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JP6732413B2 - Liquid crystal display - Google Patents
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Description

本発明は、液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device.

従来、LCOS(Liquid Crystal On Silicon)などの空間光変調器によって変調した信号光を光情報記録媒体に照射してホログラムを形成することで情報信号を記録するホログラフィックメモリが知られている。空間光変調器には、たとえば液晶セルを用いた液晶表示装置が用いられる。液晶表示装置において、液晶セルの駆動にはある程度の高電圧を要するため、液晶セルを駆動する画素回路には、高電圧の駆動信号を液晶セルへ出力可能な構成が求められる。 2. Description of the Related Art Conventionally, there is known a holographic memory that records an information signal by irradiating an optical information recording medium with signal light modulated by a spatial light modulator such as LCOS (Liquid Crystal On Silicon) to form a hologram. For the spatial light modulator, for example, a liquid crystal display device using a liquid crystal cell is used. In a liquid crystal display device, a certain high voltage is required to drive a liquid crystal cell, and therefore a pixel circuit that drives the liquid crystal cell is required to have a configuration capable of outputting a high voltage drive signal to the liquid crystal cell.

また、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal:強誘電性液晶)は反転電流が多く、DRAM(Dynamic Random Access Memory)では画素データを保持できないため、液晶表示装置には、メモリセルとしてたとえばSRAM(Static Random Access Memory)セルが用いられる。また、画素回路にSRAMを用いた液晶表示装置において、水平ドライバにレベルシフタを設け、ビット線や画素を高電圧で動作させる構成が知られている(たとえば、下記特許文献1参照。)。 In addition, FLC (Ferroelectric Liquid Crystal) has a large reversal current, and pixel data cannot be held in a DRAM (Dynamic Random Access Memory). ) Cells are used. In addition, in a liquid crystal display device using an SRAM for a pixel circuit, a configuration is known in which a level shifter is provided in a horizontal driver to operate a bit line and a pixel at a high voltage (for example, refer to Patent Document 1 below).

特開2014−215496号公報(図1)JP, 2014-215496, A (Drawing 1)

しかしながら、上述した従来技術では、たとえば画素回路のSRAMの全体を高電圧で動作させるため、画素回路のSRAMの各トランジスタに高耐圧素子を用いることになり、1画素あたりの面積が増加するという問題がある。また、たとえばビット線の電圧振幅が大きくなるため、ビット線の充放電により消費電力が大きくなるという問題がある。 However, in the above-described conventional technique, for example, the entire SRAM of the pixel circuit is operated at a high voltage, and therefore a high breakdown voltage element is used for each transistor of the SRAM of the pixel circuit, which increases the area per pixel. There is. Further, for example, since the voltage amplitude of the bit line becomes large, there is a problem that the power consumption becomes large due to the charging and discharging of the bit line.

本発明は、上述した従来技術による問題点を解消するため、1画素あたりの面積の増加を抑えつつ、消費電力の低減を図ることができる液晶表示装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of reducing power consumption while suppressing an increase in area per pixel in order to solve the above-mentioned problems of the related art.

上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明にかかる液晶表示装置は、表示の画素ごとに設けられたCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)型のSRAM(Static Random Access Memory)セルであって、負荷抵抗回路部と記憶回路部との間に保護用のMOSトランジスタを有し、前記記憶回路部のトランジスタに、前記負荷抵抗回路部のトランジスタおよび前記保護用のMOSトランジスタより高電圧への耐性が低いトランジスタを用いたSRAMセルと、前記SRAMセルのそれぞれにおける前記負荷抵抗回路部と前記保護用のMOSトランジスタとの間から出力される信号に基づく液晶表示を行う液晶表示部と、を備える。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, a liquid crystal display device according to the present invention is a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) type SRAM (Static Random Access Memory) cell provided for each display pixel. A protection MOS transistor is provided between the load resistance circuit section and the storage circuit section, and the transistor of the storage circuit section is resistant to a higher voltage than the transistors of the load resistance circuit section and the protection MOS transistor. And a liquid crystal display section that performs liquid crystal display based on a signal output from between the load resistance circuit section and the protection MOS transistor in each of the SRAM cells.

これにより、液晶表示に要する高電圧の信号を液晶表示部に出力しつつ、SRAMにおける記憶回路部に印加される最大電圧を低くし、SRAMにおける記憶回路部に小型の素子を用いることが可能になる。 As a result, the maximum voltage applied to the memory circuit unit in the SRAM can be lowered while outputting a high voltage signal required for liquid crystal display to the liquid crystal display unit, and a small element can be used in the memory circuit unit in the SRAM. Become.

本発明の一側面によれば、1画素あたりの面積の増加を抑えつつ、消費電力の低減を図ることができるという効果を奏する。 According to one aspect of the present invention, it is possible to reduce power consumption while suppressing an increase in area per pixel.

図1は、実施の形態にかかる液晶駆動回路の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a liquid crystal drive circuit according to an embodiment. 図2は、実施の形態にかかる液晶駆動回路を適用した液晶表示装置の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a liquid crystal display device to which the liquid crystal drive circuit according to the embodiment is applied. 図3は、実施の形態にかかる画素回路を模したゲート接地の回路の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a gate-grounded circuit imitating the pixel circuit according to the embodiment. 図4は、実施の形態にかかる駆動信号の電圧の制御の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of control of the voltage of the drive signal according to the embodiment. 図5は、実施の形態にかかる液晶駆動回路の他の構成例1を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing another configuration example 1 of the liquid crystal drive circuit according to the embodiment. 図6は、実施の形態にかかる液晶駆動回路の他の構成例2を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing another configuration example 2 of the liquid crystal drive circuit according to the embodiment. 図7は、実施の形態にかかる液晶駆動回路の他の構成例3を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing another configuration example 3 of the liquid crystal drive circuit according to the embodiment.

以下に図面を参照して、本発明にかかる液晶表示装置の実施の形態を詳細に説明する。 Embodiments of a liquid crystal display device according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

(実施の形態)
(実施の形態にかかる液晶駆動回路)
図1は、実施の形態にかかる液晶駆動回路の一例を示す図である。図1に示すように、実施の形態にかかる液晶駆動回路100は、複数の画素回路110と、レプリカ回路120と、差動アンプ130と、を備える。液晶駆動回路100は、液晶セルを用いた液晶表示部(たとえば図2に示す液晶表示部210)を駆動することにより液晶表示部に画像を表示させる回路である。
(Embodiment)
(Liquid crystal drive circuit according to the embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing an example of a liquid crystal drive circuit according to an embodiment. As shown in FIG. 1, the liquid crystal drive circuit 100 according to the embodiment includes a plurality of pixel circuits 110, a replica circuit 120, and a differential amplifier 130. The liquid crystal drive circuit 100 is a circuit that drives a liquid crystal display unit using a liquid crystal cell (for example, the liquid crystal display unit 210 shown in FIG. 2) to display an image on the liquid crystal display unit.

画素回路110は、液晶駆動回路100によって駆動する液晶表示部の画素ごとに設けられた、液晶表示部の画素を駆動する回路である。図1においては画素ごとに設けられた画素回路110のうちの1つの画素回路110について説明するが、画素ごとに設けられた画素回路110のうちの他の画素回路110についても同様である。 The pixel circuit 110 is a circuit that is provided for each pixel of the liquid crystal display unit driven by the liquid crystal drive circuit 100 and that drives the pixel of the liquid crystal display unit. In FIG. 1, one pixel circuit 110 of the pixel circuits 110 provided for each pixel will be described, but the same applies to the other pixel circuits 110 of the pixel circuits 110 provided for each pixel.

画素回路110は、8個のトランジスタ(MOSトランジスタ111〜118)を備える。画素回路110においては、6個のMOSトランジスタ(MOSトランジスタ111〜116)によってCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor:相補型金属酸化膜半導体)型のSRAMセルが構成される。このようなSRAMは、たとえば完全CMOS型のSRAMセルや、フルCMOS型のSRAMと呼ばれる場合もある。MOSトランジスタ111,112,115,116はN型MOSトランジスタである。MOSトランジスタ113,114はP型MOSトランジスタである。 The pixel circuit 110 includes eight transistors (MOS transistors 111 to 118). In the pixel circuit 110, a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) type SRAM cell is configured by six MOS transistors (MOS transistors 111 to 116). Such an SRAM may be called a full CMOS type SRAM cell or a full CMOS type SRAM, for example. The MOS transistors 111, 112, 115 and 116 are N-type MOS transistors. The MOS transistors 113 and 114 are P-type MOS transistors.

