JP6718232B2 - Polyarylene sulfide resin composition, molded article thereof, and surface mount electronic component - Google Patents
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Description
本発明は、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物及びその成形品、並びに表面実装電子部品に関する。 The present invention relates to a polyarylene sulfide resin composition, a molded article thereof, and a surface mount electronic component.
近年、電気・電子工業の分野では、製品の小型化や生産性の向上に伴い、樹脂系電子部品のプリント基板上への実装方式がサーフェスマウント方式(以下「SMT方式」と略すことがある。)と呼ばれる表面実装方式に移行している。このSMT方式により電子部品を基板上に実装する技術は、従来、錫−鉛共晶はんだ(融点184℃)が一般的であったが、近年、環境汚染の問題から、その代替材料として錫をベースに数種類の金属を添加した鉛フリーはんだが利用されている。 2. Description of the Related Art In recent years, in the field of electric/electronic industry, a mounting method of a resin-based electronic component on a printed circuit board is sometimes referred to as a surface mounting method (hereinafter, abbreviated as “SMT method”) along with downsizing of products and improvement of productivity. ) Is called the surface mount method. Conventionally, tin-lead eutectic solder (melting point 184° C.) has been generally used as a technique for mounting electronic components on a substrate by the SMT method, but in recent years, tin has been used as an alternative material because of environmental pollution. Lead-free solder with several kinds of metals added to the base is used.
このような鉛フリーはんだは、錫−鉛共晶はんだよりも融点が高く、例えば、錫−銀共晶はんだの場合には融点が220℃に達するため、表面実装時には加熱炉(リフロー炉)の温度をさらに上昇させなければならなかった。そのため、コネクター等の樹脂系電子部品をはんだ付けする際、加熱炉(リフロー炉)内において当該電子部品が融解又は変形を生じてしまうという問題があった。したがって、表面実装電子部品に用いられる樹脂材料には耐熱性の高いものが強く求められていた。 Such a lead-free solder has a higher melting point than a tin-lead eutectic solder. For example, in the case of a tin-silver eutectic solder, the melting point reaches 220° C., so that the surface of a heating furnace (reflow furnace) is used during surface mounting. The temperature had to be raised further. Therefore, when soldering a resin-based electronic component such as a connector, there is a problem that the electronic component is melted or deformed in a heating furnace (reflow furnace). Therefore, a resin material having a high heat resistance has been strongly demanded for the surface mount electronic component.
これに対して、高耐熱性の樹脂材料としてポリフェニレンスルフィド樹脂(以下「PPS樹脂」と略すことがある。)に代表されるポリアリーレンスルフィド樹脂(以下「PAS樹脂」と略すことがある。)を用いることが提案されており、該ポリアリーレンスルフィド樹脂を含む樹脂組成物の成形品と金属端子とを備えた表面実装電子部品が、加熱炉(リフロー炉)内においても当該電子部品の融解又は変形を抑制しうることが提案されている(例えば特許文献1参照)。 On the other hand, a polyarylene sulfide resin (hereinafter sometimes abbreviated as “PAS resin”) represented by polyphenylene sulfide resin (hereinafter sometimes abbreviated as “PPS resin”) is used as a highly heat-resistant resin material. It has been proposed to use, and a surface-mounted electronic component including a molded product of a resin composition containing the polyarylene sulfide resin and a metal terminal is melted or deformed even in a heating furnace (reflow furnace). It has been proposed that the above can be suppressed (for example, refer to Patent Document 1).
ところが、従来のポリアリーレンスルフィド樹脂を含む組成物では、成形加工の際などの加熱により発生するガスの量が比較的多く、電子部品の金属端子を腐食させるおそれがあった。また、従来のポリアリーレンスルフィド樹脂組成物あるいはその成形品においては、機械的強度、金属密着性、キャビティーバランス等の特性にも未だ改善の余地があった。 However, in the conventional composition containing a polyarylene sulfide resin, the amount of gas generated by heating during molding or the like is relatively large, which may corrode the metal terminals of electronic components. Further, in the conventional polyarylene sulfide resin composition or its molded product, there is still room for improvement in properties such as mechanical strength, metal adhesion, and cavity balance.
そこで、本発明が解決しようとする課題は、加熱炉(リフロー炉)内において表面実装電子部品が融解又は変形することを防ぎつつ、かつ、加熱によるガス発生量を抑制でき、さらに樹脂組成物あるいはその成形品において、優れた機械的強度、金属密着性、キャビティーバランス特性を有する、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた成形品、及び該成形品を備える表面実装電子部品を提供することにある。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is to prevent the surface mounting electronic components from melting or deforming in the heating furnace (reflow furnace), and suppress the gas generation amount due to heating, and further to prevent the resin composition or In the molded product, a polyarylene sulfide resin composition having excellent mechanical strength, metal adhesion, and cavity balance characteristics, a molded product using the resin composition, and a surface mount electronic component equipped with the molded product are provided. To provide.
本発明者らは種々の検討を行った結果、末端に特定の官能基を有するポリアリーレンスルフィド樹脂を用いることで上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of various studies, the present inventors have found that the above problem can be solved by using a polyarylene sulfide resin having a specific functional group at the terminal, and have completed the present invention.
すなわち、本発明は、ポリアリーレンスルフィド樹脂と、無機質充填剤、ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂、エラストマー、及び2以上の架橋性官能基を有する架橋性樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも1種の他の成分と、を含有する、表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物であって、ポリアリーレンスルフィド樹脂が、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、ジヨード芳香族化合物、単体硫黄及び重合禁止剤を含む溶融混合物中で反応させることを含む方法により得ることのできるものである、表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物に関する。 That is, the present invention is at least 1 selected from the group consisting of a polyarylene sulfide resin, an inorganic filler, a thermoplastic resin other than the polyarylene sulfide resin, an elastomer, and a crosslinkable resin having two or more crosslinkable functional groups. A polyarylene sulfide resin composition for surface-mounting electronic components, which comprises a diiodoaromatic compound, a simple sulfur, a polymerization inhibitor, and a diiodo aroma. The present invention relates to a polyarylene sulfide resin composition for surface mount electronic parts, which can be obtained by a method including reacting in a molten mixture containing a group compound, elemental sulfur and a polymerization inhibitor.
本発明によれば、加熱炉(リフロー炉)内において表面実装電子部品が融解又は変形することを防ぎつつ、かつ、加熱によるガス発生量を抑制でき、さらに樹脂組成物あるいはその成形品において、優れた機械的強度、金属密着性、キャビティーバランス特性を有する、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた成形品、及び該成形品を備える表面実装電子部品を提供することにある。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while preventing a surface mounting electronic component from melting or deforming in a heating furnace (reflow furnace), the amount of gas generation by heating can be suppressed, and further, in a resin composition or its molded article, it is excellent. Another object of the present invention is to provide a polyarylene sulfide resin composition having mechanical strength, metal adhesion, and cavity balance characteristics, a molded article using the resin composition, and a surface mount electronic component including the molded article.
なお、キャビティーバランスは、複数のキャビティーを有する金型を用いた射出成形により、同時に複数の成形品を成形したときの、各キャビティーの充填度の均一性に関連する。成形材料のキャビティーバランスが十分でないと、一部のキャビティーが十分に充填されないといった成形不良が発生し易くなる傾向がある。 The cavity balance relates to the uniformity of the filling degree of each cavity when a plurality of molded products are simultaneously molded by injection molding using a mold having a plurality of cavities. If the cavity balance of the molding material is not sufficient, there is a tendency that molding defects such as insufficient filling of some cavities occur.
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.
本実施形態に用いられるポリアリーレンスルフィド樹脂は、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、ジヨード芳香族化合物、単体硫黄及び重合禁止剤を含有する溶融混合物中で反応させることを含む方法により得ることができる。このような方法によれば、フィリップス法をはじめとする従来法に比べ、比較的高分子量の重合体としてポリアリーレンスルフィド樹脂を得ることができる。 The polyarylene sulfide resin used in the present embodiment is obtained by reacting a diiodo aromatic compound, a simple substance sulfur, and a polymerization inhibitor in a melt mixture containing the diiodo aromatic compound, the simple substance sulfur, and the polymerization inhibitor. Can be obtained. According to such a method, the polyarylene sulfide resin can be obtained as a polymer having a relatively high molecular weight as compared with conventional methods such as the Phillips method.
ジヨード芳香族化合物は、芳香族環と、芳香族環に直接結合した2個のヨウ素原子とを有する。ジヨード芳香族化合物としては、ジヨードベンゼン、ジヨードトルエン、ジヨードキシレン、ジヨードナフタレン、ジヨードビフェニル、ジヨードベンゾフェノン、ジヨードジフェニルエーテル及びジヨードジフェニルスルフォン等が挙げられるが、これらに限定されない。2つのヨウ素原子の置換位置は特に限定されないが、好ましくは2つの置換位置が分子内で出来る限り遠い位置にあることが望ましい。好ましい置換位置は、パラ位、及び4,4’−位である。 The diiodo aromatic compound has an aromatic ring and two iodine atoms directly bonded to the aromatic ring. Examples of the diiodo aromatic compound include, but are not limited to, diiodobenzene, diiodotoluene, diiodoxylene, diiodonaphthalene, diiodobiphenyl, diiodobenzophenone, diiododiphenyl ether, and diiododiphenyl sulfone. The substitution positions of the two iodine atoms are not particularly limited, but it is desirable that the two substitution positions be as far as possible in the molecule. Preferred substitution positions are the para position and the 4,4'-position.
ジヨード芳香族化合物の芳香族環は、フェニル基、ヨウ素原子以外のハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート、アリールスルホンおよびアリールケトンから選ばれる少なくとも1種の置換基によって置換されていてもよい。ただし、ポリアリーレンスルフィド樹脂の結晶化度及び耐熱性等の観点から、未置換のジヨード芳香族化合物に対する置換されたジヨード芳香族化合物の割合は、好ましくは0.0001〜5質量%の範囲であり、より好ましくは0.001〜1質量%の範囲である。 The aromatic ring of the diiodo aromatic compound has a phenyl group, a halogen atom other than an iodine atom, a hydroxy group, a nitro group, an amino group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a carboxyl group, a carboxylate, an aryl sulfone and an aryl ketone. It may be substituted with at least one kind of substituent selected from However, from the viewpoint of the crystallinity and heat resistance of the polyarylene sulfide resin, the ratio of the substituted diiodo aromatic compound to the unsubstituted diiodo aromatic compound is preferably in the range of 0.0001 to 5% by mass. , And more preferably 0.001 to 1% by mass.
単体硫黄は、硫黄原子のみによって構成される物質(S8、S6、S4、S2等)を意味し、その形態は限定されない。具体的には、局法医薬品として市販されている単体硫黄を用いてもよいし、汎用的に入手することができる、S8及びS6等を含む混合物を用いてもよい。単体硫黄の純度も特に限定されない。単体硫黄は、室温(23℃)で固体であれば、粒形状又は粉末状であってもよい。単体硫黄の粒径は、特に限定されないが、好ましくは0.001〜10mmの範囲であり、より好ましくは0.01〜5mmの範囲であり、更に好ましくは0.01〜3mmの範囲である。The elemental sulfur means a substance (S 8 , S 6 , S 4 , S 2, etc.) composed only of sulfur atoms, and its form is not limited. Specifically, elemental sulfur that is commercially available as a local medicine may be used, or a mixture containing S 8 and S 6 , which is commonly available, may be used. The purity of elemental sulfur is also not particularly limited. The elemental sulfur may be in the form of particles or powder as long as it is solid at room temperature (23° C.). The particle size of elemental sulfur is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.001 to 10 mm, more preferably in the range of 0.01 to 5 mm, and further preferably in the range of 0.01 to 3 mm.
重合禁止剤は、ポリアリーレンスルフィド樹脂の重合反応において当該重合反応を禁止又は停止する化合物であれば、特に制限なく用いることができる。重合禁止剤は、ポリアリーレンスルフィド樹脂の主鎖の末端にヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基及びカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を導入し得る化合物を含むことが好ましい。すなわち、重合禁止剤としては、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基及びカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を1又は2以上有す化合物が好ましい。また、重合禁止剤が上記官能基を有していてもよいし、重合の停止反応等によって、上記官能基を生成してもよい。 The polymerization inhibitor can be used without particular limitation as long as it is a compound that inhibits or stops the polymerization reaction in the polymerization reaction of the polyarylene sulfide resin. The polymerization inhibitor preferably contains a compound capable of introducing at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group and a salt of a carboxyl group into the terminal of the main chain of the polyarylene sulfide resin. That is, the polymerization inhibitor is preferably a compound having at least one group selected from the group consisting of salts of hydroxy group, amino group, carboxyl group and carboxyl group. Further, the polymerization inhibitor may have the above-mentioned functional group, or the above-mentioned functional group may be generated by a termination reaction of the polymerization or the like.
