Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6728650B2 - Optical laminated film and its manufacturing method, polarizing plate and liquid crystal display device - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6728650B2 - Optical laminated film and its manufacturing method, polarizing plate and liquid crystal display device - Google Patents

Optical laminated film and its manufacturing method, polarizing plate and liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
JP6728650B2
JP6728650B2 JP2015231913A JP2015231913A JP6728650B2 JP 6728650 B2 JP6728650 B2 JP 6728650B2 JP 2015231913 A JP2015231913 A JP 2015231913A JP 2015231913 A JP2015231913 A JP 2015231913A JP 6728650 B2 JP6728650 B2 JP 6728650B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laminated film
optical laminated
film
base material
material layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015231913A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2017097283A (en
Inventor
睦美 笠原
睦美 笠原
浩 居野家
浩 居野家
慎 窪田
慎 窪田
和樹 赤阪
和樹 赤阪
崇 南條
崇 南條
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2015231913A priority Critical patent/JP6728650B2/en
Publication of JP2017097283A publication Critical patent/JP2017097283A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6728650B2 publication Critical patent/JP6728650B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Description

本発明は、光学積層フィルムとその製造方法、偏光板及び液晶表示装置に関する。 The present invention relates to an optical laminated film, a method for manufacturing the same, a polarizing plate and a liquid crystal display device.

液晶表示装置は、テレビ、ノートパソコン、及びスマートフォン等の液晶ディスプレイとして広く用いられている。液晶表示装置は、通常、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを含み;偏光板は、偏光子と、保護フィルムとを含む。 Liquid crystal display devices are widely used as liquid crystal displays for televisions, notebook computers, smartphones, and the like. A liquid crystal display device usually includes a liquid crystal cell and a pair of polarizing plates sandwiching the liquid crystal cell; the polarizing plate includes a polarizer and a protective film.

保護フィルムを構成する材料として、セルロースエステル、ポリカーボネート及びシクロオレフィン系樹脂が知られている。これらの中でも、高い耐熱性と耐湿性とを有する観点から、シクロオレフィン系樹脂が好ましく用いられている。 Cellulose ester, polycarbonate, and cycloolefin resin are known as materials for forming the protective film. Among these, cycloolefin resins are preferably used from the viewpoint of having high heat resistance and high humidity resistance.

一方で、シクロオレフィン系樹脂を主成分とするフィルムは疎水性が高いことから、当該フィルムを、水系接着剤を介して偏光子と接着させて偏光板を得ようとしても、偏光子との十分な接着性が得られにくいという不具合があった。そこで、水系接着剤を用いても偏光子との十分な接着性が得られるように、シクロオレフィン系樹脂を主成分とする基材フィルムと、易接着層とを含む積層フィルムが提案されている(例えば特許文献1参照)。 On the other hand, since a film containing a cycloolefin resin as a main component has high hydrophobicity, even if the film is adhered to a polarizer via an aqueous adhesive to obtain a polarizing plate, the film is sufficiently There was a problem that it was difficult to obtain good adhesiveness. Therefore, a laminated film including a base film containing a cycloolefin resin as a main component and an easy-adhesion layer has been proposed so that sufficient adhesiveness with a polarizer can be obtained even by using an aqueous adhesive. (For example, refer to Patent Document 1).

また、モバイル用途の液晶表示装置は屋外で使用されることから、その保護フィルムは、良好な耐久性(紫外線耐性や耐酸化性)を有することが望まれる。そのような保護フィルムとして、シクロオレフィン系樹脂と、紫外線吸収剤とを含む光学積層体が提案されている(例えば特許文献2及び3)。 Further, since the liquid crystal display device for mobile use is used outdoors, it is desired that the protective film has good durability (UV resistance and oxidation resistance). As such a protective film, an optical laminate including a cycloolefin resin and an ultraviolet absorber has been proposed (for example, Patent Documents 2 and 3).

特開2006−171707号公報JP, 2006-171707, A 特開2015−031753号公報JP, 2005-031753, A 特開2015−045845号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-045845

しかしながら、特許文献2及び3の光学積層体は、メルト製膜法で製造されることから、メルト製膜時の紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制するために、中間層のみに紫外線吸収剤を含んでいる。このように、特許文献2及び3の光学積層体は多層構造を有することから、薄型化が困難であるだけでなく、層間剥離を生じやすいという問題があった。 However, since the optical laminates of Patent Documents 2 and 3 are manufactured by the melt film-forming method, in order to suppress the bleed-out of the ultraviolet absorber during the melt film formation, only the intermediate layer contains the ultraviolet absorber. I'm out. As described above, since the optical laminated bodies of Patent Documents 2 and 3 have a multilayer structure, there is a problem that it is difficult to reduce the thickness and that delamination easily occurs.

これに対して、シクロオレフィン系樹脂と紫外線吸収剤とを含むフィルムを、キャスト製膜法で製造することで、単層フィルムを得ることができる。しかしながら、当該単層フィルムに易接着層を積層し、偏光子と貼り合わせて得られる偏光板を備えた液晶表示装置は、高温高湿下において光学ムラを生じる場合があった。 On the other hand, a monolayer film can be obtained by producing a film containing a cycloolefin resin and an ultraviolet absorber by a cast film forming method. However, a liquid crystal display device including a polarizing plate obtained by laminating an easy-adhesion layer on the single-layer film and adhering it to a polarizer may cause optical unevenness under high temperature and high humidity.

特許文献2や3の光学積層体に易接着層を積層し、偏光子と貼り合わせて得られる偏光板を備えた液晶表示装置は、高温高湿下における光学ムラを一層生じやすいという問題があった。 A liquid crystal display device including a polarizing plate obtained by laminating an easy-adhesion layer on the optical layered body of Patent Documents 2 and 3 and bonding it to a polarizer has a problem that optical unevenness is more likely to occur under high temperature and high humidity. It was

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、良好な耐久性を有し、且つ高温高湿下における液晶表示装置の光学ムラを抑制しうる光学積層フィルムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide an optical laminated film having good durability and capable of suppressing optical unevenness of a liquid crystal display device under high temperature and high humidity. To do.

[1]シクロオレフィン系樹脂と、紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方とを含む基材層と、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂又はシランカップリング剤を含む易接着層とを含み、前記基材層の表面に垂直な切断面において、前記基材層の前記易接着層が配置された面から厚み方向に0.1tの位置までの領域Sにおける前記紫外線吸収剤及び前記酸化防止剤の合計含有量をMs、前記基材層の中心から厚み方向に±0.1tの位置までの領域Cにおける前記紫外線吸収剤及び前記酸化防止剤の合計含有量をMcとしたとき(但し、前記基材層の厚みをtとする)、Mc/Msが0.01以上1未満であり、且つ前記基材層の残留溶媒量が100ppm以上2000ppm以下である、光学積層フィルム。
[2] 前記基材層における前記紫外線吸収剤の含有量は、前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.5〜5質量%である、[1]に記載の光学積層フィルム。
[3] 前記基材層における前記酸化防止剤の含有量は、前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.5〜5質量%である、[1]又は[2]に記載の光学積層フィルム。
[4] 前記アミド系樹脂は、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂である、[1]〜[3]のいずれかに記載の光学積層フィルム。
[5] 前記基材層は、前記残留溶媒として100〜300ppmのトルエンを含む、[1]〜[4]のいずれかに記載の光学積層フィルム。
[6] 前記Mc/Msが0.7以下である、[1]〜[5]のいずれかに記載の光学積層フィルム。
[7] [1]〜[6]のいずれかに記載の光学積層フィルムと、その易接着層側の面に配置された偏光子とを含む、偏光板。
[8] 第1の偏光板と、液晶セルと、第2の偏光板と、バックライトとをこの順に含む液晶表示装置であって、前記第1の偏光板は、第1の偏光子と、前記第1の偏光子の前記液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルムF1と、前記第1の偏光子の前記液晶セル側の面に配置された保護フィルムF2とを含み、前記第2の偏光板は、第2の偏光子と、前記第2の偏光子の前記液晶セル側の面に配置された保護フィルムF3と、前記第2の偏光子の前記液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルムF4とを含み、前記保護フィルムF1及びF2の少なくとも一方が、[1]〜[6]のいずれかに記載の光学積層フィルムであり、且つ前記第1の偏光子が、前記光学積層フィルムの易接着層側の面に配置されているか、及び/又は前記保護フィルムF3及びF4の少なくとも一方が、[1]〜[6]のいずれかに記載の光学積層フィルムであり、且つ前記第2の偏光子が、前記光学積層フィルムの易接着層側の面に配置されている、液晶表示装置。
[9] 前記保護フィルムF1及びF2の少なくとも一方が、[1]〜[6]のいずれかに記載の光学積層フィルムであり、且つ前記第1の偏光子が、前記光学積層フィルムの易接着層側の面に配置されている、[8]に記載の液晶表示装置。
[10] シクロオレフィン系樹脂と、紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方とを含む基材層であって、その表面に垂直な切断面において、少なくとも一方の表面から厚み方向に0.1tの位置までの領域Sにおける前記紫外線吸収剤及び前記酸化防止剤の合計含有量をMs、前記基材層の中心から厚み方向に±0.1tの位置までの領域Cにおける前記紫外線吸収剤及び前記酸化防止剤の合計含有量をMcとしたとき(但し、前記基材層の厚みをtとする)、Mc/Msが0.01以上1未満であり、且つ残留溶媒量が100ppm以上2000ppm以下である基材層を得る工程と、前記基材層の前記領域Sを構成する面に、親水化処理を施す工程と、前記基材層の親水化処理が施された面に、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂又はシランカップリング剤を含む易接着層用組成物を塗布した後、乾燥又は硬化させて易接着層を形成する工程と、を含む、光学積層フィルムの製造方法。
[1] A base layer containing a cycloolefin resin and at least one of an ultraviolet absorber and an antioxidant, and an easy-adhesion layer containing an amide resin, a urethane resin or a silane coupling agent. In the cut surface perpendicular to the surface of the material layer, the total of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region S from the surface of the base material layer on which the easy-adhesion layer is arranged to the position of 0.1 t in the thickness direction. When the content is Ms and the total content of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region C from the center of the base material layer to the position of ±0.1 t in the thickness direction is Mc (however, the base material is The layer thickness is t), Mc/Ms is 0.01 or more and less than 1, and the residual solvent amount of the base material layer is 100 ppm or more and 2000 ppm or less.
[2] The optical laminated film according to [1], wherein the content of the ultraviolet absorber in the base material layer is 0.5 to 5 mass% with respect to the cycloolefin resin.
[3] The optical laminated film according to [1] or [2], wherein the content of the antioxidant in the base material layer is 0.5 to 5 mass% with respect to the cycloolefin resin.
[4] The optical laminated film according to any one of [1] to [3], wherein the amide resin is a water-soluble polyamide epoxy resin.
[5] The optical laminated film according to any one of [1] to [4], wherein the base material layer contains 100 to 300 ppm of toluene as the residual solvent.
[6] The optical laminated film according to any one of [1] to [5], wherein the Mc/Ms is 0.7 or less.
[7] A polarizing plate comprising the optical laminated film according to any one of [1] to [6] and a polarizer arranged on the surface of the easily adhesive layer side.
[8] A liquid crystal display device including a first polarizing plate, a liquid crystal cell, a second polarizing plate, and a backlight in this order, wherein the first polarizing plate includes a first polarizer, A protective film F1 disposed on the surface of the first polarizer opposite to the liquid crystal cell; and a protective film F2 disposed on the surface of the first polarizer on the liquid crystal cell side, The second polarizing plate includes a second polarizer, a protective film F3 disposed on a surface of the second polarizer on the liquid crystal cell side, and a side of the second polarizer opposite to the liquid crystal cell. And a protective film F4 disposed on the surface of the first polarizer, wherein at least one of the protective films F1 and F2 is the optical laminated film according to any one of [1] to [6]. Is disposed on the surface of the optical laminated film on the side of the easily adhesive layer, and/or at least one of the protective films F3 and F4 is the optical laminated film according to any one of [1] to [6]. And a liquid crystal display device in which the second polarizer is disposed on the surface of the optical laminated film on the side of the easily adhesive layer.
[9] At least one of the protective films F1 and F2 is the optical laminated film according to any one of [1] to [6], and the first polarizer is an easily adhesive layer of the optical laminated film. The liquid crystal display device according to [8], which is disposed on the side surface.
[10] A base material layer containing a cycloolefin resin and at least one of an ultraviolet absorber and an antioxidant, and a cut surface perpendicular to the surface of the base material layer having a thickness of 0.1 t from at least one surface. The total content of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the area S up to the position is Ms, and the ultraviolet absorber and the oxidation in the area C up to the position ±0.1 t in the thickness direction from the center of the base material layer. When the total content of the inhibitor is Mc (however, the thickness of the base material layer is t), Mc/Ms is 0.01 or more and less than 1 and the residual solvent amount is 100 ppm or more and 2000 ppm or less. An amide-based resin and a urethane are formed on the step of obtaining the base material layer, the step of subjecting the surface of the base material layer forming the region S to the hydrophilic treatment, and the step of applying the hydrophilic treatment to the base material layer. A method for producing an optical layered film, comprising the steps of applying an easy-adhesion layer composition containing a base resin or a silane coupling agent, and then drying or curing the composition to form an easy-adhesion layer.

本発明によれば、良好な耐久性を有し、且つ高温高湿下における液晶表示装置の光学ムラを抑制しうる光学積層フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical laminated film which has favorable durability and can suppress the optical unevenness of a liquid crystal display device under high temperature and high humidity can be provided.

本発明の光学積層フィルムの構成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of a structure of the optical laminated film of this invention. 基材層の表面に垂直な切断面における、基材層の領域Sと領域Cを説明する図である。It is a figure explaining the area|region S and the area|region C of a base material layer in the cut surface perpendicular|vertical to the surface of a base material layer. 本発明の光学積層フィルムの構成の他の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the other example of a structure of the optical laminated film of this invention. 液晶表示装置の基本的な構成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of a basic structure of a liquid crystal display device.

前述の通り、特許文献2や3に示されるシクロオレフィン系樹脂と紫外線吸収剤とを含む光学積層体に、易接着層を積層して得られた液晶表示装置や、単にキャスト製膜して得られたシクロオレフィン系樹脂と紫外線吸収剤とを含む単層フィルム上に易接着層を積層して得られた液晶表示装置は、高温高湿下において光学ムラを生じる場合がある。 As described above, a liquid crystal display device obtained by laminating an easy-adhesion layer on an optical layered body containing a cycloolefin resin and an ultraviolet absorber disclosed in Patent Documents 2 and 3, or obtained by simply casting a film. The liquid crystal display device obtained by laminating the easy-adhesion layer on the single layer film containing the cycloolefin resin and the ultraviolet absorber may cause optical unevenness under high temperature and high humidity.

その原因は明らかではないが、1)光学積層フィルムの基材層と易接着層との「接着ムラ」、及び2)高温高湿下における、光学積層フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸との「軸ズレ」にあると考えられる。即ち、上記1)による光学ムラは、基材層と易接着層との間に局所的に接着していない領域(隙間)が形成され、高温高湿下で外部から浸入した水分が当該隙間に滞留することによると考えられる。上記2)による光学ムラは、例えば高温高湿下や水系接着剤が塗布された際に、易接着層は吸水し易く膨張し易い一方、シクロオレフィン系樹脂を主成分とする基材層は吸水し難く膨張し難いことから、両者で膨張しようとする力に差が生じ、歪みが生じる。それにより、光学積層フィルムが反り、偏光子の吸収軸と光学積層フィルムの遅相軸との間で軸ズレが生じることによると考えられる。 The cause is not clear, but 1) "unevenness of adhesion" between the base layer and the easy-adhesion layer of the optical laminated film, and 2) the slow axis of the optical laminated film and the absorption axis of the polarizer under high temperature and high humidity. It is considered that there is a "axis shift". That is, the optical unevenness caused by the above 1) is that a region (a gap) that is not locally adhered is formed between the base material layer and the easy-adhesion layer, and moisture that has entered from the outside under high temperature and high humidity enters the gap. It is thought that this is due to retention. The optical unevenness due to the above 2) is such that the easily adhesive layer easily absorbs water and easily expands when the water-based adhesive is applied under high temperature and high humidity, while the base material layer containing the cycloolefin resin as the main component absorbs water. Since it is difficult to expand and it is difficult to expand, a difference occurs in the force of expansion between the two, causing distortion. It is considered that this causes the optical laminated film to warp, causing an axial deviation between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the optical laminated film.

これに対して本発明者らは、上記1)による光学ムラは、基材層に含まれる紫外線吸収剤又は酸化防止剤をその表面に偏在させることによって抑制できることを見出した(後述の図1参照)。この理由は明らかではないが、以下のように推測される。紫外線吸収剤又は酸化防止剤を基材層の表面に偏在させることで、易接着層を積層する前のコロナ処理等の親水化処理を安定に施しやすくなり、親水性基を多く生成させやすい。それにより、基材層と易接着層との間の接着不良となる領域(隙間)を低減できるので、接着ムラを低減できると考えられる。 On the other hand, the present inventors have found that the optical unevenness due to the above 1) can be suppressed by unevenly distributing the ultraviolet absorber or the antioxidant contained in the base material layer on the surface (see FIG. 1 described later). ). The reason for this is not clear, but it is speculated as follows. By unevenly distributing the ultraviolet absorber or the antioxidant on the surface of the base material layer, it becomes easy to stably perform hydrophilic treatment such as corona treatment before laminating the easy-adhesion layer, and easily generate many hydrophilic groups. As a result, it is possible to reduce the area (gap) in which the adhesion failure occurs between the base material layer and the easy-adhesion layer, so that it is possible to reduce the adhesion unevenness.

また本発明者らは、上記2)による光学ムラは、基材層中の残留溶媒量を一定以上に調整することによって抑制できることを見出した。この理由は明らかではないが、以下のように推測される。基材層が一定以上の残留溶媒量を含むことで、基材層の柔軟性が高められる。それにより、高温高湿下において、吸水した易接着層が膨張したときに、基材層も当該易接着層の膨張変形に追従し易い。その結果、両者間で膨張しようとする力の差が小さくなり、歪みが生じ難い。それにより、光学積層フィルムの反りが抑制され、偏光子の吸収軸と光学積層フィルムの遅相軸との間で軸ズレが抑制されると考えられる。 The present inventors have also found that the optical unevenness due to the above 2) can be suppressed by adjusting the amount of residual solvent in the base material layer to a certain level or more. The reason for this is not clear, but it is speculated as follows. The flexibility of the base material layer is enhanced by the base material layer containing a certain amount of residual solvent or more. As a result, when the water-absorbed easy-adhesion layer expands under high temperature and high humidity, the base material layer also easily follows the expansion deformation of the easy-adhesion layer. As a result, the difference in force between the two that expands is reduced, and distortion is unlikely to occur. It is considered that this suppresses the warp of the optical laminated film and suppresses the axial deviation between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the optical laminated film.

このように、本発明では、基材層に含まれる紫外線吸収剤又は酸化防止剤をその表面に偏在させ、且つ基材層中の残留溶媒量を一定以上に調整することで、良好な耐久性を有しつつ、高温高湿下における液晶表示装置の光学ムラを抑制しうる光学積層フィルムを得ることができる。 As described above, in the present invention, the ultraviolet absorber or the antioxidant contained in the base material layer is unevenly distributed on the surface, and the residual solvent amount in the base material layer is adjusted to be equal to or more than a certain level, thereby providing good durability. While having the above, it is possible to obtain an optical laminated film capable of suppressing optical unevenness of a liquid crystal display device under high temperature and high humidity.

1.光学積層フィルム
図1は、本発明の光学積層フィルムの構成の一例を示す模式図である。図1に示されるように、本発明の光学積層フィルム10は、基材層11と、易接着層13とを含む。
1. Optical Laminated Film FIG. 1 is a schematic view showing an example of the configuration of the optical laminated film of the present invention. As shown in FIG. 1, the optical laminated film 10 of the present invention includes a base material layer 11 and an easy-adhesion layer 13.

1-1.基材層11について
基材層11は、シクロオレフィン系樹脂を主成分として含み、紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方をさらに含む。
1-1. Base Material Layer 11 The base material layer 11 contains a cycloolefin resin as a main component, and further contains at least one of an ultraviolet absorber and an antioxidant.

1-1-1.シクロオレフィン系樹脂
シクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体である。
1-1-1. Cycloolefin Resin The cycloolefin resin is a polymer of a cycloolefin monomer or a copolymer of a cycloolefin monomer and another copolymerizable monomer.

シクロオレフィン単量体は、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体であることが好ましく、下記一般式(A−1)又は(A−2)で表される構造を有するシクロオレフィン単量体であることがより好ましい。

Figure 0006728650
The cycloolefin monomer is preferably a cycloolefin monomer having a norbornene skeleton, and is a cycloolefin monomer having a structure represented by the following general formula (A-1) or (A-2). Is more preferable.
Figure 0006728650

一般式(A−1)のR〜Rは、独立して水素原子、炭素原子数1〜30の炭化水素基、又は極性基を表す。但し、R〜Rの全てが水素原子となる場合を除き、RとRが同時に水素原子となるか、又はRとRが同時に水素原子となる場合はないものとする。 R 1 to R 4 in formula (A-1) independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, or a polar group. However, except when all of R 1 to R 4 are hydrogen atoms, R 1 and R 2 are hydrogen atoms at the same time, or R 3 and R 4 are not hydrogen atoms at the same time.

