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JP6767441B2 - Copper foil with minimized sagging, wrinkles and tearing, electrodes containing it, secondary batteries containing it, and methods for manufacturing them. - Google Patents
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Copper foil with minimized sagging, wrinkles and tearing, electrodes containing it, secondary batteries containing it, and methods for manufacturing them. Download PDF

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Description

本発明はたるみ、しわ及び引裂が最小化した銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a copper foil with minimized sagging, wrinkles and tears, an electrode containing the same, a secondary battery containing the same, and a method for manufacturing the same.

銅箔は二次電池の負極、フレキシブルプリント回路基板(Flexible Printed Circuit Board:FPCB)などの多様な製品の製造に用いられている。 Copper foil is used in the manufacture of various products such as negative electrodes of secondary batteries and flexible printed circuit boards (FPCBs).

一方、電気メッキによって製造された銅箔を電解銅箔とも言う。このような電解銅箔は、一般的にロールツーロール(Roll To Roll:RTR)工程で製造される。ロールツーロール(RTR)工程によって製造された電解銅箔はロールツーロール(RTR)工程による二次電池の負極、フレキシブルプリント回路基板(FPCB)などの製造に用いられる。連続生産が可能であるから、ロールツーロール工程は製品の大量生産に適した工程であると知られている。ところが、ロールツーロール工程中に銅箔が折れるか、裂けるか、又は銅箔のたるみ(bagginess)又はしわ(wrinkle)が発生する場合、ロールツーロール工程設備の稼働を中断し、発生した問題を解決した後、設備を再稼動しなければならないため、生産性が低下する。 On the other hand, the copper foil produced by electroplating is also called electrolytic copper foil. Such electrolytic copper foils are generally manufactured in a roll-to-roll (RTR) process. The electrolytic copper foil produced by the roll-to-roll (RTR) process is used for producing a negative electrode of a secondary battery, a flexible printed circuit board (FPCB), etc. by the roll-to-roll (RTR) process. Since continuous production is possible, the roll-to-roll process is known to be a process suitable for mass production of products. However, if the copper foil breaks or tears during the roll-to-roll process, or if the copper foil sags or wrinkles, the operation of the roll-to-roll process equipment is interrupted, causing problems. After the solution, the equipment must be restarted, which reduces productivity.

特に、銅箔を用いて二次電池を製造する工程中に銅箔にたるみ、しわ又は引裂(tear)が発生する場合、安定的な製品生産が難しくなる。二次電池の製造工程で発生する銅箔のたるみ、しわ又は引裂は二次電池の製造収率を低下させ、製品の製造コストを高める要因となる。 In particular, when sagging, wrinkling, or tearing occurs in the copper foil during the process of manufacturing the secondary battery using the copper foil, stable product production becomes difficult. The sagging, wrinkling, or tearing of the copper foil generated in the manufacturing process of the secondary battery is a factor that lowers the manufacturing yield of the secondary battery and increases the manufacturing cost of the product.

銅箔で発生するたるみ、しわ又は引裂不良の原因のうち、銅箔そのものに起因する原因を解決する方法として、銅箔の重量偏差を低い水準に制御する方法が知られている。しかし、銅箔の重量偏差の制御のみでは二次電池の製造工程で発生する銅箔のたるみ、しわ又は引裂の問題を解決するのには限界がある。特に、近年、二次電池の容量増大のために超薄型の銅箔、例えば8μm以下の厚さを有する銅箔が負極集電体として使われる比率が増加している。この場合、銅箔の重量偏差を精密に制御しても、二次電池の製造工程でたるみ、しわ又は引裂不良が間欠的に発生している。よって、銅箔にたるみ、しわ又は引裂が発生することを防止するか抑制することが必要である。 Among the causes of sagging, wrinkling, or tear failure generated in the copper foil, a method of controlling the weight deviation of the copper foil to a low level is known as a method of solving the cause caused by the copper foil itself. However, there is a limit in solving the problem of sagging, wrinkling, or tearing of the copper foil that occurs in the manufacturing process of the secondary battery only by controlling the weight deviation of the copper foil. In particular, in recent years, in order to increase the capacity of a secondary battery, the ratio of ultra-thin copper foil, for example, a copper foil having a thickness of 8 μm or less, is increasing as a negative electrode current collector. In this case, even if the weight deviation of the copper foil is precisely controlled, sagging, wrinkling, or tear failure occurs intermittently in the manufacturing process of the secondary battery. Therefore, it is necessary to prevent or suppress the occurrence of sagging, wrinkling or tearing of the copper foil.

本発明はこのような問題点を解決することができる銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、及びその製造方法を提供しようとする。 The present invention attempts to provide a copper foil capable of solving such problems, an electrode containing the copper foil, a secondary battery including the copper foil, and a method for manufacturing the same.

本発明の一実施例はたるみ、しわ又は引裂が最小化した銅箔を提供しようとする。本発明の一実施例は、特に、小さい厚さを有しても、製造工程でたるみ、しわ又は引裂の発生を防止して、優れたロールツーロール(RTR)工程性を有する銅箔を提供しようとする。 One embodiment of the present invention seeks to provide a copper foil with minimal sagging, wrinkling or tearing. One embodiment of the present invention provides a copper foil that has excellent roll-to-roll (RTR) processability, especially by preventing the occurrence of sagging, wrinkling or tearing in the manufacturing process, even if it has a small thickness. try to.

本発明の他の一実施例はこのような銅箔を含む二次電池用電極及びこのような二次電池用電極を含む二次電池を提供しようとする。 Another embodiment of the present invention is intended to provide a secondary battery electrode including such a copper foil and a secondary battery including such a secondary battery electrode.

本発明のさらに他の一実施例はこのような銅箔を含む軟性銅箔積層フィルムを提供しようとする。 Yet another embodiment of the present invention attempts to provide a flexible copper foil laminated film containing such a copper foil.

本発明のさらに他の一実施例は、製造工程中のたるみ、しわ又は引裂の発生を防止することができる銅箔の製造方法を提供しようとする。 Yet another embodiment of the present invention seeks to provide a method of making a copper foil that can prevent the occurrence of sagging, wrinkling or tearing during the manufacturing process.

前述した本発明の観点の他にも、本発明の他の特徴及び利点は以下で説明されるか、そのような説明によって本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明らかに理解可能であろう。 In addition to the above-mentioned viewpoints of the present invention, other features and advantages of the present invention will be described below, or such description will be clearly understandable to those who have ordinary knowledge in the art to which the present invention belongs. Will.

このような課題を解決するために、本発明の一実施例は、銅層を含み、29〜65kgf/mmの引張強度、18〜148μmの粗度プロファイル要素平均間隔(mean width of roughness profile elements)(Rsm)、及び0.52以下の集合組職係数バイアス[TCB(220)]、を有する銅箔を提供する。 In order to solve such a problem, one embodiment of the present invention includes a copper layer, has a tensile strength of 29 to 65 kgf / mm 2 , and has a roughness profile element average spacing of 18 to 148 μm (mean width of roofness profile elements). ) (Rsm), and a set employment coefficient bias [TCB (220)] of 0.52 or less.

前記銅箔は、前記銅層上に配置された防錆膜をさらに含むことができる。 The copper foil may further include a rust preventive film disposed on the copper layer.

前記防錆膜は、クロム(Cr)、シラン化合物及び窒素化合物の少なくとも1種を含むことができる。 The rust preventive film can contain at least one of chromium (Cr), a silane compound and a nitrogen compound.

前記銅箔は、0.6μm以上の最大高さ粗度(Rmax)を有することができる。 The copper foil can have a maximum height roughness (Rmax) of 0.6 μm or more.

前記銅箔は、5%以下の重量偏差を有することができる。 The copper foil can have a weight deviation of 5% or less.

前記銅箔は、25±15℃の常温で2%以上の伸び率を有することができる。 The copper foil can have an elongation rate of 2% or more at room temperature of 25 ± 15 ° C.

前記銅箔は、4μm〜30μmの厚さを有することができる。 The copper foil can have a thickness of 4 μm to 30 μm.

本発明の他の一実施例は、前記銅箔、及び前記銅箔上に配置された活物質層、を含む二次電池用電極を提供する。 Another embodiment of the present invention provides an electrode for a secondary battery including the copper foil and an active material layer arranged on the copper foil.

本発明のさらに他の一実施例は、正極(cathode)、前記正極と対向して配置された負極(anode)、前記正極と前記負極の間に配置され、イオンが移動することができる環境を提供する電解質(electrolyte)、及び前記正極と前記負極を電気的に絶縁させる分離膜(separator)、を含み、前記負極は、前記銅箔、及び前記銅箔上に配置された活物質層、を含む二次電池を提供する。 Yet another embodiment of the present invention provides a cathode, a negative electrode arranged to face the positive electrode, and an environment arranged between the positive electrode and the negative electrode where ions can move. The negative electrode includes the electrolyte and a separator that electrically insulates the positive electrode from the negative electrode, and the negative electrode contains the copper foil and an active material layer arranged on the copper foil. Provide secondary batteries including.

本発明の他の一実施例は、高分子膜、及び前記高分子膜上に配置された前記銅箔、を含む軟性銅箔積層フィルムを提供する。 Another embodiment of the present invention provides a flexible copper foil laminated film containing a polymer film and the copper foil arranged on the polymer film.

本発明の他の一実施例は、銅イオンを含む電解液内に互いに離隔して配置された正極板及び回転負極ドラムを30〜80A/dmの電流密度で通電させて銅層を形成する段階を含み、前記電解液は、70〜100g/Lの銅イオン、80〜130g/Lの硫酸、2〜20mg/Lの2−メルカプトチアゾリン(2−Mercaptothiazoline)、2〜20mg/Lのビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド[bis−(3−sulfopropyl)disulfide](SPS)、及び50mg/L以下のポリエチレングリコール(PEG)、を含む銅箔の製造方法を提供する。 In another embodiment of the present invention, a positive electrode plate and a rotating negative electrode drum arranged apart from each other in an electrolytic solution containing copper ions are energized at a current density of 30 to 80 A / dm 2 to form a copper layer. The electrolyte comprises 70-100 g / L copper ions, 80-130 g / L sulfuric acid, 2-20 mg / L 2-Mercaptothiazoline, 2-20 mg / L bis (2-20 mg / L bis. Provided is a method for producing a copper foil containing 3-sulfopropyl) disulfide [bis- (3-sulfopropyl) disulfide] (SPS) and polyethylene glycol (PEG) of 50 mg / L or less.

前記電解液は10〜30mg/Lの塩素(Cl)を含むことができる。 The electrolytic solution can contain 10 to 30 mg / L of chlorine (Cl).

前記電解液の単位時間(秒、second)当たり流量偏差が5%以下であってもよい。 The flow rate deviation per unit time (seconds, seconds) of the electrolytic solution may be 5% or less.

本発明の一実施例による銅箔はたるみ、しわ又は引裂に対して優れた抵抗性を有する。すなわち、本発明の一実施例によれば、銅箔の製造過程又は銅箔を用いた二次電池の製造過程中のたるみ、しわ又は引裂の発生が防止される。したがって、本発明の一実施例による銅箔は優れたロールツーロール工程性を有する。 The copper foil according to one embodiment of the present invention has excellent resistance to sagging, wrinkling or tearing. That is, according to one embodiment of the present invention, the occurrence of sagging, wrinkling, or tearing during the manufacturing process of the copper foil or the manufacturing process of the secondary battery using the copper foil is prevented. Therefore, the copper foil according to one embodiment of the present invention has excellent roll-to-roll processability.

また、本発明の他の一実施例によれば、たるみ、しわ又は引裂の発生がないか最小化した二次電池用電極を製造することができる。 Further, according to another embodiment of the present invention, it is possible to manufacture an electrode for a secondary battery in which the occurrence of sagging, wrinkling or tearing is minimized.

