JP6728131B2

JP6728131B2 - 光学素子の傾斜

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Publication number: JP6728131B2
Application number: JP2017506414A
Authority: JP
Inventors: ピニーニ−ミットラーボアズ
Original assignee: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
Priority date: 2014-08-05
Filing date: 2015-07-28
Publication date: 2020-07-22
Anticipated expiration: 2035-07-28
Also published as: DE102014215452A1; US20170131518A1; US20190243089A1; JP7015343B2; US10215953B2; US10495845B2; CN106662726A; WO2016020226A1; CN106662726B; JP2020170192A; JP2017524160A

Description

本発明は、光学ユニット及び光学素子を支持する方法に関する。本発明は、任意所望の光学装置又は光学結像法と共に適用することができる。特に、本発明は、超小型電子回路の製造又はマイクロリソグラフィシステムの測定システムの製造で用いられるマイクロリソグラフィに関連して用いることができる。

［関連出願の相互参照］
本願は、特に米国特許法第１１９条の下で、２０１４年８月５日付けで出願された独国特許出願第１０２０１４２１５４５２．９号の優先権を主張する。この独国特許出願の開示を本願に明示的に援用する。

特にマイクロリソグラフィの分野において、最大限の精度で構成されたコンポーネントの使用のほかに、要件の中には、結像装置の光学モジュール、すなわちレンズ、ミラー、又は回折格子等の光学素子を有するモジュールの、また用いられるマスク及び基板の位置及び幾何学的形状を、動作中に所定の設定値に従って、できる限り正確に設定すること、又はそれに対応して高い結像品質を達成するためにかかるコンポーネントを所定の位置又は幾何学的形状で安定化することがある。

マイクロリソグラフィの分野では、精度要件は、約数ナノメートル以下の微視的領域にある。これらの要件は、この場合は特に、製造する超小型電子回路の小型化を進めるために超小型電子回路の製造で用いられる光学系の分解能を高めることが常に要求される結果として生じる。

高い分解能と、概してそれに伴う使用光の短波長化とにより、使用コンポーネントの位置及び向きの精度の要件は当然増加する。特にＵＶ領域での（例えば１９３ｎｍの領域の）、特に５ｎｍ〜２０ｎｍの（通常は１３ｎｍの領域の）動作波長のいわゆる極ＵＶ領域（ＥＵＶ）での、マイクロリソグラフィで用いられる短い動作波長では、これは当然ながら、関与するコンポーネントの位置決め及び／又は向きの精度に関する高い要件を維持するために費やさなければならない労力に影響を及ぼす。

特に上記ＥＵＶシステムに関連して、結像に用いる光の強度分布に正確に影響を及ぼすことが重要性を増している。この目的で、概していわゆるファセットミラーが用いられ、ファセットミラーでは、所定の基準に対しての光学有効面の位置及び／又は向きが正確に規定された複数の非常に小さなファセット素子が、できる限り密集した格子状に配置される。この点で、（例えば照明設定の変更のために）ファセット素子の配列を変えること、したがってその結果としてそれらの光学面を傾斜させることが望ましいか又は必要とされることが多い。

それぞれの開示を参照により本明細書に援用する特許文献１（Holderer他）及び特許文献２（Dinger）から、ＥＵＶシステムのファセットミラーのファセット素子の規定の位置決め及び向きに関連して、これらのファセット素子を個別に調整することが知られている。この目的で、割り当てられたアクチュエータユニットがファセット素子に加えた対応する傾斜モーメントにより、支持構造が定めた傾斜軸に関してファセット素子を傾斜させる。

特許文献１から知られている回転対称ファセット素子のいくつかの場合、傾斜軸は、光学面の主延在平面内にあり、アクチュエータユニットが加える傾斜モーメントが光学面の主延在平面と平行に働くので、ファセット素子がファセット素子用に設けられた設置空間から横方向に変位することなく光学面のみが傾斜する。

傾斜時の横変位がないことにより、既知のファセット素子を原理上は特に相互の近くに位置決めすることができ、したがってファセット素子間に大きなギャップを必要としない。しかしながら、ここで問題なのは、回転対称の設計自体によって、表面積の利用率が比較的低くなってしまうか、又はファセット素子間のギャップを比較的大きくなってしまい、これにより光の損失が比較的大きくなり得ることである。

ファセット素子間のギャップに起因した、又は特定の照明設定の結果としてのこのような光の損失を回避するために、原理上は特定の配列または特定の切り換え状態でほぼ隙間なく相互に当接する、多くの場合は細長い非回転対称ファセット素子が用いられる。このような構成は、例えば特許文献２から既知であり、これは、ファセット素子の支持構造の平面と平行に延びる２つの直交傾斜軸を有するファセット素子用のカルダン支持体を記載している。

このような細長い非回転対称ファセット素子のための同様の支持体が、特許文献３（Latzel他）からも既知であり、その開示を参照により本明細書に援用する。ここでは、支持構造上の各ファセット素子の支持が、三桿支持体により玉継手状に実現され、ファセット素子の光学面は支持構造の平面と平行に延びる。玉継手状の支持体は、この場合、各ファセット素子に関して無限数の傾斜軸を規定するので、実際の傾斜軸が作動機構により予め規定されなければならない。ここでも、作動機構はファセット素子の支持構造の平面と平行に作用するので、ファセット素子に加わる傾斜モーメントは光学面内にある。したがって、ここでも、作動機構は、結果としてファセット素子の支持構造の平面と平行に延びる傾斜軸を提供する。

しかしながら、特定の設定では、ファセット素子の一部（場合によっては全部）の光学面の主延在平面がそれらの支持構造の基本要素の主延在平面に対して傾いて延びる必要がある。特に設置空間に関する既存の制約の結果として、これは多くの場合、作動機構が（その支持構造のベース要素の領域で）もたらした傾斜モーメントが光学面の主延在平面に対して傾いて働くことを意味する。

主延在平面に対する傾斜モーメントのこの傾きには、主延在平面と平行な所望の成分（光学面の傾斜をもたらす）のほかに、傾斜モーメントが主延在平面に対して垂直な寄生成分も有し、これが主延在平面における光学面の望ましくない回転を伴うという欠点がある。特に長く細いファセット素子の場合、主延在平面における光学面のこの回転は、ファセット素子の自由端の多少の横変位につながり、これに対応して（最小限の光の損失の側面から）望ましくない隙間をファセット素子間に設ける必要がある。

独国特許出願公開第１０２０５４２５号明細書独国特許出願公開第１０２００８００９６００号明細書独国特許出願公開第１０２０１２２２３０３４号明細書

したがって、本発明は、上記欠点がないか又は上記欠点が少なくともより少なく、特に、光学面の傾斜の可能性があるにも関わらずファセット素子の表面積の特に高い利用率又は特に高密度の実装を容易に確保する、光学ユニット及び光学素子を支持する方法を提供するという目的に基づく。

本発明は、支持ユニットが、アクチュエータユニットの傾斜モーメントによる光学面の傾斜時に光学面の主延在平面内に実質的にある光学面の傾斜軸を予め規定するよう構成されている場合、傾斜の可能性があるにも関わらず、ファセット素子の表面積の特に高い利用率又は特に高密度の実装を容易に達成できるという概念に基づく。

傾斜モーメントの位置合わせに関して記載した悪条件下でも、（従来の設計の場合に、例えば特許文献３からの設計の場合に必要とされるような）作動機構の細密な変更を行わずに、光学面の主延在平面内に実質的にある光学面の傾斜軸を支持装置の領域において単純で純粋に受動的な措置により予め規定することが可能であり、したがってこうした状況でも光学面の傾斜時に光学素子の一部の横変位を防止することが可能であることが分かっている。したがってそれにより、（例えば照明設定の変更時の）能動的な調整性にも関わらず光をほとんど損失せずに光学素子の特に高密度の実装を実現することも可能である。

したがって、第１態様によれば、本発明は、光学ユニット、特にファセットミラーユニットであって、光学素子及び支持装置を備え、光学素子は、主延在平面及び主延在平面内の主延在方向を規定する光学面、特に細長い光学面を有し、支持装置は、支持ユニット及びアクチュエータユニットを含む光学ユニットに関する。アクチュエータユニットは、主延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメントを光学素子に加えることで光学面を傾斜させるよう構成される。支持ユニットは、アクチュエータユニットの傾斜モーメントによる光学面の傾斜時に光学面の主延在平面内に実質的にある光学面の傾斜軸を予め規定するよう構成される。

傾斜軸は、原理上は主延在平面内でほぼ任意所望の方法で方向付けることができる。しかしながら、光学面の傾斜軸が主延在方向と実質的に平行に、特に実質的に同一直線上に延びるように支持要素が設計されれば、光学素子の特に高密度の実装又は密接した配置が可能である。

本発明は、原理上、主延長平面に対する傾斜モーメントの任意所望の傾きを有する任意所望の配置構成の場合に用いることができる。傾斜モーメントが光学面の主延在平面及び／又は主延在方向に対して１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°傾いている場合、特に好ましい結果を得ることができる。こうした場合、主延在平面に対して傾いた傾斜モーメント又は（寄生的な横回転運動をもたらす）主延在平面に対して垂直なその寄生成分を、特に単純な受動的手段により効果的に補償することができる。

傾斜軸は、原理上は光学面から特定の距離に延び得る。しかしながら、光学面の傾斜軸が光学面上の少なくとも１つの傾斜軸点に実質的にある場合、特に好ましい運動学的条件を得ることができる。この点で、光学面の傾斜軸が傾斜軸点に規定された光学面の接平面にあれば特に好ましい。

原理上、能動又は半能動コンポーネントを用いて、主延在平面に対して垂直な傾斜モーメントの寄生成分を補償することができる。本発明の特に有利な変形形態の場合、支持ユニットは、受動要素により傾斜軸を規定する受動装置として設計される。

