JP6744094B2 - プリント配線板用接着剤組成物、ボンディングフィルム、カバーレイ、銅張積層板及びプリント配線板 - Google Patents
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Description
式(1)中、R1は、2価のジアミンシロキサン残基である。
式(2)中、R2は、2価の芳香族ジアミン残基である。
上記式(1)中、mは、上記シロキサン変性ポリイミドの全構造単位における上記第1構造単位のモル比率を表し、0.35以上0.75以下である。
上記式(2)中、nは、上記シロキサン変性ポリイミドの全構造単位における上記第2構造単位のモル比率を表し、0.25以上0.65以下である。
但し、mとnとの合計が1を超える場合はない。)
本発明は、下記式(1)で表される第1構造単位及び下記式(2)で表される第2構造単位を含むシロキサン変性ポリイミドと、エポキシ樹脂と、無機フィラーとを含有し、上記シロキサン変性ポリイミドの重量平均分子量(Mw)が25,000以上150,000以下であり、上記無機フィラーの含有量が上記シロキサン変性ポリイミド100質量部に対して10質量部以上100質量部以下であるプリント配線板用接着剤組成物である。
式(1)中、R1は、2価のジアミンシロキサン残基である。
式(2)中、R2は、2価の芳香族ジアミン残基である。
上記式(1)中、mは、上記シロキサン変性ポリイミドの全構造単位における上記第1構造単位のモル比率を表し、0.35以上0.75以下である。
上記式(2)中、nは、上記シロキサン変性ポリイミドの全構造単位における上記第2構造単位のモル比率を表し、0.25以上0.65以下である。
但し、mとnとの合計が1を超える場合はない。)
このようにカバーレイが上記難燃性を有することで、当該カバーレイを使用するプリント配線板に好適な難燃性を付与することができ、自動車のエンジン周り等に好適に使用することができる。
カラム:GMH−HR−H
移動相:nメチルー2−ピロリドン
カラム温度:40℃
流速:0.5mL/分
試料濃度:1.0質量%
試料注入量:10μL
検出器:示差屈折計
標準物質:単分散ポリスチレン
以下、本発明のプリント配線板用接着剤組成物、ボンディングフィルム、カバーレイ、銅張積層板及びプリント配線板について説明する。
当該プリント配線板用接着剤組成物(以下「接着剤組成物」ともいう)は、シロキサン変性ポリイミドと、エポキシ樹脂と、無機フィラーとを含有するものである。当該接着剤組成物は、好適成分として硬化剤を含むことが望ましく、本発明の効果を損なわない範囲において、他の任意成分を含んでいてもよい。
シロキサン変性ポリイミドは、当該接着剤組成物における主たる接着成分である。このシロキサン変性ポリイミドは、下記式(1)で表される第1構造単位及び下記式(2)で表される第2構造単位を含む。
式(1)中、R1は、2価のジアミンシロキサン残基である。
式(2)中、R2は、2価の芳香族ジアミン残基である。
さらに、260℃程度のリフロー温度で接着剤組成物から形成される接着剤層の弾性率が低いことが原因で、接着剤層に残存する溶剤により膨れが生じるおそれがある。一方、シロキサン変性ポリイミドの重量平均分子量(Mw)が上記上限を超えると、シロキサン変性ポリイミドの分子鎖の凝集が生じ易くなり、剥離強度が低下するおそれがある。
シロキサン変性ポリイミドは、例えば酸無水物成分及びジアミン成分を有機溶媒に添加した反応溶液を用いてポリアミック酸溶液を生成させた後、加熱閉環(イミド化)させることにより重合体溶液として調製できる。
エポキシ樹脂は、当該接着剤組成物から形成される接着剤層の耐熱性及び機械的強度を向上させるものである。シロキサン変性ポリイミドの架橋剤として作用し得るものと推定される。このエポキシ樹脂でシロキサン変性ポリイミドを架橋することにより、接着剤組成物の凝集力が大きくなり、当該接着剤組成物から形成される接着剤層の耐熱性及び機械的強度が向上するものと推察される。また同様に高温高湿下における剥離強度の保持力も向上するが、これには凝集力の向上による透湿の抑制や、ポリイミドに比較して低い吸水率が影響しているものと推察される。このようなエポキシ樹脂としては、一分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂であれば特に制限ない。エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、アクリル酸変性エポキシ樹脂(エポキシアクリレート)、リン含有エポキシ樹脂、これらのハロゲン化物(臭素化エポキシ樹脂等)や水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂が耐熱性及び低吸湿性の観点から好ましい。例示したエポキシ樹脂は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
エポキシ樹脂の配合量の上限としては、上記シロキサン変性ポリイミド100質量部に対して50質量部が好ましく、40質量部がより好ましく、20質量部がさらに好ましい。
エポキシ樹脂の配合量が上記下限未満であると、上記シロキサン変性ポリイミドを十分に架橋することができず、耐熱性を十分に改善できないおそれがある。一方、エポキシ樹脂の配合量が上記上限を超えると、未架橋のエポキシ樹脂の割合が増え、却って耐熱性が低下するおそれがある。
