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JP6787682B2 - Sample loading plate and its manufacturing method - Google Patents
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Description

本発明は、試料を積載する試料積載プレートおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a sample loading plate for loading a sample and a method for producing the same.

病原菌や細菌を迅速かつ正確に診断することが可能な質量分析のイオン化法の一つとして、マトリックス支援レーザ脱離イオン化(MALDI=Matrix Assisted Lazer Desorption/Ionization)法が知られている。 A matrix-assisted laser desorption ionization (MALDI = Matrix Assisted Laser Desorption / Ionization) method is known as one of mass spectrometric ionization methods capable of rapidly and accurately diagnosing pathogenic bacteria and bacteria.

MALDI法は、レーザ光を吸収しにくい、またはレーザ光で損傷を受けやすい分析対象物(以下、試料と呼ぶ)を分析するために、レーザ光を吸収しやすくかつイオン化しやすい物質(マトリックス)に試料をあらかじめ混合しておき、これにレーザ光を照射することで試料をイオン化する方法である。 The MALDI method uses a substance (matrix) that easily absorbs laser light and easily ionizes it in order to analyze an object to be analyzed (hereinafter referred to as a sample) that is difficult to absorb laser light or is easily damaged by laser light. This is a method in which a sample is mixed in advance and the sample is ionized by irradiating the sample with a laser beam.

MALDI法による質量分析装置では、一般に、被分析物とマトリックスをあらかじめ混合し、溶媒により液状化したもの(以下試料と呼び、滴下時は液状であるが、それを乾燥し結晶化したものも試料と呼ぶ)試料を積載するターゲットプレートと呼ばれる金属製のプレート(以下、試料積載プレートと呼ぶ)を装置内に配置し、試料積載プレート上に積載した試料に対してレーザ光を所定時間照射して試料を脱離イオン化する。このとき、金属製の試料積載プレートには電圧が印加され、脱離イオン化した試料に電界が与えられることによって脱離イオン化した試料を加速用の電極に向けて飛行しやすくしている。 In a mass spectrometer using the MALDI method, generally, a sample to be analyzed and a matrix are mixed in advance and liquefied with a solvent (hereinafter referred to as a sample, which is liquid at the time of dropping, but a sample obtained by drying and crystallizing the sample A metal plate called a target plate (hereinafter referred to as a sample loading plate) on which a sample is loaded is placed in the apparatus, and the sample loaded on the sample loading plate is irradiated with laser light for a predetermined time. Desorb and ionize the sample. At this time, a voltage is applied to the metal sample loading plate, and an electric field is applied to the desorbed and ionized sample, so that the desorbed and ionized sample can easily fly toward the acceleration electrode.

試料積載プレートは、試料を積載するための試料積載領域(以下、試料積載スポットと呼ぶ)を複数備えており、測定する複数の試料を所定の試料積載スポットに滴下させ乾燥化(結晶化)させた状態で質量分析装置内に配置し、試料積載プレートを移動させることにより複数の試料にレーザを照射するようになっている。 The sample loading plate is provided with a plurality of sample loading areas (hereinafter referred to as sample loading spots) for loading samples, and a plurality of samples to be measured are dropped onto a predetermined sample loading spot and dried (crystallized). A plurality of samples are irradiated with a laser by arranging the sample in the mass spectrometer in a state of being in the state and moving the sample loading plate.

MALDI分析法ではこのような結晶が試料積載スポット内にできるだけ均一に堆積し、被分析物が適切に脱離イオン化し、また試料積載プレートに印加する電圧から試料に有効に電界が与えられ適切に加速することが重要であり、これらの分析技術に関する多くの提案がなされている。 In the MALDI analysis method, such crystals are deposited as uniformly as possible in the sample loading spot, the object to be analyzed is appropriately desorbed and ionized, and an electric field is effectively applied to the sample from the voltage applied to the sample loading plate. Acceleration is important and many proposals have been made for these analytical techniques.

試料積載スポットにおける試料の結晶化またはイオン化の改良に関して、例えば特許文献1に示す提案は、試料積載スポットは電気伝導性の表面を有する中央部分と疎水性のマスクからなるマージン(周囲)部分とを備えており、試料積載スポット上に滴下した試料はハロー効果により疎水性のマージン部分にリング状に結晶化し堆積するようにしている。マージン部分に形成された結晶リングにレーザ光を効率的に照射しイオン化を行うようにしている。 Regarding the improvement of sample crystallization or ionization in the sample loading spot, for example, the proposal shown in Patent Document 1 is that the sample loading spot has a central portion having an electrically conductive surface and a margin (peripheral) portion consisting of a hydrophobic mask. The sample dropped onto the sample loading spot is crystallized and deposited in a ring shape in the hydrophobic margin portion by the halo effect. The crystal ring formed in the margin portion is efficiently irradiated with laser light to perform ionization.

また、特許文献2に示す提案は、絶縁性を有する基板上に導電干渉層を設けて基板とは異なる色を呈するようにし、また表面に疎水膜を形成し、さらに試料積載スポットを形成する溝を設けて基板を露出し、滴下した試料を試料積載スポット内に留めて(以下、アンカー効果と呼ぶ)結晶化させイオン化を行うようにしている。 Further, in the proposal shown in Patent Document 2, a conductive interference layer is provided on an insulating substrate so as to exhibit a color different from that of the substrate, a hydrophobic film is formed on the surface, and a groove for forming a sample loading spot is further formed. Is provided to expose the substrate, and the dropped sample is retained in the sample loading spot (hereinafter referred to as an anchor effect) to be crystallized and ionized.

特表2006−525525号公報Special Table 2006-525525 WO2015/019861号公報WO2015 / 019861 US2002/0045270号公報US2002 / 0045270

しかしながら、特許文献1に示す従来技術は、試料積載スポットのマージン部に形成される試料の結晶リングにレーザ光を照射して効率的な測定を行うようにしているものの、電気伝導性を有する中央部分に対してマージン部は絶縁膜であるため導電性が充分とは言えず堆積した結晶リングに対して試料積載プレートに印加する電圧から試料に対して有効に電界が与えられず試料がチャージアップし、適正なイオン化が妨げられるという問題がある。 However, in the prior art shown in Patent Document 1, although the crystal ring of the sample formed in the margin portion of the sample loading spot is irradiated with a laser beam to perform efficient measurement, the center having electrical conductivity is provided. Since the margin part is an insulating film with respect to the part, the conductivity is not sufficient, and the electric field is not effectively applied to the sample from the voltage applied to the sample loading plate for the deposited crystal ring, and the sample is charged up. However, there is a problem that proper ionization is hindered.

また、特許文献2に示す従来技術は、溝の効果により試料をスポット内に留めるアンカー効果があり、また基板の色が試料とは異なることによる試料の視認性が良いものの、滴下した試料が試料積載スポット内の全域に濡れ広がりにくく、スポットの溝に沿ってドーナツ状に濡れやすい。結果として分析に使用される試料積載スポット中心部の試料の密度が低くなることで分析感度の低下を招く虞がある。 Further, the conventional technique shown in Patent Document 2 has an anchor effect of keeping the sample in the spot due to the effect of the groove, and the visibility of the sample is good because the color of the substrate is different from the sample, but the dropped sample is the sample. It is difficult to get wet and spread over the entire loading spot, and it is easy to get wet like a donut along the groove of the spot. As a result, the density of the sample in the center of the sample loading spot used for the analysis becomes low, which may lead to a decrease in the analysis sensitivity.

また、特許文献3に示す従来技術は、試料をスポットの中心に留める親水性のアンカーとして基板または基板上に形成した金属面を表出し、そのアンカーの周囲となるリング状領域の表面にアフィニティー吸着体を載置し、さらにその外側の表面を疎水性となるようテフロン(登録商標)等の疎水性材料を載置した構成の試料支持基板が開示されている。この構成により試料を効果的にスポット中心のアンカーに集中して乾燥化することが可能となる優れた構成であるが、その製造段階で、アフィニティー吸着体や疎水性材料といった材料を別々に載置する工程が必要となり、工程が複雑となる問題がある。 Further, in the prior art shown in Patent Document 3, a substrate or a metal surface formed on the substrate is exposed as a hydrophilic anchor that holds the sample in the center of the spot, and affinity adsorption is performed on the surface of the ring-shaped region surrounding the anchor. A sample support substrate having a structure in which a body is placed and a hydrophobic material such as Teflon (registered trademark) is placed so that the outer surface thereof becomes hydrophobic is disclosed. This configuration is an excellent configuration that enables the sample to be effectively concentrated on the anchor at the center of the spot and dried, but at the manufacturing stage, materials such as affinity adsorbents and hydrophobic materials are placed separately. There is a problem that the process is complicated because the process is required.

本発明の目的は上記課題を解決し、試料積載スポットの試料積載時における試料のアンカー効果を大きくするとともに、試料積載スポット内の中心および中心近傍に試料が集中して乾燥結晶化することができる試料積載プレート及びその製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to solve the above problems, increase the anchoring effect of the sample at the time of loading the sample at the sample loading spot, and enable the sample to be concentrated and dried and crystallized at the center and near the center of the sample loading spot. It is to provide a sample loading plate and the manufacturing method thereof.

上記課題を達成するため、本発明の構成は以下の通りである。
MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートであって、試料積載プレートは、試料積載スポットの辺縁部より内側中心近傍に、親水性表面が形成され、辺縁部に疎水性表面が形成され、内側中心近傍と辺縁部との間の中間領域は、試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、親水性が弱くなり疎水性に変化していくように表面が形成されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the configuration of the present invention is as follows.
A sample loading plate used for mass spectrometry of the MALDI method and having at least one sample loading spot for loading a sample on a substrate, the sample loading plate is located near the inner center of the edge of the sample loading spot. A hydrophilic surface is formed, a hydrophobic surface is formed at the margin, and the intermediate region between the vicinity of the inner center and the margin becomes less hydrophilic from the center of the sample loading spot toward the outside. It is characterized in that the surface is formed so as to change to hydrophobicity.

中間領域は、親水性表面と疎水性表面がそれぞれ部分的に形成されており、前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、前記疎水性表面の面積割合が大きくなることを特徴とする。 The intermediate region is characterized in that a hydrophilic surface and a hydrophobic surface are partially formed, respectively, and the area ratio of the hydrophobic surface increases from the center of the sample loading spot toward the outside.

