JP6720673B2 - Fine particle unevenly distributed composite and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、微粒子が高分子基材内部に偏在してなる微粒子偏在複合体及びその製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a fine particle unevenly distributed composite in which fine particles are unevenly distributed inside a polymer substrate and a method for producing the same.
微粒子を基材表面や内部に偏在させて複合化させる技術は、光学的、生物学的、熱的特性を発現する機能性フィルム材料の開発において必要不可欠である。 The technique of making fine particles unevenly distributed on the surface of the substrate or inside thereof to form a composite is indispensable in the development of a functional film material exhibiting optical, biological, and thermal properties.
基材表面に微粒子を偏在させたフィルムの例としては、液晶表示装置に使用される反射防止フィルムが挙げられ、低屈折率の微粒子を表面に偏在させることで反射防止機能および耐擦傷性を付与したフィルムが提案されている(特許文献1および2参照)。 An example of a film in which fine particles are unevenly distributed on the surface of a base material is an antireflection film used in a liquid crystal display device. By unevenly distributing fine particles having a low refractive index on the surface, an antireflection function and scratch resistance are imparted. A film that has been proposed has been proposed (see Patent Documents 1 and 2).
例えば、特許文献1では、シリカ微粒子の表面をフッ素シランで修飾し、表面自由エネルギーにより樹脂と混合した塗液中でシリカ微粒子を偏在化することで、塗液を薄く成膜した際に、シリカ微粒子が塗膜表面に偏在し、反射防止性および耐擦傷性を有するコート層として機能する反射防止用積層体が開示されている。 For example, in Patent Document 1, the surface of silica fine particles is modified with fluorinated silane, and the silica fine particles are unevenly distributed in a coating liquid mixed with a resin by surface free energy, so that when the coating liquid is thinly formed, silica Disclosed is an antireflection laminate in which fine particles are unevenly distributed on the surface of a coating film and function as a coating layer having antireflection properties and scratch resistance.
また、特許文献2では、セルロース基材に微粒子を含有した組成物を塗工した後、組成物内に溶出した基材成分と微粒子の親和性の悪さを駆動力として微粒子を基材とは反対の表面側に移動させて微粒子積層体とする反射防止用積層体が開示されている。 Further, in Patent Document 2, after coating a composition containing fine particles on a cellulose substrate, the poor affinity of the fine particles with the substrate component eluted in the composition is used as a driving force to make the fine particles opposite to the substrate. There is disclosed an antireflection laminate which is moved to the surface side of to form a fine particle laminate.
一方、基材内部に微粒子を分散させたフィルムの例としては、断熱あるいは遮熱フィルム等が挙げられる。建築物や車両の窓部などでは、太陽光に含まれる赤外線の影響により室内温度が上昇することが知られており、夏場などの日差しが強く日照時間の長い時期には、室温上昇によるエアコン消費電力増大が大きな問題となっているが、近年では、太陽光による明るさを保ちながら室温上昇を抑制するための遮熱フィルムが提案されている。 On the other hand, examples of the film in which fine particles are dispersed inside the substrate include a heat insulating film or a heat shielding film. It is known that indoor temperature rises in buildings and windows of vehicles due to the effect of infrared rays contained in sunlight.In summer, when the sunshine is strong and the sunshine is long, air-conditioner consumption due to room temperature rise Although the increase in electric power has become a big problem, in recent years, a heat shield film has been proposed for suppressing a rise in room temperature while maintaining the brightness of sunlight.
例えば、特許文献3及び特許文献4では、断熱粒子である中空シリカ粒子や熱線遮蔽粒子である複合タングステン酸化物の粒子などを樹脂内部に分散させた遮熱フィルムを用いることで、室内温度が外的要因により変動するのを抑制する方法が提案されている。 For example, in Patent Document 3 and Patent Document 4, by using a heat shield film in which hollow silica particles, which are heat insulating particles, particles of composite tungsten oxide, which are heat ray shielding particles, and the like are dispersed inside a resin, the indoor temperature is kept outside. A method for suppressing fluctuations due to physical factors has been proposed.
上記した特許文献1〜4に記載のように、これまでにもフィルムの表面に微粒子を偏在させることにより、あるいは、フィルムの内部に微粒子を分散させることにより、機能を発現させたフィルムが提案されている。 As described in Patent Documents 1 to 4 described above, a film having a function has been proposed so far by unevenly distributing fine particles on the surface of the film or by dispersing fine particles inside the film. ing.
しかしながら、微粒子がフィルム表面に偏在され、さらに微粒子が含まれていない樹脂層を挟んでフィルム内部に微粒子が分散されたフィルムは報告されておらず、さらにこのように微粒子が偏在したフィルムを一度の成膜プロセスで形成可能な技術は報告されていない。 However, a film in which fine particles are unevenly distributed on the film surface and fine particles are dispersed inside the film by sandwiching a resin layer containing no fine particles has not been reported. No technique capable of forming by a film forming process has been reported.
既存の手法において、微粒子がフィルム表面に偏在され、さらに微粒子が含まれていない樹脂層を挟んでフィルム内部に微粒子が分散されたフィルムを作製するには、微粒子をフィルム内部に分散させた層を形成した後、その上に樹脂層を成膜し、その後、フィルム表面に微粒子を偏在させるといった多段階の積層プロセスを実施する必要があった。このような多段階の積層プロセスは、材料コストや樹脂選択の制約、加工工程の増大により、歩留まり低下や製品の高価格化など製品の作製に不利となる問題があった。 In the existing method, in order to produce a film in which fine particles are unevenly distributed on the surface of the film, and a resin layer containing no fine particles is sandwiched between the fine particles, the fine particles are dispersed in the film. After the formation, it was necessary to carry out a multi-stage laminating process in which a resin layer was formed on the film and then fine particles were unevenly distributed on the film surface. Such a multi-stage laminating process has a problem in that it is disadvantageous in manufacturing a product such as a reduction in yield and an increase in product price due to restrictions on material cost, resin selection, and an increase in processing steps.
本発明の目的は、微粒子が少なくとも一方の表面に偏在され、さらに微粒子が含まれていない樹脂層を挟んで内部に微粒子が分散されている微粒子偏在複合体及びこの微粒子偏在複合体の製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a fine particle unevenly distributed composite in which fine particles are unevenly distributed on at least one surface, and fine particles are dispersed inside with a resin layer containing no fine particles interposed therebetween, and a method for producing the fine particle unevenly distributed composite. Is to provide.