硬化剤としては、公知のものを使用することができ、例えばフェノール樹脂、ポリアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、三フッ化ホウ素アミン錯塩、芳香族ジアミン系硬化剤、カルボン酸系硬化剤、メラミン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、フェノール樹脂が好ましい。例示した硬化剤は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
「スミカノール610」(田岡化学工業社);
「タマノル1010R」、「タマノル100S」、「タマノル510」、「タマノル7509」、「タマノル7705」(以上、荒川化学工業社);
「ショウノールCKM−1634」、「ショウノールCKM−1636」、「ショウノールCKM−1737」、「ショウノールCKM−1282」、「ショウノールCKM−904」、「ショウノールCKM−907」、「ショウノールCKM−908」、「ショウノールCKM−983」、「ショウノールCKM−2400」、「ショウノールCKM−941」、「ショウノールCKM−2103」、「ショウノールCKM−2432」、「ショウノールCKM−5254」、「BKM−2620」、「BRP−5904」、「RM−0909」、「BLS−2030」、「BLS−3574」、「BLS−3122」、「BLS−362」、「BLS−356」、「BLS−3135」、「CLS−3940」、「CLS−3950」、「BRS−324」、「BRS−621」、「BLL−3085」、「BRL−113」、「BRL−114」、「BRL−117」、「BRL−134」、「BRL−274」、「BRL−2584」、「BRL−112A」、「BRL−120Z」、「CKS−3898」(以上、昭和電工社);
「SP−460B」、「SP103H」、「HRJ−1367」(以上、スケネクタディーケミカル社);
「レジトップPL2211」(群栄化学工業社);
「PR−HF−3」、「PR−53194」、「PR−53195」(住友ベークライト社);
「ニカノールPR1440」、「ニカノールL」、「ニカノールP100」(株式会社フドー社);
「プライオーフェン5010」、「プライオーフェン503」、「TD−447」(DIC社)等が挙げられる。
無機フィラーは、当該接着剤組成物から形成される接着剤層のベースフィルム等に対する剥離強度及び機械的強度を向上させるものである。
無機フィラーのアスペクト比が上記下限未満であると、剥離強度を十分に向上させることができないおそれがある。一方、無機フィラーのアスペクト比が上記上限を超えると、接着剤層が脆弱化すると推定され、剥離強度が低下するおそれがある。
上記平均粒径の上限としては、20μmが好ましく、15μmがより好ましく、10μmがさらに好ましい。上記平均粒径が上記下限未満であると、剥離強度を十分に向上させることができないおそれがある。一方、上記平均粒径が上記上限を超えると、接着剤層が脆弱化し剥離強度が低下するおそれがある。
任意成分としては、可塑剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、酸化防止剤、隠蔽剤、滑剤、加工安定剤、発泡剤、カップリング剤等が挙げられる。
トリメチルホスヘート、トリエチルホスヘート、トリブチルホスヘート、トリ−2−エチルヘキシルホスヘート、トリブトキシエチルホスヘート、トリオレイルホスヘート、トリフェニルホスヘート、トリクレジルホスヘート、トリキシレニルホスヘート、クレジルジフェニルホスヘート、キシレニルジフェニルホスヘート、2−エチルヘキシルジフェニルホスヘート等のリン酸エステル系可塑剤;
アジピン酸1,3ブチレングリコール類等のポリエステル系可塑剤;
ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジ−n −オクチルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート等のフタル酸エステル系可塑剤;
ジメチルアジペート、ジイソブチルアジペート、ジブチルアジペート、ジ−2−エチルヘキシルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジブチルジグリコールアジペート、ジ−2−エチルヘキシルアゼレート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジ−2−エチルヘキシルセバケート、メチル−アセチルリシノレート等の脂肪酸エステル系可塑剤などが挙げられる。これらの可塑剤は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
難燃剤としては、例えば、
塩素化パラフィン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリフェニル、パークロルペンタシクロデカン等の塩素系難燃剤;
エチレンビスペンタブロモベンゼン、エチレンビスペンタブロモジフェニル、テトラブロモエタン、テトラブロモビスフェノールA、ヘキサブロモベンゼン、デカブロモビフェニルエーテル、テトラブロモ無水フタル酸、ポリジブロモフェニレンオキサイド、ヘキサブロモシクロデカン、臭化アンモニウム等の臭素系難燃剤;
