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JP6796286B2 - Rubber products and their manufacturing methods - Google Patents
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Description

本発明は基材と、ゴム系樹脂層とを有するゴム製製品およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a rubber product having a base material and a rubber-based resin layer, and a method for producing the same.

従来より基材と、ゴム系樹脂層とを有するゴム製製品が知られている。このようなゴム製製品は、予め金型内に基材を配置し、この基材に対してゴム系樹脂を射出することにより得られる。 Conventionally, rubber products having a base material and a rubber-based resin layer have been known. Such a rubber product can be obtained by arranging a base material in a mold in advance and injecting a rubber-based resin into the base material.

しかしながら、従来のゴム製製品では、基材とゴム系樹脂層との接着性が十分でなく、ゴム製製品の基材とゴム系樹脂層とが分離することがある。このためゴム系樹脂層にくさび形状を設けて、このくさび形状により基材との密着性を高める工夫も考えられている。 However, in the conventional rubber product, the adhesiveness between the base material and the rubber resin layer is not sufficient, and the base material of the rubber product and the rubber resin layer may be separated. For this reason, it has been considered to provide a wedge shape on the rubber-based resin layer and to improve the adhesion to the base material by the wedge shape.

しかしながらゴム系樹脂層にくさび形状を設けるためには、金型の内面を複雑な形状に形成する必要があり、製造コストが上昇する。 However, in order to provide the wedge shape on the rubber-based resin layer, it is necessary to form the inner surface of the mold into a complicated shape, which increases the manufacturing cost.

特開平10−128863JP-A-10-128863

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、基材とゴム系樹脂層との接着性を高めることができるゴム製製品およびその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such a point, and an object of the present invention is to provide a rubber product capable of enhancing the adhesiveness between a base material and a rubber-based resin layer and a method for producing the same.

本発明は、合成樹脂製の基材本体と、基材本体の一方の面に形成された無機系化合物の蒸着膜とを有する基材と、基材の蒸着膜上に積層されたゴム系樹脂層とを備えたことを特徴とするゴム製製品である。 The present invention comprises a base material having a base material body made of synthetic resin, a base material having a vapor-deposited film of an inorganic compound formed on one surface of the base material body, and a rubber-based resin laminated on the vapor-deposited film of the base material. It is a rubber product characterized by having a layer.

本発明は、基材本体はポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかを含むことを特徴とするゴム製製品である。 The present invention is a rubber product characterized in that the base material main body contains any one of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon.

本発明は、ゴム系樹脂層は、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムのいずれかを含むことを特徴とするゴム製製品である。 The present invention is a rubber product characterized in that the rubber-based resin layer contains any one of isoprene rubber, butadiene rubber, and silicone rubber.

本発明は、蒸着膜はアルミナ蒸着膜またはシリカ蒸着膜を含むことを特徴とするゴム製製品である。 The present invention is a rubber product, wherein the vapor-deposited film includes an alumina-deposited film or a silica-deposited film.

本発明は、金型内に合成樹脂製の基材本体と、基材本体の一方の面に形成された無機系化合物の蒸着膜とを有する基材を配置する工程と、金型内の少なくとも蒸着膜側にゴム系樹脂を射出してゴム系樹脂層を形成する工程と、を備えたことを特徴とするゴム製製品の製造方法である。 The present invention comprises a step of arranging a base material having a synthetic resin base material body and a vapor deposition film of an inorganic compound formed on one surface of the base material body in a mold, and at least in the mold. This is a method for manufacturing a rubber product, which comprises a step of injecting a rubber-based resin onto the vapor-deposited film side to form a rubber-based resin layer.

本発明は、基材本体はポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかを含むことを特徴とするゴム製製品の製造方法である。 The present invention is a method for producing a rubber product, characterized in that the base material body contains any one of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon.

本発明は、ゴム系樹脂層は、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムのいずれかを含むことを特徴とするゴム製製品の製造方法である。 The present invention is a method for producing a rubber product, wherein the rubber-based resin layer contains any one of isoprene rubber, butadiene rubber, and silicone rubber.