支持ユニットは、原理上は光学素子を支持するよう任意所望の適当な方法で設計することができる。支持ユニットは、少なくとも２つの支持要素、特に少なくとも３つの支持要素とベース要素とを備え、光学素子の重量の少なくとも大部分が、少なくとも１つの動作状態で支持要素によりベース要素に導入され、光学素子の重量の特に少なくとも８０％、好ましくは少なくとも９０％、より好ましくは９５％〜１００％がベース要素に導入されることが好ましい。これにより、傾斜モーメントの寄生成分の受動的補償の容易な組込みも可能にする特に単純な構成の設計を達成することが可能となる。

特に単純な設計の本発明の変形形態の場合、支持ユニットは、傾斜軸を規定する少なくとも２つの少なくとも部分的に弾性変形可能な支持要素を含む。この点で、例えば、対応する弾性変形可能部分を形成する板ばね状等に設計された要素を用いることが可能である。

さらに、支持ユニットは少なくとも１つの案内ユニットを含み、これは、光学素子に接続され且つ傾斜軸の規定のために光学素子の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限する。

ここで、光学面の主延在平面に対して垂直な回転自由度を制限して、傾斜モーメントの寄生成分の補償を達成することが特に好ましい。したがって、支持ユニットは、光学素子に接続され且つ傾斜軸の規定のために光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの成分を吸収するように設計された、少なくとも１つの案内ユニットを含むことが好ましい。

特に単純な設計の本発明の変形形態の場合、支持ユニットは、傾斜軸を規定する板ばね状に設計された少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素を含む。支持要素のそれぞれが、この場合は板ばね主延在平面を規定し、支持要素は、板ばね主延在平面同士が傾斜軸で交差するよう相互に対して傾いて配置される。傾斜モーメントの寄生成分の所望の向き又はその所望の補償を、それにより特に容易に達成することができる。

支持要素の幾何学的形状は、原理上は傾斜軸を所望の位置で規定するよう任意所望の適当な方法で選択することができる。支持要素の少なくとも１つは、光学素子の重量の荷重のみを受ける状態で実質的に平面状であるよう構成された板ばねとして設計されることが好ましい。これは、特に容易に製造できる堅牢な構成をもたらす。

支持要素の少なくとも１つが、長手方向軸に沿った長さ寸法と、長さ寸法の特に４％未満、好ましくは２％未満、より好ましくは０．２％〜１％である板ばね主延在平面に対して垂直な最大厚さ寸法とを有する薄い板ばねとして設計される場合、動的側面で有利な変形形態が得られる。

板ばね要素は、その板ばね主延在平面同士が傾斜軸で交差する限り、原理上は任意所望の外形輪郭を有することができる。支持要素のそれぞれが板ばね主延在平面を規定し、支持要素の少なくとも１つがその板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭を有し、外形輪郭の少なくとも１対の辺が傾斜軸と実質的に平行に延びる場合、特に容易に製造できる堅牢な構成が得られる。

容易に実現できるという理由で好ましい本発明のさらに他の変形形態の場合、支持ユニットは、傾斜軸を規定する弾性支柱状に設計された少なくとも３つの弾性変形可能な支持要素を含む。この目的で、例えば棒ばね状の単純な設計の弾性支柱を用いることができる。原理上、弾性支柱の配置は、この場合は任意所望の方法で選択することができるが、支持要素が三脚状に配置されることが好ましい。

本発明の好ましい変形形態の場合、支持要素のそれぞれが支柱長手方向軸を規定し、支持要素は、支柱長手方向軸同士が傾斜軸点で交差するように相互に対して傾いて配置される。これが最終的に、玉継手状に設計された光学素子の取り付けの実現を可能にする。これは、対応する案内ユニットにより特に容易に補うことができ、これにより、傾斜軸の所望の向き又は傾斜モーメントの寄生成分の所望の補償を達成できる。

支持要素がそれぞれ支柱長手方向軸を規定し、その支柱長手方向軸に沿って実質的に同じ長さ寸法を有することが好ましい。これにより、特に容易に実現できる設計が得られる。

弾性支柱はさらに、原理上は任意所望の方法で設計することができ、特に任意所望の一部湾曲し且つ／又は一部多角形の形状を有することができる。支持要素の少なくとも１つは、光学素子の重量の荷重のみを受ける状態で実質的に直線状であるよう構成された棒ばねとして設計されることが好ましい。

支持要素の少なくとも１つは、長手方向軸に沿った長さ寸法と、長さ寸法の特に４％未満、好ましくは２％未満、より好ましくは０．３％〜１．８％である長手方向軸に対して垂直な最大横寸法とを有する細い棒ばねとして設計されることが好ましい。これにより、動的側面で特に有利な設計を達成することができる。

傾斜軸の所望の向きは、任意所望の方法で定めることができる。支持ユニットが、ベース要素と傾斜軸の規定のための少なくとも１つの案内要素とを備え、支持要素がベース要素上に支持され、案内ユニットがベース要素と光学素子との間で支持要素と運動学的に平行に配置されることが好ましい。

傾斜モーメントの寄生成分の所望の補償を達成するために、案内ユニットが光学素子の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限することが好ましい。光学面の主延在平面に対して垂直な回転自由度は、当然ながら、ここでは傾斜モーメントの対応する寄生成分を補償するよう制限されることが好ましい。したがって、案内ユニットは、特に光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの成分を吸収するように設計されることが好ましい。

光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの寄生成分を部分的にしか補償しないことも可能である。傾斜モーメントによる光学面の傾斜時に、光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの成分の少なくとも一部、特に少なくとも７５％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは９０％〜１００％を補償する対抗モーメントが光学素子に加わるように、案内ユニットが設計されることが好ましい。

傾斜モーメントの寄生成分の所望の少なくとも部分的な補償が達成される限り、案内ユニットは、原理上は任意所望の方法で設計することができる。本発明の有利な変形形態の場合、案内ユニットは、光学素子及びベース要素に関節式に接続されて傾斜モーメントの寄生成分の少なくとも部分的な補償をもたらす少なくとも１つの案内要素を有する。

特に堅牢であるが単純に設計される本発明の変形形態の場合、案内ユニットは、光学素子及びベース要素に関節式に接続された少なくとも２つの案内要素を有し、案内要素は、特に、主延在平面内にあり主延在方向に対して垂直に延びる光学素子の横方向で、光学素子の両側に配置される。

案内ユニットは、原理上は傾斜モーメントの寄生成分の補償を達成するよう任意所望の方法で設計することができる。したがって、１つ又は複数の単純な棒要素等を用いて、所望の対抗モーメントを光学素子に導入することができる。単純で堅牢な変形形態の場合、案内ユニットは、板ばね状に設計された少なくとも１つの案内要素を有する。

光学素子とベース要素との間の接続は、原理上は傾斜モーメントの寄生成分の補償を達成するよう任意所望の方法で設計することができる。少なくとも１つの案内要素が、光学素子上の第１関節点及びベース要素上の第２関節点を規定し、第１関節点と第２関節点との間の接続線が、主延在平面に対して垂直且つ傾斜モーメントと平行に延びる平面内で、特に１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°の第１傾斜角だけ傾斜モーメントに対して傾いて延びることが好ましい。付加的又は代替的に、第１関節点と第２関節点との間の接続線は、主延在平面に対して垂直且つ傾斜モーメントと平行に延びる平面内で、特に−１０°〜１０°、好ましくは−５°〜５°、より好ましくは０°〜２°の第２傾斜角だけ主延在平面に対して傾いて延びることができる。これにより、傾斜モーメントの寄生成分の少なくとも部分的な補償をいずれの場合も特に容易に達成することができる。この場合の接続線は、主延在平面と同じ回転方向で傾斜モーメントに対して傾斜させることが好ましい。

傾斜モーメントの寄生成分の容易で効果的な補償を伴う特に好ましい設計の変形形態の場合、支持要素が特に主延在平面内にある回転点を規定する一方で、第１関節点は、特に光学素子の横方向で、回転点から回転点距離だけ離れている。第１関節点と第２関節点との間の関節点距離及び／又は第１回転点距離及び／又は第１傾斜角及び／又は第２傾斜角は、このとき、アクチュエータユニットの傾斜モーメントによる光学素子の傾斜時に、光学面の主延在平面内に実質的にある傾斜角が光学面に関して予め規定されるように選択される。

言うまでもなく、達成すべき結像の要件に応じて、又は達成すべき設定の数及び／又はタイプに応じて、上述した傾斜軸は、光学面に関して予め規定された唯一の傾斜軸であり得る。したがって、傾斜モーメントは、動作中に予め規定されるか又は発生する唯一の傾斜モーメントであり得る。

しかしながら、本発明の好ましい変形形態の場合、複数の傾斜軸周りで光学素子の複数の傾斜運動がもたらされる。したがって、こうした場合、上述した傾斜軸は光学面の第１傾斜軸であり、関連する傾斜モーメントは第１傾斜モーメントである。こうした場合、支持ユニットは、第１傾斜モーメントに対して横方向に、特に垂直に働く第２傾斜モーメントの影響下で、第１傾斜軸に対して横方向に、特に垂直に延びる光学面の第２傾斜軸を規定する目的で構成される。第２傾斜軸が、この場合も光学面の主延在平面内に実質的にあることが好ましい。

原理上、上述した（第１）傾斜軸と同じ措置を第２傾斜軸又はその規定に用いることができる。したがって、これにも関連して、支持ユニットが受動要素により第２傾斜軸を規定する受動装置として設計されることが好ましい。支持ユニットはさらに、少なくとも１つの案内ユニットを含み、これは、光学素子に接続され且つ第２傾斜軸の規定のために光学素子の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限する。

支持ユニットは、第２傾斜軸を規定する少なくとも２つの少なくとも部分的に弾性変形可能な支持要素を含み、これらはさらに、板ばね状に設計された支持要素であることが好ましい。特に、支持ユニットは、第２傾斜軸を規定する板ばね状に、特に薄い板ばねとして設計された少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素を含み得る。ここで、支持要素のそれぞれが板ばね主延在平面を規定し、支持要素が、板ばね主延在平面同士が第２傾斜軸で交差するように相互に対して傾いて配置されるものとすることができる。さらに、支持要素の少なくとも１つがその板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭を有し、外形輪郭の少なくとも１対の辺が第２傾斜軸と実質的に平行に延びるものとすることができる。