基板は、樹脂であり、前記辺縁部および前記中間領域に形成される疎水性表面は、基板が露出していることを特徴とする。 The substrate is a resin, and the hydrophobic surface formed in the peripheral portion and the intermediate region is characterized in that the substrate is exposed.

内側中心近傍および前記中間領域に形成される親水性表面 は、基板上に形成された光学多層膜が露出していることを特徴とする。 The hydrophilic surface formed in the vicinity of the inner center and in the intermediate region is characterized in that the optical multilayer film formed on the substrate is exposed.

基板はセラミックスまたは金属であり、前記内側中心近傍および前記中間領域に形成される親水性表面は、前記基板が露出していることを特徴とする。 The substrate is ceramics or metal, and the hydrophilic surfaces formed in the vicinity of the inner center and the intermediate region are characterized in that the substrate is exposed.

MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートの製造方法であって、基板表面を親水性表面とする工程と、親水性表面の上に疎水性の膜を形成し疎水性表面とする工程と、試料積載スポットの辺縁部より内側中心近傍に対する部位に開口部が形成されており、辺縁部に対する部位には開口部が形成されておらず、内側中心近傍と辺縁部との間にある中間領域に対する部位には、試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、開口部の割合が少なくなるように開口部が形成されたマスクを試料積載プレートの表面に載置する工程と、試料積載スポットの表面にある疎水膜をマスクを使って除去する工程と、マスクを取り除く工程とを有することを特徴とする。 A method for manufacturing a sample loading plate that is used for mass analysis of the MALDI method and has at least one sample loading spot for loading a sample on a substrate, and is a step of making the substrate surface a hydrophilic surface and a hydrophilic surface. In the process of forming a hydrophobic film on the surface to make it a hydrophobic surface, an opening is formed in the part near the center inside from the edge of the sample loading spot, and an opening is formed in the part with respect to the edge. An opening is formed in the portion of the intermediate region between the vicinity of the inner center and the edge portion so that the proportion of the opening decreases from the center of the sample loading spot toward the outside. It is characterized by having a step of placing the mask on the surface of the sample loading plate, a step of removing the hydrophobic film on the surface of the sample loading spot using the mask, and a step of removing the mask.

マスクは、試料積載スポットの中心に対し、同心円状の複数の開口部 を有し、内側中心近傍に対する部位では、開口しており、辺縁部に対する部位には開口部がなく、中間領域に対する部位において、開口面積の割合が試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって段階的に少なくなることを特徴とする。 The mask has a plurality of concentric openings with respect to the center of the sample loading spot, and is open at the portion near the inner center, and there is no opening at the portion with respect to the edge portion, and the portion with respect to the intermediate region. The feature is that the ratio of the opening area gradually decreases from the center of the sample loading spot toward the outside.

マスクは、試料積載スポットの中心から放射線状に延びていて、一定の幅または中心から外側に向かって小さくなっていく幅を持つ線状の開口部を複数有することを特徴とする。 The mask is characterized by having a plurality of linear openings extending radially from the center of the sample loading spot and having a constant width or a width decreasing from the center to the outside.

MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートの製造方法の別法であって、基板表面を疎水性表面とする工程と、疎水性表面の上に親水性の膜を形成し親水性表面とする工程と、試料積載スポットの辺縁部より内側中心近傍に対する部位には開口部が形成されておらず、辺縁部に対する部位には開口部が形成されており、内側中心近傍と前記辺縁部との間にある中間領域に対する部位には、試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、開口部の割合が多くなるように開口部が形成されたマスクを試料積載プレートの表面に載置する工程と、試料積載スポットの表面にある親水膜をマスクを使って除去する工程と、マスクを取り除く工程 とを有することを特徴とする。 Another method of manufacturing a sample loading plate, which is used for mass spectrometry of the MALDI method and has at least one sample loading spot for loading a sample on a substrate, is a step of making the substrate surface a hydrophobic surface and a hydrophobic surface. In the process of forming a hydrophilic film on the sexual surface to make it a hydrophilic surface, and in the part of the sample loading spot near the inner center from the edge part, no opening is formed, and the part with respect to the edge part An opening is formed, and the proportion of the opening increases from the center of the sample loading spot toward the outside in the portion with respect to the intermediate region between the vicinity of the inner center and the edge portion. It is characterized by having a step of placing a mask having an opening formed on the surface of the sample loading plate, a step of removing the hydrophilic film on the surface of the sample loading spot using the mask, and a step of removing the mask. To do.

上記別法において、マスクは、試料積載スポットの中心に対し、同心円状の複数の開口部を有し、内側中心近傍に対する部位には、開口部が無く、辺縁部に対する部位には開口しており、中間領域に対する部位において、開口面積の割合が試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって段階的に多くなることを特徴とする。 In the above alternative method, the mask has a plurality of concentric openings with respect to the center of the sample loading spot, has no opening in the portion near the inner center, and has an opening in the portion with respect to the edge portion. It is characterized in that the ratio of the opening area to the intermediate region gradually increases from the center of the sample loading spot toward the outside.

同じく上記別法において、マスクは、試料積載スポットの中心から放射線状に延びていて、一定の幅または中心から外側に向かって小さくなっていく幅をもつ線状の複数の領域に対する部位に非開口部を有することを特徴とする。 Similarly, in the above alternative method, the mask does not open at a site for a plurality of linear regions extending radially from the center of the sample loading spot and having a constant width or a width that decreases outward from the center. It is characterized by having a part.

本発明によれば、試料積載スポットに試料を積載する際に、試料積載スポットの内側中心近傍に形成された親水性表面と中間領域の一部に形成されている親水性表面によって試料が濡れていき、その結果、試料積載スポットの内側中心近傍と中間領域の両方の面積を足した面積によって試料を確実にトラップすることができ、内側中心近傍のみでトラップする場合よりも強いアンカー効果を発揮できる。そして試料が乾燥し容積が減っていくにしたがって、親水性表面が最も表出している内側中心近傍に引き寄せられて、内側中心近傍に、多くの試料を乾燥し結晶化した状態で留めることが可能となる。そのような結果をもたらす試料積載プレートを製造するにあたり、一つのマスクを使って試料積載プレートの最表面の膜を除去することにより容易に製造することが可能となる。 According to the present invention, when the sample is loaded on the sample loading spot, the sample is wetted by the hydrophilic surface formed near the inner center of the sample loading spot and the hydrophilic surface formed in a part of the intermediate region. As a result, the sample can be reliably trapped by the sum of the areas near the inner center and the intermediate region of the sample loading spot, and a stronger anchor effect can be exhibited than when trapping only near the inner center. .. Then, as the sample dries and the volume decreases, the hydrophilic surface is attracted to the vicinity of the inner center where it is most exposed, and many samples can be kept in a dried and crystallized state near the inner center. It becomes. In manufacturing a sample loading plate that produces such a result, it is possible to easily manufacture the sample loading plate by removing the film on the outermost surface of the sample loading plate using one mask.

本発明の実施例1における試料積載プレートSample loading plate according to Example 1 of the present invention 本発明の実施例1における試料積載プレートの膜構成を説明する図The figure explaining the membrane structure of the sample loading plate in Example 1 of this invention. 本発明の実施例1における試料積載スポットに試料を積載した状態を説明する部分断面図Partial sectional view explaining a state in which a sample is loaded on the sample loading spot in Example 1 of the present invention. 本発明の実施例1の試料積載プレートに係る製造方法を説明する工程図The process drawing explaining the manufacturing method which concerns on the sample loading plate of Example 1 of this invention. 本発明の実施例1の製造方法に係るマスクの平面図Top view of the mask according to the manufacturing method of Example 1 of the present invention. 本発明の実施例2における試料積載プレートSample loading plate according to Example 2 of the present invention 本発明の実施例2における試料積載プレートの膜構成を説明する図The figure explaining the membrane structure of the sample loading plate in Example 2 of this invention. 本発明の実施例2における試料積載スポットに試料を積載した状態を説明する部分断面図Partial sectional view explaining the state which the sample was loaded on the sample loading spot in Example 2 of this invention. 本発明の実施例2の試料積載プレートに係る製造方法を説明する工程図The process drawing explaining the manufacturing method which concerns on the sample loading plate of Example 2 of this invention. 本発明の実施例2の製造方法に係るマスクの平面図Top view of the mask according to the manufacturing method of Example 2 of the present invention. 光学多層膜の干渉による着色原理を模式的に説明する断面図Sectional drawing schematically explaining the coloring principle by interference of an optical multilayer film 質量分析装置の動作を説明するための模式図Schematic diagram for explaining the operation of the mass spectrometer 本発明の他の実施例における試料積載スポットのH部拡大図Enlarged view of part H of the sample loading spot in another embodiment of the present invention

以下、本発明の実施の形態を図1〜図13を用いて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 13.

試料積載プレートは、MALDI法による質量分析装置(後述する図12参照)に載置されるもので、試料積載スポットに試料を積載して質量を分析するために使用される。以下に示す発明を実施するための形態は、本発明の思想を具体化するための試料積載プレート及びその製造方法を例示するものであって、本発明は以下に説明する方法及び構成に特定するものではない。特に実施の形態に記載されている製造方法及び部材の形状、材質、その相対的配置等は特定的な記載がない限りは本発明の範囲をそれのみに限定するものではない。また、各図面が示す部材の大きさや形状、位置関係、形成する膜層については説明をわかりやすくするために誇張していることがある。 The sample loading plate is mounted on a mass spectrometer (see FIG. 12 described later) by the MALDI method, and is used for loading a sample on a sample loading spot and analyzing the mass. The mode for carrying out the invention shown below exemplifies a sample loading plate and a method for manufacturing the sample loading plate for embodying the idea of the present invention, and the present invention specifies the method and configuration described below. It's not a thing. In particular, the manufacturing method and the shape, material, relative arrangement, etc. of the members described in the embodiments are not limited to the scope of the present invention unless otherwise specified. In addition, the size and shape of the members shown in each drawing, the positional relationship, and the film layer to be formed may be exaggerated for the sake of clarity.