シリカ微粒子及びウレタンアクリレートを含有する塗液の硬化膜からなる微粒子偏在複合体であって、微粒子偏在複合体の一方の表面側にシリカ微粒子が偏在する部分を有し、微粒子偏在複合体の他方の表面側にシリカ微粒子が分散した部分を有し、シリカ微粒子が偏在する部分とシリカ微粒子が分散した部分との間にシリカ微粒子を含まない部分を有し、シリカ微粒子が偏在する部分と、シリカ微粒子を含まない部分と、シリカ微粒子が分散した部分とにウレタンアクリレートが硬化してなる樹脂が分布しており、シリカ微粒子の平均粒子径が100nm以上500nm以下であり、シリカ微粒子の添加率が、シリカ微粒子及びウレタンアクリレートの合計の30重量%以上50重量以下であることを特徴とする。 A fine particle unevenly distributed composite comprising a cured film of a coating liquid containing silica fine particles and urethane acrylate, wherein one surface side of the fine particle unevenly distributed composite has a portion in which silica fine particles are unevenly distributed, and the other of the fine particle unevenly distributed composites There is a portion in which silica fine particles are dispersed on the surface side, a portion not containing silica fine particles is present between the portion in which the silica fine particles are unevenly distributed and the portion in which the silica fine particles are dispersed, and the portion in which the silica fine particles are unevenly distributed, and the silica fine particles A resin obtained by curing urethane acrylate is distributed in a portion containing no silica and a portion in which silica fine particles are dispersed, the average particle diameter of the silica fine particles is 100 nm or more and 500 nm or less, and the addition rate of the silica fine particles is silica. and wherein 50 weight below der Rukoto 30 wt% or more of total particulates and urethane acrylate.
一方の表面側にシリカ微粒子が偏在する部分を有し、他方の表面側にシリカ微粒子が分散した部分を有し、シリカ微粒子が偏在する部分とシリカ微粒子が分散した部分との間にシリカ微粒子を含まない部分を有する微粒子偏在複合体の製造方法であって、シリカ微粒子とウレタンアクリレートとを含有する微粒子含有塗液を調製する塗液調整工程と、塗液を支持体上に塗布する塗布工程と、支持体上に塗布した塗液を熱処理して膜を形成する熱処理工程と、膜に電離放射線を照射して硬化させて、支持体に支持された微粒子偏在複合体を形成する電離放射線照射工程と、微粒子偏在複合体を支持体から剥離する剥離工程とを備え、シリカ微粒子の平均粒子径が100nm以上500nm以下であり、シリカ微粒子の添加率が、シリカ微粒子及びウレタンアクリレートの合計の30重量%以上50重量以下であることを特徴とする。 Having a part where the silica fine particles are unevenly distributed on one surface side, having a part where the silica fine particles are dispersed on the other surface side, silica fine particles are provided between the part where the silica fine particles are unevenly distributed and the part where the silica fine particles are dispersed. A method for producing a fine particle unevenly distributed composite having a part not containing, a coating solution adjusting step of preparing a fine particle-containing coating solution containing silica fine particles and urethane acrylate, and a coating step of applying the coating solution onto a support. A heat treatment step of heat-treating the coating liquid applied on the support to form a film, and an ionizing radiation irradiation step of forming a film by irradiating the film with ionizing radiation and curing the film to form a fine particle unevenly distributed complex supported on the support. And a peeling step of peeling the fine particle unevenly distributed composite from the support , the average particle diameter of the silica fine particles is 100 nm or more and 500 nm or less, and the addition rate of the silica fine particles is 30% by weight of the total amount of the silica fine particles and the urethane acrylate. characterized in der Rukoto 50 wt inclusive.
本発明によれば、微粒子が少なくとも一方の表面に偏在され、さらに微粒子が含まれていない樹脂層を挟んで内部に微粒子が分散されている微粒子偏在複合体及びこの微粒子偏在複合体の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, a fine particle unevenly distributed composite in which fine particles are unevenly distributed on at least one surface, and fine particles are dispersed inside with a resin layer containing no fine particles interposed therebetween, and a method for producing this fine particle unevenly distributed composite are provided. Can be provided.
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。図1は、本発明の実施形態に係る微粒子偏在複合体の切断部端面の構成を示した図である。微粒子偏在複合体1は、微粒子3と樹脂5とからなるフィルム状のものであり、少なくとも一方の表面側から微粒子3が偏在した微粒子偏在層7と、微粒子3を含まない樹脂単独層9と、微粒子3が分散された微粒子分散層11とをこの順で備える。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an end surface of a cut portion of a particulate unevenly distributed composite according to an embodiment of the present invention. The fine particle unevenly distributed composite 1 is in the form of a film composed of fine particles 3 and a resin 5, and has a fine particle unevenly distributed layer 7 in which the fine particles 3 are unevenly distributed from at least one surface side, and a resin single layer 9 not containing the fine particles 3. The fine particle dispersion layer 11 in which the fine particles 3 are dispersed is provided in this order.
(微粒子)
次に、本発明に係る微粒子3について説明する。微粒子3としては、無機微粒子あるいは有機微粒子が用いられる。無機微粒子としては、例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化スズ、五酸化アンチモンといった酸化物やアンチモンドープ酸化スズ、リンドープ酸化スズ等複合酸化物等が挙げられる。またこれらの他にも、無機微粒子として、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、カオリン、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等を使用することができる。また、有機微粒子としては、ポリメタクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリル−スチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン樹脂粉末、ポリスチレン系粉末、ポリカーボネート粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末等を用いることができる。また、微粒子3として、上記した無機微粒子および/または有機微粒子の中から2種類以上を複合したものを用いてもよい。
(Fine particles)
Next, the fine particles 3 according to the present invention will be described. As the fine particles 3, inorganic fine particles or organic fine particles are used. Examples of the inorganic fine particles include oxides such as silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, tin oxide, and antimony pentoxide, and complex oxides such as antimony-doped tin oxide and phosphorus-doped tin oxide. In addition to these, as the inorganic fine particles, calcium carbonate, talc, clay, kaolin, calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate and the like can be used. Further, as the organic fine particles, polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic-styrene resin powder, polymethylmethacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene powder, polycarbonate powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, etc. Can be used. Further, as the fine particles 3, a mixture of two or more kinds of the above-mentioned inorganic fine particles and/or organic fine particles may be used.
ここで、微粒子偏在複合体1は、その表面に偏在する微粒子3により反射防止や構造発色などの光学的特性の機能を発現することが可能であり、例えば、微粒子3として金属微粒子を用いることによりハードコート性を発現させることが可能であり、微粒子偏在複合体1の表面に凹凸を形成することにより粘着性などの機能を発現することが可能である。また、微粒子偏在複合体1は、内部に分散された微粒子3による微粒子偏在複合体1の線膨張係数の低下、熱伝導率を低下させることによる断熱あるいは遮熱性といった複数の機能を有することができる。 Here, the fine particle unevenly distributed composite 1 can exhibit functions of optical characteristics such as antireflection and structural coloring by the fine particles 3 unevenly distributed on the surface. For example, by using metal fine particles as the fine particles 3. Hard coat properties can be exhibited, and by forming irregularities on the surface of the unevenly distributed fine particle composite 1, it is possible to exhibit functions such as adhesiveness. In addition, the unevenly distributed fine particles composite 1 can have a plurality of functions such as a reduction in the linear expansion coefficient of the unevenly distributed fine particles composite 1 due to the fine particles 3 dispersed therein, and heat insulation or heat shielding by lowering the thermal conductivity. ..
