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JP6715368B2 - Wiring circuit board - Google Patents
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Description

本発明は、ヘッド・サスペンション用フレキシャー等に供される配線回路基板に関する。 The present invention relates to a printed circuit board used for a flexure for a head suspension.

近年、ハード・ディスク・ドライブ(HDD)のさらなる高密度化や信頼性向上のため、磁気ヘッドには従来からある読み書き素子の他に、フライハイト制御用ヒーター、ハード・ディスク・インターフェイス(HDI)センサー等の機能が組み込まれ、さらにエネルギーアシスト記録等の追加機能の組み込みが検討されており、接地用端子を含めると、10端子以上となる製品が多くなった。 In recent years, in order to further increase the density and improve the reliability of hard disk drives (HDD), in addition to conventional read/write elements for magnetic heads, fly height control heaters, hard disk interface (HDI) sensors, etc. In addition to the above functions, additional functions such as energy assisted recording are being considered, and the number of products with more than 10 terminals has increased, including the ground terminal.

また、現在のHDDにおいては、Femtoスライダー「Femto Slider」と呼ばれる幅がわずか0.7mm程度のスライダーが使用されている。この0.7mm幅の内側に配されたスライダーとサスペンションとの10個を超える端子相互を短絡させることなく結合しなければならないのが実情となっている。 Further, in the present HDD, a slider called Femto slider “Femto Slider” having a width of only about 0.7 mm is used. In reality, it is necessary to connect more than 10 terminals of the slider and the suspension arranged inside the 0.7 mm width without short-circuiting each other.

ここで、スライダーとサスペンションとの端子相互の結合は、特許文献1〜5のようにマイクロ半田ボールを使用したリフローで行われることが多い。 Here, the connection between the terminals of the slider and the suspension is often performed by reflow using micro solder balls as in Patent Documents 1 to 5.

図17は、マイクロ半田ボールのリフローによるフレキシャーのヘッド部側の端子結合を示し、(A)は、相対的に大きなサイズ、(B)は、相対的に小さなサイズを示す概略断面図である。 17A and 17B are schematic cross-sectional views showing the terminal connection on the head side of the flexure by the reflow of the micro solder balls, where FIG. 17A is a relatively large size and FIG. 17B is a relatively small size.

図17(A)、(B)のように、スライダー101の端子部103とフレキシャー105の端子部107との間の谷となった部分にマイクロ半田ボール109を置き、リフローすることでフィレット111を形成して端子部103、107を半田結合している。 As shown in FIGS. 17A and 17B, a micro solder ball 109 is placed in a valley between the terminal portion 103 of the slider 101 and the terminal portion 107 of the flexure 105, and the fillet 111 is reflowed. The terminal portions 103 and 107 are formed and soldered.

ここで、端子部107の数が相対的に少ない場合、例えば読み取り用、書き込み用の素子のみに応じた4個である場合は、端子部103、107は相対的に大きくでき、用いられる半田ボール109も大きなものを用いることができ、フィレット111も十分な太さのものを形成することができる。 Here, when the number of terminals 107 is relatively small, for example, when the number of terminals for reading and writing is four, the terminals 103 and 107 can be made relatively large. As the 109, a large one can be used, and the fillet 111 can be formed to have a sufficient thickness.

しかし、多機能に対応させるために端子部107が10個などと増加して相対的に数が多い場合は、図17(B)のように、端子部103、107が小さくなって、用いられる半田ボール109も相対的に小さくなり、フィレット111も細く、十分な太さには形成することができなくなる。このため、端子部103、107間の結合不良を招く割合が増加する問題があった。 However, when the number of terminal portions 107 is relatively large, such as 10 in order to support multiple functions, the terminal portions 103 and 107 are used in a small size as shown in FIG. 17B. The solder ball 109 also becomes relatively small, and the fillet 111 is also thin, so that it cannot be formed to have a sufficient thickness. For this reason, there is a problem that the rate of causing defective coupling between the terminal portions 103 and 107 increases.

テール部側においては、メイン・フレキシャーとの間で半田ボールによる端子部の結合が行われ、半田ボールが小さくなることによる同様の問題があった。 On the tail side, there is a similar problem due to the fact that the solder balls are connected to the terminal portions with the main flexure and the solder balls become smaller.

位置決め用の圧電素子においては、フレキシャーの端子部と導電性ペーストでの結合が行われ、より少ない導電性ペーストでは接合不良を招く恐れがあった。 In the positioning piezoelectric element, the terminals of the flexure are bonded to the conductive paste, and a smaller amount of the conductive paste may cause defective bonding.

空中配線部、つまり配線層が金属支持層の開口部を通る構造においては、空中配線部での電気絶縁層の薄層化と配線層のフラット化との両立が困難であり、剛性の安定化が難しいという問題があった。 In the aerial wiring part, that is, in the structure in which the wiring layer passes through the opening of the metal supporting layer, it is difficult to achieve both thinning of the electrical insulation layer and flattening of the wiring layer in the aerial wiring part, and stabilization of rigidity There was a problem that it was difficult.

画像処理に用いる位置決め用の基準孔を配線層に形成する構造においては、基準孔及びその周辺部が電気絶縁層側に落ち込んで屈曲形状となり、画像処理に不要なエッジが発生するため、誤認識するという問題もあった。 In the structure in which the positioning reference hole used for image processing is formed in the wiring layer, the reference hole and its peripheral portion fall into the electrical insulation layer side and become a bent shape, resulting in an unnecessary edge for image processing. There was also the problem of doing.

何れにしても、端子部、空中配線部、基準孔及びその周辺部等の層厚方向での位置の問題であり、かかる位置の修正を図るために特許文献6のように機械加工により解決する手法も存在する。 In any case, there is a problem of the position of the terminal portion, the aerial wiring portion, the reference hole, and the peripheral portion thereof in the layer thickness direction, and in order to correct such a position, it is solved by machining as in Patent Document 6. There are also methods.

図18(A)は、金属支持層を含めた折曲げで嵩上げすることにより端子相互の間隔を小さくした要部断面図、(B)は、金属支持層を含めて折曲げることにより端子相互の間隔を小さくした要部断面図である。 FIG. 18(A) is a cross-sectional view of an essential part in which a space between terminals is reduced by raising the metal supporting layer to increase the distance between terminals, and FIG. It is a principal part sectional view which reduced the space|interval.

図18(A)、(B)では、機械加工により端子部107を金属支持層113と共に曲げることで端子部107の位置をスライダー101の端子部103に対して変更し、近づけた例である。この例では、端子部相互間の間隔が小さくなり、十分な太さのフィレットを形成することができる。 18A and 18B are examples in which the position of the terminal portion 107 is changed and brought closer to the terminal portion 103 of the slider 101 by bending the terminal portion 107 together with the metal supporting layer 113 by machining. In this example, the space between the terminal portions is reduced, and a fillet having a sufficient thickness can be formed.

しかし、金属支持層113を含めた機械的な曲げ加工では、曲げ角度のばらつきが大きくなる傾向があり、フィレットの太さのばらつきとなって半田接合品質に影響するという問題を招くことになる。 However, in the mechanical bending process including the metal supporting layer 113, the variation of the bending angle tends to be large, which causes the variation of the thickness of the fillet, which causes the problem of affecting the solder joint quality.

金属支持層113を含めた機械的な曲げ加工によるばらつきによる影響は、端子部の半田接合以外にも空中配線部、基準孔及びその周辺部等において品質低下を招く原因でもある。 The influence of variations due to the mechanical bending process including the metal supporting layer 113 is also a cause of quality deterioration in the aerial wiring portion, the reference hole, and the peripheral portion thereof in addition to the solder joining of the terminal portion.

US07239484B2号公報US07239484B2 publication US07984545B2号公報US0784545B2 publication US08213121B2号公報US08213121B2 publication US08295011B2号公報US08295011B2 publication US8295012B1号公報US8295012B1 Publication 特開2005−251262号公報JP, 2005-251262, A

解決しようとする問題点は、端子部等に層厚方向の位置に起因する問題があり、金属支持層を含めた機械加工により解決する手法も存在するが、加工によるばらつきがあり、品質に影響する点である。 The problem to be solved is that there is a problem due to the position in the layer thickness direction of the terminal part, etc.There is also a method to solve it by machining including the metal support layer, but there is variation due to machining, which affects quality. The point to do.

本発明は、端子部等の層厚方向の位置に起因する問題を改善し、且つ鋼性の安定化を可能とするために、基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、前記配線層は、前記端子部を前記一般部に対し嵩上げ構造の層の段差により表面に突出させる層厚方向の段部を備え、前記端子部は、前記金属支持層及び電気絶縁層の開口部に前記段部を含めた平面で先端が臨み、前記段部は、前記電気絶縁層の本体の厚みよりも薄く形成した前記電気絶縁層の前記開口内に突出する舌部により前記端子部の裏面が支持され、前記端子部は、表面をスライダーの端子部に半田結合することを配線回路基板の特徴とする。 The present invention, in order to improve the problems caused by the position of the terminal portion in the layer thickness direction and to enable stabilization of steel property, a metal supporting layer forming a substrate and a metal supporting layer laminated on the surface of the metal supporting layer. Wiring comprising a formed electric insulation layer, and a wiring layer having a general portion laminated on the surface of the electric insulation layer and arranged, and a terminal portion coupled to the general portion for electrically connecting to the outside In the circuit board, the wiring layer includes a step portion in a layer thickness direction in which the terminal portion is projected to the surface by a step of a layer having a raised structure with respect to the general portion, and the terminal portion includes the metal supporting layer and The tip of the opening faces the electric insulating layer in a plane including the step portion, and the step portion is formed to be thinner than the thickness of the main body of the electric insulating layer and protrudes into the opening of the electric insulating layer. The back surface of the terminal portion is supported by, and the front surface of the terminal portion is solder-bonded to the terminal portion of the slider .

本発明の配線回路基板は、上記構成であるから、層厚方向の段部により金属支持層の曲げに起因する曲げ角度のばらつきが無く、且つ配線層の一般部に対して端子部の表面を突出させて端子部の層厚方向での位置の問題の改善を図ることができる。しかも、端子部のフラット面の増大と剛性の安定化とを両立できる。 Since the printed circuit board of the present invention has the above-mentioned configuration, there is no variation in the bending angle due to the bending of the metal supporting layer due to the step portion in the layer thickness direction, and the surface of the terminal portion is provided with respect to the general portion of the wiring layer. By projecting, the problem of the position of the terminal portion in the layer thickness direction can be improved. Moreover, it is possible to increase the flat surface of the terminal portion and stabilize the rigidity.