本発明は、原理上、光学面の傾斜時に作動機構の傾斜モーメントが光学面の主延在平面で光学素子の望ましくない横回転をもたらす寄生成分を発生させる全ての構成に用いることができる。

利点が特によく現れるのは、細い又は細長い光学素子に関連する場合だが、その理由は、（このような場合に見られる）光学素子の自由端から傾斜軸までの大きな距離に起因して、このような寄生的な横回転がこれらの自由端での比較的大きな寄生的撓みにつながるからである。通常であれば、これらの寄生的撓みのために光学素子間に対応する隙間を設ける必要があるが、それに対応して光の大きな損失を伴う。

したがって、本発明の使用の特に有利な変形形態の場合、光学面は、主延在方向に細長く且つ／又は主延在方向に対して横方向に細くなるように設計される。特に好ましい配置構成が得られるのは、光学面が主延在方向の第１最大寸法と、第１最大寸法の１０％未満、好ましくは５％未満、より好ましくは０．２％〜２％、より好ましくは０．５％〜１％である主延在方向に対して垂直な第２最大寸法とを有する場合である。

アクチュエータユニットは、原理上は任意の適当な所望の方法で設計することができ、関係する傾斜モーメントを発生させる任意所望の適当なアクチュエータを場合によっては含むことができる。特に単純に設計されるという理由で好ましい変形形態の場合、アクチュエータユニットは、一動作状態において、主延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメントを光学素子に専ら加えるよう構成される。付加的又は代替的に、アクチュエータユニットは、一動作状態において、主延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメントに対して横方向に、特に垂直に働く傾斜モーメントを光学素子に専ら加えるよう構成することができる。

本発明は、本発明による少なくとも１つの光学ユニットを有する光学モジュール、特にファセットミラーにも関する。これにより、本発明による光学ユニットに関連して上述した変形形態及び利点を同程度に実現することが可能となるので、この点で上記説明を参照されたい。

本発明による光学モジュールの場合、光学ユニットは、原理上は適当な方法で相互に接続された別個のユニットとして設計することができる。しかしながら、好ましい変形形態の場合、複数の光学ユニットを共有するコンポーネントが設けられる。したがって、複数の光学ユニットの支持ユニットが共通のベース要素を有するものとすることができる。

原理上、任意所望の（反射及び／又は屈折及び／又は回折）光学素子が光学素子として考慮される。光学素子が、０．１ｍｍ^２〜２００ｍｍ^２、好ましくは０．５ｍｍ^２〜１００ｍｍ^２、より好ましくは１．０ｍｍ^２〜５０ｍｍ^２の表面積を特に有する光学有効面を有するファセット素子であることが好ましい。

光学モジュールは、原理上は任意所望の数の光学素子を備えることができる。１００個〜１０００００個、好ましくは１００個〜１００００個、より好ましくは１０００個〜１００００個のファセット素子が設けられることが好ましい。本発明のさらに他の変形形態の場合、５０個〜１００００個、好ましくは１００個〜７５００個、より好ましくは５００個〜５０００個のファセット素子を設けることができる。

本発明は、特にマイクロリソグラフィ用の光学結像装置であって、第１光学素子群を有する照明装置（１０２）と、物体を収容する物体装置と、第２光学素子群を有する投影装置と、像装置とを備え、照明装置は物体を照明するよう構成され、投影装置は物体の像を像装置に投影するよう構成される光学結像装置にも関する。照明装置及び／又は投影装置は、本発明による光学モジュール又は本発明による少なくとも１つの光学ユニットをそれぞれ備える。これにより、本発明による光学ユニットに関連して上述した変形形態及び利点を同程度に実現することが可能となるので、この点で上記説明を参照されたい。

さらに別の態様によれば、本発明は、光学素子、特にファセットミラーのファセット素子を支持装置により支持する方法であって、光学素子は、主延在平面及び主延在平面内の主延在方向を規定する光学面、特に細長い光学面を有する方法に関する。この方法では、傾斜モーメントが光学素子に加わることで、光学素子は傾斜している。傾斜モーメントは、この場合は主延在平面に対して傾いて働き、支持ユニットが、傾斜モーメントによる光学面の傾斜時に光学面の主延在平面内に実質的にある光学面の傾斜軸を予め規定する。これによっても、本発明による光学ユニットに関連して上述した変形形態及び利点を同程度に実現することが可能となるので、この点で上記説明を参照されたい。

支持ユニットが、主延在方向と実質的に平行に、特に実質的に同一直線上に延びる光学面の傾斜軸を予め規定することが好ましい。傾斜軸の規定のために、光学素子の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限することも好ましい。

傾斜軸の規定のために、光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの成分が、支持ユニットの少なくとも１つの案内ユニットにより吸収されることが好ましい。有利な変形形態の場合、案内ユニットは、光学面の傾斜時に、光学面の主延在平面に対して垂直に作用する傾斜モーメントの成分の少なくとも一部、特に少なくとも７５％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは９０％〜１００％を補償する対抗モーメントを光学素子に加える。

好ましくは、ここでも、傾斜軸は光学面の第１傾斜軸であり、傾斜モーメントは第１傾斜モーメントであり、支持ユニットはこのとき、第１傾斜モーメントに対して横方向に、特に垂直に働く第２傾斜モーメントの影響下で、第１傾斜軸に対して横方向に、特に垂直に延びる光学面の第２傾斜軸を規定する。ここでも、第２傾斜軸が光学面の主延在平面内に実質的にあることが好ましい。この場合も、一動作状態において、主延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメントのみが光学素子に加わることが好ましい。付加的又は代替的に、一動作状態において、主延在平面に対して傾いて働く傾斜モーメントに対して横方向に、特に垂直に作用する傾斜モーメントのみを、光学素子に加えることができる。

最後に、本発明は、特にマイクロリソグラフィ用の光学結像法であって、第１光学素子群を有する照明装置により物体を照明し、第２光学素子群を有する投影装置により物体の像を像装置上に生成し、本発明による方法を照明装置及び／又は投影装置の光学素子の支持に用いる光学結像法に関する。これによっても、本発明による光学ユニットに関連して上述した変形形態及び利点を同程度に実現することが可能となるので、この点で上記説明を参照されたい。

本発明のさらに他の好ましい実施形態は、従属請求項と、添付図面を参照する以下の好ましい例示的な実施形態の説明とから明らかとなる。ここで、特許請求の範囲での言及に関係なく、開示された特徴のいかなる組み合わせも本発明の主題の一部である。

本発明による方法の好ましい実施形態を光学素子の支持に用いる、本発明による光学ユニットの好ましい実施形態を有する本発明による光学モジュールの好ましい実施形態を備えた、本発明による光学結像装置の好ましい実施形態の概略図である。図１からの本発明による光学モジュールの概略斜視図である。図２からの本発明による光学ユニットの概略斜視図である。（図３からの線ＩＶ−ＩＶに沿った）図３からの光学ユニットの一部の概略断面図である。本発明による光学ユニットのさらに別の好ましい変形形態の概略斜視図である。図５からの光学ユニットの概略側面図である。図５からの光学ユニットの概略平面図である。本発明による光学ユニットのさらに別の好ましい変形形態の概略側面図である。図８からの光学ユニットの概略平面図である。

第１実施形態
本発明による光学結像装置１０１の第１実施形態を、図１〜図４を参照して以下で説明する。以下の説明の理解を容易にするために、ｚ方向が重力の方向と一致する直交ｘｙｚ座標系を添付図面に導入した。しかしながら、言うまでもなく、このｘｙｚ座標系又は空間内の光学結像装置のコンポーネントの任意所望の他の配置も、本発明の他の変形形態で選択することができる。

図１は、超小型電子回路の製造に用いられるマイクロリソグラフィ装置１０１の形態の光学結像装置の、一定の縮尺でない概略図である。結像装置１０１は、照明装置１０２及び光学投影装置１０３を備え、光学投影装置１０３は、結像過程でマスク装置１０４のマスク４．１に形成された投影パターンの像を基板装置１０５の基板１０５．１に投影するよう構成される。この目的で、照明装置１０２は、マスク１０４．１を照明光ビーム（これ以上具体的には図示せず）で照明する。投影装置１０３は、続いてマスク１０４．１からの投影光（図１に線１０１．１で示す）を受け取り、マスク１０４．１の投影パターンの像を基板１０５．１に、例えばいわゆるウェーハ等に投影する。

照明装置１０２は、特に本発明による光学モジュール１０６．１を含む光学素子系１０６（図１には非常に概略的な形態でしか示さない）を備える。以下でより詳細に説明するように、光学モジュール１０６．１はファセットミラーとして設計される。光学投影装置１０３は、複数の光学モジュール１０７．１を含むさらに別の光学素子系１０７を備える。光学系１０６及び１０７の光学モジュールは、この場合は結像装置１０１の折り返し光軸１０１．１に沿って配置される。

図示の例では、結像装置１０１は、５ｎｍ〜２０ｎｍの波長、より具体的には約１３ｎｍの波長のＥＵＶ領域の光で作動する。結果として、照明装置１０２及び投影装置１０３の光学素子は、専ら反射光学素子として設計される。しかしながら、言うまでもなく、異なる波長で作動する本発明の他の変形形態で、任意所望のタイプの光学素子（例えば、屈折、反射、又は回折光学素子）を個別に又は任意所望の組み合わせで用いることもできる。さらに、投影装置１０３は、本発明によるさらに別の光学モジュールを、例えばさらに別のファセットミラーの形態で含むこともできる。

