JP6596591B2 - 透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、および透明導電性フィルム - Google Patents

Description

この発明は、透明なフィルムを基材として用いる透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、および透明導電性フィルムに関するものである。

従来、例えばスマートフォンやタブレット端末などのように、表示画面に触れることで情報を入力できる装置として、静電容量式等のタッチパネルが広く用いられていた。ここで、タッチパネル用の透明導電性フィルムとしては、基材フィルム上に、透明導電層として、酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を、蒸着やスパッタリング等の工法により積層したものが一般的であった（例えば、特許文献１参照）。

そして、透明導電性フィルムの基材としては、複屈折が大きい結晶性ポリマーフィルムである、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いていたが、例えばサングラス越しにモバイル端末を操作するような場合にあっては、偏光サングラスの使用により干渉縞（ｕｎｅｖｅｎ ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ）が発生する問題があることから、複屈折が小さい非晶性ポリマーフィルムを基材として用いることが提案された。

しかし、非晶性ポリマーフィルムを基材とした透明導電性フィルムにより、上記の干渉縞の発生は解消されたが、非晶性ポリマーフィルムは、結晶性ポリマーフィルムと比べ、フィルムの表面に傷が生じ易いという欠点があった。また、非晶性ポリマーフィルムは、結晶性ポリマーフィルムと比べ、割れ易いという欠点もあるため、フィルムの搬送時に、搬送ロールなどの平滑面と密着することでしわとなり割れてしまう問題があった。そこで、非晶性ポリマーフィルムの片面あるいは両面にハードコート層を設けた、透明導電性フィルム用のハードコートフィルムが考えられた。しかし、この場合、ハードコートフィルムをロール状に巻き取ると、重なり合うハードコートフィルムの基材の裏面とハードコート層、あるいはハードコート層同士が密着してしまうブロッキングの問題があった。そこで、非晶性ポリマーフィルム上に１〜５μｍの粒子を含むハードコート層を設け、ハードコート層およびその上のＩＴＯ層（透明導電層）等の表面に凹凸を形成させ、耐ブロッキング性（ａｎｔｉ−ｂｌｏｃｋｉｎｇ）を改良することが提案された（例えば、特許文献２、３参照）。

特開平７−６８６９０号公報 特開２０１３−１０７３４９号公報 特開２０１３−２４３１１５号公報

しかし、ＩＴＯ層（透明導電層）等の表面に凹凸が形成されるように、基材となる非晶性ポリマーフィルム上に、１〜５μｍサイズの粒子を含むハードコート層を設けた場合、ハードコート層やその上のＩＴＯ層（透明導電層）等の厚みによっては、粒子サイズが１〜２μｍでは耐ブロッキング性が不足する虞があり、粒子サイズが２μｍより大きいと視認性が低下する虞があった。

この発明は、蒸着やスパッタリング法等により透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、十分な耐ブロッキング性を得ることができ、かつ、視認性の低下を抑えることができる、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、およびその光学調整層付きハードコートフィルムを用いた透明導電性フィルムを提供することにある。

この発明に係る透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、および透明導電性フィルムは、前記目的を達成するために、次の構成からなる。すなわち、
この発明に係る透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムは、非晶性ポリマーからなる透明基材フィルムと、その透明基材フィルムの少なくとも一方の面に順に積層されたハードコート層およびその上の光学調整層とを備える。ここで、前記光学調整層には、複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記光学調整層の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径ｒ１と、その平均膜厚ｄ１とが、
５０ｎｍ≦（ｒ１−ｄ１）≦１９００ｎｍ
の関係にある。そして、前記光学調整層の表面の、前記粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さＲａが、０．３ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にある。ここで、光学調整層が複数層（高屈折率層＋低屈折率層）からなる場合は、平均粒径ｒ１は、入れた粒子（平均膜厚ｄ１より平均粒径が大きい粒子）全体の平均粒径であるが、平均膜厚ｄ１は、両方の層に粒子を入れたときと、高屈折率層のみに粒子を入れたときは、全体の平均膜厚であり、低屈折率層のみに粒子を入れたときは、低屈折率層の平均膜厚である（以下、同じ）。

この透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムによると、ハードコート層上に積層された光学調整層には、複数の粒子が含有されている。そして、その光学調整層に含有される粒子の平均粒径ｒ１が、光学調整層の平均膜厚ｄ１よりも大きく、その差が５０ｎｍ〜１９００ｎｍの範囲にある。また、光学調整層の表面の、粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さＲａが、０．３ｎｍ〜２０ｎｍとなっている。こうして、光学調整層に含有される粒子の平均粒径と光学調整層の平均膜厚との差を５０ｎｍ以上とし、光学調整層の表面の前記特定部分における算術平均粗さＲａを０．３ｎｍ以上とすることで、その後に光学調整層上に蒸着やスパッタリング法等により透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、十分な耐ブロッキング性を得ることができる。また、光学調整層に含有される粒子の平均粒径と光学調整層の平均膜厚との差を１９００ｎｍ以下とし、光学調整層の表面の前記特定部分における算術平均粗さＲａを２０ｎｍ以下とすることで、その後の透明導電性フィルムにおいても、視認性の低下を抑えることができる。

また、前記光学調整層に含有される粒子の平均粒径ｒ１は、１００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲にあり、その平均粒径ｒ１（ｎｍ）と、その粒子の個数Ｎ（個／ｍｍ²）とが、
１９９．０３ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）≦Ｎ≦３６７６．４ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）
の関係にある。ここで、粒子の個数Ｎとは、光学調整層の表面（光学調整層が複数層ある場合には、その最表面）から５０ｎｍ以上の高さのある粒子の個数をいう（以下、同じ）。

また、前記光学調整層の平均膜厚ｄ１と、その光学調整層に含有される粒子の平均粒径ｒ１とが、
（ｄ１／ｒ１）＜０．５
の関係にある。

また、前記ハードコート層には、複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記ハードコート層の平均膜厚よりも小さく、それら粒子は、前記ハードコート層の表面に偏在している。

また、前記ハードコート層の平均膜厚ｄ２と、そのハードコート層に含有される粒子の平均粒径ｒ２とが、
（ｄ２／ｒ２）＞２
の関係にある。

また、前記光学調整層の表面の谷側面積が、６６１７８０μｍ²当たり２０００００μｍ²以下である。ここで、光学調整層の表面の谷側面積とは、光学調整層に含まれる粒子の存在していない部分の光学調整層の平均高さから３ｎｍ以上谷側になる光学調整層の表面の面積をいう（以下、同じ）。

また、前記ハードコート層および前記光学調整層は、前記透明基材フィルムの一方の面に設けられ、その透明基材フィルムの他方の面側に、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされてもよい。

また、前記ハードコート層および前記光学調整層は、前記透明基材フィルムの両方の面に設けられ、その透明基材フィルムのいずれか一方の面側に、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされてもよい。

また、この発明に係る透明導電性フィルムは、前記光学調整層付きハードコートフィルムにおける、光学調整層の表面に、透明導電層が形成されてなる。

この発明に係る透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムによれば、光学調整層に粒子を含有させ、その粒子の平均粒径を、光学調整層の平均膜厚に対して５０ｎｍ〜１９００ｎｍの範囲で大きくし、光学調整層の表面の、粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さＲａを、０．３ｎｍ〜２０ｎｍとすることで、その後に透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、充分な耐ブロッキング性を得ることができ、かつ、視認性の低下を抑えることができる。