ヒドロキシ基又はアミノ基を有する重合禁止剤としては、例えば、下記式(1)又は(2)で表される化合物が重合禁止剤として用いられ得る。 As the polymerization inhibitor having a hydroxy group or an amino group, for example, a compound represented by the following formula (1) or (2) can be used as the polymerization inhibitor.
一般式(1)で表される化合物としては、例えば、2−ヨードフェノール、2−アミノアニリンなどが挙げられる。一般式(2)で表される化合物としては、2−ヨードベンゾフェノンが挙げられる。 Examples of the compound represented by the general formula (1) include 2-iodophenol and 2-aminoaniline. 2-Iodobenzophenone is mentioned as a compound represented by General formula (2).
カルボキシル基を有する重合禁止剤としては、例えば、下記一般式(3)、(4)又は(5)で表される化合物から選ばれる1種以上の化合物が用いられ得る。 As the polymerization inhibitor having a carboxyl group, for example, one or more compounds selected from the compounds represented by the following general formula (3), (4) or (5) can be used.
一般式(3)、(4)又は(5)で表される化合物によれば、下記式(6)又は(7)で表される一価の基が主鎖の末端基として導入される。これら特定構造の末端の構成単位の存在は、一般式(3)、(4)又は(5)で表される化合物を用いた溶融重合により得られたポリアリーレンスルフィド樹脂に特徴的である。 According to the compound represented by the general formula (3), (4) or (5), a monovalent group represented by the following formula (6) or (7) is introduced as a terminal group of the main chain. The presence of the terminal structural unit having these specific structures is characteristic of the polyarylene sulfide resin obtained by melt polymerization using the compound represented by the general formula (3), (4) or (5).
重合禁止剤として、カルボキシル基等の官能基を有していない化合物等を使用してもよい。このような化合物としては、例えば、ジフェニルジスルフィド、モノヨードベンゼン、チオフェノール、2,2’−ジベンゾチアゾリルジスルフィド、2−メルカプトベンゾチアゾール、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、2−(モルホリノチオ)ベンゾチアゾール及びN,N’−ジシクロヘキシル−1,3−ベンゾチアゾール−2−スルフェンアミドから選ばれる少なくとも1種の化合物を用いることができる。 As the polymerization inhibitor, a compound having no functional group such as a carboxyl group may be used. Examples of such a compound include diphenyl disulfide, monoiodobenzene, thiophenol, 2,2′-dibenzothiazolyl disulfide, 2-mercaptobenzothiazole, N-cyclohexyl-2-benzothiazolyl sulfenamide, 2 At least one compound selected from -(morpholinothio)benzothiazole and N,N'-dicyclohexyl-1,3-benzothiazole-2-sulfenamide can be used.
本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂は、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤と、必要に応じて触媒と含む混合物を加熱して得られる溶融混合物中で溶融重合を行うことによって生成する。溶融混合物中のジヨード芳香族化合物の割合は、単体硫黄1モルに対して、好ましくは0.5〜2モルの範囲であり、より好ましくは0.8〜1.2モルの範囲である。また、混合物中の重合禁止剤の割合は、固体硫黄1モルに対して、好ましくは0.0001〜0.1モルの範囲であり、より好ましくは0.0005〜0.05モルの範囲である。 The polyarylene sulfide resin according to the present embodiment is a diiodo aromatic compound, elemental sulfur, a polymerization inhibitor, and optionally by performing melt polymerization in a melt mixture obtained by heating a mixture containing a catalyst. To generate. The proportion of the diiodo aromatic compound in the molten mixture is preferably 0.5 to 2 mol, and more preferably 0.8 to 1.2 mol, based on 1 mol of elemental sulfur. The proportion of the polymerization inhibitor in the mixture is preferably 0.0001 to 0.1 mol, and more preferably 0.0005 to 0.05 mol, based on 1 mol of solid sulfur. ..
重合禁止剤を添加する時期は、特に制限されないが、ジヨード芳香族化合物、単体硫黄及び必要に応じて添加される触媒を含む混合物を加熱して、混合物の温度が好ましくは200℃〜320℃の範囲、より好ましくは250〜320℃の範囲となった時点で重合禁止剤を添加することができる。 The timing of adding the polymerization inhibitor is not particularly limited, but the mixture containing the diiodoaromatic compound, elemental sulfur and the catalyst optionally added is heated so that the temperature of the mixture is preferably 200°C to 320°C. The polymerization inhibitor can be added at the time when the temperature reaches the range, more preferably 250 to 320°C.
溶融混合物にニトロ化合物を触媒として添加して、重合速度を調節することができる。このニトロ化合物としては、通常、各種ニトロベンゼン誘導体を用いることができる。ニトロベンゼン誘導体としては、例えば1,3−ジヨード−4−ニトロベンゼン、1−ヨード−4−ニトロベンゼン、2,6−ジヨード−4−ニトロフェノール及び2,6−ジヨード−4−ニトロアミンが挙げられる。触媒の量は、通常、触媒として添加される量であればよく、例えば単体硫黄100質量部に対して0.01〜20質量部の範囲であることが好ましい。 Nitro compounds can be added as catalysts to the molten mixture to control the rate of polymerization. Various nitrobenzene derivatives can be usually used as the nitro compound. Examples of the nitrobenzene derivative include 1,3-diiodo-4-nitrobenzene, 1-iodo-4-nitrobenzene, 2,6-diiodo-4-nitrophenol and 2,6-diiodo-4-nitroamine. The amount of the catalyst is usually an amount added as a catalyst, and for example, it is preferably in the range of 0.01 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of elemental sulfur.
溶融重合の条件は、重合反応が適切に進行するように、適宜調整される。溶融重合の温度は、好ましくは、175℃以上、生成するポリアリーレンスルフィド樹脂の融点+100℃以下の範囲、より好ましくは180〜350℃の範囲である。溶融重合は、絶対圧が好ましくは1[cPa]〜100[kPa]の範囲、より好ましくは13[cPa]〜60[kPa]の範囲で行われる。溶融重合の条件は、一定である必要は無い。例えば、重合初期は温度を好ましくは175〜270℃の範囲、より好ましくは180〜250℃の範囲とし、かつ、絶対圧を6.7〜100[kPa]の範囲とし、その後、連続的に又は階段状に昇温及び減圧させながら重合を行い、重合後期は、温度を好ましくは270℃以上、生成するポリアリーレンスルフィド樹脂の融点+100℃以下の範囲、より好ましくは300〜350℃の範囲とし、かつ、絶対圧を1[cPa]〜6[kPa]の範囲として重合を行うことができる。本明細書において、樹脂の融点は、示差走査熱量計(パーキンエルマー製DSC装置 Pyris Diamond)を用いてJIS K 7121に準拠して測定される値を意味する。 The conditions for melt polymerization are appropriately adjusted so that the polymerization reaction proceeds properly. The temperature of the melt polymerization is preferably 175° C. or higher and the melting point of the polyarylene sulfide resin to be produced+100° C. or lower, more preferably 180 to 350° C. The melt polymerization is carried out at an absolute pressure of preferably 1 [cPa] to 100 [kPa], more preferably 13 [cPa] to 60 [kPa]. The conditions for melt polymerization do not have to be constant. For example, at the initial stage of polymerization, the temperature is preferably in the range of 175 to 270° C., more preferably 180 to 250° C., and the absolute pressure is in the range of 6.7 to 100 [kPa], and then continuously or Polymerization is performed while stepwise heating and depressurizing, and in the latter stage of the polymerization, the temperature is preferably 270° C. or higher, the melting point of the polyarylene sulfide resin to be generated +100° C. or less, more preferably 300 to 350° C., Moreover, the polymerization can be carried out with the absolute pressure in the range of 1 [cPa] to 6 [kPa]. In the present specification, the melting point of a resin means a value measured according to JIS K 7121 using a differential scanning calorimeter (DSC device Pyris Diamond manufactured by Perkin Elmer).
溶融重合は、酸化架橋反応を防ぎつつ、高い重合度を得る観点から、好ましくは、非酸化性雰囲気下で行う。非酸化性雰囲気において、気相の酸素濃度は好ましくは5体積%未満の範囲、より好ましくは2体積%未満の範囲であり、更に好ましくは気相が酸素を実質的に含有しない。非酸化性雰囲気は、好ましくは、窒素、ヘリウム及びアルゴン等の不活性ガス雰囲気である。 From the viewpoint of obtaining a high degree of polymerization while preventing the oxidative crosslinking reaction, the melt polymerization is preferably performed in a non-oxidizing atmosphere. In a non-oxidizing atmosphere, the oxygen concentration in the gas phase is preferably in the range of less than 5% by volume, more preferably in the range of less than 2% by volume, and even more preferably the gas phase is substantially free of oxygen. The non-oxidizing atmosphere is preferably an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium and argon.
溶融重合は、例えば、加熱装置、減圧装置及び撹拌装置を備える溶融混練機を用いて行うことができる。溶融混錬機としては、例えば、バンバリーミキサー、ニーダー、連続混練機、単軸押出機及び二軸押出機が挙げられる。 The melt polymerization can be performed using, for example, a melt kneader equipped with a heating device, a pressure reducing device, and a stirring device. Examples of the melt kneader include a Banbury mixer, a kneader, a continuous kneader, a single screw extruder and a twin screw extruder.
溶融重合のための溶融混合物は、溶媒を実質的に含有しないことが好ましい。より具体的には、溶融混合物に含まれる溶媒の量が、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤と、必要に応じて触媒との合計100質量部に対して、好ましくは10質量部以下の範囲、より好ましくは5質量部以下の範囲、さらに好ましくは1質量部以下の範囲である。溶媒の量は、0質量部以上、0.01質量部以上の範囲、又は0.1質量部以上の範囲であってもよい。 The melt mixture for melt polymerization is preferably substantially free of solvent. More specifically, the amount of the solvent contained in the molten mixture is preferably 10 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the diiodo aromatic compound, elemental sulfur, the polymerization inhibitor, and the catalyst, if necessary. The content is in the range of 1 part by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, still more preferably 1 part by mass or less. The amount of the solvent may be 0 part by mass or more, 0.01 part by mass or more, or 0.1 part by mass or more.
溶融重合後の溶融混合物(反応生成物)を冷却して固体状態の混合物を得た後、減圧下、又は非酸化性雰囲気の大気圧下で、混合物を加熱して重合反応を更に進行させてもよい。これによりさらに分子量を増大させることができるだけでなく、生成したヨウ素分子が昇華されて除去されるため、ポリアリーレンスルフィド樹脂中のヨウ素原子濃度を低く抑えることができる。好ましくは100〜260℃の範囲、より好ましくは130〜250℃の範囲、更に好ましくは150〜230℃の範囲の温度まで冷却することで、固体状態の混合物を得ることができる。固体状態への冷却後の加熱は、溶融重合と同様の温度及び圧力条件下で行うことができる。 After the molten mixture after the melt polymerization (reaction product) is cooled to obtain a solid-state mixture, the mixture is heated under reduced pressure or at atmospheric pressure in a non-oxidizing atmosphere to further advance the polymerization reaction. Good. As a result, not only the molecular weight can be further increased, but also the produced iodine molecules are sublimated and removed, so that the iodine atom concentration in the polyarylene sulfide resin can be suppressed to be low. By cooling to a temperature preferably in the range of 100 to 260°C, more preferably in the range of 130 to 250°C, and even more preferably in the range of 150 to 230°C, a solid state mixture can be obtained. The heating after cooling to the solid state can be performed under the same temperature and pressure conditions as in melt polymerization.