特に図２〜図５から分かるように、ファセットミラー１０６．１は、ベース構造１０８の形態の支持構造を含み、ベース構造１０８はファセット素子１０９の形態の複数の光学素子を支持し、ファセット素子１０９は、それぞれが本発明による光学ユニット１１０（図３及び図４には単一の光学素子１１０のみを示す）の構成部品である。以下でより詳細に説明するように、各光学ユニット１１０は、ファセット素子１０９が照明設定の変更のために能動的に調整可能であるよう設計される。

さらに、本例では、ファセット素子１０９は、ファセット素子群１０６．２に分割され、各ファセット素子群１０６．２のファセット素子１０９の光学面１０９．１は、全てが支持構造１０８の主延在平面（ｘｙ平面）に対して比較的粗く位置合わせされている。図２から分かるように、ファセット素子群１０６．２は、この粗い位置合わせに関してそれぞれが異なる。

図２には、全体的な明確化のために、ファセット素子群１０６．２のファセット素子１０９を１１個だけ明示的に示してある。しかしながら、言うまでもなく、ファセットミラー１０６．１は、実際にははるかに多くのファセット素子１０９を含むこともできる。同じく言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合、任意所望の数の（任意所望の）光学素子を対応する支持構造上で支持することができる。

ファセット装置の場合、できる限り多くのファセット素子１０９を設けてできる限り広範な光の均質化を達成することが好ましいことに留意されたい。特にＥＵＶ領域でのリソグラフィで用いられるファセット装置の場合、１００〜１０００００個、好ましくは１００個〜１００００個、より好ましくは１０００個〜１００００個のファット素子が設けられることが好ましい。しかしながら、特に検査目的での、例えばマスク検査での使用の場合、用いられるファセット素子がより少なくてもよい。このような装置では、５０個〜１０００００個、好ましくは１００個〜７５００個、より好ましくは５００個〜５０００個のファセット素子が設けられることが好ましい。

図示の例では、最小限の放射パワー損失を達成するために、ファセット素子１０９は、最大幅が約０．２００ｍｍ〜０．３００ｍｍ（すなわち約２００μｍ〜３００μｍ）の狭いギャップＧが間に残るように各ファセット素子群１０６．２に配置される。しかしながら、言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合、結像装置の光学的要件に応じて、支持構造により支持された光学素子の任意所望の他の配置を実現することもできる。

特に、それらの設計に応じて、特に光学有効面１０９．１の設計タイプに応じて、ファセット素子１０９同士をより接近して設定することもできる。したがって、ファセット素子１０９間の最大ギャップＧは、結果として０．２ｍｍ未満でもあり得る。

特に図２、図３、及び図４から分かるように、ファセット素子１０９は、反射面、したがって光学有効面１０９．１（以下では光学面１０９．１とも称する）を有する。反射面１０９．１は、ファセット素子１０９のファセット本体１０９．２のうちベース構造１０８に面しておらず照明光ビームに面した前側に形成される。

ファセット素子１０９の光学有効面１０９．１の表面積は、好ましくは０．１ｍｍ^２〜２００ｍｍ^２、好ましくは０．５ｍｍ^２〜１００ｍｍ^２、より好ましくは１．０ｍｍ^２〜５０ｍｍ^２である。本例では、光学有効面１０９．１の表面積は約７０ｍｍ^２である。

図示の例では、光学有効面１０９．１は、実質的に平面状であるようにも構成される。この場合、光学面１０９．１は、細長く略弓形の外形輪郭を有する。本例では、光学面１０９．１は、主延在方向ＤＭＥに第１最大寸法を有する一方で、主延在方向ＤＭＥに対して垂直な方向に、本例では第１最大寸法の約６％である第２最大寸法を有する。しかしながら、言うまでもなく、他の変形形態の場合には異なる比を選択することもできる。第２最大寸法が第１最大寸法の１０％未満、好ましくは５％未満、より好ましくは０．２％〜２％、より好ましくは０．５％〜１％である場合、特に好ましい配置構成が得られる。

光学面１０９．１の外形輪郭は、主延在方向ＤＭＥ及び主延在平面ＰＭＥも画定し、主延在平面ＰＭＥは、本例ではいずれの場合もベース構造１０８の主延在平面１０８．１に対して傾いて延びる（本例での傾斜角は約１２°である）。主延在方向ＤＭＥは、この場合、主延在平面ＰＭＥにおいて光学面１０９．１が最大寸法を有する方向を示す。しかしながら、言うまでもなく、他の変形形態の場合には任意所望の他の、少なくとも部分的に多角形の且つ／又は少なくとも部分的に湾曲した外形輪郭を設けることができる。

図３及び図４から分かるように、ファセット素子１０９のほかに、光学ユニット１１０は支持装置１１１を備え、支持装置１１１によりファセット素子１０９がベース構造１０８上で支持される。支持装置１１１は、この場合、ベース構造１０８上に取り付けられてファセット素子１０９の全重量をベース構造１０８に導入する受動支持ユニット１１２を含み、ファセット素子１０９及び結果として光学面１０９．１を傾斜させるよう構成されたアクチュエータユニット１１３も含む。

この目的で、支持ユニット１１２は、板ばね１１２．１〜１１２．４の形態の一連の支持要素を含み、支持要素はそれぞれが支持ユニット１１２の弾性変形可能部分を形成し、それらの機能方法は以下でより詳細に説明する。これらの支持要素１１２．１〜１１２．４により、ファセット本体１０９．２はベース構造１０８に接続される。この目的で、ファセット本体１０９．２は、最初に支持ユニット１１２のヘッド要素１１２．５に接続される。ヘッド要素１１２．５と中間要素１１２．６との間に、２つの第１板ばね１１２．１及び１１２．２が（支持方向で）相互に運動学的に平行に配置される。中間要素１１２．６とベース要素１１２．７との間には、２つの第２板ばね１１２．３及び１１２．４が（支持方向で）相互に運動学的に平行に配置される。最後に、ベース要素１１２．７は、任意所望の適当な方法でベース構造１０８に実質的に剛接続される。

本例では、支持ユニット１１２は、適当な材料のモノリシックユニットとして設計される。しかしながら、言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合、支持ユニットの少なくとも一部が適当な方法で相互に接続された別個のコンポーネントからなることもできる、異なる構成タイプを選択することができる。

アクチュエータユニット１１３は、（非常に概略的にしか図示しない）アクチュエータ１１３．１及び棒形の調整要素１１３．２を含む。本例では、アクチュエータ１１３．１は、ベース構造１０８のうちファセット素子１０９に面しない側に固定され、調整要素１１３．２と相互作用できるようになっている。調整要素１１３．２（図３にはその長手方向軸１１３．３のみで示す）は、ベース構造１０８及び支持構造１１２の対応する凹部を貫通し、ファセット本体１０９．２に実質的に剛接続される。

光学素子１０９．１を傾斜させるために、本例では、アクチュエータ１１３．１が、結像装置１０１の第１動作状態で第１力Ｆ１（ｘ軸と平行に働く）を、結像装置１０１の第２動作状態で第２力Ｆ２（ｙ軸と平行に働く）を調整要素１１３．２の自由端に加える。本例では、２つの力Ｆ１及びＦ２は、相互に実質的に直交し、ベース構造１０８の主延在平面１０８．１と実質的に平行に延びる平面内にある。

同じく図３及び図４から分かるように、第１力Ｆ１は、調整要素１１３．２により光学面１０９．１の領域で第１傾斜モーメントＭ１を発生させ、第２力Ｆ２は、調整要素１１３．２により光学面１０９．１の領域で第２傾斜モーメントＭ２を発生させる。２つの傾斜モーメントＭ１及びＭ２は、この場合はベース構造１０８の主延在平面１０８．１と実質的に平行に延びる平面内にある。

第２傾斜モーメントＭ２は、この場合は光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥ内にあるが、第１傾斜モーメントＭ１は、光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥに対して傾斜角ＡＩだけ傾いて働き、傾斜角ＡＩは本例ではＡＩ＝１２°である。

主延在平面ＰＭＥに対する第１傾斜モーメントＭ１のこの傾きの結果として、光学面１０９．１の傾斜時に、主延在平面ＰＭＥ内にある第１傾斜モーメントＭ１の傾斜成分ＭＴ１のほかに、主延在平面ＰＭＥに対して垂直な寄生成分ＭＰ１がある。

支持構造の平面と平行に延びる２つの直交傾斜軸を有するカルダン支持体を通常は提供する、支持装置の従来の設計の場合、図３に点線輪郭１１４（全体的な明確化のために誇張する）で示すように、光学素子の望ましくない寄生的な横回転運動が主延在平面ＰＭＥで発生する。

従来の設計の場合、ファセット素子１１４のこの寄生的な横回転運動の影響として、光学面の所望の傾斜運動を実現できるように相互に対して対応して大きな隙間又はギャップを伴ってしかファセット素子を配置できない。ファセット素子１１４間のこれらの大きなギャップにはさらに、照明光の損失の割合が比較的大きいという結果が伴う。

ファセット素子がファセットミラー１０６．１と同様に配置された従来のファセットミラーの場合、約４５０μｍのギャップ幅が通常は設けられる。こうした従来の設計の場合、光出力の損失（透過損失とも称する）は約１１％である。

この透過損失を低減するために、本例では、支持ユニット１１２が、アクチュエータユニット１１３の傾斜モーメントＭ１による光学面１０９．１の傾斜時に光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥ内に実質的にある光学素子１０９．１の第１傾斜軸ＴＡ１を予め規定するよう構成される。

第１傾斜軸ＴＡ１は、原理上は主延在平面ＰＭＥ内でほぼ任意所望の向きにすることができる。しかしながら、本例では、支持ユニット１１２が光学面１０９．１の主延在方向ＤＭＥと実質的に平行に延びる第１傾斜軸ＴＡ１を規定することにより、ファセット素子１０９の特に高密度の実装又は密接した配置が達成される。結果として、第１傾斜モーメントＭ１による傾斜時にファセット素子１０９の特に小さな寄生運動が達成されることが有利である。

