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JP6774727B2 - Method for manufacturing joint reinforcing composition and joint reinforcing portion - Google Patents
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Description

本発明は、接合補強用組成物および接合補強部の製造方法に関する。 The present invention relates to a composition for reinforcing a joint and a method for manufacturing a joint reinforcing portion.

電子部品といった被接合材を基板に実装する際には、はんだ合金を用いたはんだ接合が行われている。 When a material to be joined such as an electronic component is mounted on a substrate, solder bonding using a solder alloy is performed.

近年、電子機器に用いられる基板および電子部品等の被接合材は更なる小型化、薄型化が進められており、基板上には微小サイズの被接合材が多く搭載されている。そしてこれに伴い、はんだ接合の対象となる領域も微細、微小化が求められている。このような電子機器、特に今後より一層の機能が追加される自動車用電子機器においては、これに搭載される車載用基板にも小さく且つ多くの被接合材が搭載されるようになっており、微細、微小なはんだ接合(以下、「微細接合」という。)に対して求められる信頼性はより一層高くなることが予想される。 In recent years, substrates and materials to be joined such as electronic components used in electronic devices have been further miniaturized and made thinner, and many micro-sized materials to be joined are mounted on the substrate. Along with this, the region to be soldered is also required to be fine and miniaturized. In such electronic devices, especially automobile electronic devices to which further functions will be added in the future, small and many materials to be bonded are mounted on the in-vehicle substrate mounted on the electronic devices. It is expected that the reliability required for fine and fine solder joints (hereinafter referred to as "fine joints") will be further increased.

従来、パッケージ部品などの微細接合が行われるものには、信頼性の観点から、基板と被接合材とのはんだ接合部にアンダーフィル等の手法で樹脂を充填、硬化することでこれを補強していた。しかし基板上に実装される部品が微細になればなるほど各はんだ接合部間および基板と被接合材間が近接するようになるため、例えばはんだ接合後に樹脂を充填するいわゆるキャピラリーアンダーフィルの場合、はんだ接合部間等への樹脂の充填に時間がかかる等の問題がある。 Conventionally, for those that are finely bonded such as package parts, from the viewpoint of reliability, the solder joint between the substrate and the material to be joined is reinforced by filling and curing the resin by a method such as underfilling. Was there. However, the finer the components mounted on the board, the closer each solder joint and the board and the material to be joined become closer. Therefore, for example, in the case of so-called capillary underfill in which resin is filled after solder joining, soldering is performed. There is a problem that it takes time to fill the resin between the joints.

また先に樹脂を塗布し被接合材を接合する場合もあり、この樹脂としてはエポキシ樹脂を用いることが多い(特許文献1)。しかしエポキシ樹脂はこれと併用する有機酸やアミンの種類によってこれと反応し易いという特性を有するいため、これらを混合した段階から両者の反応が始まり、シェルフライフの悪化や混合物の粘度の上昇を引き起こし、接合部の補強効果が阻害される虞がある。 Further, a resin may be applied first to join the material to be joined, and an epoxy resin is often used as this resin (Patent Document 1). However, since epoxy resin has the property of easily reacting with it depending on the type of organic acid or amine used in combination with it, the reaction between the two starts from the stage where they are mixed, causing deterioration of shelf life and increase in viscosity of the mixture. , The reinforcing effect of the joint may be hindered.

特開2016−23299号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-23299

本発明は、使用する活性剤を選ぶことなく良好なシェルフライフおよび粘度を実現し、微細接合においても手間なく良好な接合部の形成およびその補強効果を発揮することのできる接合補強用組成物およびこれを用いた接合補強部の製造方法を提供することをその目的とする。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention provides a joint reinforcing composition capable of achieving a good shelf life and viscosity without selecting an activator to be used, forming a good joint portion and exerting a reinforcing effect thereof without trouble even in fine bonding. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a joint reinforcing portion using this.

(1)本発明の接合補強用組成物は、(A)熱硬化性樹脂と、(B)活性剤とを含み、前記熱硬化性樹脂(A)はマレイミド骨格を有するマレイミド化合物(A−1)を含むことをその特徴とする。 (1) The bonding reinforcing composition of the present invention contains (A) a thermosetting resin and (B) an activator, and the thermosetting resin (A) is a maleimide compound (A-1) having a maleimide skeleton. ) Is included.

(2)上記(1)に記載の構成にあって、前記マレイミド化合物(A−1)は、末端または側鎖に複数のマレイミド基を有することをその特徴とする。 (2) In the configuration described in (1) above, the maleimide compound (A-1) is characterized by having a plurality of maleimide groups at the terminal or side chain.

(3)上記(1)または(2)に記載の構成にあって、前記マレイミド化合物(A−1)としては、下記一般式(1)および(2)で表されるマレイミド化合物の少なくとも一方を含むことをその特徴とする。 (3) In the configuration according to (1) or (2) above, as the maleimide compound (A-1), at least one of the maleimide compounds represented by the following general formulas (1) and (2) is used. Its characteristic is to include it.

(式中、Yは炭素数36または54の重合脂肪酸から誘導されるダイマージアミン残基または脂肪族ジアミン残基を表し、Zは四塩基酸無水物と1級アミンの反応からなるイミド化合物残基を表し、Pは0から10の整数を表す。) (Wherein, Y represents a dimer diamine residue or aliphatic diamine residue derived from polymerized fatty acid having 36 or 54 carbon, Z is an imide compound residue consisting of the reaction of tetracarboxylic acid dianhydride with a primary amine Represents a group, where P represents an integer from 0 to 10.)

(式中、RからR水素、水酸基、メチル基またはエチル基のいずれかを表、Xは介在する有機基がない、若しくはC、H、Oからなる任意の有機基を表す。) (Wherein, R 8 R 1 to Represents any of hydrogen, hydroxyl, methyl or ethyl, X represents no organic group intervening, or C, H, any organic group consisting of O. )

(4)上記(1)から(3)のいずれか1に記載の構成にあって、本発明の接合補強用組成物は更に(C)硬化剤を含むことをその特徴とする。 (4) The composition according to any one of (1) to (3) above, wherein the bonding reinforcing composition of the present invention further contains (C) a curing agent.

(5)上記(1)から(4)のいずれか1に記載の構成にあって、前記硬化剤(C)は、イミダゾール化合物、イミダゾール塩類、過酸化物類、メラミンおよびアミン類から選ばれる少なくとも1種であることをその特徴とする。 (5) In the configuration according to any one of (1) to (4) above, the curing agent (C) is at least selected from imidazole compounds, imidazole salts, peroxides, melamine and amines. Its characteristic is that it is one kind.

(6)上記(1)から(5)のいずれか1項に記載の構成にあって、本発明の接合補強用組成物は基板と被接合材とのはんだ接合の補強に用いられ、前記基板と前記被接合材とをはんだ接合する接合部を形成する接合用金属のはんだ溶融時における粘度が10Pa・s以下であり、且つ300℃におけるその粘度が100Pa・s以上であることをその特徴とする。 (6) In the configuration according to any one of (1) to (5) above, the bonding reinforcing composition of the present invention is used for reinforcing the solder bonding between the substrate and the material to be bonded, and the substrate is said to be reinforced. The characteristic of the metal for joining, which forms a joint portion for soldering the material to be joined, is that the viscosity of the metal for joining at the time of solder melting is 10 Pa · s or less, and the viscosity at 300 ° C. is 100 Pa · s or more. To do.