炭素原子数1〜30の炭化水素基は、炭素原子数1〜10の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数1〜5の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数1〜30の炭化水素基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基をさらに有していてもよい。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の2価の極性基が含まれる。炭素原子数1〜30の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が含まれる。 The hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms is preferably a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. The hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms may further have a connecting group containing a halogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom. Examples of such a linking group include a carbonyl group, an imino group, a divalent polar group such as an ether bond, a silyl ether bond and a thioether bond. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group and the like.

極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリロキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリロキシカルボニル基が好ましい。 Examples of the polar group include a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an amino group, an amide group and a cyano group. Of these, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, and an allyloxycarbonyl group are preferable, and an alkoxycarbonyl group and an allyloxycarbonyl group are preferable from the viewpoint of ensuring solubility during solution film formation.

一般式(A−1)のpは、0〜2の整数を示す。pは、1又は2であることが好ましい。 P of General formula (A-1) shows the integer of 0-2. p is preferably 1 or 2.

Figure 0006728650
Figure 0006728650

一般式(A−2)のRは、水素原子、炭素数1〜5の炭化水素基、又は炭素数1〜5のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。中でも、炭素数1〜5の炭化水素基が好ましく、炭素数1〜3の炭化水素基がより好ましい。 R 5 in the general formula (A-2) represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkylsilyl group having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Especially, a C1-C5 hydrocarbon group is preferable and a C1-C3 hydrocarbon group is more preferable.

一般式(A−2)のRは、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子)を表す。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリロキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリロキシカルボニル基がより好ましい。 R 6 in formula (A-2) represents a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group, an allyloxycarbonyl group, an amino group, an amide group, a cyano group, or a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or iodine). Atom). Among them, a carboxy group, a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group and an allyloxycarbonyl group are preferable, and an alkoxycarbonyl group and an allyloxycarbonyl group are more preferable from the viewpoint of ensuring the solubility during solution film formation.

一般式(A−2)のpは、0〜2の整数を表す。pは、1又は2であることが好ましい。 P of General formula (A-2) represents the integer of 0-2. p is preferably 1 or 2.

一般式(A−2)で表されるシクロオレフィン単量体は、非対称な構造を有する。即ち、一般式(A−2)で表されるシクロオレフィン単量体の置換基R及びRが、分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低い。そのようなシクロオレフィン単量体は、後述する基材フィルムの製造工程において、流延されたドープを乾燥させる際に、紫外線吸収剤や酸化防止剤の拡散移動を促進しうるので、これらの成分の分布状態を調整しやすくしうると考えられる。 The cycloolefin monomer represented by the general formula (A-2) has an asymmetric structure. That is, since the substituents R 5 and R 6 of the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-2) are substituted only on the ring-constituting carbon atoms on one side of the symmetry axis of the molecule, Has low symmetry. Such a cycloolefin monomer can accelerate the diffusion and transfer of the ultraviolet absorber and the antioxidant when the cast dope is dried in the production process of the base film described later, and thus these components It is thought that the distribution state of can be easily adjusted.

一般式(A−1)で表されるシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物1〜14に示し、一般式(A−2)で表されるシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物15〜34に示す。

Figure 0006728650
Specific examples of the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-1) are shown in Exemplified compounds 1 to 14, and specific examples of the cycloolefin monomer represented by the general formula (A-2) are exemplified compounds. 15 to 34.
Figure 0006728650

シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、シクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体が含まれる。 Examples of copolymerizable monomers that can be copolymerized with cycloolefin monomers include copolymerizable monomers that can be ring-opening copolymerized with cycloolefin monomers, and addition copolymerizable with cycloolefin monomers. Such copolymerizable monomers are included.

開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。 Examples of the ring-opening copolymerizable copolymerizable monomer include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene, and dicyclopentadiene.

付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体、(メタ)アクリレートが含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数2〜12(好ましくは2〜8)のオレフィン系化合物であり、その例には、エチレン、プロピレン、ブテンが含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、4−ビニルシクロペンテン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。(メタ)アクリレートの例には、メチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の炭素原子数1〜20のアルキル(メタ)アクリレートが含まれる。 Examples of the copolymerizable monomer capable of addition copolymerization include unsaturated double bond-containing compounds, vinyl cyclic hydrocarbon monomers, and (meth)acrylate. Examples of the unsaturated double bond-containing compound are olefinic compounds having 2 to 12 carbon atoms (preferably 2 to 8), and examples thereof include ethylene, propylene and butene. Examples of vinyl-based cyclic hydrocarbon monomers include vinyl-cyclopentene-based monomers such as 4-vinylcyclopentene and 2-methyl-4-isopropenylcyclopentene. Examples of the (meth)acrylate include alkyl(meth)acrylates having 1 to 20 carbon atoms such as methyl(meth)acrylate, 2-ethylhexyl(meth)acrylate and cyclohexyl(meth)acrylate.

シクロオレフィン系樹脂は、前述の通り、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体、好ましくは一般式(A−1)又は(A−2)で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を重合又は共重合して得られる重合体であり、その例には、以下のものが含まれる。
(1)シクロオレフィン単量体の開環重合体
(2)シクロオレフィン単量体とそれと開環共重合可能な共重合性単量体との開環共重合体
(3)上記(1)又は(2)の開環(共)重合体の水素添加物
(4)上記(1)又は(2)の開環(共)重合体をフリーデルクラフツ反応により環化した後、水素添加した(共)重合体
(5)シクロオレフィン単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体
(6)シクロオレフィン系単量体のビニル系環状炭化水素単量体との付加共重合体及びその水素添加物
(7)シクロオレフィン系単量体と(メタ)アクリレートとの交互共重合体
As described above, the cycloolefin-based resin is obtained by polymerizing a cycloolefin monomer having a norbornene skeleton, preferably a cycloolefin monomer having a structure represented by the general formula (A-1) or (A-2). It is a polymer obtained by copolymerization, and examples thereof include the following.
(1) Ring-opening polymer of cycloolefin monomer (2) Ring-opening copolymer of cycloolefin monomer and copolymerizable monomer capable of ring-opening copolymerization (3) The above (1) or (2) Hydrogenated product of ring-opened (co)polymer (4) The ring-opened (co)polymer of (1) or (2) above was cyclized by Friedel-Crafts reaction and then hydrogenated (co-polymerized). ) Polymer (5) Saturated copolymer of cycloolefin monomer and unsaturated double bond-containing compound (6) Addition copolymer of cycloolefin monomer with vinyl cyclic hydrocarbon monomer, and The hydrogenated product (7) Alternating copolymer of cycloolefin monomer and (meth)acrylate

中でも、(1)〜(3)が好ましく、(3)がより好ましい。即ち、シクロオレフィン系樹脂は、得られるシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度を高くし、且つ光透過率を高くすることができる点で、下記一般式(B−1)で表される構造単位と下記一般式(B−2)で表される構造単位の少なくとも一方を含むことが好ましい。一般式(B−1)で表される構造単位は、前述の一般式(A−1)で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位であり、一般式(B−2)で表される構造単位は、前述の一般式(A−2)で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位である。 Among them, (1) to (3) are preferable, and (3) is more preferable. That is, the cycloolefin-based resin is a structural unit represented by the following general formula (B-1) in that the glass transition temperature and the light transmittance of the obtained cycloolefin-based resin can be increased. It is preferable to include at least one of the structural units represented by the following general formula (B-2). The structural unit represented by the general formula (B-1) is a structural unit derived from the cycloolefin monomer represented by the above general formula (A-1), and is represented by the general formula (B-2). The structural unit represented by the general formula (A-2) is a structural unit derived from the cycloolefin monomer.

Figure 0006728650
Figure 0006728650

一般式(B−1)のXは、−CH=CH−又は−CHCH−である。 X in the general formula (B-1), -CH = CH- or -CH 2 CH 2 -.

一般式(B−1)のR〜R及びpは、一般式(A−1)のR〜R及びpとそれぞれ同義である。 R 1 to R 4 and p in general formula (B-1) are respectively and R 1 to R 4 and p of formula (A-1) synonymous.

Figure 0006728650
Figure 0006728650

一般式(B−2)のXは、−CH=CH−又は−CHCH−である。 X in the general formula (B-2) is, -CH = CH- or -CH 2 CH 2 -.

一般式(B−2)のR〜R及びpは、一般式(A−2)のR〜R及びpとそれぞれ同義である。 R 5 to R 6 and p in the general formula (B-2) are respectively and R 5 to R 6 and p in the general formula (A-2) synonymous.

シクロオレフィン系樹脂は、いずれも公知の方法、例えば特開2008−107534号公報、特開2005−227606号公報及び特許第4466272号公報に記載の方法で得ることができる。例えば、(3)の重合体は、モノマーを溶液重合させた後、得られた開環重合体の主鎖の二重結合を水素化する。水素化後に得られた重合体から触媒を除去(脱触媒)し、さらに減圧乾燥して溶媒を除去(脱溶媒)して、(3)の重合体を得る。得られる光学積層フィルムの基材層中の残留溶媒量の調整は、シクロオレフィン系樹脂を合成するときの、溶液重合に用いる溶媒の種類や、得られた開環重合体から溶媒を除去(脱溶媒)する際の乾燥条件の調整によって行うことができる。 All of the cycloolefin resins can be obtained by known methods, for example, the methods described in JP-A-2008-107534, JP-A-2005-227606 and JP-A-4466272. For example, the polymer (3) hydrogenates the double bond of the main chain of the obtained ring-opening polymer after solution polymerization of the monomer. The catalyst is removed (decatalyst) from the polymer obtained after hydrogenation, and further dried under reduced pressure to remove the solvent (desolvate) to obtain the polymer (3). The amount of residual solvent in the substrate layer of the obtained optical laminated film is adjusted by removing the solvent from the ring-opening polymer and the type of solvent used for solution polymerization when synthesizing the cycloolefin resin. It can be performed by adjusting the drying conditions when the solvent is used.

シクロオレフィン系樹脂の固有粘度〔η〕inhは、0.2〜5cm/gであることが好ましく、0.3〜3cm/gであることがより好ましく、0.4〜1.5cm/gであることがさらに好ましい。 Intrinsic viscosity [η] inh of cycloolefin resin is preferably 0.2~5cm 3 / g, more preferably 0.3~3cm 3 / g, 0.4~1.5cm 3 /G is more preferable.

シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量(Mn)は、8000〜100000であることが好ましく、10000〜80000であることがより好ましく、12000〜50000であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、20000〜300000であることが好ましく、30000〜250000であることがより好ましく、40000〜200000であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量や重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)にてポリスチレン換算にて測定することができる。 The number average molecular weight (Mn) of the cycloolefin resin is preferably 8000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80,000, and further preferably 12,000 to 50,000. The weight average molecular weight (Mw) of the cycloolefin resin is preferably 20,000 to 300,000, more preferably 30,000 to 250,000, and further preferably 40,000 to 200,000. The number average molecular weight and the weight average molecular weight of the cycloolefin resin can be measured by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene.

固有粘度〔η〕inh、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあると、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性とフィルムとしての成形加工性が良好となる。 When the intrinsic viscosity [η] inh, the number average molecular weight, and the weight average molecular weight are in the above ranges, the heat resistance, water resistance, chemical resistance, mechanical properties of the cycloolefin resin and the processability as a film are improved. ..

シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、通常、110℃以上であり、110〜350℃であることが好ましく、120〜250℃であることがより好ましく、120〜220℃であることがさらに好ましい。Tgが110℃以上であると、高温条件下での変形を抑制しやすい。一方、Tgが350℃以下であると、成形加工が容易となり、成形加工時の熱による樹脂の劣化も抑制しやすい。 The glass transition temperature (Tg) of the cycloolefin resin is usually 110° C. or higher, preferably 110 to 350° C., more preferably 120 to 250° C., and 120 to 220° C. More preferable. When Tg is 110° C. or higher, it is easy to suppress deformation under high temperature conditions. On the other hand, when the Tg is 350° C. or lower, the molding process becomes easy, and the deterioration of the resin due to heat during the molding process is easily suppressed.

シクロオレフィン系樹脂の含有量は、基材層11に対して70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましい。 The content of the cycloolefin-based resin is preferably 70% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more, based on the base material layer 11.

1-1-2.紫外線吸収剤
紫外線吸収剤は、光学積層フィルムの耐久性を向上させる目的で添加される。そのような紫外線吸収剤は、400nm以下の紫外線を吸収する化合物であることが好ましく、具体的には、波長370nmの光の透過率が10%以下、好ましくは5%以下、より好ましくは2%以下の化合物である。
1-1-2. Ultraviolet absorber The ultraviolet absorber is added for the purpose of improving the durability of the optical laminated film. Such an ultraviolet absorber is preferably a compound that absorbs ultraviolet rays having a wavelength of 400 nm or less, and specifically, the transmittance of light having a wavelength of 370 nm is 10% or less, preferably 5% or less, more preferably 2%. The following compounds.

紫外線吸収剤の例には、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体、及び高分子紫外線吸収剤が含まれる。紫外線吸収剤は、1種類であってもよいし、2種以上を組み合わせてもよい。 Examples of UV absorbers include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, inorganic powders, and polymer UV absorbers. Agents are included. The ultraviolet absorber may be one kind or a combination of two or more kinds.

中でも、良好な紫外線吸収能を有することから、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物及びトリアジン系化合物が好ましく、ベンゾトリアゾール系化合物及びベンゾフェノン系化合物がより好ましい。 Among these, benzotriazole compounds, benzophenone compounds and triazine compounds are preferable, and benzotriazole compounds and benzophenone compounds are more preferable, because they have good ultraviolet absorption ability.

ベンゾトリアゾール系化合物の例には、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノールが含まれる。ベンゾフェノン系化合物の例には、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノンが含まれる。 Examples of the benzotriazole-based compound include 5-chloro-2-(3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl)-2H-benzotriazole and (2-2H-benzotriazol-2-yl)-. 6-(linear and side chain dodecyl)-4-methylphenol is included. Examples of the benzophenone compound include 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone and 2,4-benzyloxybenzophenone.

市販品の例には、Tinuvin109、Tinuvin171、Tinuvin234、Tinuvin326、Tinuvin327、Tinuvin328、Tinuvin928等のTinuvinシリーズがあり、これらはいずれもBASF社製の市販品である。 Examples of commercially available products include Tinuvin series such as Tinuvin109, Tinuvin171, Tinuvin234, Tinuvin326, Tinuvin327, Tinuvin328, Tinuvin928 and the like, all of which are commercially available products from BASF.

紫外線吸収剤の含有量(基材層11における総含有量)は、例えばシクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜10質量%であることが好ましい。紫外線吸収剤の含有量が0.1質量%以上であれば、光学積層フィルムの耐久性(特に耐候性)を十分に高めうる。紫外線吸収剤の含有量が10質量%以下であれば、光学積層フィルムの透明性が損なわれ難い。紫外線吸収剤の含有量は、0.5〜5質量%であることがより好ましい。 The content of the ultraviolet absorber (total content in the base material layer 11) is preferably, for example, 0.1 to 10 mass% with respect to the cycloolefin resin. When the content of the ultraviolet absorber is 0.1% by mass or more, the durability (particularly weather resistance) of the optical laminated film can be sufficiently enhanced. When the content of the ultraviolet absorber is 10% by mass or less, the transparency of the optical laminated film is not easily impaired. The content of the ultraviolet absorber is more preferably 0.5 to 5% by mass.

1-1-3.酸化防止剤(劣化防止剤)
酸化防止剤は、高温高湿下における光学積層フィルムの劣化を抑制する目的で添加されうる。酸化防止剤の例には、ヒンダードフェノール系化合物が含まれる。ヒンダードフェノール系化合物の例には、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアネート等が含まれる。酸化防止剤は、1種類であってもよいし、2種以上を組み合わせてもよい。
中でも、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。
1-1-3. Antioxidant (deterioration inhibitor)
The antioxidant may be added for the purpose of suppressing deterioration of the optical laminated film under high temperature and high humidity. Examples of antioxidants include hindered phenolic compounds. Examples of the hindered phenol compound include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate]. , Triethylene glycol-bis[3-(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 1,6-hexanediol-bis[3-(3,5-di-t-butyl- 4-Hydroxyphenyl)propionate], 2,4-bis-(n-octylthio)-6-(4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino)-1,3,5-triazine, 2,2- Thio-diethylenebis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], octadecyl-3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, N, N'-hexamethylenebis(3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamide), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris(3,5-di-t) -Butyl-4-hydroxybenzyl)benzene, tris-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)-isocyanate and the like are included. The antioxidant may be one kind or a combination of two or more kinds.
Among them, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], triethylene glycol-bis[3 -(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)propionate] is preferred.

酸化防止剤は、例えばN,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト等のリン系加工安定剤と併用されてもよい。 Examples of the antioxidant include hydrazine-based metal deactivators such as N,N'-bis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyl]hydrazine and tris(2,4-). It may be used in combination with a phosphorus-based processing stabilizer such as di-t-butylphenyl)phosphite.

酸化防止剤の含有量(基材層11における総含有量)は、例えばシクロオレフィン系樹脂に対して0.1〜10質量%であることが好ましい。酸化防止剤の含有量が0.1質量%以上であれば、光学積層フィルムの耐久性(特に耐候性)を十分に高めうる。酸化防止剤の含有量が10質量%以下であれば、光学積層フィルムの透明性が損なわれ難い。酸化防止剤の含有量は、0.5〜5質量%であることがより好ましい。 The content of the antioxidant (total content in the base material layer 11) is preferably 0.1 to 10 mass% with respect to the cycloolefin resin, for example. When the content of the antioxidant is 0.1% by mass or more, the durability (particularly weather resistance) of the optical laminated film can be sufficiently enhanced. When the content of the antioxidant is 10% by mass or less, the transparency of the optical laminated film is less likely to be impaired. The content of the antioxidant is more preferably 0.5 to 5% by mass.

1-1-4.その他の成分
基材層11は、本発明の効果を損なわない範囲で、他の添加剤をさらに含んでいてもよい。他の添加剤の例には、可塑剤、熱安定剤、微粒子(マット剤)、界面活性剤、フッ素系界面活性剤及び剥離助剤等が含まれる。
1-1-4. Other Components The base material layer 11 may further contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of other additives include plasticizers, heat stabilizers, fine particles (matting agents), surfactants, fluorochemical surfactants, release aids, and the like.

(微粒子)
微粒子は、基材層の表面に凹凸を付与し、滑り性を向上させうる。微粒子は、無機微粒子又は有機微粒子でありうる。無機微粒子の例には、シリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア等の無機酸化物の微粒子や;炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、燐酸カルシウム等の微粒子が含まれる。有機微粒子の例には、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、(メタ)アクリル系樹脂等の微粒子が含まれる。中でも、ヘイズを生じ難く、着色も少ないことから、シリカ粒子が好ましい。
(Fine particles)
The fine particles can give unevenness to the surface of the base material layer and improve slipperiness. The fine particles may be inorganic fine particles or organic fine particles. Examples of inorganic fine particles are fine particles of inorganic oxides such as silica, titania, alumina, zirconia; calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrous calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate. And the like are included. Examples of organic fine particles include fine particles of silicone resin, fluororesin, (meth)acrylic resin, and the like. Among them, silica particles are preferable because they are less likely to cause haze and less colored.

微粒子の平均粒子径は、1nm〜500nmであることが好ましく、5nm〜300nmであることがより好ましい。平均粒子径を1nm以上とすることで、易接着層の滑り性を効果的に高めることができ、500nm以下とすることで、ヘイズを低く抑えることができる。微粒子の平均粒子径は、レーザー回折法によって粒径分布を測定し、測定された粒径分布において小径側から計算した累積体積が50%となる粒子径(50%体積累積径D50)とする。 The average particle diameter of the fine particles is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 300 nm. By setting the average particle size to 1 nm or more, the slipperiness of the easy-adhesion layer can be effectively enhanced, and by setting it to 500 nm or less, the haze can be suppressed low. The average particle diameter of the fine particles is the particle diameter (50% volume cumulative diameter D50) at which the cumulative volume calculated from the smaller diameter side in the measured particle diameter distribution is 50% by measuring the particle diameter distribution by the laser diffraction method.

微粒子の含有量は、基材層11に対して10質量%以下としうる。 The content of the fine particles may be 10% by mass or less with respect to the base material layer 11.

基材層11は、易接着層13との接着性をさらに高める観点から、親水化処理が施されていることが好ましい。親水化処理を施すことで、基材層11の表面の親水性を高めることができ、易接着層11との接着性を高めうる。親水化処理は、少なくとも基材層11の易接着層13との接着面に施されていることが好ましい。 The base material layer 11 is preferably subjected to a hydrophilization treatment from the viewpoint of further enhancing the adhesiveness with the easy-adhesion layer 13. By applying the hydrophilic treatment, the hydrophilicity of the surface of the base material layer 11 can be enhanced, and the adhesiveness with the easily adhesive layer 11 can be enhanced. The hydrophilic treatment is preferably performed on at least the adhesive surface of the base material layer 11 with the easy-adhesion layer 13.

親水化処理の例には、後述するようにコロナ(放電)処理、プラズマ処理、フレーム処理、イトロ処理、グロー処理、オゾン処理、プライマー塗布処理等が含まれ、生産性の観点から、好ましくはコロナ処理又はプラズマ処理である。 Examples of the hydrophilic treatment include corona (discharge) treatment, plasma treatment, flame treatment, itro treatment, glow treatment, ozone treatment, primer coating treatment, etc., as described later, and from the viewpoint of productivity, corona treatment is preferable. Processing or plasma processing.