言うまでもなく、光学面又はファセット素子の設計に応じて、傾斜時に、ファセット素子間に対応するギャップを設けることを必要とする何らかの寄生運動が不可避である可能性がある。これは特に、光学面が直線形態から大きく外れている、すなわち例えば顕著な弓形設計を有するファセット素子の場合に当てはまる。光学面の形態が直線状であるほど、本発明により寄生運動を低減することができる。第１傾斜軸ＴＡ１が光学面の主延在方向ＤＭＥと同一直線上に延びる場合に、特に好ましい設計が得られる。

光学面１０９．１の平面設計により、本例では、第１傾斜軸ＴＡ１は光学面１０９．１上に実質的にある。結果として、第１傾斜モーメントＭ１による傾斜時に特に小さな寄生運動が得られる。

しかしながら、言うまでもなく、湾曲した光学面の場合にはこのような配置構成を実現することができず、こうした場合、このような寄生運動を最小化するために、第１傾斜軸が少なくとも１つの傾斜軸点で光学面と交差するか又は光学面に対する接線を形成することが好ましい。後者の場合、光学面の第１傾斜軸は、光学面が傾斜軸点で規定するその接平面内にある。結果として、このような場合、寄生運動が最小限である特に好ましい運動学的条件も得られる。

同じく言うまでもなく、他の変形形態の場合、傾斜軸は、原理上は光学面から特定の距離に延びることもできる。これにより寄生運動が生じるが、特に隣接するファセット素子同士の同期した寄生運動に従うことを可能にする場合は常に適切であり得るので、寄生運動にも関わらずファセット素子の高密度の実装が可能である。

第１傾斜軸ＴＡ１を規定するために、本例では、２つの第１板ばね１１２．１及び１１２．２が薄く（ファセット素子１０９の重量から生じる荷重下で）実質的に平面状のばね要素として設計され、これらは、その主延在平面１１２．８及び１１２．９が第１傾斜軸ＴＡ１で交差することにより第１傾斜軸ＴＡ２を規定するように相互に対して傾いて配置される。なお、これに関連して、相互に対して傾いた２つの板ばねがその主延在平面の交線でこのような傾斜軸を規定することは、十分によく知られているで、この点についてはこれ以上詳細には論じない。

第１傾斜軸ＴＡ１がこうして規定されるほかに、第１板ばね１１２．１及び１１２．２の上記配置には、第１板ばね１１２．１及び１１２．２が傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１により各自の主延在平面１１２．８又は１１２．９で剪断荷重を主に受けるという利点がある。２つの第１板ばね１１２．１及び１１２．２は、当然ながら高い剪断抵抗を有するので、板ばね１１２．１、１１２．２の対は、板ばね１１２．１及び１１２．２の大きな変形を伴わずに寄生成分ＭＰ１を吸収してそれを対応する対抗弾性モーメントにより補償する。

換言すれば、板ばね１１２．１及び１１２．２は、特に光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥに対して垂直な回転自由度を制限し、それにより傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１の補償を達成することが有利である。

同様のことが、２つの第２板ばね１１２．３及び１１２．４を含む第２板ばね対にも当てはまり、これらも同じく、傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１により各自の主延在平面１１２．１０又は１１２．１１で剪断荷重を主に受ける。

結果として、この設計には、主延在平面ＰＭＥに対して傾いているにも関わらず、傾斜モーメントＭ１が第１傾斜軸に関する光学面１０９．１の傾斜のみをほぼ招く一方で、寄生成分ＭＰ１が引き起こした寄生運動は、板ばね１１２．１〜１１２．４の高い剪断抵抗によりほぼ完全に防止されるという効果がある。

第２傾斜軸ＴＡ２も規定するために、本例では、２つの第２板ばね１１２．３及び１１２．４が同様に薄く実質的に平面状のばね要素として設計され、これらは、主延在平面１１２．１０及び１１２．１１が第２傾斜軸ＴＡ２で交差することにより第２傾斜軸ＴＡ２を規定するように相互に対して傾いて配置される。

本例では、第２傾斜モーメントＭ２は、光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥにあるので、主延在平面ＰＭＥに対して垂直な寄生成分を有しない。しかしながら、言うまでもなく、他の変形形態の場合には主延在平面ＰＭＥに対して第２傾斜モーメントＭ２が傾くこともあり得る。こうした場合、第２傾斜モーメントＭ２による光学面１０９．１の傾斜時に第２傾斜モーメントＭ２のこのような寄生成分ＭＰ２を吸収及び補償し、それにより対応する寄生運動を回避するために、第１板ばね１１２．１及び１１２．２のものと類似の設計を第２板ばね１１２．３及び１１２．４の場合にも選択することができる。

傾斜モーメントＭ１の位置合わせに関する悪条件下でも、結果として本例の場合では、アクチュエータユニット１１３、特にアクチュエータ１１３．１の細密な変更を行わずに、光学面１０９．１の主延在平面ＰＭＥ内に実質的にある光学面１０９．１の傾斜軸ＴＡ１を支持装置１１１の領域における単純で純粋に受動的な措置により予め規定することが可能である。したがって、こうした状況下でも、光学面１０９．１の傾斜時にファセット素子１０９の一部の横変位を防止することが可能であることが有利である。

したがって、これにより、（例えば照明設定の変更時の）光学面１０９．１の能動的な調整性にも関わらず透過損失をほとんど伴わずにファセット素子１０９の特に高密度の実装を実現することが可能である。本例の場合、ファット素子１０９間で依然として必要なギャップＧにおける透過損失は約４．５％である。結果として、上述した従来の設計（透過損失約１１％）と比べて、約６０％の透過損失の低減をファセット素子１０９の高密度の実装により達成することができる。

支持要素の幾何学的形状は、原理上、各傾斜軸ＴＡ１又はＴＡ２を所望の位置に規定するよう任意所望の適当な方法で選択することができる。板ばね１１２．１〜１１２．４が、長手方向軸に沿った長さ寸法と、長さ寸法の４％未満、好ましくは２％未満、より好ましくは０．２％〜１％である主延在平面１１２．８〜１１２．１１に対して垂直な最大厚さ寸法とを有する薄く細長い板ばねとして設計される場合、動的側面で有利な変形形態が得られる。本例では、板ばね１１２．１〜１１２．４の最大厚さ寸法は、いずれの場合も長さ寸法の約５％である。

この時点で、板ばね対内で板ばね主延在平面１１２．８〜１１２．１１が各傾斜軸ＴＡ１又はＴＡ２で交差する限り、板ばね１１２．１〜１１２．４が原理上は任意所望の外形輪郭を有し得ることが言及されるべきである。本例では、（各板ばね対の）２つの板ばね１１２．１、１１２．２又は１１２．３、１１２．４がその板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭を有し、外形輪郭の一対の辺が傾斜軸と実質的に平行に延びるという点で、特に製造し易い構成が選択される。

特に図４から分かるように、この場合、これが当てはまるのは、一方ではヘッド要素１１２．５及び中間要素１１２．６に隣接する板ばね１１２．１及び１１２．２の辺を含む各対、また他方では中間要素１１２．６及びベース要素１１２．７に隣接する板ばね１１２．３及び１１２．４の辺を含む各対である。

本例では、主延在平面ＰＭＥに対する第１傾斜モーメントＭ１の傾斜角は、言及したようにＡＩ＝１２°である。しかしながら、言うまでもなく、本発明は、原理上は主延在平面ＰＭＥに対する傾斜モーメントＭ１の任意所望の傾きを用いることもできる。この点で、傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１は、傾斜角ＡＩが大きいほど大きくなることに留意されたい。傾斜モーメントが光学面の主延在平面及び／又は主延在方向に対して１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°傾いている場合、寄生運動が比較的小さな特に好ましい結果を通常は達成できる。

本発明による方法の場合、本発明による結像プロセスの過程で用いられる光学素子を結像装置１０１において支持するために、光学ユニット１１０を上述した構成でベース構造１０８に固定することで、最初に取付けステップにおいて第１ファセット素子１０９をベース構造１０８に取り付ける。続いて設定ステップにおいて、調整すべきファセット素子１０９の光学面１０９．１の所望の傾斜が起こる。傾斜は、この場合は結像と同時に且つ／又は結像時まで起こり得る。

この時点で、本発明の特定の変形形態の場合、ファセット素子１０９の傾斜が２つの傾斜軸の一方ＴＡ１又はＴＡ１に関する傾斜のみに制限され得ることに留意されたい。したがって、結果として、アクチュエータ１１３．１は、第１力Ｆ１又は第２力Ｆ２を発生させることができるよう設計することができる。同様に、当然ながら、アクチュエータ１１３．１が第１力Ｆ１のみを発生させることができるようにしてもよい。いくつかの変形形態の場合、当然ながら、アクチュエータ１１３．１が力Ｆ１及びＦ２を同時に発生させることができるようにしてもよい。

力Ｆ１及びＦ２毎に別個のアクチュエータユニットが設けられる場合、特に単純な構成のアクチュエータ機構が得られる。これらは単純なリニアアクチュエータであり得る。しかしながら、言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合には任意所望の他のアクチュエータを用いることもできる。特に、対応するモーメントを直接発生させるアクチュエータを用いることができる。

第２実施形態
本発明による光学ユニット２１０のさらに別の好ましい実施形態を有する本発明による光学モジュール２０６．１のさらに別の好ましい実施形態を、図１、図２、及び図５〜図７を参照して以下で説明する。光学モジュール２０６．１は、結像装置１０１において光学モジュール１０６．１の代わりに用いることができ（これを、破線で示すファセット素子２０９で図２に示す）、その基本設計及び機能方法が図３及び図４からの光学モジュールに対応するので、相違点のみをここで論じる。特に、同一のコンポーネントには同一の参照符号を設け、同様のコンポーネントには値１００を足した参照符号を設ける。以下で別段の記載のない限り、それらのコンポーネントの特徴、機能、及び利点に関して例示的な第１実施形態に関連した上記記載を参照されたい。

