JP6608279B2 - 流体レギュレータのためのシールディスク・アセンブリ - Google Patents

Description

本発明は、一般に流体レギュレータまたは他のタイプの流れ制御弁のためのシールディスク・アセンブリに関する。

通常のガス分配システムがガスを供給する圧力は、多数の要因により変化し得る。これらの要因には、例えば、システムに対する需要、気候、供給源、および／または他の要因が含まれることがある。しかし炉、オーブンなどのガス器具が備えられているほとんどのエンドユーザの設備は、ガスが所定の圧力に応じて、かつエンドユーザの器具の最大容量以下で送達される必要がある。したがって、プロセス流体レギュレータは、送達されたガスがエンドユーザの設備の要求を確実に満たすために、これらの分配システムにおいて実施される。またプロセス流体レギュレータを使用して、同様の機能を達成するために液体の送達を調整する。

一般のプロセス流体レギュレータは、レギュレータ本体、制御要素、およびアクチュエータを含む。レギュレータ本体は、流体流路、流体入口、および流体出口を画定する。開口部は、流体入口と流体出口との間の流体流路に沿って本体内に作動可能に配置される。流体流路は、流体入口から開口部を通って流体出口に延在する。制御要素は、流体流路に沿って開口部を通る流体の流れを調整するために移動する。制御要素は、閉位置では開口部によって画定された弁座をシール係合し、開位置では弁座から離間される。当技術分野でよく理解されている手法では、アクチュエータは、レギュレータ本体および制御要素に作動可能に連結されて、予め選択された範囲内のプロセス流体圧を例えば流体出口で維持するために、流体流路における圧力変化に応答して開口部に対して制御要素の位置を制御する。

図１は、プロセス流体レギュレータ内の典型的な制御要素１０および開口部１２の分離拡大詳細図を示す。開口部１２は、通常円管の形を有し、例えばレギュレータ本体１４内の補完内ネジ１７を係合する外ネジ１６でレギュレータ本体１４に固定され、それを通って流体が通過しなければならない孔１８を包囲し形成する。弁座２０は、開口部１２の上縁部または環状唇部に沿って画定される。制御要素１０は、ディスク筐体２４内に担われる、ゴムまたは同種のものなどの弾性シール材料から作製されたシールディスク２２を含む、シールディスク・アセンブリを担い、ディスク筐体２４は、例えば制御要素１０の底端部によって画定されてもよい。（上下左右などの方向修正子は、図面に対して参照し易いために使用されるに過ぎず、本開示の範囲を特段限定するものではない。）シールディスク２２は装着部２５を含み、装着部２５は好ましくは中心孔を画定する円形リング形状を有する。シールディスク２２は、中心孔を横切って延在する中心ウェブまたはディスクを恣意的に含んでもよい。しかし図に示された例示的配置では、シールディスク２２は、中心ウェブを含まない。ディスク筐体２４は、弁座２０の反対側に位置合わせされた溝の形の座部２７を含む。座部２７は平坦な矩形輪郭を有する。またシールディスク２２の装着部２５は、座部２７に補完する平坦な矩形断面を有する。装着部２５は座部２７に緊密に嵌合し、その結果、制御要素１０がロックアップ位置に、すなわち孔１８、ひいてはレギュレータ本体を通る流体流れを完全に停止する制御要素１０の極度の、または最大の閉位置に動かされると、シールディスク２２は弁座２０をシール係合するように配置される。

図２の拡大詳細図に最もよく示されているように、ディスク筐体２４の座部２７は、第１の側壁２６、第２の側壁２８、および後壁３０によって形成された矩形断面を有する。第１および第２の側壁２６、２８は、それぞれディスク筐体２４の端面３２における第１の端部から、端面３２から内方に離間した第２の端部に延在する。後壁３０は、第１の側壁２６の第２の端部から第２の側壁２８の第２の端部に延在する。側壁２６、２８は端面３２に垂直であり、後壁３０は側壁２６、２８のそれぞれに垂直である。シールディスク２２の装着部２７は、ディスク筐体２４に嵌合する同様の矩形輪郭を有する。またシールディスク２２は、弁座２０をシール係合するシール面３４を含む。シール面３４は平坦面を有する。装着部２７は、側壁３８および４０により平坦なシール面３４に連結された平坦な端壁３６を有する、座部２７に補完する。装着部２５の側壁３８、４０および端壁３６は、それぞれ座部２７の側壁２６、２８および後壁３０に適合する。

