中の前記希ガスの流量は、２５０倍以上、５０００倍以下である、
    方法。
  2. 処理ガスのプラズマを生成する前記工程では、前記処理ガスを前記処理容器内に供給するために、第１のガスソースからフルオロカーボンガス及び希ガスを含む第１のガスが前記処理容器内に供給され、且つ、第２のガスソースから希ガスのみ又は前記第１のガスとは異なる体積比でフルオロカーボンガス及び希ガスを含む第２のガスが前記処理容器内に供給される、
    請求項１に記載の方法。
  3. 処理ガスのプラズマを生成する前記工程では、前記処理ガスを前記処理容器内に供給するために、単一のガスソースからフルオロカーボンガス及び希ガスを含む混合ガスが前記処理容器内に供給される、請求項１に記載の方法。
  4. 前記希ガスは、アルゴンガスである、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
  5. 前記処理ガスは、酸素ガスを更に含む請求項１〜４の何れか一項に記載の方法。
  6. 前記第２領域は凹部を形成しており、前記第１領域は、前記凹部を埋め、且つ前記第２領域を覆うように設けられており、
    前記第２領域が露出するときを含む期間において、前記第１領域をエッチングするために一回以上のシーケンスを実行する工程を更に含み、
    前記一回以上のシーケンスは、
    前記処理容器内においてフルオロカーボンガスを含む処理ガスのプラズマを生成する工程であり、前記第１領域及び前記第２領域上にフルオロカーボンを含む堆積物を形成する、該工程と、
    前記処理容器内において不活性ガスのプラズマを生成する工程と、
    を含む、
    請求項１〜５の何れか一項に記載の方法。
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