画素回路110においては、MOSトランジスタ111,113によって第1のインバータが構成される。また、画素回路110においては、MOSトランジスタ112,114によって第2のインバータが構成される。そして、第1のインバータの入力と第2のインバータの出力とを接続し、第1のインバータの出力と第2のインバータの入力とを接続することによってSRAMセルが構成される。 In the pixel circuit 110, the MOS transistors 111 and 113 form a first inverter. In the pixel circuit 110, the MOS transistors 112 and 114 form a second inverter. Then, the SRAM cell is configured by connecting the input of the first inverter and the output of the second inverter, and connecting the output of the first inverter and the input of the second inverter.

SRAMセルにおいて、駆動トランジスタとしてのMOSトランジスタ111,112と、負荷トランジスタとしてのMOSトランジスタ113,114と、によってフリップフロップが構成される。また、SRAMセルにおいて、MOSトランジスタ115,116は選択用トランジスタとして用いられる。 In the SRAM cell, flip-flops are formed by the MOS transistors 111 and 112 as drive transistors and the MOS transistors 113 and 114 as load transistors. Further, in the SRAM cell, the MOS transistors 115 and 116 are used as selection transistors.

また、MOSトランジスタ113,114は、負荷トランジスタとして動作することにより、SRAMセルにおいて電源と記憶回路部132との間の負荷として機能する負荷抵抗回路部131を構成する。また、MOSトランジスタ111,112,115,116は、MOSトランジスタ111,112が駆動トランジスタとして動作し、MOSトランジスタ115,116が選択用トランジスタとして動作することにより、SRAMセルにおいて情報を記憶する記憶回路部132を構成する。 Further, the MOS transistors 113 and 114 operate as load transistors to form a load resistance circuit section 131 that functions as a load between the power supply and the storage circuit section 132 in the SRAM cell. Further, in the MOS transistors 111, 112, 115, and 116, the MOS transistors 111 and 112 operate as drive transistors, and the MOS transistors 115 and 116 operate as selection transistors, thereby storing information in the SRAM cell. 132 is formed.

ラッチノードAは、MOSトランジスタ111,113によって構成される第1のインバータの出力であり、MOSトランジスタ112,114によって構成される第2のインバータの入力である。ラッチノードBは、MOSトランジスタ112,114によって構成される第2のインバータの出力であり、MOSトランジスタ111,113によって構成される第1のインバータの入力である。 The latch node A is the output of the first inverter formed by the MOS transistors 111 and 113, and the input of the second inverter formed by the MOS transistors 112 and 114. The latch node B is the output of the second inverter formed by the MOS transistors 112 and 114, and the input of the first inverter formed by the MOS transistors 111 and 113.

対になったビット線(bit)および反転ビット線(/bit)は、互いに逆の論理状態(たとえば“H”および“L”)となる各ビット線である。“H”は、“L”よりも高い電圧である。“L”は、“H”よりも低い電圧である。たとえば“H”および“L”は互いに極性が異なる各信号である。 The paired bit line (bit) and inverted bit line (/bit) are bit lines that have mutually opposite logic states (for example, "H" and "L"). “H” is a voltage higher than “L”. “L” is a voltage lower than “H”. For example, "H" and "L" are signals having different polarities.

ラッチノードBが“H”の場合にはラッチノードAに“L”が出力される。これにより、MOSトランジスタ112,114によって構成される第2のインバータはラッチノードBを元の“H”に保つ。一方、ラッチノードBが“L”の場合にはラッチノードAに“H”が出力される。これにより、MOSトランジスタ112,114によって構成される第2のインバータはラッチノードBを元の“L”に保つ。 When the latch node B is "H", "L" is output to the latch node A. As a result, the second inverter formed by the MOS transistors 112 and 114 keeps the latch node B at the original "H". On the other hand, when the latch node B is "L", "H" is output to the latch node A. As a result, the second inverter formed by the MOS transistors 112 and 114 keeps the latch node B at the original "L".

画素回路110に“H”を書き込むには、ワード線(word line)を“H”にしてMOSトランジスタ115,116のゲートを開いた状態(オンにした状態)でビット線(bit)を“H”にする。これにより、反転ビット線(/bit)は“L”となり、ラッチノードAは“L”、ラッチノードBは“H”となる。 In order to write "H" in the pixel circuit 110, the word line (word line) is set to "H" and the bit lines (bit) are set to "H" while the gates of the MOS transistors 115 and 116 are opened (turned on). " As a result, the inverted bit line (/bit) becomes "L", the latch node A becomes "L", and the latch node B becomes "H".

逆に、画素回路110に“L”を書き込むには、ワード線を“H”にしてMOSトランジスタ115,116のゲートを開いた状態でビット線(bit)を“L”にする。これにより、反転ビット線(/bit)は“H”となり、ラッチノードAは“H”、ラッチノードBは“L”となる。 On the contrary, in order to write "L" in the pixel circuit 110, the word line is set to "H" and the bit line (bit) is set to "L" with the gates of the MOS transistors 115 and 116 opened. As a result, the inverted bit line (/bit) becomes "H", the latch node A becomes "H", and the latch node B becomes "L".

画素回路110に値を書き込んだ後は、ワード線を“L”にしてMOSトランジスタ115,116のゲートを閉じた状態(オフにした状態)とすることにより、書き込まれた値がフリップフロップにより安定して保持される。 After the value is written in the pixel circuit 110, the word line is set to “L” and the gates of the MOS transistors 115 and 116 are closed (turned off), so that the written value is stabilized by the flip-flop. And held.

また特に、画素回路110は、保護用のMOSトランジスタ117,118(シールド素子)を備える。MOSトランジスタ117は、MOSトランジスタ111とMOSトランジスタ113との間に設けられている。MOSトランジスタ118は、MOSトランジスタ112とMOSトランジスタ114との間に設けられている。MOSトランジスタ117,118の各ゲートは差動アンプ130の出力に接続されている。図1に示す例ではMOSトランジスタ117,118はN型MOSである。 Further, in particular, the pixel circuit 110 includes protection MOS transistors 117 and 118 (shield elements). The MOS transistor 117 is provided between the MOS transistor 111 and the MOS transistor 113. The MOS transistor 118 is provided between the MOS transistor 112 and the MOS transistor 114. The gates of the MOS transistors 117 and 118 are connected to the output of the differential amplifier 130. In the example shown in FIG. 1, the MOS transistors 117 and 118 are N-type MOS.

出力端子119(out)は、MOSトランジスタ114のドレインとMOSトランジスタ118のソースとの間に設けられている。画素回路110に書き込まれた値は、駆動信号として、出力端子119から液晶表示部の画素へ出力される。この駆動信号の電圧は、MOSトランジスタ113,114のソースに接続された電圧源の電圧VDDHとなる。電圧VDDHは、液晶表示部における液晶駆動に要する電圧である。 The output terminal 119 (out) is provided between the drain of the MOS transistor 114 and the source of the MOS transistor 118. The value written in the pixel circuit 110 is output as a drive signal from the output terminal 119 to the pixel of the liquid crystal display unit. The voltage of this drive signal becomes the voltage VDDH of the voltage source connected to the sources of the MOS transistors 113 and 114. The voltage VDDH is a voltage required to drive the liquid crystal in the liquid crystal display section.

このように、実施の形態にかかる液晶駆動回路100においては、SRAMセルを構成するP型MOSトランジスタ(MOSトランジスタ113,114)とN型MOSトランジスタ(MOSトランジスタ111,112,115,116)との間に保護用のトランジスタ(MOSトランジスタ117,118)が設けられる。 As described above, in the liquid crystal drive circuit 100 according to the embodiment, the P-type MOS transistors (MOS transistors 113, 114) and the N-type MOS transistors (MOS transistors 111, 112, 115, 116) that form the SRAM cell are formed. Protective transistors (MOS transistors 117 and 118) are provided between them.