添付図面は本発明の理解を助けるためにこの明細書の一部を構成するためのもので、本発明の実施例を例示し、発明の詳細な説明とともに本発明の原理を説明する。
本発明の一実施例による銅箔の概略断面図である。 銅箔のXRDグラフを示す図である。 粗度プロファイル要素(roughness profile element)のグラフである。 本発明の他の一実施例による銅箔の概略断面図である。 本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極の概略断面図である。 本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極の概略断面図である。 本発明のさらに他の一実施例による二次電池の概略断面図である。 本発明のさらに他の一実施例による軟性銅箔積層フィルムの断面図である。 図3に示した銅箔の製造工程を示す概略図である。 銅箔のたるみ(bagginess)を示す写真である。 銅箔のしわ(wrinkle)を示す写真である。
The accompanying drawings are intended to form a part of the present specification in order to help the understanding of the present invention, exemplify examples of the present invention, and explain the principles of the present invention together with a detailed description of the invention.
It is the schematic sectional drawing of the copper foil by one Example of this invention. It is a figure which shows the XRD graph of a copper foil. It is a graph of the roughness profile element (roughness profile element). It is the schematic sectional drawing of the copper foil by another Example of this invention. It is the schematic sectional drawing of the electrode for a secondary battery by still another Example of this invention. It is the schematic sectional drawing of the electrode for a secondary battery by still another Example of this invention. It is the schematic sectional drawing of the secondary battery by still another Example of this invention. It is sectional drawing of the flexible copper foil laminated film by still another Example of this invention. It is the schematic which shows the manufacturing process of the copper foil shown in FIG. It is a photograph which shows the sagging (bagginess) of a copper foil. It is a photograph which shows the wrinkle (wrinkle) of a copper foil.

以下では添付図面に基づいて本発明の実施例を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

本発明の技術的思想及び範囲を逸脱しない範疇内で本発明の多様な変更及び変形が可能であるという点は当業者に明らかであろう。よって、本発明は特許請求範囲に記載された発明及びその均等物の範囲内の変更及び変形を全て含む。 It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and modifications of the present invention are possible within the scope of the technical idea and scope of the present invention. Therefore, the present invention includes all modifications and modifications within the scope of the invention and its equivalents described in the claims.

本発明の実施例を説明するために図面に開示した形状、寸法、比率、角度、個数などは例示的なものであるので、本発明が図面に示した事項に限定されるものではない。明細書全般にわたって同じ構成要素は同じ参照符号で指称する。 The shapes, dimensions, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings for explaining the examples of the present invention are exemplary, and thus the present invention is not limited to the matters shown in the drawings. The same components are designated by the same reference numerals throughout the specification.

本明細書で‘含む’、‘有する’、‘なる’などが使われる場合、‘〜のみ’という表現が使われない限り、他の部分が付け加わることができる。構成要素が単数で表現された場合、特に明示的な記載事項がない限り、複数を含む。また、構成要素の解釈において、別途の明示的記載がなくても誤差範囲を含むものと解釈される。 When ‘include’, ‘have’, ‘become’, etc. are used herein, other parts may be added unless the expression ‘only’ is used. When a component is expressed in the singular, it includes more than one unless otherwise specified. In addition, in the interpretation of the components, it is interpreted as including the error range even if there is no separate explicit description.

位置関係についての説明の場合、例えば、‘〜上に’、‘〜の上部に’、‘〜の下部に’、‘〜のそばに’などのように二つの部分の位置関係が説明される場合、‘すぐ’又は‘直接’という表現が使わない限り、二つの部分の間に一つ以上の他の部分が位置することもある。 In the case of the explanation of the positional relationship, the positional relationship of the two parts is explained, for example,'on the',' on the upper part of',' on the lower part of',' by the side of', and so on. In some cases, one or more other parts may be located between the two parts, unless the expression'immediate'or'direct' is used.

時間関係についての説明の場合、例えば、‘〜の後に’、‘〜に続き’、‘〜の次に’、‘〜の前に’などのように時間的先後関係が説明される場合、‘すぐ’又は‘直接’という表現を使わない限り、連続的ではない場合も含むことがある。 When explaining the temporal relationship, for example,'after',' following',' after',' before', etc.,' Unless the expression'immediately'or'directly' is used, it may include non-continuous cases.

多様な構成要素を敍述するために、‘第1’、‘第2’などの表現を使うが、これらの構成要素はこのような用語に制限されない。このような用語は単に一構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。よって、以下で言及する第1構成要素は本発明の技術的思想内で第2構成要素であることもある。 Expressions such as'first'and'second' are used to describe various components, but these components are not limited to such terms. Such terms are used solely to distinguish one component from another. Therefore, the first component referred to below may be the second component within the technical idea of the present invention.

“少なくとも一つ”の用語は一つ以上の関連項目から提示可能な全ての組合せを含むものと理解されなければならない。 The term "at least one" must be understood to include all combinations that can be presented from one or more related items.

本発明の多くの実施例のそれぞれの特徴は部分的に又は全体的に互いに結合又は組合可能であり、技術的に多様な連動及び駆動が可能であり、各実施例が互いに対して独立的に実施されることもでき、連関関係で一緒に実施されることもできる。 Each feature of many embodiments of the invention can be partially or wholly coupled to or combined with each other, technically diverse interlocking and driving, and each embodiment is independent of each other. It can be carried out, or it can be carried out together in a relational relationship.

図1は本発明の一実施例による銅箔100の概略断面図である。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a copper foil 100 according to an embodiment of the present invention.

図1を参照すれば、銅箔100は銅層110を含む。本発明の一実施例によれば、銅箔100は、銅層110上に配置された防錆膜210を含む。防錆膜210は省略することができる。 Referring to FIG. 1, the copper foil 100 includes a copper layer 110. According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 includes a rust preventive film 210 arranged on the copper layer 110. The rust preventive film 210 can be omitted.

本発明の一実施例によれば、銅層110はマット面(matte surface)MS及びその反対側のシャイニー面(shiny surface)SSを有する。 According to one embodiment of the present invention, the copper layer 110 has a matte surface MS and a shiny surface SS on the opposite side thereof.

銅層110は、例えば電気メッキで回転負極ドラム上に形成されることができる(図8参照)。ここで、シャイニー面SSは電気メッキ過程で回転負極ドラムと接触した面を指称し、マット面MSはシャイニー面SSの反対側面を指称する。 The copper layer 110 can be formed on the rotating negative electrode drum by, for example, electroplating (see FIG. 8). Here, the shiny surface SS refers to the surface in contact with the rotating negative electrode drum in the electroplating process, and the matte surface MS refers to the opposite side surface of the shiny surface SS.

シャイニー面SSがマット面MSより低い表面粗度(Rz)を有することが一般的ではあるが、本発明の一実施例がこれに限定されるものではない。シャイニー面SSの表面粗度(Rz)がマット面MSの表面粗度(Rz)と同一であるかそれより高いこともある。 It is common for the shiny surface SS to have a lower surface roughness (Rz) than the matte surface MS, but one embodiment of the present invention is not limited thereto. The surface roughness (Rz) of the shiny surface SS may be the same as or higher than the surface roughness (Rz) of the matte surface MS.

防錆膜210は銅層110のマット面MS及びシャイニー面SSの少なくとも一面に配置されることができる。図1を参照すれば、防錆膜210がマット面MSに配置される。しかし、本発明の一実施例がこれに限定されるものではなく、防錆膜210はシャイニー面SSにのみ配置されることもでき、マット面MSとシャイニー面SSの両方に配置されることもできる。 The rust preventive film 210 can be arranged on at least one of the matte surface MS and the shiny surface SS of the copper layer 110. With reference to FIG. 1, the rust preventive film 210 is arranged on the matte surface MS. However, one embodiment of the present invention is not limited to this, and the rust preventive film 210 may be arranged only on the shiny surface SS, or may be arranged on both the matte surface MS and the shiny surface SS. it can.

防錆膜210は銅層110を保護する。防錆膜210は保存過程で銅層110が酸化するか変質することを防止することができる。銅層110上に防錆膜210が配置されていない場合、時間の経過によって銅層110に表面酸化が発生して、銅箔100を含む装置、例えば二次電池の寿命が低下することがある。このような防錆膜210を保護層とも言う。防錆膜210に特別な制限があるものではなく、銅層110を保護することができる膜又は層はいずれも防錆膜210となることができる。 The rust preventive film 210 protects the copper layer 110. The rust preventive film 210 can prevent the copper layer 110 from being oxidized or denatured during the storage process. If the rust preventive film 210 is not arranged on the copper layer 110, surface oxidation may occur on the copper layer 110 over time, which may shorten the life of a device containing the copper foil 100, for example, a secondary battery. .. Such a rust preventive film 210 is also called a protective layer. The rust preventive film 210 is not particularly limited, and any film or layer capable of protecting the copper layer 110 can be the rust preventive film 210.

本発明の一実施例によれば、防錆膜210は、クロム(Cr)、シラン化合物及び窒素化合物の少なくとも1種を含むことができる。 According to one embodiment of the present invention, the rust preventive film 210 can contain at least one of chromium (Cr), a silane compound and a nitrogen compound.

例えば、クロム(Cr)を含む防錆液、すなわちクロム酸化合物を含む防錆液で防錆膜210を形成することができる。 For example, the rust preventive film 210 can be formed with a rust preventive liquid containing chromium (Cr), that is, a rust preventive liquid containing a chromic acid compound.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は、銅層110を基準としてマット面MS方向の表面である第1面S1及びシャイニー面SS方向の表面である第2面S2を有する。図1で、銅箔100の第1面S1は防錆膜210の表面、第2面S2はシャイニー面SSである。銅層110に防錆膜210が配置されていない場合、銅層110のマット面MSが銅箔100の第1面S1となる。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a first surface S1 which is a surface in the matte surface MS direction and a second surface S2 which is a surface in the shiny surface SS direction with reference to the copper layer 110. In FIG. 1, the first surface S1 of the copper foil 100 is the surface of the rust preventive film 210, and the second surface S2 is the shiny surface SS. When the rust preventive film 210 is not arranged on the copper layer 110, the matte surface MS of the copper layer 110 becomes the first surface S1 of the copper foil 100.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は0.52以下の集合組職係数バイアス(Texture Coefficient Bias、TCB)を有する。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a collective cohesive coefficient bias (Texture Cofficient Bias, TCB) of 0.52 or less.

より具体的に、銅箔100の(220)面の集合組織係数バイアス[TCB(220)]は0.52以下である。本発明の一実施例によれば、銅箔100の(220)面の集合組職係数バイアス[TCB(220)]を銅箔100の集合組職係数バイアス[TCB(220)]とも言う。 More specifically, the texture coefficient bias [TCB (220)] of the (220) plane of the copper foil 100 is 0.52 or less. According to one embodiment of the present invention, the collective formation coefficient bias [TCB (220)] of the (220) surface of the copper foil 100 is also referred to as the collective formation coefficient bias [TCB (220)] of the copper foil 100.

(220)面の集合組職係数バイアス[TCB(220)]は位置による(220)面の集合組職係数[TC(220)]の偏差又は傾向性を示す。集合組職係数バイアス[TCB(220)]は銅箔100表面の結晶構造に係わる。(220)面の集合組職係数バイアス[TCB(220)]は次の式1で求めることができる。具体的に、銅箔100の幅方向に左側、中央及び右側の各地点でそれぞれ3回ずつ[TC(220)](220面の集合組職係数)を測定した(下記の式2参照)。このとき、最高の[TC(220)]値をTCmaxとし、最低の[TC(220)]値をTCminとする。集合組職係数バイアス[TCB(220)]はTCmaxとTCmin間の差、すなわち“TCmax−TCmin”値として算出される。 The (220) plane assembly coefficient bias [TCB (220)] indicates the deviation or tendency of the (220) plane assembly coefficient [TC (220)] depending on the position. The assembly coefficient bias [TCB (220)] is related to the crystal structure on the surface of the copper foil 100. The collective employment coefficient bias [TCB (220)] of the (220) plane can be obtained by the following equation 1. Specifically, [TC (220)] (coefficient of collective employment on 220 faces) was measured three times at each of the left, center, and right points in the width direction of the copper foil 100 (see Equation 2 below). At this time, the highest [TC (220)] value is TCmax, and the lowest [TC (220)] value is TCmin. The collective employment coefficient bias [TCB (220)] is calculated as the difference between TCmax and TCmin, that is, the "TCmax-TCmin" value.

(式1)
集合組職係数バイアス[TCB(220)]=TCmax−TCmin
(Equation 1)
Group job coefficient bias [TCB (220)] = TCmax-TCmin

一方、銅箔100の幅方向にサンプルを採取する基準は重量偏差測定法と同様に適用することもできる。 On the other hand, the standard for collecting a sample in the width direction of the copper foil 100 can be applied in the same manner as in the weight deviation measuring method.

式1を参照すれば、(220)面の集合組職係数バイアス[TCB(220)]は(220)面の集合組職係数[TC(220)]から求める。 With reference to Equation 1, the set-form coefficient bias [TCB (220)] of the (220) plane is obtained from the set-form coefficient [TC (220)] of the (220) plane.