トリアリルホスフェート、アルキルアリルホスフェート、アルキルホスフェート、ジメチルホスフォネート、ホスフォリネート、ハロゲン化ホスフォリネートエステル、トリメチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリス(クロロエチル)ホスフェート、トリス(2−クロロプロピル)ホスフェート、トリス(2,3−ジクロロプロピル)ホスフェート、トリス(2,3−ジブロモプロピル)ホスフェート、トリス(ブロモクロロプロピル)ホスフェート、ビス(2,3ジブロモプロピル)2,3ジクロロプロピルホスフェート、ビス(クロロプロピル)モノオクチルホスフェート、ポリホスホネート、ポリホスフェート、芳香族ポリホスフェート、ジブロモネオペンチルグリコール、トリス(ジエチルホスフィン酸)アルミ等のリン酸エステル又はリン化合物;
ホスホネート型ポリオール、ホスフェート型ポリオール、ハロゲン元素等のポリオール類;
水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、三酸化アンチモン、三塩化アンチモン、ホウ酸亜鉛、ホウ酸アンチモン、ホウ酸、モリブテン酸アンチモン、酸化モリブテン、リン・窒素化合物、カルシウム・アルミニウムシリケート、ジルコニウム化合物、錫化合物、ドーソナイト、アルミン酸カルシウム水和物、酸化銅、金属銅粉、炭酸カルシウム、メタホウ酸バリウム等の金属粉又は無機化合物;
メラミンシアヌレート、トリアジン、イソシアヌレート、尿素、グアニジン等の窒素化合物;
シリコーン系ポリマー、フェロセン、フマール酸、マレイン酸等のその他の化合物などが挙げられる。これらの中でも、臭素系難燃剤、塩素系難燃剤等のハロゲン系難燃剤が好ましい。臭素系難燃剤及び塩素系難燃剤は単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
当該接着剤組成物は、シロキサン変性ポリイミド、エポキシ樹脂及び無機フィラー、必要に応じてフェノール樹脂等の硬化剤、その他の任意成分を混合することによって調製することができる。当該接着剤組成物は、上記各成分を溶媒に溶解又は分散させた状態として調製することが好ましい。
当該ボンディングフィルムは、当該接着剤組成物から形成され、プリント配線板においてベースフィルムや導電パターンのランド等に電子部品等を実装するためのものである。
このボンディングフィルムは、公知の方法、例えば溶融押出成型法、溶液流延法、カレンダー法等により形成することができる。
当該カバーレイは、プリント配線板において導電パターン等を保護するものである。当該カバーレイは、カバーフィルムと、当該接着剤組成物から形成される接着剤層とを備える。
接着剤層がある程度の難燃性を有することで、カバーレイがVTM−0の難燃性を満たし、それにより当該カバーレイを使用するプリント配線板に難燃性を付与することができる。ここで、UL−94 VTM−0の難燃試験は、以下の標準サンプルを用いて行うものとする。
ポリイミドフィルム:東レ・デュポン社の「カプトン100H」(厚み25μm)
接着剤層の厚み:35μm
標準サンプルの作製方法:ポリイミドフィルム、接着剤及びポリイミドフィルムを積層し加熱加圧して接着する。なお、今回の評価では、加圧力を3MPa、加熱温度を180℃、加圧時間を45分として熱圧着することで標準サンプルを作製した。
カバーフィルムは、可撓性及び絶縁性を有することが好ましい。カバーフィルムの主成分としては、例えばポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、フッ素樹脂、液晶ポリマー等が挙げられる。特に、耐熱性の観点からポリイミド樹脂が好ましい。
なお、このカバーフィルムは、主成分以外の他の樹脂、耐候剤、帯電防止剤等が含有されていてもよい。
一方、カバーフィルムの平均厚みが上記上限を超えると、導電パターン等の保護効果の上積みが少なくなるおそれがあると共に、カバーフィルムに可撓性が求められる場合には可撓性が不十分となるおそれがある。
接着剤層は、カバーフィルムに積層され、このカバーフィルムをプリント配線板のベースフィルム等に接着するものである。この接着剤層は、上述した当該接着剤組成物から形成される。
当該銅張積層板は、プリント配線板を形成するために使用されるものである。当該銅張積層板は、ベースフィルムと、このベースフィルムの一方又は両方の面の積層される接着剤層と、この接着剤層に積層される銅箔とを備える。当該銅張積層板は、銅箔に積層される表面処理層を有していてもよい。
ベースフィルムは絶縁性を有し、可撓性を有することが好ましい。このベースフィルムの主成分としては、例えばポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、フッ素樹脂、液晶ポリマー等が挙げられ、可撓性及び強度の観点からポリイミド樹脂が好ましい。
ベースフィルム
接着剤層は、ベースフィルムに積層され、このベースフィルムに銅箔を接着するものである。この接着剤層は、上述した当該接着剤組成物から形成される。接着剤層の平均厚みは、特に制限がないが、5μm以上100μm以下が好ましく、10μm以上75μm以下がより好ましい。接着剤層の平均厚みが5μmよりも小さいと、又は100μmよりも大きいと、塗膜の形成が困難となるおそれがある。また、接着剤層の平均厚みが大きいほど接着剤の塗工、乾燥時の反りが大きくなり易く、また接着剤層中の残留溶剤量が多くなるためリフロー時にそれらが気化しボイドとなり剥離強度の低下や外観不良を引き起こす可能性が高くなる。接着剤層には導体を埋め込むことのできる厚みを有することが要求されるため導体が厚い場合には接着剤層も厚くする必要がある。本発明の接着剤組成物は、従来の接着剤組成物と比べて反りや耐熱性に優れるために接着剤層の厚みを大きくすることができ、車載用途等の大電流を流すことが必要な厚い導体に対応することができる。