弁座２０はシールディスク２２の装着部２５をロックアップ位置において座部２７の中に圧縮し変形させると、シールディスク２２は平坦であり続けない。むしろ矢印Ｐによって図示されたように、シールディスク２２は、座部２７内で装着部２５の矩形断面輪郭に亘って不均衡に変形する。装着部２５の輪郭に亘る不均衡な、または非均一な圧縮により、ロックアップ位置を達成するために必要な駆動力が必要以上に高くなることがある。

流体レギュレータなどの流体制御弁のためのシールディスク・アセンブリは、本開示の一部の態様によれば、凹弓形輪郭の座部を有するディスク筐体および座部内に受領される装着部を備えるシールディスクを含む。シールディスクは、弁座を係合するためのシール面を有する。一部の配置では座部の凹弓形輪郭は、先行技術の平坦または矩形輪郭より均一にシールディスクの輪郭に亘る圧縮を提供してもよい。

例示的一態様によれば、本開示の教示によるシールディスク・アセンブリは、弁体および流れ制御部材を含む流れ制御弁内に配置される。シールディスク・アセンブリは、座部を有するディスク筐体と、ディスク筐体に装着されたシールディスクであって、シールディスクは装着部およびシール面を有する、シールディスクと、流れ制御部材の閉位置においてシールディスクを圧縮するように配置された弁座とを含む。ディスク筐体の座部は凹弓形輪郭を有し、シールディスクの装着部はディスク筐体の座部内に配置された輪郭を有し、弁座はシールディスクをシールディスクの輪郭に亘って均一に圧縮する。

別の例示的態様によれば、流れ制御弁の制御要素のためのシールディスク・アセンブリは、ディスク筐体およびシールディスクを含む。ディスク筐体は、制御要素によって担われ、座部を有する。座部は凹弓形輪郭を有する。シールディスクはディスク筐体に装着するようにサイズ化される。シールディスクは装着部およびシール面を有する。シールディスクの装着部は、ディスク筐体の座部の凹弓形輪郭に対応する輪郭を有する。

別の例示的態様によれば、流体レギュレータは、入口から出口に延在する流路を画定するレギュレータ本体と、流体流路内に配置された開口部であって、開口部は弁座を画定する、開口部と、流体流れが開口部を通ることができる開位置と、流体流れが開口を通ることを防ぐ弁座に対する閉位置との間を移動するように配置された制御要素とを含む。ディスク筐体は制御要素によって担われ、凹弓形輪郭を有する座部を有する。シールディスクはディスク筐体に装着されるようにサイズ化され、装着部およびシール面を有する。シールディスクのシール面は、制御要素が閉位置にあるときに、弁座をシール係合するように配置される。シールディスクの装着部は、ディスク筐体の座部の凹弓形輪郭に対応する輪郭を有する。

さらに任意の１つまたは複数の前述の例示的態様によれば、シールディスク・アセンブリおよび／または流体レギュレータは、任意の１つまたは複数の以下の好ましい形をさらに恣意的に含んでもよい。

一部の好ましい形では、凹弓形輪郭は、第１の傾斜壁および第２の傾斜壁を含む逆Ｖ形輪郭を有する。他の好ましい形では、凹弓形輪郭は、１つまたは複数の弓形壁部および複数の直壁部を有する。