本発明は、蒸着膜はアルミナ蒸着膜またはシリカ蒸着膜を含むことを特徴とするゴム製製品の製造方法である。 The present invention is a method for producing a rubber product, wherein the vapor-deposited film includes an alumina-deposited film or a silica-deposited film.

以上のように本発明によれば、基材とゴム系樹脂層との接着性を高めることができる。 As described above, according to the present invention, the adhesiveness between the base material and the rubber-based resin layer can be enhanced.

図1は第1の実施の形態によるゴム製製品を示す側断面図。FIG. 1 is a side sectional view showing a rubber product according to the first embodiment. 図2は第1の実施の形態によるゴム製製品の製造方法を示す側断面図。FIG. 2 is a side sectional view showing a method of manufacturing a rubber product according to the first embodiment. 図3は第2の実施の形態によるゴム製製品を示す側断面図。FIG. 3 is a side sectional view showing a rubber product according to the second embodiment. 図4は第2の実施の形態によるゴム製製品の製造方法を示す側断面図。FIG. 4 is a side sectional view showing a method of manufacturing a rubber product according to the second embodiment. 図5は第3の実施の形態によるゴム製製品を示す側断面図。FIG. 5 is a side sectional view showing a rubber product according to the third embodiment. 図6は比較例としてのゴム製製品の製造方法を示す側断面図。FIG. 6 is a side sectional view showing a method of manufacturing a rubber product as a comparative example.

<第1の実施の形態>
以下、図面を参照して本発明の第1の実施の形態について説明する。
<First Embodiment>
Hereinafter, the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

まず図1および図2により、本発明の第1の実施の形態について説明する。 First, the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

図1に示すようにゴム製製品10は、合成樹脂製の基材本体11Aと、基材本体11Aの一方の面に形成された無機系化合物の蒸着膜12、例えばCVD(Chemical Vapor Deposit)により得られたシリカ蒸着膜(SiO)あるいはCVDにより得られた酸化アルミ蒸着膜(Al)とを有する合成樹脂製の基材11と、基材11の蒸着膜12上に積層されたゴム系樹脂層13とを備えている。 As shown in FIG. 1, the rubber product 10 is formed of a synthetic resin base material body 11A and a thin-film vapor deposition film 12 of an inorganic compound formed on one surface of the base material body 11A, for example, CVD (Chemical Vapor Deposition). A synthetic resin base material 11 having the obtained silica vapor deposition film (SiO 2 ) or the aluminum oxide vapor deposition film (Al 2 O 3 ) obtained by CVD was laminated on the vapor deposition film 12 of the base material 11. It includes a rubber-based resin layer 13.

また基材11は基材本体11Aの蒸着膜12と反対側の面に設けられた印刷層14を有する。 Further, the base material 11 has a printing layer 14 provided on the surface of the base material main body 11A opposite to the vapor deposition film 12.

次に各構成部材の材料について説明する。 Next, the material of each component will be described.

合成樹脂製の基材11の基材本体11Aとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかの材料を用いることがきる。 As the base material body 11A of the base material 11 made of synthetic resin, any material of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon can be used.

また、無機系化合物の蒸着膜12としては、上述したシリカ蒸着膜、あるいは酸化アルミ蒸着膜を挙げることができ、これらシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜はいずれも透明体からなる。 Examples of the inorganic compound vapor deposition film 12 include the silica vapor deposition film and the aluminum oxide vapor deposition film described above, and both the silica vapor deposition film and the aluminum oxide vapor deposition film are made of a transparent material.

