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JP6741394B2 - Glass substrate manufacturing method - Google Patents
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Description

本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate used for a flat panel display such as a liquid crystal display and a plasma display.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ(以下、「FPD」と呼ぶ。)に用いるガラス基板には、厚さが例えば0.5〜0.7mmと薄いガラス板が用いられている。このFPD用ガラス基板は、例えば第1世代では300×400mmのサイズであるが、第10世代では2850×3050mmのサイズになっている。 As a glass substrate used for a flat panel display (hereinafter referred to as “FPD”) such as a liquid crystal display or a plasma display, a thin glass plate having a thickness of, for example, 0.5 to 0.7 mm is used. The glass substrate for FPD has a size of, for example, 300×400 mm in the first generation, but has a size of 2850×3050 mm in the tenth generation.

このような薄板で大きなサイズのFPD用ガラス基板を製造するには、オーバーフローダウンドロー法やフロート法が好適に用いられる。例えば、オーバーフローダウンドロー法を用いるガラス基板の製造方法が特許文献1に開示されている。すなわち、特許文献1では、成形体からオーバーフローされたシートガラスを搬送ローラ(引張りローラ)で挟持し、下方に引き下げる過程で徐冷することで、ガラス基板を製造している。 In order to manufacture a large size glass substrate for FPD with such a thin plate, an overflow down draw method or a float method is preferably used. For example, Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a glass substrate using an overflow downdraw method. That is, in Patent Document 1, a glass substrate is manufactured by sandwiching a sheet glass overflowing from a molded body by a conveying roller (pulling roller) and gradually cooling the sheet glass in the process of pulling it downward.

このようなオーバーフローダウンドロー法等により製造された板状のガラス基板は所定のサイズに切断される。ガラス基板の切断は、切断箇所にカッター等で切断線(切れ目)を形成し、その切断線に沿って破断することで行われている。このような切断装置については例えば特許文献2等に開示されている。
また、上記のようにガラス基板の切断された端面に対し、面取り研削等の端面加工が行われる。このような端面加工装置については例えば特許文献3等に開示されている。
The plate-shaped glass substrate manufactured by such an overflow downdraw method is cut into a predetermined size. The cutting of the glass substrate is performed by forming a cutting line (cut) with a cutter or the like at the cutting position and breaking along the cutting line. Such a cutting device is disclosed in, for example, Patent Document 2 and the like.
Further, as described above, the cut end surface of the glass substrate is subjected to end surface processing such as chamfering grinding. Such an end surface processing device is disclosed in, for example, Patent Document 3 and the like.

国際公開第2012/132425号International Publication No. 2012/132425 特開2012−171867号公報JP 2012-171867 A 特開2014−087879号公報JP, 2014-087879, A

従来、ガラス基板の端面加工では、加工前にガラス基板の端面位置を揃えるためのアライメントが行われる。例えば図4に示すような面取り研削加工を行う端面加工装置(詳細は後述する)を用いて、端面加工を行う場合、加工前にアライメントされたガラス基板1に対して、研削溝22が形成された研削ホイール21が相対的に移動することで端面加工される。 Conventionally, in the end surface processing of a glass substrate, alignment for aligning the end surface positions of the glass substrate is performed before processing. For example, when the end face processing is performed using an end face processing device (details will be described later) for performing the chamfering grinding process as shown in FIG. 4, the grinding groove 22 is formed in the glass substrate 1 aligned before the processing. The end surface is machined by the relative movement of the grinding wheel 21.

しかし、ガラス基板のアライメントは、搬送テーブル30上に保持されているガラス基板1が搬送テーブル30からはみ出した端面1aを押して調整される。ガラス基板の場合、搬送テーブル30からはみ出した端部が撓むため、アライメントの精度を高めることが困難である。とりわけ、薄板のガラス基板の場合、端部の撓み量が大きく、ガラス基板の位置調整が困難であり、アライメントが出来ないこともある。 However, the alignment of the glass substrate is adjusted by pushing the end surface 1 a of the glass substrate 1 held on the transport table 30 protruding from the transport table 30. In the case of a glass substrate, since the end portion protruding from the transport table 30 is bent, it is difficult to improve the alignment accuracy. In particular, in the case of a thin glass substrate, the amount of bending of the end portion is large, it is difficult to adjust the position of the glass substrate, and alignment may not be possible.

上記特許文献3には、ガラス基板の端面の位置情報を2点取得し、その位置を結んだ2点間に対して研削ホイールを移動させて加工する方法が記載されているが、上記のように撓んだ端部では、正確に位置情報を取得することは困難であるため、このような従来方法によってもアライメント精度を高めることは困難である。
近年のFPDの高精細化に伴い、FPD用ガラス基板に対する品質要求は益々厳しくなってきており、従来にも増して製造時の厳密な制御が必要になってきている。
The above-mentioned Patent Document 3 describes a method in which two pieces of position information of the end surface of the glass substrate are acquired and a grinding wheel is moved between two points connecting the positions to perform processing. Since it is difficult to accurately obtain the position information at the bent end portion, it is difficult to improve the alignment accuracy even by such a conventional method.
With the high definition of FPDs in recent years, quality requirements for glass substrates for FPDs are becoming more and more stringent, and stricter control during manufacturing is required more than ever.

そこで、本発明は、端面加工前のアライメントを行うことなく、端面加工を精度良く行うことができ、高品質のガラス基板を製造することが可能なガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a glass substrate capable of manufacturing a high-quality glass substrate, which can accurately perform the end surface processing without performing alignment before the end surface processing. To do.

本発明者らは、従来の技術課題を解決するべく鋭意検討した結果、以下の構成の発明を想到するに至ったものである。 As a result of intensive studies to solve the conventional technical problems, the present inventors have arrived at an invention having the following configuration.