以下、図2を参照して、本発明の一実施例による(220)面の集合組職係数[TC(220)]を測定及び算出する方法を説明する。 Hereinafter, with reference to FIG. 2, a method for measuring and calculating the collective employment coefficient [TC (220)] of the (220) plane according to an embodiment of the present invention will be described.

図2Aは銅箔のXRDグラフを示す図である。より具体的に、図2Aは銅箔100のXRDグラフである。 FIG. 2A is a diagram showing an XRD graph of a copper foil. More specifically, FIG. 2A is an XRD graph of the copper foil 100.

(220)面の集合組職係数[TC(220)]の測定において、まず、30°〜95°の回折角(2θ)の範囲でX線回折法(XRD)によって、n個の結晶面に対応するピークを有するXRDグラフが得られる[Target:Copper Kalpha 1,2θ interval:0.01°、2θ scan speed:3°/min]。例えば、図2Aに示したように、(111)面、(200)面、(220)面、及び(311)面に相当する四つのピークが示されているXRDグラフを得ることができる。図2Aを参照すれば、nは4である。 In the measurement of the aggregation coefficient [TC (220)] of the (220) plane, first, n crystal planes are formed by X-ray diffraction (XRD) in the range of the diffraction angle (2θ) of 30 ° to 95 °. An XRD graph with the corresponding peak is obtained [Target: Copper Kalpha 1,2θ interval: 0.01 °, 2θ scan speed: 3 ° / min]. For example, as shown in FIG. 2A, an XRD graph showing four peaks corresponding to planes (111), (200), (220), and (311) can be obtained. With reference to FIG. 2A, n is 4.

ついで、このグラフから各結晶面(hkl)のXRD回折強度[I(hkl)]を求める。また、JCPDS(Joint Committee on Powder Diffraction Standards)によって規定された標準銅粉末のn個の結晶面のそれぞれに対するXRD回折強度[I(hkl)]を求める。ついで、n個の結晶面の“I(hkl)/I(hkl)”に対する算術平均値を算出し、その算術平均値で(220)面のI(220)/I(220)を割ることによって(220)面の集合組職係数[TC(220)]を算出する。すなわち、(220)面の集合組職係数[TC(220)]は次の式2によって算出する。 Then, the XRD diffraction intensity [I (hkl)] of each crystal plane (hkl) is obtained from this graph. In addition, the XRD diffraction intensity [I 0 (hkl)] for each of the n crystal planes of the standard copper powder defined by JCPDS (Joint Committee on Power Diffraction Standards) is obtained. Then, the arithmetic mean value for "I (hkl) / I 0 (hkl)" of n crystal planes is calculated, and the arithmetic mean value is divided by I (220) / I 0 (220) of the (220) plane. By doing so, the set composition coefficient [TC (220)] of the (220) plane is calculated. That is, the set grouping coefficient [TC (220)] of the (220) plane is calculated by the following equation 2.

(式2)
(Equation 2)

本発明の一実施例によれば、銅箔100の(220)面は0.52以下の集合組職係数バイアス[TCB(220)]を有することができる。すなわち、銅箔100は0.52以下の集合組職係数[TC(220)]を有することができる。 According to one embodiment of the present invention, the (220) plane of the copper foil 100 can have an assembly coefficient bias [TCB (220)] of 0.52 or less. That is, the copper foil 100 can have an assembly coefficient [TC (220)] of 0.52 or less.

(220)面の集合組職係数バイアス[TCB(220)]が0.52を超える場合、層110又は銅箔100内で局部的な結晶構造の差による局部的な集合組職の差によって、ロールツーロール(Roll To Roll)工程による銅箔100の製造過程で銅箔に印加される張力(Tension)によって銅箔100が易しく変形し、これによって銅箔100にしわが発生することがある。 When the collective assembly coefficient bias [TCB (220)] of the (220) plane exceeds 0.52, due to the difference in local collective formation due to the difference in local crystal structure in the layer 110 or the copper foil 100, The copper foil 100 is easily deformed by the tension applied to the copper foil in the process of manufacturing the copper foil 100 by the roll-to-roll process, which may cause wrinkles in the copper foil 100.

したがって、本発明の一実施例によれば、銅箔100の(220)面の集合組職係数[TC(220)]が0.52以下の低い水準で維持されるようにする。 Therefore, according to one embodiment of the present invention, the collective employment coefficient [TC (220)] of the (220) plane of the copper foil 100 is maintained at a low level of 0.52 or less.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は29〜65kgf/mmの引張強度を有する。引張強度はIPC−TM−650 Test Method Manualの規定にしたがって万能試験器(UTM)で測定することができる。本発明の一実施例によれば、Instron社の万能試験器で引張強度を測定する。ここで、引張強度測定用サンプルの幅は12.7mm、グリップ(grip)間の距離は50mm、測定速度は50mm/minである。評価のために、サンプルの引張強度を3回にかけて繰り返し測定し、その平均値を銅箔100の引張強度として使うことができる。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a tensile strength of 29 to 65 kgf / mm 2 . Tensile strength can be measured with a universal tester (UTM) according to the IPC-TM-650 Test Method Manual. According to one embodiment of the present invention, the tensile strength is measured with a universal tester manufactured by Instron. Here, the width of the sample for measuring tensile strength is 12.7 mm, the distance between grips is 50 mm, and the measurement speed is 50 mm / min. For evaluation, the tensile strength of the sample can be repeatedly measured over three times, and the average value can be used as the tensile strength of the copper foil 100.

銅箔100の引張強度が29kgf/mm未満であれば、製造工程で銅箔100に加わる張力(tension)などの力を銅箔100が耐えることができなくて、ロールツーロール工程中に銅箔100にしわが発生することがある。 If the tensile strength of the copper foil 100 is less than 29 kgf / mm 2 , the copper foil 100 cannot withstand the force such as tension applied to the copper foil 100 in the manufacturing process, and the copper during the roll-to-roll process. Wrinkles may occur on the foil 100.

一方、銅箔100の引張強度が65kgf/mmを超えれば、銅箔100の引張強度が優れて製造工程で銅箔100に加わる張力(tension)などの力を銅箔100が充分に耐えるが、銅箔100そのものの脆性が増加し、ロールツーロール工程中に銅箔100に局部的に加わる力に対応して銅箔100が伸びることができないため、銅箔100に引裂が発生することがある。それによって、銅箔100の使用性が低下する。例えば、銅箔の製造工程又は銅箔を用いた二次電池用電極の製造工程で引裂(tear)が発生して安定的な製品製造に難しさが生じることがある。 On the other hand, if the tensile strength of the copper foil 100 exceeds 65 kgf / mm 2 , the tensile strength of the copper foil 100 is excellent, and the copper foil 100 sufficiently withstands forces such as tension applied to the copper foil 100 in the manufacturing process. , The brittleness of the copper foil 100 itself increases, and the copper foil 100 cannot be stretched in response to the force locally applied to the copper foil 100 during the roll-to-roll process, so that the copper foil 100 may be torn. is there. As a result, the usability of the copper foil 100 is reduced. For example, tearing may occur in the copper foil manufacturing process or the secondary battery electrode manufacturing process using the copper foil, which may make it difficult to manufacture a stable product.

仮に、ロールツーロール工程による銅箔の製造工程中にこのような引裂が発生する場合、ロールツーロール工程設備の稼働を中断し、引き裂けられた部分を除去した後、工程設備を再稼動させなければならないため、工程時間及び費用が増加し、生産性が低下する。 If such tearing occurs during the copper foil manufacturing process by the roll-to-roll process, the operation of the roll-to-roll process equipment must be interrupted, the torn part must be removed, and then the process equipment must be restarted. As a result, process time and cost increase, and productivity decreases.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は18〜148μmの粗度プロファイル要素平均間隔(mean width of roughness profile elements)(Rsm)を有する。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a roughness profile element average spacing (mean width of roofness profile elements) (Rsm) of 18 to 148 μm.

粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)はJIS B 0601−2001規格によって粗度計で測定することができる。本発明の一実施例によれば、ミツトヨ社のSJ−310モデルで粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)を測定した。ここで、カットオフ(cutoff)長を除いた測定長は4mmであり、カットオフ(cutoff)長は初期と終期にそれぞれ0.8mmである。スタイラスチップ(stylus tip)の半径(radius)は2μmである。 The roughness profile element average spacing (Rsm) can be measured with a roughness meter according to the JIS B 0601-2001 standard. According to one embodiment of the present invention, the roughness profile element average spacing (Rsm) was measured with the SJ-310 model of Mitutoyo. Here, the measured length excluding the cutoff length is 4 mm, and the cutoff length is 0.8 mm at the initial stage and the final stage, respectively. The radius of the stylus tip is 2 μm.

図2Bは粗度プロファイル要素(roughness profile element)のグラフである。 FIG. 2B is a graph of roughness profile elements (roughness profile elements).

図2Bを参照すれば、粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)は、一つの山(谷)が平均線(ML)と交差する点から隣接した山(谷)の対応点までの距離(XSi、ここで、i=1、2、3、…、m)の算術平均値である。具体的に、粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)は次の式3で求めることができる。 Referring to FIG. 2B, the roughness profile element average spacing (Rsm) is the distance (XSi,) from the point where one peak (valley) intersects the mean line (ML) to the corresponding point of the adjacent peak (valley). Here, it is the arithmetic mean value of i = 1, 2, 3, ..., M). Specifically, the roughness profile element average interval (Rsm) can be obtained by the following equation 3.

(式3)
(Equation 3)

粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)は周期的なきめがある表面を評価するのに適する。 Roughness profile element average spacing (Rsm) is suitable for evaluating surfaces with periodic textures.

粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)が18μm未満であれば、表面に凹凸があまりにも多くてロールツーロール(Roll To Roll)工程による銅箔100の製造過程中に張力(Tension)が凹凸に集中する可能性が高く、それによって銅箔100に引裂が発生する確率が高くなる。 If the roughness profile element average spacing (Rsm) is less than 18 μm, the surface is too uneven and the tension is concentrated in the unevenness during the manufacturing process of the copper foil 100 by the Roll To Roll process. This increases the probability that the copper foil 100 will tear.

一方、粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)が148μmを超えれば、凹凸の間隔があまりにも大きくてロールツーロール(Roll To Roll)工程による銅箔100の製造過程でスリップ(slip)が発生しやすく、これによって銅箔100にしわが発生することがある。 On the other hand, if the average spacing (Rsm) of the roughness profile elements exceeds 148 μm, the spacing between the irregularities is too large and slips are likely to occur in the process of manufacturing the copper foil 100 by the Roll To Roll process. As a result, the copper foil 100 may be wrinkled.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は0.6μm以上の最大高さ粗度(Rmax)を有する。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a maximum height roughness (Rmax) of 0.6 μm or more.

最大高さ粗度(Rmax)はJIS B 0601−2001規格によって粗度計で測定することができる。本発明の一実施例によれば、ミツトヨ社のSJ−310モデルで最大高さ粗度(Rmax)を測定することができる。具体的に、カットオフ(cutoff)長を除いた測定長は4mmであり、カットオフ(cutoff)長は初期と終期にそれぞれ0.8mmとする。スタイラスチップ(stylus tip)の半径(radius)は2μmとし、測定圧力は0.75mNとする。 The maximum height roughness (Rmax) can be measured with a roughness meter according to JIS B 0601-2001 standard. According to one embodiment of the present invention, the maximum height roughness (Rmax) can be measured with the SJ-310 model of Mitutoyo. Specifically, the measured length excluding the cutoff length is 4 mm, and the cutoff length is 0.8 mm at the initial stage and the final stage, respectively. The radius of the stylus tip is 2 μm, and the measurement pressure is 0.75 mN.

最大高さ粗度(Rmax)が0.6μm未満の場合、銅箔100がボビン又はワインダーに巻き取られるとき、銅箔100間の重量重畳によって、銅箔100が局部的に伸びる現象が発生してたるみ不良を発生することがある。 When the maximum height roughness (Rmax) is less than 0.6 μm, when the copper foil 100 is wound around a bobbin or a winder, a phenomenon occurs in which the copper foil 100 is locally stretched due to weight superposition between the copper foils 100. Poor sagging may occur.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は3.5μm以下の最大高さ粗度(Rmax)を有することができる。銅箔100の最大高さ粗度(Rmax)が3.5μmを超える場合、ロールツーロール(RTR)工程による銅箔100の製造工程で銅箔100がボビン又はワインダーに巻き取られるとき、銅箔と銅箔の間に空気が閉じこめられてたるみ(bagginess)が発生することがある。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 can have a maximum height roughness (Rmax) of 3.5 μm or less. When the maximum height roughness (Rmax) of the copper foil 100 exceeds 3.5 μm, when the copper foil 100 is wound around a bobbin or a winder in the manufacturing process of the copper foil 100 by the roll-to-roll (RTR) process, the copper foil Air may be trapped between the copper foil and the copper foil to cause baggings.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は5%以下の重量偏差を有する。より具体的に、銅箔100は0〜5%の重量偏差を有することができる。ここで、重量偏差が0というのは重量偏差がないことを意味する。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has a weight deviation of 5% or less. More specifically, the copper foil 100 can have a weight deviation of 0-5%. Here, when the weight deviation is 0, it means that there is no weight deviation.