この発明の第一の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。 同じく、光学調整層の、粒子の平均粒径と個数の関係を示す図である。 この発明の第二の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。 この発明の第三の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。 この発明の他の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。 この発明のさらに他の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。

以下、この発明に係る透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、および透明導電性フィルムを実施するための形態を図面に基づいて説明する。

図１〜図２は、本発明の第一の実施の形態を示す。図中符号１は、透明導電性フィルムに用いられる、光学調整層付きハードコートフィルムを示す。２は、透明基材フィルムを示す。３は、ハードコート層を示す。４は、光学調整層を示す。

光学調整層付きハードコートフィルム１は、透明基材フィルム２と、その透明基材フィルム２の少なくとも一方の面（図示実施の形態においては、一方の面）に順に積層されたハードコート層３およびその上の光学調整層４とを備える。
ここで、光学調整層４には、複数の粒子４ａ、４ａが含有され、それら粒子４ａ、４ａの平均粒径は、光学調整層４の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径ｒ１と、その平均膜厚ｄ１とが、
５０ｎｍ≦（ｒ１−ｄ１）≦１９００ｎｍ
の関係にある。つまり、平均粒径ｒ１は、平均膜厚ｄ１よりも、５０ｎｍ〜１９００ｎｍ大きい。そして、光学調整層４の表面の、その光学調整層４に含有される前記粒子４ａにより形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さＲａが、０．３ｎｍ〜２０ｎｍ（より好ましくは、０．３ｎｍ〜１０ｎｍ）の範囲にある。

そこで、透明導電性フィルム（図示せず）は、この光学調整層付きハードコートフィルム１における、光学調整層４の表面に、透明導電層が形成されてなるものである。

この光学調整層付きハードコートフィルム１によると、ハードコート層３上に積層された光学調整層４には、複数の粒子４ａ、４ａが含有されている。そして、その光学調整層４に含有される粒子４ａの平均粒径ｒ１が、光学調整層４の平均膜厚ｄ１よりも大きく、その差が５０ｎｍ〜１９００ｎｍの範囲にある。また、光学調整層４の表面の、粒子４ａにより形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さＲａが、０．３ｎｍ〜２０ｎｍの範囲となっている。光学調整層４に含有される粒子４ａの平均粒径ｒ１と光学調整層４の平均膜厚ｄ１との差を５０ｎｍ以上とし、光学調整層４の表面の前記特定部分における算術平均粗さＲａを０．３ｎｍ以上とすることで、その後に光学調整層４上に蒸着やスパッタリング法等により透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、十分な耐ブロッキング性を得ることができる。つまり、粒子４ａにより形成される凸部と、特定部分の算術平均粗さを形成する凸部４ｂの２種類の凸部により、この光学調整層付きハードコートフィルム１だけでなく、その後の透明導電性フィルムにおいても、耐ブロッキング性を発現する。また、光学調整層４に含有される粒子４ａの平均粒径ｒ１と光学調整層４の平均膜厚ｄ１との差を１９００ｎｍ以下とし、光学調整層４の表面の前記特定部分における算術平均粗さＲａを２０ｎｍ以下とすることで、その後の透明導電性フィルムにおいても、視認性の低下を抑えることができる。

こうして、光学調整層４に粒子４ａを含有させ、その粒子４ａの平均粒径を、光学調整層４の平均膜厚に対して５０ｎｍ〜１９００ｎｍの範囲で大きくし、光学調整層４の表面の特定部分における算術平均粗さＲａを、０．３ｎｍ〜２０ｎｍとすることで、その後に透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、充分な耐ブロッキング性を得ることができ、かつ、視認性の低下を抑えることができる。

なお、この発明の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム１は、静電容量式のタッチパネル用として好適に使用することができるが、その用途は、前記タッチパネル用に限定されるものではない。

具体的には、透明基材フィルム２は、非晶性ポリマーからなる。この非晶性ポリマーとしては、脂環構造を有する非晶質オレフィンが好ましいが、これに限定されるわけではない。非晶質オレフィンとしては、例えば、シクロオレフィンポリマーやシクロオレフィンコポリマー等がある。また、この透明基材フィルム２の材料は、ポリカーボネートやトリアセチルセルロースやポリイミド等であってもよい。この透明基材フィルム２の厚さは、１０μｍ〜５００μｍであるのが好ましく、より好ましくは１０μｍ〜２００μｍ、さらに好ましくは２０μｍ〜１００μｍであるのがよい。また、透明基材フィルム２の表面に、予め、易接着層の塗工やコロナ放電処理等の物理処理等の前処理を施すことで、積層されるハードコート層３との密着性を向上させることができる。

ハードコート層３は、その平均膜厚は、ハードコート性を得るため０．５μｍ〜１０．０μｍの範囲にあるのが好ましく、０．７５μｍ〜５．０μｍの範囲にあるのがより好ましい。膜厚が０．５μｍ未満であると、ハードコート層３の硬度が不充分となる虞があり、１０．０μｍを超えると、ハードコート層３あるいはその上の層にクラックが入ったり、巻き取りが困難となる虞があるだけでなく、透明性等の光学特性が低下する虞もある。

さらに光学調整層の前記特定部分の凸部４ｂ（つまり、特定部分における算術平均粗さＲａの前記値）を得るために、ハードコート層３の表面（つまり、透明基材フィルム２のある側とは反対の面）は、算術平均粗さＲａが２ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であることが好ましく、３ｎｍ〜１０ｎｍであることがより好ましい。ハードコート層３の表面の算術平均粗さＲａが、２ｎｍ未満であると、その後の光学調整層４の前記特定部分における算術平均粗さＲａが、０．３ｎｍ未満になる虞があり、耐ブロッキング性が低下する。また、ハードコート層３の表面の算術平均粗さＲａが２０ｎｍよりも大きいと透明性等の光学特性が低下する虞がある。

図示実施の形態においては、ハードコート層３に、複数の粒子３ａ、３ａが含有され、それら粒子３ａ、３ａの平均粒径は、ハードコート層３の平均膜厚よりも小さい。そして、それら粒子３ａ、３ａは、ハードコート層３の表面（つまり、透明基材フィルム２のある側とは反対の面）に偏在している。そこで、ハードコート層３の表面に偏在するこれら粒子３ａ、３ａによる表面の凸部に追従するように、そのハードコート層３の上の光学調整層４の表面に凸部４ｂ、４ｂが形成され、それら凸部４ｂ、４ｂが、光学調整層４の表面の特定部分における算術平均粗さＲａの値に反映する。

詳細には、ハードコート層３を形成するためのハードコート塗工液は、バインダーと、ハードコート層３の平均膜厚より小さい平均粒径の複数の粒子３ａ、３ａと、溶剤とを含む。そして、そのハードコート塗工液を透明基材フィルム２に塗工し、乾燥し、ＵＶ露光する中で（特に、乾燥工程で）、粒子３ａをハードコート層３の表面へ偏在させる。この方法を用いることで、ハードコート層３の表面の好適な表面粗さを均一に効率よく得ることができる。

