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JP6637764B2 - Method for manufacturing structure having microchannel - Google Patents
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Description

本発明のいくつかの態様は、バイオチップ及びマイクロチップ等の生体試料の分析等に好適な構造体等に関する。   Some aspects of the present invention relate to a structure or the like suitable for analysis of a biological sample such as a biochip and a microchip.

近年、試料の分析並びに物質の分離及び精製等に利用する素子として、微量な試料でも分析又は分離が可能なマイクロチップ及びバイオチップに対する期待が高まっている。しかしながら、バイオチップに安定的に分析又は分離を行うための表面構造や親和性等を付与する方法は皆無に等しい状況であった。   2. Description of the Related Art In recent years, expectations for microchips and biochips capable of analyzing or separating even a small amount of sample have been increasing as elements used for sample analysis and separation and purification of substances. However, there has been almost no method for imparting a surface structure, affinity, or the like for stable analysis or separation to a biochip.

例えば、特に雰囲気を選ばずガンマ線やプラズマ処理を行うことにより、生理活性物質の固定に適した表面を形成することが記載されている(特許文献1参照)。しかしながら、このような方法では製品として安定した表面を維持できないという問題がある。   For example, it is described that a surface suitable for immobilizing a physiologically active substance is formed by performing gamma ray or plasma treatment regardless of the atmosphere (see Patent Document 1). However, such a method has a problem that a stable surface cannot be maintained as a product.

特開2006−132943号公報JP 2006-132943 A

本発明のいくつかの態様は、このような事情に鑑み、バイオチップ及びマイクロチップ等の生体試料の分析等に好適な構造体の製造方法を提供することを課題とする。   In view of such circumstances, it is an object of some aspects of the present invention to provide a method for manufacturing a structure suitable for analysis of a biological sample such as a biochip and a microchip.

本発明に係る構造体の製造方法は、第1の面と第2の面とを備えた第1の基体を準備する第1の工程と、前記第1の面の少なくとも一部に組成物を配置する第2の工程と、前記組成物の少なくとも一部にエネルギーを付与することにより前記組成物の第1の部分を硬化させて硬化物を形成する第3の工程と、を含み、前記第3の工程の終了後、前記組成物の前記第1の部分以外の部分の少なくとも一部である第2の部分は、除去可能な状態となっていることを特徴とする。   The method for manufacturing a structure according to the present invention includes a first step of preparing a first base having a first surface and a second surface, and a step of applying a composition to at least a part of the first surface. A second step of disposing, and a third step of curing a first portion of the composition by applying energy to at least a part of the composition to form a cured product, After the completion of the step 3, at least a second portion of the composition other than the first portion is in a removable state.

本発明に係る製品の製造方法は、第1の面と第2の面とを備えた第1の基体を準備する第1の工程と、前記第1の面の少なくとも一部に組成物を配置する第2の工程と、前記組成物にエネルギーを付与することにより前記組成物の第1の部分を硬化させて硬化物を形成する第3の工程と、を含み、前記第3の工程を、前記第1の基体及び前記組成物が包装するための包装資材により包装された状態で行い、前記第3の工程の終了後、前記組成物の前記第1の部分以外の部分の少なくとも一部である第2の部分は、除去可能な状態となっていることを特徴とする。   The method for manufacturing a product according to the present invention includes a first step of preparing a first substrate having a first surface and a second surface, and disposing a composition on at least a part of the first surface. And a third step of curing the first portion of the composition by applying energy to the composition to form a cured product, wherein the third step comprises: Performed in a state where the first substrate and the composition are packaged with packaging materials for packaging, and after the third step, at least a part of the composition other than the first part. A certain second portion is characterized in that it can be removed.

本発明に係る構造体は、第1の面と第2の面とを備えた第1の基体と、前記第1の面の第1の領域に配置された第1の有機物と、を含み、前記第1の領域の表面と、前記第1の面の前記第1の領域以外の領域の一つである第2の領域の表面と、は、共に第2の有機物で構成され、前記第2の領域の表面の第1の液体に対する親液性は、前記第1の有機物の前記第1の液体に対する親液性とは異なっており、前記第1の領域の表面の前記第1の液体に対する親液性は、前記第2の領域の表面の前記第1の液体に対する親液性とは実質的に同一であること、を特徴とする。   A structure according to the present invention includes: a first base having a first surface and a second surface; and a first organic substance disposed in a first region of the first surface. The surface of the first region and the surface of the second region which is one of the regions other than the first region on the first surface are both made of a second organic material, The lyophilicity of the surface of the first region with respect to the first liquid is different from the lyophilicity of the first organic substance with respect to the first liquid, and the lyophilicity of the surface of the first region with respect to the first liquid. The lyophilicity of the second region is substantially the same as the lyophilicity of the surface of the second region with respect to the first liquid.

本発明に係るフォルダは、上記の構造体を固定することができる。上記フォルダは上記の構造体を複数固定あるいは保持することができる。   The folder according to the present invention can fix the above structure. The folder can fix or hold a plurality of the above structures.

本発明に係る成形物は、上記の構造体を製造するために用いる前記第1の基体である。   The molded article according to the present invention is the first base used for manufacturing the above-mentioned structure.

本発明に係る生体試料の精製方法は、前記生体試料を準備する第1の工程と、上記の構造体の少なくとも一部に前記生体試料を接触させる第2の工程と、を含むことを特徴とする。   The method for purifying a biological sample according to the present invention includes a first step of preparing the biological sample, and a second step of bringing the biological sample into contact with at least a part of the structure. I do.

本発明に係る検査装置は、上記の構造体を用いることを特徴とする。   An inspection apparatus according to the present invention uses the above structure.

本発明に係る化合物は、下記一般式(1)で表される第1のユニットと、下記一般式(2)で表される第2のユニットと、下記一般式(3)で表される第3のユニットと、を含み、前記第1のユニット、前記第2のユニット、及び前記第3のユニットは、互いに異なる構造を有すること、を特徴とする。   The compound according to the present invention includes a first unit represented by the following general formula (1), a second unit represented by the following general formula (2), and a second unit represented by the following general formula (3). And the first unit, the second unit, and the third unit have different structures from each other.

Figure 0006637764
(一般式(1)中、置換基A及びBの各々は炭素を含む2価の置換基であり、置換基Cは炭素を含む1価の基であり、R1は水素原子又は有機基であり、w、a、及びbは自然数である。)
Figure 0006637764
(In the general formula (1), each of the substituents A and B is a divalent substituent containing carbon, the substituent C is a monovalent group containing carbon, and R 1 is a hydrogen atom or an organic group. And w, a, and b are natural numbers.)

Figure 0006637764
(一般式(2)中、置換基D及びEの各々は炭素を含む2価の置換基であり、置換基Fは重合性基を有する1価の置換基であり、R2は水素原子又は有機基であり、x、d及びeは自然数である。)
Figure 0006637764
(In the general formula (2), each of the substituents D and E is a divalent substituent containing carbon, the substituent F is a monovalent substituent having a polymerizable group, and R 2 is a hydrogen atom or It is an organic group, and x, d and e are natural numbers.)

Figure 0006637764
(一般式(3)中、置換基G及びHの各々は炭素を含む2価の置換基であり、置換基Iは官能基を有する1価の置換基であり、R3は水素原子又は有機基であり、y、g及びhは自然数である。)
Figure 0006637764
(In the general formula (3), each of the substituents G and H is a divalent substituent containing carbon, the substituent I is a monovalent substituent having a functional group, and R 3 is a hydrogen atom or an organic And y, g and h are natural numbers.)

マイクロ流路を有する構造体の製造工程を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing process of the structure which has a microchannel. 分取チップの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of a sorting chip. 図2に示した分取チップの製造工程を説明する図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a manufacturing process of the sorting chip shown in FIG. マイクロ流路を有する構造体を用いて構成した分取装置である。This is a sorting apparatus configured using a structure having a microchannel. マイクロ流路を有する構造体を用いて構成した分取装置であって、図4の分取装置とは異なる構成のものである。This is a sorting apparatus configured using a structure having a microchannel, and has a configuration different from that of the sorting apparatus in FIG. 複数のマイクロ流路を有する構造体を積層しフォルダ内に配置した際の図である。FIG. 3 is a diagram when a structure having a plurality of microchannels is stacked and arranged in a folder. 積層した複数のマイクロ流路を有する構造体を用いた検査装置である。This is an inspection apparatus using a structure having a plurality of stacked microchannels. 包装資材中でマイクロ流路を有する構造体の製造工程の一部を行う場合について説明する図である。It is a figure explaining the case where a part of manufacturing process of a structure which has a microchannel in a packaging material is performed.

本発明に係る構造体の製造方法は、第1の面と第2の面とを備えた第1の基体を準備する第1の工程と、前記第1の面の少なくとも一部に組成物を配置する第2の工程と、前記組成物の少なくとも一部にエネルギーを付与することにより前記組成物の第1の部分を硬化させて硬化物を形成する第3の工程と、を含み、前記第3の工程の終了後、前記組成物の前記第1の部分以外の部分の少なくとも一部である第2の部分は、除去可能な状態となっていることを特徴とする。   The method for manufacturing a structure according to the present invention includes a first step of preparing a first base having a first surface and a second surface, and a step of applying a composition to at least a part of the first surface. A second step of disposing, and a third step of curing a first portion of the composition by applying energy to at least a part of the composition to form a cured product, After the completion of the step 3, at least a second portion of the composition other than the first portion is in a removable state.

上記の構造体の製造方法により、表面の状態が部分的に異なる構造体を製造することが可能となる。なお、上記の構造体の製造方法において、「除去可能な状態」は、例えば、上記第1の部分と第2の部分とで、組成物の硬化状態を変化させること等で達成できる。具体的には、例えば、第1の領域と第2の領域とで酸素濃度等の硬化条件を調整することにより、前記組成物全体に対して前記エネルギーを付与したとしても、第2の部分となる一部(第2の領域)を未反応又は未硬化な状態にすることにより達成することができる。あるいは、「除去可能な状態」は、マスク等を介して前記組成物の所望の部分(第1の領域)にのみ前記エネルギーを付与することによっても達成できる。また、「組成物」は単一の化合物から構成されていてもよいし、複数の化合物から構成されていてもよい。   According to the method for manufacturing a structure described above, it is possible to manufacture a structure having a partially different surface state. In the structure manufacturing method, the “removable state” can be achieved, for example, by changing the cured state of the composition between the first portion and the second portion. Specifically, for example, by adjusting the curing conditions such as the oxygen concentration between the first region and the second region, even if the energy is applied to the entire composition, This can be achieved by setting a part (second region) in an unreacted or uncured state. Alternatively, the “removable state” can also be achieved by applying the energy only to a desired portion (first region) of the composition via a mask or the like. Further, the “composition” may be composed of a single compound, or may be composed of a plurality of compounds.

また、第2の部分を「除去」する方法としては、ウェットエッチング、ドライエッチング、アッシング及びYAGレーザー等が挙げられる。   Examples of a method for “removing” the second portion include wet etching, dry etching, ashing, and a YAG laser.

上記の製造方法において、前記第1の部分は、前記第1の面の第1の領域に形成され、前記第2の部分は、前記第1の面の第2の領域に形成され、前記硬化物の第1の液体に対する親液性は、前記第2の領域の前記第1の液体に対する親液性と異なっていることが好ましい。このようにすることにより、所望の液体に対する親和性の異なる複数の領域を有する構造体を製造することができる。   In the above manufacturing method, the first portion is formed in a first region of the first surface, and the second portion is formed in a second region of the first surface. It is preferable that the lyophilic property of the object with respect to the first liquid is different from the lyophilic property of the second region with respect to the first liquid. In this manner, a structure having a plurality of regions having different affinities for a desired liquid can be manufactured.

上記態様とするには、例えば、上記第1の領域と第2の領域とで、表面を構成する材質、物性及び表面形状等の少なくともいずれかを異ならせることで達成できる。   The above aspect can be achieved, for example, by changing at least one of the material constituting the surface, the physical properties, the surface shape, and the like between the first region and the second region.

上記の構造体の製造方法において、前記第2の領域の表面は有機物で構成されていることが好ましい。このようにすることにより、例えば有機物は、無機物に比べて極性や特定の液体や分子に対する親和性を容易に調整することができるため、所望の表面物性を得られ易い。   In the above structure manufacturing method, the surface of the second region is preferably made of an organic material. By doing so, for example, an organic substance can easily adjust the polarity and affinity for a specific liquid or molecule as compared with an inorganic substance, so that desired surface properties can be easily obtained.

上記の構造体の製造方法において、前記第1の工程は、基板の少なくとも一部に有機物を配置又は形成することにより、前記第2の領域を形成する第1の副工程を含むことが好ましい。このようにすることにより、例えば有機物は、無機物に比べて極性や特定の液体や分子に対する親和性を容易に調整することができるため、所望の表面物性を得られ易い。   In the above method of manufacturing a structure, the first step preferably includes a first sub-step of forming or forming the second region by arranging or forming an organic substance on at least a part of a substrate. By doing so, for example, an organic substance can easily adjust the polarity and affinity for a specific liquid or molecule as compared with an inorganic substance, so that desired surface properties can be easily obtained.

「有機物を配置又は形成する」とは、具体的には、例えば、有機物としての組成物の塗布膜又は吸着被膜を配置したり形成したりすること等が挙げられる。   The term “arrange or form an organic substance” specifically includes, for example, arranging or forming a coating film or an adsorption film of a composition as an organic substance.

上記の構造体の製造方法において、更に、前記第3の工程の前に第2の基体を準備する第5の工程を含み、前記第3の工程における前記組成物に対する前記エネルギーの付与を行う期間の少なくとも一部において、前記第1の部分の少なくとも一部が前記第2の基体の少なくとも一部に接するようにすることが好ましい。このようにすることにより、例えば前記組成物の前記第2の基体に接している部分と接していない部分との間で酸素の影響の程度を変えられるので、反応の進行や硬化度に差を生じさせることができる。   The method for manufacturing a structure described above further includes a fifth step of preparing a second base before the third step, and a period during which the energy is applied to the composition in the third step. It is preferable that at least a part of the first part be in contact with at least a part of the second base. By doing so, for example, the degree of the effect of oxygen can be changed between the portion of the composition that is in contact with the second substrate and the portion that is not in contact with the second substrate, so that there is a difference in the progress of the reaction and the degree of curing. Can be caused.

上記の構造体の製造方法において、更に、前記第2の部分を除去する第4の工程を含むようにしてもよい。このようにすることにより、例えば、領域や場所に応じて、具体的には第1の部分と第2の部分とで親液性や親和性等を変えることができる。   In the method of manufacturing a structure described above, a fourth step of removing the second portion may be further included. By doing so, for example, the lyophilicity, affinity, and the like can be changed between the first portion and the second portion, specifically, depending on the region or location.

上記の構造体の製造方法において、前記第1の領域における前記第1の面と前記第2の面との距離である第1の距離は、前記第2の領域における前記第1の面と前記第2の面との距離である第2の距離と異なっていることが好ましい。このような構成の例としては、例えば、前記第1の面及び前記第2の面のいずれかに凹凸パターンや溝等を形成した構成等が挙げられる。   In the method for manufacturing a structure described above, a first distance that is a distance between the first surface and the second surface in the first region is equal to a distance between the first surface and the second surface in the second region. It is preferable that the distance is different from the second distance which is the distance to the second surface. As an example of such a configuration, for example, a configuration in which a concavo-convex pattern, a groove, or the like is formed on any one of the first surface and the second surface is given.

上記の構造体の製造方法において、前記第1の距離は、前記第2の距離より大であることが好ましい。このような構成の例としては、例えば、前記第2の領域を凹凸パターンの凹部あるいは溝とする構成等が挙げられる。このような構成において凹部あるいは溝を、試料の成分を配置又は捕捉のために利用することができる。また、溝を液体あるいは気体の流路としても利用することができる。   In the method for manufacturing a structure described above, it is preferable that the first distance is larger than the second distance. As an example of such a configuration, for example, there is a configuration in which the second region is formed as a concave portion or a groove of a concave-convex pattern. In such a configuration, the recesses or grooves can be used for locating or capturing the components of the sample. Further, the groove can be used as a liquid or gas flow path.

本発明に係る製品の製造方法は、第1の面と第2の面とを備えた第1の基体を準備する第1の工程と、前記第1の面の少なくとも一部に組成物を配置する第2の工程と、前記組成物にエネルギーを付与することにより前記組成物の第1の部分を硬化させて硬化物を形成する第3の工程と、を含み、前記第3の工程を、前記第1の基体及び前記組成物が包装するための包装資材により包装された状態で行い、前記第3の工程の終了後、前記組成物の前記第1の部分以外の部分の少なくとも一部である第2の部分は、除去可能な状態となっていることを特徴とする。このように、前記組成物に対するエネルギーの付与を包装された状態で行うことで、例えば、雰囲気の制御が可能となり、前記組成物の硬化反応の条件の調整が容易となる。また、例えば、前記組成物にエネルギーを付与する際に併せて上記製品の滅菌処理等を行うことが可能であり、上記製品を生体試料の検査や分離に用いる際に特に有利となる。   The method for manufacturing a product according to the present invention includes a first step of preparing a first substrate having a first surface and a second surface, and disposing a composition on at least a part of the first surface. And a third step of curing the first portion of the composition by applying energy to the composition to form a cured product, wherein the third step comprises: Performed in a state where the first substrate and the composition are packaged with packaging materials for packaging, and after the third step, at least a part of the composition other than the first part. A certain second portion is characterized in that it can be removed. In this way, by applying energy to the composition in a packaged state, for example, the atmosphere can be controlled, and the conditions for the curing reaction of the composition can be easily adjusted. Further, for example, it is possible to sterilize the above product together with applying energy to the composition, which is particularly advantageous when the above product is used for inspection or separation of a biological sample.