1-1-5.基材層11の物性
(紫外線吸収剤/酸化防止剤の含有分布)
基材層11は、少なくとも易接着層13が配置された面に紫外線吸収剤と酸化防止剤の少なくとも一方が偏在していることが好ましい(図1参照)。図1の例では、濃いグラデーション領域が紫外線吸収剤及び酸化防止剤が偏在している領域を示す。
1-1-5. Physical properties of the base material layer 11 (content distribution of ultraviolet absorber/antioxidant)
It is preferable that at least one of the ultraviolet absorber and the antioxidant is unevenly distributed on at least the surface of the base material layer 11 on which the easy-adhesion layer 13 is arranged (see FIG. 1 ). In the example of FIG. 1, the dark gradation area shows the area where the ultraviolet absorber and the antioxidant are unevenly distributed.

具体的には、基材層11の表面に垂直な切断面において、基材層11の領域C(中間層領域)における紫外線吸収剤及び酸化防止剤の合計含有量をMcとし、基材層11の易接着層13が配置された面を含む領域Sにおける紫外線吸収剤及び酸化防止剤の合計含有量をMsとしたとき、Mc/Msが0.01以上1未満であることが好ましく、0.01以上0.7以下であることがより好ましい。Mc/Msが1未満、好ましくは0.7以下であると、基材層11の易接着層13が配置される面に紫外線吸収剤又は酸化防止剤が偏在しているので、当該表面近傍のシクロオレフィン系樹脂の高分子鎖が動きにくく、固定されやすい。それにより、コロナ処理等の親水化処理によりOH基等の親水性基が安定に生成しやすく、基材層11の親水性基が安定に生成した面に易接着層が積層されているので、基材層11と易接着層13との間で均一且つ良好な接着性が得られやすい。 Specifically, in the cut surface perpendicular to the surface of the base material layer 11, the total content of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region C (intermediate layer region) of the base material layer 11 is Mc, and the base material layer 11 When the total content of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region S including the surface on which the easy-adhesion layer 13 is arranged is Ms, Mc/Ms is preferably 0.01 or more and less than 1, and 0. It is more preferably from 01 to 0.7. When Mc/Ms is less than 1, preferably 0.7 or less, the ultraviolet absorber or the antioxidant is unevenly distributed on the surface of the base material layer 11 on which the easily adhesive layer 13 is arranged. The polymer chain of cycloolefin resin is difficult to move and is easily fixed. Thereby, a hydrophilic group such as an OH group is likely to be stably generated by a hydrophilic treatment such as a corona treatment, and the easily adhesive layer is laminated on the surface of the base material layer 11 on which the hydrophilic group is stably generated. Uniform and good adhesiveness is easily obtained between the base material layer 11 and the easy-adhesion layer 13.

図2は、基材層11の表面に垂直な切断面における、基材層11の領域Sと領域Cを説明する図である。同図において、上側が、易接着層13が配置される側となる。図2に示されるように、領域Sは、基材層11の易接着層が配置される面から厚み方向に0.1t(t:基材層11の厚み)の位置までの表層領域を示し、領域Cは、基材層11の中心から厚み方向に±0.1tの位置までの中間層領域を示す。 FIG. 2 is a diagram illustrating a region S and a region C of the base material layer 11 on a cut surface perpendicular to the surface of the base material layer 11. In the figure, the upper side is the side where the easy-adhesion layer 13 is arranged. As shown in FIG. 2, the region S represents a surface layer region from the surface of the base material layer 11 on which the easy-adhesion layer is arranged to a position of 0.1 t (t: thickness of the base material layer 11) in the thickness direction. , Region C indicates the intermediate layer region from the center of the base material layer 11 to the position of ±0.1 t in the thickness direction.

基材層11の易接着層が配置された面を含む領域SがMc/Msが1未満を満たしていればよいが(図1及び図2参照)、基材層11の易接着層13が配置されていない面を含む領域S’における紫外線吸収剤及び酸化防止剤の合計含有量をMs’としたとき、Mc/Ms’が0.01以上1未満、好ましくは0.01以上0.7以下をさらに満たしてもよい(図3及び図2参照)。 It suffices that the region S including the surface of the base material layer 11 on which the easy adhesion layer is arranged satisfies Mc/Ms of less than 1 (see FIGS. 1 and 2), but the easy adhesion layer 13 of the base material layer 11 is When the total content of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region S′ including the surface not arranged is Ms′, Mc/Ms′ is 0.01 or more and less than 1, preferably 0.01 or more and 0.7. The following may be further satisfied (see FIGS. 3 and 2).

基材層11における紫外線吸収剤又は酸化防止剤の分布状態やMc/Msは、以下の方法で測定することができる。即ち、
1)光学積層フィルム10をミクロトームで切断し、光学積層フィルム10の表面に垂直な切断面を得る。
2)得られた光学積層フィルム10の切断面のうち、基材層11の領域Sと領域Cを含む測定領域における有機物の面分布像を、Thermo Fisher Scientific 社のNicolet380を用いてATR法により測定する。測定領域は、基材層の厚みをtとしたとき、1.5t×1.5tの領域としうる。
3)測定対象となる紫外線吸収剤又は酸化防止剤のピーク(測定対象ピーク)を抽出し、その吸光度から含有量を数値化し、可視化したIRイメージ像を得る。IRイメージ像から、基材層11の切断面における紫外線吸収剤又は酸化防止剤の分布状態を把握する。
Mc/Msの値は、上記測定領域のうち、領域Sにおける測定対象ピークの吸光度の積算値と、領域Cにおける測定対象ピークの吸光度の積算値との比から求めることができる。測定対象ピークは、予め測定しておくものとする。Mc/Ms’の値も同様にして測定することができる。
The distribution state or Mc/Ms of the ultraviolet absorber or the antioxidant in the base material layer 11 can be measured by the following method. That is,
1) The optical laminated film 10 is cut with a microtome to obtain a cut surface perpendicular to the surface of the optical laminated film 10.
2) Of the cut surface of the obtained optical laminated film 10, a surface distribution image of organic substances in a measurement area including the area S and the area C of the base material layer 11 is measured by ATR method using Nicolet 380 manufactured by Thermo Fisher Scientific. To do. The measurement region may be a region of 1.5t×1.5t, where t is the thickness of the base material layer.
3) The peak of the ultraviolet absorber or the antioxidant to be measured (peak to be measured) is extracted, the content is quantified from the absorbance, and a visualized IR image image is obtained. From the IR image image, the distribution state of the ultraviolet absorber or the antioxidant on the cut surface of the base material layer 11 is grasped.
The value of Mc/Ms can be obtained from the ratio of the integrated value of the absorbance of the measurement target peak in the region S and the integrated value of the absorbance of the measurement target peak in the region C in the measurement region. The peak to be measured shall be measured in advance. The value of Mc/Ms' can be measured in the same manner.

Mc/Msは、例えば基材層11の製造工程における、ドープの溶媒組成や乾燥前の膜状物の残留溶媒量によって調整することができる。紫外線吸収剤/酸化防止剤を基材層11の表層に偏在させるためには、乾燥前の膜状物中の残留溶媒量が少なくなるようにすることが好ましく、例えばドープの溶媒組成を、良溶媒(低沸点溶媒)の含有割合を多くし、且つ乾燥前の膜状物の残留溶媒量を少なくすることが好ましい。乾燥前の膜状物中の残留溶媒量が少なくなるようにすると、Mc/Msを上記範囲に調整しやすい(紫外線吸収剤や酸化防止剤が表面に偏在しやすい)理由は明らかではないが、乾燥前の膜状物の残留溶媒量が少ないと、当該膜状物の表面近傍にある紫外線吸収剤や酸化防止剤が揮発しにくく、膜状物の表面に密集しやすいからであると考えられる。 Mc/Ms can be adjusted by, for example, the solvent composition of the dope or the residual solvent amount of the film-shaped material before drying in the manufacturing process of the base material layer 11. In order to unevenly distribute the ultraviolet absorber/antioxidant on the surface layer of the base material layer 11, it is preferable to reduce the amount of residual solvent in the film material before drying. It is preferable to increase the content ratio of the solvent (low-boiling point solvent) and reduce the residual solvent amount of the film material before drying. If the amount of residual solvent in the film material before drying is reduced, it is not clear why it is easy to adjust Mc/Ms to the above range (the ultraviolet absorber and the antioxidant are likely to be unevenly distributed on the surface). It is considered that when the amount of residual solvent of the film-form material before drying is small, the ultraviolet absorber and the antioxidant in the vicinity of the surface of the film-form product are hard to volatilize and are likely to be concentrated on the surface of the film-form product. ..

(残留溶媒量)
基材層11に含まれる残留溶媒量は、100〜2000ppmであることが好ましい。残留溶媒量が100ppm以上であると、基材層11が適度な柔軟性を有しうる。それにより、光学積層フィルム10の易接着層13に水系接着剤を塗布して偏光子と貼り合わせる際に、易接着層13が吸水して膨張する力に基材層11が追従しやすく、両者の層に歪みが生じにくい。それにより、光学積層フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸との軸ズレが生じにくく、光学ムラを抑制できる。残留溶媒量が2000ppm以下であると、基材層11の強度が損なわれ難い。基材層11中の残留溶媒量は、100〜800ppmであることがより好ましい。
(Amount of residual solvent)
The amount of residual solvent contained in the base material layer 11 is preferably 100 to 2000 ppm. When the amount of residual solvent is 100 ppm or more, the base material layer 11 may have appropriate flexibility. Thereby, when the water-based adhesive is applied to the easy-adhesion layer 13 of the optical laminated film 10 and is bonded to the polarizer, the base material layer 11 easily follows the force of the easy-adhesion layer 13 absorbing and expanding. Is less likely to be distorted. As a result, axial misalignment between the slow axis of the optical laminated film and the absorption axis of the polarizer hardly occurs, and optical unevenness can be suppressed. When the amount of residual solvent is 2000 ppm or less, the strength of the base material layer 11 is less likely to be impaired. The residual solvent amount in the base material layer 11 is more preferably 100 to 800 ppm.

基材層11は、残留溶媒として100〜300ppmのトルエンを含むことが好ましい。トルエンは、極性が低いため、シクロオレフィン系樹脂との相溶性が良い。従って、基材層11中で樹脂の流動性が担保されやすい(高分子鎖が動きやすい)ことから、それを含む基材層11は、易接着層13が吸水したときの膨張変形に追従しやすい。その結果、光学積層フィルムの反りを抑制し、光学ムラをより抑制しうる。 The base material layer 11 preferably contains 100 to 300 ppm of toluene as a residual solvent. Since toluene has low polarity, it has good compatibility with cycloolefin resins. Therefore, since the fluidity of the resin is easily secured in the base material layer 11 (the polymer chains are easy to move), the base material layer 11 containing it easily follows the expansive deformation when the easy-adhesion layer 13 absorbs water. Cheap. As a result, warpage of the optical laminated film can be suppressed, and optical unevenness can be further suppressed.

基材層11に含まれる残留溶媒の定性及び定量は、ヘッドスペースガスクロマトグラフィーにより行うことができる。即ち、ヘッドスペースガスクロマトグラフィーでは、試料を容器に封入して加熱し、容器中に揮発成分が充満した状態で速やかに容器中のガスをガスクロマトグラフに注入し、質量分析を行って化合物の同定を行いながら揮発成分の定量を行うものである。揮発成分の定量は、濃度が既知の試料を用いて検量線を予め作成しておき、測定で得られた揮発成分のピーク面積と検量線とを照合して行うことができる。具体的な測定装置や測定条件は、後述する実施例と同様である。 The qualitative and quantitative determination of the residual solvent contained in the base material layer 11 can be performed by headspace gas chromatography. That is, in headspace gas chromatography, the sample is sealed in a container and heated, and the gas in the container is quickly injected into the gas chromatograph while the container is filled with volatile components, and the compound is identified by mass spectrometry. The volatile components are quantified while performing. The volatile component can be quantified by preparing a calibration curve in advance using a sample having a known concentration, and comparing the peak area of the volatile component obtained by the measurement with the calibration curve. Specific measuring devices and measuring conditions are the same as those in the examples described later.

基材層11に含まれる残留溶媒量は、前述したシクロオレフィン系樹脂の合成時の脱溶媒時の乾燥条件や;基材層11の製造時の膜状物の乾燥条件(後述する(1-3)の工程での乾燥条件)によって調整されうる。基材層11に含まれる残留溶媒量を一定以上とするためには、シクロオレフィン系樹脂の合成における脱溶媒時の乾燥温度を低くしたり;基材層11の製造における後述の(1-3)の工程での乾燥温度を低くしたりすればよい。 The amount of residual solvent contained in the base material layer 11 depends on the drying conditions when the solvent is removed during the synthesis of the cycloolefin-based resin described above; the drying conditions of the film-like material during the production of the base material layer 11 (see (1- It can be adjusted by the drying conditions) in the step 3). In order to keep the amount of residual solvent contained in the base material layer 11 above a certain level, the drying temperature at the time of solvent removal in the synthesis of the cycloolefin resin may be lowered; The drying temperature in the step (1) may be lowered.

(厚み)
基材層11の厚みは、光学積層フィルム10のRoとRthが後述する範囲を満たし、且つ薄型化する観点から、例えば10〜200μmであり、10〜100μmであることが好ましく、15〜60μmであることがより好ましく、15〜30μmであることがさらに好ましい。
(Thickness)
The thickness of the base material layer 11 is, for example, 10 to 200 μm, preferably 10 to 100 μm, and preferably 15 to 60 μm, from the viewpoint of satisfying the ranges of Ro and Rth of the optical laminated film 10 described later and reducing the thickness. It is more preferable that the thickness is 15 to 30 μm.

1−2.易接着層13について
易接着層13は、例えば偏光子との接着性を高める機能を付与する機能を有する。易接着層13は、特に水系接着剤を用いた際の接着性を高めうる層であることが好ましい。
1-2. About the Easy-Adhesion Layer 13 The easy-adhesion layer 13 has a function of imparting a function of enhancing the adhesiveness with a polarizer, for example. The easy-adhesion layer 13 is preferably a layer that can enhance the adhesiveness particularly when a water-based adhesive is used.

1-2-1.主成分について
易接着層13は、主成分として、加水分解性の親水性基と有機官能性基とを有するカップリング剤(アミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、クロル基等の反応性官能基と加水分解性のアルコキシシリル基とを有するシラン系カップリング剤;チタンを含む加水分解性の親水性基と有機官能性基とを有するチタネート系カップリング剤;アルミニウムを含む加水分解性の親水性基と有機官能性基とを有するアルミネート系カップリング剤等);又はアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、イソシアネート系樹脂及びウレタン系樹脂等の有機反応性基を有する樹脂を含むことが好ましい。
1-2-1. About the main component The easy-adhesion layer 13 has as its main component a coupling agent having a hydrolyzable hydrophilic group and an organic functional group (reactivity of amino group, vinyl group, epoxy group, mercapto group, chloro group, etc.). A silane coupling agent having a functional group and a hydrolyzable alkoxysilyl group; a titanate coupling agent having a hydrolyzable hydrophilic group containing titanium and an organic functional group; a hydrolyzable group containing aluminum Aluminate coupling agent having a hydrophilic group and an organic functional group); or an amide resin, an epoxy resin, an isocyanate resin and a resin having an organic reactive group such as a urethane resin are preferably contained. ..

中でも、易接着層13は、接着性を良好に高めうる点から、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂又はシラン系カップリング剤を含むことが好ましく、アミド系樹脂又はシラン系カップリング剤を含むことがより好ましい。 Among them, the easy-adhesion layer 13 preferably contains an amide-based resin, a urethane-based resin, or a silane-based coupling agent, and preferably an amide-based resin or a silane-based coupling agent, from the viewpoint that the adhesiveness can be favorably improved. More preferable.

(アミド系樹脂)
アミド系樹脂は、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂であることが好ましい。水溶性ポリアミドエポキシ樹脂は、ポリアミンとポリカルボン酸の縮重合物にエピハロヒドリンを反応させて得られるものである。
(Amide resin)
The amide resin is preferably a water-soluble polyamide epoxy resin. The water-soluble polyamide epoxy resin is obtained by reacting a polycondensation product of polyamine and polycarboxylic acid with epihalohydrin.

ポリアミンは、3官能以上のアミンであり、好ましくは3官能のアミンである。ポリアミンは、脂肪族ポリアミンであることが好ましい。ポリカルボン酸は、2官能以上のカルボン酸であり、好ましくは2官能のカルボン酸である。ポリカルボン酸は、脂肪族ポリカルボン酸であることが好ましい。エピハロヒドリンは、好ましくはエピクロロヒドリンである。 The polyamine is a tri- or higher functional amine, preferably a tri-functional amine. The polyamine is preferably an aliphatic polyamine. The polycarboxylic acid is a bifunctional or higher functional carboxylic acid, preferably a bifunctional carboxylic acid. The polycarboxylic acid is preferably an aliphatic polycarboxylic acid. Epihalohydrin is preferably epichlorohydrin.

水溶性ポリアミドエポキシ樹脂の市販品の例には、田岡化学工業(株)製のスミレーズレジン(登録商標)6615、650(30)、675A、星光PMC社製のWSシリーズ、荒川化学工業(株)アラフィックス530、504等が含まれる。 Examples of commercially available water-soluble polyamide epoxy resins are Sumirez Resin (registered trademark) 6615, 650(30), 675A manufactured by Taoka Chemical Industry Co., Ltd., WS series manufactured by Seiko PMC, Arakawa Chemical Industry Co., Ltd. ) Arafix 530, 504 and the like are included.

(ウレタン系樹脂)
ウレタン系樹脂は、(i)多価アルコール成分と(ii)多価イソシアネート成分との反応物由来の繰り返し単位を含む。
(Urethane resin)
The urethane-based resin contains a repeating unit derived from a reaction product of (i) a polyhydric alcohol component and (ii) a polyvalent isocyanate component.

(i)多価アルコール成分の例には、ポリオール化合物、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオールが含まれる。これらの多価アルコール成分は、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。 Examples of the (i) polyhydric alcohol component include a polyol compound, a polyether polyol, a polyester polyol, a polyether ester polyol, and a polycarbonate polyol. These polyhydric alcohol components may be used alone or in combination of two or more.

ポリオール化合物の例には、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2,2−ジメチルプロパンジオール、1,4−ブタンジオール等が含まれる。
ポリエーテルポリオールの例には、前述のポリオール化合物のアルキレンオキシド付加物;アルキレンオキシドと環状エーテル(例えばテトラヒドロフラン)との開環(共)重合体;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エチレングリコール−プロピレングリコールの共重合体;グリコール、ポリテトラメチレングリコール等のグリコール類が含まれる。
ポリエステルポリオールの例には、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、グルタル酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸等のジカルボン酸又はその無水物と、エチレングリコール、プロピレングリコール等のポリオール化合物とを、水酸基過剰の条件下で重縮合させたものが含まれる。
ポリエーテルエステルポリオールの例には、ポリテトラメチレングリコール−アジピン酸縮合物が含まれる。
ポリカーボネートポリオールの例には、一般式:HO−R−(O−C(O)−O−R)x−OH(Rは、炭素原子数1〜12の飽和脂肪酸ポリオール残基を示し、xは分子の繰り返し単位の数を示し、5〜50の整数である)で示される化合物等が含まれる。
Examples of the polyol compound include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, tricyclodecane dimethanol, 1,4-cyclohexanediene. Methanol, 2,2-dimethylpropanediol, 1,4-butanediol and the like are included.
Examples of the polyether polyol include alkylene oxide adducts of the above-mentioned polyol compounds; ring-opening (co)polymers of alkylene oxide and cyclic ether (for example, tetrahydrofuran); polyethylene glycol, polypropylene glycol, and ethylene glycol-propylene glycol copolymers. Polymers; glycols such as glycol and polytetramethylene glycol are included.
Examples of polyester polyols include dicarboxylic acids such as adipic acid, succinic acid, sebacic acid, glutaric acid, maleic acid, fumaric acid, and phthalic acid, or anhydrides thereof, and polyol compounds such as ethylene glycol and propylene glycol, and hydroxyl groups. Included are those that have been polycondensed under excess conditions.
Examples of the polyether ester polyol include polytetramethylene glycol-adipic acid condensate.
An example of the polycarbonate polyol is represented by the general formula: HO-R-(OC(O)-OR)x-OH (R represents a saturated fatty acid polyol residue having 1 to 12 carbon atoms, and x represents The number of repeating units of the molecule is shown and is an integer of 5 to 50) and the like.

(ii)多価イソシアネート成分の例には、1分子中に2以上のイソシアネート基を含有する脂肪族、脂環族又は芳香族の化合物が含まれる。脂肪族ジイソシアネート化合物は、炭素原子数1〜12の脂肪族ジイソシアネートであることが好ましく、その例には、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサンジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート(HDI)が含まれる。脂環式ジイソシアネート化合物は、炭素原子数4〜18の脂環式ジイソシアネートであることが好ましく、その例には、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(HMDI)が含まれる。芳香族イソシアネートの例には、トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートが含まれる。 (Ii) Examples of the polyvalent isocyanate component include aliphatic, alicyclic or aromatic compounds containing two or more isocyanate groups in one molecule. The aliphatic diisocyanate compound is preferably an aliphatic diisocyanate having 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexane diisocyanate, and hexane diisocyanate (HDI). The alicyclic diisocyanate compound is preferably an alicyclic diisocyanate having 4 to 18 carbon atoms, and examples thereof include 1,4-cyclohexane diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane diisocyanate. (HMDI) is included. Examples of aromatic isocyanates include tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate.