銅箔は、エッチング等されることでプリント配線板の導体パターンを構成するものである。この銅箔はさらに表面処理層を有していてもよい。銅箔の平均厚みの下限としては、特に限定はないが、5μmが好ましく、10μmがより好ましい。銅箔の平均厚みの上限としては、特に限定はないが、100μmが好ましく、75μmがより好ましい。特に車載用途等の大電流を流すことが必要な場合は、銅箔の平均厚みは、50μm以上100μm以下が望ましい。この平均厚みが上記下限未満であると、導通性が不十分となるおそれがある。一方、上記平均厚みが上記上限を超えると可撓性が低下するおそれがあると共に薄型化の要請に反するおそれがある。
表面処理層は、銅箔からの導電成分の漏出又は銅箔への導電成分に対する反応性成分(酸素、硫黄等)の拡散を防止するものである。すなわち、表面処理層は、耐油性を向上させる役割も果たす。この表面処理層は、銅箔の表面を被覆しており、銅箔の側面を一連に被覆していてもよい。表面処理層の材質としては、銅箔からの導電成分の漏出又は銅箔への反応性成分の拡散を防止できるものであれば特に限定されず、例えば金属、樹脂、セラミック、それらの混合物等が挙げられる。中でも、表面処理層の材質としては、Ni、Sn、Alが好ましい。
図1のプリント配線板1は、可撓性を有するフレキシブルプリント配線板として構成されている。このプリント配線板1は、ベースフィルム2、導電パターン3及びカバーレイ4を備える。
ベースフィルム2は、絶縁性及び可撓性を有する。このベースフィルム2の主成分としては、例えばポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、フッ素樹脂、液晶ポリマー等が挙げられ、可撓性及び強度の観点からポリイミド樹脂が好ましい。なお、このベースフィルム2は、主成分以外の他の樹脂、耐候剤、帯電防止剤等が含有されていてもよい。
導電パターン3は、ベースフィルム2の表面側に積層されるものである。この導電パターン3は、ベース導体30を有している。導電パターン3は、さらに表面処理層31を有していても良い。
ベース導体30は、例えば銅、アルミニウム等の金属箔をエッチングすることによって所望のパターンに形成されている。このベース導体30の平均厚みの下限としては、特に限定はないが、2μmが好ましく、5μmがより好ましい。ベース導体30の平均厚みの上限としては、特に限定はないが、100μmが好ましく、75μmがより好ましい。この平均厚みが上記下限未満であると、導通性が不十分となるおそれがある。一方、上記平均厚みが上記上限を超えると可撓性が低下するおそれがあると共に薄型化の要請に反するおそれがある。
表面処理層31は、ベース導体30からの銅等の導電成分の漏出又はベース導体30への導電成分に対する酸素や硫黄等の反応性成分の拡散を防止するものである。すなわち、表面処理層31は、耐油性を向上させる役割も果たす。この表面処理層31は、銅張積層板の表面処理層と同様なものであるため、重複説明は省略する。
カバーフィルム40は、可撓性を有するものであり、絶縁性を有することが好ましい。
カバーフィルム40の主成分としては、例えばポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、フッ素樹脂、液晶ポリマー等が挙げられる。特に、耐熱性の観点からポリイミド樹脂が好ましい。なお、このカバーフィルム40は、主成分以外の他の樹脂、耐候剤、帯電防止剤等が含有されていてもよい。
接着剤層41は、カバーフィルム40に積層され、このカバーフィルム40をベースフィルム2及び導電パターン3に接着するものである。この接着剤層41は、上述の当該接着剤組成物から形成されるものである。
このように剥離強度が上記範囲であることで、プリント配線板1は、自動車のエンジン周り等の高温環境下においても好適に使用することができる。なお、上記剥離強度の上限としては、特に制限はないが、高いほどよい。
次に、当該プリント配線板1を製造する方法について図2A〜図2Dを参酌しつつ説明する。当該プリント配線板1の製造方法は、絶縁性及び可撓性を有するベースフィルム2を用い、このベースフィルム2の表面側に積層される銅製の導電パターン3を形成する工程と、ベースフィルム2の表面側にカバーレイ4を積層する工程とを備える。本実施形態では、表面処理層31がNiメッキの場合を説明する。
導電パターン形成工程は、図2A〜図2Cに示すようにベースフィルム2に銅箔(銅膜)3Aを積層した銅張積層板5を用い、銅箔3Aをパターニングすることで所定の平面形状のベース導体30を形成した後、このベース導体30に表面処理層31を形成することで行われる。
図2Aに示す銅張積層板5としては、ベースフィルム2に銅箔3Aを積層したものである。ベースフィルム2に銅箔3Aを積層する方法としては、例えばベースフィルム2に接着剤を用いて銅箔3Aを貼り合わせる接着法、銅箔3A上にベースフィルム2の材料である樹脂組成物を塗布するキャスト法、ベースフィルム2上にスパッタリングや蒸着法等で厚み数nmの薄い導電層(シード層)を形成した後、このシード層上に電解メッキで金属層を形成するスパッタ/メッキ法、金属箔を熱プレスで貼り付けるラミネート法等が挙げられる。
