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JP6796582B2 - A method for producing a cured product, a cured product, and a laminate containing the cured product. - Google Patents
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JP6796582B2 - A method for producing a cured product, a cured product, and a laminate containing the cured product. - Google Patents

A method for producing a cured product, a cured product, and a laminate containing the cured product. Download PDF

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JP6796582B2 JP2017525218A JP2017525218A JP6796582B2 JP 6796582 B2 JP6796582 B2 JP 6796582B2 JP 2017525218 A JP2017525218 A JP 2017525218A JP 2017525218 A JP2017525218 A JP 2017525218A JP 6796582 B2 JP6796582 B2 JP 6796582B2
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Description

本発明は、硬化物の製造方法、前記方法で得られた硬化物、及び被接着体が前記硬化物によって接着された構成を有する積層物に関する。本願は、2015年6月17日に、日本に出願した特願2015−122349号の優先権を主張し、その内容をここに援用する。 The present invention relates to a method for producing a cured product, a cured product obtained by the above method, and a laminate having a structure in which an adherend is adhered by the cured product. The present application claims the priority of Japanese Patent Application No. 2015-122349 filed in Japan on June 17, 2015, the contents of which are incorporated herein by reference.

半導体の積層や電子部品の接着に用いられる接着剤としては、ベンゾシクロブテン(BCB)、ノボラック系エポキシ樹脂、又はエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する熱硬化型接着剤が知られている(特許文献1)。 Thermosetting adhesives containing benzocyclobutene (BCB), novolak-based epoxy resin, or epoxy-modified polyorganosylsesquioxane are known as adhesives used for laminating semiconductors and adhering electronic components. (Patent Document 1).

しかし、BCBを含有する熱硬化型接着剤を硬化させるためには200〜350℃程度の高温で加熱することが必要であり、前記高温に曝されることで被接着体がダメージを受ける可能性があった。また、ノボラック系エポキシ樹脂を含有する熱硬化型接着剤は、鉛フリー半田リフローなどの高温プロセス(例えば、260〜280℃)に付した際に接着剤が分解してアウトガスが発生し、それにより接着性が低下する問題があった。 However, in order to cure the thermosetting adhesive containing BCB, it is necessary to heat it at a high temperature of about 200 to 350 ° C., and the adherend may be damaged by being exposed to the high temperature. was there. Further, when a thermosetting adhesive containing a novolak epoxy resin is applied to a high temperature process such as lead-free solder reflow (for example, 260 to 280 ° C.), the adhesive decomposes to generate outgas, which causes outgassing. There was a problem that the adhesiveness was lowered.

一方、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する熱硬化型接着剤は、BCBを含有する熱硬化型接着剤に比べて低温で硬化させることができ、基板に対して接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができる。また、高温プロセスに付した際にも接着性を維持することができる。しかし、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する熱硬化型接着剤の硬化物は、冷熱衝撃を付与することによりクラックが発生し易いことが問題であった。 On the other hand, a thermosetting adhesive containing an epoxy-modified polyorganosylsesquioxane can be cured at a lower temperature than a thermosetting adhesive containing BCB, and has better adhesiveness and adhesion to a substrate. An excellent cured product can be formed. In addition, the adhesiveness can be maintained even when subjected to a high temperature process. However, the cured product of the thermosetting adhesive containing the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane has a problem that cracks are likely to occur when a cold shock is applied.

特開2010−226060号公報JP-A-2010-226060

従って、本発明の目的は、耐熱性、耐クラック性(若しくは耐冷熱衝撃性)、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記硬化物を介して被接着体が接着された構成を有する積層物を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記硬化物の製造方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a cured product having excellent heat resistance, crack resistance (or cold thermal impact resistance), adhesiveness to an object to be adhered, and adhesion.
Another object of the present invention is to provide a laminate having a structure in which an object to be adhered is adhered via the cured product.
Another object of the present invention is to provide a method for producing the cured product.

本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、硬化性組成物に硬化温度を段階的に変化させる加熱処理を施して硬化させ、且つ1段階目の加熱処理終了時の硬化度を85%以下とすることで、耐熱性、耐クラック性(若しくは耐冷熱衝撃性)、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物が得られることを見いだした。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have applied a heat treatment for gradually changing the curing temperature to cure the curable composition, and determined the degree of curing at the end of the first stage heat treatment. It was found that a cured product having excellent heat resistance, crack resistance (or cold thermal impact resistance), adhesiveness to an object to be adhered, and adhesiveness can be obtained by setting the content to 85% or less. The present invention has been completed based on these findings.

すなわち、本発明は、重合性基を有する化合物を含有する硬化性組成物に、硬化温度を段階的に変化させる加熱処理を施して得られる硬化物であって、1段階目の加熱処理終了時の硬化度を85%以下とし、2段階目以降の加熱処理によって硬化度を85%超とする加熱処理により得られる硬化物を提供する。 That is, the present invention is a cured product obtained by subjecting a curable composition containing a compound having a polymerizable group to a heat treatment for gradually changing the curing temperature, and at the end of the first stage heat treatment. Provided is a cured product obtained by a heat treatment having a degree of curing of 85% or less and a degree of curing of more than 85% by the heat treatment of the second and subsequent steps.

本発明は、また、重合性基を有する化合物における重合性基が、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基、及びビニルフェニル基からなる群より選択される1種以上の基である前記の硬化物を提供する。 The present invention also relates to the cured product in which the polymerizable group in the compound having a polymerizable group is one or more groups selected from the group consisting of an epoxy group, an oxetanyl group, a vinyl ether group, and a vinyl phenyl group. provide.

本発明は、また、重合性基を有する化合物が、下記式(1)
[R1SiO3/2] (1)
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す]
で表される構成単位を有し、
下記式(I)
[RaSiO3/2] (I)
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す]
で表される構成単位と、下記式(II)
[RbSiO2/2(ORc)] (II)
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す]
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、
シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する上記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)
[R1SiO2/2(ORc)] (4)
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ]
で表される構成単位の割合が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0であるエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンである前記の硬化物を提供する。
In the present invention, the compound having a polymerizable group is the following formula (1).
[R 1 SiO 3/2 ] (1)
[In formula (1), R 1 indicates a group containing an epoxy group]
Has a structural unit represented by
The following formula (I)
[R a SiO 3/2 ] (I)
[In formula (I), Ra is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom]
The structural unit represented by and the following formula (II)
[R b SiO 2/2 (OR c )] (II)
[In formula (II), R b is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
The molar ratio of the structural unit represented by (I) [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more.
The structural unit represented by the above formula (1) and the following formula (4) with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit.
[R 1 SiO 2/2 (OR c )] (4)
[In equation (4), R 1 is the same as in equation (1). R c is the same as in equation (II)]
The ratio of the structural units represented by is 55 to 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.0. The above-mentioned cured product which is an organosilsesquioxane is provided.

本発明は、また、上記R1が、下記式(1a)〜(1d)で表される基からなる群より選択される1種以上の基である前記の硬化物を提供する。

Figure 0006796582
(式中、R1a、R1b、R1c、R1dは、同一又は異なって、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す)The present invention also provides the cured product in which the R 1 is one or more groups selected from the group consisting of the groups represented by the following formulas (1a) to (1d).
Figure 0006796582
(In the formula, R 1a , R 1b , R 1c , and R 1d indicate the same or different, linear or branched alkylene group).

本発明は、また、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンが、更に、下記式(2)
[R2SiO3/2] (2)
[式(2)中、R2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す]
で表される構成単位を有する前記の硬化物を提供する。
In the present invention, the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is further described by the following formula (2).
[R 2 SiO 3/2 ] (2)
[In formula (2), R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkyl group. Indicates an alkenyl group of]
Provided is the cured product having a structural unit represented by.

本発明は、また、上記R2が、置換若しくは無置換のアリール基である前記の硬化物を提供する。The present invention also provides the cured product, wherein R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group.

本発明は、また、硬化性組成物が、さらに重合開始剤を含む前記の硬化物を提供する。 The present invention also provides the cured product, wherein the curable composition further comprises a polymerization initiator.

本発明は、また、硬化性組成物が、さらに重合安定剤を含む前記の硬化物を提供する。 The present invention also provides the cured product, wherein the curable composition further comprises a polymerization stabilizer.

本発明は、また、硬化性組成物が、さらにシランカップリング剤を含む前記の硬化物を提供する。 The present invention also provides the cured product, wherein the curable composition further comprises a silane coupling agent.

本発明は、また、重合性基を有する化合物を含有する硬化性組成物に、硬化温度を段階的に変化させる加熱処理を施して硬化物を製造する方法であって、1段階目の加熱処理終了時の硬化度を85%以下とし、2段階目以降の加熱処理によって硬化度を85%超とすることを特徴とする硬化物の製造方法を提供する。 The present invention is also a method for producing a cured product by subjecting a curable composition containing a compound having a polymerizable group to a heat treatment in which the curing temperature is changed stepwise, and the first stage heat treatment is performed. Provided is a method for producing a cured product, wherein the degree of curing at the end is 85% or less, and the degree of curing is increased to more than 85% by heat treatment in the second and subsequent steps.

本発明は、また、3層以上で構成される積層物であって、
2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、
前記接着層が、前記の硬化物の層であることを特徴とする積層物を提供する。
The present invention is also a laminate composed of three or more layers.
It has two layers to be adhered and an adhesive layer between the layers to be adhered.
Provided is a laminate characterized in that the adhesive layer is a layer of the cured product.

本発明は、また、前記の積層物を有する装置を提供する。 The present invention also provides an apparatus having the above-mentioned laminate.

すなわち、本発明は、以下に関する。
[1]重合性基を有する化合物を含有する硬化性組成物に、硬化温度を段階的に変化させる加熱処理を施して得られる硬化物であって、1段階目の加熱処理終了時の硬化度を85%以下とし、2段階目以降の加熱処理によって硬化度を85%超とする加熱処理により得られる硬化物。
[2]重合性基を有する化合物における重合性基が、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基、及びビニルフェニル基からなる群より選択される1種以上の基である[1]に記載の硬化物。
[3]重合性基を有する化合物が、下記式(1)
[R1SiO3/2] (1)
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す]
で表される構成単位を有し、
下記式(I)
[RaSiO3/2] (I)
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す]
で表される構成単位と、下記式(II)
[RbSiO2/2(ORc)] (II)
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す]
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、
シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する上記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)
[R1SiO2/2(ORc)] (4)
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ]
で表される構成単位の割合が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0であるエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンである[1]に記載の硬化物。
[4]上記R1が、下記式(1a)〜(1d)で表される基からなる群より選択される1種以上の基である[3]に記載の硬化物。

Figure 0006796582
(式中、R1a、R1b、R1c、R1dは、同一又は異なって、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す)
[5]エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンが、更に、下記式(2)
[R2SiO3/2] (2)
[式(2)中、R2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す]
で表される構成単位を有する[3]又は[4]に記載の硬化物。
[6]上記R2が、置換若しくは無置換のアリール基である[5]に記載の硬化物。
[7]エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位、上記式(2)で表される構成単位、上記式(4)で表される構成単位、及び下記式(5)
[R2SiO2/2(ORc)] (5)
[式(5)中、R2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す]
で表される構成単位の割合(総量)が60〜100モル%である、[5]又は[6]に記載の硬化物。
[8]硬化性組成物における上記重合性化合物の含有量(配合量)が、溶媒を除く硬化性組成物の全量(100重量%)に対して、70重量%以上、100重量%未満であり、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンの割合が、重合性化合物全量(100重量%)の70重量%以上である、[3]〜[7]のいずれか1つに記載の硬化物。
[9]硬化性組成物が、さらに重合開始剤を含む[1]〜[8]のいずれか1つに記載の硬化物。
[10]硬化性組成物が、さらに重合安定剤を含む[1]〜[9]のいずれか1つに記載の硬化物。
[11]硬化性組成物が、さらにシランカップリング剤を含む[1]〜[10]のいずれか1つに記載の硬化物。
[12]熱分解温度が200℃以上である[1]〜[11]のいずれか1つに記載の硬化物。
[13]重合性基を有する化合物を含有する硬化性組成物に、硬化温度を段階的に変化させる加熱処理を施して硬化物を製造する方法であって、1段階目の加熱処理終了時の硬化度を85%以下とし、2段階目以降の加熱処理によって硬化度を85%超とすることを特徴とする硬化物の製造方法。
[14]重合性基を有する化合物が、下記式(1)
[R1SiO3/2] (1)
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す]
で表される構成単位を有し、
下記式(I)
[RaSiO3/2] (I)
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す]
で表される構成単位と、下記式(II)
[RbSiO2/2(ORc)] (II)
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す]
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、
シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する上記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)
[R1SiO2/2(ORc)] (4)
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ]
で表される構成単位の割合が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0であるエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンを含む、[13]に記載の硬化物の製造方法。
[15]1段階目の加熱処理を5分以上かけて行う[13]又は[14]に記載の硬化物の製造方法。
[16]1段階目の加熱処理における加熱温度が90℃以上、150℃未満である、[15]に記載の硬化物の製造方法。
[17]2段階目以降の加熱処理における加熱温度が150〜200℃である[13]〜[16]のいずれか1つに記載の硬化物の製造方法。
[18]2段階目以降の加熱処理における加熱時間が5〜120分である[13]〜[17]のいずれか1つに記載の硬化物の製造方法。
[19]1段階目と2段階目の加熱処理にかける時間の合計(3段階目以降も行う場合は、3段階目以降の加熱処理に要する時間も合計する)が0.5〜2時間である[13]〜[18]のいずれか1つに記載の硬化物の製造方法。
[20]3層以上で構成される積層物であって、2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、前記接着層が、[1]〜[12]のいずれか1つに記載の硬化物の層であることを特徴とする積層物。
[21][20]に記載の積層物を有する装置。That is, the present invention relates to the following.
[1] A cured product obtained by subjecting a curable composition containing a compound having a polymerizable group to a heat treatment for gradually changing the curing temperature, and the degree of curing at the end of the first stage heat treatment. A cured product obtained by heat treatment in which the degree of curing is 85% or more by heat treatment in the second and subsequent steps.
[2] The cured product according to [1], wherein the polymerizable group in the compound having a polymerizable group is one or more groups selected from the group consisting of an epoxy group, an oxetanyl group, a vinyl ether group, and a vinyl phenyl group. ..
[3] The compound having a polymerizable group has the following formula (1).
[R 1 SiO 3/2 ] (1)
[In formula (1), R 1 indicates a group containing an epoxy group]
Has a structural unit represented by
The following formula (I)
[R a SiO 3/2 ] (I)
[In formula (I), Ra is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom]
The structural unit represented by and the following formula (II)
[R b SiO 2/2 (OR c )] (II)
[In formula (II), R b is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
The molar ratio of the structural unit represented by (I) [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more.
The structural unit represented by the above formula (1) and the following formula (4) with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit.
[R 1 SiO 2/2 (OR c )] (4)
[In equation (4), R 1 is the same as in equation (1). R c is the same as in equation (II)]
The ratio of the structural units represented by is 55 to 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.0. The cured product according to [1], which is an organosilsesquioxane.
[4] The cured product according to [3], wherein R 1 is one or more groups selected from the group consisting of groups represented by the following formulas (1a) to (1d).
Figure 0006796582
(In the formula, R 1a , R 1b , R 1c , and R 1d indicate the same or different, linear or branched alkylene group).
[5] Epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is further added to the following formula (2).
[R 2 SiO 3/2 ] (2)
[In formula (2), R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkyl group. Indicates an alkenyl group of]
The cured product according to [3] or [4], which has a structural unit represented by.
[6] The cured product according to [5], wherein R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group.
[7] The structural unit represented by the above formula (1), the structural unit represented by the above formula (2), and the above formula with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane. The structural unit represented by (4) and the following formula (5)
[R 2 SiO 2/2 (OR c )] (5)
[In formula (5), R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkyl group. Indicates the alkenyl group of. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
The cured product according to [5] or [6], wherein the ratio (total amount) of the structural units represented by is 60 to 100 mol%.
[8] The content (blending amount) of the polymerizable compound in the curable composition is 70% by weight or more and less than 100% by weight with respect to the total amount (100% by weight) of the curable composition excluding the solvent. The cured product according to any one of [3] to [7], wherein the ratio of the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is 70% by weight or more of the total amount of the polymerizable compound (100% by weight).
[9] The cured product according to any one of [1] to [8], wherein the curable composition further contains a polymerization initiator.
[10] The cured product according to any one of [1] to [9], wherein the curable composition further contains a polymerization stabilizer.
[11] The cured product according to any one of [1] to [10], wherein the curable composition further contains a silane coupling agent.
[12] The cured product according to any one of [1] to [11], which has a thermal decomposition temperature of 200 ° C. or higher.
[13] A method for producing a cured product by subjecting a curable composition containing a compound having a polymerizable group to a heat treatment for gradually changing the curing temperature, at the end of the first stage heat treatment. A method for producing a cured product, wherein the degree of curing is 85% or less, and the degree of curing is increased to more than 85% by heat treatment in the second and subsequent stages.
[14] The compound having a polymerizable group has the following formula (1).
[R 1 SiO 3/2 ] (1)
[In formula (1), R 1 indicates a group containing an epoxy group]
Has a structural unit represented by
The following formula (I)
[R a SiO 3/2 ] (I)
[In formula (I), Ra is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom]
The structural unit represented by and the following formula (II)
[R b SiO 2/2 (OR c )] (II)
[In formula (II), R b is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
The molar ratio of the structural unit represented by (I) [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more.
The structural unit represented by the above formula (1) and the following formula (4) with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit.
[R 1 SiO 2/2 (OR c )] (4)
[In equation (4), R 1 is the same as in equation (1). R c is the same as in equation (II)]
The ratio of the structural units represented by is 55 to 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.0. The method for producing a cured product according to [13], which comprises an organosilsesquioxane.
[15] The method for producing a cured product according to [13] or [14], wherein the first-step heat treatment is carried out over 5 minutes or more.
[16] The method for producing a cured product according to [15], wherein the heating temperature in the first-stage heat treatment is 90 ° C. or higher and lower than 150 ° C.
[17] The method for producing a cured product according to any one of [13] to [16], wherein the heating temperature in the second and subsequent heat treatments is 150 to 200 ° C.
[18] The method for producing a cured product according to any one of [13] to [17], wherein the heating time in the second and subsequent heat treatments is 5 to 120 minutes.
[19] The total time required for the first and second stages of heat treatment (if the third and subsequent stages are also performed, the total time required for the third and subsequent stages of heat treatment) is 0.5 to 2 hours. The method for producing a cured product according to any one of [13] to [18].
[20] A laminate composed of three or more layers, which has two layers to be adhered and an adhesive layer between the layers to be adhered, and the adhesive layers are [1] to [12]. A laminate characterized by being a layer of the cured product according to any one of the above.
[21] An apparatus having the laminate according to [20].