(構成1の発明)
板状に成形されたガラス基板を切断手段により所定の幅に切断する切断工程と、切断されたガラス基板の端面に端面加工を施す端面加工工程とを有するガラス基板の製造方法であって、前記板状に成形されたガラス基板を搬送テーブル上に載置した状態で、前記ガラス基板と前記搬送テーブルとを一体にガラス基板搬送経路を移動させながら、前記端面加工工程前に前記端面のアライメントを行うことなく、前記切断工程および前記端面加工工程を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法である。
(Invention of Structure 1)
A glass substrate manufacturing method comprising a cutting step of cutting a glass substrate formed into a plate shape into a predetermined width by a cutting means, and an end surface processing step of applying an end surface processing to an end surface of the cut glass substrate, With the glass substrate formed in a plate shape placed on the transport table, while moving the glass substrate transport path integrally with the glass substrate and the transport table, alignment of the end face before the end face processing step is performed. It is a manufacturing method of a glass substrate characterized by performing the above-mentioned cutting process and the above-mentioned end face processing process, without performing.

(構成2の発明)
前記ガラス基板は、板厚が0.3mm以下であることを特徴とする構成1に記載のガラス基板の製造方法である。
(Invention of Structure 2)
The glass substrate has a plate thickness of 0.3 mm or less.

(構成3の発明)
前記搬送テーブルは、前記ガラス基板搬送経路に設けられた走行軸上を移動することを特徴とする構成1又は2に記載のガラス基板の製造方法である。
(Invention of Structure 3)
3. The method of manufacturing a glass substrate according to configuration 1 or 2, wherein the transport table moves on a traveling axis provided on the glass substrate transport path.

(構成4の発明)
前記切断工程において切断手段により形成される切断線と、前記端面加工工程における端面加工の加工点とが、前記ガラス基板搬送経路に沿った同一線上に位置することを特徴とする構成1乃至3のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法である。
(Invention of Structure 4)
The cutting line formed by the cutting means in the cutting step and the processing point of the end surface processing in the end surface processing step are located on the same line along the glass substrate transport path. The method for manufacturing a glass substrate according to any one of claims.

(構成5の発明)
切断されるガラス基板の少なくとも一端に前記ガラス基板の中央領域とは厚みの異なる外側領域を有し、前記切断工程では前記外側領域を切断除去することを特徴とする構成1乃至4のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法である。
(構成6の発明)
前記端面加工は、前記ガラス基板の端面に施す面取り加工であることを特徴とする構成1乃至5のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法である。
(Invention of Structure 5)
Any one of configurations 1 to 4 characterized in that at least one end of the glass substrate to be cut has an outer region having a thickness different from that of the central region of the glass substrate, and the outer region is cut and removed in the cutting step. The method for producing a glass substrate according to item.
(Invention of Structure 6)
6. The method for manufacturing a glass substrate according to any one of configurations 1 to 5, wherein the end surface processing is chamfering processing performed on an end surface of the glass substrate.

(構成7の発明)
前記端面加工工程において、前記ガラス基板の端面を、前記端面加工を施す装置に導くためのガイド手段を備えることを特徴とする構成1乃至6のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法である。
(Invention of Structure 7)
7. The method for manufacturing a glass substrate according to any one of Configurations 1 to 6, characterized in that in the end face processing step, a guide means is provided for guiding the end face of the glass substrate to an apparatus for performing the end face processing. is there.

本発明によれば、上記構成により、端面加工前のアライメントを不要とし、アライメントを行うことなく、端面加工を精度良く行うことができる。これにより、高品質のガラス基板を製造することが可能である。 According to the present invention, with the above configuration, the alignment before the end face processing is unnecessary, and the end face processing can be accurately performed without performing the alignment. As a result, it is possible to manufacture a high quality glass substrate.

ガラス基板の製造方法のフローの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the flow of the manufacturing method of a glass substrate. 本発明における切断工程乃至端面加工工程を行う装置の一実施形態を示す平面図である。It is a top view showing one embodiment of an apparatus which performs a cutting process or an end face processing process in the present invention. 本発明における切断工程乃至端面加工工程を行う装置の一実施形態を示す正面図である。It is a front view showing one embodiment of an apparatus which performs a cutting process or an end face processing process in the present invention. 端面加工工程に用いる端面加工装置の一例を示す斜視図である。It is a perspective view showing an example of an end face processing device used for an end face processing process.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
(ガラス基板の製造方法の全体概要)
図1は、ガラス基板の製造方法のフローの一例を示す図である。
ガラス基板の製造方法は、溶融工程(ST1)と、清澄工程(ST2)と、撹拌(均質化)工程)(ST3)と、供給工程(ST4)と、成形工程(ST5)と、冷却工程(ST6)と、切断工程(ST7)と、を主に有する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
(Overview of glass substrate manufacturing method)
FIG. 1 is a diagram showing an example of a flow of a method for manufacturing a glass substrate.
The glass substrate manufacturing method includes a melting step (ST1), a refining step (ST2), a stirring (homogenizing) step) (ST3), a supplying step (ST4), a forming step (ST5), and a cooling step ( Mainly includes ST6) and a cutting step (ST7).

溶融工程(ST1)では、図示しない溶解槽内に供給されたガラス原料を溶解することで溶融ガラスを得る。清澄工程(ST2)では、清澄剤を用いて溶融ガラスの清澄を行う。
撹拌(均質化)工程(ST3)では、図示しない撹拌槽内の溶融ガラスを、スターラ等の回転具を用いて撹拌することにより、ガラス成分の均質化を行う。
供給工程(ST4)では、均質化された溶融ガラスが、上記撹拌槽から所定の配管を通って図示しない成形装置に供給される。
In the melting step (ST1), molten glass is obtained by melting the glass raw material supplied into a melting tank (not shown). In the fining step (ST2), the molten glass is fined using a fining agent.
In the stirring (homogenization) step (ST3), the glass components are homogenized by stirring the molten glass in a stirring tank (not shown) using a rotating tool such as a stirrer.
In the supplying step (ST4), the homogenized molten glass is supplied from the stirring tank through a predetermined pipe to a molding device (not shown).