[実施形態の試料積載プレートの概略説明:図1]
はじめに、本発明に係る実施形態である試料積載プレートの構成について図1を用いて説明する。図1は、本実施の形態で説明する2つの実施例の一つに関する図であるが、まず、本発明の概略構成を説明するために使用する。
[Summary Description of Sample Loading Plate of Embodiment: FIG. 1]
First, the configuration of the sample loading plate according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram relating to one of the two examples described in the present embodiment, but first, it is used to explain the schematic configuration of the present invention.

図1(a)は、試料積載プレートの試料を積載する面側から見た平面図である。試料積載プレート100の基板1は外形約50mm×40mm程度の略長方形の平板であり、試料積載プレート100は、例えば位置決め用などとして下辺のように切り欠き部が設けられている。また、試料積載プレート100の平坦度は30μm以下の精度を有している。尚、外形形状、厚さ等は特に限定されるものではなく、質量分析装置の仕様に合うものであればよい。試料積載プレートは、平坦度を確保するため、ラッピング工程やポリシング工程による面仕上げを行ってもよい。 FIG. 1A is a plan view of the sample loading plate as viewed from the surface side on which the sample is loaded. The substrate 1 of the sample loading plate 100 is a substantially rectangular flat plate having an outer shape of about 50 mm × 40 mm, and the sample loading plate 100 is provided with a notch such as a lower side for positioning, for example. Further, the flatness of the sample loading plate 100 has an accuracy of 30 μm or less. The outer shape, thickness, etc. are not particularly limited as long as they meet the specifications of the mass spectrometer. The sample loading plate may be surface-finished by a wrapping step or a polishing step in order to ensure flatness.

試料積載プレート100には各試料積載スポット10の位置を示す列アドレスマーク30(例えば1〜9、X〜Z)、行アドレスマーク40(例えばA〜H)及び試料積載プレートを管理するシリアルナンバー50、バーコード60などを形成することができる。これらのアドレスマーク、シリアルナンバー、バーコード等はこれに限定するものではなく必要に応じて追加、削除してもよい。アドレスマーク、シリアルナンバー、バーコードの形成方法としては特に限定はしないがレーザマーキングによる加工法が好適である。 The sample loading plate 100 has a column address mark 30 (for example, 1 to 9, X to Z) indicating the position of each sample loading spot 10, a row address mark 40 (for example, A to H), and a serial number 50 for managing the sample loading plate. , Bar code 60 and the like can be formed. These address marks, serial numbers, barcodes, etc. are not limited to these, and may be added or deleted as necessary. The method for forming the address mark, serial number, and barcode is not particularly limited, but a processing method by laser marking is preferable.

試料積載スポット10は、図1(b)に示す平面図拡大図で、破線で囲まれた内側中心近傍21およびその周囲を囲む中間領域24から構成されている。内側中心近傍21は、親水性の表面であり、中間領域24は、親水性表面と疎水性表面が中心から外側へ向かうにしたがって疎水性表面の割合が大きくなるように表面形成されている。その形成方法は後述する。以上のごとく、試料積載スポット10は、内側中心近傍21、中間領域24を含む領域として定義される。中間領域24の外側にある外側周辺部22は、表面は、疎水性表面が形成された構造となっており、隣接する試料積載スポットの外側周辺部22とは、積載された試料同士がお互いに混合、汚染しないために十分に離れている。 The sample loading spot 10 is an enlarged plan view shown in FIG. 1B, and is composed of an inner center vicinity 21 surrounded by a broken line and an intermediate region 24 surrounding the inner center vicinity 21. The inner center vicinity 21 is a hydrophilic surface, and the intermediate region 24 is surface-formed so that the ratio of the hydrophobic surface increases as the hydrophilic surface and the hydrophobic surface move from the center to the outside. The forming method will be described later. As described above, the sample loading spot 10 is defined as a region including the inner center vicinity 21 and the intermediate region 24. The outer peripheral portion 22 on the outer side of the intermediate region 24 has a structure in which a hydrophobic surface is formed, and the outer peripheral portion 22 of the adjacent sample loading spots and the loaded samples are mutually loaded. Separated enough to avoid mixing and contamination.

次に、試料積載プレート100の膜および基板断面構成および製造方法について2つの実施例を説明する。 Next, two examples will be described with respect to the film and substrate cross-sectional structure of the sample loading plate 100 and the manufacturing method.

実施例1を図1〜図5を用いて説明する。図1(b)は、図1(a)に示す試料積載スポット10の中心を通過する切断線I−I´における断面図であり、平面的な位置関係をわかりやすくするため、上部に平面図の拡大図を付加した。ここで、基板1の片側表面には最初に第1の金属膜2Mが形成されている。次に、第1の金属膜2Mに積層して光学多層膜2Aが形成されている。光学多層膜2Aは、誘電体膜または第2の金属膜からなり膜の種類、層数は特に限定されず、例えば、2d、2c、2b、2aの順に形成されている。光学多層膜2Aは親水性であり、第1の親水膜として定義される。さらに光学多層膜の上に疎水膜12が形成される。第1の金属膜2Mや光学多層膜2Aは、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法により形成される。疎水膜12も同様に真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法により形成されるが、液体に浸漬させてゆっくりと引き上げて膜を形成するディップコーティング等の方法でも可能である。 The first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 5. FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the cutting line I-I'passing through the center of the sample loading spot 10 shown in FIG. 1A, and is a plan view at the top in order to make it easy to understand the planar positional relationship. An enlarged view of is added. Here, the first metal film 2M is first formed on one side surface of the substrate 1. Next, the optical multilayer film 2A is formed by laminating on the first metal film 2M. The optical multilayer film 2A is made of a dielectric film or a second metal film, and the type and number of layers are not particularly limited, and are formed in the order of, for example, 2d, 2c, 2b, and 2a. The optical multilayer film 2A is hydrophilic and is defined as a first hydrophilic film. Further, the hydrophobic film 12 is formed on the optical multilayer film. The first metal film 2M and the optical multilayer film 2A are formed by a film forming method such as vacuum deposition or sputtering. The hydrophobic film 12 is also formed by a film forming method such as vacuum vapor deposition or sputtering, but it can also be formed by a method such as dip coating in which the film is immersed in a liquid and slowly pulled up to form a film.

図1(b)で示すように平面的には内側中心近傍21は疎水膜12を剥離して親水性の光学多層膜2Aが表出している。中間領域24は、光学多層膜2Aが部分的に表出しており、試料掲載スポット10の中心から外側に行くにつれて疎水膜12の割合が多くなるように疎水膜を部分的に剥離してパターンを形成している。中間領域24の外側にある外側周辺部22は、疎水膜12で被覆されている。したがって、試料積載スポット中心から外へ向かうにしたがい、疎水性が徐々に高くなるように構成した。 As shown in FIG. 1B, the hydrophobic film 12 is peeled off in the vicinity of the inner center 21 in a plane, and the hydrophilic optical multilayer film 2A is exposed. In the intermediate region 24, the optical multilayer film 2A is partially exposed, and the hydrophobic film is partially peeled off so that the proportion of the hydrophobic film 12 increases toward the outside from the center of the sample mounting spot 10 to form a pattern. Is forming. The outer peripheral portion 22 outside the intermediate region 24 is covered with the hydrophobic film 12. Therefore, the hydrophobicity is gradually increased from the center of the sample loading spot to the outside.

図2は、実施例1における試料積載プレート100の断面構成として各層の材質と厚さを示している。基板1にアルミナ(Al)を用いている。基板1に積層される第1の金属膜2Mは、材料にNiを使用し膜厚は約300nmである(1nm=0.000001mm)。次に光学多層膜2Aを構成する第1層目2dはAlを使用し膜厚は約80nmである。第2層目2cはTiを使用し膜厚は約10nmである。第3層目2bはSiOを使用し膜厚は90nmである。第4層目2aは、Tiを使用し膜厚は約10nmである。このような構成とすることによって可視光の波長領域において、試料積載プレート100の表面は濃紺色とすることができる。光学多層膜2Aの上には、C(炭素)、F(フッ素)、Si(シリコン)などで構成された疎水膜12が形成されているが、疎水膜12の膜厚は、例えば、2〜3nm程度と薄いので試料積載スポット10の内側表面の導電性や色への影響は少ない。 FIG. 2 shows the material and thickness of each layer as the cross-sectional structure of the sample loading plate 100 in Example 1. Aluminium (Al 2 O 3 ) is used for the substrate 1. The first metal film 2M laminated on the substrate 1 uses Ni as a material and has a film thickness of about 300 nm (1 nm = 0.000001 mm). Next, the first layer 2d constituting the optical multilayer film 2A uses Al 2 O 3 and has a film thickness of about 80 nm. Ti is used for the second layer 2c, and the film thickness is about 10 nm. The third layer 2b uses SiO 2 and has a film thickness of 90 nm. The fourth layer 2a uses Ti and has a film thickness of about 10 nm. With such a configuration, the surface of the sample loading plate 100 can be dark blue in the visible light wavelength region. A hydrophobic film 12 composed of C (carbon), F (fluorine), Si (silicon) and the like is formed on the optical multilayer film 2A. The thickness of the hydrophobic film 12 is, for example, 2 to 2. Since it is as thin as about 3 nm, it has little effect on the conductivity and color of the inner surface of the sample loading spot 10.

このように、基板1に積層形成する第1の金属膜と光学多層膜2Aとを好適に組合せることにより光学干渉を利用した任意の反射特性(着色)が得られる。 As described above, by preferably combining the first metal film laminated on the substrate 1 and the optical multilayer film 2A, arbitrary reflection characteristics (coloring) utilizing optical interference can be obtained.