ウレタン系樹脂は、酸構造を含有することが好ましい。界面活性剤の添加量が少なくても、水中に分散させることが可能となり、易接着層の耐水性が良くなるからである。これを、自己乳化型といい、界面活性剤を使用すること無く分子イオン性のみで、水中にウレタン系樹脂が分散安定化しうることを意味する。 The urethane resin preferably contains an acid structure. This is because even if the amount of the surfactant added is small, the surfactant can be dispersed in water, and the water resistance of the easy-adhesion layer is improved. This is called a self-emulsifying type, which means that the urethane resin can be dispersed and stabilized in water by using only a molecular ionic property without using a surfactant.

酸構造の例には、カルボキシル基(−COOH)、スルホン酸基(−SO3H)等の酸基等が含まれる。酸構造は、ウレタン系樹脂において側鎖に存在していてもよく、末端に存在していてもよい。 Examples of the acid structure include an acid group such as a carboxyl group (-COOH) and a sulfonic acid group (-SO3H). The acid structure may be present at the side chain or at the terminal of the urethane resin.

ウレタン系樹脂の酸価は、20〜250mgKOH/gであることが好ましく、25〜150mgKOH/gであることがより好ましい。酸価が20mgKOH/g未満では水分散性が不十分となりやすく、酸価が250mgKOH/gより大きいと易接着層の耐水性が劣る傾向となる。 The acid value of the urethane resin is preferably 20 to 250 mgKOH/g, more preferably 25 to 150 mgKOH/g. When the acid value is less than 20 mgKOH/g, the water dispersibility tends to be insufficient, and when the acid value is more than 250 mgKOH/g, the water resistance of the easily adhesive layer tends to be poor.

酸構造の一部又は全部は、中和されていることが好ましい。酸構造を中和することにより、ウレタン系樹脂の水分散性を向上させることができる。酸構造を中和する中和剤の例には、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機アミン;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が含まれる。 Part or all of the acid structure is preferably neutralized. By neutralizing the acid structure, the water dispersibility of the urethane resin can be improved. Examples of neutralizing agents for neutralizing the acid structure include organic amines such as trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, N-methyldiethanolamine and triethanolamine; inorganic bases such as sodium hydroxide and potassium hydroxide. included.

ウレタン系樹脂の市販品の例には、第一工業製薬(株)製の「スーパーフレックス」シリーズ等が含まれる。 Examples of commercially available urethane resins include "Superflex" series manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., and the like.

(シラン系カップリング剤)
シラン系カップリング剤の例には、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルメチルジメトキシシラン等のイソシアネート基含有アルコキシシラン類;γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ベンジル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ビニルベンジル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノ基含有アルコキシシラン類;γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン等のメルカプト基含有アルコキシシラン類;γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のエポキシ基含有アルコキシシラン類;β−カルボキシエチルトリエトキシシラン、β−カルボキシエチルフェニルビス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−β−(カルボキシメチル)アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のカルボキシ含有アルコキシシラン類;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクロイルオキシプロピルメチルトリエトキシシラン等のビニル型不飽和基含有アルコキシシラン類;γ−クロロプロピルトリメトキシシラン等のハロゲン基含有アルコキシシラン類;トリス(トリメトキシシリル)イソシアネート等のイソシアネート基含有アルコキシシラン類、アミノ変性シリルポリマー、シリル化アミノポリマー、不飽和アミノシラン錯体、フェニルアミノ長鎖アルキルシラン、アミノシリル化シリコーン、シリル化ポリエステル、及びこれらの誘導体が含まれる。
(Silane coupling agent)
Examples of the silane coupling agent include isocyanate group-containing alkoxysilanes such as γ-isocyanatepropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatepropyltriethoxysilane, γ-isocyanatepropylmethyldiethoxysilane, and γ-isocyanatepropylmethyldimethoxysilane. Γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-Aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropyltriethoxysilane, γ-(2-aminoethyl)aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, N Amino group-containing alkoxysilanes such as -phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane and N-vinylbenzyl-γ-aminopropyltriethoxysilane; γ-mercaptopropyltrimethoxy Alkoxysilanes containing mercapto group such as silane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane; γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxy Epoxy group-containing alkoxy such as propyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane Silanes; carboxy-containing alkoxysilanes such as β-carboxyethyltriethoxysilane, β-carboxyethylphenylbis(2-methoxyethoxy)silane, N-β-(carboxymethyl)aminoethyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane A vinyl type unsaturated group-containing alkoxysilane such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyltriethoxysilane; γ-chloropropyltrimethoxysilane, etc. Halogen group-containing alkoxysilanes; isocyanate group-containing alkoxysilanes such as tris(trimethoxysilyl)isocyanate, Included are amino-modified silyl polymers, silylated amino polymers, unsaturated aminosilane complexes, phenylamino long chain alkylsilanes, aminosilylated silicones, silylated polyesters, and derivatives thereof.

アミド系樹脂、ウレタン系樹脂又はシラン系カップリング剤の含有量は、易接着層13に対して60質量%以上であることが好ましい。これらの成分の含有量が60質量%以上であると、偏光子との良好な接着性が得られやすい。アミド系樹脂、ウレタン系樹脂又はシラン系カップリング剤の含有量は、80質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることが更に好ましい。 The content of the amide-based resin, the urethane-based resin, or the silane-based coupling agent is preferably 60% by mass or more with respect to the easy-adhesion layer 13. When the content of these components is 60% by mass or more, good adhesiveness to the polarizer is easily obtained. The content of the amide-based resin, urethane-based resin or silane-based coupling agent is more preferably 80% by mass or more, further preferably 90% by mass or more.

1-2-2.その他成分
易接着層13は、必要に応じて他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、微粒子(マット剤)等が含まれる。微粒子(マット剤)は、基材層11に含まうる微粒子(マット剤)と同様のものを使用できる。
1-2-2. Other Components The easy-adhesion layer 13 may further contain other components, if necessary. Examples of the other component include fine particles (matting agent) and the like. As the fine particles (matting agent), the same fine particles (matting agent) that can be contained in the base material layer 11 can be used.

1-2-3.易接着層の物性
易接着層13の厚みは、特に制限はないが、接着性の改善効果が得られる範囲であればよく、0.001〜10μmであることが好ましい。易接着層13の厚みが0.001μm以上であると、水系接着剤を用いた際の偏光子との十分な接着性が得られやすい。易接着層13の厚みが10μm以下であると、得られる偏光板の厚みが過剰に厚くなるのを抑制できる。易接着層13の厚みは、0.01〜1μmであることがより好ましい。
1-2-3. Physical Properties of Easy-Adhesion Layer The thickness of the easy-adhesion layer 13 is not particularly limited, but may be in the range where an effect of improving the adhesion is obtained, and is preferably 0.001 to 10 μm. When the thickness of the easy-adhesion layer 13 is 0.001 μm or more, it is easy to obtain sufficient adhesiveness with the polarizer when the water-based adhesive is used. When the thickness of the easy-adhesion layer 13 is 10 μm or less, it is possible to prevent the resulting polarizing plate from being excessively thick. The thickness of the easy-adhesion layer 13 is more preferably 0.01 to 1 μm.

1-3.光学積層フィルム10の物性
(位相差値)
光学積層フィルム10は、用途に応じて種々の位相差値をとり得る。例えば、光学積層フィルムが、VAモードやIPSモードの液晶表示装置の光学フィルムとして用いられる場合、光学積層フィルム10の、測定波長590nm、23℃55%RHの環境下で測定される面内方向の位相差Ro及び厚み方向の位相差Rthは、例えば下記関係を満たしうる。
0nm≦Ro≦300nm
−200nm≦Rth≦200nm
1-3. Physical properties of optical laminated film 10 (retardation value)
The optical laminated film 10 can take various retardation values depending on the application. For example, when the optical laminated film is used as an optical film of a VA mode or IPS mode liquid crystal display device, the optical laminated film 10 has an in-plane direction measured in an environment of a measurement wavelength of 590 nm and 23° C. and 55% RH. The retardation Ro and the retardation Rth in the thickness direction may satisfy the following relationship, for example.
0 nm≦Ro≦300 nm
-200 nm≦Rth≦200 nm

光学積層フィルム10の面内方向の位相差Roは、5≦Ro≦250nmを満たすことがより好ましく、50nm≦Ro≦200nmを満たすことがさらに好ましい。光学積層フィルム10の厚み方向の位相差Rthは、−150nm≦Rth≦150nmを満たすことがより好ましく、−120nm≦Rth≦120nmを満たすことがさらに好ましい。 The retardation Ro in the in-plane direction of the optical laminated film 10 more preferably satisfies 5≦Ro≦250 nm, and further preferably 50 nm≦Ro≦200 nm. The retardation Rth in the thickness direction of the optical laminated film 10 more preferably satisfies −150 nm≦Rth≦150 nm, more preferably −120 nm≦Rth≦120 nm.

光学積層フィルム10のRo及びRthは、それぞれ下記式で定義される。
式(2a):Ro=(nx−ny)×d
式(2b):Rth=((nx+ny)/2−nz)×d
(式中、
nxは、光学積層フィルムの面内遅相軸方向の屈折率を表し、
nyは、光学積層フィルムの面内遅相軸に直交する方向の屈折率を表し、
nzは、光学積層フィルムの厚み方向の屈折率を表し、
dは、光学積層フィルムの厚み(nm)を表す。)
Ro and Rth of the optical laminated film 10 are respectively defined by the following formulas.
Formula (2a): Ro=(nx−ny)×d
Formula (2b): Rth=((nx+ny)/2-nz)*d
(In the formula,
nx represents the refractive index in the in-plane slow axis direction of the optical laminated film,
ny represents the refractive index in the direction orthogonal to the in-plane slow axis of the optical laminated film,
nz represents the refractive index in the thickness direction of the optical laminated film,
d represents the thickness (nm) of the optical laminated film. )

光学積層フィルム10の面内遅相軸とは、フィルム面において屈折率が最大となる軸をいう。光学積層フィルムの面内遅相軸は、自動複屈折率計アクソスキャン(Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter:アクソメトリックス社製)により確認することができる。 The in-plane slow axis of the optical laminated film 10 refers to an axis having the maximum refractive index on the film surface. The in-plane slow axis of the optical laminated film can be confirmed by an automatic birefringence meter Axoscan (Axo Scanning Mueller Matrix Polarimeter: manufactured by Axometrics).

光学積層フィルム10のRo及びRthの測定は、以下の方法で行うことができる。
1)光学積層フィルム10を23℃55%RHの環境下で24時間調湿する。この光学積層フィルムの平均屈折率をアッベ屈折計で測定し、厚みdを市販のマイクロメーターを用いて測定する。
2)調湿後の光学積層フィルム10の、測定波長590nmにおけるリターデーションRo及びRthを、それぞれ自動複屈折率計アクソスキャン(Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter:アクソメトリックス社製)を用いて、23℃55%RHの環境下で測定する。具体的には、
i)フィルム面の法線方向に平行に測定波長590nmの光を入射させたときのRを、アクソスキャンにて測定する。
ii)さらに、アクソスキャンにより、試料片の面内遅相軸を傾斜軸(回転軸)として、試料片の表面の法線に対してθの角度(入射角(θ))から測定波長590nmの光を入射させたときの位相差R(θ)を測定した。位相差R(θ)の測定は、θが0°〜50°の範囲で10°毎に6点行う。試料片の面内遅相軸は、アクソスキャンにより確認する。
iii)測定されたRo及びR(θ)と、前述の平均屈折率と厚みとから、アクソスキャンがnx、ny及びnzを算出し、上記式(2b)に基づいて測定波長590nmでのRthを算出する。
The Ro and Rth of the optical laminated film 10 can be measured by the following method.
1) The optical laminated film 10 is conditioned at 23° C. and 55% RH for 24 hours. The average refractive index of this optical laminated film is measured with an Abbe refractometer, and the thickness d is measured with a commercially available micrometer.
2) The retardation Ro and Rth at the measurement wavelength of 590 nm of the optical laminated film 10 after humidity adjustment were respectively measured using an automatic birefringence meter Axoscan (Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter: manufactured by Axometrics Co., Ltd.). It is measured under the environment of %RH. In particular,
The R o when the light is incident in parallel to the measurement wavelength 590nm in the normal direction of i) a film plane, measured at A shit scan.
ii) Furthermore, by AXOSCAN, the in-plane slow axis of the sample piece was used as the tilt axis (rotation axis), and the measurement wavelength of 590 nm from the angle θ (incident angle (θ)) with respect to the normal to the surface of the sample piece. The phase difference R(θ) when light was incident was measured. The phase difference R(θ) is measured at 6 points every 10° in the range of 0° to 50°. The in-plane slow axis of the sample piece is confirmed by an Axoscan.
iii) Axoscan calculates nx, ny, and nz from the measured Ro and R(θ), and the above-described average refractive index and thickness, and Rth at the measurement wavelength of 590 nm is calculated based on the above formula (2b). calculate.

(厚み)
光学積層フィルム10の厚みは、RoとRthが前述の範囲を満たし、且つ薄型化する観点から、例えば10〜210μmであり、10〜110μmであることが好ましく、15〜70μmであることがより好ましく、15〜40μmであることがさらに好ましい。
(Thickness)
The thickness of the optical laminated film 10 is, for example, 10 to 210 μm, preferably 10 to 110 μm, and more preferably 15 to 70 μm, from the viewpoint of satisfying the above ranges of Ro and Rth and making the optical device thinner. More preferably, it is 15 to 40 μm.

2.光学積層フィルムの製造方法
本発明の光学積層フィルムは、1)シクロオレフィン系樹脂と、紫外線吸収剤と酸化防止剤の少なくとも一方とを含み、Mc/Msが0.01以上1未満を満たし、且つ残留溶媒量が100ppm以上2000ppm以下を満たす前述の基材層11(以下、「基材フィルム」ともいう)を得る工程と、2)基材フィルムの領域Sを構成する面に、親水化処理を施す工程と、3)基材フィルムの親水化処理が施された面に、易接着層用組成物を塗布した後、乾燥又は硬化させて易接着層を得る工程とを経て製造される。
2. Method for producing optical laminated film The optical laminated film of the present invention comprises 1) a cycloolefin resin, at least one of an ultraviolet absorber and an antioxidant, and Mc/Ms satisfies 0.01 or more and less than 1, and A step of obtaining the above-mentioned base material layer 11 (hereinafter, also referred to as “base material film”) in which the amount of residual solvent satisfies 100 ppm or more and 2000 ppm or less, and 2) a hydrophilic treatment is applied to the surface constituting the region S of the base material film. It is manufactured through a step of applying and 3) a step of applying the composition for an adhesive layer to the surface of the substrate film which has been subjected to the hydrophilic treatment and then drying or curing the composition to obtain an adhesive layer.

2-1.1)の工程について
シクロオレフィン系樹脂と、紫外線吸収剤と酸化防止剤の少なくとも一方とを含み、Mc/Msが0.01以上1未満を満たし、且つ残留溶媒量が100ppm以上2000ppm以下を満たす基材フィルムを得る。基材フィルムのMc/Msは、光学フィルムにおけるMc/Msと同様に定義される。即ち、基材フィルムにおけるMsは、基材フィルムの易接着層が配置される面を含む領域Sにおける紫外線吸収剤及び酸化防止剤の合計含有量を示す。
Step 2-1-1) Cycloolefin resin and at least one of an ultraviolet absorber and an antioxidant are contained, Mc/Ms satisfies 0.01 or more and less than 1, and the residual solvent amount is 100 ppm or more and 2000 ppm. A substrate film satisfying the following is obtained. The Mc/Ms of the base film is defined similarly to the Mc/Ms of the optical film. That is, Ms in the base film indicates the total content of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region S including the surface of the base film on which the easily adhesive layer is arranged.

そのような基材フィルムは、具体的には、(1-1)前述のシクロオレフィン系樹脂と前述の紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方とを溶媒に溶解させてドープを得る工程と、(1-2)ドープを支持体上に流延した後、剥離して膜状物を得る工程と、(1-3)膜状物を乾燥させる工程とを経て得られる。基材フィルムの製造方法は、前記(1-2)と前記(1-3)の間に(1-4)膜状物を延伸する工程をさらに行うことが好ましい。 Such a substrate film is specifically (1-1) a step of dissolving the cycloolefin resin described above and at least one of the ultraviolet absorber and the antioxidant described above in a solvent to obtain a dope, (1-2) After casting the dope on the support, peeling the dope to obtain a film, and (1-3) drying the film. In the method for producing a base material film, it is preferable to further perform a step of stretching the (1-4) film-like material between (1-2) and (1-3).

(1-1)の工程
少なくともシクロオレフィン系樹脂と紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方とを溶媒に溶解させてドープを得る。シクロオレフィン系樹脂と紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方とを溶媒に同時に混合及び溶解させてドープを得てもよいし、シクロオレフィン系樹脂を溶媒に溶解させた樹脂溶液と、紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方とを溶媒に溶解させた添加剤溶液とを混合してドープを得てもよい。
Step (1-1) At least a cycloolefin resin and at least one of an ultraviolet absorber and an antioxidant are dissolved in a solvent to obtain a dope. The dope may be obtained by simultaneously mixing and dissolving a cycloolefin resin and at least one of an ultraviolet absorber and an antioxidant in a solvent, or a resin solution in which a cycloolefin resin is dissolved in a solvent, and an ultraviolet absorber. And at least one of the antioxidants may be mixed with an additive solution in which a solvent is dissolved to obtain a dope.

ドープに用いられる溶媒は、光学積層フィルムの基材層中の残留溶媒量が前述の範囲となるように選択される。透明で、且つゲル等の異物のない基材フィルムを得るためには、シクロオレフィン系樹脂と溶媒とが均一に混ざる必要があるので、シクロオレフィン系樹脂の良溶媒を1種類以上含むことが好ましい。 The solvent used for the dope is selected so that the residual solvent amount in the base material layer of the optical laminated film falls within the above range. In order to obtain a transparent base film free of foreign matter such as gel, it is necessary to mix the cycloolefin resin and the solvent uniformly, so it is preferable to include at least one good solvent for the cycloolefin resin. ..

良溶媒の例には、メチレンクロライド、クロロホルム等の有機ハロゲン化合物、トルエン、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等が含まれる。中でも、シクロオレフィン系樹脂を溶解させ易い点から、メチレンクロライドが好ましい。 Examples of the good solvent include organic halogen compounds such as methylene chloride and chloroform, toluene, methyl acetate, acetone, dioxolane and the like. Among them, methylene chloride is preferable because it easily dissolves the cycloolefin resin.

ドープの調製に用いられる溶媒は、必要に応じてシクロオレフィン系樹脂の貧溶媒をさらに含んでもよい。貧溶媒の例には、メタノール、エタノール、n−ブタノール等の炭素原子数1〜4の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコール、及びテトラヒドロフラン等が含まれる。 The solvent used for preparing the dope may further include a poor solvent for the cycloolefin resin, if necessary. Examples of the poor solvent include linear or branched aliphatic alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol and n-butanol, and tetrahydrofuran.

良溶媒と貧溶媒とを併用する場合、Mc/Msを前述の範囲とするためには、良溶媒(低沸点溶媒)の含有割合を多くすることが好ましい。溶媒除去時の条件(時間や温度)にもよるが、良溶媒(低沸点溶媒)の含有割合を多くすることで、乾燥前の膜状物の残留溶媒量を一定以下に調整しやすいからである。具体的には、良溶媒の含有比率を51〜100質量%(好ましくは70〜99質量%、より好ましくは80〜99質量%)とし、貧溶媒の含有比率を0〜49質量%(好ましくは1〜30質量%、より好ましくは1〜20質量%)とすることが好ましい。 When a good solvent and a poor solvent are used in combination, it is preferable to increase the content ratio of the good solvent (low boiling point solvent) in order to set Mc/Ms in the above range. Although it depends on the conditions (time and temperature) at the time of removing the solvent, increasing the content ratio of the good solvent (low boiling point solvent) makes it easy to adjust the residual solvent amount of the film material before drying to a certain level or less. is there. Specifically, the content ratio of the good solvent is 51 to 100 mass% (preferably 70 to 99 mass%, more preferably 80 to 99 mass%), and the content ratio of the poor solvent is 0 to 49 mass% (preferably 1 to 30% by mass, more preferably 1 to 20% by mass).

ドープの樹脂濃度は、金属支持体上に流延した後の乾燥負荷を低減する観点では高いほうが好ましいが、濾過時の負荷が増えて濾過精度が悪くなる。これらを両立するドープの樹脂濃度は、10〜35質量%であることが好ましく、15〜25質量%であることがより好ましい。 The resin concentration of the dope is preferably high from the viewpoint of reducing the drying load after casting on the metal support, but the load during filtration increases and the filtration accuracy deteriorates. The resin concentration of the dope satisfying both of these requirements is preferably 10 to 35% by mass, and more preferably 15 to 25% by mass.