積層物中の接着層にクラックや剥離が生じると、被接着層が剥離したり、配線が破壊される原因となり、結果として積層物を備えた装置の故障の原因となるが、本発明の硬化物は耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れるため、冷熱衝撃を付与しても接着層にクラックや剥離が生じることがなく、信頼性を有する装置を形成することができる。そして、本発明の積層物が半導体チップの三次元積層体である場合は、従来の半導体よりも高集積、省電力であるため、本発明の積層物を使用すれば、より小型で高性能な電子機器を提供することができる。 If the adhesive layer in the laminate is cracked or peeled, the layer to be adhered may be peeled off or the wiring may be destroyed, and as a result, the device provided with the laminate may be damaged. Since the material has excellent heat resistance, crack resistance, adhesiveness to the adherend, and adhesion, the adhesive layer does not crack or peel even when a cold impact is applied, and a reliable device should be formed. Can be done. When the laminate of the present invention is a three-dimensional laminate of semiconductor chips, it has higher integration and power saving than the conventional semiconductor. Therefore, if the laminate of the present invention is used, it is smaller and has higher performance. Electronic devices can be provided.

硬化物の耐熱性の評価方法を示す説明図(熱重量分析結果の模式図)である。It is explanatory drawing (schematic diagram of the thermogravimetric analysis result) which shows the evaluation method of the heat resistance of a cured product.

[硬化性組成物]
本発明における硬化性組成物は、重合性基を有する化合物(以後、「重合性化合物」と称する場合がある)を少なくとも含有する。本発明における硬化性組成物は、さらに、重合開始剤や重合安定剤、表面調整剤あるいは表面改質剤等のその他の成分を含んでいてもよい。
[Curable composition]
The curable composition in the present invention contains at least a compound having a polymerizable group (hereinafter, may be referred to as a "polymerizable compound"). The curable composition in the present invention may further contain other components such as a polymerization initiator, a polymerization stabilizer, a surface conditioner or a surface modifier.

(重合性基を有する化合物)
前記重合性基を有する化合物における重合性基は、加熱処理を施すことにより重合して硬化物を形成することができる基であればよく、例えば、カチオン重合性基やラジカル重合性基が含まれる。本発明においては、なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基、及びビニルフェニル基からなる群より選択される1種以上の基が好ましい。
(Compound having a polymerizable group)
The polymerizable group in the compound having a polymerizable group may be any group that can be polymerized to form a cured product by subjecting it to a heat treatment, and includes, for example, a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group. .. In the present invention, one or more groups selected from the group consisting of an epoxy group, an oxetanyl group, a vinyl ether group, and a vinyl phenyl group are preferable.

すなわち、本発明における重合性化合物としては、エポキシ基を有する化合物(以後、「エポキシ化合物」と称する場合がある)、オキセタニル基を有する化合物(以後、「オキセタン化合物」と称する場合がある)、ビニルエーテル基を有する化合物(以後、「ビニルエーテル化合物」と称する場合がある)、及びビニルフェニル基を有する化合物(以後、「ビニルフェニル化合物」と称する場合がある)からなる群より選択される1種以上の化合物が好ましい。 That is, as the polymerizable compound in the present invention, a compound having an epoxy group (hereinafter, may be referred to as "epoxy compound"), a compound having an oxetanyl group (hereinafter, may be referred to as "oxetan compound"), vinyl ether. One or more selected from the group consisting of a compound having a group (hereinafter sometimes referred to as "vinyl ether compound") and a compound having a vinyl phenyl group (hereinafter sometimes referred to as "vinyl phenyl compound"). Compounds are preferred.

(エポキシ化合物)
エポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、エポキシ変性シロキサン化合物、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。
(Epoxy compound)
As the epoxy compound, a known or commonly used compound having one or more epoxy groups (oxylan rings) in the molecule can be used, and is not particularly limited, but for example, an epoxy-modified siloxane compound and an alicyclic epoxy compound (fat). (Cyclic epoxy resin), aromatic epoxy compound (aromatic epoxy resin), aliphatic epoxy compound (aliphatic epoxy resin) and the like can be mentioned.

<エポキシ変性シロキサン化合物>
上記エポキシ変性シロキサン化合物としては、例えば、エポキシ変性シリコーンやエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサン等を挙げることができる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
<Epoxy-modified siloxane compound>
Examples of the epoxy-modified siloxane compound include epoxy-modified silicone and epoxy-modified polyorganosylsesquioxane. These can be used alone or in combination of two or more.

前記エポキシ変性シリコーンは、ジメチルシリコーン骨格の末端及び側鎖の少なくとも1つにエポキシ基(例えば、グリシジル基、脂環エポキシ基等)を導入した化合物である。 The epoxy-modified silicone is a compound in which an epoxy group (for example, a glycidyl group, an alicyclic epoxy group, etc.) is introduced into at least one of the terminal and side chains of the dimethyl silicone skeleton.

前記エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンは、シルセスキオキサン構造と、それに結合したエポキシ基を有するポリシロキサン化合物であり、前記シルセスキオキサン構造には、ランダム型構造、カゴ型構造、及びラダー型構造が含まれる。 The epoxy-modified polyorganosilsesquioxane is a polysiloxane compound having a silsesquioxane structure and an epoxy group bonded thereto, and the silsesquioxane structure includes a random type structure, a basket type structure, and a ladder. Includes type structure.

好ましいエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンとしては、例えば、下記式(1)
[R1SiO3/2] (1)
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す]
で表される構成単位を有し、
下記式(I)
[RaSiO3/2] (I)
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す]
で表される構成単位(「T3体」と称する場合がある)と、下記式(II)
[RbSiO2/2(ORc)] (II)
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す]
で表される構成単位(「T2体」と称する場合がある)のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位;「T3体/T2体」と記載する場合がある]が5以上であり、
シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する上記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)
[R1SiO2/2(ORc)] (4)
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ]
で表される構成単位の割合(総量)が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0である化合物を挙げることができる。
A preferable epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is, for example, the following formula (1).
[R 1 SiO 3/2 ] (1)
[In formula (1), R 1 indicates a group containing an epoxy group]
Has a structural unit represented by
The following formula (I)
[R a SiO 3/2 ] (I)
[In formula (I), Ra is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom]
The structural unit represented by (sometimes referred to as "T3 body") and the following formula (II)
[R b SiO 2/2 (OR c )] (II)
[In formula (II), R b is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
The molar ratio of the structural unit represented by (sometimes referred to as "T2 body") [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II); "T3 body / T2 body" May be described as] is 5 or more,
The structural unit represented by the above formula (1) and the following formula (4) with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit.
[R 1 SiO 2/2 (OR c )] (4)
[In equation (4), R 1 is the same as in equation (1). R c is the same as in equation (II)]
The ratio (total weight) of the constituent units represented by is 55 to 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.0. Compounds can be mentioned.

上記式(I)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(I')で表される。また、上記式(II)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(II')で表される。下記式(I')で表される構造中に示されるケイ素原子に結合した3つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(I')に示されていないケイ素原子)と結合している。また、下記式(II')で表される構造中に示されるケイ素原子の上と下に位置する2つの酸素原子もそれぞれ、他のケイ素原子(式(II')に示されていないケイ素原子)に結合している。即ち、上記T3体及びT2体は、いずれも、一般に[RSiO3/2]で表される構成単位(いわゆるT単位)であり、対応する加水分解性三官能シラン化合物の加水分解及び縮合反応により形成される。尚、上記式中のRは、水素原子又は一価の有機基を示し、以下においても同じである。

Figure 0006796582
When the structural unit represented by the above formula (I) is described in more detail, it is represented by the following formula (I'). Further, if the structural unit represented by the above formula (II) is described in more detail, it is represented by the following formula (II'). Each of the three oxygen atoms bonded to the silicon atom represented in the structure represented by the following formula (I') is bonded to another silicon atom (silicon atom not represented by the formula (I')). .. In addition, the two oxygen atoms located above and below the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (II') are also other silicon atoms (silicon atoms not shown in the formula (II')). It is combined. That is, both the T3 body and the T2 body are structural units (so-called T units) generally represented by [RSiO 3/2 ], and are subjected to the hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound. It is formed. In addition, R in the above formula indicates a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the same applies to the following.
Figure 0006796582

上記式(I)中のRa(式(I')中のRaも同じ)及び式(II)中のRb(式(II')中のRbも同じ)は、それぞれ、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Ra及びRbの具体例としては、後述の式(1)におけるR1、式(2)におけるR2と同様のものが例示される。尚、式(I)中のRa及び式(II)中のRbは、それぞれ、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンの原料として使用した加水分解性三官能シラン化合物におけるケイ素原子に結合した基(アルコキシ基及びハロゲン原子以外の基;例えば、後述の式(a)〜(c)におけるR1、R2、水素原子等)に由来する。R a in the above formula (I) (formula (I ') in the R a same) and formula (II) in the R b (wherein (II') in the R b versa), respectively, an epoxy group A group containing, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, or a hydrogen atom. Shown. Specific examples of R a and R b include those similar to R 1 in the formula (1) and R 2 in the formula (2) described later. R a in the formula (I) and R b in the formula (II) are groups bonded to a silicon atom in the hydrolyzable trifunctional silane compound used as a raw material for the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane, respectively. It is derived from (groups other than alkoxy groups and halogen atoms; for example, R 1 , R 2 , hydrogen atoms, etc. in the formulas (a) to (c) described later).

上記式(II)中の(ORc)基(式(II')中の(ORc)基も同じ)は、水酸基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を示す。炭素数1〜4のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基等が挙げられる。式(II)中の(ORc)基は、一般的には、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンの原料として使用した加水分解性シラン化合物におけるアルコキシ基(例えば、後述のX1〜X3としてのアルコキシ基等)に由来する。The formula (II) in the (OR c) group (the formula (II ') in the (OR c) group versa) indicates a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms include an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group and an isobutyloxy group. The (OR c ) group in the formula (II) is generally an alkoxy group (for example, X 1 to X 3 described later) in the hydrolyzable silane compound used as a raw material for the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane. It is derived from the alkoxy group of.

上記式(1)で表される構成単位はT単位(特にT3体)であり、対応する加水分解性三官能シラン化合物(例えば、後述の式(a)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the above formula (1) is a T unit (particularly T3 body), and the hydrolysis of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (for example, the compound represented by the formula (a) described later) and It is formed by a condensation reaction.

式(1)中のR1は、エポキシ基を含有する基(一価の基)を示す。上記エポキシ基を含有する基としては、オキシラン環を有する公知乃至慣用の基が挙げられ、特に限定されないが、硬化性組成物の硬化性及び硬化物の耐熱性の観点で、下記式(1a)〜(1d)で表される基からなる群より選択される1種以上の基が好ましく、なかでも下記式(1a)又は(1c)で表される基が好ましく、特に好ましくは下記式(1a)で表される基である。

Figure 0006796582
R 1 in the formula (1) represents a group containing an epoxy group (monovalent group). Examples of the group containing an epoxy group include known and commonly used groups having an oxylane ring, and are not particularly limited, but from the viewpoint of curability of the curable composition and heat resistance of the cured product, the following formula (1a) One or more groups selected from the group consisting of the groups represented by (1d) are preferable, and the group represented by the following formula (1a) or (1c) is preferable, and the following formula (1a) is particularly preferable. ) Is the group represented by.
Figure 0006796582

式中、R1a、R1b、R1c、R1dは、同一又は異なって、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、デカメチレン基等の炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。In the formula, R 1a , R 1b , R 1c , and R 1d represent the same or different linear or branched alkylene groups, for example, methylene group, methylmethylene group, dimethylmethylene group, ethylene group, propylene. Examples thereof include a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms such as a group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group and a decamethylene group.

1a、R1b、R1c、R1dとしては、なかでも、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。As R 1a , R 1b , R 1c , and R 1d , a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms are preferable, and more preferably an ethylene group. , Trimethylene group, propylene group, more preferably ethylene group, trimethylene group.