さらに、基板1にアルミナなどの白色の材料を用いることで試料積載プレートの表面色と内側中心近傍21に形成した溝によって基板1を露出する場合、露出した基板色が白色になり、光学多層膜2Aとのコントラストがよりいっそう際立って試料積載スポット10の視認性がより良くなる。さらに、試料の結晶は、白色を呈するので試料積載プレート表面が光学多層膜2Aと色の識別ができ、積載の有無を結晶化後に確認することが可能となる。さらに基板1がアルミナであれば、溝は、親水性表面となり、試料をトラップする目的に対してもより効果を発揮できる。 Further, when the substrate 1 is exposed by the surface color of the sample loading plate and the groove formed in the vicinity of the inner center 21 by using a white material such as alumina for the substrate 1, the exposed substrate color becomes white and the optical multilayer film is formed. The contrast with 2A becomes even more remarkable, and the visibility of the sample loading spot 10 becomes better. Further, since the crystal of the sample is white, the surface of the sample loading plate can be color-identified from the optical multilayer film 2A, and the presence or absence of loading can be confirmed after crystallization. Further, if the substrate 1 is alumina, the grooves have a hydrophilic surface and can be more effective for the purpose of trapping the sample.

[試料積載プレート110の製造方法の説明:図4及び図5]
次に、実施例1の試料積載プレート100の製造方法について図4及び図5を用いて説明する。図4は、実施例1における試料積載プレート100の製造方法を示す工程図である。図5は、製造工程で使うマスク15のパターン例である。
[Explanation of Manufacturing Method of Sample Loading Plate 110: FIGS. 4 and 5]
Next, the method of manufacturing the sample loading plate 100 of Example 1 will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 is a process diagram showing a method of manufacturing the sample loading plate 100 according to the first embodiment. FIG. 5 is an example of a pattern of the mask 15 used in the manufacturing process.

[製造方法の説明:図4]
図4において、試料積載プレート110の製造方法について310〜370の主要な工程を図示し説明する。尚、各工程において特定の記載がない限りそれぞれの工程に必要な一般的な例えば、移送、検査、洗浄、乾燥、アニール等の作業を行うことは当然のこととし、それらの説明は省略する。
[Explanation of manufacturing method: Fig. 4]
In FIG. 4, the main steps of 310 to 370 will be illustrated and described with respect to the method of manufacturing the sample loading plate 110. Unless otherwise specified in each step, it is natural to perform general operations such as transfer, inspection, cleaning, drying, and annealing necessary for each step, and the description thereof will be omitted.

[基板受け入れ工程:310]
まず、基板受け入れ工程310では、基板1の平面度及び表面粗さの検査を行い、所定の平坦度、表面粗さであることを確認する。
[Substrate acceptance process: 310]
First, in the substrate receiving step 310, the flatness and surface roughness of the substrate 1 are inspected to confirm that the substrate 1 has a predetermined flatness and surface roughness.

[基板表面加工工程(拡大図):320]
次に、基板表面加工工程320では、基板1にラッピング加工やポリッシング加工を施し、所定の基板厚や表面粗さ、平坦度に仕上げる。尚、本工程での主要な検査項目は基板の表面粗さ及び平坦度である。
[Substrate surface processing process (enlarged view): 320]
Next, in the substrate surface processing step 320, the substrate 1 is subjected to a lapping process or a polishing process to finish the substrate 1 to a predetermined substrate thickness, surface roughness, and flatness. The main inspection items in this step are the surface roughness and flatness of the substrate.

[第1の金属膜形成工程(拡大図):330]
次に、第1の金属膜形成工程330では、第1の金属膜2Mを形成する。例えば、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法を用い、例えば、Niを厚さ300nmに形成する。このとき、できるだけ均一な膜とするために成膜粒子の照射方向は垂直方向が望ましい(破線矢印参照)。
[First metal film forming step (enlarged view): 330]
Next, in the first metal film forming step 330, the first metal film 2M is formed. For example, Ni is formed to a thickness of 300 nm by using a film forming method such as vacuum deposition or sputtering. At this time, the irradiation direction of the film-formed particles is preferably vertical in order to make the film as uniform as possible (see the broken line arrow).

[光学多層膜形成工程(拡大図):340]
次に、光学多層膜形成工程340では光学多層膜2Aを積層形成する。例えば、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法によって、図4にある2d層、2c層、2b層、2a層を順番に形成する。
[Optical multilayer film forming process (enlarged view): 340]
Next, in the optical multilayer film forming step 340, the optical multilayer film 2A is laminated and formed. For example, the 2d layer, 2c layer, 2b layer, and 2a layer shown in FIG. 4 are formed in order by a film forming method such as vacuum deposition or sputtering.

[疎水膜形成工程:350]
次に、疎水膜形成工程350では、前工程で形成された光学多層膜2Aの表面に疎水膜12を積層形成する。例えば、真空蒸着等の成膜方法によって、例えば、C(炭素)またはF(フッ素)またはSi(シリコン)を含む撥水材またはそれらの複合された撥水材を、例えば、2nmの厚さに形成する。
[Hydrophobic film forming step: 350]
Next, in the hydrophobic film forming step 350, the hydrophobic film 12 is laminated and formed on the surface of the optical multilayer film 2A formed in the previous step. For example, a water repellent material containing C (carbon) or F (fluorine) or Si (silicon) or a composite water repellent material thereof can be made to a thickness of, for example, 2 nm by a film forming method such as vacuum deposition. Form.

[疎水膜除去工程:370]
最後に、疎水膜除去工程370では、試料積載スポット10の内側領域(内側中心近傍21及び中間領域24)に形成された疎水膜12を剥離する。例えば、プラズマエッチング等の加工方法により、試料積載プレート100の上面にマスク15を載置しプラズマエッチング等の加工方法を用いて疎水膜12を剥離し、そののち、マスク15を取り外す工程とする。マスク15は、図5において白い部分として示す開口部が形成されている。図5には3つの例を示した。
[Hydrophobic membrane removal step: 370]
Finally, in the hydrophobic film removing step 370, the hydrophobic film 12 formed in the inner region (inner center vicinity 21 and intermediate region 24) of the sample loading spot 10 is peeled off. For example, a mask 15 is placed on the upper surface of the sample loading plate 100 by a processing method such as plasma etching, the hydrophobic film 12 is peeled off by a processing method such as plasma etching, and then the mask 15 is removed. The mask 15 is formed with an opening shown as a white portion in FIG. FIG. 5 shows three examples.

図5(a)に示す例では、内側中心近傍21に開口部が形成され、中間領域24に対する部位には中心から外側に向かって、開口率が小さくなるように同心円形状のマスクパターンが形成されている。黒い部分がプラズマから保護するマスクの働きがある。外側周辺部22に対する部位は、完全にマスクされて開口率がゼロとなっている。 In the example shown in FIG. 5A, an opening is formed in the vicinity of the inner center 21 and a concentric mask pattern is formed in the portion with respect to the intermediate region 24 so that the aperture ratio decreases from the center to the outside. ing. The black part acts as a mask that protects from plasma. The portion with respect to the outer peripheral portion 22 is completely masked and the aperture ratio is zero.

図5(b)に示す例では、試料積載スポット10の中心に対する部位から外側の部位に向かう放射線状の開口部(図で白い部分)が形成されている。外側周辺部22に対する部位は、完全にマスクされて開口率がゼロとなっている。このような構成にすることで、開口率が中心から外側にむかって小さくなる構成とすることが可能となる。本例では、放射線状の開口部は、一定の幅としたが、外側に向かうにつれて幅が小さくなる形状であってもよい。また本例では、内側中心近傍21には、白い開口部が交差している中心部分が対応する。 In the example shown in FIG. 5B, a radial opening (white portion in the figure) is formed from the portion with respect to the center of the sample loading spot 10 to the outer portion. The portion with respect to the outer peripheral portion 22 is completely masked and the aperture ratio is zero. With such a configuration, it is possible to configure the aperture ratio to decrease from the center to the outside. In this example, the radial opening has a constant width, but the width may become smaller toward the outside. Further, in this example, the central portion where the white openings intersect corresponds to the inner center vicinity 21.

図5(c)に示す例では、内側中心近傍21に対する部位では、開口部が形成され、中間領域24に対する部位では、網目状のマスク(黒い部分)が形成されており、網目の黒い部分は外側にむかって面積割合が増えている。外側周辺部22に対する部位は、完全にマスクされて開口率がゼロとなっている。このような構成にすることで、開口率が中心から外側にむかって小さくなる構成とすることが可能となる。 In the example shown in FIG. 5C, an opening is formed in the portion for the inner center vicinity 21 and a mesh-like mask (black portion) is formed in the portion for the intermediate region 24, and the black portion of the mesh is formed. The area ratio is increasing toward the outside. The portion with respect to the outer peripheral portion 22 is completely masked and the aperture ratio is zero. With such a configuration, it is possible to configure the aperture ratio to decrease from the center to the outside.

以上説明した製造方法により、スポットの内側中心近傍の親水性が高く、外側に向かって徐々に疎水性になる試料積載スポットとすることができる。加えて、基板の表面に光学多層膜による所望の反射色を有する試料積載プレートの製造方法を提供することができ、試料の視認性がよくかつ滴下する試料のアンカー効果の高い試料積載プレートの製造方法を提供することができる。 According to the manufacturing method described above, it is possible to obtain a sample loading spot having high hydrophilicity near the inner center of the spot and gradually becoming hydrophobic toward the outside. In addition, it is possible to provide a method for manufacturing a sample loading plate having a desired reflection color due to an optical multilayer film on the surface of the substrate, and to manufacture a sample loading plate having good sample visibility and a high anchoring effect for a dripping sample. A method can be provided.

別法として、疎水膜形成工程350において、試料積載プレート100の上から試料積載スポット10を上記図5に示したマスクの白い部分と黒い部分を逆にしたマスクすなわち、図10に示したマスクをかぶせた状態で、前記疎水膜形成工程350を実施することも可能であり、その場合、疎水膜除去工程370は不要となる。 Alternatively, in the hydrophobic film forming step 350, the sample loading spot 10 is placed on the sample loading plate 100 with the white portion and the black portion of the mask shown in FIG. 5 reversed, that is, the mask shown in FIG. It is also possible to carry out the hydrophobic film forming step 350 in the covered state, in which case the hydrophobic film removing step 370 becomes unnecessary.