(7)本発明の接合補強部の製造方法は、基板上および被接合材の少なくとも一方の所定の位置に接合用金属を設ける工程と、前記基板または前記被接合材の所定の位置に上記(1)から(6)のいずれか1に記載の接合補強用組成物を塗布する工程と、前記被接合材を前記基板上の所定の位置に載置してこれを加熱する工程と、加熱により前記接合用金属を溶融させ前記基板と前記被接合材を接合する接合部を形成すると共に当該接合部に当接する領域およびその近傍領域の少なくとも一方に前記接合補強用組成物の硬化物からなる接合補強部を形成する工程とを含むことをその特徴とする。 (7) The method for manufacturing a joint reinforcing portion of the present invention includes a step of providing a metal for joining at at least one predetermined position on the substrate and the material to be joined, and the above (7) at a predetermined position of the substrate or the material to be joined. By the step of applying the bonding reinforcing composition according to any one of 1) to (6), the step of placing the material to be bonded at a predetermined position on the substrate and heating it, and heating. The metal for joining is melted to form a joining portion for joining the substrate and the material to be joined, and the joining made of a cured product of the joining reinforcing composition is formed in at least one of a region abutting the joining portion and a region in the vicinity thereof. Its characteristic is that it includes a step of forming a reinforcing portion.

本発明の接合補強用組成物および接合補強部の製造方法は、使用する活性剤を選ぶことなく良好なシェルフライフおよび粘度を実現し、微細接合においても手間なく良好な接合部の形成およびその補強効果を発揮することができる。 The joint reinforcing composition and the method for producing a joint reinforcing portion of the present invention realize a good shelf life and viscosity without selecting an activator to be used, and form a good joint portion and reinforce it without hassle even in fine bonding. It can be effective.

実施例および比較例の接合補強用組成物に係るはんだ接合性試験における加熱プロファイル条件を示したグラフ。The graph which showed the heating profile condition in the solder bondability test which concerns on the composition for joint reinforcement of an Example and a comparative example. 実施例1および比較例2の接合補強用組成物に係るレオメーター試験において測定した粘度を示したグラフ。The graph which showed the viscosity measured in the rheometer test concerning the composition for joint reinforcement of Example 1 and Comparative Example 2.

本発明の接合補強用組成物および接合補強部の製造方法の一実施形態を以下に詳述する。 An embodiment of the composition for reinforcing the joint and the method for producing the joint reinforcing portion of the present invention will be described in detail below.

1.接合補強用組成物
本実施形態に係る接合補強用組成物は、(A)熱硬化性樹脂と、(B)活性剤とを含む。
1. 1. Bond Reinforcing Composition The bonding reinforcing composition according to the present embodiment contains (A) a thermosetting resin and (B) an activator.

(A)熱硬化性樹脂
本実施形態の接合補強用組成物に使用する熱硬化性樹脂(A)としては、(A−1)マレイミド骨格を有するマレイミド化合物が好ましく用いられる。当該マレイミド化合物(A−1)としては、末端または側鎖に複数のマレイミド基を有する化合物が好ましく用いられる。
このようなマレイミド化合物(A−1)は耐熱性、絶縁性、耐湿性および低誘電特性に優れ、また活性剤(B)と反応し難い。そのため本実施形態の接合補強用組成物はその粘度の上昇を抑制することができ、またこれを用いて形成される接合補強部は良好な耐熱性、絶縁性および耐湿性を実現できる。
(A) Thermosetting Resin As the thermosetting resin (A) used in the bonding reinforcing composition of the present embodiment, (A-1) a maleimide compound having a maleimide skeleton is preferably used. As the maleimide compound (A-1), a compound having a plurality of maleimide groups at the terminal or side chain is preferably used.
Such a maleimide compound (A-1) is excellent in heat resistance, insulating property, moisture resistance and low dielectric property, and is difficult to react with the activator (B). Therefore, the joint reinforcing composition of the present embodiment can suppress an increase in its viscosity, and the joint reinforcing portion formed by using the composition can realize good heat resistance, insulation and moisture resistance.

前記マレイミド化合物(A−1)としては例えば多官能脂肪族マレイミド化合物や多官能芳香族マレイミド化合物が好ましく用いられる。また当該多官能脂肪族化合物としては、下記一般式(1)で表されるマレイミド化合物(A−1)が好ましく用いられる。 As the maleimide compound (A-1), for example, a polyfunctional aliphatic maleimide compound or a polyfunctional aromatic maleimide compound is preferably used. Further, as the polyfunctional aliphatic compound, a maleimide compound (A-1) represented by the following general formula (1) is preferably used.

(式中、Yは炭素数36または54の重合脂肪酸から誘導されるダイマージアミン残基または脂肪族ジアミン残基を表し、Zは四塩基酸無水物と1級アミンの反応からなるイミド化合物残基を表し、Pは0から10の整数を表す。) (Wherein, Y represents a dimer diamine residue or aliphatic diamine residue derived from polymerized fatty acid having 36 or 54 carbon, Z is an imide compound residue consisting of the reaction of tetracarboxylic acid dianhydride with a primary amine Represents a group, where P represents an integer from 0 to 10.)

前記一般式(1)で表されるマレイミド化合物(A−1)は、例えば炭素数36または54のダイマー酸から誘導されたジアミンとマレイン酸無水物とを反応させてビスマレアミド酸を得、これを脱水閉環することにより得られる。 The maleimide compound (A-1) represented by the general formula (1) is obtained by reacting, for example, a diamine derived from a dimer acid having 36 or 54 carbon atoms with a maleic anhydride to obtain bismaleamic acid. Obtained by dehydration ring closure.

前記一般式(1)で表されるマレイミド化合物(A−1)としては、例えば2−[8−(3−ヘキシル−2,6−ジオクチルシクロヘキシル)オクチル] ピロメリティックジイミドオリゴマーが挙げられる。市販品としては例えばBMI−689、BMI−1500、BMI−1700、BMI−3000、 BMI−5000(いずれもDesigner Molecules Inc.製)が好ましく用いられる。 Examples of the maleimide compound (A-1) represented by the general formula (1) include 2- [8- (3-hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl) octyl] pyromeriticdiimide oligomer. As commercially available products, for example, BMI-689, BMI-1500, BMI-1700, BMI-3000, and BMI-5000 (all manufactured by Designer Moleculars Inc.) are preferably used.

また前記多官能芳香族マレイミド化合物としては、下記一般式(2)で表されるマレイミド化合物(A−1)が好ましく用いられる。 Further, as the polyfunctional aromatic maleimide compound, the maleimide compound (A-1) represented by the following general formula (2) is preferably used.

(式中、RからR水素、水酸基、メチル基またはエチル基のいずれかを表、Xは介在する有機基がない、若しくはC、H、Oからなる任意の有機基を表す。) (Wherein, R 8 R 1 to Represents any of hydrogen, hydroxyl, methyl or ethyl, X represents no organic group intervening, or C, H, any organic group consisting of O. )

前記一般式(2)で表されるマレイミド化合物(A−1)は、例えば芳香族ジアミンと無水マレイン酸の脱水イミド化により得られる。 The maleimide compound (A-1) represented by the general formula (2) can be obtained, for example, by dehydration imidization of an aromatic diamine and maleic anhydride.

前記一般式(2)で表されるマレイミド化合物としては、例えば4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4、4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、4,4’−ジフェニルエーテルビスマレイミド、4,4’−ジフェニルスルホンビスマレイミド等が挙げられる。なお市販品としては例えばBMI、BMI−70、BMI−80(いずれもケイ・アイ化成(株)製)が挙げられる。 Examples of the maleimide compound represented by the general formula (2) include 4,4'-diphenylmethane bismaleimide, bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, 2,2-bis [4- (4-maleimide phenoxy) phenyl] propane, and 3 , 3'-Dimethyl-5,5'-diethyl-4, 4'-diphenylmethane bismaleimide, 4,4'-diphenyl ether bismaleimide, 4,4'-diphenylsulfone bismaleimide and the like. Examples of commercially available products include BMI, BMI-70, and BMI-80 (all manufactured by KAI Kasei Co., Ltd.).