一部の好ましい形では、シールディスクの装着部は、座部の凹弓形輪郭を補完する。

一部の好ましい形では、座部は溝を形成する。溝は制御要素の端面内に配置されてもよい。溝はリング内に延在してもよい。

一部の好ましい形では、シールディスクはリングの形である。

一部の好ましい形では、シールディスクは弾性シール材料から形成される。ディスク筐体は、剛性材料から形成されてもよい。

一部の好ましい形では、シールディスクは流れ制御部材によって担われる。弁座は弁体によって担われてもよい。

一部の好ましい形では、流れ制御弁は流体レギュレータの一部であり、弁体はレギュレータ本体であり、弁座は開口部によって画定される。

一部の好ましい形では、流体レギュレータは、レギュレータ本体および制御要素に作動可能に結合されたアクチュエータを含む。アクチュエータは、アクチュエータ筐体、アクチュエータ筐体の内側に配置されたダイヤフラム、およびダイヤフラムを制御要素に作動可能に連結するリンケージを含んでもよい。ダイヤフラムは、出口における流体圧の変化に応答して制御要素を移動させ、出口における予め選択された圧力範囲を維持してもよい。

追加の恣意的な態様および形が開示され、これらはあらゆる機能的に適切な手法で、単独でまたはあらゆる機能的に実行可能な組合せのいずれかで、本開示の教示と一致して配置されてもよい。他の態様および利点は以下の詳述を考慮すると明らかになろう。

典型的な弁トリムの一部の断面図である。 図１の外接部で取られ、従来の弁シールディスク・アセンブリをより詳細に示す拡大断面図である。 本開示の教示に従って組み立てられた例示的シールディスク・アセンブリを含む、弁トリムを備える流体レギュレータの部分切取り側面図である。 例示的シールディスク・アセンブリをより詳細に示す、図３の外接部で取られた弁トリムの拡大断面図である。 図４の外接部で取られ、例示的シールディスク・アセンブリをより詳細に示す拡大断面図である。 図６Ａ〜図６Ｄは、図４の外接部で取られた、本開示の教示によるシールディスク・アセンブリの代替の例示的形をより詳細に示す拡大断面図である。

図３の例示的配置では、流体レギュレータ５０内に見出されるような流れ制御弁は、本開示の教示によるシールディスク・アセンブリ５２を含む。流体レギュレータ５０は、レギュレータ本体５８などの弁体、制御要素６０などの流れ制御部材、弁座６２、およびアクチュエータ５６を有する一般的に公知の流体レギュレータであってもよい。アクチュエータ５６は、レギュレータ本体５８および制御要素６０に作動可能に連結されて、弁座６２から離間された開位置と弁座６２に対して係合された閉位置との間で制御要素６０を移動させる。それによってアクチュエータ５６は、レギュレータ本体５８からの出口流体圧を当技術分野に理解されている手法で予め選択された設定圧力範囲内に調節する、かつ／または維持する。しかしシールディスク・アセンブリ５２は流体レギュレータと共に使用することに限定されず、本明細書の記載を検討すると明らかになるように、むしろ他のタイプの流れ制御弁に使用されてもよい。

レギュレータ本体５８は、入口６４、出口６６、入口６４と出口６６との間の孔６８、および入口６４から孔６８を通って出口６６に延在する流体流路７０を画定する。弁座６２は、孔６８を包囲する開口部７２のリムによって画定される。開口部７２は、好ましくは概ね中空の円筒体を有し、例えばネジ山７４によりレギュレータ本体５８に固定されて孔６８を包囲する。したがって弁座６２は円形であってもよい。制御要素６０はシールディスク・アセンブリ５２を担い、孔６８を通る流体流れを停止する閉位置と、孔６８を通る流体流れが最大になることが可能な完全開位置との間を移動する。

アクチュエータ５６は、出口６６における流体圧の変化に応答して、閉位置と完全開位置との間で制御要素６０を移動させるように配置される。この例示的配置ではアクチュエータ５６はダイヤフラム・レギュレータであり、ダイヤフラム・レギュレータはアクチュエータ筐体７８の内側に配置されたダイヤフラム７６を含み、リンケージ（図示せず）により制御要素５６に作動可能に連結される。ダイヤフラム７６は、出口６６における出口流体圧の変化に応答して移動して制御要素６０を移動させ、それによって出口６６における予め選択された設定圧力範囲を維持する。アクチュエータ５６の構成要素および機能は当技術分野ではよく理解されており、したがってその構成要素および機能のさらなる詳述は本明細書には提示されていない。