樹脂の溶解は、一般的な方法で行うことができる。加熱と加圧を組み合わせると、常圧における沸点以上に加熱できる。溶媒の常圧での沸点以上で且つ加圧下で溶媒が沸騰しない温度で加熱しながら攪拌溶解すると、塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、樹脂を貧溶媒と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶媒を添加して溶解してもよい。 The resin can be dissolved by a general method. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to dissolve with stirring while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent under normal pressure and under which the solvent does not boil under pressure, in order to prevent generation of lumpy undissolved substances. Alternatively, the resin may be mixed with a poor solvent to wet or swell, and then a good solvent may be further added to dissolve the resin.

加圧は、窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶媒の蒸気圧を発現させる方法によって行うことができる。加熱は、外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。 The pressurization can be carried out by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas, or a method of expressing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

樹脂を溶解させるときの加熱温度は、樹脂の溶解性の観点からは高いほうが好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。加熱温度は、45〜120℃であることが好ましく、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。 The heating temperature for melting the resin is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the resin, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. The heating temperature is preferably 45 to 120°C, more preferably 60 to 110°C, and further preferably 70°C to 105°C.

異物故障を抑制する観点等から、得られたドープを濾材で濾過することが好ましい。濾過したドープを脱泡した後、送液ポンプで流延ダイに供給する。 From the viewpoint of suppressing foreign matter failure, it is preferable to filter the obtained dope with a filter material. After defoaming the filtered dope, it is supplied to the casting die by a liquid feeding pump.

(1-2)の工程
得られたドープを流延ダイから吐出させて金属支持体上に流延し、得られた流延膜を乾燥及び剥離して膜状物を得る。
Step (1-2) The obtained dope is discharged from a casting die and cast on a metal support, and the obtained cast film is dried and peeled to obtain a film-like material.

金属支持体は、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムでありうる。金属支持体の表面は、鏡面仕上げされていることが好ましい。 The metal support can be a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting. The surface of the metal support is preferably mirror-finished.

金属支持体の表面温度は、−50℃〜溶媒の沸点未満の温度で、高い方が膜状物の乾燥速度を高くすることができるので好ましいが、高過ぎると膜状物が発泡したり、平面性が劣化したりする。従って、金属支持体の表面温度は、0〜40℃であることが好ましく、5〜30℃であることがより好ましい。 The surface temperature of the metal support is preferably −50° C. to a temperature lower than the boiling point of the solvent, and the higher the temperature is, the higher the drying speed of the film-like material can be increased. The flatness may deteriorate. Therefore, the surface temperature of the metal support is preferably 0 to 40°C, more preferably 5 to 30°C.

金属支持体から剥離する際の膜状物の残留溶媒量(乾燥前の残留溶媒量)は、得られる基材フィルムのMc/Msを前述の範囲とするためには、1〜10質量%であることが好ましく、5〜9質量%であることがより好ましい。 The amount of residual solvent (the amount of residual solvent before drying) of the film-like substance at the time of peeling from the metal support is 1 to 10% by mass in order to set Mc/Ms of the obtained base film to the above range. It is preferably present, and more preferably 5 to 9 mass %.

膜状物の残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
(Mは、膜状物の質量を示し、Nは、当該膜状物を120℃で1時間の加熱した後の質量を示す)
The residual solvent amount of the film is defined by the following formula.
Residual solvent amount (mass %)={(M−N)/N}×100
(M indicates the mass of the film material, and N indicates the mass after heating the film material at 120° C. for 1 hour)

剥離して得られた膜状物は、必要に応じてさらに乾燥させてもよい。 The film-like material obtained by peeling may be further dried if necessary.

(1-4)の工程
剥離して得られた膜状物を延伸して、位相差を調整することが好ましい。
Step (1-4) It is preferable to stretch the film obtained by peeling to adjust the retardation.

延伸は、少なくとも一方向に行うことができる。延伸方向は、膜状物の長手方向(MD方向)、膜状物の長手方向と直交する幅手方向(TD方向)、及び膜状物の長手方向に対して斜め方向のいずれであってもよい。延伸は、逐次延伸でもよいし、同時延伸でもよい。 The stretching can be performed in at least one direction. The stretching direction may be any of the longitudinal direction (MD direction) of the film, the width direction (TD direction) orthogonal to the longitudinal direction of the film, and the oblique direction with respect to the longitudinal direction of the film. Good. The stretching may be sequential stretching or simultaneous stretching.

例えば、光学積層フィルムを後述のλ/4フィルムとして機能させる場合、斜め方向に延伸することが好ましい。斜め方向の延伸は、得られる光学積層フィルムの面内遅相軸が、膜状物の長手方向に対して20〜70°、好ましくは30〜60°、さらに好ましくは40〜50°となるように設定されうる。光学積層フィルムをVA用の位相差フィルムとして機能させる場合、膜状物の幅手方向(TD方向)に延伸することが好ましい。 For example, when the optical laminated film is made to function as a λ/4 film described later, it is preferably stretched in an oblique direction. The stretching in the oblique direction is such that the in-plane slow axis of the obtained optical laminated film is 20 to 70°, preferably 30 to 60°, and more preferably 40 to 50° with respect to the longitudinal direction of the film-like material. Can be set to. When the optical laminated film is made to function as a retardation film for VA, it is preferable to stretch the film in the width direction (TD direction).

延伸倍率は、求められる光学性能にもよるが、例えばλ/4フィルムやVA用の位相差フィルムとして機能しうる光学積層フィルムを得るためには、1.03〜2.00倍としうる。延伸倍率は、(延伸後の積層物の延伸方向大きさ)/(延伸前の積層物の延伸方向大きさ)として定義される。 The stretch ratio depends on the required optical performance, but may be 1.03 to 2.00 in order to obtain an optical laminated film that can function as a λ/4 film or a retardation film for VA, for example. The stretch ratio is defined as (the size in the stretching direction of the laminate after stretching)/(the size in the stretching direction of the laminate before stretching).

延伸温度は、シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度をTgとすると、Tg−30℃〜Tg+60℃であることが好ましく、Tg−10℃〜Tg+50℃であることがより好ましい。 When the glass transition temperature of the cycloolefin resin is Tg, the stretching temperature is preferably Tg-30°C to Tg+60°C, more preferably Tg-10°C to Tg+50°C.

延伸開始時の膜状物中の残留溶媒量は、20〜100質量%であることが好ましい。延伸終了時の膜状物中の残留溶媒量は、10質量%以下、好ましくは5質量%以下である。 The amount of residual solvent in the film at the start of stretching is preferably 20 to 100% by mass. The amount of residual solvent in the film at the end of stretching is 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less.

MD方向の延伸は、例えば複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用する方法で行うことができる。TD方向の延伸は、例えば膜状物の両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げる方法で行うことができる。これらは組み合わせてもよい。斜め方向の延伸は、斜め延伸装置で行うことが好ましい。斜め延伸装置としては、レールパターンを多様に変化させることにより、得られる基材フィルムの配向角(面内遅相軸の長手方向に対する角度)を自在に設定でき、且つ基材フィルムの配向軸を幅手方向にわたって左右均等に高精度に配向させうるものであることが好ましい。 Stretching in the MD direction can be performed, for example, by a method in which a plurality of rolls are provided with a peripheral speed difference and the roll peripheral speed difference is used between them. The stretching in the TD direction can be performed, for example, by fixing both ends of the film-like material with clips or pins and widening the intervals between the clips or pins in the traveling direction. These may be combined. Stretching in the oblique direction is preferably performed by an oblique stretching device. As an oblique stretching device, by changing the rail pattern in various ways, it is possible to freely set the orientation angle (the angle of the in-plane slow axis with respect to the longitudinal direction) of the obtained substrate film, and to adjust the orientation axis of the substrate film. It is preferable that it can be uniformly oriented in the left-right direction with high precision in the width direction.

(1-3)の工程
前記(1-2)又は(1-4)で得られた膜状物を乾燥させて、基材フィルムを得る。基材フィルムの残留溶媒量は、主に本工程で調整されうる。従って、乾燥温度及び乾燥時間は、得られる基材フィルムにおける残留溶媒量が前述の範囲となるように調整されうる。
Step (1-3) The film-like material obtained in (1-2) or (1-4) is dried to obtain a base film. The residual solvent amount of the base film can be adjusted mainly in this step. Therefore, the drying temperature and the drying time can be adjusted so that the amount of residual solvent in the obtained base film is in the above range.

乾燥温度は、概ね40〜250℃であることが好ましく、40〜160℃であることがより好ましい。急激な乾燥は、得られる基材フィルムの平面性を損ねやすいことから、高温による乾燥は、膜状物の残留溶媒量が8質量%以下で行うことが好ましい。乾燥時間は、ドープに用いる溶媒種に応じて調整されうる。 The drying temperature is preferably about 40 to 250°C, more preferably 40 to 160°C. Since rapid drying tends to impair the flatness of the obtained substrate film, it is preferable to perform drying at a high temperature when the residual solvent amount of the film-shaped material is 8% by mass or less. The drying time can be adjusted depending on the solvent species used for the dope.

膜状物の乾燥は、乾燥装置内に複数配置したロールに膜状物を交互に通し、膜状物を搬送させながら乾燥させるロール乾燥法や、クリップで膜状物の両端を把持して搬送させながら乾燥させるテンター乾燥法で行うことができる。 Drying of the film material is performed by alternately passing the film material through a plurality of rolls arranged in the drying device and drying while transporting the film material, or by gripping both ends of the film material with clips and transferring. It can be carried out by a tenter drying method in which it is dried while being dried.

乾燥方法は、特に制限されず、熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができ、簡便さの点から、熱風で行うことが好ましい。 The drying method is not particularly limited, and hot air, infrared rays, heating rolls, microwaves and the like can be used, and hot air is preferable from the viewpoint of simplicity.

2-2.2)の工程について
親水化処理の例には、コロナ(放電)処理、プラズマ処理、フレーム処理、イトロ処理、グロー処理、オゾン処理、及びプライマー塗布処理が含まれる。中でも、生産性の観点から、コロナ処理及びプラズマ処理が好ましい。
Regarding step 2-2.2) Examples of the hydrophilic treatment include corona (discharge) treatment, plasma treatment, flame treatment, itro treatment, glow treatment, ozone treatment, and primer coating treatment. Among them, the corona treatment and the plasma treatment are preferable from the viewpoint of productivity.

コロナ放電処理とは、誘電体と絶縁された電極間に高周波・高電圧をかけてコロナを発生させ、誘電体と電極との間に基材フィルムを通過させることで、基材フィルムの表面を処理する方法である。それにより、基材フィルムの表面の接着性が高められる。 Corona discharge treatment is a process of applying a high frequency/high voltage between electrodes that are insulated from the dielectric to generate corona, and passing the base film between the dielectric and the electrodes to clean the surface of the base film. It is a method of processing. Thereby, the adhesiveness of the surface of the base film is enhanced.

電極の材質の例には、セラミックス及びアルミが含まれる。電極と誘電体との距離は、1〜5mmであることが好ましく、1〜3mmであることがより好ましい。ライン速度(移動速度)は、3〜70m/分程度が好ましく、3〜50m/分程度がより好ましい。 Examples of the material of the electrodes include ceramics and aluminum. The distance between the electrode and the dielectric is preferably 1 to 5 mm, more preferably 1 to 3 mm. The line speed (moving speed) is preferably about 3 to 70 m/min, more preferably about 3 to 50 m/min.

コロナ出力強度は、0.2kW〜3kWであることが好ましく、0.5kW〜1.5kWであることがより好ましい。コロナ出力強度が0.2kW未満であると、コロナ放電が不安定になり、基材フィルムの表面に安定した接着力を付与しにくい場合がある。コロナ出力強度が2.0kWより大きいと、基材フィルムが傷付き易くなる場合がある。コロナ放電処理における電子照射量は、100〜1000W/m/minとしうる。 The corona output intensity is preferably 0.2 kW to 3 kW, more preferably 0.5 kW to 1.5 kW. If the corona output strength is less than 0.2 kW, corona discharge becomes unstable, and it may be difficult to impart a stable adhesive force to the surface of the base film. When the corona output strength is larger than 2.0 kW, the base film may be easily scratched. The electron irradiation dose in the corona discharge treatment may be 100 to 1000 W/m 2 /min.

プラズマ処理は、減圧下又は大気圧下で発生させた不活性ガスや酸素ガス等のガス雰囲気下で、プラズマ放電をすることにより、基材フィルムの表面を活性化させる処理である。ロールを用いた搬送下で効率良く生産するためには、大気圧下でのプラズマ処理が好ましい。 The plasma treatment is a treatment for activating the surface of the substrate film by performing plasma discharge in a gas atmosphere such as an inert gas or oxygen gas generated under reduced pressure or atmospheric pressure. Plasma treatment under atmospheric pressure is preferable for efficient production under the transportation using rolls.

プラズマ処理は、ガスの種類を種々変更することにより基材層の表面を種々に改質することができる。そのため、基材層の表面を活性化するにあたり、適宜任意にガスの種類を選択することができる。ガスの種類の例には、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、アクリル酸、ヒドロキシアルキル、CF、CHF等のフッ素系化合物が含まれる。 The plasma treatment can variously modify the surface of the base material layer by changing the kind of gas. Therefore, when activating the surface of the base material layer, the kind of gas can be appropriately selected. Examples of the type of gas include nitrogen, oxygen, argon, helium, acrylic acid, hydroxyalkyl, CF 4 , CHF 3 C 2 F 6, and other fluorine-based compounds.

プラズマ出力は、0.2kW〜3kWであることが好ましい。ライン速度(移動速度)は、3〜70m/分であることが好ましく、3〜50m/分であることがより好ましい。周波数は、3〜30kHであることが好ましく、5〜20kHであることがより好ましい。 The plasma output is preferably 0.2 kW to 3 kW. The line speed (moving speed) is preferably 3 to 70 m/min, and more preferably 3 to 50 m/min. The frequency is preferably 3 to 30 kH, more preferably 5 to 20 kH.

2-3.3)の工程について
易接着層用組成物を、基材フィルムの親水化処理が施された面に塗布した後、乾燥又は硬化させて易接着層を形成する。即ち、易接着層用組成物が熱硬化成分(熱硬化性樹脂及び架橋剤)を含む場合、易接着層用組成物を、基材フィルム上に塗布した後、硬化(加熱処理)させて易接着層を形成する。易接着層用組成物が前述の熱硬化成分を含まない場合、易接着層用組成物を、基材フィルム上に塗布した後、乾燥して易接着層を形成する。中でも、生産性を高める観点では、易接着層用組成物を、基材フィルム上に塗布した後、乾燥して易接着層を形成することが好ましい。
Step 2-3-3) The composition for easy-adhesion layer is applied to the surface of the base film that has been subjected to the hydrophilization treatment, and then dried or cured to form the easy-adhesion layer. That is, when the composition for easy-adhesion layer contains a thermosetting component (thermosetting resin and cross-linking agent), the composition for easy-adhesion layer is coated on a substrate film and then cured (heat treatment) to facilitate curing. Form an adhesive layer. When the composition for easy-adhesion layer does not contain the above-mentioned thermosetting component, the composition for easy-adhesion layer is applied onto the substrate film and then dried to form the easy-adhesion layer. Among them, from the viewpoint of improving productivity, it is preferable to form the easy-adhesion layer by applying the composition for easy-adhesion layer on the substrate film and then drying.

易接着層用組成物は、主成分となるアミド系樹脂、ウレタン系樹脂又はシランカップリング剤と、水又は有機溶媒とを含む。 The composition for an easy-adhesion layer contains an amide-based resin, a urethane-based resin or a silane coupling agent, which are main components, and water or an organic solvent.

用いられる有機溶媒は、シランカップリング剤やアミド系樹脂を均一に溶解又は分散させることができ、適度な揮発性を有するものであることが好ましい。そのような有機溶媒の例には、メタノール、エタノール、プロピルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が挙げられる。なお、易接着層の主成分としてシランカップリング剤を用いる場合、易接着層用組成物は、水や有機溶媒を含まなくてもよい。易接着層用組成物におけるアミド系樹脂又はシランカップリング剤の濃度は、安定的に易接着層を形成しやすい観点から、例えば0.1%以上としうる。 The organic solvent used is preferably one that can uniformly dissolve or disperse the silane coupling agent or the amide resin and has appropriate volatility. Examples of such organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol and propyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated methylene chloride and chloroform. Hydrocarbons may be mentioned. When a silane coupling agent is used as the main component of the easy-adhesion layer, the easy-adhesion layer composition need not contain water or an organic solvent. The concentration of the amide-based resin or the silane coupling agent in the easy-adhesion layer composition may be, for example, 0.1% or more from the viewpoint of easily forming an easy-adhesion layer stably.

易接着層用組成物は、必要に応じて架橋剤をさらに含んでもよい。架橋剤は、主成分となる樹脂が有する反応性基と反応する官能基を有する化合物であればよい。例えば、ウレタン系樹脂と組み合わされる架橋剤の例には、水系エポキシ化合物、水系アミノ化合物、及び水系オキサゾリン化合物が含まれる。架橋剤は、1種類であってもよいし、2種類以上を併用してもよい。 The composition for easy-adhesion layer may further contain a crosslinking agent, if necessary. The crosslinking agent may be a compound having a functional group that reacts with the reactive group of the resin as the main component. For example, examples of the cross-linking agent combined with the urethane-based resin include a water-based epoxy compound, a water-based amino compound, and a water-based oxazoline compound. The cross-linking agent may be one kind or a combination of two or more kinds.

水系エポキシ化合物は、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した2個以上のエポキシ基を有する化合物であればよく、その例にはエチレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類1モルと、エピクロルヒドリン2モルとのエーテル化によって得られるジエポキシ化合物;グリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン等の多価アルコール類1モルと、エピクロルヒドリン2モル以上とのエーテル化によって得られるポリエポキシ化合物;フタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、アジピン酸等のジカルボン酸1モルと、エピクロルヒドリン2モルとのエステル化によって得られるジエポキシ化合物等のエポキシ化合物が含まれる。 The water-based epoxy compound may be a compound having two or more epoxy groups which are soluble in water or emulsified, and examples thereof include 1 mol of glycols such as ethylene glycol and diethylene glycol and 2 mol of epichlorohydrin. A diepoxy compound obtained by etherification with 1 mol of polyhydric alcohols such as glycerin, polyglycerin, and trimethylolpropane, and a polyepoxy compound obtained by etherification with 2 mol or more of epichlorohydrin; phthalic acid, terephthalic acid, shu An epoxy compound such as a diepoxy compound obtained by esterification of 1 mol of a dicarboxylic acid such as an acid or adipic acid with 2 mol of epichlorohydrin is included.

水系アミノ化合物は、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した2個以上のアミノ基を有する化合物であればよく、その例には、カルボジヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタール酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、グリコリック酸ジヒドラジド、ポリアクリル酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物、メラミン樹脂、ユリア樹脂、グアナミン樹脂等が含まれる。 The water-based amino compound may be a compound having two or more amino groups which are soluble in water or emulsified, and examples thereof include carbodihydrazide, oxalic acid dihydrazide, malonic acid dihydrazide, and succinic acid dihydrazide. , Adipic acid dihydrazide, sebacic acid dihydrazide, dodecanedioic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, terephthalic acid dihydrazide, glycolic acid dihydrazide, polyacrylic acid dihydrazide, and other hydrazide compounds, melamine resins, urea resins, guanamine resins and the like.

水系オキサゾリン化合物は、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した2個以上のオキサゾリン基を有する化合物であればよい。 The water-based oxazoline compound may be any compound that is soluble in water or has two or more emulsified oxazoline groups.

易接着層用組成物の塗布方法は、例えばグラビアコート法、ディップコート法、スプレーコート法又は流延法等を採用できる。 As a method for applying the composition for an easily adhesive layer, for example, a gravure coating method, a dip coating method, a spray coating method, a casting method, or the like can be adopted.

乾燥温度は、例えば20℃以上基材フィルムのTg以下としうる。乾燥時間は、例えば1分以上10時間以下としうる。 The drying temperature may be, for example, 20° C. or higher and Tg or lower of the base film. The drying time may be, for example, 1 minute or more and 10 hours or less.

本発明では、前述の1)の工程で得られた基材フィルムは、その表面に紫外線吸収剤や酸化防止剤が偏在しているため(Mc/Msが1未満であるため)、前述の2)の工程において、基材フィルムの表面が良好に親水化処理され易い。それにより、上記3)の工程において、基材フィルムの親水化処理が施された面と易接着層との間の接着性が高められ、接着ムラを低減できる。 In the present invention, the base film obtained in the above step 1) has an ultraviolet absorber or an antioxidant unevenly distributed on its surface (because Mc/Ms is less than 1). In the step (1), the surface of the base material film is likely to be favorably hydrophilized. As a result, in the above step 3), the adhesiveness between the surface of the base film subjected to the hydrophilization treatment and the easy-adhesion layer is enhanced, and uneven adhesion can be reduced.

3.偏光板
本発明の偏光板は、偏光子と、2つの保護フィルムとを含み、保護フィルムの少なくとも一方を本発明の光学積層フィルムとし得る。本発明の光学積層フィルムが偏光子の一方の面にのみ配置される場合は、偏光子の他方の面には、他のフィルムが配置され得る。
3. Polarizing Plate The polarizing plate of the present invention includes a polarizer and two protective films, and at least one of the protective films can be the optical laminated film of the present invention. When the optical laminated film of the present invention is arranged on only one surface of the polarizer, another film may be arranged on the other surface of the polarizer.