また、微粒子3の平均粒子径としては、100nm以上500nm以下が好ましい。 The average particle diameter of the fine particles 3 is preferably 100 nm or more and 500 nm or less.
なお、本発明に係る微粒子3の平均粒子径は、微粒子偏在複合体1の断面から測定している。微粒子偏在複合体1の断面観察には、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いることができる。しかしながら、特にこれに限定されるものではない。微粒子偏在複合体1の断面より微粒子3の平均粒子径を求める場合には、微粒子偏在複合体1の任意の断面を2点以上観察する。また微粒子偏在複合体1の断面を観察する際、微粒子が20個以上、好ましくは30個以上観察されるように倍率を設定することが好ましい。各断面において、微粒子3を任意に10個以上選択して粒子径を測定し、その平均値を微粒子3の平均粒子径とする。 The average particle size of the fine particles 3 according to the present invention is measured from the cross section of the fine particle unevenly distributed composite 1. A transmission electron microscope (TEM) can be used for observing the cross section of the unevenly distributed fine particle composite 1. However, it is not particularly limited to this. When obtaining the average particle diameter of the fine particles 3 from the cross section of the unevenly distributed fine particle composite body 1, two or more arbitrary cross sections of the unevenly distributed fine particle composite body 1 are observed. Further, when observing the cross section of the unevenly distributed fine particle composite 1, it is preferable to set the magnification so that 20 or more, preferably 30 or more fine particles are observed. In each cross section, 10 or more fine particles 3 are arbitrarily selected and the particle diameter is measured, and the average value is taken as the average particle diameter of the fine particles 3.
また、微粒子3は表面に電離放射線硬化基を有したものを用いてもよい。微粒子3として表面に電離放射線硬化基を有するものを用いることで、詳細は後述するが、樹脂5と微粒子3とを含む溶液を基材上に塗布し熱処理して形成された微粒子偏在複合体1となる塗膜を電離放射線硬化させる場合に、微粒子3の表面とも反応し、塗膜の強度を向上させることができる。 Further, the fine particles 3 may have a surface having an ionizing radiation curing group. As will be described later in detail, by using as the fine particles 3 those having an ionizing radiation curing group on the surface, a fine particle unevenly distributed composite 1 formed by applying a solution containing the resin 5 and the fine particles 3 onto a substrate and heat-treating the solution. When the resulting coating film is cured by ionizing radiation, it can also react with the surface of the fine particles 3 to improve the strength of the coating film.
(樹脂)
次に、本発明に係る樹脂5について説明する。樹脂5としては、電離放射線硬化型樹脂組成物が用いられる。電離放射線硬化型樹脂組成物としては、アクリル系材料が挙げられ、アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような(メタ)アクリレート化合物、ジイソシアネートとアルコールおよびアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるようなウレタン(メタ)アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型樹脂組成物として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
(resin)
Next, the resin 5 according to the present invention will be described. As the resin 5, an ionizing radiation curable resin composition is used. Examples of the ionizing radiation curable resin composition include acrylic materials, which are synthesized from (meth)acrylate compounds such as acrylic acid or methacrylic acid ester of alcohol, diisocyanate and alcohol, and hydroxy ester of acrylic acid or methacrylic acid. Such urethane (meth)acrylate compounds can be used. In addition to these, as the ionizing radiation curable resin composition, a polyether resin having an acrylate functional group, a polyester resin, an epoxy resin, an alkyd resin, a spiro acetal resin, a polybutadiene resin, a polythiol polyene resin, or the like is used. be able to.
なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。例えば、「ウレタン(メタ)アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。また、多官能とは、分子内に2個以上の電離放射線により活性を持つ官能基を有することを意味する。 In addition, in this specification, "(meth)acrylate" indicates both "acrylate" and "methacrylate". For example, "urethane (meth)acrylate" indicates both "urethane acrylate" and "urethane methacrylate". Further, polyfunctional means having two or more functional groups active in the molecule by ionizing radiation.
単官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、N−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノ(メタ)アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる Examples of the monofunctional (meth)acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl ( (Meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, isodecyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, 3- Methoxybutyl (meth)acrylate, ethylcarbitol (meth)acrylate, phosphoric acid (meth)acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth)acrylate, phenoxy (meth)acrylate, ethylene oxide modified phenoxy (meth)acrylate, propylene oxide modified Phenoxy (meth)acrylate, nonylphenol (meth)acrylate, ethylene oxide modified nonylphenol (meth)acrylate, propylene oxide modified nonylphenol (meth)acrylate, methoxydiethylene glycol (meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth)acrylate, methoxypropylene glycol ( (Meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl(meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2-(meth)acryloyloxy Propyl hydrogen phthalate, 2-(meth)acryloyloxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2-(meth)acryloyloxypropyl tetrahydrohydrogen phthalate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, trifluoroethyl (meth)acrylate, tetrafluoropropyl (meth ) Acrylate, hexafluoropropyl(meth)acrylate, octafluoropropyl(meth)acrylate, octafluoropropyl(meth)acrylate, 2 And adamantane derivative mono(meth)acrylates such as adamantyl acrylate having a monovalent mono(meth)acrylate derived from adamantane and adamantane diol.
2官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコ−ルジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートなどのジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the bifunctional (meth)acrylate compound include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, butanediol di(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, nonanediol di(meth). Acrylate, ethoxylated hexanediol di(meth)acrylate, propoxylated hexanediol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di( (Meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di(meth)acrylate, and other di(meth)acrylates. ) Acrylate and the like can be mentioned.
3官能以上の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレート化合物や、これら(メタ)アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。 Examples of the trifunctional or higher functional (meth)acrylate compound include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and tris2-hydroxyethyl. 3 such as isocyanurate tri(meth)acrylate, tri(meth)acrylate such as glycerin tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate Functional (meth)acrylate compounds, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, ditrimethylolpropane penta(meth) ) Trifunctional or higher polyfunctional (meth)acrylate compounds such as acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and ditrimethylolpropane hexa(meth)acrylate, and a part of these (meth)acrylates containing an alkyl group or ε-caprolactone. Examples thereof include polyfunctional (meth)acrylate compounds substituted with.
またこれらの他にも、電離放射線硬化型樹脂組成物として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができ、特にその材料を限定しない。 In addition to these, as the ionizing radiation curable resin composition, a polyether resin having an acrylate functional group, a polyester resin, an epoxy resin, an alkyd resin, a spiro acetal resin, a polybutadiene resin, a polythiol polyene resin, or the like is used. However, the material is not particularly limited.