溶融重合工程により得られたポリアリーレンスルフィド樹脂を含む反応生成物は、そのまま直接、溶融混練機に投入する等の方法により樹脂組成物を製造するためのこともできるが、当該反応生成物に当該反応生成物が溶解する溶媒を加えて溶解物を調製し、当該溶解物の状態で反応装置から反応生成物を取り出すことが、生産性に優れるだけでなくさらに反応性も良好となるため好ましい。当該反応生成物が溶解する溶媒の添加は、溶融重合後に行うことが好ましいが、溶融重合の反応後期に行ってもよく、また、上記のとおり溶融混合物(反応生成物)を冷却して固体状態の混合物を得た後、加圧下、減圧下、又は非酸化性雰囲気の大気圧下で、混合物を加熱して重合反応を更に進行させた後であってもよい。当該溶解物を調製する工程は、非酸化性雰囲気下で行ってもよい。また、加熱溶解の温度としては、前記反応生成物が溶解する溶媒の融点以上の範囲であればよく、好ましくは200〜350℃の範囲、より好ましくは210〜250℃の範囲であり、加圧下で行うことが好ましい。 The reaction product containing the polyarylene sulfide resin obtained by the melt polymerization step can be directly used as it is to produce a resin composition by a method such as charging into a melt kneader. It is preferable to prepare a dissolved product by adding a solvent in which the reaction product is dissolved and to take out the reaction product from the reaction apparatus in the state of the dissolved product because not only excellent productivity but also good reactivity are obtained. The addition of the solvent in which the reaction product dissolves is preferably carried out after the melt polymerization, but it may also be carried out in the latter stage of the reaction of the melt polymerization, and as described above, the molten mixture (reaction product) is cooled to a solid state. After the mixture is obtained, the mixture may be heated under pressure, under reduced pressure, or under atmospheric pressure in a non-oxidizing atmosphere to further advance the polymerization reaction. The step of preparing the melt may be performed in a non-oxidizing atmosphere. Further, the temperature of the heating dissolution may be in the range of the melting point of the solvent in which the reaction product is dissolved or higher, preferably in the range of 200 to 350°C, more preferably in the range of 210 to 250°C, and under pressure. It is preferable to carry out.
前記溶解物を調製するために用いる、前記反応生成物が溶解する溶媒の配合割合は、ポリアリーレンスルフィド樹脂を含む反応生成物100質量部に対して、好ましくは90〜1000質量部の範囲、より好ましくは200〜400質量部の範囲である。 The mixing ratio of the solvent in which the reaction product is dissolved, which is used for preparing the dissolved product, is preferably in the range of 90 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the reaction product containing the polyarylene sulfide resin. It is preferably in the range of 200 to 400 parts by mass.
反応生成物が溶解する溶媒としては、例えば、フィリップス法等の溶液重合において重合反応溶媒として用いられる溶媒を用いることができる。好ましい溶媒の例としては、N−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPと略記)、N−シクロヘキシル−2−ピロリドン、2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン酸、ε−カプロラクタム、N−メチル−ε−カプロラクタム等の脂肪族環状アミド化合物、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)、テトラメチル尿素(TMU)、ジメチルホルムアミド(DMF)、及びジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド化合物、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル(重合度は2000以下で、炭素原子数1〜20のアルキル基を有するもの)等のエーテル化ポリエチレングリコール化合物、並びに、テトラメチレンスルホキシド、及びジメチルスルホキシド(DMSO)等のスルホキシド化合物が挙げられる。その他の使用可能な溶媒の例として、ベンゾフェノン、ジフェニルエーテル、ジフェニルスルフィド、4,4’−ジブロモビフェニル、1−フェニルナフタレン、2,5−ジフェニル−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ジフェニルオキサゾール、トリフェニルメタノール、N,N−ジフェニルホルムアミド、ベンジル、アントラセン、4−ベンゾイルビフェニル、ジベンゾイルメタン、2−ビフェニルカルボン酸、ジベンゾチオフェン、ペンタクロロフエノール、1−ベンジル−2−ピロリジオン、9−フルオレノン、2−ベンゾイルナフタレン、1−ブロモナフタレン、1,3−ジフェノキシベンゼン、フルオレン、1−フェニル−2−ピロリジノン、1−メトキシナフタレン、1−エトキシナフタレン、1,3−ジフェニルアセトン、1,4−ジベンゾイルプタン、フェナントレン、4−ベンゾイルビフェニル、1,1−ジフェニルアセトン、o,o’−ビフェノール、2,6−ジフェニルフェノール、トリフェニレン、2−フェニルフェノール、チアントレン、3−フェノキシベンジルアルコール、4−フェニルフェノール、9,10−ジクロロアントラセン、トリフェニルメタン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、9,10−ジフェニルアントラセン、フルオランテン、ジフェニルフタレート、ジフェニルカルボネート、2,6−ジメトキシナフタレン、2,7−ジメトキシナフタレン、4−ブロモジフェニルエーテル、ピレン、9,9’−ビ−フルオレン、4,4’−イソプロピルリデン−ジフェノール、イプシロン−カプロラクタム、N−シクロヘキシル−2−ピロリドン、ジフェニルイソフタレート、ジフェニルーターフタレート及び1−クロロナフタレンからなる群から選ばれる1種以上の溶媒が挙げられる。 As the solvent in which the reaction product is dissolved, for example, a solvent used as a polymerization reaction solvent in solution polymerization such as Phillips method can be used. Examples of preferable solvents include N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter abbreviated as NMP), N-cyclohexyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone acid, and ε-caprolactam. , N-methyl-ε-caprolactam and other aliphatic cyclic amide compounds, hexamethylphosphoric triamide (HMPA), tetramethylurea (TMU), dimethylformamide (DMF) and dimethylacetamide (DMA), and other amide compounds, polyethylene Examples include etherified polyethylene glycol compounds such as glycol dialkyl ethers (having a degree of polymerization of 2000 or less and having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), and sulfoxide compounds such as tetramethylene sulfoxide and dimethyl sulfoxide (DMSO). To be Examples of other usable solvents include benzophenone, diphenyl ether, diphenyl sulfide, 4,4′-dibromobiphenyl, 1-phenylnaphthalene, 2,5-diphenyl-1,3,4-oxadiazole, 2,5- Diphenyloxazole, triphenylmethanol, N,N-diphenylformamide, benzyl, anthracene, 4-benzoylbiphenyl, dibenzoylmethane, 2-biphenylcarboxylic acid, dibenzothiophene, pentachlorophenol, 1-benzyl-2-pyrrolidion, 9- Fluorenone, 2-benzoylnaphthalene, 1-bromonaphthalene, 1,3-diphenoxybenzene, fluorene, 1-phenyl-2-pyrrolidinone, 1-methoxynaphthalene, 1-ethoxynaphthalene, 1,3-diphenylacetone, 1,4 -Dibenzoylputane, phenanthrene, 4-benzoylbiphenyl, 1,1-diphenylacetone, o,o'-biphenol, 2,6-diphenylphenol, triphenylene, 2-phenylphenol, thianthrene, 3-phenoxybenzyl alcohol, 4- Phenylphenol, 9,10-dichloroanthracene, triphenylmethane, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 9,10-diphenylanthracene, fluoranthene, diphenylphthalate, diphenylcarbonate, 2,6-dimethoxynaphthalene, 2,7-dimethoxy Naphthalene, 4-bromodiphenyl ether, pyrene, 9,9'-bi-fluorene, 4,4'-isopropylidene-diphenol, epsilon-caprolactam, N-cyclohexyl-2-pyrrolidone, diphenylisophthalate, diphenyl-terphthalate and One or more solvents selected from the group consisting of 1-chloronaphthalene can be mentioned.
反応装置から取り出された当該溶解物は、後処理を行った後、前記他の成分と溶融混練して樹脂組成物を調製することが、反応性がより良好となるため好ましい。溶解物の後処理の方法としては、特に制限されるものではないが、例えば、以下の方法が挙げられる。
(1)当該溶解物を、そのまま、又は酸若しくは塩基を加えた後、減圧下又は常圧化で溶媒を留去し、次いで溶媒留去後の固形物を水、当該溶解物に用いた溶媒(又は低分子ポリマーに対して同等の溶解度を有する有機溶媒)、アセトン、メチルエチルケトン及びアルコール類などから選ばれる溶媒で1回又は2回以上洗浄し、更に中和、水洗、濾過及び乾燥する方法。
(2)当該溶解物に水、アセトン、メチルエチルケトン、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素及び脂肪族炭化水素などの溶媒(当該溶解物の溶媒に可溶であり、且つ少なくともポリアリーレンスルフィド樹脂に対しては貧溶媒である溶媒)を沈降剤として添加して、ポリアリーレンスルフィド樹脂及び無機塩等を含む固体状生成物を沈降させ、固体状生成物を濾別、洗浄及び乾燥する方法。
(3)当該溶解物に、当該溶解物に用いた溶媒(又は低分子ポリマーに対して同等の溶解度を有する有機溶媒)を加えて撹拌した後、濾過して低分子量重合体を除いた後、水、アセトン、メチルエチルケトン及びアルコールなどから選ばれる溶媒で1回又は2回以上洗浄し、その後中和、水洗、濾過及び乾燥をする方法。It is preferable that the melted product taken out from the reaction apparatus is subjected to post-treatment and then melt-kneaded with the other components to prepare a resin composition, because the reactivity becomes better. The method of post-treatment of the lysate is not particularly limited, but examples thereof include the following methods.
(1) The solvent is distilled off under reduced pressure or at normal pressure after the solution is added as it is or after adding an acid or a base, and then the solid matter after the solvent is distilled off is water, the solvent used for the solution. (Or an organic solvent having an equivalent solubility to a low molecular weight polymer), a solvent selected from acetone, methyl ethyl ketone, alcohols and the like once or twice or more, and further neutralized, washed with water, filtered and dried.
(2) Solvents such as water, acetone, methyl ethyl ketone, alcohols, ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons and aliphatic hydrocarbons (soluble in the solvent of the dissolved matter and at least polyarylene) A solvent which is a poor solvent for the sulfide resin) is added as a precipitating agent to precipitate the solid product containing the polyarylene sulfide resin and the inorganic salt, and the solid product is separated by filtration, washed and dried. Method.
(3) The solvent used for the solution (or an organic solvent having an equivalent solubility to the low molecular weight polymer) is added to the solution, and the mixture is stirred and then filtered to remove the low molecular weight polymer. A method of washing once or twice or more with a solvent selected from water, acetone, methyl ethyl ketone, alcohol and the like, followed by neutralization, washing with water, filtration and drying.
なお、上記(1)〜(3)に例示したような後処理方法において、ポリアリーレンスルフィド樹脂の乾燥は真空中で行なってもよいし、空気中又は窒素のような不活性ガス雰囲気中で行なってもよい。酸素濃度が5〜30体積%の範囲の酸化性雰囲気中又は減圧条件下で熱処理を行い、ポリアリーレンスルフィド樹脂を酸化架橋させることもできる。 In the post-treatment methods as exemplified in (1) to (3) above, the polyarylene sulfide resin may be dried in vacuum or in air or in an inert gas atmosphere such as nitrogen. May be. The polyarylene sulfide resin can also be oxidatively crosslinked by performing heat treatment in an oxidizing atmosphere having an oxygen concentration in the range of 5 to 30% by volume or under reduced pressure conditions.
ポリアリーレンスルフィド樹脂が溶融重合により生成する反応を、以下に例示する。 The reaction in which the polyarylene sulfide resin is formed by melt polymerization is illustrated below.
溶融重合により得られるポリアリーレンスルフィド樹脂を含む反応生成物は、原料に由来するヨウ素原子を含有する。そのため、ポリアリーレンスルフィド樹脂は、通常、ヨウ素原子を含む混合物の状態で、紡糸用樹脂組成物の調製などのために用いられる。該混合物におけるヨウ素原子の濃度は、例えば、ポリアリーレンスルフィド樹脂に対して0.01〜10000ppmの範囲であり、好ましくは10〜5000ppmの範囲である。ヨウ素分子の昇華性を利用して、ヨウ素原子濃度を低く抑えることも可能であり、その場合には、900ppm以下の範囲、好ましくは100ppm以下の範囲、さらには10ppm以下の範囲とすることも可能である。さらにヨウ素原子を検出限界以下に除去することも可能ではあるものの、生産性を考えると実用的ではない。検出限界は、例えば0.01ppm程度である。溶融重合により得られる本実施形態のポリアリーレンスルフィド樹脂又はこれを含む反応生成物は、ヨウ素原子を含んでいる点で、例えば、フィリップス法等のジクロロ芳香族化合物の有機極性溶媒中での溶液重合法により得られたポリアリーレンスルフィドと明確に区別され得る。 The reaction product containing the polyarylene sulfide resin obtained by melt polymerization contains iodine atoms derived from the raw materials. Therefore, the polyarylene sulfide resin is usually used in the state of a mixture containing an iodine atom for preparation of a resin composition for spinning. The concentration of iodine atoms in the mixture is, for example, in the range of 0.01 to 10000 ppm, preferably in the range of 10 to 5000 ppm based on the polyarylene sulfide resin. It is also possible to suppress the iodine atom concentration to a low level by utilizing the sublimability of iodine molecules, and in that case, it is possible to set it to a range of 900 ppm or less, preferably 100 ppm or less, and further 10 ppm or less. Is. Furthermore, although it is possible to remove iodine atoms below the detection limit, it is not practical in view of productivity. The detection limit is, for example, about 0.01 ppm. The polyarylene sulfide resin of the present embodiment or a reaction product containing the same obtained by melt polymerization is a point containing an iodine atom, for example, a solution weight of a dichloroaromatic compound such as Phillips method in an organic polar solvent. It can be clearly distinguished from the polyarylene sulfide obtained by law.