ヘッド・サスペンションのフレキシャー側から見た平面図である。(実施例1)It is a plan view seen from the flexure side of the head suspension. (Example 1) フレキシャーのヘッド部側の端子部結合を示す要部概略拡大断面図である。(実施例1)FIG. 7 is a schematic enlarged cross-sectional view of a main part showing the connection of the terminal part on the head part side of the flexure. (Example 1) フレキシャーの製造工程を比較例との関係で概略一覧的に示す各要部断面図である。(実施例1)It is each principal part sectional drawing which shows the manufacturing process of a flexure in a schematic list in relation with a comparative example. (Example 1) 図3の2段目の比較を示し(A)は、比較例、(B)は、実施例の拡大断面図である。(実施例1)FIG. 3A is a comparative example, and FIG. 3B is an enlarged cross-sectional view of an example, showing a comparison in the second row of FIG. (Example 1) 図3の3段目の比較を示し(A)は、比較例、(B)は、実施例の拡大断面図である。(実施例1)FIG. 3A is a comparative example, and FIG. 3B is an enlarged cross-sectional view of an example, showing comparison of the third row in FIG. (Example 1) 図3の4段目の比較を示し(A)は、比較例、(B)は、実施例の拡大断面図である。(実施例1)FIG. 4A is a comparative example and FIG. 4B is an enlarged cross-sectional view of an example, showing a comparison in the fourth row of FIG. (Example 1) 図3の5段目の比較を示し(A)は、比較例、(B)は、実施例の拡大断面図である。(実施例1)FIG. 5A is a comparative example, and FIG. 4B is an enlarged cross-sectional view of an example, showing a comparison at the fifth level in FIG. 3. (Example 1) 図3の6段目の比較を示し(A)は、比較例、(B)は、実施例の拡大断面図である。(実施例1)FIG. 6A is a comparative example, and FIG. 6B is an enlarged cross-sectional view of an example, showing a comparison in the sixth row of FIG. (Example 1) 図3の工程の詳細の一例に係り、第1工程から第3工程までの比較を示す説明図である。(実施例1)FIG. 4 is an explanatory diagram showing a comparison of first to third steps according to an example of details of the steps of FIG. 3. (Example 1) 図3の工程の詳細の一例に係り、第4工程、第5工程の比較を示す説明図である。(実施例1)FIG. 8 is an explanatory diagram showing a comparison between a fourth step and a fifth step according to an example of details of the step in FIG. 3. (Example 1) 図3の工程の詳細の一例に係り、第6工程から第8工程までの比較を示す説明図である。(実施例1)FIG. 9 is an explanatory diagram showing a comparison of sixth to eighth steps according to an example of details of the steps in FIG. 3. (Example 1) タング部上面での結合構造を示し、(A)は、比較例の要部断面図、(B)は、端子部を近づけた変形例に係る実施例1の要部断面図、(C)は、スライダー高さを上げた変形例に係る実施例1の要部断面図である。(実施例1)The coupling structure on the upper surface of the tongue portion is shown, (A) is a cross-sectional view of a main part of a comparative example, (B) is a cross-sectional view of a main part of Example 1 according to a modified example in which the terminal parts are brought close to each other, (C) is FIG. 9 is a cross-sectional view of a main part of a first embodiment according to a modification in which the slider height is increased. (Example 1) タング部上面での結合構造を示し(A)は、比較例の要部断面図、(B)は、端子部を近づけた変形例に係る実施例1の要部断面図、(C)は、スライダー高さを上げた変形例に係る実施例1の要部断面図である。(実施例1)(A) is a cross-sectional view of a main part of a comparative example, (B) is a cross-sectional view of a main part of Example 1 according to a modified example in which the terminal parts are brought close to each other, and (C) is It is a principal part sectional view of Example 1 which concerns on the modification which raised the slider height. (Example 1) テール部のフライングリードを示す要部断面図である。(実施例2)It is a principal part sectional view which shows the flying lead of a tail part. (Example 2) 空中配線部を示し、(A)は、比較例、(B)は、実施例の断面図である。(実施例3)3A and 3B show an aerial wiring part, FIG. 3A being a comparative example, and FIG. 3B being a sectional view of an example. (Example 3) 位置決め用の基準孔を示し、(A)は、比較例、(B)は、実施例の断面図である。(実施例4)The reference hole for positioning is shown, (A) is a comparative example, (B) is sectional drawing of an Example. (Example 4) 嵩上げ構造を備えないフレキシャーのヘッド部側の端子結合を示し、(A)は、大きなサイズ、(B)は、小さなサイズを示す概略断面図である。(従来例)FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a terminal connection on the head portion side of a flexure without a raised structure, where (A) is a large size and (B) is a small size. (Conventional example) (A)は、金属支持層を含めた折曲げで嵩上げすることにより端子相互の間隔を小さくした要部断面図、(B)は、金属支持層を含めて折曲げることにより端子相互の間隔を小さくした要部断面図である。(従来例)(A) is a cross-sectional view of a main part in which the spacing between terminals is reduced by raising the metal support layer to increase the spacing between terminals, and (B) shows the spacing between terminals by folding including the metal support layer. FIG. (Conventional example)

端子部等の層厚方向の位置に起因する問題を、金属支持層が関わらずに改善して品質向上を可能にするという目的を、基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、前記配線層は、前記端子部を前記一般部に対し層の段差を形成して表面側に突出させる層厚方向の段部を備え、前記端子部は、前記金属支持層及び電気絶縁層の開口部に先端側が臨み、前記段部は、前記電気絶縁層の本体の厚みよりも薄く形成した前記電気絶縁層の舌部により支持されたことで実現した。 The purpose of improving the problem caused by the position of the terminal portion in the layer thickness direction to improve quality regardless of the metal supporting layer is to improve the quality of the metal supporting layer forming the substrate and the surface of the metal supporting layer. An electric insulating layer formed by stacking, and a wiring layer having a general portion laminated and arranged on the surface of the electric insulating layer and a terminal portion connected to the general portion for conducting connection to the outside are provided. In the printed circuit board, the wiring layer includes a step portion in a layer thickness direction in which a step of the terminal portion is formed with respect to the general portion to protrude toward a front surface side, and the terminal portion includes the metal support. The tip side faces the openings of the layers and the electric insulating layer, and the step is realized by being supported by the tongue of the electric insulating layer formed to be thinner than the thickness of the main body of the electric insulating layer.

また、基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、前記端子部は、前記金属支持層及び電気絶縁層の開口部に先端側が臨み、前記端子部は、前記開口部で該開口部に臨む基部が前記電気絶縁層の本体の厚みよりも薄く形成した前記電気絶縁層の舌部により支持されたことで実現した。 In addition, a metal supporting layer forming a substrate, an electric insulating layer laminated on the surface of the metal supporting layer, a general portion laminated on the surface of the electric insulating layer and connected to the general portion A wiring circuit board having a wiring layer having a terminal portion for conducting connection to the outside, wherein the terminal portion faces the opening side of the metal supporting layer and the electrically insulating layer on the front end side, and the terminal portion is This is realized by the fact that the base of the opening facing the opening is supported by the tongue of the electric insulating layer formed to be thinner than the main body of the electric insulating layer.

また、基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、前記配線層は、前記端子部を前記一般部に対し層の段差を形成して表面側に突出させる層厚方向の段部を備え、前記端子部は、前記金属支持層及び電気絶縁層を貫通した開口部を通り、前記段部及び端子部の基部は、前記金属支持層及び電気絶縁層により支持されたことで実現した。 In addition, a metal supporting layer forming a substrate, an electric insulating layer laminated on the surface of the metal supporting layer, a general portion laminated on the surface of the electric insulating layer and connected to the general portion A wiring circuit board comprising: a wiring layer having a terminal portion for conducting connection to the outside, wherein the wiring layer projects the terminal portion to the surface side by forming a layer step with respect to the general portion. A step portion in the layer thickness direction, the terminal portion passes through an opening penetrating the metal supporting layer and the electric insulating layer, and the base portions of the step portion and the terminal portion are supported by the metal supporting layer and the electric insulating layer. It was realized by being done.

また、基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、前記配線層は、前記一般部に対し平坦にした空中配線部を備え、前記空中配線部は、前記電気絶縁層の本体の厚みよりも薄く形成した薄肉部により支持されたことで実現した。 In addition, a metal supporting layer forming a substrate, an electric insulating layer laminated on the surface of the metal supporting layer, a general portion laminated on the surface of the electric insulating layer and connected to the general portion A wiring circuit board having a wiring layer having a terminal portion for conducting connection to the outside, wherein the wiring layer includes an aerial wiring portion flattened with respect to the general portion, and the aerial wiring portion is It was realized by being supported by a thin portion formed to be thinner than the main body of the electric insulation layer.

また、基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、前記配線層は、画像処理用の基準孔を形成した基準孔形成部を前記一般部に対して平坦に形成し、前記基準孔形成部は、前記電気絶縁層の本体の厚みよりも薄く形成した舌部により支持されたことで実現した。 In addition, a metal supporting layer forming a substrate, an electric insulating layer laminated on the surface of the metal supporting layer, a general portion laminated on the surface of the electric insulating layer and connected to the general portion A wiring circuit board having a wiring layer having a terminal portion for conducting connection to the outside, wherein the wiring layer has a reference hole forming portion in which a reference hole for image processing is formed, flat with respect to the general portion. The reference hole forming portion is realized by being supported by a tongue portion formed to be thinner than the thickness of the main body of the electric insulating layer.

[ヘッド・サスペンションの概要]
図1は、実施例1に係り、ヘッド・サスペンションのフレキシャー側から見た平面図である。なお、以下の説明で、ヘッド・サスペンションの旋回半径方向を長手方向又は前後方向、これに直交する方向を幅方向、旋回軸心方向を厚み方向又は層厚方向若しくは上下方向とする。
[Overview of head suspension]
FIG. 1 is a plan view of the head suspension as viewed from the flexure side according to the first embodiment. In the following description, the turning radius direction of the head suspension is the longitudinal direction or the front-back direction, the direction orthogonal thereto is the width direction, and the turning axis direction is the thickness direction or the layer thickness direction or the vertical direction.

図1のように、ヘッド・サスペンション1は、ベース・プレート3と、ロード・ビーム5と、フレキシャー7とを備える他、位置決めアクチュエータ9を備えたものである。 As shown in FIG. 1, the head suspension 1 includes a base plate 3, a load beam 5, and a flexure 7, and a positioning actuator 9.

ベース・プレート3は、旋回駆動用のキャリッジ側に取り付けられて軸回りに旋回駆動される構成部材であり、取り付け用のボス部11を有している。ベース・プレート3は、ボス部11によりキャリッジ(図示せず)側へのボールカシメによる取り付けを可能としている。ベース・プレート3に、位置決めアクチュエータ9が一体的に取り付けられている。 The base plate 3 is a component that is attached to the carriage side for turning drive and is driven to turn about an axis, and has a boss portion 11 for mounting. The base plate 3 can be attached to the carriage (not shown) side by ball staking by the boss portion 11. A positioning actuator 9 is integrally attached to the base plate 3.

位置決めアクチュエータ9は、後述のヘッド部をベース・プレート3側に対しスウェイ方向へ変位可能とするものであり、アクチュエータ・プレート13に圧電素子15が取り付けられている。アクチュエータ・プレート13の後部は、ベース・プレート3に重ねられてレーザ・スポット溶接等により一体的に結合されている。アクチュエータ・プレート13の前端に、ロード・ビーム5がレーザ・スポット溶接等により一体的に結合されている。 The positioning actuator 9 is capable of displacing a head portion described later in the sway direction with respect to the base plate 3 side, and a piezoelectric element 15 is attached to the actuator plate 13. The rear portion of the actuator plate 13 is superposed on the base plate 3 and integrally joined by laser spot welding or the like. The load beam 5 is integrally connected to the front end of the actuator plate 13 by laser spot welding or the like.

ロード・ビーム5は、剛体部21及びばね部23a、23bを一体に含み、アクチュエータ・プレート13の前端に剛体部21の基端側がばね部23a、23bを介して支持されると共に情報の書き込み,読み取りを行う先端側の可動部であるヘッド部25に負荷荷重を与えるものである。剛体部21には、前記フレキシャー7が取り付けられている。 The load beam 5 integrally includes a rigid body portion 21 and spring portions 23a and 23b. The base end side of the rigid body portion 21 is supported by the front end of the actuator plate 13 via the spring portions 23a and 23b, and information is written, A load is applied to the head portion 25, which is a movable portion on the front end side for reading. The flexure 7 is attached to the rigid body portion 21.