図３及び図４からの光学モジュール１０６．１からの相違点は、ファセット素子の設計にある。特に図５〜図７から分かるように、ファセット素子２０９は、実質的に平面状の反射光学面２０９．１を有するが、その表面積はこの場合も約７０ｍｍ^２である。この場合、光学面１０９．１は、細長く実質的に矩形の外形輪郭を有し、これはこの場合も主延在方向ＤＭＥ及び主延在平面ＰＭＥも画定し、主延在平面ＰＭＥは、本例ではいずれの場合もベース構造１０８の主延在平面１０８．１に対して傾いて延びる（傾斜角は、本例でも約１２％である）。この例でも、光学面は細長い外形輪郭を有し、その第２最大寸法はさらに第１最大寸法の約６％である。

図３及び図４からの光学モジュール１０６．１と比べたさらに別の相違点は、支持装置２１１、特に支持ユニット２１２の設計にある。図５〜図７から分かるように、本例では、２対の板ばねの代わりに３つの支持要素２１２．１２が設けられ、これらは、ファセット素子２０９のファセット本体２０９．２とベース構造１０８に取り付け固定されたベース要素２０９．７との間で三脚状に相互に対して運動学的に平行に配置される。支持ユニット２１２は、傾斜軸ＴＡ１及びＴＡ２の規定のための案内ユニット２１５も有し、案内ユニットは、ベース要素２１２．７とファセット素子２０９との間で支持要素２１２．１２と運動学的に平行に配置される。

本例では、支持要素２１２．１２は、単純な細い直線状の棒ばねにより形成された弾性変形可能な支柱であり、各自の支柱長手方向軸２１２．１３に沿って実質的に同じ長さを有する。本例では、支柱２１２．１２は、ファセット素子２０９の重量の荷重のみを受ける状態でファセット素子２０９の重量の約９８％を吸収してそれをベース要素２１２．７に導入するよう設計される。これにより、傾斜モーメントの寄生成分の受動的補償の容易な組込みも可能にする特に単純な構成の設計を達成することが可能となる。

本例での細い支柱２１２．１２の最大横寸法は、その長さ寸法の約ＫＬＭＮ％であり、それにより動的側面から有利である軽量且つ剛性の設計が得られる。しかしながら、本発明の他の変形形態の場合、異なる細長度（degree of slenderness）を与えることもできる。好ましくは、最大横寸法は、長さ寸法の４％未満、好ましくは２％未満、より好ましくは０．３％〜１．８％である。これが、動的側面から特に有利な設計の達成を可能にする。

ここでは言うまでもなく、支柱２１２はさらに、他の変形形態の場合に異なる設計であってもよく、特に任意所望の部分的に湾曲し且つ／又は部分的に多角形の形状を有することができる。

本例では、支柱２１２．１２の支柱長手方向軸２１２．１３は、光学面２０９．１上にある第１傾斜軸ＴＡ１の点ＲＰで交差するように相互に対して傾いている。したがって、玉継手状に設計されたファセット素子２０９の取付けが、ベース要素２１２．７上で、したがってベース構造１０８上で、支柱２１２．１２により（十分によく知られた方法で）実現される。

傾斜軸ＴＡ１及びＴＡ２の所望の向き及び第１傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１の所望の補償をそれぞれ達成するために、運動学的に平行に配置された案内ユニット２１５は、支柱２１２．１２により実現されるこの玉継手状の取り付けを補う。

この目的で、案内ユニット２１５は２つの案内要素２１５．１を有し、これらは、傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１を吸収して補償する対応する対抗モーメントを発生させるために、ファセット素子２０９及びベース要素２１２．７に関節式に接続され、ファセット素子２０９の横方向ＴＤでファセット素子２０９の両側に配置される。横方向ＴＤは、この場合は主延在平面ＰＭＥ内にあり、主延在方向ＤＭＥに対して垂直に延びる。

ファセット素子２０９への各案内要素２１５．１の接続は、ファセット素子２０９に実質的に剛接続されて横方向ＴＤに延びる横支柱２１５．２の自由端によりいずれの場合も行われる。ベース要素２１２．７への取り付けは、ベース要素２１２．７に実質的に剛接続されてベース構造１０８の主延在平面１０８．１に対して実質的に垂直且つ調整要素１１３．２と実質的に平行に延びる柱要素２１５．３の自由端によりいずれの場合も行われる。

本例では、案内要素２１５．１はそれぞれ板ばね状に形成される。しかしながら、言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合、傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１に関する所望の対抗モーメントが案内要素２１５．１により加えられる限り、任意所望の他の設計の案内要素２１５．１を設けることもできる。したがって、他の変形形態の場合、案内要素２１５．１は、関節式に取り付られた単純な棒要素として設計することができる。

各案内要素２１５．１は、この場合、ファセット素子２０９上の第１関節点２１５．４及びベース要素２１２．７上の（より正確には柱要素２１５．３上の）第２関節点２１５．５を規定する。第１関節点２１５．４と第２関節点２１５．５との間の接続線２１５．６は、この場合は主延在平面ＰＭＥに対して垂直且つ第１傾斜モーメントＭ１と平行に延びる平面内に延びる。接続線２１５．６は、この場合は第１傾斜モーメントＭ１に対して第１傾斜角ＡＩ１＝９°だけ傾いて延びる一方で、主延在平面ＰＭＥに対して第２傾斜角ＡＩ２＝３°だけ傾いて延び、接続線２１５．６は、主延在平面ＰＭＥが第１傾斜モーメントＭ１に対して傾くのと同じ回転方向に傾く。

さらに、第１関節点２１５．４は、横方向ＴＤに回転点ＲＰからいずれの場合も回転点距離ＲＰＤだけ離れているが、第１関節点２１５．４及び第２関節点２１５．５は、関節点距離ＡＰＤだけ相互に離れている。

第１傾斜軸ＴＡ１に関する光学面２０９．１の傾斜時に得られる補償効果又は補償運動は、傾斜角ＡＩ１又はＡＩ２、関節点距離ＡＰＤ、及び回転点距離ＲＰＤにより設定することができる。本例では、設定は、傾斜軸ＴＡ１が主延在平面ＰＭＥ内で主延在方向ＤＭＥと同一直線上にあるよう行われる。特にこの点で、傾斜角ＡＩ１又はＡＩ２を各柱要素２１５．３とベース要素２１２．７との間の間隔要素２１５．７により設定することができるものとする。

しかしながら、言うまでもなく、本発明の他の変形形態の場合、光学面２０９．１の傾斜時に寄生運動を最小化するか又はそれらを所望の形状に適合させるために、特にファセット素子２０９の幾何学的形状及び／又は位置合わせに適合させた第１傾斜軸ＴＡ１の異なる位置合わせを行うことができる。

ここで、第１傾斜角が好ましくは１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°であると同時に、又は代替的に、第２傾斜角は−１０°〜１０°、好ましくは−５°〜５°、より好ましくは０°〜２°であり得る。これにより、傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１の少なくとも部分的な補償をいずれの場合も特に容易に達成することができる。

本例では、案内ユニット２１５は、３つの運動自由度を制限し、具体的には（ｘ方向及びｙ方向の）２つの並進自由度及び（ｚ軸に関する）１つの回転自由度、したがってその結果として、光学面２０９．１の主延在平面ＰＭＥに対して垂直な回転自由度も制限することで、傾斜モーメントＭ１の対応する寄生成分ＭＰ１を補償するようにする。

ここでは言うまでもなく、言及したように、特定の変形形態の場合、傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１を部分的に補償できるだけである可能性があり、したがって場合によっては他の隣接するファセット素子２０９の寄生運動に従うために特定の寄生運動が許される可能性もある。案内ユニット２１５は、その場合、傾斜モーメントＭ１による光学面２０９．１の傾斜時に第１傾斜モーメントＭ１の寄生成分ＭＰ１の少なくとも一部、特に少なくとも７５％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは９０％〜１００％を補償する対抗モーメントＣＭがファセット素子２０９に加わるように設計されることが好ましい。

同じく図５〜図７から分かるように、第２力Ｆ２はさらに、光学面１０９．１の領域で調整要素１１３．２により第２傾斜モーメントＭ２を発生させ、第２モーメントＭ２又は第２傾斜軸ＴＡ２は、案内ユニット２１５による取り付けの結果として主延在平面ＰＭＥと実質的に平行に延びるが、回転点ＲＰと２つの第１関節点２１５．４により規定された軸との間にある。これにより、支柱２１２．１２が特定の荷重を受ける結果となるので、本例は、傾斜が少なくとも主に、好ましくは専ら第１傾斜軸ＴＡ１に関して起こる用途に用いられることが好ましい。

第３実施形態
本発明による光学ユニット３１０のさらに別の好ましい実施形態を有する本発明による光学モジュール３０６．１のさらに別の好ましい実施形態を、図１、図２、図６、及び図９を参照して以下で説明する。光学モジュール３０６．１は、結像装置１０１において光学モジュール１０６．１の代わりに用いることができ、その基本設計及び機能方法が図５〜図７からの光学モジュールに対応するので、相違点のみをここで論じる。特に、同一のコンポーネントには同一の参照符号を設け、同様のコンポーネントには値１００を足した参照符号を設ける。以下で別段の記載のない限り、それらのコンポーネントの特徴、機能、及び利点に関して例示的な第１及び第２実施形態に関連した上記記載を参照されたい。

図５〜図７からの光学モジュール２０６．１と比べた唯一の相違点は、案内ユニット３１５にある。図８及び図９から分かるように、２つの柱要素の代わりに、案内ユニット３１５の場合、ヒンジ継手として設計されたフレクシャ３１５．８によりベース要素２１２．７上に関節接合された単一の実質的に板形の柱要素３１５．３が設けられる。