本発明の一実施例によれば、重量偏差は銅箔100の幅方向に任意の3地点で測定した重量の平均(平均重量)及び重量の標準偏差から求めることができる。具体的に、銅箔100の幅方向、すなわち巻取方向に垂直な方向(Transverse Direction、TD)に配列された3つの地点で5cm×5cmのサンプルを取った後、各サンプルの重量を測定して単位面積当たり重量を算出し、3個サンプルの単位面積当たり重量から3地点の“平均重量”と“重量の標準偏差”を算出した後、式4によって重量偏差を求めることができる。 According to one embodiment of the present invention, the weight deviation can be obtained from the average weight (average weight) and the standard deviation of the weight measured at any three points in the width direction of the copper foil 100. Specifically, after taking a sample of 5 cm × 5 cm at three points arranged in the width direction of the copper foil 100, that is, the direction perpendicular to the winding direction (Transverse Direction, TD), the weight of each sample is measured. After calculating the weight per unit area and calculating the "average weight" and "standard deviation of weight" at three points from the weight per unit area of the three samples, the weight deviation can be calculated by Equation 4.

(式4)
(Equation 4)

銅箔100の重量偏差が5%を超えれば、ロールツーロール工程で銅箔100が巻き取られるとき、銅箔100間の重量重畳によって銅箔100が局部的に伸びる現象が発生し、銅箔100にたるみが発生することがある。 If the weight deviation of the copper foil 100 exceeds 5%, when the copper foil 100 is wound up in the roll-to-roll process, a phenomenon occurs in which the copper foil 100 is locally stretched due to the weight superposition between the copper foils 100, and the copper foil 100 is stretched locally. Sagging may occur in 100.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は25±15℃の常温で2%以上の伸び率を有する。伸び率はIPC−TM−650 Test Method Manualに規定された方法によって万能試験器(UTM)で測定することができる。本発明の一実施例によれば、Instron社の設備を使うことができる。ここで、伸び率測定用サンプルの幅は12.7mm、グリップ(grip)間の距離は50mm、測定速度は50mm/minである。3回にかけて伸び率を測定した後、その平均値を伸び率値として使うことができる。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 has an elongation rate of 2% or more at room temperature of 25 ± 15 ° C. Elongation can be measured with a universal tester (UTM) by the method specified in IPC-TM-650 Test Method Manual. According to one embodiment of the present invention, equipment manufactured by Instron can be used. Here, the width of the sample for measuring the elongation rate is 12.7 mm, the distance between grips is 50 mm, and the measurement speed is 50 mm / min. After measuring the elongation rate three times, the average value can be used as the elongation rate value.

銅箔100の伸び率が2%未満であれば、銅箔100の製造過程で加わる力に対応して銅箔100が伸びることができずに破れる危険が発生することがある。 If the elongation rate of the copper foil 100 is less than 2%, there is a risk that the copper foil 100 cannot be stretched and is torn in response to the force applied in the manufacturing process of the copper foil 100.

より具体的に、銅箔100は2〜20%の伸び率を有することができる。 More specifically, the copper foil 100 can have an elongation rate of 2 to 20%.

本発明の一実施例によれば、銅箔100は4μm〜30μmの厚さを有することができる。銅箔100の厚さが4μm未満の場合、銅箔100の製造工程又は銅箔100を用いた製品、例えば二次電池用電極又は二次電池の製造工程で作業性が低下する。銅箔100の厚さが30μmを超える場合、銅箔100を用いた二次電池用電極の厚さが大きくなり、このような大きい厚さによって二次電池の高容量の具現に難しさが生じることがある。 According to one embodiment of the present invention, the copper foil 100 can have a thickness of 4 μm to 30 μm. When the thickness of the copper foil 100 is less than 4 μm, the workability is lowered in the manufacturing process of the copper foil 100 or the manufacturing process of the product using the copper foil 100, for example, the electrode for the secondary battery or the secondary battery. When the thickness of the copper foil 100 exceeds 30 μm, the thickness of the electrode for the secondary battery using the copper foil 100 becomes large, and such a large thickness makes it difficult to realize a high capacity of the secondary battery. Sometimes.

本発明の一実施例によれば、たるみ(bagginess)としわ(wrinkle)は互いに区別される。 According to one embodiment of the present invention, saggins and wrinkles are distinguished from each other.

図9は銅箔のたるみ(bagginess)を例示する写真である。図9で、矢印(↑)で表示した部分はたるみが発生した部分である。本発明の一実施例によれば、たるみは銅箔100が局部的に伸びて平たく広がっていない状態又はその部分を指称する。 FIG. 9 is a photograph illustrating the sagging of copper foil. In FIG. 9, the portion indicated by the arrow (↑) is the portion where the slack has occurred. According to one embodiment of the present invention, the slack refers to a state in which the copper foil 100 is locally stretched and does not spread flatly or a portion thereof.

図10は銅箔のたるみ(wrinle)を例示する写真である。図10で、矢印(↑)で表示した部分はたるみが発生した部分である。本発明の一実施例によれば、たるみは銅箔100が局部的に折り畳まれた状態又はその部分を指称する。 FIG. 10 is a photograph illustrating the slack (wrinkle) of the copper foil. In FIG. 10, the portion indicated by the arrow (↑) is the portion where the slack has occurred. According to one embodiment of the present invention, slack refers to a state in which the copper foil 100 is locally folded or a portion thereof.

しかし、本発明の一実施例がこれに限定されるものではなく、たるみ(bagginess)としわ(wrinkle)を区別せずに二つの中で一つの用語で表現することもできる。例えば、銅箔100が局部的に伸びて平たく広がっていない場合と銅箔100が局部的に折り畳まれた場合を区分しなくていずれも“たるみ”と表現するか、又は“しわ”と表現することもできる。 However, one embodiment of the present invention is not limited to this, and can be expressed by one term in the two without distinguishing between saggins and wrinkles. For example, the case where the copper foil 100 is locally stretched and does not spread flat and the case where the copper foil 100 is locally folded are not distinguished and are both expressed as "sag" or "wrinkles". You can also do it.

すなわち、たるみ(bagginess)としわ(wrinkle)を区別せずにこれらの両者を“たるみ”と表現するか、又は“しわ”と表現することもできる。 That is, both of them can be expressed as "sag" or "wrinkle" without distinguishing between sagging and wrinkle.

図3は本発明の他の一実施例による銅箔200の概略断面図である。以下、重複を避けるために、先に説明した構成要素についての説明は省略する。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the copper foil 200 according to another embodiment of the present invention. Hereinafter, in order to avoid duplication, the description of the components described above will be omitted.

図3を参照すれば、本発明の他の一実施例による銅箔200は、銅層110及び銅層110のマット面MSとシャイニー面SSにそれぞれ配置された二つの防錆膜210、220を含む。図1に示した銅箔100と比較して、図3に示した銅箔200は、銅層110のシャイニー面SSに配置された防錆膜220をさらに含む。 Referring to FIG. 3, the copper foil 200 according to another embodiment of the present invention has two rust preventive films 210 and 220 arranged on the matte surface MS and the shiny surface SS of the copper layer 110 and the copper layer 110, respectively. Including. Compared with the copper foil 100 shown in FIG. 1, the copper foil 200 shown in FIG. 3 further includes a rust preventive film 220 arranged on the shiny surface SS of the copper layer 110.

説明の便宜のために、二つの防錆膜210、220のうち銅層110のマット面MSに配置された防錆膜210を第1保護層と、シャイニー面SSに配置された防錆膜220を第2保護層と言える。 For convenience of explanation, of the two rust preventive films 210 and 220, the rust preventive film 210 arranged on the matte surface MS of the copper layer 110 is arranged on the first protective layer and the shiny surface SS. Can be said to be the second protective layer.

図3に示した銅箔200の第1面S1はマット面MSに配置された防錆膜210の表面と同一であり、第2面S2はシャイニー面SSに配置された防錆膜220の表面と同一である。 The first surface S1 of the copper foil 200 shown in FIG. 3 is the same as the surface of the rust preventive film 210 arranged on the matte surface MS, and the second surface S2 is the surface of the rust preventive film 220 arranged on the shiny surface SS. Is the same as.

本発明の他の一実施例によれば、二つの防錆膜210、220はそれぞれクロム(Cr)、シラン化合物及び窒素化合物の少なくとも一つを含むことができる。 According to another embodiment of the present invention, the two rust preventive films 210 and 220 can each contain at least one of chromium (Cr), a silane compound and a nitrogen compound.

図3に示した銅箔200の(220)面は0.52以下の集合組職係数バイアス[TCB(220)]を有する。 The (220) plane of the copper foil 200 shown in FIG. 3 has an assembly coefficient bias [TCB (220)] of 0.52 or less.

また、図3に示した銅箔200は29〜65kgf/mmの引張強度及び18〜148μmの粗度プロファイル要素平均間隔(mean width of roughness profile elements)(Rsm)を有する。また、銅箔200は0.6μm以上の最大高さ粗度(Rmax)及び5%以下の重量偏差を有し、25±15℃の常温で2%以上の伸び率を有し、4μm〜30μmの厚さを有する。 In addition, the copper foil 200 shown in FIG. 3 has a tensile strength of 29 to 65 kgf / mm 2 and a roughness profile element average spacing (mean width of roofness profile elements) (Rsm) of 18 to 148 μm. Further, the copper foil 200 has a maximum height roughness (Rmax) of 0.6 μm or more, a weight deviation of 5% or less, an elongation rate of 2% or more at room temperature of 25 ± 15 ° C., and 4 μm to 30 μm. Has a thickness of.

図4は本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極300の概略断面図である。 FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the electrode 300 for a secondary battery according to still another embodiment of the present invention.

図4に示した二次電池用電極300は、例えば図6に示した二次電池500に適用可能である。 The secondary battery electrode 300 shown in FIG. 4 can be applied to, for example, the secondary battery 500 shown in FIG.

図4を参照すれば、本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極300は、銅箔100及び銅箔100上に配置された活物質層310を含む。ここで、銅箔100は電流集電体として使われる。 Referring to FIG. 4, the secondary battery electrode 300 according to still another embodiment of the present invention includes a copper foil 100 and an active material layer 310 arranged on the copper foil 100. Here, the copper foil 100 is used as a current collector.

具体的に、本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極300は、第1面S1と第2面S2を有する銅箔100及び銅箔100の第1面S1と第2面S2の少なくとも一方に配置された活物質層310を含む。また、銅箔100は、銅層110及び銅層110上に配置された防錆膜210を含む。 Specifically, the electrode 300 for a secondary battery according to still another embodiment of the present invention is a copper foil 100 having a first surface S1 and a second surface S2, and a first surface S1 and a second surface S2 of the copper foil 100. Includes an active material layer 310 disposed on at least one of the above. Further, the copper foil 100 includes a copper layer 110 and a rust preventive film 210 arranged on the copper layer 110.

図4には電流集電体として図1の銅箔100を用いたものが示されている。しかし、本発明のさらに他の一実施例がこれに限定されるものではなく、図3に示した銅箔200を二次電池用電極300の集電体として使うこともできる。 FIG. 4 shows a current collector using the copper foil 100 of FIG. However, still another embodiment of the present invention is not limited to this, and the copper foil 200 shown in FIG. 3 can also be used as a current collector for the electrode 300 for a secondary battery.

また、銅箔100の表面S1、S2のうち第1面S1にだけ活物質層310が配置された構造が図4に示されているが、本発明のさらに他の一実施例がこれに限定されるものではない。銅箔100の第1面S1と第2面S2の両方に活物質層310がそれぞれ配置されることもでき、銅箔100の第2面S2にだけ活物質層310が配置されることもできる。 Further, although the structure in which the active material layer 310 is arranged only on the first surface S1 of the surfaces S1 and S2 of the copper foil 100 is shown in FIG. 4, still another embodiment of the present invention is limited to this. It is not something that is done. The active material layer 310 can be arranged on both the first surface S1 and the second surface S2 of the copper foil 100, and the active material layer 310 can be arranged only on the second surface S2 of the copper foil 100. ..