ハードコート塗工液は、詳しくは、ハードコート層３を形成する硬化性組成物であって、粒子３ａ、バインダーを含有し、好ましくは紫外線によって硬化するものがよい。ハードコート塗工液に含まれるバインダーは、特に限定されるものではないが、耐傷性を保ちつつ柔軟性を付与するため、ウレタンアクリレートを用いることができる。ハードコート塗工液に含まれる粒子３ａの平均粒径は、５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲にあるのが好ましく、８０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲にあるのがより好ましく、１２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲にあるのがさらに好ましい。そこで、これらの粒子３ａ、３ａによって表面に凸部が形成されるが、平均粒径が５０ｎｍ未満では表面に充分な凸部を形成することができない虞があり、平均粒径が５００ｎｍを越えると、ヘイズ（ｈａｚｅ）が上昇する虞がある。また、ハードコート層３の平均膜厚ｄ２と、そのハードコート層３に含有される粒子３ａの平均粒径ｒ２とは、（ｄ２／ｒ２）＞２の関係にあるのが好ましく、この範囲にすることで、ヘイズ（ｈａｚｅ）の上昇を抑えることができる。

粒子３ａとしては、特に限定されないが、各種無機系、有機系の粒子を用いることができる。この粒子３ａとしては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、フェノール樹脂等を素材とする粒子などがあるが、これらに限定されるものではなく、２種以上を組み合わせてもよい。

粒子３ａに有機系粒子を用いる場合は、アクリル系粒子を用い、乳化重合法により合成されたものが、所望の平均粒径の粒子を得るためにも好ましい。

また、粒子３ａに無機系粒子を用いる場合は、表面処理や界面活性剤などで表面自由エネルギーを小さくしたシリカ粒子を用いることが好ましい。このように表面自由エネルギーが小さくなることによって、ハードコート層３の表面へ粒子３ａを偏在させやすくなる。

また、ハードコート塗工液には、必要に応じて、分散剤、レベリング剤、消泡剤、揺変剤、防汚剤、抗菌剤、難燃剤、傷防止剤、スリップ剤などの添加剤を性能に影響のない範囲で含んでもよい。

また、膜厚の調整などの観点から有機溶剤を使用してハードコート塗工液を希釈してもよい。例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルのようなアルコール系の有機溶剤や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン（アノン）、アセトン等のようなケトン系有機溶剤や、酢酸ブチル、酢酸エチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のようなエステル系有機溶剤や、トルエン、キシレン等のような芳香族系有機溶剤や、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のようなアミド系有機溶剤等を用いることができる。そして、これら例示の有機溶剤は、単独であっても、２種以上を組み合わせて用いても良いが、その溶解度パラメータδは、８〜１１の範囲であることが好ましく、さらには、溶解度パラメータδが８〜１０の範囲にあることがさらに好ましい。

塗工には、例えば、リバースグラビアコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ナイフコート法、キスコート法等のようなコーティング方法や、各種印刷方法を用いることができるが、これらの方法に限定されるものではない。

乾燥工程については乾燥が速すぎると、凝集・表面への偏在が不十分となるため、乾燥は５０℃〜１２０℃の温度で１０秒〜１８０秒間程度行うことが好ましく、特に乾燥温度は５０℃〜８０℃が好ましい。乾燥時間は、長いほどよいが、生産性を考慮すれば、１０秒〜１２０秒程度とすることがさらに好ましい。

ＵＶ露光工程については、乾燥後に、ハードコート層３に紫外線を照射して硬化させることで、粒子３ａの凝集体をハードコート層３の表面の側に固定化することができる。紫外線の照射には、高圧水銀ランプ、無電極（マイクロ波方式）ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、その他任意の紫外線照射装置を用いることができ、必要に応じて窒素などの不活性ガス雰囲気化で紫外線照射を行ってもよい。また、紫外線の照射量は、５０〜８００ｍＪ／ｃｍ²の範囲、好ましくは、１００〜３００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であるのがよい。

光学調整層４は、透明導電性フィルムのパターニングされた透明導電層が存在する部分と存在しない部分の反射率の違いにより、そのパターンが目視できてしまう現象（つまり、骨見え）を緩和するために、ハードコート層３上に積層される。この骨見えを緩和するためには、光学調整層４の屈折率を、透明導電層の屈折率とハードコート層３の屈折率の間とするのがよく、そのため、光学調整層４の屈折率は、１．５５〜１．８０の範囲にあることが好ましい。また、この光学調整層４の平均膜厚は、透明基材フィルム２、ハードコート層３、光学調整層４の屈折率によって異なるが、５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であり、透明導電層が存在する部分と存在しない部分の反射率の差がなるべく小さくなる厚みに調整することが好ましい。光学調整層４の膜厚が５ｎｍ未満であると粒子４ａの脱落の虞があり、５００ｎｍより大きな膜厚では透明導電層や金属層などを製膜した後に充分な耐ブロッキング性が得られない虞がある。

光学調整層４に含有される粒子４ａの平均粒径は、１００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲であることが好ましく、２００ｎｍ〜１５００ｎｍであることがより好ましく、４００ｎｍ〜１０００ｎｍであることがさらに好ましい。粒子４ａの平均粒径をこの範囲にすることで、蒸着やスパッタリング法により透明導電層や金属層を製膜した後も充分な耐ブロッキング性を持たせ、さらに視認性の低下を抑えることができる。粒子４ａの平均粒径が１００ｎｍ未満であると蒸着やスパッタリング法により透明導電層や金属層を製膜した後に充分な耐ブロッキング性が得られない虞があり、粒子４ａの平均粒径が２０００ｎｍより大きいと視認性が低下する虞がある。

また、光学調整層４の平均膜厚ｄ１と、その光学調整層４に含有される粒子４ａの平均粒径ｒ１の関係は、（ｄ１／ｒ１）＜０．５とすることが好ましい。この範囲にすることで粒子４ａの平均粒径ｒ１を小さくしても、充分な高さの凸部を作ることができる。そして、光学調整層４の膜厚、透明導電層の膜厚、金属層の膜厚から粒子４ａの平均粒径を調整できる。

ここで、（ｄ１／ｒ１）＜０．５とすると、粒子４ａの半分以上が凸部となり、擦れなどによる粒子４ａの脱落の虞があるが、光学調整層４の前記特定部分の凸部４ｂが存在することで易滑性が上がり、擦れなどによる粒子４ａの脱落を防止することができる。

粒子４ａの添加量は、粒子４ａの平均粒径により最適な量が異なり、その平均粒径ｒ１（ｎｍ）と、その粒子４ａの個数Ｎ（個／ｍｍ²）とが、
１９９．０３ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）≦Ｎ≦３６７６．４ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）
の関係にあるのが好ましい（このＮの範囲を、図２において右上がりの斜線で示す）。そして、より好ましくは、
４８０．４８ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）≦Ｎ≦２２７７ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）の関係にあるのがよい（このＮの範囲を、図２において右下がりの斜線で示す）。