上記反応式からも理解されるように、溶融重合により得られるポリアリーレンスルフィド樹脂は、ジヨード芳香族化合物に由来する芳香族環及びこれに直接結合した硫黄原子からなるアリーレンスルフィド単位から主として構成される主鎖と、該主鎖の末端に結合した所定の置換基Rとを含む。所定の置換基Rは、主鎖の末端の芳香族環に、直接、又は重合禁止剤に由来する部分構造を介して結合している。 As understood from the above reaction formula, the polyarylene sulfide resin obtained by melt polymerization is mainly composed of an aromatic ring derived from a diiodo aromatic compound and an arylene sulfide unit composed of a sulfur atom directly bonded to the aromatic ring. It contains a main chain and a predetermined substituent R bonded to the end of the main chain. The predetermined substituent R is bonded to the aromatic ring at the terminal of the main chain directly or through a partial structure derived from the polymerization inhibitor.
一実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂としてのポリフェニレンスルフィド樹脂は、例えば、下記一般式(10): The polyphenylene sulfide resin as the polyarylene sulfide resin according to one embodiment has, for example, the following general formula (10):
一実施形態に係るポリフェニレンスルフィド樹脂は、下記一般式(11): The polyphenylene sulfide resin according to one embodiment has the following general formula (11):
本実施形態のポリアリーレンスルフィド樹脂は、上記アリーレンスルフィド単位から主として構成されるが、通常、原料の単体硫黄に由来する、下記式(20): The polyarylene sulfide resin of the present embodiment is mainly composed of the above-mentioned arylene sulfide unit, but is usually derived from the elemental sulfur of the raw material, represented by the following formula (20):
本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂のMw/Mtopは、好ましくは0.80〜1.70の範囲であり、より好ましくは0.90〜1.30の範囲である。Mw/Mtopをこのような範囲とすることで、ポリアリーレンスルフィド樹脂の加工性を向上させることができ、良好なキャビティーバランスを付与することができる。本明細書において、Mwはゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される重量平均分子量のことを示し、Mtopは同測定により得られるクロマトグラムの検出強度が最大となる点の平均分子量(ピーク分子量)を示す。Mw/Mtopは、測定対象の分子量の分布を示し、通常、この値が1に近いと分子量の分布が狭いことを示し、この値が大きくなるにつれて、分子量の分布が広いことを示す。なお、ゲル浸透クロマトグラフィーの測定条件は、本明細書の実施例と同一の測定条件とする。ただし、Mw、Mw/Mtopの値に実質的な影響を及ぼさない範囲で、測定条件を変更することは可能である。 The Mw/Mtop of the polyarylene sulfide resin according to the present embodiment is preferably in the range of 0.80 to 1.70, more preferably 0.90 to 1.30. By setting the Mw/Mtop in such a range, the processability of the polyarylene sulfide resin can be improved and a good cavity balance can be provided. In the present specification, Mw represents the weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography, and Mtop represents the average molecular weight (peak molecular weight) at the point where the detection intensity of the chromatogram obtained by the same measurement becomes maximum. Mw/Mtop indicates the distribution of the molecular weight to be measured, and generally, when this value is close to 1, the distribution of the molecular weight is narrow, and as this value increases, the distribution of the molecular weight is broad. The measurement conditions for gel permeation chromatography are the same as those used in the examples of the present specification. However, it is possible to change the measurement conditions within a range that does not substantially affect the values of Mw and Mw/Mtop.
本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂の重量平均分子量は、本発明の効果を損なわなければ特に限定されるものではないが、その下限は、機械的強度に優れる点から28,000以上であることが好ましく、さらに30,000以上の範囲であることがより好ましい。一方、上限は、より良好なキャビティーバランスを付与することができる点から100,000以下の範囲であることが好ましく、さらに60,000以下の範囲であることがより好ましく、さらに55,000以下の範囲であることが最も好ましい。さらに、機械的強度に優れつつ、かつ、良好なキャビティーバランスを付与できる観点から、28,000〜60,000の範囲のポリアリーレンスルフィド樹脂、より好ましくは30,000〜55,000の範囲のポリアリーレンスルフィド樹脂と共に、重量平均分子量が60,000超100,000以下の範囲にあるポリアリーレンスルフィド樹脂を使用してもよい。 The weight average molecular weight of the polyarylene sulfide resin according to this embodiment is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, but the lower limit thereof is 28,000 or more from the viewpoint of excellent mechanical strength. Is more preferable, and the range of 30,000 or more is more preferable. On the other hand, the upper limit is preferably in the range of 100,000 or less, more preferably 60,000 or less, and further 55,000 or less from the viewpoint that a better cavity balance can be imparted. Is most preferably in the range. Furthermore, from the viewpoint of being able to impart good cavity balance while being excellent in mechanical strength, a polyarylene sulfide resin in the range of 28,000 to 60,000, more preferably in the range of 30,000 to 55,000. A polyarylene sulfide resin having a weight average molecular weight in the range of more than 60,000 and 100,000 or less may be used together with the polyarylene sulfide resin.
ポリアリーレンスルフィド樹脂の非ニュートニアン指数は、好ましくは0.95〜1.75の範囲であり、より好ましくは1.0〜1.70の範囲である。非ニュートニアン指数をこのような範囲とすることで、ポリアリーレンスルフィド樹脂の加工性を向上させることができ、良好なキャビティーバランスを付与することができる。本明細書において、非ニュートニアン指数は温度300℃の条件下におけるせん断速度とせん断応力との下記関係式を満たす指数をいう。非ニュートニアン指数は、測定対象の分子量、又は直鎖、分岐、架橋といった分子構造に関する指標となりえ、通常、この値が1に近いと樹脂の分子構造が直鎖状であることを示し、この値が大きくなるにつれて、分岐や架橋構造が多く含まれることを示す。
D=α×Sn
(上記式中、Dはせん断速度を表し、Sはせん断応力を表し、αは定数を表し、nは非ニュートニアン指数を表す。)The non-Newtonian index of the polyarylene sulfide resin is preferably in the range of 0.95 to 1.75, more preferably 1.0 to 1.70. By setting the non-Newtonian index in such a range, the processability of the polyarylene sulfide resin can be improved and a good cavity balance can be imparted. In the present specification, the non-Newtonian index is an index that satisfies the following relational expression between the shear rate and the shear stress under the condition of a temperature of 300°C. The non-Newtonian index can be an index relating to the molecular weight of the measurement target or the molecular structure such as linear, branched, or crosslinked. Usually, when this value is close to 1, it indicates that the molecular structure of the resin is linear. The larger the value, the more branching and cross-linking structure is contained.
D=α×S n
(In the above formula, D represents a shear rate, S represents a shear stress, α represents a constant, and n represents a non-Newtonian index.)
上述の特定範囲のMw/Mtop及び非ニュートニアン指数を有するポリアリーレンスルフィド樹脂は、例えば、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、ジヨード芳香族化合物、単体硫黄及び重合禁止剤を含有する溶融混合物中で反応(溶液重合)させる方法において、かかるポリアリーレンスルフィド樹脂をある程度高分子量化させることにより得ることが可能である。 The polyarylene sulfide resin having Mw/Mtop and the non-Newtonian index in the above-mentioned specific range is, for example, a diiodo aromatic compound, a simple substance sulfur, a polymerization inhibitor, a diiodo aromatic compound, a simple substance sulfur and a polymerization inhibitor. It is possible to obtain such a polyarylene sulfide resin by increasing the molecular weight of the polyarylene sulfide resin to some extent in a method of reacting (solution polymerization) in a molten mixture containing a.
本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂の融点は、好ましくは250〜300℃の範囲であり、より好ましくは265〜300℃の範囲である。ポリアリーレンスルフィド樹脂の300℃における溶融粘度(V6)は、好ましくは1〜2000[Pa・s]の範囲であり、より好ましくは5〜1700[Pa・s]の範囲である。ここで、溶融粘度(V6)は、フローテスターを用いて、温度300℃、荷重1.96MPa、オリフィス長とオリフィス径との比(オリフィス長/オリフィス径)が10/1であるオリフィスを使用して6分間保持した後の溶融粘度を意味する。 The melting point of the polyarylene sulfide resin according to this embodiment is preferably in the range of 250 to 300°C, more preferably 265 to 300°C. The melt viscosity (V6) of the polyarylene sulfide resin at 300° C. is preferably in the range of 1 to 2000 [Pa·s], more preferably in the range of 5 to 1700 [Pa·s]. Here, the melt viscosity (V6) was measured using a flow tester using an orifice having a temperature of 300° C., a load of 1.96 MPa, and an orifice length/orifice ratio (orifice length/orifice diameter) of 10/1. Melt viscosity after holding for 6 minutes.
本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、1種又は2種以上の無機質充填剤を含有することができる。無機充填材が配合されることにより、高剛性、高耐熱安定性の組成物が得られる。無機充填材としては、例えばカーボンブラック、炭酸カルシウム、シリカ及び酸化チタン等の粉末状充填材、タルク及びマイカ等の板状充填材、ガラスビーズ、シリカビーズ及びガラスバルーン等の粒状充填材、ガラス繊維、炭素繊維及びウォラストナイト繊維等の繊維状充填材、並びにガラスフレークが挙げられる。ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、ガラス繊維、炭素繊維、カーボンブラック、及び炭酸カルシウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の無機質充填剤を含有することが特に好ましい。 The polyarylene sulfide resin composition according to the present embodiment can contain one kind or two or more kinds of inorganic fillers. By blending the inorganic filler, a composition having high rigidity and high heat resistance stability can be obtained. Examples of the inorganic filler include powder fillers such as carbon black, calcium carbonate, silica and titanium oxide, plate fillers such as talc and mica, glass beads, granular fillers such as silica beads and glass balloons, glass fibers. , Fibrous fillers such as carbon fibers and wollastonite fibers, and glass flakes. The polyarylene sulfide resin composition particularly preferably contains at least one inorganic filler selected from the group consisting of glass fiber, carbon fiber, carbon black, and calcium carbonate.
無機充填材の含有量は、ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対して、好ましくは1〜300質量部の範囲であり、より好ましくは5〜200質量部の範囲であり、更に好ましくは15〜150質量部の範囲である。無機質充填剤の含有量がこれらの範囲にあることにより、成形品の機械的強度保持の点でより優れた効果が得られる。 The content of the inorganic filler is preferably in the range of 1 to 300 parts by mass, more preferably 5 to 200 parts by mass, and still more preferably 15 to 150 parts, relative to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin. The range is parts by mass. When the content of the inorganic filler is within these ranges, a more excellent effect can be obtained in terms of maintaining the mechanical strength of the molded product.
本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、熱可塑性樹脂、エラストマー、及び架橋性樹脂から選ばれる、ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の樹脂を含有することができる。これら樹脂は、無機質充填剤とともに樹脂組成物中に配合することもできる。 The polyarylene sulfide resin composition according to the present embodiment may contain a resin other than the polyarylene sulfide resin selected from a thermoplastic resin, an elastomer, and a crosslinkable resin. These resins can also be blended in the resin composition together with the inorganic filler.
ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物に配合される熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリスルフォン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ四弗化エチレン、ポリ二弗化エチレン、ポリスチレン、ABS樹脂、シリコーン樹脂、及び液晶ポリマー(液晶ポリエステル等)が挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin blended in the polyarylene sulfide resin composition include polyester, polyamide, polyimide, polyetherimide, polycarbonate, polyphenylene ether, polysulfone, polyether sulfone, polyether ether ketone, polyether ketone, and polyethylene. , Polypropylene, polytetrafluoride ethylene, polydifluoride ethylene, polystyrene, ABS resin, silicone resin, and liquid crystal polymer (liquid crystal polyester, etc.).