このような蒸着膜12は、基材11の基材本体11A上に直接CVDにより蒸着することができるが、蒸着膜12を蒸着用基材(図示せず)上に形成し、蒸着膜12が形成された蒸着用基材を上述した基材11の基材本体11A上に貼り付けてもよい。 Such a thin-film deposition film 12 can be vapor-deposited directly on the base material body 11A of the base material 11 by CVD, but the thin-film deposition film 12 is formed on the base material for vapor deposition (not shown), and the thin-film deposition film 12 is formed. The formed vapor deposition substrate may be attached on the substrate body 11A of the substrate 11 described above.

なお、蒸着膜12としては、上述した透明体からなるシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜に限らず、アルミ蒸着膜(Al)を用いてもよい。 The vapor-deposited film 12 is not limited to the silica-film-deposited film made of the transparent material or the aluminum oxide-deposited film described above, and an aluminum-deposited film (Al) may be used.

またゴム系樹脂13としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムの他にスチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム等を用いることができる。 Further, as the rubber-based resin 13, styrene-butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene propylene rubber and the like can be used in addition to isoprene rubber, butadiene rubber and silicone rubber.

次にこのような構成からなる実施の形態の作用について説明する。 Next, the operation of the embodiment having such a configuration will be described.

まず図2に示すように、基材本体11Aの一方の面に蒸着膜12が形成され、基材本体11Aの他方の面に印刷層14が形成された基材11を準備し、この基材11を金型21内に配置する。 First, as shown in FIG. 2, a base material 11 having a vapor deposition film 12 formed on one surface of the base material main body 11A and a printing layer 14 formed on the other surface of the base material main body 11A is prepared. 11 is arranged in the mold 21.

次に金型21のゲート22からゴム系樹脂13を金型21内へ射出する。この場合、ゲート22から金型21内に射出されたゴム系樹脂13は、基材11のうち蒸着膜12上に積層される。 Next, the rubber resin 13 is injected into the mold 21 from the gate 22 of the mold 21. In this case, the rubber-based resin 13 ejected from the gate 22 into the mold 21 is laminated on the vapor-deposited film 12 of the base material 11.

このようにして、基材本体11Aと、基材本体11Aの一方の面に形成された蒸着膜12と、基材本体11Aの他方の面に形成された印刷層14とを有する基材11と、基材11の蒸着膜12上に積層されたゴム系樹脂層13とを有するゴム製製品10が得られる。 In this way, the base material 11 having the base material main body 11A, the vapor deposition film 12 formed on one surface of the base material main body 11A, and the printing layer 14 formed on the other surface of the base material main body 11A. , A rubber product 10 having a rubber-based resin layer 13 laminated on a vapor-deposited film 12 of a base material 11 can be obtained.

このようにして得られたゴム製製品10は、例えば名札のようなタグとして用いることができる。 The rubber product 10 thus obtained can be used as a tag such as a name tag.

またゴム製製品10は、基材本体11Aと、蒸着膜12と、印刷層14とを有する基材11と、基材11の蒸着膜12上に積層されたゴム系樹脂層13とを備えており、基材11の蒸着膜12が一種のアンカー効果をもつため、基材11とゴム系樹脂層13とを堅固に接着することができる。 Further, the rubber product 10 includes a base material body 11A, a base material 11 having a vapor deposition film 12, a printing layer 14, and a rubber resin layer 13 laminated on the vapor deposition film 12 of the base material 11. Since the thin-film deposition film 12 of the base material 11 has a kind of anchoring effect, the base material 11 and the rubber-based resin layer 13 can be firmly adhered to each other.

このため、ゴム製製品10の基材11からゴム系樹脂層13が剥離することはない。 Therefore, the rubber-based resin layer 13 does not peel off from the base material 11 of the rubber product 10.

ここで図6により比較例としてのゴム製製品10を示す。図6に示すように、基材11の基材本体11A上に蒸着膜12を設けることなくゴム系樹脂層13を設けた場合、基材11からゴム系樹脂層13が剥離することも考えられる。 Here, FIG. 6 shows a rubber product 10 as a comparative example. As shown in FIG. 6, when the rubber-based resin layer 13 is provided on the base material body 11A of the base material 11 without providing the vapor-deposited film 12, it is conceivable that the rubber-based resin layer 13 is peeled off from the base material 11. ..