なお前記マレイミド化合物(A−1)としては、特にビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミドが好ましく用いられる。
また前記マレイミド化合物(A−1)は1種を単独でまたは複数種を組合せて使用することができるが、前記多官能芳香族マレイミド化合物を用いる場合、多官能脂肪族マレイミド化合物と併用することがより好ましい。
As the maleimide compound (A-1), bisphenol A diphenyl ether bismaleimide is particularly preferably used.
Further, the maleimide compound (A-1) may be used alone or in combination of a plurality of types, but when the polyfunctional aromatic maleimide compound is used, it may be used in combination with the polyfunctional aliphatic maleimide compound. More preferred.

前記マレイミド化合物(A−1)の配合量は、前記熱硬化性樹脂(A)全量に対して10重量%から100重量%であることが好ましい。より好ましいその配合量は20重量%から90重量%であり、特に好ましくは30重量%から80重量%である。
なお前記多官能芳香族マレイミド化合物と多官能脂肪族マレイミド化合物とを併用する場合、その配合比率は5:95から95:5(多官能芳香族マレイミド化合物:多官能脂肪族マレイミド化合物)である。
The blending amount of the maleimide compound (A-1) is preferably 10% by weight to 100% by weight with respect to the total amount of the thermosetting resin (A). The blending amount thereof is more preferably 20% by weight to 90% by weight, and particularly preferably 30% by weight to 80% by weight.
When the polyfunctional aromatic maleimide compound and the polyfunctional aliphatic maleimide compound are used in combination, the blending ratio thereof is 5:95 to 95: 5 (polyfunctional aromatic maleimide compound: polyfunctional aliphatic maleimide compound).

また前記熱硬化性樹脂(A)としては、本実施形態の接合補強用組成物の効果を阻害しない範囲において、前記マレイミド化合物(A−1)以外に例えばエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ロジン樹脂、アクリル樹脂、マレイン酸樹脂、ブチラール樹脂等の他の熱硬化性樹脂を用いることもできる。 Further, as the thermosetting resin (A), for example, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, or a phenol resin other than the maleimide compound (A-1) as long as the effect of the bonding reinforcing composition of the present embodiment is not impaired. , Rossin resin, acrylic resin, maleic acid resin, butyral resin and other thermosetting resins can also be used.

なお、前記熱硬化性樹脂(A)の配合量は、本実施形態に係る接合補強用組成物の固形分全量に対して5重量%から95重量%であることが好ましい。より好ましいその配合量は20重量%から90重量%であり、特に好ましくは30重量%から80重量%である。 The blending amount of the thermosetting resin (A) is preferably 5% by weight to 95% by weight with respect to the total solid content of the bonding reinforcing composition according to the present embodiment. The blending amount thereof is more preferably 20% by weight to 90% by weight, and particularly preferably 30% by weight to 80% by weight.

(B)活性剤
前記活性剤(B)としては、例えば有機アミンのハロゲン化水素塩等のアミン塩(無機酸塩や有機酸塩)、有機酸、有機酸塩、有機アミン塩を配合することができる。更に具体的には、ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン塩、酸塩、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸等が挙げられる。これらの中でも特にアジピン酸が好ましく用いられる。またこれらは1種を単独で、または複数種を組合せて使用することができる。
(B) Activator As the activator (B), for example, an amine salt (inorganic acid salt or organic acid salt) such as a hydrogen halide of an organic amine, an organic acid, an organic acid salt, or an organic amine salt may be blended. Can be done. More specifically, diphenylguanidine hydrobromide, cyclohexylamine hydrobromide, diethylamine salt, acid salt, succinic acid, adipic acid, sebacic acid and the like can be mentioned. Of these, adipic acid is particularly preferably used. In addition, these can be used individually by 1 type or in combination of a plurality of types.

本実施形態の接合補強用組成物は、主たる前記熱硬化性樹脂(A)として前記マレイミド化合物(A−1)を含むことにより、当該熱硬化性樹脂(A)と活性剤(B)との反応を抑制することでその粘度の上昇を抑制し、良好なシェルフライフを実現できる。また前記活性剤(B)の活性力を高い状態で保つことができることから、当該接合補強用組成物を塗布した基板上に接合用金属を設けてこれを加熱することで接合部と接合補強部とを形成する場合にも良好な接合用金属の溶融性を実現することができる。
なお粘度の上昇を抑制し得るため、本実施形態の接合補強用組成物は、無溶剤であっても好適に使用することができる。
The bonding reinforcing composition of the present embodiment contains the maleimide compound (A-1) as the main thermosetting resin (A), whereby the thermosetting resin (A) and the activator (B) are mixed. By suppressing the reaction, the increase in viscosity can be suppressed and a good shelf life can be realized. Further, since the active force of the activator (B) can be maintained in a high state, a bonding metal is provided on a substrate coated with the bonding reinforcing composition and heated to form a bonding portion and a bonding reinforcing portion. Good meltability of the bonding metal can be realized even when forming and.
Since the increase in viscosity can be suppressed, the bonding reinforcing composition of the present embodiment can be suitably used even if it is solvent-free.

前記活性剤(B)の配合量は、接合補強用組成物の固形分全量に対して3重量%から50重量%であることが好ましい。より好ましいその配合量は5重量%から30重量%であり、特に好ましくは8重量%から20重量%である。 The blending amount of the activator (B) is preferably 3% by weight to 50% by weight with respect to the total solid content of the bonding reinforcing composition. The blending amount thereof is more preferably 5% by weight to 30% by weight, and particularly preferably 8% by weight to 20% by weight.

(C)硬化剤
本実施形態の接合補強用組成物には、更に(C)硬化剤を配合することができる。当該硬化剤(C)を併用することにより、形成される接合補強部の硬度および弾性率を高めることができる。
前記硬化剤(C)としては、例えばイミダゾール化合物、イミダゾール化合打つ、過酸化物類、メラミンおよびアミン類が挙げられる。これらの中でも特にイミダゾール化合物が好ましく用いられる。またこれらは1種を単独で、または複数種を組合せて使用することができる。
(C) Curing Agent (C) Curing Agent can be further added to the bonding reinforcing composition of the present embodiment. By using the curing agent (C) in combination, the hardness and elastic modulus of the formed joint reinforcing portion can be increased.
Examples of the curing agent (C) include imidazole compounds, imidazole compounding, peroxides, melamines and amines. Of these, imidazole compounds are particularly preferably used. In addition, these can be used individually by 1 type or in combination of a plurality of types.

前記イミダゾール化合物としては、例えばイミダゾール、ベンゾイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、4−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール等が挙げられる。 Examples of the imidazole compound include imidazole, benzoimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, and the like. Examples thereof include 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole.

前記イミダゾール塩類としては、例えばイミダゾール化合物の塩酸塩、イソシアヌール酸付加物および多価カルボン酸付加物等が挙げられる。 Examples of the imidazole salts include hydrochlorides of imidazole compounds, isocyanuric acid adducts, polyvalent carboxylic acid adducts, and the like.

前記過酸化物類としては、例えばケトンパーオキサイド類、ジアシルキルパーオキサイド類、ハイドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオキサイド類、パーオキシケタール類、アルキルパーエステル類、パーカーボネート類等の有機過酸化物が挙げられる。 Examples of the peroxides include organic peroxides such as ketone peroxides, diacyl kill peroxides, hydroperoxides, dialkyl peroxides, peroxyketals, alkyl peroxides, and percarbonates. Can be mentioned.

前記メラミンとしては、メラミン、メラミン誘導体等が挙げられる。 Examples of the melamine include melamine and melamine derivatives.