次に図４の拡大図を参照すると、シールディスク・アセンブリ５２は、ゴムまたはネオプレンなどの弾性シール材料から作製されたシールディスク８０を含み、シールディスク８０は、鋼鉄または硬質プラスチックなどの剛性材料から作製されたディスク筐体８２内に担われる。ディスク筐体８２は制御要素６０によって担われるが、他の配置ではディスク筐体８２は開口部７２によって担われてもよく、弁座６２は制御要素６０によって担われてもよい。座部８３はディスク筐体８２の端面８４内に形成され、好ましくは制御要素６０のシール端部に配置されたリング形状の円形溝を形成する。ディスク筐体８２は、制御要素６０または制御要素６０に取外し可能に結合された個別の構成要素と一体化されてもよい。ディスク筐体８２は弁座６２の反対側に位置合わせされる。シールディスク８０の装着部９４は、座部８３に緊密に嵌合する。シールディスク８０は、制御要素６０がロックアップ位置、すなわち孔６８、ひいては弁を通る流体流れを完全に停止する制御要素１０の閉位置に移動すると、弁座６２をシール係合する。

図５の拡大詳細図に最もよく示されているように、ディスク筐体８２の座部８３は、先行技術におけるような矩形輪郭よりむしろ凹弓形輪郭を有する。この例示的配置では凹弓形輪郭は、第１の壁８６および第２の壁８８によって形成されたＶ形輪郭である。第１の壁８６は、第２の壁８８から半径方向内方に配置される。第１の壁８６は、端面８４における第１の端部および端面８４から内方に離間された第２の端部を有する。同様に、第２の壁８８は、端面８４における第１の端部および端面８４から内方に離間された第２の端部を有する。第１および第２の壁８６、８８の第１の端部は半径方向に離間される。第１および第２の壁８６、８８の第２の端部は頂点９０で接する。第１の壁８６は逆円錐台リングを形成し、第２の壁８８は（図面に示されているように）直立円錐台リングを形成する。したがって、座部８３は、弁座６２の反対側に制御要素６０のシール端部の周囲のリング内に延在する逆Ｖ形溝を形成する。

シールディスク８０は、シール面９２および装着部９４を有する。シール面９２は弁座６２に対してシール係合する。シール面９２は平坦であるが、他の配置ではシール面９２は、弁座６２を受領するための窪み、または弁座６２に対してシール係合するように配置された他の形状を有してもよい。装着部９４はディスク筐体８２の座部８３の中に着座する。装着部９４は、座部８３の凹弓形輪郭に補完する輪郭を有することなどにより、座部８３の形状に対応する。したがって、装着部９４は逆Ｖ形輪郭を有し、第１の傾斜壁９６および第２の傾斜壁９８を含む。一部の配置では、シールディスク８０はリングを形成し、装着部９４の輪郭は円の周囲に延在し、第１の傾斜壁９６は逆円錐台部を画定し、第２の傾斜壁９８は直立円錐台部を画定する。第１の傾斜壁９６は、第２の傾斜壁９８から半径方向内方に配置される。内側壁１００は、シール面９２の内縁部を第１の傾斜壁９６の第１の端部に加える。外側壁１０２は、シール面９２の外縁部を第２の傾斜壁９８の第１の端部に加える。第１および第２の傾斜壁９８の上縁部は上部頂点１０４で接する。

図３〜５に示された組み立てられた位置では、装着部９４の第１の傾斜壁９６は座部８３の第１の壁８６に対して着座する。装着部９４の第２の傾斜壁９８は座部８３の第２の壁８８に対して着座する。内側壁および外側壁１００、１０２はディスク筐体８２から外方に延在する。シールディスク８０のシール面９２は、ディスク筐体８２の端面８４から外方に離間される。

ディスク筐体８２の座部８３の凹弓形輪郭は、流体レギュレータ５０をロックアップ中にシールディスク８０の圧縮を最小にするように形作られる。図５に最も明確に示されているように、弁座６２を係合するシール面９２の領域がシール面９２の全領域より著しく小さいのは、弁座６２がシール面９２より著しく狭いからである。また弁座６２は座部８３の幅より狭い。したがって弁座６２がシール面９２に対して圧縮すると、装着部９４はロックアップ位置において座部８３に変形し、シールディスク８０は平坦であり続けない。しかし先行技術のシールディスク２２とは違い、矢印Ｐによって図示されたように、弁座６２は装着部９４の輪郭に亘って均一にシールディスク８０を圧縮する。