式(1)中のR1としては、特に、上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[例えば、2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基]が好ましい。R 1 in the formula (1) is a group represented by the above formula (1a) in which R 1a is an ethylene group [for example, 2- (3', 4'-epoxycyclohexyl)). Ethyl group] is preferable.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンは、上記式(1)で表される構成単位を1種のみ有するものであってもよいし、上記式(1)で表される構成単位を2種以上有するものであってもよい。 The epoxy-modified polyorganosylsesquioxane may have only one structural unit represented by the above formula (1), or may have two or more structural units represented by the above formula (1). It may be a thing.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンは、T単位(特にT3体)として、上記式(1)で表される構成単位以外にも、下記式(2)
[R2SiO3/2] (2)
で表される構成単位を有していてもよい。上記式(2)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(例えば、後述の式(b)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。
Epoxy-modified polyorganosylsesquioxane has the following formula (2) as a T unit (particularly T3 body) in addition to the structural unit represented by the above formula (1).
[R 2 SiO 3/2 ] (2)
It may have a structural unit represented by. The structural unit represented by the above formula (2) is formed by a hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (for example, the compound represented by the formula (b) described later).

上記式(2)中のR2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。上記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。上記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記シクロアルキル基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。上記アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基が挙げられる。R 2 in the above formula (2) is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkyl group. Indicates the alkenyl group of. Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group and the like. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and the like. Examples of the alkyl group include a linear or branched alkyl such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, an s-butyl group, a t-butyl group and an isopentyl group. Group is mentioned. Examples of the alkenyl group include a linear or branched alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, and an isopropenyl group.

上述の置換アリール基、置換アラルキル基、置換シクロアルキル基、置換アルキル基、置換アルケニル基としては、上述のアリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルキル基、アルケニル基における水素原子又は主鎖骨格の一部若しくは全部が、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シロキサン基、ハロゲン原子(フッ素原子等)、アクリル基、メタクリル基、メルカプト基、アミノ基、及びヒドロキシ基(水酸基)からなる群より選択された少なくとも1種で置換された基が挙げられる。 Examples of the above-mentioned substituted aryl group, substituted aralkyl group, substituted cycloalkyl group, substituted alkyl group, and substituted alkenyl group include the hydrogen atom or main chain skeleton of the above-mentioned aryl group, aralkyl group, cycloalkyl group, alkyl group and alkenyl group. Part or all selected from the group consisting of ether group, ester group, carbonyl group, siloxane group, halogen atom (fluorine atom, etc.), acrylic group, methacryl group, mercapto group, amino group, and hydroxy group (hydroxyl group). Included are groups substituted with at least one species.

なかでも、R2としては、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、さらに好ましくはフェニル基である。Among them, as R 2 , a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group is preferable, a substituted or unsubstituted aryl group is more preferable, and a phenyl group is further preferable. Is.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(1)で表される構成単位、及び式(2)で表される構成単位の割合は、これらの構成単位を形成するための原料(加水分解性三官能シラン)の組成により適宜調整することが可能である。 The proportion of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2) in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is the raw material for forming these structural units (hydrolyzable three). It can be appropriately adjusted depending on the composition of the functional silane).

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンは、T単位(特にT3体)として、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外にも、例えば、下記式(3)
[HSiO3/2] (3)
で表される構成単位を有していてもよい。
The epoxy-modified polyorganosylsesquioxane has a T unit (particularly T3 body) other than the structural unit represented by the above formula (1) and the structural unit represented by the formula (2), for example, the following formula ( 3)
[HSiO 3/2 ] (3)
It may have a structural unit represented by.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンの上記割合[T3体/T2体]が5以上であることは、T3体に対し一定以上のT2体が存在していることを意味する。このようなT2体としては、例えば、下記式(4)
[R1SiO2/2(ORc)] (4)
で表される構成単位、下記式(5)
[R2SiO2/2(ORc)] (5)
で表される構成単位、下記式(6)
[HSiO2/2(ORc)] (6)
で表される構成単位等が挙げられる。尚、上記R1、R2、(ORc)は、前記に同じ。
When the above ratio [T3 body / T2 body] of the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is 5 or more, it means that a certain amount or more of T2 body is present with respect to the T3 body. As such a T2 body, for example, the following equation (4)
[R 1 SiO 2/2 (OR c )] (4)
The structural unit represented by the following formula (5)
[R 2 SiO 2/2 (OR c )] (5)
The structural unit represented by the following formula (6)
[HSiO 2/2 (OR c )] (6)
Examples include the structural units represented by. The above R 1 , R 2 , and (OR c ) are the same as described above.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記式(I)で表される構成単位(T3体)と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)の割合[T3体/T2体]は、上述のように5以上であり、好ましくは5〜18、より好ましくは6〜16、さらに好ましくは7〜14である。上記割合[T3体/T2体]を5以上とすることにより、硬化物の接着性が著しく向上する。 Ratio of the structural unit (T3 body) represented by the above formula (I) to the structural unit (T2 body) represented by the above formula (II) in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane [T3 body / T2 body] Is 5 or more as described above, preferably 5 to 18, more preferably 6 to 16, and even more preferably 7-14. By setting the above ratio [T3 body / T2 body] to 5 or more, the adhesiveness of the cured product is remarkably improved.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]は、例えば、29Si−NMRスペクトル測定により求めることができる。29Si−NMRスペクトルにおいて、上記式(I)で表される構成単位(T3体)におけるケイ素原子と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)におけるケイ素原子とは、異なる位置(化学シフト)にシグナル(ピーク)を示すため、それぞれのピークの積分比を算出することにより、上記割合[T3体/T2体]が求められる。例えば、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンが、上記式(1)で表され、R1が2−(3',4'−エポキシシクロヘキシル)エチル基である構成単位を有する場合には、上記式(I)で表される構造(T3体)におけるケイ素原子のシグナルは−64〜−70ppmに現れ、上記式(II)で表される構造(T2体)におけるケイ素原子のシグナルは−54〜−60ppmに現れる。従って、この場合、−64〜−70ppmのシグナル(T3体)と−54〜−60ppmのシグナル(T2体)の積分比を算出することによって、上記割合[T3体/T2体]を求めることができる。The above ratio [T3 / T2] in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane can be determined by, for example, 29 Si-NMR spectrum measurement. 29 In the Si-NMR spectrum, the silicon atom in the structural unit (T3 body) represented by the above formula (I) and the silicon atom in the structural unit (T2 body) represented by the above formula (II) are at different positions. Since the signal (peak) is shown in (chemical shift), the above ratio [T3 / T2] can be obtained by calculating the integration ratio of each peak. For example, when the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane has a structural unit represented by the above formula (1) and R 1 is a 2- (3', 4'-epoxycyclohexyl) ethyl group, the above formula is used. The signal of the silicon atom in the structure (T3 body) represented by (I) appears at -64 to -70 ppm, and the signal of the silicon atom in the structure (T2 body) represented by the above formula (II) is -54 to-. Appears at 60 ppm. Therefore, in this case, the above ratio [T3 body / T2 body] can be obtained by calculating the integral ratio of the signal (T3 body) of -64 to -70 ppm and the signal (T2 body) of -54 to -60 ppm. it can.

尚、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンの29Si−NMRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「JNM−ECA500NMR」(日本電子(株)製)
溶媒:重クロロホルム
積算回数:1800回
測定温度:25℃
The 29 Si-NMR spectrum of the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane can be measured by, for example, the following equipment and conditions.
Measuring device: Product name "JNM-ECA500NMR" (manufactured by JEOL Ltd.)
Solvent: Deuterated chloroform Number of integrations: 1800 Measurement temperature: 25 ° C

一般に、完全カゴ型シルセスキオキサンは、T3体のみにより構成されたポリオルガノシルセスキオキサンであり、分子中にT2体が存在しない。即ち、上記割合[T3体/T2体]が5以上であるエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンは、不完全カゴ型シルセスキオキサン構造を有することが示唆される。 In general, the complete cage type silsesquioxane is a polyorganosylsesquioxane composed of only T3 bodies, and the T2 body is not present in the molecule. That is, it is suggested that the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane having the above ratio [T3 / T2] of 5 or more has an incomplete cage-type silsesquioxane structure.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンがカゴ型(特に不完全カゴ型)シルセスキオキサン構造を有することは、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有さず、1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有することから確認できる[参考文献:R.H.Raney, M.Itoh, A.Sakakibara and T.Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409(1995)]。これに対して、一般に、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有する場合には、ラダー型シルセスキオキサン構造を有すると同定される。尚、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「FT−720」((株)堀場製作所製)
測定方法:透過法
分解能:4cm-1
測定波数域:400〜4000cm-1
積算回数:16回
Epoxy-modified polyorganosilsesquioxane cage to have (especially incomplete cage) silsesquioxane structures, respectively have an intrinsic absorption peak near 1050 cm -1 and near 1150 cm -1 in the FT-IR spectrum However, it can be confirmed from the fact that it has one intrinsic absorption peak near 1100 cm -1 [References: RHRaney, M. Itoh, A. Sakakibara and T. Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409 (1995)]. On the other hand, in general, when the FT-IR spectrum has an intrinsic absorption peak near 1050 cm -1 and 1150 cm -1 , respectively, it is identified as having a ladder-type silsesquioxane structure. The FT-IR spectrum of the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane can be measured by, for example, the following equipment and conditions.
Measuring device: Product name "FT-720" (manufactured by HORIBA, Ltd.)
Measurement method: Transmission method Resolution: 4 cm -1
Wavenumber range: 400-4000 cm -1
Accumulation number: 16 times

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンは上述のT単位以外にも、例えば、[R3SiO1/2]で表される構成単位(いわゆるM単位)、[R2SiO]で表される構成単位(いわゆるD単位)、及び[SiO2]で表される構成単位(いわゆるQ単位)からなる群より選択される少なくとも1種のシロキサン構成単位を有していてもよい。In addition to the above-mentioned T unit, the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is, for example, a structural unit represented by [R 3 SiO 1/2 ] (so-called M unit) and a structural unit represented by [R 2 SiO]. It may have at least one siloxane structural unit selected from the group consisting of (so-called D unit) and the structural unit represented by [SiO 2 ] (so-called Q unit).

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位及び上記式(4)で表される構成単位の割合(総量)は、上述のように、55〜100モル%であり、好ましくは65〜100モル%、さらに好ましくは80〜99モル%である。上記割合を55モル%以上とすることにより、硬化性組成物の硬化性が向上し、また、硬化物の接着性が著しく高くなる。尚、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおける各シロキサン構成単位の割合は、例えば、原料の組成やNMRスペクトル測定等により算出できる。 It is represented by the above formula (1) with respect to the total amount of siloxane structural units in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%). The ratio (total amount) of the structural unit and the structural unit represented by the above formula (4) is 55 to 100 mol%, preferably 65 to 100 mol%, and more preferably 80 to 99 mol, as described above. %. By setting the above ratio to 55 mol% or more, the curability of the curable composition is improved, and the adhesiveness of the cured product is remarkably increased. The ratio of each siloxane structural unit in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane can be calculated by, for example, the composition of the raw material, the NMR spectrum measurement, or the like.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(2)で表される構成単位及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、0〜70モル%が好ましく、より好ましくは0〜60モル%、さらに好ましくは0〜40モル%、特に好ましくは1〜15モル%である。上記割合を70モル%以下とすることにより、相対的に式(1)で表される構成単位及び式(4)で表される構成単位の割合を多くすることができるため、硬化性組成物の硬化性が向上し、硬化物の接着性がより高くなる傾向がある。 It is expressed by the above formula (2) with respect to the total amount of siloxane structural units in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%). The ratio (total amount) of the structural unit and the structural unit represented by the above formula (5) is not particularly limited, but is preferably 0 to 70 mol%, more preferably 0 to 60 mol%, and further preferably 0 to 40. It is in mol%, particularly preferably 1 to 15 mol%. By setting the above ratio to 70 mol% or less, the ratio of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (4) can be relatively increased, so that the curable composition The curability of the cured product tends to be improved, and the adhesiveness of the cured product tends to be higher.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位、上記式(2)で表される構成単位、上記式(4)で表される構成単位、及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。上記割合を60モル%以上とすることにより、硬化物の接着性がより高くなる傾向がある。 It is represented by the above formula (1) with respect to the total amount of siloxane structural units in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%). The ratio (total amount) of the structural unit represented by the above formula (2), the structural unit represented by the above formula (4), and the structural unit represented by the above formula (5) is not particularly limited. However, it is preferably 60 to 100 mol%, more preferably 70 to 100 mol%, still more preferably 80 to 100 mol%. By setting the above ratio to 60 mol% or more, the adhesiveness of the cured product tends to be higher.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンのGPCによる標準ポリスチレン換算の分子量分散度(Mw/Mn)は、上述のように、1.0〜3.0であり、好ましくは1.1〜2.0、より好ましくは1.2〜1.9、特に好ましくは1.45〜1.80である。分子量分散度を3.0以下とすることにより、硬化物の接着性がより高くなる。一方、分子量分散度を1.0以上(好ましくは1.1以上)とすることにより、液状となりやすく、取り扱い性が向上する傾向がある。 The standard polystyrene-equivalent molecular weight dispersion (Mw / Mn) of the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane by GPC is 1.0 to 3.0, preferably 1.1 to 2.0, as described above. It is more preferably 1.2 to 1.9, and particularly preferably 1.45 to 1.80. By setting the molecular weight dispersion to 3.0 or less, the adhesiveness of the cured product becomes higher. On the other hand, when the molecular weight dispersity is 1.0 or more (preferably 1.1 or more), it tends to be liquid and the handleability tends to be improved.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンのGPCによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、上述のように1000〜3000であり、好ましくは1000〜2800、より好ましくは1000〜2600である。数平均分子量を1000以上とすることにより、硬化物の耐熱性、接着性がより向上する。一方、数平均分子量を3000以下とすることにより、硬化性組成物における他の成分との相溶性が向上し、硬化物の耐熱性がより向上する。 The standard polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) of the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane by GPC is 1000 to 3000 as described above, preferably 1000 to 2800, and more preferably 1000 to 2600. By setting the number average molecular weight to 1000 or more, the heat resistance and adhesiveness of the cured product are further improved. On the other hand, when the number average molecular weight is 3000 or less, the compatibility with other components in the curable composition is improved, and the heat resistance of the cured product is further improved.

尚、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンの数平均分子量、分子量分散度は、実施例に記載の方法で測定することができる。 The number average molecular weight and the molecular weight dispersion of the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane can be measured by the methods described in Examples.

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンは、例えば、1種又は2種以上の加水分解性シラン化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造できる。但し、前記加水分解性シラン化合物としては、上述の式(1)で表される構成単位を形成するための加水分解性三官能シラン化合物(下記式(a)で表される化合物)を必須の加水分解性シラン化合物として使用する必要がある。 The epoxy-modified polyorganosylsesquioxane can be produced, for example, by a method of hydrolyzing and condensing one or more hydrolyzable silane compounds. However, as the hydrolyzable silane compound, a hydrolyzable trifunctional silane compound (a compound represented by the following formula (a)) for forming a structural unit represented by the above formula (1) is indispensable. Must be used as a hydrolyzable silane compound.

より具体的には、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンは、例えば、T単位を形成するための加水分解性シラン化合物である下記式(a)
1Si(X13 (a)
で表される化合物、必要に応じてさらに、下記式(b)
2Si(X23 (b)
で表される化合物、下記式(c)
HSi(X33 (c)
で表される化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造できる。
More specifically, the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is, for example, a hydrolyzable silane compound for forming T units, according to the following formula (a).
R 1 Si (X 1 ) 3 (a)
The compound represented by the following formula (b), if necessary.
R 2 Si (X 2 ) 3 (b)
The compound represented by the following formula (c)
HSi (X 3 ) 3 (c)
It can be produced by a method of hydrolyzing and condensing the compound represented by.