上記の製品の製造方法において、前記第2の部分は、第2の液体を用いることにより、除去可能であることが好ましい。このようにすることにより、例えば、包装を開封後、液体を用いた前処理の工程を利用して、前記第2の部分を除去することが可能となるため、工程数を削減することができる。   In the above method for manufacturing a product, it is preferable that the second portion can be removed by using a second liquid. By doing so, for example, after opening the package, it is possible to remove the second portion by using a pretreatment step using a liquid, so that the number of steps can be reduced. .

上記の製品の製造方法において、前記エネルギーは、電磁波を用いて前記組成物に付与されることが好ましい。電磁波の代表的なものは包装資材を透過する性質を有しているため、例えば、包装後であって前記組成物にエネルギーを付与することができる。   In the above-described method for producing a product, it is preferable that the energy be applied to the composition using an electromagnetic wave. Since a typical electromagnetic wave has a property of transmitting through a packaging material, for example, energy can be applied to the composition after packaging.

上記の製造方法において、前記電磁波は、ガンマ線又はエックス線であることが好ましい。このようにすることにより、例えば、エネルギーを付与すると同時に滅菌することが可能となる。   In the above manufacturing method, the electromagnetic wave is preferably a gamma ray or an X-ray. By doing so, for example, it becomes possible to sterilize while applying energy.

本発明に係る構造体は、第1の面と第2の面とを備えた第1の基体と、前記第1の面の第1の領域に配置された第1の有機物と、を含み、前記第1の領域の表面と、前記第1の面の前記第1の領域以外の領域の一つである第2の領域の表面と、は、共に第2の有機物で構成され、前記第2の領域の表面の第1の液体に対する親液性は、前記第1の有機物の前記第1の液体に対する親液性とは異なっており、前記第1の領域の表面の前記第1の液体に対する親液性は、前記第2の領域の表面の前記第1の液体に対する親液性とは実質的に同一であること、を特徴とする。   A structure according to the present invention includes: a first base having a first surface and a second surface; and a first organic substance disposed in a first region of the first surface. The surface of the first region and the surface of the second region which is one of the regions other than the first region on the first surface are both made of a second organic material, The lyophilicity of the surface of the first region with respect to the first liquid is different from the lyophilicity of the first organic substance with respect to the first liquid, and the lyophilicity of the surface of the first region with respect to the first liquid. The lyophilicity of the second region is substantially the same as the lyophilicity of the surface of the second region with respect to the first liquid.

上記態様である構造体として具体的には例えば、第1の基体自体が第2の有機物で構成されるか又は任意の材質からなる第1の基体において第1の領域の表面と第2の領域の表面との上に第2の有機物からなる層等が形成され、且つ、前記第1の面の第1の領域に第1の有機物が配置される構成が挙げられる。いずれの構成においても、第1の有機物は、第2の有機物の第1の液体に対する親液性とは異なる親液性を有する材質からなることが好ましい。   Specifically, as the structure in the above aspect, for example, the surface of the first region and the second region in the first substrate in which the first substrate itself is made of the second organic substance or made of an arbitrary material A layer made of a second organic substance is formed on the surface of the first surface, and the first organic substance is disposed in a first region of the first surface. In any configuration, the first organic substance is preferably made of a material having a lyophilic property different from that of the second organic substance with respect to the first liquid.

上記の構造体において、前記構造体は生体試料に含まれる第1の成分の分離又は精製を行うために用いられ、前記分離又は精製を行う際に、前記第1の成分は、前記第1の有機物の上に比べ、前記第2の領域の上における存在密度が高くなることが好ましい。   In the above structure, the structure is used for separating or purifying a first component contained in a biological sample, and when performing the separation or purification, the first component is used for the first component. It is preferable that the existence density on the second region is higher than that on the organic material.

上記態様とするには、生体試料は水系溶媒の場合が多いため、構造体において、前記第2の領域の表面の上記第1の成分に対する親和性を、前記第1の有機物の第1の成分に対する親和性とは異なるようにすればよい。より具体的には、第2の領域の表面の第1の成分に対する親和性が第1の有機物の第1成分に対する親和性に比べて高くなるように、すなわち水との親和性を向上させるようにすればよい。   In the above aspect, since the biological sample is often an aqueous solvent, the affinity of the surface of the second region for the first component in the structure is determined by the first component of the first organic substance. It may be different from the affinity for. More specifically, the affinity of the surface of the second region for the first component is higher than the affinity of the first organic substance for the first component, that is, the affinity for water is improved. What should I do?

本発明に係るフォルダは、上記の構造体を固定することができる。上記フォルダは上記の構造体を複数固定あるいは保持することができる。   The folder according to the present invention can fix the above structure. The folder can fix or hold a plurality of the above structures.

本発明に係る成形物は、上記の構造体を製造するために用いる前記第1の基体である。上記の成形物は、例えば、エッチング、射出成形、切削工程等によって形成してもよい。   The molded article according to the present invention is the first base used for manufacturing the above-mentioned structure. The molded product may be formed by, for example, etching, injection molding, a cutting process, or the like.

本発明に係る生体試料の精製方法は、前記生体試料を準備する第1の工程と、上記の構造体の少なくとも一部に前記生体試料を接触させる第2の工程と、を含むことを特徴とする。構造体の少なくとも一部に生体試料を接触させる方法としては、例えば加圧力、吸引力、遠心力又は毛細血管力を利用した、溝構造等へ生体試料を含む液を通液する方法等が挙げられる。   The method for purifying a biological sample according to the present invention includes a first step of preparing the biological sample, and a second step of bringing the biological sample into contact with at least a part of the structure. I do. Examples of a method of bringing a biological sample into contact with at least a part of the structure include, for example, a method of passing a liquid containing the biological sample through a groove structure or the like using a pressing force, a suction force, a centrifugal force, or a capillary force. Can be

本発明に係る検査装置は、上記の構造体を用いることを特徴とする。   An inspection apparatus according to the present invention uses the above structure.

本発明に係る第2の構造体の製造方法は、第1の面と第2の面とを有する第1の基体及び第3の面と第4の面とを備えた第2の基体を準備する第1の工程と、前記第1の面及び前記第3の面の少なくともいずれかの少なくとも一部に組成物を配置する第2の工程と、前記組成物を前記第1の面の第1の領域と前記第3の面の第3の領域とに接した状態で前記組成物にエネルギーを付与することにより前記組成物を硬化させる第3の工程と、を含むことを特徴とする。このようにすることにより、例えば、前記組成物の硬化させる条件を局所的に変えることができる。   In the method for manufacturing a second structure according to the present invention, a first base having a first surface and a second surface and a second base having a third surface and a fourth surface are prepared. A first step of disposing a composition on at least a part of at least one of the first surface and the third surface; and a first step of disposing the composition on the first surface of the first surface. And applying a energy to the composition in a state of being in contact with the region of the third surface and the third region of the third surface, thereby curing the composition. By doing so, for example, the conditions for curing the composition can be locally changed.

上記の構造体の製造方法の前記第3の工程において、前記組成物のうち前記第1の領域及び前記第3の領域の双方に接している第1の部分と、前記第2の領域及び前記第3の領域のいずれか一方のみとしか接していない第2の部分と、では硬化の程度を異ならせることができる。ここで、前記第3の工程を前記組成物として酸素等によって硬化の速度が低下するものを用いて、大気下等の酸素が存在する雰囲気中で実施すれば、前記組成物の前記第1の部分に比べて前記第2の部分の硬化を遅らせることができる。そのため、前記エネルギーを付与する時間を適宜調整すれば、前記第2の部分を溶媒による洗浄や減圧留去等を利用して除去することが可能となる。一方、前記組成物として、その硬化によって接着機能を発現するものを用いれば、前記第3の工程により、前記第1の基体と前記第2の基体とは、硬化した前記第1の部分を介して接着されることになるため、より好ましい。   In the third step of the method for manufacturing a structure, a first portion of the composition that is in contact with both the first region and the third region; The degree of hardening can be made different from the second portion which is in contact with only one of the third regions. Here, if the third step is performed in an atmosphere in which oxygen is present, such as under air, using the composition whose curing speed is reduced by oxygen or the like, the first process of the composition is performed. The curing of the second portion can be delayed as compared to the portion. Therefore, if the time for applying the energy is appropriately adjusted, the second portion can be removed by washing with a solvent, distillation under reduced pressure, or the like. On the other hand, if a composition that exhibits an adhesive function by its curing is used as the composition, the third step allows the first substrate and the second substrate to intervene via the cured first portion. It is more preferable because it is adhered.

前記第2の領域及び前記第3の領域のいずれか一方のみとしか接していない第2の部分とするには、第2の部分が第2の領域及び前記第3の領域のいずれか一方とのみ接するように、どちらかの領域に凹部を形成するか、又は、前記第1の領域の組成物の塗膜をスクリーン印刷等を用いて厚く塗布を行う等とする方法が挙げられる。   In order to have a second portion that is in contact only with either one of the second region and the third region, the second portion must be in contact with one of the second region and the third region. A method in which a concave portion is formed in one of the regions so as to make contact with only the first region, or a method in which a coating film of the composition in the first region is thickly applied by screen printing or the like is given.

上記の本発明に係る第2の構造体の製造方法において、前記第1の面に凹凸部又は溝部を有するパターンを有していてもよい。例えば、前記第3の工程を実施する際に前記第1の面と前記第2の面との距離を適宜設定することにより、前記第2の工程を行った際に前記凹凸部の凹部又は前記溝部に配置された前記組成物は、前記第2の基体に接しないようにすることができるため、前記凹部又は前記溝部に配置された前記組成物を未硬化の状態とすることが可能である。未硬化の前記組成物を除去し、前記凹部又は前記溝部を利用して流路を形成することが可能である。ここで、前記組成物として、その硬化により所定の液体に対する所定のレベルの親和性を有するものを選択すれば、例えば、前記組成物が硬化した硬化物を前記流路の側方に位置するようにすることができる。すなわち、流路に流す液体が親水性の場合は組成物としてその硬化により疎水性となるものを選択し、流路に流す液体が疎水性の場合は組成物としてその硬化により親水性となるものを選択する。それにより、前記流路を流れる試料や液体の前記流路からの浸透を抑制し、あるいは、表面張力等、前記流路内の液体と前記流路の内表面との間に働く力を調整することが可能となるため、前記流路内における泡の発生を抑制することが可能となる。また、前記組成物として、その硬化により所定の物質が浸透するようなものを選択すれば、前記流路に所望の試料を優先して流すことも可能となる。   In the above-mentioned method for manufacturing a second structure according to the present invention, the first surface may have a pattern having an uneven portion or a groove. For example, by appropriately setting the distance between the first surface and the second surface when performing the third step, the concave portion or the concave portion of the uneven portion when performing the second step Since the composition disposed in the groove can be prevented from contacting the second base, the composition disposed in the recess or the groove can be in an uncured state. . It is possible to remove the uncured composition and form a flow path using the recess or the groove. Here, if the composition is selected to have a predetermined level of affinity for a predetermined liquid due to its curing, for example, the cured product of the composition may be located on the side of the flow path. Can be In other words, if the liquid flowing through the flow path is hydrophilic, select a composition that becomes hydrophobic by its curing, and if the liquid flowing through the flow path is hydrophobic, select a composition that becomes hydrophilic by its curing. Select Thereby, the penetration of the sample or the liquid flowing through the flow path from the flow path is suppressed, or the force acting between the liquid in the flow path and the inner surface of the flow path, such as surface tension, is adjusted. Therefore, the generation of bubbles in the flow channel can be suppressed. In addition, if the composition is selected so that a predetermined substance permeates by curing, a desired sample can be preferentially flown through the flow channel.

血液中の成分や血球等の生体物質の分析のために、上記の構造体の製造方法により製造された構造体を使用する場合は、前記組成物として、その硬化によって水に対する接触角が60°以上のものを用いても良い。この際に前記組成物として水を含む溶媒で除去可能な親水性のものを用いれば、前記組成物が硬化することにより形成された硬化物の親水性は低いために、前記硬化物の溶媒による損傷を抑制できると同時に未硬化の前記組成物の除去が容易となるという利点を有することになる。   In the case of using a structure manufactured by the above-described method for manufacturing a structure for analyzing biological components such as blood components or blood cells, the composition has a contact angle to water of 60 ° due to its curing. The above may be used. At this time, if a hydrophilic material that can be removed with a solvent containing water is used as the composition, the hydrophilicity of a cured product formed by curing the composition is low. This has the advantage that damage can be suppressed and the uncured composition is easily removed.

本発明に係る化合物は、少なくとも下記一般式(1)で表される第1のユニットと、下記一般式(2)で表される第2のユニットと、下記一般式(3)で表される第3のユニットとを含み、これらのユニットは互いに異なる構造を有している。   The compound according to the present invention has at least a first unit represented by the following general formula (1), a second unit represented by the following general formula (2), and a compound represented by the following general formula (3) And a third unit, and these units have different structures from each other.

Figure 0006637764
Figure 0006637764

なお、第1〜第3のユニットの各々は、必ずしも、連続して接続されブロック化していなくても良いが、用途や接触する基板との親和性に応じてブロック化しても良い。   Note that each of the first to third units does not necessarily have to be connected and blocked in a continuous manner, but may be blocked in accordance with the application or affinity with the substrate to be contacted.

上記の第1〜第3のユニットのw、x、及びyは自然数である。例えば、相分離構造を作製するには、所望の相分離構造に応じて第1〜第3のユニットにおいてw、x、及びyの数を適宜設定すれば良い。上記の化合物において、置換基A,B,C,D,E,F、G,及びHは、炭素を含む置換基である。置換基A,B,D,E,G,及びHは、炭素を含む2価の置換基であることが好ましく、置換基C及びFは炭素を含む1価の置換基であり、Iは官能基を有する1価の置換基であることが好ましい。置換基A,B,C,D,E,F、G,H、及びIのうちC、F、及びIは、それぞれ親水性が互いに異なっていることが好ましい。これにより例えば、一分子内の中で他の分子に対して親和性の異なる部位を付与することができる。   W, x, and y of the above-mentioned first to third units are natural numbers. For example, in order to manufacture a phase separation structure, the numbers of w, x, and y in the first to third units may be appropriately set according to a desired phase separation structure. In the above compounds, the substituents A, B, C, D, E, F, G, and H are carbon-containing substituents. The substituents A, B, D, E, G, and H are preferably divalent substituents containing carbon, the substituents C and F are monovalent substituents containing carbon, and I is a functional group. It is preferably a monovalent substituent having a group. It is preferable that among the substituents A, B, C, D, E, F, G, H, and I, C, F, and I have different hydrophilicities from each other. Thereby, for example, a site having a different affinity for another molecule in one molecule can be provided.

上記の化合物は、さらに上記3種類のユニットに加えて、下記で表される第4のユニットを有することが好ましい。   The above compound preferably has a fourth unit represented by the following in addition to the above three types of units.

Figure 0006637764
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上記の化合物において、置換基J、K、及びLは炭素を含む置換基である。置換基J及びKは炭素を含む2価の置換基であり、置換基Lは炭素を含む1価の置換基であることが好ましい。第4のユニットは、上記の第1〜第3のユニットのいずれとも異なる構造を有していることが好ましい。   In the above compounds, the substituents J, K, and L are carbon-containing substituents. Preferably, the substituents J and K are divalent substituents containing carbon, and the substituent L is a monovalent substituent containing carbon. It is preferable that the fourth unit has a structure different from any of the above-described first to third units.

上記の化合物において、zは自然数である。
上記の化合物において、a、b、d、e、g及びhは自然数である。
In the above compound, z is a natural number.
In the above compounds, a, b, d, e, g and h are natural numbers.

上記の化合物において、置換基Fは重合性基を有することが好ましい。置換基Fが重合性基を有することにより、上記の化合物をさらに重合させることができる。これにより、例えば、より安定した膜を作製することができる。   In the above compounds, the substituent F preferably has a polymerizable group. When the substituent F has a polymerizable group, the above compound can be further polymerized. Thereby, for example, a more stable film can be manufactured.