そして、P型MOSトランジスタ(MOSトランジスタ113,114)および保護用のトランジスタ(MOSトランジスタ117,118)には、高電圧への耐性(劣化あるいは破壊耐性)が比較的高いトランジスタを用いる。また、N型MOSトランジスタ(MOSトランジスタ111,112,115,116)には、高電圧への耐性(破壊耐性)がP型MOSトランジスタ(MOSトランジスタ113,114)および保護用のトランジスタ(MOSトランジスタ117,118)より低いトランジスタを用いる。トランジスタの高電圧への耐性については、例としてはゲート酸化膜厚やウェルなどの濃度といった素子構造そのものや、ゲートの幅などの設計によって調整可能である。 As the P-type MOS transistors (MOS transistors 113 and 114) and the protection transistors (MOS transistors 117 and 118), transistors having relatively high resistance to high voltage (deterioration or destruction resistance) are used. In addition, the N-type MOS transistors (MOS transistors 111, 112, 115, 116) have P-type MOS transistors (MOS transistors 113, 114) and protection transistors (MOS transistors 117) that have high voltage resistance (breakdown resistance). , 118). The resistance of the transistor to high voltage can be adjusted by, for example, the device structure itself such as the gate oxide film thickness and the concentration of the well, and the design such as the width of the gate.

たとえば、MOSトランジスタ113,114,117,118は、出力端子119から出力される駆動信号の最大の電圧VDDHに十分に耐えられる高耐圧素子とする。これにより、駆動信号の最大の電圧VDDHによるMOSトランジスタ113,114,117,118の破壊を回避しつつ、出力端子119から出力される駆動信号は、電圧VDDHとGND(0[V])との間をスイングする高電圧の信号とすることができる。 For example, the MOS transistors 113, 114, 117 and 118 are high breakdown voltage elements that can sufficiently withstand the maximum voltage VDDH of the drive signal output from the output terminal 119. As a result, the drive signal output from the output terminal 119 is divided between the voltage VDDH and GND (0 [V]) while avoiding the destruction of the MOS transistors 113, 114, 117, 118 due to the maximum voltage VDDH of the drive signal. It can be a high voltage signal that swings between.

一方、MOSトランジスタ111,112,115,116は、出力端子119から出力される駆動信号の最大の電圧VDDHに十分に耐えられない標準耐圧素子とする。これにより、MOSトランジスタ111,112,115,116は、MOSトランジスタ113,114,117,118よりも小型の素子によって実現することが可能になる。このため、たとえばMOSトランジスタ111〜118の全てに高耐圧素子を用いる場合に比べて高耐圧素子の数を少なくし、画素回路110を小型化することができる。 On the other hand, the MOS transistors 111, 112, 115 and 116 are standard breakdown voltage elements that cannot sufficiently withstand the maximum voltage VDDH of the drive signal output from the output terminal 119. As a result, the MOS transistors 111, 112, 115, 116 can be realized by elements smaller than the MOS transistors 113, 114, 117, 118. Therefore, the number of high breakdown voltage elements can be reduced and the pixel circuit 110 can be downsized as compared with the case where high breakdown voltage elements are used for all of the MOS transistors 111 to 118, for example.

また、MOSトランジスタ117,118をシールド素子として設けることにより、P型のMOSトランジスタ113,114には最大でVDDH(第1電圧)の電流が流れるようにしつつ、N型のMOSトランジスタ111,112,115,116に印加される最大の電圧をVDDHより低いVDD(第2電圧)に制限することができる。たとえば画素回路110が“H”をラッチしても、ラッチノードA,Bを電圧VDDHよりも低い電圧VDDに抑え、MOSトランジスタ111,112,115,116の破壊を回避することができる。 Further, by providing the MOS transistors 117 and 118 as shield elements, the maximum VDDH (first voltage) current flows through the P-type MOS transistors 113 and 114, while the N-type MOS transistors 111 and 112, The maximum voltage applied to 115 and 116 can be limited to VDD (second voltage) lower than VDDH. For example, even if the pixel circuit 110 latches "H", the latch nodes A and B can be suppressed to the voltage VDD lower than the voltage VDDH, and the destruction of the MOS transistors 111, 112, 115 and 116 can be avoided.

したがって、出力端子119に接続された液晶表示部の画素を高電圧(VDDH)で駆動しつつ、MOSトランジスタ111,112,115,116を小型化することが可能になる。このため、複数の画素回路110のそれぞれを小型化し、液晶駆動回路100を小型化することができる。 Therefore, it becomes possible to miniaturize the MOS transistors 111, 112, 115, 116 while driving the pixels of the liquid crystal display unit connected to the output terminal 119 with a high voltage (VDDH). Therefore, each of the plurality of pixel circuits 110 can be downsized, and the liquid crystal drive circuit 100 can be downsized.

また、液晶駆動回路100のビット線やワード線へ入力される制御信号の最大の電圧を、電圧VDDHより低い電圧VDDとすることが可能になる。これにより、液晶駆動回路100のビット線やワード線へ制御信号を転送する周辺回路(たとえば図2に示す周辺回路230)の電源に、液晶表示部の駆動に要する電圧VDDHより低い電圧VDDの電源を用いることができる。このため、液晶駆動回路100のビット線やワード線へ制御信号を転送する周辺回路における消費電力を低減することができる。 Further, the maximum voltage of the control signal input to the bit line or word line of the liquid crystal drive circuit 100 can be set to the voltage VDD lower than the voltage VDDH. As a result, the power supply of the peripheral circuit (for example, the peripheral circuit 230 shown in FIG. 2) that transfers the control signal to the bit line and the word line of the liquid crystal drive circuit 100 is supplied with the voltage VDD lower than the voltage VDDH required for driving the liquid crystal display unit. Can be used. Therefore, it is possible to reduce the power consumption in the peripheral circuit that transfers the control signal to the bit line and the word line of the liquid crystal drive circuit 100.

このように、液晶駆動回路100によれば、液晶表示に要する高電圧の駆動信号を液晶表示部に出力しつつ、CMOS型のSRAMにおけるN型のMOSトランジスタ111,112,115,116に印加される最大電圧を低くし、MOSトランジスタ111,112,115,116に小型の素子を用いることが可能になる。このため、1画素あたりの面積の増加を抑えつつ、消費電力の低減を図ることができる。 As described above, according to the liquid crystal drive circuit 100, a high-voltage drive signal required for liquid crystal display is output to the liquid crystal display unit and is applied to the N-type MOS transistors 111, 112, 115, and 116 in the CMOS SRAM. It is possible to reduce the maximum voltage for the MOS transistors 111, 112, 115 and 116 and use small elements. Therefore, it is possible to reduce power consumption while suppressing an increase in area per pixel.

レプリカ回路120および差動アンプ130は、MOSトランジスタ117,118の各ゲート電圧を制御するバイアス回路として動作する。レプリカ回路120は、画素回路110のレプリカ回路である。差動アンプ130は、レプリカ回路120を用いて画素回路110のMOSトランジスタ117,118のゲート電圧を調整する調整回路である。 The replica circuit 120 and the differential amplifier 130 operate as a bias circuit that controls the gate voltages of the MOS transistors 117 and 118. The replica circuit 120 is a replica circuit of the pixel circuit 110. The differential amplifier 130 is an adjustment circuit that adjusts the gate voltages of the MOS transistors 117 and 118 of the pixel circuit 110 using the replica circuit 120.

具体的には、レプリカ回路120は、CMOS型のSRAMセルを構成するMOSトランジスタ121〜128を備える。MOSトランジスタ121〜128は、それぞれ画素回路110のMOSトランジスタ111〜118に対応し、それぞれMOSトランジスタ111〜118と同じ電気的特性を有する。 Specifically, the replica circuit 120 includes MOS transistors 121 to 128 that form a CMOS type SRAM cell. The MOS transistors 121 to 128 correspond to the MOS transistors 111 to 118 of the pixel circuit 110, respectively, and have the same electrical characteristics as the MOS transistors 111 to 118, respectively.

また、MOSトランジスタ125,126の各ゲートには、電圧VDDHより低い電圧VDDの電源が接続されている。また、MOSトランジスタ121〜128によって構成されるSRAMセルにおけるビット線(bit)に対応する位置には電圧VDDの電源が接続されている。また、MOSトランジスタ121〜128によって構成されるSRAMセルにおける反転ビット線(/bit)に対応する位置は接地されている。すなわち、MOSトランジスタ121〜128によって構成されるSRAMセルは、画素回路110のSRAMに“H”を書き込む状態を模したレプリカ回路となっている。 Further, a power supply of a voltage VDD lower than the voltage VDDH is connected to each gate of the MOS transistors 125 and 126. Further, a power supply of the voltage VDD is connected to a position corresponding to a bit line (bit) in the SRAM cell composed of the MOS transistors 121 to 128. Further, the position corresponding to the inverted bit line (/bit) in the SRAM cell formed by the MOS transistors 121 to 128 is grounded. That is, the SRAM cell configured by the MOS transistors 121 to 128 is a replica circuit that imitates a state in which “H” is written in the SRAM of the pixel circuit 110.