これにより、傾斜軸ＴＡ１及びＴＡ２の規定のために、本例では、案内ユニット３１５が２つの運動自由度のみ、具体的には（ｘ方向の）１つの並進自由度及び（ｚ軸に関する）１つの回転自由度、したがってその結果として、光学面２０９．１の主延在平面ＰＭＥに対して垂直な回転自由度も制限することで、傾斜モーメントＭ１の対応する寄生成分ＭＰ１を補償するようにするという効果が得られる。

図８及び図９から分かるように、それに加えて、これにより、第２力Ｆ２が光学面１０９．１の領域で調整要素１１３．２により第２傾斜モーメントＭ２を発生させ、第２モーメントＭ２又は第２傾斜軸ＴＡ２は、その場合、案内ユニット３１５による取り付けの結果として実質的に主延在平面ＰＭＥ内に、正確には回転点ＲＰを通って延びるので、第２傾斜モーメントＭ２による傾斜時に寄生運動も大幅に排除される。

本発明は、専らファセットミラーに基づいて上述した。しかしながら、言うまでもなく、本発明を任意所望の他の光学モジュール又は光学素子に関連して用いることもできる。

本発明は、専らマイクロリソグラフィの分野からの例にも基づいて上述した。しかしながら、言うまでもなく、本発明を任意所望の他の光学的用途、特に他の波長での結像法に関連して用いることもできる。

したがって、本発明は、物体の検査、例えば、マイクロリソグラフィ用のマスクの完全性等を検査するいわゆるマスク検査に関連して用いることができる。図１では、（さらなる加工のために）マスク１０４．１の投影パターンの結像を感知するセンサユニットが、続いて基板１０５．１の代わりとなる。このマスク検査は、その場合、その後のマイクロリソグラフィプロセスで用いられるのと実質的に同じ波長で行うことができる。しかしながら、そこから外れた任意所望の波長を検査に用いることも同様に可能である。

最後に、本発明は、添付の特許請求の範囲に記載される特徴の特定の組み合わせを示す特定の例示的な実施形態に基づいて上述した。この時点で、本発明の主題がこれらの特徴の組み合わせに制限されるのではなく、本発明の主題が、添付の特許請求の範囲から明らかとなるような他の全ての特徴の組み合わせも含むことに明らかに留意されたい。