図4に示した活物質層310は電極活物質からなり、特に負極活物質からなることができる。すなわち、図4に示した二次電池用電極300は負極として使われることができる。 The active material layer 310 shown in FIG. 4 is made of an electrode active material, and can be made of a negative electrode active material in particular. That is, the secondary battery electrode 300 shown in FIG. 4 can be used as a negative electrode.

活物質層310は、炭素、金属、金属の酸化物及び金属と炭素の複合体の少なくとも一つを含むことができる。金属として、Ge、Sn、Li、Zn、Mg、Cd、Ce、Ni及びFeの少なくとも1種を使うことができる。また、二次電池の充放電容量を増加させるために、活物質層310はシリコン(Si)を含むことができる。 The active material layer 310 can contain at least one of carbon, metal, metal oxides and metal-carbon composites. As the metal, at least one of Ge, Sn, Li, Zn, Mg, Cd, Ce, Ni and Fe can be used. Further, in order to increase the charge / discharge capacity of the secondary battery, the active material layer 310 may contain silicon (Si).

本発明の一実施例による銅箔100が使われる場合、二次電池用電極300の製造過程中に銅箔100のたるみ、しわ又は引裂が防止される。よって、二次電池用電極300の製造効率が向上し、このような二次電池用電極300を含む二次電池の充放電効率及び容量維持率が向上することができる。 When the copper foil 100 according to an embodiment of the present invention is used, sagging, wrinkling or tearing of the copper foil 100 is prevented during the manufacturing process of the electrode 300 for a secondary battery. Therefore, the manufacturing efficiency of the secondary battery electrode 300 can be improved, and the charge / discharge efficiency and the capacity retention rate of the secondary battery including the secondary battery electrode 300 can be improved.

図5は本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極400の概略断面図である。 FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the electrode 400 for a secondary battery according to still another embodiment of the present invention.

本発明のさらに他の一実施例による二次電池用電極400は、銅箔200及び銅箔200上に配置された活物質層310、320を含む。 The secondary battery electrode 400 according to still another embodiment of the present invention includes a copper foil 200 and active material layers 310 and 320 arranged on the copper foil 200.

図5を参照すれば、銅箔200は、銅層110及び銅層110の両面MS、SSに配置された二つの防錆膜210、220を含む。また、図5に示した二次電池用電極300は、銅箔200の両面に配置された二つの活物質層310、320を含む。ここで、銅箔200の第1面S1上に配置された活物質層310を第1活物質層と、銅箔200の第2面S2に配置された活物質層320を第2活物質層と言える。 Referring to FIG. 5, the copper foil 200 includes two rust preventive films 210 and 220 arranged on the double-sided MS and SS of the copper layer 110 and the copper layer 110. Further, the secondary battery electrode 300 shown in FIG. 5 includes two active material layers 310 and 320 arranged on both sides of the copper foil 200. Here, the active material layer 310 arranged on the first surface S1 of the copper foil 200 is the first active material layer, and the active material layer 320 arranged on the second surface S2 of the copper foil 200 is the second active material layer. It can be said that.

両活物質層310、320は互いに同一の材料から同じ方法で形成することもでき、相異なる材料又は相異なる方法で形成することもできる。 Both active material layers 310 and 320 can be formed from the same material by the same method, and can be formed by different materials or different methods.

図6は本発明のさらに他の一実施例による二次電池500の概略断面図である。図6に示した二次電池500は、例えばリチウム二次電池である。 FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the secondary battery 500 according to still another embodiment of the present invention. The secondary battery 500 shown in FIG. 6 is, for example, a lithium secondary battery.

図6を参照すれば、二次電池500は、正極(cathode)370、正極370と対向して配置された負極(anode)340、正極370と負極340の間に配置され、イオンが移動することができる環境を提供する電解質(electrolyte)350、及び正極370と負極340を電気的に絶縁させる分離膜(separator)360を含む。ここで、正極370と負極340の間で移動するイオンはリチウムイオンである。分離膜360は一つの電極で発生した電荷が二次電池500の内部を通じて他の電極に移動して無駄に消耗することを防止するために、正極370と負極340を分離する。図6を参照すれば、分離膜360は電解質350内に配置される。 Referring to FIG. 6, the secondary battery 500 is arranged between the positive electrode (cathode) 370, the negative electrode (anode) 340 arranged opposite to the positive electrode 370, and the positive electrode 370 and the negative electrode 340, and ions move. Includes an electrolyte 350 that provides an environment in which the electrode can be formed, and a separator 360 that electrically insulates the positive electrode 370 and the negative electrode 340. Here, the ions that move between the positive electrode 370 and the negative electrode 340 are lithium ions. The separation membrane 360 separates the positive electrode 370 and the negative electrode 340 in order to prevent the electric charge generated in one electrode from moving to another electrode through the inside of the secondary battery 500 and being wasted. With reference to FIG. 6, the separation membrane 360 is placed in the electrolyte 350.

正極370は正極集電体371及び正極活物質層372を含む。正極集電体371として、例えばアルミニウムホイル(foil)を使うことができる。 The positive electrode 370 includes a positive electrode current collector 371 and a positive electrode active material layer 372. As the positive electrode current collector 371, for example, an aluminum foil can be used.

負極340は、負極集電体341及び活物質層342を含む。負極340の活物質層342は負極活物質を含む。 The negative electrode 340 includes a negative electrode current collector 341 and an active material layer 342. The active material layer 342 of the negative electrode 340 contains a negative electrode active material.

負極集電体341として、図1及び図3に示した銅箔100、200を使うことができる。また、図4及び図5に示した二次電池用電極300、400を図6に示した二次電池500の負極340として使うことができる。 As the negative electrode current collector 341, the copper foils 100 and 200 shown in FIGS. 1 and 3 can be used. Further, the electrodes 300 and 400 for the secondary battery shown in FIGS. 4 and 5 can be used as the negative electrode 340 of the secondary battery 500 shown in FIG.

図7は本発明のさらに他の一実施例による軟性銅箔積層フィルム600の概略断面図である。 FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the flexible copper foil laminated film 600 according to still another embodiment of the present invention.

本発明のさらに他の一実施例による軟性銅箔積層フィルム600は、高分子膜410及び高分子膜410上に配置された銅箔100を含む。図1に示した銅箔100を含む軟性銅箔積層フィルム600が図7に示されているが、本発明のさらに他の一実施例がこれに限定されるものではない。例えば、図3に示した銅箔200又は他の銅箔を軟性銅箔積層フィルム600に使うことができる。 The flexible copper foil laminated film 600 according to still another embodiment of the present invention includes the polymer film 410 and the copper foil 100 arranged on the polymer film 410. The flexible copper foil laminated film 600 including the copper foil 100 shown in FIG. 1 is shown in FIG. 7, but still another embodiment of the present invention is not limited thereto. For example, the copper foil 200 or another copper foil shown in FIG. 3 can be used for the flexible copper foil laminated film 600.

高分子膜410は軟性(flexibility)及び非伝導性を有する。高分子膜410の種類に特別な制限があるものではない。高分子膜410は、例えばポリイミドを含むことができる。ロールプレス(Roll Press)によってポリイミドフィルムと銅箔100をラミネートして軟性銅箔積層フィルム600を形成することができる。もしくは、銅箔100上にポリイミド前駆体溶液をコートしてから熱処理することによって軟性銅箔積層フィルム600を形成することもできる。 The polymer film 410 has flexibility and non-conductivity. There are no particular restrictions on the type of polymer film 410. The polymer film 410 may contain, for example, polyimide. A flexible copper foil laminated film 600 can be formed by laminating a polyimide film and a copper foil 100 by a roll press. Alternatively, the flexible copper foil laminated film 600 can be formed by coating the copper foil 100 with a polyimide precursor solution and then heat-treating the copper foil 100.

銅箔100は、マット面MSとシャイニー面SSを有する銅層110及び銅層110のマット面MS及びシャイニー面SSの少なくとも一方に配置された防錆膜210を含む。ここで、防錆膜210は省略することもできる。 The copper foil 100 includes a copper layer 110 having a matte surface MS and a shiny surface SS, and a rust preventive film 210 arranged on at least one of the matte surface MS and the shiny surface SS of the copper layer 110. Here, the rust preventive film 210 may be omitted.

図7を参照すれば、防錆膜210上に高分子膜410が配置されたものが例示されているが、本発明のさらに他の一実施例がこれに限定されるものではない。高分子膜410が銅層110のシャイニー面SS上に配置されることもできる。 With reference to FIG. 7, a polymer film 410 arranged on the rust preventive film 210 is illustrated, but still another embodiment of the present invention is not limited thereto. The polymer film 410 can also be arranged on the shiny surface SS of the copper layer 110.

以下、図8を参照して、本発明の他の実施例による銅箔200の製造方法を具体的に説明する。 Hereinafter, a method for producing the copper foil 200 according to another embodiment of the present invention will be specifically described with reference to FIG.

図8は図3に示した銅箔200の製造方法を示す概略図である。 FIG. 8 is a schematic view showing a method for manufacturing the copper foil 200 shown in FIG.

まず、銅イオンを含む電解液11内に互いに離隔して配置された正極板13及び回転負極ドラム12を30〜80ASD(A/dm)の電流密度で通電させて銅層110を形成する。 First, the positive electrode plate 13 and the rotating negative electrode drum 12 arranged apart from each other in the electrolytic solution 11 containing copper ions are energized at a current density of 30 to 80 ASD (A / dm 2 ) to form the copper layer 110.

具体的に、図8を参照すれば、電解槽10に収容された電解液11内に配置された正極板13及び回転負極ドラム12に40〜80ASD(A/dm)の電流密度を印加して回転負極ドラム12上に銅を電着(electrodeposit)することによって銅層110を形成する。このとき、正極板13と回転負極ドラム12間の間隔は8〜13mmの範囲に調整することができる。 Specifically, referring to FIG. 8, a current density of 40 to 80 ASD (A / dm 2 ) is applied to the positive electrode plate 13 and the rotating negative electrode drum 12 arranged in the electrolytic solution 11 housed in the electrolytic cell 10. The copper layer 110 is formed by electrolyzing copper onto the rotating negative electrode drum 12. At this time, the distance between the positive electrode plate 13 and the rotating negative electrode drum 12 can be adjusted in the range of 8 to 13 mm.

正極板13と回転負極ドラム12の間に印加される電流密度が高いほど均一に電着されて銅層110のマット面MSの表面粗度が減少し、電流密度が低いほど不均一にメッキされて銅層110のマット面MSの表面粗度が高くなる。 The higher the current density applied between the positive electrode plate 13 and the rotating negative electrode drum 12, the more uniformly electrodeposition is performed, the less the surface roughness of the matte surface MS of the copper layer 110 decreases, and the lower the current density, the more unevenly plated. The surface roughness of the matte surface MS of the copper layer 110 is increased.

電解液11は70〜100g/Lの銅イオン及び80〜130g/Lの硫酸を含む。電解液の温度は50〜70℃に維持する。このような濃度を有する電解液11内で、回転負極ドラム12上に銅が容易に電着されることができる。 The electrolytic solution 11 contains 70 to 100 g / L of copper ions and 80 to 130 g / L of sulfuric acid. The temperature of the electrolyte is maintained at 50-70 ° C. Copper can be easily electrodeposited on the rotating negative electrode drum 12 in the electrolytic solution 11 having such a concentration.

また、電解液11は有機物であり、2〜20mg/Lの2−メルカプトチアゾリン(2−mercaptothiazoline)、2〜20mg/Lのビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド[bis−(3−sulfopropyl)disulfide](SPS)及び50mg/L以下のポリエチレングリコール(PEG)を含む。 Further, the electrolytic solution 11 is an organic substance, and is 2 to 20 mg / L of 2-mercaptothiazoline and 2 to 20 mg / L of bis (3-sulfopropyl) disulfide [bis- (3-sulfopolyethylene) disulfide]. Contains (SPS) and polyethylene glycol (PEG) of 50 mg / L or less.

2−メルカプトチアゾリン(2−mercaptothiazoline)は“MTZ”とも言い、下記の化学式1で表現することができる。 2-mercaptothiazoline is also referred to as "MTZ" and can be expressed by the following chemical formula 1.