この成形装置は、たとえば上記オーバーフローダウンドロー法による成形装置であり、成形工程(ST5)及び冷却工程(ST6)が行われる。
成形工程(ST5)では、溶融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。オーバーフローダウンドロー法の場合、シートガラスの流れ方向は、鉛直下方となる。冷却工程(ST6)では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、冷却に起因する反り、歪が生じないように冷却される。
切断工程(ST7)では、上記成形装置から供給されたシートガラスが所定の長さに切断されることで、板状のガラス基板を得る。
This molding apparatus is, for example, a molding apparatus by the above-mentioned overflow down draw method, and the molding step (ST5) and the cooling step (ST6) are performed.
In the forming step (ST5), the molten glass is formed into a sheet glass to make a sheet glass flow. In the case of the overflow down draw method, the flow direction of the sheet glass is vertically downward. In the cooling step (ST6), the sheet glass that has been molded and flows has a desired thickness, and is cooled so that warpage and distortion caused by cooling do not occur.
In the cutting step (ST7), the sheet glass supplied from the molding apparatus is cut into a predetermined length to obtain a plate-shaped glass substrate.

また、切断されたガラス基板は、さらに所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作製される。この後、ガラス基板端面の加工(研削、研磨等)およびガラス基板の洗浄が行われ、さらに、泡や脈理等の欠陥の有無が検査された後、検査合格品のガラス基板が最終製品として梱包、出荷される。
本発明は、上述の板状に切断されたガラス基板をさらに所定のサイズ(幅)に切断し、目標サイズのガラス基板を作製する切断工程と、切断工程の後に、ガラス基板端面に面取り等の研削加工を施す端面加工工程の一連の工程における改良に関するものであり、詳細は後述する。
Further, the cut glass substrate is further cut into a predetermined size, and a glass substrate having a target size is manufactured. After that, the glass substrate end surface is processed (grinding, polishing, etc.) and the glass substrate is cleaned, and after the presence or absence of defects such as bubbles and striae is inspected, the glass substrate that has passed the inspection is the final product. Packed and shipped.
The present invention further includes a cutting step of cutting the glass substrate cut into the plate shape described above into a predetermined size (width) to produce a glass substrate of a target size, and after the cutting step, chamfering etc. on the glass substrate end face. The present invention relates to an improvement in a series of steps of an end surface processing step of performing a grinding process, which will be described in detail later.

本実施形態において製造されるガラス基板は、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板、有機ELディスプレイ用ガラス基板、カバーガラスに好適に用いられる。また、このガラス基板は、その他、携帯端末機器などのディスプレイや筐体用のカバーガラス、タッチパネル板、太陽電池のガラス基板やカバーガラスとしても用いることができる。特に、液晶ディスプレイ用ガラス基板に好適である。 The glass substrate manufactured in this embodiment is suitably used, for example, as a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for an organic EL display, and a cover glass. In addition, the glass substrate can also be used as a cover glass for a display or a casing of a mobile terminal device, a touch panel, or a glass substrate or a cover glass for a solar cell. In particular, it is suitable for glass substrates for liquid crystal displays.

また、ガラス基板の幅方向及び縦方向の長さは、例えば500mm〜3500mmであり、1000mm〜3500mmであることが好ましく、2000mm〜3500mmであることがより好ましい。 Further, the widthwise and vertical lengths of the glass substrate are, for example, 500 mm to 3500 mm, preferably 1000 mm to 3500 mm, and more preferably 2000 mm to 3500 mm.

(ガラス基板の組成)
上述の用途のガラス基板のガラス組成としては、アルミノシリケートガラス、ボロアルミノシリケートガラスであり、さらに無アルカリガラス、微アルカリガラスであり、例えば以下のものを好ましく挙げることができる。なお、以下に示す組成の含有率表示は、モル%である。
SiO2 55〜75%、Al23 5〜20%、B23 0〜15%、RO 5〜20%(ただし、RはMg、Ca、Sr及びBaのうち、ガラス基板に含まれる全元素)、R'2O 0〜0.4% (ただし、R'はLi、Na及びKのうち、ガラス基板に含まれる全元素)。
もちろん、本発明においては、ガラス基板のガラス組成を限定する必要はなく、任意である。
(Composition of glass substrate)
As the glass composition of the glass substrate for the above-mentioned use, aluminosilicate glass, boroaluminosilicate glass, non-alkali glass, and slightly alkaline glass, for example, the following can be preferably mentioned. In addition, the content rate display of the composition shown below is mol %.
SiO 2 55~75%, Al 2 O 3 5~20%, B 2 O 3 0~15%, RO 5~20% ( wherein, R is Mg, Ca, among Sr and Ba, contained in the glass substrate all elements), R '2 O 0~0.4% ( provided that, R' is Li, among the Na and K, all the elements contained in the glass substrate).
Of course, in the present invention, it is not necessary to limit the glass composition of the glass substrate, and it is optional.

次に、本発明における切断工程乃至端面加工工程、および該一連の工程において好ましく用いられる装置について説明する。
図2は、本発明における切断工程乃至端面加工工程を行う装置の一実施形態を示す平面図である。また、図3は、本発明における切断工程乃至端面加工工程を行う装置の一実施形態を示す正面図である。
Next, an apparatus preferably used in the cutting step, the end surface processing step, and the series of steps in the present invention will be described.
FIG. 2 is a plan view showing an embodiment of an apparatus for performing the cutting process or the end face processing process in the present invention. Further, FIG. 3 is a front view showing an embodiment of an apparatus for performing the cutting process or the end face processing process in the present invention.