また、図13に示すように中間領域24の外周部に溝3をレーザーマーキング等の手法により形成し、基板1を露出させることも可能であり、濃紺色の表面と基板の白色のコントラストによって、試料積載スポット10の視認性が良くなり、試料載置の作業がしやすくなる効果を付加することも可能である。 Further, as shown in FIG. 13, it is also possible to expose the substrate 1 by forming a groove 3 on the outer peripheral portion of the intermediate region 24 by a method such as laser marking, and the contrast between the dark blue surface and the white color of the substrate allows the substrate 1 to be exposed. It is also possible to add an effect that the visibility of the sample loading spot 10 is improved and the work of placing the sample is facilitated.

実施例2を図6〜図10を用いて説明する。図6(a)は、実施例2における試料積載プレート100の平面図である。図6(b)は、図6(a)に示す試料積載スポット10の中心を通過する切断線I−I´における断面図であり、平面的な位置関係を分かりやすくするため、上部に平面図の拡大図を付加した。実施例2では、基板1は、疎水性表面を持つ材料で構成している(後述)。基板1の片側表面には最初に第1の金属膜2Mが形成されている。次に、第1の金属膜2Mに積層して光学多層膜2Aが形成されている。光学多層膜2Aは、誘電体膜または第2の金属膜からなり膜の種類、層数は特に限定されず、例えば、2d、2c、2b、2aの順に形成されている。光学多層膜2Aは親水性であり、第1の親水膜と定義される。第1の金属膜2Mや光学多層膜2Aは、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法により形成される。 The second embodiment will be described with reference to FIGS. 6 to 10. FIG. 6A is a plan view of the sample loading plate 100 according to the second embodiment. FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the cutting line I-I'passing through the center of the sample loading spot 10 shown in FIG. 6A, and is a plan view at the top in order to make the planar positional relationship easy to understand. An enlarged view of is added. In the second embodiment, the substrate 1 is made of a material having a hydrophobic surface (described later). A first metal film 2M is first formed on one side surface of the substrate 1. Next, the optical multilayer film 2A is formed by laminating on the first metal film 2M. The optical multilayer film 2A is made of a dielectric film or a second metal film, and the type and number of layers are not particularly limited, and are formed in the order of, for example, 2d, 2c, 2b, and 2a. The optical multilayer film 2A is hydrophilic and is defined as a first hydrophilic film. The first metal film 2M and the optical multilayer film 2A are formed by a film forming method such as vacuum deposition or sputtering.

図6(b)で示すように平面的には内側中心近傍21は光学多層膜2Aで覆われており、親水性であり、中間領域24は、光学多層膜2Aが試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがい、光学多層膜2Aの占める面積の割合が小さくなっていくように光学多層膜2Aと第1の金属膜2Mを剥離して疎水性である基板1を表出するようにパターンを形成している。したがって、試料積載スポット中心から外へ向かうにしたがい、疎水性が徐々に高くなるように構成した。 As shown in FIG. 6B, in a plane, the vicinity of the inner center 21 is covered with the optical multilayer film 2A and is hydrophilic, and in the intermediate region 24, the optical multilayer film 2A is outside the center of the sample loading spot. The pattern is formed so that the optical multilayer film 2A and the first metal film 2M are peeled off so as to expose the hydrophobic substrate 1 so that the ratio of the area occupied by the optical multilayer film 2A becomes smaller. Is forming. Therefore, the hydrophobicity is gradually increased from the center of the sample loading spot to the outside.

図7は、実施例2における試料積載プレート100の断面構成として各層の材質と厚さを示している。図7に示す断面構成は、基板1にポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を用いている。したがって基板1は疎水性表面を持つ。基板1に積層される第1の金属膜2Mは材質にNiを使用し膜厚は約300nmである。次に光学多層膜2Aを構成する第1層目2dはAlを使用し膜厚は約80nmである。第2層目2cはTiを使用し膜厚は約10nmである。第3層目2bはSiOを使用し膜厚は90nmである。第4層目2aは、Tiを使用し膜厚は約10nmである。このような膜構成とすることで可視光の波長領域において、試料積載プレート100の表面は濃紺色とすることができる。 FIG. 7 shows the material and thickness of each layer as the cross-sectional structure of the sample loading plate 100 in Example 2. In the cross-sectional structure shown in FIG. 7, polytetrafluoroethylene (PTFE) is used for the substrate 1. Therefore, the substrate 1 has a hydrophobic surface. The first metal film 2M laminated on the substrate 1 uses Ni as a material and has a film thickness of about 300 nm. Next, the first layer 2d constituting the optical multilayer film 2A uses Al 2 O 3 and has a film thickness of about 80 nm. Ti is used for the second layer 2c, and the film thickness is about 10 nm. The third layer 2b uses SiO 2 and has a film thickness of 90 nm. The fourth layer 2a uses Ti and has a film thickness of about 10 nm. With such a film configuration, the surface of the sample loading plate 100 can be dark blue in the visible light wavelength region.

このように、基板1に積層形成する第1の金属膜と光学多層膜2Aとを好適に組合せることにより光学干渉を利用した任意の反射特性(着色)が得られる。 As described above, by preferably combining the first metal film laminated on the substrate 1 and the optical multilayer film 2A, arbitrary reflection characteristics (coloring) utilizing optical interference can be obtained.

さらに、基板1にPTFEなどの白色の材料を用いることで疎水性表面として露出した基板色が白色になり、光学多層膜2Aとのコントラストがよりいっそう際立って試料積載スポット10の視認性がより良くなる。さらに、試料の結晶は、白色を呈するので試料積載プレート表面が光学多層膜2Aと色の識別ができ、積載の有無を結晶化後に確認することが可能となる。 Further, by using a white material such as PTFE for the substrate 1, the substrate color exposed as the hydrophobic surface becomes white, the contrast with the optical multilayer film 2A becomes more remarkable, and the visibility of the sample loading spot 10 becomes better. Become. Further, since the crystal of the sample is white, the surface of the sample loading plate can be color-identified from the optical multilayer film 2A, and the presence or absence of loading can be confirmed after crystallization.

[試料積載プレート100の製造方法の説明:図9および図10]
次に、実施例2の試料積載プレート100の製造方法について図9および図10を用いて説明する。図9は、試料積載プレート100の製造方法を示す工程図である。図10は、製造工程で使うマスク15のパターン例である。
[Explanation of Manufacturing Method of Sample Loading Plate 100: FIGS. 9 and 10]
Next, the method of manufacturing the sample loading plate 100 of Example 2 will be described with reference to FIGS. 9 and 10. FIG. 9 is a process diagram showing a method for manufacturing the sample loading plate 100. FIG. 10 is an example of a pattern of the mask 15 used in the manufacturing process.

[製造方法の説明:図9]
図9において、試料積載プレート100の製造方法について410〜470の主要な工程を図示し説明する。尚、各工程において特定の記載がない限りそれぞれの工程に必要な一般的な例えば、移送、検査、洗浄、乾燥、アニール等の作業を行うことは当然のこととし、それらの説明は省略する。
[Explanation of manufacturing method: Fig. 9]
In FIG. 9, the main steps of 410 to 470 are illustrated and described for the method of manufacturing the sample loading plate 100. Unless otherwise specified in each step, it is natural to perform general operations such as transfer, inspection, cleaning, drying, and annealing necessary for each step, and the description thereof will be omitted.

[基板受け入れ工程:410]
まず、基板受け入れ工程410では、基板1の平面度及び表面粗さの検査を行い、所定の平坦度、表面粗さであることを確認する。
[Substrate acceptance process: 410]
First, in the substrate receiving step 410, the flatness and surface roughness of the substrate 1 are inspected to confirm that the substrate 1 has a predetermined flatness and surface roughness.

[基板表面加工工程(拡大図):420]
次に、基板表面加工工程420では、基板1にラッピング加工やポリッシング加工を施し、所定の基板厚や表面粗さ、平坦度に仕上げる。尚、本工程での主要な検査項目は基板の表面粗さ及び平坦度である。また、必要であれば、次工程で金属膜を形成する際の密着性を向上させるように表面の微細構造を形成する場合もある。
[Substrate surface processing process (enlarged view): 420]
Next, in the substrate surface processing step 420, the substrate 1 is subjected to a lapping process or a polishing process to finish the substrate 1 to a predetermined substrate thickness, surface roughness, and flatness. The main inspection items in this step are the surface roughness and flatness of the substrate. Further, if necessary, a fine structure on the surface may be formed so as to improve the adhesion when forming the metal film in the next step.

[第1の金属膜形成工程(拡大図):430]
次に、第1の金属膜形成工程430では、第1の金属膜2Mを形成する。例えば、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法を用い、例えば、Niを厚さ300nmに形成する。このとき、できるだけ均一な膜とするために成膜粒子の照射方向は垂直方向が望ましい(破線矢印参照)。
[First metal film forming step (enlarged view): 430]
Next, in the first metal film forming step 430, the first metal film 2M is formed. For example, Ni is formed to a thickness of 300 nm by using a film forming method such as vacuum deposition or sputtering. At this time, the irradiation direction of the film-formed particles is preferably vertical in order to make the film as uniform as possible (see the broken line arrow).

[光学多層膜形成工程(拡大図):440]
次に、光学多層膜形成工程440では光学多層膜2Aを積層形成する。例えば、真空蒸着やスパッタリング等の成膜方法によって、図4にある2d層、2c層、2b層、2a層を順番に形成する。
[Optical multilayer film forming process (enlarged view): 440]
Next, in the optical multilayer film forming step 440, the optical multilayer film 2A is laminated and formed. For example, the 2d layer, 2c layer, 2b layer, and 2a layer shown in FIG. 4 are formed in order by a film forming method such as vacuum deposition or sputtering.

[光学多層膜2A及び第1の金属膜2Mの除去工程:470]
最後に、光学多層膜2A及び第1の金属膜2Mの除去工程470では、試料積載スポット10の内側領域(内側中心近傍21及び中間領域24)に形成された光学多層膜2A及び第1の金属膜2Mを剥離する。例えば、プラズマエッチング等の加工方法により、試料積載プレート100の上面にマスク15を載置しプラズマエッチング等の加工方法を用いて光学多層膜2A及び第1の金属膜2Mを剥離し、そののち、マスク15を取り外す工程とする。マスク15は、図10において白い部分として示す開口部が形成されている。図10には3つの例を示した。
[Removal step of optical multilayer film 2A and first metal film 2M: 470]
Finally, in the removal step 470 of the optical multilayer film 2A and the first metal film 2M, the optical multilayer film 2A and the first metal formed in the inner region (inner center vicinity 21 and intermediate region 24) of the sample loading spot 10 are formed. The film 2M is peeled off. For example, a mask 15 is placed on the upper surface of the sample loading plate 100 by a processing method such as plasma etching, and the optical multilayer film 2A and the first metal film 2M are peeled off by a processing method such as plasma etching. The step is to remove the mask 15. The mask 15 is formed with an opening shown as a white portion in FIG. FIG. 10 shows three examples.