シールディスク・アセンブリ５２と共に使用されてもよい、いくつかの代替の例示的凹弓形輪郭が図６Ａ〜６Ｄに示されており、同じ構造には前と同じ参照番号が与えられている。

図６Ａでは、座部８３の凹弓形輪郭は、凹溝を制御要素６０の端面８４に形成する単一の弓形壁１１０によって画定された弓形輪郭である。弓形壁１１０は、端面８４で終了する第１の端部１１０ａ、端面８４で終了し第１の端部から半径方向外方に離間された第２の端部１１０ｂ、および座部８３の輪郭の最も深い部分を形成する先端部１１２を有する。シールディスク８０の装着部９４は、単一の弓形壁１１４によって同様に形成され、装着部９４の弓形壁１１４が座部８３の弓形壁１１０に対して着座するように、単一の弓形壁１１４は座部８３の弓形壁１１０に補完する。

図６Ｂでは、座部８３の凹弓形輪郭は第１の側壁１２０、第２の側壁１２２、および弓形後壁１２４を有する。第１および第２の側壁１２０、１２２のそれぞれは真っ直ぐであり、端面８４に配置された第１の端部を有し、端面８４に垂直に制御要素６０内に窪んだ第２の端部に延在する。弓形後壁１２４は、第１の側壁１２０の第２の端部と接する第１の端部、第２の側壁１２２の第２の端部と接する第２の端部、およびディスク筐体８２の輪郭の最も深い部分を形成する先端部１２６を有する。同様にシールディスク８０の装着部９４は、２つの側壁１２８、１３０を備える輪郭、およびディスク筐体８２の凹弓形輪郭に補完する弓形端壁１３２を有する。装着部９４の弓形端壁１３２ならびに側壁１２８および１３０は、座部８３の弓形後壁１２４ならびに側壁１２０および１２２のそれぞれに対して着座する。

図６Ｃでは、座部８３の凹弓形輪郭は複数の壁セグメント１４０、１４２、１４４、１４６、および１４８を有し、複数の壁セグメント１４０、１４２、１４４、１４６、および１４８はともに座部８３の輪郭を画定する。壁セグメント１４０〜１４８のそれぞれは直壁セグメントである。それ故、壁セグメント１４０は端面８４から壁セグメント１４２に延在し、壁セグメント１４２は壁セグメント１４０から壁セグメント１４４に延在し、壁セグメント１４４は壁セグメント１４２から壁セグメント１４６に延在する。同様に、壁セグメント１４６は壁セグメント１４４から壁セグメント１４８に延在し、壁セグメント１４８は壁セグメント１４６から端面８４に延在する。壁セグメント１４０は、壁セグメント１４８から端面８４に沿って半径方向内方に離間される。同様に、シールディスク８０の装着部９４は、壁セグメント１５０、１５２、１５４、１５６、および１５８を備える輪郭を有し、壁セグメント１５０、１５２、１５４、１５６、および１５８は、座部８３の壁セグメント１４０〜１４８のそれぞれに補完し、壁セグメント１４０〜１４８に対して着座する。

図６Ｄでは、座部８３の凹弓形輪郭は、複数の壁セグメント１６０、１６２、１６４、および１６６を有する。それぞれの壁セグメント１６０〜１６６は直壁セグメントであり、壁セグメント１６０は端面８４から壁セグメント１６２に延在し、壁セグメント１６２は壁セグメント１６０から壁セグメント１６４に延在し、壁セグメント１６４は壁セグメント１６２から壁セグメント１６６に延在し、壁セグメント１６６は壁セグメント１６４から端面８４に延在する。壁セグメント１６０は、壁セグメント１６６から端面８４に沿って半径方向内方に離間される。壁セグメント１６０および１６６はそれぞれ端面８４に垂直である。同様に、シールディスク８０の装着部９４は、壁セグメント１７０、１７２、１７４、および１７６を備える輪郭を有し、壁セグメント１７０、１７２、１７４、および１７６は、座部８３の壁セグメント１６０〜１６６のそれぞれに補完し、壁セグメント１６０〜１６６に対して着座する。