フレキシャー7は、本実施例において配線回路基板を構成し、フレキシャー7には、前端側にスライダー27が設けられ、このスライダー27に読み取り用、書き込み用の素子、フライハイト制御用ヒーター、ハード・ディスク・インターフェイス(HDI)センサー等の機能が組み込まれ、ヘッド部25を構成している。スライダー27の読み取り用、書き込み用の素子、フライハイト制御用ヒーター、ハード・ディスク・インターフェイス(HDI)センサー等の各端子部は、フレキシャー7の配線の各端子部に半田により接続されている。このフレキシャー7は、位置決めアクチュエータ9を通ってベース・プレート3側のテール部側に延設されている。 The flexure 7 constitutes a printed circuit board in the present embodiment, and the flexure 7 is provided with a slider 27 on the front end side, and the slider 27 is provided with a reading/writing element, a fly height control heater, and a hard disk. Functions such as an interface (HDI) sensor are incorporated to configure the head unit 25. Each terminal of the slider 27 for reading and writing, a heater for controlling fly height, a hard disk interface (HDI) sensor, etc. is connected to each terminal of the wiring of the flexure 7 by soldering. The flexure 7 extends through the positioning actuator 9 to the tail portion side of the base plate 3 side.

位置決めアクチュエータ9において、フレキシャー7のアクチュエータ接続端子部29が導電性ペーストにより圧電素子15の共通電極に導通接続されている。 In the positioning actuator 9, the actuator connection terminal portion 29 of the flexure 7 is conductively connected to the common electrode of the piezoelectric element 15 by a conductive paste.

したがって、ヘッド・サスペンション1は、ボス部11を介したキャリッジ(図示せず)側への取り付けによりハード・ディスク・ドライブに組み込まれ、キャリッジ側のボイス・コイル・モータにより旋回駆動され、スライダー27によりヘッド部25がハード・ディスク上を移動し、ハード・ディスクに対しヘッド部25による情報の書き込み、読み取り等を行わせることができる。 Therefore, the head suspension 1 is incorporated into a hard disk drive by being attached to the carriage (not shown) side via the boss portion 11, is driven to rotate by the voice coil motor on the carriage side, and is driven by the slider 27. The head unit 25 moves on the hard disk, and the head unit 25 can write and read information on the hard disk.

[ヘッド部側の端子部]
図2は、実施例1に係るフレキシャーのヘッド部側の端子部結合を示す要部概略拡大断面図である。
[Terminal on the head side]
FIG. 2 is a schematic enlarged cross-sectional view of a main part showing the connection of terminals on the head side of the flexure according to the first embodiment.

図2のように、フレキシャー7は、導電性薄板31の表面に、電気絶縁層としてのベース絶縁層33を積層し、このベース絶縁層33の表面に銅による所定の配線パターンで配線層35を積層し、配線層35をカバー絶縁層37で覆ったものである。配線パターンは、例えば、図1に太い線でヘッド部25側からテール部に渡るように延設されたものである。なお、図1では、フレキシャー7のテール部側は、省略している。 As shown in FIG. 2, in the flexure 7, the base insulating layer 33 as an electric insulating layer is laminated on the surface of the conductive thin plate 31, and the wiring layer 35 is formed on the surface of the base insulating layer 33 with a predetermined wiring pattern of copper. The wiring layer 35 is laminated, and the wiring layer 35 is covered with a cover insulating layer 37. The wiring pattern is, for example, a thick line extending in FIG. 1 from the head portion 25 side to the tail portion. In FIG. 1, the tail portion side of the flexure 7 is omitted.

導電性薄板31は、ばね性を有する薄いステンレス鋼圧延板(SST)などで形成されて基板をなす金属支持層を構成し、その厚みは、10〜25μm程度に形成されている。ベース絶縁層33は、例えばポリイミドなどにより金属支持層である導電性薄板31の表面に積層され、その厚みは、5〜10μm程度に形成されている。配線層35は、例えば銅めっきにより電気絶縁層33の表面に積層され、その厚みは、5〜15μm程度に形成されている。この配線層35は、一般部35a及び端子部35bを有している。 The conductive thin plate 31 is formed of a thin stainless steel rolled plate (SST) having a spring property and constitutes a metal supporting layer which forms a substrate, and its thickness is formed to about 10 to 25 μm. The insulating base layer 33 is laminated on the surface of the conductive thin plate 31, which is a metal supporting layer, using, for example, polyimide, and has a thickness of about 5 to 10 μm. The wiring layer 35 is laminated on the surface of the electric insulating layer 33 by, for example, copper plating, and has a thickness of about 5 to 15 μm. The wiring layer 35 has a general portion 35a and a terminal portion 35b.

配線層35の一般部35aは、図1のようにヘッド部25側からテール部に渡るよう配索され、端子部35bは、一般部35aに結合されて外部への導通接続を行なわせ、ヘッド部25の端子部においては、スライダー27に導通接続されている。 The general portion 35a of the wiring layer 35 is arranged so as to extend from the head portion 25 side to the tail portion as shown in FIG. 1, and the terminal portion 35b is connected to the general portion 35a to make conductive connection to the outside. The terminal portion of the portion 25 is electrically connected to the slider 27.

カバー絶縁層37は、例えばポリイミドにより形成され、配線層35の一般部35aを覆っている。一般部35aは、本実施例においてカバー絶縁層37によって覆われた部分となっているが、端子部35bとの対比において端子部35bではない部分であればよい。 The insulating cover layer 37 is made of, for example, polyimide and covers the general portion 35 a of the wiring layer 35. The general portion 35a is a portion covered with the insulating cover layer 37 in this embodiment, but may be any portion that is not the terminal portion 35b in comparison with the terminal portion 35b.

端子部35bは、一般部35aの先端部に形成されている。本実施例において、端子部35bは、フライングリードとして形成され、表裏に渡って金メッキ39が施され、表裏両面に端子面が形成されている。なお、フライングリードは、本実施例において、導電性薄板31及びベース絶縁層33の開口上を通ること等により、導電性薄板31及びベース絶縁層33に支持されていない状態の端子部を意味する。また、金メッキ39は、図面において表現上相対的に厚く描かれているが、実際はごく薄くメッキされている。また、金メッキ39は、省略することもできる。 The terminal portion 35b is formed at the tip of the general portion 35a. In the present embodiment, the terminal portion 35b is formed as a flying lead, gold plating 39 is applied to the front and back surfaces, and terminal surfaces are formed on both front and back surfaces. In this embodiment, the flying lead means a terminal portion which is not supported by the conductive thin plate 31 and the base insulating layer 33 by passing over the openings of the conductive thin plate 31 and the base insulating layer 33. .. Further, the gold plating 39 is drawn relatively thick in the drawing for the sake of expression, but in reality, it is plated very thinly. Further, the gold plating 39 can be omitted.

配線層35は、所要の機能を発揮する所定機能部である端子部35bに層厚方向の嵩上げ構造41を備えている。嵩上げ構造41とは、配線層35の一部を一般部35aに対して表面側に突出させ又は同一平面とする層厚方向部分を、金属支持層である導電性薄板31が関わらずに配線層35の端子部35bが備える構造を意味する。 The wiring layer 35 is provided with a raised structure 41 in the layer thickness direction in the terminal portion 35b which is a predetermined function portion that exhibits a desired function. The raised structure 41 is a layer thickness direction portion in which a part of the wiring layer 35 is projected to the surface side with respect to the general portion 35a or is flush with the general portion 35a regardless of the conductive thin plate 31 which is a metal supporting layer. This means the structure of the terminal portion 35 b of 35.

本実施例の嵩上げ構造41は、突出形態であり、導電性薄板31が関わらず、ベース絶縁層33を含めず、端子部35bのみで構成されている。この嵩上げ構造41は、端子部35bを一般部35aに対して段付き状に表面側に突出させた上位に配置している。一般部35a及び端子部35b間の段付きは、図示上直角になっているが、実際は傾斜により遷移している。 The raised structure 41 of the present embodiment has a protruding form, and does not include the insulating base layer 33 regardless of the conductive thin plate 31, and is configured only by the terminal portion 35b. In this raised structure 41, the terminal portion 35b is arranged above the general portion 35a in a stepwise manner so as to project toward the surface side. The stepped portion between the general portion 35a and the terminal portion 35b is a right angle in the figure, but in reality, the transition occurs due to the inclination.

嵩上げ構造41に導電性薄板31が関わらないので嵩上げ構造41に従来のような機械加工は不要であり、嵩上げ構造41の精度を高めている。 Since the conductive thin plate 31 is not involved in the raised structure 41, the conventional raised machining is unnecessary for the raised structure 41, and the precision of the raised structure 41 is improved.

ここで、嵩上げ構造41に金属支持層である導電性薄板31が関わらないとは、嵩上げ構造41を備えた部分で導電性薄板31が機械加工による曲げで嵩上げ構造41の一部をなすものではないとの意味である。 Here, the fact that the conductive thin plate 31, which is a metal supporting layer, is not involved in the raised structure 41 means that the conductive thin plate 31 forms a part of the raised structure 41 by bending by machining in the portion provided with the raised structure 41. It means that there is no.

図2のように、嵩上げ構造41を備えた端子部35bの層厚方向の下側は、開口部45であり、導電性薄板31及びベース絶縁層33が存在しない。ただし、開口部45が存在せず、端子部35bの層厚方向の下側に導電性薄板31及びベース絶縁層33が存在しても、端子部35bの嵩上げ構造41に導電性薄板31の曲げ等の機械加工が関わらなければ、これも含まれる。 As shown in FIG. 2, the lower side in the layer thickness direction of the terminal portion 35b provided with the raised structure 41 is the opening 45, and the conductive thin plate 31 and the insulating base layer 33 are not present. However, even if the opening 45 does not exist and the conductive thin plate 31 and the insulating base layer 33 are present on the lower side in the layer thickness direction of the terminal portion 35b, the bending of the conductive thin plate 31 in the raised structure 41 of the terminal portion 35b is performed. This is also included unless mechanical processing such as.

嵩上げ構造41以外の部分で導電性薄板31に機械加工の部分があっても嵩上げ構造41に関わらなければよい。ベース絶縁層33等は嵩上げ構造41に関わっても機械加工を伴わないので問題ない。 Even if the conductive thin plate 31 has a machined portion other than the raised structure 41, it does not have to be related to the raised structure 41. The insulating base layer 33 and the like are not involved in the raised structure 41 because they are not mechanically processed, so there is no problem.

なお、配線層35の一般部35aに対して所定機能部を同一平面とする層厚方向の嵩上げ構造は、一見すると嵩上げではないように考えられる。しかし、特開2001−350272号公報に開示された感光性ポリイミドによるベース絶縁層(ベース層)を用いてエッチング時間を短縮する形態のように、端子部が導電性薄板(支持基板)側に落ち込んでスライダーから離れる傾向の構造を改善し、端子部を落ち込みから持ち上げ(嵩上げ)て位置調整し、配線層の一般部に対して端子部を同一平面となるようにすることは、嵩上げ構造としての技術的意義がある。 It should be noted that the raised structure in the layer thickness direction in which the predetermined function part is on the same plane as the general part 35a of the wiring layer 35 is considered not to be a lift at first glance. However, as in the configuration disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-350272, in which the etching time is shortened by using the insulating base layer (base layer) made of photosensitive polyimide, the terminal portion is depressed toward the conductive thin plate (support substrate) side. To improve the structure that tends to move away from the slider with, and to adjust the position by lifting the terminal part from the depression (raising) so that the terminal part is flush with the general part of the wiring layer It has technical significance.