このため、図6に示すように、金型21内に配置される基材11に予め貫通孔11aを形成するとともに金型21に溝部23を形成している。 Therefore, as shown in FIG. 6, a through hole 11a is formed in advance in the base material 11 arranged in the mold 21, and a groove portion 23 is formed in the mold 21.

図6において、ゲート22から金型21内に射出されたゴム系樹脂層13は、基材11の貫通孔11aを通って金型21の溝部23に達し、この溝部23によってくさび13bを形成する。この場合、ゴム系樹脂層13は、基材11の貫通孔11aに対応する貫通部13aと、くさび13bとを有し、このくさび13bにより基材11とゴム系樹脂層13との剥離を防止している。 In FIG. 6, the rubber-based resin layer 13 ejected from the gate 22 into the mold 21 reaches the groove portion 23 of the mold 21 through the through hole 11a of the base material 11, and the groove portion 23 forms a wedge 13b. .. In this case, the rubber-based resin layer 13 has a penetration portion 13a corresponding to the through hole 11a of the base material 11 and a wedge 13b, and the wedge 13b prevents the base material 11 and the rubber-based resin layer 13 from peeling off. doing.

これに対して本実施の形態によれば、ゴム系樹脂層13にくさびを設けることなく、基材11の基材本体11Aの一方の面に蒸着膜12を設け、基材本体11Aの他方の面に印刷層14を設けるとともに、基材11の蒸着膜12上にゴム系樹脂層13を積層するだけで、ゴム製製品10を得ることができる。この場合、蒸着膜12がゴム系樹脂層13に対してアンカー効果を発揮するため基材11からゴム系樹脂層13が剥離することはない。 On the other hand, according to the present embodiment, the rubber-based resin layer 13 is provided with the vapor-deposited film 12 on one surface of the base material body 11A of the base material 11 without providing a wedge, and the other side of the base material body 11A is provided. The rubber product 10 can be obtained only by providing the printing layer 14 on the surface and laminating the rubber resin layer 13 on the vapor deposition film 12 of the base material 11. In this case, since the vapor-deposited film 12 exerts an anchor effect on the rubber-based resin layer 13, the rubber-based resin layer 13 does not peel off from the base material 11.

<第2の実施の形態>
次に図3および図4により、本発明の第2の実施の形態について説明する。
<Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

図1に示すようにゴム製製品10は、合成樹脂製の基材本体11Aと、基材本体11Aの両面に形成された無機系化合物の蒸着膜12、例えばCVDにより得られたシリカ蒸着膜(SiO)あるいはCVDにより得られた酸化アルミ蒸着膜(Al)とを有する合成樹脂製の基材11と、基材11の基材本体11Aの両面に設けられた蒸着膜12上に積層された一対のゴム系樹脂層13とを備えている。 As shown in FIG. 1, the rubber product 10 includes a synthetic resin base material body 11A and a vapor deposition film 12 of an inorganic compound formed on both sides of the base material body 11A, for example, a silica vapor deposition film obtained by CVD. On a synthetic resin base material 11 having a SiO 2 ) or an aluminum oxide vapor deposition film (Al 2 O 3 ) obtained by CVD, and a thin film 12 provided on both sides of the base material body 11A of the base material 11. It includes a pair of laminated rubber-based resin layers 13.

また基材11の上面には凹部16が形成され、この凹部16内にICチップ15が搭載されている。 A recess 16 is formed on the upper surface of the base material 11, and the IC chip 15 is mounted in the recess 16.

次に各構成部材の材料について説明する。 Next, the material of each component will be described.

合成樹脂製の基材11の基材本体11Aとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかの材料を用いることができる。 As the base material body 11A of the base material 11 made of synthetic resin, any material of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon can be used.