また、アクリル系材料として多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることもできる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネートおよび水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、UA−306H、UA−306T、UA−306I等(以上、共栄社化学社製)、UV−1700B、UV−6300B、UV−7600B、UV−7605B、UV−7640B、UV−7650B等(以上、日本合成化学工業社製)、U−4HA、U−6HA、UA−100H、U−6LPA、U−15HA、UA−32P、U−324A等(以上、新中村化学工業社製)、Ebecryl−1290、Ebecryl−1290K、Ebecryl−5129等(以上、ダイセル・オルネクス社製)、根上工業社製、UN−3220HA、UN−3220HB、UN−3220HC、UN−3220HS等(以上、根上工業社製)を挙げることができるが、この限りではない。 In addition, polyfunctional urethane acrylate can be preferably used as the acrylic material. Urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyisocyanate and a hydroxyl group-containing acrylate. Specifically, UA-306H, UA-306T, UA-306I etc. (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), UV-1700B, UV-6300B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7640B, UV-7650B etc. (Above, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), U-4HA, U-6HA, UA-100H, U-6LPA, U-15HA, UA-32P, U-324A (above, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Ebecryl-1290, Ebecryl-1290K, Ebecryl-5129 etc. (above, manufactured by Daicel Ornex), Negami Kogyo Co., UN-3220HA, UN-3220HB, UN-3220HC, UN-3220HS etc. (above, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. ), but not limited to this.
次に、本発明の微粒子積層複合体1の製造方法について説明を行う。 Next, a method for producing the fine particle laminated composite 1 of the present invention will be described.
本発明の微粒子偏在複合体は、樹脂5の前駆体であるモノマーと、その樹脂中に偏在される微粒子3と、さらに任意選択的に添加してもよい溶媒からなる塗液を用いて、基材への1回の塗工で多層の複合体を形成することができる。 The fine particle unevenly distributed composite of the present invention is prepared by using a coating liquid comprising a monomer which is a precursor of the resin 5, fine particles 3 which are unevenly distributed in the resin, and a solvent which may be optionally added. Multi-layer composites can be formed with a single application to the material.
[塗液調製工程]
まず、微粒子3と、電離放射線硬化性モノマーと、電離放射線重合開始剤とを混合し、必要に応じて、溶媒に溶解あるいは分散させ塗液を調製する。
[Coating liquid preparation process]
First, the fine particles 3, the ionizing radiation curable monomer, and the ionizing radiation polymerization initiator are mixed and, if necessary, dissolved or dispersed in a solvent to prepare a coating liquid.
本発明では塗液において、溶剤の有無は問わないが、溶剤を使用する場合には電離放射線硬化性樹脂モノマーを溶解するものであれば何でも使用できる。塗膜形成後の面性を良化させるためには、比較的沸点の高いもののほうが、レベリング性(均一塗布性)が向上する。また、塗膜の膜厚が厚い場合には、塗膜中に溶剤が残りやすくなるため、できるだけ沸点は低いほうがよく、前者と後者のバランスを考慮して溶剤を決定することができる。 In the present invention, the coating liquid may or may not have a solvent, but when a solvent is used, any solvent can be used as long as it dissolves the ionizing radiation-curable resin monomer. In order to improve the surface properties after forming the coating film, the one having a relatively high boiling point improves the leveling property (uniform coating property). Further, when the film thickness of the coating film is large, the solvent is likely to remain in the coating film, and therefore the boiling point is preferably as low as possible, and the solvent can be determined in consideration of the balance between the former and the latter.
また、本発明で塗液に使用される電離放射線重合開始剤としては、特に限定されないが、透明樹脂の硬化で、特に着色の少ないIrg184(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)を用いることができる。また、表面硬化系の重合開始剤α−ヒドロキシケトン、例えば1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、高いモル吸光係数をもつα−アミノケトンの2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オンと内部硬化系の重合開始剤であるアシルフォスフィンオキサイド、例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、また、h線に吸収領域を有するα−アミノケトン、例えば2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1などを組み合わせて使用してもよい。 The ionizing radiation polymerization initiator used in the coating liquid in the present invention is not particularly limited, but Irg184 (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone), which is particularly less colored when the transparent resin is cured, can be used. Further, a surface-curing polymerization initiator α-hydroxyketone such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy) -Phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, an α-aminoketone 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropane-1 with a high molar extinction coefficient -One and an acylphosphine oxide that is an internal curing type polymerization initiator, for example, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, and an α-aminoketone having an absorption region at the h-line, for example, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1 and the like may be used in combination.
また、上記に示されるもの以外にも、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等で、表面硬化系、内部硬化系の特徴を有する重合開始剤であれば適宜選択して用いることができる。 In addition to those shown above, for example, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like, surface-curing system, polymerization initiation having internal curing system characteristics Any agent can be appropriately selected and used.
電離放射線重合開始剤の使用量は、電離放射線硬化型樹脂の全固形分量を基準として、0.5〜15重量%が好ましく、この範囲より多くても少なくても、膜硬度は低くなる傾向にある。特に、重合開始剤の使用量が多すぎる場合には、塗膜が着色する可能性もある。 The amount of the ionizing radiation polymerization initiator used is preferably 0.5 to 15% by weight, based on the total solid content of the ionizing radiation curable resin, and if it is more or less than this range, the film hardness tends to be low. is there. In particular, when the amount of the polymerization initiator used is too large, the coating film may be colored.
また、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等を塗液に混合して用いてもよい。 Further, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, etc. may be mixed with the coating liquid as a photosensitizer.
また、溶剤に電離放射線硬化型樹脂モノマーおよび重合開始剤などを溶剤に溶解し調製した塗液には、防汚性、滑り性付与、欠陥防止、粒子の分散性向上のために添加剤を添加してもよい。例えば、添加剤としては、ポリエーテル変性ポリメチルアルキルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、フッ素変性ポリマー、アクリル系共重合物、ポリエステル変性アクリル含有ポリジメチルシロキサン、シリコン変性ポリアクリル等を用いることができる。 In addition, a coating solution prepared by dissolving ionizing radiation curable resin monomer and polymerization initiator in a solvent is added with additives for antifouling property, imparting slipperiness, preventing defects and improving dispersibility of particles. You may. For example, as the additive, polyether-modified polymethylalkylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, fluorine-modified polymer, acrylic copolymer, polyester-modified acryl-containing polydimethylsiloxane, silicon-modified polyacryl, or the like can be used. ..
微粒子3の添加率は、電離放射線硬化型樹脂と微粒子3の合計に対して60重量%以下であることが好ましく、30重量%〜50重量%がより好ましい。微粒子3の添加率が60重量%より大きい場合、樹脂比率が減少することでフィルムの強度が低くなり、フィルム形状を維持できなくなる。なお、微粒子3の添加率とは、電離放射線硬化型樹脂と微粒子3(固形分)の重量合計に占める微粒子3の重量割合である。 The addition rate of the fine particles 3 is preferably 60% by weight or less, and more preferably 30% by weight to 50% by weight, based on the total amount of the ionizing radiation curable resin and the fine particles 3. When the addition rate of the fine particles 3 is more than 60% by weight, the resin ratio decreases and the strength of the film decreases, so that the film shape cannot be maintained. The addition rate of the fine particles 3 is the weight ratio of the fine particles 3 in the total weight of the ionizing radiation curable resin and the fine particles 3 (solid content).