前記アミン類としては、例えばジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、4−(ジメチルアミノ)−N,N−ジメチルベンジルアミン、4−メトキシ−N,N−ジメチルベンジルアミン、4−メチル−N,N−ジメチルベンジルアミン等が挙げられる。 Examples of the amines include dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) -N, N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-dimethylbenzylamine, 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine. Amine and the like can be mentioned.

前記硬化剤(C)としては、前記熱硬化性樹脂(A)の熱硬化を促進するものであれば上記以外のものであってもいずれも使用することができる。 As the curing agent (C), any other than the above can be used as long as it promotes the thermosetting of the thermosetting resin (A).

前記硬化剤(C)の配合量は、接合補強用組成物の固形分全量に対して0.5重量%から50重量%であることが好ましい。より好ましいその配合量は1重量%から30重量%であり、特に好ましくは3重量%から10重量%である。
なお、本実施形態の接合補強用組成物は、その構成により、前記硬化剤(C)を上記範囲内で配合した場合であっても組成物中の成分の反応およびその進行を抑制し得るため、良好な粘度を保つことができる。
The blending amount of the curing agent (C) is preferably 0.5% by weight to 50% by weight with respect to the total solid content of the bonding reinforcing composition. The blending amount thereof is more preferably 1% by weight to 30% by weight, and particularly preferably 3% by weight to 10% by weight.
It should be noted that the bonding reinforcing composition of the present embodiment can suppress the reaction of the components in the composition and its progress even when the curing agent (C) is blended within the above range due to its composition. , Good viscosity can be maintained.

(D)チクソ剤
本実施形態の接合補強用組成物には、更に(D)チクソ剤を配合することができる。当該チクソ剤(D)としては、例えばヒマシ油、水素添加ヒマシ油、脂肪酸アマイド類、オキシ脂肪酸類等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。またこれらは1種を単独で、または複数種を組合せて使用することができる。
前記チクソ剤(D)の配合量は、接合補強用組成物の固形分全量に対して0.1重量%から10重量%であることが好ましい。より好ましいその配合量は0.5重量%から5重量%であり、特に好ましくは1重量%から3重量%である。
(D) Tixo agent (D) Tixo agent can be further added to the bonding reinforcing composition of the present embodiment. Examples of the chixo agent (D) include, but are not limited to, castor oil, hydrogenated castor oil, fatty acid amides, and oxyfatty acids. In addition, these can be used individually by 1 type or in combination of a plurality of types.
The blending amount of the thixo agent (D) is preferably 0.1% by weight to 10% by weight with respect to the total solid content of the bonding reinforcing composition. The blending amount thereof is more preferably 0.5% by weight to 5% by weight, and particularly preferably 1% by weight to 3% by weight.

(E)酸化防止剤
本実施形態の接合補強用組成物には、更に(E)酸化防止剤を配合することができる。当該酸化防止剤(E)としては、例えばヒンダードフェノール化合物(セミヒンダード系化合物を含む)、フェノール系酸化防止剤、ビスフェノール系酸化防止剤、ポリマー型酸化防止剤、トリアゾール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄化合物(ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジラウリルスルフィド、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトメチルベンズイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、テトラキス(2−エチルへキシル)チウラムジスルフィド、N,N’−ジフェニルチオ尿素、ジチオカルバミン酸亜鉛塩、N−t−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、ブチルキサントゲン酸亜鉛等)等が挙げられる。これらは1種を単独で、または複数種を組合せて使用することができる。
前記酸化防止剤(E)の配合量は、接合補強用組成物の固形分全量に対して0.01重量%から10重量%であることが好ましい。より好ましいその配合量は0.1重量%から8重量%であり、特に好ましくは1重量%から5重量%である。
(E) Antioxidant An antioxidant (E) can be further added to the bonding reinforcing composition of the present embodiment. Examples of the antioxidant (E) include hindered phenol compounds (including semi-hindered compounds), phenolic antioxidants, bisphenol antioxidants, polymer antioxidants, triazole antioxidants, and phosphorus oxidation. Inhibitors, sulfur compounds (dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, dilauryl sulfide, 2-mercapto Benz imidazole, 2-mercaptomethylbenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, dibenzothiazil disulfide, tetraethylthiuram disulfide, tetrabutylthiuram disulfide, tetrakis (2-ethylhexyl) thiuram disulfide, N, N'-diphenylthiourea, (Zinc salt dithiocarbamate, Nt-butyl-2-benzothiazolyl sulfenamide, zinc butylxanthogenate, etc.) and the like can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.
The blending amount of the antioxidant (E) is preferably 0.01% by weight to 10% by weight with respect to the total solid content of the bonding reinforcing composition. The blending amount thereof is more preferably 0.1% by weight to 8% by weight, and particularly preferably 1% by weight to 5% by weight.

(F)溶剤
本実施形態の接合補強用組成物には、更に(F)溶剤を配合することができる。当該溶剤(F)としては、例えばイソプロピルアルコール、エタノール、アセトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、グリコールエーテル等を使用することができるが、これらに限定されるものではない。またこれらは1種を単独で、または複数種を組合せて使用することができる。
前記溶剤(F)の配合量は、接合補強用組成物全量に対して0重量%から90重量%であることが好ましい。より好ましいその配合量は10重量%から80重量%であり、特に好ましくは20重量%から50重量%である。
(F) Solvent A solvent (F) can be further added to the bonding reinforcing composition of the present embodiment. As the solvent (F), for example, isopropyl alcohol, ethanol, acetone, toluene, xylene, ethyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, glycol ether and the like can be used, but the solvent is not limited thereto. In addition, these can be used individually by 1 type or in combination of a plurality of types.
The blending amount of the solvent (F) is preferably 0% by weight to 90% by weight with respect to the total amount of the bonding reinforcing composition. The blending amount thereof is more preferably 10% by weight to 80% by weight, and particularly preferably 20% by weight to 50% by weight.

また本実施形態の接合補強用組成物には、その他の樹脂、並びにハロゲン、つや消し剤、消泡剤およびフィラー等の添加剤を加えてもよい。
これらの配合量は、接合補強用組成物の固形分全量に対して0.1重量%から10重量%であることが好ましい。より好ましいその配合量は0.5重量%から5重量%であり、特に好ましくは1重量%から3重量%である。
Further, other resins and additives such as halogens, matting agents, defoaming agents and fillers may be added to the bonding reinforcing composition of the present embodiment.
The blending amount thereof is preferably 0.1% by weight to 10% by weight with respect to the total solid content of the bonding reinforcing composition. The blending amount thereof is more preferably 0.5% by weight to 5% by weight, and particularly preferably 1% by weight to 3% by weight.

本実施形態の接合補強用組成物は、電子機器等に用いられる、はんだ接合された基板と被接合材において、両者のはんだ接合の補強に好適に用いることができる。 The bonding reinforcing composition of the present embodiment can be suitably used for reinforcing the solder bonding of both the solder-bonded substrate and the material to be bonded, which are used in electronic devices and the like.