上記の化合物において、置換基Iにおける官能基は、ヒドロキシ基、アミノ基、ケイ素基、カルボキシ基等のように他の分子との反応性を有し、あるいは、他の置換基に変換することができるものであることが好ましい。これにより、例えば、上記の化合物を基板に塗布後さらに反応させることができる。
なお、ケイ素基については、後述する。
In the above compound, the functional group in the substituent I has a reactivity with another molecule such as a hydroxy group, an amino group, a silicon group, a carboxy group, or can be converted to another substituent. It is preferable that it is possible. Thus, for example, the above compound can be further reacted after being applied to the substrate.
The silicon group will be described later.

上記の化合物において、置換基A、置換基D、及び置換基Gは、下記の一般式(5)で表される2価の置換基であることが好ましい。置換基A、置換基D、及び置換基Gが、下記の一般式(5)であるとき、上記一般式(1)、一般式(2)及び一般式(3)中のa、d及びgは、それぞれ1であることが好ましい。置換基A、置換基D、及び置換基Gは、下記の一般式(5)で表される2価の置換基以外に、−CONH−等であってもよい。   In the above compound, the substituent A, the substituent D, and the substituent G are preferably a divalent substituent represented by the following general formula (5). When the substituent A, the substituent D and the substituent G are represented by the following general formula (5), a, d and g in the above general formulas (1), (2) and (3) Is preferably 1. The substituent A, the substituent D, and the substituent G may be -CONH- or the like in addition to the divalent substituent represented by the following general formula (5).

Figure 0006637764
Figure 0006637764

上記の化合物において、置換基B、置換基E、及び置換基Hは、下記の一般式(6)で表される2価の置換基であることが好ましい。置換基B、置換基E、及び置換基Hが、下記の一般式(6)であるとき、上記一般式(1)、一般式(2)及び一般式(3)中のb、e及びhは、それぞれ1〜100の整数であることが好ましい。置換基B、置換基E、及び置換基Hは、下記の一般式(6)で表される2価の置換基以外に、アルキレン基、ポリプロピレンオキシド基、又はポリブチレンオキシド基等であることも好ましい。   In the above compound, the substituent B, the substituent E, and the substituent H are preferably divalent substituents represented by the following general formula (6). When the substituent B, the substituent E, and the substituent H are represented by the following general formula (6), b, e, and h in the above general formulas (1), (2), and (3) Is preferably an integer of 1 to 100, respectively. The substituent B, the substituent E, and the substituent H may be an alkylene group, a polypropylene oxide group, a polybutylene oxide group, or the like in addition to the divalent substituent represented by the following general formula (6). preferable.

Figure 0006637764
Figure 0006637764

上記の化合物において、置換基Cは炭素原子3個以上を含む1価の置換基であることが好ましい。炭素数3以上の長鎖アルキル基であることがより好ましく、炭素数5〜20の長鎖アルキル基であることがさらに好ましく、炭素数5〜18の長鎖アルキル基であることが特に好ましい。置換基Cは、直鎖状アルキル基であっても分岐状アルキル基であってもよい。   In the above compounds, the substituent C is preferably a monovalent substituent containing 3 or more carbon atoms. It is more preferably a long-chain alkyl group having 3 or more carbon atoms, further preferably a long-chain alkyl group having 5 to 20 carbon atoms, and particularly preferably a long-chain alkyl group having 5 to 18 carbon atoms. The substituent C may be a linear alkyl group or a branched alkyl group.

上記一般式(2)で表される第2のユニットにおける置換基Fとして、重合性基を有する1価の置換基が好ましく挙げられる。置換基Fにおける重合性基として、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基及びエポキシ基等が好ましく挙げられ、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。置換基Fが重合性基そのものであってもよい。   The substituent F in the second unit represented by the general formula (2) is preferably a monovalent substituent having a polymerizable group. Preferred examples of the polymerizable group in the substituent F include a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, and an epoxy group, and a (meth) acryloyl group is more preferred. The substituent F may be the polymerizable group itself.

上記一般式(3)で表される第3のユニットにおける置換基Iにおける官能基として、ヒドロキシ基、アミノ基、ケイ素基及びカルボキシ基等が挙げられる。ケイ素基としては、トリアルキルシリル基、トリアリールシリル基及びトリアルコキシシリル基等が挙げられる。   Examples of the functional group in the substituent I in the third unit represented by the general formula (3) include a hydroxy group, an amino group, a silicon group, and a carboxy group. Examples of the silicon group include a trialkylsilyl group, a triarylsilyl group, and a trialkoxysilyl group.

置換基Iとしては、ヒドロキシエチル基、アミノメチル基、アミノエチル基、トリアルキルシリルエチル基、トリアリールシリルエチル基、トリアルコキシシリルエチル基及びカルボキシエチル基等が挙げられる。   Examples of the substituent I include a hydroxyethyl group, an aminomethyl group, an aminoethyl group, a trialkylsilylethyl group, a triarylsilylethyl group, a trialkoxysilylethyl group, and a carboxyethyl group.

上記一般式(4)で表される第4のユニットにおける置換基Jは、第1〜第3のユニットにおける置換基A、D及びGと同様の置換基が挙げられる。第4のユニットにおける置換基Kは、第1〜第3のユニットにおける置換基B、E及びHと同様の置換基が挙げられる。第4のユニットにおける置換基Lは、炭素原子2個以下を含む置換基であることが好ましい。置換基Lは、炭素数2以下のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましく、メチル基であることが特に好ましい。   Examples of the substituent J in the fourth unit represented by the general formula (4) include the same substituents as the substituents A, D, and G in the first to third units. As the substituent K in the fourth unit, the same substituents as the substituents B, E and H in the first to third units can be mentioned. The substituent L in the fourth unit is preferably a substituent containing 2 or less carbon atoms. The substituent L is more preferably an alkyl group having 2 or less carbon atoms, further preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.

R1、R2、R3及びR4の各々は、水素原子又は有機基である。有機基としては、メチル基及びエチル基等のアルキル基等が挙げられる。Each of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a hydrogen atom or an organic group. Examples of the organic group include an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group.

上記化合物は、上記第1のユニット、前記第2のユニット、及び前記第3のユニットを構成するための対応モノマーを用いて重合することにより得られる。   The compound is obtained by polymerizing using a corresponding monomer for constituting the first unit, the second unit, and the third unit.

上記第1のユニット、前記第2のユニット、及び前記第3のユニットを構成するためのモノマーは、ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートモノマーに由来するユニットであることがより好ましい。具体的には、上記第1〜第3のユニットの好ましい組み合わせとして下記が挙げられる。上記第1のユニットは、上記置換基Cとして炭素数3個以上の長鎖アルキル基を有するポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートに由来するユニットであることが好ましく、上記第2のユニットは、上記置換基Fとして上記重合性基を含む1価の置換基を有するポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートに由来するユニットであることが好ましい。上記第3のユニットは、上記置換基Iとして官能基を含む1価の置換基を有するポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートに由来するユニットであることが好ましい。また、任意のユニットである第4のユニットは、上記置換基Lとして炭素数2個以下で含む1価の炭化水素基を有するポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートに由来するユニットであることが好ましい。   It is more preferable that the monomer for constituting the first unit, the second unit, and the third unit is a unit derived from a polyalkylene glycol (meth) acrylate monomer. Specifically, preferred combinations of the first to third units include the following. The first unit is preferably a unit derived from a polyalkylene glycol (meth) acrylate having a long-chain alkyl group having 3 or more carbon atoms as the substituent C, and the second unit is preferably a substituted unit. The group F is preferably a unit derived from a polyalkylene glycol (meth) acrylate having a monovalent substituent containing the above polymerizable group. The third unit is preferably a unit derived from polyalkylene glycol (meth) acrylate having a monovalent substituent containing a functional group as the substituent I. The fourth unit, which is an arbitrary unit, is preferably a unit derived from polyalkylene glycol (meth) acrylate having a monovalent hydrocarbon group containing 2 or less carbon atoms as the substituent L.

各ユニットの含有割合は、目的とする物性により適宜調整すればよい。例えば、接触角を変化させたり、基板への塗布性を向上させたりする場合は、使用する基板の種類に応じて第1のユニット、第2のユニット及び第3のユニット、第4のユニットの化合物全体に対する含有量を最適に調整することができる。例えば、第1のユニット及び第2のユニットの含有量を増やすことにより、接触角の高い組成物となり疎水的なプラスチック基板との親和性を向上させることができる。より具体的には、疎水的なプラスチック基板との親和性を向上させるため、第1のユニットの含有量は、0.01〜50モル%が好ましく、1〜50モル%がより好ましく、1〜20モル%がさらに好ましい。   The content ratio of each unit may be appropriately adjusted depending on the desired physical properties. For example, when changing the contact angle or improving the applicability to the substrate, the first unit, the second unit, the third unit, and the fourth unit may be changed depending on the type of the substrate used. The content with respect to the whole compound can be adjusted optimally. For example, by increasing the content of the first unit and the second unit, a composition having a high contact angle can be obtained, and the affinity with a hydrophobic plastic substrate can be improved. More specifically, in order to improve the affinity with the hydrophobic plastic substrate, the content of the first unit is preferably 0.01 to 50 mol%, more preferably 1 to 50 mol%, and 1 to 50 mol%. 20 mol% is more preferred.

また、例えば第3のユニットを増やすことにより親水的な組成物となりガラス等の親水的な基板との親和性を向上させることができる。   Further, for example, by increasing the number of the third units, the composition becomes a hydrophilic composition and the affinity with a hydrophilic substrate such as glass can be improved.

第1のユニット以外の各ユニットの含有割合の好ましい範囲は下記のとおりである。第2のユニットの含有量は0.1〜50モル%が好ましい。第3のユニットの含有量は、3〜80モル%が好ましく、5〜50モル%がより好ましい。第4のユニットの含有量は0〜90モル%が好ましく、30〜90モル%がより好ましく、50〜90モル%がより好ましい。   The preferred range of the content ratio of each unit other than the first unit is as follows. The content of the second unit is preferably 0.1 to 50 mol%. The content of the third unit is preferably from 3 to 80 mol%, more preferably from 5 to 50 mol%. The content of the fourth unit is preferably 0 to 90 mol%, more preferably 30 to 90 mol%, and even more preferably 50 to 90 mol%.

本発明の化合物は、上記の各ユニットの含有量を適宜調整することで、接触角の調整、基板への塗布性及びタンパクに対する吸着性等を向上させることができる。   The compound of the present invention can improve the adjustment of the contact angle, the applicability to a substrate, the adsorbability to proteins, and the like by appropriately adjusting the content of each unit described above.

上記の組み合わせにおける化合物の重量平均分子量は、MW20000〜80000であることが好ましい。重量平均分子量を上記範囲とするには、重合条件を適宜調整すればよい。   The weight average molecular weight of the compound in the above combination is preferably MW 20,000 to 80,000. In order to make the weight average molecular weight fall within the above range, polymerization conditions may be appropriately adjusted.

なお、本発明において、重量平均分子量とはポリエチレングリコール換算で求めたものである。   In the present invention, the weight average molecular weight is obtained in terms of polyethylene glycol.

なお、本発明において「(メタ)アクリル」とは、アクリリル及び/又はメタクリルを意味し、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。   In the present invention, “(meth) acryl” means acrylyl and / or methacryl, and “(meth) acrylate” means acrylate and / or methacrylate.

本発明のいくつかの態様に係る材料及びプロセス等について、以下具体的に説明する。   Materials and processes according to some aspects of the present invention will be specifically described below.

(1)組成物の合成 (1) Synthesis of composition

本発明の構造体の製造方法で用いる組成物として、上記化合物が好適に用いられる。
本発明に係る典型的な組成物は、下記のPA、PM、及びPHを出発原料として用いて合成される。まず、PA、PM、及びPHに熱を加えることにより熱重合体を合成し、その後、当該重合体にAMを作用させてヒドロキシ基の少なくとも一部をメタクリロイル基に変換することにより得られる。当該組成物は、下記の一般式(7)乃至(10)のユニットを有する重合体である。下記の一般式(10)で表されるユニットは末端に重合性基を有するメタクリロイル基を有する。なお、PA、PM及びPHの各々についてm、o、及びpの数が異なる複数の原料を使用することもできる。
As the composition used in the method for producing a structure of the present invention, the above compound is suitably used.
A typical composition according to the present invention is synthesized using the following PA, PM and PH as starting materials. First, a thermal polymer is synthesized by applying heat to PA, PM, and PH, and then the polymer is obtained by applying AM to the polymer to convert at least a part of the hydroxy group to a methacryloyl group. The composition is a polymer having units of the following general formulas (7) to (10). The unit represented by the following general formula (10) has a methacryloyl group having a polymerizable group at a terminal. Note that a plurality of raw materials having different numbers of m, o, and p for each of PA, PM, and PH can be used.

Figure 0006637764
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上記のPA、PM、及びPHの構造式においてm、o、及びpは自然数であり、nは3以上の自然数を表す。上記m、o、及びpはそれぞれ自然数であり、1〜100の整数であることが好ましい。   In the above structural formulas of PA, PM, and PH, m, o, and p are natural numbers, and n represents a natural number of 3 or more. Each of m, o, and p is a natural number, and is preferably an integer of 1 to 100.

Figure 0006637764
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上記重合体は、公知の重合条件で行うことができる。また、各原料の配合割合は、目的とする物性により適宜調整すればよい。   The polymer can be produced under known polymerization conditions. The mixing ratio of each raw material may be appropriately adjusted depending on the desired physical properties.

第1のユニットを構成する対応モノマーとして、例えばPHを用いることができるが、官能基としてヒドロキシ基を有するモノマーの他、エポキシ基又はアミノ基等を有するモノマーを用いることができる。具体的には、グリシジル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アリルアミン、アミノ基を誘導可能なN−ホルムアミド等が挙げられる。   As the corresponding monomer constituting the first unit, for example, PH can be used. In addition to a monomer having a hydroxy group as a functional group, a monomer having an epoxy group, an amino group, or the like can be used. Specific examples include glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, allylamine, N-formamide capable of inducing an amino group, and the like.

第3のユニットは、上記したように例えば第2のユニットの官能基に対し、重合性基を有するモノマーを結合させて得ることができるが、該重合性基を有するモノマーとして、上記AHに替えて、2−イソシアナトエチルメタクリレート、2−イソシアナトエチルアクリラート、イソシアネート基に誘導可能な2−[(3,5−ジメチルピラゾリル)カルボニルアミノ]エチル(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリロイルクロリド等が挙げられる。   The third unit can be obtained, for example, by bonding a monomer having a polymerizable group to the functional group of the second unit as described above. 2-isocyanatoethyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl acrylate, 2-[(3,5-dimethylpyrazolyl) carbonylamino] ethyl (meth) acrylate and (meth) acryloyl chloride, which are derivable to isocyanate groups. No.

(2)マイクロ流路を有する構造体の作製
本発明に係るマイクロ流路を備えた構造体の、典型的な製造手順について図1を参照して説明する。まず、凹凸等のパターンが形成された第1の基体1を用意し、当該第1の基体1の第1の面の第1の領域上に組成物を塗布し、組成物の塗膜3を形成する(a)。次に当該組成物が第1の基体1の第1の領域に塗布された状態で第1の基体1と第2の基体2とを密着させ(b)、この状態で第2の基体2を介して組成物の塗膜3に紫外線等の光又は放射線(電磁波)を照射して、凸部分の組成物を硬化させ、硬化物としての樹脂膜4を形成する(c)。電磁波としては、ガンマ線及びエックス線等が好ましく挙げられる。
(2) Production of Structure Having Micro Channel A typical manufacturing procedure of a structure having a micro channel according to the present invention will be described with reference to FIG. First, a first base 1 on which a pattern such as unevenness is formed is prepared, a composition is applied on a first region of a first surface of the first base 1, and a coating film 3 of the composition is applied. (A). Next, the first base 1 and the second base 2 are brought into close contact with each other in a state where the composition is applied to the first region of the first base 1 (b). The coating film 3 of the composition is irradiated with light such as ultraviolet rays or radiation (electromagnetic waves) through the coating to cure the composition in the convex portion, thereby forming a resin film 4 as a cured product (c). Preferred examples of the electromagnetic wave include gamma rays and X rays.

(c)工程の後、溶媒によって洗浄することによって、第1の基体1と第2の基体2との間の空隙(凹部分)にあった未硬化の組成物が除去されることにより、当該空隙がマイクロ流路となり、マイクロ流路が形成された第1の基体1と第2の基体2とを含む構造体が作製される。上記態様においては、上記凸部分が第1の領域となり、上記凹部分が第2の領域となる。   After the step (c), by washing with a solvent, the uncured composition in the gap (recess) between the first substrate 1 and the second substrate 2 is removed, and The void serves as a microchannel, and a structure including the first base 1 and the second base 2 in which the microchannel is formed is manufactured. In the above aspect, the convex portion becomes the first region, and the concave portion becomes the second region.