上記式(a)で表される化合物は、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(1)で表される構成単位、及び式(4)で表される構成単位を形成する化合物である。式(a)中のR1は、上記式(1)、(4)におけるR1に対応する。The compound represented by the above formula (a) is a compound forming the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (4) in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane. R 1 in the formula (a), the above formula (1), corresponding to R 1 in (4).

上記式(a)中のX1は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X1におけるアルコキシ基としては、(ORc)基における炭素数1〜4のアルコキシ基と同様の例が挙げられる。また、X1におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。X1としては、なかでもアルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。尚、3つのX1は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。X 1 in the above formula (a) represents an alkoxy group or a halogen atom. Examples of the alkoxy group in X 1 include the same examples as the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms in the (OR c ) group. Further, examples of the halogen atom in X 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like. Of these, an alkoxy group is preferable as X 1 , and a methoxy group and an ethoxy group are more preferable. Incidentally, three of X 1 may each be the same or may be different.

上記式(b)で表される化合物は、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(2)で表される構成単位、及び式(5)で表される構成単位を形成する化合物である。式(b)中のR2は、上記式(2)、(5)におけるR2に対応する。The compound represented by the above formula (b) is a compound forming a structural unit represented by the formula (2) and a structural unit represented by the formula (5) in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane. R 2 in formula (b), the above formula (2), corresponding to R 2 in (5).

上記式(b)中のX2は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X2の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。なかでも、X2としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。尚、3つのX2は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。X 2 in the above formula (b) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 2 include those exemplified as X 1 . Among them, as X 2 , an alkoxy group is preferable, and a methoxy group and an ethoxy group are more preferable. Note that three X 2 may each be the same or may be different.

上記式(c)で表される化合物は、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおける式(3)で表される構成単位、及び式(6)で表される構成単位を形成する化合物である。上記式(c)中のX3は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X3の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。なかでも、X3としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。尚、3つのX3は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。The compound represented by the above formula (c) is a compound forming a structural unit represented by the formula (3) and a structural unit represented by the formula (6) in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane. X 3 in the above formula (c) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 3 include those exemplified as X 1 . Among these, as X 3, alkoxy groups are preferred, more preferably a methoxy group, an ethoxy group. Incidentally, the three X 3 may each be the same or may be different.

上記加水分解性シラン化合物としては、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性シラン化合物を併用してもよい。例えば、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性三官能シラン化合物、M単位を形成する加水分解性単官能シラン化合物、D単位を形成する加水分解性二官能シラン化合物、Q単位を形成する加水分解性四官能シラン化合物等が挙げられる。 As the hydrolyzable silane compound, a hydrolyzable silane compound other than the compounds represented by the above formulas (a) to (c) may be used in combination. For example, hydrolyzable trifunctional silane compounds other than the compounds represented by the above formulas (a) to (c), hydrolyzable monofunctional silane compounds forming M units, and hydrolyzable bifunctional silanes forming D units. Examples thereof include compounds, hydrolyzable tetrafunctional silane compounds forming Q units, and the like.

上記加水分解性シラン化合物の使用量や組成は、所望するエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンの構造に応じて適宜調整できる。例えば、上記式(a)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、55〜100モル%が好ましく、より好ましくは65〜100モル%、さらに好ましくは80〜99モル%である。 The amount and composition of the hydrolyzable silane compound used can be appropriately adjusted according to the desired structure of the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane. For example, the amount of the compound represented by the above formula (a) is not particularly limited, but is preferably 55 to 100 mol%, more preferably 55 to 100 mol%, based on the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used. Is 65 to 100 mol%, more preferably 80 to 99 mol%.

また、上記式(b)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、0〜70モル%が好ましく、より好ましくは0〜60モル%、さらに好ましくは0〜40モル%、特に好ましくは1〜15モル%である。 The amount of the compound represented by the above formula (b) is not particularly limited, but is preferably 0 to 70 mol%, more preferably 0 to 70 mol%, based on the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used. Is 0 to 60 mol%, more preferably 0 to 40 mol%, and particularly preferably 1 to 15 mol%.

さらに、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対する式(a)で表される化合物と式(b)で表される化合物の割合(総量の割合)は、特に限定されないが、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。 Further, the ratio (ratio of the total amount) of the compound represented by the formula (a) and the compound represented by the formula (b) to the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound used is not particularly limited. It is preferably 60 to 100 mol%, more preferably 70 to 100 mol%, still more preferably 80 to 100 mol%.

また、上記加水分解性シラン化合物として2種以上を併用する場合、これらの加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、同時に行うこともできるし、逐次行うこともできる。上記反応を逐次行う場合、反応を行う順序は特に限定されない。 When two or more kinds of the hydrolyzable silane compounds are used in combination, the hydrolysis and condensation reactions of these hydrolyzable silane compounds can be carried out simultaneously or sequentially. When the above reactions are carried out sequentially, the order in which the reactions are carried out is not particularly limited.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、溶媒の存在下で行うこともできるし、非存在下で行うこともできる。なかでも溶媒の存在下で行うことが好ましい。上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール等が挙げられる。上記溶媒としては、なかでも、ケトン、エーテルが好ましい。尚、溶媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。 The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound can be carried out in the presence of a solvent or in the absence of the solvent. Above all, it is preferable to carry out in the presence of a solvent. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene; ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; methyl acetate and ethyl acetate. , Esters such as isopropyl acetate and butyl acetate; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butanol. And so on. Of these, ketones and ethers are preferable as the solvent. As the solvent, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

溶媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量100重量部に対して、0〜2000重量部の範囲内で、所望の反応時間等に応じて、適宜調整することができる。 The amount of the solvent used is not particularly limited, and can be appropriately adjusted in the range of 0 to 2000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the hydrolyzable silane compound, depending on the desired reaction time and the like. ..

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、触媒及び水の存在下で進行させることが好ましい。上記触媒は、酸触媒であってもアルカリ触媒であってもよい。上記酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸;リン酸エステル;酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸;活性白土等の固体酸;塩化鉄等のルイス酸等が挙げられる。上記アルカリ触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属の水酸化物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩;炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩;酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム等のアルカリ金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);酢酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド;ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属のフェノキシド;トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン等のアミン類(第3級アミン等);ピリジン、2,2'−ビピリジル、1,10−フェナントロリン等の含窒素芳香族複素環化合物等が挙げられる。尚、触媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、触媒は、水や溶媒等に溶解又は分散させた状態で使用することもできる。 The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound is preferably carried out in the presence of a catalyst and water. The catalyst may be an acid catalyst or an alkali catalyst. Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitrate, phosphoric acid and boric acid; phosphoric acid esters; carboxylic acids such as acetic acid, formic acid and trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and p. − Sulphonic acids such as toluene sulfonic acid; solid acids such as active white clay; Lewis acids such as iron chloride can be mentioned. Examples of the alkali catalyst include hydroxides of alkali metals such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide and cesium hydroxide; and alkaline earth metals such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide and barium hydroxide. Hydroxides; Alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate; Alkali earth metal carbonates such as magnesium carbonate; Lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, cesium hydrogen carbonate Alkali metal hydrogen carbonates such as: Lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, cesium acetate and other alkali metal organic acid salts (eg acetates); alkaline earth metal organic acid salts such as magnesium acetate (eg) Acetate); Alkoxides of alkali metals such as lithium methoxydo, sodium methoxydo, sodium ethoxide, sodium isopropoxide, potassium ethoxide, potassium t-butoxide; Alkali metal phenoxides such as sodium phenoxide; triethylamine, N-methyl Amines such as piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nona-5-ene (tertiary amines, etc.); pyridine , 2,2'-bipyridyl, 1,10-phenanthroline and other nitrogen-containing aromatic heterocyclic compounds and the like. It should be noted that one type of catalyst may be used alone, or two or more types may be used in combination. The catalyst can also be used in a state of being dissolved or dispersed in water, a solvent or the like.

上記触媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.002〜0.200モルの範囲内で、適宜調整することができる。 The amount of the catalyst used is not particularly limited, and can be appropriately adjusted within the range of 0.002 to 0.200 mol with respect to 1 mol of the total amount of the hydrolyzable silane compound.

上記加水分解及び縮合反応に際しての水の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.5〜20モルの範囲内で、適宜調整することができる。 The amount of water used in the hydrolysis and condensation reactions is not particularly limited, and can be appropriately adjusted within the range of 0.5 to 20 mol with respect to 1 mol of the total amount of the hydrolyzable silane compound.

上記水の添加方法は、特に限定されず、使用する水の全量(全使用量)を一括で添加してもよいし、逐次的に添加してもよい。逐次的に添加する際には、連続的に添加してもよいし、間欠的に添加してもよい。 The method for adding water is not particularly limited, and the total amount of water used (total amount used) may be added all at once, or may be added sequentially. When added sequentially, it may be added continuously or intermittently.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応を行う際の反応条件としては、特に、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンにおける上記割合[T3体/T2体]が5以上となるような反応条件を選択することが重要である。上記加水分解及び縮合反応の反応温度は、特に限定されないが、40〜100℃が好ましく、より好ましくは45〜80℃である。反応温度を上記範囲に制御することにより、上記割合[T3体/T2体]をより効率的に5以上に制御できる傾向がある。また、上記加水分解及び縮合反応の反応時間は、特に限定されないが、0.1〜10時間が好ましく、より好ましくは1.5〜8時間である。また、上記加水分解及び縮合反応は、常圧下で行うこともできるし、加圧下又は減圧下で行うこともできる。尚、上記加水分解及び縮合反応を行う際の雰囲気は、特に限定されず、例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気下、空気下等の酸素存在下等のいずれであってもよいが、不活性ガス雰囲気下が好ましい。 The reaction conditions for hydrolyzing and condensing the hydrolyzable silane compound are particularly such that the ratio [T3 / T2] in the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is 5 or more. It is important to choose. The reaction temperature of the hydrolysis and condensation reactions is not particularly limited, but is preferably 40 to 100 ° C, more preferably 45 to 80 ° C. By controlling the reaction temperature within the above range, the ratio [T3 / T2] tends to be controlled to 5 or more more efficiently. The reaction time of the hydrolysis and condensation reactions is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 hours, more preferably 1.5 to 8 hours. Further, the hydrolysis and condensation reactions can be carried out under normal pressure, under pressure or under reduced pressure. The atmosphere at which the hydrolysis and condensation reactions are carried out is not particularly limited, and may be, for example, any of an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere and an argon atmosphere, and an oxygen presence such as air. However, it is preferable to use an inert gas atmosphere.

上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応により、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンが得られる。上記加水分解及び縮合反応の終了後には、エポキシ基の開環を抑制するために触媒を中和することが好ましい。また、得られたエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンには、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段等により分離精製を施してもよい。 Epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is obtained by the hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound. After completion of the hydrolysis and condensation reactions, it is preferable to neutralize the catalyst in order to suppress ring opening of the epoxy group. Further, the obtained epoxy-modified polyorganosylsesquioxane may be used for separation means such as water washing, acid washing, alkali washing, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc. Separation and purification may be performed by a separation means or the like in combination with.

<脂環式エポキシ化合物>
上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、以下の化合物等が挙げられる。
(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(本明細書においては、「脂環エポキシ基」と称する場合がある。脂環エポキシ基には、例えば、シクロヘキセンオキシド基等が含まれる)を有する化合物
(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物
(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)
<Alicyclic epoxy compound>
Examples of the alicyclic epoxy compound include known and commonly used compounds having one or more alicyclics and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited, and examples thereof include the following compounds. Be done.
(1) An epoxy group composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting an alicyclic in the molecule (in the present specification, it may be referred to as an "alicyclic epoxy group". An alicyclic epoxy group. (Contains, for example, a cyclohexene oxide group, etc.) (2) A compound in which an epoxy group is directly bonded to an alicyclic with a single bond (3) A compound having an alicyclic and a glycidyl ether group in the molecule ( Glycidyl ether type epoxy compound)

上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0006796582
Examples of the compound (1) having an alicyclic epoxy group in the molecule include a compound represented by the following formula (i).
Figure 0006796582

上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、及びこれらが複数個連結した基等が挙げられる。 In the above formula (i), Y represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, an alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and the like. Examples thereof include a group in which a plurality of these are linked.

上記二価の炭化水素基としては、炭素数1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、炭素数3〜18の二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。炭素数3〜18の二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms and a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group and the like. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms include a 1,2-cyclopentylene group, a 1,3-cyclopentylene group, a cyclopentylidene group and a 1,2-cyclohexylene group. , 1,3-Cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, cycloalkylene group such as cyclohexylidene group (including cycloalkylidene group) and the like.

上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which a part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) include a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , 2-Butenylene group, butazienylene group, pentenylene group, hexenylene group, heptenylene group, octenylene group and the like, such as a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, as the epoxidized alkenylene group, an alkenylene group in which the entire carbon-carbon double bond is epoxidized is preferable, and more preferably, the entire carbon-carbon double bond is epoxidized and has 2 to 4 carbon atoms. It is an alkenylene group.

上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、1,2−エポキシ−1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタンや、下記式(i-1)〜(i-10)で表される化合物等が挙げられる。尚、下記式(i-5)中のR'は炭素数1〜8のアルキレン基であり、なかでも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。また、下記式(i-5)、(i-7)、(i-9)、(i-10)中のn1〜n8は、それぞれ1〜30の整数を示す。

Figure 0006796582
Figure 0006796582
Typical examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include (3,4,3', 4'-diepoxy) bicyclohexyl and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether. 1,2-Epoxy-1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) ethane, 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) propane, 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) Examples thereof include 3,4-epoxycyclohexane-1-yl) ethane and compounds represented by the following formulas (i-1) to (i-10). In addition, R'in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and among them, a linear chain having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group and an isopropylene group. Alternatively, a branched alkylene group is preferable. Further, n 1 to n 8 in the following formulas (i-5), (i-7), (i-9), and (i-10) represent integers of 1 to 30, respectively.
Figure 0006796582
Figure 0006796582

上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。

Figure 0006796582
Examples of the compound in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic (2) by a single bond include a compound represented by the following formula (ii).
Figure 0006796582

式(ii)中、R"は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの[ ]内(外側の角括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。In formula (ii), R "is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (-OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the valent alcohol [R "(OH) p ] include polyhydric alcohols such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (alcohols having 1 to 15 carbon atoms) and the like. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in [] (inside the outer square brackets) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxylanyl) cyclohexane adducts of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example. , Product name "EHPE3150" (manufactured by Daicel Corporation), etc.] and the like.

上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパンなどのビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタンなどのビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物を水素化した化合物;下記芳香族エポキシ化合物を水素化した化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having an alicyclic and a glycidyl ether group in the above-mentioned (3) molecule include glycidyl ether of an alicyclic alcohol (particularly, an alicyclic polyhydric alcohol). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy)). Cyclohexyl] A compound obtained by hydrogenating a bisphenol A type epoxy compound such as propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy) 3-Epoxy propoxy) Cyclohexyl] A compound obtained by hydrogenating a bisphenol F type epoxy compound such as methane (hydrogenated bisphenol F type epoxy compound); hydrided biphenol type epoxy compound; hydride hydrogenated phenol novolac type epoxy compound; hydride cresol Novolak type epoxy compound; bisphenol A hydride cresol novolak type epoxy compound; hydrogenated naphthalene type epoxy compound; compound obtained by hydrogenating epoxy compound obtained from trisphenol methane; compound obtained by hydrogenating the following aromatic epoxy compound, etc. Be done.