[塗布工程]
次に、塗液調整工程で調整した塗液を基材上に塗布する。塗布方法としては公知の方法を採用することができる。具体的には、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等を利用することができる。
[Coating process]
Next, the coating liquid prepared in the coating liquid preparation step is applied onto the base material. As a coating method, a known method can be adopted. Specifically, bar coating method, dip coating method, spin coating method, flow coating method, spray coating method, roll coating method, gravure roll coating method, air doctor coating method, blade coating method, wire doctor coating method, knife coating. Method, reverse coating method, transfer roll coating method, microgravure coating method, kiss coating method, cast coating method, slot orifice coating method, calender coating method, die coating method and the like can be used.
また、塗布方式としては、(1)枚葉状の基材に塗布する枚葉方式、(2)ロール状の基材を巻き出しながら基材に塗液を塗布し、製造された微粒子積層複合体を巻き取るロール・ツー・ロール方式のいずれの塗布方式を採用してもよい。特に、ロール・ツー・ロール方式は微粒子積層複合体を連続的に形成できるため、好ましい。例えば、ロール・ツー・ロール方式を採用する場合、基材に、巻き出し部と、塗布ユニットと、巻き取り部とをこの順で通過させ、連続走行させることにより連続的に微粒子積層複合体を製造することができる。 Further, as a coating method, (1) a single-wafer method of applying on a single-wafer-shaped base material, (2) a coating liquid is applied to the base material while unrolling a roll-shaped base material, and a fine particle laminated composite produced Any of the roll-to-roll coating methods for winding up may be used. In particular, the roll-to-roll method is preferable because the fine particle laminated composite can be continuously formed. For example, when a roll-to-roll method is adopted, the unwinding part, the coating unit, and the winding part are passed through the base material in this order, and the fine particle laminated composite is continuously run by running continuously. It can be manufactured.
ロール・ツー・ロール方式で製造する場合、基材の厚みは、25μm以上200μm以下程度であることが好ましく、40μm以上80μm以下程度であることがより好ましい。ただし、基材の厚みは上記範囲に限定されるものではない。 When manufactured by a roll-to-roll method, the thickness of the base material is preferably about 25 μm or more and 200 μm or less, and more preferably about 40 μm or more and 80 μm or less. However, the thickness of the base material is not limited to the above range.
基材としては、ロール状の金属体やポリエチレンテレフタレート(PETフィルム)などを使用することができる。基材としては、塗液を塗布した後に行われる、熱処理工程、電離放射線照射工程等の工程において変形することなく、詳細は後述するが、電離放射線照射工程で硬化した微粒子偏在複合体1を容易に剥離することができれば、特に限定されるものではない。 A roll-shaped metal body, polyethylene terephthalate (PET film), or the like can be used as the substrate. As the base material, it will be described later in detail without being deformed in the steps such as the heat treatment step and the ionizing radiation irradiation step that are performed after applying the coating liquid. There is no particular limitation as long as it can be peeled off.
[熱処理工程]
次に、基材上に塗布された塗液を熱処理あるいは乾燥により塗液内の溶媒を除去する。熱処理は、適宜公知の乾燥手段を採用できる。例えば、乾燥手段として、加熱、送風、熱風などを利用することができる。
[Heat treatment process]
Next, the solvent in the coating liquid is removed by heat treatment or drying of the coating liquid applied on the substrate. For the heat treatment, a known drying means can be adopted as appropriate. For example, heating, air blowing, hot air, or the like can be used as the drying means.
[電離放射線照射工程]
また、より硬度の高い塗膜を得るために熱処理工程の後に電離放射線照射工程を設ける。電離放射線照射工程は、塗膜に電離放射線を照射することにより、塗膜を硬化する工程である。電離放射線を照射し、塗膜を硬化させることにより、耐溶剤性や表面硬度に優れた微粒子偏在複合体1とすることができる。
[Ionizing radiation irradiation process]
Further, in order to obtain a coating film having higher hardness, an ionizing radiation irradiation step is provided after the heat treatment step. The ionizing radiation irradiation step is a step of curing the coating film by irradiating the coating film with ionizing radiation. By irradiating with ionizing radiation and curing the coating film, the fine particle unevenly distributed composite 1 having excellent solvent resistance and surface hardness can be obtained.
電離放射線としては、紫外線、電子線などを採用できる。紫外線硬化の場合、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアークなどの光源を利用することができる。また、電子線硬化の場合、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型、などの各種電子線加速器から放出される電子線を利用することができる。電子線としては、50KeV以上1000KeV以下程度のエネルギーを有するのが好ましく、100KeV以上300KeV以下程度のエネルギーを有する電子線がより好ましい。 Ultraviolet rays, electron beams, etc. can be adopted as the ionizing radiation. In the case of ultraviolet curing, a light source such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc or a xenon arc can be used. In the case of electron beam curing, electron beams emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft Wald type, Van de Graaff type, resonance transformer type, insulating core transformer type, linear type, dynamitron type, high frequency type, etc. are used. can do. The electron beam preferably has an energy of about 50 KeV or more and 1000 KeV or less, and more preferably an electron beam of about 100 KeV or more and 300 KeV or less.
[剥離工程]
電離放射線照射工程にて硬化させた塗膜を基材から剥離することにより、微粒子偏在複合体1を得ることができる。
[Peeling process]
By separating the coating film cured in the ionizing radiation irradiation step from the substrate, the unevenly distributed fine particle composite body 1 can be obtained.
上記の工程を経ることにより、一度の成膜プロセスで微粒子偏在複合体1を製造することができるため、本発明は、簡便で低コストの製造プロセスを提供することができる。 By passing through the above steps, the unevenly distributed fine particle composite body 1 can be manufactured by a single film forming process. Therefore, the present invention can provide a simple and low-cost manufacturing process.