第1の基体及び第2の基体に用いる部材は用途や所望の性質等により適宜選択される。例えば、樹脂を使用することが可能である。樹脂として具体的には、例えばポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン6、ナイロン66、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリプロピレン、ポリイソプレン、ポリエチレン、ポリジメチルシロキサン及び環状ポリオレフィン等が挙げられる。また、銅、アルミ、鉄、シリコン、ニッケル、その他の各種金属及びそれらの合金、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等の金属酸化物、及びそれらの混合物、ガラス製物質、並びに、炭化珪素及び窒化ホウ素等の無機材料等も第1の基体及び第2の基体に用いる部材として使用することができる。   The members used for the first base and the second base are appropriately selected depending on the use and desired properties. For example, a resin can be used. Specific examples of the resin include polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, nylon 6, nylon 66, polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polypropylene, polyisoprene, polyethylene, and polydimethyl. Examples include siloxane and cyclic polyolefin. Also, copper, aluminum, iron, silicon, nickel, other various metals and their alloys, metal oxides such as silica, alumina, zirconia and titania, and mixtures thereof, glass materials, silicon carbide and boron nitride And the like can also be used as a member used for the first base and the second base.

図1に示したように第1の基体として凹凸等のパターンが形成されたものを用いる場合は、部材として、射出成形性及び量産性に優れた有機高分子を主成分とするポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、ポリアクリロニトリル及びポリ塩化ビニル等が好適である。   As shown in FIG. 1, when a first substrate having a pattern of concavities and convexities is used as the first base, polymethyl methacrylate mainly composed of an organic polymer excellent in injection moldability and mass productivity is used as a member. , Polystyrene, polycarbonate, cyclic polyolefin, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride and the like are preferred.

溝形状は、図1に示した矩形以外にも、三角形及び半円形等が採用可能であり、用途や所望の性能等に応じて適宜選択することができる。なお、溝の幅W等の当該マイクロ流路の寸法はマイクロ流路に流す検査対象等に応じて適宜設定される。典型的には幅Wは数μm〜数mm程度、溝深さ数μm〜数mm程度、溝長(紙面の奥行き方向)は数mm〜10cm程度である。   As the groove shape, a triangle, a semicircle, or the like other than the rectangle shown in FIG. 1 can be adopted, and can be appropriately selected according to an application, desired performance, and the like. The dimensions of the micro flow channel, such as the width W of the groove, are appropriately set according to the inspection object flowing through the micro flow channel. Typically, the width W is about several μm to several mm, the groove depth is several μm to several mm, and the groove length (the depth direction of the paper) is about several mm to 10 cm.

溝の形成は、エッチング、金型による転写成形又は切削加工等により行えばよい。   The grooves may be formed by etching, transfer molding using a mold, cutting, or the like.

基体のサイズ、厚みに特に制限はないが、サイズは1cm〜10cm程度、厚みは数十μm〜数mm程度であることが好ましい。   The size and thickness of the substrate are not particularly limited, but the size is preferably about 1 cm to 10 cm, and the thickness is preferably about several tens μm to several mm.

第1の基体又は第2の基体として、母材に対して表面処理を施したものを使用することができる。表面処理として親水化処理を行う場合、母材に対して、例えば、真空紫外線照射、プラズマ照射、UVオゾン照射、イオンビーム照射、酸洗浄、アルカリ洗浄等を行う等してもよく、末端にヒドロキシ基及びアミノ基等の極性基を有する単分子膜を形成することにより親水化してもよい。また、シランカップリング剤を用いて基板表面を修飾してもよい。シランカップリング剤として、ビニルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン及びγ−アミノプロピルメトキシシラン等から選ばれる1種以上を用いることができる。   As the first base or the second base, a base material subjected to a surface treatment can be used. When performing the hydrophilic treatment as the surface treatment, the base material may be subjected to, for example, vacuum ultraviolet irradiation, plasma irradiation, UV ozone irradiation, ion beam irradiation, acid washing, alkali washing, or the like. It may be made hydrophilic by forming a monomolecular film having a polar group such as a group and an amino group. Further, the surface of the substrate may be modified using a silane coupling agent. As silane coupling agents, vinylmethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane and γ-aminopropyl One or more selected from methoxysilane and the like can be used.

より安定した親水性表面を得るために、少なくとも表面にエチレングリコールジ(メタ)アクリレート及びポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の重合性モノマーを重合することにより得られた親水性樹脂膜を配置する等してもよい。4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸又は4,4’−ジアジドジベンザルアセトン−2,2’−ジスルホン酸等のアジド化合物と、N−ビニルピロリドン、アクリルアミド、又はジメチルアクリルアミド等の重合性の二重結合を有する化合物との混合物から合成した樹脂膜も親水性樹脂膜として用いることができる。   In order to obtain a more stable hydrophilic surface, a hydrophilic resin film obtained by polymerizing a polymerizable monomer such as ethylene glycol di (meth) acrylate and polyethylene glycol di (meth) acrylate is disposed on at least the surface. May be. An azide compound such as 4,4'-diazidostilbene-2,2'-disulfonic acid or 4,4'-diazidodibenzalacetone-2,2'-disulfonic acid, and N-vinylpyrrolidone, acrylamide, or A resin film synthesized from a mixture with a compound having a polymerizable double bond such as dimethylacrylamide can also be used as the hydrophilic resin film.

図1(c)に示したように、組成物の塗膜3を上記第1の基体1又は第2の基体2に塗布した後の硬化を光又は放射線で行う場合は、前記第1の基体及び第2の基体のうち少なくとも一つは、硬化に使用する光又は放射線が透過するものであることが望ましい。基体の材料として、有機材料では、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン等が好ましく、無機材料では、例えば、酸化ケイ素を主成分とするガラスが好ましい。   As shown in FIG. 1 (c), when the coating 3 of the composition is applied to the first substrate 1 or the second substrate 2 and then cured by light or radiation, the first substrate is used. At least one of the second substrate and the second substrate desirably transmits light or radiation used for curing. As a material of the substrate, for example, polymethyl methacrylate, polystyrene, or the like is preferable as an organic material, and a glass mainly containing silicon oxide is preferable as an inorganic material.

第1の基体と第2の基体には、同じ材料を用いてもよく異なる材料を用いてもよいが、例えば、図1(d)に示した接合部6からの樹脂膜4の非被覆部5への樹脂膜のはみ出しの程度を少なくするために、第2の基体の表面の組成物に対する親和性を第1の基体の組成物の親和性に比べて低くする等の方法を利用できる。   The same material or different materials may be used for the first base and the second base. For example, the uncovered portion of the resin film 4 from the joint 6 shown in FIG. In order to reduce the degree of protrusion of the resin film to the surface of the substrate 5, a method of lowering the affinity of the surface of the second substrate to the composition compared to the affinity of the composition of the first substrate can be used.

図1(b)に示したように第1の基体1と第2の基体2とを密着させる方法としては、例えば、第2の基体の自重(天地を逆にした場合は、第1の基体の自重)を利用する方法、さらに、第1の基体又は第2の基体の少なくとも一方向から圧力をかける方法等がある。後者の方法では、典型的には500〜3000N程度の力が第1の基体又は第2の基体に加わるようにする。   As shown in FIG. 1B, as a method for bringing the first base 1 and the second base 2 into close contact with each other, for example, the own weight of the second base (when the top and bottom are reversed, the first base 1 is used). And the method of applying pressure from at least one direction of the first base or the second base. In the latter method, a force of typically about 500 to 3000 N is applied to the first substrate or the second substrate.

図1において、凹凸パターンの凹部に配置された組成物は、第2の基体との間に隙間があるため酸素に触れることになる。熱、又は、光若しくは放射線等のエネルギーの付与により発生するラジカル又はイオン等の、酸素で失活する化学種が重合反応において中心的に役割をしている場合は、塗布した組成物が第1の基体と第2の基体との両方に接触している箇所(接合部6)が硬化し、凹部のように酸素に触れる場所にある組成物の重合反応が抑制される。このため、図1で示す(c)から(d)に至る過程において洗浄又は現像をすることで、マスクを介してエネルギーを付与せずとも凹凸パターン等の第1の基体の表面形状に応じて組成物を硬化させることができる。   In FIG. 1, the composition disposed in the concave portions of the concave-convex pattern comes into contact with oxygen because there is a gap between the composition and the second substrate. When a chemical species deactivated by oxygen, such as heat or a radical or an ion generated by the application of energy such as light or radiation, plays a central role in the polymerization reaction, the applied composition is first. The portion (joining portion 6) that is in contact with both the substrate and the second substrate is cured, and the polymerization reaction of the composition in the portion that comes into contact with oxygen, such as a concave portion, is suppressed. For this reason, by performing cleaning or development in the process from (c) to (d) shown in FIG. 1, according to the surface shape of the first substrate such as a concavo-convex pattern without applying energy through a mask. The composition can be cured.

酸素で失活する化学種が重合反応において中心的に役割をしている場合の組成物としては、特に制限はないが、例えば、(メタ)アクリロイル基等を有するラジカル重合により硬化する組成物、なかでも前項で説明した化合物が、図1に示したマイクロ流路の製造における組成物として好適である。この他にも、アジド基を有する化合物等のようにエネルギーの付与によりナイトレン等の酸素により失活する反応性中間体が発生して重合する組成物も図1に示したマイクロ流路の製造における組成物として好適である。   The composition in which the chemical species deactivated by oxygen plays a central role in the polymerization reaction is not particularly limited. For example, a composition cured by radical polymerization having a (meth) acryloyl group or the like, Among them, the compounds described in the preceding section are suitable as compositions for producing the microchannel shown in FIG. In addition to the above, a composition in which a reactive intermediate which is deactivated by oxygen such as nitrene due to application of energy such as a compound having an azide group to generate and polymerize is also used in the production of the microchannel shown in FIG. It is suitable as a composition.

ただし、図1に示したマイクロ流路の製造のように酸素に接触する部分の硬化をより確実に抑制するためには、組成物の一定以上の酸素透過性を確保しておくことが好ましい。例えば、組成物を構成する化合物の重量平均分子量を100000以下、さらには重量平均80000以下、より好ましくは重量平均50000以下にする等して酸素が透過し易い組成物にしておくことが好ましい。ちなみに、前項で説明した組成物を構成する化合物の重量平均分子量は、50000以下とすることが好ましく、また、酸素の透過性は塗膜の厚みによっても調整が可能であり、厚みとしては10μm以下、更には5μm以下、より好ましくは1μm以下にして酸素の透過性を確保することが好ましい。これらにより、凹部に配置された組成物の硬化反応がより抑制される。   However, in order to more reliably suppress the hardening of the portion that comes into contact with oxygen as in the manufacture of the microchannel shown in FIG. 1, it is preferable to secure a certain or more oxygen permeability of the composition. For example, it is preferable to make the composition easy for oxygen to permeate by making the compound constituting the composition have a weight average molecular weight of 100,000 or less, more preferably 80,000 or less, more preferably 50,000 or less. Incidentally, the weight average molecular weight of the compound constituting the composition described in the preceding paragraph is preferably 50,000 or less, and the oxygen permeability can be adjusted by the thickness of the coating film, and the thickness is 10 μm or less. Further, it is preferable that the oxygen permeability is secured to 5 μm or less, more preferably 1 μm or less. Thereby, the curing reaction of the composition arranged in the concave portion is further suppressed.

上記のような硬化阻害を受けた組成物を除去する方法としては、例えば、マイクロ流路に第2の液体としての溶媒を加圧充填、減圧充填、遠心充填及び毛細管力等の方法で、構造体のトンネル構造に充填して未硬化の組成物を当該溶媒に溶解させた後、当該溶媒を加圧排液、減圧排液、遠心排液等の方法により除去することにより、未硬化の組成物を実質的に除去できる。上記の溶媒の充填工程において未硬化の組成物を溶媒に溶解させる時間を短縮するために加温又は加熱するようにしてもよい。   Examples of the method of removing the composition that has undergone the curing inhibition as described above include, for example, pressure-filling the solvent as the second liquid into the microchannel, pressure-reducing filling, centrifugal filling, and capillary force. After dissolving the uncured composition in the solvent by filling in the tunnel structure of the body, the uncured composition is removed by removing the solvent by a method such as pressurized drainage, reduced pressure drainage, or centrifugal drainage. Can be substantially removed. In the above-mentioned solvent filling step, heating or heating may be performed in order to shorten the time for dissolving the uncured composition in the solvent.

重合開始剤としては、エネルギーとして光を照射する場合は、300nm以上の波長の光を吸収するα−ヒドロキシアルキルフェノン類、α−アミノアルキルフェノン類、ベンジルジメチルケタール類及びアゾ系重合開始剤等からなる群から選択される1種又は2種以上を用いれば、第1の基体又は第2の基体に用いる材料の範囲を広げることができる。   As the polymerization initiator, when light is irradiated as energy, α-hydroxyalkylphenones that absorb light having a wavelength of 300 nm or more, α-aminoalkylphenones, benzyldimethyl ketals, and azo-based polymerization initiators are used. By using one or more selected from the group, the range of materials used for the first base or the second base can be expanded.

凹部に配置された組成物は、エネルギー付与後に溶媒により溶解除去することが可能であるが、第1の基体として有機樹脂を主体とするプラスチック基板を使用する場合は、第1の基体が損傷しないように、かつ、上記組成物を溶解できるよう上記の溶解除去に用いる溶媒(第2の液体)を適宜選択する。例えば、上記組成物として、未硬化の状態で親水性である樹脂を用いる場合は、第2の液体として、水、メタノール、エタノール、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル及びジメチルホルムアミド等の極性の高い溶媒を用いることが好ましい。   The composition disposed in the concave portion can be dissolved and removed by a solvent after applying energy, but when a plastic substrate mainly composed of an organic resin is used as the first substrate, the first substrate is not damaged. As described above, the solvent (second liquid) used for the dissolution and removal is appropriately selected so that the composition can be dissolved. For example, when a resin that is hydrophilic in an uncured state is used as the composition, a highly polar solvent such as water, methanol, ethanol, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, and dimethylformamide is used as the second liquid. Is preferred.

図1(d)に示した接合部6(第1の部分)に組成物の塗膜を硬化した後の樹脂膜4(硬化物)が形成されることになるが、マイクロ流路に、第1の液体として水を溶媒とする検査対象を流す場合は、接合部6への水の浸透を抑制することが好ましい。このためには、例えば、組成物の硬化により形成された樹脂膜4はある程度の疎水性を持たせるようにしてもよい。具体的には、樹脂膜4の水の接触角を60°以上、さらに80°以上にするようにしてもよい。   A resin film 4 (cured product) after curing the coating film of the composition is formed at the joint 6 (first portion) shown in FIG. 1D. When flowing the test object using water as a solvent as the first liquid, it is preferable to suppress the penetration of water into the joint 6. For this purpose, for example, the resin film 4 formed by curing the composition may have a certain degree of hydrophobicity. Specifically, the contact angle of water of the resin film 4 may be set to 60 ° or more, and more preferably 80 ° or more.

水の接触角が60°以上の樹脂膜を形成する組成物としては、上記化合物において第1のユニット又は第2のユニットの含有割合を大きくした組成物を用いればよい。   As a composition for forming a resin film having a water contact angle of 60 ° or more, a composition in which the content of the first unit or the second unit in the above compound is increased may be used.

逆にマイクロ流路に極性の低い溶媒に溶解又は分散させた試料を流すときは、樹脂膜4がより親水的になるようにすることが好ましい。   Conversely, when flowing a sample dissolved or dispersed in a low-polarity solvent through the microchannel, it is preferable to make the resin film 4 more hydrophilic.

また、樹脂膜4をより稠密なものとすることでも、樹脂膜4への溶媒等の浸透を抑制することができる。   Also, by making the resin film 4 denser, the penetration of the solvent or the like into the resin film 4 can be suppressed.

樹脂膜を稠密なものとするには、組成物として多官能性基を有する組成物を用いることで達成できる。   A dense resin film can be achieved by using a composition having a polyfunctional group as the composition.

組成物に界面活性剤等を添加することにより樹脂膜4の表面の親水性や疎水性の度合、さらに第1の基体又は第2の基体との密着性等を制御できる。界面活性剤としては、例えば、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ラウリルジメチルアミンオキサイド、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ソルビタンモノステアレート等の1種又は2種以上を用いることができる。また、シランカップリング剤等を添加してもよい。シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の1種又は2種以上を用いることができる。   By adding a surfactant or the like to the composition, the degree of hydrophilicity or hydrophobicity of the surface of the resin film 4 and the adhesion to the first substrate or the second substrate can be controlled. As the surfactant, for example, one or two or more of ammonium lauryl sulfate, polyoxyethylene alkyl ether sulfate, lauryl dimethylamine oxide, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, sorbitan monostearate and the like are used. Can be used. Further, a silane coupling agent or the like may be added. As the silane coupling agent, one or two or more of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, etc. Can be used.

なお、図1(d)の後、さらに光照射や加熱等により第1の基体と第2の基体との樹脂膜4を介した接着力を向上させるようにしてもよい。   After FIG. 1D, the adhesive strength between the first base and the second base via the resin film 4 may be further improved by light irradiation, heating, or the like.

上記の説明した方法により得られた構造体は、分析用又は分取用のマイクロチップとして用いることができる。マイクロチップの例としては、血球分離チップ、核酸チップ、プロテインチップ、抗体チップ、アプタマーチップ及び糖タンパクチップ等が挙げられる。   The structure obtained by the method described above can be used as a microchip for analysis or fractionation. Examples of the microchip include a blood cell separation chip, a nucleic acid chip, a protein chip, an antibody chip, an aptamer chip, and a glycoprotein chip.