ポリアミドは、アミド結合(−NHCO−)を有するポリマーである。ポリアミド樹脂としては、例えば、(i)ジアミンとジカルボン酸の重縮合から得られるポリマー、(ii)アミノカルボン酸の重縮合から得られるポリマー、及び(iii)ラクタムの開環重合から得られるポリマー等が挙げられる。ポリアミドは、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 Polyamide is a polymer having an amide bond (-NHCO-). Examples of the polyamide resin include (i) a polymer obtained by polycondensation of a diamine and a dicarboxylic acid, (ii) a polymer obtained by polycondensation of an aminocarboxylic acid, and (iii) a polymer obtained by ring-opening polymerization of a lactam. Are listed. The polyamides can be used alone or in combination of two or more.
ポリアミドを得るためのジアミンの例としては、脂肪族系ジアミン、芳香族系ジアミン、及び脂環族系ジアミン類が挙げられる。脂肪族系ジアミンとしては、直鎖状又は側鎖を有する炭素数3〜18のジアミンが好ましい。好適な脂肪族系ジアミンの例としては、1,3−トリメチレンジアミン、1,4−テトラメチレンジアミン、1,5−ペンタメチレンジアミン、1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,7−ヘプタメチレンジアミン、1,8−オクタメチレンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、1,9−ノナメチレンジアミン、1,10−デカメチレンジアミン、1,11−ウンデカンメチレンジアミン、1,12−ドデカメチレンジアミン、1,13−トリデカメチレンジアミン、1,14−テトラデカメチレンジアミン、1,15−ペンタデカメチレンジアミン、1,16−ヘキサデカメチレンジアミン、1,17−ヘプタデカメチレンジアミン、1,18−オクタデカメチレンジアミン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、及び2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミンが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the diamine for obtaining the polyamide include aliphatic diamines, aromatic diamines, and alicyclic diamines. As the aliphatic diamine, a diamine having a straight chain or a side chain and having 3 to 18 carbon atoms is preferable. Examples of suitable aliphatic diamines include 1,3-trimethylene diamine, 1,4-tetramethylene diamine, 1,5-pentamethylene diamine, 1,6-hexamethylene diamine, 1,7-heptamethylene diamine. 1,8-octamethylenediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine, 1,9-nonamethylenediamine, 1,10-decamethylenediamine, 1,11-undecanemethylenediamine, 1,12-dodecamethylene. Diamine, 1,13-tridecamethylenediamine, 1,14-tetradecamethylenediamine, 1,15-pentadecamethylenediamine, 1,16-hexadecamethylenediamine, 1,17-heptadecamethylenediamine, 1,18 -Octadecamethylenediamine, 2,2,4-trimethylhexamethylenediamine, and 2,4,4-trimethylhexamethylenediamine. These may be used alone or in combination of two or more.
芳香族系ジアミンとしては、フェニレン基を有する炭素数6〜27のジアミンが好ましい。好適な芳香族系ジアミンの例としては、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、3,4−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、3,3'−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4'−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4'−ジ(m−アミノフェノキシ)ジフェニルスルフォン、4,4'−ジ(p−アミノフェノキシ)ジフェニルスルフォン、ベンジジン、3,3'−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、1,5−ジアミノナフタレン、1,8−ジアミノナフタレン、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−5,5'−ジメチルジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−3,3',5,5'−テトラメチルジフェニルメタン、2,4−ジアミノトルエン、及び2,2'−ジメチルベンジジンが挙げられる。
これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。As the aromatic diamine, a diamine having a phenylene group and having 6 to 27 carbon atoms is preferable. Examples of suitable aromatic diamines include o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 3,4-diaminodiphenyl ether, 4,4'-. Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-di(m-aminophenoxy) Diphenyl sulfone, 4,4′-di(p-aminophenoxy)diphenyl sulfone, benzidine, 3,3′-diaminobenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 2,2-bis(4-aminophenyl)propane, 1 ,5-Diaminonaphthalene, 1,8-diaminonaphthalene, 4,4′-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane, 1,4 -Bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 4 , 4'-diamino-3,3'-diethyl-5,5'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3',5,5'-tetramethyldiphenylmethane, 2,4-diaminotoluene, and 2,2'-dimethylbenzidine may be mentioned.
These may be used alone or in combination of two or more.
脂環族系ジアミンとしては、シクロヘキシレン基を有する炭素数4〜15のジアミンが好ましい。好適な脂環族系ジアミンの例としては、4,4'−ジアミノ−ジシクロヘキシレンメタン、4,4'−ジアミノ−ジシクロヘキシレンプロパン、4,4'−ジアミノ−3,3'−ジメチル−ジシクロヘキシレンメタン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、及びピペラジンが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the alicyclic diamine, a diamine having a cyclohexylene group and having 4 to 15 carbon atoms is preferable. Examples of suitable alicyclic diamine include 4,4′-diamino-dicyclohexylene methane, 4,4′-diamino-dicyclohexylene propane, 4,4′-diamino-3,3′-dimethyl- Dicyclohexylene methane, 1,4-diaminocyclohexane, and piperazine. These may be used alone or in combination of two or more.
ポリアミドを得るためのジカルボン酸としては、脂肪族系ジカルボン酸、芳香族系ジカルボン酸、及び脂環族系ジカルボン酸を挙げることができる。 Examples of the dicarboxylic acid for obtaining the polyamide include an aliphatic dicarboxylic acid, an aromatic dicarboxylic acid, and an alicyclic dicarboxylic acid.
脂肪族系ジカルボン酸としては、炭素原子数2〜18の飽和又は不飽和のジカルボン酸が好ましい。好適な脂肪族系ジカルボン酸の例としては、蓚酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、プラシリン酸、テトラデカン二酸、ペンタデカン二酸、オクタデカン二酸、マレイン酸、及びフマル酸が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 The aliphatic dicarboxylic acid is preferably a saturated or unsaturated dicarboxylic acid having 2 to 18 carbon atoms. Examples of suitable aliphatic dicarboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, pracillic acid, tetradecane. Diacids, pentadecanedioic acid, octadecanedioic acid, maleic acid, and fumaric acid are included. These may be used alone or in combination of two or more.
芳香族系ジカルボン酸としては、フェニレン基を有する炭素数8〜15のジカルボン酸が好ましい。好適な芳香族系ジカルボン酸の例としては、イソフタル酸、テレフタル酸、メチルテレフタル酸、ビフェニル−2,2'−ジカルボン酸、ビフェニル−4,4'−ジカルボン酸、ジフェニルメタン−4,4'−ジカルボン酸、ジフェニルエーテル−4,4'−ジカルボン酸、ジフェニルスルフォン−4,4'−ジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、及び1,4−ナフタレンジカルボン酸が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。更に、トリメリット酸、トリメシン酸、及びピロメリット酸等の多価カルボン酸を、溶融成形可能な範囲内で用いることもできる。 As the aromatic dicarboxylic acid, a dicarboxylic acid having a phenylene group and having 8 to 15 carbon atoms is preferable. Examples of suitable aromatic dicarboxylic acids include isophthalic acid, terephthalic acid, methyl terephthalic acid, biphenyl-2,2'-dicarboxylic acid, biphenyl-4,4'-dicarboxylic acid, diphenylmethane-4,4'-dicarboxylic acid. Acid, diphenyl ether-4,4'-dicarboxylic acid, diphenyl sulfone-4,4'-dicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and 1,4-naphthalenedicarboxylic acid. .. These may be used alone or in combination of two or more. Further, polyvalent carboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, and pyromellitic acid can also be used within a range capable of being melt-molded.
アミノカルボン酸としては、炭素数4〜18のアミノカルボン酸が好ましい。好適なアミノカルボン酸の例としては、4−アミノ酪酸、6−アミノヘキサン酸、7−アミノヘプタン酸、8−アミノオクタン酸、9−アミノノナン酸、10−アミノデカン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸、14−アミノテトラデカン酸、16−アミノヘキサデカン酸、及び18−アミノオクタデカン酸が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the aminocarboxylic acid, an aminocarboxylic acid having 4 to 18 carbon atoms is preferable. Examples of suitable aminocarboxylic acids include 4-aminobutyric acid, 6-aminohexanoic acid, 7-aminoheptanoic acid, 8-aminooctanoic acid, 9-aminononanoic acid, 10-aminodecanoic acid, 11-aminoundecanoic acid, 12 -Aminododecanoic acid, 14-aminotetradecanoic acid, 16-aminohexadecanoic acid, and 18-aminooctadecanoic acid. These may be used alone or in combination of two or more.
ポリアミドを得るためのラクタムとしては、例えば、ε−カプロラクタム、ω−ラウロラクタム、ζ−エナントラクタム、及びη−カプリルラクタムが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the lactam for obtaining the polyamide include ε-caprolactam, ω-laurolactam, ζ-enanthlactam, and η-capryllactam. These may be used alone or in combination of two or more.
好ましいポリアミドの原料の組み合わせとしては、ε−カプロラクタム(ナイロン6)、1,6−ヘキサメチレンジアミン/アジピン酸(ナイロン6,6)、1,4−テトラメチレンジアミン/アジピン酸(ナイロン4,6)、1,6−ヘキサメチレンジアミン/テレフタル酸、1,6−ヘキサメチレンジアミン/テレフタル酸/ε−カプロラクタム、1,6−ヘキサメチレンジアミン/テレフタル酸/アジピン酸、1,9−ノナメチレンジアミン/テレフタル酸、1,9−ノナメチレンジアミン/テレフタル酸/ε−カプロラクタム、1,9−ノナメチレンジアミン/1,6−ヘキサメチレンジアミン/テレフタル酸/アジピン酸、及びm−キシリレンジアミン/アジピン酸が挙げられる。これらの中でも、1,4−テトラメチレンジアミン/アジピン酸(ナイロン4,6)、1,6−ヘキサメチレンジアミン/テレフタル酸/ε−カプロラクタム、1,6−ヘキサメチレンジアミン/テレフタル酸/アジピン酸、1,9−ノナメチレンジアミン/テレフタル酸、1,9−ノナメチレンジアミン/テレフタル酸/ε−カプロラクタム、又は1,9−ノナメチレンジアミン/1,6−ヘキサメチレンジアミン/テレフタル酸/アジピン酸から得られるリアミド樹脂が更に好ましい。 Preferred combinations of polyamide raw materials include ε-caprolactam (nylon 6), 1,6-hexamethylenediamine/adipic acid (nylon 6,6), 1,4-tetramethylenediamine/adipic acid (nylon 4,6). 1,6-hexamethylenediamine/terephthalic acid, 1,6-hexamethylenediamine/terephthalic acid/ε-caprolactam, 1,6-hexamethylenediamine/terephthalic acid/adipic acid, 1,9-nonamethylenediamine/terephthalic acid Acid, 1,9-nonamethylenediamine/terephthalic acid/ε-caprolactam, 1,9-nonamethylenediamine/1,6-hexamethylenediamine/terephthalic acid/adipic acid, and m-xylylenediamine/adipic acid. To be Among these, 1,4-tetramethylenediamine/adipic acid (nylon 4,6), 1,6-hexamethylenediamine/terephthalic acid/ε-caprolactam, 1,6-hexamethylenediamine/terephthalic acid/adipic acid, Obtained from 1,9-nonamethylenediamine/terephthalic acid, 1,9-nonamethylenediamine/terephthalic acid/ε-caprolactam, or 1,9-nonamethylenediamine/1,6-hexamethylenediamine/terephthalic acid/adipic acid The amide resin obtained is more preferable.
熱可塑性樹脂の含有量は、ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対して、好ましくは1〜300質量部の範囲であり、より好ましくは3〜100質量部の範囲であり、更に好ましくは5〜45質量部の範囲である。ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂の含有量がこれらの範囲にあることにより、耐熱性、耐薬品性及び機械的物性の更なる向上という効果が得られる。 The content of the thermoplastic resin is preferably in the range of 1 to 300 parts by mass, more preferably in the range of 3 to 100 parts by mass, and further preferably 5 to 45 parts with respect to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin. The range is parts by mass. When the content of the thermoplastic resin other than the polyarylene sulfide resin is within these ranges, the effect of further improving heat resistance, chemical resistance and mechanical properties can be obtained.
ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物に配合されるエラストマーとしては、熱可塑性エラストマーが用いられることが多い。熱可塑性エラストマーとしては、例えば、ポリオレフィン系エラストマー、弗素系エラストマー及びシリコーン系エラストマーが挙げられる。なお、本明細書において、熱可塑性エラストマーは、前記熱可塑性樹脂ではなくエラストマーに分類される。 A thermoplastic elastomer is often used as the elastomer blended in the polyarylene sulfide resin composition. Examples of thermoplastic elastomers include polyolefin-based elastomers, fluorine-based elastomers, and silicone-based elastomers. In this specification, the thermoplastic elastomer is classified as an elastomer rather than the thermoplastic resin.