また、無機系化合物の蒸着膜12としては、上述したシリカ蒸着膜、あるいは酸化アルミ蒸着膜を挙げることができ、これらシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜はいずれも透明体からなる。 Examples of the inorganic compound vapor deposition film 12 include the silica vapor deposition film and the aluminum oxide vapor deposition film described above, and both the silica vapor deposition film and the aluminum oxide vapor deposition film are made of a transparent material.

このような蒸着膜12は、基材11の基材本体11A上に直接CVDにより蒸着することができるが、蒸着膜12を蒸着用基材上に形成し、蒸着膜12が形成された蒸着用基材を上述した基材11上に貼り付けてもよい。 Such a thin-film deposition film 12 can be vapor-deposited directly on the base material body 11A of the base material 11 by CVD, but the vapor-deposited film 12 is formed on the base material for vapor deposition, and the vapor-deposited film 12 is formed for vapor deposition. The base material may be attached on the above-mentioned base material 11.

なお、蒸着膜12としては、上述した透明体からなるシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜に限らず、アルミ蒸着膜(Al)を用いてもよい。 The vapor-deposited film 12 is not limited to the silica-film-deposited film made of the transparent material or the aluminum oxide-deposited film described above, and an aluminum-deposited film (Al) may be used.

またゴム系樹脂13としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムイソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムの他にスチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム等を用いることができる。 Further, as the rubber resin 13, styrene-butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene propylene rubber and the like can be used in addition to isoprene rubber, butadiene rubber, silicone rubber isoprene rubber, butadiene rubber and silicone rubber.

次にこのような構成からなる実施の形態の作用について説明する。 Next, the operation of the embodiment having such a configuration will be described.

まず図4に示すように、基材本体11Aの両面に蒸着膜12が形成された基材11を準備し、この基材11を金型21内に配置する。 First, as shown in FIG. 4, a base material 11 having a vapor deposition film 12 formed on both sides of the base material main body 11A is prepared, and the base material 11 is arranged in the mold 21.

次に金型21の上部と下部に設けられた一対のゲート22から順次ゴム系樹脂13を金型21内へ射出する。この場合、一対のゲート22から金型21内に射出されたゴム系樹脂13は、基材11のうち上面の蒸着膜12上および下面の蒸着膜12上に順次積層される。 Next, the rubber-based resin 13 is sequentially injected into the mold 21 from the pair of gates 22 provided at the upper and lower portions of the mold 21. In this case, the rubber-based resin 13 injected into the mold 21 from the pair of gates 22 is sequentially laminated on the vapor deposition film 12 on the upper surface and the vapor deposition film 12 on the lower surface of the base material 11.

このようにして、基材本体11Aと、基材本体11Aの両面に形成された蒸着膜12とを有する基材11と、基材11の基材本体11Aの両面に設けられた蒸着膜12上に積層された一対のゴム系樹脂層13とを有するゴム製製品10が得られる。 In this way, on the base material 11 having the base material main body 11A and the vapor deposition films 12 formed on both sides of the base material main body 11A, and on the vapor deposition films 12 provided on both sides of the base material main body 11A of the base material 11. A rubber product 10 having a pair of rubber-based resin layers 13 laminated on the surface can be obtained.

このようにして得られたゴム製製品10は基材11の上面に形成された凹部16内に搭載されたICチップ15を有しており、例えばICタグとして用いることができる。 The rubber product 10 thus obtained has an IC chip 15 mounted in a recess 16 formed on the upper surface of the base material 11, and can be used as an IC tag, for example.

またゴム製製品10は、基材本体11Aと、基材本体11Aの両面に設けられた蒸着膜12とを有する基材11と、基材11の基材本体11Aの両面に設けられた蒸着膜12上に積層された一対のゴム系樹脂層13とを備えており、基材11の一対の蒸着膜12が一種のアンカー効果をもつため、基材11と一対のゴム系樹脂層13とを堅固に接着することができる。 Further, the rubber product 10 has a base material 11 having a base material body 11A and a vapor deposition film 12 provided on both sides of the base material body 11A, and a vapor deposition film provided on both sides of the base material body 11A of the base material 11. A pair of rubber-based resin layers 13 laminated on the 12 are provided, and the pair of thin-film deposition films 12 of the base material 11 have a kind of anchoring effect. Therefore, the base material 11 and the pair of rubber-based resin layers 13 are combined. Can be firmly adhered.