上述のたとえばオーバーフローダウンドロー法による成形装置から供給された連続するシートガラスが所定の長さに切断され、連続したシートガラスから1枚のガラスが分離される。分離されたガラスの両端に形成される厚みのある外側領域(いわゆる耳部)を切断除去することでガラス基板1が得られる。得られた板状のガラス基板1は、搬送テーブル30上に吸着保持されながら、切断工程に搬送され、パネルメーカーで使用されるサイズにするため4辺が切断される。ここで切断装置10により、基板両端部の所定の切断位置に切断線が形成される(切断工程)。
次に、上記のようにして基板両端部の切断位置に切断線が形成されたガラス基板1は、その切断線に沿ってその外側の領域(製品領域外の端部2)が破断されて、所定のサイズに形成され、目標サイズのガラス基板が作製される(端部切断)。
The continuous sheet glass supplied from the above-mentioned forming apparatus by, for example, the overflow down draw method is cut into a predetermined length, and one sheet of glass is separated from the continuous sheet glass. The glass substrate 1 can be obtained by cutting and removing thick outer regions (so-called ears) formed at both ends of the separated glass. The obtained plate-shaped glass substrate 1 is transported to a cutting process while being suction-held on the transport table 30, and its four sides are cut to have a size used by a panel maker. Here, the cutting device 10 forms cutting lines at predetermined cutting positions on both ends of the substrate (cutting step).
Next, in the glass substrate 1 in which the cutting lines are formed at the cutting positions on both ends of the substrate as described above, the region outside the glass substrate 1 (the end 2 outside the product region) is broken along the cutting lines, The glass substrate is formed into a predetermined size and a target size is manufactured (edge cutting).

次に、以上説明した切断工程を経て作製された目標サイズのガラス基板1は、さらに、搬送テーブル30上に吸着保持されながら、次の端面加工工程に搬送される。ここで、端面加工装置20により、ガラス基板1の切断された端面に例えば面取り研削加工を施す(端面加工工程)。 Next, the glass substrate 1 of the target size manufactured through the cutting process described above is further adsorbed and held on the transfer table 30 and transferred to the next end surface processing process. Here, for example, chamfering grinding is performed on the cut end surface of the glass substrate 1 by the end surface processing device 20 (end surface processing step).

本実施の形態において、上記ガラス基板1は、搬送テーブル30上に吸着保持されながら上記工程間を搬送されるが、とくに特徴的な構成は、上記ガラス基板1を搬送テーブル30上に保持した状態で、上記ガラス基板1と上記搬送テーブル30とを一体にガラス基板搬送経路を移動させながら、上記切断工程および端面加工工程を施すようにしていることである。本実施の形態では、上記搬送テーブル30は、上記ガラス基板搬送経路に設けられた走行軸60上を移動する構成としている。図2中の矢印Aはガラス基板の搬送方向を示している。上記走行軸60は例えばレールであり、このレール上を上記搬送テーブル30が移動する。 In the present embodiment, the glass substrate 1 is transported between the steps while being suction-held on the transport table 30, but a particularly characteristic configuration is that the glass substrate 1 is retained on the transport table 30. The glass substrate 1 and the transport table 30 are integrally moved along the glass substrate transport path to perform the cutting process and the end face processing process. In the present embodiment, the transport table 30 is configured to move on the traveling shaft 60 provided on the glass substrate transport path. The arrow A in FIG. 2 indicates the glass substrate transport direction. The traveling shaft 60 is, for example, a rail, and the transport table 30 moves on the rail.

次に、上記切断装置について説明する。
上記切断装置10は、ガラス基板1の所定の切断位置に切断線を形成するようガラス基板1の一方の面上を移動する切断手段11と、ガラス基板1の他方の面において、上記切断手段11と対向するように配置された切断テーブル12とを設けている。ここで、切断テーブル12の搬送テーブル30との位置関係は、求められるガラス基板の製品サイズにより、切断手段11の位置と共に適宜調整される。
Next, the cutting device will be described.
The cutting device 10 includes a cutting means 11 that moves on one surface of the glass substrate 1 so as to form a cutting line at a predetermined cutting position on the glass substrate 1, and the cutting means 11 on the other surface of the glass substrate 1. And a cutting table 12 arranged so as to be opposed thereto. Here, the positional relationship between the cutting table 12 and the transport table 30 is appropriately adjusted together with the position of the cutting means 11 depending on the required product size of the glass substrate.

上記切断手段11は、ガラス基板面に対して回転移動する構成のものであることが好ましく、具体的には例えばカッターホイールのような切断具が好適である。なお、図2及び図3においては上記カッターホイールを例示している。 It is preferable that the cutting means 11 is configured to rotate and move with respect to the glass substrate surface, and specifically, a cutting tool such as a cutter wheel is suitable. The cutter wheel is illustrated in FIGS. 2 and 3.

また、上記切断テーブル12は、上記切断手段11の移動(好ましくは回転移動)と共に移動する構成のものであることが好ましい。この場合、上記切断テーブル12のサイズは、上記切断手段11からの荷重を受けて、安定した切断を行うのに必要なサイズとすればよい。上記切断テーブル12としては、例えばSUS製の定盤や、この定盤に樹脂製のパッド(例えばウレタンパッドなど)を貼り付けたものなどを用いることができる。また、上記切断テーブル12は、定盤のようなものでなくても、例えば上記切断手段11と対向するように上記切断手段11の移動と共に移動可能な球状又はホイール状(円筒状)の部材でもよい。 Further, the cutting table 12 is preferably configured to move together with the movement (preferably rotational movement) of the cutting means 11. In this case, the size of the cutting table 12 may be set to a size necessary for receiving a load from the cutting means 11 and performing stable cutting. As the cutting table 12, for example, a surface plate made of SUS or a surface plate to which a resin pad (for example, urethane pad) is attached can be used. The cutting table 12 is not limited to a platen, but may be a spherical or wheel-shaped (cylindrical) member that can move with the movement of the cutting means 11 so as to face the cutting means 11. Good.