また、この光学調整層４に含まれる粒子４ａの存在していない部分の光学調整層４の表面に大きな起伏が生じている場合は、ＩＴＯなどの導電膜を設けたとき、導通がしにくくなる場合がある。そこで、前記粒子４ａの存在していない部分の光学調整層４の平均高さから３ｎｍ以上谷側になる光学調整層４の表面の面積（光学調整層４の表面の谷側面積）は、６６１７８０μｍ²当たり２０００００μｍ²以下であることが好ましく、１５００００μｍ²以下であることがさらに好ましい。すなわち、粒子４ａの存在していない部分の光学調整層４の表面は、完全に平らであることが透明導電膜の導通にとっては好ましいが、耐ブロッキング性の問題があるため、前記凸部４ｂによりこの相反する問題を解決できる。

この光学調整層４は、光学調整層塗工液を、ハードコート層３の表面に塗工し、乾燥し、ＵＶ露光することで得られる。光学調整層塗工液としては屈折率が調整された公知の塗材（例えばアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−８１６−３Ｌ（製品名）」やトーヨーケム株式会社（Ｔｏｙｏｃｈｅｍ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「リオデュラス（ＬＩＯＤＵＲＡＳ）ＴＹＺ−Ａ１５−Ｓ（製品名）」）が使用できる。１．５５〜１．８０の高屈折率を得るためには金属酸化粒子を含んでもよい。この金属酸化粒子としては、例えば、チタン、ジルコニウム、スズ、亜鉛、ケイ素、ニオブ、アルミニウム、クロム、マグネシウム、ゲルマニウム、ガリウム、アンチモン、白金等の酸化物があるが、特に、酸化ジルコニウム、酸化チタンが好ましい。また、これらの酸化物を複数種組み合わせてもよい。

光学調整層４に含有する粒子４ａの材料としては無機系、有機系の多分散や単分散の公知の粒子（例えば、綜研化学株式会社（Ｓｏｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ＭＸ−８０Ｈ３ｗＴ（製品名）」）を使用することができる。

また、必要に応じて、分散剤、レベリング剤、消泡剤、揺変剤、防汚剤、抗菌剤、難燃剤、傷防止剤、スリップ剤などの添加剤を性能に影響のない範囲で光学調整層塗工液に含んでもよい。特にレベリング剤は、光学調整層４の表面の谷側面積を少なくする目的で、表面張力低下能力を調整することが好ましい。

また、膜厚の調整などの観点から有機溶剤を使用して光学調整層塗工液を希釈してもよい。例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルのようなアルコール系の有機溶剤や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン（アノン）、アセトン等のようなケトン系有機溶剤や、酢酸ブチル、酢酸エチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のようなエステル系有機溶剤や、トルエン、キシレン等のような芳香族系有機溶剤や、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のようなアミド系有機溶剤等を用いることができる。そして、これら例示の有機溶剤は、単独であっても、２種以上を組み合わせて用いても良いが、その溶解度パラメータδは、８〜１１の範囲であることが好ましく、さらには、δが８〜１０の範囲にあることが好ましい。使用する有機溶剤の表面張力は、２０〜４０ｄｙｎｅ／ｃｍ²の範囲が好ましく、光学調整層４の表面の谷側面積を少なくする目的で、乾燥工程に起こる塗膜の濃度上昇において、各濃度に対する表面張力の差が少なくなるように光学調整層塗工液の有機溶剤種を選定することが好ましい。

塗工には、例えば、リバースグラビアコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ナイフコート法、キスコート法等のようなコーティング方法や、各種印刷方法を用いることができるが、これらの方法に限定されるものではない。

乾燥工程については５０℃〜１５０℃の温度で１０秒〜１８０秒間程度行うことが生産性の観点からも好ましい。温度は、性能に影響のない範囲であれば、高い方が硬化前の塗膜面の粘度が下がり、速くレベリング（平滑化）して光学調整層４の表面の谷側面積が少なくなるため、８０℃〜１５０℃にすることがより好ましい。

ＵＶ露光工程については、乾燥後に、光学調整層４に紫外線を照射して硬化させることで膜を固定できる。紫外線の照射には、高圧水銀ランプ、無電極（マイクロ波方式）ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、その他任意の紫外線照射装置を用いることができ、必要に応じて窒素などの不活性ガス雰囲気化で紫外線照射を行ってもよい。また、紫外線の照射量は、５０〜８００ｍＪ／ｃｍ²の範囲、好ましくは、１００〜３００ｍＪ／ｃｍ²の範囲であるのがよい。

図３は、本発明の第二の実施の形態を示す。この実施の形態は、第一の実施の形態とは、透明基材フィルム２の他方の面にもハードコート層が設けられる点が異なるが、他は同様であり、以下に、同様の部分には同一の符号を付して、異なる部分を主に説明する。

この光学調整層付きハードコートフィルム１は、透明基材フィルム２の他方の面（つまり、ハードコート層３および光学調整層４が設けられる一方の面とは反対の面）に第２のハードコート層５を有する。この第２のハードコート層５には、複数の粒子５ａ、５ａが含有され、それら粒子５ａ、５ａは、第２のハードコート層５の表面（つまり、透明基材フィルム２のある側とは反対の面）に偏在している。これにより、光学調整層付きハードコートフィルム１の一方の面だけでなく、他方の面にも、耐傷性と耐ブロッキング性を付与することができる。このため、透明基材フィルム２に、割れ易く表面に傷が生じ易いという欠点を持つ非晶性ポリマーフィルムを用いても、充分なハードコート性と充分な耐ブロッキング性を持つ、光学調整層付きハードコートフィルムが得られる。ここにおいて、視認性を低下させないためには、複数の粒子５ａ、５ａの平均粒径を、第２のハードコート層５の平均膜厚よりも小さくするのが好ましいが、易滑性やフィルムの取り回し性をより付与させる目的で、必要に応じて粒子５ａの平均粒径を第２のハードコート層５の平均膜厚よりも大きくしてもよい。

図４は、本発明の第三の実施の形態を示す。この実施の形態は、第二の実施の形態とは、保護フィルムが設けられる点が異なるが、他は同様であり、以下に、同様の部分には同一符号を付して、異なる部分を主に説明する。

この光学調整層付きハードコートフィルム１においては、ハードコート層３および光学調整層４は、透明基材フィルム２の一方の面に設けられ、その透明基材フィルム２の他方の面側に、最外層を形成するように保護フィルム６が貼り合わされている。詳細には、この光学調整層付きハードコートフィルム１は、第２の実施の形態の光学調整層付きハードコートフィルム１を光学調整層付きハードコートフィルム本体１ａとして、その光学調整層付きハードコートフィルム本体１ａにおける、透明基材フィルム２の他方の面側である第２のハードコート層５の表面に、保護フィルム用透明基材フィルム６ａと粘着層６ｂとからなる保護フィルム６が、その粘着層６ｂを用いて貼り合わされている。

このように、光学調整層付きハードコートフィルム１に保護フィルム６を設けることで、透明基材フィルム２が非常に薄い場合などにおいても、作業性を良化させ、汚れなども防止することができる。

保護フィルム６を形成する材料は特に限定されないが、熱処理工程中および熱処理工程後のカールの制御という観点から、光学調整層付きハードコートフィルム本体１ａとは加熱収縮率および線膨張係数が近い材料が好ましい。

なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるわけではなく、その他種々の変更が可能である。例えば、光学調整層４に含有される複数の粒子４ａ、４ａは、その径が同一でなくても、図５に示すように、異なっていてもよい。また、このことは、ハードコート層３に含有される粒子３ａ、３ａにおいても同様である。