(3)分取チップの作製
図2に分取チップの平面図を示した。当該分取チップは複数の穴が形成されており、穴の内部とその周囲とで表面特性を異ならせることにより、より効率良く対象物を分取することが可能となる。
(3) Preparation of sorting chip FIG. 2 shows a plan view of the sorting chip. The sorting tip has a plurality of holes formed therein, and by making the surface characteristics different between the inside and the periphery of the hole, it is possible to more efficiently sort an object.

以下、図3を参照しながら、分取チップの製造過程を説明する。まず、図3(a)のように凹凸パターンが形成された第3の基体7の上に第1の組成物8を塗布した後、図3(b)に示したように第3の基体7の主面に垂直な軸を回転軸として回転する。これにより、図3(c)に示したように余分な第1の組成物は除去され、第1の塗膜9が形成される。次に図3(d)に示したように第1の塗膜9に対して全面露光を行うことにより、第1の樹脂膜(硬化物)10に変化する。   Hereinafter, the manufacturing process of the sorting chip will be described with reference to FIG. First, after applying the first composition 8 on the third substrate 7 on which the concavo-convex pattern is formed as shown in FIG. 3 (a), the third substrate 7 is applied as shown in FIG. 3 (b). Rotates about an axis perpendicular to the main surface of the rotation axis. As a result, as shown in FIG. 3C, the excess first composition is removed, and the first coating film 9 is formed. Next, as shown in FIG. 3D, the entire surface of the first coating film 9 is exposed, so that the first coating film 9 is changed to a first resin film (cured product) 10.

次に、図3(e)に示したように表面に第1の樹脂膜10が形成された第3の基体7の上に第2の組成物11を塗布する。図3(b)に示した回転工程と同様に第3の基体7の主面に垂直な軸を回転軸として回転し(f)、第2の塗膜12を第1の樹脂膜10の上に形成する(g)。図3(h)に示したようにマスク13を介して露光することにより、凹部に配置された第2の塗膜の硬化は進行せず、未硬化の第2の塗膜を溶媒等で除去すると図3(i)に示したように凹部に第1の樹脂膜が露出し、凸部には第2の樹脂膜が露出した分取チップが製造できる。   Next, as shown in FIG. 3E, the second composition 11 is applied on the third substrate 7 on which the first resin film 10 is formed. Similarly to the rotation step shown in FIG. 3B, the third base 7 is rotated about an axis perpendicular to the main surface of the third base 7 as a rotation axis (f), and the second coating film 12 is placed on the first resin film 10. (G). By exposing through the mask 13 as shown in FIG. 3H, the curing of the second coating film arranged in the recess does not progress, and the uncured second coating film is removed with a solvent or the like. Then, as shown in FIG. 3 (i), a fractionating chip in which the first resin film is exposed in the concave portion and the second resin film is exposed in the convex portion can be manufactured.

第3の基体7に用いる部材としては、図1で説明した第1の基体1及び第2の基体3と同様な材料を用いることができる。ただし、図3(d)及び図3(h)に示したように第1の塗膜9又は第2の塗膜12を形成した面の側から光を照射する場合は、第3の基体として光を透過しないものを使用できる。図3に示した例では、第3の基体7は、その主面に対して垂直に掘った溝が形成された凹凸パターンを有しているが、テーパー状の溝を有する凸パターンであってもよい。   As a member used for the third base 7, a material similar to the first base 1 and the second base 3 described with reference to FIG. 1 can be used. However, as shown in FIGS. 3D and 3H, when light is irradiated from the side of the surface on which the first coating film 9 or the second coating film 12 is formed, the third substrate is used. Those that do not transmit light can be used. In the example shown in FIG. 3, the third base 7 has a concavo-convex pattern in which a groove dug vertically to the main surface thereof is formed, but has a convex pattern having a tapered groove. Is also good.

第1の組成物8としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のモノマーと、4’−ジアジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸又は4,4’−ジアジドジベンザルアセトン−2,2’−ジスルホン酸等のアジド化合物と、N−ビニルピロリドン、アクリルアミド、又はジメチルアクリルアミド等の重合性の二重結合を有する化合物と、を含む混合物(親水性樹脂膜の組成物)を用いてもよい。   Examples of the first composition 8 include monomers such as ethylene glycol di (meth) acrylate and polyethylene glycol di (meth) acrylate, and 4′-diazidostilbene-2,2′-disulfonic acid or 4,4′-disulfonic acid. A mixture (hydrophilic resin film) containing an azide compound such as azidodibenzalacetone-2,2'-disulfonic acid and a compound having a polymerizable double bond such as N-vinylpyrrolidone, acrylamide or dimethylacrylamide May be used.

図3(b)及び図3(f)に示した回転では第3の基体7の主面に対して垂直な回転軸を中心とした、いわゆる自転により、それぞれ第1の塗膜9及び第2の塗膜12を形成しているが、それ以外にも、例えば、第3の基体7の位置を第3の基体の以外を通る回転軸を中心に回る、いわゆる公転によって第1の塗膜9及び第2の塗膜12を形成してもよい。さらに、上記の自転と公転とを組み合わせて、第1の組成物8又は第2の組成物11を濡れ広がさせることができる。   In the rotation shown in FIGS. 3B and 3F, the first coating film 9 and the second coating film 2 are rotated by so-called rotation around a rotation axis perpendicular to the main surface of the third base 7, respectively. In addition, the first coating film 9 is formed by so-called revolving around the position of the third substrate 7 about a rotation axis passing through other than the third substrate. And the second coating film 12 may be formed. Furthermore, the first composition 8 or the second composition 11 can be wet-spread by combining the above-described rotation and revolution.

第1の組成物8を硬化することによって形成された第1の樹脂膜10と第2の組成物11を硬化させることにより形成された第2の樹脂膜14とでは、親水性又は疎水性が異なるように第1の組成物と第2の組成物の組成との組み合わせを決定することが好ましい。例えば、第1の組成物8を上記のような親水性樹脂膜の組成物を用いた場合は、第2の組成物11としては、例えば、下記の一般式(7)乃至(11)のユニットを有する化合物を用いることができる。当該化合物は、一般式(9)で表されるようにヒドロキシ基という親水基を末端に有しているため第1の樹脂膜10に対する親和性を有していると共に、一般式(7)で表されるように、疎水性基である炭素数3以上の炭化水素基を末端に有しているため第2の組成物11の硬化により形成された第2の樹脂膜14の表面の少なくとも一部を疎水性とすることができる。つまり、第2の樹脂膜は、第1の樹脂膜との界面の密着性を維持しつつ、かつ、第1の樹脂膜と接触していない部位においては、第1の樹脂膜よりも疎水性とすることができる。   The first resin film 10 formed by curing the first composition 8 and the second resin film 14 formed by curing the second composition 11 have hydrophilicity or hydrophobicity. It is preferable to determine the combination of the composition of the first composition and the composition of the second composition differently. For example, when the first composition 8 is a composition of a hydrophilic resin film as described above, the second composition 11 is, for example, a unit represented by the following general formulas (7) to (11). Can be used. The compound has an affinity for the first resin film 10 because it has a hydrophilic group called a hydroxy group at the terminal as represented by the general formula (9), and also has the general formula (7) As shown, at least one of the surfaces of the second resin film 14 formed by curing the second composition 11 because it has a hydrocarbon group having 3 or more carbon atoms as a hydrophobic group at the terminal. The part can be hydrophobic. In other words, the second resin film maintains the adhesion at the interface with the first resin film, and is more hydrophobic than the first resin film in a portion not in contact with the first resin film. It can be.

第1の組成物8として使用する組成物と第2の組成物11として使用する組成物とは、用途や所望の性能等に応じて適宜入れ替えて使用することも可能である。   The composition to be used as the first composition 8 and the composition to be used as the second composition 11 can be appropriately interchanged and used according to the intended use, desired performance, and the like.

Figure 0006637764
Figure 0006637764

第1の組成物8として使用する組成物と第2の組成物11として使用する組成物との組み合わせとして上記の他に、下記の組み合わせも好ましく挙げられる。   As the combination of the composition used as the first composition 8 and the composition used as the second composition 11, in addition to the above, the following combinations are also preferably exemplified.

第1の組成物8及び第2の組成物11として、例えば、ポリビニルアルコール系重合体等にラジカル化合物又はカチオン化合物等が結合した感光性樹脂を適宜組み合わせて用いることができる。ラジカル化合物としては、アゾ基、カルボニル基及びリン原子と酸素の二重結合を有する基等の光反応性基を有する化合物が挙げられる。カチオン化合物としては、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   As the first composition 8 and the second composition 11, for example, a photosensitive resin in which a radical compound or a cation compound is bonded to a polyvinyl alcohol-based polymer or the like can be appropriately used. Examples of the radical compound include compounds having a photoreactive group such as an azo group, a carbonyl group, and a group having a double bond between a phosphorus atom and oxygen. Examples of the cation compound include onium salts such as iodonium salts and sulfonium salts.

より具体的には、アジド基等の光反応性基を有する化合物がポリビニルアルコール系重合体等にアセタール結合でペンダントされた感光性樹脂を組み合わせて用いることができる。該感光性樹脂として、例えば、WO2013/153873で開示される感光性樹脂が挙げられる。さらに具体的には、第1の組成物8として、WO2013/153873の実施例11で調整された感光性組成物を用い、第2の組成物11として、実施例9及び実施例10で調整された感光性組成物の少なくともいずれかを用いることができる。   More specifically, a compound having a photoreactive group such as an azide group or the like can be used in combination with a polyvinyl alcohol polymer or the like and a photosensitive resin pendant with an acetal bond. Examples of the photosensitive resin include a photosensitive resin disclosed in WO2013 / 153873. More specifically, the photosensitive composition prepared in Example 11 of WO2013 / 153873 is used as the first composition 8, and the photosensitive composition prepared in Examples 9 and 10 is used as the second composition 11. At least one of the photosensitive compositions can be used.

上記組み合わせは、分析する目的物により、第1の組成物と第2の組成物とを適宜入れ替えて使用することができる。   The above combinations can be used by appropriately replacing the first composition and the second composition depending on the target substance to be analyzed.

(4)マイクロ流路を有する構造体を用いた分取装置1
図4には、上述したマイクロ流路を有する構造体を用いた分取装置の構成を示した。当該分取装置の構成を説明するために、図4では、リザーバー15、マイクロ流路を有する構造体16〜18及び栓19が接続されていない状態で示しているが、実際に使用する際は、リザーバー15と第1のマイクロ流路を有する構造体16とをメス接続部21を用いて嵌合し、栓19と第1のマイクロ流路を有する構造体16とをメス接続部21を用いて嵌合し、マイクロ流路を有する構造体16〜18を互いにオス接続部20及びメス接続部21を用いて嵌合した上で使用する。
(4) Sorting device 1 using a structure having a microchannel
FIG. 4 shows a configuration of a sorting apparatus using the above-described structure having a microchannel. In order to explain the configuration of the sorting apparatus, FIG. 4 shows a state in which the reservoir 15, the structures 16 to 18 having microchannels, and the stopper 19 are not connected. The reservoir 15 and the structure 16 having the first micro flow channel are fitted using the female connection portion 21, and the plug 19 and the structure 16 having the first micro flow channel are connected using the female connection portion 21. The structures 16 to 18 having the microchannels are fitted to each other using the male connecting portion 20 and the female connecting portion 21 before use.

図4に示した分取装置において、第1のマイクロ流路を有する構造体をリザーバー15から第2のマイクロ流路を有する構造体17に貫通するように孔を形成した構造体とすれば栓19を使用しなくてもよい。   In the sorting apparatus shown in FIG. 4, a plug having a structure in which a hole is formed so as to penetrate the structure having the first micro flow path from the reservoir 15 to the structure 17 having the second micro flow path is used. 19 may not be used.

(5)マイクロ流路を有する構造体を用いた分取装置2
図5には、本発明にかかる他のマイクロ流路を有する構造体を用いた分取装置を示した。図4に示した分取装置のようにオス接続部20及びメス接続部21を用いる代わりにOリング29を用いて、リザーバー23及び栓27と第4のマイクロ流路を有する構造体24とを接続し、マイクロ流路を有する構造体24〜26をOリング29で接続している。このようにすることによって、マイクロ流路を有する構造体に嵌合するための部位を設ける必要がなくなり、製造コストの低減及び製造時間の短縮が可能となる。
(5) Sorting device 2 using a structure having a microchannel
FIG. 5 shows a sorting apparatus using a structure having another microchannel according to the present invention. Instead of using the male connecting portion 20 and the female connecting portion 21 as in the sorting apparatus shown in FIG. 4, an O-ring 29 is used to connect the reservoir 23 and the plug 27 to the structure 24 having the fourth micro flow path. The structures 24 to 26 having micro flow paths are connected by an O-ring 29. By doing so, there is no need to provide a part for fitting to the structure having the microchannel, and it is possible to reduce the manufacturing cost and the manufacturing time.

(6)マイクロ流路を有する構造体を固定する構成
図6にはマイクロ流路を有する構造体30を固定する構造を示した。マイクロ流路を有する構造体30を重ねた状態でフォルダ31によって固定することによって、マイクロ流路を有する構造体30の間の孔の位置合わせが容易となる。図6のような構成を採用した場合、図4及び図5に示したように構造体自体に嵌合するための部位を設けたり、Oリングを用いたりする必要がない場合がある。
(6) Structure for Fixing Structure Having Micro Flow Channel FIG. 6 shows a structure for fixing the structure 30 having a micro flow channel. By fixing the structures 30 having the microchannels by the folders 31 in an overlapping state, the alignment of the holes between the structures 30 having the microchannels becomes easy. When the configuration as shown in FIG. 6 is adopted, it may not be necessary to provide a portion for fitting to the structure itself as shown in FIGS. 4 and 5, or to use an O-ring.

(7)検査装置
図7には、図6に示したマイクロ流路を有する構造体をフォルダで把持したもの(以下、「把持体」という32)を対象とした検査装置の構成を示した。当該検査装置においては、把持体32の下方からレーザー等の検出光源を照射して検出を行うことが可能になっている。
(7) Inspection Apparatus FIG. 7 shows a configuration of an inspection apparatus intended for a structure in which the structure having the microchannel shown in FIG. 6 is gripped by a folder (hereinafter, referred to as a “grip” 32). In the inspection device, it is possible to perform detection by irradiating a detection light source such as a laser from below the holding body 32.

(8)包装資材中で製造される構造体
図8には、図1に示したマイクロ流路を有する構造体の製造において、組成物の硬化を包装資材の中で行う場合の製造過程を示した。包装資材38の中に第4の基体33と第5の基体34とを組成物の塗膜35を介して密着した状態で包装資材38の中に入れた後、包装資材中で組成物の塗膜35をエックス線又はガンマ線等の放射線等を照射して硬化する。それにより、第4の基体33と第5の基体34とに接触した組成物の塗膜は樹脂膜36となり、それ以外の部分は未硬化部分37となる。このように未硬化部分37がある状態で出荷しても、通常、血液検査等の検査用途では使用の前に純水等で洗浄することで未硬化部分37を除去できるため、実際の検査には支障を来たさないことがある。エックス線やガンマ線の照射により殺菌も可能なので、使用直前まで包装資材を開封しないで済む本製造方法で得られる構造体は特に生体物質用の検査チップとして有用である。
(8) Structure Manufactured in Packaging Material FIG. 8 shows a manufacturing process in the case where the composition is cured in the packaging material in the manufacture of the structure having the microchannel shown in FIG. Was. After the fourth substrate 33 and the fifth substrate 34 are placed in the packaging material 38 in a state where the fourth substrate 33 and the fifth substrate 34 are in close contact with each other via the coating film 35 of the composition, the coating of the composition is performed in the packaging material. The film 35 is cured by irradiating radiation such as X-rays or gamma rays. Thereby, the coating film of the composition in contact with the fourth substrate 33 and the fifth substrate 34 becomes the resin film 36, and the other portions become the uncured portions 37. Even if the product is shipped with the uncured portion 37 in this manner, the uncured portion 37 can be removed by washing with pure water or the like before use in an inspection application such as a blood test. May not interfere. Since sterilization can be performed by irradiation with X-rays or gamma rays, the structure obtained by the present manufacturing method, which does not require opening the packaging material until immediately before use, is particularly useful as a test chip for biological substances.

包装資材としては、放射線等に対し透過性がある材質のものを用いることが好ましい。   As the packaging material, it is preferable to use a material that is permeable to radiation and the like.

以下、本発明について実施例に基づき説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

<化合物の合成>
図1に示した組成物の塗膜3及び図3に示した第2の組成物11として用いた材料について以下に典型的な実施例を示す。
<Synthesis of Compound>
Typical examples of the materials used as the coating film 3 of the composition shown in FIG. 1 and the second composition 11 shown in FIG. 3 are shown below.