3-1.偏光子
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
3-1. Polarizer A polarizer is an element that allows only light having a plane of polarization in a certain direction to pass therethrough, and a typical polarizer currently known is a polyvinyl alcohol-based polarizing film. Polyvinyl alcohol-based polarizing films include those obtained by dyeing a polyvinyl alcohol-based film with iodine and those obtained by dyeing a dichroic dye.

ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色したフィルム(好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム)であってもよいし;ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム(好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム)であってもよい。偏光子の吸収軸は、通常、最大延伸方向と平行である。 The polyvinyl alcohol-based polarizing film may be a film obtained by uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based film and then dyeing it with iodine or a dichroic dye (preferably a film further subjected to a durability treatment with a boron compound); A film obtained by dyeing an alcohol-based film with iodine or a dichroic dye and then uniaxially stretching it (preferably a film further subjected to a durability treatment with a boron compound) may be used. The absorption axis of the polarizer is usually parallel to the maximum stretching direction.

例えば、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報等に記載のエチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、けん化度99.0〜99.99モル%のエチレン変性ポリビニルアルコールが用いられる。中でも、熱水切断温度が66〜73℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。 For example, the content of ethylene units described in JP-A-2003-248123 and JP-A-2003-342322 is 1 to 4 mol %, the degree of polymerization is 2000 to 4000, and the degree of saponification is 99.0 to 99.99 mol %. Ethylene-modified polyvinyl alcohol is used. Above all, an ethylene-modified polyvinyl alcohol film having a hot water cutting temperature of 66 to 73° C. is preferably used.

偏光子の厚みは、5〜30μmであることが好ましく、偏光板を薄型化するため等から、5〜20μmであることがより好ましい。 The thickness of the polarizer is preferably 5 to 30 μm, and more preferably 5 to 20 μm in order to make the polarizing plate thin.

3-2.本発明の光学積層フィルム
本発明の光学積層フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に配置されうる。光学積層フィルムの易接着層と偏光子とは、直接又は接着剤層を介して積層されていることが好ましい。
3-2. Optical Laminated Film of the Present Invention The optical laminated film of the present invention can be arranged on at least one surface of a polarizer. The easy-adhesion layer and the polarizer of the optical laminated film are preferably laminated directly or via an adhesive layer.

本発明の光学積層フィルムがλ/4フィルムとして用いられる場合、本発明の光学積層フィルムの面内遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、20〜70°であることが好ましく、30〜60°であることがより好ましく、40〜50°であることがさらに好ましい。本発明の光学積層フィルムが、VA用の位相差フィルムとして用いられる場合、本発明の光学積層フィルムの面内遅相軸と偏光子の吸収軸とは略直交し得る。 When the optical laminated film of the present invention is used as a λ/4 film, the angle formed between the in-plane slow axis of the optical laminated film of the present invention and the absorption axis of the polarizer is preferably 20 to 70°, The angle is more preferably 30 to 60°, further preferably 40 to 50°. When the optical laminated film of the present invention is used as a retardation film for VA, the in-plane slow axis of the optical laminated film of the present invention and the absorption axis of the polarizer may be substantially orthogonal to each other.

3-3.他のフィルム
偏光子の他方の面には、必要に応じて他のフィルムが配置されてもよい。他のフィルムの例には、市販のセルロースアシレートフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC6UA、KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5、KC4FR−1、KC8UY−HA、KC8UX−RHA、KC8UE、KC4UE、KC4HR−1、KC4KR−1、KC4UA、KC6UA以上コニカミノルタオプト(株)製)等が含まれる。
3-3. Other Film On the other surface of the polarizer, another film may be arranged as necessary. Examples of other films include commercially available cellulose acylate films (for example, Konica Minolta Tuck KC6UA, KC8UX, KC4UX, KC5UX, KC8UY, KC4UY, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, KC4FR-1, KC8UY-HA, KC8UX-RHA, KC8UE, KC4UE, KC4HR-1, KC4KR-1, KC4UA, KC6UA or more manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd. and the like are included.

他のフィルムの厚みは、特に限定はないが、10〜100μmであることが好ましく、10〜60μmであることがより好ましく、20〜60μmであることが特に好ましい。 The thickness of the other film is not particularly limited, but is preferably 10 to 100 μm, more preferably 10 to 60 μm, and particularly preferably 20 to 60 μm.

3-4.偏光板の製造方法
本発明の偏光板は、偏光子と本発明の光学積層フィルムとを接着剤又は粘着剤を介して貼り合わせて得ることができる。
3-4. Method of Manufacturing Polarizing Plate The polarizing plate of the present invention can be obtained by laminating a polarizer and the optical laminated film of the present invention via an adhesive or a pressure-sensitive adhesive.

接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン系樹脂を主成分として含む水系接着剤や、エポキシ系樹脂等の光硬化性樹脂を主成分として含む光硬化型接着剤でありうる。粘着剤は、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン及びポリエーテル等をベースポリマーとして含むものでありうる。中でも、本発明の光学積層フィルムの易接着層との親和性が良く、吸水による歪みも生じにくいことから、水系接着剤が好ましい。 The adhesive may be a water-based adhesive containing a polyvinyl alcohol-based resin or a urethane-based resin as a main component, or a photo-curable adhesive containing a photo-curable resin such as an epoxy resin as a main component. The pressure-sensitive adhesive may contain an acrylic polymer, a silicone polymer, polyester, polyurethane, polyether or the like as a base polymer. Among them, the water-based adhesive is preferable because it has good affinity with the easy-adhesion layer of the optical laminated film of the present invention and hardly causes distortion due to water absorption.

偏光子と本発明の光学積層フィルムの貼り合わせは、通常、ロールトゥロールで行うことができる。 The lamination of the polarizer and the optical laminated film of the present invention can be usually performed by roll-to-roll.

4.液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを含む。
4. Liquid Crystal Display Device The liquid crystal display device of the present invention includes a liquid crystal cell and a pair of polarizing plates sandwiching the liquid crystal cell.

図4は、液晶表示装置の基本的な構成の一例を示す模式図である。図4に示されるように、本発明の液晶表示装置20は、液晶セル30と、それを挟持する第1の偏光板40及び第2の偏光板50と、バックライト60とを含む。 FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the basic configuration of the liquid crystal display device. As shown in FIG. 4, the liquid crystal display device 20 of the present invention includes a liquid crystal cell 30, a first polarizing plate 40 and a second polarizing plate 50 sandwiching the liquid crystal cell 30, and a backlight 60.

液晶セル30の表示モードは、例えばTN(Twisted Nematic)、VA(Vistical Alignment)、又はIPS(In Plane Switching)等のいずれの表示モードであってよい。モバイル機器向けの液晶セルは、例えばIPSモードが好ましい。中・大型用途の液晶セルは、例えばVAモードが好ましい。 The display mode of the liquid crystal cell 30 may be any display mode such as TN (Twisted Nematic), VA (Vistational Alignment), or IPS (In Plane Switching). The liquid crystal cell for mobile devices is preferably in the IPS mode, for example. The VA mode is preferable for liquid crystal cells for medium and large-sized applications.

第1の偏光板40は、液晶セル30の視認側の面に配置されており、第1の偏光子41と、第1の偏光子41の液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルム43(F1)と、第1の偏光子41の液晶セル側の面に配置された保護フィルム45(F2)とを含む。 The first polarizing plate 40 is disposed on the viewing side surface of the liquid crystal cell 30, and the first polarizer 41 and the protection disposed on the surface of the first polarizer 41 opposite to the liquid crystal cell side. It includes a film 43 (F1) and a protective film 45 (F2) arranged on the surface of the first polarizer 41 on the liquid crystal cell side.

第2の偏光板50は、液晶セル30のバックライト側の面に配置されており、第2の偏光子51と、第2の偏光子51の液晶セル側の面に配置された保護フィルム53(F3)と、第2の偏光子51の液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルム55(F4)とを含む。 The second polarizing plate 50 is disposed on the backlight side surface of the liquid crystal cell 30, and the second polarizer 51 and the protective film 53 disposed on the liquid crystal cell side surface of the second polarizer 51. (F3) and a protective film 55 (F4) arranged on the surface of the second polarizer 51 opposite to the liquid crystal cell.

第1の偏光子41の吸収軸と第2の偏光子51の吸収軸とは直交していることが好ましい。 The absorption axis of the first polarizer 41 and the absorption axis of the second polarizer 51 are preferably orthogonal to each other.

保護フィルム45(F2)は、本発明の光学積層フィルムとしうる。光学積層フィルムの易接着層48と第1の偏光子41とは、直接又は接着剤層(不図示)を介して積層されている。保護フィルム43(F2)の面内遅相軸と第1の偏光子41の吸収軸とは略直交しうる。保護フィルム43(F1)、53(F3)及び55(F4)は、例えば前述した他のフィルムとしうる。 The protective film 45 (F2) can be the optical laminated film of the present invention. The easy-adhesion layer 48 of the optical laminated film and the first polarizer 41 are laminated directly or via an adhesive layer (not shown). The in-plane slow axis of the protective film 43 (F2) and the absorption axis of the first polarizer 41 may be substantially orthogonal to each other. The protective films 43 (F1), 53 (F3) and 55 (F4) can be, for example, the other films described above.

図4では、保護フィルム45(F2)を本発明の光学積層フィルムとした例を示したが、これに限定されず、保護フィルム43(F1)、45(F2)、53(F3)及び55(F4)の少なくとも一つを本発明の光学積層フィルムとしうる。例えば、保護フィルム43(F1)を本発明の光学積層フィルムとし、λ/4フィルムとして機能させる場合、本発明の光学積層フィルムの面内遅相軸と第1の偏光子41の吸収軸とのなす角度は、前述の通り、40〜50°としうる。保護フィルム45(F2)を本発明の光学積層フィルムとし、VA用の位相差フィルムとして機能させる場合、本発明の光学積層フィルムの面内遅相軸と偏光子の吸収軸とは略直交しうる。 Although FIG. 4 shows an example in which the protective film 45 (F2) is the optical laminated film of the present invention, the invention is not limited to this, and the protective films 43 (F1), 45 (F2), 53 (F3) and 55 ( At least one of F4) can be the optical laminated film of the present invention. For example, when the protective film 43 (F1) is used as the optical laminated film of the present invention and functions as a λ/4 film, the in-plane slow axis of the optical laminated film of the present invention and the absorption axis of the first polarizer 41 are The angle formed may be 40 to 50° as described above. When the protective film 45 (F2) is used as the optical laminated film of the present invention to function as a retardation film for VA, the in-plane slow axis of the optical laminated film of the present invention and the absorption axis of the polarizer may be substantially orthogonal to each other. ..

保護フィルム45(F2)としての本発明の光学積層フィルムは、前述の通り、紫外線吸収剤や酸化防止剤が基材層11の表面に偏在しているので、基材層11と易接着層13との間の接着ムラが低減される。さらに、本発明の光学積層フィルムは、その基材層11が一定量以上の残留溶媒を含むので、基材層11と易接着層13との間の膨張しようとする力の差を低減でき、偏光子の吸収軸と光学積層フィルム10の遅相軸との間の軸ズレを抑制できる。それらにより、本発明の液晶表示装置は、良好な耐久性を有しつつ、高温高湿下における光学ムラが抑制されうる。 As described above, in the optical laminated film of the present invention as the protective film 45 (F2), since the ultraviolet absorber and the antioxidant are unevenly distributed on the surface of the base material layer 11, the base material layer 11 and the easy adhesion layer 13 are formed. The adhesion unevenness between and is reduced. Furthermore, since the base layer 11 of the optical laminated film of the present invention contains a certain amount or more of residual solvent, the difference in force between the base layer 11 and the easy-adhesion layer 13 that tends to expand can be reduced, An axis shift between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the optical laminated film 10 can be suppressed. Thereby, the liquid crystal display device of the present invention can suppress optical unevenness under high temperature and high humidity while having good durability.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

1.基材フィルム(基材層)の作製
1)基材フィルムの材料
<シクロオレフィン系樹脂の合成>
(合成例1)
シクロオレフィン単量体として一般式(A−1)の例示化合物11を100質量部と、分子量調節剤である1−ヘキセンを3.6質量部と、トルエンを200質量部とを窒素置換した反応容器に仕込み、80℃に加熱した。これに、重合触媒としてトリエチルアルミニウム((C253Al)1.5モル/lのトルエン溶液を0.17質量部と、t−ブタノ−ル及びメタノールで変性した六塩化タングステン(WCl6)を含み、t−ブタノール:メタノール:タングステン=0.35:0.3:1(モル比)であるWCl6溶液(濃度0.05モル/l)を1.0質量部とを加え、80℃で3時間加熱攪拌して開環重合反応させて、重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は96%であった。
得られた重合体溶液の4000質量部をオートクレーブに入れ、この重合体溶液にRuHCl(CO)[P(C6533を0.48質量部加え、水素ガス圧を10MPa、反応温度160℃の条件で3時間加熱攪拌して、水素添加反応を行った。
得られた反応溶液を冷却した後、水素ガスを放圧し、この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収した。回収した凝固物を乾燥させて、シクロオレフィン系樹脂1を得た。
1. Preparation of base film (base layer) 1) Material of base film <Synthesis of cycloolefin resin>
(Synthesis example 1)
Reaction in which 100 parts by mass of Exemplified Compound 11 of the general formula (A-1) as a cycloolefin monomer, 3.6 parts by mass of 1-hexene that is a molecular weight modifier, and 200 parts by mass of toluene were substituted with nitrogen. It was charged in a container and heated to 80°C. Thereto, and triethylaluminum ((C 2 H 5) 3 Al) 0.17 parts by weight of a toluene solution of 1.5 mol / l as a polymerization catalyst, t-butanol - Le and modified tungsten hexachloride with methanol (WCl 6 ), and 1.0 parts by mass of a WCl 6 solution (concentration 0.05 mol/l) containing t-butanol:methanol:tungsten=0.35:0.3:1 (molar ratio), A ring-opening polymerization reaction was performed by heating and stirring at 80° C. for 3 hours to obtain a polymer solution. The polymerization conversion rate in this polymerization reaction was 96%.
4000 parts by mass of the obtained polymer solution was put into an autoclave, 0.48 parts by mass of RuHCl(CO)[P(C 6 H 5 ) 3 ] 3 was added to this polymer solution, the hydrogen gas pressure was 10 MPa, and the reaction was performed. The mixture was heated and stirred at a temperature of 160° C. for 3 hours to carry out a hydrogenation reaction.
After cooling the obtained reaction solution, the hydrogen gas was released, and the reaction solution was poured into a large amount of methanol to separate and collect a coagulated product. The collected coagulated product was dried to obtain cycloolefin resin 1.

(合成例2〜4)
水素化反応液を濾別洗浄した後、分離した凝固物を乾燥させる際の乾燥温度を、表1に示されるように変更した以外は合成例1と同様にしてシクロオレフィン系樹脂2〜4を得た。

Figure 0006728650
(Synthesis examples 2 to 4)
The cycloolefin resins 2 to 4 were prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the drying temperature at the time of drying the separated coagulated product was changed as shown in Table 1 after the hydrogenation reaction solution was filtered and washed. Obtained.
Figure 0006728650

1-2)紫外線吸収剤
紫外線吸収剤A:Tinuvin928(2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(1-メチル-1-フェニルエチル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール)(下記式参照)

Figure 0006728650
紫外線吸収剤B:N,N',N''‐トリ‐m‐トルイル‐1,3,5‐トリアジン‐2,4,6‐トリアミン
紫外線吸収剤C:CHIMASSORB 81 (下記式参照)
Figure 0006728650
1-2) UV absorber UV absorber A: Tinuvin928 (2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-(1-methyl-1-phenylethyl)-4-(1,1,3,3 -Tetramethylbutyl)phenol) (see formula below)
Figure 0006728650
UV absorber B: N,N',N"-tri-m-toluyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine UV absorber C: CHIMASSORB 81 (see the following formula)
Figure 0006728650

1-3)酸化防止剤
酸化防止剤:IRGANOX 1010(下記式参照)

Figure 0006728650
1-3) Antioxidant Antioxidant: IRGANOX 1010 (see the formula below)
Figure 0006728650

2)基材フィルムの作製
<基材フィルム1の作製>
(微粒子添加液の調製)
下記成分を、ディゾルバーで50分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを、日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液を得た。
微粒子(アエロジルR812:日本アエロジル株式会社製、一次平均粒子径:7nm、見掛け比重50g/L):4質量部
メチレンクロライド:96質量部
2) Production of base film <Production of base film 1>
(Preparation of liquid containing fine particles)
The components below were mixed by stirring with a dissolver for 50 minutes, and then dispersed with manton-goline. Furthermore, dispersion was performed with an attritor so that the particle size of the secondary particles would be a predetermined size. This was filtered through Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to obtain a fine particle added liquid.
Fine particles (Aerosil R812: manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., primary average particle diameter: 7 nm, apparent specific gravity: 50 g/L): 4 parts by mass Methylene chloride: 96 parts by mass

(ドープ液の調製)
次いで、下記成分を加熱しながら十分に溶解させて、ドープ液を得た。
合成例1で得たシクロオレフィン系樹脂1:100質量部
紫外線吸収剤A:8質量部
IRGANOX1010(酸化防止剤):0.2質量部
メチレンクロライド:210質量部
微粒子添加液:3質量部
(Preparation of dope solution)
Then, the following components were sufficiently dissolved while heating to obtain a dope solution.
Cycloolefin resin obtained in Synthesis Example 1: 1:100 parts by mass Ultraviolet absorber A: 8 parts by mass IRGANOX 1010 (antioxidant): 0.2 parts by mass Methylene chloride: 210 parts by mass Fine particle additive liquid: 3 parts by mass

(溶液流延製膜法による基材フィルムの作製)
得られたドープ液を40℃に保ち、40℃に保温された無端の金属支持体であるステンレスベルト上に均一に流延した。この流延膜を、残留溶媒量が80質量%となるまで乾燥させた後、ステンレスベルト上から剥離して膜状物を得た。得られた膜状物を、残留溶剤量が5質量%となるまで40℃で乾燥させた後、幅方向に延伸倍率1.5倍で延伸した。得られた膜状物を、多数のロールで搬送させながら120℃でさらに乾燥させて、厚み20μm、幅1.3mの基材フィルム1を得た。
(Preparation of substrate film by solution casting film forming method)
The obtained dope solution was kept at 40° C. and uniformly cast on a stainless belt which is an endless metal support kept at 40° C. The cast film was dried until the residual solvent amount became 80% by mass, and then peeled off from the stainless belt to obtain a film-shaped product. The obtained film-like material was dried at 40° C. until the residual solvent amount became 5% by mass, and then stretched in the width direction at a stretch ratio of 1.5 times. The obtained film-like material was further dried at 120° C. while being conveyed by a large number of rolls to obtain a base film 1 having a thickness of 20 μm and a width of 1.3 m.

<基材フィルム2〜5の作製>
基材フィルム1の作製において、ドープの溶媒組成を表2に示されるように変更した以外は同様にして基材フィルム2〜5を得た。
<Production of base material films 2 to 5>
In the production of the base film 1, base films 2 to 5 were obtained in the same manner except that the solvent composition of the dope was changed as shown in Table 2.

<基材フィルム6〜11の作製>
基材フィルム3の作製において、ドープの溶媒組成と延伸後の乾燥温度を表2に示されるように変更した以外は同様にして基材フィルム6〜11を得た。
<Production of Base Films 6-11>
In the production of the base film 3, base films 6 to 11 were obtained in the same manner except that the solvent composition of the dope and the drying temperature after stretching were changed as shown in Table 2.

<基材フィルム12〜16の作製>
基材フィルム3の作製において、ドープに含まれる紫外線吸収剤の含有量を表2に示されるように変更した以外は同様にして基材フィルム12〜16を得た。
<Production of substrate films 12 to 16>
In the production of the base film 3, base films 12 to 16 were obtained in the same manner except that the content of the ultraviolet absorber contained in the dope was changed as shown in Table 2.

<基材フィルム17〜19の作製>
基材フィルム15の作製において、ドープに含まれるシクロオレフィン系樹脂の種類を表2に示されるように変更した以外は同様にして基材フィルム17〜19を得た。
<Production of base material films 17 to 19>
In the production of the base film 15, base films 17 to 19 were obtained in the same manner except that the type of cycloolefin resin contained in the dope was changed as shown in Table 2.

<基材フィルム20〜22の作製>
基材フィルム2の作製において、ドープに含まれる紫外線吸収剤の種類と含有量を表2に示されるように変更した以外は同様にして基材フィルム20〜22を得た。
<Production of substrate films 20 to 22>
In the production of the base film 2, base films 20 to 22 were obtained in the same manner except that the kind and the content of the ultraviolet absorber contained in the dope were changed as shown in Table 2.

<基材フィルム23の作製>
(ペレットの作製)
乾燥させたシクロオレフィン系樹脂1を100質量部と、紫外線吸収剤A:3質量部と、IRGANOX1010(酸化防止剤):0.2質量部とを、二軸押出機により混合した。得られた混合物を、押出機に接続されたホッパーへ投入し、単軸押出機で溶融押出してペレットを得た。
<Production of base film 23>
(Preparation of pellets)
100 parts by mass of the dried cycloolefin resin 1, 3 parts by mass of the ultraviolet absorber A and 0.2 parts by mass of IRGANOX 1010 (antioxidant) were mixed by a twin-screw extruder. The obtained mixture was put into a hopper connected to an extruder and melt-extruded with a single-screw extruder to obtain pellets.