なお、上記切断テーブル12は、所定の位置に固定されている構成としてもよいが、この場合は上記切断手段11のみが移動するため、切断テーブル12の長さ(基板搬送方向の長さ)は、切断線が形成されるガラス基板1の搬送方向に沿った辺の長さよりも長くする必要がある。
また、上記切断手段11および切断テーブル12の位置を共に固定しておき、ガラス基板1を移動させる構成としてもよい。
The cutting table 12 may be fixed at a predetermined position. However, in this case, since only the cutting means 11 moves, the length of the cutting table 12 (length in the substrate transfer direction) is It is necessary to make it longer than the length of the side of the glass substrate 1 along which the cutting line is formed in the carrying direction.
Alternatively, the positions of the cutting means 11 and the cutting table 12 may be fixed and the glass substrate 1 may be moved.

なお、切断装置10は、上記切断手段11および切断テーブル12の他に、図示していないが、これらを駆動制御する駆動手段及び制御手段を具備している。 In addition to the cutting means 11 and the cutting table 12, the cutting device 10 includes drive means and control means (not shown) for driving and controlling these.

上記構成において、上記切断手段11は、ガラス基板1の所定の切断位置(例えば図2中の破線50に沿った位置)に沿ってガラス基板1の一方の面上を所定の荷重をかけながら移動して切断線を形成する。この際、ガラス基板面に対して切断手段11の刃先を押し込む方向に荷重がかけられる。一方、上記切断テーブル12は、ガラス基板1の他方の面において、上記切断手段11からの荷重を受け、安定して切断線が形成できるようにしている。 In the above structure, the cutting means 11 moves along a predetermined cutting position of the glass substrate 1 (for example, a position along the broken line 50 in FIG. 2) on one surface of the glass substrate 1 while applying a predetermined load. To form a cutting line. At this time, a load is applied to the surface of the glass substrate in the direction of pushing the cutting edge of the cutting means 11. On the other hand, the cutting table 12 receives a load from the cutting means 11 on the other surface of the glass substrate 1 so that a cutting line can be stably formed.

また、上記切断テーブル12を上記切断手段11の移動と共に移動可能な球状又はホイール状(円筒状)の部材で形成した場合、ガラス基板1の切断時に、上記切断手段11からの荷重(押圧力)を、上記球状又はホイール状部材の周面の頂点部で受けているので、切断手段11の刃先にかかる力が垂直方向に集中するため、深さ(切込み量)の安定した切断線を形成することができる。 Further, when the cutting table 12 is formed of a spherical or wheel-shaped (cylindrical) member that can move with the movement of the cutting means 11, when the glass substrate 1 is cut, a load (pressing force) from the cutting means 11 is applied. Is received at the apex of the peripheral surface of the spherical or wheel-shaped member, the force applied to the cutting edge of the cutting means 11 concentrates in the vertical direction, so that a cutting line with a stable depth (cutting amount) is formed. be able to.

次に、上記端面加工装置20について説明する。
図4は、端面加工工程に用いる端面加工装置の一例を示す斜視図である。以下、図4及び前出の図2、図3を参照して説明する。
上記端面加工装置20は、その内部に、全体が円筒状の砥石でできた研削ホイール21、その駆動手段及び制御手段等を有している。研削ホイール21には、その周面の水平方向全周にわたって内方に凹んだ研削溝22が形成されており、この研削溝22は、ガラス基板の端面に対して所定の面取り面を形成できるような形状を有している。研削ホイール21を構成する砥石としては、通常ガラスの研削加工に使用されるものであれば種類は問わない。研削ホイール21は、例えば図5中に示す矢印方向に回転可能に構成されている。
Next, the end face processing device 20 will be described.
FIG. 4 is a perspective view showing an example of an end face processing device used in the end face processing step. Hereinafter, description will be given with reference to FIG. 4 and FIGS. 2 and 3 described above.
The end surface processing apparatus 20 has a grinding wheel 21, which is entirely made of a cylindrical grindstone, a driving unit, a control unit, and the like, inside thereof. The grinding wheel 21 is formed with a grinding groove 22 recessed inward over the entire circumference in the horizontal direction of the grinding wheel 21. The grinding groove 22 can form a predetermined chamfered surface with respect to the end surface of the glass substrate. It has a unique shape. The grindstone forming the grinding wheel 21 may be of any type as long as it is usually used for grinding glass. The grinding wheel 21 is configured to be rotatable in the arrow direction shown in FIG. 5, for example.

上記端面加工装置20は、その研削ホイール21がガラス基板1の両側の端面1aとそれぞれ対向するように設置される。そして、端面加工装置20は、搬送テーブル30上に保持されて移動してくるガラス基板1の両端面1aのそれぞれに向かって、回転している研削ホイール21を押し付けることで、端面1aを研削し、面取り加工を行う。なお、ガラス基板1の移動を一旦停止し、ガラス基板1の両端面1aのそれぞれに向かって、回転している研削ホイール21を押し付け、さらに研削ホイール21をガラス基板1の端面1aに沿って移動させる構成としてもよい。 The end face processing device 20 is installed so that the grinding wheels 21 face the end faces 1a on both sides of the glass substrate 1, respectively. Then, the end face processing device 20 grinds the end face 1a by pressing the rotating grinding wheel 21 toward each of the both end faces 1a of the glass substrate 1 held and moved on the transport table 30. , Chamfer. It should be noted that the movement of the glass substrate 1 is temporarily stopped, the rotating grinding wheel 21 is pressed toward both end surfaces 1a of the glass substrate 1, and the grinding wheel 21 is further moved along the end surface 1a of the glass substrate 1. It is also possible to adopt a configuration that allows it.