<芳香族エポキシ化合物>
上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、且つこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。
<Aromatic epoxy compound>
Examples of the aromatic epoxy compound include epibis-type glycidyl ether-type epoxy resins obtained by a condensation reaction between bisphenols [for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, etc.] and epihalohydrin; High molecular weight epibistype glycidyl ether type epoxy resin obtained by further addition reaction of bistype glycidyl ether type epoxy resin with the above bisphenols; phenols [for example, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and aldehydes [for example, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, salicylaldehyde, etc.] and polyhydric alcohols obtained by condensing reaction with epihalohydrin. Alkyl type glycidyl ether type epoxy resin; two phenol skeletons are bonded to the 9-position of the fluorene ring, and glycidyl is attached to the oxygen atom obtained by removing the hydrogen atom from the hydroxy group of these phenol skeletons, either directly or via an alkyleneoxy group. Examples thereof include an epoxy compound to which a group is bonded.

<脂肪族エポキシ化合物>
上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、q価の環状構造を有しないアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。尚、上記q価の環状構造を有しないアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。
<Aliphatic epoxy compound>
Examples of the aliphatic epoxy compound include glycidyl ethers of alcohols having no q-valent cyclic structure (q is a natural number); monovalent or polyvalent carboxylic acids [eg, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, etc. Glycidyl ester of adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.; epoxidized fats and oils having double bonds such as epoxidized flaxseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil; polyolefin such as epoxidized polybutadiene Examples thereof include epoxidized compounds (including alkadiene). Examples of the alcohol having no q-valent cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 , 3-Propanediol, 1,4-Butanediol, Neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, Diethylene glycol, Triethylene glycol, Tetraethylene glycol, Dipropylene glycol, Polyethylene glycol, Polypropylene glycol and other dihydric alcohols; Examples thereof include trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and sorbitol. Further, the q-valent alcohol may be a polyether polyol, a polyester polyol, a polycarbonate polyol, a polyolefin polyol or the like.

(オキセタン化合物)
上記オキセタン化合物としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4'−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル)}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。
(Oxetane compound)
Examples of the oxetane compound include known and commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited, but for example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane and 3-ethyl-3-3. (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3-ethyl (3-ethyl) Oxetane)] methyl} ether, 4,4'-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] bicyclohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1 , 4-Bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3-{[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl)} oxetane, xylylene bisoxetane , 3-Ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsilsesquioxane, phenol novolac oxetane and the like.

(ビニルエーテル化合物)
上記ビニルエーテル化合物としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。
(Vinyl ether compound)
As the vinyl ether compound, a known or commonly used compound having one or more vinyl ether groups in the molecule can be used, and is not particularly limited, but for example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxy. Propyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutylvinyl ether, 2-hydroxyisobutylvinyl ether, 1-methyl-3 -Hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexylvinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8- Octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexane Dimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether, p-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl ether, o-xylene glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, Pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, dipropylene grease Cole divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol di Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanolborne divinyl ether, phenylvinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroquinone divinyl ether, 1,4-butanediol Divinyl Ether, Cyclohexanedimethanol Divinyl Ether, Trimethylol Propane Divinyl Ether, Trimethylol Propane Trivinyl Ether, Bisphenol A Divinyl Ether, Bisphenol F Divinyl Ether, Hydroxyoxanorbornane Methanol Divinyl Ether, 1,4-Cyclohexanediol Divinyl Ether, Pentaerythritol Tri Examples thereof include vinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether and the like.

(ビニルフェニル化合物)
上記ビニルフェニル化合物としては、例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、ヒドロキシスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、酢酸4−ビニルフェニル、(4−ビニルフェニル)ジヒドロキシボラン、4−エテニルフェニルボロン酸、4−ビニルフェニルボラン酸、4−ビニルフェニルボロン酸、p−ビニルフェニルホウ酸、N−(4−ビニルフェニル)マレインイミド等、及びこれらの誘導体等を挙げることができる。
(Vinyl phenyl compound)
Examples of the vinylphenyl compound include styrene, divinylbenzene, methoxystyrene, ethoxystyrene, hydroxystyrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, 4-vinylphenyl acetate, (4-vinylphenyl) dihydroxyborane, and 4-ethenylphenylborone. Acids, 4-vinylphenylboranoic acid, 4-vinylphenylboronic acid, p-vinylphenylboric acid, N- (4-vinylphenyl) maleinimide and the like, and derivatives thereof and the like can be mentioned.

本発明における硬化性組成物における上記重合性化合物の含有量(配合量)は、特に限定されないが、溶媒を除く硬化性組成物の全量(100重量%)に対して、70重量%以上、100重量%未満が好ましく、より好ましくは80〜99.8重量%、さらに好ましくは90〜99.5重量%である。上記重合性化合物の含有量を70重量%以上とすることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。 The content (blending amount) of the polymerizable compound in the curable composition in the present invention is not particularly limited, but is 70% by weight or more, 100% by weight, based on the total amount (100% by weight) of the curable composition excluding the solvent. It is preferably less than% by weight, more preferably 80 to 99.8% by weight, still more preferably 90 to 99.5% by weight. By setting the content of the polymerizable compound to 70% by weight or more, the heat resistance of the cured product tends to be further improved.

また、本発明における硬化性組成物は重合性化合物としてエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンを含有することが、耐熱性、耐クラック性に優れた硬化物を形成することができる点で好ましい。エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンの割合は、硬化性組成物に含まれる重合性化合物全量(100重量%)の70重量%以上(例えば、70〜100重量%)が好ましく、より好ましくは75重量%以上、さらに好ましくは80重量%以上である。 Further, it is preferable that the curable composition in the present invention contains an epoxy-modified polyorganosylsesquioxane as a polymerizable compound in that a cured product having excellent heat resistance and crack resistance can be formed. The proportion of the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is preferably 70% by weight or more (for example, 70 to 100% by weight), more preferably 75% by weight, based on the total amount (100% by weight) of the polymerizable compound contained in the curable composition. % Or more, more preferably 80% by weight or more.

(重合開始剤)
重合開始剤にはカチオン重合開始剤とアニオン重合開始剤が含まれる。前記カチオン重合開始剤は加熱することによってカチオン種を発生して、重合性化合物の硬化反応を開始させる化合物であり、前記アニオン重合開始剤は加熱することによってアニオン種を発生して、重合性化合物の硬化反応を開始させる化合物である。本発明における硬化性組成物が重合開始剤を含有すると、タックフリーとなるまでの硬化時間を短縮することができる。尚、重合開始剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(Polymer initiator)
The polymerization initiator includes a cationic polymerization initiator and an anionic polymerization initiator. The cationic polymerization initiator is a compound that generates a cationic species by heating to initiate a curing reaction of a polymerizable compound, and the anionic polymerization initiator generates an anionic species by heating to initiate a polymerizable compound. It is a compound that initiates the curing reaction of. When the curable composition in the present invention contains a polymerization initiator, the curing time until it becomes tack-free can be shortened. The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、加熱乾燥により硬化反応を進行させること無く速やかに接着剤層を形成することができ、また、50℃未満では接着性を有さず、被接着体へのダメージを抑制可能な温度で加熱することにより接着性を発現し、その後、速やかにタックフリーとなるまで硬化する特性を有する接着剤層が得られる点で、下記硬化特性を有する重合開始剤を使用することが好ましい。 In the present invention, the adhesive layer can be formed quickly without advancing the curing reaction by heating and drying, and the adhesive layer does not have adhesiveness below 50 ° C., and damage to the adherend can be suppressed. It is preferable to use a polymerization initiator having the following curing characteristics in that an adhesive layer having the property of exhibiting adhesiveness by heating at a temperature and then rapidly curing until it becomes tack-free can be obtained.

すなわち、カチオン重合開始剤の場合は、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート[例えば、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)]100重量部に対してカチオン重合開始剤を1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間が3.5分以上(例えば3.5〜7.0分、好ましくは4.5〜6.0分)である重合開始剤を使用することが好ましい。 That is, in the case of a cationic polymerization initiator, with respect to 100 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate [for example, trade name "Ceroxide 2021P" (manufactured by Daicel Co., Ltd.)]. The thermosetting time of the composition obtained by adding 1 part by weight of the cationic polymerization initiator at 130 ° C. is 3.5 minutes or more (for example, 3.5 to 7.0 minutes, preferably 4.5 to 6.0 minutes). It is preferable to use a polymerization initiator which is.

また、アニオン重合開始剤の場合は、ビスフェノールAジグリシジルエーテル100重量部に対してアニオン重合開始剤を1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間が3.5分以上である重合開始剤を使用することが好ましい。 In the case of an anionic polymerization initiator, the thermosetting time of the composition obtained by adding 1 part by weight of the anionic polymerization initiator to 100 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether at 130 ° C. is 3.5 minutes or more. It is preferable to use a certain polymerization initiator.

尚、本発明における熱硬化時間とは、JIS K5909(1994年)に準拠した方法で求めた、前記組成物を熱板上で熱してゴム状になるまで(より具体的には、硬化が進み、針先に糸状について上がらなくなるまで)の時間である。熱硬化時間が上記範囲を下回る重合開始剤を使用すると、加熱乾燥する際にカチオン重合開始剤を使用した場合はカチオン種、アニオン重合開始剤を使用した場合はアニオン種が発生し、それ以降室温でも徐々に重合が進行するため、保存安定性を有する接着剤層の形成が困難となる。 The thermosetting time in the present invention is determined by a method based on JIS K5909 (1994) until the composition is heated on a hot plate to become rubbery (more specifically, curing proceeds). , Until the thread does not rise to the needle tip). When a polymerization initiator whose thermosetting time is less than the above range is used, cation seeds are generated when a cationic polymerization initiator is used during heating and drying, and anionic species are generated when an anionic polymerization initiator is used, and thereafter at room temperature. However, since the polymerization gradually proceeds, it becomes difficult to form an adhesive layer having storage stability.

上記カチオン重合開始剤は、熱を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。カチオン重合開始剤としては、例えば、アリールスルホニウム塩、アリールヨードニウム塩、アレン−イオン錯体、第4級アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が挙げられる。本発明においては、なかでも、硬化速度の点でアリールスルホニウム塩が好ましい。 The cationic polymerization initiator comprises a cation portion that absorbs heat and an anion portion that is a source of acid. Examples of the cationic polymerization initiator include aryl sulfonium salts, aryl iodonium salts, allen-ion complexes, quaternary ammonium salts, aluminum chelates, boron trifluoride amine complexes and the like. In the present invention, the aryl sulfonium salt is particularly preferable in terms of curing rate.

アリールスルホニウム塩におけるカチオン部としては、例えば、(4−ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウムイオン、トリフェニルスルホニウムイオン、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムイオン、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウムイオン、トリ−p−トリルスルホニウムイオン等のアリールスルホニウムイオン(特に、トリアリールスルホニウムイオン)を挙げることができる。 Examples of the cation portion in the aryl sulfonium salt include (4-hydroxyphenyl) methylbenzyl sulfonium ion, triphenyl sulfonium ion, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium ion, 4- (4-biphenylylthio) phenyl-. Examples thereof include aryl sulfonium ions such as 4-biphenylyl phenyl sulfonium ion and tri-p-tolyl sulfonium ion (particularly, triaryl sulfonium ion).

アリールスルホニウム塩におけるアニオン部としては、例えば、SbF6 -、PF6 -、BF4 -、(CF3CF23PF3 -、(CF3CF2CF23PF3 -、(C654-、(C654Ga-、スルホン酸アニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロエタンスルホン酸アニオン、ノナフルオロブタンスルホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、p−トルエンスルホン酸アニオン等)、(CF3SO23-、(CF3SO22-、過ハロゲン酸イオン、ハロゲン化スルホン酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオン、アルミン酸イオン、ヘキサフルオロビスマス酸イオン、カルボン酸イオン、アリールホウ酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。The anionic portion of the arylsulfonium salts, for example, SbF 6 -, PF 6 - , BF 4 -, (CF 3 CF 2) 3 PF 3 -, (CF 3 CF 2 CF 2) 3 PF 3 -, (C 6 F 5) 4 B -, ( C 6 F 5) 4 Ga -, a sulfonate anion (trifluoromethanesulfonic acid anion, pentafluoroethanesulfonate anion, nonafluorobutanesulfonic acid anion, methanesulfonic acid anion, benzenesulfonic acid anion , p- toluenesulfonate anion, etc.), (CF 3 SO 2) 3 C -, (CF 3 SO 2) 2 N -, perhalogenated acid ion, halide sulfonate ion, sulfate ion, carbonate ion, aluminate ion , Hexafluorobismasic acid ion, carboxylic acid ion, arylborate ion, thiocyanate ion, nitrate ion and the like.

上記カチオン重合開始剤としては、例えば、商品名「SP−66」、「SP−77」(以上、(株)ADEKA製);商品名「サンエイドSI−60L」、「サンエイドSI−80L」、「サンエイドSI−100L」、「サンエイドSI−150L」(以上、三新化学工業(株)製)等の市販品を使用することができる。 Examples of the cationic polymerization initiator include trade names "SP-66" and "SP-77" (all manufactured by ADEKA Corporation); trade names "Sun Aid SI-60L", "Sun Aid SI-80L", and "Sun Aid SI-80L". Commercially available products such as "Sun Aid SI-100L" and "Sun Aid SI-150L" (all manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) can be used.

アニオン重合開始剤としては、例えば、第1級アミン、第2級アミン、第3級アミン、イミダゾール類、三フッ化ホウ素−アミン錯体等を挙げることができる。前記イミダゾール類には、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]エチル−s−トリアジン、2−フェニルイミダゾリン、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール等が含まれる。また、前記第3級アミンには、例えば、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ベンジルジメチルアミン、DBU(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7)等が含まれる。 Examples of the anionic polymerization initiator include primary amines, secondary amines, tertiary amines, imidazoles, boron trifluoride-amine complexes and the like. Examples of the imidazoles include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, and 2,4-diamino-6- [2-]. Methylimidazolyl- (1)] ethyl-s-triazine, 2-phenylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl- 2-Undecylimidazole and the like are included. In addition, the tertiary amine includes, for example, tris (dimethylaminomethyl) phenol, benzyldimethylamine, DBU (1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7) and the like.

本発明においては、カチオン重合開始剤(特に好ましくは熱カチオン重合開始剤、最も好ましくはアリールスルホニウム塩)を使用することが、硬化速度の点で好ましい。 In the present invention, it is preferable to use a cationic polymerization initiator (particularly preferably a thermal cationic polymerization initiator, most preferably an aryl sulfonium salt) in terms of curing rate.

上記重合開始剤の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明における硬化性組成物に含まれる重合性化合物100重量部に対して、0.01〜3.0重量部が好ましく、より好ましくは0.05〜2.0重量部、さらに好ましくは0.1〜1.0重量部、とりわけ好ましくは0.3〜0.8重量部である。重合開始剤の含有量を0.01重量部以上とすることにより、硬化反応を効率的に進行させることができ、硬化物の耐熱性、接着性がより向上する傾向がある。一方、重合開始剤の含有量を3.0重量部以下とすることにより、硬化性組成物の保存性が一層向上したり、硬化物の着色が抑制される傾向がある。 The content (blending amount) of the above-mentioned polymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 3.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound contained in the curable composition in the present invention. It is more preferably 0.05 to 2.0 parts by weight, further preferably 0.1 to 1.0 parts by weight, and particularly preferably 0.3 to 0.8 parts by weight. By setting the content of the polymerization initiator to 0.01 parts by weight or more, the curing reaction can proceed efficiently, and the heat resistance and adhesiveness of the cured product tend to be further improved. On the other hand, when the content of the polymerization initiator is 3.0 parts by weight or less, the storage stability of the curable composition tends to be further improved, and the coloring of the cured product tends to be suppressed.