ディスク筐体８２の座部８３の凹弓形輪郭は、図３〜５に示された例示的Ｖ形輪郭または図６Ａ〜６Ｄに示された代替の例示的輪郭に限定されない。むしろ座部８３の凹弓形輪郭は、弁座６２がシールディスク８０をディスク筐体８２の座部８３に対してまたディスク筐体８２の座部８３の中に押圧すると、シールディスク８２の装着部９４に均一な圧縮および／または変形を提供する、概ね凹弓形のあらゆる輪郭であってもよい。ディスク筐体８２の多数の他の凹弓形輪郭は、シールディスク８０の輪郭に亘る均一な圧縮および変形を提供することが可能であり、本開示の範囲は、本明細書に提供された特定の例示に特段限定されるものではない。

一部の恣意的な配置では、シールディスク・アセンブリ５２は、複数の異なるサイズの複数の開口部７２にシールするシールディスク８０に適合されてもよい。このような配置では、ディスク筐体８２は、異なる座部８３に嵌合するように配置された複数の対応する装着部９４を受領するように適合された、一連の同心円溝またはリングなどの複数の座部８３を有してもよい。

本開示の教示によるシールディスク・アセンブリ５２は、一部の配置では、住宅用、商業用、および／または工業用環境で使用するためのガスレギュレータなどの、流体レギュレータのロックアップ性能を向上させてもよい。シールディスク・アセンブリ５２は、ゴムが弁シールとして使用される場合に、特に低圧のロックアップ配置で特に有利であってもよい。例えば、一部の配置ではこのようなシールディスク・アセンブリは、先行技術のシールディスク・アセンブリの装着部の平坦な矩形輪郭より、シールディスクおよび／もしくは装着部の輪郭に亘って実質的に均一な圧縮ならびに／または変形を提供することにより、流体レギュレータのロックアップ中にシールディスクの平坦性を向上させてもよい。理論に束縛されることなく、シールディスク筐体の座部の変化により、流体レギュレータのロックアップ中に圧縮されると装着部の最終形状に影響を与えると考えられる。またシールディスクの装着部の輪郭に亘る圧縮力の分散を模倣するために座部の形状を修正することにより、一部の配置ではシール面と弁座との間により平坦な最終シールをもたらし、流体レギュレータのロックアップを達成するために必要とされるアクチュエータ力を先行技術に比べて低減するとも考えられる。このような低減は、流体レギュレータの性能全体を向上させることがある。またこのような向上は、他のタイプの流れ制御弁に同様の利益を提供することがある。

本明細書に記載された恣意的な配置のそれぞれは、本明細書に提供された記載によって提案された１つまたは複数の機能性のあらゆる組合せを充分に提供するために、あらゆるセットの組合せまたは置換に配置されてもよい。さらにそれぞれの例示的配置に関して開示されたそれぞれの特徴は、当業者には理解されるはずである機能性のあらゆる有益な組合せを提供するような、あらゆる機能的組合せで組み合わせられてもよいことが理解される。

本明細書に開示された例示的シールディスク・アセンブリの多数の修正形態が、前述の記載を鑑みて当業者には明らかになろう。したがって、この記載は例示のみとして解釈されるべきであり、当業者が本発明を作製し使用することが可能であり、本発明を実行する好ましい形態を教示できるために提示されている。本開示の範囲および添付された特許請求の範囲内のすべての修正形態の独占権は留保される。

Claims (10)