次いで、得られたペレットを、目開き3μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置したダブルフライト型50mm単軸押出機(スクリュー有効長さLとスクリュー径Dとの比L/D=32)に装填されたホッパーへ投入し、押出機出口温度280℃、押出機のギヤポンプの回転数10rpmで溶融樹脂をダイに供給した。そして、溶融樹脂を、280℃でダイから吐出させ、150℃に温度調整された冷却ロールにキャストして基材フィルム23を得た。エアギャップ量を50mmとした。 Next, the obtained pellets are loaded into a double flight type 50 mm single screw extruder (ratio L/D=32 of effective screw length L and screw diameter D) in which a leaf disc-shaped polymer filter with openings of 3 μm is installed. Then, the molten resin was supplied to the die at an extruder outlet temperature of 280° C. and a rotation speed of a gear pump of the extruder of 10 rpm. Then, the molten resin was discharged from the die at 280° C., and cast on a cooling roll whose temperature was adjusted to 150° C. to obtain a base film 23. The air gap amount was 50 mm.

<基材フィルム24の作製>
基材フィルム20の作製において、延伸を行わなかった以外は同様にして基材フィルム24を得た。
<Preparation of substrate film 24>
A base film 24 was obtained in the same manner as in the preparation of the base film 20, except that stretching was not performed.

<基材フィルム25の作製>
基材フィルム2の作製において、紫外線吸収剤を添加せず、シクロオレフィン系樹脂1の添加量を108質量部とした以外は同様にして基材フィルム25を得た。
<Production of base film 25>
A base film 25 was obtained in the same manner as in the preparation of the base film 2, except that the ultraviolet absorber was not added and the amount of the cycloolefin resin 1 added was 108 parts by mass.

得られた基材フィルムの、紫外線吸収剤及び酸化防止剤の含有分布(Mc/Ms)及び残留溶媒量を、それぞれ以下の方法で測定した。 The content distribution (Mc/Ms) of the ultraviolet absorber and the antioxidant and the amount of residual solvent of the obtained base film were measured by the following methods, respectively.

(Mc/Ms)
基材フィルムのMc/Msを、以下の手順で測定した。即ち、
1)基材フィルムをミクロトームで切断し、基材フィルムの表面に垂直な切断面を得た。
2)得られた基材フィルムの切断面における測定対象物の面分布像(IRイメージ像)を、Thermo Fisher Scientific社製のNicolet 380を用いてATR法にてよって測定した。
(測定条件)
各測定領域:30μm×30μm(基材フィルムの表面と内部を含む領域)
3)測定領域について、測定対象となる紫外線吸収剤又は酸化防止剤のピーク(測定対象ピーク)を抽出し、その吸光度から含有量を数値化し、可視化したIRイメージ像を得た。
また、上記測定領域において、基材フィルムの一方の面から厚み方向に2μmの位置までの領域における測定対象ピークの吸光度の積算値As1、基材フィルムの他方の面から厚み方向に2μmの位置までの領域における測定対象ピークの吸光度の積算値As2、及び基材フィルムの厚み方向の中心から厚み方向に±2μmの位置までの領域における測定対象ピークの吸光度の積算値Acを測定し、それらの比Ac/As1、Ac/As2をそれぞれ算出した。これらの比のうち、小さいほうの値を「Mc/Ms」とした。
(Mc/Ms)
The Mc/Ms of the base film was measured by the following procedure. That is,
1) The base film was cut with a microtome to obtain a cut surface perpendicular to the surface of the base film.
2) The surface distribution image (IR image image) of the measurement object on the cut surface of the obtained base film was measured by the ATR method using Nicolet 380 manufactured by Thermo Fisher Scientific.
(Measurement condition)
Each measurement area: 30 μm×30 μm (area including the surface and inside of the base film)
3) In the measurement region, the peak of the ultraviolet absorber or the antioxidant to be measured (peak to be measured) was extracted, the content was quantified from its absorbance, and a visualized IR image image was obtained.
In the measurement area, the integrated value As1 of the absorbance of the peak to be measured in the area from one surface of the base film to the position of 2 μm in the thickness direction, from the other surface of the base film to the position of 2 μm in the thickness direction The integrated value As2 of the absorbance of the measurement target peak in the region of and the integrated value As of the absorbance of the measurement target peak in the region from the center of the thickness direction of the base film to the position of ±2 μm in the thickness direction are measured, and the ratio thereof Ac/As1 and Ac/As2 were calculated, respectively. Of these ratios, the smaller value was defined as "Mc/Ms".

(残留溶媒の定性及び定量)
得られた基材フィルム中の残留溶媒の定性及び定量は、ヘッドスペースガスクロマトグラフィーにより行った。ヘッドスペースガスクロマトグラフィーでは、試料を容器に封入して加熱し、容器中に揮発成分が充満した状態で速やかに容器中のガスをガスクロマトグラフに注入し、質量分析を行って化合物の同定を行いながら揮発成分の定量を行った。揮発成分の定量は、濃度が既知の試料を用いて検量線を予め作成しておき、測定で得られた揮発成分のピーク面積と検量線とを照合して行った。
(測定条件)
ヘッドスペース装置:HP7694 Head Space Sampler(ヒューレットパッカード社製)
温度条件:トランスファーライン200℃、ループ温度200℃
サンプル量:0.8g/20mlバイアル
GC:HP5890(ヒューレットパッカード社製)
MS:HP5971(ヒューレットパッカード社製)
カラム:HP−624(30m×内径0.25mm)
オーブン温度:初期温度40℃(保持時間3分)、昇温速度10℃/分、到達温度200℃(保持時間5分)
測定モード:SIM(セレクトイオンモニター)モード
(Qualitative and quantitative determination of residual solvent)
The qualitative and quantitative determination of the residual solvent in the obtained base film was performed by headspace gas chromatography. In headspace gas chromatography, the sample is sealed in a container and heated, and the gas in the container is quickly injected into the gas chromatograph when the container is filled with volatile components, and the compound is identified by mass spectrometry. While quantifying the volatile components. The volatile component was quantified by preparing a calibration curve in advance using a sample having a known concentration, and comparing the peak area of the volatile component obtained by the measurement with the calibration curve.
(Measurement condition)
Headspace device: HP7694 Head Space Sampler (manufactured by Hewlett Packard)
Temperature conditions: Transfer line 200℃, loop temperature 200℃
Sample amount: 0.8 g/20 ml vial GC: HP5890 (manufactured by Hewlett Packard)
MS: HP5971 (manufactured by Hewlett Packard)
Column: HP-624 (30m x inner diameter 0.25mm)
Oven temperature: initial temperature 40°C (holding time 3 minutes), temperature rising rate 10°C/minute, ultimate temperature 200°C (holding time 5 minutes)
Measurement mode: SIM (select ion monitor) mode

基材フィルム1〜25の製造条件と評価結果を、表2に示す。表中、MCはメチレンクロライドを示し、Etはエタノールを示し、Meはメタノールを示す。

Figure 0006728650
Table 2 shows the production conditions and evaluation results of the base material films 1 to 25. In the table, MC indicates methylene chloride, Et indicates ethanol, and Me indicates methanol.
Figure 0006728650

基材フィルム4、5及び23以外の基材フィルムは、いずれもIRイメージ像から基材フィルムの両面もしくは片面に紫外線吸収剤又は酸化防止剤が偏在していることが確認された。そして、表2に示されるように、基材フィルムの製造工程におけるドープの溶媒組成と乾燥前の膜状物の残留溶媒量を調整することで、得られる基材フィルムのMc/Msを1未満に調整できることが示される(基材フィルム1〜5の対比)。具体的には、沸点が低いメチレンクロライドの含有比率が多くなると、乾燥前の膜状物の残留溶媒量が少なくなりやすく、基材フィルムのMc/Msを一定以下としやすいことが示される。 It was confirmed from the IR image images that all the base films other than the base films 4, 5, and 23 had the ultraviolet absorber or the antioxidant unevenly distributed on both sides or one side of the base film. Then, as shown in Table 2, by adjusting the solvent composition of the dope in the manufacturing process of the base film and the residual solvent amount of the film material before drying, the Mc/Ms of the base film obtained is less than 1. It is shown that it can be adjusted to (contrast of base material films 1 to 5). Specifically, it is shown that when the content ratio of methylene chloride having a low boiling point increases, the amount of residual solvent of the film material before drying tends to decrease, and Mc/Ms of the base film tends to be kept at a certain level or less.

基材フィルムの製造工程における膜状物の乾燥温度を低くすることで、得られる基材フィルムの残留溶媒量を一定以上としうることが示される(基材フィルム6〜11の対比)。 It is shown that by lowering the drying temperature of the film-like material in the process of manufacturing the base film, the amount of residual solvent in the obtained base film can be set to a certain level or more (contrast with base films 6 to 11).

シクロオレフィン系樹脂の合成条件(減圧乾燥温度)を低くすることで、得られる基材フィルムの残留トルエン量を一定以上としうることが示される(基材フィルム15及び17〜19の対比)。 It is shown that the residual toluene amount of the obtained base film can be set to a certain amount or more by comparing the cycloolefin-based resin synthesis condition (vacuum drying temperature) (contrast between base films 15 and 17 to 19).

2.光学積層フィルムの作製
1)易接着層の材料
<易接着層用組成物1の調製>
信越化学工業社製のKBM−603(アミノ系シランカップリング剤)を、1−メトキシ−2−プロパノールに溶解させて、濃度10重量%の易接着層用組成物1を得た。
2. Preparation of Optical Laminated Film 1) Material of Easy Adhesion Layer <Preparation of Composition 1 for Easy Adhesion Layer>
KBM-603 (amino type silane coupling agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was dissolved in 1-methoxy-2-propanol to obtain a composition 1 for an easy-adhesion layer having a concentration of 10% by weight.

<易接着層用組成物2の調製>
田岡化学工業社製のスミレーズレジン650(ポリアミドエポキシ系樹脂)を純水に溶解させて、濃度10重量%の易接着層用組成物2を得た。
<Preparation of Composition 2 for Easy Adhesion Layer>
Sumiraz resin 650 (polyamide epoxy resin) manufactured by Taoka Chemical Industry Co., Ltd. was dissolved in pure water to obtain a composition 2 for easy adhesion layer having a concentration of 10% by weight.

<易接着層用組成物3の調製>
第一工業製薬社製のスーパーフレックス210(水系ウレタン系樹脂)と、架橋剤としてのアジピン酸とエポキシ樹脂とを純水に溶解させて、スーパーフレックス210の濃度10質量%の易接着層用組成物3を得た。
<Preparation of Composition 3 for Easy Adhesion Layer>
Superflex 210 (water-based urethane resin) manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., and adipic acid as a cross-linking agent and an epoxy resin are dissolved in pure water to form a composition for an easily adhesive layer having a concentration of 10% by mass of Superflex 210. Item 3 was obtained.

2)光学積層フィルムの作製
<光学積層フィルム1〜16及び28の作製>
表3に示される基材フィルムの領域Sを構成する面(表2のMc/Msの値を有する面)に、コロナ放電処理を施した。コロナ放電における電子照射量は500W/m/minとした。得られた基材フィルムのコロナ処理面に、上記作製した易接着層用組成物1をバーコーターにて乾燥後の厚みが0.8μmとなるように塗布した後、80℃で5分間乾燥させて易接着層を形成した。それにより、基材フィルムと易接着層とを含む光学積層フィルム1〜16及び28を得た。
2) Production of optical laminated film <Production of optical laminated films 1 to 16 and 28>
Corona discharge treatment was applied to the surface forming the area S of the base film shown in Table 3 (the surface having the value of Mc/Ms in Table 2). The electron irradiation dose in the corona discharge was 500 W/m 2 /min. The composition 1 for easy-adhesion layer prepared above was applied on the corona-treated surface of the obtained substrate film by a bar coater so that the thickness after drying was 0.8 μm, and then dried at 80° C. for 5 minutes. To form an easily adhesive layer. Thereby, optical laminated films 1 to 16 and 28 including the base film and the easy-adhesion layer were obtained.

<光学積層フィルム17〜18の作製>
基材フィルム15上に、表3に示される易接着層用組成物を塗布した後、100℃で10分間乾燥させて易接着層を形成して、光学積層フィルム17〜18を得た。
<Production of Optical Laminated Films 17 to 18>
After coating the composition for easy-adhesion layer shown in Table 3 on the base film 15, it was dried at 100° C. for 10 minutes to form an easy-adhesion layer to obtain optical laminated films 17 to 18.

<光学積層フィルム19の作製>
光学積層フィルム15の作製において、易接着層を形成しなかった以外は同様にして光学積層フィルム19を得た。
<Production of Optical Laminated Film 19>
In the production of the optical laminated film 15, an optical laminated film 19 was obtained in the same manner except that the easy adhesion layer was not formed.

<光学積層フィルム20〜27の作製>
表3に示される基材フィルム上に、上記作製した易接着層用組成物2を塗布した後、100℃で10分間乾燥させて易接着層を形成して、光学積層フィルム20〜27を得た。
<Production of Optical Laminated Films 20 to 27>
The composition 2 for easy-adhesion layer produced above was applied onto the base film shown in Table 3, and then dried at 100° C. for 10 minutes to form an easy-adhesion layer, thereby obtaining optical laminated films 20 to 27. It was

得られた光学積層フィルムの、偏光子との接着性を、以下の方法で評価した。 The following method evaluated the adhesiveness with the polarizer of the obtained optical laminated film.

(偏光子との接着性)
1)偏光子の作製
厚さ25μmのポリビニルアルコールフィルムを、35℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5gおよび水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、さらにヨウ化カリウム3g、ホウ酸7.5gおよび水100gからなる45℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度55℃、延伸倍率5倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ7μmの偏光子を得た。
(Adhesiveness with polarizer)
1) Production of Polarizer A polyvinyl alcohol film having a thickness of 25 μm was swollen with water at 35° C. The obtained film was dipped in an aqueous solution containing 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and further dipped in an aqueous solution of 3 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water at 45°C. .. The obtained film was uniaxially stretched under the conditions of a stretching temperature of 55° C. and a stretching ratio of 5 times. The uniaxially stretched film was washed with water and then dried to obtain a polarizer having a thickness of 7 μm.

2)評価用サンプルの作製
得られた光学積層フィルムの易接着層上に、水系接着剤であるポリビニルアルコール(クラレ製PVA−117H)3質量%水溶液を塗布した後、上記作製した偏光子を貼り合わせた。貼り合わせは、光学積層フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とが直交するように行った。得られた積層物を60℃で5分間乾燥させて、評価用サンプルを得た。
2) Preparation of sample for evaluation On the easy-adhesion layer of the obtained optical laminated film, a 3% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-117H manufactured by Kuraray), which is an aqueous adhesive, was applied, and then the above-prepared polarizer was attached. I matched it. The lamination was performed so that the slow axis of the optical laminated film and the absorption axis of the polarizer were orthogonal to each other. The obtained laminate was dried at 60° C. for 5 minutes to obtain a sample for evaluation.

得られた評価用サンプルを、23℃で相対湿度55%の環境下で24時間放置した。その後、評価用サンプルの偏光子と光学積層フィルムとの接着面を手で引き剥がしたとき、光学積層フィルムに材料破壊の発生の有無、及び剥離の程度を目視観察して、以下の基準で接着性を評価した。〇以上であれば実用上問題ないレベルと判断した。
◎:剥がれない
○:光学積層フィルムと偏光子との間の接着力に問題はなく、光学積層フィルムを剥がそうとすると、光学積層フィルムと偏光子の少なくとも一方の端部の一部に材料(基材)破壊が生じる
△:光学積層フィルムと偏光子との界面の一部が剥がれる
×:偏光板保護フィルムと偏光膜との界面の全部が剥がれる
The obtained evaluation sample was left for 24 hours in an environment of 23° C. and 55% relative humidity. After that, when the adhesive surface between the polarizer and the optical laminated film of the evaluation sample was peeled off by hand, the presence or absence of material destruction in the optical laminated film and the degree of peeling were visually observed, and adhered according to the following criteria. The sex was evaluated. It was judged that there was no problem in practical use if it was ◯ or more.
⊚: Does not peel off ◯: There is no problem with the adhesive force between the optical laminated film and the polarizer, and when the optical laminated film is tried to be peeled off, a material (a part of at least one end of the optical laminated film and the polarizer ( Substrate) Destruction occurs Δ: Part of the interface between the optical laminated film and the polarizer is peeled off ×: All of the interface between the polarizing plate protective film and the polarizing film is peeled off

光学積層フィルム1〜27の評価結果を、表3に示す。

Figure 0006728650
Table 3 shows the evaluation results of the optical laminated films 1-27.
Figure 0006728650

表3に示されるように、基材層中で紫外線吸収剤と酸化防止剤を表面に偏在させた(Mc/Ms=1未満とした)光学積層フィルムは、基材層中で紫外線吸収剤と酸化防止剤を表面に偏在させなかった(Mc/Ms=1とした)光学積層フィルムよりも、偏光子との接着性が高いことが示される(光学積層フィルム1〜5及び28の対比)。 As shown in Table 3, the optical laminated film in which the ultraviolet absorber and the antioxidant were unevenly distributed on the surface in the base material layer (Mc/Ms was less than 1) was used as the ultraviolet absorber in the base material layer. It is shown that the adhesiveness to the polarizer is higher than that of the optical laminated film in which the antioxidant is not unevenly distributed on the surface (Mc/Ms=1) (contrast of optical laminated films 1 to 5 and 28).

また、メルト製膜した基材層を含む光学積層フィルムは、易接着層との接着性が低いことから、偏光子との接着性も低いことがわかる(光学積層フィルム26と15との対比)。また、易接着層を設けなかった光学積層フィルムは、偏光子との接着性が低いことが示される(光学積層フィルム15、17〜19の対比)。 Further, since the optical laminated film including the melt-formed base material layer has low adhesiveness with the easy-adhesion layer, it can be seen that the adhesiveness with the polarizer is also low (comparison between optical laminated films 26 and 15). .. Further, it is shown that the optical laminated film not provided with the easy-adhesion layer has low adhesiveness to the polarizer (comparison between optical laminated films 15 and 17 to 19).

3.液晶表示装置の作製
<液晶表示装置1の作製>
偏光子として、前述の「偏光子との接着性」の評価に用いた偏光子を準備した。保護フィルムF1として、コニカミノルタタック KC6UA(コニカミノルタ社製)を準備した。保護フィルムF2として、上記作製した光学積層フィルム1を準備した。
3. Manufacture of liquid crystal display device <Manufacture of liquid crystal display device 1>
As the polarizer, the polarizer used in the evaluation of the “adhesiveness with the polarizer” described above was prepared. As the protective film F1, Konica Minolta Tack KC6UA (manufactured by Konica Minolta) was prepared. As the protective film F2, the optical laminated film 1 prepared above was prepared.

そして、KC6UAの表面を以下の条件でアルカリ鹸化処理した。具体的には、KC6UAを、1.5N水酸化ナトリウム水溶液に55℃にて2分間浸漬した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、30℃で0.1N硫酸を用いて中和した。得られたKC6UAを再度、室温の水洗浴槽中で洗浄した後、100℃の温風で乾燥させた。 Then, the surface of KC6UA was subjected to alkali saponification treatment under the following conditions. Specifically, KC6UA was immersed in a 1.5N sodium hydroxide aqueous solution at 55°C for 2 minutes, washed in a water-washing bath at room temperature, and neutralized with 0.1N sulfuric acid at 30°C. The obtained KC6UA was washed again in a water-washing bath at room temperature and then dried with warm air at 100°C.

アルカリ鹸化処理面したKC6UA、偏光子及び上記作製した光学積層フィルム1を、水系接着剤であるポリビニルアルコール(クラレ製PVA−117H)3質量%水溶液を介して貼り合わせて、KC6UA/偏光子/光学積層フィルム1の積層物を得た。貼り合わせは、偏光子の一方の面がKC6UAの鹸化処理面と接し、他方の面が光学積層フィルム1の易接着層と接するように行い、且つ光学積層フィルム1の面内遅相軸と偏光子の吸収軸とが直交するように行った。得られた積層物を乾燥させて偏光板1を得た。 The alkali-saponified surface-treated KC6UA, the polarizer, and the optical laminated film 1 prepared above were bonded together via a 3% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-117H manufactured by Kuraray), which is an aqueous adhesive, and KC6UA/polarizer/optical A laminate of the laminated film 1 was obtained. The lamination is performed so that one surface of the polarizer is in contact with the saponified surface of KC6UA and the other surface is in contact with the easy-adhesion layer of the optical laminated film 1, and the in-plane slow axis of the optical laminated film 1 and the polarized light are polarized. It was performed so that the absorption axis of the child was orthogonal. The obtained laminate was dried to obtain polarizing plate 1.

(液晶表示装置の作製)
液晶表示装置として、VA方式のSONY製液晶テレビ(型番:BRAVIA KJ−43X8500C)を準備した。この装置から視認側の偏光板を剥がしとり、液晶セルの視認側の面に上記作製した偏光板1を貼り付けて液晶表示装置1を得た。
偏光板1の貼り付けは、光学積層フィルム1(保護フィルムF2)が液晶セル側となり、偏光子の吸収軸と光学積層フィルム1の遅相軸とが直交し、且つ液晶セルから剥がしとる前の視認側偏光板の吸収軸と一致するように行った。
(Production of liquid crystal display device)
As a liquid crystal display device, a VA type Sony liquid crystal television (model number: BRAVIA KJ-43X8500C) was prepared. The polarizing plate on the viewing side was peeled off from this device, and the polarizing plate 1 prepared above was attached to the viewing side surface of the liquid crystal cell to obtain a liquid crystal display device 1.
The polarizing plate 1 is attached before the optical laminated film 1 (protective film F2) is on the liquid crystal cell side, the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the optical laminated film 1 are orthogonal to each other, and before peeling from the liquid crystal cell. It was performed so as to coincide with the absorption axis of the viewing side polarizing plate.