図2Bに示すように、銅箔3Aのパターニングは、公知の方法、例えばフォトエッチングにより行うことができる。フォトエッチングは、銅箔3Aの表面に所定のパターンを有するレジスト膜を形成した後に、レジスト膜から露出する銅箔3Aをエッチング液で溶解させ、レジスト膜を除去することにより行われる。
図2Cに示すように、表面処理層31は、例えばベース導体30にNiをメッキ処理することで形成される。このメッキ処理としては、電解メッキ及び無電解メッキを用いることができる。無電解メッキを用いれば容易かつ確実に表面処理層31の厚みを均一にすることができる。一方、電解メッキを用いることで、緻密な表面処理層31を形成することができ、またベース導体30の側面に容易に表面処理層31を設けることができる。特に薄くて均一な厚みの表面処理層31を安価な設備でメッキできる無電解メッキを用いることが好ましい。
図2Dに示すように、カバーレイ積層工程においては、まずカバーフィルム40の片面に接着剤層41を積層したカバーレイ4を、接着剤層41側を表面処理層31及びベースフィルム2に対向させた状態で載置する。なお、導電パターン3のランドに対応する箇所は、カバーレイ4を載置しないか、カバーレイ4に切欠を設けておいて露出させる。続いて、ベースフィルム2及び導電パターン3と共にカバーレイ4を加熱し接着剤層41を硬化させる。この加熱温度としては、120℃以上200℃以下が好ましく、加熱時間としては1分以上60分以下が好ましい。加熱温度及び加熱時間を上記範囲とすることで、接着剤層41の接着性を効果的に発揮できると共にベースフィルム2等の変質を抑制することができる。加熱方法としては、特に限定されず、例えば熱プレス、オーブン、ホットプレート等の加熱手段を用いて加熱する方法等が挙げられ、熱プレスによる加圧加熱が好ましい。
当該接着剤組成物は、ジアミンシロキサン残基を含む上記式(1)で表される構造単位、及び芳香族ジアミンを含む上記式(2)で表される構造単位を有するシロキサン変性ポリイミドを含有する。このシロキサン変性ポリイミドは、上記式(1)及び式(2)で表される構造単位の比率が、それぞれ0.35以上0.75以下と0.25以上0.65以下であり、分子中のシロキサン残基の数が芳香族ジアミン残基と同程度とされている。このように、当該接着剤組成物に用いられる上記シロキサン変性ポリイミドは、短期耐熱性を低下させ得るシロキサン残基が過剰に含まれるものではない。その結果、当該接着剤組成物は、接着剤層の短期耐熱性の低下を抑制できる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
酸無水物成分及びジアミン成分の種類及び配合比を表1に示す通りとし、以下に示す方法によりシロキサン変性ポリイミド(A1)〜(A11)を合成した。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に酸無水物としての3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.4:0.6のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリイミド前駆体溶液中のポリアミド樹脂の含有量が30質量%となる量に設定した。
反応溶液の温度として180℃で14時間反応させることでポリアミック酸を生成させてシロキサン変性ポリイミド前駆体溶液を得た以外は合成例1と同様にし、シロキサン変性ポリイミド(A2)を含む重合体溶液を得た。なお、シロキサン変性ポリイミド(A2)の重量平均分子量(Mw)は、75,000であった。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に、酸無水物としての3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.6:0.4のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリアミド樹脂の含有量が30質量%となる量に設定した。
なお、シロキサン変性ポリイミド(A3)の重量平均分子量(Mw)は、42,000であった。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に、酸無水物としての3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.5:0.5のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリイミド前駆体溶液中のポリアミド樹脂の含有量が30質量%となる量に設定した。
なお、シロキサン変性ポリイミド(A4)の重量平均分子量(Mw)は、64,000であった。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に、酸無水物としての4,4’−オキシジフタル酸無水物(ODPA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.5:0.5のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリアミド樹脂の含有量が30質量%となる量に設定した。