(化合物の合成例1)
攪拌機、冷却器、温度計、窒素導入管及びモノマー導入管を取り付けた反応容器に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)28.1gを入れ90℃に保ちながら反応容器内を窒素置換し、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPME−1000)16.7g(15.4mmol)、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPME−2000)18.7g(9.0mmol)、ステアロキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPSE−1300)2.41g(1.4mmol)、ポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPE−350)1.86g(4.3mmol)、アゾ系重合開始剤(和光純薬工業(株)製、V−40)0.23g及びPGMEA26.5gの混合液を4時間かけてフィードし、そのまま90℃で4時間反応させた。得られた反応溶液を氷冷したイソプロピルエーテル200mlとヘキサン600mlの混合液に1時間かけてフィードし、ろ過後に真空乾燥を行い化合物Aが得られた。得られた化合物AのGPC測定を行ったところ分子量はMW32160であった。
(Synthesis example 1 of compound)
28.1 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, a cooler, a thermometer, a nitrogen introduction pipe and a monomer introduction pipe, and the inside of the reaction vessel was replaced with nitrogen while keeping at 90 ° C. 16.7 g (15.4 mmol) of glycol monomethacrylate (manufactured by NOF Corporation, Blenmer PME-1000), 18.7 g (9.0 mmol) of methoxypolyethylene glycol monomethacrylate (manufactured by NOF Corporation, Blenmer PME-2000) ), 2.41 g (1.4 mmol) of stearyloxy polyethylene glycol monomethacrylate (manufactured by NOF Corp., Blemmer PSE-1300), 1.86 g of polyethylene glycol monomethacrylate (manufactured by NOF Corp., Blemmer PE-350) (4.3 mol), azo-based polymerization initiator (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., V-40) over 0.23g and PGMEA26.5g mixture 4 hours was fed and reacted for 4 hours at 90 ° C.. The resulting reaction solution was fed over 1 hour to a mixture of 200 ml of isopropyl ether and 600 ml of hexane cooled with ice, filtered, and dried under vacuum to obtain Compound A. GPC measurement of the obtained Compound A showed that the molecular weight was MW32160.

次に、化合物A 10.5g(7.9mmol)、ジメタクリル酸無水物(アルドリッチ製)0.0642g(0.39mmol)、ジクロロメタン263ml、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン0.023g及びトリエチルアミン0.042gを反応容器に入れ一晩室温攪拌後、反応液を分液ロートに移し8質量%炭酸水素ナトリウム及び1M HClにて水洗を行い、分液した反応液をエバポレーションし、酢酸エチルを60ml加え、氷冷したイソプロピルエーテル80ml及びヘキサン240mlの混合液に30分でフィードを行い、ろ過、真空乾燥を行い化合物Bが得られた。得られた化合物BのGPC測定を行ったところ分子量はMW44440であった。   Next, 10.5 g (7.9 mmol) of compound A, 0.0642 g (0.39 mmol) of dimethacrylic anhydride (manufactured by Aldrich), 263 ml of dichloromethane, 0.023 g of N, N-dimethyl-4-aminopyridine and triethylamine After putting 0.042 g in a reaction vessel and stirring overnight at room temperature, the reaction solution was transferred to a separating funnel, washed with 8% by mass sodium hydrogen carbonate and 1 M HCl, and the separated reaction solution was evaporated, and ethyl acetate was removed. 60 ml was added, and the mixture was fed into a mixture of ice-cooled 80 ml of isopropyl ether and 240 ml of hexane in 30 minutes, followed by filtration and vacuum drying to obtain Compound B. When the GPC measurement of the obtained compound B was performed, the molecular weight was MW44440.

(化合物の合成例2)
ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールブロックポリマー(日油(株)製、プロノン204、EO:PO=40:60、平均分子量3330)29.1g(8.7mmol)、ジメタクリル酸無水物(アルドリッチ製)3.0g(19.4mmol)、ジクロロメタン300ml、N,N−ジメチル−アミノピリジン0.03g、トリエチルアミン1.97gを反応容器に入れ一晩室温撹拌後、反応液を分液ロートに移し、8質量%炭酸水素ナトリウム及び1M HClにて水洗を行い、分液した反応液をエバポレーションして化合物Cを得た。得られた化合物CのGPC測定を行ったところ分子量はMW3870であった。
(Synthesis example 2 of compound)
29.1 g (8.7 mmol) of polyethylene glycol-polypropylene glycol-polyethylene glycol block polymer (Profon 204, EO: PO = 40: 60, average molecular weight 3330, manufactured by NOF Corporation), dimethacrylic anhydride (manufactured by Aldrich) ) 3.0 g (19.4 mmol), dichloromethane (300 ml), N, N-dimethyl-aminopyridine (0.03 g), and triethylamine (1.97 g) were placed in a reaction vessel, stirred at room temperature overnight, and then the reaction solution was transferred to a separating funnel. After washing with water by mass% sodium bicarbonate and 1 M HCl, the separated reaction solution was evaporated to obtain compound C. GPC measurement of the obtained compound C showed that the molecular weight was MW3870.

(化合物の合成例3)
WO2013/153873記載の実施例2と同様にして、下記式で表される(3−(4−アジドフェニル)−N−(4,4’−ジメトキシブチル)−2−(4−モルホリノメチルフェニル)カルボニルアミノ−プロパ−2−エンアミド)(以下、「感光性化合物1」とする)を得た。
(Synthesis example 3 of compound)
Similarly to Example 2 described in WO2013 / 153873, (3- (4-azidophenyl) -N- (4,4′-dimethoxybutyl) -2- (4-morpholinomethylphenyl) represented by the following formula: Thus, carbonylamino-prop-2-enamide (hereinafter referred to as “photosensitive compound 1”) was obtained.

Figure 0006637764
Figure 0006637764

ポリビニルアルコール(ゴーゼノールEG−30、平均重合度:1700、日本合成化学(株)製)40gを水400gに溶解し、これに、上記で得た感光性化合物1を4g、リン酸を2g加え、60℃で24時間反応させた。アセタール化反応率は、GPC(ゲル浸透クロマトグラフ分析)で測定し、98%であった。測定結果から、アセタール化量はポリビニルアルコールに対し0.8%に相当する量と算出した。その後、リン酸をイオン交換樹脂で処理することにより除去し、上記感光性化合物1がポリビニルアルコールにアセタール結合でペンダントされた化合物Dを含有する感光液を得た。この感光液を水:IPA=80:20質量%の混合液で希釈し、感光性樹脂の濃度が3質量%である感光性組成物Dを調製した。   40 g of polyvinyl alcohol (Gozenol EG-30, average degree of polymerization: 1700, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) was dissolved in 400 g of water, and 4 g of the photosensitive compound 1 obtained above and 2 g of phosphoric acid were added thereto. The reaction was performed at 60 ° C. for 24 hours. The acetalization reaction rate was measured by GPC (gel permeation chromatography) and was 98%. From the measurement results, the acetalization amount was calculated to be an amount corresponding to 0.8% with respect to polyvinyl alcohol. Thereafter, the phosphoric acid was removed by treating with an ion exchange resin to obtain a photosensitive solution containing the compound D in which the photosensitive compound 1 was pendant to polyvinyl alcohol by an acetal bond. This photosensitive solution was diluted with a mixed solution of water: IPA = 80: 20% by mass to prepare a photosensitive composition D having a photosensitive resin concentration of 3% by mass.

(化合物の合成例4)
ダイアセトンアクリルアミド共重合体ポリビニルアルコール(DF−20、日本酢ビ・ポバール(株)製)40gを水400gに溶解し、これに、上記で得た感光性化合物1を4g、リン酸を2g加え、50℃で48時間反応させた。アセタール化反応率は、GPC(ゲル浸透クロマトグラフ分析)で測定し、98%であった。測定結果から、アセタール化量はポリビニルアルコールに対し0.8%に相当する量と算出した。その後、リン酸をイオン交換樹脂で処理することにより除去し、上記感光性化合物1がダイアセトンアクリルアミド共重合ポリビニルアルコールにアセタール結合でペンダントされた化合物Eを含有する感光液を得た。この感光液を水:IPA=80:20質量%の混合液で希釈し、感光性樹脂の濃度が6質量%である感光性組成物Eを調製した。
(Synthesis example 4 of compound)
40 g of diacetone acrylamide copolymer polyvinyl alcohol (DF-20, manufactured by Nippon Vine Povar Co., Ltd.) is dissolved in 400 g of water, and 4 g of the photosensitive compound 1 obtained above and 2 g of phosphoric acid are added thereto. At 50 ° C. for 48 hours. The acetalization reaction rate was measured by GPC (gel permeation chromatography) and was 98%. From the measurement results, the acetalization amount was calculated to be an amount corresponding to 0.8% with respect to polyvinyl alcohol. Thereafter, the phosphoric acid was removed by treating with an ion-exchange resin to obtain a photosensitive solution containing the compound E in which the photosensitive compound 1 was pendant with diacetone acrylamide copolymerized polyvinyl alcohol through an acetal bond. This photosensitive solution was diluted with a mixed solution of water: IPA = 80: 20% by mass to prepare a photosensitive composition E having a photosensitive resin concentration of 6% by mass.

(化合物の合成例5)
ポリビニルアルコール−ポリエチレングリコールグラフト共重合体(Killicoat IR、BASF社製)40gを水300gに溶解し、これに、上記で得た感光性化合物Aを4g、リン酸を2g加え、50℃で48時間反応させた。アセタール化反応率は、GPC(ゲル浸透クロマトグラフ分析)で測定し、98%であった。測定結果から、アセタール化量はポリマーに対し0.8%に相当する量と算出した。その後、リン酸をイオン交換樹脂で処理することにより除去し、上記感光性化合物1がポリビニルアルコール−ポリエチレングリコールグラフト共重合体にアセタール結合でペンダントされた化合物Fを含有する感光液を得た。この感光液を水:IPA=80:20質量%の混合液で希釈し、感光性樹脂の濃度が6質量%である感光性組成物Fを調製した。
(Synthesis example 5 of compound)
40 g of polyvinyl alcohol-polyethylene glycol graft copolymer (Killicoat IR, manufactured by BASF) is dissolved in 300 g of water, 4 g of the photosensitive compound A obtained above and 2 g of phosphoric acid are added thereto, and the mixture is added at 50 ° C. for 48 hours. Reacted. The acetalization reaction rate was measured by GPC (gel permeation chromatography) and was 98%. From the measurement results, the acetalization amount was calculated as an amount corresponding to 0.8% with respect to the polymer. Thereafter, the phosphoric acid was removed by treating with an ion exchange resin to obtain a photosensitive solution containing the compound F in which the photosensitive compound 1 was pendant with an acetal bond to a polyvinyl alcohol-polyethylene glycol graft copolymer. This photosensitive solution was diluted with a mixed solution of water: IPA = 80: 20% by mass to prepare a photosensitive composition F having a photosensitive resin concentration of 6% by mass.

(化合物の合成例6)
攪拌機、冷却器、温度計、窒素導入管及びモノマー導入管を取り付けた反応容器に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)28.1gを入れ90℃に保ちながら反応容器内を窒素置換し、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPME−1000)22.3g(20.6mmol)、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPME−2000)2.9g(1.4mmol)、ステアロキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPSE−1300)3.9g(2.3mmol)、ポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製ブレンマーPE−350)3.0g(6.8mmol)、アゾ系重合開始剤(和光純薬工業(株)製、V−40)0.24g及びPGMEA26.5gの混合液を4時間かけてフィードし、そのまま90℃で4時間反応させた。得られた反応溶液を氷冷したイソプロピルエーテル200mlとヘキサン600mlの混合液に1時間かけてフィードし、ろ過後に真空乾燥を行い、化合物Gを得た。得られた化合物GのGPC測定を行ったところ分子量はMW26330であった。
(Synthesis example 6 of compound)
28.1 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, a cooler, a thermometer, a nitrogen introduction pipe and a monomer introduction pipe, and the inside of the reaction vessel was replaced with nitrogen while keeping at 90 ° C. 22.3 g (20.6 mmol) of glycol monomethacrylate (manufactured by NOF Corporation, Blenmer PME-1000), 2.9 g (1.4 mmol) of methoxypolyethylene glycol monomethacrylate (manufactured by NOF Corporation, Blenmer PME-2000) ), 3.9 g (2.3 mmol) of stearyloxy polyethylene glycol monomethacrylate (manufactured by NOF Corporation, Blemmer PSE-1300), 3.0 g of polyethylene glycol monomethacrylate (Blemmer PE-350, manufactured by NOF Corporation) ( 6.8 mmol , Azo-based polymerization initiator (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., V-40) over 0.24g and PGMEA26.5g mixture 4 hours was fed and reacted for 4 hours at 90 ° C.. The obtained reaction solution was fed over 1 hour to a mixture of 200 ml of isopropyl ether and 600 ml of hexane cooled with ice, filtered, and dried under vacuum to obtain a compound G. When the GPC measurement of the obtained compound G was performed, the molecular weight was MW26330.

次に、化合物G 10.51g(10.2mmol)、ジメタクリル酸無水物(アルドリッチ製)0.127g(0.77mmol)、ジクロロメタン263ml、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン0.046g及びトリエチルアミン0.083gを反応容器に入れ一晩室温攪拌後、反応液を分液ロートに移し8質量%炭酸水素ナトリウム及び1M HClにて水洗を行い、分液した反応液をエバポレーションし、酢酸エチルを60ml加え、氷冷したイソプロピルエーテル80ml及びヘキサン240mlの混合液に30分でフィードを行い、ろ過、真空乾燥を行い、化合物Hを得た。得られた化合物HのGPC測定を行ったところ分子量はMW34300であった。   Next, 10.51 g (10.2 mmol) of compound G, 0.127 g (0.77 mmol) of dimethacrylic anhydride (manufactured by Aldrich), 263 ml of dichloromethane, 0.046 g of N, N-dimethyl-4-aminopyridine and triethylamine After placing 0.083 g in a reaction vessel and stirring overnight at room temperature, the reaction solution was transferred to a separating funnel, washed with 8% by mass of sodium hydrogen carbonate and 1 M HCl, and the separated reaction solution was evaporated, and ethyl acetate was removed. 60 ml was added, and the mixture was fed to a mixture of ice-cooled 80 ml of isopropyl ether and 240 ml of hexane in 30 minutes, followed by filtration and vacuum drying to obtain a compound H. When the GPC measurement of the obtained compound H was performed, the molecular weight was MW34300.

(化合物の合成例7)
攪拌機、冷却器、温度計、窒素導入管及びモノマー導入管を取り付けた反応容器に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)28.1gを入れ90℃に保ちながら反応容器内を窒素置換し、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPME−1000)16.7g(15.4mmol)、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPME−2000)18.7g(9.0mmol)、ポリエチレングリコールモノメタクリレート(日油(株)製、ブレンマーPE−350)1.86g(4.3mmol)、アゾ系重合開始剤(和光純薬工業(株)製、V−40)0.22g及びPGMEA26.5gの混合液を4時間かけてフィードし、そのまま90℃で4時間反応させた。得られた反応溶液を氷冷したイソプロピルエーテル200mlとヘキサン600mlの混合液に1時間かけてフィードし、ろ過後に真空乾燥を行い、化合物Iを得た。得られた化合物IのGPC測定を行ったところ分子量はMW28610であった。
(Synthesis example 7 of compound)
28.1 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, a cooler, a thermometer, a nitrogen introduction pipe and a monomer introduction pipe, and the inside of the reaction vessel was replaced with nitrogen while keeping at 90 ° C. 16.7 g (15.4 mmol) of glycol monomethacrylate (manufactured by NOF Corporation, Blenmer PME-1000), 18.7 g (9.0 mmol) of methoxypolyethylene glycol monomethacrylate (manufactured by NOF Corporation, Blenmer PME-2000) ), 1.86 g (4.3 mmol) of polyethylene glycol monomethacrylate (Blenmer PE-350, manufactured by NOF Corporation), 0.22 g of azo-based polymerization initiator (V-40, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) And a mixture of 26.5 g of PGMEA are fed over 4 hours It was reacted for 4 hours at 90 ° C.. The obtained reaction solution was fed over 1 hour to a mixture of 200 ml of isopropyl ether and 600 ml of hexane cooled with ice, filtered, and dried in vacuo to obtain Compound I. GPC measurement of the obtained compound I showed that the molecular weight was MW28610.

次に、化合物I 10.5g(8.1mmol)、ジメタクリル酸無水物(アルドリッチ製)0.0684g(0.42mmol)、ジクロロメタン263ml、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン0.023g及びトリエチルアミン0.042gを反応容器に入れ一晩室温攪拌後、反応液を分液ロートに移し8質量%炭酸水素ナトリウム及び1M HClにて水洗を行い、分液した反応液をエバポレーションし、酢酸エチルを60ml加え、氷冷したイソプロピルエーテル80ml及びヘキサン240mlの混合液に30分でフィードを行い、ろ過、真空乾燥を行い、化合物Jを得た。得られた化合物JのGPC測定を行ったところ分子量はMW32300であった。   Next, 10.5 g (8.1 mmol) of compound I, 0.0684 g (0.42 mmol) of dimethacrylic anhydride (manufactured by Aldrich), 263 ml of dichloromethane, 0.023 g of N, N-dimethyl-4-aminopyridine and triethylamine After putting 0.042 g in a reaction vessel and stirring overnight at room temperature, the reaction solution was transferred to a separating funnel, washed with 8% by mass sodium hydrogen carbonate and 1 M HCl, and the separated reaction solution was evaporated, and ethyl acetate was removed. 60 ml was added, and the mixture was fed into a mixture of ice-cooled 80 ml of isopropyl ether and 240 ml of hexane in 30 minutes, followed by filtration and vacuum drying to obtain a compound J. GPC measurement of the obtained compound J showed that the molecular weight was MW32300.