なお、図2、図3中に示すガイド用テーブル40は、搬送テーブル30の両側に一定の距離だけ離間した位置に配置されており、ガラス基板1の両端部(両端面1a)をそれぞれ上記研削ホイール21の研削溝22に導くためのガイド部材である。特に、ガラス基板1が薄板であると、両端部が撓むため、ガラス基板1の両端部をそれぞれ上記研削ホイール21に導くためのガイド部材が必要となる。つまり、上記ガイド用テーブル40は、ガラス基板1の端部の高さ方向に位置決めをする手段である。ガイド部材としては、例えば、液体による浮上吸着パネルを用いることができる。このガイド用テーブル40は、ガラス基板両端部の撓み量に応じて、上下方向に移動可能に調整でき、ガラス基板1の両端部をそれぞれ上記研削ホイール21の加工点に適切に導くことができる。また、このガイド用テーブル40の搬送テーブル30との位置関係は、切断されたガラス基板の製品サイズにより、端面加工装置20の位置と共に適宜調整される。 The guide tables 40 shown in FIGS. 2 and 3 are arranged on both sides of the transport table 30 at positions separated by a certain distance, and both end portions (both end surfaces 1a) of the glass substrate 1 are respectively subjected to the above grinding. It is a guide member for guiding to the grinding groove 22 of the wheel 21. In particular, when the glass substrate 1 is a thin plate, both ends thereof are bent, so guide members for guiding the both ends of the glass substrate 1 to the grinding wheel 21 are required. That is, the guide table 40 is a means for positioning the end portion of the glass substrate 1 in the height direction. As the guide member, for example, a floating adsorption panel made of liquid can be used. The guide table 40 can be adjusted so as to be movable in the vertical direction according to the amount of bending of both ends of the glass substrate, and both ends of the glass substrate 1 can be appropriately guided to the processing points of the grinding wheel 21. Further, the positional relationship between the guide table 40 and the transport table 30 is appropriately adjusted together with the position of the end face processing device 20 depending on the product size of the cut glass substrate.

こうしてガラス基板1の一方の両端面1aの加工が終わると、ガラス基板1を90度回転させて、他方の両端面の加工を同様にして行う。 When the processing of one end surface 1a of the glass substrate 1 is completed in this way, the glass substrate 1 is rotated by 90 degrees, and the other end surfaces of the other are processed in the same manner.

以上のようにして、ガラス基板1の切断線形成、端部切断、端面加工が行われるが、前述したように、本実施の形態において、特徴的な構成は、上記ガラス基板1は、搬送テーブル30上に吸着保持されながら搬送され、上記ガラス基板1を搬送テーブル30上に保持した状態で、上記ガラス基板1と上記搬送テーブル30とを一体にガラス基板搬送経路を移動させながら、上記切断工程および端面加工工程を施すようにしていることである。そして、本実施の形態では、上記ガラス基板1と上記搬送テーブル30とを一体にガラス基板搬送経路を移動させるために、上記搬送テーブル30は、上記ガラス基板搬送経路に設けられた走行軸60上を移動する構成としている。 As described above, the cutting line formation, the edge cutting, and the end surface processing of the glass substrate 1 are performed. As described above, the characteristic configuration of the present embodiment is that the glass substrate 1 is a transport table. The glass substrate 1 is transported while being suction-held on the glass substrate 1, and the glass substrate 1 is held on the transport table 30, while the glass substrate 1 and the transport table 30 are integrally moved along the glass substrate transport path, and the cutting step is performed. And the end face processing step is performed. Further, in the present embodiment, in order to integrally move the glass substrate 1 and the transport table 30 along the glass substrate transport path, the transport table 30 is mounted on the traveling shaft 60 provided in the glass substrate transport path. Is configured to move.

上記構成によれば、切断工程での加工点(切断線形成位置)と、端面加工工程での加工点とが、ガラス基板搬送経路に沿った同一線上に設けられることになる。つまり、上記切断工程では、ガラス基板1を上記搬送テーブル30と一体に移動することで、上記ガラス基板搬送経路に平行な切断線を形成し、該切断線に沿って端部が切断される。そして、引き続き、ガラス基板1を上記搬送テーブル30と一体にガラス基板搬送経路上を移動することで、上記端面加工工程では、上記切断線形成位置の延長線上に、端面加工の加工点が設けられ、端面加工が施されることになる。したがって、従来の端面加工前のアライメントを不要とし、アライメントを行うことなく、端面加工を精度良く行うことができる。また、端面加工時の取代を少なくでき、研削ホイール21に過度の負荷をかけることなく加工できるので、工具寿命も延ばすことが可能になる。 According to the above configuration, the processing point (cutting line forming position) in the cutting step and the processing point in the end surface processing step are provided on the same line along the glass substrate transport path. That is, in the cutting step, the glass substrate 1 is moved integrally with the transfer table 30 to form a cutting line parallel to the glass substrate transfer path, and the end portion is cut along the cutting line. Then, by continuously moving the glass substrate 1 together with the transport table 30 on the glass substrate transport path, in the end face processing step, a processing point for end face processing is provided on an extension line of the cutting line forming position. , The end face will be processed. Therefore, the conventional alignment before the end surface processing is unnecessary, and the end surface processing can be performed accurately without performing the alignment. Further, the machining allowance at the time of end face machining can be reduced, and the grinding wheel 21 can be machined without applying an excessive load, so that the tool life can be extended.

本実施の形態においては、上記搬送テーブル30は、上記ガラス基板搬送経路に設けられた走行軸60上を移動する構成としているが、上記走行軸60は、例えば進行方向精度±30μm、高さ方向精度±40μmに設けられる。 In the present embodiment, the transport table 30 is configured to move on the traveling shaft 60 provided in the glass substrate transport path. However, the traveling shaft 60 has, for example, a traveling direction accuracy of ±30 μm and a height direction. It is provided with an accuracy of ±40 μm.