同一平面形態の具体例については後述する。 A specific example of the same plane form will be described later.

端子部35bの嵩上げ構造41によりスライダー27の端子部43と端子部35bとの間隔を小さくし、適正な溶接フィレットの形成を可能とする。 Due to the raised structure 41 of the terminal portion 35b, the gap between the terminal portion 43 of the slider 27 and the terminal portion 35b can be reduced, and an appropriate weld fillet can be formed.

端子部35bは、複数、例えば10個程度形成されている。端子部35bは、一般部35aに比較して幅方向に拡大して形成されている。なお、端子部35bは、一般部35aの配線幅と同一に形成することもできる。場合によっては、端子部35bを、一般部35aの配線幅よりも小さくしてもよい。 A plurality of, for example, about 10 terminal portions 35b are formed. The terminal portion 35b is formed to be wider in the width direction than the general portion 35a. The terminal portion 35b may be formed to have the same wiring width as the general portion 35a. In some cases, the terminal portion 35b may be smaller than the wiring width of the general portion 35a.

端子部35bは、導電性薄板31及びベース絶縁層33の開口部45に臨んでいる。開口部45は、導電性薄板31からベース絶縁層33の層厚方向の中間部までの開口45a、45bと、ベース絶縁層33の層厚方向中間から表面までの開口45cとで構成されている。開口45a,45b,45cの形状や大きさは、フライングリードを実現できれば、特に限定されるものではないが、本実施例において、開口45a、45bは、同じ大きさに形成され、開口45cは、開口45bに対して段差状に突出する舌部33bにより、開口45a、45bよりも相対的に小さく形成されている。舌部33b上では、端子部35bの嵩上げが始まっている。ベース絶縁層33側の開口45bの深さは、ベース絶縁層33の厚み5〜10μm程度に対し2〜5μm程度に設定さている。但し、開口45bの深さは、設計要求により種々変更することができる。 The terminal portion 35b faces the opening 45 of the conductive thin plate 31 and the insulating base layer 33. The opening 45 is composed of openings 45a and 45b from the conductive thin plate 31 to the middle portion of the insulating base layer 33 in the layer thickness direction, and an opening 45c from the middle of the insulating base layer 33 in the layer thickness direction to the surface. .. The shapes and sizes of the openings 45a, 45b, 45c are not particularly limited as long as the flying leads can be realized, but in the present embodiment, the openings 45a, 45b are formed to have the same size, and the opening 45c is The tongue portion 33b protruding stepwise with respect to the opening 45b is formed to be relatively smaller than the openings 45a and 45b. On the tongue portion 33b, the terminal portion 35b starts to be raised. The depth of the opening 45b on the insulating base layer 33 side is set to about 2 to 5 μm with respect to the thickness of the insulating base layer 33 to about 5 to 10 μm. However, the depth of the opening 45b can be variously changed according to design requirements.

ヘッド部25の機能部品であるスライダー27は、例えばFemtoスライダーなどであり、且つ組み込まれた読み取り用、書き込み用の素子、フライハイト制御用ヒーター、HDIセンサー等に応じた例えば10個程度の端子部43群がスライダー27の前面27aにて幅方向に並んで配置されている。 The slider 27, which is a functional component of the head unit 25, is, for example, a Femto slider or the like, and has, for example, about 10 terminal units 43 according to the built-in reading and writing elements, the fly height control heater, the HDI sensor, and the like. The groups are arranged side by side in the width direction on the front surface 27a of the slider 27.

図2のように、フレキシャー7の各端子部35bとスライダー27の各端子部43とは、交差して配置され、断面においてほぼ直交するようにそれぞれ対向している。 As shown in FIG. 2, the respective terminal portions 35b of the flexure 7 and the respective terminal portions 43 of the slider 27 are arranged so as to intersect with each other and face each other so as to be substantially orthogonal in cross section.

各端子部35bと各端子部43との間は、半田ボール47により半田溶融結合されフィレット49が形成されている。フィレット49は、端子部43の上下幅全体に及び、端子部35b上では先端から段付き部にまで至り、端子部35b、43間でフィレット49の幅、太さが十分に形成されている。 A fillet 49 is formed between each terminal portion 35b and each terminal portion 43 by solder fusion bonding with a solder ball 47. The fillet 49 extends over the entire vertical width of the terminal portion 43, and extends from the tip to the stepped portion on the terminal portion 35b, and the width and thickness of the fillet 49 are sufficiently formed between the terminal portions 35b and 43.

[配線回路基板の製造方法]
図3は、フレキシャーの製造工程を比較例との関係で概略一覧的に示す要部断面図、図4〜図8は、それぞれ図3の2〜6段目の比較を示し(A)は、比較例、(B)は、実施例の拡大断面図である。なお、フレキシャー7の導電性薄板31、電気絶縁層33等は、図3での製造途中において最終形状とは異なり、半製品状態であるが、説明の便宜上、フレキシャー7としての名称をそのまま用いる。
[Method for manufacturing printed circuit board]
FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part schematically showing a flexure manufacturing process in relation to a comparative example, and FIGS. 4 to 8 show comparisons of the second to sixth stages of FIG. 3, respectively (A). A comparative example, (B) is an enlarged cross-sectional view of the embodiment. Note that the conductive thin plate 31, the electrical insulating layer 33, and the like of the flexure 7 are semi-finished products, unlike the final shape in the process of manufacturing in FIG. 3, but for convenience of explanation, the name as the flexure 7 is used as it is.

図3において、本発明実施例の配線回路基板の製造方法では、図3の右欄1段目の、2段目の工程のように、金属支持層である導電性薄板31に電気絶縁層であるベース絶縁層33を形成する前に図2の嵩上げ構造41を形成するための図3の嵩上げ層51を導電性薄板31に付加した。 3, in the method for manufacturing a wired circuit board according to the embodiment of the present invention, an electrically insulating layer is formed on the conductive thin plate 31 which is a metal supporting layer as in the step of the first row and the second row of the right column of FIG. Before forming a certain base insulating layer 33, the raised layer 51 of FIG. 3 for forming the raised structure 41 of FIG. 2 was added to the conductive thin plate 31.

嵩上げ層51の材質は、嵩上げができるものであれば任意であるが、ベース絶縁層33よりもエッチング時間の短い絶縁材、銅、ニッケル、クロムの何れか又はこれらの組み合わせを用いるのがよい。 The material of the raised layer 51 is arbitrary as long as it can be raised, but it is preferable to use an insulating material having a shorter etching time than the insulating base layer 33, copper, nickel, or chromium, or a combination thereof.

嵩上げ層51の設定範囲は、端子部35bに対応した箇所に部分的に設定しているが、端子部35bを嵩上げ構造41にできる限り特に限定されるものではない。 The setting range of the raised layer 51 is partially set at a position corresponding to the terminal portion 35b, but is not particularly limited as long as the terminal portion 35b can be the raised structure 41.

図4(B)(図3の右欄2段目)のように嵩上げされた部分33aを有するベース絶縁層33に対して図5(B)(図3の右欄3段目)のように配線層35を形成する。従って、端子部35bが一般部35aに対して嵩上げされた嵩上げ構造41を形成することができる。 As shown in FIG. 5B (the third row in the right column in FIG. 3), the insulating base layer 33 has a raised portion 33a as shown in FIG. 4B (the second column in the right column in FIG. 3). The wiring layer 35 is formed. Therefore, it is possible to form the raised structure 41 in which the terminal portion 35b is raised relative to the general portion 35a.

図6(B)、図7(B)(図3の右欄4段目、5段目)のエッチングにより開口部45が形成される。この開口部45は、導電性薄板31及びベース絶縁層33を貫通し、嵩上げ層51を削除している。 The openings 45 are formed by the etching of FIGS. 6B and 7B (the fourth row and the fifth row in the right column of FIG. 3). The opening 45 penetrates the conductive thin plate 31 and the insulating base layer 33 and removes the raised layer 51.

従って、ベース絶縁層33には、開口部45内に突出する舌部33bが残り、配線層35の一般部35aと端子部35bとの間の段部35cを支持する。舌部33bは、エッチングによりベース絶縁層33の本体の厚みよりも薄く形成されている。本実施例では、この舌部33bによる段部35cの支持により、ベース絶縁層33が嵩上げ構造41に関わっている。なお、開口部45の形成と併せて、カバー絶縁層37が形成される。 Therefore, the tongue portion 33b protruding into the opening 45 remains in the insulating base layer 33, and supports the step portion 35c between the general portion 35a of the wiring layer 35 and the terminal portion 35b. The tongue portion 33b is formed by etching to be thinner than the main body of the insulating base layer 33. In this embodiment, the insulating base layer 33 is related to the raised structure 41 by the support of the step portion 35c by the tongue portion 33b. The insulating cover layer 37 is formed together with the formation of the opening 45.

図8(B)(図3の右欄6段目)のように端子部35bを開口部45に臨むフライングリードとし、導電性薄板31が関わらずに端子部35の嵩上げ構造41を形成することができる。 As shown in FIG. 8B (the sixth column on the right in FIG. 3), the terminal portion 35b is used as a flying lead facing the opening 45, and the raised structure 41 of the terminal portion 35 is formed regardless of the conductive thin plate 31. You can

これに対し、図3の左欄の比較例では、右欄の符号にAを付加し、重複を省略しながら説明すると、図4(A)、図5(A)(図3の左欄2段目、3段目)のように、対応する段の右欄に示す嵩上げ層51が存在しない。 On the other hand, in the comparative example in the left column of FIG. 3, A is added to the reference numeral in the right column, and description will be given while omitting duplication. In FIG. 4A and FIG. 5A, the left column 2 in FIG. There is no raised layer 51 shown in the right column of the corresponding step (e.g., the third step).

比較例では、図6(A)(図3の左欄4段目)、図7(A)(図3の左欄5段目)のようなエッチングにより開口部45Aを形成するとき、その形成時間を短縮するために、ベース絶縁層33Aの感光性ポリイミドを用い、開口部45Aを形成する位置に対応して図4(A)(図3の左欄2段目)のように部分33Aaを露光により薄く形成している。 In the comparative example, when the opening 45A is formed by etching as shown in FIG. 6A (fourth row in the left column in FIG. 3) and FIG. 7A (fifth row in the left column in FIG. 3) In order to shorten the time, the photosensitive polyimide of the insulating base layer 33A is used, and the portion 33Aa is formed corresponding to the position where the opening 45A is formed as shown in FIG. 4A (the second column on the left side of FIG. 3). Formed thin by exposure.

このため、図4(A)(図3の左欄2段目)のように薄い部分33Aaが形成されたベース絶縁層33Aに対して図5(A)(図3の左欄3段目)のように配線層35Aを形成するから、図8(A)(図3の左欄6段目)のように端子部35Abを開口部45Aに臨むフライングリードとしたとき、端子部35Abがベース絶縁層33A側に落ち込む段付き形状になる。 Therefore, as shown in FIG. 4A (second column in the left column of FIG. 3 ), FIG. 5A (third column in the left column in FIG. 3) is applied to the base insulating layer 33A in which the thin portion 33Aa is formed. Since the wiring layer 35A is formed as shown in FIG. 8, when the terminal portion 35Ab is used as a flying lead facing the opening 45A as shown in FIG. It becomes a stepped shape that falls to the layer 33A side.