本実施形態の接合補強用組成物は、基板と被接合材とのはんだ接合の補強に用いられ、前記基板と前記被接合材とをはんだ接合する接合部を形成する接合用金属のはんだ溶融時の粘度が10Pa・s以下であり、且つ300℃におけるその粘度が100Pa・s以上であることが好ましい。この粘度の測定方法としては、例えばレオメーターを用い、レオメーターの付属容器に前記接合補強用組成物と粉末状の前記接合用金属を入れて測定する。当該接合補強用組成物は、接合補強部の形成の際、前記接合用金属に接するように前記基板および前記被接合材の少なくとも一方に塗布される場合があり、この場合においては加熱時に前記接合用金属に接してその溶融性を向上させ、はんだ接合部の形成を補助する役割も担うため、当該接合用金属と合わせた状態で粘度を測定する。なおその際の測定条件としては、室温から300℃まで5℃/minの昇温条件にて加熱し、ギャップ0.50mm、周波数1Hzである。 The bonding reinforcing composition of the present embodiment is used to reinforce the solder bonding between the substrate and the material to be bonded, and when the metal for bonding solder melts to form a joint portion for solder bonding the substrate and the material to be bonded. The viscosity of the solder is preferably 10 Pa · s or less, and the viscosity at 300 ° C. is 100 Pa · s or more. As a method for measuring this viscosity, for example, a rheometer is used, and the bonding reinforcing composition and the powdered bonding metal are placed in a container attached to the rheometer and measured. The bonding reinforcing composition may be applied to at least one of the substrate and the material to be bonded so as to be in contact with the metal for bonding when the bonding reinforcing portion is formed. In this case, the bonding is performed during heating. Since it comes into contact with the metal for joining to improve its meltability and also plays a role of assisting the formation of the solder joint, the viscosity is measured in the state of being combined with the metal for joining. The measurement conditions at that time are heating from room temperature to 300 ° C. under a heating condition of 5 ° C./min, a gap of 0.50 mm, and a frequency of 1 Hz.

即ち、本実施形態の接合補強用組成物は、以下に例示する、基板と被接合材とをはんだ接合する接合部を形成する接合用金属の溶融温度における粘度が10Pa・s以下であることが好ましい。前記接合用金属として例えばSn−3Ag−0.5Cuはんだ合金を用いる場合、当該接合用金属の溶融時(溶融温度:約217℃から約220℃)における粘度が10Pa・s以下であり、300℃の粘度が100Pa・s以上であることが好ましい。また前記接合用金属として例えばSn−58Biはんだ合金を用いる場合、当該接合用金属の溶融時(約138℃)における粘度が10Pa・s以下であり、300℃の粘度が100Pa・s以上であることが好ましい。
本実施形態の接合補強用組成物の粘度を上記範囲に設定することで、一定温度までの粘度を低く抑えられると共に、加熱後は良好な硬度を有する接合補強部を提供することができる。
That is, the bonding reinforcing composition of the present embodiment has a viscosity of 10 Pa · s or less at the melting temperature of the bonding metal forming the bonding portion for solder bonding the substrate and the material to be bonded, which is exemplified below. preferable. When, for example, Sn-3Ag-0.5Cu solder alloy is used as the bonding metal, the viscosity of the bonding metal at the time of melting (melting temperature: about 217 ° C to about 220 ° C) is 10 Pa · s or less, and 300 ° C. The viscosity of the solder is preferably 100 Pa · s or more. When, for example, Sn-58Bi solder alloy is used as the bonding metal, the viscosity of the bonding metal at the time of melting (about 138 ° C.) is 10 Pa · s or less, and the viscosity at 300 ° C. is 100 Pa · s or more. Is preferable.
By setting the viscosity of the joint reinforcing composition of the present embodiment to the above range, it is possible to provide a joint reinforcing portion having a good hardness after heating while keeping the viscosity up to a certain temperature low.

2.接合補強部の製造方法
次に、本実施形態の接合補強用組成物を用いた接合補強部の製造方法について説明する。なお本発明の接合補強用組成物の用途、およびこれを用いた接合補強部の製造方法はこの製造方法に限定されるものではない。
2. Method for Manufacturing Joint Reinforcement Part Next, a method for manufacturing the joint reinforcement portion using the joint reinforcement composition of the present embodiment will be described. The application of the joint reinforcing composition of the present invention and the method for manufacturing the joint reinforcing portion using the same are not limited to this manufacturing method.

本実施形態の接合補強部の製造方法は、例えば基板上および被接合材の少なくとも一方の所定の位置に接合用金属を設ける工程と、前記基板または前記被接合材の所定の位置に本実施形態の接合補強用組成物を塗布する工程と、前記被接合材を前記基板上の所定の位置に載置してこれを加熱する工程と、加熱により前記接合用金属を溶融させ前記基板と前記被接合材を接合する接合部を形成すると共に当該接合部に当接する位置およびその近傍の少なくとも一方に前記接合補強用組成物の硬化物からなる接合補強部を形成する工程とを含む。以下各工程について説明する。 The method for manufacturing the joint reinforcing portion of the present embodiment includes, for example, a step of providing a metal for joining at at least one predetermined position on the substrate and the material to be joined, and the present embodiment at a predetermined position of the substrate or the material to be joined. A step of applying the bonding reinforcing composition of the above, a step of placing the material to be bonded in a predetermined position on the substrate and heating the same, and a step of melting the metal for bonding by heating to melt the substrate and the coating. This includes a step of forming a joint portion for joining the joint material and forming a joint reinforcing portion made of a cured product of the joint reinforcing composition at at least one of the positions where the joint material is in contact with the joint portion and its vicinity thereof. Each step will be described below.

まず基板上および被接合材の少なくとも一方の所定の位置に接合用金属を設ける工程について、当該接合用金属としては、例えば錫および鉛を含む合金、錫および鉛並びに銀、ビスマスおよびインジウムの少なくとも1種を含む合金、錫および銀を含む合金、錫および銅を含む合金、錫、銀および銅を含む合金、錫およびビスマスを含む合金等を用いることができる。またこれら以外にも、例えば錫、鉛、銀、ビスマス、インジウム、銅、亜鉛、ガリウム、アンチモン、金、パラジウム、ゲルマニウム、ニッケル、クロム、アルミニウム、リン等を適宜組合せたはんだ合金を使用することができる。なお、上記に挙げた元素以外であってもその組合せに使用することは可能である。
これらの中でも特に錫、銀および銅を含む合金、例えば錫−鉛系合金、錫−銀系合金はんだ、錫−銀−銅系合金、錫−銀−銅−ビスマス系合金、錫−銀−銅−インジウム系合金、錫−銀−銅−ビスマス−インジウム系合金が好ましく用いられる。これらの中でも特に、Sn−3Ag−0.5Cu合金、Sn−58Bi等が好ましく用いられる。
First, regarding the step of providing a metal for bonding at at least one predetermined position on the substrate and the material to be bonded, the metal for bonding includes, for example, an alloy containing tin and lead, tin and lead, and at least one of silver, bismuth and indium. Alloys containing seeds, alloys containing tin and silver, alloys containing tin and copper, alloys containing tin, silver and copper, alloys containing tin and bismuth, and the like can be used. In addition to these, for example, a solder alloy in which tin, lead, silver, bismuth, indium, copper, zinc, gallium, antimony, gold, palladium, germanium, nickel, chromium, aluminum, phosphorus and the like are appropriately combined can be used. it can. It is possible to use elements other than those listed above in the combination.
Among these, alloys containing tin, silver and copper, such as tin-lead alloys, tin-silver alloy solders, tin-silver-copper alloys, tin-silver-copper-bismuth alloys, tin-silver-copper -Indium alloys and tin-silver-copper-bismuth-indium alloys are preferably used. Among these, Sn-3Ag-0.5Cu alloy, Sn-58Bi and the like are particularly preferably used.

前記接合用金属を前記基板上に設ける方法としては、例えば当該金属からなるはんだボールの載置、めっき、ソルダペースト組成物の塗布等が挙げられるが、前記基板上に前記接合用金属を設けることができるものであればこれらに限定されずいずれの方法を用いることができる。また予めはんだボールが設けられているボールグリッドアレイパッケージ(BGAパッケージ)を用いてもよい。
なお前記接合用金属を設ける位置は前記被接合材の種類、基板の用途および回路設計等により適宜決定される。また前記接合用金属は前記基板および被接合材の少なくとも一方に設けられていればよい。
Examples of the method of providing the bonding metal on the substrate include mounting of a solder ball made of the metal, plating, coating of a solder paste composition, and the like. The bonding metal is provided on the substrate. Any method can be used as long as it can be used without limitation. Further, a ball grid array package (BGA package) in which solder balls are provided in advance may be used.
The position where the metal for joining is provided is appropriately determined depending on the type of the material to be joined, the application of the substrate, the circuit design, and the like. Further, the metal for joining may be provided on at least one of the substrate and the material to be joined.