例えば、上記切断線を形成する工程において、上記走行軸60の高さ方向精度が切断線の直進性に影響する場合がある。高さ方向にガラス基板1が変動すると、切断線が安定して入らない、切断線が所望の深さとならない、又は上記切断手段11が滑って切断線の形成ができない、というようなことが発生するおそれがある。 For example, in the step of forming the cutting line, the accuracy in the height direction of the traveling shaft 60 may affect the straightness of the cutting line. When the glass substrate 1 fluctuates in the height direction, the cutting line does not enter stably, the cutting line does not reach a desired depth, or the cutting means 11 slips and cannot form the cutting line. May occur.

これに対しては、ガラス基板1を吸着保持して搬送する搬送テーブル30から、ガラス基板1の端部を所定量以上、少なくとも5mm以上、例えば30mm以上を飛び出すようにして設けることで、上記走行軸60の直進性に起因する搬送テーブル30における上下の変動を、上記の飛び出した領域で吸収し、かつ、ガイド部材により加工点においてガラス基板1の端面が安定的に支持されるので、切断線の形成領域へ影響が伝わることを抑制することができる。 On the other hand, by providing the end portion of the glass substrate 1 by a predetermined amount or more, at least 5 mm or more, for example, 30 mm or more, from the transport table 30 that sucks and holds the glass substrate 1 to transport, The vertical movement of the transport table 30 due to the straightness of the shaft 60 is absorbed in the above-mentioned protruding area, and the end surface of the glass substrate 1 is stably supported by the guide member at the processing point. It is possible to suppress the influence from being transmitted to the formation region of the.

また、上記走行軸60の進行方向のうねりの影響で、端面加工による端面の品質が安定しないという問題が発生する場合が考えられる。このような場合には、たとえば端面加工したガラス基板の端面の直進性を測定して、上記研削ホイール21のX軸方向(つまりガラス基板の面内であって基板搬送方向に直交する方向)の制御を行うことによって、加工精度を向上させ、端面品質を安定させることができる。たとえば、加工された端面の形状を測定し、測定された端面の形状に基づいて、加工工程におけるガラス基板に対する研削ホイールの軌跡である加工線を算出し、算出された加工線に基づいて、端面を均一に加工するために用いられる調整線を算出し、調整線が算出された場合において、ガラス基板に対する研削ホイール21の軌跡が上記調整線に沿うようにX軸方向の制御を行い、端面を加工する(本出願人の先に提案した特願2014−115299)。 In addition, there may be a problem that the quality of the end surface is not stable due to the end surface processing due to the undulation in the traveling direction of the traveling shaft 60. In such a case, for example, the straightness of the end surface of the glass substrate subjected to the end surface processing is measured to measure the straightness in the X-axis direction of the grinding wheel 21 (that is, in the plane of the glass substrate and orthogonal to the substrate transport direction). By performing the control, the processing accuracy can be improved and the end surface quality can be stabilized. For example, the shape of the processed end surface is measured, and based on the measured shape of the end surface, the processing line that is the locus of the grinding wheel for the glass substrate in the processing step is calculated, and based on the calculated processing line, the end surface is calculated. The adjustment line used to uniformly machine the workpiece is calculated, and when the adjustment line is calculated, control is performed in the X-axis direction so that the trajectory of the grinding wheel 21 with respect to the glass substrate follows the adjustment line, and the end surface is Processing (Japanese Patent Application No. 2014-115299 previously proposed by the applicant).

本発明において、上記ガラス基板1の厚さは、例えば0.01mm〜1.0mmである。また、本発明は、特に板厚が0.3mm以下(例えば、0.05〜0.3mm)の薄板のガラス基板の製造に好適である。 In the present invention, the glass substrate 1 has a thickness of, for example, 0.01 mm to 1.0 mm. Further, the present invention is particularly suitable for manufacturing a thin glass substrate having a plate thickness of 0.3 mm or less (for example, 0.05 to 0.3 mm).

ガラス基板は薄いほど、切断線の形成が不安定になったり、また、端部が撓みやすく、従来の端面加工前に行っていたアライメントが困難であったりするが、このような薄板のガラス基板の製造には、本発明の効果が顕著となる。従来のアライメントが難しい薄板のガラス基板の端面加工であっても、アライメントを行うことなく、切断された端面の加工を精度良く行うことが可能である。特に好ましくは、板厚が0.2mm以下のガラス基板の製造に好適であり、更に好ましくは、板厚が0.1mm以下のガラス基板の製造に好適である。 The thinner the glass substrate, the more unstable the formation of cutting lines, and the more easily the edges bend, making it difficult to perform alignment that was performed before the conventional end face processing. The effect of the present invention is remarkable in the production of Even in the conventional end face processing of a thin glass substrate which is difficult to be aligned, it is possible to accurately process the cut end face without performing alignment. Particularly preferably, it is suitable for manufacturing a glass substrate having a plate thickness of 0.2 mm or less, and more preferably suitable for manufacturing a glass substrate having a plate thickness of 0.1 mm or less.

以上説明したように、本発明によれば、板状に成形されたガラス基板を搬送テーブル上に載置した状態で、ガラス基板と搬送テーブルとを一体にガラス基板搬送経路を移動させることで、切断工程において切断手段により形成される切断線と、端面加工工程における端面加工の加工点とが、ガラス基板搬送経路に沿った同一線上に位置することになるので、従来行われていた端面加工前のアライメントを不要とし、アライメントを行うことなく、端面加工を精度良く行うことができる。これにより、高品質のガラス基板を製造することが可能である。 As described above, according to the present invention, in a state where the glass substrate formed into a plate shape is placed on the transport table, by moving the glass substrate and the transport table integrally in the glass substrate transport path, Since the cutting line formed by the cutting means in the cutting step and the processing point of the end surface processing in the end surface processing step are located on the same line along the glass substrate transport path, before the end surface processing that has been conventionally performed. No need for alignment, and end face processing can be performed accurately without alignment. As a result, it is possible to manufacture a high quality glass substrate.