また、光学調整層４は、１層でなくても、高屈折率層、低屈折率層など２層以上の多層からなっても構わない。その場合、ハードコート層３側にある光学調整層の屈折率は１．５５〜１．８０の高屈折率にして、透明導電層を積層する側の光学調整層の屈折率は１．５０以下の低屈折率にすることで好適に骨見えを緩和することができる。そして、光学調整層に含まれる粒子４ａは、どの層に含有されてもよく、また、複数層に含有されても構わないが、透明基材フィルム２から最も離れた側にある光学調整層に含まれることが好ましい。

また、光学調整層４の表面の特定部分における算術平均粗さＲａを所定の範囲とするために、ハードコート層３に複数の粒子３ａ、３ａを含有させて、ハードコート層３の表面（透明基材フィルム２のある側とは反対の面）に凸部を設け、その凸部を光学調整層の表面に反映させたが、このハードコート層３の表面に凸部を設ける方法として、粒子３ａを用いるのではなく、２種類以上の材料が相分離（ｐｈａｓｅ ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ）することで凸部を形成する方法とか、エンボス加工により凸部を形成する方法などを採用してもよい（図６に示す凸部３ｂ参照）。

また、光学調整層付きハードコートフィルム１は、透明基材フィルム２の一方の面に、ハードコート層３および光学調整層４が設けられるが、透明基材フィルム２の両方の面に、ハードコート層３および光学調整層４が設けられてもよい。そして、この場合、透明基材フィルム２のいずれか一方の面側に（つまりは、いずれか一方の光学調整層４の表面に）、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされてもよい。

また、第二および第三の図示実施の形態においては、第２のハードコート層５に、粒子５ａが含まれるが、この粒子５ａは含まれなくてもよい。

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。

＜実施例１＞
透明基材フィルム２は、日本ゼオン株式会社（Ｚｅｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ ＺＦ１６−１００（製品名）」を用いた。この透明基材フィルム２の一方の面にコロナ処理を施した後、その一方の面にハードコート層３を積層し、ハードコートフィルムを作製した。さらに、ハードコートフィルムにおけるハードコート層３の表面に光学調整層４を積層して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（ハードコート塗工液（１ａ）の調製）
ディスポカップにＤＩＣ株式会社（ＤＩＣ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製「ＰＣ１６−２２９１（製品名）」と酢酸ブチルとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液（１ａ）を調整した。

（ハードコートフィルム（１Ａ）の作製）
前記ハードコート塗工液（１ａ）を＃５のワイヤーバーを用いて、透明基材フィルム２のコロナ処理した面に塗布し、その後８０℃の温度で１．０分間かけて乾燥し、次いで高圧水銀ランプを用いて、光量２００ｍＪ／ｃｍ²の条件で紫外線を照射し、ハードコートフィルム（１Ａ）を作製した。

（光学調整層塗工液（１ｂ）の調製）
ディスポカップにアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−８１６−３Ｌ（製品名）」と綜研化学株式会社（Ｓｏｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ケミスノー（ＣＨＥＭＩＳＮＯＷ）ＭＸ−８０Ｈ３ｗＴ（製品名）」とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液（１ｂ）を調整した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（１Ｂ）の作製）
ハードコートフィルム（１Ａ）のハードコート層３の表面に光学調整層塗工液（１ｂ）を＃３のワイヤーバーを用いて塗布し、その後８０℃の温度で１．０分間かけて乾燥し、次いで、紫外線を透過する窓が上面に設けられた容器の中にフィルムを入れ３分間容器内を窒素雰囲気化に置いた。その後高圧水銀ランプを用いて、光量２００ｍＪ／ｃｍ²の条件で紫外線を照射し、光学調整層付きハードコートフィルム（１Ｂ）を作製した。

＜実施例２＞
実施例１の光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層塗工液（２ｂ）の調製）
ディスポカップにアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−８１６−３Ｌ（製品名）」と綜研化学株式会社（Ｓｏｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ケミスノー（ＣＨＥＭＩＳＮＯＷ）ＭＸ−４０（製品名）」とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液（２ｂ）を調整した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（２Ｂ）の作製）
光学調整層塗工液（２ｂ）を使用し、他は実施例１と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（２Ｂ）を作製した。

＜実施例３＞
実施例１の光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層塗工液（３ｂ）の調製）
ディスポカップにアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−８１６−３Ｌ（製品名）」と綜研化学株式会社（Ｓｏｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ケミスノー（ＣＨＥＭＩＳＮＯＷ）ＭＸ−１５０（製品名）」とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液（３ｂ）を調整した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（３Ｂ）の作製）
光学調整層塗工液（３ｂ）を使用し、他は実施例１と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（３Ｂ）を作製した。

＜実施例４＞
実施例１のハードコート層３の塗工液を変更して、ハードコートフィルムを作製した。さらに、ハードコートフィルムのハードコート層３の表面に実施例１と同様の光学調整層４を積層して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（ハードコート塗工液（４ａ）の調製）
ディスポカップにＤＩＣ株式会社（ＤＩＣ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製ハードコート剤「ＰＣ１６−２２９１（製品名）」と「ＰＣ１６−９０８１（製品名）」と酢酸ブチルとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液（４ａ）を調整した。

（ハードコートフィルム（４Ａ）の作製）
ハードコート塗工液（４ａ）を使用し、他は実施例１のハードコートフィルム（１Ａ）の作製と全く同様にして、ハードコートフィルム（４Ａ）を作製した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（４Ｂ）の作製）
ハードコートフィルム（４Ａ）を使用し、他は実施例１と全く同様に光学調整層４を積層して、光学調整層付きハードコートフィルム（４Ｂ）を作製した。

＜実施例５＞
実施例４の光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（５Ｂ）の作製）
光学調整層塗工液（２ｂ）を使用し、他は実施例４と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（５Ｂ）を作製した。

＜実施例６＞
実施例４の光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（６Ｂ）の作製）
光学調整層塗工液（３ｂ）を使用し、他は実施例４と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（６Ｂ）を作製した。

＜実施例７＞
実施例１のハードコート層３の塗工液を変更して、ハードコートフィルムを作製した。さらに、ハードコートフィルムのハードコート層３の表面に実施例１と同様の光学調整層４を積層して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（ハードコート塗工液（７ａ）の調製）
ディスポカップにアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−７３９Ｌ（製品名）」と東レ・ダウコーニング株式会社（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｔｏｒａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「８０１９ＡＤＤＩＴＩＶＥ（製品名）」とメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液（７ａ）を調整した。

（ハードコートフィルム（７Ａ）の作製）
ハードコート塗工液（７ａ）を使用し、他は実施例１のハードコートフィルム（１Ａ）の作製と全く同様にして、ハードコートフィルム（７Ａ）を作製した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（７Ｂ）の作製）
ハードコートフィルム（７Ａ）を使用し、他は実施例１と全く同様にして光学調整層４を積層して、光学調整層付きハードコートフィルム（７Ｂ）を作製した。

＜実施例８＞
実施例１の光学調整層付きハードコートフィルム（１Ｂ）の透明基材フィルム２の面（他方の面）に実施例１と同様の手順でハードコート層３と光学調整層４を形成し、両面光学調整層付きハードコートフィルム（８Ｂ）を作製した。