なお、シロキサン変性ポリイミド(A5)の重量平均分子量(Mw)は、45,000であった。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に、酸無水物としての3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.4:0.6のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリアミド樹脂含有量が30質量%となる量に設定した。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に、酸無水物としての3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.3:0.7のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリイミド前駆体溶液中のポリアミック酸の含有量が30質量%となる量に設定した。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に、酸無水物としての3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.4:0.6のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリイミドの含有量が30重量%となる量に設定した。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に、酸無水物としての3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.25:0.75のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリイミド前駆体溶液中のポリアミック酸の含有量が30質量%となる量に設定した。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に、酸無水物としての3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.2:0.8のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリイミド前駆体溶液中のポリアミック酸の含有量が30質量%となる量に設定した。
有機溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に、酸無水物としての3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、芳香族ジアミンとしての2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン(BAPP)及びシロキサンジアミンとしての上記式(9)で表わされるアミン当量が420g/eqの化合物(PSA)を1.0:0.1:0.9のモル比で添加して反応溶液を得た。なお、反応溶液における有機溶媒の配合量は、シロキサン変性ポリイミド前駆体溶液中のポリアミック酸の含有量が30質量%となる量に設定した。
(実施例1)
溶媒としてのN−メチル−2−ピロリドンとキシレンの1:1混合溶媒(質量比)に溶解したシロキサン変性ポリイミド(A1)100質量部(固形分相当量)、無機フィラーとしてのタルク(日本タルク社の「MICRO ACE K1」:平均粒径8μm)45質量部、エポキシ樹脂(DIC社の「EPICLON N695」(軟化点90℃〜100℃、エポキシ等量209g/eq〜219g/eq))4質量部、及び硬化剤としてのフェノール樹脂(日本化薬社の「GPH−65」)3質量部を混合することで接着剤組成物を得た。
下記表2に示す種類及び含有量の成分を用いた以外は、実施例1と同様に操作し、接着剤組成物を調製した。なお、表2中の「−」は、該当する成分を配合しなかったことを示す。
評価試料としては、下記方法に従い、図3に示す両面銅張積層板(評価試料1)、図4に示すカバーレイ付銅張積層板(評価試料2)、この評価試料2の銅箔にニッケルメッキ処理を施したカバーレイ付銅張積層板(評価試料3)、及び図5に示す孔付き片面銅張積層板(評価試料4)を作製した。
図3の評価試料1は、厚みが45μm〜55mとなるように接着剤組成物を塗工した2枚の銅箔(厚み35μm)により、ポリイミドフィルム(東レ・デュポン社の「カプトン100H」;厚み25μm)を、加圧力を3MPa、加熱温度を180℃、加圧時間を45分として熱圧着することで作製した。また、銅箔としては、カッパーブライトで防錆処理したものを用いた。この防錆処理は、水溶性高分子であるポリオキシエチレンアルキルエーテルをイソプロピルアルコール及びヒドロキシ酪酸に溶解させた防錆溶液を用いて行った。なお、接着剤組成物は両面で同じものを使用した。
図4の評価試料2は、ポリイミドフィルム東レ・デュポン社の「カプトン100H」に厚みが45μm〜55μmとなるように接着剤組成物を塗工したカバーレイを、表面にカッパーブライト処理を施した厚み35μmの銅箔から成る銅張積層板に貼着することで作製した。カバーレイの貼着は、加圧力を3MPa、加熱温度を180℃、加圧時間を45分として熱圧着することで行った。なお、銅張積層板としては、厚み35μmの銅箔と厚み25μmのポリイミドフィルム(カプトン100H)をエポキシ樹脂系の接着剤で貼り合わせたものを使用した。なお、銅箔表面は評価試料1と同様にカッパーブライトで防錆処理している。