また前記基板としては、プリント配線板、シリコンウエハ、セラミックパッケージ基板等、電子部品の搭載、実装に用いられるものであればこれらに限らず基板として使用することができる。更に前記被接合材としては、例えば電子部品等、基板上に接合されるものが挙げられる。なお当該接合は電気的な接合を伴うものであっても伴わないものであってもいずれでもよい。 Further, the substrate is not limited to those used for mounting and mounting electronic components such as printed wiring boards, silicon wafers, and ceramic package substrates, and can be used as substrates. Further, as the material to be bonded, for example, an electronic component or the like which is bonded on a substrate can be mentioned. The joining may or may not be accompanied by an electrical joining.

次に前記基板または前記被接合材の所定の位置に本実施形態の接合補強用組成物を塗布する工程について、当該接合補強用組成物を塗布する位置は前記被接合材の種類、基板の用途および回路設計等により適宜決定されるが、例えば前記接合用金属が設けられた領域、その周辺、前記基板や前記被接合材の角部近傍等が挙げられる。なお形成される接合部の補強および接合部形成時の前記接合用金属の溶融性向上を考慮すると、前記接合用金属が設けられた領域およびその周辺の少なくとも一方に塗布されることが好ましい。
また前記接合補強用組成物の塗布方法としては、例えばスピンコーター、ディスペンサー、ジェットディスペンサー、ローラ等で塗布する方法や、スクリーン印刷、メタルマスク印刷等が挙げられる。
なお塗布する前記接合補強用組成物の量および厚みは前記接合用金属の大きさおよび高さにより適宜調整されるが、少なくとも前記接合用金属の高さ寸法よりも厚くすることが好ましい。
Next, regarding the step of applying the bonding reinforcing composition of the present embodiment to a predetermined position of the substrate or the material to be bonded, the position to apply the composition for bonding reinforcing is the type of the material to be bonded and the use of the substrate. And, although it is appropriately determined depending on the circuit design and the like, for example, the region where the metal for joining is provided, the periphery thereof, the vicinity of the corner portion of the substrate and the material to be joined, and the like can be mentioned. Considering the reinforcement of the formed joint and the improvement of the meltability of the metal for joining at the time of forming the joint, it is preferable that the metal is applied to at least one of the region where the metal is provided and its periphery.
Examples of the method for applying the joint reinforcing composition include a method of applying with a spin coater, a dispenser, a jet dispenser, a roller and the like, screen printing, metal mask printing and the like.
The amount and thickness of the bonding reinforcing composition to be applied are appropriately adjusted depending on the size and height of the bonding metal, but it is preferably at least thicker than the height dimension of the bonding metal.

また前記被接合材を前記基板上の所定の位置に載置してこれを加熱する工程について、前記被接合材の載置位置は前記被接合材の種類、基板の用途および回路設計等により適宜決定される。
上記加熱の条件は前記接合用金属の種類、特に溶融温度により適宜決定される。前記接合用金属として例えばSn−Ag−Cu系合金を用いる場合、プリヒート条件は150℃から180℃の温度下で60秒から120秒で、ピーク温度を220℃から260℃に設定することができる。
なお前記基板と前記被接合材は、圧着しながら加熱する、いわゆる熱圧着方法により加熱をしてもよい。
上記加熱に使用する装置としては、例えばリフロー装置や熱圧着装置等が挙げられ、その加熱条件によって適宜選択される。
Further, regarding the step of placing the material to be joined at a predetermined position on the substrate and heating it, the position of the material to be joined is appropriately determined depending on the type of the material to be joined, the application of the substrate, the circuit design, and the like. It is determined.
The heating conditions are appropriately determined depending on the type of the bonding metal, particularly the melting temperature. When, for example, a Sn—Ag—Cu based alloy is used as the bonding metal, the preheating conditions can be set to 60 to 120 seconds at a temperature of 150 ° C. to 180 ° C., and the peak temperature can be set to 220 ° C. to 260 ° C. ..
The substrate and the material to be joined may be heated by a so-called thermocompression bonding method in which the substrate and the material to be joined are heated while being pressure-bonded.
Examples of the device used for the heating include a reflow device, a thermocompression bonding device, and the like, and are appropriately selected depending on the heating conditions.

そして上記加熱により前記接合用金属が溶融し、前記基板と前記被接合材を接合する接合部が形成される。またこれと共に前記接合補強用組成物が塗布された位置、例えば前記接合部に当接する位置およびその近傍の少なくとも一方に前記接合補強用組成物の硬化物からなる接合補強部が形成される。
なお当該接合補強部は、前記基板と前記接合材と前記接合部により形成される空間(前記基板上に絶縁層が形成されている場合は前記絶縁層と前記接合材と前記接合部により形成される空間でもよい)を埋めるように形成されていることが好ましい。
Then, the metal for joining is melted by the heating, and a joining portion for joining the substrate and the material to be joined is formed. Along with this, a joint reinforcing portion made of a cured product of the joint reinforcing composition is formed at at least one of the positions where the joint reinforcing composition is applied, for example, the position where the joint reinforcing composition is in contact with the joint portion and the vicinity thereof.
The joint reinforcing portion is formed by a space formed by the substrate, the joint material, and the joint portion (when an insulating layer is formed on the substrate, the insulating layer, the joint material, and the joint portion are formed. It is preferable that the space is formed so as to fill the space.

本実施形態の接合補強部の製造方法によれば、加熱によって前記接合部と前記接合補強部が同時に形成されるため、微細接合においても手間なく良好な接合部を形成でき、且つ接合補強部による補強効果を発揮することができる。
また前記接合補強部は本実施形態の接合補強用組成物により形成されるため、耐熱性、絶縁性、耐湿性および低誘電特性に優れる。更には、当該接合補強部は、はんだ接合された基板および被接合材における前記はんだ接合部への応力を低減する効果を奏する。
According to the method for manufacturing a joint reinforcing portion of the present embodiment, since the joint portion and the joint reinforcing portion are formed at the same time by heating, a good joint portion can be formed without hassle even in a fine joint, and the joint reinforcing portion is used. It can exert a reinforcing effect.
Further, since the joint reinforcing portion is formed by the joint reinforcing composition of the present embodiment, it is excellent in heat resistance, insulating property, moisture resistance and low dielectric property. Further, the joint reinforcing portion has an effect of reducing stress on the solder joint portion in the solder-bonded substrate and the material to be joined.

また本実施形態の接合補強部の製造方法により形成される接合補強部を有する電子回路基板は、自動車用電子機器のようにより高い信頼性が求められる電子機器にも好適に用いることができる。 Further, the electronic circuit board having the joint reinforcing portion formed by the method for manufacturing the joint reinforcing portion of the present embodiment can be suitably used for an electronic device that requires higher reliability such as an electronic device for an automobile.

以下、実施例および比較例を挙げて本発明を詳述する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to these examples.

表1に記載の各成分を混練し、実施例1から5、および比較例1から3に係る各接合補強用組成物を得た。なお、特に記載のない限り、表1に記載の数値は重量%を意味するものとする。 Each component shown in Table 1 was kneaded to obtain each joint reinforcing composition according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3. Unless otherwise specified, the values shown in Table 1 mean% by weight.