＜実施例９＞
実施例１の光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層塗工液（９ｂ）の調製）
ディスポカップにアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−８１６−３Ｌ（製品名）」と綜研化学株式会社（Ｓｏｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ケミスノー（ＣＨＥＭＩＳＮＯＷ）ＭＸ−８０Ｈ３ｗＴ（製品名）」とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液（９ｂ）を調整した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（９Ｂ）の作製）
光学調整層塗工液（９ｂ）を使用し、他は実施例１と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（９Ｂ）を作製した。

＜実施例１０＞
実施例１の光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層塗工液（１０ｂ）の調製）
ディスポカップにアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−８１６−３Ｌ（製品名）」と綜研化学株式会社（Ｓｏｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製ケミスノー（ＣＨＥＭＩＳＮＯＷ）ＭＸ−８０Ｈ３ｗＴ（製品名）」とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液（１０ｂ）を調整した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（１０Ｂ）の作製）
光学調整層塗工液（１０ｂ）を使用し、他は実施例１と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（１０Ｂ）を作製した。

＜実施例１１＞
実施例１のハードコート層３の塗工液およびワイヤーバーの番手を変更して、ハードコートフィルムを作製した。さらに、ハードコートフィルムのハードコート層３の表面に実施例１と同様の光学調整層４を積層して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（ハードコート塗工液（１１ａ）の調整）
ディスポカップに日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社（Ｎｉｐｐｏｎ Ｐａｉｎｔ Ａｕｔｏｍｏｔｉｖｅ Ｃｏａｔｉｎｇｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ＵＴ−１１４７／Ｐ５５（製品名）」と酢酸ブチルとメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液（１１ａ）を調整した。

（ハードコートフィルム（１１Ａ）の作製）
ハードコート塗工液（１１ａ）を使用し、その塗工液の塗布に＃７のワイヤーバーを用い、他は実施例１のハードコートフィルム（１Ａ）の作製と全く同様にして、ハードコートフィルム（１１Ａ）を作製した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（１１Ｂ）の作製）
ハードコートフィルム（１１Ａ）を使用し、他は実施例１と全く同様に光学調整層４を積層して、光学調整層付きハードコートフィルム（１１Ｂ）を作製した。

＜実施例１２＞
実施例１のハードコート層３の塗工液と光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（ハードコート塗工液（１２ａ）の調整）
ディスポカップにアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−７３５−３５Ｌ（製品名）」と、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液（１２ａ）を調整した。

（ハードコートフィルム（１２Ａ）の作製）
ハードコート塗工液（１２ａ）を使用し、他は実施例１のハードコートフィルム（１Ａ）の作製と全く同様にして、ハードコートフィルム（１２Ａ）を作製した。

（光学調整層塗工液（１２ｂ）の調整）
ディスポカップにアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−８１６−３Ｌ改（製品名）」と、綜研化学株式会社（Ｓｏｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ケミスノー（ＣＨＥＭＩＳＮＯＷ）ＭＸ−８０Ｈ３ｗＴ（製品名）」と、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）と、ビックケミー・ジャパン株式会社（ＢＹＫ Ｊａｐａｎ ＫＫ）製「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（製品名）」を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液（１２ｂ）を調整した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（１２Ｂ）の作製）
光学調整層塗工液（１２ｂ）を使用し、他は実施例１と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（１２Ｂ）を作製した。

＜実施例１３＞
実施例１２の光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層塗工液（１３ｂ）の調整）
ディスポカップにトーヨーケム株式会社（Ｔｏｙｏｃｈｅｍ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「リオデュラス（ＬＩＯＤＵＲＡＳ）ＴＹＺ−Ａ１５−Ｓ（製品名）」と、綜研化学株式会社（Ｓｏｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ケミスノー（ＣＨＥＭＩＳＮＯＷ）ＭＸ−８０Ｈ３ｗＴ（製品名）」と、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液（１３ｂ）を調整した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（１３Ｂ）の作製）
光学調整層塗工液（１３ｂ）を使用した他は実施例１２と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（１３Ｂ）を作製した。

＜実施例１４＞
実施例１３の光学調整層４の乾燥条件を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（１４Ｂ）の作製）
光学調整層の塗工後の乾燥温度を１００℃にした他は実施例１３と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（１４Ｂ）を作製した。

＜実施例１５＞
実施例１４の光学調整層４の乾燥条件を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（１５Ｂ）の作製）
光学調整層の塗工後の乾燥温度を１３０℃にした他は実施例１４と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（１５Ｂ）を作製した。

＜実施例１６＞
実施例１５の光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層塗工液（１６ｂ）の調整）
ディスポカップにトーヨーケム株式会社（Ｔｏｙｏｃｈｅｍ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「リオデュラス（ＬＩＯＤＵＲＡＳ）ＴＹＺ−Ａ１５−Ｓ（製品名）」と、綜研化学株式会社（Ｓｏｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ケミスノー（ＣＨＥＭＩＳＮＯＷ）ＭＸ−８０Ｈ３ｗＴ（製品名）」と、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液（１６ｂ）を調整した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（１６Ｂ）の作製）
光学調整層塗工液（１６ｂ）を使用した他は実施例１５と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（１６Ｂ）を作製した。

＜比較例１＞
実施例１の光学調整層４の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。

（光学調整層塗工液（Ｘｂ）の調製）
ディスポカップにアイカ工業株式会社（Ａｉｃａ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「アイカアイトロン（ＡＩＣＡＡＩＴＲＯＮ）Ｚ−８１６−３Ｌ（製品名）」とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液（Ｘｂ）を調整した。

（光学調整層付きハードコートフィルム（ＸＢ）の作製）
光学調整層塗工液（Ｘｂ）を使用し、他は実施例１と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム（ＸＢ）を作製した。

＜実施例１７＞
実施例１の光学調整層付きハードコートフィルム（１Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム（１７）を作製した。

＜実施例１８＞
実施例２の光学調整層付きハードコートフィルム（２Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム（１８）を作製した。

＜実施例１９＞
実施例３の光学調整層付きハードコートフィルム（３Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム（１９）を作製した。

＜実施例２０＞
実施例４の光学調整層付きハードコートフィルム（４Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム（２０）を作製した。

＜実施例２１＞
実施例５の光学調整層付きハードコートフィルム（５Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム（２１）を作製した。

＜実施例２２＞
実施例６の光学調整層付きハードコートフィルム（６Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム（２２）を作製した。

＜実施例２３＞
実施例１３の光学調整層付きハードコートフィルム（１３Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、１４５℃のオーブンで１時間アニーリング（ａｎｎｅａｌｉｎｇ）し、透明導電性フィルム（２３）を作製した。

＜実施例２４＞
実施例１４の光学調整層付きハードコートフィルム（１４Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、１４５℃のオーブンで１時間アニーリング（ａｎｎｅａｌｉｎｇ）し、透明導電性フィルム（２４）を作製した。

＜実施例２５＞
実施例１５の光学調整層付きハードコートフィルム（１５Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、１４５℃のオーブンで１時間アニーリング（ａｎｎｅａｌｉｎｇ）し、透明導電性フィルム（２５）を作製した。