(重合安定剤)
重合安定剤は、カチオンをトラップすることによりカチオン重合の進行を抑制する化合物である。重合安定剤によるカチオンのトラップ能は、加熱により飽和して失われる。本発明における硬化性組成物がカチオン重合開始剤を含有する場合、カチオン重合開始剤と共に重合安定剤を含有することが、塗布・乾燥して接着剤層を形成した後、長期に亘って重合の進行を抑制することができ、接着性が求められるタイミングで加熱することで優れた接着性を発現することができる、保存安定性に優れた接着剤層を形成することができる点で好ましい。
(Polymerization stabilizer)
The polymerization stabilizer is a compound that suppresses the progress of cation polymerization by trapping cations. The ability of the polymerization stabilizer to trap cations is saturated and lost by heating. When the curable composition in the present invention contains a cationic polymerization initiator, it is possible to contain a polymerization stabilizer together with the cationic polymerization initiator for long-term polymerization after coating and drying to form an adhesive layer. It is preferable in that it is possible to form an adhesive layer having excellent storage stability, which can suppress the progress and can exhibit excellent adhesiveness by heating at a timing when adhesiveness is required.

前記重合安定剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ポリ([6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ])、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブタン−1,2,3,4−テトラカルボキシレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルベンゾエート、(ミックスト2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル/トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、3,9−ビス(2,3−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、ミックスト(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル/β,β,β’,β’−テトラメチル−3−9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン]ジエチル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ([6−N−モルホリル−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ])、[N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]プロピオンアミド、商品名「LA−77」、「LA−67」、「LA−57」(以上、ADEKA製)、商品名「TINUVIN123」、「TINUVIN152」(以上、チバ・ジャパン(株)製)等のヒンダードアミン系化合物や、(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムメチルサルファイト(サンエイドSI助剤、三新化学工業(株)製)等のスルホニウム硫酸塩系化合物、商品名「PEP−36」((株)ADEKA製)等のホスファイト系化合物等を挙げることができる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 Examples of the polymerization stabilizer include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate and poly ([6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1, 3,5-Triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] Hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) Imino]), tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidi Nylbenzoate, (mixed 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl / tridecyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 3,9-bis (2,3-di-t) -Butyl-4-methylphenoxy) -2,4,8,10-Tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, mixed (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl / β , Β, β', β'-tetramethyl-3-9- [2,4,5,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane] diethyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate , Poly ([6-N-morpholyl-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2) , 6,6-Tetramethyl-4-piperidyl) imino]), [N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -2-methyl-2- (2,2,6,6) -Tetramethyl-4-piperidyl) imino] Propionamide, trade names "LA-77", "LA-67", "LA-57" (above, manufactured by ADEKA), trade names "TINUVIN123", "TINUVIN152" (above) , Hindered amine compounds such as Ciba Japan Co., Ltd., and sulfonium sulfate compounds such as (4-hydroxyphenyl) dimethylsulfonium methylsulfite (Sun Aid SI aid, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), Examples thereof include phosphite compounds such as the trade name "PEP-36" (manufactured by ADEKA Co., Ltd.). These can be used alone or in combination of two or more.

重合安定剤の使用量は、カチオン重合開始剤100重量部に対して、例えば1重量部以上、好ましくは3〜20重量部、特に好ましくは5〜15重量部である。 The amount of the polymerization stabilizer used is, for example, 1 part by weight or more, preferably 3 to 20 parts by weight, particularly preferably 5 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cationic polymerization initiator.

本発明における硬化性組成物は、さらに、必要に応じて、沈降シリカ、湿式シリカ、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、酸化チタン、アルミナ、ガラス、石英、アルミノケイ酸、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、カーボンブラック、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の無機質充填剤、これらの充填剤をオルガノハロシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノシラザン等の有機ケイ素化合物により処理した無機質充填剤;シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等の有機樹脂微粉末;銀、銅等の導電性金属粉末等の充填剤、硬化助剤、溶剤(有機溶剤等)、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤、重金属不活性化剤など)、難燃剤(リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤など)、難燃助剤、補強材(他の充填剤など)、核剤、カップリング剤(シランカップリング剤等)、滑剤、ワックス、可塑剤、離型剤、耐衝撃改良剤、色相改良剤、透明化剤、レオロジー調整剤(流動性改良剤など)、加工性改良剤、着色剤(染料、顔料など)、帯電防止剤、分散剤、表面調整剤(レベリング剤、ワキ防止剤など)、表面改質剤(スリップ剤など)、艶消し剤、消泡剤、抑泡剤、脱泡剤、発泡剤、抗菌剤、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤などの慣用の添加剤を1種又は2種以上含んでいてもよい。 Further, the curable composition in the present invention further comprises precipitated silica, wet silica, fumed silica, fired silica, titanium oxide, alumina, glass, quartz, aluminosilicate, iron oxide, zinc oxide, calcium carbonate, as required. Inorganic fillers such as carbon black, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, etc., inorganic fillers obtained by treating these fillers with organic silicon compounds such as organohalosilane, organoalkoxysilane, and organosilazane; silicone resin, epoxy resin, Fine powder of organic resin such as fluororesin; filler such as conductive metal powder such as silver and copper, curing aid, solvent (organic solvent, etc.), stabilizer (antioxidant, ultraviolet absorber, light resistance stabilizer, Heat stabilizers, heavy metal defoamers, etc.), flame retardants (phosphorus flame retardants, halogen flame retardants, inorganic flame retardants, etc.), flame retardants, reinforcing materials (other fillers, etc.), nuclear agents , Coupling agent (silane coupling agent, etc.), Lubricants, wax, plasticizer, mold release agent, impact resistance improver, hue improver, clearing agent, rheology adjuster (fluidity improver, etc.), processability improvement Agents, colorants (dye, pigment, etc.), antistatic agents, dispersants, surface conditioners (leveling agents, armpit inhibitors, etc.), surface modifiers (slip agents, etc.), matting agents, defoamers, suppressors It may contain one or more conventional additives such as foaming agents, defoaming agents, foaming agents, antibacterial agents, preservatives, viscosity modifiers and thickeners.

本発明における硬化性組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を室温で又は必要に応じて加熱しながら攪拌・混合することにより調製することができる。尚、本発明における硬化性組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。 The curable composition in the present invention is not particularly limited, but can be prepared by stirring and mixing each of the above components at room temperature or, if necessary, while heating. The curable composition in the present invention can be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance and used as it is. For example, two or more components stored separately can be used. Can also be used as a multi-component (for example, two-component) composition which is used by mixing in a predetermined ratio before use.

本発明における硬化性組成物は、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。スピンコートにて塗布を行う場合、硬化性組成物の粘度は塗布膜厚に応じて調整することが好ましく、0.1〜50μmの膜厚で塗布する場合には、1〜5000mPa・sとすることが好ましい。この粘度において、例えばシリコンウェハなどの基板に均一な膜厚を有する塗膜を形成することができる。尚、硬化性組成物の粘度は、粘度計(商品名「MCR301」、アントンパール社製)を用いて、振り角5%、周波数0.1〜100(1/s)、温度:25℃の条件で測定される。 The curable composition in the present invention is not particularly limited, but is preferably a liquid at room temperature (about 25 ° C.). When coating by spin coating, the viscosity of the curable composition is preferably adjusted according to the coating film thickness, and when coating with a film thickness of 0.1 to 50 μm, it is 1 to 5000 mPa · s. Is preferable. At this viscosity, a coating film having a uniform film thickness can be formed on a substrate such as a silicon wafer. The viscosity of the curable composition was determined by using a viscometer (trade name "MCR301", manufactured by Anton Pearl Co., Ltd.) at a swing angle of 5%, a frequency of 0.1 to 100 (1 / s), and a temperature of 25 ° C. Measured under conditions.

[硬化物]
本発明の硬化物は、上記硬化性組成物に硬化温度を段階的に変化させる加熱処理を施して得られる硬化物であって、1段階目の加熱処理終了時の硬化度を85%以下(例えば50〜85%、特に好ましくは55〜85%、更に好ましくは60〜80%)とし、2段階目以降の加熱処理によって硬化度を85%超(好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上。尚、硬化度の上限は100%である)とする加熱処理により得られる硬化物である。尚、1段階目の加熱処理終了時の硬化度は、1段階目の加熱処理終了時のサンプルの発熱量、及び加熱処理を施す前のサンプルの発熱量をDSCにより測定し、以下の式から算出できる。
硬化度(%)=[1−(1段階目の加熱処理終了時の発熱量/加熱処理を施す前の発熱量)]×100
[Cured product]
The cured product of the present invention is a cured product obtained by subjecting the curable composition to a heat treatment in which the curing temperature is changed stepwise, and the degree of curing at the end of the first stage heat treatment is 85% or less ( For example, it is set to 50 to 85%, particularly preferably 55 to 85%, further preferably 60 to 80%), and the degree of curing is increased to more than 85% (preferably 90% or more, particularly preferably 95%) by the second and subsequent heat treatments. It should be noted that the upper limit of the degree of curing is 100%), which is a cured product obtained by the heat treatment. The degree of curing at the end of the first stage heat treatment is determined by measuring the calorific value of the sample at the end of the first stage heat treatment and the calorific value of the sample before the heat treatment by DSC, and using the following formula. Can be calculated.
Curing degree (%) = [1- (calorific value at the end of the first stage heat treatment / calorific value before heat treatment)] x 100

すなわち、本発明の硬化物の製造方法は、重合性基を有する化合物を含有する硬化性組成物に、硬化温度を段階的に変化させる加熱処理を施して硬化物を製造する方法であって、1段階目の加熱処理終了時の硬化度を85%以下(例えば50〜85%、特に好ましくは55〜85%、更に好ましくは60〜80%)とし、2段階目以降の加熱処理によって硬化度を85%超(好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上。尚、硬化度の上限は100%である)とすることを特徴とする。1段階目の加熱処理終了時の硬化度を85%以下に制御することによって、応力緩和しやすい構造体を形成することができ、最終的に得られる硬化物の耐クラック性が向上すると考えられる。 That is, the method for producing a cured product of the present invention is a method for producing a cured product by subjecting a curable composition containing a compound having a polymerizable group to a heat treatment for gradually changing the curing temperature. The degree of curing at the end of the first stage heat treatment is set to 85% or less (for example, 50 to 85%, particularly preferably 55 to 85%, more preferably 60 to 80%), and the degree of curing is achieved by the second and subsequent stages of heat treatment. Is more than 85% (preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more, and the upper limit of the degree of curing is 100%). By controlling the degree of curing at the end of the first stage heat treatment to 85% or less, it is possible to form a structure that facilitates stress relaxation, and it is considered that the crack resistance of the finally obtained cured product is improved. ..

硬化度は加熱温度、及び加熱時間を調整することで制御できる。本発明においては、硬化度が50〜85%(好ましくは55〜85%、更に好ましくは60〜80%)に達するまでは、ある程度時間をかけてゆっくりと硬化させることが、より一層優れた耐クラック性を有する硬化物を得ることができる点で好ましく、1段階目の加熱処理を、例えば5分以上(好ましくは5〜120分、特に好ましくは10〜60分、最も好ましくは30〜60分)かけて行うことが好ましい。 The degree of curing can be controlled by adjusting the heating temperature and the heating time. In the present invention, it is further excellent to cure slowly over a certain period of time until the degree of curing reaches 50 to 85% (preferably 55 to 85%, more preferably 60 to 80%). It is preferable in that a cured product having cracking property can be obtained, and the first step heat treatment is carried out for, for example, 5 minutes or more (preferably 5 to 120 minutes, particularly preferably 10 to 60 minutes, most preferably 30 to 60 minutes. ) Is preferable.

1段階目の加熱処理における加熱温度は、5分以上加熱処理を行っても、1段階目の加熱処理終了時の硬化度が85%を超えない温度であればよく、硬化性組成物が重合性化合物としてエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する場合は、例えば90℃以上、150℃未満、好ましくは100〜140℃、特に好ましくは110〜140℃である。1段階目の加熱処理を上記範囲の温度で行うと、耐クラック性に優れた硬化物を良好な作業性で製造することができる。一方、1段階目の加熱処理を、150℃を超える温度で行うと、ゆっくりと硬化させることができず、得られる硬化物の耐クラック性が低下する傾向がある。また、硬化が早く進行しすぎるため、硬化度が85%以下の段階で1段階目の加熱処理を終了することが困難となる傾向がある。1段階目の加熱処理を、90℃未満の温度で行うと、硬化に時間がかかりすぎ、作業性が低下する傾向がある。 The heating temperature in the first-stage heat treatment may be such that the degree of curing at the end of the first-stage heat treatment does not exceed 85% even if the heat treatment is performed for 5 minutes or more, and the curable composition is polymerized. When the epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is contained as the sex compound, it is, for example, 90 ° C. or higher and lower than 150 ° C., preferably 100 to 140 ° C., particularly preferably 110 to 140 ° C. When the first-stage heat treatment is performed at a temperature in the above range, a cured product having excellent crack resistance can be produced with good workability. On the other hand, if the first-stage heat treatment is performed at a temperature exceeding 150 ° C., it cannot be cured slowly, and the crack resistance of the obtained cured product tends to decrease. Further, since the curing proceeds too quickly, it tends to be difficult to complete the first stage heat treatment when the degree of curing is 85% or less. If the first-stage heat treatment is performed at a temperature of less than 90 ° C., it takes too much time to cure and the workability tends to decrease.

2段階目以降の加熱処理における加熱温度は、例えば150〜200℃、好ましくは160〜190℃、特に好ましくは160〜180℃である。加熱時間は、例えば5〜120分、好ましくは10〜60分である。2段階目以降の加熱処理温度が150℃を下回ると、得られる硬化物の硬化度を100%にまで高めることが困難となり、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性が低下する傾向がある。また、たとえ硬化度を100%近くまで高めることができても、硬化に時間がかかりすぎ、作業性が低下するため好ましくない。一方、2段階目以降の加熱処理温度が200℃を上回ると、被接着体が熱により劣化する場合がある。 The heating temperature in the second and subsequent heat treatments is, for example, 150 to 200 ° C., preferably 160 to 190 ° C., particularly preferably 160 to 180 ° C. The heating time is, for example, 5 to 120 minutes, preferably 10 to 60 minutes. When the heat treatment temperature of the second and subsequent steps is lower than 150 ° C., it becomes difficult to increase the degree of curing of the obtained cured product to 100%, and heat resistance, crack resistance, adhesiveness to the adherend and adhesion to the adherend are deteriorated. Tends to decline. Further, even if the degree of curing can be increased to nearly 100%, it takes too much time to cure and the workability is lowered, which is not preferable. On the other hand, if the heat treatment temperature in the second and subsequent stages exceeds 200 ° C., the adherend may be deteriorated by heat.

尚、各段階における加熱処理は、上記範囲内において温度を段階的に変更しつつ行ってもよく、上記範囲内の特定の温度に固定して加熱処理を行ってもよい。また、本発明の加熱処理は2段階以上であればよく、2段階でも、3段階以上の多段階でもよい。 The heat treatment at each stage may be performed while changing the temperature stepwise within the above range, or may be fixed at a specific temperature within the above range and the heat treatment may be performed. Further, the heat treatment of the present invention may be performed in two or more stages, and may be in two stages or in multiple stages of three or more stages.

また、1段階目と2段階目の加熱処理にかける時間の合計(3段階目以降も行う場合は、3段階目以降の加熱処理に要する時間も合計する)は、例えば0.5〜2時間程度、好ましくは0.75〜1.5時間である。 In addition, the total time required for the first and second stages of heat treatment (if the third and subsequent stages are also performed, the time required for the third and subsequent stages of heat treatment is also totaled) is, for example, 0.5 to 2 hours. The degree, preferably 0.75 to 1.5 hours.