<液晶表示装置2〜27の作製>
液晶表示装置1の作製において、偏光板の保護フィルムF2の種類を、表4に示されるように変更した以外は同様にして液晶表示装置2〜27を得た。
<Production of liquid crystal display devices 2 to 27>
In the production of the liquid crystal display device 1, liquid crystal display devices 2 to 27 were obtained in the same manner except that the kind of the protective film F2 of the polarizing plate was changed as shown in Table 4.

<液晶表示装置28〜29の作製>
液晶表示装置1の作製において、偏光板の保護フィルムF1とF2の種類を、表4に示されるように変更した以外は同様にして液晶表示装置28〜29を得た。
<Production of liquid crystal display devices 28 to 29>
In the manufacture of the liquid crystal display device 1, liquid crystal display devices 28 to 29 were obtained in the same manner except that the types of the protective films F1 and F2 of the polarizing plate were changed as shown in Table 4.

得られた液晶表示装置の光学ムラを目視観察し、以下の基準に基づいて評価した。光学ムラとは、黒表示させたときに、光が漏れているような白っぽい領域が画面全体若しくは画面四隅にまばらに生じる現象をいう。〇以上であれば実用上問題ないレベルと判断した
◎:ムラが全く観察されない。
○:ムラがほとんど観察されない(ムラの合計面積が画面全体の面積の5%以下である)。
△:目視の角度によってはやや弱いムラが観察される(ムラの合計面積が画面全体の面積の5%超である)。
×:画面に強いムラがはっきりと観察される。
The optical unevenness of the obtained liquid crystal display device was visually observed and evaluated based on the following criteria. The optical unevenness is a phenomenon in which whitish areas such as light leaks are sparsely formed on the entire screen or the four corners of the screen when black is displayed. If it was ◯ or more, it was judged that there was no problem in practical use ◎: No unevenness was observed at all.
◯: Almost no unevenness is observed (total area of unevenness is 5% or less of the area of the entire screen).
Δ: Some slight unevenness is observed depending on the visual angle (the total area of unevenness is more than 5% of the area of the entire screen).
X: Strong unevenness is clearly observed on the screen.

液晶表示装置1〜29の評価結果を表4に示す。

Figure 0006728650
Table 4 shows the evaluation results of the liquid crystal display devices 1 to 29.
Figure 0006728650

表4に示されるように、基材フィルムのMc/Msを1未満とし、且つ基材フィルムの残留溶媒量を一定以上とした光学積層フィルム1〜3、7〜10、12〜18、20〜25、及び27〜29は、光学ムラを抑制できることが示される。 As shown in Table 4, the optical laminated films 1 to 3, 7 to 10, 12 to 18 and 20 in which the Mc/Ms of the base film is less than 1 and the residual solvent amount of the base film is a certain amount or more. Nos. 25 and 27 to 29 show that optical unevenness can be suppressed.

これに対し、基材フィルムのMc/Msが1以上である光学積層フィルム4及び5は、接着ムラに起因する光学ムラが発生し、基材フィルムの残留溶媒量が少なすぎる光学積層フィルム6は、軸ズレに起因する光学ムラが発生することが示唆される。また、易接着層を有しない光学積層フィルム19は、接着ムラに起因する光学ムラが発生し、基材フィルムをメルト製膜で得た光学積層フィルム26は、軸ズレに起因する光学ムラが発生することが示唆される。 On the other hand, in the optical laminated films 4 and 5 in which Mc/Ms of the base film is 1 or more, optical unevenness caused by uneven adhesion occurs, and the optical laminated film 6 in which the residual solvent amount of the base film is too small is It is suggested that the optical unevenness caused by the axis misalignment occurs. Further, the optical laminated film 19 having no easy-adhesion layer has optical unevenness caused by adhesion unevenness, and the optical laminated film 26 obtained by melt-forming the base film has optical unevenness caused by axial misalignment. It is suggested to do.

<液晶表示装置30の作製>
(偏光板29の作製)
保護フィルムF1として、コニカミノルタタック KC6UA(コニカミノルタ社製)を用い、保護フィルムF2として、上記作製した光学積層フィルム27を用いた以外は、前述と同様にして偏光板29を得た。
<Production of liquid crystal display device 30>
(Production of Polarizing Plate 29)
A polarizing plate 29 was obtained in the same manner as described above, except that Konica Minolta Tack KC6UA (manufactured by Konica Minolta) was used as the protective film F1 and the optical laminated film 27 prepared above was used as the protective film F2.

(液晶表示装置の作製)
液晶表示装置として、IPS方式のLGエレクトロニクス製液晶テレビ(型番:43UF6900)を準備した。この装置から視認側の偏光板を剥がしとり、液晶セルの視認側の面に上記作製した偏光板29を貼り付けて液晶表示装置30を得た。
偏光板29の貼り付けは、光学積層フィルム27(保護フィルムF2)が液晶セル側となり、偏光子の吸収軸と光学積層フィルム27の遅相軸とが直交し、且つ液晶セルから剥がしとる前の視認側偏光板の吸収軸と一致するように行った。
(Production of liquid crystal display device)
As a liquid crystal display device, a liquid crystal television (model number: 43UF6900) manufactured by LG Electronics of the IPS system was prepared. The polarizing plate on the viewing side was peeled off from this apparatus, and the polarizing plate 29 prepared above was attached to the viewing side surface of the liquid crystal cell to obtain a liquid crystal display device 30.
The polarizing plate 29 is attached before the optical laminated film 27 (protective film F2) is on the liquid crystal cell side, the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the optical laminated film 27 are orthogonal to each other, and before peeling from the liquid crystal cell. It was performed so as to coincide with the absorption axis of the viewing side polarizing plate.

<液晶表示装置31〜33の作製>
液晶表示装置30の作製において、偏光板の保護フィルムF1とF2の種類を、表5に示されるように変更した以外は同様にして液晶表示装置31〜33を得た。
<Production of liquid crystal display devices 31 to 33>
In the production of the liquid crystal display device 30, liquid crystal display devices 31 to 33 were obtained in the same manner except that the types of the protective films F1 and F2 of the polarizing plate were changed as shown in Table 5.

得られた液晶表示装置の光学ムラを目視観察して、前述と同様の方法で評価した。〇以上であれば実用上問題ないレベルと判断した。 The optical unevenness of the obtained liquid crystal display device was visually observed and evaluated by the same method as described above. It was judged that there was no problem in practical use if it was ◯ or more.

液晶表示装置30〜33の評価結果を表5に示す。

Figure 0006728650
Table 5 shows the evaluation results of the liquid crystal display devices 30 to 33.
Figure 0006728650

表5に示されるように、基材フィルム中のMc/Msを1未満とし、且つ基材フィルムの残留溶媒量を一定以上とした光学積層フィルム27を用いた液晶表示装置30及び31は、光学ムラを抑制できることが示される。 As shown in Table 5, the liquid crystal display devices 30 and 31 using the optical laminated film 27 in which Mc/Ms in the base film is less than 1 and the residual solvent amount of the base film is not less than a certain level are It is shown that unevenness can be suppressed.

これに対し、基材フィルムをメルト製膜で得た光学積層フィルム26を用いた液晶表示装置32及び33は、軸ズレに起因する光学ムラが発生することが示唆される。 On the other hand, it is suggested that the liquid crystal display devices 32 and 33 using the optical laminated film 26 obtained by melt-forming the base material film cause optical unevenness due to axial misalignment.

本発明によれば、良好な耐久性を有し、且つ高温高湿下における液晶表示装置の光学ムラを抑制しうる光学積層フィルムを提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical laminated film which has favorable durability and can suppress the optical unevenness of a liquid crystal display device under high temperature and high humidity can be provided.

10 光学積層フィルム
11 基材層
13、48 易接着層
20 液晶表示装置
30 液晶セル
40 第1の偏光板
41 第1の偏光子
43 保護フィルム(F1)
45 保護フィルム(F2)
50 第2の偏光板
51 第2の偏光子
53 保護フィルム(F3)
55 保護フィルム(F4)
60 バックライト
10 Optical Laminated Film 11 Base Layer 13, 48 Easy Adhesive Layer 20 Liquid Crystal Display Device 30 Liquid Crystal Cell 40 First Polarizing Plate 41 First Polarizer 43 Protective Film (F1)
45 Protective film (F2)
50 Second Polarizing Plate 51 Second Polarizer 53 Protective Film (F3)
55 Protective film (F4)
60 backlight

Claims (11)

シクロオレフィン系樹脂と、紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方とを含む基材層と、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂又はシランカップリング剤を含む易接着層と
を含み、
前記基材層の表面に垂直な切断面において、前記基材層の前記易接着層が配置された面から厚み方向に0.1tの位置までの領域Sにおける前記紫外線吸収剤及び前記酸化防止剤の合計含有量をMs、前記基材層の中心から厚み方向に±0.1tの位置までの領域Cにおける前記紫外線吸収剤及び前記酸化防止剤の合計含有量をMcとしたとき(但し、前記基材層の厚みをtとする)、Mc/Msが0.01以上0.8以下であり、且つ
前記基材層の残留溶媒量が100ppm以上2000ppm以下である、
光学積層フィルム。
Cycloolefin resin, a base material layer containing at least one of an ultraviolet absorber and an antioxidant, an amide resin, a urethane resin or an easy-adhesion layer containing a silane coupling agent,
In the cut surface perpendicular to the surface of the base material layer, the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region S from the surface of the base material layer on which the easy-adhesion layer is arranged to a position of 0.1 t in the thickness direction. When Ms is the total content of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region C from the center of the base material layer to the position of ±0.1 t in the thickness direction (provided that the above The thickness of the base material layer is t), Mc/Ms is 0.01 or more and 0.8 or less , and the residual solvent amount of the base material layer is 100 ppm or more and 2000 ppm or less,
Optical laminated film.
前記基材層における前記紫外線吸収剤の含有量は、前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.5〜5質量%である、
請求項1に記載の光学積層フィルム。
The content of the ultraviolet absorber in the base material layer is 0.5 to 5 mass% with respect to the cycloolefin resin.
The optical laminated film according to claim 1.
前記基材層における前記酸化防止剤の含有量は、前記シクロオレフィン系樹脂に対して0.5〜5質量%である、
請求項1又は2に記載の光学積層フィルム。
The content of the antioxidant in the base material layer is 0.5 to 5 mass% with respect to the cycloolefin resin.
The optical laminated film according to claim 1.
前記アミド系樹脂は、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂である、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学積層フィルム。
The amide resin is a water-soluble polyamide epoxy resin,
The optical laminated film according to claim 1.
前記基材層は、前記残留溶媒として100〜300ppmのトルエンを含む、
請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学積層フィルム。
The base material layer contains 100 to 300 ppm of toluene as the residual solvent.
The optical laminated film according to claim 1.
前記Mc/Msが0.7以下である、
請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学積層フィルム。
The Mc/Ms is 0.7 or less,
The optical laminated film according to claim 1.
請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学積層フィルムと、その易接着層側の面に配置された偏光子とを含む、
偏光板。
An optical laminated film according to any one of claims 1 to 6, and a polarizer arranged on the surface of the easily adhesive layer side thereof.
Polarizer.
第1の偏光板と、液晶セルと、第2の偏光板と、バックライトとをこの順に含む液晶表示装置であって、
前記第1の偏光板は、第1の偏光子と、前記第1の偏光子の前記液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルムF1と、前記第1の偏光子の前記液晶セル側の面に配置された保護フィルムF2とを含み、
前記第2の偏光板は、第2の偏光子と、前記第2の偏光子の前記液晶セル側の面に配置された保護フィルムF3と、前記第2の偏光子の前記液晶セルとは反対側の面に配置された保護フィルムF4とを含み、
前記保護フィルムF1及びF2の少なくとも一方が、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学積層フィルムであり、且つ前記第1の偏光子が、前記光学積層フィルムの易接着層側の面に配置されているか、及び/又は
前記保護フィルムF3及びF4の少なくとも一方が、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学積層フィルムであり、且つ前記第2の偏光子が、前記光学積層フィルムの易接着層側の面に配置されている、
液晶表示装置。
A liquid crystal display device including a first polarizing plate, a liquid crystal cell, a second polarizing plate, and a backlight in this order,
The first polarizing plate includes a first polarizer, a protective film F1 disposed on a surface of the first polarizer opposite to the liquid crystal cell, and the liquid crystal cell of the first polarizer. Including a protective film F2 arranged on the side surface,
The second polarizing plate is opposite to the second polarizer, the protective film F3 disposed on the liquid crystal cell side surface of the second polarizer, and the liquid crystal cell of the second polarizer. And a protective film F4 arranged on the side surface,
At least one of the protective films F1 and F2 is the optical laminated film according to any one of claims 1 to 6, and the first polarizer is the surface of the optical laminated film on the easy adhesive layer side. And/or at least one of the protective films F3 and F4 is the optical laminated film according to any one of claims 1 to 6, and the second polarizer is the optical layer. It is arranged on the surface of the laminated film on the side of the easily adhesive layer,
Liquid crystal display device.
前記保護フィルムF1及びF2の少なくとも一方が、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学積層フィルムであり、且つ前記第1の偏光子が、前記光学積層フィルムの易接着層側の面に配置されている、
請求項8に記載の液晶表示装置。
At least one of the protective films F1 and F2 is the optical laminated film according to any one of claims 1 to 6, and the first polarizer is the surface of the optical laminated film on the easy adhesive layer side. Is located in the
The liquid crystal display device according to claim 8.
シクロオレフィン系樹脂と、紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方とを含み、前記紫外線吸収剤及び酸化防止剤が表面に偏在しており、且つ残留溶媒量が100ppm以上2000ppm以下である基材層を得る工程と、
前記基材層の前記紫外線吸収剤及び酸化防止剤が偏在している表面に、親水化処理を施す工程と、
前記基材層の親水化処理が施された面に、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂又はシランカップリング剤を含む易接着層用組成物を塗布した後、乾燥又は硬化させて易接着層を形成する工程と、
を有し、
前記基材層を得る工程は、
1)前記シクロオレフィン系樹脂と前記紫外線吸収剤及び酸化防止剤の少なくとも一方とを溶媒に溶解させて、ドープを得る工程と、
2)前記ドープを支持体上に流延した後、剥離して膜状物を得る工程と、
3)剥離した前記膜状物を乾燥させる工程と
を有し、
前記2)の工程において、剥離時の前記膜状物の残留溶媒量は10質量%以下である、
光学積層フィルムの製造方法。
A cycloolefin resin, saw-containing and at least one UV absorber and an antioxidant, wherein are unevenly distributed ultraviolet absorbers and antioxidants surface and the substrate remaining solvent amount is 100ppm or more 2000ppm or less Obtaining a layer,
A step of subjecting the surface of the base material layer where the ultraviolet absorber and the antioxidant are unevenly distributed to a hydrophilic treatment,
A composition for an easy-adhesion layer containing an amide resin, a urethane resin or a silane coupling agent is applied to the surface of the base material layer that has been subjected to the hydrophilic treatment, and then dried or cured to form an easy-adhesion layer. The process of
Have
The step of obtaining the substrate layer,
1) a step of dissolving the cycloolefin resin and at least one of the ultraviolet absorber and the antioxidant in a solvent to obtain a dope,
2) a step of casting the dope on a support and then peeling it off to obtain a film-like material,
3) a step of drying the peeled film material
Have
In the step 2), the residual solvent amount of the film-like material at the time of peeling is 10% by mass or less.
Method for producing optical laminated film.
前記基材層の表面に垂直な切断面において、前記基材層の少なくとも一方の表面から厚み方向に0.1tの位置までの領域Sにおける前記紫外線吸収剤及び前記酸化防止剤の合計含有量をMs、前記基材層の中心から厚み方向に±0.1tの位置までの領域Cにおける前記紫外線吸収剤及び前記酸化防止剤の合計含有量をMcとしたとき(但し、前記基材層の厚みをtとする)、Mc/Msが0.01以上0.8以下である、
請求項10に記載の光学積層フィルムの製造方法
In the cut surface perpendicular to the surface of the base material layer, the total content of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region S from at least one surface of the base material layer to the position of 0.1 t in the thickness direction is determined. Ms, when the total content of the ultraviolet absorber and the antioxidant in the region C from the center of the base material layer to the position of ±0.1 t in the thickness direction is Mc (however, the thickness of the base material layer is Is defined as t), and Mc/Ms is 0.01 or more and 0.8 or less,
The method for producing the optical laminated film according to claim 10 .
JP2015231913A 2015-11-27 2015-11-27 Optical laminated film and its manufacturing method, polarizing plate and liquid crystal display device Active JP6728650B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015231913A JP6728650B2 (en) 2015-11-27 2015-11-27 Optical laminated film and its manufacturing method, polarizing plate and liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015231913A JP6728650B2 (en) 2015-11-27 2015-11-27 Optical laminated film and its manufacturing method, polarizing plate and liquid crystal display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017097283A JP2017097283A (en) 2017-06-01
JP6728650B2 true JP6728650B2 (en) 2020-07-22

Family

ID=58817363

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015231913A Active JP6728650B2 (en) 2015-11-27 2015-11-27 Optical laminated film and its manufacturing method, polarizing plate and liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6728650B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI873114B (en) * 2019-01-17 2025-02-21 日商住友化學股份有限公司 Polarizing plate
CN116157255B (en) * 2020-07-29 2024-10-18 柯尼卡美能达株式会社 Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device
TWI906413B (en) * 2020-11-27 2025-12-01 日商大倉工業股份有限公司 Optical thin films and their manufacturing methods
TWI906414B (en) * 2020-12-11 2025-12-01 日商大倉工業股份有限公司 Manufacturing method of optical thin film
CN115195166A (en) * 2022-07-09 2022-10-18 浙江多凌药用包装材料有限公司 Easy-to-tear polyvinyl chloride-polyvinylidene chloride-polyethylene compounding process

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08113706A (en) * 1994-10-17 1996-05-07 Teijin Ltd Aramid composition
JP2006171707A (en) * 2004-11-18 2006-06-29 Nitto Denko Corp Polarizing plate and image display device using the same
WO2006054438A1 (en) * 2004-11-18 2006-05-26 Nitto Denko Corporation Polarizing plate and image display using same
JP2006247849A (en) * 2005-03-08 2006-09-21 Jsr Corp LAMINATE, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND FLEXIBLE PRINTED BOARD
JP5391514B2 (en) * 2006-08-25 2014-01-15 Jsr株式会社 Cyclic olefin copolymer, production method and use thereof
JP2008249884A (en) * 2007-03-29 2008-10-16 Jsr Corp Polarizing plate and manufacturing method thereof
JP6224301B2 (en) * 2012-03-16 2017-11-01 住友化学株式会社 Polarizing plate and manufacturing method thereof
JP5905440B2 (en) * 2012-12-04 2016-04-20 富士フイルム株式会社 Cycloolefin resin film, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP6235370B2 (en) * 2014-02-19 2017-11-22 住友化学株式会社 Production method of polarizing laminated film and polarizing plate

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017097283A (en) 2017-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6728651B2 (en) Optical film and manufacturing method thereof, polarizing plate and liquid crystal display device
JP6728650B2 (en) Optical laminated film and its manufacturing method, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2014206725A (en) Polarizing plate and liquid crystal display device
JP5746387B2 (en) Optical film
CN105824072A (en) Polarizing plate having protective layer and display device including the same
KR20160070810A (en) Polarizing plate and liquid crystal display device using same
JP6930544B2 (en) Multilayer film, polarizing plate, and liquid crystal display
JP6819600B2 (en) Manufacturing method of antistatic hard coat film, manufacturing method of polarizing plate, manufacturing method of touch panel, manufacturing method of liquid crystal display device
CN113195111A (en) Method and apparatus for producing film, and method for producing liquid crystal cured film
CN116761717A (en) Manufacturing method of laminated film, laminated body, polarizing plate, polarizing plate roll, and display device
JP5169842B2 (en) Polarizing plate and liquid crystal display device
JP2017122854A (en) Liquid crystal display
JP2020085980A (en) Optical film
KR20170083485A (en) Optical film, method of manufacturing the same, polarizing plate and image display device
CN110383110B (en) Antistatic film, polarizer, touch panel and liquid crystal display device
JP6695658B2 (en) Liquid crystal display and polarizing plate kit
JP2016079210A (en) Multi-layer film, method for producing the same, and polarizing plate
JP2017116759A (en) Optical film, optical film manufacturing method, and polarizer
JP2009104127A (en) Polarizing plate, optical film and image display device
JP2017122886A (en) Optical film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP4874219B2 (en) Polarizing plate, optical film and image display device
JP2009134136A (en) Polarizing plate, optical film and image display device
TW202344401A (en) Optical laminated body and image display device using the same capable of suppressing frame-like display defects
WO2022255076A1 (en) Base material film, optical multilayer body and method for producing same, and method for producing polarizing plate
JP6954338B2 (en) Optical film and its manufacturing method, polarizing plate and liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20181011

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20190708

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190809

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190903

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20191011

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191105

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200602

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200615

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6728650

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150