本発明に係る微粒子偏在複合体1は微粒子偏在層7および微粒子分散層11を構成する微粒子3の種類を選択することにより、様々な用途に利用することができる。とりわけ用途に応じて、微粒子偏在複合体1の表面に偏在および内部に分散する微粒子3の種類を選択することが重要である。例えば、微粒子3として、一般に光半導体と称されるような酸化チタンを用いた場合には、微粒子偏在複合体1は特定の光線吸収バンドを有するものとなり、光線透過制御性に優れる材料として好適である。さらに基材を適宜選択することにより、基材となる光学器材、住宅・建築器材、家電用器材、家具・自動車内装用器材、包装用器材などの各種物品の表面に対し、無機微粒子に起因する光学的、熱的、電子的、磁気的、生物学的などの機能を微粒子偏在複合体1に付与することができる。光学的機能としては、反射防止性、防眩性、紫外線遮断性、赤外線遮断性、傷つき防止性などが挙げられ、熱的機能としては、遮熱性や断熱性などが挙げられ、電子的、磁気的機能としては、導電性、電磁波シールド性、帯電防止性などが挙げられ、生物学的機能としては抗菌性、抗カビ性などが挙げられる。またこれら機能を付与した微粒子偏在複合体体1を利用可能な各種物品としては、光学器材としての反射防止フィルム、防眩フィルム、紫外線カットフィルム、赤外線カットフィルム、帯電防止フィルム、透明導電フィルム、電磁波シールドフィルム、住宅・建築器材としての紫外線カットフィルム、赤外線カットフィルム、断熱フィルム、抗菌・抗カビ外壁材、家電用器材としての帯電防止躯体・部品、抗菌・抗カビ躯体・部品、家具・自動車用内装用器材としての反射防止フィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、抗菌・抗カビフィルム、包装用器材としての紫外線カットフィルム、赤外線カットフィルム、抗菌・抗カビフィルムなどを各々挙げることが出来る。 The fine particle unevenly distributed composite 1 according to the present invention can be used for various purposes by selecting the types of the fine particles 3 constituting the fine particle unevenly distributed layer 7 and the fine particle dispersed layer 11. In particular, it is important to select the type of the fine particles 3 that are unevenly distributed on the surface of the fine particle unevenly distributed composite 1 and that are dispersed inside, depending on the application. For example, when titanium oxide, which is generally called an optical semiconductor, is used as the fine particles 3, the fine particle unevenly distributed composite 1 has a specific light absorption band, which is suitable as a material having excellent light transmission controllability. is there. Further, by appropriately selecting the base material, the inorganic fine particles are caused on the surface of various articles such as optical equipment, housing/construction equipment, home appliance equipment, furniture/automobile interior equipment, packaging equipment, etc. Optical, thermal, electronic, magnetic, biological functions, etc. can be imparted to the particulate unevenly distributed composite 1. Optical functions include anti-reflection properties, anti-glare properties, ultraviolet blocking properties, infrared blocking properties, and scratch resistance, and thermal functions include heat blocking properties and heat insulating properties, and electronic and magnetic properties. The biological functions include conductivity, electromagnetic wave shielding property, antistatic property, and the biological functions include antibacterial property and antifungal property. In addition, various articles in which the finely-balanced particle-distributed composite body 1 having these functions can be used include an antireflection film as an optical device, an antiglare film, an ultraviolet cut film, an infrared cut film, an antistatic film, a transparent conductive film, and an electromagnetic wave. Shield film, UV cut film for housing/construction equipment, infrared cut film, heat insulation film, antibacterial/antifungal outer wall material, antistatic body/parts for home appliance equipment, antibacterial/antifungal body/parts, furniture/automobile Examples thereof include an antireflection film, an antiglare film, an antistatic film, an antibacterial/antifungal film as interior equipment, and an ultraviolet cut film, an infrared cut film, an antibacterial/antifungal film, etc. as packaging equipment.
また、微粒子3が細孔を有する場合には、光学的、電子的、磁気的、生物学的などの機能付与を目的に、細孔部に目的に応じた材料を導入してもよい。該材料は、微粒子偏在複合体1の形成前または形成後の微粒子に導入することができる。 When the fine particles 3 have pores, a material suitable for the purpose may be introduced into the pores for the purpose of imparting an optical, electronic, magnetic or biological function. The material can be introduced into the fine particles before or after the fine particle unevenly distributed composite 1 is formed.
以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be further described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.
まず、硬化性組成物を含む塗液を調製した。以下に組成を示す。 First, a coating liquid containing a curable composition was prepared. The composition is shown below.
[実施例1]
・粒子:シリカ微粒子分散液A(40wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業社製、平均粒子径100nm)63.4重量部
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P(80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学工業社製) 22.3重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 7.6重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)1.3重量部
・溶媒:MEK 5.4重量部
粒子の固形分比率が50重量部になるように調製した。
[Example 1]
Particles: Silica fine particle dispersion A (40 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 100 nm) 63.4 parts by weight Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt. %, containing methyl ethyl ketone (MEK), manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. 22.3 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 7.6 parts by weight Photoinitiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF Co., Ltd.) 1 .3 parts by weight/solvent: MEK 5.4 parts by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles would be 50 parts by weight.
次に、調製した塗液を基材上に塗布した。基材は、ポリエチレンテレフタレート(PET)(ルミラーT60、厚さ75μm、東レ社製)とした。また、ワイヤーバーコーターを用い基材上に塗液を塗布した。塗液の塗布量は、乾燥膜厚が45μmとなるように調製した。 Next, the prepared coating liquid was applied on the base material. The base material was polyethylene terephthalate (PET) (Lumirror T60, thickness 75 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.). Moreover, the coating liquid was applied onto the base material using a wire bar coater. The coating amount of the coating liquid was adjusted so that the dry film thickness was 45 μm.
次に、基材に塗布された塗液を熱処理により乾燥させ、基材上に塗膜を形成した。熱処理条件は、100℃で3分間とした。 Next, the coating liquid applied to the base material was dried by heat treatment to form a coating film on the base material. The heat treatment condition was 100° C. for 3 minutes.
次に、基材上に形成した塗膜に電離放射線を照射し、塗膜を硬化した。このとき、電離放射線として紫外線を照射した。また、紫外線の照射は、コンベア式紫外線硬化装置を用いて露光量400mJ/cm2とした。 Next, the coating film formed on the substrate was irradiated with ionizing radiation to cure the coating film. At this time, ultraviolet rays were applied as ionizing radiation. Further, the irradiation of ultraviolet rays was carried out at an exposure dose of 400 mJ/cm 2 using a conveyor type ultraviolet curing device.
その後、硬化した塗膜を基材から剥離して、実施例1の微粒子偏在複合体を得た。 After that, the cured coating film was peeled off from the substrate to obtain a fine particle unevenly distributed composite of Example 1.
[実施例2]
塗液の混合比を以下のものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして微粒子遍在複合体を作製した。
・粒子:シリカ微粒子分散液A(40wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業社製、平均粒子径100nm)42.8重量部
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P(80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学工業社製) 35.1重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 12重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)2重量部
・溶媒:MEK 8.1重量部
粒子の固形分比率が30重量部になるように調製した。
[Example 2]
A fine particle ubiquitous composite was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of the coating liquid was changed to the following.
Particles: Silica fine particle dispersion A (40 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 100 nm) 42.8 parts by weight Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt. %, containing methyl ethyl ketone (MEK), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. 35.1 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 12 parts by weight Photoinitiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF Co., Ltd.) 2 parts by weight Solvent: MEK 8.1 parts by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles would be 30 parts by weight.
[比較例1]
硬化性組成物の混合比を以下のものに変更したこと以外は、実施例1と同様に微粒子遍在複合体を作製した。
・粒子:シリカ微粒子分散液A(40wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業製、平均粒子径100nm) 14.4重量部。
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P (80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学) 45.4重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 15.5重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)2.6重量部
・溶媒:MEK 22.1重量部
粒子の固形分比率が10重量部になるように調製した。
[Comparative Example 1]
A fine particle ubiquitous composite was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of the curable composition was changed to the following.