※1 ケイ・アイ化成(株)製 芳香族ビスマレイミド化合物
※2 ケイ・アイ化成(株)製 芳香族ビスマレイミド化合物
※3 Designer Molecules Inc.製 脂肪族ビスマレイミド化合物
※4 Designer Molecules Inc.製 脂肪族ビスマレイミド化合物
※5 DIC(株)製 ビスフェノールF型エポキシ樹脂
※6 DIC(株)製 2官能ナフタレン型エポキシ樹脂
※7 東亜合成(株)製 イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート
※8 岡村製油(株)製 エイコサン二酸
※9 四国化成(株)製 2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール
※10 新日本理化(株)ジベンジリデンソルビトール
※11 BASFジャパン(株)製 ヒンダードフェノール系酸化防止剤
* 1 Aromatic bismaleimide compound manufactured by KAI Kasei Co., Ltd. * 2 Aromatic bismaleimide compound manufactured by KAI Kasei Co., Ltd. * 3 Aliphatic bismaleimide compound manufactured by Designer Moleculars Inc. * 4 Fat manufactured by Designer Moleculars Inc. Group bismaleimide compound * 5 Bisphenol F type epoxy resin manufactured by DIC Co., Ltd. * 6 Bifunctional naphthalene type epoxy resin manufactured by DIC Co., Ltd. * 7 Isocyanuric acid EO-modified diacrylate manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd. * 8 Okamura Oil Co., Ltd. Eikosan diic acid * 9 Shikoku Kasei Co., Ltd. 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole * 10 Shin Nihon Rika Co., Ltd. Dibenzylidene sorbitol * 11 BASF Japan Co., Ltd. Hindered phenolic antioxidant Agent

1.ガラス転移温度
厚み100μmの銅フィルムを準備し、これに各接合補強用組成物をその厚みが100〜200μmとなるようにアプリケーターを用いて印刷した。印刷後の各銅フィルムについて、印刷された各接合補強用組成物が十分に硬化する加熱条件(180℃の温度下で3時間)にて加熱し、各銅フィルム上に硬化膜を形成した。次いで得られた各硬化膜を各銅フィルムより剥離し、縦40mm×横5mmの大きさにカットした。そしてThermal Mechanical Analysis(以降、TMAという。)を用い、昇温速度10℃/min、温度範囲30〜300℃の条件下にて、各硬化膜のガラス転移温度を測定し、120℃以上のものを○、120℃未満のものを×として評価した。その結果を表2に表す。なおガラス転移温度はTMAにて得られたデータを基準として計算した。
1. 1. A copper film having a glass transition temperature of 100 μm was prepared, and each bonding reinforcing composition was printed on the copper film using an applicator so that the thickness was 100 to 200 μm. Each copper film after printing was heated under heating conditions (3 hours at a temperature of 180 ° C.) at which each printed joint reinforcing composition was sufficiently cured to form a cured film on each copper film. Next, each of the obtained cured films was peeled off from each copper film and cut into a size of 40 mm in length × 5 mm in width. Then, using Thermal Mechanical Analysis (hereinafter referred to as TMA), the glass transition temperature of each cured film was measured under the conditions of a temperature rising rate of 10 ° C./min and a temperature range of 30 to 300 ° C., and those having a temperature of 120 ° C. or higher. Was evaluated as ◯, and those below 120 ° C. were evaluated as ×. The results are shown in Table 2. The glass transition temperature was calculated based on the data obtained by TMA.

2.はんだ接合性
BGA基板(Sn−3Ag−0.5Cu組成のはんだボール搭載、0.5mmピッチ、228ピン)と当該BGA基板に対応するCu電極が形成されたFR−4板とを用意した。当該FR−4基板上のCu電極に当該各接合補強用組成物を塗布し、これらを高温観察装置(製品名:SMT Scope、山陽精工(株)製)を用いて図1に表す加熱プロファイル条件にてリフローし各試験基板を得た。
各試験基板の導通性(はんだ接合が正常で導通しているか否か)について、導通性が得られる場合を〇、得られない場合を×として評価した。その結果を表2に表す。
2. Solder bondability A BGA substrate (mounted on a solder ball having a Sn-3Ag-0.5Cu composition, 0.5 mm pitch, 228 pins) and an FR-4 plate on which a Cu electrode corresponding to the BGA substrate was formed were prepared. The Cu electrodes on the FR-4 substrate are coated with the respective bonding reinforcing compositions, and these are subjected to the heating profile conditions shown in FIG. 1 using a high temperature observation device (product name: SMT Scope, manufactured by Sanyo Seiko Co., Ltd.). Each test substrate was obtained by reflowing at.
Regarding the continuity of each test substrate (whether or not the solder joint is normal and conducting), the case where the continuity was obtained was evaluated as ◯, and the case where the continuity was not obtained was evaluated as x. The results are shown in Table 2.

3.粘度
各接合補強用組成物を容器に入れ、これを25℃の温度下で2〜3時間放置した。その後各容器の蓋をあけ、中の各接合補強用組成物をスパチュラを用いて空気の混入を避けるようにして1〜2分間かき混ぜた。次いで当該容器を粘度計(商品名:PCU105、(株)マルコム製)に入れ、回転速度10rpmにて25℃の温度下にて約3分間攪拌した。その後回転を停止させ、温度が一定になるまで待った後、温度を調節した上で回転速度10rpmにて3分間攪拌し、その粘度を測定した。その結果を表2に表す。
3. 3. Viscosity Each joint reinforcing composition was placed in a container and allowed to stand at a temperature of 25 ° C. for 2 to 3 hours. After that, the lid of each container was opened, and each joint reinforcing composition in the container was stirred with a spatula for 1 to 2 minutes so as to avoid air contamination. Next, the container was placed in a viscometer (trade name: PCU105, manufactured by Malcolm Co., Ltd.) and stirred at a rotation speed of 10 rpm at a temperature of 25 ° C. for about 3 minutes. After that, the rotation was stopped, and after waiting until the temperature became constant, the temperature was adjusted and the mixture was stirred at a rotation speed of 10 rpm for 3 minutes, and the viscosity was measured. The results are shown in Table 2.

4.10℃シェルフライフ
各接合補強用組成物について、混練後の粘度を測定した。次いで各接合補強用組成物を容器に入れて10℃の温度下にて30日間放置し、放置後の各接合補強用組成物について粘度を測定した。放置前の粘度と放置後の粘度について、以下の式を用いて変化率を計算し、その変化率が±20%以内のものを○、±20%超のものを×とした。その結果を表2に表す。なおこれらの粘度は上記粘度試験と同じ条件にて測定した。
(放置後の粘度−放置前の粘度)/放置前の粘度×100
4. 10 ° C Shelf Life The viscosity of each joint reinforcing composition after kneading was measured. Next, each joint reinforcing composition was placed in a container and left at a temperature of 10 ° C. for 30 days, and the viscosity of each joint reinforcing composition after standing was measured. Regarding the viscosity before standing and the viscosity after leaving, the rate of change was calculated using the following formula, and those having a rate of change within ± 20% were designated as ◯, and those exceeding ± 20% were marked with x. The results are shown in Table 2. These viscosities were measured under the same conditions as the above viscosity test.
(Viscosity after leaving-Viscosity before leaving) / Viscosity before leaving x 100

5.−10℃シェルフライフ
容器に入れた各接合補強用組成物を−10℃の温度下にて放置する以外は上記10℃シェルフライフ試験と同じ条件にて粘度を測定および評価した。その結果を表2に表す。
5. The viscosity was measured and evaluated under the same conditions as the above 10 ° C. shelf life test except that each joint reinforcing composition placed in the -10 ° C. shelf life container was left at a temperature of -10 ° C. The results are shown in Table 2.