このため、ゴム製製品10の基材11からゴム系樹脂層13が剥離することはない。 Therefore, the rubber-based resin layer 13 does not peel off from the base material 11 of the rubber product 10.

<第3の実施の形態>
次に図5により、本発明の第3の実施の形態について説明する。
<Third embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

図5に示すようにゴム製製品10は、基材本体11Aと、基材本体11Aの一方の面に形成された無機系化合物の蒸着膜12、例えばCVDにより得られた(SiO)あるいはCVDにより得られた酸化アルミ蒸着膜(Al)とを有する合成樹脂製の基材11と、基材11の蒸着膜12上に積層されたゴム系樹脂からなる接点スイッチ13Aとを備えている。 As shown in FIG. 5, the rubber product 10 is a thin-film film 12 of an inorganic compound formed on one surface of the base material body 11A and the base material body 11A, for example, obtained by CVD (SiO 2 ) or CVD. A synthetic resin base material 11 having the aluminum oxide vapor deposition film (Al 2 O 3 ) obtained in the above method and a contact switch 13A made of a rubber resin laminated on the vapor deposition film 12 of the base material 11 are provided. There is.

図5に示すように、蒸着膜12上には回路配線18が設けられ、接点スイッチ13Aの内部には、回路配線18を導通させる導通部17が設けられている。 As shown in FIG. 5, a circuit wiring 18 is provided on the vapor-deposited film 12, and a conductive portion 17 for conducting the circuit wiring 18 is provided inside the contact switch 13A.

次に各構成部材の材料について説明する。 Next, the material of each component will be described.

合成樹脂製の基材11の基材本体11Aとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれの材料を用いることができる。 As the base material body 11A of the base material 11 made of synthetic resin, any material such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon can be used.

また、無機系化合物の蒸着膜12としては、上述したシリカ蒸着膜、あるいは酸化アルミ蒸着膜を挙げることができ、これらシリカ蒸着膜あるいは酸化アルミ蒸着膜はいずれも透明体からなる。 Examples of the inorganic compound vapor deposition film 12 include the silica vapor deposition film and the aluminum oxide vapor deposition film described above, and both the silica vapor deposition film and the aluminum oxide vapor deposition film are made of a transparent material.

このような蒸着膜12は、基材11の基材本体11A上に直接CVDにより蒸着することができるが、蒸着膜12を蒸着用基材上に形成し、蒸着膜12が形成された蒸着用基材を上述した基材11の基材本体11A上に貼り付けてもよい。 Such a thin-film deposition film 12 can be vapor-deposited directly on the base material body 11A of the base material 11 by CVD, but the vapor-deposited film 12 is formed on the base material for vapor deposition, and the vapor-deposited film 12 is formed for vapor deposition. The base material may be attached on the base material body 11A of the base material 11 described above.

また接点スイッチ13Aを構成するゴム系樹脂としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴムの他にスチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム等を用いることができる。 As the rubber-based resin constituting the contact switch 13A, styrene-butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene propylene rubber and the like can be used in addition to isoprene rubber, butadiene rubber and silicone rubber.

次にこのような構成からなる実施の形態の作用について説明する。 Next, the operation of the embodiment having such a configuration will be described.

まず図5に示すように、基材本体11Aの一方の面に蒸着膜12が形成された基材11を準備し、この基材11の蒸着膜12上に回路配線18を設ける。 First, as shown in FIG. 5, a base material 11 having a vapor deposition film 12 formed on one surface of the base material main body 11A is prepared, and a circuit wiring 18 is provided on the vapor deposition film 12 of the base material 11.