差動アンプ130は、レプリカ回路120のMOSトランジスタ127,128と、画素回路110のMOSトランジスタ117,118と、の各ゲート電圧を調整する。具体的には、差動アンプ130は、レプリカ回路120のラッチノードCの電圧と、電圧VDDと、の差分を示す電圧を出力する。レプリカ回路120のラッチノードCは、画素回路110のラッチノードBに対応するノードである。差動アンプ130からの出力は、レプリカ回路120のMOSトランジスタ127,128と、画素回路110のMOSトランジスタ117,118と、の各ゲートへ入力される。 The differential amplifier 130 adjusts the gate voltages of the MOS transistors 127 and 128 of the replica circuit 120 and the MOS transistors 117 and 118 of the pixel circuit 110. Specifically, the differential amplifier 130 outputs a voltage indicating the difference between the voltage of the latch node C of the replica circuit 120 and the voltage VDD. The latch node C of the replica circuit 120 is a node corresponding to the latch node B of the pixel circuit 110. The output from the differential amplifier 130 is input to the gates of the MOS transistors 127 and 128 of the replica circuit 120 and the MOS transistors 117 and 118 of the pixel circuit 110.

これにより、レプリカ回路120のラッチノードCの電圧と、電圧VDDと、が等しくなるようにレプリカ回路120のMOSトランジスタ127,128が制御される。また、画素回路110において“H”をラッチする場合にラッチノードBが電圧VDDとなるように、画素回路110のMOSトランジスタ117,118が制御される。 As a result, the MOS transistors 127 and 128 of the replica circuit 120 are controlled so that the voltage of the latch node C of the replica circuit 120 and the voltage VDD become equal. Further, the MOS transistors 117 and 118 of the pixel circuit 110 are controlled so that the latch node B becomes the voltage VDD when “H” is latched in the pixel circuit 110.

したがって、複数の画素回路110におけるSRAMセルの製造誤差(たとえばウエハ間やロット間のばらつき)や電源電圧の変動による、ラッチノードA,B等における電圧の誤差や変動を抑えることができる。このため、液晶駆動回路100を安定して動作させることができる。 Therefore, it is possible to suppress errors and fluctuations in the voltages at the latch nodes A and B due to manufacturing errors (for example, variations between wafers and lots) in the plurality of pixel circuits 110 and variations in the power supply voltage. Therefore, the liquid crystal drive circuit 100 can be stably operated.

このように、差動アンプ130は、レプリカ回路120のMOSトランジスタ121,122,125,126と、レプリカ回路120のMOSトランジスタ127,128と、の間の最大の電圧(ラッチノードCの電圧)がVDDに近づくようにMOSトランジスタ127,128のゲート電圧を調整する。また、差動アンプ130は、MOSトランジスタ117,118のゲート電圧を、MOSトランジスタ127,128のゲート電圧と同じゲート電圧に調整する。これにより、画素回路110におけるラッチノードBの最大の電圧を電圧VDDに精度よく制御し、液晶駆動回路100の動作の安定化を図ることができる。 As described above, in the differential amplifier 130, the maximum voltage (the voltage of the latch node C) between the MOS transistors 121, 122, 125, 126 of the replica circuit 120 and the MOS transistors 127, 128 of the replica circuit 120 is the maximum. The gate voltages of the MOS transistors 127 and 128 are adjusted so as to approach VDD. Further, the differential amplifier 130 adjusts the gate voltage of the MOS transistors 117 and 118 to the same gate voltage as the gate voltage of the MOS transistors 127 and 128. As a result, the maximum voltage of the latch node B in the pixel circuit 110 can be accurately controlled to the voltage VDD, and the operation of the liquid crystal drive circuit 100 can be stabilized.

また、レプリカ回路120および差動アンプ130は、液晶駆動回路100の画素回路110のうちの複数の画素回路110において共有される。すなわち、1組のレプリカ回路120および差動アンプ130は、複数の画素回路110のMOSトランジスタ117,118のゲート電圧を制御する。 Further, the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 are shared by a plurality of pixel circuits 110 of the pixel circuits 110 of the liquid crystal drive circuit 100. That is, the set of the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 controls the gate voltages of the MOS transistors 117 and 118 of the plurality of pixel circuits 110.

たとえば、液晶駆動回路100の全ての画素回路110に対して1組のレプリカ回路120および差動アンプ130が設けられる。または、液晶駆動回路100の画素回路110を複数のグループに分け、グループごとにレプリカ回路120および差動アンプ130が設けられてもよい。これにより、レプリカ回路120および差動アンプ130を設けることによる装置の大型化や消費電力の増加を抑えることができる。 For example, one set of replica circuit 120 and differential amplifier 130 is provided for all pixel circuits 110 of the liquid crystal drive circuit 100. Alternatively, the pixel circuit 110 of the liquid crystal drive circuit 100 may be divided into a plurality of groups, and the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 may be provided for each group. As a result, it is possible to suppress an increase in the size and power consumption of the device due to the provision of the replica circuit 120 and the differential amplifier 130.

(実施の形態にかかる液晶駆動回路を適用した液晶表示装置)
図2は、実施の形態にかかる液晶駆動回路を適用した液晶表示装置の一例を示す図である。図1に示した液晶駆動回路100は、たとえば図2に示す液晶表示装置200に適用することができる。図2に示すように、液晶表示装置200は、液晶表示部210と、バイアス回路220と、周辺回路230と、を備える。
(Liquid crystal display device to which the liquid crystal drive circuit according to the embodiment is applied)
FIG. 2 is a diagram showing an example of a liquid crystal display device to which the liquid crystal drive circuit according to the embodiment is applied. The liquid crystal drive circuit 100 shown in FIG. 1 can be applied to the liquid crystal display device 200 shown in FIG. 2, for example. As shown in FIG. 2, the liquid crystal display device 200 includes a liquid crystal display unit 210, a bias circuit 220, and a peripheral circuit 230.

液晶表示部210は、たとえば、複数の信号線および複数の走査線を有し、複数の信号線および複数の走査線の交差に対応してマトリクス状に画素が配置された液晶表示部である。また、液晶表示部210は、複数の信号線および複数の走査線へ入力された各信号に応じた画像をマトリクス状の各画素により表示する。 The liquid crystal display unit 210 is, for example, a liquid crystal display unit having a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines, and pixels are arranged in a matrix corresponding to the intersections of the plurality of signal lines and the plurality of scanning lines. Further, the liquid crystal display unit 210 displays an image corresponding to each signal input to the plurality of signal lines and the plurality of scanning lines by each pixel in a matrix.

液晶表示部210においては、各画素を駆動する回路として、図1に示した画素回路110がマトリクス状に設けられている。液晶表示部210に含まれる画素回路110のそれぞれは、液晶表示装置200における液晶表示部の各画素を駆動する。 In the liquid crystal display unit 210, the pixel circuits 110 shown in FIG. 1 are provided in a matrix as a circuit for driving each pixel. Each of the pixel circuits 110 included in the liquid crystal display unit 210 drives each pixel of the liquid crystal display unit in the liquid crystal display device 200.

たとえば、液晶表示部210には、LCOS等の液晶パネルを用いることができる。たとえば、液晶表示部210における列方向のカラム(Column)ラインが信号線であり、液晶表示部210における行方向のロウ(Row)ラインが走査線である。 For example, the liquid crystal display unit 210 may be a liquid crystal panel such as LCOS. For example, a column-direction column line in the liquid crystal display unit 210 is a signal line, and a row-direction row line in the liquid crystal display unit 210 is a scanning line.

バイアス回路220においては、液晶表示部210のロウ(行)ごとに、そのロウに設けられた複数の画素回路110と接続するようにレプリカ回路120および差動アンプ130が設けられている。たとえば、液晶表示部210の第n行目における複数の画素回路110のMOSトランジスタ117,118の各ゲートには、バイアス回路220における第nのレプリカ回路120および第nの差動アンプ130が接続される。 In the bias circuit 220, a replica circuit 120 and a differential amplifier 130 are provided for each row of the liquid crystal display section 210 so as to be connected to the plurality of pixel circuits 110 provided in the row. For example, the nth replica circuit 120 and the nth differential amplifier 130 in the bias circuit 220 are connected to the gates of the MOS transistors 117 and 118 of the plurality of pixel circuits 110 in the nth row of the liquid crystal display unit 210. It

ただし、画素回路110とレプリカ回路120および差動アンプ130との関係はこれに限らず、たとえばバイアス回路220にはレプリカ回路120および差動アンプ130を1組だけ設け、そのレプリカ回路120および差動アンプ130に液晶表示部210の全ての画素回路110を接続してもよい。また、液晶表示部210のカラム(列)ごとにレプリカ回路120および差動アンプ130を設けてもよい。 However, the relationship between the pixel circuit 110 and the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 is not limited to this. For example, only one set of the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 is provided in the bias circuit 220, and the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 are provided. All the pixel circuits 110 of the liquid crystal display section 210 may be connected to the amplifier 130. Further, the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 may be provided for each column of the liquid crystal display unit 210.