＜実施例２６＞
実施例１６の光学調整層付きハードコートフィルム（１６Ｂ）の光学調整層４側にＩＴＯターゲットを用い、２１ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、１４５℃のオーブンで１時間アニーリング（ａｎｎｅａｌｉｎｇ）し、透明導電性フィルム（２６）を作製した。

＜実施例２７＞
実施例２３の透明導電性フィルム（２３）のＩＴＯ層側に銅ターゲットを用い、２００ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、金属層付き透明導電性フィルム（２７）を作製した。

＜実施例２８＞
実施例２６の透明導電性フィルム（２６）のＩＴＯ層側に銅ターゲットを用い、２００ｎｍのスパッタリング蒸着を行い、金属層付き透明導電性フィルム（２８）を作製した。

＜光学調整層付きハードコートフィルムの評価結果＞
光学調整層付きハードコートフィルムの評価結果を、次の表１５および表１６に示す。

表１５および表１６から明らかなように、実施例１〜１６における光学調整層付きハードコートフィルムは、光学調整層４に光学調整層４の平均膜厚よりも平均粒径の大きい粒子４ａを含み、光学調整層４の特定部分の算術平均粗さＲａが０．３ｎｍ〜１０ｎｍであり、Ｈｚ（ヘイズ）が低く、静摩擦係数が１よりも低く、粒子脱落もない。この光学調整層付きハードコートフィルムは視認性が良く、光学調整層の表面に透明導電層を設けた場合でも充分な耐ブロッキング性を得ることができる。

また、比較例１の光学調整層付きハードコートフィルムも、視認性が良好であるが、光学調整層４に粒子を添加しておらず、静摩擦係数が１を超えている。このため、透明導電層を表面に設けた場合には、充分な耐ブロッキング性が得られていない。

＜透明導電性フィルムの評価結果＞
透明導電性フィルムの評価結果を、次の表１７および表１８に示す。

表１７および表１８において、実施例１７〜２６における透明導電性フィルムは、実施例１〜６および実施例１３〜１６の光学調整層付きハードコートフィルムを使用しているが、Ｈｚ（ヘイズ）が低く、静摩擦係数が低い。この透明導電性フィルムは、視認性がよく、透明導電層付きであっても充分な耐ブロッキング性を有している。また、実施例２３〜２６における透明導電性フィルムは光学調整層の表面の谷側面積が、６６１７８０μｍ²当たり２０００００μｍ²以下であり、電気抵抗値も低い。

＜金属層付き透明導電性フィルムの評価結果＞
金属層付き透明導電性フィルムの評価結果を、次の表１９に示す。

表１９において、実施例２７〜２８における金属層付き透明導電性フィルムは、実施例２３および実施例２６の透明導電性フィルムを使用しているが、電極となる金属層を付けても充分な耐ブロッキング性を有している。

＜評価方法＞
（Ｈｚ）
日本電色工業株式会社（Ｎｉｐｐｏｎ Ｄｅｎｓｈｏｋｕ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「Ｈａｚｅ Ｍｅｔｅｒ ＮＤＨ２０００（製品名）」を用い、ＪＩＳ−Ｋ７１３６の方法で測定した。

（視認性）
３波長蛍光灯の透過光を目視観察し、粒が殆ど見えない場合を○とし、粒が目視できるが１つ１つの粒がはっきりと見えない場合を△とし、１つ１つの粒がはっきり見える場合を×とした。

（耐ブロッキング性）
株式会社島津製作所（Ｓｈｉｍａｄｚｕ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製「オートグラフ（ＡＵＴＯＧＲＡＰＨ）ＡＧ−ＩＳ ＭＳ（ＡＧ−１ｋＮＩＳ）（製品名）」を用いて、摩擦方向６０ｍｍ×５０ｍｍの面積に４．４ｋｇ重の垂直荷重を加えて試料の測定面同士の静摩擦係数を測定した。静摩擦係数が１以上である場合を×とし、１未満である場合を○とした。

（粒子脱落）
テスター産業株式会社（Ｔｅｓｔｅｒ Ｓａｎｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製「ＡＢ−３０１ ＣＯＬＯＲ ＦＡＳＴＮＥＳＳ ＲＵＢＢＩＮＧ ＴＥＳＴＥＲ（製品名）」を用い、ネル布（１６号双糸ネルＷＫＦ２２５４）を５００ｇの荷重で５００往復光学調整層の面を擦り、その後表面を、株式会社キーエンス（Ｋｅｙｅｎｃｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製「マイクロスコープ（Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）ＶＨＸ−１０００（製品名）」を用い粒子４ａの脱落が無いか確認した。粒子４ａの脱落がないものを○とし、粒子４ａの脱落のあるものを×とした。

（ハードコート層の平均膜厚）
ハードコート層３の平均膜厚は、フィルメトリクス（Ｆｉｌｍｅｔｒｉｃｓ）株式会社製「Ｆｉｌｍｅｔｒｉｃｓ Ｆ２０ 膜厚測定システム（製品名）」を用いて測定した。

（光学調整層の平均膜厚）
光学調整層４の膜厚は、以下の手順で測定した。
（１）株式会社島津製作所（Ｓｈｉｍａｄｚｕ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製「ＵＶ３６００（製品名）」を用い、波長３８０〜８００ｎｍにおける反射率を測定し波形を得る。
（２）光学シミュレーションソフトにて、光学調整層４の膜厚以外の積層膜の情報［構成、透明基材フィルム２の屈折率（１．５２とした）と厚さ、ハードコート層３の屈折率（１．５０とした）と平均膜厚（前記のハードコート層３の平均膜厚の測定値）、光学調整層の屈折率（実施例１３〜１６は１．６０とした。その他の実施例は１．６２とした）］を入れる。
（３）光学シミュレーションの光学調整層に任意の膜厚を入力して得られた波形と、（１）で得られた波形とが一致したときの膜厚値を、光学調整層の平均膜厚とする。
すなわち、株式会社島津製作所（Ｓｈｉｍａｄｚｕ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製「ＵＶ３６００（製品名）」を用い干渉波形を得た後、測定した干渉波形とシミュレーションによる計算波形とが一致する膜厚値を光学調整層の平均膜厚とした。

（ハードコート層に含有される粒子の平均粒径）
国際標準化機構規格ＩＳＯ １３３２０を基とする日本工業規格ＪＩＳ Ｚ８８２５に従うレーザ回折・散乱法により得られる体積基準の粒子径分布の算術平均値を、粒子の平均粒径とした。

（光学調整層に含有される粒子の平均粒径）
国際標準化機構規格ＩＳＯ １３３２０を基とする日本工業規格ＪＩＳ Ｚ８８２５に従うレーザ回折・散乱法により得られる体積基準の粒子径分布の算術平均値を、粒子の平均粒径とした。

（光学調整層の特定部分の算術平均粗さＲａ）
三菱ケミカルシステム株式会社（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．）（旧社名：株式会社菱化システム（Ｒｙｏｋａ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｉｎｃ．））製「非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ２．０（型式：Ｒ５３００ＧＬ−Ｌ−Ａ１００−ＡＣ）（製品名）」を用いて５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出したサンプルをステージに置き、１０倍レンズにて表面形状の測定を行った。その後、測定データを観察し、光学調整層４に含まれる粒子４ａにより形成される凸部を除く特定部分において５０μｍ×５０μｍの範囲の算術平均粗さＲａを算出した。