図10(a)に示す例では、内側中心近傍21に黒いマスク部が形成され、中間領域24に対する部位には中心から外側に向かって、開口率が大きくなるように同心円形状のマスクパターンが形成されている。黒い部分がプラズマから保護するマスクの働きがある。外側周辺部22に対する部位は、隣の試料積載スポットそれぞれにあるマスクを連結して位置関係を保持するための細い桟がある部分以外は、開口部となっている。 In the example shown in FIG. 10A, a black mask portion is formed near the inner center 21 and a concentric mask pattern is formed in the portion with respect to the intermediate region 24 so that the aperture ratio increases from the center to the outside. Has been done. The black part acts as a mask that protects from plasma. The portion with respect to the outer peripheral portion 22 is an opening except for a portion having a thin crosspiece for connecting masks at adjacent sample loading spots to maintain a positional relationship.

図10(b)に示す例では、試料積載スポット10の中心に対する部位から外側の部位に向かう放射線状のマスク部(図で黒い部分)が形成されている。外側周辺部22に対する部位は、図5(a)と同様に細い桟がある部分以外は、開口部となっている。このような構成にすることで、開口率が中心から外側にむかって大きくなる構成とすることが可能となる。本例では、放射線状のマスク部は、一定の幅としたが、外側に向かうにつれて幅が小さくなる形状であってもよい。また本例では、内側中心近傍21には、白い開口部が交差している中心部分が対応する。 In the example shown in FIG. 10B, a radial mask portion (black portion in the figure) is formed from a portion with respect to the center of the sample loading spot 10 toward an outer portion. The portion with respect to the outer peripheral portion 22 is an opening except for a portion having a thin crosspiece as in FIG. 5A. With such a configuration, it is possible to configure the aperture ratio to increase from the center to the outside. In this example, the radial mask portion has a constant width, but the width may become smaller toward the outside. Further, in this example, the central portion where the white openings intersect corresponds to the inner center vicinity 21.

図10(c)に示す例では、内側中心近傍21に対する部位は、黒いマスクとなって開口率はゼロであり、中間領域24に対する部位では、網目状の開口部(白い部分)が形成されており、網目の開口部(白い部分)は外側にむかって面積割合が増えている。 外側周辺部22に対する部位は、細い桟がある部分以外は、開口部となっている。このような構成にすることで、開口率が中心から外側にむかって大きくなる構成とすることができる。 In the example shown in FIG. 10C, the portion with respect to the inner center vicinity 21 is a black mask and the aperture ratio is zero, and the portion with respect to the intermediate region 24 is formed with a mesh-like opening (white portion). The area ratio of the mesh opening (white part) is increasing toward the outside. The portion with respect to the outer peripheral portion 22 is an opening except for a portion having a thin crosspiece. With such a configuration, the aperture ratio can be increased from the center to the outside.

以上説明した製造方法により、スポットの内側中心近傍の親水性が高く、外側に向かって徐々に疎水性になる試料積載スポットとすることができる。加えて、基板の表面に光学多層膜による所望の反射色を有する試料積載プレートの製造方法を提供することができ、試料の視認性がよくかつ滴下する試料のアンカー効果の高い試料積載プレートの製造方法を提供することができる。 According to the manufacturing method described above, it is possible to obtain a sample loading spot having high hydrophilicity near the inner center of the spot and gradually becoming hydrophobic toward the outside. In addition, it is possible to provide a method for manufacturing a sample loading plate having a desired reflection color due to an optical multilayer film on the surface of the substrate, and to manufacture a sample loading plate having good sample visibility and a high anchoring effect for a dripping sample. A method can be provided.

別法として、第1の金属膜形成工程430及び光学多層膜形成工程440において、試料積載プレート100の上から試料積載スポット10を上記図10に示したマスクの白い部分と黒い部分を逆にしたマスク、すなわち、図5に示したマスクをかぶせた状態で、前記第1の金属膜形成工程430及び光学多層膜形成工程440を実施することも可能であり、その場合、光学多層膜2A及び第1の金属膜2Mの除去工程470は不要となる。 Alternatively, in the first metal film forming step 430 and the optical multilayer film forming step 440, the sample loading spot 10 is reversed from the white portion and the black portion of the mask shown in FIG. 10 above the sample loading plate 100. It is also possible to carry out the first metal film forming step 430 and the optical multilayer film forming step 440 with the mask, that is, the mask shown in FIG. 5 covered, in which case the optical multilayer film 2A and the first The removal step 470 of the metal film 2M of 1 becomes unnecessary.

以上、試料積載プレートの各種実施形態とその製造方法について詳細に説明したが、本発明は、このような実施形態と製造方法に限定されるものではなく、細部の構成、素材、数量において、本発明の思想を逸脱しない範囲で、任意に変更、追加、削除することができる。 Although various embodiments of the sample loading plate and the manufacturing method thereof have been described in detail above, the present invention is not limited to such embodiments and manufacturing methods, and the present invention is not limited to such embodiments and manufacturing methods. It can be arbitrarily changed, added or deleted without departing from the idea of the invention.

[試料積載プレートの着色及び視認性に関する説明:図11]
次に、試料積載プレートの着色に関して図5を用いて説明する。図11は、基板に光学多層膜形成した場合の光の干渉を説明する模式図である。
[Explanation of coloring and visibility of sample loading plate: FIG. 11]
Next, the coloring of the sample loading plate will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a schematic diagram illustrating light interference when an optical multilayer film is formed on a substrate.

図11において、基板1は、説明のために、例えば、光学多層膜として誘電体膜2a、2b、2c、2dが積層形成されている。各層の材質(屈折率)、厚さ、層数を調整することによって任意の反射特性(着色)が得られるが、ここでは、模式的な図を用いて原理的な説明にとどめる。(一般的には屈折率の高い誘電体膜と低い屈折率の誘電体膜をペアとして1/4波長の厚みで交互に積層することによって光の干渉作用により各層の界面からの反射波が相加的に重なって高効率の反射機能を得られるとされている。) In FIG. 11, for the sake of explanation, for example, dielectric films 2a, 2b, 2c, and 2d are laminated and formed as an optical multilayer film. Arbitrary reflection characteristics (coloring) can be obtained by adjusting the material (refractive index), thickness, and number of layers of each layer, but here, only a schematic diagram is used to explain the principle. (Generally, by alternately laminating a dielectric film having a high refractive index and a dielectric film having a low refractive index as a pair with a thickness of 1/4 wavelength, the reflected wave from the interface of each layer is phased by the interference action of light. It is said that a highly efficient reflection function can be obtained by additionally overlapping.)

空気層90から光学多層膜に入射する入射光Pは、まず空気と誘電体膜2aとの界面で反射波2aRが発生する。同様に各層の界面でそれぞれの反射波2bR、2cR、2dR、1Rが発生する。各界面からの反射が足し合わされて反射波Rとなる。反射波Rは、各層の材質(屈折率)、膜厚、膜層数を変えることで任意の反射特性(着色)を得られる。尚、誘電体膜に金属膜を混合することにより多様な反射特性を得られる。 The incident light P incident on the optical multilayer film from the air layer 90 first generates a reflected wave 2aR at the interface between the air and the dielectric film 2a. Similarly, the reflected waves 2bR, 2cR, 2dR, and 1R are generated at the interface of each layer. The reflections from each interface are added together to form a reflected wave R. The reflected wave R can obtain arbitrary reflection characteristics (coloring) by changing the material (refractive index), film thickness, and number of film layers of each layer. Various reflection characteristics can be obtained by mixing a metal film with the dielectric film.

この原理に基づいて実施例1では図2に、実施例2では図7に示したように具体的な膜質および膜厚を選定した結果、試料積載プレート100の反射特性は、可視光の波長領域W(約380nm〜約780nm)では全体として反射率は低めであるが波長が小さい側すなわち濃紺系の光が多めに反射するピークを有しプレートの表面は濃紺色に着色して見える。 Based on this principle, as a result of selecting specific film quality and film thickness as shown in FIG. 2 in Example 1 and FIG. 7 in Example 2, the reflection characteristic of the sample loading plate 100 is in the wavelength region of visible light. At W (about 380 nm to about 780 nm), the reflectance is low as a whole, but it has a peak on the side where the wavelength is small, that is, a large amount of dark blue light is reflected, and the surface of the plate appears to be colored dark blue.

また、基板に積層される第1の金属膜2Mと光学多層膜2Aによって任意の色を作ることができる。この結果、積載する試料の視認性を高めることができ試料の滴下作業の効率が向上する。また、多様な色の試料積載プレートを作り色分けすることで試料の保管と管理が容易になる。 Further, an arbitrary color can be created by the first metal film 2M and the optical multilayer film 2A laminated on the substrate. As a result, the visibility of the loaded sample can be improved, and the efficiency of the sample dropping operation is improved. In addition, by making sample loading plates of various colors and color-coding them, it becomes easy to store and manage the samples.

[質量分析装置による分析動作の説明:図3、図8、図12]
次に、試料の質量分析を行う動作について図3、図8、図12を用いて説明する。ここでは主に試料積載プレート及び試料のイオン化に係る部分を説明し、他は原理的な説明にとどめ詳細は省略する。図3および図8は、前述した試料積載プレート100に試料200を積載した状態を示した模式図であり、図3に実施例1における状態、図8に実施例2における状態を示している。図12は、質量分析装置300に試料200が積載された試料積載プレートを載置した状態を示す模式図である。
[Explanation of analysis operation by mass spectrometer: FIG. 3, FIG. 8, FIG. 12]
Next, the operation of performing mass spectrometry of the sample will be described with reference to FIGS. 3, 8, and 12. Here, the sample loading plate and the part related to the ionization of the sample will be mainly described, and the other parts will be described in principle and the details will be omitted. 3 and 8 are schematic views showing a state in which the sample 200 is loaded on the sample loading plate 100 described above, FIG. 3 shows a state in Example 1, and FIG. 8 shows a state in Example 2. FIG. 12 is a schematic view showing a state in which a sample loading plate on which the sample 200 is loaded is placed on the mass spectrometer 300.