周辺回路230には、液晶表示部210に画像を表示させるためのデータおよびクロックが入力される。たとえば、周辺回路230は、タイミング制御部231と、ロウ選択部/ロウドライバ232と、カラム選択部233と、カラムドライバ234と、を備える。 Data and a clock for displaying an image on the liquid crystal display unit 210 are input to the peripheral circuit 230. For example, the peripheral circuit 230 includes a timing control unit 231, a row selection unit/row driver 232, a column selection unit 233, and a column driver 234.

タイミング制御部231は、周辺回路230へ入力されたクロックに基づいて、ロウ選択部/ロウドライバ232、カラム選択部233およびカラムドライバ234における各動作タイミングを制御する。 The timing control unit 231 controls each operation timing in the row selection unit/row driver 232, the column selection unit 233, and the column driver 234 based on the clock input to the peripheral circuit 230.

ロウ選択部/ロウドライバ232は、タイミング制御部231からの制御に基づいて、液晶表示部210の行(Row)ごとに設けられた走査線のいずれかに信号を入力することにより、液晶表示部210における書き換え対象の行を設定する。 The row selection unit/row driver 232 inputs a signal to one of the scanning lines provided for each row of the liquid crystal display unit 210 under the control of the timing control unit 231, thereby causing the liquid crystal display unit The line to be rewritten in 210 is set.

カラム選択部233は、周辺回路230へ入力されたデータに基づいて、液晶表示部210の列(Column)ごとに設けられた信号線へ入力する各データ信号をカラムドライバ234へ出力する。カラムドライバ234は、カラム選択部233から出力された各データ信号を、液晶表示部210の列ごとに設けられた信号線へ入力する。これにより、液晶表示部210に対して各列の書き換えが指示される。このとき、実際に書き換えられる液晶表示部210の画素は、ロウ選択部/ロウドライバ232によって書き換え対象として設定された行における各列の画素である。 The column selection unit 233 outputs, to the column driver 234, each data signal input to the signal line provided for each column of the liquid crystal display unit 210 based on the data input to the peripheral circuit 230. The column driver 234 inputs each data signal output from the column selection unit 233 to a signal line provided for each column of the liquid crystal display unit 210. As a result, the liquid crystal display unit 210 is instructed to rewrite each column. At this time, the pixels of the liquid crystal display unit 210 that are actually rewritten are the pixels of each column in the row set as the rewriting target by the row selection unit/row driver 232.

液晶表示部210には、各画素の液晶駆動に要する電圧VDDHが供給される。バイアス回路220には、電圧VDDHと、電圧VDDHより低く、たとえば図1に示したMOSトランジスタ111,112,115,116を破壊しない程度の電圧VDDと、が供給される。周辺回路230には電圧VDDが供給される。 The voltage VDDH required for driving the liquid crystal of each pixel is supplied to the liquid crystal display unit 210. The bias circuit 220 is supplied with a voltage VDDH and a voltage VDD which is lower than the voltage VDDH and which does not damage the MOS transistors 111, 112, 115 and 116 shown in FIG. 1, for example. The voltage VDD is supplied to the peripheral circuit 230.

図2に示した液晶表示装置200は、液晶表示部210を用いて画像を表示する液晶表示装置であるが、液晶表示部210を用いて光を空間変調する空間光変調装置としての側面を有する。たとえば、画像を光情報記録媒体に照射してホログラムを形成することで情報を記録するホログラフィックメモリにおいて、光を空間変調することによって画像を生成する空間光変調装置として液晶表示装置200を用いることができる。ただし、液晶表示装置200は、ホログラフィックメモリに限らず、たとえばプロジェクタや電子式ビューファインダ等にも適用可能である。 The liquid crystal display device 200 shown in FIG. 2 is a liquid crystal display device that displays an image using the liquid crystal display unit 210, but has a side surface as a spatial light modulator that spatially modulates light using the liquid crystal display unit 210. .. For example, in a holographic memory that records information by irradiating an image on an optical information recording medium to form a hologram, the liquid crystal display device 200 is used as a spatial light modulator that generates an image by spatially modulating light. You can However, the liquid crystal display device 200 is not limited to the holographic memory, but can be applied to, for example, a projector or an electronic viewfinder.

(実施の形態にかかる画素回路を模したゲート接地の回路)
図3は、実施の形態にかかる画素回路を模したゲート接地の回路の一例を示す図である。図3において、MOSトランジスタ117,118によってMOSトランジスタ111,112,115,116が高電圧からシールドされる原理について説明する。図3に示す模擬回路300は、図1に示した液晶駆動回路100における1個の画素回路110およびレプリカ回路120を模したゲート接地の回路である。模擬回路300は、トランジスタ301と、可変抵抗302と、負荷303と、電圧源304と、を備える。
(Gate-grounded circuit simulating the pixel circuit according to the embodiment)
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a gate-grounded circuit imitating the pixel circuit according to the embodiment. In FIG. 3, the principle of shielding the MOS transistors 111, 112, 115, 116 from the high voltage by the MOS transistors 117, 118 will be described. The simulation circuit 300 shown in FIG. 3 is a gate-grounded circuit imitating one pixel circuit 110 and one replica circuit 120 in the liquid crystal drive circuit 100 shown in FIG. The simulation circuit 300 includes a transistor 301, a variable resistor 302, a load 303, and a voltage source 304.

トランジスタ301は、図1に示したMOSトランジスタ117,118(シールド素子)に対応する。トランジスタ301のソース(s)に接続された可変抵抗302(Rs)は、図1に示したMOSトランジスタ111,112に対応する。可変抵抗302の抵抗値Rs(トランジスタ301のソース抵抗)の変化は、図1に示した画素回路110がラッチする信号の変化に対応する。トランジスタ301のドレイン(d)に接続された負荷303は、図1に示したMOSトランジスタ113,114に対応する。 The transistor 301 corresponds to the MOS transistors 117 and 118 (shield element) shown in FIG. The variable resistor 302 (Rs) connected to the source (s) of the transistor 301 corresponds to the MOS transistors 111 and 112 shown in FIG. The change in the resistance value Rs of the variable resistor 302 (the source resistance of the transistor 301) corresponds to the change in the signal latched by the pixel circuit 110 shown in FIG. The load 303 connected to the drain (d) of the transistor 301 corresponds to the MOS transistors 113 and 114 shown in FIG.

トランジスタ301のゲート(g)に接続された直流の電圧源304(Vb)は、図1に示したレプリカ回路120および差動アンプ130からなるバイアス回路に対応する。ノード305は、トランジスタ301のソースと可変抵抗302との間に接続されたノードであり、図1に示したラッチノードA,B(メモリセルの入出力部)に対応する。 The DC voltage source 304 (Vb) connected to the gate (g) of the transistor 301 corresponds to the bias circuit including the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 shown in FIG. The node 305 is a node connected between the source of the transistor 301 and the variable resistor 302, and corresponds to the latch nodes A and B (input/output units of memory cells) shown in FIG.

このように、トランジスタ301のゲート電圧を電圧源304によって電圧Vbに固定し、トランジスタ301のソース抵抗を可変抵抗302によって変化させる場合について説明する。 In this way, a case where the gate voltage of the transistor 301 is fixed to the voltage Vb by the voltage source 304 and the source resistance of the transistor 301 is changed by the variable resistor 302 will be described.