上記製造方法で得られる本発明の硬化物は耐クラック性に優れ、冷熱衝撃を付与してもクラックの発生が抑制される。 The cured product of the present invention obtained by the above production method has excellent crack resistance, and crack generation is suppressed even when a cold shock is applied.

また、上記製造方法で得られる本発明の硬化物は耐熱性に優れ、熱分解温度は、例えば200℃以上(例えば200〜500℃)、好ましくは260℃以上である。尚、熱分解温度は実施例に記載の方法で求められる。 The cured product of the present invention obtained by the above production method has excellent heat resistance, and the thermal decomposition temperature is, for example, 200 ° C. or higher (for example, 200 to 500 ° C.), preferably 260 ° C. or higher. The thermal decomposition temperature is determined by the method described in Examples.

本発明の硬化物の形状は、用途に応じて適宜調整することができ特に制限されないが、例えば、シート状、フィルム状、テープ状、板状等が挙げられる。硬化物の厚みについても特に制限されることが無い。 The shape of the cured product of the present invention can be appropriately adjusted according to the intended use and is not particularly limited, and examples thereof include a sheet shape, a film shape, a tape shape, and a plate shape. The thickness of the cured product is not particularly limited.

本発明の硬化物は、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する優れた接着性及び密着性を有する。そのため、本発明における硬化性組成物を接着剤、特に熱硬化性接着剤として使用した場合、それを硬化させることにより得られる本発明の硬化物は、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する接着性及び密着性に優れた接着材となり、所望の被接着体同士を接着する用途に使用することができる。 The cured product of the present invention has heat resistance, crack resistance, and excellent adhesiveness and adhesion to an adherend. Therefore, when the curable composition of the present invention is used as an adhesive, particularly a thermosetting adhesive, the cured product of the present invention obtained by curing the adhesive has heat resistance, crack resistance, and adherence. It becomes an adhesive material having excellent adhesiveness and adhesiveness, and can be used for bonding desired objects to be adhered to each other.

[積層物]
本発明の積層物は、3層以上で構成される積層物であって、2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、前記接着層が、上記硬化物の層であることを特徴とする。
[Laminate]
The laminate of the present invention is a laminate composed of three or more layers, and has two layers to be adhered and an adhesive layer between the layers to be adhered, and the adhesive layer is the cured product. It is characterized by being a layer of.

本発明の積層物は、特に限定されないが、例えば、一方の被接着層に本発明における硬化性組成物を塗布し、さらに、必要に応じて乾燥させることによって接着剤層を形成し、若しくは一方の被接着層に、予め本発明における硬化性組成物を剥離紙等の表面に塗布し、さらに、必要に応じて乾燥させることによって得られた接着剤層を貼り合わせ、続いて、当該接着剤層に対して他方の被接着層を貼り合わせ、その後、上述の通りの加熱処理を施して前記接着剤層を硬化させることによって得ることができる。但し、本発明の積層物の製造方法は、上記方法に限定されない。 The laminate of the present invention is not particularly limited, but for example, one of the layers to be adhered is coated with the curable composition of the present invention and, if necessary, dried to form an adhesive layer, or one of them. The curable composition of the present invention is applied to the surface of a release paper or the like in advance, and an adhesive layer obtained by drying the adhesive layer is attached to the layer to be adhered. It can be obtained by adhering the other layer to be adhered to the layer and then performing the heat treatment as described above to cure the adhesive layer. However, the method for producing a laminate of the present invention is not limited to the above method.

硬化性組成物の塗布の方法は特に限定されず、周知慣用の手段を利用することができる。また、乾燥の手段や条件も特に限定されず、溶媒等の揮発分をできるだけ除去できる条件を適宜設定することができ、周知慣用の手段を用いることができる。特に、硬化性組成物が、セロキサイド2021P((株)ダイセル製)100重量部に対して1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間が3.5分以上である重合開始剤を含有する場合は、加熱乾燥により、硬化反応の進行を抑制しつつ、速やかに溶媒等の揮発分を除去することができ、作業性に優れる。また、得られる接着剤層は、50℃未満では接着性を有さず、被接着体へのダメージを抑制可能な温度で加熱することにより接着性を発現する。 The method of applying the curable composition is not particularly limited, and well-known and commonly used means can be used. Further, the drying means and conditions are not particularly limited, and conditions that can remove volatile substances such as a solvent as much as possible can be appropriately set, and well-known and commonly used means can be used. In particular, the polymerization initiation of the composition obtained by adding 1 part by weight of the curable composition to 100 parts by weight of Celoxide 2021P (manufactured by Daicel Co., Ltd.) at 130 ° C. for a thermosetting time of 3.5 minutes or more. When the agent is contained, volatile components such as a solvent can be quickly removed by heating and drying while suppressing the progress of the curing reaction, and the workability is excellent. Further, the obtained adhesive layer does not have adhesiveness below 50 ° C., and exhibits adhesiveness by heating at a temperature at which damage to the adherend can be suppressed.

本発明の積層物における被接着層を形成する被接着体は特に限定されず、例えば、プラスチック基材、金属基材、セラミックス基材、半導体基材(半導体チップ、半導体ウェハ等を含む)、ガラス基材、紙基材、木基材、表面が塗装表面である基材等が挙げられる。尚、本発明の積層物は、被接着層を2層のみ有するものであってもよいし、3層以上有するものであってもよい。また、被接着層の厚みは特に限定されず、例えば、1〜100000μmの範囲で適宜選択できる。被接着層は、厳密な層状の形態を有していなくてもよい。 The adherend forming the adhered layer in the laminate of the present invention is not particularly limited, and for example, a plastic substrate, a metal substrate, a ceramic substrate, a semiconductor substrate (including a semiconductor chip, a semiconductor wafer, etc.), and glass. Examples thereof include a base material, a paper base material, a wood base material, and a base material whose surface is a painted surface. The laminate of the present invention may have only two layers to be adhered, or may have three or more layers. The thickness of the layer to be adhered is not particularly limited, and can be appropriately selected in the range of, for example, 1 to 100,000 μm. The layer to be adhered does not have to have a strict layered form.

本発明の積層物は、接着層を1層のみ有するものであってもよいし、2層以上有するものであってもよい。また、接着層の厚みは、特に限定されず、例えば、0.1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。 The laminate of the present invention may have only one adhesive layer, or may have two or more layers. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited and can be appropriately selected in the range of 0.1 to 10000 μm, for example.

本発明の積層物は、上記被接着層と接着層以外にも、その他の層(例えば、中間層、下塗り層、その他の接着層等)を有するものであってもよい。 The laminate of the present invention may have other layers (for example, an intermediate layer, an undercoat layer, another adhesive layer, etc.) in addition to the above-mentioned layer to be adhered and the adhesive layer.

本発明の積層物は、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた接着層により被接着体が接着された構成を有する。そのため、本発明の積層物は、接着層にクラックや剥離が生じることにより被接着体が剥離したり、配線が破壊されたりすることを防止することができ、積層物を備えた装置の信頼性を向上することができる。そして、本発明の積層物が半導体チップの三次元積層体である場合は、従来の半導体よりも高集積、省電力であるため、本発明の積層物を使用すれば、より小型で高性能な電子機器を提供することができる。 The laminate of the present invention has a structure in which the adherend is adhered by an adhesive layer having excellent heat resistance, crack resistance, adhesiveness to the adherend, and adhesion. Therefore, the laminate of the present invention can prevent the adherend from peeling or the wiring from being broken due to cracks or peeling in the adhesive layer, and the reliability of the device including the laminate can be prevented. Can be improved. When the laminate of the present invention is a three-dimensional laminate of semiconductor chips, it has higher integration and power saving than the conventional semiconductor. Therefore, if the laminate of the present invention is used, it is smaller and has higher performance. Electronic devices can be provided.

本発明の積層物としては、例えば、マイクロプロセッサ、半導体メモリ、電源用IC、通信用IC、半導体センサー、MEMS、及びこれらを組み合わせた半導体等を挙げることができる。これらは高性能なサーバー、ワークステーション、車載用コンピュータ、パーソナルコンピュータ、通信機器、撮影機器、画像表示装置等において使用される。 Examples of the laminate of the present invention include a microprocessor, a semiconductor memory, a power supply IC, a communication IC, a semiconductor sensor, a MEMS, and a semiconductor combining these. These are used in high-performance servers, workstations, in-vehicle computers, personal computers, communication devices, photographing devices, image display devices, and the like.

従って、前記積層物を有する(若しくは、積層物を備えた)本発明の装置としては、例えば、サーバー、ワークステーション、車載用コンピュータ、パーソナルコンピュータ、通信機器、撮影機器、画像表示装置等を挙げることができる。 Therefore, examples of the apparatus of the present invention having (or having the laminate) the laminate include a server, a workstation, an in-vehicle computer, a personal computer, a communication device, a photographing device, an image display device, and the like. Can be done.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
尚、生成物の数平均分子量、及び分子量分散度は、下記条件下でのGPC分析により求めた。
Alliance HPLCシステム 2695(Waters製)
Refractive Index Detector 2414(Waters製)
カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)
ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)
カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)
溶媒:THF
測定条件:40℃
分子量:標準ポリスチレン換算
生成物におけるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]の測定は、JEOL ECA500(500MHz)による29Si−NMRスペクトル測定により行った。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
The number average molecular weight and the molecular weight dispersion of the product were determined by GPC analysis under the following conditions.
Alliance HPLC System 2695 (manufactured by Waters)
Refractometer Index Director 2414 (manufactured by Waters)
Column: Tskgel GMH HR- M x 2 (manufactured by Tosoh Corporation)
Guard column: Tskgel guard column H HR L (Tosoh Co., Ltd.)
Column oven: COLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai)
Solvent: THF
Measurement conditions: 40 ° C
Molecular weight: Standard polystyrene conversion The ratio of T2 to T3 [T3 / T2] in the product was measured by 29 Si-NMR spectrum measurement by JEOL ECA500 (500 MHz).

調製例1
(エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンの調製)
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300mLのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン161.5mmol(39.79g)、フェニルトリメトキシシラン9mmol(1.69g)、及びアセトン165.9gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、水1700mmol(30.60g)を20分かけて滴下した後、5%炭酸カリウム水溶液4.70g(炭酸カリウムとして1.7mmol)を5分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
重縮合反応後の反応溶液中の生成物を分析したところ、数平均分子量は1900であり、分子量分散度は1.5であった。上記生成物の29Si−NMRスペクトルから算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は10.3であった。
その後、メチルイソブチルケトンおよび食塩水を添加し、加熱攪拌を行った後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、40℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去し、無色透明の液状の生成物(エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサン)を得た。
Preparation Example 1
(Preparation of epoxy-modified polyorganosylsesquioxane)
2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane 161.5 mmol (39.) in a 300 mL flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, stirrer, reflux condenser, and nitrogen introduction tube under a nitrogen stream. 79 g), 9 mmol (1.69 g) of phenyltrimethoxysilane, and 165.9 g of acetone were charged and the temperature was raised to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 1700 mmol (30.60 g) of water was added dropwise over 20 minutes, and then 4.70 g (1.7 mmol as potassium carbonate) of a 5% potassium carbonate aqueous solution was added dropwise over 5 minutes. No significant temperature rise occurred during the dropping. Then, the polycondensation reaction was carried out under a nitrogen stream for 4 hours at 50 ° C.
When the product in the reaction solution after the polycondensation reaction was analyzed, the number average molecular weight was 1900 and the molecular weight dispersion was 1.5. The ratio of T2 to T3 [T3 / T2] calculated from the 29 Si-NMR spectrum of the product was 10.3.
Then, methyl isobutyl ketone and saline solution are added, and after heating and stirring, the reaction solution is cooled, washed with water until the lower layer liquid becomes neutral, the upper layer liquid is separated, and then 1 mmHg, 40 ° C. Under the conditions, the solvent was distilled off from the upper layer solution until the amount of the solvent became 25% by weight to obtain a colorless and transparent liquid product (epoxy-modified polyorganosylsesquioxane).

(硬化性組成物の調製)
得られたエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサン100重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート50重量部、アンチモン系スルホニウム塩(商品名「SI−150L」、三新化学工業(株)製、セロキサイド2021P((株)ダイセル製)100重量部に対して1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間:5.4分)0.45重量部(固形分換算)、(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムメチルサルファイト(商品名「サンエイドSI助剤」、三新化学工業(株)製)0.05重量部を混合して、硬化性組成物を得た。
(Preparation of curable composition)
100 parts by weight of the obtained epoxy-modified polyorganosylsesquioxane, 50 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate, antimony sulfonium salt (trade name "SI-150L", manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., seroxide 2021P ((( (Manufactured by Daicel Co., Ltd.) 1 part by weight added to 100 parts by weight, thermosetting time at 130 ° C.: 0.45 parts by weight (solid content equivalent), (4-hydroxyphenyl) ) Dimethylsulfonium methylsulfite (trade name "Sun Aid SI Auxiliary", manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) was mixed by 0.05 parts by weight to obtain a curable composition.

実施例1
シリコン板(サイズ:2cm×5cm、(株)SUMCO製、直径100mmのシリコンウエハをダイシングして得た)にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製、以後「KBE403」と称する場合がある)をスピンコートで塗布し、120℃で5分加熱して、シランカップリング剤層付きシリコン板を得た。
シランカップリング剤層付きシリコン板のシランカップリング剤層表面に調製例1で得られた硬化性組成物をスピンコートで塗布し、80℃で4分、次いで100℃で2分加熱して残留する溶剤を除去して、接着剤層付きシリコン板[接着剤層/シランカップリング剤層/シリコン板]を得た。接着剤層の膜厚は5〜6μmであった。
Example 1
Silane coupling agent (trade name "KBE403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., hereinafter "KBE403") on a silicon plate (size: 2 cm x 5 cm, manufactured by SUMCO Corporation, obtained by dicing a silicon wafer with a diameter of 100 mm) (Sometimes referred to as)) was applied by spin coating and heated at 120 ° C. for 5 minutes to obtain a silicon plate with a silane coupling agent layer.
The curable composition obtained in Preparation Example 1 was applied to the surface of the silane coupling agent layer of a silicon plate with a silane coupling agent layer by spin coating, and then heated at 80 ° C. for 4 minutes and then at 100 ° C. for 2 minutes to remain. The solvent was removed to obtain a silicon plate with an adhesive layer [adhesive layer / silane coupling agent layer / silicon plate]. The film thickness of the adhesive layer was 5 to 6 μm.