実施例1(図3)、実施例2(図8)ともに、被分析物とマトリックスを混合し溶媒で液状化した試料200を試料積載スポットに滴下し溶媒を蒸発させ、乾燥化した状態を断面図にて示している。試料200は図示しない器具によって試料積載スポット10の内側中心近傍21(図1、図6参照)に所定量が滴下される。滴下された試料200は重力及び表面張力によって放射状に広がろうとするが、親水性の表面に引きつけられて内側中心近傍21および中間領域24を足した面積で試料をトラップする。内側中心近傍21のみが親水性表面である場合よりも中間領域24が周囲にあって親水性表面を備えているので、より広い面積で確実に試料の液滴をトラップすることができる。 In both Example 1 (FIG. 3) and Example 2 (FIG. 8), a sample 200 obtained by mixing an object to be analyzed and a matrix and liquefied with a solvent is dropped onto a sample loading spot to evaporate the solvent, and a cross section of the dried state is obtained. It is shown in the figure. A predetermined amount of the sample 200 is dropped onto the sample loading spot 10 near the inner center 21 (see FIGS. 1 and 6) by an instrument (not shown). The dropped sample 200 tries to spread radially due to gravity and surface tension, but is attracted to the hydrophilic surface and traps the sample in the area obtained by adding the inner center vicinity 21 and the intermediate region 24. Since the intermediate region 24 is around and has a hydrophilic surface as compared with the case where only the inner center vicinity 21 is a hydrophilic surface, the droplets of the sample can be reliably trapped in a wider area.

さらに、親水性表面を光学多層膜により形成した場合は、光の反射率を調整することができる。本実施例では濃紺色を呈しており、基板の色がアルミナやPTFEは白色であるので、試料積載スポット10の基板が露出する部分が試料を積載する際の目印となる。試料の結晶が白色を呈するので試料積載プレート表面と色の識別ができ、積載の有無を結晶化後に確認することが可能となる。 Further, when the hydrophilic surface is formed by the optical multilayer film, the reflectance of light can be adjusted. In this embodiment, the color of the substrate is dark blue, and the color of the substrate is alumina or white in PTFE. Therefore, the exposed portion of the sample loading spot 10 on the substrate serves as a mark when the sample is loaded. Since the crystal of the sample is white, the color can be distinguished from the surface of the sample loading plate, and the presence or absence of loading can be confirmed after crystallization.

分析される試料200の積載が終了した後、各試料200はその状態で乾燥させる。しだいに試料の容積が減っていくにしたがって、親水性表面が最も表出している内側中心近傍に引き寄せられて、内側中心近傍により多くの乾燥し、結晶化した試料を留めることが可能となる。そのような結果をもたらす試料積載スポットの中心から外側に向かうにつれて親水性表面から疎水性表面へ段階的に変化する構造である。この構造の試料積載プレートを製造するにあたり、一つのマスクを使って試料積載プレートの最表面の膜を除去することにより容易に製造することが可能となる。 After the loading of the sample 200 to be analyzed is completed, each sample 200 is dried in that state. As the volume of the sample gradually decreases, the hydrophilic surface is attracted to the vicinity of the inner center where it is most exposed, and it becomes possible to retain more dried and crystallized sample near the inner center. It is a structure that gradually changes from a hydrophilic surface to a hydrophobic surface from the center of the sample loading spot that gives such a result toward the outside. In manufacturing a sample loading plate having this structure, it is possible to easily manufacture the sample loading plate by removing the outermost film of the sample loading plate using one mask.

次に、図12は、質量分析装置300の模式図を示し、試料200を積載した試料積載プレート100が質量分析装置300に載置され図示しない固定部によって固定されている。実際には、複数のスポットに積載された試料200は、X、Y方向に移動して各試料が所定の位置に停止できる機構になっているが、ここでは簡単のため、1つの試料積載スポットについて説明する。 Next, FIG. 12 shows a schematic view of the mass spectrometer 300, and the sample loading plate 100 on which the sample 200 is loaded is placed on the mass spectrometer 300 and fixed by a fixing portion (not shown). Actually, the sample 200 loaded on a plurality of spots has a mechanism that allows each sample to move in the X and Y directions and stop at a predetermined position. However, for the sake of simplicity, one sample loading spot is used here. Will be described.

図12に示す質量分析装置300は、左側に試料積載プレート100が載置され、図示しないクランプ部によって着脱可能に固定されている。また、図示しない電圧印加部から試料積載プレート100に導電できるようになっている。また、試料200にレーザ光220aを照射するレーザ光源220と、レーザ光の照射に伴って試料200から離脱しイオン化した被分析物(200a、200b、200c、)を加速するイオン加速部230と、イオンをトラップするイオントラップ部231と、イオンの飛行空間を形成し各イオンの質量分離を行う質量分離部232と、質量分離され到達した各イオンを時系列に検出するイオン検出部240とを備えている。 In the mass spectrometer 300 shown in FIG. 12, the sample loading plate 100 is placed on the left side and is detachably fixed by a clamp portion (not shown). Further, a voltage application portion (not shown) can conduct electricity to the sample loading plate 100. Further, a laser light source 220 that irradiates the sample 200 with a laser beam 220a, and an ion accelerator 230 that accelerates an object to be analyzed (200a, 200b, 200c,) separated from the sample 200 and ionized by the irradiation of the laser beam. It is provided with an ion trap unit 231 for trapping ions, a mass separation unit 232 for forming an ion flight space and performing mass separation of each ion, and an ion detection unit 240 for detecting each ion reached by mass separation in time series. ing.

ここで、被分析物のイオンの極性は正(プラス電荷)であるものとする。質量分析が開始すると、レーザ光源220から測定対象の試料200にレーザ光220aが所定時間照射される。それと同時に図示しない電圧印加部からプラスの電圧V1が試料積載プレート100の第1の金属膜2Mおよび光学多層膜中の金属膜(2a、2c)に印加され、試料200に対しプラスの電圧が試料に有効に与えられる。同時に、イオントラップ部231の最初のグリッドにマイナスの電圧V2が印加される。 Here, it is assumed that the polarity of the ions of the object to be analyzed is positive (positive charge). When the mass spectrometry starts, the laser light source 220 irradiates the sample 200 to be measured with the laser beam 220a for a predetermined time. At the same time, a positive voltage V1 is applied to the first metal film 2M of the sample loading plate 100 and the metal film (2a, 2c) in the optical multilayer film from a voltage application portion (not shown), and a positive voltage is applied to the sample 200 with respect to the sample 200. Is effectively given to. At the same time, a negative voltage V2 is applied to the first grid of the ion trap unit 231.

このとき、試料200に含まれるマトリクスが被分析物を伴って気化し被分析物が脱離しイオン化される。そして、プラスの電圧V1が被分析物に与えられ、マイナスの電圧V2が与えられたイオントラップ部231に向けて下り勾配の電界が発生するため、脱離しイオン化した被分析物は、イオン加速部230ではイオントラップ部231に向けて加速される。このようにして、脱離しイオン化した被分析物は、イオントラップ部231から質量分離部(飛行空間)232へ送りこまれ、飛行する間に質量の違いにより分離され時間差がついて200c、200b、200aの順にイオン検出部へ到達する。そして、イオン検出部240にて検出されたデータは図示しない解析装置により解析され被分析物に関する質量分析が行われる。この結果、試料の同定が高速かつ高精度に行われる。 At this time, the matrix contained in the sample 200 is vaporized together with the object to be analyzed, and the object to be analyzed is desorbed and ionized. Then, a positive voltage V1 is applied to the object to be analyzed, and a downward-grading electric field is generated toward the ion trap unit 231 to which the negative voltage V2 is applied. Therefore, the desorbed and ionized object to be analyzed is an ion acceleration unit. At 230, it is accelerated toward the ion trap unit 231. The object to be desorbed and ionized in this way is sent from the ion trap unit 231 to the mass separation unit (flight space) 232, separated by the difference in mass during flight, and has a time difference of 200c, 200b, 200a. It reaches the ion detection unit in order. Then, the data detected by the ion detection unit 240 is analyzed by an analyzer (not shown) to perform mass spectrometry on the object to be analyzed. As a result, sample identification is performed at high speed and with high accuracy.

以上、実施例1、実施例2に基づいて本発明の実施形態、効果を説明した。尚、実施例1では基板1にセラミックスのAlを用いた例を説明したがこれに限定されず他のセラミックス材料、磁器とセラミックスの複合材料、ガラス、Si、プラスチックなどを用いてもよい。また、第1の金属膜2Mや光学多層膜2Aの金属膜としてNi、Ti、Alを用いた例を説明したがこれに限定されずクロム、金など他の金属を用いてもよい。また、誘電体膜の材料としてAl、SiO、TiOを用いた例を説明したがこれに限定されずMgO、MgF、ZrOなど他の誘電体材料を用いてもよい。 The embodiments and effects of the present invention have been described above based on Examples 1 and 2. In Example 1, an example in which the ceramic Al 2 O 3 is used for the substrate 1 has been described, but the present invention is not limited to this, and other ceramic materials, porcelain and ceramic composite materials, glass, Si, plastic, and the like may be used. Good. Further, an example in which Ni, Ti, and Al are used as the metal film of the first metal film 2M and the optical multilayer film 2A has been described, but the present invention is not limited to this, and other metals such as chromium and gold may be used. Further, an example in which Al 2 O 3 , SiO 2 , and TiO 2 are used as the material of the dielectric film has been described, but the present invention is not limited to this, and other dielectric materials such as MgO, MgF 2 , and ZrO 2 may be used.