ソース抵抗Rsが高い場合は、トランジスタ301におけるゲートとソースとの間の電圧がトランジスタ301のしきい値電圧VTHと同じ程度になるまではトランジスタ301に電流が流れる。このため、ノード305における電圧Vsは、Vs≒Vb−VTHとなる。ソース抵抗Rsが低い場合は、トランジスタ301におけるゲートとソースの間の電圧が上がり導通する。このため、ノード305における電圧Vsは、Vs≒0となる。 When the source resistance Rs is high, current flows through the transistor 301 until the voltage between the gate and the source of the transistor 301 becomes approximately equal to the threshold voltage VTH of the transistor 301. Therefore, the voltage Vs at the node 305 becomes Vs≈Vb−VTH. When the source resistance Rs is low, the voltage between the gate and the source of the transistor 301 increases and the transistor 301 becomes conductive. Therefore, the voltage Vs at the node 305 becomes Vs≈0.

すなわち、電圧源304からの電圧Vbを適切に設定することにより、ノード305における電圧Vsの変化幅を制限することができる。電圧源304からの電圧Vbは、図1に示した画素回路110においては、MOSトランジスタ117,118のしきい値電圧をVTHとすると、Vb≒VDD+VTHとなる。 That is, by appropriately setting the voltage Vb from the voltage source 304, the change width of the voltage Vs at the node 305 can be limited. In the pixel circuit 110 shown in FIG. 1, when the threshold voltage of the MOS transistors 117 and 118 is VTH, the voltage Vb from the voltage source 304 is Vb≈VDD+VTH.

たとえば、図1に示した画素回路110においては、トランジスタ301に相当するシールド素子としてMOSトランジスタ117,118がSRAMのP型MOS(MOSトランジスタ113,114)とN型MOS(MOSトランジスタ111,112,115,116)との間に挿入されている。これにより、画素回路110の低電圧系(たとえばMOSトランジスタ111,112,115,116)における電圧は、0〜VDD[V]の間で変動する。このため、画素回路110のラッチ機能は維持しつつ、画素回路110の低電圧系を高電圧から保護することができる。 For example, in the pixel circuit 110 shown in FIG. 1, the MOS transistors 117 and 118 as shield elements corresponding to the transistor 301 are the P-type MOS (MOS transistors 113 and 114) and the N-type MOS (MOS transistors 111 and 112, 115, 116). As a result, the voltage in the low voltage system (for example, the MOS transistors 111, 112, 115, 116) of the pixel circuit 110 fluctuates between 0 and VDD [V]. Therefore, the low voltage system of the pixel circuit 110 can be protected from the high voltage while maintaining the latch function of the pixel circuit 110.

また、MOSトランジスタ117,118のソース側は、低電圧SRAMの機能を有するため、低電圧系の周辺回路と直結することが可能になる。たとえば、画素回路110は、画素回路110を制御する周辺回路(たとえば図2に示した周辺回路230)と、レベル変換回路などを介さずに直接接続することが可能になる。このため、たとえば図2に示した液晶表示装置200の小型化を図ることができる。また、消費電力の増加を抑えることができる。 Further, since the sources of the MOS transistors 117 and 118 have the function of the low voltage SRAM, they can be directly connected to the low voltage peripheral circuits. For example, the pixel circuit 110 can be directly connected to a peripheral circuit (for example, the peripheral circuit 230 shown in FIG. 2) that controls the pixel circuit 110 without using a level conversion circuit or the like. Therefore, for example, the liquid crystal display device 200 shown in FIG. 2 can be downsized. In addition, it is possible to suppress an increase in power consumption.

また、MOSトランジスタ117,118のドレイン側の出力端子119は高電圧(0〜VDDH[V])を出力可能になるため、たとえば出力端子119と表示画素との間にレベル変換回路などを設けなくても、表示画素を直接駆動することが可能になる。このため、たとえば図2に示した液晶表示装置200の小型化を図ることができる。また、消費電力の増加を抑えることができる。 Further, since the output terminals 119 on the drain side of the MOS transistors 117 and 118 can output a high voltage (0 to VDDH [V]), for example, a level conversion circuit or the like is not provided between the output terminals 119 and the display pixels. However, it becomes possible to directly drive the display pixels. Therefore, for example, the liquid crystal display device 200 shown in FIG. 2 can be downsized. In addition, it is possible to suppress an increase in power consumption.

(実施の形態にかかる駆動信号の電圧の制御)
図4は、実施の形態にかかる駆動信号の電圧の制御の一例を示す図である。ここでは図2に示した液晶表示装置200をホログラフィックメモリに適用する場合について説明する。図4において、横軸は時間を示す。
(Control of Voltage of Drive Signal According to Embodiment)
FIG. 4 is a diagram showing an example of control of the voltage of the drive signal according to the embodiment. Here, a case where the liquid crystal display device 200 shown in FIG. 2 is applied to a holographic memory will be described. In FIG. 4, the horizontal axis represents time.

制御信号410は、図2に示した周辺回路230から液晶表示部210へ入力される制御信号である。制御信号410の最大の電圧は、電圧VDDHより低い電圧VDD(一例としては1.8[V])である。駆動信号420は、図1に示した出力端子119から表示画素へ印加される駆動信号である。駆動信号420の最大の電圧はVDDH(一例としては5[V])である。 The control signal 410 is a control signal input from the peripheral circuit 230 shown in FIG. 2 to the liquid crystal display unit 210. The maximum voltage of the control signal 410 is the voltage VDD (1.8 [V] as an example), which is lower than the voltage VDDH. The drive signal 420 is a drive signal applied to the display pixel from the output terminal 119 shown in FIG. The maximum voltage of the drive signal 420 is VDDH (5 [V] as an example).

また、図4に示すように、駆動信号420の最大の電圧を可変としてもよい。データ転送期間401は、図2に示した周辺回路230から液晶表示部210の複数の画素回路110へデータが転送される期間、すなわちSRAMにおけるデータの書き換え期間である。液晶応答期間402は、複数の画素回路110から読み出された各値に応じて表示画素の液晶が応答する期間である。記録メディア書込期間403は、表示画素により表示された情報がホログラフィックメモリの記録メディアに書き込まれる期間である。 Further, as shown in FIG. 4, the maximum voltage of the drive signal 420 may be variable. The data transfer period 401 is a period in which data is transferred from the peripheral circuit 230 shown in FIG. 2 to the plurality of pixel circuits 110 of the liquid crystal display unit 210, that is, a data rewriting period in the SRAM. The liquid crystal response period 402 is a period in which the liquid crystal of the display pixel responds according to each value read from the plurality of pixel circuits 110. The recording medium writing period 403 is a period in which the information displayed by the display pixels is written in the recording medium of the holographic memory.

液晶表示装置200をホログラフィックメモリに適用する場合は、データ転送期間401、液晶応答期間402、記録メディア書込期間403が周期的に繰り返される。このとき、液晶表示装置200は、図4に示すように、駆動信号420の最大の電圧VDDHを、液晶応答期間402および記録メディア書込期間403においては表示画素の駆動に要する電圧(一例としては5[V])としつつ、データ転送期間401においては表示画素の駆動に要する電圧より低い電圧(一例としては1.8[V])としてもよい。 When the liquid crystal display device 200 is applied to a holographic memory, a data transfer period 401, a liquid crystal response period 402, and a recording medium writing period 403 are periodically repeated. At this time, in the liquid crystal display device 200, as shown in FIG. 4, the maximum voltage VDDH of the drive signal 420 is set to the voltage required to drive the display pixels in the liquid crystal response period 402 and the recording medium writing period 403 (as an example, The voltage may be lower than the voltage required to drive the display pixels during the data transfer period 401 (1.8 [V] as an example), while the voltage is 5 [V]).

これにより、データ転送時には駆動信号420の最大の電圧VDDHを周辺回路の電源電圧VDDと同じ程度の電圧まで下げ、データ転送後に駆動信号420の最大の電圧VDDHを表示画素の駆動に要する電圧に戻すことができる。これにより、データ転送時の貫通電流を抑制し、液晶表示装置200の消費電力を低減することができる。 As a result, the maximum voltage VDDH of the drive signal 420 is lowered to the same level as the power supply voltage VDD of the peripheral circuit during the data transfer, and the maximum voltage VDDH of the drive signal 420 is returned to the voltage required for driving the display pixel after the data transfer. be able to. As a result, the shoot-through current during data transfer can be suppressed and the power consumption of the liquid crystal display device 200 can be reduced.

なお、駆動信号420の電圧VDDHを可変とする場合においても、差動アンプ130へ入力される電圧VDDHは一定の電圧(一例としては5[V])としてもよい。これにより、動作の安定化を図ることができる。 Even when the voltage VDDH of the drive signal 420 is variable, the voltage VDDH input to the differential amplifier 130 may be a constant voltage (5 [V] as an example). This makes it possible to stabilize the operation.