Particles: 14.4 parts by weight of silica fine particle dispersion A (40 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, manufactured by Nissan Chemical Industries, average particle diameter 100 nm).
Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt%, containing methyl ethyl ketone (MEK), Shin-Nakamura Chemical) 45.4 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 15.5 parts by weight
Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF) 2.6 parts by weight Solvent: MEK 22.1 parts by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles would be 10 parts by weight.
[比較例2]
塗液の混合比を以下のものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして微粒子遍在複合体を作製した。
・粒子:シリカ微粒子分散液A(30wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業社製、平均粒子径50nm)69.9重量部。
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P(80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学工業社製) 18.4重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 6.3重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)1重量部
・溶媒:MEK 4.4重量部
粒子の固形分比率が50重量部になるように調製した。
[Comparative example 2]
A fine particle ubiquitous composite was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of the coating liquid was changed to the following.
Particles: 69.9 parts by weight of silica fine particle dispersion A (30 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 50 nm).
Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt%, containing methyl ethyl ketone (MEK), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 18.4 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 6. 3 parts by weight Photoinitiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF) 1 part by weight Solvent: MEK 4.4 parts by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles would be 50 parts by weight.
[比較例3]
塗液の混合比を以下のものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして微粒子遍在複合体を作製した。
・粒子:シリカ微粒子分散液A(30wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業社製、平均粒子径50nm)50.2重量部。
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P(80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学工業社製) 30.9重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 10.6重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)1.8重量部
・溶媒:MEK 6.5重量部
粒子の固形分比率が30重量部になるように調製した。
[Comparative Example 3]
A fine particle ubiquitous composite was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of the coating liquid was changed to the following.
Particles: 50.2 parts by weight of silica fine particle dispersion A (30 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 50 nm).
Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt%, containing methyl ethyl ketone (MEK), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30.9 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 10. 6 parts by weight Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF) 1.8 parts by weight Solvent: MEK 6.5 parts by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles was 30 parts by weight.
[比較例4]
塗液の混合比を以下のものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして微粒子遍在複合体を作製した。
・粒子:シリカ微粒子分散液A(30wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業社製、平均粒子径50nm)19.1重量部。
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P(80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学工業社製) 45.4重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 15.5重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)2.6重量部
・溶媒:MEK 17.4重量部
粒子の固形分比率が10重量部になるように調製した。
[Comparative Example 4]
A fine particle ubiquitous composite was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of the coating liquid was changed to the following.
Particles: 19.1 parts by weight of silica fine particle dispersion A (30 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 50 nm).
Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt%, containing methyl ethyl ketone (MEK), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 45.4 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 15. 5 parts by weight Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF) 2.6 parts by weight Solvent: MEK 17.4 parts by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles would be 10 parts by weight.
[比較例5]
塗液の混合比を以下のものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして微粒子遍在複合体を作製した。
・粒子:シリカ微粒子分散液A(40wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業社製、平均粒子径15nm) 62.2重量部。
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P (80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学工業社製) 21.9重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 7.5重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)1.2重量部
・溶媒:MEK 7.2重量部
粒子の固形分比率が50重量部になるように調製した。
[Comparative Example 5]
A fine particle ubiquitous composite was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of the coating liquid was changed to the following.
Particles: Silica fine particle dispersion A (40 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 15 nm) 62.2 parts by weight.
Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt%, containing methyl ethyl ketone (MEK), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 21.9 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 7. 5 parts by weight Photoinitiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF) 1.2 parts by weight Solvent: MEK 7.2 parts by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles would be 50 parts by weight.
[比較例6]
塗液の混合比を以下のものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして微粒子遍在複合体を作製した。
・粒子:シリカ微粒子分散液A(40wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業社製、平均粒子径15nm) 42.8重量部。
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P(80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学工業社製) 35.1重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 12重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)2重量部
・溶媒:MEK 8.1重量部
粒子の固形分比率が30重量部になるように調製した。
[Comparative Example 6]
A fine particle ubiquitous composite was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of the coating liquid was changed to the following.
Particles: 42.8 parts by weight of silica fine particle dispersion A (40 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 15 nm).
Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt%, containing methyl ethyl ketone (MEK), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 35.1 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 12 parts by weight Parts-Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF) 2 parts by weight-Solvent: MEK 8.1 parts by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles was 30 parts by weight.
[比較例7]
塗液の混合比を以下のものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして微粒子遍在複合体を作製した。
・粒子:シリカ微粒子分散液A(40wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業社製、平均粒子径15nm) 14.4重量部。
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P(80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学工業社製) 45.4重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 15.5重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)2.6重量部
・溶媒:MEK 22.1重量部
粒子の固形分比率が10重量部になるように調製した。
[Comparative Example 7]
A fine particle ubiquitous composite was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of the coating liquid was changed to the following.
Particles: Silica fine particle dispersion A (40 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 15 nm) 14.4 parts by weight.
Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt%, containing methyl ethyl ketone (MEK), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 45.4 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 15. 5 parts by weight-Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF) 2.6 parts by weight-Solvent: MEK 22.1 parts by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles would be 10 parts by weight.
[比較例8]
塗液の混合比を以下のものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして微粒子遍在複合体を作製した。
・粒子:シリカ微粒子分散液A(40wt%、メチルエチルケトン(MEK)分散、日産化学工業社製、平均粒子径100nm) 75.5重量部。
・バインダーマトリックス(電離放射線硬化型材料):UA−32P (80wt%、メチルエチルケトン(MEK)含有、新中村化学工業社製) 16.9重量部、UV−7000B(日本合成化学工業社製) 6.1重量部
・光重合開始剤:Irgacure184(BASF社製)1重量部
・溶媒:MEK 0.5重量部
粒子の固形分比率が60重量部になるように調製した。
[Comparative Example 8]
A fine particle ubiquitous composite was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of the coating liquid was changed to the following.
Particles: 75.5 parts by weight of silica fine particle dispersion A (40 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) dispersion, Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle diameter 100 nm).
Binder matrix (ionizing radiation curable material): UA-32P (80 wt%, containing methyl ethyl ketone (MEK), manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 16.9 parts by weight, UV-7000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 6. 1 part by weight/photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by BASF) 1 part by weight/solvent: MEK 0.5 part by weight It was prepared so that the solid content ratio of the particles would be 60 parts by weight.
[評価方法]
微粒子の偏在状態を電子線顕微鏡にて観察した。以下、観察手法に関して説明する。実施例1〜2および比較例1〜8の微粒子偏在複合体を紫外線硬化性樹脂のペレットで挟み、固定化した後、ミクロトームを用いてガラスカッター及びダイヤモンドカッターにてペレットの断面を掘削し、平坦な断面を形成した。成形した微粒子偏在複合体の断面にスパッタにてPt(白金)薄膜を成膜することで導電性を付与し、その断面を電子線顕微鏡にて観察した。
[Evaluation method]
The uneven distribution of fine particles was observed with an electron microscope. The observation method will be described below. After sandwiching the unevenly distributed fine particle composites of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 8 with pellets of an ultraviolet curable resin and immobilizing them, the cross section of the pellets was excavated with a glass cutter and a diamond cutter using a microtome and flattened. The cross section was formed. Conductivity was imparted by forming a Pt (platinum) thin film on the cross section of the molded fine particle unevenly distributed composite by sputtering, and the cross section was observed with an electron microscope.