ベース絶縁層33Aには、開口部45Aに突出する舌部33Abは残るが、配線層35Aの一般部35Aaと端子部35Abとの間の段部35Acを支持することはない。 The tongue portion 33Ab protruding into the opening 45A remains in the insulating base layer 33A, but does not support the step portion 35Ac between the general portion 35Aa of the wiring layer 35A and the terminal portion 35Ab.

このように、本発明実施例の配線回路基板の製造方法により、導電性薄板31が関わらない嵩上げ構造41を端子部35bに備えたフレキシャー7を、機械加工を伴うことなく確実に製造することができる。 As described above, according to the method for manufacturing a printed circuit board of the embodiment of the present invention, the flexure 7 including the raised structure 41 without the conductive thin plate 31 in the terminal portion 35b can be reliably manufactured without machining. it can.

つまり、本発明実施例の配線回路基板の製造方法により製造したフレキシャー7では、比較例に対し、端子部35bが一般部35aよりも表面側に突出した形態となり、図2のようにフレキシャー7の端子部35bとスライダー27の端子部43との相互間隔を小さくして十分な太さのフィレットを容易に形成することを実現する。 That is, in the flexure 7 manufactured by the method for manufacturing a wired circuit board according to the embodiment of the present invention, the terminal portion 35b is projected to the surface side more than the general portion 35a as compared with the comparative example, and the flexure 7 of the flexure 7 is formed as shown in FIG. The gap between the terminal portion 35b and the terminal portion 43 of the slider 27 is reduced to easily form a fillet having a sufficient thickness.

[工程詳細]
図9〜図11は、図3の工程の詳細の一例を説明するものであり、図9は、第1工程から第3工程までの比較を示す説明図、図10は、第4工程、第5工程の比較を示す説明図、図11は、第6工程から第8工程までの比較を示す説明図である。図3の工程の詳細として、嵩上げ構造41を形成する他の例を採用することも可能である。
[Process details]
9 to 11 are views for explaining an example of the details of the process of FIG. 3, FIG. 9 is an explanatory diagram showing a comparison from the first process to the third process, and FIG. 10 is a fourth process, FIG. 11 is an explanatory diagram showing comparison of 5 steps, and FIG. 11 is an explanatory diagram showing comparison of 6th step to 8th step. It is also possible to adopt another example of forming the raised structure 41 as the details of the process of FIG.

図9〜図11において、実施例1の製造工程を比較例と対照しながら説明する。なお、加工途中においても、説明の便宜上、フレキシャー7としての名称をそのまま用いるのは、図3〜図8の場合と同様であり、左欄の比較例では、右欄の符号にAを付加して説明することも同様である。また、図9〜図11は、製造工程の詳細を示すものであり、構造の一部は、図2〜図8のものと相違する部分もあるが、実質同一である。 9 to 11, the manufacturing process of Example 1 will be described in comparison with the comparative example. For convenience of explanation, the name of the flexure 7 is used as it is during processing, as in the case of FIGS. 3 to 8. In the comparative example in the left column, A is added to the reference symbol in the right column. The same applies to the explanation. 9 to 11 show the details of the manufacturing process, and a part of the structure is substantially the same as that of FIGS. 2 to 8 although it is different.

本実施例の製造方法は、嵩上げ層51を形成した上で、導電性薄板31にベース絶縁層33、配線層35、カバー絶縁層37を順次フレキシャー7に倣った形状で積層し、最後に導電性薄板31をフレキシャー7に倣った形状にするものである。これにより、フレキシャー7の構造が煩雑であっても、対応することができるようになっている。 In the manufacturing method of this embodiment, after forming the raised layer 51, the base insulating layer 33, the wiring layer 35, and the cover insulating layer 37 are sequentially laminated on the conductive thin plate 31 in a shape following the flexure 7, and finally the conductive layer is formed. The flexible thin plate 31 is shaped to follow the flexure 7. As a result, even if the structure of the flexure 7 is complicated, it is possible to deal with it.

(第1工程)
図9のように、第1工程では、実施例1、比較例共に、所定幅の帯状の導電性薄板31、31Aを用意する。
(First step)
As shown in FIG. 9, in the first step, strip-shaped conductive thin plates 31 and 31A having a predetermined width are prepared for both Example 1 and Comparative Example.

(第2工程)
第2工程において、実施例1では、用意した導電性薄板31の該当箇所に嵩上げ層51としてスパッタ層51a及びステップ層51bを部分的に積層する。スパッタ層51aには、クロム及び銅を用い、ステップ層51bには、銅を用いている。
(Second step)
In the second step, in Example 1, the sputter layer 51a and the step layer 51b are partially laminated as the raised layer 51 on the corresponding portions of the prepared conductive thin plate 31. Chromium and copper are used for the sputter layer 51a, and copper is used for the step layer 51b.

具体的には、実施例1の第2工程では、まず、導電性薄板31の表面全体に二点鎖線で示すようにスパッタリングによりクロム及び銅のスパッタ層51aを形成し、次いで、レジストを形成して部分的に開口させ、その部分に銅メッキによりステップ層51bを形成する。このとき、ステップ層51bの高さで、嵩上げ層51の高さ調整を行う。次いでレジストを剥離し、エッチングを施して二点鎖線で示す部分を取り除いてスパッタ層51aを形成する。 Specifically, in the second step of Example 1, first, a chromium and copper sputtered layer 51a is formed on the entire surface of the conductive thin plate 31 by sputtering as shown by a chain double-dashed line, and then a resist is formed. Are partially opened, and a step layer 51b is formed on the portion by copper plating. At this time, the height of the raised layer 51 is adjusted by the height of the step layer 51b. Next, the resist is peeled off, etching is performed to remove the portion indicated by the chain double-dashed line, and the sputter layer 51a is formed.

これに対し、比較例では、第2工程はなく、第1工程から第3工程に移る。 On the other hand, in the comparative example, there is no second step, and the first step is followed by the third step.

(第3工程)
実施例1の第3工程において、感光性ポリイミドを塗布し、フォトマスクを用いて露光硬化させ、図1のフレキシャー7の形状に倣ったベース絶縁層33を形成しつつベース絶縁層33の一部33aを嵩上げる。
(Third step)
In the third step of Example 1, photosensitive polyimide is applied, exposed and cured using a photomask, and a part of the base insulating layer 33 is formed while forming the base insulating layer 33 following the shape of the flexure 7 in FIG. 33a is raised.

比較例でも感光性ポリイミドを塗布し、露光硬化させるが、露光調整によりベース絶縁層33Aの部分3Aaを他の部分と比較して薄くし、後述のエッチング時間の短縮を図る。なお、実施例1の第2工程でも、嵩上げ層51により、絶縁層33の一部33aを嵩上げつつも他の部分と比較して薄くできている。 In the comparative example as well, photosensitive polyimide is applied and exposed and cured, but by adjusting the exposure, the portion 3Aa of the insulating base layer 33A is made thinner than the other portions to shorten the etching time described later. Also in the second step of Example 1, the raised layer 51 allows the portion 33a of the insulating layer 33 to be raised while being thinner than the other portions.

(第4工程)
図10のように、実施例1及び比較例の第4工程において、ベース絶縁層33、33Aにクロム及び銅のスパッタ層53、53Aを形成し、その上にレジストを所定パターンで形成して銅メッキにより図1のフレキシャー7の形状に倣った配線層35、35Aを形成する。次いで、レジストを剥離し、エッチングにより不要なスパッタ層を除去する。
(Fourth step)
As shown in FIG. 10, in the fourth step of Example 1 and Comparative Example, sputter layers 53 and 53A of chromium and copper were formed on the insulating base layers 33 and 33A, and a resist was formed in a predetermined pattern on the sputter layers 53 and 53A. The wiring layers 35 and 35A are formed by plating so as to follow the shape of the flexure 7 in FIG. Then, the resist is peeled off, and an unnecessary sputtered layer is removed by etching.

(第5工程)
実施例1及び比較例の第5工程において、無電解ニッケルメッキ層55、55Aを施し、配線層35、35A上を被覆するようにカバー絶縁層37、37Aを形成し、無電解ニッケルメッキ層55、55Aの不要な部分を削除する。
(Fifth step)
In the fifth step of Example 1 and Comparative Example, the electroless nickel plating layers 55 and 55A are applied, the insulating cover layers 37 and 37A are formed so as to cover the wiring layers 35 and 35A, and the electroless nickel plating layer 55 is formed. , 55A unnecessary portions are deleted.

(第6工程)
図11のように、実施例1の第6工程において、導電性薄板31、嵩上げ層51のスパッタ層51a及びステップ層51b、ベース絶縁層33、及びスパッタ層53のエッチングにより開口部45を形成する。このとき、銅、クロムを同時にエッチングするエッチング液、銅、クロム、ステンレスを同時にエッチングするエッチング液などを適宜用いることができる。ベース絶縁層33のエッチングは、異なるエッチング液が用いられる。このとき、嵩上げ層51が既に除去されているのでベース絶縁層33のエッチング時間の短縮を図ることができる。かかるエッチングにより端子部35bが嵩上げ構造41により開口部45に臨む形状となる。
(Sixth step)
As shown in FIG. 11, in the sixth step of Example 1, the opening 45 is formed by etching the conductive thin plate 31, the sputter layer 51a and the step layer 51b of the raised layer 51, the insulating base layer 33, and the sputter layer 53. .. At this time, an etching solution that simultaneously etches copper and chromium, an etching solution that simultaneously etches copper, chromium, and stainless steel can be used as appropriate. Different etching liquids are used for etching the base insulating layer 33. At this time, since the raised layer 51 is already removed, the etching time of the insulating base layer 33 can be shortened. By this etching, the terminal portion 35b is shaped so as to face the opening 45 by the raised structure 41.

比較例の第6工程においては、導電性薄板31A、ベース絶縁層33A、及びスパッタ層53Aが同様にエッチングされ、開口部45Aが形成される。この比較例では、第3工程においてベース絶縁層33Aの一部33Aaを露光により薄くしているのでエッチングによる一部33Aaの除去の短縮が図られる。しかし、端子部35Abは、嵩上げされず、開口部45Aにおいて導電性薄板31A側に落ち込む形態となる。 In the sixth step of the comparative example, the conductive thin plate 31A, the insulating base layer 33A and the sputtered layer 53A are similarly etched to form the opening 45A. In this comparative example, since the portion 33Aa of the insulating base layer 33A is thinned by exposure in the third step, the removal of the portion 33Aa by etching can be shortened. However, the terminal portion 35Ab is not raised and has a form in which the terminal portion 35Ab falls toward the conductive thin plate 31A side at the opening 45A.

(第7工程)
実施例1及び比較例の第7工程において、レジストを形成し、ニッケル下地メッキの後、金メッキにより金メッキ39、39Aを施して端子部35b、35Abの表裏を被覆し、レジストを剥離する。
(Seventh step)
In the seventh step of Example 1 and Comparative Example, a resist is formed, and after nickel underlayer plating, gold plating 39, 39A is applied by gold plating to cover the front and back surfaces of the terminal portions 35b, 35Ab, and the resist is peeled off.

(第8工程)
実施例1及び比較例の第8工程において、レジストを形成し、導電性薄板31、31Aの外形を図1のフレキシャー7の外形に倣ってエッチングにより最終成形し、レジストを剥離して完成する。なお、端子部35b,35Abの構造には変化がなく、図11において第8工程は第7工程と同一となっている。
(Eighth step)
In the eighth step of Example 1 and Comparative Example, a resist is formed, and the outer shapes of the conductive thin plates 31 and 31A are finally formed by etching in accordance with the outer shape of the flexure 7 in FIG. There is no change in the structure of the terminal portions 35b and 35Ab, and the eighth step is the same as the seventh step in FIG.