（光学調整層含有粒子の個数Ｎ）
三菱ケミカルシステム株式会社（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．）（旧社名：株式会社菱化システム（Ｒｙｏｋａ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｉｎｃ．））製「非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ２．０（型式：Ｒ５３００ＧＬ−Ｌ−Ａ１００−ＡＣ（製品名））を用いて、５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出したサンプルをステージに置き、１０倍レンズにて表面形状の測定を行った。その後、測定データの粒子解析を実行し１ｍｍ×１ｍｍにおける、光学調整層４の表面から５０ｎｍ以上の高さのある粒子個数を数えた。

（光学調整層の表面の谷側面積）
三菱ケミカルシステム株式会社（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．）（旧社名：株式会社菱化システム（Ｒｙｏｋａ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｉｎｃ．））製「非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ２．０（型式：Ｒ５３００ＧＬ−Ｌ−Ａ１００−ＡＣ（製品名））」を用いて、５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出したサンプルをステージに置き、５倍レンズにて表面形状の測定を行った。その後、測定データのベアリング解析を実行し、粒子４ａの存在していない部分の光学調整層４の平均高さから３ｎｍ以上谷側である面積（光学調整層の表面の谷側面積）を、６６１７８０μｍ²当たりの値で算出した。

（透明導電性フィルムの電気抵抗値）
株式会社三菱ケミカルアナリテック（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｔｅｃｈ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）（旧社名：株式会社三菱化学アナリテック）製「Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ（型式：ＭＣＰ−Ｔ６１０）（製品名）」を用いて測定した。

以上に示す光学調整層付きハードコートフィルムおよび透明導電性フィルムは、静電容量式のタッチパネル等に好適に用いられる。

１ 光学調整層付きハードコートフィルム
２ 透明基材フィルム
３ ハードコート層
３ａ 粒子
４ 光学調整層
４ａ 粒子
６ 保護フィルム

Claims (13)

1. 非晶性ポリマーからなる透明基材フィルムと、その透明基材フィルムの少なくとも一方の面に積層されたハードコート層と、そのハードコートの上に積層された光学調整層とを備える、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムであって、
   前記光学調整層は、１層からなり、その光学調整層には、その光学調整層の表面に凸部を形成する複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記光学調整層の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径ｒ１と、その平均膜厚ｄ１とが、
   ５０ｎｍ≦（ｒ１−ｄ１）≦１９００ｎｍ
   の関係にあり、また、
   前記光学調整層の表面の、前記粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さＲａが、０．３ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあり、かつ、
   前記光学調整層に含有される前記粒子の平均粒径ｒ１は、１００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲にある、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
2. 非晶性ポリマーからなる透明基材フィルムと、その透明基材フィルムの少なくとも一方の面に積層されたハードコート層と、そのハードコートの上に積層された光学調整層とを備える、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムであって、
   前記光学調整層は、１層からなり、その光学調整層には、その光学調整層の表面に凸部を形成する複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記光学調整層の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径ｒ１と、その平均膜厚ｄ１とが、
   ５０ｎｍ≦（ｒ１−ｄ１）≦１９００ｎｍ
   の関係にあり、また、
   前記光学調整層の表面の、前記粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さＲａが、０．３ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあり、かつ、
   前記光学調整層に含有される前記粒子の平均粒径ｒ１は、１００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲にあり、その平均粒径ｒ１（ｎｍ）と、その粒子の個数Ｎ（個／ｍｍ²）とが、
   １９９．０３ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）≦Ｎ≦３６７６．４ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）
   の関係にある、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
3. 前記光学調整層の平均膜厚ｄ１と、その光学調整層に含有される前記粒子の平均粒径ｒ１とが、
   （ｄ１／ｒ１）＜０．５
   の関係にある、請求項１または２に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
4. 非晶性ポリマーからなる透明基材フィルムと、その透明基材フィルムの少なくとも一方の面に積層されたハードコート層と、そのハードコート層の上に積層された光学調整層とを備える、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムであって、
   前記光学調整層は、２層以上の多層からなり、その光学調整層における、前記透明基材フィルムから最も離れた側にある層には、その光学調整層の表面に凸部を形成する複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記光学調整層における、前記透明基材フィルムから最も離れた側にある層の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径ｒ１と、その平均膜厚ｄ１とが、
   ５０ｎｍ≦（ｒ１−ｄ１）≦１９００ｎｍ
   の関係にあり、また、
   前記光学調整層の表面の、前記粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さＲａが、０．３ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあり、かつ、
   前記光学調整層における、前記透明基材フィルムから最も離れた側にある層に含有される前記粒子の平均粒径ｒ１は、１００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲にある、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
5. 非晶性ポリマーからなる透明基材フィルムと、その透明基材フィルムの少なくとも一方の面に積層されたハードコート層と、そのハードコート層の上に積層された光学調整層とを備える、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムであって、
   前記光学調整層は、２層以上の多層からなり、その光学調整層における、前記透明基材フィルムから最も離れた側にある層には、その光学調整層の表面に凸部を形成する複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記光学調整層における、前記透明基材フィルムから最も離れた側にある層の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径ｒ１と、その平均膜厚ｄ１とが、
   ５０ｎｍ≦（ｒ１−ｄ１）≦１９００ｎｍ
   の関係にあり、また、
   前記光学調整層の表面の、前記粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さＲａが、０．３ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にあり、かつ、
   前記光学調整層における、前記透明基材フィルムから最も離れた側にある層に含有される前記粒子の平均粒径ｒ１は、１００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲にあり、その平均粒径ｒ１（ｎｍ）と、その粒子の個数Ｎ（個／ｍｍ ² ）とが、
   １９９．０３ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）≦Ｎ≦３６７６．４ｅｘｐ（−０．００２ｒ１）
   の関係にある、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
6. 前記光学調整層における、前記透明基材フィルムから最も離れた側にある層の平均膜厚ｄ１と、その最も離れた側にある層に含有される前記粒子の平均粒径ｒ１とが、
   （ｄ１／ｒ１）＜０．５
   の関係にある、請求項４または５に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
7. 前記ハードコート層には、複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記ハードコート層の平均膜厚よりも小さく、それら粒子は、前記ハードコート層の表面に偏在している、請求項１ないし６のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
8. 前記ハードコート層の平均膜厚ｄ２と、そのハードコート層に含有される粒子の平均粒径ｒ２とが、
   （ｄ２／ｒ２）＞２
   の関係にある、請求項７に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
9. 前記光学調整層の表面の谷側面積が、６６１７８０μｍ ² 当たり２０００００μｍ ² 以下である、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
10. 前記ハードコート層および前記光学調整層は、前記透明基材フィルムの一方の面に設けられ、その透明基材フィルムの他方の面側に、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされている、請求項１ないし９のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
11. 前記透明基材フィルムの他方の面にハードコート層が設けられ、そのハードコート層の表面に、前記保護フィルムが貼り合わされている、請求項１０に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
12. 前記ハードコート層および前記光学調整層は、前記透明基材フィルムの両方の面に設けられ、その透明基材フィルムのいずれか一方の面側に、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされている、請求項１ないし９のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
13. 請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の光学調整層付きハードコートフィルムにおける、光学調整層の表面に、透明導電層が形成されてなる、透明導電性フィルム。

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