<構造体の製造>
(構造体の製造例1)
第1の基体としての、貫通孔(直径0.7mm)と溝構造(矩形形状、幅100μm、深さ20μm、長さ10mm)を有するアクリル樹脂を用いた疎水性表面を有する成形加工品(縦20mm、横30mm、厚さ1mm)と、第2の基体としての蓋となる基板(アクリル樹脂製平板、縦20mm、横30mm、厚さ0.2mm)を用意した。予めプラズマ処理を行い基板の接触角を75°から50°に低下させた。次に、上記化合物C(EO−PO−EOジメタクリレート、EO:PO=40:60、平均分子量3870)、IRUGACURE−2959(1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、BASF社製)、メタノール及び純水を10:0.3:45:45質量部の配合比で混合した感光性組成物C(硬化膜の水の接触角70°)を準備し、成形加工品の溝構造側と蓋となる基板の全面にスピンコート法により感光性組成物Cを塗布し、オーブン乾燥機により50℃×10分の乾燥を行った。
<Manufacture of structure>
(Production Example 1 of Structure)
A molded product having a hydrophobic surface made of an acrylic resin having a through hole (diameter 0.7 mm) and a groove structure (rectangular shape, width 100 μm, depth 20 μm, length 10 mm) as a first base (vertical) 20 mm, width 30 mm, thickness 1 mm) and a substrate (a flat plate made of acrylic resin, length 20 mm, width 30 mm, thickness 0.2 mm) serving as a lid as a second base were prepared. Plasma contact was performed in advance to reduce the contact angle of the substrate from 75 ° to 50 °. Next, the compound C (EO-PO-EO dimethacrylate, EO: PO = 40: 60, average molecular weight 3870), IRUGACURE-2959 (1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy Photosensitive composition C (water of a cured film) obtained by mixing 2-methyl-1-propan-1-one (manufactured by BASF), methanol and pure water at a mixing ratio of 10: 0.3: 45: 45 parts by mass. Is prepared, a photosensitive composition C is applied by spin coating on the entire surface of the substrate serving as the lid and the groove structure side of the molded product, and dried at 50 ° C. for 10 minutes by an oven drier. went.

続いて、空気雰囲気中で成形加工品の塗膜面と蓋基板の塗膜面とを1000Nの圧力で密着させ、LEDランプ(照度:20mW/cm3、波長:365nm)により3000mJ露光し、基板複合体(構造体)を得た。得られた基板複合体の流路に純水を20μl/minでマイクロシリンジポンプにより通液し、減圧吸引により溝構造に充填された純水の除去を行い、その後50℃×10分の真空乾燥を行った。得られた基板複合体に1質量%ローダミンB水溶液(蛍光染料、硬化膜の蛍光染色剤として使用)を20μl/minで通水し蛍光観察したところ、ローダミンB蛍光染料液が接着面に回り込んでいる様子や接合面におけるにじみは観察されず、良好な接着面であった。また、続いて染色液を吸引除去したのち純水を通水して流路内面の洗浄を行った後、基板複合体を顕微鏡観察したところ、流路内面には感光性組成物の硬化による染色形跡もなく、現像により感光性組成物が除去されていた。Subsequently, the coating surface of the molded product and the coating surface of the lid substrate are brought into close contact with each other at a pressure of 1000 N in an air atmosphere, and the substrate is exposed to 3000 mJ with an LED lamp (illuminance: 20 mW / cm 3 , wavelength: 365 nm). A composite (structure) was obtained. Pure water is passed through the flow path of the obtained substrate composite at a rate of 20 μl / min by a micro syringe pump, and the pure water filled in the groove structure is removed by suction under reduced pressure. Then, vacuum drying is performed at 50 ° C. for 10 minutes. Was done. When a 1% by mass aqueous solution of rhodamine B (used as a fluorescent dye and a fluorescent dye for a cured film) was passed through the obtained substrate composite at 20 μl / min and observed under fluorescence, the rhodamine B fluorescent dye solution wrapped around the bonding surface. No bleeding was observed on the bonding surface, and the bonding surface was good. Further, after the dyeing solution was suctioned and removed, the inner surface of the flow channel was washed by passing pure water through, and the substrate composite was observed under a microscope. The inner surface of the flow channel was dyed by curing of the photosensitive composition. There was no evidence and the photosensitive composition was removed by development.

なお、接触角は、動的接触角計による純水を用いた液滴法により求めた。   The contact angle was determined by a dynamic contact angle meter using a droplet method using pure water.

(構造体の製造例2)
まず、上記構造体の製造例1で用いたものと同様の成形加工品(第1の基体)と基板(第2の基体)を準備し、予めプラズマ処理を行い基板の接触角を75°から50°に低下させた。
(Structure Production Example 2)
First, a molded product (first substrate) and a substrate (second substrate) similar to those used in Production Example 1 of the above structure are prepared, and a plasma treatment is performed in advance to increase the contact angle of the substrate from 75 °. Reduced to 50 °.

次に、ポリエチレングリコール(アルドリッチ製、平均分子量3350)29.2g(8.7mmol)、ジメタクリル酸無水物(アルドリッチ製)3.0g(19.5mmol)、ジクロロメタン 300ml、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン0.03g、トリエチルアミン1.97gを反応容器に入れ一晩室温攪拌後、反応液を分液ロートに移し8質量%炭酸水素ナトリウム及び1M HClにて水洗を行い、分液した反応液をエバポレーションし、酢酸エチルを60ml加え、氷冷したイソプロピルエーテル200mlとヘキサン600mlの混合液に1時間かけてフィードし、ろ過後に真空乾燥を行い、化合物K(ポリエチレングリコールジメタクリレート)を得た。得られた化合物KのGPC測定を行ったところ分子量はMW3650であった。その後、化合物K(ポリエチレングリコールジメタクリレート、平均分子量3650)、IRUGACURE−2959(1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、BASF社製)、メタノール及び純水を10:0.3:45:45質量部の配合比で混合した感光性組成物Kを準備し、成形加工品の溝構造側と蓋基板の全面にスピンコートにより感光性組成物Kの塗布を行い、真空乾燥機を用いて50℃×10分の乾燥を行った。続いて、各基板を窒素雰囲気下においてLEDランプ(照度:20mW/cm3、波長:365nm)により3000mJ露光し、純水洗浄、50℃×10分の真空乾燥により親水化処理された成形加工品と親水化処理蓋基板を得た。得られた両基板の硬化膜表面の接触角を各々測定したところ双方ともに35°であった。Next, 29.2 g (8.7 mmol) of polyethylene glycol (manufactured by Aldrich, average molecular weight 3350), 3.0 g (19.5 mmol) of dimethacrylic anhydride (manufactured by Aldrich), 300 ml of dichloromethane, N, N-dimethyl-4 -Aminopyridine (0.03 g) and triethylamine (1.97 g) were placed in a reaction vessel and stirred overnight at room temperature. The reaction solution was transferred to a separating funnel, washed with 8% by mass sodium hydrogen carbonate and 1 M HCl, and separated. Was evaporated, 60 ml of ethyl acetate was added, and the mixture was fed over 1 hour to a mixture of 200 ml of ice-cooled isopropyl ether and 600 ml of hexane, followed by filtration and vacuum drying to obtain compound K (polyethylene glycol dimethacrylate). GPC measurement of the obtained Compound K showed that the molecular weight was MW3650. Thereafter, compound K (polyethylene glycol dimethacrylate, average molecular weight 3650), IRUGACURE-2959 (1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, BASF), and a photosensitive composition K prepared by mixing methanol and pure water at a mixing ratio of 10: 0.3: 45: 45 parts by mass, and spinning on the groove structure side of the molded product and the entire surface of the lid substrate. The photosensitive composition K was applied by a coat, and dried at 50 ° C. × 10 minutes using a vacuum dryer. Subsequently, each substrate was subjected to 3000 mJ exposure with an LED lamp (illuminance: 20 mW / cm 3 , wavelength: 365 nm) in a nitrogen atmosphere, washed with pure water, and subjected to hydrophilic treatment by vacuum drying at 50 ° C. × 10 minutes for a molded product. And a hydrophilized lid substrate was obtained. When the contact angles of the cured films on both substrates obtained were measured, both were 35 °.

この親水化処理成形加工品と親水化処理蓋基板を用いて、製造例1と同様にして、上記感光性組成物Cの塗布、乾燥、空気雰囲気中で密着露光、現像、乾燥を行い、基板複合体を得た。得られた基板複合体に純水をナチュラルフローにて通水したところ、詰まることなく非常にスムーズに通水することができた。更に、1質量%ローダミンB蛍光染料を20μl/min.で注入し蛍光観察したところ、接合面ににじみが無く良好な接着面であることが分かった。   Using the hydrophilized molded product and the hydrophilized lid substrate, in the same manner as in Production Example 1, application and drying of the photosensitive composition C, contact exposure in an air atmosphere, development, and drying were performed. The complex was obtained. When pure water was passed through the obtained substrate composite by a natural flow, water could be passed very smoothly without clogging. Further, 1% by mass rhodamine B fluorescent dye was injected at 20 μl / min. And observed under fluorescent light. As a result, it was found that the bonded surface had no bleeding and was a good adhesive surface.

(構造体の製造例3)
図3に示す製造方法と同様の方法により、以下のようにして構造体を得た。
(Structure Production Example 3)
A structure was obtained as follows by a method similar to the manufacturing method shown in FIG.

まず、上記構造体の製造例1で用いたものと同様の成形加工品(第3の基体)を準備し、予めプラズマ処理を行い基板の接触角を75°から50°に低下させた。次に図3(b)に示したように成形加工品の主面に垂直な軸を回転軸として回転させ該成形加工品の上に上記感光性組成物Fを塗布した。その後、図3(d)に示したように感光性組成物Fの塗膜に対して空気雰囲気中にて全面露光(超高圧水銀灯、波長350nm、5mw/cm、1000mJ)を行うことにより、感光性組成物Fを硬化させ、純水現像、50℃×10分の真空乾燥を行い第1の樹脂膜を得た。第1の樹脂膜の接触角を測定したところ、30°であった。First, a molded product (third base) similar to that used in Production Example 1 of the above-mentioned structure was prepared, and plasma treatment was performed in advance to reduce the contact angle of the substrate from 75 ° to 50 °. Next, as shown in FIG. 3B, the photosensitive composition F was applied onto the molded product by rotating the molded product with an axis perpendicular to the main surface as a rotation axis. Thereafter, as shown in FIG. 3D, the entire surface of the coating film of the photosensitive composition F is exposed to light (ultra high pressure mercury lamp, wavelength of 350 nm, 5 mw / cm 2 , 1000 mJ) in an air atmosphere, thereby obtaining The photosensitive composition F was cured, developed with pure water, and vacuum dried at 50 ° C. × 10 minutes to obtain a first resin film. When the contact angle of the first resin film was measured, it was 30 °.

次に、図3(e)に示したように、第1の樹脂膜上に上記感光性組成物D(接触角65°)を塗布した。成形加工品の主面に垂直な軸を回転軸として回転させ、感光性組成物Dの塗膜を第1の樹脂膜の上に形成した。その後、図3(h)に示したようにマスク13を介して空気雰囲気中にて露光(超高圧水銀灯、波長350nm、5mw/cm、1000mJ)し純水により現像、乾燥を行った。得られた成形加工品に純水を滴下したところ、周辺よりも接触角の低い溝の中に優先的に純水が流れ込む様子が確認された。Next, as shown in FIG. 3E, the photosensitive composition D (contact angle 65 °) was applied on the first resin film. The molded product was rotated around an axis perpendicular to the main surface of the molded product to form a coating film of the photosensitive composition D on the first resin film. Thereafter, as shown in FIG. 3 (h), exposure was performed through a mask 13 in an air atmosphere (ultra high pressure mercury lamp, wavelength 350 nm, 5 mw / cm 2 , 1000 mJ), and development and drying were performed with pure water. When pure water was dropped on the obtained molded product, it was confirmed that pure water preferentially flowed into a groove having a lower contact angle than the periphery.

(構造体の製造例4)
図3に示す製造方法と同様の方法により、以下のようにして構造体を得た。
(Production Example 4 of Structure)
A structure was obtained as follows by a method similar to the manufacturing method shown in FIG.

まず、上記基板複合体の製造例1で用いたものと同様の成形加工品(第3の基体)を準備し、予めプラズマ処理を行い基板の接触角を75°から50°に低下させた。次に図3(b)に示したように成形加工品の主面に垂直な軸を回転軸として回転させ該成形加工品の上に上記感光性組成物Fを塗布した。その後、図3(d)に示したように感光性組成物Fの塗膜に対して空気雰囲気中にて全面露光(超高圧水銀灯、波長350nm、5mw/cm、1000mJ)を行うことにより、感光性組成物Fを硬化させ、純水現像、50℃×10分の真空乾燥を行い第1の樹脂膜を得た。第1の樹脂膜の接触角を測定したところ、30°であった。First, a molded product (third substrate) similar to that used in Production Example 1 of the above-mentioned substrate composite was prepared, and plasma treatment was performed in advance to reduce the contact angle of the substrate from 75 ° to 50 °. Next, as shown in FIG. 3B, the photosensitive composition F was applied onto the molded product by rotating the molded product with an axis perpendicular to the main surface as a rotation axis. Thereafter, as shown in FIG. 3D, the entire surface of the coating film of the photosensitive composition F is exposed to light (ultra high pressure mercury lamp, wavelength of 350 nm, 5 mw / cm 2 , 1000 mJ) in an air atmosphere, thereby obtaining The photosensitive composition F was cured, developed with pure water, and vacuum dried at 50 ° C. × 10 minutes to obtain a first resin film. When the contact angle of the first resin film was measured, it was 30 °.

次に、図3(e)に示したように、第1の樹脂膜上に上記感光性組成物E(接触角60°)を塗布した。成形加工品の主面に垂直な軸を回転軸として回転させ、感光性組成物Eの塗膜を第1の樹脂膜の上に形成した。その後、図3(h)に示したようにマスク13を介して空気雰囲気中にて露光(超高圧水銀灯、波長350nm、5mw/cm、1000mJ)し純水により現像、乾燥を行った。得られた成形加工品に純水を滴下したところ、周辺よりも接触角の低い溝の中に優先的に純水が流れ込む様子が確認された。Next, as shown in FIG. 3E, the photosensitive composition E (contact angle: 60 °) was applied on the first resin film. By rotating around an axis perpendicular to the main surface of the molded product as a rotation axis, a coating film of the photosensitive composition E was formed on the first resin film. Thereafter, as shown in FIG. 3 (h), exposure was performed through a mask 13 in an air atmosphere (ultra high pressure mercury lamp, wavelength 350 nm, 5 mw / cm 2 , 1000 mJ), and development and drying were performed with pure water. When pure water was dropped on the obtained molded product, it was confirmed that pure water preferentially flowed into a groove having a lower contact angle than the periphery.

感光性組成物D〜Fは光架橋において酸素透過性の低いポリビニルアルコールを主体としているため酸素で失活しにくく、製造しやすい効果がある。   Since the photosensitive compositions D to F are mainly composed of polyvinyl alcohol having low oxygen permeability in photocrosslinking, they are hardly deactivated by oxygen, and have an effect of being easily manufactured.

(構造体の製造例5)
まず、上記構造体の製造例1で用いたものと同様の成形加工品(第1の基体)と基板(第2の基体)を準備した。
(Structure Manufacturing Example 5)
First, a molded product (first base) and a substrate (second base) similar to those used in Production Example 1 of the above structure were prepared.