評価試料3は、図4の評価試料2の作製において、銅張積層板に無電解ニッケルメッキ処理を施すことで銅箔表面に厚みが0.1μmの表面処理層を形成した以外は、評価試料2と同様にして作製した。
図4の評価試料4の作製に当たっては、まず、ポリイミドフィルム東レ・デュポン社の「カプトン100H」に厚み45μm〜55μmとなるように接着剤組成物を塗工したカバーレイを形成した。次いで、このカバーレイに直径1.5mmの円形孔を開けた後、表面にカッパーブライト処理を施した厚み35μmの銅箔から成る銅張積層板にカバーレイを載置して加圧加熱して接着剤層を硬化させることで評価試料4を作製した。上記加圧加熱は加圧力を3MPa、加熱温度を180℃、加圧時間を45分として熱圧着することで行った。なお、銅箔としては、評価試料1と同様な手法によりカッパーブライトで防錆処理したものを用いた。
実施例1〜7及び比較例1〜9の接着剤脂組成物を使用した評価試料1〜4について、下記の手法に従い、流れ出し、剥離強度1〜6、リフロー耐熱性及び半田耐熱性の評価を実施した。評価結果を表3に示す。なお、表3における評価項目の「−」は、未評価(評価できなかった)であることを意味する。また、表中の(*)はATFオイルの染み込みが確認されたことを意味する。
剥離強度は、以下の条件で、JIS−K−6854−2:1999「接着剤−はく離接着強さ試験方法−第2部:180度はく離」に準じてピール強度として測定した。
この剥離強度は、島津製作所社の引張試験機「オートグラフAG−IS」を用いて測定した。なお、剥離強度の測定においては、評価試料2又は評価試料3の銅張積層板の端部の全体を挟むと共に、ポリイミドフィルムを固定して引きはがし力を作用させることで測定した。
剥離強度2:評価試料2を150℃で1,000時間放置した後の常温での剥離強度
剥離強度3:ニッケルメッキ処理を施した評価試料3を、150℃で1,000時間放置した後の常温での剥離強度
剥離強度4:評価試料2をトヨタ自動車社のATFオイル「トヨタ純正オートフルード(WS)」に浸漬した状態とし、150℃で1,000時間放置した後の常温での剥離強度
剥離強度5:評価試料2を作製した初期の150℃での剥離強度
剥離強度6:評価資料1を85℃、85%で1,000時間放置した後の常温での剥離強度
剥離強度7:評価試料2を150℃のトヨタ自動車社のATFオイル「トヨタ純正オートフルード(WS)」のオイルミスト中に1,000時間放置した後の常温での剥離強度
リフロー耐熱性は、評価試料1又は評価試料2を260℃の恒温槽に1分放置した後に変形の有無を確認することで評価した。評価基準は、以下の通りである。なお、表3におけるリフロー耐熱性1は評価試料1を用いた結果であり、リフロー耐熱性2は評価試料2を用いた結果である。
B:変形が認められる
流れ出しは、円形孔を形成した評価試料4について、160℃、45分間、3Mpaの条件でプレスした後、平面視における円形孔の内面からの接着剤の流出距離d(図6参照)を測定することで評価した。なお、接着剤組成物には、流出距離が200μm未満であることが求められる。
半田耐熱性は、評価試料1について、340℃に加熱した半田浴に1分間浸漬後、引き上げて膨れの有無を目視で確認した。表中、Aは膨れが認められない、Bは膨れが認められる、である。
参考例1〜4の接着剤組成物は、無機フィラーとして表4に示す平均粒径及びアスペクト比のものを用いた以外は比較例3と同様にして調製した。また、なお、表4に示す無機フィラーB1〜B5は下記の通りである。
B2:日本タルク社の「MICRO ACE P8」
B3:日本タルク社の「GAT−40」
B4:日本タルク社の「MICRO ACE P2」
B5:日本ミストロン社の「ミストロンベーパータルク」
シロキサン変性ポリイミドのジアミン成分における芳香族ジアミンとシロキサンジアミンの配合比率を変えた試料を用いて、耐熱性、耐湿性、流れ出し特性及び耐油性に加え、難燃性と耐油ミスト性を加えた総合的な信頼性を評価した。難燃性試験は、先に記載の標準サンプルを作成し、V-0難燃性を測定した。耐油ミスト性は先に記載の剥離強度7の測定方法に従って実施した。結果を表5に示す。
汎用品を比較試料として実施例の半田耐熱性の評価を実施した。実施例1の接着剤組成物を用いて作製した評価試料1に対し、比較試料として、汎用品のプリント配線板に用いられる通常のエポキシ系接着剤組成物を用いて作製した評価試料を準備した。所定温度に加熱した半田浴に1分間浸漬後、引き上げて膨れの有無を目視で確認した。表中、Aは膨れが認められない、Bは膨れが認められる、である。両者の評価結果を表6に示した。
近年、自動車用途で150℃耐熱信頼性(クラス2)を上回る175℃耐熱信頼性(クラス3)の要求が高まっている。しかし、プリント配線板についての報告例はなく、その適用は進んでいない。そこで、実施例1の接着剤組成物を用いて作製した評価試料3を使って175℃耐熱信頼性の評価を実施した。評価方法は試料を175℃雰囲気に規定の時間放置した後に常温での剥離強度を測定した。評価結果を表7に示す。
2 ベースフィルム
3 導電パターン
3A 銅箔
30 ベース導体
31 表面処理層
4 カバーレイ
40 カバーフィルム
41 接着剤層
5 銅張積層板
Claims (17)