このように、P型のMOSトランジスタ113,114に印加される最大の電圧VDDHを、画素回路110から読み出された信号に基づく液晶表示を行う期間(液晶応答期間402および記録メディア書込期間403)においては電圧VDDより高い第1電圧(一例としては5[V])に制御し、画素回路110への信号の転送期間(データ転送期間401)においては第1電圧より低い第3電圧(一例としては1.8[V])に制御する制御回路を液晶表示装置200に設けてもよい。 In this way, the maximum voltage VDDH applied to the P-type MOS transistors 113 and 114 is displayed during the liquid crystal display based on the signal read from the pixel circuit 110 (the liquid crystal response period 402 and the recording medium writing period 403). ) Is controlled to a first voltage (5 [V] as an example) higher than the voltage VDD, and a third voltage (one example) lower than the first voltage during a signal transfer period (data transfer period 401) to the pixel circuit 110. For example, a control circuit for controlling the voltage to 1.8 [V] may be provided in the liquid crystal display device 200.

これにより、画素回路110へのデータ転送時の貫通電流を抑制し、液晶表示装置200の消費電力を低減することができる。P型のMOSトランジスタ113,114に印加される最大の電圧VDDHを制御する制御回路は、たとえば図2に示した周辺回路230に設けることができる。 As a result, the shoot-through current at the time of data transfer to the pixel circuit 110 can be suppressed, and the power consumption of the liquid crystal display device 200 can be reduced. A control circuit for controlling the maximum voltage VDDH applied to the P-type MOS transistors 113 and 114 can be provided in the peripheral circuit 230 shown in FIG. 2, for example.

図4において、駆動信号420の電圧VDDHを可変とする場合について説明したが、駆動信号420の電圧VDDHを一定(一例としては5[V])としてもよい。この場合も、周辺回路における消費電力を低減することができる。 Although the case where the voltage VDDH of the drive signal 420 is variable has been described with reference to FIG. 4, the voltage VDDH of the drive signal 420 may be constant (5 [V] as an example). Also in this case, the power consumption in the peripheral circuit can be reduced.

(実施の形態にかかる液晶駆動回路の他の構成例)
図5は、実施の形態にかかる液晶駆動回路の他の構成例1を示す図である。図5において、図1に示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図1においてはレプリカ回路120および差動アンプ130を用いて画素回路110のMOSトランジスタ117,118のゲート電圧を制御する構成について説明したが、このような構成に限らない。
(Other Configuration Example of Liquid Crystal Driving Circuit According to Embodiment)
FIG. 5 is a diagram showing another configuration example 1 of the liquid crystal drive circuit according to the embodiment. 5, the same parts as those shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. Although the configuration in which the gate voltage of the MOS transistors 117 and 118 of the pixel circuit 110 is controlled using the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 has been described with reference to FIG. 1, the configuration is not limited to such a configuration.

たとえば、図5に示すように、液晶駆動回路100は、図1に示したレプリカ回路120および差動アンプ130に代えてバイアス回路510を備えていてもよい。バイアス回路510は、トランジスタ511と、直流の定電流源512と、直流の電圧源513と、を備えている。 For example, as shown in FIG. 5, the liquid crystal drive circuit 100 may include a bias circuit 510 instead of the replica circuit 120 and the differential amplifier 130 shown in FIG. The bias circuit 510 includes a transistor 511, a DC constant current source 512, and a DC voltage source 513.

トランジスタ511は、定電流源512と電圧源513との間に設けられたMOSトランジスタである。トランジスタ511のゲートは、定電流源512と、画素回路110のMOSトランジスタ117,118の各ゲートと、に接続されている。これにより、MOSトランジスタ117,118の各ゲートに一定のゲート電圧を供給することができる。 The transistor 511 is a MOS transistor provided between the constant current source 512 and the voltage source 513. The gate of the transistor 511 is connected to the constant current source 512 and the gates of the MOS transistors 117 and 118 of the pixel circuit 110. As a result, a constant gate voltage can be supplied to each gate of the MOS transistors 117 and 118.

図5に示した構成においても、図1に示した構成と同様に、1画素あたりの面積の増加を抑えつつ、消費電力の低減を図ることができる。また、図5に示した構成において、図4に示したように、駆動電圧の最大の電圧を可変としてもよい。 In the configuration shown in FIG. 5, as in the configuration shown in FIG. 1, it is possible to reduce the power consumption while suppressing an increase in the area per pixel. Further, in the configuration shown in FIG. 5, the maximum drive voltage may be variable as shown in FIG.

図6は、実施の形態にかかる液晶駆動回路の他の構成例2を示す図である。この例は、たとえば液晶駆動回路をN型シリコン基板上に構成したものに相当する。図6において、図1に示した部分と機能的に同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図6に示す構成においては、画素回路110は、MOSトランジスタ111,112の側が電源(VSSH)に接続され、MOSトランジスタ113,114の側が接地されている。この場合は、保護用のMOSトランジスタとして図1に示したN型のMOSトランジスタ117,118に代えてP型のMOSトランジスタ611,612を設けた構成とする。また、保護用のMOSトランジスタ611はMOSトランジスタ111とMOSトランジスタ113,115との間に接続され、保護用のMOSトランジスタ612はMOSトランジスタ112とMOSトランジスタ114,116との間に接続される。 FIG. 6 is a diagram showing another configuration example 2 of the liquid crystal drive circuit according to the embodiment. This example corresponds to, for example, a liquid crystal drive circuit formed on an N-type silicon substrate. 6, parts that are functionally similar to the parts shown in FIG. 1 are assigned the same reference numerals and explanations thereof are omitted. In the configuration shown in FIG. 6, in the pixel circuit 110, the MOS transistors 111 and 112 are connected to the power supply (VSSH), and the MOS transistors 113 and 114 are grounded. In this case, as protection MOS transistors, P-type MOS transistors 611 and 612 are provided instead of the N-type MOS transistors 117 and 118 shown in FIG. The protection MOS transistor 611 is connected between the MOS transistor 111 and the MOS transistors 113 and 115, and the protection MOS transistor 612 is connected between the MOS transistor 112 and the MOS transistors 114 and 116.

また、レプリカ回路120においても、保護用のMOSトランジスタとして図1に示したN型のMOSトランジスタ127,128に代えてP型のMOSトランジスタ621,622を設けた構成とする。また、保護用のMOSトランジスタ621はMOSトランジスタ121とMOSトランジスタ123,125との間に接続され、保護用のMOSトランジスタ622はMOSトランジスタ122とMOSトランジスタ124,126との間に接続される。 Also, in the replica circuit 120, P-type MOS transistors 621 and 622 are provided instead of the N-type MOS transistors 127 and 128 shown in FIG. 1 as protection MOS transistors. The protection MOS transistor 621 is connected between the MOS transistor 121 and the MOS transistors 123 and 125, and the protection MOS transistor 622 is connected between the MOS transistor 122 and the MOS transistors 124 and 126.

また、画素回路110の出力端子119は、MOSトランジスタ112とMOSトランジスタ612との間に設けられる。また、MOSトランジスタ115,116の各ゲートにはワード線の反転信号(/WL)が入力される。 The output terminal 119 of the pixel circuit 110 is provided between the MOS transistor 112 and the MOS transistor 612. Further, the inverted signal (/WL) of the word line is input to each gate of the MOS transistors 115 and 116.

図6に示した構成においても、図1に示した構成と同様に、1画素あたりの面積の増加を抑えつつ消費電力の低減を図るとともに、動作の安定化を図ることができる。また、図6に示した構成において、図5に示したように、レプリカ回路120および差動アンプ130に代えてバイアス回路510(図5参照)を設けた構成としてもよい。また、図6に示した構成において、図4に示したように、駆動電圧の最大の電圧を可変としてもよい。 In the configuration shown in FIG. 6 as well, similar to the configuration shown in FIG. 1, it is possible to reduce the power consumption while suppressing the increase in the area per pixel and stabilize the operation. Further, in the configuration shown in FIG. 6, as shown in FIG. 5, a bias circuit 510 (see FIG. 5) may be provided instead of the replica circuit 120 and the differential amplifier 130. Further, in the configuration shown in FIG. 6, the maximum drive voltage may be variable as shown in FIG.