実施例2では、基板1に樹脂のPTFEを用いて疎水性表面としたが、これに限定されず、例えば、セラミックス、金属等の材料で基板を構成し、その表面に疎水表面を形成した基板を用いてもよい。 In the second embodiment, the substrate 1 is made of a resin PTFE to have a hydrophobic surface, but the present invention is not limited to this, and the substrate is made of, for example, a material such as ceramics or metal, and the hydrophobic surface is formed on the surface thereof. May be used.

また、本実施例では、基板の片側表面にのみ、金属膜および光学多層膜を形成したが、膜形成の方法によっては、基板の両側表面に金属膜や光学多層膜を形成するほうが都合がよい場合もあり、基板の両側表面に金属膜および光学多層膜を形成してもよいし、試料を積載しない側の表面には、金属膜や光学多層膜のどちらか一方、さらには、平面的に部分的に形成しても構わない。 Further, in this embodiment, the metal film and the optical multilayer film are formed only on one side surface of the substrate, but it is more convenient to form the metal film or the optical multilayer film on both side surfaces of the substrate depending on the film forming method. In some cases, a metal film and an optical multilayer film may be formed on both side surfaces of the substrate, or either a metal film or an optical multilayer film may be formed on the surface on the side where the sample is not loaded, or even in a plane. It may be partially formed.

1 基板
2A 光学多層膜(第1の親水膜)
2M 第1の金属膜
2a、2b、2c、2d 誘電体膜または第2の金属膜
10 試料積載スポット
12 疎水膜
15 マスク
20 試料積載プレートの辺縁部
21 (試料積載スポットの)内側中心近傍
22 (試料積載スポットの)外側周辺部
24 (試料積載スポットの)中間領域
30 列アドレスマーク
40 行アドレスマーク
50 シリアルナンバー
60 バーコード
100 試料積載プレート
200 試料
200a、200b、200c イオン化した試料
220 レーザ光源
220a レーザ光
230 イオン加速部
231 イオントラップ部
232 質量分離部(飛行空間)
240 イオン検出部
300 MALDI質量分析装置
1 Substrate 2A Optical multilayer film (first hydrophilic film)
2M 1st metal film 2a, 2b, 2c, 2d Dielectric film or 2nd metal film 10 Sample loading spot 12 Hydrophobic film 15 Mask 20 Marginal part of sample loading plate 21 Near the inner center (of sample loading spot) 22 Outer peripheral part (of sample loading spot) 24 Intermediate area (of sample loading spot) 30 columns Address mark 40 rows Address mark 50 Serial number 60 Barcode 100 Sample loading plate 200 Sample 200a, 200b, 200c Ionized sample 220 Laser light source 220a Laser light 230 Ion acceleration part 231 Ion trap part 232 Mass separation part (flying space)
240 Ion detector 300 MALDI mass spectrometer

Claims (10)

MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートであって、
前記試料積載プレートの前記試料積載スポットの外側の領域である辺縁部に、疎水性表面が形成され、
前記試料積載スポットは、内側中心近傍と、前記内側中心部近傍から前記辺縁部までの中間領域と、を備え、
前記試料積載スポットの前記内側中心近傍に、親水性表面が形成され、
前記試料積載スポットの前記中間領域に、親水性表面と疎水性表面とが部分的に形成され、かつ、前記内側中心近傍から前記辺縁部に向かうにしたがって、前記疎水性表面の面積割合が大きく形成されていることを特徴とする試料積載プレート。
A sample loading plate used for mass spectrometry of the MALDI method and having at least one sample loading spot for loading a sample on a substrate.
A hydrophobic surface is formed on the edge of the sample loading plate, which is an outer region of the sample loading spot.
The sample loading spot includes a vicinity of the inner center and an intermediate region from the vicinity of the inner center to the edge.
A hydrophilic surface is formed near the inner center of the sample loading spot.
A hydrophilic surface and a hydrophobic surface are partially formed in the intermediate region of the sample loading spot, and the area ratio of the hydrophobic surface increases from the vicinity of the inner center toward the edge portion. A sample loading plate, characterized in that it is formed .
前記基板は、樹脂であり、前記辺縁部および前記中間領域に形成される疎水性表面は、前記基板が露出していることを特徴とする請求項1に記載の試料積載プレート。The sample loading plate according to claim 1, wherein the substrate is a resin, and the hydrophobic surface formed in the peripheral portion and the intermediate region is exposed. 前記内側中心近傍および前記中間領域に形成される親水性表面は、前記基板上に形成された光学多層膜が露出していること特徴とする請求項1または2に記載の試料積載プレート。The sample loading plate according to claim 1 or 2, wherein the hydrophilic surface formed in the vicinity of the inner center and the intermediate region exposes the optical multilayer film formed on the substrate. 前記基板はセラミックスまたは金属であり、前記内側中心近傍および前記中間領域に形成される親水性表面は、前記基板が露出していることを特徴とする請求項1に記載の試料積載プレート。The sample loading plate according to claim 1, wherein the substrate is ceramics or metal, and the hydrophilic surfaces formed in the vicinity of the inner center and the intermediate region are exposed. MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートの製造方法であって、A method for manufacturing a sample loading plate used for mass spectrometry of the MALDI method and having at least one sample loading spot for loading a sample on a substrate.
基板表面を親水性表面とする工程と、 The process of making the substrate surface a hydrophilic surface,
前記親水性表面の上に疎水性の膜を形成し疎水性表面とする工程と、 A step of forming a hydrophobic film on the hydrophilic surface to form a hydrophobic surface,
前記試料積載スポットの辺縁部より内側中心近傍に対する部位に開口部が形成されており、前記辺縁部に対する部位には開口部が形成されておらず、前記内側中心近傍と前記辺縁部との間にある中間領域に対する部位には、前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、開口部の割合が少なくなるように開口部が形成されたマスクを前記試料積載プレートの表面に載置する工程と、 An opening is formed in a portion of the sample loading spot in the vicinity of the inner center from the edge portion, and no opening is formed in the portion of the sample loading spot in the vicinity of the inner center. A mask having an opening formed so that the proportion of the opening decreases toward the outside from the center of the sample loading spot is placed on the surface of the sample loading plate at the portion for the intermediate region between the two. And the process to do
前記試料積載スポットの表面にある疎水膜を、前記マスクを使って除去する工程と、 A step of removing the hydrophobic film on the surface of the sample loading spot using the mask, and
前記マスクを取り除く工程と、を有することを特徴とする試料積載プレートの製造方法。 A method for manufacturing a sample loading plate, which comprises a step of removing the mask.
前記マスクは、前記試料積載スポットの中心に対し、同心円状の複数の開口部を有し、前記内側中心近傍に対する部位では、開口しており、前記辺縁部に対する部位には開口部がなく、前記中間領域に対する部位において、開口面積の割合が前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって段階的に少なくなること特徴とする請求項5に記載の試料積載プレートの製造方法。The mask has a plurality of concentric openings with respect to the center of the sample loading spot, is open at a portion near the inner center, and has no opening at a portion with respect to the edge portion. The method for manufacturing a sample loading plate according to claim 5, wherein the ratio of the opening area to the intermediate region gradually decreases from the center of the sample loading spot toward the outside. 前記マスクは、前記試料積載スポットの中心から放射線状に延びていて、一定の幅または中心から外側に向かって小さくなっていく幅を持つ線状の開口部を複数有すること特徴とする請求項5に記載の試料積載プレートの製造方法。5. The mask is characterized by having a plurality of linear openings extending radially from the center of the sample loading spot and having a constant width or a width that decreases outward from the center. The method for manufacturing a sample loading plate according to. MALDI法の質量分析に使用され、基板上に試料を積載する試料積載スポットを少なくとも一つ以上備える試料積載プレートの製造方法であって、A method for manufacturing a sample loading plate used for mass spectrometry of the MALDI method and having at least one sample loading spot for loading a sample on a substrate.
基板表面を疎水性表面とする工程と、 The process of making the substrate surface a hydrophobic surface,
前記疎水性表面の上に親水性の膜を形成し親水性表面とする工程と、 A step of forming a hydrophilic film on the hydrophobic surface to form a hydrophilic surface,
前記試料積載スポットの辺縁部より内側中心近傍に対する部位には開口部が形成されておらず、前記辺縁部に対する部位には開口部が形成されており、前記内側中心近傍と前記辺縁部との間にある中間領域に対する部位には、前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって、開口部の割合が多くなるように開口部が形成されたマスクを前記試料積載プレートの表面に載置する工程と、 An opening is not formed in a portion of the sample loading spot in the vicinity of the inner center from the edge portion, and an opening is formed in the portion of the sample loading spot in the vicinity of the inner center, and the vicinity of the inner center and the margin portion are formed. A mask having an opening formed so that the proportion of the opening increases toward the outside from the center of the sample loading spot is placed on the surface of the sample loading plate at the portion between and the intermediate region. The process of placing and
前記試料積載スポットの表面にある親水膜を、前記マスクを使って除去する工程と、 A step of removing the hydrophilic film on the surface of the sample loading spot using the mask, and
前記マスクを取り除く工程 と、を有することを特徴とする試料積載プレートの製造方法。 A method for manufacturing a sample loading plate, which comprises a step of removing the mask.
前記マスクは、前記試料積載スポットの中心に対し、同心円状の複数の開口部を有し、前記内側中心近傍に対する部位には、開口部が無く、前記辺縁部に対する部位には開口しており、前記中間領域に対する部位において、開口面積の割合が前記試料積載スポットの中心から外側に向かうにしたがって段階的に多くなること特徴とする請求項8に記載の試料積載プレートの製造方法。The mask has a plurality of concentric openings with respect to the center of the sample loading spot, has no opening in the portion near the inner center, and has an opening in the portion with respect to the edge portion. The method for manufacturing a sample loading plate according to claim 8, wherein the ratio of the opening area to the intermediate region gradually increases from the center of the sample loading spot toward the outside. 前記マスクは、前記試料積載スポットの中心から放射線状に延びていて、幅が一定または中心から外側に向かって小さくなっていく幅をもつ線状の複数の領域に対する部位に非開口部を有すること特徴とする請求項8に記載の試料積載プレートの製造方法。The mask has non-openings at sites for a plurality of linear regions extending radially from the center of the sample loading spot and having a constant width or a width that decreases outward from the center. The method for manufacturing a sample loading plate according to claim 8.
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