2−メルカプトチアゾリン(MTZ)は銅層110製造過程で結晶粒微細化の機能をする。電解液11内で2−メルカプトチアゾリン(MTZ)の濃度が2mg/L未満であれば、2−メルカプトチアゾリン(MTZ)による結晶粒微細化が十分ではなくて、銅箔200の引張強度が29kgf/mm未満となる。一方、2−メルカプトチアゾリン(MTZ)の濃度が20mg/Lを超えれば、2−メルカプトチアゾリン(MTZ)による結晶粒微細化が過度になって銅箔200の引張強度が65kgf/mmを超えることになる。 2-Mercaptothiazolin (MTZ) functions as a grain refinement in the process of manufacturing the copper layer 110. If the concentration of 2-mercaptothiazolin (MTZ) in the electrolytic solution 11 is less than 2 mg / L, the grain refinement by 2-mercaptothiazolin (MTZ) is not sufficient, and the tensile strength of the copper foil 200 is 29 kgf /. It is less than mm 2 . On the other hand, if the concentration of 2-mercaptothiazolin (MTZ) exceeds 20 mg / L, the grain refinement by 2-mercaptothiazolin (MTZ) becomes excessive and the tensile strength of the copper foil 200 exceeds 65 kgf / mm 2. become.

電解液11内で光沢剤の役割をするビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド(SPS)の濃度が20mg/Lを超えて過度に高くなれば、銅層110の表面があまりにも均一に形成されて単位区間当たり凹凸数が少なくなり、これにより銅箔200の粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)が148μmを超える。一方、ビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド(SPS)の濃度が2mg/L未満であれば、銅電着時に表面を均一にする光沢剤の濃度があまりにも低くて銅層110の表面が不均一に形成される。これにより、銅箔200の単位区間当たり凹凸数が多くなり、粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)が18μm未満となる。 If the concentration of bis (3-sulfopropyl) disulfide (SPS) acting as a brightener in the electrolytic solution 11 becomes excessively high above 20 mg / L, the surface of the copper layer 110 is formed too uniformly. The number of irregularities per unit interval is reduced, so that the average spacing (Rsm) of the roughness profile elements of the copper foil 200 exceeds 148 μm. On the other hand, if the concentration of bis (3-sulfopropyl) disulfide (SPS) is less than 2 mg / L, the concentration of the brightener that makes the surface uniform during copper electrodeposition is too low and the surface of the copper layer 110 is non-uniform. Is formed in. As a result, the number of irregularities per unit section of the copper foil 200 increases, and the roughness profile element average spacing (Rsm) becomes less than 18 μm.

ポリエチレングリコール(PEG)は銅電着時に銅層110の表面を平坦にする役割をする。よって、電解液11内でポリエチレングリコール(PEG)の濃度が増加するほど銅層110の平滑度が高くなる。電解液11内のポリエチレングリコール(PEG)の濃度が50mg/Lを超えれば、銅箔200の表面の平滑度が高くなって銅箔200の最大高さ粗度(Rmax)が0.6μm未満となる。 Polyethylene glycol (PEG) serves to flatten the surface of the copper layer 110 during copper electrodeposition. Therefore, as the concentration of polyethylene glycol (PEG) in the electrolytic solution 11 increases, the smoothness of the copper layer 110 increases. When the concentration of polyethylene glycol (PEG) in the electrolytic solution 11 exceeds 50 mg / L, the surface smoothness of the copper foil 200 becomes high, and the maximum height roughness (Rmax) of the copper foil 200 becomes less than 0.6 μm. Become.

電解液11は50mg/L以下の銀(Ag)を含む。ここで、銀(Ag)は電解液11に解離したイオン状態(Ag)及び解離しなかった状態(Ag)を含み、塩として存在する状態も全て含む。一般に、電解液11内で銀(Ag)は不純物に当たる。電解液11内で銀(Ag)の濃度が50mg/Lを超えれば、回転負極ドラム12上に銅が過度に不均一に電着されることがある。よって、電解液11内の銀(Ag)の濃度を50mg/L以下に管理する。 The electrolytic solution 11 contains silver (Ag) of 50 mg / L or less. Here, silver (Ag) includes an ionic state (Ag + ) dissociated in the electrolytic solution 11 and a non-dissociated state (Ag), and also includes all states existing as salts. In general, silver (Ag) is an impurity in the electrolytic solution 11. If the concentration of silver (Ag) in the electrolytic solution 11 exceeds 50 mg / L, copper may be excessively non-uniformly electrodeposited on the rotating negative electrode drum 12. Therefore, the concentration of silver (Ag) in the electrolytic solution 11 is controlled to 50 mg / L or less.

電解液11内の銀(Ag)の濃度を50mg/L以下に管理するために、電解液11に塩素(Cl)を投入して銀(Ag)が塩化銀(AgCl)の形態として沈澱するようにすることによって銀(Ag)を除去することができる。例えば、電解液11は10〜30mg/Lの塩素(Cl)を含むことができる。ここで、塩素(Cl)は塩素イオン(Cl)及び分子内に存在する塩素原子を全て含む。具体的に、塩素(Cl)は銀(Ag)イオンを塩化銀(AgCl)の形態として沈澱させることができる。このような塩化銀(AgCl)は濾過によって除去することができる。 In order to control the concentration of silver (Ag) in the electrolytic solution 11 to 50 mg / L or less, chlorine (Cl) is added to the electrolytic solution 11 so that silver (Ag) precipitates in the form of silver chloride (AgCl). Silver (Ag) can be removed by setting. For example, the electrolytic solution 11 can contain 10 to 30 mg / L of chlorine (Cl). Here, chlorine (Cl) includes all chlorine ions (Cl ) and chlorine atoms existing in the molecule. Specifically, chlorine (Cl) can precipitate silver (Ag) ions in the form of silver chloride (AgCl). Such silver chloride (AgCl) can be removed by filtration.

電解液11内の不純物の含量を減らすために、銅イオンの材料となる銅ワイヤを熱処理し、熱処理された銅ワイヤを酸洗した後、酸洗された銅ワイヤを電解液用硫酸に投入することができる。 In order to reduce the content of impurities in the electrolytic solution 11, the copper wire used as a material for copper ions is heat-treated, the heat-treated copper wire is pickled, and then the pickled copper wire is put into sulfuric acid for an electrolytic solution. be able to.

電解液11は35〜50m/hourの流量を有することができる。すなわち、電着による銅層110の形成過程で電解液11に存在する固形不純物を除去するために、電解液11を35〜50m/hourの流量で循環させることができる。電解液11の循環過程で電解液11を濾過することができる。このような濾過によって塩化銀(AgCl)のような不純物を除去することにより、電解液11の清浄度を維持することができる。 The electrolyte 11 can have a flow rate of 35 to 50 m 3 / hour. That is, in order to remove the solid impurities present in the electrolytic solution 11 in the process of forming the copper layer 110 by electrodeposition, the electrolytic solution 11 can be circulated at a flow rate of 35 to 50 m 3 / hour. The electrolytic solution 11 can be filtered in the circulation process of the electrolytic solution 11. By removing impurities such as silver chloride (AgCl) by such filtration, the cleanliness of the electrolytic solution 11 can be maintained.

本発明の一実施例によれば、単位時間(秒)当たり電解液11の流量変化量(以下“流量偏差”と言う)が5%以下となるようにすることができる。流量偏差が5%を超える場合、不均一なメッキによって不均一な銅層110が形成されることがあり、それによって銅箔100の(220)面の集合組織係数バイアス[TCB(220)]が0.52を超えることになる。 According to one embodiment of the present invention, the amount of change in the flow rate of the electrolytic solution 11 (hereinafter referred to as “flow rate deviation”) per unit time (second) can be set to 5% or less. If the flow rate deviation exceeds 5%, the non-uniform plating may form a non-uniform copper layer 110, which causes the texture coefficient bias [TCB (220)] of the (220) plane of the copper foil 100. It will exceed 0.52.

一方、電解液11をオゾン処理するか電気メッキによって銅層110を形成するうちに電解液11に過酸化水素及び空気を投入することによって電解液11の清浄度を維持又は向上させることができる。 On the other hand, the cleanliness of the electrolytic solution 11 can be maintained or improved by adding hydrogen peroxide and air to the electrolytic solution 11 while the electrolytic solution 11 is ozone-treated or the copper layer 110 is formed by electroplating.

ついで、洗浄槽20で銅層110を洗浄する。 Then, the copper layer 110 is washed in the washing tank 20.

銅層110の表面の不純物を除去するために、洗浄槽20で水洗を行うことができる。もしくは、銅層110の表面の不純物を除去するために、酸洗(acid cleaning)を行い、ついで酸洗に使用された酸性溶液の除去のための水洗(water cleaning)を行うこともできる。洗浄工程は省略することもできる。 In order to remove impurities on the surface of the copper layer 110, washing with water can be performed in the washing tank 20. Alternatively, pickling (acid cleaning) may be performed to remove impurities on the surface of the copper layer 110, and then water cleaning may be performed to remove the acidic solution used for pickling. The cleaning step can be omitted.

ついで、銅層110上に防錆膜210、220を形成する。 Then, the rust preventive films 210 and 220 are formed on the copper layer 110.

図8を参照すれば、防錆槽30に収容された防錆液31内に銅層110を浸漬することで、銅層110上に防錆膜210、220を形成することができる。ここで、防錆液31はクロムを含み、防錆液31内でクロム(Cr)はイオン状態で存在することができる。防錆液31は0.5〜5g/Lのクロムを含むことができる。このように形成された防錆膜210、220を保護層とも言う。 With reference to FIG. 8, the rust preventive films 210 and 220 can be formed on the copper layer 110 by immersing the copper layer 110 in the rust preventive liquid 31 contained in the rust preventive tank 30. Here, the rust preventive liquid 31 contains chromium, and chromium (Cr) can be present in the rust preventive liquid 31 in an ionic state. The rust preventive liquid 31 can contain 0.5 to 5 g / L of chromium. The rust preventive films 210 and 220 formed in this way are also referred to as protective layers.

一方、防錆膜210、220はシラン処理によるシラン化合物を含むこともでき、窒素処理による窒素化合物を含むこともできる。 On the other hand, the rust preventive films 210 and 220 may contain a silane compound by silane treatment, and may also contain a nitrogen compound by nitrogen treatment.

このような防錆膜210、220の形成によって銅箔200が形成される。 The copper foil 200 is formed by forming the rust preventive films 210 and 220.

ついで、銅箔200を洗浄槽40で洗浄する。このような洗浄工程は省略することができる。 Then, the copper foil 200 is washed in the washing tank 40. Such a cleaning step can be omitted.

ついで、乾燥工程を行った後、銅箔200をワインダー(WR)で巻き取る。 Then, after performing the drying step, the copper foil 200 is wound up with a winder (WR).

以下、製造例及び比較例に基づいて本発明を具体的に説明する。ただし、下記の製造例は本発明の理解を助けるためのものであるだけで、本発明の権利範囲がこれらの製造例に制限されない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described based on a production example and a comparative example. However, the following production examples are only for the purpose of assisting the understanding of the present invention, and the scope of rights of the present invention is not limited to these production examples.

製造例1〜6及び比較例1〜6
電解槽10、電解槽10に配置された回転負極ドラム12及び回転負極ドラム12から離隔して配置された正極板13を含む製箔機を用いて銅箔を製造した。電解液11は硫酸銅溶液であり、電解液11の銅イオン濃度は75g/L、硫酸濃度は100g/L、塩素イオン(Cl)の濃度は17mg/Lであり、電解液11の温度は55℃に維持した。
Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6
Copper foil was produced using a foil making machine including an electrolytic cell 10, a rotating negative electrode drum 12 arranged in the electrolytic cell 10, and a positive electrode plate 13 arranged apart from the rotating negative electrode drum 12. The electrolytic solution 11 is a copper sulfate solution, the copper ion concentration of the electrolytic solution 11 is 75 g / L, the sulfuric acid concentration is 100 g / L, the concentration of chlorine ions (Cl ) is 17 mg / L, and the temperature of the electrolytic solution 11 is It was maintained at 55 ° C.

電解液11は表1に開示した濃度の2−メルカプトチアゾリン(MTZ)、ビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド(SPS)及びポリエチレングリコール(PEG)を含む。また、電解液11は42m/hourの流量で循環し、流量偏差は表1に開示した通りである。 The electrolyte 11 contains 2-mercaptothiazolin (MTZ), bis (3-sulfopropyl) disulfide (SPS) and polyethylene glycol (PEG) at the concentrations disclosed in Table 1. Further, the electrolytic solution 11 circulates at a flow rate of 42 m 3 / hour, and the flow rate deviation is as disclosed in Table 1.