エラストマー(特に熱可塑性エラストマー)は、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基及びカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の基と反応し得る官能基を有することが好ましい。これにより、接着性及び耐衝撃性等の点で特に優れ、また加熱によるガス発生量を抑制できる樹脂組成物を得ることができる。係る官能基としては、エポキシ基、アミノ基、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、イソシアネート基、オキサゾリン基、及び、式:R(CO)O(CO)−又はR(CO)O−(式中、Rは炭素原子数1〜8のアルキル基を表す。)で表される基が挙げられる。係る官能基を有する熱可塑性エラストマーは、例えば、α−オレフィンと前記官能基を有するビニル重合性化合物との共重合により得ることができる。α−オレフィンは、例えば、エチレン、プロピレン及びブテン−1等の炭素数2〜8のα−オレフィン類が挙げられる。前記官能基を有するビニル重合性化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステル等のα,β−不飽和カルボン酸及びそのアルキルエステル、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸及びその他の炭素数4〜10のα、β−不飽和ジカルボン酸及びその誘導体(モノ若しくはジエステル、及びその酸無水物等)、並びにグリシジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、エポキシ基、カルボキシル基、及び、式:R(CO)O(CO)−又はR(CO)O−(式中、Rは炭素原子数1〜8のアルキル基を表す。)で表される基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有するエチレン−プロピレン共重合体及びエチレン−ブテン共重合体が、靭性及び耐衝撃性の向上の点から好ましい。 The elastomer (particularly the thermoplastic elastomer) preferably has a functional group capable of reacting with at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group and a salt of a carboxyl group. This makes it possible to obtain a resin composition that is particularly excellent in terms of adhesiveness and impact resistance and that can suppress the amount of gas generated by heating. Examples of the functional group include an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group, an isocyanate group, an oxazoline group, and a formula: R(CO)O(CO)- or R(CO)O- (in the formula, R represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms). The thermoplastic elastomer having such a functional group can be obtained, for example, by copolymerizing an α-olefin with the vinyl polymerizable compound having the functional group. Examples of α-olefins include α-olefins having 2 to 8 carbon atoms such as ethylene, propylene and butene-1. Examples of the vinyl-polymerizable compound having a functional group include, for example, α,β-unsaturated carboxylic acids such as (meth)acrylic acid and (meth)acrylic acid ester and their alkyl esters, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and Other examples include α,β-unsaturated dicarboxylic acids having 4 to 10 carbon atoms and their derivatives (mono- or diesters, their acid anhydrides, etc.), and glycidyl (meth)acrylate. Among these, an epoxy group, a carboxyl group, and a formula: R(CO)O(CO)- or R(CO)O- (in the formula, R represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms). An ethylene-propylene copolymer and an ethylene-butene copolymer having at least one functional group selected from the group consisting of the groups shown are preferable from the viewpoint of improving the toughness and impact resistance.
エラストマーの含有量は、その種類、用途により異なるため一概に規定することはできないが、例えば、ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対して好ましくは1〜300質量部の範囲であり、より好ましくは3〜100質量部の範囲であり、更に好ましくは5〜45質量部の範囲である。エラストマーの含有量がこれらの範囲にあることにより、成形品の耐熱性、靭性の確保の点でより一層優れた効果が得られる。 The content of the elastomer cannot be unconditionally specified because it varies depending on its type and use, but for example, it is preferably in the range of 1 to 300 parts by mass, more preferably 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin. To 100 parts by mass, more preferably 5 to 45 parts by mass. When the content of the elastomer is within these ranges, a more excellent effect can be obtained in terms of ensuring heat resistance and toughness of the molded product.
ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物に配合される架橋性樹脂は、2以上の架橋性官能基を有する。架橋性官能基としては、エポキシ基、フェノール性水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、酸無水物基、及びイソシアネート基などが挙げられる。架橋性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、及びウレタン樹脂が挙げられる。 The crosslinkable resin blended in the polyarylene sulfide resin composition has two or more crosslinkable functional groups. Examples of the crosslinkable functional group include an epoxy group, a phenolic hydroxyl group, an amino group, an amide group, a carboxyl group, an acid anhydride group, and an isocyanate group. Examples of the crosslinkable resin include epoxy resin, phenol resin, and urethane resin.
エポキシ樹脂としては、芳香族系エポキシ樹脂が好ましい。芳香族系エポキシ樹脂は、ハロゲン基又は水酸基等を有していてもよい。好適な芳香族系エポキシ樹脂の例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、及びビフェニルノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。これらの芳香族系エポキシ樹脂は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これら芳香族系エポキシ樹脂の中でも特に、他の樹脂成分との相溶性に優れる点から、ノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂がより好ましい。 The epoxy resin is preferably an aromatic epoxy resin. The aromatic epoxy resin may have a halogen group, a hydroxyl group, or the like. Examples of suitable aromatic epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac. Type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolac type epoxy resin, naphthol aralkyl Type epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolac type epoxy resin, naphthol-cresol co-contracted novolac type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resin type epoxy resin, and biphenyl novolac type epoxy resin. These aromatic epoxy resins can be used alone or in combination of two or more kinds. Among these aromatic epoxy resins, novolac type epoxy resins are preferable, and cresol novolac type epoxy resins are more preferable, from the viewpoint of excellent compatibility with other resin components.
架橋性樹脂の含有量は、ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対して、好ましくは1〜300質量部の範囲であり、より好ましくは3〜100質量部の範囲であり、更に好ましくは5〜30質量部の範囲である。架橋性樹脂の含有量がこれら範囲にあることにより、成形品の剛性及び耐熱性の向上という効果が特に顕著に得られる。 The content of the crosslinkable resin is preferably in the range of 1 to 300 parts by mass, more preferably 3 to 100 parts by mass, and further preferably 5 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin. The range is parts by mass. When the content of the crosslinkable resin is within these ranges, the effect of improving the rigidity and heat resistance of the molded product can be remarkably obtained.
ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基及びカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の基と反応し得る官能基を有するシラン化合物を含有することができる。これにより、ポリアリーレンスルフィド樹脂と他の成分との相溶性を向上し、また、加熱によるガス発生量を抑制できる樹脂組成物を得ることができる。係るシラン化合物としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン及びγ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等のシランカップリング剤が挙げられる。 The polyarylene sulfide resin composition may contain a silane compound having a functional group capable of reacting with at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group and a salt of a carboxyl group. This makes it possible to obtain a resin composition that improves the compatibility of the polyarylene sulfide resin with other components and that suppresses the amount of gas generated by heating. Examples of the silane compound include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyl. Examples include silane coupling agents such as diethoxysilane and γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane.
シラン化合物の含有量は、例えば、ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対して0.01〜10質量部の範囲であることが好ましく、さらに0.1〜5質量部の範囲であることがより好ましい。シラン化合物の含有量がこれらの範囲にあることにより、ポリアリーレンスルフィド樹脂と前記他の成分との相溶性向上という効果が得られる。 The content of the silane compound is, for example, preferably in the range of 0.01 to 10 parts by mass, and more preferably in the range of 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin. .. When the content of the silane compound is within these ranges, the effect of improving the compatibility between the polyarylene sulfide resin and the other components can be obtained.
本実勢形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、離型剤、着色剤、耐熱安定剤、紫外線安定剤、発泡剤、防錆剤、難燃剤及び滑剤等のその他の添加剤を含有してもよい。添加剤の含有量は、例えば、ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対して、1〜10質量部の範囲であることが好ましい。 The polyarylene sulfide resin composition according to the present embodiment may contain other additives such as a release agent, a colorant, a heat resistance stabilizer, a UV stabilizer, a foaming agent, a rust preventive, a flame retardant and a lubricant. Good. The content of the additive is preferably in the range of 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin.
ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、上記方法により得られたポリアリーレンスルフィド樹脂と、前記他の成分とを溶融混練する方法により、例えば、ペレット状のコンパウンド等の形態で得ることができる。溶融混錬の温度は、例えば、250〜350℃の範囲であることが好ましく、さらに290〜330℃の範囲であることがより好ましい。溶融混錬は、2軸押出機等を用いて行うことができる。 The polyarylene sulfide resin composition can be obtained, for example, in the form of pelletized compound by a method of melt-kneading the polyarylene sulfide resin obtained by the above method and the above-mentioned other components. The temperature of the melt-kneading is preferably in the range of 250 to 350°C, and more preferably in the range of 290 to 330°C. Melt-kneading can be performed using a twin-screw extruder or the like.
本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、単独で又は前記他の成分などの材料と組み合わせて、射出成形、押出成形、圧縮成形及びブロー成形のような各種溶融加工法により、耐熱性、成形加工性、寸法安定性等に優れた成形品に加工することができる。本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、加熱されたときのガス発生量が少ないことから、高品質の成形品の容易な製造を可能にする。 Polyarylene sulfide resin composition according to the present embodiment, alone or in combination with the materials such as the other components, injection molding, extrusion molding, compression molding and various melt processing methods such as blow molding, heat resistance, It can be processed into a molded product having excellent moldability and dimensional stability. Since the polyarylene sulfide resin composition according to the present embodiment generates a small amount of gas when heated, it enables easy production of high-quality molded products.
このようにして得られる成形品は、表面実装電子部品に好適に用いられる。表面実装電子部品は、例えば、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の成形品と、金属端子とを構成要素とするもので、プリント印刷された配線基板や回路基板上に表面実装方式によって固定されるものである。この電子部品を表面実装方式で基板に固定させるには、該電子部品の金属端子がハンダボールを介して基板上の通電部に接するように基板表面に載せて、上記した加熱方式によってリフロー炉内で加熱することによって、該電子部品を基板にハンダ付けする方法が挙げられる。かかる表面実装電子部品としては、具体的には、表面実装方式対応用のコネクター、スイッチ、センサー、抵抗器、リレー、コンデンサー、ソケット、ジャック、ヒューズホルダー、コイルボビン、ICやLEDのハウジング等が挙げられる。 The molded product thus obtained is suitably used for surface mount electronic parts. The surface mount electronic component has, for example, a molded product of a polyarylene sulfide resin composition and a metal terminal as components, and is fixed on a printed or printed wiring board or circuit board by a surface mounting method. is there. In order to fix this electronic component to the substrate by the surface mounting method, the metal terminal of the electronic component is placed on the surface of the substrate so as to be in contact with the current-carrying portion on the substrate through the solder ball, and the reflow furnace is heated by the above heating method. There is a method of soldering the electronic component to the substrate by heating at. Specific examples of such surface mount electronic components include connectors, switches, sensors, resistors, relays, capacitors, sockets, jacks, fuse holders, coil bobbins, and IC and LED housings for surface mount systems. ..
本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂組成物を表面実装電子部品に用いると、加熱によるガス発生量を低減させることができるため、金属端子等の腐食を抑制できる。また、本実施形態に係るポリアリーレンスルフィド樹脂組成物によれば、例えばスナップフィット部を有する成形品に成形した場合にも、優れた機械強度を示す。 When the polyarylene sulfide resin composition according to the present embodiment is used for a surface mount electronic component, the amount of gas generated by heating can be reduced, so that corrosion of metal terminals and the like can be suppressed. Further, the polyarylene sulfide resin composition according to the present embodiment exhibits excellent mechanical strength even when molded into a molded product having a snap fit portion, for example.
以下、実施例を挙げて本発明についてさらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
1.評価法
[曲げ特性]
・準拠試験方法…ASTM D−790
・試験片…3.2mm(厚)×12.7mm(幅)×127mm(長)
・試験結果…試験数n=10の平均値1. Evaluation method [Bending characteristics]
・Compliance test method...ASTM D-790
-Test piece... 3.2 mm (thickness) x 12.7 mm (width) x 127 mm (long)
・Test results...Average number of tests n=10
[耐熱水性]
試験片を95℃の熱水に浸漬し、曲げ強さの経時変化を調べた。
・試験片…3.2mm(厚)×12.7mm(幅)×127mm(長)
・曲げ強さの試験方法…ASTM D−790
・評価項目…1000時間、3000時間後の曲げ強さの初期強さに対する保持率
・試験結果…試験数n=5の平均値[Hot water resistance]
The test piece was immersed in hot water at 95° C., and the change in bending strength over time was examined.