以上、本発明の一実施の形態について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。 Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment and various modifications and changes may be made without departing from the scope of the present invention. is there.

(変形例)
上述の実施形態では、成形装置から供給された連続するシートガラスから分離された1枚のガラスの両端に形成される厚みのある外側領域(いわゆる耳部)を最初に切断除去しておき、得られたガラス基板1をさらに所定のサイズにするため上記切断工程により切断するようにしている。このような実施形態の変形例としては、上記の連続するシートガラスから分離された1枚のガラスに対して、上記のいわゆる耳部を最初に切断除去せずに、そのまま所定の製品サイズにするため上記切断工程により切断する構成とすることができる。この場合、切断工程において、上記耳部を含む製品領域外の端部が切断される。
(Modification)
In the above-described embodiment, the thick outer regions (so-called ears) formed at both ends of one sheet of glass separated from the continuous sheet glass supplied from the forming apparatus are first cut and removed to obtain The glass substrate 1 thus obtained is cut by the above-mentioned cutting process so as to have a predetermined size. As a modified example of such an embodiment, with respect to one piece of glass separated from the above continuous sheet glass, the so-called ears are not cut and removed first, and a predetermined product size is directly obtained. Therefore, it can be configured to be cut by the cutting step. In this case, in the cutting step, the end portion outside the product area including the ear portion is cut.

本変形例のように、耳部付きであれば、基板の剛性が高いので、枚葉切断してから加工工程に入るまでの取扱いが比較的容易である。特に、0.2mm以下の薄いガラスシートから分離されたガラス基板では、耳部を切断せずに加工装置まで搬送、ハンドリングすることで、ガラスの剛性を保持した状態で取り扱うことができるので好ましい。 As in this modification, if the substrate is provided with ears, the rigidity of the substrate is high, and therefore it is relatively easy to handle from the single wafer cutting to the processing step. In particular, a glass substrate separated from a thin glass sheet of 0.2 mm or less is preferable because it can be handled while maintaining the rigidity of the glass by carrying and handling it to a processing device without cutting the ears.

1 ガラス基板
1a ガラス基板の端面
2 製品領域外の端部
10 切断装置
11 切断手段
12 切断テーブル
20 端面加工装置
21 研削ホイール
22 研削溝
30 搬送テーブル
40 ガイド用テーブル
60 走行軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 1a End surface of glass substrate 2 End part outside product area 10 Cutting device 11 Cutting means 12 Cutting table 20 End surface processing device 21 Grinding wheel 22 Grinding groove 30 Conveying table 40 Guide table 60 Travel axis

Claims (4)

板状に成形されたガラス基板を切断手段により所定の幅に切断する切断工程と、切断されたガラス基板の端面に端面加工を施す端面加工工程とを有するガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板は、板厚が0.3mm以下であり、
前記端面加工工程において、前記ガラス基板の端面を、前記端面加工を施す装置に導くためのガイド手段を備え、
前記ガイド手段は、該ガイド手段を用いなかった場合の前記ガラス基板の端面の撓み量に応じて、前記切断工程後の前記ガラス基板の端面を、前記端面加工を施す装置の加工点に導くことができるように、前記端面の高さ方向である上下方向に移動可能に調整され、
前記板状に成形されたガラス基板を搬送テーブル上に載置した状態で、前記ガラス基板と前記搬送テーブルとを一体にガラス基板搬送経路を移動させることにより、前記切断工程において切断手段により形成される切断線と、前記端面加工工程における端面加工の加工点とが、前記ガラス基板搬送経路に沿った同一線上に位置し、前記端面加工工程前に前記端面のアライメントを行うことなく、前記切断工程および前記端面加工工程を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。
A glass substrate manufacturing method comprising a cutting step of cutting a glass substrate formed into a plate shape into a predetermined width by a cutting means, and an end surface processing step of applying an end surface processing to an end surface of the cut glass substrate,
The glass substrate has a plate thickness of 0.3 mm or less,
In the end face processing step, an end face of the glass substrate is provided with guide means for guiding the device to perform the end face processing,
The guide means guides the end surface of the glass substrate after the cutting step to a processing point of an apparatus for performing the end surface processing according to the amount of bending of the end surface of the glass substrate when the guide means is not used. So that it can be moved vertically in the height direction of the end face,
Formed in a state of mounting the glass substrate which is molded in the plate on the conveyor table, the Rukoto moving the glass substrate transport path are integrally and the glass substrate and the transfer table, the cutting means in the cutting step The cutting line and the processing point of the end surface processing in the end surface processing step are located on the same line along the glass substrate transport path, and the cutting is performed without performing alignment of the end surface before the end surface processing step. A method of manufacturing a glass substrate, which comprises performing a step and the end face processing step.
前記搬送テーブルは、前記ガラス基板搬送経路に設けられた走行軸上を移動することを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 The method of manufacturing a glass substrate according to claim 1, wherein the transport table moves on a traveling axis provided in the glass substrate transport path. 切断されるガラス基板の少なくとも一端に前記ガラス基板の中央領域とは厚みの異なる外側領域を有し、前記切断工程では前記外側領域を切断除去することを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス基板の製造方法。 It has different outer regions of thickness with the central region of the glass substrate to at least one end of the glass substrate to be cut, the cutting process according to claim 1 or 2, characterized in that cutting and removing the outer region Method for manufacturing glass substrate. 前記端面加工は、前記ガラス基板の端面に施す面取り加工であることを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法。 The end face processing, a glass substrate manufacturing method according to any one of claims 1 to 3, wherein the a chamfering applied to the end face of the glass substrate.
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