まず、回転負極ドラム12と正極板13の間に60 ASDの電流密度で電流を印加して銅層110を形成した。 First, a current was applied between the rotating negative electrode drum 12 and the positive electrode plate 13 at a current density of 60 ASD to form a copper layer 110.

ついで、防錆槽30に収容された防錆液31に銅層110を浸漬させることにより、銅層110の表面にクロムを含む防錆膜210、220を形成した。このとき、防錆液31の温度は30℃で維持し、防錆液31は2.2g/Lのクロム(Cr)を含む。その結果、製造例1〜6及び比較例1〜6の銅箔が製造された。 Then, by immersing the copper layer 110 in the rust preventive liquid 31 contained in the rust preventive tank 30, the rust preventive films 210 and 220 containing chromium were formed on the surface of the copper layer 110. At this time, the temperature of the rust preventive liquid 31 is maintained at 30 ° C., and the rust preventive liquid 31 contains 2.2 g / L of chromium (Cr). As a result, the copper foils of Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 were produced.

このように製造された製造例1〜6及び比較例1〜6の銅箔に対し、(i)(220)面の集合組職係数バイアス[TCB(220)]、(ii)引張強度、(iii)粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)、及び(iv)最大高さ粗度(Rmax)を測定した。 With respect to the copper foils of Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 produced in this manner, the collective employment coefficient bias [TCB (220)] of the (i) and (220) planes, (ii) tensile strength, (ii) iii) Roughness profile element average spacing (Rsm) and (iv) maximum height roughness (Rmax) were measured.

その結果は表2に示した。 The results are shown in Table 2.

(i)(220)面の集合組職係数バイアス[TCB(220)]測定
まず、製造例1〜6及び比較例1〜6で製造された銅箔の(220)面の集合組職係数[TCB(220)]を測定した。
(I) Measurement of collective employment coefficient bias [TCB (220)] on the (220) plane First, the collective employment coefficient on the (220) plane of the copper foils manufactured in Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 [ TCB (220)] was measured.

製造例1〜6及び比較例1〜6で製造した銅箔に対して30°〜95°の回折角(2θ)の範囲でX線回折法(XRD)[(i)Target:Copper K alpha 1、(ii)2θ interval:0.01°、(iii)2θ scan speed:3°/min]を実施することにより、n個の結晶面に対応するピークを有するXRDグラフを得た。このグラフから各結晶面(hkl)のXRD回折強度[I(hkl)]を求めた。また、JCPDS(Joint Committee on Powder Diffraction Standards)によって規定された標準銅粉末のn個の結晶面のそれぞれに対するXRD回折強度[I(hkl)]を求めた。ここで、結晶面は(111)面、(200)面、(220)面及び(311)面であり、nは4である。 X-ray diffraction (XRD) [(i) Target: Copper K alpha 1) in the range of a diffraction angle (2θ) of 30 ° to 95 ° with respect to the copper foils produced in Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6. , (Ii) 2θ interval: 0.01 °, (iii) 2θ scan speed: 3 ° / min] to obtain an XRD graph having peaks corresponding to n crystal planes. From this graph, the XRD diffraction intensity [I (hkl)] of each crystal plane (hkl) was obtained. In addition, the XRD diffraction intensity [I 0 (hkl)] for each of the n crystal planes of the standard copper powder defined by JCPDS (Joint Committee on Power Diffraction Standards) was determined. Here, the crystal planes are the (111) plane, the (200) plane, the (220) plane, and the (311) plane, and n is 4.

ついで、n個の結晶面のI(hkl)/I(hkl)の算術平均値を求めた後、求めた算術平均値で(220)面のI(220)/I(220)を割ることによって銅箔の(220)面の集合組職係数[TC(220)]を算出した。(220)面の集合組職係数[TC(220)]は次の式2によって算出した。 Then, after calculating the arithmetic mean value of I (hkl) / I 0 (hkl) of n crystal planes, divide the I (220) / I 0 (220) of the (220) plane by the obtained arithmetic mean value. As a result, the collective employment coefficient [TC (220)] of the (220) plane of the copper foil was calculated. The set structure coefficient [TC (220)] of the (220) plane was calculated by the following equation 2.

(式2)
(Equation 2)

(220)面の集合組職係数[TC(220)]を用いて、次の式1によって(220)面の集合組職係数バイアス[TCB(220)]を測定した。 Using the (220) plane assembly coefficient [TC (220)], the (220) plane assembly coefficient bias [TCB (220)] was measured by the following equation 1.

具体的に、銅箔100の幅方向に左側、中央及び右側の各地点でそれぞれ3回ずつ[TC(220)](220面の集合組職係数)を測定してその平均を求めた。このとき、最高の[TC(220)]値をTCmaxとし、最低の[TC(220)]値をTCminとする。ついで、TCmaxとTCmin間の差、すなわち“TCmax−TCmin”値を計算して集合組職係数バイアス[TCB(220)]を算出した。 Specifically, [TC (220)] (coefficient of collective employment on 220 faces) was measured three times at each of the left, center, and right points in the width direction of the copper foil 100, and the average was calculated. At this time, the highest [TC (220)] value is TCmax, and the lowest [TC (220)] value is TCmin. Then, the difference between TCmax and TCmin, that is, the "TCmax-TCmin" value was calculated to calculate the collective employment coefficient bias [TCB (220)].

(式1)
集合組職係数バイアス[TCB(220)]=TCmax−TCmin
(Equation 1)
Group job coefficient bias [TCB (220)] = TCmax-TCmin

(ii)引張強度測定
IPC−TM−650 Test Method Manualの規定にしたがってInstron社の万能試験器で製造例1〜6及び比較例1〜6で製造された銅箔の引張強度を測定した。引張強度測定用サンプルの幅は12.7mm、グリップ(grip)間の距離は50mm、測定速度は50mm/minであった。サンプルの引張強度を3回にかけて繰り返し測定し、その平均を測定結果として評価した。
(Ii) Tensile Strength Measurement The tensile strength of the copper foils produced in Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 was measured with a universal tester manufactured by Instron in accordance with the provisions of IPC-TM-650 Test Method Manual. The width of the sample for measuring the tensile strength was 12.7 mm, the distance between the grips was 50 mm, and the measurement speed was 50 mm / min. The tensile strength of the sample was repeatedly measured over 3 times, and the average was evaluated as the measurement result.

(iii)粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)測定
粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)はJIS B 0601−2001規格によって粗度計で測定した。具体的に、ミツトヨ社のSJ−310モデルで粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)を測定した。ここで、カットオフ(cutoff)長を除いた測定長は4mmであり、カットオフ(cutoff)長は初期と終期にそれぞれ0.8mmであった。また、スタイラスチップ(stylus tip)の半径(radius)は2μmであった。
(Iii) Measurement of Roughness Profile Element Average Interval (Rsm) The roughness profile element average interval (Rsm) was measured with a roughness meter according to JIS B 0601-2001 standard. Specifically, the roughness profile element average spacing (Rsm) was measured with the SJ-310 model of Mitutoyo. Here, the measured length excluding the cutoff length was 4 mm, and the cutoff length was 0.8 mm at the initial stage and the final stage, respectively. Further, the radius of the stylus tip was 2 μm.

表面粗度プロファイルにおいて、一つの山(谷)が平均線(ML)と交差する点から隣接した山(谷)の対応点までの距離をXSiとするとき、粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)は次の式3で求めることができる。 In the surface roughness profile, when the distance from the point where one peak (valley) intersects the average line (ML) to the corresponding point of the adjacent peak (valley) is XSi, the roughness profile element average spacing (Rsm) Can be obtained by the following equation 3.

(式3)
(Equation 3)

(iv)最大高さ粗度(Rmax)測定
JIS B 0601−2001規格によって、粗度計で最大高さ粗度(Rmax)を測定した。具体的に、ミツトヨ社のSJ−310モデルで最大高さ粗度(Rmax)を測定した。ここで、カットオフ(cutoff)長を除いた測定長は4mmであり、カットオフ(cutoff)長は初期と終期にそれぞれ0.8mmとした。スタイラスチップ(Stylus tip)の半径(Radius)は2μmとし、測定圧力は0.75mNとした。以上のように設定した後に測定することにより、ミツトヨ社の粗度計による測定値を基準として最大高さ粗度(Rmax)に対する測定値を得た。
(Iv) Measurement of maximum height roughness (Rmax) The maximum height roughness (Rmax) was measured with a roughness meter according to the JIS B 0601-2001 standard. Specifically, the maximum height roughness (Rmax) was measured with the SJ-310 model of Mitutoyo. Here, the measured length excluding the cutoff length was 4 mm, and the cutoff length was set to 0.8 mm at the initial stage and the final stage, respectively. The radius of the stylus tip was 2 μm, and the measurement pressure was 0.75 mN. By measuring after setting as described above, a measured value with respect to the maximum height roughness (Rmax) was obtained with reference to the value measured by a roughness meter manufactured by Mitutoyo.

(v)たるみ、しわ及び引裂発生観察
1)負極製造
商業的に利用可能な負極活物質用カーボン100重量部に2重量部のスチレンブタジエンゴム(SBR)及び2重量部のカルボキシメチルセルロース(CMC)を混合し、蒸溜水を溶剤として用いて負極活物質用スラリーを調製した。ドクターブレードを用いて10cmの幅を有する製造例1〜6及び比較例1〜7の銅箔上に40μmの厚さで負極活物質用スラリーを塗布し、これを120℃で乾燥し、1ton/cmの圧力で加圧して二次電池用負極を製造した。
(V) Observation of sagging, wrinkling and tearing 1) Manufacture of negative electrode 2 parts by weight of styrene-butadiene rubber (SBR) and 2 parts by weight of carboxymethyl cellulose (CMC) are added to 100 parts by weight of commercially available negative electrode active material carbon. The mixture was mixed and distilled water was used as a solvent to prepare a slurry for a negative electrode active material. Using a doctor blade, a slurry for negative electrode active material with a thickness of 40 μm was applied onto the copper foils of Production Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 7 having a width of 10 cm, dried at 120 ° C., and 1 ton / A negative electrode for a secondary battery was manufactured by pressurizing with a pressure of cm 2 .

2)電解液製造
エチレンカーボネート(EC)及びエチレンメチルカーボネート(EMC)を1:2の比率で混合した非水性有機溶媒に溶質であるLiPFを1Mの濃度で溶解して基本電解液を製造した。99.5重量%の基本電解液と0.5重量%の無水コハク酸(Succinic anhydride)を混合して非水性電解液を製造した。
2) Production of electrolytic solution A basic electrolytic solution was produced by dissolving LiPF 6 , which is a solute, in a non-aqueous organic solvent in which ethylene carbonate (EC) and ethylene methyl carbonate (EMC) were mixed at a ratio of 1: 2. .. A 99.5% by weight basal electrolyte and 0.5% by weight succinic anhydride were mixed to produce a non-aqueous electrolyte.

3)正極製造
Li1.1Mn1.85Al0.05のリチウムマンガン酸化物とo−LiMnOの斜方晶系(orthorhombic)結晶構造のリチウムマンガン酸化物を90:10(重量比)の比で混合して正極活物質を製造した。正極活物質、カーボンブラック、及び決着剤であるPVDF[Poly(vinylidenefluoride)]を85:10:5(重量比)で混合し、これを有機溶媒であるNMPと混合してスラリーを製造した。このように製造されたスラリーを20μm厚さのAl箔(foil)の両面に塗布してから乾燥して正極を製造した。
3) Positive electrode production Li 1.1 Mn 1.85 Al 0.05 O 4 lithium manganese oxide and o-LiMnO 2 orthorhombic crystal structure lithium manganese oxide 90:10 (weight ratio) ) Was mixed to produce a positive electrode active material. The positive electrode active material, carbon black, and PVDF [Poly (vinylidene fluoride)], which is a determinant, were mixed at a ratio of 85:10: 5 (weight ratio), and this was mixed with NMP, which is an organic solvent, to prepare a slurry. The slurry thus produced was applied to both surfaces of an Al foil (foil) having a thickness of 20 μm and then dried to produce a positive electrode.

4)試験用リチウム二次電池製造
アルミニウム缶の内部に、アルミニウム缶と絶縁されるように正極と負極を配置し、その間に非水性電解液及び分離膜を配置してコイン状のリチウム二次電池を製造した。分離膜としてポリプロピレン(Celgard 2325;厚さ25μm、平均細孔径(average pore size)φ28nm、気孔率(porosity)40%)を使った。
4) Manufacture of lithium secondary battery for test A coin-shaped lithium secondary battery is provided by arranging a positive electrode and a negative electrode inside an aluminum can so as to be insulated from the aluminum can, and arranging a non-aqueous electrolyte solution and a separation membrane between them. Manufactured. Polypropylene (Celgard 2325; thickness 25 μm, average pore size φ28 nm, porosity 40%) was used as the separation membrane.