次に基材11の蒸着膜12上に、内部に導通部17が設けられたゴム系樹脂からなる接点スイッチ13Aを載置する。次に基材11の下方からレーザ光Lを照射する。 Next, a contact switch 13A made of a rubber-based resin provided with a conductive portion 17 inside is placed on the vapor-deposited film 12 of the base material 11. Next, the laser beam L is irradiated from below the base material 11.

レーザ光Lは基材11の基材本体11Aおよび蒸着膜12を通過して接点スイッチ13Aの下面を加熱し、接点スイッチ13Aを蒸着膜12上に接着させる。 The laser beam L passes through the base material body 11A and the vapor deposition film 12 of the base material 11 to heat the lower surface of the contact switch 13A, and adheres the contact switch 13A onto the vapor deposition film 12.

この場合、基材11および蒸着膜12は、いずれも透明体からなっていることが好ましい。 In this case, it is preferable that the base material 11 and the vapor deposition film 12 are both made of a transparent material.

このようにして得られたゴム製製品10は、例えば接点スイッチ13Aを有する回路基板として用いることができる。 The rubber product 10 thus obtained can be used, for example, as a circuit board having a contact switch 13A.

またゴム製製品10は、基材本体11Aと、基材本体11Aの一方の面に設けられた蒸着膜12とを有する基材11と、基材11の基材本体11A上の蒸着膜12上に積層されたゴム系樹脂からなる接点スイッチ13Aとを備えており、基材11の蒸着膜12が一種のアンカー効果をもつため、基材11とゴム系樹脂からなる接点スイッチ13Aとを堅固に接着することができる。 Further, the rubber product 10 has a base material 11 having a base material main body 11A and a vapor deposition film 12 provided on one surface of the base material main body 11A, and a vapor deposition film 12 on the base material main body 11A of the base material 11. The contact switch 13A made of rubber-based resin laminated on the base material 11 is provided, and the vapor-deposited film 12 of the base material 11 has a kind of anchoring effect. Therefore, the base material 11 and the contact switch 13A made of rubber-based resin are firmly attached. Can be glued.

このため、ゴム製製品10の基材11からゴム系樹脂からなる接点スイッチ13Aが剥離することはない。 Therefore, the contact switch 13A made of the rubber-based resin does not peel off from the base material 11 of the rubber product 10.

次に本発明の具体的実施例について述べる。 Next, specific examples of the present invention will be described.

実施例1:シリカ蒸着ポリエチレンテレフタレート(PET)(厚み12μm)の処理面を残し、未処理面に接着剤で200μm厚のPETを貼り合せ、厚さ約217μmのラミネートPETを作製した(接着剤は約5μmの厚さで熱乾燥のドライラミネート)。 Example 1: A silica-deposited polyethylene terephthalate (PET) (thickness 12 μm) treated surface was left, and a 200 μm-thick PET was bonded to the untreated surface with an adhesive to prepare a laminated PET having a thickness of about 217 μm (the adhesive was Heat-dried dry laminate with a thickness of about 5 μm).

この蒸着面に液状シリコン(信越シリコンKE―1950−40A/B)をスポイトで2g半球状に滴下し、150℃、2分硬化させ、接着を確認した。基材の変形はなく、シリコンとPETは良好に接着した。 Liquid silicon (Shinetsu Silicon KE-1950-40A / B) was dropped on the vapor-deposited surface in a hemispherical shape of 2 g with a dropper and cured at 150 ° C. for 2 minutes to confirm adhesion. There was no deformation of the base material, and silicon and PET adhered well.

比較例1:上記シリカ蒸着PETを用いず、200μmPETの未処理面上に実施例1と同様に液状シリコンを添加し、硬化させた。実施例1と同様に基材の変化はなかったが、半球のシリコンは指で軽くさわると簡単にはがれた。 Comparative Example 1: Liquid silicon was added and cured on the untreated surface of 200 μm PET in the same manner as in Example 1 without using the silica-deposited PET. As in Example 1, there was no change in the base material, but the hemispherical silicon was easily peeled off by lightly touching it with a finger.