得られた接着剤層付きシリコン板の接着剤層をサンプルとし、これを130℃で30分加熱し、次いで170℃で30分加熱して硬化物を得た。一段階目の硬化反応終了後(130℃で30分加熱後)の接着剤層の硬化度は80%であった。尚、1段階目の加熱処理終了時の硬化度は、1段階目の加熱処理終了時のサンプルの発熱量、及び加熱処理を施す前のサンプルの発熱量をDSCにより測定し、以下の式から算出した。以下の実施例及び比較例においても同様の方法で硬化度を算出した。
硬化度(%)=[1−(1段階目の加熱処理終了時の発熱量/加熱処理を施す前の発熱量)]×100
The adhesive layer of the obtained silicon plate with an adhesive layer was used as a sample, and this was heated at 130 ° C. for 30 minutes and then at 170 ° C. for 30 minutes to obtain a cured product. The degree of curing of the adhesive layer after completion of the first-stage curing reaction (after heating at 130 ° C. for 30 minutes) was 80%. The degree of curing at the end of the first stage heat treatment is determined by measuring the calorific value of the sample at the end of the first stage heat treatment and the calorific value of the sample before the heat treatment by DSC, and using the following formula. Calculated. The degree of curing was calculated in the same manner in the following Examples and Comparative Examples.
Curing degree (%) = [1- (calorific value at the end of the first stage heat treatment / calorific value before heat treatment)] x 100

得られた硬化物について耐熱性、耐クラック性、及び密着性を以下の方法で評価した。
(耐熱性)
硬化物について、熱分析装置(商品名「TG−DTA6300」、セイコー電子工業(株)製)を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度10℃/分の条件で熱重量分析して熱分解温度(T)を測定したところ、260℃以上であり、耐熱性に優れていることがわかった。
尚、熱分解温度(T)とは、図1に示すように、初期の重量減少のない、或いは漸減しているところ(図中のAで示される範囲)の接線と、急激に重量減少が起こっているところ(図中のBで示される範囲)の変曲点の接線が交叉するところの温度である。
The heat resistance, crack resistance, and adhesion of the obtained cured product were evaluated by the following methods.
(Heat-resistant)
The cured product is subjected to thermogravimetric analysis under the conditions of a nitrogen atmosphere and a heating rate of 10 ° C./min using a thermal analyzer (trade name "TG-DTA6300", manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd.) to determine the thermal decomposition temperature. When (T) was measured, it was found that the temperature was 260 ° C. or higher and the heat resistance was excellent.
As shown in FIG. 1, the thermal decomposition temperature (T) is a tangent line where there is no initial weight loss or where the weight is gradually reduced (range indicated by A in the figure), and the weight is rapidly reduced. It is the temperature at which the tangents of the inflection points where they are occurring (the range indicated by B in the figure) intersect.

(耐クラック性)
硬化物に、250℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷する冷熱衝撃を付与したところ、クラックの無い部分が硬化物の60%以上であり、耐クラック性に優れることが確認された。
(Crack resistance)
When the cured product was subjected to a cold shock of heating at 250 ° C. for 30 minutes and then rapidly cooled to room temperature, it was confirmed that the crack-free portion was 60% or more of the cured product and was excellent in crack resistance.

(密着性)
硬化物のシリコン板への密着性を、碁盤目テープ試験(JIS K5400−8.5準拠)を行って評価した。その結果、シリコン板からの剥離は見られず、密着性に優れることが確認された。
(Adhesion)
The adhesion of the cured product to the silicon plate was evaluated by performing a grid tape test (JIS K5400-8.5 compliant). As a result, it was confirmed that no peeling from the silicon plate was observed and the adhesion was excellent.

実施例2
実施例1と同様の方法で得られた接着剤層付きシリコン板の接着剤層をサンプルとし、これを120℃で30分加熱し、次いで170℃で30分加熱して硬化物を得た。一段階目の硬化反応終了後(120℃で30分加熱後)の接着剤層の硬化度は60%であった。
Example 2
The adhesive layer of the silicon plate with the adhesive layer obtained by the same method as in Example 1 was used as a sample, and this was heated at 120 ° C. for 30 minutes and then at 170 ° C. for 30 minutes to obtain a cured product. The degree of curing of the adhesive layer after the completion of the first-stage curing reaction (after heating at 120 ° C. for 30 minutes) was 60%.

得られた硬化物について耐熱性、耐クラック性、及び密着性を実施例1と同様の方法で評価した。
(耐熱性)
熱分解温度(T)は、260℃以上であり、耐熱性に優れていることがわかった。
The heat resistance, crack resistance, and adhesion of the obtained cured product were evaluated in the same manner as in Example 1.
(Heat-resistant)
The thermal decomposition temperature (T) was 260 ° C. or higher, and it was found that the heat resistance was excellent.

(耐クラック性)
クラックの無い部分が硬化物の60%以上であり、耐クラック性に優れることが確認された。
(Crack resistance)
It was confirmed that the crack-free portion was 60% or more of the cured product and was excellent in crack resistance.

(密着性)
シリコン板からの剥離は見られず、密着性に優れることが確認された。
(Adhesion)
No peeling from the silicon plate was observed, and it was confirmed that the adhesion was excellent.

比較例1
実施例1と同様の方法で得られた接着剤層付きシリコン板の接着剤層をサンプルとし、これを150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して硬化物を得た。一段階目の硬化反応終了後(150℃で30分加熱後)の接着剤層の硬化度は95%であった。
Comparative Example 1
The adhesive layer of the silicon plate with the adhesive layer obtained by the same method as in Example 1 was used as a sample, and this was heated at 150 ° C. for 30 minutes and then at 170 ° C. for 30 minutes to obtain a cured product. .. The degree of curing of the adhesive layer after completion of the first-stage curing reaction (after heating at 150 ° C. for 30 minutes) was 95%.

得られた硬化物について、実施例1と同様の方法で耐クラック性を評価したところ、硬化物全体に激しくクラックが発生した。 When the crack resistance of the obtained cured product was evaluated by the same method as in Example 1, severe cracks were generated in the entire cured product.

実施例3
ガラス板(4インチ、SCHOTT日本(株)製)にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製、以後「KBE403」と称する場合がある)をスピンコートで塗布し、120℃で5分加熱して、シランカップリング剤層付きガラス板を得た。得られたシランカップリング剤層付きガラス板のシランカップリング剤層面に、減圧下で、実施例1と同様の方法で得られた接着剤層付きシリコン板[接着剤層/シランカップリング剤層/シリコン板]の接着剤層面を合わせ、60℃に加熱しながら200g/cm2の圧力をかけて貼り合わせた後、130℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱することにより積層物[ガラス板/シランカップリング剤層/接着層/シランカップリング剤層/シリコン板]を得た。尚、一段階目の硬化反応終了後(130℃で30分加熱後)の接着剤層の硬化度は80%であった。
Example 3
A silane coupling agent (trade name "KBE403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., hereinafter sometimes referred to as "KBE403") is applied to a glass plate (4 inches, manufactured by SCHOTT Japan Co., Ltd.) by spin coating. The glass plate with a silane coupling agent layer was obtained by heating at 120 ° C. for 5 minutes. A silicon plate with an adhesive layer obtained in the same manner as in Example 1 under reduced pressure on the silane coupling agent layer surface of the obtained glass plate with a silane coupling agent layer [adhesive layer / silane coupling agent layer]. By aligning the adhesive layer surfaces of [/ silicon plate] and applying a pressure of 200 g / cm 2 while heating at 60 ° C., heating at 130 ° C. for 30 minutes, and then heating at 170 ° C. for 30 minutes. A laminate [glass plate / silane coupling agent layer / adhesive layer / silane coupling agent layer / silicon plate] was obtained. The degree of curing of the adhesive layer after the completion of the first-stage curing reaction (after heating at 130 ° C. for 30 minutes) was 80%.

得られた積層物の接着性を以下の方法で評価した。
(接着性)
積層物の接着界面にカミソリ刃(商品名「片刃トリミング用カミソリ」、日新EM(株)製)を挿入したところ、界面での剥離は生じず、接着層は接着性に優れることが確認された。
The adhesiveness of the obtained laminate was evaluated by the following method.
(Adhesiveness)
When a razor blade (trade name "single-edged trimming razor", manufactured by Nissin EM Co., Ltd.) was inserted into the adhesive interface of the laminate, it was confirmed that peeling did not occur at the interface and the adhesive layer had excellent adhesiveness. It was.

実施例4
実施例3と同様の方法で得られたシランカップリング剤層付きガラス板のシランカップリング剤層面に、減圧下で、実施例3と同様の方法で得られた接着剤層付きシリコン板[接着剤層/シランカップリング剤層/シリコン板]の接着剤層面を合わせ、60℃に加熱しながら200g/cm2の圧力をかけて貼り合わせた後、120℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱することにより積層物[ガラス板/シランカップリング剤層/接着層/シランカップリング剤層/シリコン板]を得た。尚、一段階目の硬化反応終了後(120℃で30分加熱後)の接着剤層の硬化度は60%であった。
Example 4
A silicon plate with an adhesive layer obtained by the same method as in Example 3 [adhesive] on the silane coupling agent layer surface of the glass plate with the silane coupling agent layer obtained by the same method as in Example 3 under reduced pressure. The adhesive layer surfaces of the agent layer / silane coupling agent layer / silicon plate] are aligned, and they are bonded by applying a pressure of 200 g / cm 2 while heating at 60 ° C., then heated at 120 ° C. for 30 minutes, and then 170. A laminate [glass plate / silane coupling agent layer / adhesive layer / silane coupling agent layer / silicon plate] was obtained by heating at ° C. for 30 minutes. The degree of curing of the adhesive layer after the completion of the first-stage curing reaction (after heating at 120 ° C. for 30 minutes) was 60%.

得られた積層物について、実施例3と同様の方法で接着性を評価したところ、界面での剥離は生じず、接着層は接着性に優れることが確認された。 When the adhesiveness of the obtained laminate was evaluated by the same method as in Example 3, it was confirmed that peeling did not occur at the interface and the adhesive layer was excellent in adhesiveness.

本発明の硬化物は、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する優れた接着性及び密着性を有する。そのため、本発明における硬化性組成物を接着剤、特に熱硬化性接着剤として使用した場合、それを硬化させることにより得られる本発明の硬化物は、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する接着性及び密着性に優れた接着材となり、所望の被接着体同士を接着する用途に使用することができる。 The cured product of the present invention has heat resistance, crack resistance, and excellent adhesiveness and adhesion to an adherend. Therefore, when the curable composition of the present invention is used as an adhesive, particularly a thermosetting adhesive, the cured product of the present invention obtained by curing the adhesive has heat resistance, crack resistance, and adherence. It becomes an adhesive material having excellent adhesiveness and adhesiveness, and can be used for bonding desired objects to be adhered to each other.

Claims (14)

エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する硬化性組成物に、硬化温度を段階的に変化させる加熱処理を施して硬化物を製造する方法であって、
前記硬化性組成物は熱カチオン重合開始剤及び/又は熱アニオン重合開始剤を含み、
前記硬化性組成物は溶剤を含んでいてもよく、溶剤を含む場合は乾燥により残留する溶剤を除去した後に1段階目の加熱処理を施し、
1段階目の加熱処理終了時の硬化度を85%以下とし、2段階目以降の加熱処理によって硬化度を85%超とし、
1段階目と2段階目の加熱処理にかける時間の合計(3段階目以降も行う場合は、3段階目以降の加熱処理に要する時間も合計する)が0.5〜2時間である、硬化物の製造方法
A method for producing a cured product by subjecting a curable composition containing an epoxy-modified polyorganosylsesquioxane to a heat treatment in which the curing temperature is changed stepwise.
The curable composition comprises a thermal cationic polymerization initiator and / or a thermal anionic polymerization initiator.
The curable composition may contain a solvent. If the curable composition contains a solvent, the solvent is removed by drying and then heat-treated in the first step.
The heat treatment at the end of the curing of the first stage was 85% or less, the curing degree of 85 percent by heat treatment of the second stage or later,
The total time required for the first and second stages of heat treatment (if the third and subsequent stages are also performed, the total time required for the third and subsequent stages of heat treatment) is 0.5 to 2 hours. How to make things.
エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンが、下記式(1)
[R1SiO3/2] (1)
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す]
で表される構成単位を有し、
下記式(I)
[RaSiO3/2] (I)
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す]
で表される構成単位と、下記式(II)
[RbSiO2/2(ORc)] (II)
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す]
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位] が5以上であり、
シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する上記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)
[R1SiO2/2(ORc)] (4)
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ]
で表される構成単位の割合が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0であるエポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンである請求項1に記載の硬化物の製造方法
Epoxy-modified polyorganosylsesquioxane has the following formula (1).
[R 1 SiO 3/2 ] (1)
[In formula (1), R 1 indicates a group containing an epoxy group]
Has a structural unit represented by
The following formula (I)
[R a SiO 3/2 ] (I)
[In formula (I), Ra is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom]
The structural unit represented by and the following formula (II)
[R b SiO 2/2 (OR c )] (II)
[In formula (II), R b is an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. , Substituent or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
The molar ratio of the structural unit represented by (I) [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more.
The structural unit represented by the above formula (1) and the following formula (4) with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit.
[R 1 SiO 2/2 (OR c )] (4)
[In equation (4), R 1 is the same as in equation (1). R c is the same as in equation (II)]
The ratio of the structural units represented by is 55 to 100 mol%, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.0 to 3.0. The method for producing a cured product according to claim 1, which is an organosilsesquioxane.
上記R1が、下記式(1a)〜(1d)で表される基からなる群より選択される1種以上の基である請求項に記載の硬化物の製造方法
Figure 0006796582
(式中、R1a、R1b、R1c、R1dは、同一又は異なって、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す)
The method for producing a cured product according to claim 2 , wherein R 1 is one or more groups selected from the group consisting of groups represented by the following formulas (1a) to (1d).
Figure 0006796582
(In the formula, R 1a , R 1b , R 1c , and R 1d indicate the same or different, linear or branched alkylene group).
エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサンが、更に、下記式(2)
[R2SiO3/2] (2)
[式(2)中、R2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す]
で表される構成単位を有する請求項2又は3に記載の硬化物の製造方法
Epoxy-modified polyorganosylsesquioxane is further added to the following formula (2).
[R 2 SiO 3/2 ] (2)
[In formula (2), R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkyl group. Indicates an alkenyl group of]
The method for producing a cured product according to claim 2 or 3 , which has a structural unit represented by.
上記R2が、置換若しくは無置換のアリール基である請求項に記載の硬化物の製造方法The method for producing a cured product according to claim 4 , wherein R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group. 硬化性組成物が、さらに重合開始剤を含む請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化物の製造方法The method for producing a cured product according to any one of claims 1 to 5 , wherein the curable composition further contains a polymerization initiator. 硬化性組成物が、さらに重合安定剤を含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化物の製造方法The method for producing a cured product according to any one of claims 1 to 6 , wherein the curable composition further contains a polymerization stabilizer. 硬化性組成物が、さらにシランカップリング剤を含む請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化物の製造方法The method for producing a cured product according to any one of claims 1 to 7 , wherein the curable composition further contains a silane coupling agent. 1段階目の加熱処理における加熱温度が100℃以上150℃未満である請求項1〜8のいずれか1項に記載の硬化物の製造方法。The method for producing a cured product according to any one of claims 1 to 8, wherein the heating temperature in the first-stage heat treatment is 100 ° C. or higher and lower than 150 ° C. 2段階目の加熱処理における加熱温度が150〜200℃である請求項1〜9のいずれか1項に記載の硬化物の製造方法。The method for producing a cured product according to any one of claims 1 to 9, wherein the heating temperature in the second stage heat treatment is 150 to 200 ° C. 1段階目の加熱時間は5〜120分である請求項1〜10のいずれか1項に記載の硬化物の製造方法。The method for producing a cured product according to any one of claims 1 to 10, wherein the heating time in the first step is 5 to 120 minutes. 2段階目の加熱時間は5〜120分である請求項1〜11のいずれか1項に記載の硬化物の製造方法。The method for producing a cured product according to any one of claims 1 to 11, wherein the heating time in the second step is 5 to 120 minutes. 3層以上で構成される積層物の製造方法であって、
2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、
前記接着層が、請求項1〜12のいずれか1項に記載の硬化物の層であることを特徴とする積層物の製造方法
A method for manufacturing a laminate composed of three or more layers.
It has two layers to be adhered and an adhesive layer between the layers to be adhered.
A method for producing a laminate, wherein the adhesive layer is a layer of a cured product according to any one of claims 1 to 12 .
請求項13に記載の積層物を有する装置の製造方法The method for manufacturing an apparatus having the laminate according to claim 13 .
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