このように、図9〜図11の第1工程〜第8工程の実施により、実施例1のフレキシャー7では、導電性薄板31の曲げ等の機械加工が係わらずに端子部35bの嵩上げ構造41を形成することができるのに対し、比較例では、導電性薄板31Aの曲げ等の機械加工が係わらずに端子部35bを形成することができるものの、端子部35Abが開口部45A内で導電性薄板31A側に落ち込む構造になる。 As described above, by performing the first to eighth steps of FIGS. 9 to 11, in the flexure 7 of the first embodiment, the raised structure 41 of the terminal portion 35b is formed regardless of the mechanical processing such as bending of the conductive thin plate 31. In contrast to this, in the comparative example, although the terminal portion 35b can be formed regardless of the mechanical processing such as bending of the conductive thin plate 31A, the terminal portion 35Ab is electrically conductive in the opening 45A. The structure is such that it falls to the thin plate 31A side.

[実施例1の効果]
上記のように、本発明実施例1のフレキシャー7は、導電性薄板31と、導電性薄板31の表面に積層されたベース絶縁層33と、ベース絶縁層33の表面に積層されて配索された一般部35a及びこの一般部35aに結合されて外部のスライダー27への導通接続を行なう端子部35bを有する配線層35とを備えたフレキシャー7であって、配線層35は、一般部35aに対して表面側に突出させる層厚方向の嵩上げ構造41を導電性薄板31が関わらずに端子部35bに備えた。
[Effect of Example 1]
As described above, the flexure 7 according to the first embodiment of the present invention is arranged by wiring the conductive thin plate 31, the insulating base layer 33 laminated on the surface of the conductive thin plate 31, and the insulating base layer 33. The wiring layer 35 includes a general portion 35a and a wiring layer 35 having a terminal portion 35b coupled to the general portion 35a and electrically connected to an external slider 27. On the other hand, the terminal portion 35b was provided with the raised structure 41 in the layer thickness direction which is projected to the front surface side, regardless of the conductive thin plate 31.

このため、端子部35bに対し導電性薄板31の曲げ等の機械加工の影響が無く、端子部35bの位置精度にばらつきが無く、正確な嵩上げ構造41を得ることができる。 Therefore, the terminal portion 35b is not affected by mechanical processing such as bending of the conductive thin plate 31, the positional accuracy of the terminal portion 35b does not vary, and the accurate raised structure 41 can be obtained.

結果として、フレキシャー7の各端子部35bとスライダー27の各端子部43とが小型化の伸展により小さくなって、用いられる半田ボール47を相対的に小さくしなければならないとしても、嵩上げ構造41の存在により、図2のように、フレキシャー7の各端子部35bをスライダー27の各端子部43に近づけることができる。従って、小さな半田ボール47により半田結合する場合でも、フィレット49の幅、太さを十分なものに形成することができ、接続の信頼性を向上させることができる。 As a result, each terminal portion 35b of the flexure 7 and each terminal portion 43 of the slider 27 become smaller due to the progress of miniaturization, and even if the solder balls 47 used have to be made relatively small, the structure of the raised structure 41 is reduced. Due to the presence, each terminal portion 35b of the flexure 7 can be brought close to each terminal portion 43 of the slider 27 as shown in FIG. Therefore, even when the small solder balls 47 are used for soldering, the fillet 49 can be formed to have a sufficient width and thickness, and the reliability of connection can be improved.

また、本発明実施例1のフレキシャー7の製造方法は、嵩上げ構造41を形成するための嵩上げ層51を、端子部35bを形成する位置で導電性薄板31にベース絶縁層33を形成する前に導電性薄板31に付加した。 In addition, in the method for manufacturing the flexure 7 according to the first embodiment of the present invention, the raising layer 51 for forming the raising structure 41 is formed before the base insulating layer 33 is formed on the conductive thin plate 31 at the position where the terminal portion 35b is formed. It was added to the conductive thin plate 31.

このため、嵩上げ層41を機械加工を伴うことなく確実かつ容易に形成することができる。また、嵩上げ層41は、ベース絶縁層33の階調性ポリイミドよりもエッチング時間の短縮が図れる材料を用いることができ、ベース絶縁層33のエッチング時間の短縮も図ることができる。 Therefore, the raised layer 41 can be reliably and easily formed without machining. Further, the raised layer 41 can be made of a material that can shorten the etching time as compared with the gradation polyimide of the base insulating layer 33, and the etching time of the base insulating layer 33 can also be shortened.

嵩上げ層51を、銅、クロムなどで形成し、ステンレスの導電性薄板31と共にエッチングできるエッチング液を用いれば、嵩上げ層51のみのエッチング時間を省略できる。 If the raising layer 51 is made of copper, chromium, or the like and an etching solution that can etch the conductive thin plate 31 made of stainless steel is used, the etching time of only the raising layer 51 can be omitted.

[変形例]
図12は、タング部上面での結合構造を示し(A)は、比較例の要部断面図、(B)は、端子部を近づけた変形例に係る実施例1の要部断面図、(C)は、スライダー高さを上げた変形例に係る実施例1の要部断面図である。なお、変形例には実施例1の符号を用い、比較例には実施例1の構成部分と対応する構成部分に同符号又は同符号にBを付して説明し、重複した説明は省略する。
[Modification]
12A and 12B show a coupling structure on the upper surface of the tongue portion. FIG. 12A is a cross-sectional view of a main portion of a comparative example, and FIG. FIG. 9C is a cross-sectional view of a main part of the first embodiment according to the modification in which the slider height is increased. In addition, the reference numerals of the first embodiment are used for the modified examples, and the same reference numerals or the same reference numerals are attached to the constituent portions corresponding to the constituent portions of the first embodiment for description in the comparative example, and the duplicate description is omitted. ..

図12は、タング部トップボンドのタイプである。このタイプは、端子部35Bbがスライダー27の端部ではなく、下面下に配置され、スライダー27の上方からの搭載により半田結合する形態である。 FIG. 12 shows a tongue portion top bond type. In this type, the terminal portion 35Bb is arranged not under the end portion of the slider 27 but under the lower surface, and is soldered by mounting the slider 27 from above.

図12(A)の比較例のフレキシャー7Bは、実施例1において説明した比較例のフレキシャー7Aと同様の製造方法であり、端子部35Bbの半田付け用の部分が落ち込んでスライダー27の下面に対する間隔が大きくなっている。 The flexure 7B of the comparative example of FIG. 12(A) has the same manufacturing method as that of the flexure 7A of the comparative example described in Example 1, and the soldering portion of the terminal portion 35Bb is depressed and the distance to the lower surface of the slider 27 is decreased. Is getting bigger.

図12(B)、(C)の変形例では、端子部35bに嵩上げ構造41を備えている。なお、図12(B)、(C)では、異なる二つの端子部35bが対称に配置されている部分を示す。 In the modified example of FIGS. 12B and 12C, the terminal portion 35b is provided with the raised structure 41. 12B and 12C show a portion in which two different terminal portions 35b are symmetrically arranged.

図12(B)では、一般部35a及び端子部35bが平坦に連続するように形成され、舌部33bが端子部35bの基部を支持している。図12(C)では、端子部35bが段部35cを持って一般部35aに対して表面側に突出している。段部35cは、舌部33bに対してオフセットされ、導電性薄板31の開口縁部の上方に対応して位置している。段部35cの上方にカバー絶縁層37の突部37aが形成され、スライダー27を支持している。 In FIG. 12B, the general portion 35a and the terminal portion 35b are formed so as to be flat and continuous, and the tongue portion 33b supports the base portion of the terminal portion 35b. In FIG. 12C, the terminal portion 35b has a step portion 35c and projects toward the front side with respect to the general portion 35a. The step portion 35c is offset with respect to the tongue portion 33b and is positioned corresponding to above the opening edge portion of the conductive thin plate 31. A protrusion 37a of the insulating cover layer 37 is formed above the step 35c and supports the slider 27.

図12(B)、(C)の変形例において、端子部35bの嵩上げ構造41を備えるための製造方法では、上記同様の工程が実行され、各端子部35bに対して階調性ポリイミドのベース絶縁層33を形成する際に、ベース絶縁層33に段付き部として突出する部分を嵩上げ層により形成する。 In the modification of FIGS. 12B and 12C, in the manufacturing method for providing the raised structure 41 of the terminal portion 35b, the same steps as described above are performed, and the gradation polyimide base is provided for each terminal portion 35b. When forming the insulating layer 33, a portion that protrudes as a stepped portion in the insulating base layer 33 is formed by a raised layer.

つまり、嵩上げ層(図示せず)がベース絶縁層33の形成前の導電性薄板31上に形成され、階調性ポリイミドが塗布されてベース絶縁層33の段付き部に、エッチングにより除去される嵩上げ層がエッチング前には存在することになる。 That is, a raised layer (not shown) is formed on the conductive thin plate 31 before the base insulating layer 33 is formed, gradation polyimide is applied, and the stepped portion of the base insulating layer 33 is removed by etching. The raised layer will be present before etching.

このとき、嵩上げ層の高さ調整によって、図12(B)、(C)の端子部35bの形状を選択的に形成することができる。 At this time, the shape of the terminal portion 35b in FIGS. 12B and 12C can be selectively formed by adjusting the height of the raised layer.

かかる変形例では、図12(B)のように端子部35bをスライダー27の下面に、比較例よりも近づけ、或いは図12(C)のように端子部35bとスライダー27の下面との間隔は比較例と同じであるが、スライダー27の搭載高さを上げることができた。 In this modification, the terminal portion 35b is closer to the lower surface of the slider 27 than in the comparative example as shown in FIG. 12B, or the distance between the terminal portion 35b and the lower surface of the slider 27 is as shown in FIG. 12C. Although the same as the comparative example, the mounting height of the slider 27 could be increased.

図13は、タング部上面での結合構造を示し(A)は、比較例の要部断面図、(B)は、端子部を近づけた変形例に係る実施例1の要部断面図、(C)は、スライダー高さを上げた変形例に係る実施例1の要部断面図である。なお、変形例には実施例1の符号を用い、比較例には実施例1の構成部分と対応する構成部分に同符号又は同符号にCを付して説明し、重複した説明は省略する。 13A shows a coupling structure on the upper surface of the tongue portion, FIG. 13A is a cross-sectional view of a main portion of a comparative example, and FIG. 13B is a cross-sectional view of a main portion of a first embodiment according to a modified example in which the terminal portions are brought close to each other. FIG. 9C is a cross-sectional view of a main part of the first embodiment according to the modification in which the slider height is increased. In addition, the reference numerals of Example 1 are used for the modified examples, and the components corresponding to those of Example 1 are described with the same reference numerals or the same reference numerals with C for the comparative example, and the duplicate description is omitted. ..

図13は、図12同様にタング部上面での結合構造である。なお、変形例には実施例1の符号を用い、比較例には実施例1の構成部分と対応する構成部分に同符号又は同符号にCを付して説明し、重複した説明は省略する。 Similar to FIG. 12, FIG. 13 shows a coupling structure on the upper surface of the tongue portion. In addition, the reference numerals of Example 1 are used for the modified examples, and the components corresponding to those of Example 1 are described with the same reference numerals or the same reference numerals with C for the comparative example, and the duplicate description is omitted. ..