実施例1で得られた微粒子偏在複合体の電子線顕微鏡断面観察像を図2に示す。図2より、実施例1で得られた微粒子偏在複合体は、表面に微粒子が偏在した微粒子偏在層が形成されており、さらに微粒子が分散された微粒子分散層が、微粒子を含まない樹脂単独層を挟んで表面の微粒子偏在層と反対側に内部に形成された3層構造を有していることが分かる。 An electron beam microscope cross-sectional observation image of the fine particle unevenly distributed composite obtained in Example 1 is shown in FIG. From FIG. 2, the fine particle unevenly distributed composite obtained in Example 1 has a fine particle unevenly distributed layer in which fine particles are unevenly distributed on the surface, and the fine particle dispersed layer in which fine particles are dispersed is a resin-only layer containing no fine particles. It can be seen that it has a three-layer structure internally formed on the opposite side of the surface with the uneven distribution layer of fine particles.
図3には実施例1〜2、比較例1〜7で得られた微粒子偏在複合体の電子線顕微鏡断面観察像を示した。平均粒子径が100nmのシリカ微粒子では、添加率が30重量%、50重量%において、微粒子の偏在構造が観察されたのに対し、10重量%では、微粒子の分散もまばらとなり、はっきりとした偏在構造を確認できなかった。 FIG. 3 shows an electron microscopic cross-sectional observation image of the fine particle unevenly distributed composites obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 7. In the silica fine particles having an average particle diameter of 100 nm, the uneven distribution structure of the fine particles was observed at the addition rates of 30% by weight and 50% by weight, while at 10% by weight, the dispersion of the fine particles was sparse and the uneven distribution was clear. The structure could not be confirmed.
また、平均粒子径が15nmのシリカ微粒子では、フィルム表面に偏在したシリカ粒子は観察されたものの、樹脂単独層は観察されず、はっきりとした偏在構造を確認できなかった。 Further, in the silica fine particles having an average particle diameter of 15 nm, although silica particles unevenly distributed on the film surface were observed, no single resin layer was observed and a clear uneven distribution structure could not be confirmed.
一方、比較例8に記載のシリカ微粒子を60重量%添加したサンプルでは、基材からフィルムを剥離すると非常に脆く、フィルムが破損し、自立フィルムを得ることはできなかった。 On the other hand, in the sample to which 60% by weight of silica fine particles described in Comparative Example 8 was added, when the film was peeled from the base material, it was very fragile and the film was damaged, so that a self-supporting film could not be obtained.
本発明は、光学的、生物学的、熱的特性を発現する機能性フィルム材料に利用可能である。 INDUSTRIAL APPLICATION This invention can be utilized for the functional film material which expresses an optical, biological, and thermal characteristic.
1 微粒子偏在複合体
3 微粒子
5 樹脂
7 微粒子偏在層
9 樹脂単独層
11 微粒子分散層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Fine particle unevenly distributed complex 3 Fine particles 5 Resin 7 Fine particle unevenly distributed layer 9 Resin single layer 11 Fine particle dispersed layer
Claims (2)
前記微粒子偏在複合体の一方の表面側に前記シリカ微粒子が偏在する部分を有し、前記微粒子偏在複合体の他方の表面側に前記シリカ微粒子が分散した部分を有し、前記シリカ微粒子が偏在する部分と前記シリカ微粒子が分散した部分との間に前記シリカ微粒子を含まない部分を有し、
前記シリカ微粒子が偏在する部分と、前記シリカ微粒子を含まない部分と、前記シリカ微粒子が分散した部分とに前記ウレタンアクリレートが硬化してなる樹脂が分布しており、
前記シリカ微粒子の平均粒子径が100nm以上500nm以下であり、
前記シリカ微粒子の添加率が、前記シリカ微粒子及び前記ウレタンアクリレートの合計の30重量%以上50重量以下であることを特徴とする、微粒子偏在複合体。 A fine particle unevenly distributed composite comprising a cured film of a coating liquid containing silica fine particles and urethane acrylate ,
The fine particle unevenly distributed composite has a portion where the silica fine particles are unevenly distributed on one surface side, and the fine particle unevenly distributed composite has a portion where the silica fine particles are dispersed, and the silica fine particles are unevenly distributed. Between the portion and the portion in which the silica fine particles are dispersed, having a portion not containing the silica fine particles,
A resin formed by curing the urethane acrylate is distributed in a portion in which the silica fine particles are unevenly distributed, a portion not containing the silica fine particles, and a portion in which the silica fine particles are dispersed,
The average particle size of the silica fine particles is 100 nm or more and 500 nm or less,
The addition rate of the fine silica particles, wherein the silica fine particles and 50 wt less der Rukoto 30 wt% or more of the total of the urethane acrylate, fine uneven distribution complex.
シリカ微粒子とウレタンアクリレートとを含有する微粒子含有塗液を調製する塗液調整工程と、
前記塗液を支持体上に塗布する塗布工程と、
前記支持体上に塗布した前記塗液を熱処理して膜を形成する熱処理工程と、
前記膜に電離放射線を照射して硬化させて、前記支持体に支持された微粒子偏在複合体を形成する電離放射線照射工程と、
前記微粒子偏在複合体を支持体から剥離する剥離工程とを備え、
前記シリカ微粒子の平均粒子径が100nm以上500nm以下であり、
前記シリカ微粒子の添加率が、前記シリカ微粒子及び前記ウレタンアクリレートの合計の30重量%以上50重量以下であることを特徴とする、微粒子偏在複合体の製造方法。 There is a portion where the silica fine particles are unevenly distributed on one surface side, and a portion where the silica fine particles are dispersed on the other surface side, and between the unevenly distributed portion and the silica fine particle dispersed portion. A method for producing a fine particle unevenly distributed composite having a portion not containing the silica fine particles ,
A coating liquid adjusting step of preparing a fine particle-containing coating liquid containing silica fine particles and urethane acrylate ,
A coating step of coating the coating liquid on a support,
A heat treatment step of forming a film by heat treating the coating liquid applied on the support;
Irradiating the film with ionizing radiation to cure it, and an ionizing radiation irradiating step of forming a fine particle unevenly distributed composite supported by the support,
And a peeling step of peeling the fine particle unevenly distributed composite from a support ,
The average particle size of the silica fine particles is 100 nm or more and 500 nm or less,
The addition rate of the silica fine particles, and the silica fine particles and wherein 50 weight below der Rukoto 30 wt% or more of the total of the urethane acrylate, a manufacturing method of the fine uneven distribution complex.
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