1. 入口から出口に延在する流路を画定するレギュレータ本体と、
   前記流路内に配置された開口部であって、前記開口部は弁座を画定する、開口部と、
   流体流れが前記開口部を通ることができる開位置と、流体流れが前記開口部を通ることを防ぐ前記弁座に対する閉位置との間を移動するように配置された制御要素と、
   前記制御要素によって担われるディスク筐体であって、前記ディスク筐体は座部を有し、該座部は前記制御要素の端面内に配置された溝を備え、該溝は凹弓形輪郭を有する、ディスク筐体と、
   前記ディスク筐体に装着するようにサイズ化されたシールディスクであって、前記シールディスクは装着部およびシール面を有する、シールディスクとを備え、
   前記シールディスクの前記シール面は、前記制御要素が前記閉位置にあるときに前記弁座をシール係合するように配置され、
   前記シールディスクの前記装着部は、前記ディスク筐体の前記座部の前記凹弓形輪郭に補完する輪郭を有し、
   前記溝の凹弓形輪郭は、第１の傾斜壁および第２の傾斜壁を含む逆Ｖ形輪郭である、流体レギュレータ。
2. 前記レギュレータ本体および前記制御要素に作動可能に結合されたアクチュエータをさらに備え、前記アクチュエータは、
   アクチュエータ筐体と、
   前記アクチュエータ筐体の内側に配置されたダイヤフラムと、
   前記ダイヤフラムを前記制御要素に作動可能に連結するリンケージとを備え、
   前記ダイヤフラムは、前記出口において流体圧の変化に応答して前記制御要素を移動し、前記出口において予め選択された設定圧力範囲を維持する、請求項１に記載の流体レギュレータ。
3. 流れ制御弁の制御要素のためのシールディスク・アセンブリであって、
   前記制御要素によって担われるディスク筐体であって、前記ディスク筐体は座部を有し、該座部は前記制御要素の端面内に配置された溝を備え、該溝は凹弓形輪郭を有する、ディスク筐体と、
   前記ディスク筐体に装着するようにサイズ化されたシールディスクであって、前記シールディスクは装着部およびシール面を有する、シールディスクとを備え、
   前記シールディスクの前記装着部は、前記ディスク筐体の前記座部の前記凹弓形輪郭に補完する輪郭を有し、
   前記溝の凹弓形輪郭は、第１の傾斜壁および第２の傾斜壁を含む逆Ｖ形輪郭である、シールディスク・アセンブリ。
4. 前記シールディスクは弾性シール材料を備え、前記ディスク筐体は剛性材料を備える、請求項３に記載のシールディスク・アセンブリ。
5. 前記ディスク筐体の前記座部の前記凹弓形輪郭は、ロックアップ中に前記シールディスクの圧縮を最小にするように形作られる、請求項３又は４に記載のシールディスク・アセンブリ。
6. 前記ディスク筐体の前記座部の前記凹弓形輪郭は、ロックアップ中に前記シールディスクを均一に圧縮するように形作られる、請求項３乃至５のいずれか１項に記載のシールディスク・アセンブリ。
7. 弁体および流れ制御部材を含む流れ制御弁内のシールディスク・アセンブリであって、
   座部を有し、該座部は前記流れ制御部材である制御要素の端面内に配置された溝を備えたディスク筐体と、
   前記ディスク筐体に装着されたシールディスクであって、前記シールディスクは装着部およびシール面を有する、シールディスクと、
   前記流れ制御部材の閉位置において前記シールディスクを圧縮するように配置された弁座とを備え、
   前記ディスク筐体の前記座部は凹弓形輪郭を有し、前記凹弓形輪郭は、第１の傾斜壁および第２の傾斜壁を含む逆Ｖ形輪郭であり、前記シールディスクの前記装着部は、前記ディスク筐体の前記座部内に配置された輪郭を有し、前記弁座は前記シールディスクを前記装着部の前記輪郭に亘って均一に圧縮する、シールディスク・アセンブリ。
8. 前記シールディスクの前記装着部の前記輪郭は、前記ディスク筐体の前記座部の前記凹弓形輪郭に補完する、請求項７に記載のシールディスク・アセンブリ。
9. 前記シールディスクは前記流れ制御部材によって担われる、請求項７又は８に記載のシールディスク・アセンブリ。
10. 前記流れ制御部材は流体レギュレータの一部であり、前記弁体はレギュレータ本体であり、前記弁座は開口部によって画定される、請求項７乃至９のいずれか１項に記載のシールディスク・アセンブリ。

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