図13(A)の比較例のフレキシャー7Cは、カバー絶縁層37Cの穴を介して配線層35Cを部分的に露出させた端子部35Cbを有し、端子部35Cbは、対向するスライダー27の下面の端子部に接続される。かかる構造において、端子部35Cbのスライダー27下面に対する間隔を小さくするには、カバー絶縁層37Cを薄くするか金メッキ39Cを厚くすることになる。しかし、カバー絶縁層37Cは、機能を維持するために3μm程度必要であり、金メッキ39Cは、コスト増を抑制するために1μm程度にする必要がある。このため、端子部35Cbと端子部35Cbのスライダー27下面に対する間隔は、2μm程度空くことになり、これ以上の間隔の調整は困難となっている。 The flexure 7C of the comparative example of FIG. 13(A) has a terminal portion 35Cb in which the wiring layer 35C is partially exposed through a hole of the insulating cover layer 37C, and the terminal portion 35Cb is the lower surface of the slider 27 facing it. Connected to the terminal part of. In such a structure, in order to reduce the distance between the terminal portion 35Cb and the lower surface of the slider 27, the cover insulating layer 37C is thinned or the gold plating 39C is thickened. However, the insulating cover layer 37C needs to have a thickness of approximately 3 μm to maintain its function, and the gold plating 39C needs to have a thickness of approximately 1 μm in order to suppress an increase in cost. Therefore, the distance between the terminal portion 35Cb and the terminal portion 35Cb with respect to the lower surface of the slider 27 is about 2 μm, and it is difficult to adjust the distance more than this.

図13(B)の変形例では、端子部35bに嵩上げ構造41を備えて、端子部35bとスライダー27下面との間隔を調整可能としている。 In the modified example of FIG. 13B, the terminal portion 35b is provided with the raised structure 41 so that the distance between the terminal portion 35b and the lower surface of the slider 27 can be adjusted.

具体的には、平面視におけるカバー絶縁層37の開口部の範囲内に嵩上げ層51を有し、ベース絶縁層33が突出形状の段付き部を有し、それに応じて端子部35bが一般部35aに対して突出してカバー絶縁層37の開口部内に入り込んでいる。端子部35bの表面に金メッキ39が施され、端子部35bをスライダー27の下面に接触させる。 Specifically, the raised layer 51 is provided in the range of the opening of the insulating cover layer 37 in a plan view, the insulating base layer 33 has a stepped portion having a protruding shape, and the terminal portion 35b is accordingly a general portion. The protrusion 35 a is projected into the opening of the insulating cover layer 37. The surface of the terminal portion 35b is plated with gold 39 to bring the terminal portion 35b into contact with the lower surface of the slider 27.

なお、図13(C)のように、嵩上げ層51を平面視におけるカバー絶縁層37の開口部の範囲内外にわたる形状とすることで、端子部35bとスライダー27の下面との間隔は比較例と同じであるが、スライダー27の搭載高さを上げることもできる。 As shown in FIG. 13C, the raised layer 51 has a shape that extends inside and outside the range of the opening of the insulating cover layer 37 in a plan view, so that the distance between the terminal portion 35b and the lower surface of the slider 27 is different from that of the comparative example. Although the same, the mounting height of the slider 27 can be increased.

図13(B)、(C)の変形例において、端子部35bの嵩上げ構造41を備えるための製造方法では、上記同様の工程が実行され、嵩上げ層51が導電性薄板31上に形成され、階調性ポリイミドが塗布されてベース絶縁層33を介して端子部35bの嵩上げ構造41を形成することができる。 In the modification of FIGS. 13B and 13C, in the manufacturing method for providing the raised structure 41 of the terminal portion 35b, the same steps as described above are performed, and the raised layer 51 is formed on the conductive thin plate 31, Gradation polyimide may be applied to form the raised structure 41 of the terminal portion 35b through the insulating base layer 33.

なお、図13(B)のように嵩上げ層51を設ける構造は、図2の端子部35bをフライングリードではなく、パッドタイプにする場合に適用することが可能である。パッドタイプの端子部35bは、図13(B)のように導電性薄板31及びベース絶縁層33に端子部35bが支持されている端子部を意味する。かかるパッドタイプの端子部35bは、例えば、実施例1において図10の第5工程まで行って嵩上げ層51を形成した後、図11の第6工程を行わずに第7工程を行って金メッキ39を施すこと等で実現できる。 The structure in which the raised layer 51 is provided as shown in FIG. 13B can be applied when the terminal portion 35b in FIG. 2 is not a flying lead but a pad type. The pad-type terminal portion 35b means a terminal portion in which the terminal portion 35b is supported by the conductive thin plate 31 and the insulating base layer 33 as shown in FIG. 13B. Such a pad type terminal portion 35b is formed by, for example, performing the seventh step without performing the sixth step of FIG. 11 after performing the fifth step of FIG. It can be realized by applying.

[その他]
なお、配線回路基板としては、後述の嵩上げ構造を適用できるものであればフレキシャー7に限らず、その他の電気部品にも適用することができる。他の実施例も同様である。
[Other]
The wired circuit board is not limited to the flexure 7 as long as the later-described raised structure can be applied, and can be applied to other electric components. The same applies to the other examples.

嵩上げ構造は、他の所定機能部に備えることも可能であり、例えば、フレキシャー7の端子部としてのアクチュエータ接続端子部29に嵩上げ構造を備え、このアクチュエータ接続端子部29に、例えば銀ペーストにより圧電素子15をペースト結合し、より少ない銀ペーストで結合不良を抑制しながらペースト結合することができる。 The raised structure can be provided in another predetermined function part, for example, the actuator connection terminal part 29 as the terminal part of the flexure 7 is provided with the raised structure, and the actuator connection terminal part 29 is provided with a piezoelectric material by, for example, silver paste. The element 15 can be paste-bonded and can be paste-bonded with less silver paste while suppressing bonding failure.

図14は、実施例2に係り、テール部のフライングリードを示す要部断面図である。なお、実施例1の符号を用いて説明し、重複した説明は省略する。 FIG. 14 is a cross-sectional view of relevant parts showing a flying lead of a tail portion according to the second embodiment. It should be noted that the description will be given using the reference numerals of the first embodiment, and redundant description will be omitted.

図14のように、テール部7aの配線層35は導電性薄板31及びベース絶縁層33を貫通した開口部57を通るフライングリード59を有している。なお、フライングリードは、実施例1と同様、導電性薄板31及びベース絶縁層33の開口部57上を通ることにより、導電性薄板31及びベース絶縁層33に支持されていない状態の端子部を意味する。このフライングリード59は、表裏に金メッキ61が施され、また嵩上げ構造41を備えている。 As shown in FIG. 14, the wiring layer 35 of the tail portion 7 a has a flying lead 59 passing through the opening 57 penetrating the conductive thin plate 31 and the insulating base layer 33. The flying lead passes over the openings 57 of the conductive thin plate 31 and the insulating base layer 33, as in the first embodiment, so that the terminal portion not supported by the conductive thin plate 31 and the insulating base layer 33 is removed. means. The flying leads 59 have gold plating 61 on the front and back, and have a raised structure 41.

図14において、フライングリード59の嵩上げ構造41を備えるための製造方法では、上記同様の工程が実行され、嵩上げ層(図示せず。)がベース絶縁層33形成前の導電性薄板31上に形成され、階調性ポリイミドが塗布硬化され、その後エッチングなどして、開口部57に嵩上げ構造41のフライングリード59が形成される。 14, in the manufacturing method for providing the raised structure 41 of the flying leads 59, the same steps as described above are performed, and a raised layer (not shown) is formed on the conductive thin plate 31 before the base insulating layer 33 is formed. Then, the gradation polyimide is applied and hardened, and then the flying lead 59 of the raised structure 41 is formed in the opening 57 by etching or the like.

従って、本実施例では、メインフレキシャーの端子部に対するフライングリード59の高さ調節ができ、適切な半田結合を行わせることができる。 Therefore, in this embodiment, the height of the flying lead 59 with respect to the terminal portion of the main flexure can be adjusted, and proper soldering can be performed.

図15は、実施例3に係り、空中配線部を示し(A)は、比較例、(B)は、実施例の断面図である。なお、実施例3には実施例1の符号を用い、比較例には実施例1の構成部分と対応する構成部分に同符号又は同符号にDを付して説明し、重複した説明は省略する。 15A and 15B show an aerial wiring portion according to the third embodiment, FIG. 15A is a comparative example, and FIG. 15B is a sectional view of the embodiment. In addition, the reference numerals of the first embodiment are used for the third embodiment, and the same reference numerals or the same reference numerals are attached to the constituent portions corresponding to the constituent portions of the first embodiment for description in the comparative example, and the duplicate description is omitted. To do.

図15(A)のように、比較例の空中配線部67Dは、空中配線部67Dにおいてベース絶縁層33Dの表面を露光により削っており、空中配線部67Dが導電性薄板31D側に落ち込んでいる。なお、本実施例において、空中配線部は、ベース絶縁層33、配線層35、及びカバー絶縁層37の導電性薄板31に支持されていない部分であり、且つ端子部以外の部分を意味する。 As shown in FIG. 15A, in the aerial wiring part 67D of the comparative example, the surface of the base insulating layer 33D in the aerial wiring part 67D is shaved by exposure, and the aerial wiring part 67D is depressed toward the conductive thin plate 31D. .. In the present embodiment, the aerial wiring portion is a portion of the insulating base layer 33, the wiring layer 35, and the insulating cover layer 37 that is not supported by the conductive thin plate 31, and means a portion other than the terminal portion.

図15(B)の実施例3のフレキシャー7では、所定機能部として空中配線部67が嵩上げ構造41を備えている。本実施例の空中配線部67は、ベース絶縁層33の薄肉部33cが全体的に支持し、薄肉部33cの平坦な表面に配線層35が積層され、その平坦な表面にカバー絶縁層37が積層されている。 In the flexure 7 of the third embodiment shown in FIG. 15B, the aerial wiring portion 67 has a raised structure 41 as a predetermined function portion. In the aerial wiring portion 67 of the present embodiment, the thin portion 33c of the base insulating layer 33 is wholly supported, the wiring layer 35 is laminated on the flat surface of the thin portion 33c, and the cover insulating layer 37 is formed on the flat surface. It is stacked.

図15(B)において、空中配線部67が嵩上げ構造41を備えるための製造方法では、上記同様の工程が実行され、嵩上げ層(図示せず。)がベース絶縁層33形成前の導電性薄板31上に付加設定され、次いで階調性ポリイミドが塗布硬化によりベース絶縁層33が形成され、導電性薄板31、ベース絶縁層33のエッチングにより嵩上げ層を除去して薄肉部33cを形成する。こうすることで空中配線部67を一般部35aに対して平坦にする嵩上げ構造41を空中配線部67が備える。 In FIG. 15B, in the manufacturing method in which the aerial wiring part 67 includes the raised structure 41, the same steps as described above are performed, and the raised layer (not shown) is a conductive thin plate before the base insulating layer 33 is formed. Then, the base insulating layer 33 is additionally formed on the base 31 and then the gradation insulating polyimide is applied and cured to form the base insulating layer 33. The conductive thin plate 31 and the base insulating layer 33 are etched to remove the raised layer to form the thin portion 33c. By doing so, the aerial wiring portion 67 includes the raised structure 41 that flattens the aerial wiring portion 67 with respect to the general portion 35a.

このように空中配線部67を一般部35aに対して平坦な構造にすることで、フレキシャー7の剛性を安定させることができる。 By thus forming the aerial wiring part 67 to be flat with respect to the general part 35a, the rigidity of the flexure 7 can be stabilized.