Claims

ファセットミラーユニットであって、
ファセット素子（１０９；２０９）及び
支持装置（１１１）
を備え、前記ファセット素子（１０９；２０９）は、主延在平面（ＰＭＥ）及び該主延在平面（ＰＭＥ）内の主延在方向を規定する光学面（１０９．１；２０９．１）、特に細長い光学面（１０９：２０９）を有し、
前記支持装置（１１１）は、支持ユニット及びアクチュエータユニット（１１３）を含み、
前記アクチュエータユニット（１１３）は、該アクチュエータユニット（１１３）が傾斜モーメントを前記ファセット素子（１０９；２０９）に加えることで前記光学面を傾斜させるよう構成される、ファセットミラーユニットにおいて、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働き、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記アクチュエータユニット（１１３）の前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面（１０９．１；２０９．１）の傾斜時に該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある前記光学面の傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を予め規定するよう構成されることを特徴とするファセットミラーユニット。
請求項１に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）が前記主延在方向と実質的に平行に、特に同一直線上に延びるように設計されるファセットミラーユニット。
請求項１又は２に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は、前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）及び／又は前記主延在方向に対して１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°傾くファセットミラーユニット。
請求項１〜３のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、少なくとも１つの傾斜軸点で、前記光学面（１０９．１；２０９．１）上に実質的にあり、該光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、特に該傾斜軸点で規定された前記光学面（１０９．１；２０９．１）の接平面内にあるファセットミラーユニット。
請求項１〜４のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、受動要素により前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定する受動装置として設計されるファセットミラーユニット。
請求項１〜５のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定する少なくとも２つの少なくとも部分的に弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含むファセットミラーユニット。
請求項１〜６のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、少なくとも２つの支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）、特に少なくとも３つの支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）とベース要素（１１２．７；２１２．７）とを含み、前記ファセット素子（１０９；２０９）の重量の少なくとも大部分が、少なくとも１つの動作状態で前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）により前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）に導入され、特に前記ファセット素子（１０９；２０９）の重量の少なくとも８０％、好ましくは少なくとも９０％、より好ましくは９５％〜１００％が前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）に導入されるファセットミラーユニット。
請求項１〜７のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記ファセット素子（１０９；２０９）に接続され且つ前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の規定のために前記ファセット素子（１０９；２０９）の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限する少なくとも１つの案内ユニット（２１５；３１５）を含むファセットミラーユニット。
請求項１〜８のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記ファセット素子（１０９；２０９）に接続され且つ前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の規定のために前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分を吸収するよう構成された少なくとも１つの案内ユニット（２１５；３１５）を含むファセットミラーユニット。
請求項１〜９のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定する板ばね状に設計された少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含むファセットミラーユニット。
請求項１０に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが板ばね主延在平面を規定し、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記板ばね主延在平面同士が前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）で交差するように相互に対して傾いて配置されるファセットミラーユニット。
請求項１０又は１１に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、前記ファセット素子（１０９；２０９）の重量の荷重のみを受ける状態で実質的に平面状であるよう構成された板ばねとして設計されるファセットミラーユニット。
請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、長手方向軸に沿った長さ寸法と、該長さ寸法の特に４％未満、好ましくは２％未満、より好ましくは０．２％〜１％である板ばね主延在平面に対して垂直な最大厚さ寸法とを有する薄い板ばねとして設計されるファセットミラーユニット。
請求項１０〜１３のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが板ばね主延在平面を規定し、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、その板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭を有し、該外形輪郭の少なくとも１対の辺が前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）と実質的に平行に延びるファセットミラーユニット。
請求項１〜９のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定する弾性支柱状に設計された少なくとも３つの弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含むファセットミラーユニット。
請求項１５に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は三脚状に配置されるファセットミラーユニット。
請求項１５又は１６に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが支柱長手方向軸を規定し、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記支柱長手方向軸同士が前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の１点で交差するように相互に対して傾いて配置されるファセットミラーユニット。
請求項１５〜１７のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）はそれぞれ支柱長手方向軸を規定し、その支柱長手方向軸に沿って実質的に同じ長さ寸法を有するファセットミラーユニット。
請求項１５〜１８のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、前記ファセット素子（１０９；２０９）の重量の荷重のみを受ける状態で実質的に直線状であるよう構成された棒ばねとして設計されるファセットミラーユニット。
請求項１５〜１９のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、長手方向軸に沿った長さ寸法と、該長さ寸法の特に４％未満、好ましくは２％未満、より好ましくは０．３％〜１．８％である前記長手方向軸に対して垂直な最大横寸法とを有する細い棒ばねとして設計されるファセットミラーユニット。
請求項１５〜２０のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、ベース要素（１１２．７；２１２．７）と前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を規定するための少なくとも１つの案内ユニット（２１５；３１５）とを含み、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）上に支持され、且つ
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）と前記ファセット素子（１０９；２０９）との間で前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）と運動学的に平行に配置されるファセットミラーユニット。
請求項２１に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記ファセット素子（１０９；２０９）の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限するファセットミラーユニット。
請求項２１又は２２に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分を吸収するよう設計されるファセットミラーユニット。
請求項２１〜２３のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面（１０９；２０９）の傾斜時に、該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分の少なくとも一部、特に少なくとも７５％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは９０％〜１００％を補償する対抗モーメントが前記ファセット素子（１０９；２０９）に加わるように設計されるファセットミラーユニット。
請求項２１〜２４のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記ファセット素子（１０９；２０９）及び前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）に関節式に接続された少なくとも１つの案内要素（２１５．１）を有するファセットミラーユニット。
請求項２１〜２５のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記ファセット素子及び前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）に関節式に接続された少なくとも２つの案内要素（２１５．１）を有し、該案内要素（２１５．１）は、前記主延在平面(ＰＭＥ)内にあり前記主延在方向に対して垂直に延びる前記ファセット素子（１０９；２０９）の横方向で、特に、前記ファセット素子（１０９；２０９）の両側に配置されるファセットミラーユニット。
請求項２１〜２６のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、板ばね状に設計された少なくとも１つの案内要素（２１５．１）を有するファセットミラーユニット。
請求項２５〜２７のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
少なくとも１つの案内要素（２１５．１）が、前記ファセット素子（１０９；２０９）上の第１関節点（２１５．４）及び前記ベース要素（１１２．７；２１２．７）上の第２関節点（２１５．５）を規定するファセットミラーユニット。
請求項２８に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記第１関節点（２１５．４）と前記第２関節点（２１５．５）との間の接続線が、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して垂直且つ前記傾斜モーメント（Ｍ１）と平行に延びる平面内で、第１傾斜角だけ前記傾斜モーメント（Ｍ１）に対して傾いて延びるファセットミラーユニット。
請求項２８又は２９に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記第１関節点（２１５．４）と前記第２関節点（２１５．５）との間の接続線が、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して垂直且つ前記傾斜モーメント（Ｍ１）と平行に延びる平面内で、第２傾斜角だけ前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて延びるファセットミラーユニット。
請求項３０に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記第２傾斜角は、−１０°〜１０°、好ましくは−５°〜５°、より好ましくは０°〜２°であるファセットミラーユニット。
請求項２８〜３１のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記第１傾斜角は、１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°であるファセットミラーユニット。
請求項２８〜３２のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記接続線は、前記主延在平面（ＰＭＥ）と同じ回転方向で前記傾斜モーメント（Ｍ１）に対して傾くファセットミラーユニット。
請求項２８〜３３のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、特に前記主延在平面（ＰＭＥ）内にある回転点を規定し、且つ
前記第１関節点は、特に前記ファセット素子（１０９；２０９）の前記横方向で、前記回転点から回転点距離だけ離れているファセットミラーユニット。
請求項３４に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記第１関節点（２１５．４）と前記第２関節点（２１５．５）との間の関節点距離は、前記アクチュエータユニット（１１３）の前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面の傾斜時に、該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）が前記光学面（１０９．１；２０９．１）に関して予め規定されるように選択されるファセットミラーユニット。
請求項３４又は３５に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記回転点距離は、前記アクチュエータユニット（１１３）の前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面の傾斜時に、該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）が前記光学面（１０９．１；２０９．１）に関して予め規定されるように選択されるファセットミラーユニット。
請求項３４〜３６のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記第１傾斜角は、前記アクチュエータユニット（１１３）の前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面の傾斜時に、該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）が前記光学面（１０９．１；２０９．１）に関して予め規定されるように選択されるファセットミラーユニット。
請求項３４〜３７のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記第２傾斜角は、前記アクチュエータユニット（１１３）の前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面の傾斜時に、該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）が前記光学面（１０９．１；２０９．１）に関して予め規定されるように選択されるファセットミラーユニット。
請求項１〜３８のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記傾斜軸（ＴＡ１）は前記光学面の第１傾斜軸であり、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は第１傾斜モーメントであり、且つ
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第１傾斜モーメント（Ｍ１）に対して横方向に、特に垂直に働く第２傾斜モーメント（Ｍ２）の影響下で、前記第１傾斜軸（ＴＡ１）に対して横方向に、特に垂直に延びる前記光学面の第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定する目的で構成され、
前記第２傾斜軸（ＴＡ２）は、特に前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にあるファセットミラーユニット。
請求項３９に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、受動要素により前記第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定する受動装置として設計されるファセットミラーユニット。
請求項３９又は４０に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定する少なくとも２つの部分的に弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含むファセットミラーユニット。
請求項３９〜４１のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記ファセット素子（１０９；２０９）に接続され且つ前記第２傾斜軸（ＴＡ２）の規定のために前記ファセット素子（１０９；２０９）の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限する少なくとも１つの案内ユニット（２１５；３１５）を含むファセットミラーユニット。
請求項３９〜４２のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定する板ばね状に、特に薄い板ばねとして設計された少なくとも２つの弾性変形可能な支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）を含み、該支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）のそれぞれが、特に板ばね主延在平面を規定し、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）は、前記板ばね主延在平面同士が前記第２傾斜軸（ＴＡ２）で交差するように相互に対して傾いて配置され、前記支持要素（１１２．１〜１１２．４；２１２．１２）の少なくとも１つは、特に、その板ばね主延在平面において実質的に平行四辺形の外形輪郭を有し、該外形輪郭の少なくとも１対の辺が前記第２傾斜軸（ＴＡ２）と実質的に平行に延びるファセットミラーユニット。
請求項１〜４３のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）は、前記主延在方向に細長くなるように設計されるファセットミラーユニット。
請求項１〜４４のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）は、前記主延在方向に対して横方向に細くなるように設計されるファセットミラーユニット。
請求項１〜４５のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）は、前記主延在方向の第１最大寸法と、該第１最大寸法の１０％未満、好ましくは５％未満、より好ましくは０．２％〜２％、より好ましくは０．５％〜１％である前記主延在方向に対して垂直な第２最大寸法とを有するファセットミラーユニット。
請求項１〜４６のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記アクチュエータユニット（１１３）は、一動作状態において、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働く前記傾斜モーメント（Ｍ１）を前記ファセット素子（１０９；２０９）に専ら加えるよう構成されるファセットミラーユニット。
請求項１〜４７のいずれか１項に記載のファセットミラーユニットにおいて、
前記アクチュエータユニット（１１３）は、一動作状態において、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働く前記傾斜モーメント（Ｍ１）に対して横方向に、特に垂直に働く傾斜モーメントを前記ファセット素子（１０９：２０９）に専ら加えるよう構成されるファセットミラーユニット。
請求項１〜４８のいずれか１項に記載の少なくとも１つのファセットミラーユニットを備えたファセットミラーであって、
複数のファセット素子（１０９；２０９）の支持ユニット（１１２；２１２）が、共通のベース要素（１１２．７；２１２．７）を有するファセットミラー。
請求項４９に記載のファセットミラーであって、
前記ファセット素子（１０９；２０９）は、０．１ｍｍ^２〜２００ｍｍ^２、好ましくは０．５ｍｍ^２〜１００ｍｍ^２、より好ましくは１．０ｍｍ^２〜５０ｍｍ^２の表面積を特に有する光学有効面（１０９．１；２０９．１）を有するファセット素子であるファセットミラー。
請求項４９又は５０に記載のファセットミラーであって、
１００個〜１０００００個のファセット素子（１０９；２０９）が設けられるファセットミラー。
請求項４９又は５０に記載のファセットミラーであって、
１００個〜１００００個のファセット素子（１０９；２０９）が設けられるファセットミラー。
請求項４９又は５０に記載のファセットミラーであって、
１０００個〜１００００個のファセット素子（１０９；２０９）が設けられるファセットミラー。
請求項４９又は５０に記載のファセットミラーであって、
５０個〜１００００個のファセット素子（１０９；２０９）が設けられるファセットミラー。
請求項４９又は５０に記載のファセットミラーであって、
１００個〜７５００個のファセット素子（１０９；２０９）が設けられるファセットミラー。
請求項４９又は５０に記載のファセットミラーであって、
５００個〜５０００個のファセット素子（１０９；２０９）が設けられるファセットミラー。
マイクロリソグラフィ用の光学結像装置であって、
第１ファセット素子群（１０６）を有する照明装置（１０２）と、
物体（１０４．１）を収容する物体装置（１０４）と、
第２ファセット素子群（１０７）を有する投影装置（１０３）と、
像装置（１０５）と
を備え、前記照明装置（１０２）は前記物体（１０４．１）を照明するよう構成され、且つ
前記投影装置（１０３）は前記物体（１０４．１）の像を前記像装置（１０５）に投影するよう構成される光学結像装置において、
前記照明装置（１０２）及び／又は前記投影装置（１０３）は、請求項４９〜５６のいずれか１項に記載のファセットミラーを備えることを特徴とする光学結像装置。
ファセットミラーのファセット素子（１０９；２０９）を支持装置（１１１）により支持する方法であって、前記ファセット素子（１０９；２０９）は、主延在平面（ＰＭＥ）及び該主延在平面（ＰＭＥ）内の主延在方向を規定する光学面（１０９．１；２０９．１）、特に細長い光学面（１０９．１；２０９．１）を有し、
傾斜モーメント（Ｍ１）が前記ファセット素子（１０９；２０９）に加わることで、前記ファセット素子（１０９；２０９）を傾斜させる方法において、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働き、
支持ユニット（１１２；２１２）が、前記傾斜モーメント（Ｍ１）による前記光学面（１０９．１；２０９．１）の傾斜時に該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある前記光学面の傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を予め規定することを特徴とする方法。
請求項５８に記載の方法において、
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記主延在方向と実質的に平行に、特に実質的に同一直線上に延びる前記光学面（１０９．１；２０９．１）の傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）を予め規定する方法。
請求項５８又は５９に記載の方法において、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）を、前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）及び／又は前記主延在方向に対して１°〜３０°、好ましくは５°〜２０°、より好ましくは８°〜１５°傾ける方法。
請求項５８〜６０のいずれか１項に記載の方法において、
前記光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、少なくとも１つの傾斜軸点で、前記光学面（１０９．１；２０９．１）上に実質的にあり、該光学面（１０９．１；２０９．１）の前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）は、特に該傾斜軸点で規定された前記光学面（１０９．１；２０９．１）の接平面内にある方法。
請求項５８〜６１のいずれか１項に記載の方法において、
前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の規定のために、前記ファセット素子（１０９；２０９）の少なくとも２つの運動自由度、特に３つの運動自由度を制限する方法。
請求項５８〜６２のいずれか１項に記載の方法において、
前記傾斜軸（ＴＡ１、ＴＡ２）の規定のために、前記光学面の前記主延在方向（ＰＭＥ）に対して垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分を、前記支持ユニット（１１２；２１２）の少なくとも１つの案内ユニット（２１５；３１５）により吸収する方法。
請求項５８〜６３のいずれか１項に記載の方法において、
前記案内ユニット（２１５；３１５）は、前記光学面（１０９；２０９）の傾斜時に、該光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して垂直に作用する前記傾斜モーメントの成分の少なくとも一部、特に少なくとも７５％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは９０％〜１００％を補償する対抗モーメントを前記ファセット素子に加える方法。
請求項５８〜６４のいずれか１項に記載の方法において、
前記傾斜軸（ＴＡ１）は前記光学面の第１傾斜軸であり、
前記傾斜モーメント（Ｍ１）は第１傾斜モーメントであり、且つ
前記支持ユニット（１１２；２１２）は、前記第１傾斜モーメント（Ｍ１）に対して横方向に、特に垂直に働く第２傾斜モーメント（Ｍ２）の影響下で、前記第１傾斜軸（ＴＡ１）に対して横方向に、特に垂直に延びる前記光学面の第２傾斜軸（ＴＡ２）を規定し、
前記第２傾斜軸（ＴＡ２）は、特に前記光学面の前記主延在平面（ＰＭＥ）内に実質的にある方法。
請求項５８〜６５のいずれか１項に記載の方法において、
一動作状態において、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働く前記傾斜モーメント（Ｍ１）を、前記ファセット素子（１０９；２０９）に専ら加える方法。
請求項５８〜６６のいずれか１項に記載の方法において、
一動作状態において、前記主延在平面（ＰＭＥ）に対して傾いて働く前記傾斜モーメント（Ｍ１）に対して横方向に、特に垂直に働く傾斜モーメントを、前記ファセット素子（１０９：２０９）に専ら加える方法。
マイクロリソグラフィ用の光学結像法であって、
第１ファセット素子群（１０６）を有する照明装置（１０２）により物体（１０４．１）を照明し、
第２ファセット素子群（１０７）を有する投影装置（１０３）により前記物体（１０４．１）の像を像装置（１０５）上に生成する光学結像法において、
請求項５８〜６７のいずれか１項に記載の方法を前記照明装置（１０２）及び／又は前記投影装置（１０３）で用いる光学結像法。