図7は、実施の形態にかかる液晶駆動回路の他の構成例3を示す図である。図7において、図1に示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図7に示すように、画素回路110は、図1に示した負荷抵抗回路部131において、MOSトランジスタ113,114に代えて負荷抵抗711,712を設けることにより、抵抗負荷型のSRAMセルとしてもよい。この場合は、レプリカ回路120においても、MOSトランジスタ123,124に代えて負荷抵抗721,722を設けた構成とする。 FIG. 7 is a diagram showing another configuration example 3 of the liquid crystal drive circuit according to the embodiment. 7, the same parts as those shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. As shown in FIG. 7, in the pixel circuit 110, load resistances 711 and 712 are provided in place of the MOS transistors 113 and 114 in the load resistance circuit unit 131 shown in FIG. Good. In this case, also in the replica circuit 120, load resistors 721 and 722 are provided instead of the MOS transistors 123 and 124.

図7に示した構成においても、図1に示した構成と同様に、1画素あたりの面積の増加を抑えつつ消費電力の低減を図るとともに、動作の安定化を図ることができる。また、図7に示した構成において、図4に示したように、駆動電圧の最大の電圧を可変としてもよい。また、図7に示した構成において、図5に示したように、レプリカ回路120および差動アンプ130に代えてバイアス回路510(図5参照)を設けた構成としてもよい。 In the configuration shown in FIG. 7 as well, similar to the configuration shown in FIG. 1, it is possible to reduce the power consumption while suppressing an increase in the area per pixel and stabilize the operation. Further, in the configuration shown in FIG. 7, the maximum drive voltage may be variable as shown in FIG. Further, in the configuration shown in FIG. 7, as shown in FIG. 5, a bias circuit 510 (see FIG. 5) may be provided instead of the replica circuit 120 and the differential amplifier 130.

また、図7に示した構成において、図6に示したように、MOSトランジスタ111,112の側が電源(VSSH)に接続され、負荷抵抗711,712の側が接地された構成としてもよい。この場合は、保護用のMOSトランジスタとしてN型のMOSトランジスタ117,118に代えてP型のMOSトランジスタ611,612を設け、保護用のトランジスタとしてMOSトランジスタ127,128に代えてP型のMOSトランジスタ621,622を設けた構成とする。 Further, in the configuration shown in FIG. 7, as shown in FIG. 6, the MOS transistors 111 and 112 may be connected to the power supply (VSSH) and the load resistors 711 and 712 may be grounded. In this case, P-type MOS transistors 611 and 612 are provided as the protection MOS transistors instead of the N-type MOS transistors 117 and 118, and P-type MOS transistors are provided as the protection transistors instead of the MOS transistors 127 and 128. 621 and 622 are provided.

以上説明したように、液晶表示装置によれば、1画素あたりの面積の増加を抑えつつ、消費電力の低減を図ることができる。 As described above, according to the liquid crystal display device, it is possible to reduce power consumption while suppressing an increase in area per pixel.

以上のように、本発明にかかる液晶表示装置は、LCOSなどの液晶パネルを用いて画像を表示する液晶表示装置に有用であり、特に、画像を光情報記録媒体に照射してホログラムを形成することで情報を記録するホログラフィックメモリに適している。 INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the liquid crystal display device according to the present invention is useful for a liquid crystal display device that displays an image using a liquid crystal panel such as LCOS, and particularly, an optical information recording medium is irradiated with the image to form a hologram. This makes it suitable for holographic memory that records information.

100 液晶駆動回路
110 画素回路
111〜118,121〜128,611,612,621,622 MOSトランジスタ
119 出力端子
120 レプリカ回路
130 差動アンプ
131 負荷抵抗回路部
132 記憶回路部
200 液晶表示装置
210 液晶表示部
220,510 バイアス回路
230 周辺回路
231 タイミング制御部
232 ロウ選択部/ロウドライバ
233 カラム選択部
234 カラムドライバ
300 模擬回路
301,511 トランジスタ
302 可変抵抗
303 負荷
304,513 電圧源
305 ノード
401 データ転送期間
402 液晶応答期間
403 記録メディア書込期間
410 制御信号
420 駆動信号
512 定電流源
711,712,721,722 負荷抵抗
100 Liquid crystal drive circuit 110 Pixel circuit 111-118, 121-128, 611, 612, 621, 622 MOS transistor 119 Output terminal 120 Replica circuit 130 Differential amplifier 131 Load resistance circuit part 132 Storage circuit part 200 Liquid crystal display device 210 Liquid crystal display Part 220,510 Bias circuit 230 Peripheral circuit 231 Timing control part 232 Row selection part/row driver 233 Column selection part 234 Column driver 300 Simulation circuit 301,511 Transistor 302 Variable resistance 303 Load 304,513 Voltage source 305 Node 401 Data transfer period 402 Liquid crystal response period 403 Recording medium writing period 410 Control signal 420 Drive signal 512 Constant current source 711, 712, 721, 722 Load resistance

Claims (5)

表示の画素ごとに設けられたCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)型のSRAM(Static Random Access Memory)セルであって、
最大で第1電圧の電圧が印加される負荷抵抗回路部と記憶回路部との間に、前記記憶回路部に印加される最大の電圧を前記第1電圧より低い第2電圧に制限する保護用のMOSトランジスタを有し、
前記記憶回路部のトランジスタに、前記負荷抵抗回路部のトランジスタおよび前記保護用のMOSトランジスタより高電圧への耐性が低いトランジスタを用いたSRAMセルと、
前記SRAMセルのそれぞれにおける前記負荷抵抗回路部と前記保護用のMOSトランジスタとの間から出力される信号に基づく液晶表示を行う液晶表示部と、
前記SRAMセルのレプリカ回路と、
前記記憶回路部に対応する前記レプリカ回路のトランジスタと、前記保護用のMOSトランジスタに対応する前記レプリカ回路のトランジスタと、の間の最大の電圧が前記第2電圧に近づくように、前記保護用のMOSトランジスタに対応する前記レプリカ回路のトランジスタのゲート電圧を調整し、前記SRAMセルにおける前記保護用のMOSトランジスタのゲートに、前記保護用のMOSトランジスタに対応する前記レプリカ回路のトランジスタのゲート電圧と同じ電圧を印加する調整回路と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置。
A CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) type SRAM (Static Random Access Memory) cell provided for each display pixel,
A protection for limiting the maximum voltage applied to the storage circuit unit to a second voltage lower than the first voltage between the load resistance circuit unit to which the maximum voltage of the first voltage is applied and the storage circuit unit. Has a MOS transistor for
An SRAM cell using, as a transistor of the memory circuit section, a transistor having lower resistance to a high voltage than the transistor of the load resistance circuit section and the protection MOS transistor,
A liquid crystal display section for performing liquid crystal display based on a signal output from between the load resistance circuit section and the protection MOS transistor in each of the SRAM cells;
A replica circuit of the SRAM cell,
The protection circuit is configured so that the maximum voltage between the transistor of the replica circuit corresponding to the memory circuit section and the transistor of the replica circuit corresponding to the protection MOS transistor approaches the second voltage. The gate voltage of the transistor of the replica circuit corresponding to the MOS transistor is adjusted so that the same gate voltage as the gate voltage of the transistor of the replica circuit corresponding to the MOS transistor for protection is applied to the gate of the MOS transistor for protection in the SRAM cell. An adjusting circuit for applying a voltage,
A liquid crystal display device comprising:
前記負荷抵抗回路部にP型MOSトランジスタを用い、前記記憶回路部にN型MOSトランジスタを用いる
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a P-type MOS transistor is used for the load resistance circuit section, and an N-type MOS transistor is used for the storage circuit section.
前記負荷抵抗回路部にN型MOSトランジスタを用い、前記記憶回路部にP型MOSトランジスタを用いる
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein an N-type MOS transistor is used for the load resistance circuit section, and a P-type MOS transistor is used for the storage circuit section.
前記レプリカ回路および前記調整回路は、前記SRAMセルのうちの複数のSRAMセルにおいて共有される回路であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the replica circuit and the adjustment circuit are circuits shared by a plurality of SRAM cells among the SRAM cells. 前記負荷抵抗回路部に印加される最大の電圧を、前記液晶表示を行う期間においては前記第1電圧に制御し、前記SRAMセルへの信号の転送期間においては前記第1電圧より低い第3電圧に制御する制御回路を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の液晶表示装置。 A maximum voltage applied to the load resistance circuit unit is controlled to the first voltage during the liquid crystal display period, and a third voltage lower than the first voltage during the signal transfer period to the SRAM cell. The liquid crystal display device according to claim 1 , further comprising a control circuit for controlling the liquid crystal display device.
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