図16は、実施例4に係る位置決め用の基準孔を示し(A)は、比較例、(B)は、実施例の断面図である。なお、実施例4には実施例1の符号を用い、比較例には実施例1の構成部分と対応する構成部分に同符号又は同符号にEを付して説明し、重複した説明は省略する。 16A and 16B show a reference hole for positioning according to the fourth embodiment, FIG. 16A is a comparative example, and FIG. 16B is a sectional view of the embodiment. In addition, the reference numerals of Example 1 are used for Example 4, and the same reference numerals or the same reference numerals are used for the components corresponding to those of Example 1 for the comparative example, and the description is omitted, and the duplicate description is omitted. To do.

近年、スライダーの位置決めは、高精度化のために一般に画像処理が用いられている。この画像処理の基準とする孔として、従来はステンレスの導電性薄板の基準孔を使用していた。しかし、端子部とステンレスの導電性薄板との位置誤差を招くという理由で配線層に形成した基準孔を用いるようになっている。 In recent years, image processing is generally used to position a slider for high accuracy. Conventionally, a reference hole made of a stainless conductive thin plate has been used as a reference hole for this image processing. However, the reference hole formed in the wiring layer is used because it causes a positional error between the terminal portion and the stainless conductive thin plate.

図16(A)のフレキシャー7Eでは、配線層35Eが画像処理用の基準孔71Eを備え、この基準孔71Eの形成のためにベース絶縁層33Eの表面を露光により削った上で配線層35Eを形成し、配線層35Eに基準孔71Eとなる孔を形成する前又は後にベース絶縁層33Eの裏面をエッチングにより削っている。この結果、基準孔71Eを形成した基準孔形成部73Eが導電性薄板31側に落ち込んでいる。この落ち込みにより、図16(A)のP,Q、Rの各箇所において基準孔形成部73Eの表裏に複数の不要なエッジが発生する。 In the flexure 7E of FIG. 16(A), the wiring layer 35E has a reference hole 71E for image processing, and the surface of the insulating base layer 33E is shaved by exposure to form the reference hole 71E, and then the wiring layer 35E is formed. The back surface of the insulating base layer 33E is removed by etching before or after forming the holes to be the reference holes 71E in the wiring layer 35E. As a result, the reference hole forming portion 73E in which the reference hole 71E is formed falls to the conductive thin plate 31 side. Due to this drop, a plurality of unnecessary edges are formed on the front and back sides of the reference hole forming portion 73E at the points P, Q, and R in FIG. 16(A).

この複数のエッジにより画像処理時にエッジが認識されてしまい、誤認識の原因となっていた。 Due to the plurality of edges, the edges are recognized during image processing, which is a cause of erroneous recognition.

図16(B)の実施例4のフレキシャー7では、配線層35が有する画像処理用の基準孔71を形成した所定機能部としての基準孔形成部73が嵩上げ構造41を備えた。 In the flexure 7 of Example 4 of FIG. 16B, the reference hole forming portion 73 as the predetermined functional portion in which the wiring layer 35 has the reference hole 71 for image processing is provided with the raised structure 41.

図16(B)において、基準孔形成部73が嵩上げ構造41を備えるための製造方法では、上記同様の工程が実行され、嵩上げ層(図示せず。)がベース絶縁層33形成前の導電性薄板31上に付加設定され、次いで階調性ポリイミドが塗布硬化によりベース絶縁層33が形成される。その後、表面の露光、裏面のエッチングにより、一般部35aに対して平坦にする嵩上げ構造41の基準孔形成部73が形成される。 In FIG. 16B, in the manufacturing method in which the reference hole forming portion 73 includes the raised structure 41, the same steps as described above are performed, and the raised layer (not shown) has conductivity before the base insulating layer 33 is formed. The insulating base layer 33 is additionally set on the thin plate 31, and then the gradation polyimide is applied and cured to form the insulating base layer 33. After that, the reference hole forming portion 73 of the raised structure 41 that is flattened with respect to the general portion 35a is formed by exposing the front surface and etching the back surface.

従って、図16(A)、(B)を比較しても明らかなように、嵩上げ構造41の基準孔形成部73では、基準孔71の周囲に不要なエッジが発生せず、画像処理時の誤認識を抑制することができる。 Therefore, as is clear from a comparison between FIGS. 16A and 16B, in the reference hole forming portion 73 of the raised structure 41, an unnecessary edge does not occur around the reference hole 71, and it is False recognition can be suppressed.

1 ヘッド・サスペンション
7 フレキシャー(配線回路基板)
27 スライダー
31 導電性薄板(金属支持層)
33 ベース絶縁層(電気絶縁層)
35 配線層
35a 一般部
35b 端子部(所定機能部)
41 嵩上げ構造
51 嵩上げ層
59、67 空中配線部(所定機能部)
71 基準孔
73 基準孔形成部(所定機能部)
1 head suspension 7 flexure (wiring circuit board)
27 Slider 31 Conductive thin plate (metal support layer)
33 Base insulation layer (electrical insulation layer)
35 Wiring layer 35a General part 35b Terminal part (predetermined function part)
41 raised structure 51 raised layers 59, 67 aerial wiring part (predetermined function part)
71 reference hole 73 reference hole forming portion (predetermined function portion)

Claims (5)

基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、
前記配線層は、前記端子部を前記一般部に対し嵩上げ構造の層の段差により表面に突出させる層厚方向の段部を備え、
前記端子部は、前記金属支持層及び電気絶縁層の開口部に前記段部を含めた平面で先端が臨み、
前記段部は、前記電気絶縁層の本体の厚みよりも薄く形成した前記電気絶縁層の前記開口内に突出する舌部により前記端子部の裏面が支持され、
前記端子部は、表面をスライダーの端子部に半田結合する
ことを特徴とする配線回路基板。
A metal supporting layer forming a substrate, an electric insulating layer laminated on the surface of the metal supporting layer, a general portion laminated on the surface of the electric insulating layer and routed to the outside connected to the general portion. A wiring circuit board having a wiring layer having a terminal portion for conducting connection of
The wiring layer includes a step portion in the layer thickness direction that causes the terminal portion to project to the surface by a step of the layer having a raised structure with respect to the general portion,
The terminal portion has a front end that faces a plane including the step in the openings of the metal supporting layer and the electric insulating layer,
The stepped portion has a back surface of the terminal portion supported by a tongue portion projecting into the opening of the electrical insulating layer formed to be thinner than a main body of the electrical insulating layer,
The terminal portion, the surface is soldered to the terminal portion of the slider ,
A printed circuit board characterized by the above.
基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、
前記端子部は、前記一般部に対し嵩上げ構造の平坦な連続により又は前記一般部に対し嵩上げ構造の段部を持って表面に突出して前記金属支持層及び電気絶縁層の開口部に先端が臨み、
前記端子部は、前記開口部で該開口部に臨む基部が前記電気絶縁層の本体の厚みよりも薄く形成した前記電気絶縁層の前記開口内に突出する舌部により裏面が支持され、
前記端子部は、表面をスライダーの下面の端子部に半田結合する
ことを特徴とする配線回路基板。
A metal supporting layer forming a substrate, an electric insulating layer laminated on the surface of the metal supporting layer, a general portion laminated on the surface of the electric insulating layer and routed to the outside connected to the general portion. A wiring circuit board having a wiring layer having a terminal portion for conducting connection of
The terminal portion projects toward the surface by the flat continuation of the raised structure with respect to the general portion or by having a stepped portion of the raised structure with respect to the general portion and the tip faces the openings of the metal supporting layer and the electrical insulating layer. ,
The back surface of the terminal portion is supported by a tongue portion projecting into the opening of the electrical insulating layer, the base portion facing the opening being formed thinner than the thickness of the main body of the electrical insulating layer in the opening portion,
The terminal portion, the surface is soldered to the terminal portion of the lower surface of the slider ,
A printed circuit board characterized by the above.
基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、
前記配線層は、前記一般部に対し嵩上げ構造の層の段差により表面に突出させる層厚方向の段部を両側に有するフライングリードを備え、
前記フライングリードは、前記金属支持層及び電気絶縁層を貫通した開口部を通り、
前記フライングリードの両側の段部及び端子部の基部は、前記金属支持層及び電気絶縁層により裏面が支持され、
前記フライングリードの両側の段部及び基部の裏面と前記電気絶縁層との間にスパッタ層を設けた、
ことを特徴とする配線回路基板。
A metal supporting layer forming a substrate, an electric insulating layer laminated on the surface of the metal supporting layer, a general portion laminated and arranged on the surface of the electric insulating layer, and an outside connected to the general portion. A wiring circuit board having a wiring layer having a terminal portion for conducting connection of
The wiring layer is provided with flying leads having stepped portions on both sides in the layer thickness direction which are projected to the surface by a step of the layer having a raised structure with respect to the general portion,
The flying lead passes through an opening penetrating the metal supporting layer and the electrically insulating layer,
The stepped portions on both sides of the flying lead and the base portion of the terminal portion have their back surfaces supported by the metal supporting layer and the electrical insulating layer,
A sputter layer is provided between the back surface of the step and the base on both sides of the flying lead and the electrical insulating layer.
A printed circuit board characterized by the above.
基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、
前記配線層は、前記金属支持層に支持されている部分から前記金属支持層に支持されていない空中を通り前記金属支持層に支持されている部分に至ると共に前記一般部に対し嵩上げ構造の平坦な空中配線部を備え、
前記空中配線部は、前記電気絶縁層の本体の厚みよりも薄く形成した薄肉部により裏面が支持され、
前記電気絶縁層の本体は、前記金属支持層に支持されている部分から前記金属支持層に支持されていない空中に突出して前記薄肉部を支持する、
ことを特徴とする配線回路基板。
A metal supporting layer forming a substrate, an electric insulating layer laminated on the surface of the metal supporting layer, a general portion laminated on the surface of the electric insulating layer and routed to the outside connected to the general portion. A wiring circuit board having a wiring layer having a terminal portion for conducting connection of
The wiring layer extends from a portion supported by the metal supporting layer to a portion supported by the metal supporting layer through the air not supported by the metal supporting layer and has a flattened structure with respect to the general portion. Equipped with an aerial wiring section,
The aerial wiring portion, the back surface is supported by a thin portion formed to be thinner than the thickness of the body of the electrical insulating layer,
The main body of the electrically insulating layer projects from the portion supported by the metal supporting layer into the air not supported by the metal supporting layer to support the thin portion.
A printed circuit board characterized by the above.
基板をなす金属支持層と、前記金属支持層の表面に積層形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層の表面に積層されて配索された一般部及び該一般部に結合された外部への導通接続を行なう端子部を有する配線層とを備えた配線回路基板であって、
前記配線層は、画像処理用の基準孔を形成した基準孔形成部を前記一般部に対して平坦に形成し、
前記基準孔形成部は、前記電気絶縁層の本体の厚みよりも薄く形成した舌部により支持された、
ことを特徴とする配線回路基板。
A metal supporting layer forming a substrate, an electric insulating layer laminated on the surface of the metal supporting layer, a general portion laminated on the surface of the electric insulating layer and routed to the outside connected to the general portion. A wiring circuit board having a wiring layer having a terminal portion for conducting connection of
The wiring layer has a reference hole forming portion having a reference hole for image processing formed flat with respect to the general portion,
The reference hole forming portion is supported by a tongue portion formed to be thinner than the thickness of the main body of the electric insulating layer,
A printed circuit board characterized by the above.
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