-Test piece... 3.2 mm (thickness) x 12.7 mm (width) x 127 mm (long)
・Bending strength test method...ASTM D-790
・Evaluation item: Retention rate of bending strength after 1000 hours and 3000 hours with respect to initial strength ・Test result: Average value of test number n=5
[金属密着強さ]
金型にセットした4×10×49mmの金属片(SUS304)に、同寸法分のポリアリーレンスルフィド樹脂組成物を射出、成形したものについて、チャック間20mm、引張速度1mm/minの条件で引張試験を実施し、金属密着強さを測定した。[Metal adhesion strength]
A 4 x 10 x 49 mm metal piece (SUS304) set in a mold was injected with a polyarylene sulfide resin composition of the same dimensions and molded, and a tensile test was conducted under conditions of a chuck distance of 20 mm and a pulling speed of 1 mm/min. Was carried out and the metal adhesion strength was measured.
[キャビティーバランス]
40個分のキャビティーを有するワッシャー金型を用いて、一次スプルーに最も近い位置のキャビティー(C1)が完全に充填される限りで最低の成形条件でPPSコンパウンドを射出成形した。成形条件は75トン成形機、シリンダー温度320℃、金型温度140℃、保圧無しとした。[Cavity balance]
Using a washer mold having 40 cavities, the PPS compound was injection-molded under the minimum molding conditions as long as the cavity closest to the primary sprue (C1) was completely filled. The molding conditions were a 75-ton molding machine, a cylinder temperature of 320° C., a mold temperature of 140° C., and no pressure holding.
成型後の、キャビティー(C1)と同じランナーにある一次スプルーから最も遠いキャビティー(C10)の充填度を比較した。充填度(質量%)は、キャビティー(C1)の成形品に対する、キャビティー(C10)の成形品の質量比から求めた。キャビティー(C10)の充填度が高いほど、キャビティーバランスが優れていると言える。充填度に基づいて、各組成物のキャビティーバランスを以下の基準で判定した。
AA:100〜90質量%の範囲
A:89〜80質量%の範囲
B:79〜70質量%の範囲
C:69〜60質量%の範囲
D:59%質量以下の範囲After molding, the filling degree of the cavity (C10) farthest from the primary sprue in the same runner as the cavity (C1) was compared. The filling degree (mass %) was determined from the mass ratio of the molded product of the cavity (C1) to the molded product of the cavity (C1). It can be said that the higher the filling degree of the cavity (C10), the better the cavity balance. Based on the filling degree, the cavity balance of each composition was judged according to the following criteria.
AA: 100 to 90% by mass range A: 89 to 80% by mass range B: 79 to 70% by mass range C: 69 to 60% by mass range D: 59% by mass or less range
[ガス発生量]
ガスクロマトグラフ質量分析装置を用いて、ポリアリーレンスルフィド樹脂又は樹脂組成物の所定量のサンプルを325℃で15分間加熱し、そのときのガス発生量を質量%として定量した。[Gas generation amount]
A sample of a predetermined amount of polyarylene sulfide resin or resin composition was heated at 325° C. for 15 minutes using a gas chromatograph mass spectrometer, and the amount of gas generated at that time was quantified as mass %.
[耐リフロー加熱性]
樹脂組成物のペレットを、射出成形機を用いて成形し、形状が縦70mm×横10mm×高さ8mm、0.8mm厚さの箱形コネクターを作成した。次いで、この箱形コネクターをプリント基板の上に載せて、下記リフロー条件で加熱した。加熱後に箱形コネクターを目視観察し、下記の2段階の基準で外観評価を行った。
〇:外観に変化なし。
×:ブリスタ又は融解が観察された。
(リフロー条件)
リフロー加熱は赤外線リフロー装置(アサヒエンジニアリング社製「TPF−2」)で行った。この際の加熱条件としては、それぞれ180℃で100秒間予備加熱した後、基体表面が280℃に到達するまで加熱保持を行った。つまり、200℃以上の領域で100秒間、220℃以上の領域で90秒間、240℃以上の領域で80秒間、260℃以上の領域で60秒間となるように温度プロファイル(温度曲線)をリフロー装置にて設定を行い、加熱保持を行った。[Reflow heating resistance]
The resin composition pellets were molded using an injection molding machine to prepare a box-shaped connector having a shape of 70 mm in length×10 mm in width×8 mm in height and 0.8 mm in thickness. Next, this box-shaped connector was placed on a printed board and heated under the following reflow conditions. After heating, the box-shaped connector was visually observed, and the appearance was evaluated according to the following two-stage criteria.
◯: No change in appearance.
X: Blister or melting was observed.
(Reflow condition)
The reflow heating was performed with an infrared reflow device (“TPF-2” manufactured by Asahi Engineering Co., Ltd.). As heating conditions at this time, after preheating at 180° C. for 100 seconds, heating and holding were performed until the surface of the substrate reached 280° C. That is, the temperature profile (temperature curve) is reflowed so that the temperature is 100 seconds at 200° C. or higher, 90 seconds at 220° C. or higher, 80 seconds at 240° C. or higher, and 60 seconds at 260° C. or higher. The settings were made by, and heating and holding were performed.
2.ポリフェニレンスルフィド樹脂(PPS樹脂)の合成
(合成例1:PPS−1の合成)
p−ジヨードベンゼン(東京化成株式会社、p−ジヨードベンゼン純度98.0%以上)300.0g、固体硫黄(関東化学株式会社製、硫黄(粉末))27.00g、4,4’−ジチオビス安息香酸(和光純薬工業株式会社製、4,4’−ジチオビス安息香酸、Technical Grade)2.0gを180℃に加熱してそれらを窒素下で溶解、混合した。次に220℃に昇温し、絶対圧26.6kPaまで減圧した。得られた溶融混合物を、320℃で絶対圧133Paとなるように、段階的に温度と圧力変化させて、8時間溶融重合した。反応終了後、NMP200gを加えて、220℃で加熱撹拌し、得られた溶解物をろ過した。ろ過後の溶解物にNMP320gを加え、ケーキ洗浄ろ過を行った。得られたNMPを含むケーキにイオン交換水1Lを加え、オートクレーブ中で200℃10分間攪拌した。次いでケーキをろ過し、ろ過後のケーキに70℃のイオン交換水1Lを加えケーキ洗浄を行った。得られた含水ケーキにイオン交換水1Lを加えて10分間攪拌した。次いでケーキをろ過し、ろ過後のケーキに70℃のイオン交換水1Lを加えケーキ洗浄を行った。この操作をもう一度繰り返した後、ケーキを120℃で4時間乾燥し、PPS樹脂(PPS−1)91gを得た。2. Synthesis of Polyphenylene Sulfide Resin (PPS Resin) (Synthesis Example 1: Synthesis of PPS-1)
300.0 g of p-diiodobenzene (Tokyo Kasei Co., Ltd., p-diiodobenzene purity 98.0% or more), solid sulfur (Kanto Chemical Co., Inc., sulfur (powder)) 27.00 g, 4,4′- 2.0 g of dithiobisbenzoic acid (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 4,4′-dithiobisbenzoic acid, Technical Grade) was heated to 180° C., and they were dissolved and mixed under nitrogen. Next, the temperature was raised to 220° C., and the pressure was reduced to an absolute pressure of 26.6 kPa. The resulting melted mixture was melt-polymerized for 8 hours by gradually changing the temperature and pressure so that the absolute pressure became 133 Pa at 320°C. After the reaction was completed, 200 g of NMP was added, the mixture was heated and stirred at 220° C., and the obtained dissolved substance was filtered. 320 g of NMP was added to the lysate after filtration, and cake washing filtration was performed. 1 L of ion-exchanged water was added to the obtained cake containing NMP, and the mixture was stirred in an autoclave at 200° C. for 10 minutes. Next, the cake was filtered, and 1 L of ion-exchanged water at 70° C. was added to the filtered cake to wash the cake. Ion-exchanged water (1 L) was added to the obtained water-containing cake and stirred for 10 minutes. Next, the cake was filtered, and 1 L of ion-exchanged water at 70° C. was added to the filtered cake to wash the cake. After repeating this operation once more, the cake was dried at 120° C. for 4 hours to obtain 91 g of PPS resin (PPS-1).
(合成例2:PPS−2の合成)
「4,4’−ジチオビス安息香酸」の替りに「2−ヨードアニリン(東京化成株式会社製)」を用いたこと以外は合成例1と同様にして、PPS樹脂(PPS−2)91gを得た。(Synthesis Example 2: Synthesis of PPS-2)
91 g of PPS resin (PPS-2) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that "2-iodoaniline (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)" was used instead of "4,4'-dithiobisbenzoic acid". It was
(合成例3:PPS−3の合成)
「4,4’−ジチオビス安息香酸」の替りに「ジフェニルジスルフィド(住友精化株式会社、DPDS)」を用いたこと以外は合成例1と同様にしてPPS樹脂(PPS−3)91gを得た。(Synthesis Example 3: Synthesis of PPS-3)
91 g of PPS resin (PPS-3) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that "diphenyl disulfide (DPDS)" was used in place of "4,4'-dithiobisbenzoic acid". ..
(合成例4:PPS−4の合成)
2LのオートクレーブにN−メチルピロリドン600gと硫化ナトリウム5水塩336.3g(2.0mol)とを仕込み、窒素雰囲気下、200℃まで昇温することにより水−NMP混合物を留去した。次いでこの系に、p−ジクロルベンゼン292.53g(1.99mol)と2,5−ジクロルアニリン1.62g(0.01mol)とをNMP230gに溶かした溶液を添加し、220℃で5時間、さらに240℃で2時間、窒素雰囲気下で反応させた。反応容器から冷却後内容物を取り出し、一部をサンプリングし、未反応2,5−ジクロロアニリンをガスクロマトグラフで定量した。また残りのスラリは熱水で数回洗浄し、ポリマーケーキを濾別した。このケーキを80℃減圧乾燥し、粉末のアミノ基含有ポリフェニレンスルフィド(PPS−4)を得た。(Synthesis Example 4: Synthesis of PPS-4)
A 2 L autoclave was charged with 600 g of N-methylpyrrolidone and 336.3 g (2.0 mol) of sodium sulfide pentahydrate, and the water-NMP mixture was distilled off by raising the temperature to 200° C. under a nitrogen atmosphere. Next, to this system, a solution of 292.53 g (1.99 mol) of p-dichlorobenzene and 1.62 g (0.01 mol) of 2,5-dichloroaniline dissolved in 230 g of NMP was added, and the mixture was heated at 220° C. for 5 hours. Further, the reaction was carried out at 240° C. for 2 hours under a nitrogen atmosphere. The contents were taken out after cooling from the reaction vessel, a part thereof was sampled, and unreacted 2,5-dichloroaniline was quantified by gas chromatography. The remaining slurry was washed with hot water several times, and the polymer cake was filtered off. The cake was dried under reduced pressure at 80° C. to obtain powdery amino group-containing polyphenylene sulfide (PPS-4).
合成例1〜4で得られたPPS−1〜PPS−4の性状を表1に示す。 Table 1 shows the properties of PPS-1 to PPS-4 obtained in Synthesis Examples 1 to 4.
[原料]
PPS樹脂組成物を調製するため、以下の材料を準備した。
(熱可塑性樹脂)
PA6T:テレフタル酸65モル%、イソフタル酸25モル%、アジピン酸10モル%を必須の単量体成分として反応させて得られた芳香族ポリアミド(融点310℃、Tg120℃)
PA9T:ノナンジアミンとテレフタル酸とを反応させて得られたポリアミド(株式会社クラレ製、「ジェネスタ N1000A」)
PA46:ポリアミド46(ディーエスエム ジャパン エンジニアリング プラスチックス株式会社製、「スタニール TS300」)
(無機質充填剤)
GF:ガラス繊維チョップドストランド(繊維径10μm、長さ3mm)
[material]
The following materials were prepared to prepare a PPS resin composition.
(Thermoplastic resin)
PA6T: Aromatic polyamide obtained by reacting 65 mol% terephthalic acid, 25 mol% isophthalic acid, and 10 mol% adipic acid as essential monomer components (melting point 310° C., Tg 120° C.)