10 ゴム製製品
11 基材
11A 基材本体
12 蒸着膜
13 ゴム系樹脂層
13A 接点スイッチ
14 印刷層
15 ICチップ
16 凹部
17 導通部
18 回路配線
21 金型
22 ゲート
10 Rubber product 11 Base material 11A Base material body 12 Deposited film 13 Rubber resin layer 13A Contact switch 14 Printing layer 15 IC chip 16 Recess 17 Conduction part 18 Circuit wiring 21 Mold 22 Gate

Claims (5)

合成樹脂製の基材本体と、基材本体の一方の面にCVD法により形成されたシリカ蒸着膜とを有する基材を準備する工程と、
シリカ蒸着膜側にシリコーンゴム層を積層する工程と、
シリカ蒸着膜側にシリコーンゴムが積層された基材を加熱する工程とを備え、
CVD法により形成されたシリカ蒸着膜が、基材本体と密着して基材本体とシリコーンゴムとの間のアンカー効果をもつ、ことを特徴とするゴム製製品の製造方法。
A step of preparing a base material having a base material body made of synthetic resin and a silica vapor deposition film formed on one surface of the base material body by a CVD method.
The process of laminating a silicone rubber layer on the silica vapor deposition film side,
It is provided with a step of heating a base material on which silicone rubber is laminated on the silica vapor deposition film side .
A method for producing a rubber product, wherein the silica-deposited film formed by the CVD method adheres to the base material body and has an anchor effect between the base material body and the silicone rubber.
基材を加熱する際、基材本体のシリカ蒸着膜上のシリコーンゴムを加熱させ、当該シリコーンゴムをシリカ蒸着膜に接着させることを特徴とする請求項1記載のゴム製製品の製造方法。 The method for producing a rubber product according to claim 1, wherein when the base material is heated, the silicone rubber on the silica-deposited film of the base material body is heated and the silicone rubber is adhered to the silica-deposited film. シリコ−ンゴムをシリカ蒸着膜に接着させる工程は、基材本体のシリカ蒸着膜と反対側の面からレーザ光を照射し、照射されたレーザ光が基材本体とシリカ蒸着膜を通過してシリコーンゴムを加熱させ、当該シリコ−ンゴムをシリカ蒸着膜に接着させる、ことを特徴とする、請求項2記載のゴム製製品の製造方法。 In the step of adhering the silicone rubber to the silica-deposited film, laser light is irradiated from the surface of the base material body opposite to the silica-deposited film, and the irradiated laser light passes through the base material body and the silica-deposited film to form silicone. The method for producing a rubber product according to claim 2, wherein the rubber is heated and the silicone rubber is adhered to a silica-deposited film. 合成樹脂製の基材本体と、基材本体の一方の面にCVD法により形成されたシリカ蒸着膜とを有する基材を準備する工程と、A step of preparing a base material having a base material body made of synthetic resin and a silica vapor deposition film formed on one surface of the base material body by a CVD method.
基材のシリカ蒸着膜側にシリコーンゴム層を射出して、基材を加熱しながら積層する工程とを備え、 A step of injecting a silicone rubber layer onto the silica-deposited film side of the base material and laminating while heating the base material is provided.
CVD法により形成されたシリカ蒸着膜が、基材本体と密着して基材本体とシリコーンゴムとの間のアンカー効果をもつ、ことを特徴とするゴム製製品の製造方法。 A method for producing a rubber product, wherein the silica-deposited film formed by the CVD method is in close contact with the base material body and has an anchor effect between the base material body and the silicone rubber.
基材本体はポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル、ナイロンのいずれかを含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか記載のゴム製製品の製造方法。 The method for producing a rubber product according to any one of claims 1 to 4, wherein the base material main body contains any one of polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, and nylon.
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