5)たるみ、しわ及び引裂発生観察
一連のリチウム二次電池製造過程で銅箔のたるみ、しわ及び引裂を観察した。特に、銅箔及び負極の製造過程で銅箔のたるみ、しわ及び引裂の発生有無を肉眼で観察した。たるみ、しわ又は引裂が発生しない場合を“良好”と表示した。その評価及び観察の結果は下記の表2に示した。
5) Observation of sagging, wrinkling and tearing Occurrence of sagging, wrinkling and tearing was observed in a series of lithium secondary battery manufacturing processes. In particular, the presence or absence of sagging, wrinkling, and tearing of the copper foil was visually observed during the manufacturing process of the copper foil and the negative electrode. The case where no sagging, wrinkling or tearing occurred was indicated as "good". The results of the evaluation and observation are shown in Table 2 below.

比較例1〜6による銅箔及びリチウム二次電池の製造過程で銅箔にたるみ、しわ又は引裂が発生したが、製造例1〜6による銅箔及びリチウム二次電池の製造過程では銅箔にたるみ、しわ又は引裂が発生しなかった。 The copper foil slackened, wrinkled or torn during the manufacturing process of the copper foil and the lithium secondary battery according to Comparative Examples 1 to 6, but the copper foil was formed during the manufacturing process of the copper foil and the lithium secondary battery according to the manufacturing examples 1 to 6. No sagging, wrinkling or tearing occurred.

具体的に、次の銅箔を用いてリチウム二次電池を製造する過程で銅箔にたるみ、しわ又は引裂が発生した。 Specifically, in the process of manufacturing a lithium secondary battery using the following copper foil, the copper foil was sagging, wrinkled, or torn.

(1)流量偏差が5%を超え、(220)面の集合組職係数バイアス[TCB(220)]が0.52を超える比較例1(しわ発生);
(2)電解液内の2−メルカプトチアゾリン(MTZ)の濃度が1mg/L未満であり、引張強度が29kgf/mm未満の比較例2(しわ発生);
(3)電解液内の2−メルカプトチアゾリン(MTZ)の濃度が20mg/Lを超え、引張強度が65kgf/mmを超える比較例3(引裂発生);
(4)電解液内のビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド(SPS)の含量が2mg/L未満であり、粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)が18μm未満の比較例4(引裂発生);
(5)電解液内のビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド(SPS)含量が21mg/Lを超え、粗度プロファイル要素平均間隔(Rsm)が148μmを超える比較例5(しわ発生);
(6)電解液内のポリエチレングリコール(PEG)の含量が50mg/Lを超え、最大高さ粗度(Rmax)が0.6μm未満の比較例6(たるみ発生)。
(1) Comparative Example 1 (wrinkle occurrence) in which the flow rate deviation exceeds 5% and the collective employment coefficient bias [TCB (220)] on the (220) plane exceeds 0.52;
(2) Comparative Example 2 (wrinkle generation) in which the concentration of 2-mercaptothiazolin (MTZ) in the electrolytic solution is less than 1 mg / L and the tensile strength is less than 29 kgf / mm 2 .
(3) Comparative Example 3 (tear generation) in which the concentration of 2-mercaptothiazolin (MTZ) in the electrolytic solution exceeds 20 mg / L and the tensile strength exceeds 65 kgf / mm 2 .
(4) Comparative Example 4 (cracking) in which the content of bis (3-sulfopropyl) disulfide (SPS) in the electrolytic solution is less than 2 mg / L and the average roughness profile element interval (Rsm) is less than 18 μm;
(5) Comparative Example 5 (wrinkle generation) in which the bis (3-sulfopropyl) disulfide (SPS) content in the electrolytic solution exceeds 21 mg / L and the roughness profile element average interval (Rsm) exceeds 148 μm;
(6) Comparative Example 6 (sagging) in which the content of polyethylene glycol (PEG) in the electrolytic solution exceeds 50 mg / L and the maximum height roughness (Rmax) is less than 0.6 μm.

このような比較例1〜6による銅箔はリチウム二次電池用負極集電体として適しないと評価することができる。 It can be evaluated that the copper foil according to Comparative Examples 1 to 6 is not suitable as a negative electrode current collector for a lithium secondary battery.

一方、本発明の実施例による条件範囲で製造された製造例1〜6の場合、銅箔の製造過程又は銅箔を用いたリチウム二次電池の製造過程で銅箔が破れなく、銅箔にたるみ又はしわが発生しない。したがって、本発明の実施例による銅箔は優れたロールツーロール(RTR)工程性を有し、リチウム二次電池用負極集電体として有用に使われることができる。 On the other hand, in the case of Production Examples 1 to 6 manufactured within the condition range according to the examples of the present invention, the copper foil was not torn during the copper foil manufacturing process or the lithium secondary battery manufacturing process using the copper foil, and the copper foil was formed. No sagging or wrinkles. Therefore, the copper foil according to the embodiment of the present invention has excellent roll-to-roll (RTR) processability and can be usefully used as a negative electrode current collector for a lithium secondary battery.

以上で説明した本発明は前述した実施例及び添付図面に限定されるものではなく、本発明の技術的事項を逸脱しない範疇内でさまざまな置換、変形及び変更が可能であることが本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明らかであろう。したがって、本発明の範囲は後述する特許請求範囲によって限定され、特許請求範囲の意味、範囲及びその等価の概念から導出される全ての変更又は変形の形態が本発明の範囲に含まれると解釈されなければならない。 The present invention described above is not limited to the above-described Examples and the accompanying drawings, and the present invention states that various substitutions, modifications and changes can be made within the scope of the technical matters of the present invention. It will be obvious to those who have ordinary knowledge in the technical field to which they belong. Therefore, the scope of the present invention is limited by the claims described later, and it is interpreted that the scope of the present invention includes all forms of modification or modification derived from the meaning, scope and equivalent concept of the claims. There must be.

100、200 銅箔
210、220 防錆膜
310 活物質層
300、400 二次電池用電極
340 二次電池用負極
370 二次電池用正極
MS マット面
SS シャイニー面
100, 200 Copper foil 210, 220 Anti-rust film 310 Active material layer 300, 400 Electrode for secondary battery 340 Negative electrode for secondary battery 370 Positive electrode for secondary battery MS matte surface SS shiny surface

Claims (12)

銅層を含み、
29〜65kgf/mmの引張強度、
18〜148μmの粗度プロファイル要素平均間隔(mean width of roughness profile elements)(Rsm)、
0.52以下の集合組織係数バイアス[TCB(220)]、及び
0.6μm以上の最大高さ粗度(Rmax)、
を有する、銅箔であって、
前記集合組織係数バイアス[TCB(220)]は、下記(式1)によって算出される、銅箔。

集合組織係数バイアス[TCB(220)]=TCmax−TCmin (式1)

ただし、前記(式1)におけるTCmax及びTCminは前記銅箔の(220)面の集合組織係数[TC(220)]から求められ、
前記銅箔の(220)面の集合組織係数[TC(220)]は、銅箔の幅方向の左側、中央、及び右側の各地点でそれぞれ3回ずつ測定され、左側、中央、及び右側の各地点での[TC(220)]の平均値が算出され、
これら平均値のうち、最高の平均値がTCmaxとされ、最低の平均値がTCminとされる。
Contains a copper layer
Tensile strength of 29-65 kgf / mm 2
18-148 μm roughness profile element mean spacing (mean width of roofness profile elements) (Rsm),
0.52 The following texture coefficient bias [TCB (220)], and 0.6 2 [mu] m or more of the maximum height roughness (Rmax),
It is a copper foil that has
The texture coefficient bias [TCB (220)] is a copper foil calculated by the following (Equation 1).

Aggregate Coefficient Bias [TCB (220)] = TCmax-TCmin (Equation 1)

However, TCmax and TCmin in the above (Equation 1) are obtained from the texture coefficient [TC (220)] of the (220) plane of the copper foil.
The texture coefficient [TC (220)] of the (220) surface of the copper foil was measured three times at each of the left, center, and right points in the width direction of the copper foil, and was measured three times, respectively, on the left, center, and right sides. The average value of [TC (220)] at each point is calculated.
Of these average values, the highest average value is TCmax, and the lowest average value is TCmin.
前記銅層上に配置された防錆膜をさらに含む、請求項1に記載の銅箔。 The copper foil according to claim 1, further comprising a rust preventive film arranged on the copper layer. 前記防錆膜は、クロム(Cr)、シラン化合物及び窒素化合物の少なくとも1種を含む、請求項2に記載の銅箔。 The copper foil according to claim 2, wherein the rust preventive film contains at least one of chromium (Cr), a silane compound and a nitrogen compound. 5%以下の重量偏差を有する、請求項1に記載の銅箔。 The copper foil according to claim 1, which has a weight deviation of 5% or less. 25±15℃の常温で2%以上の伸び率を有する、請求項1に記載の銅箔。 The copper foil according to claim 1, which has an elongation rate of 2% or more at a room temperature of 25 ± 15 ° C. 4μm〜30μmの厚さを有する、請求項1に記載の銅箔。 The copper foil according to claim 1, which has a thickness of 4 μm to 30 μm. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の銅箔、及び
前記銅箔上に配置された活物質層、
を含む、二次電池用電極。
The copper foil according to any one of claims 1 to 6, and an active material layer arranged on the copper foil.
Including electrodes for secondary batteries.
正極(cathode)、
前記正極と対向して配置された負極(anode)、
前記正極と前記負極の間に配置され、イオンが移動することができる環境を提供する電解質(electrolyte)、及び
前記正極と前記負極を電気的に絶縁させる分離膜(separator)、を含み、
前記負極は、
請求項1〜6のいずれか一項に記載の銅箔、及び
前記銅箔上に配置された活物質層、
を含む、二次電池。
Positive electrode (cathode),
A negative electrode (anode) arranged to face the positive electrode,
It contains an electrolyte that is disposed between the positive electrode and the negative electrode and provides an environment in which ions can move, and a separation membrane that electrically insulates the positive electrode and the negative electrode.
The negative electrode is
The copper foil according to any one of claims 1 to 6, and an active material layer arranged on the copper foil.
Including secondary batteries.
高分子膜、及び
前記高分子膜上に配置された、請求項1〜6のいずれか一項に記載の銅箔、
を含む、軟性銅箔積層フィルム。
The copper foil according to any one of claims 1 to 6, which is arranged on the polymer film and the polymer film.
Soft copper foil laminated film, including.
請求項1〜6のいずれか一項に記載の銅箔の製造方法であって、
銅イオンを含む電解液内に互いに離隔して配置された正極板及び回転負極ドラムを30〜80A/dm2の電流密度で通電させて銅層を形成する段階を含み、
前記電解液は、
温度が50〜70℃に維持されるとともに、
70〜100g/Lの銅イオン、
80〜130g/Lの硫酸、
2〜20mg/Lの2−メルカプトチアゾリン(2−Mercaptothiazoline)、
2〜20mg/Lのビス(3−スルホプロピル)ジスルフィド[bis−(3−sulfopropyl)disulfide](SPS)、及び
50mg/L以下のポリエチレングリコール(PEG)、
を含む、方法。
The method for producing a copper foil according to any one of claims 1 to 6.
It includes a step of forming a copper layer by energizing a positive electrode plate and a rotating negative electrode drum arranged apart from each other in an electrolytic solution containing copper ions at a current density of 30 to 80 A / dm2.
The electrolytic solution is
While the temperature is maintained at 50-70 ° C,
70-100g / L copper ion,
80-130 g / L sulfuric acid,
2-20 mg / L 2-mercaptothiazoline,
2 to 20 mg / L bis (3-sulfopropyl) disulfide [bis- (3-sulfopropyl) disulfide] (SPS), and 50 mg / L or less polyethylene glycol (PEG),
Including methods.
前記電解液は10〜30mg/Lの塩素(Cl)を含む、請求項10に記載の方法。 The method according to claim 10, wherein the electrolytic solution contains 10 to 30 mg / L of chlorine (Cl). 前記電解液の単位時間(秒、second)当たり流量偏差が5%以下である、請求項10に記載の方法。 The method according to claim 10, wherein the flow rate deviation per unit time (seconds, seconds) of the electrolytic solution is 5% or less.
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