PA9T: Polyamide obtained by reacting nonanediamine with terephthalic acid ("Genestar N1000A" manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
PA46: Polyamide 46 (manufactured by DS Japan Engineering Plastics Co., Ltd., "Stanyl TS300")
(Inorganic filler)
GF: Glass fiber chopped strand (fiber diameter 10 μm, length 3 mm)
[コンパウンドの作製と評価]
表1に示す配合組成で各原料をタンブラーによって均一に混合した後、2軸混練押出機(TEM−35B、東芝機械)を用いて300℃で溶融混練して、ペレット状のコンパウンドを得た。得られたコンパウンドをシリンダー温度300℃、金型温度140℃の条件で射出成形し、曲げ特性、金属密着強さ、キャビティーバランス及び耐熱水性試験に用いる試験片を作製し、各種評価を行った。また、PPS樹脂単体及びコンパウンドについて、ガス発生量を測定した。評価結果を表2に示す。[Production and evaluation of compound]
Each raw material was uniformly mixed by a tumbler with the composition shown in Table 1, and then melt-kneaded at 300° C. using a twin-screw kneading extruder (TEM-35B, Toshiba Machine) to obtain a pelletized compound. The obtained compound was injection-molded under the conditions of a cylinder temperature of 300° C. and a mold temperature of 140° C. to prepare a test piece used for a bending property, a metal adhesion strength, a cavity balance and a hot water resistance test, and various evaluations were performed. .. In addition, the amount of gas generated was measured for the PPS resin simple substance and the compound. The evaluation results are shown in Table 2.
Claims (22)
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂、エラストマー、及び2以上の架橋性官能基を有する架橋性樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも1種の他の樹脂成分と、
を含有する、表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物であって、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、前記ジヨード芳香族化合物、前記単体硫黄及び前記重合禁止剤を含む溶融混合物中で反応させることを含む方法により得ることのできるものであり、
ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対して、前記他の樹脂成分が1〜300質量部であること、
前記表面実装電子部品が、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物を成形して得られる成形品と、金属端子とを備えるものであること、
前記表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、さらに無機質充填剤を含むことを特徴とする、
表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物。
(ただし、ポリアリーレンスルフィド樹脂と、
無機質充填剤、前記ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂、エラストマー、及び2以上の架橋性官能基を有する架橋性樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも1種の他の成分と、
を含有する、表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物であって、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、前記ジヨード芳香族化合物、前記単体硫黄及び前記重合禁止剤を含む溶融混合物中で反応させることを含む方法により得ることのできるものであり、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、前記重合禁止剤に由来するカルボキシル基及びカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有すること、
ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対し、前記他の成分が1〜300質量部である、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物、を除く。) Polyarylene sulfide resin,
At least one other resin component selected from the group consisting of a thermoplastic resin other than the polyarylene sulfide resin, an elastomer, and a crosslinkable resin having two or more crosslinkable functional groups;
A polyarylene sulfide resin composition for surface-mount electronic components, which comprises:
The polyarylene sulfide resin is a method comprising reacting a diiodo aromatic compound, elemental sulfur, and a polymerization inhibitor in a molten mixture containing the diiodo aromatic compound, the elemental sulfur, and the polymerization inhibitor. That you can get,
1 to 300 parts by mass of the other resin component with respect to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin,
The surface-mounted electronic component is a molded product obtained by molding a polyarylene sulfide resin composition, and a metal terminal ,
The polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic components is characterized by further containing an inorganic filler,
Polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic parts.
(However, with polyarylene sulfide resin,
At least one other component selected from the group consisting of an inorganic filler, a thermoplastic resin other than the polyarylene sulfide resin, an elastomer, and a crosslinkable resin having two or more crosslinkable functional groups;
A polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic components, which comprises:
The polyarylene sulfide resin is a method comprising reacting a diiodo aromatic compound, elemental sulfur, and a polymerization inhibitor in a molten mixture containing the diiodo aromatic compound, the elemental sulfur, and the polymerization inhibitor. That you can get,
The polyarylene sulfide resin has at least one group selected from the group consisting of carboxyl groups derived from the polymerization inhibitor and salts of carboxyl groups,
Except for 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin, the polyarylene sulfide resin composition in which the other component is 1 to 300 parts by mass is excluded. )
主鎖中に下記一般式(20)
The following general formula (20) is contained in the main chain.
末端に下記一般式(1−1)
The following general formula (1-1) at the end
前記Mw及びMtopはそれぞれゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される重量平均分子量及びピーク分子量である、請求項1に記載の表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物。 The polyarylene sulfide resin has a Mw/Mtop of 0.80 to 1.70,
The polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic components according to claim 1, wherein the Mw and Mtop are a weight average molecular weight and a peak molecular weight measured by gel permeation chromatography, respectively.
前記Mw及びMtopはそれぞれゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される重量平均分子量及びピーク分子量である、請求項1に記載の表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物。 The polyarylene sulfide resin has a non-Newtonian index of 0.95 to 1.75 at 300° C. and a Mw/Mtop of 0.80 to 1.70,
The polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic components according to claim 1, wherein the Mw and Mtop are a weight average molecular weight and a peak molecular weight measured by gel permeation chromatography, respectively.
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、
ポリアリーレンスルフィド樹脂と、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂、エラストマー、及び2以上の架橋性官能基を有する架橋性樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも1種の他の樹脂成分と、
を含有すること、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、前記ジヨード芳香族化合物、前記単体硫黄及び前記重合禁止剤を含む溶融混合物中で反応させることを含む方法により得ることのできるものであり、
ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対して、前記他の樹脂成分が1〜300質量部であること、
を特徴とする表面実装電子部品。
(ただし、ポリアリーレンスルフィド樹脂と、
無機質充填剤、前記ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂、エラストマー、及び2以上の架橋性官能基を有する架橋性樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも1種の他の成分と、
を含有する、表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物であって、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、前記ジヨード芳香族化合物、前記単体硫黄及び前記重合禁止剤を含む溶融混合物中で反応させることを含む方法により得ることのできるものであり、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、前記重合禁止剤に由来するカルボキシル基及びカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有すること、
ポリアリーレンスルフィド樹脂100質量部に対し、前記他の成分が1〜300質量部である、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物、を除く。) A molded article for surface mount electronic parts obtained by molding the polyarylene sulfide resin composition, and a metal terminal, a surface mount electronic component,
The polyarylene sulfide resin composition,
Polyarylene sulfide resin,
At least one other resin component selected from the group consisting of a thermoplastic resin other than the polyarylene sulfide resin, an elastomer, and a crosslinkable resin having two or more crosslinkable functional groups;
Containing
The polyarylene sulfide resin, by a method comprising reacting a diiodo aromatic compound, elemental sulfur, and a polymerization inhibitor in a melt mixture containing the diiodo aromatic compound, the elemental sulfur and the polymerization inhibitor. That you can get,
1 to 300 parts by mass of the other resin component relative to 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin,
Surface mount electronic parts characterized by .
(However, with polyarylene sulfide resin,
At least one other component selected from the group consisting of an inorganic filler, a thermoplastic resin other than the polyarylene sulfide resin, an elastomer, and a crosslinkable resin having two or more crosslinkable functional groups;
A polyarylene sulfide resin composition for surface-mount electronic components, which comprises:
The polyarylene sulfide resin, by a method comprising reacting a diiodo aromatic compound, elemental sulfur, and a polymerization inhibitor in a melt mixture containing the diiodo aromatic compound, the elemental sulfur and the polymerization inhibitor. That you can get,
The polyarylene sulfide resin has at least one group selected from the group consisting of salts of carboxyl groups and carboxyl groups derived from the polymerization inhibitor,
Excluding 100 parts by mass of the polyarylene sulfide resin, a polyarylene sulfide resin composition in which the other component is 1 to 300 parts by mass. )
主鎖中に下記一般式(20) The following general formula (20) is contained in the main chain.
末端に下記一般式(1−1) The following general formula (1-1) at the end
前記Mw及びMtopはそれぞれゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される重量平均分子量及びピーク分子量である、請求項8に記載の表面実装電子部品。 The surface mount electronic component according to claim 8, wherein the Mw and Mtop are a weight average molecular weight and a peak molecular weight measured by gel permeation chromatography, respectively.
前記Mw及びMtopはそれぞれゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される重量平均分子量及びピーク分子量である、請求項8に記載の表面実装電子部品。 The surface mount electronic component according to claim 8, wherein the Mw and Mtop are a weight average molecular weight and a peak molecular weight measured by gel permeation chromatography, respectively.
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂、エラストマー、及び2以上の架橋性官能基を有する架橋性樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも1種の他の樹脂成分と、を溶融混練する、表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の製造方法であって、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、前記ジヨード芳香族化合物、前記単体硫黄及び前記重合禁止剤を含む溶融混合物中で反応させることを含む方法により得ること、
前記表面実装電子部品が、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物を成形して得られる成形品と、金属端子とを備えるものであること、
を特徴とする表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の製造方法。
(ただし、ポリアリーレンスルフィド樹脂と、
無機質充填剤、前記ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂、エラストマー、及び2以上の架橋性官能基を有する架橋性樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも1種の他の成分と、を溶融混練すること、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、ジヨード芳香族化合物と、単体硫黄と、重合禁止剤とを、前記ジヨード芳香族化合物、前記単体硫黄及び前記重合禁止剤を含む溶融混合物中で反応させることを含む方法により得ること、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂が、前記重合禁止剤に由来するカルボキシル基及びカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有すること、
を特徴とする表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の製造方法、を除く。) Polyarylene sulfide resin,
Surface mounting by melt-kneading with a thermoplastic resin other than the polyarylene sulfide resin, an elastomer, and at least one other resin component selected from the group consisting of crosslinkable resins having two or more crosslinkable functional groups A method for producing a polyarylene sulfide resin composition for electronic parts,
The polyarylene sulfide resin, by a method comprising reacting a diiodo aromatic compound, elemental sulfur, and a polymerization inhibitor in a melt mixture containing the diiodo aromatic compound, the elemental sulfur and the polymerization inhibitor. To get,
The surface-mounted electronic component, comprising a molded product obtained by molding a polyarylene sulfide resin composition, and a metal terminal,
A method for producing a polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic parts, comprising:
(However, with polyarylene sulfide resin,
Melt kneading with an inorganic filler, a thermoplastic resin other than the polyarylene sulfide resin, an elastomer, and at least one other component selected from the group consisting of crosslinkable resins having two or more crosslinkable functional groups. thing,
The polyarylene sulfide resin, by a method comprising reacting a diiodo aromatic compound, elemental sulfur, and a polymerization inhibitor in a melt mixture containing the diiodo aromatic compound, the elemental sulfur and the polymerization inhibitor. To get,
The polyarylene sulfide resin has at least one group selected from the group consisting of salts of carboxyl groups and carboxyl groups derived from the polymerization inhibitor,
And a method for producing a polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic components. )
ポリアリーレンスルフィド樹脂と、
無機質充填剤と、
前記ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の熱可塑性樹脂、エラストマー、及び2以上の架橋性官能基を有する架橋性樹脂からなる群より選ばれる、少なくとも1種の他の成分と、を溶融混練する、
請求項15に記載の表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の製造方法。 The polyarylene sulfide resin composition for surface mount electronic components further contains an inorganic filler,
Polyarylene sulfide resin,
An inorganic filler,
Melt-kneading a thermoplastic resin other than the polyarylene sulfide resin, an elastomer, and at least one other component selected from the group consisting of crosslinkable resins having two or more crosslinkable functional groups,
A method for producing the polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic components according to claim 15 .
前記Mw及びMtopはそれぞれゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される重量平均分子量及びピーク分子量である、請求項15に記載の表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の製造方法。 The polyarylene sulfide resin has a Mw/Mtop of 0.80 to 1.70,
The method for producing a polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic components according to claim 15 , wherein the Mw and Mtop are a weight average molecular weight and a peak molecular weight measured by gel permeation chromatography, respectively.
前記Mw及びMtopはそれぞれゲル浸透クロマトグラフィーにより測定される重量平均分子量及びピーク分子量である、請求項15に記載の表面実装電子部品用ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物の製造方法。 The polyarylene sulfide resin has a non-Newtonian index of 0.95 to 1.75 at 300° C. and a Mw/Mtop of 0.80 to 1.70,
The method for producing a polyarylene sulfide resin composition for surface-mounted electronic components according to claim 15 , wherein the Mw and Mtop are a weight average molecular weight and a peak molecular weight measured by gel permeation chromatography, respectively.
成形品と、金属端子とを備える、表面実装電子部品を、リフロー炉内で加熱することによって、基板にハンダ付けすること、
前記成形品を、前記請求項21に記載の製造方法により製造すること、を特徴とする表面実装電子部品の製造方法。 A method of manufacturing a surface mount electronic component, comprising a molded product and a metal terminal,
Soldering a surface-mounted electronic component, which includes a molded product and a metal terminal, to a substrate by heating in a reflow oven,
A method for manufacturing a surface mount electronic component, wherein the molded product is manufactured by the manufacturing method according to claim 21 .
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