次に、上記化合物H、IRUGACURE−2959(1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、BASF社製)、メタノール及び純水を5:0.2:47.5:47.5質量部の配合比で混合した感光性組成物H(接触角62°)を準備した。成形加工品の溝構造側と蓋基板の全面に上記感光性組成物Hをスピンコートにより塗布したところ、プラズマ処理をしていない疎水的な基板上(接触角75°)にて良好な塗膜が得られた。次に、オーブン乾燥機を用いて50℃×10分の乾燥を行った。続いて、各基板を空気雰囲気下において成形加工品の塗膜面と蓋基板の塗膜面とを1000Nの圧力で密着させLEDランプ(照度:20mW/cm3、波長:365nm)により3000mJ露光し、基板複合体(構造体)を得た。得られた基板複合体の流路に純水を20μl/minでマイクロシリンジポンプにより通液し、減圧吸引により溝構造に充填された純水の除去を行い、その後50℃×10分の真空乾燥を行った。得られた基板複合体に1質量%ローダミンB水溶液(蛍光染料、硬化膜の蛍光染色剤として使用)を20μl/minで通水し蛍光観察したところ、ローダミンB蛍光染料液が接着面に回り込んでいる様子や接合面におけるにじみは観察されず、良好な接着面であった。また、続いて染色液を吸引除去したのち純水を通水して流路内面の洗浄を行った後、基板複合体を顕微鏡観察したところ、流路内面には感光性組成物の硬による染色形跡もなく、現像により感光性組成物が除去されていた。Next, the above compound H, IRUGACURE-2959 (1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, manufactured by BASF), methanol and pure A photosensitive composition H (contact angle 62 °) was prepared by mixing water at a mixing ratio of 5: 0.2: 47.5: 47.5 parts by mass. When the photosensitive composition H was applied by spin coating to the groove structure side of the molded product and the entire surface of the lid substrate, a good coating film was formed on a hydrophobic substrate (contact angle 75 °) not subjected to plasma treatment. was gotten. Next, drying was performed at 50 ° C. × 10 minutes using an oven dryer. Then, the coating surface of the molded product and the coating surface of the lid substrate were brought into close contact with each other under a pressure of 1000 N under an air atmosphere, and the substrate was exposed to 3000 mJ with an LED lamp (illuminance: 20 mW / cm 3 , wavelength: 365 nm). Thus, a substrate composite (structure) was obtained. Pure water is passed through the flow path of the obtained substrate composite at a rate of 20 μl / min by a micro syringe pump, and the pure water filled in the groove structure is removed by suction under reduced pressure. Then, vacuum drying is performed at 50 ° C. for 10 minutes. Was done. When a 1% by mass aqueous solution of rhodamine B (used as a fluorescent dye and a fluorescent dye for a cured film) was passed through the obtained substrate composite at 20 μl / min and observed under fluorescence, the rhodamine B fluorescent dye solution wrapped around the bonding surface. No bleeding was observed on the bonding surface, and the bonding surface was good. After the dyeing solution was removed by suction, the inner surface of the flow channel was washed by passing pure water through it, and then the substrate composite was observed under a microscope. The inner surface of the flow channel was stained with the hardened photosensitive composition. There was no evidence and the photosensitive composition was removed by development.

(構造体の製造例6)
図3に示す製造方法と同様の方法により、以下のようにして構造体を得た。
(Example 6 of manufacturing structure)
A structure was obtained as follows by a method similar to the manufacturing method shown in FIG.

まず、上記構造体の製造例1で用いたものと同様の成形加工品(第3の基体)を準備し、図3(a)のようにして該成形加工品の上に上記化合物B、IRUGACURE−2959(1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、BASF社製)、メタノール及び純水を5:0.2:47.5:47.5質量部の配合比で混合した感光性組成物Bを図3(b)に示したように成形加工品の主面に垂直な軸を回転軸として回転させ塗布したところ、プラズマ処理をしていない疎水的な基板上(接触角75°)にて良好な塗膜が得られた。次に、オーブン乾燥機を用いて50℃×10分の乾燥を行った。その後、図3(d)に示したように塗膜に対して窒素雰囲気中で全面露光(超高圧水銀灯、波長350nm、5mw/cm、1000mJ)を行うことにより、感光性組成物Gを硬化させ、純水現像、50℃×10分の真空乾燥を行い第1の樹脂膜を得た。第1の樹脂膜の接触角を測定したところ、35°であった。First, a molded product (third substrate) similar to that used in Production Example 1 of the structure was prepared, and the compound B and IRUGACURE were placed on the molded product as shown in FIG. -2959 (1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, manufactured by BASF), methanol and pure water 5: 0.2: As shown in FIG. 3 (b), the photosensitive composition B mixed at a mixing ratio of 47.5: 47.5 parts by mass was applied while being rotated about an axis perpendicular to the main surface of the molded product as a rotation axis. A good coating film was obtained on a hydrophobic substrate not subjected to plasma treatment (contact angle: 75 °). Next, drying was performed at 50 ° C. × 10 minutes using an oven dryer. Thereafter, as shown in FIG. 3D, the entire surface of the coating film is exposed to light (ultra high pressure mercury lamp, 350 nm, 5 mw / cm 2 , 1000 mJ) in a nitrogen atmosphere to cure the photosensitive composition G. Then, pure water development and vacuum drying at 50 ° C. for 10 minutes were performed to obtain a first resin film. The measured contact angle of the first resin film was 35 °.

次に、図3(e)に示したように、第1の樹脂膜上に、上記化合物H、IRUGACURE−2959(1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、BASF社製)、メタノール及び純水を5:0.2:47.5:47.5質量部の配合比で混合した感光性組成物H(接触角62°)を塗布した。成形加工品の主面に垂直な軸を回転軸として回転させ、組成物Hの塗膜を第1の樹脂膜の上に形成した。その後、図3(h)に示したようにマスク13を介して窒素雰囲気中で露光(超高圧水銀灯、波長350nm、5mw/cm、1000mJ)し純水により現像、乾燥をおこなった。得られた成型加工品に純水を滴下したところ、周辺よりも接触角の低い溝の流路の中に優先的に純水が流れていく様子が確認された。Next, as shown in FIG. 3E, the compound H, IRUGACURE-2959 (1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2) was formed on the first resin film. -Methyl-1-propan-1-one, manufactured by BASF, methanol and pure water at a mixing ratio of 5: 0.2: 47.5: 47.5 parts by mass (contact angle H) 62 °). By rotating around an axis perpendicular to the main surface of the molded product as a rotation axis, a coating film of the composition H was formed on the first resin film. Thereafter, as shown in FIG. 3H, exposure (ultra high pressure mercury lamp, wavelength 350 nm, 5 mw / cm 2 , 1000 mJ) was performed through a mask 13 in a nitrogen atmosphere, and development and drying were performed with pure water. When pure water was dropped onto the obtained molded product, it was confirmed that pure water preferentially flows into the flow path of the groove having a lower contact angle than the periphery.

(構造体の製造例7)
図3に示す製造方法と同様の方法により、以下のようにして構造体を得た。
(Structure Manufacturing Example 7)
A structure was obtained as follows by a method similar to the manufacturing method shown in FIG.

まず、上記構造体の製造例1で用いたものと同様の成形加工品(第3の基体)を準備し、図3(a)のようにして該成形加工品の上に、化合物J、IRUGACURE−2959(1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、BASF社製)、メタノール及び純水を5:0.2:47.5:47.5質量部の配合比で混合した感光性組成物Jを準備し、上記感光性組成物Jを塗布した。塗布を行ったところ、プラズマ処理を行っていない疎水的なアクリル樹脂成型加工品表面においてハジキが発生し良好な塗膜が得られなかった。   First, a molded product (third substrate) similar to that used in Production Example 1 of the above structure was prepared, and as shown in FIG. 3A, compound J and IRUGACURE were placed on the molded product. -2959 (1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, manufactured by BASF), methanol and pure water 5: 0.2: A photosensitive composition J mixed at a mixing ratio of 47.5: 47.5 parts by mass was prepared, and the photosensitive composition J was applied. Upon application, repelling occurred on the surface of the hydrophobic acrylic resin molded product that had not been subjected to the plasma treatment, and a good coating film could not be obtained.

1:第1の基体
2:第2の基体
3:組成物の塗膜
4:樹脂膜
7:第3の基体
8:第1の組成物
11:第2の組成物
15:リザーバー
19:栓
31:フォルダ
38:包装資材
1: first substrate 2: second substrate 3: coating film of composition 4: resin film 7: third substrate 8: first composition 11: second composition 15: reservoir 19: stopper 31 : Folder 38: Packaging material

Claims (10)

凹凸パターンを有する第1の面と第2の面とを備えた第1の基体を準備する第1の工程と、
前記第1の面の少なくとも一部に組成物を配置する第2の工程と、
第2の基体を準備し、前記第1の基体と前記第2の基体とを密着させ、前記第1の基体の凸部と前記第2の基体とを前記組成物を介して密着させ、
前記組成物の少なくとも一部にマスクを介さずにエネルギーを付与することにより、前記第1の基体の前記凸部の前記組成物を硬化させて硬化物を形成する第3の工程と、
前記第1の基体の凹部の未硬化の前記組成物を溶媒で除去して、前記凹部と前記凸部とを有し、前記凸部に前記硬化物が形成された構造体を得る第4の工程と、を含み、
前記組成物が、酸素で重合反応が抑制され、未硬化の状態で親水性であり且つ硬化後に水に対する接触角が60°以上であり、
前記溶媒が極性の高い溶媒である、マイクロ流路を有する構造体の製造方法。
A first step of preparing a first base having a first surface having a concavo-convex pattern and a second surface;
A second step of disposing a composition on at least a part of the first surface;
And providing a second substrate is brought into close contact with a front Symbol first substrate and the second substrate, and a convex portion of the first substrate and the second substrate is brought into close contact through the composition,
A third step of applying the energy to at least a part of the composition without using a mask to cure the composition of the protrusions of the first base to form a cured product;
A fourth step of removing the uncured composition of the concave portions of the first base with a solvent to obtain a structure having the concave portions and the convex portions and the cured product formed on the convex portions . And a process,
The composition, the polymerization reaction is suppressed by oxygen, hydrophilic in an uncured state and after curing has a contact angle to water of 60 ° or more,
A method for producing a structure having a microchannel, wherein the solvent is a highly polar solvent.
前記組成物が、下記(a)、(b)及び(c)のいずれかの化合物を含む、請求項1に記載のマイクロ流路を有する構造体の製造方法。
(a)化合物:下記一般式(1)で表される第1のユニットと、下記一般式(2)で表される第2のユニットと、下記一般式(4)で表される第4のユニットと、を含み、
前記第1のユニット及び前記第2のユニットは、互いに異なる構造を有する化合物。
Figure 0006637764
(一般式(1)中、置換基Aは下記の一般式(5)で表される炭素を含む2価の置換基であり、置換基Bは下記の一般式(6)で表される炭素を含む2価の置換基、アルキレン基、ポリプロピレンオキシド基及びポリブチレンオキシド基からなる群より選択されるいずれかであり、置換基Cは炭素数3以上20以下のアルキル基であり、Rは水素原子又はアルキル基であり、wは自然数であり、aは1であり、bは1〜100である。)
Figure 0006637764
Figure 0006637764
Figure 0006637764
(一般式(2)中、置換基Dは前記一般式(5)で表される炭素を含む2価の置換基であり、置換基Eは前記一般式(6)で表される炭素を含む2価の置換基、アルキレン基、ポリプロピレンオキシド基及びポリブチレンオキシド基からなる群より選択されるいずれかであり、置換基Fは、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基及びエポキシ基からなる群より選択されるいずれかであり、Rは水素原子又はアルキル基であり、xは自然数であり、dは1であり、eは1〜100である。)
Figure 0006637764
(一般式(4)中、置換基Jは前記一般式(5)で表される炭素を含む2価の置換基であり、置換基Kは前記一般式(6)で表される炭素を含む2価の置換基、アルキレン基、ポリプロピレンオキシド基及びポリブチレンオキシド基からなる群より選択されるいずれかであり、置換基Lは炭素数2以下のアルキル基であり、Rは水素原子又はアルキル基であり、zは自然数であり、jは1であり、kは1〜100である。)
(b)化合物:ポリビニールアルコール系重合体にアジド基が結合した感光性樹脂。
(c)化合物:ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールブロックコポリマーと、ジメタクリル酸無水物化合物と、を反応させた化合物。
The method for producing a structure having a microchannel according to claim 1, wherein the composition contains any of the following compounds (a), (b), and (c).
(A) Compound: a first unit represented by the following general formula (1), a second unit represented by the following general formula (2), and a fourth unit represented by the following general formula (4) And a unit,
A compound in which the first unit and the second unit have structures different from each other.
Figure 0006637764
(In the general formula (1), the substituent A is a divalent substituent containing carbon represented by the following general formula (5), and the substituent B is a carbon atom represented by the following general formula (6). And any one selected from the group consisting of a divalent substituent, an alkylene group, a polypropylene oxide group and a polybutylene oxide group, wherein the substituent C is an alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and R 1 is A hydrogen atom or an alkyl group, w is a natural number, a is 1, and b is 1 to 100.)
Figure 0006637764
Figure 0006637764
Figure 0006637764
(In the general formula (2), the substituent D is a divalent substituent containing carbon represented by the general formula (5), and the substituent E contains carbon represented by the general formula (6). Any one selected from the group consisting of a divalent substituent, an alkylene group, a polypropylene oxide group and a polybutylene oxide group, wherein the substituent F is composed of a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an allyl group and an epoxy group R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group, x is a natural number, d is 1 and e is 1 to 100.)
Figure 0006637764
(In the general formula (4), the substituent J is a bivalent substituent containing carbon represented by the general formula (5), and the substituent K contains carbon represented by the general formula (6). Any one selected from the group consisting of a divalent substituent, an alkylene group, a polypropylene oxide group and a polybutylene oxide group, wherein the substituent L is an alkyl group having 2 or less carbon atoms, and R 4 is a hydrogen atom or an alkyl Group, z is a natural number, j is 1 and k is 1 to 100.)
(B) Compound: a photosensitive resin in which an azide group is bonded to a polyvinyl alcohol-based polymer.
(C) Compound: a compound obtained by reacting polyethylene glycol-polypropylene glycol-polyethylene glycol block copolymer with a dimethacrylic anhydride compound.
前記極性の高い溶媒が、水、メタノール、エタノール、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル及びジメチルホルムアミドからなる群より選択されるいずれかを含む請求項1又は2に記載のマイクロ流路を有する構造体の製造方法。   3. The method according to claim 1, wherein the highly polar solvent includes any one selected from the group consisting of water, methanol, ethanol, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, and dimethylformamide. 4. 前記極性の高い溶媒が、水、メタノール及びエタノールからなる群より選択されるいずれかを含む請求項1又は2に記載のマイクロ流路を有する構造体の製造方法。   3. The method according to claim 1, wherein the highly polar solvent includes any one selected from the group consisting of water, methanol, and ethanol. 4. 前記(a)化合物は、さらに下記一般式(3)で表される第3のユニットを含んでいる請求項1〜4のいずれか一項に記載のマイクロ流路を有する構造体の製造方法。
Figure 0006637764
(一般式(3)中、置換基Gは前記一般式(5)で表される炭素を含む置換基であり、置換基Hは前記一般式(6)で表される炭素を含む2価の置換基、アルキレン基、ポリプロピレンオキシド基及びポリブチレンオキシド基からなる群より選択されるいずれかであり、置換基Iはヒドロキシ基、アミノ基、シリル基及びカルボキシ基からなる群より選択されるいずれかであり、Rは水素原子又はアルキル基であり、yは自然数であり、gは1であり、hは1〜100である。)
The method for producing a structure having a microchannel according to any one of claims 1 to 4, wherein the compound (a) further includes a third unit represented by the following general formula (3).
Figure 0006637764
(In the general formula (3), the substituent G is a carbon-containing substituent represented by the general formula (5), and the substituent H is a divalent carbon-containing substituent represented by the general formula (6). A substituent, an alkylene group, any one selected from the group consisting of a polypropylene oxide group and a polybutylene oxide group, and the substituent I is any one selected from the group consisting of a hydroxy group, an amino group, a silyl group and a carboxy group R 3 is a hydrogen atom or an alkyl group, y is a natural number, g is 1, and h is 1 to 100.)
前記第1のユニットの置換基Cは炭素原子を5個以上含む置換基である、請求項1〜5のいずれか一項に記載のマイクロ流路を有する構造体の製造方法。   The method for manufacturing a structure having a microchannel according to any one of claims 1 to 5, wherein the substituent C of the first unit is a substituent containing 5 or more carbon atoms. 前記第1の工程は、基板の少なくとも前記凹部に親水性樹脂膜を配置又は形成する第1の副工程を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載のマイクロ流路を有する構造体の製造方法。   The structure having a microchannel according to any one of claims 1 to 6, wherein the first step includes a first sub-step of arranging or forming a hydrophilic resin film in at least the concave portion of the substrate. Manufacturing method. 前記第3の工程を、前記第1の基体及び前記組成物が包装するための包装資材により包装された状態で行う、請求項1〜7のいずれか一項に記載のマイクロ流路を有する構造体の製造方法。   The structure having a microchannel according to any one of claims 1 to 7, wherein the third step is performed in a state where the first substrate and the composition are packaged with a packaging material for packaging. How to make the body. 前記エネルギーは、電磁波を用いて前記組成物に付与される、請求項1〜8のいずれか一項に記載のマイクロ流路を有する構造体の製造方法。   The method for manufacturing a structure having a microchannel according to any one of claims 1 to 8, wherein the energy is applied to the composition using an electromagnetic wave. 前記電磁波は、ガンマ線又はエックス線である、請求項9に記載のマイクロ流路を有する構造体の製造方法。   The method according to claim 9, wherein the electromagnetic wave is a gamma ray or an X-ray.
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