6.レオメーター試験
レオメーター(商品名:HAKKEMARSIII、Thermo Fisher Scientific,Inc.製)を用い、その付属容器に各接合補強用組成物を入れ、これらについて粘度上昇が開始した温度と180℃における粘度を測定した。その結果を表2に表す。また実施例1および比較例2について測定した粘度のグラフを図2に表す。なお、粘度の測定条件は室温から300℃まで5℃/minの昇温条件にて加熱し、ギャップ0.50mm、周波数1Hzとした。また上記の粘度上昇が開始した温度とは、大幅な粘度低下を伴わず1,000Pa・sを超えた際の、その粘度の上昇開始温度を指す。
6. Rheometer test Using a rheometer (trade name: HAKKEMARS III, manufactured by Thermo Fisher Scientific, Inc.), each joint reinforcing composition was placed in an accessory container, and the viscosity at the temperature at which the viscosity increase started and the viscosity at 180 ° C. were measured. did. The results are shown in Table 2. Further, a graph of the viscosity measured for Example 1 and Comparative Example 2 is shown in FIG. The viscosity was measured by heating from room temperature to 300 ° C. under a temperature rising condition of 5 ° C./min to a gap of 0.50 mm and a frequency of 1 Hz. The temperature at which the viscosity increase starts refers to the temperature at which the viscosity starts to increase when the viscosity exceeds 1,000 Pa · s without a significant decrease in viscosity.

以上、本実施例の接合補強用組成物は、使用する活性剤を選ぶことなく、10℃および−10℃の温度下で放置した場合であっても良好なシェルフライフおよび良好な粘度を実現できると共に、接合部を形成するはんだボールに良好な溶融性を付与することができるため、その結果、良好な接合信頼性を確保できる。
また本実施例の接合補強用組成物は、上述の条件下における180℃での粘度が0.1〜10Pa・sと低く、また大幅に上昇する温度が160℃以上と高い。そのため、これを用いて接合補強部を形成する際にも良好な粘度を実現することができる。
従ってこのような接合補強用組成物により形成される接合補強部を有する電子回路基板は、自動車用電子機器のようにより高い信頼性が求められる電子機器にも好適に用いることができる。

As described above, the bonding reinforcing composition of this example can realize a good shelf life and a good viscosity even when left at temperatures of 10 ° C. and -10 ° C. without selecting an activator to be used. At the same time, good meltability can be imparted to the solder balls forming the joint portion, and as a result, good joint reliability can be ensured.
Further, the bonding reinforcing composition of this example has a low viscosity of 0.1 to 10 Pa · s at 180 ° C. under the above conditions, and a high temperature of 160 ° C. or higher at which the temperature rises significantly. Therefore, a good viscosity can be realized even when the joint reinforcing portion is formed by using this.
Therefore, an electronic circuit board having a joint reinforcing portion formed of such a joint reinforcing composition can be suitably used for an electronic device that requires higher reliability, such as an automobile electronic device.

Claims (6)

(A)熱硬化性樹脂と、(B)活性剤と、(C)硬化剤とを含み、
前記熱硬化性樹脂(A)はマレイミド骨格を有するマレイミド化合物(A−1)を含み、
前記活性剤(B)の配合量は、はんだ接合補強用組成物の固形分全量に対して3重量%から50重量%であり、
前記硬化剤(C)は、イミダゾール化合物、イミダゾール塩類、メラミンおよびアミン類から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とするはんだ接合補強用組成物。
It contains (A) a thermosetting resin, (B) an activator, and (C) a curing agent.
The thermosetting resin (A) contains a maleimide compound (A-1) having a maleimide skeleton.
The blending amount of the activator (B) is 3% by weight to 50% by weight with respect to the total solid content of the solder joint reinforcing composition.
The solder joint reinforcing composition, wherein the curing agent (C) is at least one selected from an imidazole compound, an imidazole salt, a melamine, and an amine.
前記マレイミド化合物(A−1)は、末端または側鎖に複数のマレイミド基を有することを特徴とする請求項1に記載のはんだ接合補強用組成物。 The composition for reinforcing a solder joint according to claim 1, wherein the maleimide compound (A-1) has a plurality of maleimide groups at the terminal or side chain. 前記マレイミド化合物(A−1)として、下記一般式(1)および(2)で表されるマレイミド化合物の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のはんだ接合補強用組成物。
(式中、Yは炭素数36または54の重合脂肪酸から誘導されるダイマージアミン残基または脂肪族ジアミン残基を表し、
Zは四塩基酸無水物と1級アミンの反応からなるイミド化合物残基を表し、
Pは0から10の整数を表す。)
(式中、RからR水素、水酸基、メチル基またはエチル基のいずれかを表
Xは介在する有機基がない、若しくはC、H、Oからなる任意の有機基を表す。)
The solder joint reinforcing according to claim 1 or 2, wherein the maleimide compound (A-1) contains at least one of the maleimide compounds represented by the following general formulas (1) and (2). Composition.
(In the formula, Y represents a dimer diamine residue or an aliphatic diamine residue derived from a polymerized fatty acid having 36 or 54 carbon atoms.
Z represents an imide compound residue consisting of the reaction of tetracarboxylic acid dianhydride and a primary amine,
P represents an integer from 0 to 10. )
(Wherein, R 8 R 1 to Represents hydrogen, hydroxyl, either a methyl group or an ethyl group,
X represents any organic group that has no intervening organic group or consists of C, H, O. )
前記マレイミド化合物(A−1)として、多官能芳香族マレイミド化合物および多官能脂肪族マレイミド化合物を含むことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のはんだ接合補強用組成物。 The composition for reinforcing solder joints according to any one of claims 1 to 3, wherein the maleimide compound (A-1) contains a polyfunctional aromatic maleimide compound and a polyfunctional aliphatic maleimide compound. Stuff. 前記多官能芳香族マレイミド化合物と前記多官能脂肪族マレイミド化合物の配合比率は、重量比で5:95から95:5(多官能芳香族マレイミド化合物:多官能脂肪族マレイミド化合物)であることを特徴とする請求項4に記載のはんだ接合補強用組成物。 The blending ratio of the polyfunctional aromatic maleimide compound to the polyfunctional aliphatic maleimide compound is characterized by a weight ratio of 5:95 to 95: 5 (polyfunctional aromatic maleimide compound: polyfunctional aliphatic maleimide compound). The composition for reinforcing a solder joint according to claim 4. 基板と基板上に接合される被接合材との接合を補強する接合補強部の製造方法であって、
前記基板上および前記被接合材の少なくとも一方の所定の位置に接合用金属を設ける工程と、
前記基板または前記被接合材の所定の位置に請求項1から請求項のいずれか1項に記載のはんだ接合補強用組成物を塗布する工程と、
前記被接合材を前記基板上の所定の位置に載置してこれを加熱する工程と、
加熱により前記接合用金属を溶融させ前記基板と前記被接合材を接合する接合部を形成すると共に当該接合部に当接する領域およびその近傍領域の少なくとも一方に前記はんだ接合補強用組成物の硬化物からなる接合補強部を形成する工程とを含むことを特徴とする接合補強部の製造方法。
It is a method of manufacturing a joint reinforcing portion that reinforces the bonding between a substrate and a material to be bonded to be bonded on the substrate.
A step of providing a metal for joining at at least one predetermined position on the substrate and the material to be joined.
A step of applying the solder joint reinforcing composition according to any one of claims 1 to 5 to a predetermined position of the substrate or the material to be joined.
A step of placing the material to be joined in a predetermined position on the substrate and heating the material,
The metal for joining is melted by heating to form a joining portion for joining the substrate and the material to be joined, and a cured product of the composition for reinforcing solder joining is formed in at least one of a region abutting the joining portion and a region in the vicinity thereof. A method for manufacturing a joint reinforcing portion, which comprises a step of forming a joint reinforcing portion comprising the above.
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