- 下記式(1)で表される第1構造単位及び下記式(2)で表される第2構造単位を含むシロキサン変性ポリイミドと、
エポキシ樹脂(但し、リン含有エポキシ樹脂を除く)と、
無機フィラーとを含有し、
上記シロキサン変性ポリイミドの重量平均分子量(Mw)が25,000以上150,000以下であり、
上記エポキシ樹脂がクレゾールノボラック型エポキシ樹脂であり、
上記無機フィラーの含有量が上記シロキサン変性ポリイミド100質量部に対して10質量部以上50質量部以下であるプリント配線板用接着剤組成物。
(式(1)及び式(2)中、Arは、4価の芳香族テトラカルボン酸残基である。
式(1)中、R1は、2価のジアミンシロキサン残基である。
式(2)中、R2は、2価の芳香族ジアミン残基である。
上記式(1)中、mは、上記シロキサン変性ポリイミドの全構造単位における上記第1構造単位のモル比率を表し、0.35以上0.75以下である。
上記式(2)中、nは、上記シロキサン変性ポリイミドの全構造単位における上記第2構造単位のモル比率を表し、0.25以上0.65以下である。
但し、mとnとの合計が1を超える場合はない。) - 下記式(1)で表される第1構造単位及び下記式(2)で表される第2構造単位を含むシロキサン変性ポリイミドと、
エポキシ樹脂(但し、リン含有エポキシ樹脂を除く)と、
無機フィラーとを含有し、
上記シロキサン変性ポリイミドの重量平均分子量(Mw)が25,000以上150,000以下であり、
上記エポキシ樹脂がクレゾールノボラック型エポキシ樹脂であり、
上記エポキシ樹脂の含有量が上記シロキサン変性ポリイミド100質量部に対して20質量部以下であり、
上記無機フィラーの含有量が上記シロキサン変性ポリイミド100質量部に対して10質量部以上100質量部以下であるプリント配線板用接着剤組成物。
(式(1)及び式(2)中、Arは、4価の芳香族テトラカルボン酸残基である。
式(1)中、R1は、2価のジアミンシロキサン残基である。
式(2)中、R2は、2価の芳香族ジアミン残基である。
上記式(1)中、mは、上記シロキサン変性ポリイミドの全構造単位における上記第1構造単位のモル比率を表し、0.35以上0.75以下である。
上記式(2)中、nは、上記シロキサン変性ポリイミドの全構造単位における上記第2構造単位のモル比率を表し、0.25以上0.65以下である。
但し、mとnとの合計が1を超える場合はない。) - 上記mは0.35以上0.65以下であり、上記nは0.35以上0.65以下である請求項1又は請求項2に記載のプリント配線板用接着剤組成物。
- 上記mは0.6であり、上記nは0.4である請求項3に記載のプリント配線板用接着剤組成物。
- 上記無機フィラーの平均粒径が2μm以上20μm以下である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のプリント配線板用接着剤組成物。
- 上記無機フィラーが板状であり、
上記無機フィラーのアスペクト比が5以上100以下である請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプリント配線板用接着剤組成物。 - 上記無機フィラーの平均粒径が2μm以上20μm以下であり、
上記無機フィラーのアスペクト比が7以上10以下である請求項6に記載のプリント配線板用接着剤組成物。 - フェノール樹脂を更に含有する請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のプリント配線板用接着剤組成物。
- 請求項1又は請求項2に記載のプリント配線板用接着剤組成物から形成されるプリント配線板用ボンディングフィルム。
- カバーフィルムと、このカバーフィルムの一方の面に積層され、かつ請求項1又は請求項2に記載のプリント配線板用接着剤組成物から形成される接着剤層とを備えるプリント配線板用カバーレイ。
- ベースフィルムと、このベースフィルムの一方又は両方の面に積層され、かつ請求項1又は請求項2に記載のプリント配線板用接着剤組成物から形成される接着剤層と、この接着剤層に積層される銅箔とを備える銅張積層板。
- ベースフィルムと、このベースフィルムに直接又は他の層を介して積層される導電パターンと、上記ベースフィルム及び導電パターンに積層されるカバーレイとを備えるプリント配線板であって、
上記カバーレイが、請求項10に記載のプリント配線板用カバーレイであるプリント配線板。 - 上記導電パターンが、ベース導体と、このベース導体における外表面の少なくとも一部に形成される表面処理層とを有し、
この表面処理層の主成分がニッケル(Ni)、スズ(Sn)又はアルミニウム(Al)である請求項12に記載のプリント配線板。 - 150℃の大気中に1,000時間放置した後の上記カバーフィルムと導体パターンとの剥離強度が、5N/cm以上である請求項12又は請求項13に記載のプリント配線板。
- 150℃のATFオイルに1,000時間浸漬した後の上記カバーフィルムと導体パターンとの剥離強度が、2N/cm以上である請求項12又は請求項13に記載のプリント配線板。
- 85℃、85%の大気中に1,000時間放置した後の上記カバーレイと導体パターンとの剥離強度が4N/cm以上である請求項12又は請求項13に記載のプリント配線板。
- 340℃、60秒の半田耐熱性を有する請求項12又は請求項13に記載のプリント配線板。
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